KR101541288B1

KR101541288B1 - Sheet having uneven pattern formed thereon and method for manufacturing the same

Info

Publication number: KR101541288B1
Application number: KR1020157003702A
Authority: KR
Inventors: 토시키 오카야스; 유키 모리; 야스타케 후지키
Original assignee: 오지 홀딩스 가부시키가이샤
Priority date: 2007-02-21
Filing date: 2007-11-07
Publication date: 2015-08-03
Also published as: CN104122612B; CN102176079A; TW201418786A; KR20140027530A; TW201631332A; KR20120085940A; TWI530713B; CN102628969B; KR20140027529A; TWI545351B; KR101193615B1; TW201418783A; CN104122612A; CN102176079B; TWI536048B; TW201447389A; TW201418784A; WO2008102487A1; TWI536047B; TWI598638B

Abstract

수지제의 기판과, 상기 기판 한 면에 설치된 수지제의 경질층을 구비하고, 상기 경질층의 표면에 요철패턴이 형성된 요철패턴 형성시트로, 경질층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg2와, 기판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg1와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃ 이상이고, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조방법을 제공한다. A resin-made substrate, and a resin-made rigid layer provided on one surface of the substrate, wherein the rigid layer has a concavo-convex pattern formed on the surface thereof, wherein the glass transition temperature Tg2 of the resin constituting the rigid layer, (Tg2-Tg1) between the glass transition temperature Tg1 of the resin constituting the substrate and the glass transition temperature Tg1 of the resin constituting the substrate is 10 占 폚 or more and the most frequent pitch of the uneven pattern is 1 占 퐉 or less, ) Pitch is 100% or more and 10% or more when the pitch is 100%.

Description

BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a sheet-

본 발명은 광확산체에 구비되는 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴 형성 시트가 사용된 광확산체에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴이 표면에 형성된 광확산체를 제조하기 위한 틀로서 이용되는 광확산체 제조용 공정 시트 원판에 관한 것이다. 또, 본 발명은 광확산체의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a concavo-convex pattern-forming sheet provided on an optical diffuser and a method of manufacturing the same. The present invention also relates to an optical diffuser using a concavo-convex pattern-forming sheet. The present invention also relates to an original plate for a process for manufacturing an optical diffuser, which is used as a frame for manufacturing an optical diffuser having a concave-convex pattern formed on its surface. The present invention also relates to a method for producing an optical diffuser.

본 발명은 광확산 시트 등으로서 이용되는 광학 시트 및 광확산 시트에 관한 것이다. The present invention relates to an optical sheet and a light diffusion sheet used as a light diffusion sheet or the like.

본 발명은 광원으로부터의 광을 확산시키는 확산 도광체에 관한 것이다. 또, 본 발명은 액정표시장치에 구비되는 백라이트 유닛에 관한 것이다. The present invention relates to a diffusion light guide for diffusing light from a light source. The present invention also relates to a backlight unit provided in a liquid crystal display device.

본 발명은 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자에 구비되는 요철 패턴 형성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴 형성 시트가 사용된 반사 방지체 및 위상차판에 관한 것이다. 또, 본 발명은 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 이용되는 광학소자제조용 공정 시트에 관한 것이다. The present invention relates to an uneven pattern-forming sheet provided in an optical element such as an antireflection film or a retarder, and a method of manufacturing the same. Further, the present invention relates to an antireflective body and a retarder using a concavo-convex pattern-forming sheet. The present invention also relates to a process sheet for manufacturing an optical element used as a mold for manufacturing an optical element having a concavo-convex pattern.

본출원은 2007년 2월 21일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-040694호, 2007년 6월 7일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-151676호, 2007년 6월 7일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-151677호, 2007년 6월 7일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-151795호 및 2007년 10월 4일에 일본에 출원된 일본 특허출원 제2007-261176호에 기반하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 인용한다. The present application is based on Japanese Patent Application No. 2007-040694 filed on February 21, 2007, Japanese Patent Application No. 2007-151676 filed on June 7, 2007, Japanese Patent Application No. 2007-151676 filed on June 7, 2007 Japanese Patent Application No. 2007-151677 filed in Japan, Japanese Patent Application No. 2007-151795 filed in Japan on June 7, 2007, and Japanese Patent Application No. 2007-151795 filed on October 4, 2007, 261176, the contents of which are incorporated herein by reference.

일반적으로 광확산체로서는 물결 형상의 요철 패턴이 표면에 형성된 요철 패턴 형성 시트가 이용되고 있다. Generally, a concavo-convex pattern-forming sheet in which a wave-like concavo-convex pattern is formed on the surface is used as the optical diffusing body.

예를 들면, 일본 특허 공개공보 제1998-123307호에는 요철 패턴이 형성된 광확산체로서 적어도 한 면에 복수의 돌기체가 형성된 광투과성 기판이 개시되어 있다. 일본 특허 공개공보 제1998-123307호는 상기 돌기체의 높이가 2∼20㎛이고, 상기 돌기체의 정점 사이의 간격이 1∼10㎛이며, 돌기체의 어스펙트비(aspect ratio)가 1 이상이라고 개시하고 있다. 또, 상기 일본 특허 공개공보 제1998-123307호에는 돌기체를 형성하는 방법으로서, 광투과성 기판의 표면에 KrF 엑시머 레이저 등의 에너지 빔을 조사하여 가공하는 방법이 개시되어 있다. For example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1998-123307 discloses a light-diffusing substrate having a concavo-convex pattern formed thereon and having a plurality of projections formed on at least one surface thereof. Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1998-123307 discloses that the height of the pawl body is 2 to 20 占 퐉, the distance between the apexes of the pawl body is 1 to 10 占 퐉, the aspect ratio of the pawl body is 1 or more . Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-123307 discloses a method of forming a pillar body by irradiating a surface of a light-transmitting substrate with an energy beam such as a KrF excimer laser.

일본 특허 공개공보 제2006-261064호에는 일면에 물결 형상의 요철로 이루어지는 이방성 확산 패턴이 형성된 광확산체가 개시되어 있다. 또, 상기 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에는 이방성 확산 패턴을 형성하는 방법으로서, 감광성 수지 필름에 레이저 광을 조사해서 노광 및 현상하고, 일면에 요철이 형성된 마스터 홀로그램을 형성하며, 그 마스터 홀로그램을 금형에 전사하여, 그 금형을 이용해서 수지를 형성하는 방법이 개시되어 있다. Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-261064 discloses a light diffuser in which anisotropic diffusion patterns made of wavy irregularities are formed on one surface. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-261064 discloses a method of forming an anisotropic diffusion pattern by forming a master hologram in which a photosensitive resin film is irradiated with a laser beam to expose and develop and has irregularities formed on one surface thereof, Is transferred to a mold, and a resin is formed by using the mold.

광확산성 등을 갖는 광학 시트로서, 표면에 요철이 형성된 시트가 알려져 있다. 예를 들면, 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에는 도트 형상의 돌부가 기판표면에 다수 형성된 광확산 시트가 개시되어 있다. 상기 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재된 광학 시트에서는 잉크젯에 의해 기판상에 잉크를 토출하고, 이것을 고착시킴에 따라 도트 형상의 돌부를 형성하고 있다. BACKGROUND ART [0002] As an optical sheet having light diffusing properties and the like, there is known a sheet having unevenness on its surface. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-157430 discloses a light diffusion sheet in which a plurality of dot-shaped projections are formed on a substrate surface. In the optical sheet described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-157430, ink is ejected onto a substrate by inkjet, and a dot-shaped protrusion is formed by fixing the ink.

미세한 물결 형상의 요철로 이루어지는 요철 패턴이 표면에 형성되어, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 가시광의 파장이하인 요철 패턴 형성 시트는 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 이용할 수 있다는 것이 알려져 있다(키쿠타, 이와타 저, "광학", 일본 광학회 발행, 제27권, 제1호, 1998년, p.12-17 참조). It is known that a concavo-convex pattern-forming sheet in which a concavo-convex pattern composed of concave and convex portions in the form of fine wave-like irregularities is formed on the surface thereof and the most frequent pitch of the concavo-convex pattern is not more than the wavelength of visible light can be used as an optical element such as an anti- (See Kikuta and Iwata, "Optics", published by Optical Society of Japan, Vol. 27, No. 1, 1998, p.12-17).

요철 패턴 형성 시트가 반사 방지체로서 이용할 수 있는 것은 이하의 이유에 따른다. The reason why the concavo-convex pattern-forming sheet can be used as the antireflector is as follows.

시트 표면에 요철 패턴을 설치하고 있지 않은 경우에는, 시트와 공기와의 계면에 있어서의 굴절률이 급격한 변화에 의해 반사가 생긴다. 그러나, 시트 표면, 즉 공기와의 계면에 물결 형상의 요철 패턴을 설치한 경우에는, 요철 패턴의 부분에서 굴절률이 공기의 굴절률과 요철 패턴 형성 시트의 굴절률과의 사이의 값 (이하, 중간 굴절률이라고 한다) 을 나타내고, 게다가, 그 중간 굴절률이 요철 패턴의 깊이 방향으로 연속적으로 변화한다. 구체적으로는, 깊은 위치 정도, 요철 패턴 형성 시트의 굴절률에 근접한다. 이렇게 중간 굴절률이 연속적으로 변화함에 따라, 상술 한 바와 같은 계면에서의 굴절률이 급격한 변화가 일어나지 않고, 광의 반사를 억제할 수 있다. 또, 요철 패턴의 피치가 가시광의 파장 이하라면, 요철 패턴 부분으로 가시광의 회절, 즉 가시광의 간섭에 의한 착색을 야기하지 않는다. When the concavo-convex pattern is not provided on the surface of the sheet, reflection occurs due to abrupt change in the refractive index at the interface between the sheet and air. However, when a wavy concavo-convex pattern is provided at the interface with the sheet surface, that is, air, the refractive index at the portion of the concavo-convex pattern is a value between the refractive index of air and the refractive index of the concave- Further, the middle refractive index continuously changes in the depth direction of the concavo-convex pattern. Concretely, the refractive index of the concavo-convex pattern forming sheet is close to the deep position. As the middle refractive index continuously changes, the refractive index at the interface as described above does not change abruptly, and reflection of light can be suppressed. If the pitch of the concavo-convex pattern is equal to or smaller than the wavelength of visible light, coloration due to diffraction of visible light, that is, interference due to visible light, does not occur in the concavo-convex pattern portion.

또, 요철 패턴 형성 시트가 위상차판으로서 이용할 수 있는 것은, 요철 패턴의 부분에서, 굴절률이 서로 다른 공기와 요철 패턴 형성 시트가 교호로 배치된 결과, 광에 대하여 광학 이방성이 나타나기 때문이다. 또한 요철 패턴의 피치가 가시광의 파장과 같은 정도나 그 이하가 되면, 넓은 가시광 파장 영역에서 동등한 위상차를 나타내는 현상이 나타난다. The reason why the concavo-convex pattern-forming sheet can be used as the retarder is that the air having different refractive indexes and the concavo-convex pattern-forming sheets are alternately arranged in the concavo-convex pattern portion, resulting in optical anisotropy with respect to light. Also, when the pitch of the concavo-convex pattern is about the same as or less than the wavelength of visible light, a phenomenon in which an equal phase difference is exhibited in a wide visible light wavelength region appears.

이러한 요철 패턴 형성 시트의 구체 예로서는, 예를 들면, 네드 보덴(Ned Bowden) 등 저, "네이쳐(Nature)", 제393호, 1998년, p.146 에, 가열한 폴리디메틸실록산으로 이루어진 시트의 한 면에 금을 증착시켜 금속층을 형성한 후에 냉각함에 따라, 폴리디메틸실록산으로 이루어진 시트를 수축시켜, 금속층의 표면에 물결 형상의 요철 패턴을 형성시킨 시트가 제안되고 있다. Specific examples of such concavo-convex pattern-forming sheet include a sheet made of heated polydimethylsiloxane in Ned Bowden et al., &Quot; Nature ", 393, 1998, p.146 There has been proposed a sheet in which a sheet made of polydimethylsiloxane is shrunk by forming a metal layer by vapor deposition of gold on one surface and cooling it to form a wave-like concavo-convex pattern on the surface of the metal layer.

또, 일본 특허 공개 공보 제1988-301988호에는, 열수축성 합성 수지 필름의 표면에 하지층과 금속층을 순차 형성한 후, 열수축성 합성 수지 필름을 열수축시켜, 금속층의 표면에 물결 형상의 요철 패턴을 형성시킨 시트가 제안되고 있다. Japanese Patent Application Laid-Open No. 1988-301988 discloses a heat shrinkable synthetic resin film which is formed by successively forming a base layer and a metal layer on the surface of a heat shrinkable synthetic resin film and then heat shrinking the heat shrinkable synthetic resin film to form a wave- A formed sheet is proposed.

일본 특허 공개 공보 제2003-187503호에는, 노광 처리에 의해 체적수축하는 재료로 이루어지는 층을 형성하고, 그 층을 노광 처리하여 표면에 요철을 형성시킨 시트가 제안되고 있다. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-187503 proposes a sheet in which a layer made of a material capable of shrinking in volume by an exposure treatment is formed and the layer is subjected to exposure treatment to form irregularities on the surface.

그러나, 상기 일본 특허 공개 공보 제1988-301988호, 일본 특허 공개 공보 제2003-187503호 및 네드 보덴(Ned Bowden) 등 저, "네이쳐(Nature)", 제393호, 1998년, p.146 에 기재된 요철 패턴 형성 시트는 모두 광학소자로서 뛰어난 성능을 보이는 것이 아니었다. 구체적으로는, 반사 방지체로서 이용했을 경우에는 반사율을 충분히 낮게 할 수 없고, 또, 위상차판으로서 이용했을 경우에는, 위상차를 충분히 크게 할 수 없으며, 또 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 할 수 없었다. However, in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1988-301988, 2003-187503 and Ned Bowden et al., Nature, 393, 1998, p.146 All the concavo-convex pattern-forming sheets described were not excellent in performance as optical elements. Specifically, when used as an antireflection film, the reflectance can not be sufficiently lowered. When the film is used as a phase difference plate, the retardation can not be made sufficiently large, and an equivalent retardation can be generated over a wide wavelength region There was no.

또, 요철 패턴 형성 시트를 제조하는 방법으로서 패턴 마스크를 사용하는 가시광에 의한 포토리소그라피법이 알려져 있다. 그러나, 이 방법에서는, 광학소자로서 이용할 수 있는 광의 파장 이하의 피치를 가지는 요철 패턴 형성 시트를 제조할 수 없다. 그 때문에, 보다 미세가공이 가능한 자외선 레이저 간섭법이나 전자선리소그라피법을 적용할 필요가 있다. 이들의 방법에서는, 기판 상에 형성된 레지스트층을 자외선 레이저 간섭광이나 전자선에서 노광하여 현상해서 레지스트 패턴층을 형성하고, 이 레지스트 패턴층을 마스크로 이용하여 드라이 에칭법 등에 의해 요철형상을 형성한다. 그러나, 자외선 레이저 간섭법이나 전자선 리소그라피법을 적용한 경우에는, 10cm을 넘는 넓은 영역에서의 가공이 어렵고, 대량생산에 적합하지 않다는 문제가 있었다. In addition, a photolithography method using visible light using a pattern mask is known as a method of producing a concavo-convex pattern-forming sheet. However, in this method, it is impossible to produce a concavo-convex pattern-forming sheet having a pitch equal to or less than the wavelength of light usable as an optical element. Therefore, it is necessary to apply the ultraviolet laser interfering method and the electron beam lithography method capable of finer processing. In these methods, a resist layer formed on a substrate is exposed and developed by ultraviolet laser interfering light or electron beam to form a resist pattern layer, and a concavo-convex shape is formed by a dry etching method or the like using the resist pattern layer as a mask. However, when the ultraviolet laser interferometry method or the electron beam lithography method is applied, there is a problem that it is difficult to process in a wide area exceeding 10 cm and is not suitable for mass production.

또, 일본 특허 공개 공보 제2005-279807호에는, 입자층을 기판상에 배치하여, 입자층을 에칭 마스크로서 기판표면을 드라이 에칭하는 방법이 제안되고 있다. 그러나, 이 경우라도 30cm을 넘는 넓은 영역에서의 가공이 어렵고, 대량생산에 적합하지 않다는 문제가 있었다. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-279807 proposes a method of disposing a particle layer on a substrate and dry-etching the surface of the substrate using the particle layer as an etching mask. However, even in this case, it is difficult to process in a large area exceeding 30 cm, which is not suitable for mass production.

일본 특허 공개공보 제1998-123307호, 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에 기재의 광확산체는 충분한 광확산성을 갖는 것이다. 그러나, 상기 일본 특허 공개공보 제1998-123307호에 기재된 에너지 빔의 조사에 의한 가공 방법, 상기 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에 기재된 감광성 수지의 필름을 레이저에 의해 노광하여 현상하는 방법은 번잡하다고 하는 문제를 가지고 있었다. 또, 상기 일본 특허 공개공보 제1998-123307호, 일본 특허 공개공보 제2006-261064호의 광확산체는 확산의 이방성이 충분하다고는 할 수 없었다. The optical diffusers described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1998-123307 and 2006-261064 have sufficient light diffusibility. However, the method of processing by energy beam irradiation described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1998-123307 and the method of exposing and developing the film of the photosensitive resin described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-261064 by laser are troublesome I had a problem. In addition, the optical diffusers of Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1998-123307 and 2006-261064 can not say that the anisotropy of diffusion is sufficient.

본 발명은, 상기 사정을 비추어 보아서 행해진 것으로서, 광확산체로서 이용할 수 있고, 간편하게 제조할 수 있는 요철 패턴 형성 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 광확산체로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트를 간편하게 제조할 수 있는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 확산의 이방성이 뛰어난 광확산체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 형성된 광확산체를 간편하면서 대량으로 제조할 수 있는 광확산체 제조용 공정 시트 및 광확산체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a concavo-convex pattern-forming sheet that can be used as an optical diffuser and can be simply manufactured, which has been made in view of the above circumstances. It is another object of the present invention to provide a method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet which can easily produce a concavo-convex pattern-forming sheet used as an optical diffuser. It is another object of the present invention to provide an optical diffusion body excellent in anisotropy of diffusion. Also provided is a process sheet for manufacturing an optical diffuser and a method for manufacturing the optical diffuser, which can easily and mass-produce an optical diffuser having a convexo-concave pattern of the most frequent pitch and an average depth equal to those of the concavo-convex pattern- .

요철에 의해 광의 확산이나 반사를 제어하려고 하는 경우에는, 요철부끼리의 간격이 광의 파장 정도이면, 간섭에 의한 착색이 문제가 되고, 또 그 간격이 수십 ㎛을 넘으면, 휘선 등으로서 시인되는 우려가 있기 때문에, 요철부끼리의 간격을 20㎛ 이하로 하는 것이 요구된다. 그러나, 상기 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재의 광학 시트에서는, 요철부끼리의 간격이 수십 ㎛∼수백 ㎛이라면, 안정적으로 간격이 형성되지만, 20㎛ 이하에서는 희망하는 간격을 얻는 것이 어려웠다. When the diffusion and reflection of light are to be controlled by unevenness, coloring due to interference becomes a problem if the interval between the concave and convex portions is about the wavelength of light. If the interval exceeds several tens of micrometers, Therefore, it is required to make the interval between the concave-convex portions 20 mu m or less. However, in the optical sheet described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-157430, if the interval between the concave and convex portions is several tens of micrometers to several hundreds of micrometers, the interval is stably formed, but it is difficult to obtain the desired interval at 20 μm or less .

또, 광학 시트에 있어서는, 광확산성 등의 광학특성을 균일하게 하지 않고, 소정의 위치에서 높게 또는 낮아지도록 불균일하게 할 수 있다. 예를 들면, 액정 디스플레이의 백라이트 유닛에 사용할 수 있는 도광판에서는, 그 측단면에 배치된 선상광원의 이미지가 도광판 표면에 비추어지는 것을 막는 목적으로, 그 선상광원에 가까운 출광측 표면의 광확산성을 높일 수 있다. 또, 액정 디스플레이 안에서, 복수의 선상광원이나 점상광원을 갖춘 직하형 백라이트 유닛을 이용할 경우에는, 선상광원이나 점상광원끼리의 사이에서 그 바로 위로 가까워짐에 따라서, 광확산성을 높일 수 있다. In the optical sheet, the optical characteristics such as light diffusibility can be made non-uniform and non-uniform so as to be higher or lower at a predetermined position. For example, in a light guide plate which can be used for a backlight unit of a liquid crystal display, for the purpose of preventing the image of the linear light source disposed on the side end face thereof from being projected on the light guide plate surface, the light diffusing property of the light- . When a direct-type backlight unit having a plurality of linear light sources or point light sources is used in a liquid crystal display, the light diffusing property can be increased as the linear light sources or the point light sources approach each other immediately therebetween.

표면에 요철이 형성된 광학 시트에 있어서 광학특성이 불균일하도록 조정하기 위해서는, 요철부끼리의 간격을 위치에 따라 변화시키는 것을 생각할 수 있으나, 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재된 광학 시트에서는, 요철부끼리의 간격을 20㎛ 이하로 한 뒤, 그 간격을 변화시키는 것은 어려웠다. 따라서, 일본 특허 공개공보 제2004-157430호에 기재된 광학 시트에서는, 소정의 위치에서 광학특성이 높게 또는 낮아지도록 불균일하게 하는 것이 곤란했다. In order to adjust the optical characteristics of the optical sheet having the irregularities on the surface so as to be uneven, it is conceivable to change the interval between the irregular portions according to the position. However, in the optical sheet described in Japanese Patent Application Publication No. 2004-157430, It was difficult to change the interval after the interval between the portions was set to 20 mu m or less. Therefore, in the optical sheet described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-157430, it is difficult to make the optical characteristics non-uniform such that the optical characteristic is increased or decreased at a predetermined position.

거기에서, 본 발명은 목적하는 광학특성(광 확산성 등)이 뛰어나고, 게다가 광학특성을 용이하게 불균일하게 할 수 있는 광학 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 목적하는 광 확산성에 뛰어나고, 또 광 확산성을 용이하게 불균일하게 할 수 있는 광확산 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an optical sheet which is excellent in a desired optical property (light diffusibility and the like) and can easily make optical properties nonuniform. Another object of the present invention is to provide a light-diffusing sheet which is excellent in desired light diffusibility and can easily diffuse light easily.

일본 특허 공개공보 제1998-123307호, 일본 특허 공개공보 제2006-261064호에 기재된 확산 도광체에서는, 광의 확산의 이방성이 불충분하기 때문에, 확산 도광체를 구비하는 백라이트 유닛에서는 광원으로부터의 광을 충분히 이방성 확산시킬 수 없었다. 그 때문에, 확산 도광체로부터의 출사광의 휘도가 장소에 따라 달라지고, 액정표시장치 화상의 휘도에 얼룩이 생기는 일이 있었다. In the diffusion light guide described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1998-123307 and 2006-261064, since the anisotropy of light diffusion is insufficient, in the backlight unit including the diffusion light guide, Anisotropic diffusion could not be achieved. Therefore, the brightness of the light emitted from the diffusion light guide changes depending on the place, and the brightness of the image of the liquid crystal display device may be uneven.

본 발명은 광원으로부터의 광을 충분히 이방성 확산시킬 수 있는 확산 도광체 및 백라이트 유닛을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a diffusion light guide and a backlight unit capable of sufficiently anisotropically diffusing light from a light source.

본 발명은 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 이용했을 때에 뛰어난 성능을 나타내는 요철 패턴 형성 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 그러한 요철 패턴 형성 시트를 간편하게, 대면적으로, 대량으로 제조할 수 있는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 반사율이 낮은 반사 방지체, 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 하는 위상차판을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 간편하게 대량으로 제조할 수 있는 광학소자제조용 공정 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다. It is an object of the present invention to provide a concavo-convex pattern-forming sheet exhibiting excellent performance when used as an optical element such as an antireflection film or a retarder. It is another object of the present invention to provide a method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet capable of easily producing such a concavo-convex pattern-forming sheet in a large area in a large area. It is another object of the present invention to provide an antireflective body having a low reflectance and a retardation plate which causes an equivalent retardation over a wide wavelength range. It is also an object of the present invention to provide a process sheet for manufacturing an optical element which can easily produce an optical element having an uneven pattern of the most frequent pitch and an average depth equivalent to that of the uneven pattern forming sheet.

본 발명은 이하의 실시예들을 포함한다. The present invention includes the following embodiments.

[1] 수지제의 기판과 상기 기판의 한 면에 설치된 수지제의 경질층을 구비하고, 상기 경질층의 표면에 한 방향에 따른 요철 패턴이 형성된 요철 패턴 형성 시트로, 경질층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도(Tg2)와 기판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도(Tg1)와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃ 이상이며, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛ 이상 및 20㎛이하이고, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트. [1] An uneven pattern-forming sheet comprising a substrate made of resin and a hard resin layer made of resin and provided on one surface of the substrate, wherein the hard layer has a concave- (Tg2-Tg1) between the glass transition temperature (Tg2) of the resin constituting the substrate and the glass transition temperature (Tg1) of the resin constituting the substrate is not less than 10 DEG C and the minimum pitch of the concavo-convex pattern is not less than 1 mu m and not more than 20 mu m , And the average depth of the bottom of the concavo-convex pattern is 10% or more when the most frequent pitch is 100%.

[2] 수지제의 기판의 한 면에, 표면이 평평하고 두께가 0.05㎛을 넘고 5.0㎛이하인 수지제의 경질층을 설치하여 적층 시트를 형성하는 공정과, 적어도 상기 적층 시트의 경질층을 접듯이 변형시키는 공정을 가지며, 경질층을 기판을 구성하는 수지보다 유리 전이 온도가 10℃ 이상 높은 수지로 구성하는 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [2] A method for manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: forming a hard layer made of resin on one surface of a substrate made of resin and having a flat surface and a thickness of more than 0.05 μm and not more than 5.0 μm; Wherein the hard layer is made of a resin having a glass transition temperature higher by 10 占 폚 or higher than that of the resin constituting the substrate.

[3] 수지제의 기판으로 사용되는 일축 방향 가열 수축성 필름을 이용하여, 경질층을 접듯이 변형시키는 공정에서는, 적층 시트를 가열하여 일축 방향 가열 수축성 필름을 수축시키는 [2]에 기재된 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [3] A process for producing a concavo-convex pattern according to [2], wherein the heat shrinkable film is uniaxially heated by using a uniaxial heat shrinkable film used as a substrate made of resin, &Lt; / RTI >

[4] [1]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하고, 상기 요철 패턴 형성 시트의 기판 및 경질층이 투명한 것을 특징으로 하는 광확산체. [4] An optical diffuser comprising the relief pattern-forming sheet described in [1], wherein the substrate and the hard layer of the relief pattern-forming sheet are transparent.

[5] 수지제의 기판과 상기 기판의 한 면에 설치된 경질층을 구비하고, 상기 경질층의 표면에 한 방향에 따른 요철 패턴이 형성된 요철 패턴 형성 시트로, 경질층이 금속 또는 금속화합물로 이루어지고, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘고 20㎛이하이고, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트.[5] A relief pattern-forming sheet comprising a substrate made of resin and a hard layer provided on one surface of the substrate, wherein the hard layer has a concavo-convex pattern formed in one direction on the surface thereof, And the minimum pitch of the concavo-convex pattern is more than 1 占 퐉 and not more than 20 占 퐉, and the average depth of the bottom of the concavo-convex pattern is 10% or more when the most frequent pitch is 100% A sheet having a concave and convex pattern.

[6] 경질층이 금속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 [5]에 기재된 요철 패턴 형성 시트.[6] The irregular pattern forming sheet according to [5], wherein the hard layer is made of a metal.

[7] 경질층의 금속은 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 비스무트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것을 특징으로 하는 [5]에 기재된 요철 패턴 형성 시트. The metal of the hard layer is at least one selected from the group consisting of gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, palladium, lead, platinum, silicon, tin, titanium, vanadium, zinc, The irregular pattern forming sheet according to [5], wherein the metal is one kind of metal.

[8] 수지제의 기판의 한 면에, 표면이 평평하고 두께 0.01㎛을 넘고 0.2㎛이하인 금속제 또는 금속화합물제의 경질층을 설치하여 적층 시트를 형성하는 공정과, 적어도 상기 적층 시트의 경질층을 접듯이 변형시키는 공정을 가지며, 경질층을 금속 또는 금속화합물로 구성하는 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트. [8] A method for manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of: forming a laminated sheet on one surface of a substrate made of resin by providing a hard layer made of metal or metal compound having a flat surface and a thickness of more than 0.01 μm and not more than 0.2 μm; Wherein the hard layer is made of a metal or a metal compound.

[9] 수지제의 기판으로 사용되는 일축 방향 가열 수축성 필름을 이용하여 경질층을 접듯이 변형시키는 공정에서는, 적층 시트를 가열해서 일축 방향 가열 수축성 필름을 수축시키는 것을 특징으로 하는 [8]에 기재된 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. [9] A process for producing a laminated sheet as described in [8], wherein the laminated sheet is heated to shrink the heat shrinkable film in the uniaxial direction in the process of folding the hard layer using a uniaxial heat shrinkable film used as a substrate made of resin A method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet.

[10] [1], [5], 또는 [8]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하고, 상기 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 표면에 형성된 광확산체를 제조하기 위한 틀로서 이용되는 것을 특징으로 하는 광확산체 제조용 공정 시트 원판.[10] A light diffusing sheet comprising the concavo-convex pattern-forming sheet described in [1], [5] or [8] Which is used as a mold for manufacturing a light diffuser.

[11] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 미경화의 경화성 수지를 도포하는 공정과, 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 갖는 광확산체의 제조 방법. [11] A process for manufacturing an optical diffuser as described in [10], comprising the steps of: applying an uncured curable resin to the surface of the original plate on which the concavo-convex pattern is formed; curing the curable resin; And a step of peeling the optical diffusion layer.

[12] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의, 요철 패턴이 형성된 면에, 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 압력을 가하면서 가열하여 연화시킨 후 냉각하는 공정과, 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 광확산체의 제조 방법. [12] A process for manufacturing an optical diffuser as described in [10], comprising the steps of: contacting a sheet-like thermoplastic resin on a surface of a raw sheet of a process sheet for producing an optical diffuser, where the roughened pattern is formed; A step of heating and softening and cooling, and a step of peeling the cooled sheet-form thermoplastic resin from the original sheet of the process sheet.

[13] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 요철 패턴 전사용 재료를 적층 하는 공정과, 요철 패턴에 적층 한 요철 패턴 전사용 재료를 상기 공정 시트 원판으로부터 박리하여 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의, 상기 공정 시트 원판의 요철 패턴과 접하고 있던 측면에, 미경화의 경화성 수지를 도포하는 공정과, 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 광확산체의 제조 방법. [13] A process for manufacturing an optical diffuser as described in [10], comprising the steps of: laminating an uneven pattern transferring material on a surface of the original plate on which the concavo-convex pattern is formed, and transferring the convex / concave pattern transfer material laminated on the concavo- A step of applying an uncured curable resin to the side of the formation for secondary processing which is in contact with the concavo-convex pattern of the process sheet original plate; And then peeling the cured coating film with the formation for the secondary process.

[14] [10]에 기재된 광확산체 제조용 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 요철 패턴 전사용 재료를 적층 하는 공정과, 요철 패턴에 적층한 요철 패턴 전사용 재료를 상기 공정 시트 원판으로부터 박리하여 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 상기 공정 시트 원판의 요철 패턴과 접하고 있던 측면에, 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 압력을 가하면서 가열하여 연화시킨 후 냉각하는 공정과, 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 광확산체의 제조 방법. [14] A process for manufacturing an optical diffuser as described in [10], comprising the steps of: laminating an uneven pattern transferring material on a surface of a raw plate of the original plate having the unevenness pattern formed thereon; A step of forming a sheet for forming a secondary process, a step of bringing a sheet-shaped thermoplastic resin into contact with a side surface of the sheet for forming a secondary process which has been in contact with the concavo-convex pattern of the process sheet original plate, A step of heating and softening the resin while applying pressure to the formation of the secondary process and cooling the same, and a step of peeling the cooled sheet-form thermoplastic resin from the formation for the secondary process. &Lt; / RTI >

[15] 평탄한 한 면 또는 양면에 요철을 갖는 요철영역이 분산하여 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 광학 시트. [15] An optical sheet characterized in that uneven areas having irregularities on a flat surface or both surfaces are dispersed and arranged.

[16] 요철영역이 불균일하게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 [15]에 기재된 광학 시트.[16] The optical sheet according to [15], wherein the uneven areas are unevenly arranged.

[17] [15]에 기재된 광학 시트를 구비하는 것을 특징으로 하는 광확산 시트. [17] A light diffusion sheet comprising the optical sheet according to [15].

[18] 요철영역내의 요철의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이상 및 20㎛ 이하이고, 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철의 평균 깊이(B)의 비(A/B)가 0.1∼3.0인 것을 특징으로 하는 [17]에 기재된 광확산 시트. [18] The ratio (A / B) of the average depth (B) of concavities and convexities to the most frequent pitch (A) with the most frequent pitch (A) B) of the light diffusing sheet is 0.1 to 3.0.

[19] 요철영역이 도트 형상으로 분산되어 있는 [18]에 기재된 광확산 시트. [19] The light diffusion sheet according to [18], wherein the uneven regions are dispersed in a dot shape.

[20] 사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 한 면에 형성된 투명수지층으로 이루어지는 확산 도광체로, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1.0㎛ 이상 및 20㎛이하이고, 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철의 평균 깊이(B)의 비(B/A)이 0.1∼3.0인 것을 특징으로 하는 확산 도광체. [20] A diffusion light guide comprising a transparent resin layer formed on one side of a wave-like concavo-convex pattern having a meandering shape, wherein the pitch of the concavo-convex pattern is 1.0 μm or more and 20 μm or less, (B / A) of the average depth (B) of the concavities and convexities to the surface of the light guide plate (A) is 0.1 to 3.0.

[21] [20]에 기재된 확산 도광체와, 상기 확산 도광체의 상기 요철 패턴이 형성된 면과 반대측의 면에 대향하여 배치된 반사판과, 상기 확산 도광체 및 상기 반사판의 사이에 배치 된 광원을 구비하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛. [21] A liquid crystal display comprising: a diffusion light guide according to [20]; a reflection plate disposed opposite to a surface of the diffusion light guide opposite to the surface on which the concave-convex pattern is formed; and a light source disposed between the diffusion light guide and the reflection plate And the backlight unit.

[22] 청구항 20에 기재된 확산 도광체와, 상기 확산 도광체의 상기 요철 패턴이 형성된 면과 반대측의 면에 대향하여 배치된 반사판과, 상기 확산 도광체의 어느 측면에 인접한 광원을 구비하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛. [22] A liquid crystal display device, comprising: the diffusion light guide according to claim 20; a reflection plate disposed opposite to a surface of the diffusion light guide opposite to the surface on which the concavo-convex pattern is formed; and a light source adjacent to either side of the diffusion light guide Backlight unit.

[23] 수지제의 기판과, 상기 기판 외면의 적어도 일부에 설치된 수지제의 경질층을 구비하고, 상기 경질층이 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트로, 경질층을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg2와 기판을 구성하는 수지의 유리 전이 온도 Tg1와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃ 이상이고, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이며, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상인 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트. [23] A resin-made substrate, and a resin hard layer provided on at least a part of the outer surface of the substrate, wherein the hard layer has a concavo-convex pattern- (Tg2-Tg1) between the glass transition temperature Tg2 and the glass transition temperature Tg1 of the resin constituting the substrate is not less than 10 占 폚, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern is not more than 1 占 퐉, Is 10% or more when the most frequent pitch is 100%.

[24] 수지제의 기판 외면의 적어도 일부에, 표면이 평평한 수지제의 경질층을 설치하여 적층 시트를 형성하는 공정과, 적어도 상기 적층 시트의 경질층을 사행 변형시키는 공정을 가지며, 경질층을 기판을 구성하는 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 수지로 구성하는 것을 특징으로 하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법. Forming a hard layer made of a resin on a surface of at least a part of the outer surface of the substrate made of resin to form a laminated sheet; and at least a step of deforming the hard layer of the laminated sheet by a meander, Wherein the resin is composed of a resin having a glass transition temperature higher by 10 占 폚 or higher than that of the resin constituting the substrate.

[25] [23]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하는 것을 특징으로 하는 반사 방지체. [25] An antireflective body comprising the relief pattern-forming sheet described in [23].

[26] [23]에 기재된 요철 패턴 형성 시트를 구비하는 위상차판. [26] A retarder comprising the relief pattern-forming sheet described in [23].

[27] [23]에 기재된 요철 패턴 형성 시트의 특징을 갖추고, 상기 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 이용할 수 있는 광학소자제조용 공정 시트. [27] An optical element having the features of the concavo-convex pattern-forming sheet described in [23], which can be used as a frame for manufacturing an optical element having an uneven pattern of the most frequent pitch and average depth, Process sheet for device fabrication.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 광확산체로서 이용할 수 있고, 간편하게 제조될 수 있다. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention can be used as an optical diffuser and can be easily manufactured.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 의하면, 광확산체로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트를 간편하게 제조할 수 있다. According to the method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention, a concavo-convex pattern-forming sheet used as a light diffuser can be easily manufactured.

본 발명의 광확산체는 확산의 이방성이 우수하다. The optical diffuser of the present invention is excellent in anisotropy of diffusion.

본 발명의 광확산체 제조용 공정 시트 및 광확산체의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 형성된 광확산체를 간편하게 대량으로 제조할 수 있다. According to the process sheet for manufacturing an optical diffuser of the present invention and the process for producing an optical diffuser, it is possible to easily produce a large number of optical diffusers in which a concavo-convex pattern of the most frequent pitch and average depth is formed, .

본 발명의 광학 시트는 광학특성이 뛰어나고, 광학특성을 용이하게 불균일하게 할 수 있다. The optical sheet of the present invention has excellent optical properties and can easily make the optical characteristics non-uniform.

본 발명의 광확산 시트는 광확산성이 뛰어나고, 광확산성을 용이하게 불균일하게 할 수 있다. The light-diffusing sheet of the present invention is excellent in light diffusibility and can easily make the light diffusibility non-uniform.

본 발명의 확산 도광체 및 백라이트 유닛에 의하면, 광원으로부터의 광을 충분히 이방성 확산시킬 수 있다. According to the diffusion light guide and the backlight unit of the present invention, light from the light source can be sufficiently anisotropically diffused.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 적합하게 이용될 수 있다. 또, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 사용되는 광학소자 제조용 공정 시트로서도 적합하게 이용될 수 있다. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention can be suitably used as an optical element such as an antireflection film or a retarder. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention can also be suitably used as a process sheet for manufacturing an optical element used as a frame for manufacturing an optical element having a wavy concavo-convex pattern.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 표면에 미세한 요철 패턴을 용이하게 대면적으로 형성할 수 있기 때문에, 광학 소자 등에 적합하게 이용될 수 있는 요철 패턴 형성 시트를 간편하면서도 대량으로 제조할 수 있다. In the method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention, it is possible to easily form a fine concavo-convex pattern on the surface over a large area, so that a concavo-convex pattern- have.

본 발명의 반사 방지체는 반사율이 낮고, 성능이 우수하다. The antireflective body of the present invention has low reflectance and excellent performance.

본 발명의 위상차판은 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 할 수 있어 성능이 뛰어나다. The retardation plate of the present invention can produce an equivalent retardation over a wide wavelength range, and is excellent in performance.

본 발명의 광학소자제조용 공정 시트를 이용할 경우, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 간편하면서 대량으로 제조할 수 있다. When the process sheet for manufacturing an optical element of the present invention is used, an optical element having a convexo-concave pattern with the most frequent pitch and an average depth equivalent to that of the concavo-convex pattern-forming sheet can be produced simply and in large quantities.

도 1은 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 일실시 형태의 일부를 확대해서 나타낸 확대 사시도이다.
도 2는 도 1의 요철 패턴 형성 시트를, 요철 패턴의 형성 방향과 직교 방향으로 절단했을 때의 단면도이다.
도 3은 요철 패턴의 표면을 표면 광학 현미경에 의해 촬영해서 얻은 화상의, 그레이 스케일 변환 화상이다.
도 4는 도 3의 화상을 푸리에 변환한 화상이다.
도 5는 도 4의 화상에서의 원의 중심으로부터의 거리에 대한 휘도를 플롯한 그래프이다.
도 6은 도 4의 화상에 있어서의 보조선 L3상의 휘도를 플롯한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법의 일실시 형태에 있어서의 적층 시트를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 요철 패턴 형성 시트를 이용한 광확산체의 제조 방법의 일례를 설명하는 도이다.
도 9는 비교예 4에 있어서의 요철 패턴의 표면을 표면 광학 현미경에 의해 촬영해서 얻은 화상의, 그레이 스케일 변환 화상이다.
도 10은 도 9의 화상을 푸리에 변환한 화상이다.
도 11은 도 10의 화상에 있어서의 원 중심으로부터의 거리에 대한 휘도를 플롯한 그래프다.
도 12는 도 10의 화상에 있어서의 보조선 L5상의 휘도를 플롯한 그래프이다.
도 13은 본 발명의 광학 시트의 제1 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 14는 도 13에 나타낸 광학 시트를 제조할 때에 사용하는 인쇄 시트를 나타내는 단면도이다.
도 15는 인쇄 시트의 표면의 투과형 전자 현미경 사진상(像)이다.
도 16은 광학 시트의 표면의 투과형 전자 현미경 사진상이다.
도 17은 본 발명의 광학 시트의 제2 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 18은 본 발명의 광학 시트의 제3 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 19는 본 발명의 광학 시트의 제4 실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 20은 본 발명의 확산 도광체의 다른 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 21은 본 발명의 백라이트 유닛의 제1 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 22는 발명의 백라이트 유닛의 제2 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 23는 발명의 요철 패턴 형성 시트의 일실시 형태의 일부를 확대해서 나타낸 확대 사시도이다.
도 24 특정 방향에 따르지 않는 요철 패턴의 표면을 원자간력 현미경에 의해 촬영해서 얻은 화상의, 그레이 스케일 변환 화상이다.
도 25는 도 24의 화상을 푸리에 변환한 화상이다.
도 26는 도 25의 화상에 있어서의 원의 중심으로부터의 거리에 대한 휘도를 플롯한 그래프이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is an enlarged perspective view showing a part of one embodiment of a concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view of the concavo-convex pattern-forming sheet of Fig. 1 when cut in a direction orthogonal to the formation direction of the concavo-convex pattern.
3 is a grayscale-converted image of an image obtained by photographing the surface of the concavo-convex pattern with a surface optical microscope.
4 is a Fourier transformed image of the image of Fig.
5 is a graph plotting the luminance against the distance from the center of the circle in the image of Fig.
6 is a graph plotting the luminance on the auxiliary line L3 in the image of Fig.
7 is a cross-sectional view showing a laminated sheet in an embodiment of the method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention.
Fig. 8 is a view for explaining an example of a method of manufacturing an optical diffuser using the concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention.
9 is a grayscale-converted image of an image obtained by photographing the surface of the concavo-convex pattern in Comparative Example 4 by a surface optical microscope.
10 is an Fourier transformed image of the image of FIG.
11 is a graph plotting the luminance with respect to the distance from the center of the circle in the image of Fig.
12 is a graph plotting the luminance on the auxiliary line L5 in the image of Fig.
13 is a perspective view showing the first embodiment of the optical sheet of the present invention.
14 is a cross-sectional view showing a printed sheet used in manufacturing the optical sheet shown in Fig.
15 is a transmission electron microscopic photograph of the surface of the printed sheet.
16 is a transmission electron microscope photograph of the surface of the optical sheet.
17 is a perspective view showing a second embodiment of the optical sheet of the present invention.
18 is a perspective view showing a third embodiment of the optical sheet of the present invention.
19 is a perspective view showing a fourth embodiment of the optical sheet of the present invention.
20 is a cross-sectional view showing another embodiment of the diffusion light guide of the present invention.
21 is a sectional view showing the first embodiment of the backlight unit of the present invention.
22 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the backlight unit of the invention.
23 is an enlarged perspective view showing an enlarged part of one embodiment of the concavo-convex pattern-forming sheet of the invention.
Fig. 24 is a grayscale-converted image of an image obtained by photographing the surface of a concavo-convex pattern not conforming to a specific direction by an atomic force microscope.
25 is an Fourier transformed image of the image of Fig.
Fig. 26 is a graph plotting the luminance with respect to the distance from the center of the circle in the image of Fig. 25. Fig.

1. 요철 패턴 형성 시트 1. Uneven pattern formation sheet

(요철 패턴 형성 시트-1)(Uneven pattern forming sheet-1)

본 발명에 따른 요철 패턴 형성 시트의 일실시예에 대해서 설명한다. An embodiment of the relief pattern-forming sheet according to the present invention will be described.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 요철 패턴 형성 시트를 나타낸다. 본 실시예에 따른 요철 패턴 형성 시트(10)는 기판(11), 기판(11)의 일면에 형성된 경질층(12)을 구비하고, 경질층(12)은 요철 패턴(12a)을 구비한다. Figs. 1 and 2 show a relief pattern-forming sheet according to an embodiment of the present invention. The relief pattern forming sheet 10 according to the present embodiment includes a substrate 11 and a hard layer 12 formed on one surface of the substrate 11 and the hard layer 12 has a relief pattern 12a.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)은 대략 한 방향에 따른 물결 형상의 요철을 구비하고, 그 물결 형상의 요철이 사행하고 있다. 또, 본 실시예에 따른 요철 패턴(12a)의 상부 선단은 둥근 모양을 하고 있다. The concavo-convex pattern 12a of the concavo-convex pattern-forming sheet 10 has wave-like concavities and convexities in roughly one direction, and the wave-like concaves and convexes are meandering. The top end of the concave-convex pattern 12a according to the present embodiment has a rounded shape.

경질층(12)을 구성하는 수지(이하, '제2 수지'라고 함)의 유리 전이 온도(Tg2)와 기판(11)을 구성하는 수지(이하, '제1 수지'라고 함)의 유리 전이 온도(Tg1)과의 온도차(Tg2-Tg1)는 10℃이상이다. 특히, 상기 온도차는 바람직하게는 20℃이상이고, 더욱 바람직하게는 30℃이상이다. 상기 온도차(Tg2-Tg1)가 10℃이상임에 따라, Tg2과 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)의 사이의 온도로 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 가공할 수 있다. Tg2와 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1) 사이의 온도로 요철 패턴 형성 시트(10)를 가공하면, 기판(11)의 탄성계수가 경질층(12)의 탄성계수보다 높은 조건에서 가공할 수 있고, 그 결과, 경질층(12)에 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있다. The glass transition temperature Tg2 of the resin constituting the hard layer 12 (hereinafter referred to as the "second resin") and the glass transition temperature of the resin constituting the substrate 11 (hereinafter referred to as the "first resin" The temperature difference (Tg2-Tg1) with respect to the temperature (Tg1) is 10 deg. In particular, the temperature difference is preferably 20 DEG C or more, more preferably 30 DEG C or more. The uneven pattern forming sheet 10 can be easily processed at a temperature between Tg2 and the glass transition temperature Tg1 of the first resin as the temperature difference Tg2-Tg1 is 10 deg. When the concavo-convex pattern forming sheet 10 is processed at a temperature between Tg2 and the glass transition temperature Tg1 of the first resin, it is possible to process the concavo-convex pattern forming sheet 10 at a temperature higher than the modulus of elasticity of the hard layer 12 As a result, the irregular pattern 12a can be easily formed on the rigid layer 12.

또, 제2 수지로 유리 전이 온도가 400℃를 넘는 수지를 사용하는 것은 경제적인 측면에서 바람직하지 않고, 유리 전이 온도가 -150℃보다 낮은 수지는 존재하지 않으므로, 제1 및 제2 수지의 유리 전이 온도차(Tg2-Tg1)는 550℃이하인 것이 바람직하고, 특히, 200℃이하인 것이 보다 바람직하다. In addition, it is not economically advantageous to use a resin having a glass transition temperature exceeding 400 deg. C as the second resin. Since there is no resin having a glass transition temperature lower than -150 deg. C, the glass of the first and second resins The transition temperature difference (Tg2-Tg1) is preferably 550 DEG C or less, and more preferably 200 DEG C or less.

요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도에 있어서, 기판(11)과 경질층(12)의 탄성 계수의 차는 요철 패턴(12a)를 용이하게 형성할 수 있도록 0.01∼300GPa인 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa인 것이 보다 바람직하다. The difference in elastic modulus between the substrate 11 and the hard layer 12 is preferably 0.01 to 300 GPa so that the uneven pattern 12a can be easily formed at the processing temperature when the uneven pattern forming sheet 10 is produced More preferably from 0.1 to 10 GPa.

여기에서 말하는 가공 온도는, 예를 들면, 후술하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 있어서의 열수축시의 가열 온도이다. 그리고, 탄성계수는 JIS K 7113-1995에 준거해서 측정한 값이다. The processing temperature referred to herein is, for example, a heating temperature at the time of heat shrinking in the method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet described later. The elastic modulus is a value measured in accordance with JIS K 7113-1995.

제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)는 -150∼300℃인 것이 바람직하고, 특히, -120∼200℃인 것이 보다 바람직하다. 유리 전이 온도가 -150℃보다 낮은 수지는 존재하지 않고, 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)가 300℃이하라면, 요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도(Tg2와 Tg1의 사이의 온도)로 용이하게 적용될 수 있기 때문이다. The glass transition temperature (Tg 1) of the first resin is preferably -150 to 300 ° C, and more preferably -120 to 200 ° C. If the glass transition temperature of the first resin is less than or equal to 300 deg. C and the glass transition temperature of the first resin is less than or equal to 300 deg. C, the processing temperature (Tg2 and Tg1) The temperature can be easily applied.

요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도에 있어서, 제1 수지의 영율(Young's modulus)은 0.01∼100MPa인 것이 바람직하고, 0.1∼10MPa인 것이 보다 바람직하다. 제1 수지의 영율(Young's modulus)이 0.01MPa이상이라면, 기판(11)으로서 사용 가능한 굳기이며, 100MPa이하라면, 경질층(12)이 변형할 때에 경질층(12)과 함께 변형 가능한 무르기이다. The Young's modulus of the first resin is preferably 0.01 to 100 MPa, more preferably 0.1 to 10 MPa at the processing temperature at the time of producing the concavo-convex pattern-forming sheet 10. If the Young's modulus of the first resin is greater than or equal to 0.01 MPa, it is a hardness that can be used as the substrate 11. If the Young's modulus is 100 MPa or less, the hard layer 12 may deform together with the hard layer 12 at the time of deformation.

제1 수지로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 스티렌-부타디엔 블록 공중합체 등의 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌 염화 비닐, 폴리에틸렌 염화 비닐리덴, 폴리디메틸실록산 등의 실리콘 수지, 불소 수지, ABS수지, 폴리아미드, 아크릴수지, 폴리카보네이트, 폴리시클로올레핀 등의 수지가 사용될 수 있다. Examples of the first resin include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polystyrene resins such as styrene-butadiene block copolymer, polyethylene vinyl chloride, polyethylene vinylidene chloride, polydimethylsiloxane, etc. A silicone resin, a fluororesin, an ABS resin, a polyamide, an acrylic resin, a polycarbonate, and a polycycloolefin may be used.

제2 수지의 유리 전이 온도(Tg2)는 40∼400℃인 것이 바람직하고, 80∼250℃인 것이 보다 바람직하다. 제2 수지의 유리 전이 온도(Tg2)가 40℃이상이면, 요철 패턴 형성 시트(10)을 제조할 때의 가공 온도를 실온 또는 그 이상으로 할 수 있어서 유용하고, 유리 전이 온도(Tg2)가 400℃를 넘는 수지를 제2 수지로서 사용하는 것은 경제적인 측면에서 불필요하기 때문이다. The glass transition temperature (Tg 2) of the second resin is preferably 40 to 400 캜, more preferably 80 to 250 캜. When the glass transition temperature (Tg2) of the second resin is 40 占 폚 or more, the processing temperature at the time of producing the concavo-convex pattern forming sheet 10 can be made room temperature or higher, Lt; 0 > C is used as the second resin is unnecessary from the economical point of view.

요철 패턴 형성 시트(10)를 제조할 때의 가공 온도에 있어서, 제2 수지의 영율(Young's modulus)은 0.01∼300GPa인 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa인 것이 보다 바람직하다. 제2의 수지의 영율(Young's modulus)이 0.01GPa이상이라면, 제1 수지의 가공 온도에 있어서도 충분한 굳기를 얻을 수 있고, 요철 패턴(12a)가 형성된 후 요철 패턴을 유지하는데도 충분한 굳기이며, 영율(Young's modulus)이 300GPa를 넘는 수지를 제2 수지로서 사용하는 것은 경제적인 측면에서 바람직하지 않기 때문이다. The Young's modulus of the second resin is preferably from 0.01 to 300 GPa, more preferably from 0.1 to 10 GPa, at the processing temperature at the time of producing the concavo-convex pattern-forming sheet 10. If the Young's modulus of the second resin is 0.01 GPa or more, sufficient hardness can be obtained even at the processing temperature of the first resin, and sufficient hardness is maintained to maintain the uneven pattern after the uneven pattern 12a is formed, Young's modulus) of more than 300 GPa as the second resin is not economically advantageous.

제1 수지의 종류에 따라 다르지만, 제2 수지로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜, 폴리스티렌, 아크릴수지, 스티렌-아크릴 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르설폰, 불소 수지 등을 사용될 수 있다. 이들 중에서도, 방오 기능을 겸비한 점에서, 불소 수지가 바람직하다. As the second resin, for example, polyvinyl alcohol, polystyrene, acrylic resin, styrene-acrylic copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate , Polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethersulfone, fluororesin, etc. may be used. Of these, a fluororesin is preferred in view of having an antifouling function.

기판(11)의 두께는 0.3∼500㎛인 것이 바람직하다. 기판(11)의 두께가 0.3㎛이상이라면, 요철 패턴 형성 시트(10)가 쉽게 깨지지 않을 것이고, 500㎛이하라면, 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 박형화할 수 있기 때문이다. The thickness of the substrate 11 is preferably 0.3 to 500 mu m. If the thickness of the substrate 11 is not less than 0.3 탆, the concavo-convex pattern forming sheet 10 will not easily break, and if it is 500 탆 or less, the concavo-convex pattern forming sheet 10 can be easily thinned.

또, 기판(11)을 지지하기 위해서, 두께 5∼500㎛의 수지제의 지지체를 마련할 수 있다. 또, 광확산체로서 이용할 경우에는, 광확산성을 보다 높게 하기 위해서, 미세거품을 함유시킨 필름을 기판(11)에 점착해도 무방하다. In order to support the substrate 11, a resin support having a thickness of 5 to 500 mu m can be provided. When used as an optical diffuser, a film containing fine bubbles may be adhered to the substrate 11 in order to further increase light diffusibility.

요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체로서 사용하는 경우, 기판(11)에는 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 무기화합물로 이루어지는 광확산제 및/또는 유기 화합물로 이루어지는 유기 광확산제를 함유시킬 수 있다. When the concavo-convex pattern-forming sheet 10 is used as an optical diffuser, the substrate 11 is preferably provided with a convex-and-concave pattern-forming sheet 10 for improving the light diffusion effect, An organic light-diffusing agent comprising a light-diffusing agent and / or an organic compound may be contained.

무기 광확산제로서는 실리카, 화이트 카본, 탈크, 산화 마그네슘, 산화 아연, 산화 티타늄, 탄산 칼슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 유리, 마이카 등이 사용될 수 있다. As the inorganic light-diffusing agent, silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, glass, mica and the like can be used.

유기 광확산제로서는 스티렌계 중합체 입자, 아크릴계 중합체 입자, 실록산계 중합체 입자 등이 사용될 수 있다. As the organic light-diffusing agent, styrene-based polymer particles, acrylic polymer particles, siloxane-based polymer particles and the like can be used.

이들의 광확산제는 각각 단독으로 또는, 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. These light diffusing agents may be used alone or in combination of two or more.

광확산제의 함유량은, 광투과성을 손상하지 않기 위해, 제1 수지 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하다. The content of the light-diffusing agent is preferably 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the first resin in order not to impair the light transmittance.

또, 요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체로서 사용할 경우, 기판(11)에는 보다 확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 미세거품을 함유시킬 수 있다. 미세거품은 광의 흡수가 적어 광투과율을 저하시키지 않는다. When the concavo-convex pattern-forming sheet 10 is used as a light diffuser, the substrate 11 is preferably provided with a micro bubble containing a fine bubble within a range that does not significantly impair optical characteristics such as light transmittance . The fine bubbles are less absorbed by light and do not lower the light transmittance.

미세거품의 형성 방법으로서는, 기판(11)에 발포제를 혼입하는 방법(예를 들면, 일본 특허 공개공보 1993-212811호, 일본 특허 공개공보 1994-107842호에 공개된 방법)이나, 아크릴계 발포 수지를 발포 처리시켜 미세거품을 함유하게 하는 방법(예를 들면, 일본 특허 공개공보 2004-2812호에 공개된 방법)등이 사용될 수 있다. 또한, 미세거품은 보다 균일한 면(面)조사가 가능하다는 점에서 특정한 위치에 불균일하게 발포시키는 방법(예를 들면, 일본 특허 공개공보 2006-124499호에 공개된 방법)이 바람직하다. Examples of the method for forming fine bubbles include a method of mixing a foaming agent into the substrate 11 (for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1993-212811 and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1994-107842) (For example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-2812) or the like may be used. In addition, a method of uniformly foaming a fine bubble at a specific position (for example, a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-124499) is preferable because more uniform surface irradiation is possible.

또한, 상기 광확산제와 미세발포를 병용할 수도 있다. In addition, the above light diffusing agent and micro-foaming may be used in combination.

경질층(12)의 두께는 0.05㎛ 이상이고, 5㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼2㎛인 것이 보다 바람직하다. 경질층의 두께가 0.05㎛ 이상이고 5㎛ 이하라면, 후술하는 바와 같이 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 제조할 수 있다. The thickness of the hard layer 12 is 0.05 탆 or more, preferably 5 탆 or less, and more preferably 0.1 to 2 탆. If the thickness of the hard layer is 0.05 탆 or more and 5 탆 or less, the concavo-convex pattern-forming sheet 10 can be easily produced as described later.

또, 기판(11)과 경질층(12)의 사이에는 밀착성의 향상이나 보다 미세한 구조를 형성하기 위하여 프라이머층을 형성할 수 있다. Further, a primer layer can be formed between the substrate 11 and the hard layer 12 in order to improve the adhesion or form a finer structure.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛~20㎛, 바람직하게는 1㎛~10㎛다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛미만이면, 광이 투과해버리고, 20㎛을 넘으면, 광확산성이 낮아진다. The most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a of the concave-convex pattern forming sheet 10 is 1 占 퐉 to 20 占 퐉, preferably 1 占 퐉 to 10 占 퐉. If the pitch A is less than 1 탆, light is transmitted. If the pitch is more than 20 탆, the light diffusibility is lowered.

요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)는, 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 10%이상 (즉, 어스펙트비 0.1이상)이며, 특히, 30%이상 (즉, 어스펙트비 0.3이상)인 것이 바람직하다. 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)10%미만이면, 요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체 제조용 공정 시트 원판으로서 이용할 경우, 광확산성이 높은 광확산체를 얻는 것이 어려워진다. The average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a is 10% or more (that is, the aspect ratio is 0.1 or more) when the most frequent pitch A is 100% , And 30% or more (that is, an aspect ratio of 0.3 or more). When the average depth B is less than 10% of the most frequent pitch A when the most frequent pitch A is set to 100%, the concavo-convex pattern forming sheet 10 is placed on the process sheet for manufacturing an optical diffuser When used as a disk, it becomes difficult to obtain a light diffusing material having high light diffusibility.

또, 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 평균 깊이(B)는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성하기 위하여 최빈(最頻) 피치(A)300%이하 (즉, 어스펙트비 3.0이하)인 것이 바람직하고, 200%이하(즉, 어스펙트비 2.0이하)인 것이 보다 바람직하다. When the most frequent pitch A is set to 100%, the average depth B is set to 300% or less of the most frequent pitch A (i.e., And an aspect ratio of 3.0 or less), and more preferably 200% or less (that is, an aspect ratio of 2.0 or less).

여기에서, 바닥부(12b)는 요철 패턴(12a)의 요부이며, 평균 깊이(B)는, 요철 패턴 형성 시트(10)를 길이 방향에 따라 절단한 단면(도 2 참조)을 보았을 때의, 요철 패턴 형성 시트(10)전체의 면방향과 평행한 기준선(L1)으로부터 각 돌부의 정부(頂部)까지의 길이(B1, B2, B3...)의 평균치(BAV)와, 기준선(L1)으로부터 각 요부의 바닥부까지의 길이(b1, b2, b3...)의 평균치(bAV)의 차(bAV-BAV)이다. Here, the bottom portion 12b is a recessed portion of the uneven pattern 12a, and the average depth B is a width of the uneven pattern forming sheet 10 when the end face 12b is cut along the longitudinal direction (see Fig. 2) The average value BAV of the lengths B1, B2, B3 ... from the reference line L1 parallel to the plane direction of the entire surface of the relief pattern forming sheet 10 to the top of each of the convex portions, (BAV-BAV) of the average values bAV of the lengths b1, b2, b3, ... from the bottom of the recess to the bottom of each recess.

상기 돌부의 정부(頂部) 및 상기 요부의 바닥부는, 경질층(12)에 있어서의 기판(11)측과 반대측의 면에 접한다. The top of the protrusion and the bottom of the recess contact the surface of the hard layer 12 opposite to the substrate 11 side.

평균 깊이(B)를 측정하는 방법으로서는, 원자력 현미경에 의해 촬영한 요철 패턴의 단면의 화상에서 각 바닥부의 깊이를 측정하고, 그것들의 평균치를 구하는 방법 등이 사용될 수 있다.As a method of measuring the average depth (B), a method of measuring the depth of each bottom portion in an image of a cross-section of an uneven pattern photographed by an atomic force microscope and obtaining an average value thereof can be used.

광확산의 이방성이 높은 광확산체를 얻기 위하여, 요철 패턴(12a)은 어느 정도 사행하고, 이웃한 돌부끼리의 피치가 요철 패턴(12a)의 방향에 따라 흩어져 있는 것이 바람직하다. 여기서, 요철 패턴(12a)의 배향 편차를 '배향도'라고 한다. 배향도가 클수록, 배향이 흩어져 있다. 이 배향도는 이하의 방법으로 구해진다. It is preferable that the concavo-convex pattern 12a is meander to some extent and the pitches of the neighboring projections are scattered along the direction of the concavo-convex pattern 12a in order to obtain a light diffusing body having high anisotropy of light diffusion. Here, the orientation deviation of the uneven pattern 12a is referred to as the " degree of orientation ". The larger the orientation degree, the more the orientation is dispersed. This degree of orientation is obtained by the following method.

우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일 (예를 들면, tiff형식 등)로 변환한다. 그레이·스케일의 파일 화상(도 3 참조)에서, 백도(白度)가 낮은 곳일수록 요부의 바닥부가 깊다(백도가 높을 곳일수록, 돌부의 정부가 높다)는 것을 나타낸다. 다음으로, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환한다. 도 4는 푸리에 변환 후의 화상을 나타낸다. 도 4의 화상의 중심에서 양측으로 퍼지는 백색부분은 요철 패턴(12a)의 피치 및 방향 정보를 포함한다. First, the surface of the uneven pattern is photographed by a surface optical microscope, and the image is converted into a gray scale file (for example, tiff format). In the gray-scale file image (see FIG. 3), the bottom of the recess is deeper (the higher the degree of whiteness is, the higher the degree of the convexity is), the lower the degree of whiteness. Next, the grayscale file image is Fourier transformed. Fig. 4 shows an image after Fourier transform. The white portion spreading to both sides from the center of the image in Fig. 4 includes the pitch and direction information of the uneven pattern 12a.

이어서, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선 'L2'을 긋고, 그 보조선 상의 휘도를 플롯(도 5 참조)한다. 도 5에 도시된 플롯의 가로축은 피치의 역수를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타내며, 빈도가 최대가 되는 값 'X'의 역수 '1/X'가 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치를 나타낸다. Then, an auxiliary line 'L2' is drawn in the horizontal direction at the center of the image of FIG. 4, and the luminance on the auxiliary line is plotted (see FIG. 5). The abscissa of the plot shown in Fig. 5 represents the reciprocal of the pitch, the ordinate represents the frequency, and the inverse number '1 / X' of the value 'X' at which the frequency becomes maximum is the most frequent pitch .

이어서, 도 4에 있어서, 값 'X'에서 보조 선'L2'과 직교하는 보조 선 'L3'을 긋고, 그 보조 선 'L3'상의 휘도를 플롯(도 6 참조)한다. 단, 도 6의 가로축은, 각종의 요철구조와의 비교를 가능하게 하기 위해서, X의 값으로 나눈 수치를 사용한다. 도 6의 가로축은, 요철의 형성 방향(도 3에 있어서의 상하 방향)에 대한 경사의 정도를 나타내는 지표(배향성)를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타낸다. 도 6의 플롯에 있어서의 피크의 반값폭(W1)(빈도가 최대치의 반이 되는 높이에서의 피크의 폭)이 요철 패턴의 배향도를 나타낸다. 반값폭(W1)이 클수록, 사행하여 피치가 흩어져 있는 것을 나타낸다. Next, in FIG. 4, the auxiliary line 'L3' orthogonal to the auxiliary line 'L2' is drawn at the value 'X', and the luminance on the auxiliary line 'L3' is plotted (see FIG. However, the horizontal axis in Fig. 6 uses numerical values divided by the value of X in order to enable comparison with various concavo-convex structures. The horizontal axis in Fig. 6 indicates an index (orientation) indicating the degree of inclination with respect to the formation direction of the concavities and convexities (vertical direction in Fig. 3), and the vertical axis indicates the frequency. The half width W1 of the peak in the plot of Fig. 6 (the width of the peak at the height where the frequency is half the maximum value) indicates the degree of orientation of the concavo-convex pattern. The larger the half width W1, the more the pitch is scattered.

상기 배향도는 0.3∼1.0인 것이 바람직하다. 배향도가 0.3∼1.0이라면, 요철 패턴(12a)의 피치 편차가 크기 때문에, 상기 요철 패턴 형성 시트 및 상기 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용해서 얻은 광확산체의 광확산성이 보다 높아진다. 배향도가 1.0을 넘으면, 요철 패턴의 방향이 어느 정도 랜덤이 되기 때문에, 광확산성은 높아지지만, 이방성이 낮아지는 경향이 있다. The degree of orientation is preferably 0.3 to 1.0. If the degree of orientation is 0.3 to 1.0, the light diffusing property of the optical diffuser obtained by using the concavo-convex pattern forming sheet and the concavo-convex pattern forming sheet as the process sheet original plate becomes higher because the pitch deviation of the concavo-convex pattern 12a is large. When the degree of orientation exceeds 1.0, the direction of the concavo-convex pattern is somewhat random, so that the light diffusibility is increased, but the anisotropy tends to be lowered.

배향도를 0.3∼1.0로 하기 위해서는, 요철 패턴 형성 시트 제조시에 필요한 압축 응력의 작용방법을 적절히 선택하면 좋다. In order to set the degree of orientation to 0.3 to 1.0, the method of acting on the compressive stress necessary for manufacturing the concavo-convex pattern-forming sheet may be appropriately selected.

경질층(12)을 구성하는 제2 수지의 유리 전이 온도(Tg2)와, 기판(11)을 구성하는 제1 수지의 유리 전이 온도(Tg1)와의 차(Tg2-Tg1)가 10℃이상인 본 발명의 요철 패턴 형성 시트(10)는 후술하는 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 의해 얻을 수 있으므로, 간편하게 제조할 수 있다. (Tg2-Tg1) between the glass transition temperature Tg2 of the second resin constituting the hard layer 12 and the glass transition temperature Tg1 of the first resin constituting the substrate 11 is not less than 10 DEG C, The concavo-convex pattern forming sheet 10 of the present invention can be obtained simply by the method of producing a concavo-convex pattern forming sheet described later.

또, 본 발명자가 조사한 결과, 기판(11) 및 경질층(12)이 함께 투명한 경우에는, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛이고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 상기 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상이므로, 본 발명에 따른 요철 패턴 형성 시트(10)는 충분한 광확산성을 가지고, 그 결과, 광확산체로서 이용될 수 있다. As a result of investigation by the inventor of the present invention, it has been found that when the substrate 11 and the hard layer 12 are transparent together, the most frequent pitch A of the concave-convex pattern 12a is 1 탆 to 20 탆, The average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern forming sheet 12a is 10% or more when the most frequent pitch A is 100% It has a light diffusing property, and as a result, it can be used as an optical diffuser.

또한, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 상술한 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 요철 패턴의 돌부의 선단이 뾰족해도 무방하다. 그러나, 요철 패턴의 돌부의 형상은 확산의 이방성을 높이기 위하여 선단이 둥근 것이 바람직하다. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, the tip of the protrusion of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention may be pointed. However, it is preferable that the shape of the protrusion of the concavo-convex pattern be rounded at the tip to enhance anisotropy of diffusion.

(요철 패턴 형성 시트-2)(Uneven pattern forming sheet-2)

또한, 본 발명자가 조사한 결과, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하, 특히 0.04㎛이하로 하는 경우, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)는 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상, 특히 100%이상일 때, 광학소자로서 뛰어난 성능을 발휘하는 것이 판명되었다. 구체적으로는, 요철 패턴 형성 시트(10)를 반사 방지체로서 이용한 경우에는 반사율을 낮게 할 수 있고, 또, 위상차판으로서 이용한 경우에는 동등한 위상차를 넓은 파장영역에 걸쳐 생기게 할 수 있는 것이 판명되었다. As a result of investigation by the present inventors, it has been found that when the pitch A of the concavo-convex pattern 12a is 1 μm or less, particularly 0.04 μm or less, the average depth of the bottom 12b of the concave- (B) exhibits excellent performance as an optical element when it is 10% or more, particularly 100% or more when the most frequent pitch (A) is 100%. Specifically, it has been found that when the uneven pattern-forming sheet 10 is used as an antireflector, the reflectance can be made low and, when the uneven pattern-forming sheet 10 is used as a retarder, an equivalent retardation can be produced over a wide wavelength range.

이는, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하로 짧고, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상인 것에 기인한다. 즉, 최빈(最頻) 피치(A)가 짧아서 가시광의 파장과 동등하거나 또는 그 이하가 되는 경우, 가시광이 요철에 의해 회절이나 산란이 생기기 어려워진다. 게다가, 평균 깊이(B)가 깊음에 따라, 중간 굴절률이 연속적으로 변화되는 부분이 두께 방향으로 길게 형성되기 때문에, 광의 반사를 억제하는 효과를 현저하게 발휘할 수 있다. 또, 최빈(最頻) 피치(A)가 짧고, 평균 깊이(B)가 깊음에 따라, 굴절률이 서로 다른 공기와 요철 패턴 형성 시트가 교호로 배치되는 부분이 두께 방향으로 길어지고, 광학 이방성을 나타내는 부분이 길어지기 때문에, 위상차를 생기게 할 수 있다. 또한, 이러한 요철 패턴(12a)에 의해 생기는 위상차는 넓은 파장영역에 걸쳐 거의 동등해진다. This is because the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a is as short as 1 占 퐉 or less and the average depth B is 10% or more when the most frequent pitch A is 100% . That is, when the most frequent pitch A is short and is equal to or less than the wavelength of the visible light, diffraction and scattering of the visible light due to unevenness are unlikely to occur. In addition, since the portion where the middle refractive index continuously changes is formed to be long in the thickness direction as the average depth B is deep, the effect of suppressing the reflection of light can be remarkably exhibited. In addition, as the most frequent pitch A is shorter and the average depth B is deeper, portions where air having different refractive indexes and sheets with concavo-convex patterns alternately are arranged alternately becomes longer in the thickness direction and optical anisotropy , The phase difference can be generated. Further, the phase difference caused by the concavo-convex pattern 12a is substantially equal over a wide wavelength region.

이 경우, 경질층(12)은 기판(11)에 대하여 저굴절률인 것이, 높은 반사 방지 특성을 얻기 위하여 바람직하다. In this case, it is preferable that the hard layer 12 has a low refractive index with respect to the substrate 11 in order to obtain high antireflection characteristics.

또한, 경질층(12)의 두께는 1∼100nm인 것이 바람직하다. 경질층(12)의 두께가 1nm 이상이면, 경질층(12)에 결함이 생길 가능성이 낮아지고, 두께가 100nm이하면, 경질층(12)이 광투과성을 충분히 확보할 수 있다. The thickness of the hard layer 12 is preferably 1 to 100 nm. If the thickness of the hard layer 12 is 1 nm or more, the possibility of occurrence of defects in the hard layer 12 is reduced. If the thickness is 100 nm or less, the hard layer 12 can secure sufficient light transmittance.

또, 경질층(12)의 두께는 50nm이하인 것이 보다 바람직하고, 20nm이하인 것이 특히 바람직하다. 경질층(12)의 두께가 50nm이하면, 후술하는 바와 같이 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있다. The thickness of the hard layer 12 is more preferably 50 nm or less, particularly preferably 20 nm or less. If the thickness of the hard layer 12 is 50 nm or less, a concavo-convex pattern-forming sheet can be easily produced as described later.

또, 기판(11)과 경질층(12)의 사이에는, 밀착성의 향상이나 보다 미세한 구조를 형성하기 위하여 프라이머층을 형성할 수 있다. Further, a primer layer can be formed between the substrate 11 and the hard layer 12 in order to improve the adhesion or form a finer structure.

또한, 경질층(12)의 상부에는 수지층을 형성할 수 있다. A resin layer can be formed on the hard layer 12.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛이하, 바람직하게는 0.4㎛이하이다. 또, 최빈(最頻) 피치(A)는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성하기 위하여 바람직하게는 0.05㎛ 이상이다. The minimum pitch A of the concavo-convex pattern 12a of the concave-convex pattern forming sheet 10 is 1 占 퐉 or less, preferably 0.4 占 퐉 or less. In addition, the most frequent pitch A is preferably 0.05 탆 or more in order to easily form the uneven pattern 12a.

요철 패턴(12a)의 각 피치(A1, A2, A3...)는 모두 최빈(最頻) 피치(A)의 ±60%의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 특히, ±30%의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하다. 각 피치가 최빈(最頻) 피치(A)의 ±60%의 범위 내에 있으면, 피치가 균일하게 되어, 광학소자로서 보다 뛰어난 성능을 발휘한다. It is preferable that all the pitches A1, A2, A3 ... of the concavo-convex pattern 12a are within a range of ± 60% of the most frequent pitch A, and particularly, within a range of ± 30% Is more preferable. When each pitch is within the range of +/- 60% of the most frequent pitch A, the pitch becomes uniform, thereby exerting superior performance as an optical element.

또, 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하인 것을 만족한다면, 각 피치 A1, A2, A3...은최빈(最頻) 피치(A) 연속적으로 변화되어도 무방하다. Also, if the most frequent pitch A is 1 m or less, the pitch A1, A2, A3, ... may be continuously changed at the most frequent pitch A.

요철 패턴(12a)의 각 깊이(B1, B2, B3,...)는 모두 평균 깊이(B)의 ±60%의 범위 내에 있는 것이 바람직하고, 특히, ±30%의 범위 내에 있는 것이 보다 바람직하다. 각 깊이가 평균 깊이(B)의 ±60%의 범위 내에 있으면, 깊이가 균일해져, 광학소자로서 보다 뛰어난 성능을 발휘한다. 또, 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때, 평균 깊이(B)가 10%이상이라면, 각 깊이(B1, B2, B3,...)는 평균 깊이(B)최빈(最頻) 피치(A) 연속적으로 변화되어도 무방하다. It is preferable that the depths B1, B2, B3, ... of the concavo-convex pattern 12a are all within a range of ± 60% of the average depth B, and more preferably within a range of ± 30% Do. When each depth is within the range of 60% of the average depth (B), the depth becomes uniform, and the optical element exhibits superior performance. The depths B 1, B 2, B 3, ... are the average depths (B) and the minimum depths (B) Most often) Pitch (A) It can be changed continuously.

요철 패턴 형성 시트(10)는 후술하는 바와 같이, 반사 방지체, 위상차판 등의 광학소자나, 광학소자 제조용 공정 시트에 적용할 수 있는 이외에, 초발수 또는 초친수 시트 등에도 이용할 수 있다. The concavo-convex pattern-forming sheet 10 can be applied to an optical element such as an antireflection film, a retarder or the like, or a process sheet for manufacturing an optical element, as described later, but also to a super water-

또한, 요철 패턴 형성 시트는 상술한 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 상술한 실시 형태에서는 경질층이 상기 요철 패턴 형성 시트의 폭 방향에 따른 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 가지고 있지만, 그 요철 패턴 이외에, 요철 패턴 형성 시트의 길이 방향에 따른 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 가질 수도 있다. 또한, 경질층이 특정한 방향에 따르지 않는 물결 형상의 요철 패턴을 다수 가질 수도 있다. 이러한 경우라도 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이면 광학소자로서 뛰어난 성능을 나타낸다. The concavo-convex pattern-forming sheet is not limited to the above-described embodiment. For example, in the above-described embodiment, the hard layer has a periodic wave-like concavo-convex pattern along the width direction of the concavo-convex pattern forming sheet. However, in addition to the concavo-convex pattern, And may have a concavo-convex pattern of a shape. Further, the hard layer may have a plurality of corrugated irregular patterns that do not follow a specific direction. Even in this case, if the most frequent pitch of the concavo-convex pattern is 1 占 퐉 or less and the average depth of the bottom of the concavo-convex pattern is 10% or more when the most frequent pitch is 100% .

돌부의 형상은 굴절률의 측면에서 선단이 뾰족한 것이 바람직하지만, 선단이 둥근 모양을 띠고 있어도 무방하다. It is preferable that the shape of the protrusion has a sharp tip at the side of the refractive index, but it may be rounded at the tip.

요철 패턴이 특정한 방향에 따르지 않을 경우에는, 이하의 방법으로 최빈(最頻) 피치를 구한다. 우선, 원자력 현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일(예를 들면, tiff형식 등)로 변환한다. 그레이스케일의 파일 화상(도 24 참조)에서는, 백도가 낮은 곳일 수록, 요부의 바닥부가 깊다(백도가 높을수록, 돌부의 정부가 높다)는 것을 나타내고 있다. 이어서, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환한다. 도 25은 푸리에 변환 후의 화상을 나타낸다. 푸리에 변환 후의 화상은, 흰 부분의 중심에서 본 방향이 그레이 스케일의 방향성을 나타내고, 중심에서 흰 부분까지의 거리의 역수가 그레이스케일 화상의 주기를 나타내고 있다. 요철 패턴이 특정한 방향에 따르지 않을 경우에는, 도 26과 같은 흰 원이 표시된 화상이 된다. 이어서, 푸리에 변환 후의 화상에 있어서의 원의 중심에서 외측을 향한 직선 상의 보조선(L2)을 그어, 중심에서의 거리(X축)에 대한 휘도(Y축)를 플롯(도 24참조)한다. 그리고, 그 플롯에 있어서의 극대값을 나타내는 X축의 값 'r'을 읽어낸다. 이 'r'의 역수(1/r)가 최빈(最頻) 피치이다. When the concave-convex pattern does not follow a specific direction, the most frequent pitch is obtained by the following method. First, the surface of the uneven pattern is photographed by an atomic force microscope, and the image is converted into a gray scale file (for example, tiff format). In the gray scale file image (see FIG. 24), the lower the degree of whiteness, the deeper the bottom of the recess (the higher the whiteness, the higher the degree of the recesses). Then, the gray scale file image is Fourier transformed. 25 shows an image after Fourier transform. In the image after the Fourier transform, the direction viewed from the center of the white portion indicates the directionality of the gray scale, and the inverse number of the distance from the center to the white portion indicates the period of the gray scale image. When the concavo-convex pattern does not follow a specific direction, the white circle shown in Fig. 26 is displayed. Subsequently, an auxiliary line L2 on the straight line from the center to the outside of the circle in the image after the Fourier transform is drawn, and the luminance (Y axis) with respect to the distance (X axis) from the center is plotted (see FIG. Then, the value 'r' on the X axis indicating the maximum value in the plot is read. The reciprocal (1 / r) of this 'r' is the most frequent pitch.

(요철 패턴 형성 시트-3)(Concave / convex pattern forming sheet-3)

경질층(12)이 금속 또는 금속화합물로 이루어지는 경우, 요철 패턴 형성 시트(10)를 용이하게 얻을 수 있다. When the hard layer 12 is made of a metal or a metal compound, the relief pattern forming sheet 10 can be easily obtained.

금속으로서는, 영율(Young's modulus)이 과도하게 높지 않고, 용이하게 요철 패턴(12a)이 형성하기 위하여, 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 및 비스무트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 금속은 반금속도 포함한다. As the metal, gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, palladium, lead, platinum, and gold are used to form the uneven pattern 12a without having an excessively high Young's modulus. It is preferably at least one metal selected from the group consisting of silicon, tin, titanium, vanadium, zinc, and bismuth. The metals referred to herein also include semimetals.

금속화합물로는, 동일한 이유로, 산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 산화 마그네슘, 산화 주석, 산화 구리, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 납, 산화 규소, 불화 바륨, 불화 칼슘, 불화 마그네슘, 유화 아연, 갈륨 비소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속화합물인 것이 바람직하다. As the metal compound, for the same reason, for example, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, copper oxide, indium oxide, cadmium oxide, lead oxide, silicon oxide, barium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, And at least one metal compound selected from the group consisting of gallium arsenide.

또한, 경질층(12)이 금속으로 이루어지는 경우에는, 층표면이 공기 중에서 산화되어 공기산화막이 형성될 수 있지만, 본 발명에서는 그러한 금속층의 표면이 공기산화된 층도 금속으로 이루어지는 층으로 간주한다. When the hard layer 12 is made of metal, the surface of the layer can be oxidized in the air to form an air oxidation film. In the present invention, however, the surface of the metal layer is also considered to be a layer made of the air oxidized layer.

경질층(12)의 두께는 0.01㎛ 이상이고, 0.2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히, 0.02∼0.1㎛인 것이 보다 바람직하다. 경질층의 두께가 0.01㎛~0.2㎛ 이면, 후술하는 바와 같이 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있다. The thickness of the hard layer 12 is preferably 0.01 占 퐉 or more, more preferably 0.2 占 퐉 or less, and particularly preferably 0.02 to 0.1 占 퐉. If the thickness of the hard layer is 0.01 mu m to 0.2 mu m, a concavo-convex pattern-forming sheet can be easily produced as described later.

또한, 기판(11)과 경질층(12)의 사이에는 밀착성의 향상이나 보다 미세한 구조를 형성하기 위하여 프라이머층을 형성할 수 있다. Further, a primer layer can be formed between the substrate 11 and the hard layer 12 in order to improve the adhesion or form a finer structure.

요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛~20㎛, 바람직하게는 1㎛~10㎛이다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 미만일 경우 및 20㎛을 넘는 경우에는, 요철 패턴 형성 시트(10)를 광확산체 제조용 공정 시트 원판으로서 이용하여도, 광확산성이 높은 광확산체를 얻는 것이 어렵다. The minimum pitch A of the concavo-convex pattern 12a of the concavo-convex pattern-forming sheet 10 is 1 占 퐉 to 20 占 퐉, preferably 1 占 퐉 to 10 占 퐉. Even when the concavo-convex pattern-forming sheet 10 is used as the original sheet for the process of manufacturing an optical diffuser, the light diffusing material 10 having a high light diffusing property can be obtained even when the most frequent pitch A is less than 1 mu m or exceeds 20 mu m Is difficult to obtain.

2. 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법 2. Manufacturing method of a concavo-convex pattern-forming sheet

본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법의 일실시 형태에 대해서 설명한다. An embodiment of a method of manufacturing a concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention will be described.

본 실시 형태의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법은, 도 7에 나타낸 바와 같이, 수지제의 기판인 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에, 표면이 평평한 경질층(13) (이하, '표면 평활 경질층(13)'이라고 한다)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하는 공정 (이하, 제1 공정이라고 한다)과, 가열 수축성 필름(11a)을 가열 수축시켜 적어도 적층 시트(10a)의 표면 평활 경질층(13)을 접듯이 변형시키는 공정(이하, 제2 공정이라고 한다)을 포함한다. As shown in Fig. 7, the manufacturing method of the concavo-convex pattern-forming sheet of the present embodiment is a method in which a rigid layer 13 having a flat surface (hereinafter referred to as " surface smoothness ") is formed on one surface of a heat shrinkable film 11a, (Hereinafter referred to as a first step) and a step of heating and shrinking the heat shrinkable film 11a to form at least a surface of the laminated sheet 10a And a step of deforming the smooth hard layer 13 like a fold (hereinafter referred to as a second step).

여기에서, 표면 평활 경질층(13)은 JIS B0601에 기재된 중심선 평균 거칠기가 0.1㎛ 이하인 층이다. Here, the surface smoothened hard layer 13 is a layer having a center line average roughness of not more than 0.1 mu m as described in JIS B0601.

*제1 공정-1 * First step-1

제1 공정에서, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 수지제의 표면 평활 경질층(13)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 제2 수지의 용액 또는 분산 액을 스핀 코터나 바 코터 등에 의해 도포하고, 용매를 건조시키는 방법, 또는, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에, 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층 하는 방법 등이 있다. As a method of forming the laminated sheet 10a by providing the resin surface smooth rigid layer 13 on one side of the heat shrinkable film 11a in the first step, for example, the heat shrinkable film 11a A method in which a solution or a dispersion liquid of the second resin is coated on one side by a spin coater or a bar coater and the solvent is dried or a method in which a surface smoothing hard layer 13 ), And the like.

가열 수축성 필름(11a)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 쉬링크 필름, 폴리스틸렌계 쉬링크 필름, 폴리올레핀계 쉬링크 필름, 폴리에틸렌 염화 비닐계 쉬링크 필름 등이 사용될 수 있다. As the heat shrinkable film 11a, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, and a polyethylene vinyl chloride shrink film may be used.

쉬링크 필름 중에서도, 50∼70% 수축하는 것이 바람직하다. 50∼70% 수축하는 쉬링크 필름을 이용하면, 변형율을 50%이상 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛이고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10% 이상인 요철 패턴 형성 시트(10)을 용이하게 제조할 수 있다. 또한, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 100%이상인 요철 패턴 형성 시트(10)도 용이하게 제조할 수 있다. It is preferable to shrink 50 to 70% in the shrink film. The shrunk film 12a can have a strain rate of 50% or more, a minimum pitch A of the concavo-convex pattern 12a is 1 占 퐉 to 20 占 퐉, The concavo-convex pattern forming sheet 10 having an average depth B of 10% or more when the average depth B of the bottom portion 12b of the convexo-concave portion 12b is set to 100% of the most frequent pitch A can be easily manufactured. The concavo-convex pattern forming sheet 10 having the average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a is 100% or more when the most frequent pitch A is 100% can do.

여기에서, 변형율이라는 것은 (변형전의 길이-변형후의 길이)/(변형전의 길이)×100 (%) 또는, (변형한 길이)/(변형전의 길이)×100 (%)이다. Here, the strain rate means the length before deformation (length after deformation) / (length before deformation) x 100 (%) or (length after deformation) / (length before deformation) x 100 (%).

또, 이하의 공정에 의해 요철 패턴(12a)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 300%로 할 수 있다. The average depth B of the concavo-convex pattern 12a can be set to 300% when the most frequent pitch A is set to 100% by the following steps.

가열 수축성 필름(11a)에 가열 수축성 필름(11a)보다 유리 전이 온도가 낮은 프라이머 수지층을 도포하고, 상기 프라이머 수지층 위에 표면 평활 경질층(13)을 마련한 적층 시트를 형성한다. 상기 적층 시트를 가열 수축시키는 것에 의해 요철 패턴 형성 시트를 제조한다. A laminated sheet in which a primer resin layer having a lower glass transition temperature than the heat shrinkable film 11a is applied to the heat shrinkable film 11a and the surface smooth hard layer 13 is provided on the primer resin layer is formed. The laminated sheet is heated and shrunk to produce a concavo-convex pattern-forming sheet.

가열 수축 후의 가열 수축성 필름(11a)을 적층 시트로부터 박리하고, 이를 다른 가열 수축성 필름을 붙여서 적층 시트를 형성한다. 이 적층 시트를 가열 수축시킴에 따라, 가열 수축성 필름 1장을 가열 수축시킨 경우보다 평균 깊이(B)를 크게 할 수 있다. 이 공정을 복수회 되풀이하는 것으로, 요철 패턴(12a)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 300%로 할 수 있다. The heat shrinkable film 11a after heat shrinkage is peeled off from the laminated sheet and another heat shrinkable film is stuck thereon to form a laminated sheet. By heating and shrinking the laminated sheet, the average depth (B) can be made larger than the case where one heat shrinkable film is heat shrunk. By repeating this process a plurality of times, the average depth B of the concavo-convex pattern 12a can be set to 300% when the most frequent pitch A is 100%.

본 발명에서는, 표면 평활 경질층(13)의 두께를 0.05㎛~5.0㎛, 바람직하게는 0.1∼1.0㎛로 한다. 표면 평활 경질층(13)의 두께를 상기 범위로 함에 따라, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. In the present invention, the thickness of the smooth surface hard layer 13 is 0.05 탆 to 5.0 탆, preferably 0.1 to 1.0 탆. By setting the thickness of the surface smoothened hard layer 13 within the above range, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a can be surely set to 1 to 20 占 퐉.

그러나, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 0.05㎛ 이하면, 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하가 될 수 있고, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 5.0㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수 있다. However, if the thickness of the surface smoothened hard layer 13 is 0.05 m or less, the minimum pitch A can be 1 m or less, and if the thickness of the smoothened surface layer 13 exceeds 5.0 m, The most frequent pitch A may exceed 20 占 퐉.

또, 본 발명에서는, 표면 평활 경질층(13)을 가열 수축성 필름을 구성하는 수지(제1 수지)보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 수지(제2 수지)로 구성한다. 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도가 상기 관계에 있는 것에 의해, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. In the present invention, the smooth surface hard layer 13 is made of a resin (second resin) having a glass transition temperature of 10 ° C or more higher than that of the resin (first resin) constituting the heat shrinkable film. Since the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin are in the above-described relationship, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a can be securely set to 1 탆 to 20 탆 .

표면 평활 경질층(13)의 두께는 연속적으로 변화하여도 무방하다. 표면 평활 경질층(13)의 두께가 연속적으로 변하는 경우, 압축 후에 형성되는 요철 패턴(12a)의 피치 및 깊이가 연속적으로 변화한다. The thickness of the surface smoothened hard layer 13 may be continuously changed. When the thickness of the surface smoothened hard layer 13 continuously changes, the pitch and depth of the concavo-convex pattern 12a formed after compression are continuously changed.

이 제조 방법에서는, 보다 용이하게 요철 패턴(12a)을 형성할 수 있도록 하기 위하여, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)을 0.01∼300GPa로 하는 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa로 하는 것이 보다 바람직하다. In this manufacturing method, the Young's modulus of the smooth surface hard layer 13 is preferably 0.01 to 300 GPa, more preferably 0.1 to 10 GPa in order to allow the relief pattern 12a to be formed more easily .

적층 시트(10a)를 변형시킬 때는 표면 평활 경질층(13)을 5%이상의 변형율로 변형시키는 것이 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 5% 이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. When the laminated sheet 10a is deformed, it is preferable to deform the surface smooth rigid layer 13 to a strain rate of 5% or more. The average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a can be easily set to the most frequent pitch A of 100% by deforming the surface smoothened hard layer 13 with a strain of 5% Of the time.

또한, 표면 평활 경질층(13)을 50%이상의 변형율로 변형시키는 것이 보다 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 50%이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 100%이상으로 할 수 있다. Further, it is more preferable to deform the surface smoothened hard layer 13 to a strain rate of 50% or more. The average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a can be easily set to the most frequent pitch A of 100% by deforming the surface smoothened hard layer 13 with a strain of 50% Of the time.

*제1 공정-2 * First Process-2

경질층(12)이 금속 또는 금속화합물로 이루어지는 경우, 적층 시트(10a)를 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 금속이나 금속화합물을 증착시키는 방법, 가열 수축성 필름(11a)의 한 면에 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층 하는 방법 등이 있다. When the hard layer 12 is made of a metal or a metal compound, the laminated sheet 10a can be formed by, for example, a method of depositing a metal or a metal compound on one surface of the heat shrinkable film 11a, And a method of laminating a previously prepared smooth surface hard layer 13 on one side of the film 11a.

이러한 제조 방법에 있어서, 보다 용이하게 요철 패턴(12a)를 형성하기 위하여, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)을 0.1∼500GPa로 하는 것이 바람직하고, 특히, 1∼150GPa로 하는 것이 보다 바람직하다. In this manufacturing method, the Young's modulus of the surface smoothened hard layer 13 is preferably 0.1 to 500 GPa, more preferably 1 to 150 GPa, in order to more easily form the uneven pattern 12a More preferable.

표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)을 상기 범위로 하기 위해서는, 표면 평활 경질층 (13)을 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 비스무트에 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속으로 구성하는 것이 바람직하다. 또는, 표면 평활 경질층(13)을 산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 산화 마그네슘, 산화 주석, 산화 구리, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 납, 산화 규소, 불화 바륨, 불화 칼슘, 불화 마그네슘, 유화 아연, 갈륨 비소에 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속화합물로 구성하는 것이 바람직하다. In order to set the Young's modulus of the smooth surface hard layer 13 within the above range, the surface smooth hard layer 13 may be formed of gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, And at least one metal selected from the group consisting of platinum, silicon, tin, titanium, vanadium, zinc, and bismuth. Alternatively, the surface smoothened hard layer 13 may be formed of at least one of titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, copper oxide, indium oxide, cadmium oxide, lead oxide, silicon oxide, barium fluoride, magnesium fluoride, Zinc, and gallium arsenide. [0031] The present invention also provides a method of producing a semiconductor device,

여기에서, 영율(Young's modulus)은 JIS Z 2280-1993의 「금속재료의 고온 영율(Young's modulus) 시험 방법」에서 온도를 23℃로 변경해서 측정한 값이다. 경질층이 금속화합물로 이루어지는 경우도 마찬가지이다. Here, the Young's modulus is a value measured by changing the temperature to 23 deg. C in " Young's modulus test method of metal material " of JIS Z 2280-1993. The same applies to the case where the hard layer is made of a metal compound.

표면 평활 경질층(13)의 두께는 0.01㎛~0.2㎛, 바람직하게는 0.02∼0.1㎛로 한다. 표면 평활 경질층(13)의 두께를 상기 범위로 한다면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. 그러나, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 0.01㎛미만이면, 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하가 될 수 있고, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 0.2㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수가 있다. The thickness of the surface smoothened hard layer 13 is 0.01 탆 to 0.2 탆, preferably 0.02 탆 to 0.1 탆. If the thickness of the surface smoothened hard layer 13 is in the above range, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a can be surely set to 1 to 20 占 퐉. However, when the thickness of the surface smooth hard layer 13 is less than 0.01 탆, the most frequent pitch A can be 1 탆 or less, and when the thickness of the surface smooth hard layer 13 exceeds 0.2 탆, The most frequent pitch A may exceed 20 占 퐉.

또, 표면 평활 경질층(13)의 두께는 연속적으로 변하여도 무방하다. 표면 평활 경질층(13)의 두께가 연속적으로 변하는 경우, 압축 후에 형성되는 요철 패턴(12a)의 피치 및 깊이가 연속적으로 변하게 된다. The thickness of the smooth surface hard layer 13 may be changed continuously. When the thickness of the surface smoothened hard layer 13 continuously changes, the pitch and depth of the concavo-convex pattern 12a formed after compression are continuously changed.

적층 시트(10a)를 변형시킬 때는, 표면 평활 경질층(13)을 5% 이상의 변형율로 변형시키는 것이 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 5% 이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. When the laminated sheet 10a is deformed, it is preferable to deform the surface smooth rigid layer 13 to a strain rate of 5% or more. The average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a can be easily set to the most frequent pitch A of 100% by deforming the surface smoothened hard layer 13 with a strain of 5% Of the time.

또한, 표면 평활 경질층(13)을 50% 이상의 변형율로 변형시키는 것이 보다 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)을 50% 이상의 변형율로 변형시키면, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 용이하게 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 100%이상으로 할 수 있다. Further, it is more preferable to deform the surface smoothened hard layer 13 to a strain rate of 50% or more. The average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a can be easily set to the most frequent pitch A of 100% by deforming the surface smoothened hard layer 13 with a strain of 50% Of the time.

*제2 공정-1 * Second Step-1

제2 공정에서, 가열 수축성 필름(11a)을 열수축시킴에 따라, 표면 평활 경질층 (13)에 수축 방향에 대하여 수직방향으로 물결 형상의 요철 패턴(12a)를 형성시켜서 경질층(12)을 얻는다. In the second step, the heat shrinkable film 11a is thermally shrunk, and a wavy concavo-convex pattern 12a is formed in the smooth surface hard layer 13 in the direction perpendicular to the shrinking direction to obtain the hard layer 12 .

가열 수축성 필름(11a)를 가열 수축시킬 때의 가열 방법으로서는, 열풍, 증기 또는 열수 속에 통과시키는 방법 등이 있고, 그 중에서도, 균일하게 수축시키기 위해서는 열수 속을 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method for heating and shrinking the heat shrinkable film 11a, a method of passing the heat shrinkable film 11a through hot air, steam, or hot water is exemplified. Among them, a method of passing hot water through is preferred in order to shrink uniformly.

가열 수축성 필름(11a)을 열수축 시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 가열 수축성 필름의 종류, 목적으로 하는 요철 패턴(12a)의 피치 및 바닥부(12b)의 깊이에 따라서 적절히 선택하는 것이 바람직하다. The heating temperature at the time of shrinking the heat shrinkable film 11a is suitably selected in accordance with the kind of the heat shrinkable film to be used, the pitch of the irregularity pattern 12a to be used and the depth of the bottom portion 12b.

이 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 얇을수록, 그리고, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)이 낮을 수록, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 작아지고, 기판의 변형율이 높을 수록, 평균 깊이(B)가 깊어진다. 따라서, 요철 패턴(12a)을 소정의 최빈(最頻) 피치(A) 및 평균 깊이(B)로 하기 위해서는, 상기 조건을 적당히 선택 할 필요가 있다. In this manufacturing method, the smaller the thickness of the smooth surface hard layer 13 and the lower the Young's modulus of the smooth surface hard layer 13, the more the peak pitch of the concavo-convex pattern 12a A becomes smaller and the deformation rate of the substrate becomes higher, the average depth B becomes deeper. Therefore, in order to set the concave-convex pattern 12a to a predetermined minimum pitch A and an average depth B, it is necessary to appropriately select the above conditions.

이상 설명한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)을 구성하는 제2 수지가 가열 수축성 필름(11a)을 구성하는 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높기 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도에서는, 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)이 가열 수축성 필름(11a)보다 높다. 게다가, 표면 평활 경질층(13)의 두께를 0.05㎛~5.0㎛로 하고 있기 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도로 가공할 경우, 표면 평활 경질층(13)은 두께가 늘어나기 보다도, 접히게 된다. 또, 표면 평활 경질층(13)은 가열 수축성 필름(11a)에 적층되어 있기 때문에, 가열 수축성 필름(11a)의 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 걸린다. 따라서, 본 발명에 의하면, 표면 평활 경질층(13)을 접듯이 변형시켜, 광확산체로서 성능이 뛰어난 요철 패턴 형성 시트(10)를 간편하면서 대면적으로 제조할 수 있다. In the above-described method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet, since the second resin constituting the smooth surface hard layer 13 has a glass transition temperature higher than that of the first resin constituting the heat shrinkable film 11a by 10 DEG C or more, The Young's modulus of the smooth surface hard layer 13 is higher than that of the heat shrinkable film 11a at a temperature between the glass transition temperature of the resin and the glass transition temperature of the second resin. In addition, since the thickness of the surface smoothened hard layer 13 is set to 0.05 탆 to 5.0 탆, when processing is performed at a temperature between the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin, (13) is folded rather than increased in thickness. In addition, since the surface smoothening hard layer 13 is laminated on the heat shrinkable film 11a, the stress caused by the shrinkage of the heat shrinkable film 11a is uniformly applied as a whole. Therefore, according to the present invention, the concavo-convex pattern-forming sheet 10 having excellent performance as a light diffusing body can be easily and large-scale produced by deforming the surface smoothened hard layer 13 like a fold.

또한, 이 제조 방법에 의하면, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 1㎛~20㎛로 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. According to this manufacturing method, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a can be easily set to 1 탆 to 20 탆, and the average depth of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a (B) is 10% or more when the most frequent pitch (A) is taken as 100%.

또, 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법으로서는, 아래 (1)∼(4)의 방법을 적용할 수도 있다. As the manufacturing method of the concavo-convex pattern-forming sheet, the following methods (1) to (4) may be applied.

(1)기판(11)의 한면 전부에 표면 평활 경질층(13)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하고, 적층 시트(10a) 전체를 표면에 따른 한 방향으로 압축하는 방법. (1) A method in which the surface smooth rigid layer 13 is provided on one side of the substrate 11 to form a laminated sheet 10a, and the entire laminated sheet 10a is compressed in one direction along the surface.

기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 미만인 경우, 적층 시트(10a)의 압축은 실온에서 하고, 기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 이상의 경우, 적층 시트(10a)의 압축은 기판(11)의 유리 전이 온도 이상이고, 표면 평활 경질층(13)의 유리 전이 온도 미만인 온도에서 한다. When the glass transition temperature of the substrate 11 is less than the room temperature, the laminated sheet 10a is compressed at room temperature and the laminated sheet 10a is compressed by the substrate 11 when the glass transition temperature of the substrate 11 is room temperature or more. At a temperature above the glass transition temperature of the surface smooth hard layer 13 and below the glass transition temperature.

(2)기판(11)의 한 면의 전부에 표면 평활 경질층(13)을 설치하여 적층 시트(10a)를 형성하고, 적층 시트(10a)를 한 방향으로 연장하며, 적층 시트(10a)를 연장 방향에 대한 직교방향으로 수축시켜서, 표면 평활 경질층(13)을 표면에 따른 한 방향으로 압축하는 방법. (2) A laminate sheet 10a is formed by providing a surface smooth rigid layer 13 on the entire surface of one side of the substrate 11, the laminate sheet 10a is extended in one direction, Shrinking in the direction orthogonal to the extending direction, thereby compressing the surface smooth hard layer 13 in one direction along the surface.

기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 미만인 경우, 적층 시트(10a)의 연장은 실온에서 하고, 기판(11)의 유리 전이 온도가 실온 이상인 경우, 적층 시트(10a)의 연장은 기판(11)의 유리 전이 온도 이상이고, 평면 평활 경질층(13)의 유리 전이 온도 미만인 온도에서 한다. When the glass transition temperature of the substrate 11 is less than the room temperature, the extension of the laminated sheet 10a is at room temperature, and when the glass transition temperature of the substrate 11 is the room temperature or more, At a temperature above the glass transition temperature of the flat smooth rigid layer 13 and below the glass transition temperature.

(3)미경화의 전리 방사선 경화성 수지에 의해 형성된 기판(11)에, 표면 평활 경질층(13)을 적층해서 적층 시트(10a)를 형성하고, 전리 방사선을 조사해서 기판 (11)을 경화시킴에 따라 수축시켜, 기판(11)에 적층된 표면 평활 경질층(13)을 표면에 따른 적어도 한 방향으로 압축하는 방법. (3) A laminate sheet 10a is formed by laminating a surface smoothing hard layer 13 on a substrate 11 formed of an uncured ionizing radiation curable resin, and irradiated with ionizing radiation to cure the substrate 11 To compress the surface smoothened hard layer (13) laminated on the substrate (11) in at least one direction along the surface.

(4)용매를 팽윤시켜 팽창시킨 기판(11)에, 표면 평활 경질층(13)을 적층해서 적층 시트(10a)를 형성하고, 기판(11) 안의 용매를 건조/제거함에 따라 수축시키며, 기판(11)에 적층된 표면 평활 경질층(13)을 표면에 따른 적어도 한 방향으로 압축하는 방법. (4) A laminated sheet 10a is formed by laminating a surface smoothened hard layer 13 on a substrate 11 expanded by swelling a solvent to shrink the solvent in the substrate 11 by drying / (13) laminated on a substrate (11) is compressed in at least one direction along the surface.

상기 (1)의 방법에 있어서, 적층 시트(10a)를 형성하는 방법으로서는, 예를 들면, 기판(11)의 한 면에 수지 용액 또는 분산 액을 스핀 코터나 바 코터 등에 의해 도포하고 용매를 건조시키는 방법, 기판(11)의 한 면에 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층하는 방법 등이 있다. As the method of forming the laminated sheet 10a in the above method (1), for example, a resin solution or a dispersion liquid is coated on one side of the substrate 11 by a spin coater, a bar coater or the like, A method of laminating a surface smoothing hard layer 13 previously prepared on one surface of the substrate 11, and the like.

적층 시트(10a) 전체를 표면에 따른 한 방향으로 압축하는 방법으로서는, 예를 들면, 적층 시트(10a)의 일단부와 그 반대측의 단부를 바이스 등에 의해 끼어서 압축하는 방법 등이 있다. As a method for compressing the entire laminated sheet 10a in one direction along the surface, for example, there is a method in which one end of the laminated sheet 10a and the end on the opposite side are pinched by a vise or the like.

상기 (2)의 방법에 있어서, 적층 시트(10a)를 한 방향으로 연장하는 방법으로서는, 예를 들면, 적층 시트(10a)의 일단부와 그 반대측의 단부를 끌어 당겨서 연신하는 방법 등이 있다. As a method of extending the laminated sheet 10a in one direction in the above method (2), for example, there is a method in which one end of the laminated sheet 10a and the end on the opposite side are drawn and drawn.

상기 (3)의 방법에 있어서, 전리 방사선 경화성 수지로는 자외선 경화형 수지나 전자선 경화형 수지 등이 사용될 수 있다. In the above method (3), as the ionizing radiation curing resin, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like may be used.

상기 (4)의 방법에 있어서, 용매는 제1 수지의 종류에 따라서 적절히 선택된다. 용매의 건조 온도는 용매의 종류에 따라서 적절히 선택된다. In the above method (4), the solvent is appropriately selected according to the kind of the first resin. The drying temperature of the solvent is appropriately selected depending on the kind of the solvent.

상기 (2)∼(4)의 방법에 있어서의 표면 평활 경질층(13)에 있어서도, 상기 (1)의 방법으로 이용하는 것과 같은 성분을 이용할 수 있고, 같은 두께로 할 수 있다. 또한, 적층 시트(10a)의 형성 방법은 상기 (1)의 방법과 동일하게 기판(11)의 한 면에 수지 용액 또는 분산액을 도포하고, 용매를 건조시키는 방법, 기판(11)의 한 면에 미리 제작한 표면 평활 경질층(13)을 적층 하는 방법 등을 적용할 수 있다. In the surface smoothened hard layer 13 in the above methods (2) to (4), the same components as those used in the method (1) can be used and the same thickness can be used. The method for forming the laminated sheet 10a may be the same as the method (1), except that a resin solution or dispersion is applied to one side of the substrate 11 and the solvent is dried, A method of laminating a previously prepared smooth surface hard layer 13 or the like can be applied.

*제2 공정-2* Second Step-2

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하로 할 경우에는, 상기 (1)의 방법에 있어서, 표면 평활 경질층(13)의 두께는 50nm 이하인 것이 바람직하고, 특히, 20nm 이하인 것이 보다 바람직하다. 표면 평활 경질층(13)의 두께가 50nm이하이면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛ 이하로 할 수 있다. In the case of the method (1), the thickness of the smooth surface hard layer 13 is preferably 50 nm or less, and more preferably 50 nm or less, when the minimum pitch A of the concave- , And more preferably 20 nm or less. When the thickness of the surface smoothened hard layer 13 is 50 nm or less, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a can surely be made 1 mu m or less.

또, 압축 후의 경질층(12)에 결함이 생기기 않도록, 표면 평활 경질층(13)은 1nm 이상인 것이 바람직하다. It is also preferable that the surface smoothened hard layer 13 is 1 nm or more so as not to cause a defect in the hard layer 12 after compression.

이 경우, 표면 평활 경질층(13)을 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 제2 수지로 구성한다. 표면 평활 경질층(13)을 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높은 제2 수지로 구성함에 따라, 압축했을 때에 기판(11)이 변형되면서 표면 평활 경질층(13)을 물결 형상으로 절곡 및 사행 변형하므로, 요철 패턴(12a)를 용이하게 형성할 수 있다. In this case, the surface smoothened hard layer 13 is composed of a second resin having a glass transition temperature higher by 10 占 폚 or higher than that of the first resin. The surface smoothened hard layer 13 is composed of the second resin having a glass transition temperature higher by 10 占 폚 or higher than the first resin so that the substrate 11 is deformed when compressed so that the smooth surface hard layer 13 is bent And the concavo-convex pattern 12a can be easily formed.

이상 설명한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)을 구성하는 제2 수지가 기판(11)을 구성하는 제1 수지보다 유리 전이 온도가 10℃이상 높기 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도에서는, 표면 평활 경질층(13)의 영률이 기판(11)의 영률보다 높다. 그 때문에, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도로 가공했을 때는, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 늘어나기 보다는 표면 평활 경질층(13)이 접히게 된다. 또한, 표면 평활 경질층(13)은 기판(11)에 적층되어 있기 때문에, 압축이나 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 걸린다. 따라서, 본 발명에 따르면, 용이하게 사행 변형시켜, 요철 패턴 형성 시트(10)를 제조할 수 있고, 광학소자로서 성능이 뛰어난 요철 패턴 형성 시트(10)를 간편하면서 대면적으로 제조할 수 있다.In the above-described method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet, since the second resin constituting the smooth surface hard layer 13 has a glass transition temperature higher than that of the first resin constituting the substrate 11 by 10 ° C or more, The Young's modulus of the smooth surface hard layer 13 is higher than the Young's modulus of the substrate 11 at a temperature between the glass transition temperature and the glass transition temperature of the second resin. Therefore, when processed to a temperature between the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin, the thickness of the smooth surface hard layer 13 is not increased but the surface smooth hard layer 13 is folded do. In addition, since the surface smoothened hard layer 13 is laminated on the substrate 11, the stress due to compression and shrinkage is uniformly applied to the entire surface. Therefore, according to the present invention, it is possible to manufacture the concavo-convex pattern-forming sheet 10 with ease by forming the concavo-convex pattern-forming sheet 10 with ease and large area.

또, 이 제조 방법에 의하면, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 짧게 할 수 있을 뿐만 아니라, 평균 깊이(B)를 깊게 할 수 있다. 구체적으로는, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 1㎛ 이하로 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. According to this manufacturing method, not only the most frequent pitch A of the uneven pattern 12a can be shortened, but also the average depth B can be deepened. Concretely, the most frequent pitch A of the concave-convex pattern 12a can be easily set to 1 占 퐉 or less and the average depth B of the bottom portion 12b of the concavo-convex pattern 12a can be set to be the most Most often) 10% or more when the pitch A is 100%.

또한, 이 제조 방법에 의하면, 요철 패턴(12a)에 있어서의 각 피치(A1, A2, A3, …) 및 각 깊이(B1, B2, B3, ...)를 용이하게 균일하게 할 수 있다. According to this manufacturing method, the pitches A1, A2, A3, ... and the depths B1, B2, B3, ... in the uneven pattern 12a can be easily made uniform.

*제2 공정-3* Second Step-3

표면 평활 경질층을 금속 또는 금속화합물을 이용해서 제조할 경우, 제2 공정에서, 가열 수축성 필름(11a)이 열수축함에 따라, 표면 평활 경질층(13)에 수축 방향에 대하여 수직방향으로 물결 형상의 요철 패턴(12a)이 형성되고, 이것이 경질층(12)이 된다. In the case where the surface smoothening hard layer is produced by using a metal or a metal compound, the heat shrinkable film 11a is thermally shrunk in the second step, An irregular pattern 12a is formed, which becomes the hard layer 12.

가열 수축성 필름(11a)을 가열 수축시킬 때의 가열 방법으로서는, 열풍, 증기 또는 열수 속에 통과시키는 방법 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 균일하게 수축시킬 수 있는 것부터, 열수에 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method for heating and shrinking the heat shrinkable film 11a, a method of passing the heat shrinkable film 11a through hot air, steam, or hot water can be exemplified. Among them, a method of passing the hot shrinkable film 11a through hot water is preferred .

가열 수축성 필름(11a)을 열수축시킬 때의 가열 온도는, 사용하는 가열 수축성 필름의 종류, 목적으로 하는 요철 패턴(12a)의 피치 및 바닥부(12b)의 깊이에 따라서 적절히 선택하는 것이 바람직하다. The heating temperature at the time of shrinking the heat shrinkable film 11a is suitably selected in accordance with the kind of the heat shrinkable film to be used, the pitch of the irregularity pattern 12a to be used and the depth of the bottom portion 12b.

이 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 얇고 표면 평활 경질층(13)의 영율(Young's modulus)이 낮을수록, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 작아지고, 기판의 변형율이 높을수록, 평균 깊이(B)가 깊어진다. 따라서, 요철 패턴(12a)을 소정의 최빈(最頻) 피치(A)와 평균 깊이(B)로 하기 위해서는, 상기 조건을 적당히 선택 할 필요가 있다. In this manufacturing method, as the thickness of the smooth surface hard layer 13 is small and the Young's modulus of the smooth surface hard layer 13 is low, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a is small The higher the deformation rate of the substrate, the deeper the average depth (B). Therefore, in order to set the predetermined pitch A and the average depth B of the concave-convex pattern 12a, it is necessary to appropriately select the above conditions.

이상 설명한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 금속 또는 금속화합물로 이루어지는 표면 평활 경질층(13)이 가열 수축성 필름(11a)보다 영율(Young's modulus)이 현격히 크기 때문에, 가열 수축성 필름(11a)보다 단단한 표면 평활 경질층(13)을 열압축했을 때에, 표면 평활 경질층(13)의 두께가 증가하기 보다는 표면 평활 경질층(13)이 접히게 된다. 게다가, 표면 평활 경질층(13)은 가열 수축성 필름(11a)에 적층되어 있기 때문에, 가열 수축성 필름(11a)의 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 걸린다. 따라서, 본 발명에 의하면, 표면 평활 경질층 (13)을 접듯이 변형시켜서, 광확산체를 제조하기 위한 공정 시트로서 성능이 뛰어난 요철 패턴 형성 시트(10)를 간편하면서 대면적으로 제조할 수 있다. In the above-described method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet, since the smooth surface hard layer 13 made of a metal or a metal compound has a Young's modulus remarkably larger than that of the heat shrinkable film 11a, When the surface smoothing hard layer 13 is thermally compressed, the smooth surface hard layer 13 is folded rather than the thickness of the smooth surface hard layer 13 is increased. In addition, since the surface smoothened hard layer 13 is laminated on the heat shrinkable film 11a, the stress caused by the shrinkage of the heat shrinkable film 11a is uniformly applied as a whole. Therefore, according to the present invention, the concavo-convex pattern-forming sheet 10 having excellent performance as a process sheet for producing a light diffusing body can be easily produced with a large area by deforming the surface smooth rigid layer 13 as if folded .

또한, 이 제조 방법에 의하면, 용이하게 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를, 1㎛~20㎛로 할 수 있고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)를 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 할 수 있다. According to this manufacturing method, the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a can be easily set to 1 to 20 占 퐉, and the average of the bottom 12b of the concavo-convex pattern 12a The depth B can be set to 10% or more when the most frequent pitch A is 100%.

그러나, 종래 요철 패턴 형성용 시트를 제조하는 방법으로서, 나노임프린트용 틀의 요철 패턴을 가열해서 연화시킨 시트 형상의 열가소성 수지에 압착한 후, 이를 냉각하는 열나노임프린트법, 나노임프린트용 틀의 요철 패턴에 미경화의 전리 방사선 경화성 수지 조성물을 피복시킨 후, 전리 방사선을 조사하여 경화시키는 광나노임프린트법이 알려져 있었다. However, as a conventional method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet, there have been proposed a thermal nanoimprint method in which a concavo-convex pattern of a nanoimprint frame is heated and softened and then cooled, There has been known a photo-nanoimprint method in which an ionizing radiation-curable resin composition is coated on a pattern, followed by irradiation with ionizing radiation to cure the pattern.

열나노임프린트법에서는 틀에 전체적으로 균일한 압력을 가하고, 열가소성 수지에 요철 패턴을 갖는 틀을 압착할 필요가 있지만, 이러한 방법에서는 틀의 면적이 커지면, 틀이 가해지는 압력이 불균일해지는 경향이 있고, 그 결과, 요철 패턴의 전사가 불균일해질 수 있었다. 따라서, 액정 TV의 디스플레이 등에 사용되는 대면적의 요철 패턴 형성 시트의 생산에 적합하다고는 할 수 없었다. In the thermo-nanoimprint method, it is necessary to apply a uniform overall pressure to the mold and to press the mold having the concave-convex pattern on the thermoplastic resin. However, in this method, the pressure applied to the mold tends to become uneven, As a result, the transfer of the concavo-convex pattern could be made non-uniform. Therefore, it can not be said that it is suitable for the production of a large-area concavo-convex pattern-forming sheet used for a display of a liquid crystal TV or the like.

또, 광나노임프린트법에서는, 틀과 경화한 수지와의 이형성(mold reliability)이 불충분하기 때문에, 요철 패턴의 전사가 불완전해질 수 있었다. 게다가, 틀의 사용 회수가 많아질수록 이 경향이 현저해졌다. In addition, in the photo-nanoimprinting method, since the mold reliability between the mold and the cured resin is insufficient, the transfer of the concavo-convex pattern can be incomplete. Moreover, this tendency became more remarkable as the number of times of use of the frame increased.

이들 나노임프린트법과 비교하여 상술한 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법은 요철 패턴의 전사를 생략할 수 있기 때문에, 나노임프린트법에서의 상기 문제점을 해소할 수 있다. The above-described method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet as compared with the nanoimprint method can eliminate the problem of the nanoimprint method because the transfer of the concavo-convex pattern can be omitted.

또한, 상술한 실시 형태에서는, 기판의 한 면의 전면(全面)에 경질층을 마련했으나, 기판의 한 면의 일부에 경질층을 마련해도 무방하고, 기판의 양면의 전부에 경질층을 마련해도 무방하며, 기판의 양면의 일부에 경질층을 마련해도 무방하다. Further, in the above-described embodiment, the hard layer is provided on the entire surface of one side of the substrate, but a hard layer may be provided on a part of one side of the substrate, and even if a hard layer is provided on all sides of the substrate And a hard layer may be provided on a part of both sides of the substrate.

3.광확산체 3. Optical diffuser

본 발명에 따른 광확산체는 1㎛~20㎛의 최빈(最頻) 피치(A)를 갖는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)을 구비한다. The light diffusing body according to the present invention comprises the above-described concave-convex pattern forming sheet 10 having the most frequent pitch A of 1 占 퐉 to 20 占 퐉.

본 발명에 따른 광확산체에 있어서, 요철 패턴 형성 시트(10)의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비할 수 있다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트(10)의 면 중 요철 패턴(12a)이 형성되어 있는 측의 면에 그 면의 오염을 방지하기 위한 불소 수지 또는 실리콘 수지를 주성분으로서 함유하는 두께 1∼5nm 정도의 방오층을 형성할 수 있다. In the light diffusing body according to the present invention, another layer may be provided on one surface or both surfaces of the relief pattern forming sheet 10. [ For example, the surface of the concavo-convex pattern-forming sheet 10 on which the concavo-convex pattern 12a is formed has a thickness of 1 to 5 nm or so containing fluorine resin or silicone resin as a main component for preventing contamination of the surface Can be formed.

또, 광확산체의 기판(11)측의 면에는 투명수지제 혹은 유리제의 지지체가 구비되어 있어도 무방하다. A transparent resin or glass support may be provided on the surface of the light diffusion body on the substrate 11 side.

게다가, 기판(11)측의 면에 점착제층이 형성되어 있어도 무방하며, 기능성을 적절히 갖추기 위해서 색소를 포함해도 무방하다. In addition, a pressure-sensitive adhesive layer may be formed on the surface of the substrate 11, and a dye may be included in order to suitably function.

상술한 요철 패턴이 표면에 형성된 요철 패턴 형성 시트(10)를 갖춘 본 발명의 광확산체는 충분한 광확산성을 갖는다. The light diffuser of the present invention having the concavo-convex pattern-forming sheet 10 on which the concavo-convex pattern is formed on its surface has sufficient light diffusibility.

4. 광확산체 제조용 공정 시트 원판 및 광확산체의 제조 방법 4. Process sheet for manufacturing optical diffuser and method for manufacturing optical diffuser

본 발명의 광확산체 제조용 공정 시트 원판(이하, '공정 시트 원판'이라고 함)은 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)를 구비하고, 요철 패턴(12a)을 이하에서 상술되는 방법으로 다른 소재에 전사시킴에 따라, 상기 공정 시트 원판과 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 표면에 형성된 광확산체로서 사용가능한 요철 패턴 형성 시트를 대면적으로 대량으로 제조하기 위한 틀로서 사용될 수 있다. (Hereinafter referred to as a process sheet original plate) according to the present invention is provided with the concavo-convex pattern forming sheet 10 described above, and the concavo-convex pattern 12a is formed on another material It can be used as a frame for mass-producing large-area concavo-convex pattern-forming sheets which can be used as a light diffusing body in which convex-and-concave patterns of the most frequent pitch and average depth equivalent to those of the process sheet original plate are formed on the surface have.

공정 시트 원판은 요철 패턴 형성 시트(10)을 지지하기 위한 수지제 또는 금속제의 지지체를 더 구비해도 무방하다. The process sheet original plate may further include a resin or metal support for supporting the concavo-convex pattern forming sheet 10.

공정 시트 원판을 이용해서 광확산체를 제조하는 구체적인 방법으로는, 예를 들면, 아래 (a)∼(c)의 방법을 들 수 있다. As a specific method for producing the optical diffuser by using the process sheet original plate, for example, the following methods (a) to (c) can be mentioned.

(a)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포 하는 공정 및 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 포함하는 방법. (여기에서, 전리 방사선이라는 것은 통상 자외선 또는 전자선이지만, 본 발명에서는 가시광선, X선, 이온선 등도 포함한다.) (a) a step of applying an uncured ionizing radiation curable resin to the surface of the process sheet original plate where the concavo-convex pattern is formed, and a step of irradiating ionizing radiation to cure the curable resin and then peeling the cured coating film from the process sheet original plate &Lt; / RTI > (Here, ionizing radiation is usually ultraviolet rays or electron beams, but the present invention includes visible rays, X rays, ion rays, etc.)

(b)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정 및 상기 액상 열경화성 수지를 가열하여 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 포함하는 방법. (b) a step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern is formed, and a step of heating and curing the liquid thermosetting resin and then peeling the cured coating film from the process sheet original plate .

(c)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 압력을 가하면서 가열해서 이를 연화시킨 후 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 포함하는 방법. (c) contacting the sheet-shaped thermoplastic resin to the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern is formed; heating the sheet-like thermoplastic resin while applying pressure to the process sheet sheet to soften the sheet; And a step of peeling the cooled sheet-like thermoplastic resin from the process sheet original plate.

또, 공정 시트 원판을 이용해서 2차 공정용 형성물을 제작하고, 그 2차 공정용 형성물을 이용해서 광확산체를 제조할 수도 있다. 2차 공정용 형성물으로는, 예를 들면, 2차 공정 시트가 사용될 수 있다. 또, 2차 공정용 형성물로는 공정 시트 원판을 둥글게 해서 원통의 안쪽에 점착하고, 그 원통의 안쪽에 롤을 삽입한 상태로 도금하며, 원통으로부터 롤을 꺼내서 얻은 도금 롤이 사용될 수 있다. It is also possible to produce a formation for a secondary process by using an original plate of the process sheet and to manufacture an optical diffuser by using the formation for the secondary process. As the formation for the secondary process, for example, a secondary process sheet can be used. As the formation for the secondary process, a plating roll obtained by rounding an original plate of the process sheet and adhering to the inside of the cylinder, plating the inside of the cylinder with the roll inserted, and removing the roll from the cylinder can be used.

2차 공정용 형성물을 이용하는 구체적인 방법으로, 아래 (d)∼(f)의 방법을 들 수 있다. Specific methods of using the secondary process formulations include the following methods (d) to (f).

(d)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 니켈 등의 금속 도금을 행하여 도금층(요철 패턴 전사용 재료)을 적층 하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 이어서, 2차 공정용 형성물의 요철 패턴과 접하고 있는 측의 면에, 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하는 공정과, 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 포함하는 방법. (d) laminating a plating layer (material for transferring concavity and convexity pattern) by plating metal such as nickel on the surface of the process sheet original plate having the concavo-convex pattern formed thereon, and peeling the plating layer from the process sheet original plate, And a step of applying an uncured ionizing radiation curable resin to the side of the formation for secondary processing which is in contact with the concavo-convex pattern, and a step of irradiating ionizing radiation to cure the curable resin , And peeling the cured coating film with the formation for the secondary process.

(e)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 도금층(요철 패턴 전사용 재료)을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철 패턴과 접하고 있는 측의 면에 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정과, 가열에 의해 상기 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 포함하는 방법. (e) a step of laminating a plating layer (material for transferring concavity and convexity pattern) on the surface of the original plate on which the concavo-convex pattern is formed, a step of peeling the plating layer from the original plate of the process sheet to manufacture a metal- A step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the side of the formation for secondary processing which is in contact with the concavo-convex pattern; and a step of curing the resin by heating and then peeling the cured coating film with a formation for secondary processing &Lt; / RTI >

(f)공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 도금층(요철 패턴 전사용 재료)을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철 패턴과 접하고 있는 측의 면에 시트 형상의 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 압력을 가하면서 가열해서 연화시킨 후, 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물로 박리하는 공정을 포함하는 방법. (f) a step of laminating a plating layer (material for transferring concavity and convexity pattern) on the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern is formed, a step of peeling the plating layer from the original plate of the process sheet to form a metal- A step of bringing the sheet-shaped thermoplastic resin into contact with the surface of the sheet for forming the secondary process which is in contact with the concavo-convex pattern, and a step of heating and softening the sheet- And then peeling the cooled sheet-like thermoplastic resin into a formation for a secondary process.

상기 (a)의 방법을 구체적으로 설명한다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 우선, 웹 형상의 공정 시트 원판(110)의 요철 패턴(112a)이 형성된 면에 코터(120)에 의해 미경화의 액상 전리 방사선 경화성 수지(112c)를 도포한다. 그 다음에, 상기 경화성 수지를 도포한 공정 시트 원판(110)을 롤(130)을 이용하여 가압함으로써, 상기 경화성 수지를 공정 시트 원판(110)의 요철 패턴(112a) 내부에 충전한다. 그 후, 전리 방사선 조사 장치(140)에 의해 전리 방사선을 조사하고, 경화성 수지를 가교·경화시킨다. 그리고, 경화 후의 전리 방사선 경화성 수지를 공정 시트 원판(110)으로부터 박리시킴으로써 웹 형상의 광확산체(150)를 제조할 수 있다. The method (a) will be described in detail. 8, an uncured liquid ionizing radiation curing resin 112c is applied by a coater 120 to the surface of the web-shaped process sheet original plate 110 where the uneven pattern 112a is formed. Thereafter, the process sheet original sheet 110 coated with the curable resin is pressed by using the roll 130, and the curable resin is filled in the concavo-convex pattern 112a of the original sheet 110 of the process sheet. Thereafter, ionizing radiation is irradiated by the ionizing radiation apparatus 140, and the curing resin is crosslinked and cured. Then, the web-shaped light diffusing body 150 can be manufactured by peeling the cured ionizing radiation curing resin from the process sheet original plate 110.

상기 (a)의 방법에 있어서, 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에는 이형성(mold releasability)을 부여할 목적으로, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포하기 전에, 실리콘 수지, 불소 수지 등으로 이루어지는 층을 1∼10nm정도의 두께로 마련해도 무방하다. In the method (a), before application of the uncured ionizing radiation curable resin for the purpose of imparting mold releasability to the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern is formed, a silicone resin, Layer may be provided with a thickness of about 1 to 10 nm.

공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포하는 코터로는 T 다이코터, 롤 코터, 바 코터 등이 사용될 수 있다. A T-die coater, a roll coater, a bar coater, or the like can be used as a coater for applying an uncured ionizing radiation curable resin to the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern is formed.

미경화의 전리 방사선 경화성 수지로는 에폭시 아크릴레이트, 에폭시화 오일아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스텔아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 비닐/아크릴레이트, 폴리엔/아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트, 폴리에틸렌 부타디엔, 폴리스티릴메틸메타크릴레이트 등의 프레폴리머, 지방족아크릴레이트, 지환식아크릴레이트, 방향족아크릴레이트, 수산기함유아크릴레이트, 알릴기함유아크릴레이트, 글리시딜기함유아크릴레이트, 카르복시기함유아크릴레이트, 할로겐함유아크릴레이트 등의 모노머 중에서 선택되는 1종류 이상의 성분을 함유하는 것이 사용될 수 있다. 미경화의 전리 방사선 경화성 수지는 용매 등으로 희석하는 것이 바람직하다. Examples of the uncured ionizing radiation curable resin include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, Acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxyl group-containing acrylate, acrylate group-containing acrylate, Acrylate, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, and halogen-containing acrylate may be used. The uncured ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like.

또한, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지에는 불소 수지, 실리콘 수지 등을 첨가해도 무방하다. Further, fluorine resin, silicone resin or the like may be added to the uncured ionizing radiation curable resin.

미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 자외선에 의해 경화할 경우, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지에 아세트페논류, 벤조페논류 등의 광중합 개시제를 첨가하는 것이 바람직하다. When the uncured ionizing radiation curable resin is cured by ultraviolet rays, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones or benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resin.

미경화의 액상전리 방사선 경화성 수지를 도포한 후에는, 수지 또는 유리 등으로 이루어지는 기판을 서로 붙인 후에 전리 방사선을 조사해도 무방하다. 전리 방사선의 조사는 기판, 공정 시트 원판 중 전리 방사선 투과성을 갖는 어느 하나로부터 수행하면 된다. After application of the uncured liquid-state ionizing radiation curable resin, the substrate made of resin or glass may be stuck to each other and then irradiated with ionizing radiation. Irradiation of ionizing radiation may be carried out from any one of the substrate, the original plate of the process sheet, and the ionizing radiation transmissive.

경화 후, 전리 방사선 경화성 수지 시트의 두께는 0.1∼100㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다. 경화 후의 전리 방사선 경화성 수지 시트의 두께가 0.1㎛ 이상이면, 충분한 강도를 확보할 수 있고, 100㎛이상이면, 충분한 가요성을 확보할 수 있다. After curing, the thickness of the ionizing radiation curable resin sheet is preferably about 0.1 to 100 mu m. When the thickness of the ionizing radiation curable resin sheet after curing is 0.1 탆 or more, sufficient strength can be ensured, and when the thickness is 100 탆 or more, sufficient flexibility can be secured.

상기 도 8에 나타낸 방법에서는, 공정 시트 원판이 웹 형상이었지만, 낱장의 시트여도 무방하다. 낱장의 시트를 이용할 경우, 낱장의 시트를 평판 형상의 틀로서 사용하는 스탬프법, 낱장의 시트를 롤에 감아서 원통 형상의 틀로서 사용하는 롤 인 프린트법 등이 사용될 수 있다. 또한, 사출 성형기의 틀 안쪽에 낱장의 공정 시트 원판을 배치시켜도 무방하다. In the method shown in FIG. 8, the process sheet original plate is web-shaped, but it may be a single sheet. When a single sheet is used, a stamping method in which a single sheet is used as a plate-shaped frame, a roll-in printing method in which a single sheet is wound on a roll and used as a cylindrical frame, or the like can be used. Further, it is also possible to dispose a single process sheet original plate inside the frame of the injection molding machine.

그러나, 이들 낱장의 시트를 이용하는 방법에 있어서, 광확산체를 대량 생산하기 위해서는, 요철 패턴을 형성하는 공정을 다수회 되풀이할 필요가 있다. 전리 방사선 경화성 수지와 공정 시트 원판과의 이형성(mold releasability)이 낮은 경우, 요철 패턴을 형성하는 공정을 다수회 되풀이했을 때에 요철 패턴에 막힘이 생기고, 요철 패턴의 전사가 불완전해지는 경향이 있다. However, in order to mass-produce the optical diffuser in the method of using these single sheets, it is necessary to repeat the step of forming the concavo-convex pattern a plurality of times. When the mold releasability between the ionizing radiation curable resin and the original plate of the process sheet is low, clogging occurs in the concave / convex pattern when the step of forming the concave / convex pattern is repeated a number of times, and the transfer of the concave / convex pattern tends to be incomplete.

이에 대하여, 도 8에 나타낸 방법에서는, 공정 시트 원판이 웹 형상이기 때문에, 대면적으로 연속적으로 요철 패턴을 형성할 수 있고, 요철 패턴 형성 시트의 반복 사용 횟수가 적어도 필요한 양의 광확산체를 단시간에 제조할 수 있다. On the other hand, in the method shown in Fig. 8, since the process sheet original plate is web-shaped, it is possible to continuously form the concavo-convex pattern in a large area, .

상기 (b) 및 (e)의 방법에 있어서, 액상 열경화성 수지로서는, 예를 들면, 미경화의 멜라민 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지 등이 사용될 수 있다. In the above methods (b) and (e), as the liquid thermosetting resin, for example, uncured melamine resin, urethane resin, epoxy resin, or the like can be used.

또, 상기 (b)의 방법에 있어서의 경화 온도는 공정 시트 원판의 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 경화 온도가 공정 시트 원판의 유리 전이 온도 이상이면, 경화시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 가능성이 있기 때문이다. It is preferable that the curing temperature in the method (b) is lower than the glass transition temperature of the raw sheet of the process sheet. If the curing temperature is not lower than the glass transition temperature of the process sheet original plate, there is a possibility that the uneven pattern of the process sheet original plate is deformed at the time of curing.

상기 (c) 및 (f)의 방법에 있어서, 열가소성 수지로서는, 예를 들면, 아크릴수지, 폴리올레핀, 폴리에스테르 등이 사용될 수 있다. In the above methods (c) and (f), as the thermoplastic resin, for example, an acrylic resin, a polyolefin, a polyester and the like can be used.

시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 가압할 때의 압력은 1∼100MPa인 것이 바람직하다. 가압할 때의 압력이 1MPa이상이면, 요철 패턴을 높은 정밀도로 전사시킬 수 있고, 100MPa이하면, 과도한 가압을 막을 수 있다. The pressure when pressing the sheet-form thermoplastic resin into the formation for secondary processing is preferably 1 to 100 MPa. If the pressure at the time of pressurization is 1 MPa or more, the concavo-convex pattern can be transferred with high accuracy, and if it is 100 MPa or less, excessive pressurization can be prevented.

또, 상기 (c)의 방법에 있어서, 열가소성 수지의 가열 온도는 공정 시트 원판의 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 가열 온도가 공정 시트 원판의 유리 전이 온도 이상이면, 가열시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 가능성이 있기 때문이다. In the method (c), the heating temperature of the thermoplastic resin is preferably lower than the glass transition temperature of the raw sheet of the process sheet. If the heating temperature is higher than the glass transition temperature of the process sheet original plate, there is a possibility that the concavo-convex pattern of the process sheet original plate is deformed upon heating.

요철 패턴을 높은 정밀도로 전사하기 위하여, 가열후의 냉각 온도는 열가소성 수지의 유리 전이 온도 미만인 것이 바람직하다. In order to transfer the concavo-convex pattern with high precision, the cooling temperature after heating is preferably lower than the glass transition temperature of the thermoplastic resin.

상기 (a)∼(c)의 방법 중에서도, 가열을 생략할 수 있고, 공정 시트 원판의 요철 패턴의 변형을 방지할 수 있다는 점에서, 전리 방사선 경화성 수지를 사용하는 (a)의 방법이 바람직하다. Among the methods (a) to (c), the method (a) using an ionizing radiation curable resin is preferable in that heating can be omitted and deformation of the concavo-convex pattern of the process sheet original plate can be prevented .

상기 (d)∼(f)의 방법에 있어서는, 금속제의 2차 공정용 형성물의 두께를 50∼500㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다. 금속제의 2차 공정용 형성물의 두께가 50㎛이상이면, 2차 공정용 형성물이 충분한 강도를 가지고, 500㎛이하면, 충분한 가요성을 확보할 수 있다. In the above methods (d) to (f), it is preferable that the thickness of the metal secondary forming product is about 50 to 500 m. When the thickness of the metal secondary forming process is 50 탆 or more, sufficient flexibility is ensured if the secondary process ingot has sufficient strength and is 500 탆 or less.

상기 (d)∼(f)의 방법에서는, 열에 의한 변형이 작은 금속제 시트를 공정 시트로서 이용하기 위해, 요철 패턴 형성 시트용의 재료로서 전리 방사선 경화성 수지, 열경화성 수지, 열가소성 수지 모두 사용할 수 있다. In the above methods (d) to (f), an ionizing radiation-curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin can be used as the material for the concavo-convex pattern-forming sheet in order to use a metal sheet having small thermal deformation as a process sheet.

상기 (a)∼(f)의 방법으로 제조된 요철 패턴 형성 시트를 광확산체로서 사용할 경우, 광확산 효과를 더욱 향상시키기 위하여 요철 패턴 형성 시트에 무기화합물로 이루어지는 광확산제, 유기 화합물로 이루어지는 유기 광확산제 혹은 미세거품을 함유시킬 수 있다. When the concavo-convex pattern-forming sheet produced by the methods (a) to (f) is used as a light diffuser, in order to further improve the light diffusion effect, a light diffusing agent comprising an inorganic compound, An organic light-diffusing agent or a fine bubble.

또한, 상기 (d)∼(f)에서는 공정 시트 원판의 요철 패턴을 금속에 전사시켜 2차 공정용 형성물을 얻었지만, 수지에 전사시켜 2차 공정용 형성물을 얻어도 무방하다. 그 경우에 사용할 수 있는 수지로서는, 예를 들면, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리설폰, (a)의 방법에 사용되는 전리 방사선 경화성 수지 등이 사용될 수 있다. 전리 방사선 경화성 수지를 이용할 경우에는, 상기 (a)의 방법과 동일하게, 전리 방사선 경화성 수지를 도포, 경화, 박리하여 2차 공정용 형성물을 얻는다. In the above (d) to (f), the concavo-convex pattern of the process sheet original plate is transferred to the metal to obtain the formation for the secondary process, but it is also possible to obtain the formation for the secondary process by transferring it to the resin. As the resin usable in this case, for example, polycarbonate, polyacetal, polysulfone, ionizing radiation curable resin used in the method (a), and the like can be used. When an ionizing radiation curable resin is used, an ionizing radiation curable resin is applied, cured, and peeled in the same manner as in the above method (a) to obtain a formation for a secondary process.

상술한 바와 같이 하여 얻은 광확산체에는 요철 패턴이 형성된 면과 반대인 면에 점착제층을 마련해도 무방하다. 또, 요철 패턴이 형성된 면과 반대측의 면에 요철 패턴을 더 형성해도 무방하다. The light diffusing body obtained as described above may be provided with a pressure-sensitive adhesive layer on the surface opposite to the surface on which the concavo-convex pattern is formed. It is also possible to further form a concave-convex pattern on the surface opposite to the surface on which the concave-convex pattern is formed.

또, 공정 시트 원판으로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트 또는 2차 공정용 형성물을 박리하지 않고 보호층으로서 이용하다가 광확산체의 사용 직전에 보호층을 박리해도 좋다. Alternatively, the protective layer may be peeled immediately before use of the optical diffuser, without using the peel-off pattern-forming sheet or the formation for secondary processing used as the process sheet original plate as a protective layer without peeling.

상술한 제조 방법에 의해 제조된 광확산체는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)와 같은 요철 패턴을 포함하기 때문에, 요철의 배향이 흩어져 있어서, 확산의 이방성이 뛰어난다. Since the light diffusing body manufactured by the above-described manufacturing method includes the concavo-convex pattern like the concavo-convex pattern forming sheet 10 described above, the irregularities are dispersed and the anisotropy of diffusing is excellent.

광확산체에 있어서는, 요철 패턴 형성 시트의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비해도 무방하다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트의 요철 패턴이 형성되고 있는 측의 면에, 그 면의 오염을 방지하기 위한 불소 수지 또는 실리콘 수지를 주성분으로서 함유하는 두께 1∼5nm 정도의 방오층을 형성할 수 있다. In the optical diffusing member, another layer may be provided on one surface or both surfaces of the uneven pattern forming sheet. For example, an antioxidant layer having a thickness of about 1 to 5 nm containing a fluororesin or a silicone resin as a main component for preventing contamination of the surface of the uneven pattern-forming sheet on the surface on which the uneven pattern is formed have.

또, 광확산체의 요철 패턴이 형성되지 않은 측의 면에는, 투명 수지제 혹은 유리제의 지지체를 구비할 수 있다. A transparent resin or glass support may be provided on the surface of the optical diffusing member on which the concavo-convex pattern is not formed.

5. 광학 시트5. Optical sheet

5-1. 제1 실시 형태 5-1. First Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제1 실시 형태에 대해서 설명한다. A first embodiment of the optical sheet of the present invention will be described.

도 13은 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 13에서는, 설명을 용이하게 하기 위해서, 요철영역(212)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 13 shows the optical sheet of this embodiment. On the other hand, in Fig. 13, for ease of explanation, the uneven region 212 is enlarged and at the same time, its arrangement is sparsely shown.

본 실시 형태의 광학 시트(210a)는 길이방향의 일단(α)에 광원(330)을 배치시키는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것으로서, 평탄한 한 면(211)에는, 외형이 타원 형상의 요철영역(212)이 광학 시트(210a)의 길이방향의 일단(α)로부터 상기 일단(α)에 대향하는 타단(β)을 향함에 따라서 점차로 조밀해지도록 형성되어 있다. 상기 요철영역(212)은 도트 형상으로 분산하여 배치되어 있다. 한편, 본 발명에 있어서, 평탄이라는 것는 JIS B0601에 기재된 중심선평균 거칠기가 0.1㎛ 이하인 것을 의미한다. 또, 요철영역은 JIS B0601에 기재된 중심선평균 거칠기가 0.1㎛을 넘고, 바람직하게는, 0.5㎛ 이상이다. The optical sheet 210a of the present embodiment can be used as a light diffusion sheet for arranging the light source 330 at one end? Of the longitudinal direction. The optical sheet 210a has a flat surface 211, 212 are formed so as to become gradually denser from one end? In the longitudinal direction of the optical sheet 210a toward the other end? Opposite to the one end?. The concavoconvex area 212 is dispersed in a dot shape. On the other hand, in the present invention, "flatness" means that the center line average roughness described in JIS B0601 is 0.1 탆 or less. In addition, the unevenness region has a centerline average roughness described in JIS B0601 exceeding 0.1 占 퐉, and preferably 0.5 占 퐉 or more.

*요철영역* Uneven area

요철영역(12)은 요철 패턴을 갖는 영역이다. 본 실시 형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 요철영역(12)의 표면에 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)이 형성되어 있다. The uneven region 12 is a region having a concavo-convex pattern. In this embodiment, as shown in Fig. 1, a wave-like concavo-convex pattern 12a which meanders on the surface of the uneven region 12 is formed.

광확산 시트로 이용되는 본 실시 형태의 광학 시트(210a)에서는, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛인 것이 바람직하고, 특히, 1㎛~10㎛인 것이 보다 바람직하다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛미만이면, 가시광의 파장 이하가 되어 가시광이 요철 패턴(12a)에서 굴절하지 않고 광이 투과해 버리고, 20㎛를 넘으면 확산의 이방성이 낮아져서 휘도에 얼룩을 발생시키기 쉬운 경향이 있다. In the optical sheet 210a of the present embodiment used as the light diffusing sheet, the minimum pitch A of the concavo-convex pattern 12a is preferably 1 占 퐉 to 20 占 퐉, more preferably 1 占 퐉 to 10 占 퐉 Is more preferable. If the pitch A is less than 1 占 퐉, the visible light will not be refracted at the concavo-convex pattern 12a and the light will be transmitted. If the pitch A is more than 20 占 퐉, And the like.

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철 패턴의 평균 깊이(B)의 비교(B/A, 이하, '어스펙트비'라고 함)는 0.1∼3.0인 것이 바람직하다. 어스펙트비가 0.1미만이면, 원하는 광학특성이 얻을 수 없다. 한편, 어스펙트비가 3.0보다 커지면, 광학 시트(210a)의 제조에서 요철 패턴(12a)을 형성하는 것이 어려워지는 경향이 있다. (B / A, hereinafter referred to as "aspect ratio") of the average depth B of the concavo-convex pattern to the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a is preferably 0.1 to 3.0 . If the aspect ratio is less than 0.1, desired optical characteristics can not be obtained. On the other hand, when the aspect ratio is larger than 3.0, it is difficult to form the concavo-convex pattern 12a in the production of the optical sheet 210a.

여기에서, 평균 깊이(B)라는 것는 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이이다. Here, the average depth (B) is the average depth of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a.

또, 바닥부(12b)라는 것는 요철 패턴(12a)의 요부의 극소점이며, 평균 깊이(B)는 요철영역(12)을 단경 방향에 따라 절단한 단면(도 2 참조)을 보았을 때의, 광학 시트(10a) 전체의 면방향과 평행한 기준선(L1)으로부터 각 돌부의 정부까지의 길이(B1, B2, B3...)의 평균치(BAV)와, 기준선(L1)으로부터 각 요부의 바닥부까지의 길이(b1, b2, b3...)의 평균치(bAV)와의 차(bAV-BAv)이다. The bottom portion 12b is the minimum point of the concave portion of the concavo-convex pattern 12a and the average depth B is the width of the convexo-concave portion 12b when the cross-section (see Fig. 2) The average value BAV of the lengths B1, B2, B3 ... extending from the reference line L1 parallel to the plane direction of the entire optical sheet 10a to the respective corners of the optical sheet 10a, (BAV-BAv) of the lengths (b1, b2, b3, ...) of the lengths up to the portion.

평균 깊이(B)를 측정하는 방법으로서는, 원자간력 현미경에 의해 촬영한 요철 패턴(12a)의 단면의 화상에서 각 바닥부(12b)의 깊이를 측정하고, 그것들의 평균치를 구하는 방법 등이 사용될 수 있다. As a method of measuring the average depth B, there is a method of measuring the depth of each bottom portion 12b in an image of a cross section of the uneven pattern 12a photographed by an atomic force microscope and obtaining an average value thereof .

본 실시 형태와 같이 요철 패턴(12a)이 한 방향에 따르고 있을 경우, 사행이라는 것는 이하의 방법으로 구해지는 요철 패턴의 배향도가 0.3이상이 되는 것을 의미한다. 이 배향도는 요철 패턴의 배향의 편차의 지표이며, 그 값이 클수록 요철 패턴의 배향이 흩어져 있는 것을 나타낸다. When the concavo-convex pattern 12a follows one direction as in the present embodiment, the obliquity means that the degree of orientation of the concavo-convex pattern obtained by the following method is 0.3 or more. This degree of orientation is an index of the deviation of the orientation of the uneven pattern, and the larger the value is, the more the orientation of the uneven pattern is scattered.

상기 배향도가 0.3 미만이면, 요철 패턴(12a)의 배향의 편차가 작아지기 때문에 광의 확산성이 작아진다. If the degree of orientation is less than 0.3, the deviation of the orientation of the uneven pattern 12a becomes small, so that the light diffusibility becomes small.

또한, 배향도는 1.0이하인 것이 바람직하다. 배향도가 1.0을 넘으면, 요철 패턴(12a)의 방향이 어느 정도 랜덤이 되기 때문에, 광확산성은 높아지지만 이방성이 낮아지는 경향이 있다. The degree of orientation is preferably 1.0 or less. When the degree of orientation exceeds 1.0, the direction of the concave-convex pattern 12a becomes random to some extent, so that the light diffusivity is high but the anisotropy tends to be low.

배향도를 0.3이상으로 하기 위해서는, 예를 들면, 후술하는 제조에 있어서, 가열 수축성 필름과 요철영역 형성용 돌부를 적절히 선택하여야 한다. In order to increase the degree of orientation to 0.3 or more, for example, in the production described later, the heat shrinkable film and the protruding and recessed portion forming portion should be appropriately selected.

또, 배향도가 0.3 이상인 요철 패턴이 한 표면에 형성된 금형을 이용해서 투명 수지를 형성하는 방법을 이용해도 무방하다. It is also possible to use a method of forming a transparent resin by using a metal mold having a concavo-convex pattern having a degree of orientation of 0.3 or more on one surface.

광학 시트(210a)의 한 면의 면적에 대한 요철영역(212)의 면적비율은, 원하는 광확산성에 따라 다르지만, 30∼100%인 것이 바람직하다. 요철영역(212)의 면적비율이 30%이상이면, 충분한 광확산성을 발휘한다. The area ratio of the uneven region 212 to the area of one surface of the optical sheet 210a varies depending on the desired light diffusibility, but is preferably 30 to 100%. When the area ratio of the uneven region 212 is 30% or more, sufficient light diffusing properties are exhibited.

*광학 시트의 구성 재료* Components of optical sheets

광학 시트(210a)는 가시광의 투과율이 높은(구체적으로는, 가시광의 전 광선투과율이 85%이상) 투명수지로 이루어진다. The optical sheet 210a is made of a transparent resin having a high transmittance of visible light (specifically, a total light transmittance of visible light of 85% or more).

또, 광학 시트(10a)에는 내열성, 내광성을 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 해치지 않는 범위 내에서, 첨가제를 함유시킬 수 있다. 첨가제로는 광안정제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 윤활제, 광확산제 등이 사용될 수 있다. 그 중에서도 광안정제를 첨가하는 것이 바람직하고, 그 첨가량은 투명수지 100질량부에 대하여 0.03∼2.0질량부인 것이 바람직하다. 광안정제의 첨가량이 0.03질량부 이상이면, 그 첨가 효과를 충분히 발휘할 수 있지만, 2.0질량부를 넘으면, 과도한 양이 되어 불필요한 비용의 상승을 초래한다. In order to improve the heat resistance and light resistance, the optical sheet 10a may contain an additive within a range that does not impair optical properties such as light transmittance. As additives, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, light diffusers and the like can be used. Among them, it is preferable to add a light stabilizer, and the amount thereof is preferably 0.03 to 2.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the transparent resin. If the added amount of the light stabilizer is 0.03 parts by mass or more, the effect of the addition of the light stabilizer can be sufficiently exhibited. However, if the addition amount exceeds 2.0 parts by mass, an excessive amount of the light stabilizer results in an unnecessary increase in cost.

또, 광학 시트(210a)에는, 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학 특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 무기화합물로 이루어지는 무기광확산제, 유기 화합물로 이루어지는 유기광확산제를 함유시킬 수 있다. In order to further improve the light diffusion effect, the optical sheet 210a may be provided with an inorganic light diffuser made of an inorganic compound, an organic light diffusion made of an organic compound And the like.

무기광 확산제로는 실리카, 화이트 카본, 탈크, 산화 마그네슘, 산화 아연, 산화 티타늄, 탄산 칼슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 규산 칼슘, 규산 마그네슘, 규산 알루미늄, 규산 알루미늄화 나트륨, 규산아연, 유리, 마이카 등이 사용될 수 있다. Examples of inorganic light diffusing agents include silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, sodium aluminum silicate, Etc. may be used.

유기광확산제로는 스티렌계 중합입자, 아크릴계 중합입자, 실록산계 중합 입자, 폴리아미드계 중합입자 등이 사용될 수 있다. 이들의 광확산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용될 수 있다. As the organic light-diffusing agent, styrene-based polymerized particles, acrylic-based polymerized particles, siloxane-based polymerized particles, polyamide-based polymerized particles and the like can be used. These light-diffusing agents may be used alone or in combination of two or more.

또, 뛰어난 광산란 특성을 얻기 위해서, 이들의 광확산제는 페탈 또는 구정(spherocrystal) 형상 등의 다공질구조로 할 수도 있다. Further, in order to obtain excellent light scattering characteristics, these light diffusing agents may have a porous structure such as a petal or spherocrystal shape.

광확산제의 함유량은, 광투과성을 감소시키지 않기 위해, 투명수지 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하다. The content of the light diffusing agent is preferably 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the transparent resin, so as not to decrease the light transmittance.

또한, 광학 시트(210a)에는, 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 미세거품을 함유시킬 수 있다. 미세거품은 광의 흡수가 적어 광투과율을 저하시키기 않는다. Further, the optical sheet 210a may contain fine bubbles within a range that does not significantly impair the optical characteristics such as light transmittance for the purpose of further improving the light diffusion effect. The fine bubbles are less absorbed by light and do not lower the light transmittance.

미세거품의 형성 방법으로서는, 광학 시트(210a)에 발포제를 혼입하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 1993-212811호 공보, 일본 특허 공개공보 1994-107842호 공보에 공개된 방법)이나, 아크릴계 발포 수지를 발포 처리시켜 미세거품을 함유하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 2004-2812호 공보에 공개된 방법)등을 적용할 수 있다. 또한, 미세거품은 보다 균일한 면조사가 가능해지도록 특정한 위치에 불균일하게 발포시키는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 2006-124499호 공보에 공개된 방법)이 바람직하다. Examples of the method of forming the fine bubbles include a method of incorporating a foaming agent into the optical sheet 210a (for example, a method disclosed in JP-A-1993-212811 and a method disclosed in JP-A-1994-107842) (For example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-2812) or the like may be applied. The fine bubbles are preferably a method of non-uniform foaming at a specific position (for example, a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-124499) so as to enable more uniform surface irradiation.

한편, 상기 광확산제와 미세발포를 병용할 수도 있다. On the other hand, the above light diffusing agent and micro-foaming may be used together.

*광학 시트의 두께 * Thickness of optical sheet

광학 시트(10a)의 두께는 0.02∼3.0mm이 바람직하고, 0.05∼2.5mm이 보다 바람직하고, 0.1∼2.0mm이 특히 바람직하다. 광학 시트(10a)의 두께가 0.02mm미만이면, 요철 패턴(12a)의 깊이보다도 작을 수 있기 때문에 적당하지 않고, 3.0mm보다도 두꺼우면 광학 시트(10a)의 질량이 커지기 때문에 취급하기 어려워지는 문제점이 있다. The thickness of the optical sheet 10a is preferably 0.02 to 3.0 mm, more preferably 0.05 to 2.5 mm, and particularly preferably 0.1 to 2.0 mm. If the thickness of the optical sheet 10a is less than 0.02 mm, it is not suitable because it may be smaller than the depth of the concavo-convex pattern 12a. If the thickness of the optical sheet 10a is larger than 3.0 mm, have.

광학 시트(210a)는 2층 이상의 수지층으로 구성되어 있어도 무방하다. 광학 시트(10a)가 2층 이상의 층으로 구성되고 있는 경우도, 광학 시트(210a)의 두께는 0.02∼3.0mm인 것이 바람직하다. The optical sheet 210a may be composed of two or more resin layers. Even when the optical sheet 10a is composed of two or more layers, the thickness of the optical sheet 210a is preferably 0.02 to 3.0 mm.

*사용 방법*How to use

상기 광학 시트(210a)는 광확산 시트로서 이용될 수 있다. 구체적으로는, 광학 시트(210a)는 일단(α)에 광원(330)을 인접시켜 사용된다. 광학 시트(210a)의 일단(α)에 광원(330)을 배치시킴에 따라, 광학 시트(210a) 내부를 통해 광이 전파된다. 또, 광학 시트(210a) 안을 전파한 광은 요철영역(212)에서 확산되고, 요철영역(212)이 형성된 측의 면을 통해 출사한다. 게다가, 요철영역(212)은 일단(α)로부터 타단(β)을 향함에 따라 점차로 조밀해지는 패턴으로 배치되어 있기 때문에, 타단(β)을 향함에 따라서 광의 출사량이 많아진다. 일반적으로, 광학 시트(210a) 안을 전파하는 광의 강도는 광원(330)으로부터 멀어짐에 따라서 약해지지만, 타단(β)을 향함에 따라서 광의 출사량이 많아지므로, 광학 시트(210a)로부터 출사되는 광의 강도를 균일하게 할 수 있다. The optical sheet 210a can be used as a light diffusion sheet. Specifically, the optical sheet 210a is used so that the light source 330 is adjacent to one end?. By arranging the light source 330 at one end? Of the optical sheet 210a, light propagates through the inside of the optical sheet 210a. Light that has propagated in the optical sheet 210a is diffused in the concave-convex region 212 and exits through the face on the side where the concave-convex region 212 is formed. In addition, since the uneven region 212 is arranged in a gradually denser pattern from one end? To the other end?, The amount of light output increases toward the other end?. Generally, although the intensity of the light propagating in the optical sheet 210a becomes weaker as it moves away from the light source 330, the amount of light emitted increases toward the other end?, So that the intensity of light emitted from the optical sheet 210a is It can be made uniform.

광학 시트(120a)를 사용할 때는, 광원(330)으로부터의 광의 이용 효율을 높이기 위해서, 요철영역(212)을 갖지 않는 면에 반사판을 설치하는 것이 바람직하다. When the optical sheet 120a is used, it is preferable to provide a reflection plate on the surface having no uneven region 212 in order to increase the utilization efficiency of the light from the light source 330. [

이상 설명한 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)는 요철영역(212)의 표면에 형성된 요철 패턴(12a)에 의해 광확산성을 발휘한다. 또, 요철영역(212)을 광학 시트(210a)의 길이방향의 타단(β)측에서 갈수록 조밀해지는 패턴으로 배치하여 길이방향의 타단(β)측으로 갈수록 광확산성이 높아지도록 하고 있다. 이렇게, 광학 시트(210a)는 요철영역(212)사이의 간격에 의해 광확산성을 조정할 수 있기 때문에, 소망하는 위치에서 소망하는 광확산성을 용이하게 얻을 수 있다. The optical sheet 210a of the first embodiment described above exerts light diffusing property by the uneven pattern 12a formed on the surface of the uneven region 212. [ In addition, the uneven region 212 is arranged in a pattern becoming more and more dense at the other end (?) Side in the longitudinal direction of the optical sheet 210a, so that the light diffusing property becomes higher toward the other end (?) Side in the longitudinal direction. In this way, since the optical sheet 210a can adjust the light diffusion property by the interval between the uneven regions 212, the desired light diffusibility can be easily obtained at a desired position.

*제조 방법* Manufacturing method

광학 시트(210a)를 제조하는 방법의 예에 대해서 설명한다. An example of a method of manufacturing the optical sheet 210a will be described.

(제1 제조 방법) (First Manufacturing Method)

제1 제조 방법은 가열 수축성 필름을 이용하여 광학 시트(210a)를 제조하는 방법이다. The first manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 210a using a heat shrinkable film.

즉, 제1 제조 방법은 가열 수축성 필름의 한 면에, 표면이 평평한 수지제의 요철영역 형성용 돌부를 인쇄해서 인쇄 시트를 형성하는 공정(이하, 제1 공정이라고 한다)과, 가열 수축성 필름을 가열 수축시켜 인쇄 시트의 적어도 요철영역 형성용 돌부를 접듯이 변형시키는 공정(이하, 제2 공정이라고 한다)을 이용하여 광학 시트(210a)로 사용되는 요철 패턴 형성 시트를 제조하는 방법이다. That is, the first manufacturing method includes a step (hereinafter referred to as a first step) of printing a protruding area forming projection made of resin having a flat surface on one side of a heat shrinkable film to form a printed sheet, and a heat shrinkable film Forming sheet used as the optical sheet 210a by a process of heating and shrinking at least a step of deforming at least a convexo-concave region forming convex portion of the printed sheet like a fold (hereinafter referred to as a second process).

*제1 공정 * First step

제1 공정에서, 도 14 및 도 15에 나타낸 바와 같이, 가열 수축성 필름(13)의 한 면에 요철영역 형성용 돌부(14)를 인쇄하는 방법으로는, 예를 들면, 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 오프셋 인쇄, 잉크젯 인쇄 등이 적용될 수 있다. In the first step, as shown in Figs. 14 and 15, the method of printing the convex-and-concave region forming projection 14 on one surface of the heat shrinkable film 13 may be, for example, screen printing, gravure printing, Offset printing, inkjet printing, and the like can be applied.

가열 수축성 필름(13)으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 쉬링크 필름, 폴리스티렌계 쉬링크 필름, 폴리올레핀계 쉬링크 필름, 폴리에틸렌 염화 비닐계 쉬링크 필름 등이 사용될 수 있다. As the heat shrinkable film 13, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, a polyethylene vinyl chloride shrink film and the like can be used.

가열 수축성 필름(213)은 50∼70% 수축하는 것이 바람직하다. 50∼70% 수축하는 쉬링크 필름을 이용하면, 변형율을 50% 이상으로 할 수 있어서, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛~20㎛이고, 어스펙트비가 0.1 이상인 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있다. The heat shrinkable film 213 preferably shrinks by 50 to 70%. The strain rate can be set to 50% or more by using the shrink film which shrinks by 50 to 70%, and the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a is 1 占 퐉 to 20 占 퐉 and the aspect ratio is 0.1 Or more can be easily produced.

여기서, 변형율이라는 것은 "(변형전의 길이-변형후의 길이)/(변형전의 길이)×100 (%)" 또는, "(변형한 길이)/ (변형전의 길이)×100 (%)"이다. Here, the strain rate means "(length before deformation - length after deformation) / (length before deformation) × 100 (%)" or "(deformation length) / (length before deformation) × 100 (%)".

요철영역 형성용 돌부(214)는 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성하기 위하여 가열 수축성 필름(213)을 구성하는 수지(제1 수지)보다 10도 이상 높은 유리 전이 온도를 갖는 수지(제2 수지)로 구성한다. The protruding region forming projection portion 214 has a glass transition temperature of 10 degrees or more higher than that of the resin (first resin) constituting the heat shrinkable film 213 in order to easily form a meandering ridge-like pattern 12a Resin (second resin).

제2 수지로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜, 폴리스티렌, 아크릴수지, 스티렌-아크릴 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에테르설폰, 불소 수지 등이 사용될 수 있다. Examples of the second resin include polyvinyl alcohol, polystyrene, acrylic resin, styrene-acrylic copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, poly Ether sulfone, fluorine resin and the like can be used.

요철영역 형성용 돌부(214)의 표면은, 소망하는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있도록, JIS B0601에 기재된 중심선 평균 거칠기 0.1㎛ 이하로 한다. The surface of the projected portion formation projecting portion 214 is set to have a center line average roughness of not more than 0.1 mu m as described in JIS B0601 so as to easily form a desired uneven pattern 12a.

또, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께는 0.05∼5.0㎛으로 하는 것이 바람직하고, 0.1∼1.0㎛으로 하는 것이 보다 바람직하다. 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께가 상기 범위라면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. 그러나, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께를 0.05㎛ 미만으로 하면 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하가 될 수 있고, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께가 5.0㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수 있다. In addition, the thickness of the projected portion formation projecting portion 214 is preferably 0.05 to 5.0 占 퐉, more preferably 0.1 to 1.0 占 퐉. If the thickness of the protruding and recessed region forming protrusion 214 is within the above range, the most frequent pitch A of the protruding / recessed pattern 12a can be surely set to 1 to 20 占 퐉. However, when the thickness of the protruding region forming projection portion 214 is less than 0.05 占 퐉, the minimum pitch A can be 1 占 퐉 or less, and the thickness of the protruding region forming protruding portion 214 is 5.0 占 퐉 , The most frequent pitch A may exceed 20 占 퐉.

또한, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께는 일정하지 않아도 무방하다. 예를 들면, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께는 한 방향에 따라 연속적으로 두터워지거나, 얇아져도 무방하다. In addition, the thickness of the projecting and recessed region forming protrusion 214 may not be constant. For example, the thickness of the protruding region forming projection 214 may be continuously thickened or thinned in one direction.

또, 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있도록, 요철영역 형성용 돌부(214)의 영율(Young's modulus)을 0.01∼300GPa로 하는 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10GPa로 하는 것이 보다 바람직하다. The Young's modulus of the protruding / recessed region forming protrusion 214 is preferably 0.01 to 300 GPa, more preferably 0.1 to 10 GPa, in order to easily form the meandering wave- .

*제2 공정 * Second Step

제2 공정에서, 가열 수축성 필름(213)을 열수축 시킴에 따라, 요철영역 형성용 돌부(214)의 수축 방향에 대하여 수직한 방향으로 물결 형상의 요철 패턴(12a)를 형성시켜, 요철영역(212)을 얻는다(도 16참조). In the second step, the heat shrinkable film 213 is thermally contracted to form a wave-like concavo-convex pattern 12a in a direction perpendicular to the shrinking direction of the concave-convex region forming projection 214, ) (See Fig. 16).

가열 수축성 필름(2)을 가열 수축할 때의 가열 방법으로서는, 열풍, 증기 또는 열수 속을 통과시키는 방법 등이 있고, 그 중에서도, 균일에 수축하기 위하여 열수에 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method for heating and shrinking the heat shrinkable film 2, there is a method of passing hot air, steam or hot water, and among them, a method of passing hot water in order to shrink uniformly is preferable.

이 제조 방법에서는, 요철영역 형성용 돌부(214)의 두께가 얇고 요철영역형성용 돌부(214)의 영율(Young's modulus)이 낮을수록, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 작아지고, 가열 수축성 필름의 변형율이 높을수록, 평균 깊이(B)가 깊어진다.In this manufacturing method, the lower the Young's modulus of the projected portion formation projection portion 214 and the lower the Young's modulus of the projected portion formation projection portion 214, the more the most frequent pitch A of the projected and recessed pattern 12a, And the higher the deformation rate of the heat shrinkable film, the deeper the average depth B is.

상기 제1 제조 방법에서는, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도에서, 요철영역 형성용 돌부(214)의 영율(Young's modulus)이 가열 수축성 필름(213)의 영률보다 높아진다. 따라서, 제1 수지의 유리 전이 온도와 제2 수지의 유리 전이 온도의 사이의 온도로 가공했을 때, 요철영역 형성용 돌부(214)는 두께가 늘어나기보다는 접히게 된다. 게다가, 요철영역 형성용 돌부(214)는 가열 수축성 필름(213)에 적층 되어 있기 때문에, 가열 수축성 필름(213)의 수축에 의한 응력이 전체적으로 균일하게 분포된다. 따라서, 가열 수축성 필름(213)을 수축시켜서 요철 영역 형성용 돌부(214)를 접듯이 변형시킴으로써 요철영역(212)를 형성할 수 있다. 따라서, 상기 제조 방법에 의하면, 광학 시트(210a)로 사용되는 요철 패턴 형성 시트를 얻을 수 있다. In the first manufacturing method, the Young's modulus of the projected and recessed region forming projection portion 214 is set at a value between the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin, Young's modulus is higher. Therefore, when processed to a temperature between the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin, the projecting and recessed region forming protrusion 214 is folded rather than increased in thickness. In addition, since the protruding region forming projection portion 214 is laminated on the heat shrinkable film 213, the stress due to shrinkage of the heat shrinkable film 213 is uniformly distributed as a whole. Therefore, the uneven region 212 can be formed by shrinking the heat shrinkable film 213 and deforming the projecting and recessed region forming projection portion 214 as if it is folded. Thus, according to the above manufacturing method, a concavo-convex pattern forming sheet used as the optical sheet 210a can be obtained.

상기한 바와 같이 하여 얻은 요철 패턴 형성 시트는 그대로 광학 시트(210a)로서 이용될 수 있다. 그 경우, 가열 수축성 필름(213)과 요철영역형성용 돌부(214)에 의해 광학 시트(210a)가 형성된다. The uneven pattern-forming sheet obtained as described above can be directly used as the optical sheet 210a. In this case, the optical sheet 210a is formed by the heat shrinkable film 213 and the protruding / recessed region forming protrusion 214.

(제2 제조 방법) (Second Manufacturing Method)

제2 제조 방법은, 제1 제조 방법으로 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용하여 광학 시트(210a)를 제조하는 방법이다. The second manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 210a by using the concavo-convex pattern-forming sheet obtained by the first manufacturing method as a process sheet original plate.

공정 시트 원판은 낱장 형상이어도 무방하고, 연속한 시트 형상인 웹 형상이어도 무방하다. The original plate of the process sheet may be a single sheet or may be a continuous sheet-like web.

제2 제조 방법의 구체적인 방법으로서는, 예를 들면, 아래 (a)∼(c)의 방법을 들 수 있다. Specific examples of the second production method include the following methods (a) to (c).

(a)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에, 미경화의 전리 방사선 경화성 수지를 도포하는 공정과, 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 갖는 방법. 여기에서, 전리 방사선과는, 통상, 자외선 또는 전자선이지만, 본 발명에서는, 가시광선, X선, 이온 선 등도 포함한다. (a) a step of applying an uncured ionizing radiation curable resin to the surface of the process sheet original plate where the concavoconvex area is formed, and a step of irradiating ionizing radiation to cure the curable resin, and then the cured coating film is peeled from the process sheet original plate &Lt; / RTI > Here, the ionizing radiation is usually ultraviolet rays or electron rays, but the present invention includes visible rays, X rays, ion rays and the like.

(b)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에, 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정과, 가열하여 상기 액상 열경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (b) a step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the surface of the process sheet original plate where the concavoconvex area is formed, and a step of curing the liquid thermosetting resin by heating and then peeling the cured coating film from the process sheet original plate How to.

(c)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 시트 형상의 투명 열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 투명 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 압력을 가하면서 가열해서 연화시킨 후, 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 투명 열가소성 수지를 공정 시트 원판으로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (c) contacting the sheet-form transparent thermoplastic resin with the surface of the process sheet original plate on which the concave-convex areas are formed; heating the sheet-form transparent thermoplastic resin while applying pressure to the process sheet sheet to soften the sheet; And a step of peeling the cooled transparent thermoplastic resin from the process sheet original plate.

또, 공정 시트 원판을 이용해서 2차 공정용 형성물을 제작하고, 그 2차 공정용 형성물을 이용해서 광학 시트(10a)를 제조할 수도 있다. 2차 공정용 형성물을 이용하는 구체적인 방법으로, 아래 (d)∼(f)의 방법을 들 수 있다. Alternatively, the optical sheet 10a may be manufactured using the original sheet for the process sheet and the secondary-process sheet. Specific methods of using the secondary process formulations include the following methods (d) to (f).

(d)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 니켈 등의 금속 도금을 행하여 도금층을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 2차 공정용 형성물의 요철영역과 접하고 있는 측의 면에 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하는 공정과, 전리 방사선을 조사해서 상기 경화성 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (d) a step of laminating a plating layer by performing metal plating such as nickel on the surface of the process sheet original plate where the concavo-convex area is formed, and peeling the plating layer from the process sheet original plate to manufacture a metal secondary- A step of applying an uncured ionizing radiation curable resin to the side of the formation for secondary processing which is in contact with the unevenness area, a step of irradiating ionizing radiation to cure the curable resin, And peeling off from the water.

(e)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 도금층을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철영역과 접하고 있는 측의 면에 미경화의 액상 열경화성 수지를 도포하는 공정과, 가열에 의해 상기 수지를 경화시킨 후, 경화한 도막을 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (e) a step of laminating a plating layer on a surface of the process sheet original plate on which the concavoconvex area is formed, a step of peeling the plating layer from the process sheet original plate to produce a metal secondary product formation, A step of applying an uncured liquid thermosetting resin to a side of the substrate contacting with the uneven region; and a step of curing the resin by heating and then peeling the cured coating film from the formation for secondary processing.

(f)공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 도금층을 적층하는 공정과, 그 도금층을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 금속제의 2차 공정용 형성물을 제작하는 공정과, 상기 2차 공정용 형성물의 요철영역으로 접하고 있는 측의 면에 시트 형상의 투명열가소성 수지를 접촉시키는 공정과, 상기 시트 형상의 투명열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 압력을 가하면서 가열해서 연화시킨 후, 냉각하는 공정과, 그 냉각한 시트 형상의 투명열가소성 수지를 2차 공정용 형성물로부터 박리하는 공정을 구비하는 방법. (f) a step of laminating a plating layer on a surface of the process sheet on which the concavoconvex area is formed, a step of peeling the plating layer from the original plate of the process sheet to fabricate a metal secondary product formation, A step of bringing the sheet-shaped transparent thermoplastic resin into contact with the surface on the side in contact with the convexo-concave region, the step of softening the sheet-shaped transparent thermoplastic resin by heating while applying pressure to the formed product for the second- And a step of peeling the cooled transparent thermoplastic resin from the formation for secondary processing.

상기 (a)의 방법의 구체적인 예에 대해서 설명한다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 우선, 웹 형상의 공정 시트 원판(110)의 요철영역(112a)이 형성된 면에 코터(120)에 의해 미경화의 액상전리 방사선 경화성 수지(112c)를 도포한다. 그 다음에, 상기 경화성 수지를 도포한 공정 시트 원판(110)을 롤(130)을 이용하여 가압하여 상기 경화성 수지를 공정 시트 원판(110)의 요철영역(112a) 내부에 충전한다. 그 후, 전리 방사선조사 장치(140)에 의해 전리 방사선을 조사하고, 경화성 수지를 가교·경화시킨다. 그리고, 경화 후의 전리 방사선경화성 수지를 공정 시트 원판 (110)으로부터 박리시킴으로써 웹 형상의 광학 시트(210a)를 제조할 수 있다. A concrete example of the method (a) will be described. 8, an uncured liquid ionizing radiation curable resin 112c is applied by a coater 120 to the surface of the web-shaped process sheet original plate 110 where the unevenness area 112a is formed. Then, the raw sheet 110 of the process sheet coated with the curable resin is pressed using a roll 130 to fill the cured resin into the uneven region 112a of the original sheet 110 of the process sheet. Thereafter, ionizing radiation is irradiated by the ionizing radiation apparatus 140, and the curing resin is crosslinked and cured. The web-shaped optical sheet 210a can be manufactured by peeling the ionizing radiation curable resin after curing from the process sheet original plate 110. [

상기 (a)의 방법에 있어서, 공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에는 이형성(mold releasability)을 부여할 목적으로, 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하기 전에, 실리콘 수지, 불소 수지 등으로 이루어지는 층을 1∼10nm 정도의 두께로 마련해도 무방하다. In the method (a), before applying an ionizing radiation-curable resin to the surface of the original plate of the process sheet for the purpose of imparting mold releasability to the surface on which the concavoconvex area is formed, a silicone resin, Layer may be provided with a thickness of about 1 to 10 nm.

공정 시트 원판의 요철영역이 형성된 면에 미경화의 전리 방사선경화성 수지를 도포하는 코터로는 T다이 코터, 롤 코터, 바 코터 등이 사용될 수 있다. A T-die coater, a roll coater, a bar coater, or the like can be used as the coater for applying the uncured ionizing radiation curable resin to the surface of the process sheet original plate on which the concavoconvex area is formed.

미경화의 전리 방사선경화성 수지로는 에폭시 아크릴레이트, 에폭시화 오일 아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스텔아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 비닐/아크릴레이트, 폴리엔/아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트, 폴리에틸렌 부타디엔, 폴리스티릴메틸메타크릴레이트등의 프레폴리머, 지방족아크릴레이트, 지환식아크릴레이트, 방향족아크릴레이트, 수산기함유아크릴레이트, 알릴기함유아크릴레이트, 글리시딜기함유아크릴레이트, 카르복시기함유아크릴레이트, 할로겐함유아크릴레이트등의 모노머 중에서 선택되는 1종류 이상의 성분을 함유하는 것이 사용될 수 있다. 미경화의 전리 방사선경화성 수지는 용매 등으로 희석하는 것이 바람직하다. Examples of the uncured ionizing radiation curable resin include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, Acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxyl group-containing acrylate, acrylate group-containing acrylate, Acrylate, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, and halogen-containing acrylate may be used. The uncured ionizing radiation curable resin is preferably diluted with a solvent or the like.

또, 미경화의 전리 방사선경화성 수지에는 불소 수지, 실리콘 수지 등을 첨가해도 무방하다. In addition, fluorine resin, silicone resin and the like may be added to the uncured ionizing radiation curable resin.

미경화의 전리 방사선경화성 수지를 자외선에 의해 경화할 경우, 미경화의 전리 방사선경화성 수지에 아세트페논류, 벤조페논류 등의 광중합 개시제를 첨가하는 것이 바람직하다. When the uncured ionizing radiation curable resin is cured by ultraviolet rays, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones or benzophenones to the uncured ionizing radiation curable resin.

상기 (d)의 구체적인 방법은, 상기 (a)의 방법에 있어서의 공정 시트 원판을 상기 공정 시트 원판을 이용해서 제작한 2차 공정용 형성물로 변경한 것 이외에는 상기(a)의 방법과 같다. The specific method of (d) is the same as the method of (a) above, except that the original plate of the process sheet in the method of (a) is changed to the form of the secondary process produced by using the process sheet original plate .

또, 상기 (b)의 방법에 있어서의 경화 온도는 공정 시트 원판 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 경화 온도가 공정 시트 원판 유리 전이 온도 이상이면, 경화시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 우려가 있기 때문이다. It is preferable that the curing temperature in the method (b) is lower than the original sheet glass transition temperature of the process sheet. If the curing temperature is equal to or higher than the original glass transition temperature of the process sheet, there is a fear that the uneven pattern of the process sheet original plate may be deformed at the time of curing.

상기 (c) 및 (f)의 방법에 있어서의 투명 열가소성 수지로는 예를 들면, 스티렌-메틸메타크릴레이트 공중합체(MS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스티렌(PS), 시클로올레핀폴리머(COP), 폴리카보네이트(PC), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), PET-G, 폴리에테르설폰(PES), 폴리에틸렌 염화 비닐(PVC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등의 수지가 사용될 수 있다. 이들 중에서도, 형성 가공의 관점에서는, MS, PMMA, PS, COP, PC가 바람직하고, 흡습성 및 비용의 관점에서는, MS 가운데 스티렌 함유율이 30∼90질량%인 것이 더욱 바람직하다. Examples of the transparent thermoplastic resin in the above methods (c) and (f) include styrene-methyl methacrylate copolymer (MS), polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene (PS) (PET), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene terephthalate (PET), and the like, such as polyethylene terephthalate (PET), polymer (COP), polycarbonate (PC), polypropylene Resins can be used. Among them, MS, PMMA, PS, COP and PC are preferable from the viewpoint of the formation processing, and it is more preferable that the content ratio of styrene in MS is 30 to 90 mass% from the viewpoint of hygroscopicity and cost.

이들의 투명 열가소성 수지는 단층 혹은 다층구조를 가질 수도 있다. 예를 들면, PS층의 양면에 PMMA층을 마련한 3층 구조의 투명 열가소성 수지 등이 사용될 수 있다. These transparent thermoplastic resins may have a single layer or a multilayer structure. For example, a transparent thermoplastic resin having a three-layer structure in which a PMMA layer is provided on both sides of the PS layer can be used.

게다가, 상기 투명열가소성 수지의 표면에 고굴절률의 수지를 설치한 것을 사용할 수도 있다. 고굴절률의 수지로는, 예를 들면, 플루오렌계 에폭시 화합물, 플루오렌계 아크릴레이트화합물, 플루오렌계 폴리에스테르(OKP), 폴리메틸페닐실란(PMPS), 폴리디페닐실란(PDPS)등이 사용될 수 있다. In addition, a resin having a high refractive index resin provided on the surface of the transparent thermoplastic resin may be used. Examples of the resin having a high refractive index include a fluorene type epoxy compound, a fluorene type acrylate compound, a fluorene type polyester (OKP), polymethylphenylsilane (PMPS), polydiphenylsilane (PDPS) .

상기 (c)의 방법에 있어서의 시트 형상의 열가소성 수지를 공정 시트 원판에 가압할 때의 압력 및 상기 (f)의 방법에 있어서의 시트 형상의 열가소성 수지를 2차 공정용 형성물에 가압할 때의 압력은 1∼100MPa인 것이 바람직하다. 가압시의 압력이 1MPa 이상이면, 요철 패턴을 높은 정밀도로 전사시킬 수 있고, 100MPa 이하면 과도한 가압을 막을 수 있다. When the pressure at the time of pressing the sheet-shaped thermoplastic resin in the method (c) to the original plate of the process sheet and the sheet-like thermoplastic resin in the method (f) are pressed to the formation for secondary processing Is preferably 1 to 100 MPa. If the pressure at the time of pressurization is 1 MPa or more, the concavo-convex pattern can be transferred with high accuracy, and if the pressure is 100 MPa or less, excessive pressurization can be prevented.

또, 상기 (c)의 방법에 있어서의 열가소성 수지의 가열 온도는 공정 시트 원판 유리 전이 온도보다 낮은 것이 바람직하다. 가열 온도가 공정 시트 원판 유리 전이 온도 이상이면, 가열시에 공정 시트 원판의 요철 패턴이 변형될 우려가 있기 때문이다. It is preferable that the heating temperature of the thermoplastic resin in the method (c) is lower than the original sheet glass transition temperature of the process sheet. If the heating temperature is higher than the original sheet glass transition temperature of the process sheet, there is a possibility that the uneven pattern of the process sheet original plate may be deformed upon heating.

가열 후의 냉각 온도는, 요철 패턴을 높은 정밀도로 전사 할 수 있도록, 열가소성 수지의 유리 전이 온도 미만인 것이 바람직하다. The cooling temperature after heating is preferably lower than the glass transition temperature of the thermoplastic resin so that the concavo-convex pattern can be transferred with high accuracy.

(제3 제조 방법) (Third Manufacturing Method)

제3 제조 방법은 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 수지제의 층 표면에 설치된 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용하여 광학 시트(210a)를 제조하는 방법이다. The third manufacturing method is a method of manufacturing an optical sheet 210a using a concavo-convex pattern-forming sheet provided with a concavo-convex area of a metal or metal compound on the resin layer surface as a process sheet original plate.

금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트는 수지제의 요철영역 형성용 돌부를 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역 형성용 돌부로 바꾸고, 요철영역 형성용 돌부를 인쇄 대신 증착에 의해 형성하는 것을 제외하면 제3 제조방법은 제1 제조 방법과 동일하다. The concavo-convex pattern-forming sheet provided with the convexo-concave region of the metallic or metallic compound material is obtained by replacing the convexo-concave region for convexo-concave region for convexo-concave region with the convexo-concave region for convexo-concave region, The third manufacturing method is the same as the first manufacturing method.

즉, 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법은 가열 수축성 필름의 한 면에 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부를 진공 증착해서 증착 시트를 형성하는 공정과, 가열 수축성 필름을 가열 수축시켜 적어도 증착 시트의 요철영역형성용 돌부를 접듯이 변형시키는 공정을 구비하는 방법이다. That is, a method of manufacturing a concavo-convex pattern-forming sheet provided with a concavo-convex region made of a metal or a metal compound includes the steps of forming a vapor-deposited sheet by vacuum depositing a convexo-concave region- And heat-shrinking the heat shrinkable film to deform at least the convex-and-concave-region forming projection portion of the evaporation sheet as if it were folded.

이 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에서는, 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부의 영율(Young's modulus)이 가열 수축성 필름의 영율(Young's modulus)보다 현격히 크기 때문에, 열압축했을 때에 두께가 늘어나기보다는 접히게 된다. 그 결과, 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트를 얻을 수 있다. 한편, 이 요철 패턴 형성 시트의 요철영역은 광학 시트(210a)의 요철영역과 같다. In the method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet, the Young's modulus of the convexo-concave region for forming the metal or metal compound is significantly larger than the Young's modulus of the heat shrinkable film, . As a result, a concavo-convex pattern-forming sheet provided with a concave-convex region can be obtained. On the other hand, the uneven area of the uneven pattern forming sheet is the same as the uneven area of the optical sheet 210a.

제3 제조 방법에 있어서의 요철영역형성용 돌부를 구성하는 금속으로는, 보다 용이하게 요철 패턴(12a)가 형성하기 위하여, 금, 알루미늄, 은, 탄소, 구리, 게르마늄, 인듐, 마그네슘, 니오브, 팔라듐, 납, 백금, 실리콘, 주석, 티타늄, 바나듐, 아연, 비스무트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속인 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 금속은 반금속도 포함한다. As the metal constituting the projecting and recessed region forming protrusion in the third manufacturing method, gold, aluminum, silver, carbon, copper, germanium, indium, magnesium, niobium, It is preferably at least one metal selected from the group consisting of palladium, lead, platinum, silicon, tin, titanium, vanadium, zinc and bismuth. The metals referred to herein also include semimetals.

금속화합물로서는, 동일한 이유로, 산화 티타늄, 산화 알루미늄, 산화 아연, 산화 마그네슘, 산화 주석, 산화 구리, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 납, 산화 규소, 불화 바륨, 불화 칼슘, 불화 마그네슘, 유화 아연, 갈륨 비소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속화합물인 것이 바람직하다. As the metal compound, for the same reason, it is preferable to use a metal compound such as titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide, tin oxide, copper oxide, indium oxide, cadmium oxide, lead oxide, silicon oxide, barium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, And at least one kind of metal compound selected from the group consisting of arsenic.

요철영역형성용 돌부의 표면은, 소망하는 요철 패턴(12a)을 용이하게 형성할 수 있도록 하기 위하여, JIS B0601에 기재된 중심선 평균 거칠기를 0.1㎛ 이하로 한다. In order to easily form the desired concavity and convexity pattern 12a, the surface of the convexo-concave-convex portion has a centerline average roughness of not more than 0.1 mu m as described in JIS B0601.

금속제 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부의 두께는 0.01∼0.2㎛으로 하는 것이 바람직하고, 0.05∼0.1㎛으로 하는 것이 보다 바람직하다. 요철영역형성용 돌부의 두께가 상기 범위라면, 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)를 확실하게 1㎛~20㎛로 할 수 있다. 그러나, 요철영역형성용 돌부의 두께를 0.01㎛미만으로 하면 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛이하가 될 수 있고, 0.2㎛을 넘으면, 최빈(最頻) 피치(A)가 20㎛을 넘을 수 있다. The thickness of the convexo-concave region-forming protrusions made of metal or metal compound is preferably 0.01 to 0.2 mu m, more preferably 0.05 to 0.1 mu m. If the thickness of the protruding and recessed region forming protrusion is within the above range, the most frequent pitch A of the protruding / recessed pattern 12a can be surely set to 1 to 20 占 퐉. However, when the thickness of the projections and depressions forming protrusions is less than 0.01 mu m, the most frequent pitch A can be 1 mu m or less, and when the thickness exceeds 0.2 mu m, the most frequent pitch A is 20 mu m .

게다가, 요철영역형성용 돌부의 두께는 일정하지 않아도 무방하며, 예를 들면, 한방향에 따라 연속적으로 두터워지거나, 얇아져도 무방하다. In addition, the thickness of the projections and depressions for forming the recesses may not be constant, and may be continuously thickened or thinned in one direction, for example.

가열 수축성 필름에 금속 또는 금속화합물제의 요철영역형성용 돌부를 증착할 때는, 가열 수축성 필름의 표면에 형성하려고 하는 요철영역형성용 돌부와 같은 패턴으로 개구한 마스크를 탑재해 둔다. When depositing a convexo-concave region for convexo-concave region made of a metal or a metal compound on a heat shrinkable film, a mask having an opening similar to a convexo-concave region for forming a convexo-concave region to be formed on the surface of the heat shrinkable film is mounted.

가열 수축성 필름을 가열 수축시킬 때의 가열 방법으로서는 열풍, 증기 또는 열수 속을 통과시키는 방법 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 균일하게 수축시키기 위하여, 열수 속을 통과시키는 방법이 바람직하다. As a heating method for heating and shrinking the heat shrinkable film, a method of passing hot air, steam, or hot water is exemplified. Among them, a method of passing hot water through is preferred in order to shrink uniformly.

제3 제조 방법의 구체적인 방법으로서는, 제2 제조 방법의 (a)∼(f)의 방법에 있어서, 공정 시트 원판으로 이용되는 제2 수지제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트를 대신하여, 금속제 또는 금속화합물제의 요철영역이 설치된 요철 패턴 형성 시트를 이용하는 방법을 들 수 있다. As a concrete method of the third production method, in the method (a) to (f) of the second production method, instead of the concavo-convex pattern formation sheet provided with the convexo-concave region of the second resin used as the process sheet original plate, Or a concavo-convex pattern-forming sheet provided with a concavo-convex region of a metal compound is used.

(제4 제조 방법) (Fourth Manufacturing Method)

제4 제조 방법은 금형과 상기 금형을 가열 냉각하는 가열 냉각 수단과 상기 금형을 가압하는 가압 수단을 구비하는 형성 장치를 이용하여, 미형성의 투명열가소성 수지로 광학 시트(10a)를 제조하는 방법이다. 제4 제조 방법으로 사용하는 투명열가소성 수지로서는, 제2 제조 방법으로 이용한 것과 같은 것을 들 수 있다. The fourth manufacturing method is a method of manufacturing the optical sheet 10a with a transparent thermoplastic resin that is not formed using a forming apparatus having a heating and cooling means for heating and cooling the mold and the mold and a pressing means for pressing the mold . Examples of the transparent thermoplastic resin used in the fourth production method include those used in the second production method.

구체적으로, 제4 제조 방법에서는 우선, 투명열가소성 수지의 펠렛 또는 분체를 금형 내에 충전하고, 가열 냉각 수단에 의해 금형을 가열함과 동시에 가압 수단에 의해 금형 안을 가압한다. 그 다음에, 가열 냉각 수단에 의해 금형 안을 냉각하고, 그 후, 가압을 정지하여 광학 시트(210a)를 얻는다. Specifically, in the fourth manufacturing method, pellets or powder of a transparent thermoplastic resin is first charged into a mold, the mold is heated by a heating and cooling means, and the mold is pressed by a pressurizing means. Then, the inside of the mold is cooled by the heating and cooling means, and then the pressurization is stopped to obtain the optical sheet 210a.

이 제조 방법에서, 금형으로는 광학 시트(210a)의 출사면에 접하는 면에 사행하는 물결 형상의 요철 패턴을 형성된 것을 이용한다. 예를 들면, 금형으로는 제1∼제3 제조 방법의 요철 패턴 형성 시트를 한 면에 부착한 것, 레이저 조사 등에 의해 한 면에 사행하는 물결 형상의 요철 패턴을 형성한 것 등이 이용될 수 있다. In this manufacturing method, as the mold, a wavy concavo-convex pattern formed in a shape of a meandering line is formed on a surface in contact with the exit surface of the optical sheet 210a. For example, as the molds, the concavo-convex pattern-forming sheet of the first to third manufacturing methods may be attached to one surface, or a wave-like concavo-convex pattern formed on one surface by laser irradiation may be used have.

제4 제조 방법에서의 형성 방법으로서는, 예를 들면, 프레스 형성법, 사출 성형법 등이 적용될 수 있다. As a forming method in the fourth manufacturing method, for example, a press forming method, an injection molding method, or the like can be applied.

상술한 제1∼제4 제조 방법에 의해 얻은 광학 시트(210a)는 그대로 이용해도 무방하고, 투명수지제 또는 유리제의 보강용 기판에 접착제를 통해서 서로 붙여서 이용하여도 무방하다. The optical sheets 210a obtained by the above-described first to fourth manufacturing methods may be used as they are, and they may be used by adhering them to a reinforcing substrate made of transparent resin or glass with an adhesive.

이상 설명한 광학 시트(210a)의 제조 방법에서는, 평탄한 한 면에 요철영역(212)을 광학 시트(210a)의 길이방향의 타단(β)측으로 갈수록 조밀해지는 패턴으로 형성하는 것이 용이하다. 따라서, 길이방향의 타단(β)측으로 갈수록 광확산성이 높은 광학 시트(210a)를 용이하게 얻을 수 있다. In the above-described manufacturing method of the optical sheet 210a, it is easy to form the concavoconvex area 212 on a flat surface in a pattern becoming denser toward the other end (beta) side in the longitudinal direction of the optical sheet 210a. Therefore, the optical sheet 210a having high light diffusibility can be easily obtained toward the other end (beta) side in the longitudinal direction.

5-2. 제2 실시 형태 5-2. Second Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. A second embodiment of the optical sheet of the present invention will be described.

도 17은 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 17에 있어서도, 설명을 용이하게 하기 위해서, 요철영역(215)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 17 shows the optical sheet of this embodiment. On the other hand, also in Fig. 17, in order to facilitate the explanation, the uneven region 215 is enlarged, and at the same time, its arrangement is sparsely shown.

본 실시 형태의 광학 시트(210b)는 길이방향의 일단(α)에 인접하게 광원(330)을 배치시키는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것으로서, 평탄한 한 면(211)에, 광학 시트(210b)의 폭 방향을 따라 형성된 띠 형상의 요철영역(215)이 광학 시트(210b)의 길이방향의 일단(α)으로부터 타단(β)을 갈수록 점차로 조밀해지는 패턴으로 분산되어서 배치되어 있다. The optical sheet 210b of this embodiment can be used as a light diffusing sheet for arranging the light source 330 adjacent to one end? Of the longitudinal direction. The optical sheet 210b has a flat surface 211, Like uneven regions 215 formed along the width direction are dispersed and arranged in a pattern that gradually becomes closer to the other end? From one end? Of the optical sheet 210b in the longitudinal direction.

이렇게 요철영역(215)을 배치함으로써, 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)와 동일한 방식으로, 광학 시트(210b)의 타단(β)측으로 갈수록 광확산성을 높게 할 수 있다. By arranging the uneven region 215 in this way, the light diffusing property can be increased toward the other end (beta) side of the optical sheet 210b in the same manner as the optical sheet 210a of the first embodiment.

제2 실시 형태의 요철영역(215)의 요철 패턴은 제1 실시 형태의 요철영역 (12)의 요철 패턴(12a)과 동일하다. 광학 시트(210b)의 한 면의 면적에 대한 요철영역 (215)의 면적 비율도 제1 실시 형태에서의 면적비율과 같다. The concave-convex pattern of the concave-convex area 215 of the second embodiment is the same as the concave-convex pattern 12a of the concave-convex area 12 of the first embodiment. The area ratio of the uneven area 215 to the area of one surface of the optical sheet 210b is also equal to the area ratio in the first embodiment.

제2의 실시 형태의 광학 시트(210b)는 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)의 제조 방법과 같은 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. The optical sheet 210b of the second embodiment can be manufactured by the same manufacturing method as that of the optical sheet 210a of the first embodiment.

5-3. 제3 실시 형태 5-3. Third Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제3 실시 형태에 대해서 설명한다. A third embodiment of the optical sheet of the present invention will be described.

도 18은 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 18에 있어서도, 설명을 쉽게 하기 위해서, 요철영역(216)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 18 shows the optical sheet of this embodiment. On the other hand, also in Fig. 18, for the sake of easy explanation, the uneven region 216 is enlarged and at the same time, its arrangement is sparsely shown.

본 실시 형태의 광학 시트(210c)는 길이방향의 일단(α)에 인접하게 광원(330)을 배치시키는 광확산 시트로 이용할 수 있는 것으로서, 평탄한 한 면(211)에 광학 시트(210c)의 길이방향에 따른 띠 형상의 부분(216a)과 폭방향에 따른 띠 형상의 부분 (16b)로 구성된 망 형상의 요철영역(216)이 분산되어 배치된다. 요철영역(216) 중, 광학 시트(210c)의 폭방향에 따른 부분(216b)은 광학 시트(210c)의 길이방향의 일단(α)로부터 타단(β)을 향함에 따라 점차로 조밀하게 배치된다. The optical sheet 210c of the present embodiment can be used as a light diffusion sheet for arranging the light source 330 adjacent to one end? Of the longitudinal direction. The optical sheet 210c has a flat surface 211, Like concavo-convex region 216 composed of a strip-shaped portion 216a along the direction and a strip-shaped portion 16b along the width direction are dispersed and disposed. The portion 216b along the width direction of the optical sheet 210c out of the concave and convex regions 216 is gradually and densely arranged from one end a in the longitudinal direction of the optical sheet 210c toward the other end.

제3 실시 형태의 요철영역(216)의 요철 패턴은 제1 실시 형태의 요철영역 (212)의 요철 패턴(12a)과 같다. 광학 시트(210c)의 한 면의 면적에 대한 요철영역 (216)의 면적 비율도 제1 실시 형태에서의 면적 비율과 같다. The concavo-convex pattern of the concavo-convex area 216 of the third embodiment is the same as the concavo-convex pattern 12a of the concavo-convex area 212 of the first embodiment. The area ratio of the uneven area 216 to the area of one surface of the optical sheet 210c is also equal to the area ratio in the first embodiment.

제3 실시 형태의 광학 시트(210c)는 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)의 제조 방법과 같은 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. The optical sheet 210c of the third embodiment can be manufactured by the same manufacturing method as the optical sheet 210a of the first embodiment.

5-4. 제4 실시 형태 5-4. Fourth Embodiment

본 발명의 광학 시트의 제4 실시 형태에 대해서 설명한다. A fourth embodiment of the optical sheet of the present invention will be described.

도 19는 본 실시 형태의 광학 시트를 나타낸다. 한편, 도 19에 있어서도, 설명을 쉽게 하기 위해서, 요철영역(217)을 확대하고, 동시에, 그 배치를 드문드문하게 나타내고 있다. 19 shows an optical sheet of this embodiment. On the other hand, also in Fig. 19, for the sake of easy explanation, the uneven region 217 is enlarged and its arrangement is sparsely shown.

본 실시 형태의 광학 시트(210d)는 요철영역(217)이 형성되어 있지 않은 측의 면(C)에 선 형상의 광원(330)이 배치되는 광확산 시트로서 이용될 수 있다. 또, 이 광학 시트(210d)에는, 평탄한 한 면(211)에는, 광원(330)에 가까울 수록 조밀해지도록 타원형상의 요철영역(217)이 분산되어서 배치된다. The optical sheet 210d of the present embodiment can be used as a light diffusion sheet in which a linear light source 330 is disposed on a surface C on the side where the uneven region 217 is not formed. In this optical sheet 210d, elliptical concave-convex areas 217 are dispersed and disposed on the flat surface 211 so as to be closer to the light source 330. [

본 실시 형태에서는, 광원(330)으로부터의 광이 광학 시트(210d)에 불균일하게 입사하지만, 요철영역(217)이 강한 광이 도달하는 부분일수록 조밀하게 배치되어 있기 때문에, 광을 확산시키면서 출사시킬 수 있다. 그 때문에, 광학 시트(210d)로부터 출사하는 광의 강도를 균일하게 할 수 있다. In this embodiment, the light from the light source 330 is unevenly incident on the optical sheet 210d, but the uneven region 217 is arranged more densely as the portion where strong light arrives. Therefore, . Therefore, the intensity of light emitted from the optical sheet 210d can be made uniform.

제4 실시 형태의 요철영역(217)의 요철 패턴은 제1 실시 형태의 요철영역 (212)의 요철 패턴(12a)과 같다. 광학 시트(210d)의 한 면의 면적에 대한 요철영역 (217)의 면적 비율도 제1 실시 형태에서의 면적 비율과 같다. The concavo-convex pattern of the concavo-convex area 217 of the fourth embodiment is the same as the concavo-convex pattern 12a of the concavo-convex area 212 of the first embodiment. The area ratio of the uneven area 217 to the area of one surface of the optical sheet 210d is also equal to the area ratio in the first embodiment.

제4 실시 형태의 광학 시트(210d)는 제1 실시 형태의 광학 시트(210a)의 제조 방법과 같은 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. The optical sheet 210d of the fourth embodiment can be manufactured by the same manufacturing method as that of the optical sheet 210a of the first embodiment.

5-5. 기타의 실시 형태 5-5. Other Embodiments

또한, 본 발명의 광학 시트는, 상술한 실시 형태의 것에 한정되지 않는다. Further, the optical sheet of the present invention is not limited to the above-described embodiments.

예를 들면, 상술한 제1 실시 형태, 제4 실시 형태에 있어서, 요철영역의 외형이 타원형상이었지만, 원형상, 구형상 등이어도 무방하다. For example, in the first and fourth embodiments described above, the outer shape of the uneven region is an elliptical shape, but it may be circular, spherical, or the like.

또, 본 발명의 광학 시트에 있어서, 요철영역은 랜덤으로 형성되어 있어도 무방하다. In the optical sheet of the present invention, the uneven areas may be randomly formed.

또, 요철영역의 요철 패턴은 사행하고 있지 않아도 무방하고, 직선 형상으로 형성되어도 무방하다. In addition, the concavo-convex pattern of the concavo-convex area need not be meandering, and may be formed in a linear shape.

또, 요철영역은 광학 시트의 양면에 형성되어도 무방하다. The uneven region may be formed on both sides of the optical sheet.

또, 광학 시트는 보강용 기판에 의해 보강되어도 무방하다. Further, the optical sheet may be reinforced by the reinforcing substrate.

6. 확산 도광체 6. The diffusion light guide

본 발명의 확산 도광체의 일실시 형태에 대해서 설명한다. One embodiment of the diffusion light guide of the present invention will be described.

도 1은 본 실시 형태의 확산 도광체를 나타낸다. 본 실시 형태의 확산 도광체(10)는 사행하는 물결 형상의 요철 패턴(12a)이 한 방향의 면에 형성된 투명수지층(11)으로 이루어진 것이다. 본 실시 형태에 있어서의 투명수지층(11)의 다른 쪽의 면(이면)은 요철 패턴이 형성되어 있지 않은 편평한 면이다. Fig. 1 shows a diffusing light guide of the present embodiment. The diffusion light guide 10 of the present embodiment is made up of a transparent resin layer 11 in which a meandering ridge-like concavo-convex pattern 12a is formed on one directional face. The other surface (back surface) of the transparent resin layer 11 in the present embodiment is a flat surface on which no concavo-convex pattern is formed.

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)는 1㎛~20㎛, 바람직하게는 1㎛~10㎛이다. 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛미만이면, 가시광의 파장 이하가 되어 가시광이 요철에서 굴절하지 않고 광이 투과해버리고, 20㎛을 넘으면, 확산의 이방성이 낮아져 휘도에 얼룩이 생기기 쉬워진다. The most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a is 1 占 퐉 to 20 占 퐉, preferably 1 占 퐉 to 10 占 퐉. If the pitch A is less than 1 占 퐉, the wavelength of visible light becomes smaller than that of visible light, so that visible light is not refracted by unevenness, and light is transmitted. When the thickness exceeds 20 占 퐉, the anisotropy of diffusion is lowered, .

요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)에 대한 요철의 평균 깊이(B)의 비(B/A, 이하, 어스펙트비라고 한다)는 0.1∼3.0이다. 어스펙트비가 0.1미만이면, 확산의 이방성이 낮아져 휘도에 얼룩이 생기기 쉬워진다. 한편, 어스펙트비가 3.0보다 커지면, 확산 도광체(10)의 제조에서 요철 패턴(12a)을 형성하는 것이 어려워진다. The ratio (B / A, hereinafter referred to as aspect ratio) of the average depth B of the concavities and convexities to the most frequent pitch A of the concavo-convex pattern 12a is 0.1 to 3.0. If the aspect ratio is less than 0.1, the anisotropy of diffusion is lowered and the luminance tends to be uneven. On the other hand, if the aspect ratio is larger than 3.0, it becomes difficult to form the relief pattern 12a in the production of the diffusion light guide body 10.

여기에서, 평균 깊이(B)라는 것은 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이이다. 또, 바닥부(12b)라는 것은 요철 패턴(12a)의 요부의 극소값이며, 평균 깊이(B)는 확산 도광체(10)를 길이 방향에 따라 절단한 단면(도 2참조)을 보았을 때, 확산 도광체(10) 전체의 면방향과 평행한 기준선(L1)로부터 각 돌부의 정부까지의 길이(B1, B2, B3...)의 평균치(BAV)와, 기준선(L1)로부터 각 요부의 바닥부까지의 길이(b1, b2, b3...)의 평균치(bAV)와의 차(bAV-BAV)이다. Here, the average depth (B) is an average depth of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a. The bottom portion 12b is a minimum value of the concave portion of the concavity and convexity pattern 12a and the average depth B is a width of the diffused light guide body 10 when the cross section (see FIG. 2) The average value BAV of the lengths B1, B2, B3 ... extending from the reference line L1 parallel to the plane direction of the entire light guide body 10 to the respective corners of the light guide body 10, (BAV-BAV) of the lengths (b1, b2, b3 ...) of the lengths up to the first and second portions.

평균 깊이(B)를 측정하는 방법으로서는, 원자력 현미경에 의해 촬영한 요철 패턴(12a)의 단면의 화상에서 각 바닥부(12b)의 깊이를 측정하고, 그것들의 평균치를 구하는 방법 등을 이용할 수 있다. As a method of measuring the average depth B, a method of measuring the depth of each bottom portion 12b in an image of a cross section of the uneven pattern 12a photographed by an atomic force microscope and obtaining an average value thereof can be used .

본 발명에 있어서의 사행이라는 것은, 이하의 방법으로 구해지는 요철의 배향도가 0.3이상이 되는 것을 의미한다. 이 배향도는 요철의 배향의 편차의 지표이며, 그 값이 클수록, 배향이 흩어져 있는 것을 나타낸다. The meandering in the present invention means that the degree of orientation of the unevenness obtained by the following method is 0.3 or more. This degree of orientation is an index of the deviation of the orientation of the unevenness, and the larger the value is, the more the orientation is scattered.

배향도를 구하기 위해서는, 우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일(예를 들면, tiff형식 등)로 변환한다. 그레이스케일의 파일 화상(도 3 참조)에서는 백도(白度)가 낮은 곳일수록, 요부의 바닥부가 깊은(백도가 높은 곳일 수록, 돌부의 정부가 높다) 것을 나타낸다. 그 다음, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환한다. 도 4는 푸리에 변환 후의 화상을 나타낸다. 도 4의 화상의 중심에서 양측으로 퍼지는 백색부분은 요철 패턴(12a)의 피치 및 방향의 정보를 포함한다. In order to obtain the degree of orientation, first, the surface of the uneven pattern is photographed by a surface optical microscope, and the image is converted into a gray scale file (for example, tiff format). In the gray scale file image (see Fig. 3), the lower the whiteness, the deeper the bottom of the recess (the higher the whiteness, the higher the perimeter of the recess). Then, the grayscale file image is Fourier transformed. Fig. 4 shows an image after Fourier transform. The white portion spreading to both sides from the center of the image in Fig. 4 includes information on the pitch and direction of the concavo-convex pattern 12a.

이어서, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조 선(L2)을 긋고, 그 보조 선 상의 휘도를 플롯(도 5참조)한다. 도 5에 도시된 플롯의 가로축은 피치를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타내며, 빈도가 최대가 되는 값 'X'가 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치를 나타낸다. Subsequently, the auxiliary line L2 is drawn in the horizontal direction at the center of the image in Fig. 4, and the luminance on the auxiliary line is plotted (see Fig. 5). The horizontal axis of the plot shown in FIG. 5 represents the pitch, the vertical axis represents the frequency, and the value 'X' at which the frequency becomes maximum represents the most frequent pitch of the uneven pattern 12a.

그 다음, 도 4에 있어서, 보조 선(L2)과 값 'X'의 부분에서 직교하는 보조 선(L03)을 긋고, 그 보조 선(L3) 상의 휘도를 플롯(도 6참조)한다. 단, 도 6의 가로축은 각종의 요철구조와의 비교를 가능하게 하기 위해서, 'X'의 값으로 나눈 수치로 사용한다. 도 6의 횡축은 요철의 형성 방향(도 3에 있어서의 상하 방향)에 대한 경사의 정도를 나타내는 지표(배향성)를 나타내고, 세로축은 빈도를 나타낸다. 도 6의 플롯에 있어서의 피크의 반값폭(W1)(빈도가 최대치의 반이 되는 높이에서의 피크의 폭)이 요철 패턴의 배향도를 나타낸다. 반값폭(W1)이 클 수록, 사행하여 배향이 흩어져 있는 것을 나타낸다. Next, in FIG. 4, the auxiliary line L03 orthogonal to the auxiliary line L2 and the value 'X' is drawn, and the luminance on the auxiliary line L3 is plotted (see FIG. 6). Note that the horizontal axis in Fig. 6 is used as a numerical value divided by the value of 'X' in order to enable comparison with various concavo-convex structures. The horizontal axis in Fig. 6 represents an index (orientation) indicating the degree of inclination with respect to the direction of formation of concavities and convexities (vertical direction in Fig. 3), and the vertical axis shows the frequency. The half width W1 of the peak in the plot of Fig. 6 (the width of the peak at the height where the frequency is half the maximum value) indicates the degree of orientation of the concavo-convex pattern. The larger the half width W1 is, the more the half-value width W1 indicates that the alignment is scattered.

상기 배향도가 0.3미만이면, 요철 패턴(12a)의 배향의 편차가 작기 때문에 광 확산의 이방성이 작아진다. If the degree of orientation is less than 0.3, the deviation of the orientation of the uneven pattern 12a is small, so the anisotropy of light diffusion becomes small.

또, 배향도는 1.0이하인 것이 바람직하다. 배향도가 1.0을 넘으면, 요철 패턴의 방향이 어느 정도 랜덤이 되기 때문에, 광확산성은 높아지지만, 이방성이 낮아지는 경향이 있다. The degree of orientation is preferably 1.0 or less. When the degree of orientation exceeds 1.0, the direction of the concavo-convex pattern is somewhat random, so that the light diffusibility is increased, but the anisotropy tends to be lowered.

배향도를 0.3이상으로 하기 위해서는, 예를 들면, 후술하는 제조에 있어서, 가열 수축성 필름과 표면이 평평한 경질층을 적절히 선택하면 좋다. 예를 들면, 가열 수축성 필름의 수축률이 높을수록, 혹은, 표면이 평평한 경질층의 영율(Young's modulus)이 작을수록, 배향성이 커진다. 이 제조 방법에 의해 얻어진 확산 도광체(10)는 2층의 수지층으로 구성된다. In order to increase the degree of orientation to 0.3 or more, for example, in the production described later, a heat shrinkable film and a hard layer having a flat surface may be appropriately selected. For example, the higher the shrinkage percentage of the heat shrinkable film or the smaller the Young's modulus of the hard layer having a flat surface, the greater the orientation. The diffusion light guide body 10 obtained by this manufacturing method is composed of two resin layers.

또, 배향도가 0.3 이상의 요철 패턴이 일표면에 형성된 금형을 이용해서 투명수지를 형성하는 방법을 이용해도 무방하다. 이 제조 방법에 의해 얻어진 확산 도광체(10)은 1층의 수지층으로 구성된다. It is also possible to use a method in which a transparent resin is formed using a metal mold having a concavo-convex pattern with a degree of orientation of 0.3 or more formed on one surface. The diffusion light-guiding body 10 obtained by this manufacturing method is composed of one resin layer.

또, 상기한 바와 같이 푸리에 변환을 이용해서 구한 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 평균 피치와 동등해진다. In addition, as described above, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern obtained by Fourier transform is equal to the average pitch.

투명수지층(11)은 가시광의 투과율이 높은(구체적으로는, 가시광의 전 광선투과율이 85%) 투명수지에 의해 구성된다. The transparent resin layer 11 is composed of a transparent resin having a high transmittance of visible light (specifically, a total transmittance of visible light of 85%).

또, 투명수지층(11)은, 내열성, 내광성을 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 해치지 않는 범위 내에서, 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제로서는 광안정제, 자외선흡수제, 산화 방지제, 윤활제, 광확산제 등이 사용될 수 있다. 이중에서도, 광안정제를 첨가하는 것이 바람직하고, 그 첨가량은 투명수지 100질량부에 대하여 0.03∼2.0질량부인 것이 바람직하다. 광안정제의 첨가량이 0.03질량부 이상이면, 그 첨가 효과를 충분히 발휘할 수 있고, 2.0질량부를 넘으면, 과도량이 되어 불필요한 비용의 상승을 초래한다. The transparent resin layer 11 may contain an additive within a range that does not impair optical properties such as light transmittance for the purpose of improving heat resistance and light resistance. Examples of additives include light stabilizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, light diffusers, and the like. Of these, it is preferable to add a light stabilizer, and the addition amount thereof is preferably 0.03 to 2.0 parts by mass based on 100 parts by mass of the transparent resin. If the added amount of the light stabilizer is 0.03 parts by mass or more, the effect of the addition of the light stabilizer can be sufficiently exerted. If the addition amount exceeds 2.0 parts by mass, an excessive amount of the light stabilizer results in an unnecessary increase in cost.

또, 투명수지층(11)에는 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적으로, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 무기화합물로 이루어지는 무기광확산제, 유기 화합물로 이루어지는 유기광확산제를 함유시킬 수 있다. In order to further improve the light diffusing effect, the transparent resin layer 11 may contain an inorganic light-diffusing agent made of an inorganic compound, an organic light diffusing agent made of an organic compound And the like.

무기광확산제로는 실리카, 화이트 카본, 탈크, 산화 마그네슘, 산화 아연, 산화 티타늄, 탄산 칼슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 규산 칼슘, 규산 마그네슘, 규산 알루미늄, 규산 알루미늄화 나트륨, 규산아연, 유리, 마이카 등이 사용될 수 있다. Examples of inorganic light diffusing agents include silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, calcium silicate, magnesium silicate, aluminum silicate, sodium aluminum silicate, Etc. may be used.

유기광확산제로서는 스티렌계 중합 입자, 아크릴계 중합 입자, 실록산계 중합 입자, 폴리아미드계 중합 입자 등이 사용될 수 있다. 이들의 광확산제는 각각 단독으로, 또는, 2종 이상을 조합시켜서 이용할 수 있다. As the organic light-diffusing agent, styrene-based polymerized particles, acrylic-based polymerized particles, siloxane-based polymerized particles, polyamide-based polymerized particles and the like can be used. These light diffusing agents may be used alone or in combination of two or more kinds.

또, 이들의 광확산제는 뛰어난 광산란 특성을 얻기 위해서, 페탈 또는 구정(spherocrystal) 형상 등의 다공질구조로 할 수도 있다. In order to obtain excellent light scattering properties, these light diffusing agents may also be of a porous structure such as a petal or spherocrystal shape.

광확산제의 함유량은, 광투과성을 감소시키지 않기 위하여, 투명수지 100질량부에 대하여 10질량부 이하인 것이 바람직하다. The content of the light-diffusing agent is preferably 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the transparent resin in order not to decrease the light transmittance.

또한, 투명수지층(11)에는, 보다 광확산 효과를 향상시킬 목적에서, 광투과율 등의 광학특성을 크게 손상하지 않는 범위 내에서, 미세거품을 함유시킬 수 있다. 미세거품은 광의 흡수가 적어 광투과율을 저하시키지 않는다. The transparent resin layer 11 may contain fine bubbles within a range that does not significantly impair optical properties such as light transmittance for the purpose of improving the light diffusion effect. The fine bubbles are less absorbed by light and do not lower the light transmittance.

미세거품의 형성 방법으로서는, 투명수지층(11)에 발포제를 혼입하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 1993-212811호 공보, 일본 특허 공개공보 1994-107842호 공보에 공개된 방법)이나, 아크릴계 발포 수지를 발포 처리시켜 미세거품을 함유하게 하는 방법 (예를 들면, 일본 특허 공개공보 2004-2812호 공보에 공개된 방법)등이 사용될 수 있다. 또한 미세거품은, 보다 균일한 면조사가 가능해지도록, 특정한 위치에 불균일하게 발포시키는 것(예를 들면, 일본 특허 공개공보 2006-124499호 공보에 공개된 방법)이 바람직하다. Examples of the method of forming fine bubbles include a method of incorporating a foaming agent into the transparent resin layer 11 (for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1993-212811 and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 1994-107842) (For example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-2812) or the like may be used, in which an acrylic foam resin is foamed to contain fine foam. Further, it is preferable that the fine bubbles are uniformly foamed at a specific position (for example, a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2006-124499) so that more uniform surface irradiation becomes possible.

투명수지층(11)의 두께는 0.02∼3.0mm이 바람직하고, 0.05∼2.5mm이 보다 바람직하고, 0.1∼2.0mm이 특히 바람직하다. 투명수지층(11)의 두께가 0.02mm미만이면, 요철 패턴의 깊이보다도 작을 수 있기 때문에 적당하지 않고, 3.0mm보다도 두꺼우면 확산 도광체(10)의 질량이 커지기 때문에 취급하기 어려워질 우려가 있다. The thickness of the transparent resin layer 11 is preferably 0.02 to 3.0 mm, more preferably 0.05 to 2.5 mm, and particularly preferably 0.1 to 2.0 mm. If the thickness of the transparent resin layer 11 is less than 0.02 mm, it may be smaller than the depth of the concavo-convex pattern, and if it is thicker than 3.0 mm, the mass of the diffusion light conductor 10 becomes large, .

투명수지층(11)은 2층 이상의 수지층으로 구성되어 있어도 무방하다. 투명수지층(11)이 2층 이상의 층으로 구성되는 경우에도 투명수지층(11)의 두께는 0.02∼3.0mm인 것이 바람직하다. The transparent resin layer 11 may be composed of two or more resin layers. Even when the transparent resin layer 11 is composed of two or more layers, the thickness of the transparent resin layer 11 is preferably 0.02 to 3.0 mm.

*제조방법 * Manufacturing method

상기 광학 시트의 제조 방법과 같은 제조 방법으로 제조할 수 있다. And can be produced by the same manufacturing method as the above-mentioned optical sheet production method.

*기능 *function

상술한 확산 도광체(10)는 광의 이방 확산성을 가지고 있다. 구체적으로, 확산 도광체(10)의 요철 패턴(12a)이 형성되지 않은 측의 면(이면)측에 광원을 설치한 경우에는 광원으로부터 발생된 광은 이면을 통하여 확산 도광체(10)로 입사하고, 확산 도광체(10)안을 통해서 요철면에 도달한다. 여기에서, 요철면에 입사각이 0도 이상 임계각 미만의 각도로 도달한 광은 굴절하면서 확산 도광체(10)의 밖으로 출사한다. 확산 도광체(10) 안을 지나는 광의 방향은 일방향이 아니기 때문에, 확산 도광체(10)의 요철면과 광의 각도는 일정하지 않고, 폭넓은 각도로 광이 굴절하게 된다. 또한 요철은 사행하여 배향이 흩어져 있기 때문에, 광 확산의 이방성이 높아진다. The diffusion light guide 10 described above has a light anisotropic diffusion property. Specifically, when a light source is provided on the side (back surface) of the diffusion light guide body 10 on the side where the concavo-convex pattern 12a is not formed, light generated from the light source enters the diffusion light guide body 10 through the back surface And reaches the uneven surface through the diffusion light guide body 10. Here, the light that has reached the uneven surface at an angle of less than the critical angle equal to or greater than 0 degrees is refracted and emitted out of the diffusion light guide body 10. Since the direction of the light passing through the diffusion light guide 10 is not unidirectional, the angle of the light with the uneven surface of the diffusion light guide 10 is not constant, and the light is refracted at a wide angle. In addition, since the irregularities are scattered in the meandering direction, the anisotropy of light diffusion becomes high.

한편, 요철면에 대하여 임계각 이상의 각도로 도달한 광은 전반사해서 다시 확산 도광체(10) 안을 진행하지만, 그 후, 요철면에 임계각 미만으로 도달했을 때에 출사한다. 또, 입사각이 0도의 각도로 도달한 광은 굴절하지 않고 그대로 확산 도광체(10)의 밖으로 출사한다. On the other hand, light reaching the uneven surface at an angle equal to or greater than the critical angle is totally reflected and propagates in the diffusion light guide body 10, and then emitted when the light reaches the uneven surface. In addition, light having an angle of incidence of 0 degrees is not refracted but exits to the diffusion light guide 10 as it is.

또, 확산 도광체(10)의 일측면측에 광원을 설치한 경우에도, 상기와 같은 식으로, 확산 도광체(10)안을 통하여, 입사각이 0도 이상이고, 임계각 미만의 각도로 도달한 광이, 굴절하면서 확산 도광체의 밖으로 출사한다. 여기서, 요철은 사행하여 배향에 편차가 있기 때문에, 광 확산의 이방성은 높아진다. Even when a light source is provided on one side of the diffusing light guide 10, light having an angle of incidence of 0 degrees or more and less than a critical angle can be emitted through the diffusion light guide 10 in the above- Out of the diffusion light guide body while being refracted. Here, since the irregularities have a deviation in alignment due to the skewness, the anisotropy of light diffusion becomes high.

또한, 본 발명의 확산 도광체는 상술한 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 투명수지층의 이면측에 광원을 배치할 경우, 광의 입사 효율을 향상시키기 위해서, 투명 수지층의 이면에 반사 방지 기능을 갖는 미세한 물결 형상의 요철이 형성되어 있는 것이 바람직하다. 여기에서, 미세한 물결 형상의 요철은 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 동시에, 어스펙트비가 0.1 이상인 것이 바람직하다. 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘거나, 어스펙트비가 0.1을 넘으면, 반사 방지 기능을 얻을 수 없기 때문이다. Further, the diffusion light guide of the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, when the light source is arranged on the back side of the transparent resin layer, it is preferable that the back surface of the transparent resin layer is provided with fine wavy irregularities having antireflection function in order to improve the light incidence efficiency. Here, it is preferable that the finest wave-like irregularities in the fine wavy shape have a pitch of 1 mu m or less and an aspect ratio of 0.1 or more. If the most frequent pitch exceeds 1 占 퐉 or the aspect ratio exceeds 0.1, the antireflection function can not be obtained.

상기 미세한 물결 형상의 요철은 광확산용의 요철 패턴과 함께 투명수지층의 이면에 형성될 수 있다. 예를 들면, 확산 도광체를 프레스 형성이나 사출 성형에 의해 제조할 때에, 금형으로 이용되는 투명수지층의 출사면(표면)측에 접하는 면에 광확산용의 요철 패턴이 형성되고, 투명수지층의 입사면 (이면)측에 접하는 면에 미세한 물결 형상의 요철 패턴이 형성된 것을 이용하는 방법을 적용할 수 있다. The fine wavy concaves and convexes may be formed on the back surface of the transparent resin layer together with the concavo-convex pattern for light diffusion. For example, when the diffusion light guide is manufactured by press forming or injection molding, a concavo-convex pattern for light diffusion is formed on the surface of the transparent resin layer used as a mold in contact with the exit surface (surface) side, A method in which a fine wave-like concave-convex pattern is formed on the side of the light-incident surface (back side)

또, 상기 미세한 물결 형상의 요철은 광확산용의 요철 패턴과는 달리 투명수지층의 이면에 형성해도 무방하다. 예를 들면, 미세한 물결 형상의 요철 패턴이 형성된 필름을 투명수지층의 이면측에 접착제를 통해서 첨부해도 무방하다. Unlike the concavo-convex pattern for light diffusion, the fine wavy concavo-convex may be formed on the back surface of the transparent resin layer. For example, a film on which a concave-convex pattern of fine wavy shape is formed may be attached to the back side of the transparent resin layer through an adhesive.

또, 광확산의 이방성을 보다 높이기 위해, 미세거품을 함유한 필름을 입사면측 또는 출사면측에 첨부해도 무방하다. 도 20에 나타낸 바와 같이, 미세거품을 함유한 필름(317)을 입사면측에 첨부할 경우, 광원(330)으로부터의 광을 효율적으로 이용하기 위해서, 광원(330)의 광이 강하게 닿는 부분(317a)에서는 미세거품의 함유량을 많게 하고, 그 이외의 부분(317b)에서는 미세거품의 함유량을 적게, 또는, 함유하지 않게 하는 것이 바람직하다. In order to further increase the anisotropy of light diffusion, a film containing fine bubbles may be attached to the incident surface side or the emission surface side. 20, when the film 317 containing fine bubbles is attached to the incident surface side, in order to utilize the light from the light source 330 efficiently, a portion 317a ), It is preferable to increase the content of the fine bubbles and to make the content of the fine bubbles small or not in the other portion 317b.

본 발명의 확산 도광체는 일단에서부터 타단을 향해 두께가 점차 얇아지도록 형성되어도 무방하다. 상기와 같은 확산 도광체에서는 두꺼운 쪽의 측면에 광원이 배치된다. The diffusion light conductor of the present invention may be formed such that its thickness gradually decreases from one end to the other end. In the above diffusion light conductor, the light source is disposed on the thicker side.

본 발명의 확산 도광체는 사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 한 면에 형성되고 있는 것이 설명되었지만, 요철 패턴이 반드시 한 면에만 형성되어 있는 것에 한정되는 것은 아니다. 즉, 투명수지층의 다른 한 쪽 면에도 사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 형성될 수 있다. Although the diffusion light guide of the present invention has been described in which a meandering wave-like concavo-convex pattern is formed on one surface, it is not limited to the one in which the concavo-convex pattern is necessarily formed on only one side. That is, a wavy concavo-convex pattern that meanders to the other surface of the transparent resin layer can be formed.

7. 백라이트 유닛7. Backlight Unit

7-1. 제1 실시 형태 7-1. First Embodiment

본 발명의 백라이트 유닛의 제1 실시 형태에 대해서 설명한다. A first embodiment of the backlight unit of the present invention will be described.

도 21은 본 실시 형태의 백라이트 유닛을 나타낸다. 본 실시 형태의 백라이트 유닛(100)은 소위 직하형의 것으로, 확산 도광체(310)와 확산 도광체(310)의 요철 패턴이 형성된 면(표면315)에 대향하는 면(이면316)에 마부보게 배치된 반사판(320)과, 확산 도광체(310) 및 반사판(320)의 사이에 배치 된 복수의 광원 (330, 330…)을 구비한다. 또, 확산 도광체(310)의 표면(315)측에는 확산 필름(340), 프리즘 시트(350), 휘도상승필름(360)이 순차로 적층되어 있다. 21 shows the backlight unit of this embodiment. The backlight unit 100 according to the present embodiment is of a so-called direct type and has a surface (back surface 316) facing the surface (surface 315) of the diffusion light guide body 310 and the diffusion light guide body 310 And a plurality of light sources 330, 330,... Disposed between the diffusion light guide 310 and the reflection plate 320. A diffusion film 340, a prism sheet 350, and a brightness enhancement film 360 are sequentially stacked on the surface 315 side of the diffusion light guide body 310.

광원(330)으로서는, 예를 들면, 냉음극관, 발광 다이오드 등이 사용될 수 있다. As the light source 330, for example, a cold cathode tube, a light emitting diode, or the like can be used.

반사판(320)으로는, 예를 들면, 표면이 경면 형상인 금속판, 또는, 그러한 금속판을 구비한 적층판 등이 사용될 수 있다. As the reflection plate 320, for example, a metal plate whose surface is a mirror-finished surface, or a laminated plate provided with such a metal plate can be used.

확산 필름(340)으로는, 예를 들면, 투명한 입자를 함유하는 수지 필름 등이 사용될 수 있다. 확산 필름(340)은 확산 도광체보다 출사한 광을 더욱 확산시킨다. As the diffusion film 340, for example, a resin film containing transparent particles or the like can be used. The diffusion film 340 further diffuses the light emitted from the diffusion light guide.

프리즘 시트(350)으로는, 예를 들면, 한 면에 원추 형상 또는 각뿔 형상의 돌기가 규칙적으로 다수 형성된 수지 시트 (예를 들면, 스미토모 쓰리엠사制 상품명비큐이티BEF III)등을 들 수 있다. 프리즘 시트(350)는, 확산 필름(340)에서 출사한 광의 진행 방향을 면에 대하여 수직방향으로 변경한다. As the prism sheet 350, for example, a resin sheet in which a plurality of conical or pyramidal protrusions are regularly formed on one surface (for example, Sumitomo 3M Limited commercial name Vukyuti BEF III) can be mentioned. The prism sheet 350 changes the traveling direction of light emitted from the diffusion film 340 in a direction perpendicular to the surface.

휘도상승 필름(360)로서는, 예를 들면, 광의 프라이머리파(P파)만을 통과시키고, 세컨더리파(S파)를 반사하는 시트(예를 들면, 스미토모 쓰리엠사制 상품명 비큐이티DBEF-D400)등을 들 수 있다. As the brightness enhancement film 360, for example, a sheet (for example, Sumitomo 3M's Vikyutti DBEF-D400) that passes only a primer wave (P wave) of light and reflects a secondary wave .

7-2. 제2 실시 형태 7-2. Second Embodiment

본 발명의 백라이트 유닛의 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. A second embodiment of the backlight unit of the present invention will be described.

도 22는 본 실시 형태의 백라이트 유닛을 나타낸다. 본 실시 형태의 백라이트 유닛(200)은 소위 에지 라이트형의 것으로서, 확산 도광체(310)와, 확산 도광체 (310)의 요철 패턴이 형성된 면(표면315)에 대향하는 면(이면316)과 마주보게 배치된 반사판(320)과, 확산 도광체(310)의 일측면에 배치 된 광원(330)을 구비한다. 또, 확산 도광체(310)의 표면(315)측에는 확산 필름(340), 프리즘 시트(350), 휘도상승필름(360)이 순차로 적층되어 있다. 22 shows the backlight unit of the present embodiment. The backlight unit 200 of the present embodiment is of the so-called edge light type and includes a diffusing light guide body 310 and a face (back face 316) facing the face (surface 315) on which the concavo-convex pattern of the diffusing light guide body 310 is formed And a light source 330 disposed on one side of the diffusing light guide body 310. The light source 330 is disposed on one side of the diffusion light guide body 310, A diffusion film 340, a prism sheet 350, and a brightness enhancement film 360 are sequentially stacked on the surface 315 side of the diffusion light guide body 310.

본 실시 형태에 이용되는 확산도광체(310), 반사판(320), 광원(330), 확산 필름(340), 프리즘 시트(350) 및 휘도상승필름(360)은 제1 실시 형태와 동일하다. The diffusing reflection body 310, the reflection plate 320, the light source 330, the diffusion film 340, the prism sheet 350 and the brightness enhancement film 360 used in this embodiment are the same as those in the first embodiment.

사행하는 물결 형상의 요철 패턴이 형성된 확산 도광체(310)를 구비하는 상기 실시 형태의 백라이트 유닛(100)에서는, 광원(330)으로부터 발생한 광이 확산 도광체 (310)의 요철면에서 높은 이방성을 갖고 확산한다. 따라서, 백라이트 유닛(100, 200)을 구비하는 액정표시장치는 화상에 얼룩이 생기기 것을 방지할 수 있다. In the backlight unit 100 of the embodiment having the diffusing light guide body 310 in which the concavo-convex pattern is formed in a meandering shape, the light generated from the light source 330 has high anisotropy at the uneven surface of the diffusing light guide body 310 . Therefore, the liquid crystal display device having the backlight units 100 and 200 can prevent unevenness in images.

8. 반사 방지체 8. Antireflective element

본 발명의 반사 방지체는 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하인 요철 패턴(12a)을 구비하는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)를 포함한다. The antireflective body of the present invention includes the concavo-convex pattern forming sheet 10 having the concavo-convex pattern 12a with the minimum pitch A of 1 占 퐉 or less.

본 발명의 반사 방지체에 있어서는, 요철 패턴 형성 시트(10)의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비해도 무방하다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)이 형성되어 있는 측의 면에, 그 면이 오염되는 것을 방지하기 위해서, 불소 수지 또는 실리콘 수지를 주성분으로서 함유하는 두께 1∼5nm 정도의 방오층을 갖추어도 무방하다. In the antireflective body of the present invention, another layer may be provided on one surface or both surfaces of the relief pattern forming sheet 10. [ For example, in order to prevent the surface of the unevenness pattern forming sheet 10 on which the concavo-convex pattern 12a is formed from being contaminated, a thickness of 1 to 5 nm It is also acceptable to have a layer of stratum corneum.

본 발명의 반사 방지체는 요철 패턴 형성 시트(10)의 물결 형상의 요철 패턴(12a)의 부분에서 공기의 굴절률과 요철 패턴 형성 시트(10)의 굴절률(기판(11의) 굴절률)의 사이의 중간굴절률을 갖고, 그 중간굴절률이 연속적으로 변화한다. 또한 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하이고, 요철 패턴(12a)의 바닥부(12b)의 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상이다. 이로부터, 광의 반사율을 특히 낮게 할 수 있고, 구체적으로는, 반사율을 거의 0%로 할 수 있다. 이는, 상술한 바와 같이, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하로 짧은데다, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 깊어져서, 중간굴절률이 연속적으로 변화하는 부분이 두께 방향으로 길어져, 광의 반사를 억제하는 효과를 현저하게 발휘할 수 있기 때문이다. The antireflective body of the present invention has a structure in which the refractive index of air and the refractive index of the irregular pattern forming sheet 10 (refractive index of the substrate 11) in the corrugated pattern 12a of the irregular pattern forming sheet 10 Has a middle refractive index, and the middle refractive index continuously changes. The minimum pitch A of the uneven pattern 12a is 1 占 퐉 or less and the average depth B of the bottom portion 12b of the uneven pattern 12a is the most frequent pitch A 100% is 10% or more. From this, the reflectance of light can be made particularly low, and specifically, the reflectance can be made almost 0%. This is because the minimum pitch A of the concavo-convex pattern 12a of the concave-convex pattern forming sheet 10 is as short as 1 占 퐉 or less and the average depth B is the minimum pitch Is 10% or more when the refractive index (A) is 100%, and the portion where the middle refractive index continuously changes becomes longer in the thickness direction, and the effect of suppressing the reflection of light can be remarkably exhibited.

이러한 반사 방지체는, 예를 들면, 액정표시 패널이나 플라즈마 디스플레이 등의 화상표시장치, 발광 다이오드의 발광부 선단, 태양 전지 패널의 표면 등에 부착될 수 있다. Such an antireflective body can be attached to, for example, an image display apparatus such as a liquid crystal display panel or a plasma display, a front end of a light emitting portion of a light emitting diode, a surface of a solar cell panel, or the like.

화상표시장치에 부착한 경우에는, 조명의 화면 반사를 방지할 수 있기 때문에 화상의 시인성이 향상된다. 발광 다이오드의 발광부 선단에 부착된 경우에는, 광의 취출 효율이 향상된다. 태양 전지 패널의 표면에 부착한 경우에는, 광의 취출량이 많아지기 때문에, 태양 전지의 발전 효율이 향상된다. In the case of attaching to an image display device, it is possible to prevent screen reflections of illumination, thereby improving the visibility of the image. When attached to the tip of the light emitting portion of the light emitting diode, the light extraction efficiency is improved. When the solar cell is attached to the surface of the solar cell panel, the amount of light to be extracted is increased, so that the power generation efficiency of the solar cell is improved.

9. 위상차판 9. Phase difference plate

본 발명의 위상차판은 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하인 요철 패턴(12a)을 구비하는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)을 포함한다. 단, 요철의 방향은 랜덤이 아니라, 일방향을 따른다. The retarder of the present invention includes the concavo-convex pattern-forming sheet 10 having the concavo-convex pattern 12a having the most frequent pitch A of 1 탆 or less. However, the direction of the concave and convex is not random, but follows one direction.

본 발명의 위상차판에 있어서도, 상기 반사 방지체와 같은 식으로, 요철 패턴 형성 시트(10)의 한 면 또는 양면에 다른 층을 구비해도 무방하다. 예를 들면, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)가 형성되어 있는 측의 면에 방오층을 구비해도 무방하다. In the retarder of the present invention, another layer may be provided on one side or both sides of the relief pattern-forming sheet 10 in the same manner as the antireflection body. For example, the antifouling pattern-forming sheet 10 may be provided with an antifouling layer on the side where the relief pattern 12a is formed.

본 발명의 위상차판은 위상차를 발생시키는 효과를 현저히 발휘할 수 있다. 이것은, 상술한 바와 같이, 요철 패턴 형성 시트(10)의 요철 패턴(12a)의 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하로 짧은데다, 평균 깊이(B)가 최빈(最頻) 피치(A)를 100%로 했을 때의 10%이상으로 깊기 때문에, 굴절률이 서로 다른 공기와 요철 패턴 형성 시트(10)가 교호적으로 배치되는 부분이 두께 방향으로 길어지고, 광학 이방성을 나타내는 부분이 길어지기 때문이다. 게다가, 요철 패턴의 피치가 가시광의 파장과 같은 정도이거나 그 이하일 경우에는, 넓은 가시광 파장 영역에 걸쳐 동등한 위상차를 생기게 할 수 있다. The retardation plate of the present invention can remarkably exhibit the effect of generating the retardation. This is because the minimum pitch A of the concavo-convex pattern 12a of the concave-convex pattern forming sheet 10 is as short as 1 占 퐉 or less and the average depth B is the minimum pitch Is 10% or more when the refractive index (A) is 100%, the portion where the air with different refractive indexes and the concavo-convex pattern forming sheet 10 are arranged alternately becomes longer in the thickness direction and the portion exhibiting optical anisotropy It is because it is long. In addition, when the pitch of the concavo-convex pattern is equal to or less than the wavelength of visible light, it is possible to cause an equal phase difference over a wide visible light wavelength range.

(광학소자제조용 공정 시트)(Process sheet for manufacturing an optical element)

본 발명의 광학소자제조용 공정 시트(이하, '공정 시트'라 함)는 최빈(最頻) 피치(A)가 1㎛ 이하인 요철 패턴(12a)을 구비하는 상술한 요철 패턴 형성 시트(10)를 포함하는 것으로서, 요철 패턴을 이하에 나타낸 바와 같은 방법으로 다른 소재에 전사시킴에 따라, 상기 공정 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 가지고, 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 사용 가능한 요철 패턴 형성 시트를 대면적으로 대량으로 제조하기 위한 틀로서 이용할 수 있다. The process sheet for manufacturing an optical element of the present invention (hereinafter referred to as a 'process sheet') comprises the concavo-convex pattern-forming sheet 10 having the concavo-convex pattern 12a having the minimum pitch A of 1 μm or less , And has a convexo-concave pattern of the most frequent pitch and an average depth equivalent to those of the process sheet, by transferring the concavo-convex pattern to another material by a method as described below, It can be used as a frame for mass-producing large-area uneven pattern-forming sheets usable as devices.

공정 시트를 이용해서 공학소자를 제조하는 구체적인 방법은 상기 광학 시트의 방법과 같다. A specific method of manufacturing an engineering element using a process sheet is the same as that of the optical sheet.

실시예 1 Example 1

이하의 예의 영율(Young's modulus)은 인장 시험기(테스터 산업사制 TE-7001)를 이용하고, JIS K 7113-1995에 준거해서 측정한 값이다. 특히 온도를 기재하지 않은 경우에는 23℃에 있어서의 영율(Young's modulus) 값이다. Young's modulus in the following examples is a value measured in accordance with JIS K 7113-1995 using a tensile tester (TE-7001 manufactured by Tester Industries). In particular, when the temperature is not described, it is Young's modulus at 23 ° C.

(실시예 1) (Example 1)

일축방향으로 열수축하고, 두께가 50㎛이며, 영율(Young's modulus)이 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식회사制 히시페트 LX-60S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 200nm이 되도록 코터를 이용하여 도포함으로써 경질층을 형성하여 적층 시트를 얻었다. (Hissipet LX-60S, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd .; glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa and a heat shrinkable film Polymethyl methacrylate (P4831-MMA, Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature: 100 占 폚) diluted with toluene was coated on the surface of the substrate with a coater so as to have a thickness of 200 nm to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 80℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 40%로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 60%로 변형시키고), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 80 占 폚 for 1 minute and heat-shrunk to 40% of the length before heating (i.e., deformed at a strain rate of 60%), whereby the hard layer was subjected to a periodic wave To obtain a concavo-convex pattern-forming sheet (light-diffusing body) having a concavo-convex pattern of a shape.

한편, 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름 및 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 80℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, the Young's modulus of each of the heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate and polymethyl methacrylate at 80 DEG C was 50 MPa and 1 GPa, respectively.

(실시예 2)(Example 2)

톨루엔에 희석한 폴리스티렌(폴리머 소스 주식 회사制 PS, 유리 전이 온도 100℃)을 도포한 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 식으로 하여 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. A concavo-convex pattern-forming sheet (light diffuser) was obtained in the same manner as in Example 1, except that polystyrene diluted in toluene (PS of Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature: 100 캜) was applied.

한편, 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름 및 상기 폴리스티렌의 80℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, the Young's modulus of the heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate and the polystyrene at 80 ° C were 50 MPa and 1 GPa, respectively.

(실시예 3)(Example 3)

폴리스티렌의 도포 두께를 1㎛로 한 것을 제외하고는 실시예 2과 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. A concavo-convex pattern-forming sheet (light-diffusing material) was obtained in the same manner as in Example 2, except that the coating thickness of polystyrene was changed to 1 mu m.

(실시예 4)(Example 4)

적층 시트를 70℃로 1분간 가열하는 것에 의해, 가열 전의 길이의 90%로 열수축시킨(즉, 변형율 10%로 변형시킨) 것을 제외하고는 실시예 2와 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The laminated sheet was heated at 70 占 폚 for 1 minute to obtain a concavo-convex pattern-forming sheet (optical sheet) of the same structure as in Example 2 except that the sheet was heat-shrunk to 90% Diffusion body).

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 공정 시트 원판으로 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산체를 얻었다. Using the uneven pattern-forming sheet (light diffusing material) obtained in Example 1 as a process sheet original plate, an optical diffuser was obtained in the following manner.

즉, 실시예 1에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 넣는 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 도포했다. That is, an uncured UV curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and benzophenone-based photopolymerization initiator was coated on the surface of the process sheet original plate obtained in Example 1 on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면 중 공정 시트 원판과 접하고 있지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩시키고, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 占 퐉 was superimposed on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the process sheet original plate, and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 경화시켰고, 그 경화물을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured UV-curable resin composition, and the cured product was peeled off from the original plate of the process sheet to obtain a light diffuser.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 공정 시트 원판으로 이용하고, 아래와 같은 방식으로 광학소자를 얻었다. An optical element was obtained in the following manner by using a concavo-convex pattern-forming sheet (light-diffusing body) obtained in Example 1 as a process sheet original plate.

즉, 실시예 1에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 니켈 도금을 하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 도포했다. That is, nickel plating was performed on the surface of the process sheet original plate obtained in Example 1 on which the concavo-convex pattern was formed, and the nickel plating was peeled off to obtain a secondary process sheet having a thickness of 200 μm. An uncured UV curable resin composition including an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하고 있지 않은 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩시켜, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 탆 was superimposed on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the secondary process sheet and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured UV-curable resin composition, and the cured product was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(실시예 7)(Example 7)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열경화성수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 6과 같은 식으로 하여 광확산체를 얻었다. A light diffuser was obtained in the same manner as in Example 6, except that thermosetting epoxy resin was used in place of the ultraviolet ray curable resin composition and the thermosetting resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

(실시예 8)(Example 8)

실시예 6과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 뒤, 냉각·고화시키고, 이를 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. A secondary process sheet having a thickness of 200 占 퐉 was obtained in the same manner as in Example 6. A polymethyl methacrylate film having a thickness of 50 占 퐉 was superimposed on the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed and heated. The polymethylmethacrylate film softened by heating and the secondary process sheet were pressed at both sides, cooled and solidified, and then peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

폴리스티렌의 도포 두께를 6㎛로 한 것을 제외하고는 실시예 2와 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. A concavo-convex pattern-forming sheet (light-diffusing material) was obtained in the same manner as in Example 2, except that the coating thickness of polystyrene was changed to 6 탆.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

폴리스티렌의 도포 두께를 40nm로 한 것을 제외하고는 실시예 2와 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. A concavo-convex pattern-forming sheet (light-diffusing material) was obtained in the same manner as in Example 2, except that the coating thickness of polystyrene was changed to 40 nm.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트LX-60S의 대신 동(同)히시페트LX-10S(영율(Young's modulus)3GPa)를 이용한 것 및 그 적층 시트를 70℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 97%로 수축시킨(즉, 변형율 3%에 변형시킨) 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. (Young's modulus) 3GPa) instead of Hishifet LX-60S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., and the laminated sheet was heated at 70 占 폚 for 1 minute, (Light diffusing material) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the sheet was shrunk to 97% of its length (i.e., deformed at a strain of 3%).

(비교예 4)(Comparative Example 4)

일본 특허 공개공보 2006-261064호에 나타난 이방성확산 패턴의 제조 방법을 이용해서 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. A concavo-convex pattern-forming sheet was obtained by using the method of manufacturing an anisotropic diffusion pattern disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-261064.

즉, 레이저광을 확산해서 투과하는 우유빛 유리와 같은 확산판이 끼워진 폭 1mm, 길이 10cm의 슬릿을 갖는 차폐판과, 시판하고 있는 감광성 수지가 100㎛의 두께로 도포된 감광성 필름판을 서로의 간격이 1m이고 판끼리 평행하도록 설치했다. That is, a shielding plate having a slit having a width of 1 mm and a length of 10 cm fitted with a diffusion plate such as a milky glass to diffuse and transmit laser light, and a photosensitive film plate having a thickness of 100 탆 and a commercially available photosensitive resin, And the plates are arranged parallel to each other.

그 다음에, 파장 514nm의 아르곤 레이저를 상기 차폐판측에서 조사하고, 상기 슬릿을 빠져 나가서 우유빛 유리에 의해 확산된 아르곤 레이저광를 이용하여 감광성 필름판상의 감광성 수지를 노광하였다. Then, an argon laser with a wavelength of 514 nm was irradiated from the side of the shielding plate, and the photosensitive resin on the photosensitive film plate was exposed using the argon laser light diffused by the milk glass.

상기에 나타낸 바와 같은 노광을 되풀이하여, 감광성 필름판 전면(全面)의 감광성 수지를 노광하였다. 그리고, 노광된 감광성 필름을 현상하고, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻었다. The above-described exposure was repeated to expose the photosensitive resin on the entire surface of the photosensitive film plate. Then, the exposed photosensitive film was developed to obtain a concavo-convex pattern-forming sheet (light diffuser).

한편, 비교예 4에 있어서의 그레이스케일 파일 변환 화상을 도 9에 나타내었고, 그레이스케일 파일 화상의 푸리에 변환 화상을 도 10에 나타내었다. 또, 도 10의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선(L4)을 긋고, 그 보조선(L4) 상의 휘도를 플롯하여 도 11에 나타낸다. 또한, 도 10에 있어서, 보조선(L4)과 값 'Y'의 부분에서 직교하는 보조선(L5)을 긋고, 그 보조 선(L5) 상의 휘도를 플롯하여 도 12에 나타내었다. On the other hand, the gray-scale file converted image in the comparative example 4 is shown in Fig. 9, and the Fourier transform image of the gray scale file image is shown in Fig. 11, an auxiliary line L4 is drawn in the horizontal direction from the center of the image in FIG. 10, and the luminance on the auxiliary line L4 is plotted. In Fig. 10, an auxiliary line L5 orthogonal to the auxiliary line L4 at a portion of the value 'Y' is drawn, and the luminance on the auxiliary line L5 is plotted and shown in Fig.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

가열 수축성 필름 대신 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 5GPa의 2축 연장폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(테이진(帝人) 주식 회사制 G2)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 1과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 얻는 것을 시도했다. 그러나, 물결 형상의 요철 패턴이 형성되지 않아서, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)을 얻을 수 없었다. Except that a biaxially oriented polyethylene terephthalate film (G2 manufactured by Teijin Co., Ltd.) having a thickness of 50 탆 and a Young's modulus of 5 GPa was used in place of the heat shrinkable film, Forming sheet (light-diffusing body). However, a wave-like concavo-convex pattern was not formed, and a concave-convex pattern-forming sheet (light-diffusing body) could not be obtained.

(비교예 6) (Comparative Example 6)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 쉬링크 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트LX-10S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에 영율(Young's modulus)이 2MPa인 폴리디메틸실록산(신에츠화학공업(信越化學工業) 주식 회사 KS847T, 유리 전이 온도 -120℃)와 백금촉매(신에츠화학공업(信越化學工業) 주식 회사 CAT-PL-50T)를 톨루엔에 희석한 분산액을 바 코터법에 의해 두께가 200nm이 되도록 도포하여 경질층을 형성함으로써 적층 시트를 얻었다. One side of a heat shrinkable shrink film made of polyethylene terephthalate (Hissipet LX-10S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa (Glass transition temperature: -120 占 폚) and polydimethylsiloxane having a Young's modulus of 2 MPa (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS847T; Shin-Etsu Chemical Industry Co., 50T) was diluted with toluene was applied by a bar coater method so as to have a thickness of 200 nm to form a hard layer, whereby a laminated sheet was obtained.

그 다음에, 그 적층 시트를 100℃로 1분간 가열하여 열수축 시킴에 따라, 요철 패턴 형성 시트를 얻으려고 했으나, 경질층을 접듯이 변형시킬 수 없었고, 물결 형상의 요철 패턴은 형성되지 않았다. Thereafter, the laminated sheet was heated at 100 占 폚 for 1 minute to heat shrink, thereby obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet. However, the hard layer could not be deformed like a folded portion, and a wavy concavo-convex pattern was not formed.

실시예 1∼8 및 비교예 1∼6의 요철 패턴 형성 시트의 광확산체의 표면을, 원자력 현미경(일본 비코사制 나노스코프 III)에 의해 촬영했다. The surfaces of the light diffusing bodies of the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were photographed by an atomic force microscope (Nano Scope III, manufactured by VICO Corporation, Japan).

실시예 1∼8 및 비교예 1∼4의 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 원자력 현미경 화상에서 요철 패턴의 깊이를 10군데에서 측정하고, 그것들을 평균하여 평균 깊이를 구했다. In the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4, the depth of concavo-convex pattern was measured at 10 places in an atomic force microscope image, and the average depth was obtained by averaging them.

또, 요철 패턴의 배향도를 아래와 같이 하여 구하였다. The degree of orientation of the concavo-convex pattern was obtained as follows.

우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일로 변환했다(도 3 참조). 그 다음에, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환했다. 도 4에 푸리에 변환 후의 화상이 도시된다. 그 다음에, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선(L2)을 긋고, 그 보조선 상의 휘도를 플롯(도 5 참조)했다. 그 다음에, 도 5에 있어서, 보조선(L2)과 값 'X' (최빈(最頻) 피치의 역수)의 부분에서 직교하는 보조선(L3)을 긋고, 그 보조선(L3) 상의 휘도를 플롯(도 6 참조)했다. 그리고, 도 6의 플롯에 있어서, 피크의 반값폭(W1)로부터 요철 패턴의 배향도를 구하였다. 그것들의 값을 표 1에 나타낸다. First, the surface of the uneven pattern was photographed by a surface optical microscope, and the image was converted into a gray scale file (see Fig. 3). Then, the grayscale file image is Fourier transformed. Fig. 4 shows an image after the Fourier transformation. Then, the auxiliary line L2 was drawn in the horizontal direction at the center of the image of Fig. 4, and the luminance on the auxiliary line was plotted (see Fig. 5). 5, an auxiliary line L3 orthogonal to the auxiliary line L2 and a value 'X' (reciprocal number of the most frequent pitch) is drawn, and the luminance L3 on the auxiliary line L3 (See Fig. 6). Then, in the plot of Fig. 6, the orientation degree of the concavo-convex pattern was found from the half width W1 of the peak. The values thereof are shown in Table 1.

또, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치 및 바닥부의 평균 깊이로부터, 광확산체로서의 적성을 이하의 기준으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 1에 나타낸다. The suitability as an optical diffuser was evaluated based on the following criteria based on the most frequent pitch of the concavo-convex pattern and the average depth of the bottom portion. The evaluation results are shown in Table 1.

○: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이며, 배향도가 0.3∼1.0이어서,광확산체로서 적합하다. ?: 10% or more when the most frequent pitch of the concavo-convex pattern is 1 占 퐉 to 20 占 퐉 and the average depth is 100% when the most frequent pitch is 100%, and the degree of orientation is 0.3 to 1.0, .

△: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘거나, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이거나, 혹은 배향도가 0.3미만이어서, 광확산체로서 반드시 적합하지 않다. ?: Less than 10% or the degree of orientation is less than 0.3 when the most frequent pitch of the concave-convex pattern is not more than 1 占 퐉 or not more than 20 占 퐉 and the average depth is the most frequent pitch as 100% It is not always suitable as an optical diffuser.

×: 요철 패턴을 형성할 수 없다 X: Uneven pattern can not be formed

요철패턴의
평균피치(㎛)Uneven pattern
Average pitch (占 퐉) 요철패턴의
평균깊이(㎛)Uneven pattern
Average depth (탆) 깊이/피치
(%)Depth / pitch
(%) 배향도Orientation 평가evaluation 실시예 1Example 1 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 2Example 2 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 3Example 3 1010 1010 100100 0.30.3 OO 실시예 4Example 4 22 0.40.4 2020 0.30.3 OO 실시예 5Example 5 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 6Example 6 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 7Example 7 22 22 100100 0.30.3 OO 실시예 8Example 8 22 22 100100 0.30.3 OO 비교예 1Comparative Example 1 6060 6060 100100 0.30.3 △△ 비교예 2Comparative Example 2 0.40.4 0.40.4 100100 0.30.3 △△ 비교예 3Comparative Example 3 22 0.180.18 99 0.30.3 △△ 비교예 4Comparative Example 4 55 66 120120 0.160.16 △△ 비교예 5Comparative Example 5 요철 패턴을 형성하지 않음No rugged pattern formed XX 비교예 6Comparative Example 6 요철 패턴을 형성하지 않음No rugged pattern formed XX

적층 시트의 표면 평활 경질층을 접듯이 변형시킨 실시예 1∼8에서는 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있었다. In Examples 1 to 8 in which the smooth surface hard layer of the laminated sheet was deformed like a fold, the concavo-convex pattern-forming sheet could be easily produced.

게다가, 실시예 1∼8의 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서, 광확산체로서 적합하였다. 실시예 1∼4에서, 상기와 같은 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이를 얻을 수 있었던 것은, 표면 평활 경질층의 두께가 0.05㎛~5㎛이고, 그 변형율을 10% 이상으로 했기 때문이다. In addition, the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 1 to 8 were obtained in such a manner that the most frequent pitch of the concavo-convex pattern was 1 占 퐉 to 20 占 퐉 and the average depth of the bottom portion was 10 %, Which is suitable as a light diffusing body. In Examples 1 to 4, the most frequent pitch and average depth as described above were obtained because the thickness of the smooth surface hard layer was 0.05 탆 to 5 탆, and the strain rate was 10% or more.

또, 실시예 1에서 얻은 요철 패턴 형성 시트(광확산체)를 공정 시트로서 이용한 실시예 5∼8의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트(광확산체)과 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광확산체를 간편하게 제조할 수 있었다. In addition, according to the manufacturing methods of Examples 5 to 8 using the concavo-convex pattern forming sheet (light diffusing body) obtained in Example 1 as a process sheet, the most frequent pitch and the pitch equal to those of the concavo-convex pattern forming sheet It was possible to easily manufacture an optical diffuser having an irregular pattern of an average depth.

이에 대하여, 비교예 1 및 2에서는, 표면 평활 경질층의 두께가 0.05㎛이하 혹은 5㎛을 넘었기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트(광확산체)는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘었다. 또, 비교예 3에서는, 변형율을 3%로 했기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이었다. 또, 비교예 4에서는 배향도가 0.3미만이었다. 이들 비교예 1∼4는 광확산체로서 적합하지 않았다. On the contrary, in Comparative Examples 1 and 2, since the thickness of the smooth surface hard layer was 0.05 m or less or 5 m or more, the obtained concavo-convex pattern forming sheet (light diffusing material) Mu m or less than 20 mu m. In Comparative Example 3, since the strain was 3%, the obtained concavo-convex pattern-forming sheet had an average depth at the bottom of the concavo-convex pattern of less than 10% when the most frequent pitch was taken as 100%. In Comparative Example 4, the degree of orientation was less than 0.3. These Comparative Examples 1 to 4 were not suitable as light diffusers.

또, 수지층으로 2축 연장 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 이용한 비교예 5 및 제1 수지보다 제2 수지의 유리 전이 온도가 낮은 적층 시트를 이용한 비교예 6의 제조 방법에서는, 표면 평활 경질층이 접듯이 변형되지 않았기 때문에, 요철 패턴이 형성되지 않았다. In Comparative Example 5 using a biaxially extending polyethylene terephthalate film as the resin layer and Comparative Example 6 using the second resin having a lower glass transition temperature than that of the first resin, Since it was not deformed, no concavo-convex pattern was formed.

이하의 예에 있어서의 영율(Young's modulus)은 인장 시험기 (오리엔테크 주식 회사制 텐시론RTC-1210)을 이용하고, JIS Z 2280-1993의 「금속재료의 고온 영율(Young's modulus) 시험 방법」에서 온도를 23도로 변경해서 측정한 값이다. 경질층이 금속화합물로 이루어진 경우에도 마찬가지이다. Young's modulus in the following examples is measured by using a tensile tester (Tensilon RTC-1210 manufactured by Orientech Co., Ltd.) and measuring the Young's modulus of JIS Z 2280-1993 It is measured by changing the temperature to 23 degrees. The same applies to the case where the hard layer is made of a metal compound.

(실시예 9) (Example 9)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 X-10S)의 한 면에, 영율(Young's modulus)이 70GPa인 알루미늄을 두께가 0.05㎛이 되도록 진공증착시킴으로써 표면 평활 경질층을 형성하여 적층 시트를 얻었다. Young's modulus was measured on one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Hissipet X-10S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) having a thickness of 50 탆 and a Young's modulus of 3 GPa, And aluminum of 70 GPa was vacuum-deposited to a thickness of 0.05 m to form a smooth surface hard layer, to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 100℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 40%로 열수축시키고 (즉, 변형율 60%로 변형시키고), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직하는 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 100 占 폚 for 1 minute to heat shrink to 40% of the length before heating (i.e., to deform at 60% strain), and the hard layer was subjected to a periodic wave Thereby obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet having a concavo-convex pattern of a shape.

이어서, 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하고, 아래와 같이하여 광확산체를 얻었다. Subsequently, a concavo-convex pattern-forming sheet was used as an original plate of the process sheet, and a light diffuser was obtained as follows.

즉, 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, an uncured UV-curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트 원판과 접하지 않는 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 mu m was laminated on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the raw sheet of the process sheet and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여 미경화의 자외선경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured ultraviolet ray curable resin, and the cured product was peeled from the original plate of the process sheet to obtain a light diffuser.

(실시예 10) (Example 10)

실시예 9의 방법에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산체를 얻었다. Using the uneven pattern-forming sheet obtained by the method of Example 9 as a process sheet original plate, a light diffuser was obtained in the following manner.

즉, 실시예 9에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에 니켈 도금을 실시하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, the surface of the process sheet sheet obtained in Example 9 on which the concavo-convex pattern was formed was subjected to nickel plating, and the nickel plating was peeled off to obtain a secondary process sheet having a thickness of 200 μm. An uncured UV curable resin composition including an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선 경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하지 않는 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하고, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 mu m was superimposed on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the secondary process sheet and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여, 미경화의 경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured curable resin, and the cured product was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(실시예 11)(Example 11)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하였고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열변화성 에폭시 수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 10과 같은 식으로 해서 광확산체를 얻었다. A light diffusing body was obtained in the same manner as in Example 10 except that a heat-convertible epoxy resin was used in place of the ultraviolet ray-curable resin composition, and the heat-transformable epoxy resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

(실시예 12)(Example 12)

실시예 10과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 후, 냉각·고착화시키고, 고착화한 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산체를 얻었다. A secondary process sheet having a thickness of 200 탆 was obtained in the same manner as in Example 10. A polymethyl methacrylate film having a thickness of 50 占 퐉 was superimposed on the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed and heated. The polymethylmethacrylate film softened by heating and the secondary process sheet were pressed on both sides, cooled and fixed, and the adhered polymethylmethacrylate film was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffuser.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

알루미늄을 두께가 0.3㎛이 되도록 진공증착한 것을 제외하고는 실시예 9과 같은 식으로 해서 광확산체를 얻었다. A light diffuser was obtained in the same manner as in Example 9, except that aluminum was vacuum-deposited so as to have a thickness of 0.3 mu m.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

알루미늄을 두께가 0.01㎛이 되도록 진공증착한 것을 제외하고는 실시예 9과 같은 식으로 하여 광확산체를 얻었다. A light diffuser was obtained in the same manner as in Example 9 except that aluminum was vapor-deposited in a thickness of 0.01 mu m.

(비교예 9) (Comparative Example 9)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S)의 한 면에, 영율(Young's modulus) 70GPa의 알루미늄을 두께가 0.05㎛이 되도록 진공증착시킴으로써 표면 평활 경질층을 형성하여 적층 시트를 얻었다. Young's modulus of 70 GPa (Young's modulus) was applied to one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Hissipet LX-10S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) having a thickness of 50 탆 and a Young's modulus of 3 GPa Of aluminum was vacuum-deposited to a thickness of 0.05 mu m to form a smooth surface hard layer, to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 70℃로 1분간 가열하고, 가열 전의 길이의 97%로 수축시킨(즉, 변형율 3%로 변형시킨) 것을 제외하고는 실시예 9과 같은 식으로 하여 광확산체를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 70 占 폚 for 1 minute, and then the laminate sheet was stretched in the same manner as in Example 9, except that the laminated sheet was shrunk to 97% of the length before heating (that is, strained at 3% .

실시예 9∼12 및 비교예 7∼9의 요철 패턴 형성 시트의 광확산체의 표면을 원자간력 현미경(일본 비코사制 나노 스코프 III)에 의해 촬영했다. The surfaces of the light diffusing bodies of the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 9 to 12 and Comparative Examples 7 to 9 were photographed by an atomic force microscope (Nano Scope III, manufactured by VIKO Corporation).

실시예 9∼12 및 비교예 7∼9의 요철 패턴 형성 시트에서는, 원자력 현미경 화상에서 요철 패턴의 깊이를 10군데에서 측정하였고, 그것들을 평균하여 평균 깊이를 구했다. In the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 9 to 12 and Comparative Examples 7 to 9, the depths of the concavo-convex patterns in the atomic force microscope images were measured at 10 places, and the average depth was obtained by averaging them.

또, 요철 패턴의 배향도를 아래와 같이 하여 구했다. The degree of orientation of the concavo-convex pattern was obtained as follows.

우선, 표면광학현미경에 의해 요철 패턴의 표면을 촬영하고, 그 화상을 그레이스케일의 파일로 변환했다(도 3 참조). 그 다음에, 그레이스케일의 파일 화상을 푸리에 변환했다. 도 4는 푸리에 변환후의 화상을 나타낸다. 그 다음에, 도 4의 화상의 중심에서 수평방향으로 보조선(L2)을 긋고, 그 보조선 상의 휘도를 플롯(도 5 참조)했다. 그 다음에, 도 5에 있어서, 보조선(L2)과 값 'X' (최빈(最頻) 피치의 역수)의 부분에서 직교하는 보조선(L3)을 긋고, 그 보조선(L3) 상의 휘도를 플롯(도 6 참조)했다. 그리고, 도 6의 플롯에 있어서, 피크의 반값폭(W1)으로부터 요철 패턴의 배향도를 구했다. First, the surface of the uneven pattern was photographed by a surface optical microscope, and the image was converted into a gray scale file (see Fig. 3). Then, the grayscale file image is Fourier transformed. Fig. 4 shows an image after Fourier transform. Then, the auxiliary line L2 was drawn in the horizontal direction at the center of the image of Fig. 4, and the luminance on the auxiliary line was plotted (see Fig. 5). 5, an auxiliary line L3 orthogonal to the auxiliary line L2 and a value 'X' (reciprocal number of the most frequent pitch) is drawn, and the luminance L3 on the auxiliary line L3 (See Fig. 6). Then, in the plot of Fig. 6, the degree of orientation of the concavo-convex pattern was determined from the half width W1 of the peak.

그것들의 값을 표 2에 나타낸다. The values of these are shown in Table 2.

또, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치 및 바닥부의 평균 깊이로부터, 광확산체로서의 적성을 이하의 기준으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 2에 나타낸다. The suitability as an optical diffuser was evaluated based on the following criteria based on the most frequent pitch of the concavo-convex pattern and the average depth of the bottom portion. The evaluation results are shown in Table 2.

○: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이며, 배향도가 0.3∼1.0이어서, 광확산체로서 적합함. ?: 10% or more when the most frequent pitch of the concavo-convex pattern is 1 占 퐉 to 20 占 퐉 and the average depth is 100% when the most frequent pitch is 100%, and the degree of orientation is 0.3 to 1.0, .

△: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘거나, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이거나, 혹은 배향도가 0.3미만이어서, 광확산체로서 반드시 적합한 것은 아님. ?: Less than 10% or the degree of orientation is less than 0.3 when the most frequent pitch of the concave-convex pattern is not more than 1 占 퐉 or not more than 20 占 퐉 and the average depth is the most frequent pitch as 100% It is not necessarily suitable as an optical diffuser.

×: 요철 패턴을 형성할 수 없음. X: Uneven pattern can not be formed.

요철 패턴의
평균피치(㎛)Uneven pattern
Average pitch (占 퐉) 요철 패턴의
평균깊이(㎛)Uneven pattern
Average depth (탆) 깊이/피치
(%)Depth / pitch
(%) 배향도Orientation 평가evaluation 실시예 9Example 9 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 실시예 10Example 10 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 실시예 11Example 11 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 실시예 12Example 12 3.03.0 3.03.0 100100 0.30.3 OO 비교예 7Comparative Example 7 3030 3030 100100 0.30.3 △△ 비교예 8Comparative Example 8 0.60.6 0.60.6 100100 0.30.3 △△ 비교예 9Comparative Example 9 3.03.0 0.270.27 99 0.30.3 △△

적층 시트의 표면 평활 경질층을 접듯이 변형시켜 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로 이용한 실시예 9∼12에서는, 요철 패턴을 갖는 광확산체를 용이하게 제조할 수 있었다. 특히, 실시예 9∼12로 얻은 광확산체는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛~20㎛이고, 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서, 광확산체로서 적합하였다. 실시예 9∼12에서, 상기와 같은 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이를 얻을 수 있었던 것은, 표면 평활 경질층의 두께가 0.01㎛~0.2㎛이고, 변형율을 10%이상으로 했기 때문이다. In Examples 9 to 12 in which a concavo-convex pattern-forming sheet obtained by deforming the surface smoothened hard layer of the laminated sheet as a folded sheet was used as a process sheet original plate, a light diffuser having a concavo-convex pattern could be easily produced. Particularly, in the optical diffusers obtained in Examples 9 to 12, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern was 1 占 퐉 to 20 占 퐉, and the average depth of the bottom portion was 10 %, Which is suitable as a light diffusing body. In Examples 9 to 12, the most frequent pitch and the average depth as described above were obtained because the thickness of the smooth surface hard layer was 0.01 탆 to 0.2 탆 and the strain rate was 10% or more.

이에 대하여, 비교예 7 및 8에서는, 표면 평활 경질층 두께가 0.01㎛이하 혹은 0.2㎛을 넘기 때문에, 얻어진 광확산체는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하 혹은 20㎛을 넘었다. 또, 비교예 9에서는, 변형율을 3%로 했기 때문에, 얻어진 광확산체는 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이었다. 또, 비교예 10에서는 배향도가 0.3미만이었다. 이것들은, 반드시 광확산체로서 적합한 것은 아니다. On the other hand, in Comparative Examples 7 and 8, the thickness of the surface smoothed hard layer exceeded 0.01 탆 or 0.2 탆 or more, so that the obtained light diffusing body had a peak pitch of 1 탆 or less or 20 탆 or more in the concavo-convex pattern. In Comparative Example 9, since the deformation rate was 3%, the average depth of the bottom portion of the concavo-convex pattern obtained was less than 10% when the most frequent pitch was taken as 100%. In Comparative Example 10, the degree of orientation was less than 0.3. They are not necessarily suitable as light diffusers.

(실시예 13) (Example 13)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리스티렌(폴리머 소스 주식 회사제 PS, 유리 전이 온도 100℃)을 요판 인쇄기 (마츠오산업(松尾産業) 주식 회사制 K프린팅푸르퍼)에 의해, 지름 50㎛이며 두께 500nm인 도트 형상으로 인쇄하여 인쇄 시트를 얻었다. On one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Hissipet LX-60S manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa, Polystyrene diluted in toluene (Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature: 100 占 폚) was impregnated into a dot shape having a diameter of 50 占 퐉 and a thickness of 500 nm by an intaglio printing machine (K Printing Furufure, manufactured by Matsuo Industry Co., And a printed sheet was obtained by printing.

도트의 패턴은, 폭 5cm×길이 10cm의 범위에서, 그 길이방향의 일단으로부터 타단을 향해서 도트 면적비율이 0∼100%의 범위에서 1cm마다 10%씩 증가하는 그라데이션 패턴으로 하였다. 한편, 도트 면적 비율 0%은 완전히 인쇄되어 있지 않은 것을 나타내고, 100%은 전면(全面)인쇄된 것을 나타낸다. The pattern of the dots was a gradation pattern in which the dot area ratio was increased by 10% every 1 cm in the range of 0 to 100% from one end of the length direction to the other end in the range of 5 cm width × 10 cm length. On the other hand, the dot area ratio 0% indicates that the ink is not completely printed, and 100% indicates that the ink is printed on the entire surface.

그 다음에, 그 인쇄 시트를 80℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 40%으로 열수축시켰다(즉, 변형율 60%로 변형시켰다). 80℃에 있어서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름의 영율(Young's modulus)(50MPa)보다, 폴리스티렌의 영율(Young's modulus) (1GPa)쪽이 높다. 그 때문에, 열수축시에 도트는 접히듯이 변형하고, 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 형성했다. 이에 의해, 평탄한 한 면에 요철영역이 형성된 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the printed sheet was heated at 80 DEG C for 1 minute and heat-shrunk to 40% of its length before heating (i.e., the sheet was deformed at a strain of 60%). At 80 deg. C, Young's modulus (1 GPa) of polystyrene is higher than Young's modulus (50 MPa) of polyethylene terephthalate heat shrinkable film. Therefore, at the time of heat shrinkage, the dots are deformed as if folded, and a periodic wavy concavo-convex pattern is formed along the direction perpendicular to the shrinkage direction. Thus, a concavo-convex pattern-forming sheet having a concave-convex area formed on a flat surface was obtained.

이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 5㎛이고, 아스펙트비는 1이며, 배향도는 0.3이었다. In this concavo-convex pattern-forming sheet, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern was 5 mu m, the aspect ratio was 1, and the degree of orientation was 0.3.

얻어진 요철 패턴 형성 시트의 광확산성을 조사했더니, 수축 방향에 대하여 수직한 방향보다도 평행한 방향에서 강하게 광을 확산시키는 이방확산성을 가지고 있었다. 또, 광확산성은 요철영역의 면적비율이 커지는 방향을 따라 점차적으로 증가했다. 이러한 실시예 13의 요철 패턴 형성 시트는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것이다. When the light diffusing property of the obtained unevenness pattern-forming sheet was examined, it had an anisotropic diffusing property of diffusing light strongly in a direction parallel to the direction perpendicular to the shrinking direction. In addition, the light diffusing property gradually increased along the direction in which the area ratio of the unevenness area became larger. The concavo-convex pattern-forming sheet of Example 13 can be used as a light diffusion sheet.

(실시예 14)(Example 14)

미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S 대신 2축 방향으로 가열 수축하는 두께 25㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 PX-40S)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 13과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. 이 요철 패턴 형성 시트의 한 면에는, 특정한 방향을 따르지 않는 물결 형상의 요철 패턴이 형성되어 있었다. A polyethylene terephthalate shrink film having a thickness of 25 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa which is heat shrinkable in a biaxial direction instead of Hishifet LX-60S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd. (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) PET PX-40S) was used in place of the polypropylene-based resin (PET PX-40S). On one surface of the concavo-convex pattern-forming sheet, a corrugated concavo-convex pattern not conforming to a specific direction was formed.

이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 5㎛이고, 아스펙트비는 1이었다. In this concavo-convex pattern-forming sheet, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern was 5 mu m and the aspect ratio was 1. [

실시예 14의 요철 패턴 형성 시트의 광학특성을 조사했더니, 등방적인 광확산성을 가지고 있었다. 따라서, 실시예 14의 요철 패턴 형성 시트는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것이다. When the optical characteristics of the concavo-convex pattern-forming sheet of Example 14 were examined, it was found that the sheet had isotropic light diffusivity. Therefore, the concavo-convex pattern-forming sheet of Example 14 can be used as a light diffusion sheet.

(실시예 15)(Example 15)

도트를 잉크젯 프린터(후지(富士) 필름 주식 회사 다이매틱스 매터리얼 프린터DMP-2831)에 의해 인쇄한 것을 제외하고는 실시예 13과 같은 식으로 해서 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. 이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 5㎛이고, 아스펙트비는 1이며, 배향도는 0.3이었다. A concavo-convex pattern-forming sheet was obtained in the same manner as in Example 13, except that the dots were printed by an ink jet printer (DEMATICS MATERIAL PRINTER DMP-2831 manufactured by Fuji Film Co., Ltd.). In this concavo-convex pattern-forming sheet, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern was 5 mu m, the aspect ratio was 1, and the degree of orientation was 0.3.

얻어진 요철 패턴 형성 시트의 광학특성을 조사한 결과, 실시예 13과 같은 이방 확산성을 가지고 있었다. 따라서, 실시예 15의 요철 패턴 형성 시트는 광확산 시트로서 이용할 수 있는 것이다. As a result of examining the optical characteristics of the obtained concavo-convex pattern-forming sheet, it had the same anisotropic diffusivity as in Example 13. [ Therefore, the concavo-convex pattern-forming sheet of Example 15 can be used as a light diffusion sheet.

(실시예 16)(Example 16)

실시예 13의 방법에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산 시트를 얻었다. A light diffusing sheet was obtained in the following manner by using the uneven pattern-forming sheet obtained by the method of Example 13 as a process sheet original plate.

즉, 실시예 13에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, an uncured UV-curable resin composition comprising an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied onto the surface of the process sheet sheet obtained in Example 13 on which the concavo- did.

이어서, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트 원판과 접하지 않은 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Subsequently, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 mu m was laminated on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the raw sheet of the process sheet and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여 미경화의 자외선경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 공정 시트 원판으로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured ultraviolet ray curable resin, and the cured product was peeled off from the original plate of the process sheet to obtain a light diffusion sheet.

얻어진 광확산 시트는, 실시예 13의 광확산 시트와 같은 요철영역을 가지고, 같은 광확산성을 갖는 것이었다. The obtained light-diffusing sheet had the same light-diffusing properties as the light-diffusing sheet of Example 13, and had the same light diffusing properties.

(실시예 17)(Example 17)

즉, 실시예 13에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 니켈 도금을 하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포했다. That is, the surface of the process sheet sheet obtained in Example 13 on which the concavo-convex pattern was formed was subjected to nickel plating, and the nickel plating was peeled off to obtain a secondary process sheet having a thickness of 200 μm. An uncured UV-curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 占 퐉 was superimposed on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the secondary process sheet and pressed.

이어서, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여, 미경화의 경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. Subsequently, ultraviolet light was irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured curable resin, and the cured product was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffusion sheet.

(실시예 18)(Example 18)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열변화성 에폭시 수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 17과 같은 식으로 해서 광확산 시트를 얻었다. A light diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 17, except that a heat-convertible epoxy resin was used in place of the ultraviolet ray-curable resin composition, and the heat-transformable epoxy resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

(실시예 19)(Example 19)

실시예 17과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 후, 냉각·고착화시키고, 고착화한 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. A secondary process sheet having a thickness of 200 mu m was obtained in the same manner as in Example 17. [ A polymethyl methacrylate film having a thickness of 50 탆 was superimposed on the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed and heated. The polymethyl methacrylate film softened by heating and the secondary process sheet were pressed on both sides and then cooled and fixed, and the adhered polymethyl methacrylate film was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffusion sheet.

(실시예 20) (Example 20)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌 테레프탈레이트제 가열 수축성 필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 도트 형상의 개구부(공경50㎛)가 다수 형성된 마스크를 탑재하였다. On one side of a heat shrinkable film made of polyethylene terephthalate (Hissipet LX-10S, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa, And a mask in which a plurality of dot-shaped openings (pores of 50 mu m) were formed was mounted.

마스크의 개구부의 패턴은, 폭 5cm×길이 10cm의 범위 안에서, 그 길이방향의 일단으로부터 타단을 향해서 개구부 면적비율이 0∼100%의 범위에서 1cm마다 10%씩 증가하는 그라데이션 패턴으로 형성되었다. 한편, 개구부 면적 0%은 개구하지 않고 있는 것을 나타내고, 100%은 전면(全面) 개구하고 있는 것을 나타낸다. The opening pattern of the mask was formed in a gradation pattern in which the ratio of opening area from one end of the length direction to the other end was within a range of 5 cm width × 10 cm length by 10% every 1 cm in the range of 0-100%. On the other hand, the opening area 0% indicates that no opening is made, and 100% indicates that the front opening is entirely opened.

그 다음에, 가열 수축성 필름의 한 면에 마스크를 탑재한 상태로, 영율(Young's modulus)이 70GPa인 알루미늄을 두께가 0.05㎛이 되도록 진공증착시켜, 증착 시트 얻었다. Then, in a state in which the mask was mounted on one surface of the heat shrinkable film, aluminum having a Young's modulus of 70 GPa was vacuum-deposited to a thickness of 0.05 mu m to obtain a vapor deposition sheet.

이 때, 가열 수축성 필름의 한 면에는 알루미늄의 도트가 형성된다. 그 도트 패턴은, 폭 5cm×길이 10cm의 범위에, 길이방향의 일단으로부터 타단을 향해서 도트 면적비율이 0∼100%의 범위에서 1cm마다 10%씩 증가하는 그라데이션 패턴이 된다. 한편, 도트면적 비율 0%은 완전히 증착되어 있지 않은 것을 나타내고, 100%은 전면(全面)에 증착된 것을 나타낸다. At this time, aluminum dots are formed on one surface of the heat shrinkable film. The dot pattern becomes a gradation pattern in which the dot area ratio increases from 10 to 10 cm per cm in the range of 0 to 100% from one end in the longitudinal direction to the other end in the range of 5 cm in width × 10 cm in length. On the other hand, a dot area ratio of 0% indicates that the film is not completely vapor-deposited, and 100% indicates that the film is deposited on the entire surface.

그 다음에, 그 증착 시트를 100℃로 1분간 가열하여 가열 전의 길이의 40%로 열수축시켰다(즉, 변형율 60%으로 변형시켰다). 열수축 시에 도트는 접히듯이 변형되고, 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 형성하였다. 이에 의해, 한 면에 요철영역을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the deposited sheet was heated at 100 DEG C for 1 minute and heat-shrunk to 40% of the length before heating (i.e., strain was changed to 60%). At the time of heat shrinkage, the dots were deformed as if folded, and a wave-like irregular pattern was formed periodically along the direction perpendicular to the shrinkage direction. Thus, a concavo-convex pattern-forming sheet having a convexo-concave region on one side was obtained.

이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 3㎛이고, 아스펙트비는 1이며, 배향도는 0.3이었다. In this concavo-convex pattern-forming sheet, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern was 3 mu m, the aspect ratio was 1, and the degree of orientation was 0.3.

이어서, 얻어진 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산 시트를 얻었다. Subsequently, a light diffusion sheet was obtained in the following manner by using the obtained unevenness pattern-forming sheet as a process sheet original plate.

즉, 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선 경화성 수지조성물을 도포했다. That is, an uncured UV-curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate, and benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the process sheet original plate on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음으로, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트 원판과 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 증첩하여, 가압하였다. Next, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 占 퐉 was piled up on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not contacting the raw sheet of the process sheet, and pressed.

얻어진 광확산 시트의 광학특성을 조사했더니, 실시예 13과 같은 이방확산성을 가지고 있었다. The optical properties of the resulting light-diffusing sheet were examined.

(실시예 21)(Example 21)

미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S 대신 2축 방향으로 가열 수축하는 두께 25㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 PX-40S)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 20과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. 이 요철 패턴 형성 시트에 있어서, 요철영역의 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치는 3㎛이고, 아스펙트비는 1이었다. A polyethylene terephthalate shrink film having a thickness of 25 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa which is heat shrinkable in a biaxial direction instead of the Hissifet LX-60S manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd. (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) PET PX-40S) was used in place of the polyimide resin (PX-40S). In this concavo-convex pattern-forming sheet, the most frequent pitch of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern was 3 mu m and the aspect ratio was 1. [

그 다음에, 이 요철 패턴 형성 시트를 이용하여, 실시예 20과 같은 식으로 하여, 광확산 시트를 얻었다. 실시예 21의 광확산 시트의 광학특성을 조사했더니, 이방적인 광확산성을 가지고 있었다. Then, using this concavo-convex pattern-forming sheet, a light diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 20. The optical characteristics of the light diffusing sheet of Example 21 were examined and found to have anisotropic light diffusing properties.

(실시예 22)(Example 22)

실시예 20의 방법에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트 원판으로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광확산 시트를 얻었다. Using the uneven pattern-forming sheet obtained by the method of Example 20 as a process sheet original plate, a light-diffusing sheet was obtained in the following manner.

즉, 실시예 20에 의해 얻은 공정 시트 원판의 요철 패턴이 형성된 면에, 니켈 도금을 실시하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛인 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포하였다. That is, the surface of the process sheet sheet obtained in Example 20 on which the concavo-convex pattern was formed was subjected to nickel plating, and the nickel plating was peeled off to obtain a secondary process sheet having a thickness of 200 μm. An uncured UV curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 2차 공정 시트와 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하고, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 탆 was superimposed on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the secondary process sheet, and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사하여 미경화의 경화성 수지를 경화시켰고, 그 경화물을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured curable resin, and the cured product was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffusion sheet.

얻어진 광확산 시트는 실시예 20의 광확산 시트와 같은 요철영역을 가지며, 같은 광확산성을 갖는 것이었다. The obtained light-diffusing sheet had the same concavo-convex area as the light-diffusing sheet of Example 20, and had the same light diffusing property.

(실시예 23)(Example 23)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열변화성 에폭시 수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 22와 같은 식으로 해서 광확산 시트를 얻었다. A light diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 22, except that a heat-convertible epoxy resin was used in place of the ultraviolet-curable resin composition, and the heat-convertible epoxy resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet light.

얻어진 광확산 시트는 실시예 20의 광확산 시트와 같은 요철영역을 가지고, 같은 광확산성을 갖는 것이었다. The obtained light-diffusing sheet had the same light-diffusing property as the light-diffusing sheet of Example 20, and had the same light diffusing property.

(실시예 24)(Example 24)

실시예 22와 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 2차 공정 시트를 얻었다. 이 2차 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하고, 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 2차 공정 시트를 양측에서 가압한 후, 냉각·고착화시키고, 고착화한 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 2차 공정 시트로부터 박리하여 광확산 시트를 얻었다. A secondary process sheet having a thickness of 200 mu m was obtained in the same manner as in Example 22. [ A polymethyl methacrylate film having a thickness of 50 탆 was superimposed on the surface of the secondary process sheet on which the concavo-convex pattern was formed and heated. The polymethyl methacrylate film softened by heating and the secondary process sheet were pressed on both sides and then cooled and fixed, and the adhered polymethyl methacrylate film was peeled from the secondary process sheet to obtain a light diffusion sheet.

한 면에 요철영역이 혼재한 실시예 13∼24의 광학 시트에서는, 요철영역의 요철 패턴에 의해 광이 확산하기 때문에, 광확산성이 뛰어나다. 또, 상기 광학 시트에서는 요철영역이 길이방향의 타단측에서 조밀하게 배치되어 있기 때문에, 길이 방향의 타단측에서 광확산성이 높다. In the optical sheets of Examples 13 to 24 in which the concavo-convex areas are mixed on one side, light is diffused by the concavo-convex pattern of the concavo-convex area, Further, in the optical sheet, the concavity and convexity is densely arranged at the other end side in the longitudinal direction, so that light diffusibility is high at the other end side in the longitudinal direction.

이하의 예에 있어서의 영율(Young's modulus)은 인장 시험기 (테스터 산업사制 TE-7001)을 이용하여, JIS K 7113-1995에 준거해서 측정한 값이다. 특히 온도를 기재하고 있지 않은 경우에는 23℃에 있어서의 영율(Young's modulus) 값이다. Young's modulus in the following examples is a value measured in accordance with JIS K 7113-1995 using a tensile tester (TE-7001 manufactured by Tester Industries). In particular, when the temperature is not described, it is the Young's modulus at 23 ° C.

(실시예 25) (Example 25)

일축방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-60S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 스핀 코트법에 의해 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one side of a polyethylene terephthalate shrink film (Hissipet LX-60S, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa for heat shrinking in the uniaxial direction, (P4831-MMA, Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature: 100 占 폚) diluted in water to a thickness of 12 nm by spin coating to form a hard layer to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 80℃로 1분간 가열하여 가열 전의 길이의 40%로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 60%로 변형시킴으로써), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 80 DEG C for 1 minute and heat shrunk to 40% of the length before heating (i.e., by deforming at 60% strain), whereby the hard layer was subjected to a periodic wave Thereby obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet having a concavo-convex pattern of a shape.

한편, 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름 및 상기 폴리메틸메타크릴레이트의 80℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, the Young's modulus of the polyethylene terephthalate shrink film and the polymethyl methacrylate at 80 DEG C were 50 MPa and 1 GPa, respectively.

(실시예 26) (Example 26)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-61S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 물에 희석한 폴리비닐알콜(주식 회사 쿠라레 제PVA105, 유리 전이 온도 85℃)을 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one side of a polyethylene terephthalate shrink film (Hissipet LX-61S, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa for heat shrinking in the uniaxial direction, (Glass transition temperature: 85 占 폚) diluted with polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA105) to a thickness of 12 nm to form a hard layer to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 75℃로 1분간 가열하여 가열 전의 길이의 50%로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 50%로 변형시킴으로써), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 75 占 폚 for 1 minute and heat-shrunk to 50% of the length before heating (i.e., by deforming at a strain of 50%) so that the hard layer was subjected to a periodic wave Thereby obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet having a concavo-convex pattern of a shape.

한편, 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름 및 상기 폴리비닐알콜의 75℃에 있어서의 영율(Young's modulus)은 각각, 50MPa, 1GPa이었다. On the other hand, the Young's modulus of the polyethylene terephthalate shrink film and the polyvinyl alcohol at 75 캜 were 50 MPa and 1 GPa, respectively.

(실시예 27) (Example 27)

일축 방향으로 열수축하는 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트LX-61S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 불소 수지(주식 회사티 앤드 케이制 나노스B)를 두께가 12㎛이 되도록 증착, 고착화함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one side of a polyethylene terephthalate shrink film (Hissipet LX-61S, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and a Young's modulus of 3 GPa for heat shrinking in the uniaxial direction, Resin (Nano-B manufactured by T & K Co., Ltd.) was vapor-deposited and fixed to have a thickness of 12 μm to form a hard layer to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 75℃로 1분간 가열하여 가열전의 길이의 50%으로 열수축시킴으로써(즉, 변형율 50%로 변형시킴으로써), 경질층이 수축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 75 占 폚 for 1 minute and heat-shrunk to 50% of the length before heating (i.e., by deforming at a strain of 50%) so that the hard layer was subjected to a periodic wave Thereby obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet having a concavo-convex pattern of a shape.

(실시예 28)(Example 28)

영율(Young's modulus) 2MPa인 폴리디메틸실록산으로 이루어지는 두께 5mm의 시트를 인장 장치에 의해 2배의 길이가 될 때까지 인장하고, 그 상태로 고정했다. 그리고, 그 상태로, 상기 시트의 한 면에 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. A sheet of 5 mm in thickness made of polydimethylsiloxane having a Young's modulus of 2 MPa was stretched to a length of 2 times by a tensioning device and fixed in this state. In this state, a hard layer was formed by applying polymethyl methacrylate (P4831-MMA manufactured by Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature: 100 占 폚) diluted with toluene to a thickness of 12 nm on one side of the sheet To obtain a laminated sheet.

그 다음에, 인장을 멈추고, 그 적층 시트를 인장 전의 길이로 되돌아가게 함에 따라, 경질층을 변형율 50%로 압축하고, 경질층이 압축 방향에 대하여 수직한 방향을 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Thereafter, the tension is stopped and the laminated sheet is returned to the length before the stretching, the hard layer is compressed to a strain rate of 50%, and the hard layer is subjected to a periodic wave- To obtain a concavo-convex pattern-forming sheet.

(실시예 29)(Example 29)

영율(Young's modulus) 2MPa의 폴리디메틸실록산으로 이루어진 두께 5mm의 시트의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. Young's modulus Polymethyl methacrylate (P4831-MMA manufactured by Polymer Source Co., Ltd., glass transition temperature: 100 占 폚) diluted in toluene was coated on one surface of a 5 mm thick sheet made of polydimethylsiloxane having a Young's modulus of 2 MPa to a thickness of 12 nm So that a hard layer was formed to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 인장 장치에 의해 적층 시트를 5배의 길이까지 인장함에 따라, 인장 방향의 법선방향의 길이를 50% 수축시키고 (즉, 변형율 50%로 변형시키고), 경질층이 인장 방향에 따라 주기적인 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, by stretching the laminated sheet to a length of 5 times by the tensioning device, the length in the normal direction of the tensile direction is shrunk by 50% (i.e., the strain is deformed by 50%) and the hard layer is stretched along the stretching direction Thereby obtaining a concavo-convex pattern-forming sheet having a concavo-convex pattern of a periodic wave shape.

(비교예 10)(Comparative Example 10)

폴리메틸메타크릴레이트를 두께가 60nm이 되도록 도포한 것을 제외하고는 실시예 25과 같은 식으로 하여 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. An uneven pattern-forming sheet was obtained in the same manner as in Example 25 except that polymethyl methacrylate was applied so as to have a thickness of 60 nm.

(비교예 11)(Comparative Example 11)

쉬링크 필름 대신 두께 50㎛, 영율(Young's modulus) 5GPa인 2축 연장 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(테이진(帝人) 주식 회사제 G2)을 이용한 것을 제외하고는 실시예 25과 같은 식으로 하여 요철 패턴 공정용 시트를 얻는 것을 시도했다. 그러나, 물결 형상의 요철 패턴이 형성되지 않았고, 요철 패턴 공정용 시트가 얻을 수 없었다. Except that a biaxially oriented polyethylene terephthalate film (G2 manufactured by Teijin KK) having a thickness of 50 탆 and a Young's modulus of 5 GPa was used in place of the shrink film, I tried to get a sheet for use. However, a wavy concavo-convex pattern was not formed, and a sheet for the concave-convex pattern process could not be obtained.

(비교예 12) (Comparative Example 12)

일축방향으로 열수축하고 두께 50㎛이며 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S)의 한 면에, 톨루엔에 희석한 폴리메틸메타크릴레이트(폴리머 소스 주식 회사制 P4831-MMA, 유리 전이 온도 100℃)를 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 표면 평활 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one surface of a polyethylene terephthalate shrink film (Hissipet LX-10S, manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 50 탆 and a Young's modulus of 3 GPa, heat shrinked in the uniaxial direction, polymethyl methacrylate (P4831-MMA manufactured by Polymer Source Co., Ltd .; glass transition temperature: 100 占 폚) so as to have a thickness of 12 nm to obtain a laminate sheet having a smooth surface hard layer.

그 다음에, 그 적층 시트를 70℃에서 1분간 가열하고, 가열 전의 길이의 97%로 수축시켜(즉, 변형율 3%로 변형시켜), 요철 패턴 공정용 시트를 얻은 것을 제외하고는 실시예 25과 같은 식으로 하여, 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. Then, the laminated sheet was heated at 70 ° C for 1 minute and shrunk to 97% of the length before heating (that is, deformed at a strain of 3%) to obtain a sheet for a concavo- , A concavo-convex pattern-forming sheet was obtained.

(비교예 13) (Comparative Example 13)

일축방향으로 열수축하고 두께 50㎛이며 영율(Young's modulus) 3GPa인 폴리에틸렌테레프탈레이트 쉬링크필름(미쓰비시수지(三菱樹脂) 주식 회사制 히시페트 LX-10S, 유리 전이 온도 70℃)의 한 면에, 영율(Young's modulus)이 2MPa인 폴리디메틸실록산(신에츠 화학공업(信越化學工業) 주식 회사 KS847T, 유리 전이 온도-120℃)와 백금촉매(신에츠화학공업(信越化學工業) 주식 회사 PS-1)을 톨루엔에 희석한 분산 액을 스핀 코트법에 의해 두께가 12nm이 되도록 도포함으로써 경질층을 형성해서 적층 시트를 얻었다. On one side of a polyethylene terephthalate shrink film (Hissipet LX-10S, manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc., glass transition temperature: 70 占 폚) having a thickness of 50 占 퐉 and Young's modulus of 3 GPa, (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KS847T, glass transition temperature-120 占 폚) and a platinum catalyst (PS-1 from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) having a Young's modulus of 2 MPa were dissolved in toluene Was applied by spin coating to a thickness of 12 nm to form a hard layer to obtain a laminated sheet.

그 다음에, 그 적층 시트를 100℃로 1분간 가열하고, 열수축시키는 것에 의해, 요철 패턴 형성 시트를 얻으려고 했지만, 경질층이 사행 변형하지 않았고, 그 결과, 물결 형상의 요철 패턴은 형성되지 않았다. Then, the laminated sheet was heated at 100 占 폚 for one minute and thermally shrunk to obtain a concavo-convex pattern-forming sheet. However, the hard layer did not undergo warp deformation, and as a result, a wavy concavo-convex pattern was not formed .

(실시예 30)(Example 30)

실시예 25에 의해 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트로서 이용하여, 아래와 같은 방식으로 광학소자를 얻었다. Using the uneven pattern-forming sheet obtained in Example 25 as a process sheet, an optical element was obtained in the following manner.

즉, 실시예 25에 의해 얻은 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합 개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포하였다. That is, an uncured UV-curable resin composition containing an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the process sheet obtained in Example 25 on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 공정 시트와 접하지 않은 면에, 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 탆 was superimposed on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the process sheet and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 경화시키고, 그 경화물을 공정 시트로부터 박리하여 광학소자를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured UV-curable resin composition, and the cured product was peeled from the process sheet to obtain an optical element.

(실시예 31)(Example 31)

즉, 실시예 25에 의해 얻은 공정 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 니켈 도금을 실시하고, 그 니켈 도금을 박리하여 두께 200㎛의 니켈 도금 시트를 얻었다. 이 니켈 도금 시트의 요철 패턴이 형성된 면에 에폭시 아크릴레이트계 프레폴리머, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 벤조페논계 광중합개시제를 포함하는 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 도포하였다. That is, the surface of the process sheet obtained in Example 25 on which the concavo-convex pattern was formed was subjected to nickel plating, and the nickel plating was peeled off to obtain a nickel-plated sheet having a thickness of 200 탆. An uncured UV-curable resin composition comprising an epoxy acrylate prepolymer, 2-ethylhexyl acrylate and a benzophenone-based photopolymerization initiator was applied to the surface of the nickel-plated sheet on which the concavo-convex pattern was formed.

그 다음에, 미경화의 자외선경화성 수지조성물의 도막의 면들 중 니켈 도금 시트와 접하지 않은 면에 두께 50㎛의 트리아세틸 셀룰로우즈 필름을 중첩하여, 가압하였다. Then, a triacetylcellulose film having a thickness of 50 mu m was laminated on the surface of the coating film of the uncured UV-curable resin composition not in contact with the nickel plating sheet, and pressed.

그 다음에, 트리아세틸 셀룰로우즈 필름 위로부터 자외선을 조사해 미경화의 자외선경화성 수지조성물을 경화시키고, 그 경화물을 니켈 도금 시트로부터 박리하여 광학소자를 얻었다. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the triacetylcellulose film to cure the uncured ultraviolet ray curable resin composition, and the cured product was peeled from the nickel plated sheet to obtain an optical element.

(실시예 32)(Example 32)

자외선 경화성 수지조성물 대신 열변화성 에폭시 수지를 사용하고, 자외선을 조사하는 대신 가열에 의해 상기 열경화성수지를 경화시킨 것을 제외하고는 실시예 31과 같은 식으로 해서 광학소자를 얻었다. An optical element was obtained in the same manner as in Example 31, except that a heat-convertible epoxy resin was used in place of the ultraviolet-curing resin composition and the thermosetting resin was cured by heating instead of irradiating ultraviolet rays.

(실시예 33)(Example 33)

실시예 11과 같은 식으로 하여, 두께 200㎛의 니켈 도금 시트를 얻었다. 이 니켈 도금 시트의 요철 패턴이 형성된 면에, 두께 50㎛의 폴리메틸 메타크릴레이트 필름을 중첩하여 가열했다. 가열에 의해 연화된 폴리메틸 메타크릴레이트 필름과 니켈 도금 시트를 양측에서 가압한 뒤, 냉각·고착화시키고, 니켈 도금 시트로부터 박리하여 요철 패턴 형성 시트를 얻었다. A nickel-plated sheet having a thickness of 200 탆 was obtained in the same manner as in Example 11. A polymethyl methacrylate film having a thickness of 50 占 퐉 was superimposed on the surface of the nickel-plated sheet on which the concavo-convex pattern was formed and heated. The polymethyl methacrylate film softened by heating and the nickel-plated sheet were pressed on both sides, cooled and fixed, and peeled off from the nickel-plated sheet to obtain a concavo-convex pattern-forming sheet.

실시예 25∼33, 비교예 10∼13의 요철 패턴 형성 시트의 광학소자의 표면을 원자력 현미경(일본 비코사制 나노 스코프 III)에 의해 촬영했다. The surfaces of the optical elements of the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 25 to 33 and Comparative Examples 10 to 13 were photographed by an atomic force microscope (Nano Scope III, manufactured by VicoCorps, Japan).

실시예 25∼33, 비교예 10∼13의 요철 패턴 형성 시트의 광학소자에서는 원자간력 현미경 화상에서 요철 패턴의 깊이를 10군데에서 측정하고, 그것들을 평균하여 평균 깊이를 구했다. In the optical elements of the concavo-convex pattern-forming sheets of Examples 25 to 33 and Comparative Examples 10 to 13, the depth of concavo-convex pattern was measured at 10 places in an atomic force microscope image, and the average depth was obtained by averaging them.

그것들의 값을 표 3에 나타낸다. Their values are shown in Table 3.

또, 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치 및 바닥부의 평균 깊이로부터, 광학소자로서의 적성을 이하의 기준으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 3에 나타낸다. The suitability as an optical element was evaluated based on the following criteria based on the most frequent pitch of the concavo-convex pattern and the average depth of the bottom portion. The evaluation results are shown in Table 3.

○: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서 광학소자로서 적합함. ?: The most frequent pitch of the uneven pattern is 1 占 퐉 or less, and the average depth is 10% or more when the most frequent pitch is taken as 100%, which is suitable as an optical element.

×: 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘거나, 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이어서 광학소자로서 적합하지 않음. X: The most frequent pitch of the concavo-convex pattern is more than 1 占 퐉, and the average depth is less than 10% when the most frequent pitch is 100%, which is not suitable as an optical element.

요철패턴의
피치(㎛)Uneven pattern
Pitch (占 퐉) 요철패턴 최심부의
깊이(㎛)Concave-convex pattern
Depth (㎛) 깊이/피치(%)Depth / Pitch (%) 평가evaluation 실시예 25Example 25 280280 250250 8989 OO 실시예 26Example 26 280280 230230 8282 OO 실시예 27Example 27 300300 250250 8282 OO 실시예 28Example 28 280280 230230 8282 OO 실시예 29Example 29 280280 230230 8282 OO 비교예 10Comparative Example 10 11001100 700700 6464 XX 비교예 11Comparative Example 11 요철패턴을 형성하지 않음No rugged pattern formed XX 비교예 12Comparative Example 12 300300 2828 99 XX 비교예 13Comparative Example 13 요철패턴을 형성하지 않음No rugged pattern formed XX 실시예 30Example 30 280280 250250 8989 OO 실시예 31Example 31 280280 250250 8989 OO 실시예 32Example 32 280280 250250 8989 OO 실시예 33Example 33 280280 250250 8989 OO

제1 수지제의 기판의 한 면에 제1 수지의 유리 전이 온도보다 10℃이상 높은 유리 전이 온도를 가지는 제2 수지로 이루어지는 경질층이 설치된 적층 시트를 사행 변형시킨 실시예 25∼29, 비교예 10, 12의 제조 방법에서, 요철 패턴 형성 시트를 용이하게 제조할 수 있었다. 또, 실시예 25∼29에서 얻은 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛이하이고, 바닥부의 평균 깊이가 상기 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%이상이어서 광학소자로서 알맞은 것이었다. 실시예 25∼29에서, 상기와 같은 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이를 얻을 수 있던 것은 표면 평활 경질층의 두께가 50nm 이하이고, 변형율을 50% 이상으로 했기 때문이다. Examples 25 to 29 in which a laminated sheet provided with a hard layer made of a second resin having a glass transition temperature of 10 DEG C or more higher than the glass transition temperature of the first resin on one surface of the substrate of the first resin was subjected to a warping transformation, 10, and 12, the uneven pattern-forming sheet could be easily produced. The concavo-convex pattern-forming sheet obtained in Examples 25 to 29 had a concavo-convex pattern with a minimum pitch of 1 占 퐉 or less and an average depth at the bottom of 10% So that it was suitable as an optical element. In Examples 25 to 29, the most frequent pitch and average depth as described above were obtained because the thickness of the smooth surface hard layer was 50 nm or less and the strain rate was 50% or more.

또, 실시예 25에서 얻은 요철 패턴 형성 시트를 공정 시트로서 이용한 실시예 30∼33의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 간편하게 제조할 수 있었다. According to the manufacturing methods of Examples 30 to 33 using the concavo-convex pattern-forming sheet obtained in Example 25 as a process sheet, an optical element having a convexo-concave pattern of the most frequent pitch and average depth equivalent to the concave- So that it could be manufactured easily.

한편, 비교예 10에서는, 표면 평활 경질층 두께가 50nm을 넘기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 최빈(最頻) 피치가 1㎛을 넘었다. 또, 비교예 12에서는, 변형율을 3%로 했기 때문에, 얻어진 요철 패턴 형성 시트는 요철 패턴의 바닥부의 평균 깊이가 최빈(最頻) 피치를 100%로 했을 때의 10%미만이었다. 이것들은 반드시 광학소자로서 알맞은 것은 아니다. On the other hand, in Comparative Example 10, since the thickness of the surface smooth hard layer exceeded 50 nm, the obtained concavo-convex pattern-forming sheet had a peak pitch exceeding 1 탆 in the concavo-convex pattern. In Comparative Example 12, since the deformation rate was 3%, the obtained concavo-convex pattern forming sheet had an average depth at the bottom of the concavo-convex pattern of less than 10% when the most frequent pitch was taken as 100%. These are not necessarily suitable as optical elements.

이에 대하여, 수지층으로서 2축연장 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름을 이용한 비교예 11 및 제1 수지보다 제2 수지의 유리 전이 온도가 낮은 적층 시트를 이용한 비교예 13의 제조 방법에서는 표면 평활 경질층이 사행 변형하지 않았기 때문에, 요철 패턴이 형성되지 않았다. On the other hand, in Comparative Example 11 using a biaxially extending polyethylene terephthalate film as a resin layer and Comparative Example 13 using a second resin having a lower glass transition temperature than that of the first resin, No concavo-convex pattern was formed.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 광확산체로서 이용할 수 있고, 간편하게 제조될 수 있는 것이다. 본 발명의 요철 패턴 형성 시트의 제조 방법에 의하면, 광확산체로서 이용되는 요철 패턴 형성 시트를 간편하게 제조할 수 있다. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention can be used as an optical diffuser, and can be easily manufactured. According to the method for producing a concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention, a concavo-convex pattern-forming sheet used as a light diffuser can be easily manufactured.

본 발명의 광확산체는, 확산의 이방성이 뛰어나다. 본 발명의 광확산체 제조용 공정 시트 및 광확산체의 제조 방법에 의하면, 요철 패턴 형성 시트와 동등한 최빈(最頻) 피치 및 평균 깊이의 요철 패턴이 형성된 광확산체를 간편하면서 대량으로 제조할 수 있다. The optical diffuser of the present invention is excellent in anisotropy of diffusion. According to the process sheet for manufacturing an optical diffuser of the present invention and the process for producing an optical diffuser, it is possible to easily and massively produce an optical diffuser having an uneven pattern of the most frequent pitch and an average depth equal to those of the uneven pattern- have.

본 발명의 광학 시트는 광학특성에 뛰어날 뿐만 아니라 광학특성을 용이하게 불균일하게 할 수 있다.The optical sheet of the present invention is excellent not only in optical properties, but also can easily make the optical characteristics non-uniform.

본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 반사 방지체나 위상차판 등의 광학소자로서 적절히 이용될 수 있다. 또, 본 발명의 요철 패턴 형성 시트는 물결 형상의 요철 패턴을 갖는 광학소자를 제조하기 위한 틀로서 사용되는 광학소자제조용 공정 시트로서도 적절히 이용될 수 있다. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention can be suitably used as an optical element such as an antireflection film or a retarder. The concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention can also be suitably used as a process sheet for manufacturing an optical element used as a mold for producing an optical element having a wave-like concavo-convex pattern.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the appended claims. It will be understood that the present invention can be changed.

Claims

A light diffuser comprising a transparent resin layer formed on one surface of a wave-like concavo-convex pattern to be meandering,
(B / A) of the average depth (B) of the concavities and convexities to the most frequent pitch (A) is 0.1 ~ 3.0,
And the degree of orientation of the uneven pattern is 0.3 to 1.0.

A molded article for a secondary process used as a mold for producing the light diffuser, wherein a concavo-convex pattern having a mode pitch, an average depth and a degree of orientation equal to the concavo-convex pattern of the optical diffuser described in claim 1 is formed on the surface.