JP3974787B2

JP3974787B2 - Reflective liquid crystal display

Info

Publication number: JP3974787B2
Application number: JP2002015096A
Authority: JP
Inventors: 規生杉浦; 克文大室
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2002-01-24
Filing date: 2002-01-24
Publication date: 2007-09-12
Anticipated expiration: 2022-01-24
Also published as: JP2003215574A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型液晶表示装置に関するものであり、特に、反射型液晶表示装置における拡散反射板の表面に形成する皺状凹凸形状を方向性をもって形成するための構成に特徴のある反射型液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、各種の情報処理端末における画像表示手段として、カラー液晶表示装置が用いられているが、そのなかでも反射型液晶表示装置はバックライトを使用しないため、薄型、軽量および低消費電力が可能であるという特長がある。
【０００３】
この様な、反射型液晶表示装置は、大きく分けて、光シャッター層、色付け層、及び、光反射層の３層から構成されるが、周囲光を効率良く利用して明るい表示を得ることが最も重要である。
【０００４】
これらの３つの層の中でも、特に、光反射層は光の利用効率だけでなく視角特性等にも大きな影響を与えるので、光反射層の最適化が明るい反射型液晶表示装置を実現する上で最も重要となり、近年、明るい光反射層を得る検討がなされているので、ここで、図１１及び図１２を参照して従来の反射型液晶表示装置を説明する。
【０００５】
図１１参照
図１１は、従来の反射型液晶表示装置の概略的断面図であり、ＴＦＴ３２を形成したＴＦＴ基板３１側に複数の凹凸を面内に散りばめて構成した拡散反射板３３を設け、このＴＦＴ基板３１と、カラーフィルタ３５を介して透明電極３６を設けた対向基板３４とを対向させ、両者の間に液晶を注入して液晶層３７とすることによって、反射型液晶表示装置の基本構造が構成されている（必要ならば、特開平１１−２９５７５０号公報参照）。
【０００６】
次に、図１２を参照して、拡散反射板の製造方法の一例（必要ならば、特開平９−２５８２１８号公報参照）を説明する。
図１２（ａ）参照
まず、ガラス基板４１上にレジストを塗布してレジスト層４２を形成したのち、フォトマスク４３を介して紫外線４４を照射することによって、所定領域に対応する領域を露光する。
【０００７】
図１２（ｂ）参照
次いで、フォトマスク４３を除去したのち、レジスト層４２を現像することによって、レジストパターン４５を形成する。
図１２（ｃ）参照
次いで、レジストパターン４５をベーク処理して、レジストをリフローすることよって凸状のレジストパターン４６に変換する。
【０００８】
図１２（ｄ）参照
次いで、全面に金属膜を蒸着して、反射膜４７とすることによって拡散反射体を形成していた。
この様な拡散反射板においては、凹凸の密度、径、振幅、形、傾斜角等を制御することで光の利用効率を高めることができ、様々な検討がなされている。
【０００９】
しかし、上述のフォトリソグラフィを用いた方法ではプロセスが煩雑であり、露光量、現像時間、ベーク温度等のプロセス条件により形状が変化することで反射特性が大きく変化し、製造プロセスのマージンが非常に狭い問題があった。
【００１０】
そこで、本発明者等は、新しい拡散反射板の製造方法を提案しているので（必要ならば、特願２００１−１０１７５５号参照）、図１３を参照して説明する。
図１３（ａ）参照
まず、ＴＦＴ基板５１上に感光性樹脂層５２を形成したのち、紫外線５３を照射し、感光性樹脂層５２の厚さ方向または面内方向に収縮率等の熱的変形特性の分布を持たせる。
【００１１】
図１３（ｂ）参照
次いで、熱処理を施すことによって感光性樹脂層５２の表面に皺状凹凸形状５４を形成する。
図１３（ｃ）参照
次いで、全面に金属層を蒸着することによって、皺状凹凸形状５４の上に反射膜５５を形成するものである。
【００１２】
この本発明者等が提案した方法によれば、マスクパターンによる露光や現像といったフォトリソグラフィの工程を必要としないため、プロセスが大幅に簡略化されるため、安定かつ高い反射率を実現できる反射電極を形成することが可能になった。
【００１３】
しかし、この方式で発生する皺状凹凸形状５４はランダムな方向に発生するので、これを制御するために感光性樹脂層５２の下にパターンを形成する方法も合わせて提案している。
【００１４】
図１４（ａ）乃至（ｅ）参照
図１４（ａ）乃至（ｅ）は、皺状凹凸形状５４の方向性を制御するために感光性樹脂層５２の下に形成した凹凸パターンの形状を示す平面図であり、各凹凸パターンはＴＦＴ形成時のバスライン等の成膜・パターニング工程を利用して形成するものであり、これにより特定の皺状凹凸形状５４を形成することが可能となり、反射光に指向性を持たせることができた。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、指向性を持たせた反射板を用いた反射型液晶表示装置はギラツキが激しく、紙と比較して非常に表示が見づらいという問題がある。
【００１６】
したがって、本発明は、反射板からの反射光に指向性を持たせながらも、ギラツキ感を無くすことを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の原理的構成の説明図であり、この図１を参照して本発明における課題を解決するための手段を説明するが、図１（ａ）は凹凸パターンを示す平面図であり、また、図１（ｂ）は断面図である。
図１（ａ）及び（ｂ）参照
上記の課題を解決するために、本発明は、基板１上に形成した所定の膜厚を有する感光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって感光性樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、皺状凹凸形状６上に光反射膜７を形成してこれを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、感光性樹脂５の下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が該同一の凹凸パターン要素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように配置されるとともに、皺状凹凸形状６が前記凹凸パターン要素２，３の配置に沿うことを特徴とする。
【００１８】
この様にマクロでみれば規則的ではあるが、ミクロには不規則なパターンからなる凹凸パターンを基板１上に設けることによって、感光性樹脂５層の熱収縮に伴って表面に形成される皺状凹凸形状６を凹凸パターンに沿うように形成することができ、それによって、反射光に指向性を持たせることができるとともに、ギラツキ感を低減することができる。
なお、この場合、皺状凹凸形状６は凹凸パターン要素２，３の配置に厳密に沿っている必要はなく、反射光に指向性を持たせることができるとともに、ギラツキ感を低減する効果が得られる限りは多少ずれていても問題はない。
【００１９】
また、この場合、２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が組み合わされて繰り返しパターン要素２，３を構成し、前記繰り返しパターン要素２，３を繰り返すことによって全体の凹凸パターンを形成することが望ましく、それによって、凹凸パターンの設計工程が簡素化される。
【００２０】
また、この場合の皺状凹凸形状６の平均傾斜角の標準偏差を、反射板の面内で２°以下にすることが望ましく、それによって、ギラツキ感を確実に低減することができる。
【００２１】
また、この様な凹凸パターンをＴＦＴ等のアクティブ素子を設けたアクティブマトリクス型液晶表示装置に形成する場合には、補助容量配線Ｃ_S等のアクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成することが望ましく、それによって、凹凸パターン要素２，３の製造工程と電極パターンの形成工程を兼ねることができるので、製造工程が簡素化される。
【００２２】
また、この様な凹凸パターンをカラー液晶表示装置に形成する場合には、波長が長くなるほど液晶層の屈折率が小さくなるため、ＲＧＢ毎に異なった凹凸パターンとすることが望ましく、特に、基本パターン４における凹凸パターン要素２，３の配列方向に沿った傾斜を、長波長画素において短波長画素より大きくすることが望ましく、それによって、反射光の角度特性を各画素において均一化することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
ここで、図２乃至図７を参照して、本発明の第１の実施の形態の反射型液晶表示装置を説明する。
図２（ａ）参照
図２（ａ）は、凹凸パターンを示す概略的平面図であり、透明ガラスからなる基板１１上に、厚さが、例えば、１００ｎｍのＩＴＯからなる互いに異なった方位を有する４つの凹凸パターン要素１２〜１５を配置して繰り返しパターン１６を形成し、この繰り返しパターン１６を図において右側方向に繰り返すことによって全体の凹凸パターンを形成する。
【００２４】
なお、各凹凸パターン要素１２〜１５の一例を挙げると、長さａ，ｂは、例えば、ａ＝ｂ＝１０μｍ、幅ｅはｅ＝３μｍ、また、凹凸パターン要素１２，１４の傾斜角ｃは、ｃ＝１５°、また、凹凸パターン要素１３，１５の傾斜角ｄは、ｄ＝４５°である。
【００２５】
次いで、図示は省略するものの、上記の図１２と同様の工程によって、まず、レジストＡＦＰ−７５０（クラリアント・ジャパン社製商品名）を、厚さが、例えば、２μｍになるように塗布したのち、９０℃で２０分間のプリベークを行い、レジスト層内の溶媒を除去する。
【００２６】
次いで、全面に紫外線を２６００ｍＪ／ｃｍ²照射して、レジスト層に熱的変形特性の分布を持たせた後、２００℃で６０分間のベークを行ってレジスト層の表面に皺状凹凸形状を発生させ、次いで、全面に厚さが、例えば、２００ｎｍのＡｌ膜を蒸着して反射膜を形成することによって、本発明の第１の実施の形態の拡散反射板が完成する。
【００２７】
図２（ｂ）参照
図２（ｂ）は、上記の本発明の第１の実施の形態の拡散反射板（サンプル１）の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、滑らかな曲線状パターンからなる規則正しい表面パターンが見られ、特段のギラツキは見られなかった。
【００２８】
次に、図３を参照して、より規則的なパターンを配置したサンプル２と、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３からなる比較例を説明するが、パターンが異なるだけで製造工程自体は第１の実施の形態と全く同様である。
図３（ａ）参照
図３（ａ）は、図２（ａ）に示した各凹凸パターン要素１２〜１５を規則正しく配列した繰り返しパターン１７からなるものであり、各凹凸パターン要素１２〜１５自体の構成ａ〜ｅは上記の第１の実施の形態と全く同様である。
【００２９】
図３（ｂ）参照
図３（ｂ）は、図３（ａ）のサンプル２の拡散反射板の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、この場合、方位が異なる直線パターン領域からなる規則正しい表面パターンが見られ、かなりのギラツキが感じられた。
【００３０】
図３（ｃ）参照
図３（ｃ）は、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３の拡散反射板の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、この場合にはレジスト層表面のランダムな皺状凹凸形状に対応してランダムなパターンが見られ、特段のギラツキは見られなかった。
【００３１】
この様に、本発明の第１の実施の形態においては、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることで曲線状のパターンが得られることがわかった。
【００３２】
図４（ａ）参照
図４（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の拡散反射板の反射率の方位角依存性を示す図であり、上述のサンプル２及びサンプル３の反射率の方位角依存性も合わせて示してある。
【００３３】
本発明の第１の実施の形態においては、方位４５°〜１３５°の範囲内に反射光が集光し、しかも、ほぼ均一の明るさが実現されていることが理解される。
一方、サンプル２の場合には、方位４５°、７５°、１０５°、及び、１３５°に鋭いピークが見られる。
また、サンプル３の場合には、方位に依存しない反射特性が得られている。
【００３４】
図４（ｂ）参照
図４（ｂ）は、上記の反射率の測定方法を示す図であり、作製した各サンプルの反射膜に対向するように、厚さが、例えば、１００ｎｍのＩＴＯを形成した０．７ｍｍ厚のガラス基板を対向させ、両者の間にイマージョンオイル（屈折率１．５２）を注入した状態で、各方位角φについて、入射角３０°の平行光を入射させて、０°方向に設けたディテクタで反射光の強度を測定した。
【００３５】
次に、図４（ａ）における反射特性の原因を調べるために反射膜の表面形状を測定したので、図５を参照して説明する。
図５（ａ）参照
図５（ａ）は、各サンプルにおけるＭＲＳ粗さの方位角依存性を示す図であり、本発明の第１の実施の形態においては、方位４５〜１３５°の範囲で、約９°の高い傾斜が得られていることがわかった。
【００３６】
それに対し、サンプル２においては、鋭いピークの反射光が得られた方位のみに大きな傾斜が存在するのがわかる。
一方、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３においては、全ての方位においてほぼ８°の高い傾斜が見られた。
【００３７】
したがって、本発明の第１の実施の形態の様に、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることでＲＭＳ粗さの方位依存性を緩和し、しかも特定の方位角範囲にだけ大きな傾斜を持たせることができた。
【００３８】
図５（ｂ）及び（ｃ）参照
図５（ｂ）及び（ｃ）は、上述のＲＭＳ粗さの測定方法の説明図であり、図５（ｂ）に示す測定しようとする方位φについて、表面を段差計等で測定すると図５（ｃ）に示すような曲線が得られる。
この曲線における測定点Ａ（ｘ_a，ｙ_a，ｚ_a）とその隣の測定点Ｂ（ｘ_b，ｙ_b，ｚ_b）とを結ぶ直線の傾斜角θ_ABを、複数（ｎ箇所）の測定箇所について求め、これらの２乗平均をＲＭＳ粗さを定義した。即ち、
ＲＭＳ粗さ＝｛（１／ｎ）×Σθ_AB ²｝^1/2
となる。
【００３９】
次に、問題となるギラツキの原因を調べたので図６を参照して説明する。
なお、ギラツキ度は、心理物理量として、白紙と鏡とを参照して、
5 ：金属的な強いぎらつきを感じる
4 ：強いぎらつき有り
3 ：少しぎらつき有り（白っぽい）
2 ：わずかにぎらつき有り（白く感じる）
1 ：ぎらつき感無し（白い）
の５段階評価を行った。
【００４０】
この様なギラツキ度を上記の各サンプルについて測定してみると、本発明の第１の実施の形態の場合にはギラツキ度２、サンプル２の場合はギラツキ度５、サンプル３についてはギラツキ度１であった。
【００４１】
図６（ａ）参照
図６（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の場合にギラツキ度が低い理由を表す図であり、図４（ａ）に示す様に、第１の実施の形態においては反射光の方位依存が小さいことから、いずれの反射光もほぼ同じ明るさを持つため、ギラツキ度が小さいと考えられる。
【００４２】
図６（ｂ）参照
図６（ｂ）は、サンプル２においてギラツキ度が高い理由を表す図であり、図４（ａ）に示す様に、サンプル２では反射光の方位依存が激しいために、特定の条件を満たす反射光は非常に明るいがその条件を満たさない反射光は非常に明るさが乏しく、場所により反射光の明暗が激しくなり、ギラツキ度が大きくなると考えられる。
【００４３】
そこで、各種の凹凸パターンを用いて反射膜を作製し、表面のＲＭＳ粗さを測定して反射膜内のＲＭＳ粗さのばらつき（標準偏差）を調べたので、図７を参照して説明する。
図７参照
図７は、ギラツキ度とＲＭＳ粗さの標準偏差の相関関係を示す図であり、ＲＭＳ粗さの標準偏差が大きいほどギラツキ度が大きくなることがわかり、標準偏差を２°以下に抑えると、ぎらつき度が３以下になり、ほとんどぎらつきを感じないことがわかる。
【００４４】
以上、説明したように、本発明の第１の実施の形態においては、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることでＲＭＳ粗さの方位依存性を緩和し、しかも特定の方位角範囲にだけ大きな傾斜を持たせることができるので、ギラツキを生じることなく、反射光を有効に利用することができる。
【００４５】
次に、図８を参照して、本発明の第１の実施の形態の反射型液晶表示装置の拡散反射板を形成するための凹凸パターンの変形例を説明する。
図８（ａ）乃至（ｅ）参照
図８（ａ）乃至（ｅ）は、本発明の第１の実施の形態の凹凸パターンの変形例を示す平面図であり、反射光に指向性を持たせるとともに、ギラツキ感を生じさせないパターンの例であり、パターンは直線に限らず、曲線、ジグザグ等が可能である。
いずれの場合にも、マクロで見ると規則性を有するものの、ミクロに見た場合には、程度の問題はあるものの規則性を有さないパターンである。
【００４６】
次に、図９を参照して、実際の素子配置と凹凸パターンの配置を示した本発明の第２の実施の形態を説明する。
図９参照
図９は、本発明の第２の実施の形態のアクティブマトリクス型の反射型液晶表示装置の要部平面図であり、アクティブ素子としてのＴＦＴ２１、ＴＦＴ２１に接続するゲートバスライン２２、データバスライン２３、及び、画素電極２４からなる画素において、補助容量電極２５を形成する際に、補助容量電極２５を形成するために堆積させた導電膜をパターニングする際に、方位が互いに異なる４つの凹凸パターン要素２６〜２９からなる凹凸パターンを同時に形成したものである。
【００４７】
この本発明の第２の実施の形態においては、補助容量電極２５と凹凸パターン要素２６〜２９とを同じ工程で形成しているので、プロセス数を増加させずに凹凸パターンを形成でき、それによって、所望の皺状凹凸形状を得ることが可能になる。
【００４８】
次に、図１０を参照して、カラー反射型液晶表示装置に関する本発明の第３の実施の形態を説明する。
図１０（ａ）乃至（ｃ）参照
図１０（ａ）乃至（ｃ）は、それぞれ本発明の第３の実施の形態の反射型液晶表示装置のＲ画素、Ｇ画素、及び、Ｂ画素に対応する凹凸パターンの説明図であり、図１０（ａ）に示すＲ画素における凹凸パターン要素の配列方向（図においては垂直方向）に対する傾斜が、図１０（ｃ）に示すＢ画素における凹凸パターン要素の配列方向（図においては垂直方向）に対する傾斜より大きくなっており、図１０（ｂ）に示すＧ画素においてはその中間である。
【００４９】
これは、波長が長くなるほど液晶層の屈折率が小さくなるため、反射板で反射された光が空気層に出る際に、スネルの法則によってＲ、Ｇ、Ｂの順番で射出角が小さくなって、反射光の角度特性が不均一になるが、凹凸パターンを上記の様にＲＧＢ毎に変えることによって反射光の角度特性の波長依存性を補償することができ、それによって、全ての画素について反射光の角度特性を均一化することができる。
【００５０】
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるものではなく、各種の変更が可能である。
例えば、上記第２の実施の形態の説明においては、凹凸パターン要素を補助容量電極の形成工程を利用して形成しているが、ゲートバスライン或いはデータバスライン等の他の配線層の形成工程を利用して形成しても良いものである。
【００５１】
また、上記の各実施の形態及び変形例に示した凹凸パターンは一例であり、示した凹凸パターンに限られるものではなく、マクロで見た場合に規則性があり、それによって、反射光の指向性がえられ、ミクロでみた場合には不規則であり、それによって、ギラツキ度を発生させないパターンであれば良い。
【００５２】
例えば、図８に示した各パターニングにおいては、各凹凸パターン要素は、配列方向に沿って同じ凹凸パターン要素が連続していないが、２つ程度は連続しても良いものである。
【００５３】
また、上記の各実施の形態においては、各凹凸パターン要素は同じ形状の基本パターン要素の方位を変えたものとして形成しているが、基本パターン要素の形状が互いに異なるようにしても良いものであり、さらには、形状と方位の両方が異なる複数の凹凸パターン要素を組み合わせて凹凸パターンを形成しても良いものである。
【００５４】
ここで、再び、図１を参照して、改めて本発明の詳細な特徴を説明する。
図１（ａ）及び（ｂ）参照
（付記１）基板１上に形成した所定の膜厚を有する感光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって前記感光性樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、前記皺状凹凸形状６上に光反射膜７を形成してこれを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、前記感光性樹脂５の下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が該同一の凹凸パターン要素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように配置されるとともに、前記皺状凹凸形状６が前記凹凸パターン要素２，３の配置に沿うことを特徴とする反射型液晶表示装置。
（付記２）上記２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が組み合わされて繰り返し基本パターン４を構成し、前記繰り返し基本パターン４を繰り返すことによって上記基板１上に凹凸パターンを形成したことを特徴とする付記１記載の反射型液晶表示装置。
（付記３）上記皺状凹凸形状６の平均傾斜角の標準偏差が、上記反射板の面内で２°以下であることを特徴とする付記１または２に記載の反射型液晶表示装置。
（付記４）上記基板１が、アクティブ素子を形成した基板１であり、且つ、上記凹凸パターン要素２，３が前記アクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成されていることを特徴とする付記１乃至３のいずれか１に記載の反射型液晶表示装置。
（付記５）上記アクティブ素子が薄膜トランジスタであり、且つ、上記電極材料が補助容量電極を形成する電極材料であることを特徴とする付記４記載の反射型液晶表示装置。
（付記６）上記凹凸パターン要素２，３によって構成される凹凸パターンが、赤色画素、緑色画素、及び、青色画素毎に互いに異なっていることを特徴とする付記１乃至５のいずれか１に記載の反射型液晶表示装置。
（付記７）上記凹凸パターンが複数の凹凸パターン要素２，３を一方向に配列した基本パターンの繰り返しからなるとともに、各基本パターンにおける凹凸パターン要素２，３の配列方向に対する傾斜が、長波長画素において短波長画素より大きくなっていることを特徴とする付記６記載の反射型液晶表示装置。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、感光性樹脂を熱収縮させて表面に皺状凹凸形状を形成する際に、下地にマクロで見た場合に規則性があり、且つ、ミクロでみた場合には不規則な凹凸パターンを形成しているので、反射光に指向性を与えるとともに、特定の方向への鋭い反射によるギラツキ感を低減することができ、それによって、高輝度に表示品質に優れた反射型液晶表示装置の実現に寄与することろが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の説明図である。
【図３】比較例の説明図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態の反射板の反射特性の説明図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態の反射板のＲＭＳ粗さの説明図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態の反射板の低ギラツキ度の原因の説明図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態の反射板のギラツキ度のＲＭＳ粗さ依存性の説明図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態の凹凸パターンの変形例の説明図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態の反射型液晶表示装置の説明図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態の反射型液晶表示装置の説明図である。
【図１１】従来の反射型液晶表示装置の概略的断面図である。
【図１２】従来の拡散反射板の製造工程の説明図である。
【図１３】従来の他の拡散反射板の製造工程の説明図である。
【図１４】従来の凹凸パターンの説明図である。
【符号の説明】
１基板
２凹凸パターン要素
３凹凸パターン要素
４繰り返し基本パターン
５感光性樹脂
６皺状凹凸形状
７反射膜
１１基板
１２凹凸パターン要素
１３凹凸パターン要素
１４凹凸パターン要素
１５凹凸パターン要素
１６繰り返しパターン
１７繰り返しパターン
２１ＴＦＴ
２２ゲートバスライン
２３データバスライン
２４画素電極
２５補助容量電極
２６凹凸パターン要素
２７凹凸パターン要素
３１ＴＦＴ基板
３２ＴＦＴ
３３拡散反射板
３４対向基板
３５カラーフィルタ
３６透明電極
３７液晶層
４１ガラス基板
４２レジスト層
４３フォトマスク
４４紫外線
４５レジストパターン
４６レジストパターン
４７反射膜
５１ＴＦＴ基板
５２感光性樹脂層
５３紫外線
５４皺状凹凸形状
５５反射膜[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a reflective liquid crystal display device, and in particular, a reflective liquid crystal display characterized by a configuration for forming a bowl-shaped uneven shape formed on the surface of a diffuse reflector in a reflective liquid crystal display device with directionality. It relates to the device.
[0002]
[Prior art]
In recent years, color liquid crystal display devices have been used as image display means in various information processing terminals. Among them, reflective liquid crystal display devices do not use a backlight, and thus can be thin, lightweight, and consume low power. There is a feature that there is.
[0003]
Such a reflection type liquid crystal display device is roughly divided into three layers, ie, an optical shutter layer, a coloring layer, and a light reflection layer. A bright display can be obtained by efficiently using ambient light. Most important.
[0004]
Among these three layers, in particular, the light reflection layer has a great influence not only on the light utilization efficiency but also on the viewing angle characteristics, etc., so that the light reflection layer can be optimized to realize a bright reflective liquid crystal display device. In recent years, studies have been made to obtain a bright light reflection layer, and a conventional reflective liquid crystal display device will now be described with reference to FIGS.
[0005]
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal display device. A diffused reflection plate 33 is provided on the TFT substrate 31 side where the TFT 32 is formed, and a plurality of irregularities are scattered in the surface. The TFT substrate 31 and the counter substrate 34 provided with the transparent electrode 36 through the color filter 35 are opposed to each other, and liquid crystal is injected between them to form a liquid crystal layer 37, whereby the basic structure of the reflective liquid crystal display device is obtained. (See JP-A-11-295750 if necessary).
[0006]
Next, with reference to FIG. 12, an example of a method for manufacturing a diffuse reflector (refer to Japanese Patent Laid-Open No. 9-258218, if necessary) will be described.
First, after applying a resist on the glass substrate 41 to form a resist layer 42, the region corresponding to the predetermined region is exposed by irradiating ultraviolet rays 44 through the photomask 43.
[0007]
Next, referring to FIG. 12B, after removing the photomask 43, the resist layer 42 is developed to form a resist pattern 45.
Next, referring to FIG. 12C, the resist pattern 45 is baked and converted into a convex resist pattern 46 by reflowing the resist.
[0008]
Next, referring to FIG. 12 (d), a diffused reflector was formed by depositing a metal film on the entire surface to form a reflective film 47.
In such a diffuse reflector, the light utilization efficiency can be increased by controlling the density, diameter, amplitude, shape, inclination angle, etc. of the unevenness, and various studies have been made.
[0009]
However, the process using the photolithography described above is complicated, and the reflection characteristics greatly change due to changes in the shape depending on process conditions such as exposure amount, development time, and baking temperature, and the manufacturing process margin is very large. There was a narrow problem.
[0010]
The present inventors have proposed a new method for manufacturing a diffuse reflector (see Japanese Patent Application No. 2001-101755 if necessary), and will be described with reference to FIG.
First, a photosensitive resin layer 52 is formed on the TFT substrate 51 and then irradiated with ultraviolet rays 53, and thermal deformation such as shrinkage in the thickness direction or in-plane direction of the photosensitive resin layer 52 is performed. Have a distribution of properties.
[0011]
Next, referring to FIG. 13B, a heat treatment is performed to form a bowl-shaped uneven shape 54 on the surface of the photosensitive resin layer 52.
Next, referring to FIG. 13 (c), a reflective film 55 is formed on the bowl-shaped uneven shape 54 by depositing a metal layer on the entire surface.
[0012]
According to the method proposed by the present inventors, a photolithography process such as exposure and development with a mask pattern is not required, and thus the process is greatly simplified, so that the reflective electrode can realize a stable and high reflectance. Became possible to form.
[0013]
However, since the ridge-like uneven shape 54 generated by this method is generated in a random direction, a method of forming a pattern under the photosensitive resin layer 52 has been proposed in order to control this.
[0014]
14A to 14E. FIGS. 14A to 14E show the shape of the concavo-convex pattern formed under the photosensitive resin layer 52 in order to control the directionality of the bowl-shaped concavo-convex shape 54. FIG. It is a plan view, and each concavo-convex pattern is formed by using a film forming / patterning process such as a bus line at the time of TFT formation. This makes it possible to form a specific ridge-shaped concavo-convex shape 54 and reflect it. I was able to give the light directivity.
[0015]
[Problems to be solved by the invention]
However, a reflection type liquid crystal display device using a reflecting plate with directivity has a problem that the display is very difficult to see compared to paper because of severe glare.
[0016]
Accordingly, an object of the present invention is to eliminate glare while giving directivity to the reflected light from the reflector.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
FIG. 1 is an explanatory view of the principle configuration of the present invention, and means for solving the problems in the present invention will be described with reference to FIG. 1. FIG. 1 (a) is a plan view showing an uneven pattern. In addition, FIG. 1B is a cross-sectional view.
1 (a) and 1 (b), in order to solve the above-mentioned problems, the present invention applies heat to at least the thickness direction or in-plane direction of the photosensitive resin 5 having a predetermined film thickness formed on the substrate 1. After imparting a distribution of static deformation characteristics, a bowl-like uneven shape 6 was formed on the surface of the photosensitive resin 5 by heat treatment, and a light reflecting film 7 was formed on the bowl-like uneven shape 6 and used as a reflector. In the reflective liquid crystal display device, two or more linear concavo-convex pattern elements 2 and 3 having different orientations or shapes under the photosensitive resin 5 are continuously connected to the same concavo-convex pattern elements 2 and 3. It is arranged so that it is not repeated more than one, and the ridge-like uneven shape 6 follows the arrangement of the uneven pattern elements 2, 3.
[0018]
In this way, although it is regular when viewed macroscopically, a concave / convex pattern consisting of irregularly microscopic patterns is provided on the substrate 1, so that it is formed on the surface with the thermal contraction of the five layers of the photosensitive resin. The concavo-convex shape 6 can be formed along the concavo-convex pattern, whereby directivity can be imparted to the reflected light, and glare can be reduced.
In this case, the bowl-shaped uneven shape 6 does not have to be strictly along the arrangement of the uneven pattern elements 2 and 3, and the reflected light can be given directivity and the effect of reducing glare can be obtained. There is no problem even if it is slightly deviated as much as possible.
[0019]
Also, in this case, two or more linear concavo-convex pattern elements 2 and 3 are combined to form a repetitive pattern element 2 and 3, and the repetitive pattern element 2 and 3 are repeated to form the entire concavo-convex pattern. It is desirable that the design process of the concavo-convex pattern is simplified.
[0020]
Further, in this case, it is desirable that the standard deviation of the average inclination angle of the bowl-shaped uneven shape 6 is 2 ° or less in the plane of the reflecting plate, whereby the feeling of glare can be surely reduced.
[0021]
In the case of forming such a concavo-convex pattern in the active matrix liquid crystal display device provided with an active element such as a TFT is to be formed by the active element or the electrode material constituting the wirings such as the auxiliary capacitor line C _S Desirably, the manufacturing process can be simplified because the manufacturing process of the concavo-convex pattern elements 2 and 3 can be combined with the electrode pattern forming process.
[0022]
In addition, when such a concavo-convex pattern is formed on a color liquid crystal display device, the refractive index of the liquid crystal layer decreases as the wavelength increases, and therefore, it is desirable to provide a different concavo-convex pattern for each RGB. It is desirable that the inclination along the arrangement direction of the concavo-convex pattern elements 2 and 3 in 4 is larger than that of the short wavelength pixel in the long wavelength pixel, whereby the angle characteristics of the reflected light can be made uniform in each pixel.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Here, with reference to FIG. 2 thru | or FIG. 7, the reflection type liquid crystal display device of the 1st Embodiment of this invention is demonstrated.
FIG. 2A is a schematic plan view showing a concavo-convex pattern, and the substrate 11 made of transparent glass has mutually different orientations made of ITO having a thickness of, for example, 100 nm. The four concavo-convex pattern elements 12 to 15 are arranged to form a repetitive pattern 16, and the repetitive pattern 16 is repeated in the right direction in the figure to form the entire concavo-convex pattern.
[0024]
As an example of each concavo-convex pattern element 12 to 15, the lengths a and b are, for example, a = b = 10 μm, the width e is e = 3 μm, and the inclination angle c of the concavo-convex pattern elements 12 and 14 is , C = 15 °, and the inclination angle d of the concave and convex pattern elements 13 and 15 is d = 45 °.
[0025]
Next, although illustration is omitted, first, after applying the resist AFP-750 (trade name, manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) so as to have a thickness of 2 μm, for example, by the same process as FIG. Pre-baking is performed at 90 ° C. for 20 minutes to remove the solvent in the resist layer.
[0026]
Next, the entire surface is irradiated with ultraviolet rays at 2600 mJ / cm ² to give the resist layer a distribution of thermal deformation characteristics, and then baked at 200 ° C. for 60 minutes to generate a bowl-shaped uneven shape on the surface of the resist layer. Next, an Al film having a thickness of, for example, 200 nm is deposited on the entire surface to form a reflective film, thereby completing the diffuse reflector according to the first embodiment of the present invention.
[0027]
Reference to FIG. 2 (b) FIG. 2 (b) is a copy of a microscopic image of the reflection film on the surface of the diffuse reflector (sample 1) of the first embodiment of the present invention, and has a smooth curve. A regular surface pattern consisting of a pattern was observed, and no particular glare was observed.
[0028]
Next, with reference to FIG. 3, a comparative example consisting of a sample 2 in which a more regular pattern is arranged and a sample 3 in which ITO is not patterned will be described. The form is exactly the same.
Reference to FIG. 3 (a) FIG. 3 (a) is composed of a repeating pattern 17 in which the concave and convex pattern elements 12 to 15 shown in FIG. 2 (a) are regularly arranged, and each of the concave and convex pattern elements 12 to 15 itself. Configurations a to e are the same as those in the first embodiment.
[0029]
FIG. 3B is a reproduction of a microscopic image of the reflective film on the surface of the diffuse reflector of sample 2 in FIG. 3A. In this case, from a linear pattern region having a different orientation. A regular surface pattern was seen, and a considerable glare was felt.
[0030]
FIG. 3 (c) is a reproduction of a microscopic image of the reflective film on the surface of the diffuse reflector of Sample 3 where ITO is not patterned. In this case, the surface of the resist layer has a random ridge shape. Random patterns were seen corresponding to the uneven shape, and no particular glare was seen.
[0031]
As described above, in the first embodiment of the present invention, it was found that a curved pattern can be obtained by arranging other concavo-convex pattern elements having different orientations around a certain concavo-convex pattern element.
[0032]
FIG. 4A is a diagram showing the azimuth angle dependency of the reflectivity of the diffuse reflector according to the first embodiment of the present invention. The reflectivities of Sample 2 and Sample 3 described above are shown in FIG. Also shown is the azimuth angle dependence.
[0033]
In the first embodiment of the present invention, it is understood that the reflected light is collected within the range of azimuth 45 ° to 135 °, and that a substantially uniform brightness is realized.
On the other hand, in the case of sample 2, sharp peaks are observed at azimuths of 45 °, 75 °, 105 °, and 135 °.
In the case of sample 3, reflection characteristics independent of the orientation are obtained.
[0034]
Reference to FIG. 4B FIG. 4B is a diagram showing the reflectance measurement method described above, and an ITO having a thickness of, for example, 100 nm is formed so as to face the reflective film of each of the produced samples. With the 0.7 mm-thick glass substrate facing each other and immersion oil (refractive index of 1.52) injected between them, parallel light with an incident angle of 30 ° is incident on each azimuth angle φ. The intensity of reflected light was measured with a detector provided in the direction.
[0035]
Next, in order to investigate the cause of the reflection characteristics in FIG. 4A, the surface shape of the reflective film was measured, which will be described with reference to FIG.
FIG. 5A is a diagram showing the azimuth angle dependence of the MRS roughness in each sample. In the first embodiment of the present invention, the azimuth angle is in the range of 45 to 135 °. It was found that a high inclination of about 9 ° was obtained.
[0036]
On the other hand, in sample 2, it can be seen that there is a large inclination only in the direction in which the reflected light having a sharp peak is obtained.
On the other hand, in sample 3 where ITO was not patterned, a high inclination of approximately 8 ° was observed in all directions.
[0037]
Therefore, as in the first embodiment of the present invention, by arranging another concavo-convex pattern element having a different orientation around a certain concavo-convex pattern element, the orientation dependency of the RMS roughness is alleviated, and a specific azimuth is provided. It was possible to have a large slope only in the angular range.
[0038]
5 (b) and 5 (c) Reference FIGS. 5 (b) and 5 (c) are explanatory diagrams of the above-described RMS roughness measurement method. For the direction φ to be measured shown in FIG. 5 (b), FIG. When the surface is measured with a step gauge or the like, a curve as shown in FIG. 5C is obtained.
The inclination angle θ _AB of a straight line connecting the measurement point A (x _a , y _a , z _a ) and the adjacent measurement point B (x _b , y _b , z _b ) in this curve is set to a plurality (n places). It calculated | required about the measurement location and defined RMS roughness for these square averages. That is,
RMS roughness = {(1 / n) × Σθ _AB ² } ^1/2
It becomes.
[0039]
Next, the cause of the glare that causes a problem is examined, and will be described with reference to FIG.
Note that the glare level is a psychophysical quantity, referring to a blank sheet and a mirror.
5: I feel a strong glare like a metal
4: Strong glare
3: A little glare (white)
2: Slight glare (feels white)
1: No glare (white)
A five-step evaluation was performed.
[0040]
When such a glare is measured for each of the above samples, the glare is 2 in the case of the first embodiment of the present invention, the glare is 5 in the case of sample 2, and the glare is 1 in case of sample 3. Met.
[0041]
Reference to FIG. 6 (a) FIG. 6 (a) is a diagram showing the reason for the low glare in the case of the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4 (a), the first implementation is shown. In this form, since the direction dependency of the reflected light is small, all the reflected lights have almost the same brightness, and thus the degree of glare is considered to be small.
[0042]
Reference to FIG. 6B FIG. 6B is a diagram showing the reason that the glare degree is high in the sample 2. As shown in FIG. 4A, the orientation dependence of the reflected light is severe in the sample 2, Reflected light that satisfies a specific condition is very bright, but reflected light that does not satisfy the condition is very poor in brightness, and the brightness of the reflected light becomes intense depending on the location, and the degree of glare is thought to increase.
[0043]
Therefore, a reflection film is produced using various uneven patterns, and the RMS roughness of the surface is measured to examine the variation (standard deviation) of the RMS roughness in the reflection film, which will be described with reference to FIG. .
FIG. 7 is a diagram showing a correlation between the glare degree and the standard deviation of the RMS roughness. FIG. 7 shows that the larger the standard deviation of the RMS roughness, the larger the glare degree becomes, and the standard deviation is set to 2 ° or less. If it suppresses, it turns out that a glare degree becomes 3 or less and hardly feels a glare.
[0044]
As described above, in the first embodiment of the present invention, the orientation dependency of the RMS roughness is alleviated by arranging other uneven pattern elements having different orientations around a certain uneven pattern element, In addition, since a large inclination can be given only to a specific azimuth angle range, reflected light can be used effectively without causing glare.
[0045]
Next, with reference to FIG. 8, a modified example of the concavo-convex pattern for forming the diffuse reflector of the reflective liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described.
FIGS. 8A to 8E are plan views showing modifications of the concavo-convex pattern according to the first embodiment of the present invention. The reflected light has directivity. The pattern is not limited to a straight line, and can be a curve, a zigzag or the like.
In either case, the pattern has regularity when viewed in macro, but the pattern does not have regularity when viewed in micro but with some degree of problem.
[0046]
Next, with reference to FIG. 9, a second embodiment of the present invention showing the actual element arrangement and the arrangement of the concavo-convex pattern will be described.
9. FIG. 9 is a plan view of the main part of the active matrix type reflective liquid crystal display device of the second embodiment of the present invention. The TFT 21 as an active element, the gate bus line 22 connected to the TFT 21, the data In the pixel composed of the bus line 23 and the pixel electrode 24, when forming the auxiliary capacitance electrode 25, when patterning the conductive film deposited to form the auxiliary capacitance electrode 25, four different directions are used. A concave / convex pattern composed of the concave / convex pattern elements 26 to 29 is simultaneously formed.
[0047]
In the second embodiment of the present invention, since the auxiliary capacitance electrode 25 and the concave / convex pattern elements 26 to 29 are formed in the same process, the concave / convex pattern can be formed without increasing the number of processes, thereby It becomes possible to obtain a desired bowl-shaped uneven shape.
[0048]
Next, a third embodiment of the present invention relating to a color reflection type liquid crystal display device will be described with reference to FIG.
Reference to FIGS. 10A to 10C FIGS. 10A to 10C correspond to the R pixel, G pixel, and B pixel of the reflective liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention, respectively. FIG. 10A is an explanatory diagram of the concave / convex pattern, and the inclination of the concave / convex pattern element in the R pixel shown in FIG. 10A with respect to the arrangement direction (vertical direction in the drawing) of the concave / convex pattern element in the B pixel shown in FIG. It is larger than the inclination with respect to the arrangement direction (vertical direction in the figure), and is intermediate between the G pixels shown in FIG.
[0049]
This is because the longer the wavelength, the smaller the refractive index of the liquid crystal layer. Therefore, when the light reflected by the reflector comes out of the air layer, the emission angle decreases in the order of R, G, B according to Snell's law. The angle characteristics of the reflected light are non-uniform, but the wavelength dependence of the angle characteristics of the reflected light can be compensated by changing the concavo-convex pattern for each RGB as described above, thereby reflecting all pixels. The angular characteristics of light can be made uniform.
[0050]
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the configurations described in the embodiments, and various modifications can be made.
For example, in the description of the second embodiment, the concavo-convex pattern element is formed using the auxiliary capacitor electrode forming step. However, the other wiring layer forming step such as the gate bus line or the data bus line is formed. It may be formed using.
[0051]
In addition, the uneven pattern shown in each of the above-described embodiments and modifications is an example, and is not limited to the illustrated uneven pattern, and has regularity when viewed in a macro, thereby directing reflected light. Any pattern may be used as long as the pattern is obtained and is irregular when viewed microscopically, and thereby does not generate a glaring degree.
[0052]
For example, in each patterning shown in FIG. 8, each concavo-convex pattern element is not continuous with the same concavo-convex pattern element along the arrangement direction, but about two may be continuous.
[0053]
Further, in each of the above embodiments, each concavo-convex pattern element is formed by changing the orientation of the basic pattern element of the same shape, but the shape of the basic pattern element may be different from each other. In addition, a concave / convex pattern may be formed by combining a plurality of concave / convex pattern elements having different shapes and orientations.
[0054]
Here, the detailed features of the present invention will be described again with reference to FIG.
See FIGS. 1A and 1B (Appendix 1) The photosensitive resin 5 having a predetermined film thickness formed on the substrate 1 has a distribution of thermal deformation characteristics in at least the thickness direction or in-plane direction. Then, in a reflective liquid crystal display device in which a bowl-shaped uneven shape 6 is formed on the surface of the photosensitive resin 5 by heat treatment, a light reflection film 7 is formed on the bowl-shaped uneven shape 6 and this is used as a reflector. Two or more linear concavo-convex pattern elements 2 and 3 having different orientations or shapes under the photosensitive resin 5 are not repeated three or more in succession. The reflective liquid crystal display device is characterized in that the ridge-like concavo-convex shape 6 follows the arrangement of the concavo-convex pattern elements 2, 3.
(Supplementary Note 2) The two or more linear concavo-convex pattern elements 2 and 3 are combined to form a repetitive basic pattern 4, and the repetitive basic pattern 4 is repeated to form a concavo-convex pattern on the substrate 1. 2. A reflection type liquid crystal display device according to appendix 1.
(Additional remark 3) The reflection type liquid crystal display device of Additional remark 1 or 2 characterized by the standard deviation of the average inclination | tilt angle of the said bowl-shaped uneven | corrugated shape 6 being 2 degrees or less within the surface of the said reflecting plate.
(Additional remark 4) The said board | substrate 1 is the board | substrate 1 in which the active element was formed, and the said uneven | corrugated pattern elements 2 and 3 are formed with the electrode material which comprises the said active element or wiring. The reflective liquid crystal display device according to any one of 1 to 3.
(Supplementary note 5) The reflective liquid crystal display device according to supplementary note 4, wherein the active element is a thin film transistor, and the electrode material is an electrode material forming an auxiliary capacitance electrode.
(Additional remark 6) The uneven | corrugated pattern comprised by the said uneven | corrugated pattern element 2 and 3 is mutually different for every red pixel, green pixel, and blue pixel, It is any one of the additional marks 1 thru | or 5 characterized by the above-mentioned. Reflection type liquid crystal display device.
(Additional remark 7) While the said uneven | corrugated pattern consists of repetition of the basic pattern which arranged the several uneven | corrugated pattern element 2 and 3 in one direction, the inclination with respect to the arrangement direction of the uneven | corrugated pattern element 2 and 3 in each basic pattern is a long wavelength pixel. The reflective liquid crystal display device according to appendix 6, wherein the reflective liquid crystal display device is larger than the short wavelength pixel.
[0055]
【The invention's effect】
According to the present invention, when the photosensitive resin is heat-shrinked to form a ridge-like uneven shape on the surface, the substrate is regular when viewed macroscopically, and irregular when viewed microscopically. Reflective liquid crystal display with high brightness and excellent display quality due to the concavo-convex pattern, giving directivity to reflected light and reducing glare caused by sharp reflection in a specific direction It will greatly contribute to the realization of the device.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram of a basic configuration of the present invention.
FIG. 2 is an explanatory diagram of the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram of a comparative example.
FIG. 4 is an explanatory diagram of reflection characteristics of the reflector according to the first embodiment of the invention.
FIG. 5 is an explanatory diagram of the RMS roughness of the reflector according to the first embodiment of the invention.
FIG. 6 is an explanatory diagram of the cause of the low glare degree of the reflector according to the first embodiment of the invention.
FIG. 7 is an explanatory diagram of the RMS roughness dependence of the glare degree of the reflector according to the first embodiment of the invention.
FIG. 8 is an explanatory diagram of a modified example of the concavo-convex pattern according to the first embodiment of this invention.
FIG. 9 is an explanatory diagram of a reflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the invention.
FIG. 10 is an explanatory diagram of a reflective liquid crystal display device according to a third embodiment of the invention.
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal display device.
FIG. 12 is an explanatory diagram of a manufacturing process of a conventional diffuse reflector.
FIG. 13 is an explanatory diagram of a manufacturing process of another conventional diffuse reflector.
FIG. 14 is an explanatory diagram of a conventional uneven pattern.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Concavity and convexity pattern element 3 Concavity and convexity pattern element 4 Repetitive basic pattern 5 Photosensitive resin 6 Bowl-like uneven shape 7 Reflective film 11 Substrate 12 Concavity and convexity pattern element 13 Concavity and convexity pattern element 14 Concavity and convexity pattern element 15 Concavity and convexity pattern element 16 21 TFT
22 Gate bus line 23 Data bus line 24 Pixel electrode 25 Auxiliary capacitance electrode 26 Concave and convex pattern element 27 Concave and convex pattern element 31 TFT substrate 32 TFT
33 Diffuse reflection plate 34 Counter substrate 35 Color filter 36 Transparent electrode 37 Liquid crystal layer 41 Glass substrate 42 Resist layer 43 Photomask 44 Ultraviolet 45 Resist pattern 46 Resist pattern 47 Reflective film 51 TFT substrate 52 Photosensitive resin layer 53 Ultraviolet ray 54 Wrinkled unevenness Shape 55 Reflective film

Claims

After providing a distribution of thermal deformation characteristics at least in the thickness direction or in the in-plane direction of the photosensitive resin having a predetermined film thickness formed on the substrate, a ridge-shaped uneven shape is formed on the surface of the photosensitive resin by heat treatment In the reflective liquid crystal display device in which a light reflecting film is formed on the bowl-shaped uneven shape and used as a reflecting plate, two or more lines having different orientations or shapes under the photosensitive resin A reflective pattern characterized in that the concavo-convex pattern elements are arranged so that three or more of the same concavo-convex pattern elements are not continuously repeated, and the bowl-shaped concavo-convex shape follows the arrangement of the concavo-convex pattern elements Liquid crystal display device.

The reflection according to claim 1, wherein the two or more linear concavo-convex pattern elements are combined to form a repetitive basic pattern, and the repetitive basic pattern is repeated to form a concavo-convex pattern on the substrate. Type liquid crystal display device.

The reflective liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein a standard deviation of an average inclination angle of the bowl-shaped uneven shape is 2 ° or less within a plane of the reflector.

The said board | substrate is a board | substrate which formed the active element, and the said uneven | corrugated pattern element is formed of the electrode material which comprises the said active element or wiring, The any one of Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. 2. A reflective liquid crystal display device according to 1.

5. The reflective liquid crystal display according to claim 1, wherein the concavo-convex pattern constituted by the concavo-convex pattern elements is different for each of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel. apparatus.