KR20140014193A - 유리 기판 표면 세정 장치 및 유리 기판 표면 세정 방법 - Google Patents
유리 기판 표면 세정 장치 및 유리 기판 표면 세정 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140014193A KR20140014193A KR1020137025354A KR20137025354A KR20140014193A KR 20140014193 A KR20140014193 A KR 20140014193A KR 1020137025354 A KR1020137025354 A KR 1020137025354A KR 20137025354 A KR20137025354 A KR 20137025354A KR 20140014193 A KR20140014193 A KR 20140014193A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- glass substrate
- cleaning
- foreign matter
- dimensional structured
- cleaning belt
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 146
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 99
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 26
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 acryl halides Chemical class 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229920006228 ethylene acrylate copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000010922 glass waste Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- IQJVBAIESAQUKR-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;prop-2-enoic acid Chemical class N=C=O.OC(=O)C=C IQJVBAIESAQUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
- B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/20—Cleaning of moving articles, e.g. of moving webs or of objects on a conveyor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B11/04—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto specially adapted for plate glass, e.g. prior to manufacture of windshields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0075—Cleaning of glass
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
유리 기판 상에 존재하는 이물질에 적용될 수 있는 세정 기능을 갖는 유리 기판 표면 세정 장치 및 방법이 제공된다. 유리 기판 표면 세정 장치(100)는 유리 기판(50)을 지지하고 제1 방향(도 3의 M)으로 이송하는 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20)를 포함한다. 장치는 또한 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(300)을 제거하고 제1 방향과 교차하는 제2 방향(도 3의 N)으로 유리 기판의 표면 상에서 활주하는 세정 벨트(11)를 갖는 유리 기판 표면 세정 기구(10)를 포함한다. 세정 벨트는 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70) 및 3차원 구조화된 연마 돌출부들 사이에 위치되는 홈(60)을 포함한다. 홈의 폭(62)은 유리 기판에 부착된 이물질보다 넓다.
Description
본 발명은 유리 기판들을 분리하는 분리 장치에서 발생되는, 유리 기판 표면에 부착된 이물질(주로, 유리 부스러기(cullet))을 유리 기판 표면으로부터 세정하는 유리 기판 표면 세정 장치 및 방법에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 액정 패널(liquid crystal panel)을 제조하는 공정에서 편광 플레이트(polarizing plate)를 적용하기 전에 액정 패널에 사용되는 유리 기판들을 위한 유리 기판 표면 세정 장치 및 그에 따른 방법에 관한 것이다.
현재, 유리 기판에 대해 진공 흡인 수단을 사용하거나 연마재를 사용하는 등의 장치 및 방법이 유리 기판에 부착된 이물질(주로, 유리 부스러기)을 제거하기 위한 알려진 세정 장치 및 방법이고, 유리 기판들을 분리하는 기판 분리 장치와 연관되어 있다(예를 들어, 일본 미심사 특허 출원 공개 제2008-94690호 및 제2005-81297호).
본 발명에 의해 해결될 문제는 유리 기판 상에 존재하는 다양한 크기(예를 들어, 10 ㎛ 내지 1000 ㎛의 범위)의 이물질(주로, 유리 부스러기)에 적절하게 적용될 수 있는 세정 기능을 갖는 유리 기판 표면 세정 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 일 태양은, 유리 기판(50)을 지지하고 유리 기판을 제1 방향(도 3의 M)으로 이송하는 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20), 및 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(300)을 제거하고 제1 방향과 교차하는 제2 방향(도 3의 N)으로 유리 기판의 표면 상에서 활주하는 세정 벨트(11)를 포함하는 유리 기판 표면 세정 기구(10)를 갖는 유리 기판 표면 세정 장치(100)에 의해 구성된다. 세정 벨트(11)는 코팅 필름들 사이에 위치되는 홈(groove)(60) 및 벨트의 표면 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(abrasive protrusion)(70)를 포함한다. 홈(60)의 폭(62)은 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(300)의 외부 폭 치수보다 넓다.
여기서, "세정"은 유리 기판으로부터의 이물질(주로, 유리 부스러기)의 제거를 의미한다. "이물질의 외부 폭 치수"는 세정 벨트가 유리 기판 상에서 활주하는 제2 방향(도 3의 N)으로의 이물질의 최대 외주연부 폭을 의미한다. "홈"은 3차원 구조화된 연마 돌출부와 다른 인접한 3차원 구조화된 연마 돌출부 사이에 형성되는 간극을 의미한다. "홈 폭"은 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 상부(72)와 다른 인접한 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 상부(72) 사이의 간격을 의미한다. 유리 부스러기는 유리 제품이 분쇄되거나 부서지는 때 등에서 생성되는 유리 폐기물을 의미한다.
본 발명의 다른 태양은 전술한 유리 기판 표면 세정 장치(100)에 사용되는 세정 벨트(11)이다.
또한, 본 발명의 다른 태양은 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20)를 사용하여 유리 기판(50)을 제1 방향으로 이송하는 단계, 및 유리 기판(50)의 표면에 부착된 이물질(300)을 제거하기 위해 유리 기판 표면 세정 기구(10)의 세정 벨트(11)를 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 유리 기판(50)의 표면 상에서 활주시키는 단계를 포함하는 유리 기판 표면 세정 방법에 의해 구성된다. 세정 벨트는 코팅 필름들 사이에 위치되는 홈(60) 및 벨트의 표면 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)를 포함한다. 홈(60)의 폭은 유리 기판(50)의 표면에 부착된 이물질(300)의 외부 폭 치수보다 넓다.
본 발명의 유리 기판 표면 세정 장치 및 방법에 따르면, 소정 범위의 크기를 갖는 이물질(주로, 유리 부스러기)을 유리 기판으로부터 적절하고 신뢰성 있게 제거하는 것이 가능하다.
<도 1>
도 1은 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 전체 구성을 예시하는 사시도.
<도 2>
도 2는 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 전체 구성을 예시하는 정면도.
<도 3>
도 3은 유리 기판의 이송 방향(제1 방향, M)과 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 세정 벨트의 활주 방향(제2 방향, N) 사이의 관계를 예시하는 평면도.
<도 4>
도 4는 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치에 제공되는 세정 벨트의 표면 상에 제공되는 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부를 갖는 3차원 구조화된 연마 재료 층의 일부를 예시하는 평면도.
<도 5>
도 5는 도 4의 단면선 X-X에 따른 횡단면도.
<도 6a 내지 도 6d>
도 6a 내지 도 6d는 홈의 폭이 이물질의 외부 폭 치수보다 넓을 때, 세정 벨트의 3차원 구조화된 연마 재료 층에 제공되는 홈과 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(유리 부스러기) 사이의 거동 관계를 예시하는 개략적인 단면도.
<도 7a 내지 도 7d>
도 7a 내지 도 7d는 홈의 폭이 이물질의 외부 폭 치수보다 좁을 때, 세정 벨트의 3차원 구조화된 연마 재료 층에 제공되는 홈과 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(유리 부스러기) 사이의 거동 관계를 예시하는 개략적인 단면도.
도 1은 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 전체 구성을 예시하는 사시도.
<도 2>
도 2는 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 전체 구성을 예시하는 정면도.
<도 3>
도 3은 유리 기판의 이송 방향(제1 방향, M)과 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치의 세정 벨트의 활주 방향(제2 방향, N) 사이의 관계를 예시하는 평면도.
<도 4>
도 4는 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치에 제공되는 세정 벨트의 표면 상에 제공되는 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부를 갖는 3차원 구조화된 연마 재료 층의 일부를 예시하는 평면도.
<도 5>
도 5는 도 4의 단면선 X-X에 따른 횡단면도.
<도 6a 내지 도 6d>
도 6a 내지 도 6d는 홈의 폭이 이물질의 외부 폭 치수보다 넓을 때, 세정 벨트의 3차원 구조화된 연마 재료 층에 제공되는 홈과 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(유리 부스러기) 사이의 거동 관계를 예시하는 개략적인 단면도.
<도 7a 내지 도 7d>
도 7a 내지 도 7d는 홈의 폭이 이물질의 외부 폭 치수보다 좁을 때, 세정 벨트의 3차원 구조화된 연마 재료 층에 제공되는 홈과 유리 기판의 표면에 부착된 이물질(유리 부스러기) 사이의 거동 관계를 예시하는 개략적인 단면도.
다음으로, 본 발명의 실시예가 도면을 참조하여 상세하게 설명되지만, 본 발명은 하기 실시예로 제한되지 않으며 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자의 지식에 기초하여 본 발명의 범주로부터 벗어나지 않고서 적절한 대로 설계에 대한 수정, 개선 등이 이루어질 수 있다는 것을 이해하여야 한다.
도 1 및 도 2는, 예를 들어 일본 미심사 특허 출원 제2005-81297호에 개시된 액정 패널 제조 공정에서 편광 플레이트를 적용하는 공정 전에, 예를 들어 액정 패널에 사용되는 유리 기판의 표면을 세정하는 데 사용될 수 있는 본 발명에 따른 세정 장치를 예시한다. 도 1에서, 유리 기판 표면 세정 장치(100)는 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20) 및 유리 기판 표면 세정 기구(10)를 포함한다. 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20)는 유입 롤러 샤프트(import roller shaft)(21), 유출 롤러 샤프트(export roller shaft)(22), 및 유리 기판(50)을 밑면으로부터 지지하고 이를 제1 방향(도 3의 M)으로 이송하는 안내부(guide)(23)를 포함한다. 유리 기판 표면 세정 기구(10)는 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20) 위에서 대략 중심에 제공되는 무한 궤도를 갖는 세정 벨트(11), 구동 안내 풀리(pulley)(12), 및 미리설정된 장력을 세정 벨트(11)에 인가하면서 세정 벨트(11)를 회전시키는 피구동 안내 풀리(13, 14, 15)를 포함한다. 구동 안내 풀리(12)는 구동 안내 풀리(12)에 구동력을 가하는 구동 모터(18)에 연결된다. 또한, 세정 벨트(11)는 유리 기판(50)의 이송 방향(제1 방향, 도 3의 M)과 교차하는 방향(제2 방향, 도 3의 N)으로 배치된다.
도 2에 예시된 바와 같이, 활주할 때, 세정 벨트(11)는 유리 기판(50)의 상부 표면과 접촉 상태로 배치되고, 하중인가 장치(loading device)(30)가 세정 벨트를 유리 기판(50)에 대항하여 가압하도록 하중을 가하기 위해 세정 벨트(11) 바로 위에 배치된다. 필요한 대로, 공기-분사(air-blown) 유형, 수압(water pressure) 유형 등과 같은 임의의 유형의 하중인가 장치가 하중인가 장치(30)로서 사용될 수 있다. 하중은 약 0.01 ㎏/㎠ 내지 약 3 ㎏/㎠의 범위 내에서 조정될 수 있다.
도 3은 유리 기판 표면 세정 장치(100)에서 유리 이송 방향(제1 방향, 도 3의 M)과 활주 방향(제2 방향, 도 3의 N) 사이의 관계를 예시한다. 도 3에 예시된 바와 같이, 유리 기판(50) 상의 세정 벨트(11)의 활주 방향(제2 방향, 도 3의 N)은 유리 기판(50)의 이송 방향(제1 방향, 도 3의 M)과 교차하는 방향으로 제공된다. 이러한 방식으로 교차하도록 세정 벨트(11)를 배치하는 이유는 유리 기판(50) 상의 활주 표면을 넓히고 유리 기판(50)이 세정 벨트에 충돌할 때의 충격을 완화하기 위한 것이다. 교차 각도(θ)(도 3)는 구체적으로 약 70° 내지 약 85° 또는 약 95° 내지 약 110°의 범위로 제공된다.
세정 벨트 활주 속도는 유리 기판 이송 속도, 유리 기판 생산성, 및 이물질 제거의 정도를 고려하여 결정된다. 구체적으로, 유리 기판(50)의 제2 방향(도 3의 N)으로의 세정 벨트 활주 속도는 일반적으로 분당 약 10 m 내지 약 500 m의 범위로 조정될 수 있으며, 유리 기판(50)의 제1 방향(도 3의 M)으로의 이송 속도는 일반적으로 분당 약 0.1 m 내지 약 10 m의 범위로 조정될 수 있다. 활주 속도/이송 속도 비의 값은 일반적으로 약 2 내지 약 100의 범위이다. 따라서, 유리 기판 표면 세정 장치(100)에서, 세정 벨트(11)의 활주로 인한 이물질 제거는 주로 제2 방향(도 3의 N)으로 이루어진다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 유리 기판 표면 세정 기구(10)에 사용되는 세정 벨트(11)를 예시한다. 도 4 및 도 5에 예시된 바와 같이, 본 발명에 사용되는 세정 벨트(11)는 전방 표면 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70) 및 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부들(70) 사이에 제공되는 홈(60)을 포함하는 3차원 구조화된 연마 재료 층(80), 및 그 전방 표면의 후방 면으로부터 3차원 구조화된 연마 재료 층(80)을 지지하는 배킹(backing) 층(90)으로부터 구성된다.
3차원 구조화된 연마 재료 층(80)은 배킹 층(90)의 표면 상의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70) 및 홈(60)으로부터 구성된다.
3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 기하학적 형상은 입방체 형상, 프리즘형 형상, 원통형 형상, 원뿔형 형상, 피라미드형 형상, 절두 피라미드형 형상(피라미드의 절두체), 절두 원뿔형 형상(원뿔의 절두체) 등을 포함하지만 이로 제한되지 않는 군으로부터 선택될 수 있다. 이들 중, 평탄한 상부 표면을 가진 절두 피라미드형 형태 또는 절두 원뿔형 형태를 갖는 형태가 바람직하다. 형태가 절두 피라미드형 형태 또는 절두 원뿔형 형태인 경우, 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 상부 표면은 유리 기판과 평면 접촉 상태에 있고, 유리 기판(50)의 표면에 부착된 이물질의 제거가 증진된다.
절두 피라미드형 또는 절두 원뿔형 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)는 일반적으로 정밀하게 형상화되어 형성된다. 여기서, "정밀하게 형상화된"은, 연마 입자를 포함하는 결합제 전구체(binder precursor)가 제조 공구를 사용하여 배킹 층(90) 상에 형성되고 이어서 결합제 전구체가 경화되어 3차원 구조물을 형성하는, PCT 국제 특허 공개 WO 98/39142호에 개시된 것과 동일한 의미를 갖는다.
이러한 방식으로 정밀하게 형상화된 절두 피라미드 각각의 상부(72)의 면적은 약 0.2 ㎟ 내지 약 20 ㎟, 특정하게는 약 1 ㎟ 내지 약 10 ㎟이다. 절두 피라미드의 저부(74)는 상부보다 최대 약 60% 더 큰, 특히 상부보다 최대 약 40% 더 큰, 더 특정하게는 상부보다 최대 약 20% 더 큰 면적을 갖는다. 또한, 절두 피라미드 또는 원뿔의 높이(도 5의 H)는 약 0.2 ㎜ 내지 약 5 ㎜, 더 특정하게는 약 0.3 ㎜ 내지 약 3 ㎜이다. 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 형태는 궁극적으로 제거될 이물질의 형태, 달리 말하면 이물질의 크기 및 기판에 대한 부착 강도 등에 대한 고려에 기초하여 결정된다.
복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)는 대체로 제2 방향(도 3의 N)으로 동일한 간격으로 격자 또는 엇갈린 형태 등으로 배킹 층(90)의 상부 표면 상에 규칙적이고 질서있게 배치된다. 이러한 배열은 국제 특허 공개 WO98/39142호에서 사용된 것과 동일한 의미로 "구조화된" 것으로 지칭되며, 따라서 본 명세서에서, 연마 재료 층 및 연마 돌출부는 각각 3차원 구조화된 연마 재료 층 및 3차원 구조화된 연마 돌출부로 지칭된다.
세정 벨트(11)의 구성 재료는 배킹 층(90) 및 3차원 구조화된 연마 재료 층(80)이다. 3차원 구조화된 연마 재료 층(80)은 연마 입자 및 결합제로부터 제조된다.
배킹 층(90)은 세정 벨트의 수명을 연장시키기 위한 강도 및 내구성을 갖고, 세정 벨트(11)의 전체 폭에 걸쳐 이물질(주로, 유리 부스러기)(300)을 균일하게 취할 필요가 있다. 세정 벨트(11)는 세정 벨트(11)가 유리 기판(50)과 균일하게 정합하거나 유리 기판과 밀접하게 접촉할 수 있도록 강도, 변형성 및 가요성을 가질 필요가 있다. 중합체 필름, 종이, 직물, 금속 필름, 경화 섬유(vulcanized fiber), 또는 이들의 라미네이트 또는 가공 제품이 배킹 층의 예시적인 재료이다. 중합체 필름의 예는 폴리에스테르 필름, 코폴리에스테르 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름 등을 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 종이의 예는 강도를 증가시키는 등을 위해 수지로 함침된 종이를 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 직물의 예는 수지 섬유, 면 섬유, 유리 섬유, 및 이들 섬유의 조합 등으로부터 선택되는 섬유를 사용한 직포(woven fabric) 또는 편포(knitted fabric)를 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 중합체 필름은 3차원 구조화된 연마 돌출부의 베이스 재료와의 부착을 증진시키기 위해 에틸렌 아크릴레이트 공중합체와 같은 재료의 베이스 코트(base coat)를 가질 수 있다.
3차원 구조화된 연마 재료 층(80)은 결합제 매트릭스, 및 그의 구성 성분으로서 결합제 매트릭스 내에 분산되는 연마 입자를 포함하는 연마 재료 성분을 포함한다.
바람직하게는, 연마 입자의 치수는 깊은 스크래치가 유리 표면에 부여되지 않도록 미세하다. 예를 들어, 연마 입자의 치수는 약 0.01 내지 약 10 ㎛, 특정하게는 약 0.01 내지 약 5 ㎛, 더 특정하게는 약 0.01 내지 약 3 ㎛의 평균 입자 직경이다. 본 발명에 적용될 수 있는 연마 입자의 예는 다이아몬드, 입방정질화붕소, 산화세륨, 용융 산화알루미늄, 열-처리 산화알루미늄, 졸-겔 산화알루미늄, 탄화규소, 산화크로뮴, 실리카, 지르코니아, 알루미나 지르코니아, 산화철, 가닛(garnet), 탄산칼슘, 및 이들의 혼합물을 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 6 이상의 모스 경도(Mohs hardness)를 갖는 다이아몬드, 입방정질화붕소, 산화알루미늄, 탄화규소, 산화세륨 및 실리카가 특히 적합하다.
연마 재료 층은 결합제의 경화 또는 겔화에 의해 형성된다. 본 발명에 따른 적합한 결합제의 예는 페놀 수지, 레졸 페놀 수지, 아미노플라스트 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, 아크릴레이트 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 멜라민 수지, 아크릴레이트화 아이소시아누레이트 수지, 우레아-포름알데히드 수지, 아이소시아누레이트 수지, 아크릴레이트화 우레탄 수지, 아크릴레이트화 에폭시 수지 및 이들의 혼합물을 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 결합제는 열가소성 수지일 수 있다.
페놀 수지, 레졸 페놀 수지, 에폭시 수지, 아크릴레이트 수지 및 우레탄 수지가 특히 적합하다.
결합제는 방사선 경화성일 수 있다. 방사선 경화성 결합제는 방사선 에너지에 의해 적어도 부분적으로 경화되거나 적어도 부분적으로 중합되는 결합제이다. 사용된 결합제에 따라, 열, 적외선광, 전자 빔, 자외선광 또는 가시광이 에너지 공급원으로서 사용될 수 있다.
전형적으로, 이들 결합제는 자유 라디칼 메커니즘에 의해 중합된다. 바람직하게는, 이들은 아크릴레이트화 우레탄, 아크릴레이트화 에폭시, α, β 불포화 카르보닐기를 갖는 아미노플라스트 유도체, 에틸렌계 불포화 화합물, 적어도 하나의 아크릴레이트기를 갖는 아이소시아누레이트 유도체, 적어도 하나의 아크릴레이트기를 갖는 아이소시아네이트 및 이들의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택된다.
결합제가 자외 방사선으로 경화되는 경우, 광개시제가 자유 라디칼 중합을 시작하는 데 필요하다. 이러한 목적에 적합한 광개시제의 예는 유기 과산화물, 아조 화합물, 퀴논, 벤조페논, 니트로소 화합물, 아크릴 할라이드, 히드라존, 메르캅토 화합물, 피릴륨 화합물, 트라이아크릴 이미다졸, 비스-이미다졸, 클로로 알킬 트라이아진, 벤조인 에테르, 벤질 케탈, 티옥산톤 및 아세토페논 유도체를 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 바람직한 광개시제는 2, 2-다이메톡시-1, 2-다이페닐-1-에탄온, 및 2-메틸-1-(4-메틸 티오페닐)-2-모폴리노-프로판-1-온을 포함한다.
결합제가 가시광 방사선으로 경화되는 경우, 광개시제가 자유 라디칼 중합을 시작하는 데 필요하다. 이러한 목적에 적합한 광개시제의 예는 미국 특허 제4,735,632호의 3 컬럼 25행 내지 4 컬럼 10행; 5 컬럼 1 내지 7행, 및 6 컬럼 1 내지 35행에 개시된 것을 포함하지만 이로 제한되지 않는다.
연마 재료 성분은 미경화 또는 미겔화 상태의 결합제 내에 분산되는 복수의 연마 입자를 포함하는 슬러리로부터 형성된다. 경화 또는 겔화 시에, 연마 재료 성분이 고정, 달리 말하면 미리설정된 형상 및 미리설정된 구조로 고정된다.
연마 재료 성분 내의 결합제에 대한 연마 입자의 혼합 비율에 관하여, 일반적으로 연마 입자는 약 100 질량부의 결합제에 대해 약 50 내지 약 1000 질량부이고, 특정하게는 연마 입자는 약 100 질량부의 결합제에 대해 약 100 내지 약 700 질량부의 범위이다. 비율은 사용된 결합제의 유형 및 연마 입자의 유형과 크기에 따라 달라진다.
연마 입자 및 결합제 외의 재료가 연마 성분에 포함될 수 있다. 예를 들어, 통상적인 첨가제는 커플링제, 습윤제, 염료, 안료, 가소제, 충전제, 이형제, 연마 보조제 및 이들의 혼합물을 포함하지만 이로 제한되지 않는다.
연마 성분은 커플링제를 포함할 수 있다. 커플링제를 첨가함으로써, 연마 성분을 형성하기 위해 사용된 슬러리의 점도가 감소될 수 있다. 본 발명을 위한 이러한 종류의 커플링제의 적합한 예는 유기 실란, 지르코알루미네이트 및 티타네이트를 포함하지만 이로 제한되지 않는다. 커플링제의 양은 일반적으로 약 5 중량% 미만, 특정하게는 약 2 중량% 미만이다.
세정 벨트(11)의 3차원 구조화된 연마 재료 층(80)의 복수의 홈(60)은 3차원 구조화된 연마 돌출부들(70) 사이에 형성된다. 홈(60)의 형상은 배킹 층(90)의 상부 표면 상의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 외주연부와 동일하다. 따라서, 홈(60)의 깊이는 절두 피라미드의 높이와 실질적으로 동일하여, 약 0.2 ㎜ 내지 약 5 ㎜, 특정하게는 약 0.3 ㎜ 내지 약 3 ㎜이다. 또한, 홈의 폭은 약 0.3 ㎜ 이상, 특정하게는 약 0.5 ㎜ 이상, 더 특정하게는 약 1 ㎜ 이상이다.
본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치(100)의 세정 벨트(11)의 홈 치수는 제거될 이물질(300)(주로, 유리 부스러기)의 치수를 고려하여 결정된다. 도 6 및 도 7은 유리 기판 표면 세정 장치(100)의 작동 동안 세정 벨트(11)의 홈(60)과 이물질(300) 사이의 관계를 개략적으로 예시한다. 홈 폭이 도 6에 예시된 바와 같이 유리 기판(50)의 표면에 부착된 이물질(300)의 외부 폭 치수보다 넓을 때, 먼저 유리 기판(50) 상의 이물질(300)의 상부가 3차원 구조화된 연마 재료 층(80) 상에 구조화된 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 상부(72)와 단지 접촉하지만(도 6a 참조), 유리 기판(50) 상에서 세정 벨트(11)를 활주시킴으로써, 세정 벨트(11)의 가요성의 결과로서, 이물질(300)이 홈(60) 내에 수용되고, 홈(60) 내에 포획되게 된다(도 6b 참조). 여기서, "이물질이 홈 내에 포획되게 된다"라는 것은 이물질(300)의 상부의 적어도 일부가 3차원 구조화된 연마 돌출부들(70) 사이에 형성된 홈(60) 내에 수용되고, 세정 벨트(11)의 활주로 인해 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)에 의해 제2 방향(도 3의 N)으로 전단력을 받는다는 것을 의미한다.
그 후, 홈(60) 내의 이물질(300)은 홈(60)의 측벽, 달리 말하면 우수한 형상 유지성을 가진 3차원 연마 재료 층(80)의 측벽과 충돌하고(도 6c 참조), 최종적으로 이물질(300)은 유리 기판(50)으로부터 닦아 내어져 홈(60) 내에서 이동함으로써 제거된다(도 6d 참조).
한편, 홈 폭(62)이 도 7에 예시된 바와 같이 유리 기판 표면에 부착된 이물질(300)의 외부 폭 치수보다 좁을 때, 먼저 유리 기판(50) 상의 이물질(300)의 상부가 3차원 구조화된 연마 재료 층(80) 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(70)의 상부(72)와 접촉하는 상태로부터, 그 후 이물질(300)이 세정 벨트(11)의 활주로 인해 홈(60)에 도달할 때에도, 이물질(300)은 홈(60) 내에 수용되는 것이 아니라, 단지 연마 라미네이트(3차원 구조화된 연마 돌출부(70))의 상부를 가로질러 활주하고, 이물질(300)은 유리 기판(50)으로부터 닦아 내어지지 않고서 유리 기판(50) 상에 남아 있다.
하기는 유리 기판(50) 표면을 세정하는 방법의 구체적인 예이다. 본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 장치는 하기 절차에 의해 작동한다.
(1) 먼저, 유리 기판(50)과 동일한 제조 로트(manufacturing lot)로부터 유리 기판 상의 이물질 발생 상태 조사를 위한 샘플링이 수행되고, 샘플링으로부터, 이물질에 대한 정보를 얻기 위해 이물질의 입자의 수 및 이물질의 외부 치수가 조사된다.
여기서, 광학 현미경을 사용하는 조사, 또는 이미지 처리 장치를 사용하는 조사 등이 이물질 발생 상태 조사로서 수행될 수 있다.
(2) 제조 로트에 대해 세정 벨트의 활주 방향(제2 방향)으로의 이물질(300)의 외부 폭 치수의 최대 값이 예측되고, 이러한 값 이상의 홈 폭을 가진 세정 벨트(11)가 선택되어 세정 장치에 설치된다.
(3) 제1 유리 기판(50)이 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20) 상에 배치된 후에, 이송 방향(제1 방향, 도 3의 M)에 대한 세정 벨트의 활주 방향(제2 방향, 도 3의 N)의 교차 상태가 유리 기판 표면 세정의 작업 효율 등을 고려하여 결정된다.
(4) 세정 벨트(11)가 종방향으로의 유리 기판(50)의 일 단부와 밀접하게 접촉하게 된 후에, 유리 기판(50)은 이송 방향(제1 방향, 도 3의 M)으로 이송되고, 세정 벨트(11)는 활주 방향(제2 방향, 도 3의 N)으로 활주된다.
(5) 제1 유리 기판(50)의 유리 기판 표면의 세정이 완료된 후에, 제2 및 후속 유리 기판이 유리 기판 지지체 및 이송 기구(20) 상에 배치되고, (3) 및 (4) 이하의 공정이 반복된다.
다음으로, 본 발명의 예가 비교예와 함께 설명된다.
예
시험 샘플 제조
예 1 및 예 2
본 발명에 따른 유리 기판 표면 세정 방법에 사용되도록 구성된 3차원 구조화된 연마 재료 층을 갖는 세정 벨트를 하기 방법에 의해 제조하였다.
표 1에 제시된 조성을 가진 연마 재료 적용 액체를 나이프 코터(knife coater)로 폴리프로필렌 성형 필름(2MM-30-500) 상으로 적용하여, 약 0.5 ㎜의 높이와, 상부 상의 정사각형의 변의 길이가 약 2 ㎜이고 절두 정사각형 피라미드(정사각형 피라미드의 절두체)들 사이의 거리가 약 1.6 ㎜인 표면 형태를 갖는 절두 정사각형 피라미드(정사각형 피라미드의 절두체)의 패턴을 형성하였고, 절두 정사각형 피라미드의 상부 상에 125 ㎛ 폴리에스테르 필름을 라미네이팅하였으며, 폴리에스테르 필름은 용이한 접합을 위해 처리하였고 그 후방 표면 상의 우레탄 수지 및 탄산칼슘 입자를 포함하는 미끄럼 방지 코팅을 가지며, 접착제를 자외 방사선으로 경화시켰고, 연마 필름과 성형 필름을 분리하였다. 110℃에서 24시간 동안 연마 필름을 열 처리한 후에, 이를 실온으로 냉각하여, 연마 필름의 제조를 완료하였다. 용이한 접합을 위한 처리는 에틸렌 아크릴레이트 공중합체로의 프라임 코팅이다.
예 3,
비교예
1
수미토모 쓰리엠 리미티드(Sumitomo 3M Limited)에 의해 제조된 트라이작트 래핑 필름(Trizact wrapping film) 5 ㎜ 3 마이크로미터, 산화알루미늄 타입 2.
이러한 연마 재료는 약 0.35 ㎜의 높이와, 변이 약 1.3 ㎜이고, 절두 정사각형 피라미드(정사각형 피라미드의 절두체)들 사이의 길이가 약 0.5 ㎜인 정사각형 상부 표면을 갖는 절두 정사각형 피라미드(정사각형 피라미드의 절두체)의 표면 형상을 가진, 예 1과 동일한 필름 베이스 재료 상에 연마 재료 층을 가지며, 평균 입자 직경이 3 ㎛인 산화알루미늄 연마 입자를 포함한다.
평가 시험 방법 및 평가 시험 결과
1) 유리 기판을 제조하였고, 유리 부스러기를 생성하기 위해, 유리 기판 위에서 2개의 유리 기판의 에지를 함께 문질러, 유리 기판 상에 유리 부스러기를 떨어뜨린 후에, 유리 부스러기가 부착되도록 잠시 동안 그대로 두었다. 유리 기판에 부착된 유리 부스러기의 치수(외부 폭 치수)가 1.5 ㎜ 이하 및 0.5 ㎜ 이상인 그룹과, 유리 부스러기의 치수가 0.5 ㎜ 미만인 그룹으로, 유리 기판을 나누었다.
2) 세정 벨트를 형성하기 위해, 예 1, 예 2 및 예 3과, 비교예 1의 연마 필름을 약 30 ㎜의 폭과 2080 ㎜의 길이의 무한 벨트로 처리하였다. 세정 벨트를 세정 장치에 설치하였고, 교차 각도(θ)(도 3)를 80°로 설정하였으며, 벨트 활주 속도를 100 m/분으로 설정하였고, 유리 기판을 6 m/분의 이송 속도로 세정 벨트 아래를 통과시켰으며, 이로써 부스러기가 그 상에 부착된 표면을 연마 재료 표면과 접촉하게 하였다. 이때, 약 0.1 ㎫의 압력으로 벨트의 후방 표면에 물을 공급하였으며, 이로써 벨트에 하중을 가하였고, 연마 재료 표면을 유리 기판의 표면에 대항하여 가압하였으며, 유리 기판의 표면에 또한 물을 공급하여, 부착된 부스러기를 표면으로부터 세정하였다. 표 2는 세정 후 유리 표면 상에 남아 있는 부스러기의 양을 보여준다.
본 발명이 바람직한 실시예와 관련하여 기술되었지만, 당업자는 본 발명의 사상 및 범주로부터 벗어남이 없이 형태 및 상세 사항에 있어서 변경이 이루어질 수 있음을 인식할 것이다.
Claims (3)
- 유리 기판 표면 세정 장치로서,
유리 기판을 지지하는 유리 기판 지지체;
유리 기판을 제1 방향으로 이송하는 이송 기구; 및
유리 기판의 표면에 부착된 이물질을 제거하고 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 유리 기판의 표면 상에서 활주하는 세정 벨트를 포함하는 유리 기판 세정 기구를 포함하고,
세정 벨트는 세정 벨트의 표면 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부(abrasive protrusion) 및 3차원 구조화된 연마 돌출부들 사이에 위치되는 홈(groove)들을 포함하며,
홈들의 폭은 유리 기판의 표면에 부착된 이물질의 외부 폭 치수보다 넓은 유리 기판 표면 세정 장치. - 유리 기판에 부착된 이물질을 제거하기 위한 유리 기판 표면 세정 장치에 사용되는 세정 벨트로서,
세정 벨트의 표면 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부; 및
3차원 구조화된 연마 돌출부들 사이에 위치되는 홈들을 포함하고, 홈들의 폭은 유리 기판에 부착된 이물질의 외부 폭 치수보다 넓은 세정 벨트. - 유리 기판 표면 세정 방법으로서,
유리 기판 지지체 및 이송 기구를 사용하여 유리 기판을 제1 방향으로 이송하는 단계; 및
유리 기판의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위해, 세정 벨트를 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 유리 기판의 표면 상에서 활주시키는 단계를 포함하고,
세정 벨트는 세정 벨트의 표면 상의 복수의 3차원 구조화된 연마 돌출부 및 3차원 구조화된 연마 돌출부들 사이에 위치되는 홈들을 포함하며,
홈들의 폭은 유리 기판의 표면에 부착된 이물질의 외부 폭 치수보다 넓은 유리 기판 표면 세정 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2011-043513 | 2011-03-01 | ||
| JP2011043513A JP5840847B2 (ja) | 2011-03-01 | 2011-03-01 | ガラス基板表面清掃方法及び清掃ベルト |
| PCT/US2012/026004 WO2012118651A2 (en) | 2011-03-01 | 2012-02-22 | Glass substrate surface cleaning apparatus and glass substrate surface cleaning method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20140014193A true KR20140014193A (ko) | 2014-02-05 |
Family
ID=46758425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020137025354A KR20140014193A (ko) | 2011-03-01 | 2012-02-22 | 유리 기판 표면 세정 장치 및 유리 기판 표면 세정 방법 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5840847B2 (ko) |
| KR (1) | KR20140014193A (ko) |
| CN (1) | CN103402657A (ko) |
| TW (1) | TW201240742A (ko) |
| WO (1) | WO2012118651A2 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170040902A (ko) | 2015-10-06 | 2017-04-14 | 인트테크놀로지(주) | 유리기판 세정용 패드 |
| KR101965353B1 (ko) | 2017-10-30 | 2019-04-03 | 씨앤에스엔지니어링 주식회사 | 광 접착제 클리닝 및 제거 장치 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014220495A (ja) * | 2013-04-12 | 2014-11-20 | レーザーテック株式会社 | 異物除去装置 |
| CN105195448A (zh) * | 2015-10-21 | 2015-12-30 | 苏州市灵通玻璃制品有限公司 | 一种玻璃面板清洗设备 |
| CN105193237A (zh) * | 2015-10-21 | 2015-12-30 | 苏州市灵通玻璃制品有限公司 | 一种电饭煲控制面板玻璃清洁装置 |
| CN107262401B (zh) * | 2017-06-29 | 2023-05-26 | 芜湖莫森泰克汽车科技股份有限公司 | 汽车全景天窗玻璃边沿自动清理装置 |
| CN108906766B (zh) * | 2018-07-04 | 2023-02-24 | 中建材凯盛机器人（上海）有限公司 | Cigs玻璃基板镀膜清洗系统 |
| JP7139792B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2022-09-21 | コニカミノルタ株式会社 | ベルトクリーニング装置およびインクジェット画像形成装置 |
| KR20220065918A (ko) * | 2020-11-13 | 2022-05-23 | 주식회사 제우스 | 디스플레이부용 세정장치 및 그 제어방법 |
| CN112893214B (zh) * | 2021-01-25 | 2022-04-12 | 湖南锦泰钢化玻璃有限公司 | 一种玻璃加工用粉尘清洁装置 |
| CN115971149A (zh) * | 2023-02-14 | 2023-04-18 | 深圳市斯特鑫科技有限公司 | 一种循环过滤超声波清洗机 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2936551A (en) * | 1957-11-27 | 1960-05-17 | Pittsburgh Plate Glass Co | Method and apparatus for surfacing sheet material |
| JPH0768469A (ja) * | 1993-09-03 | 1995-03-14 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス板用研削加工シート |
| US6634929B1 (en) * | 1999-04-23 | 2003-10-21 | 3M Innovative Properties Company | Method for grinding glass |
| US6773475B2 (en) * | 1999-12-21 | 2004-08-10 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive material having abrasive layer of three-dimensional structure |
| JP2005081297A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Yodogawa Medekku Kk | 基板表面清掃装置 |
| CN101297395A (zh) * | 2005-10-25 | 2008-10-29 | 日东电工株式会社 | 清洁片材，附有清洁功能的输送构件及基板处理装置的清洁方法 |
| JP4919337B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2012-04-18 | 日東電工株式会社 | クリーニングシート、クリーニング機能付搬送部材および基板処理装置のクリーニング方法 |
| US20100175716A1 (en) * | 2006-08-11 | 2010-07-15 | Nitto Denko Corporation | Cleaning Member, Delivery Member with Cleaning Function, and Method of Cleaning Substrate Processing Apparatus |
| JP2008080243A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Nitto Denko Corp | 清浄用シートを用いた清浄方法およびそのための清浄用シート |
| KR100818559B1 (ko) * | 2007-03-22 | 2008-04-02 | 엠.씨.케이 (주) | 유리기판용 세정롤러 |
| JP2009066527A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Nec Electronics Corp | 洗浄用ローラおよび洗浄装置 |
| JP2009242206A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Noritake Co Ltd | ガラス基板用洗浄工具 |
| JP5191785B2 (ja) * | 2008-04-17 | 2013-05-08 | 紀伊産業株式会社 | クリーニング装置およびクリーニング方法 |
| GB0817657D0 (en) * | 2008-09-26 | 2008-11-05 | Th Group Ltd | Surface cleaning |
-
2011
- 2011-03-01 JP JP2011043513A patent/JP5840847B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-22 WO PCT/US2012/026004 patent/WO2012118651A2/en active Application Filing
- 2012-02-22 CN CN2012800108922A patent/CN103402657A/zh active Pending
- 2012-02-22 KR KR1020137025354A patent/KR20140014193A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-02-29 TW TW101106571A patent/TW201240742A/zh unknown
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20170040902A (ko) | 2015-10-06 | 2017-04-14 | 인트테크놀로지(주) | 유리기판 세정용 패드 |
| KR101965353B1 (ko) | 2017-10-30 | 2019-04-03 | 씨앤에스엔지니어링 주식회사 | 광 접착제 클리닝 및 제거 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2012118651A2 (en) | 2012-09-07 |
| JP2012179539A (ja) | 2012-09-20 |
| WO2012118651A3 (en) | 2013-01-03 |
| CN103402657A (zh) | 2013-11-20 |
| JP5840847B2 (ja) | 2016-01-06 |
| TW201240742A (en) | 2012-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20140014193A (ko) | 유리 기판 표면 세정 장치 및 유리 기판 표면 세정 방법 | |
| US11097398B2 (en) | Abrasive article and method of making the same | |
| KR100358479B1 (ko) | 연마제품및그의제조방법 | |
| CN109789534B (zh) | 疏涂层磨料制品和研磨方法 | |
| KR102292300B1 (ko) | 복수의 연마 요소의 상이한 세트들을 갖는 연마 재료 | |
| JP3362854B2 (ja) | 研摩材、研摩材の製造方法、および研摩装置 | |
| AU661473B2 (en) | A structured abrasive article | |
| KR100494605B1 (ko) | 유리상에 투명한 표면 마무리 상태를 제공하기 위한 연마용품 | |
| CN1070754C (zh) | 磨料制品及其制造方法 | |
| US20160311084A1 (en) | Method of making a coated abrasive article | |
| EP0688257B1 (en) | Method and article for polishing stone | |
| JP6838811B2 (ja) | 断続的構造化研磨物品並びに被加工物の研磨方法 | |
| JP2018510073A (ja) | 被覆研磨物品及びその製造方法 | |
| US20030207659A1 (en) | Abrasive product and method of making and using the same | |
| US20030022604A1 (en) | Abrasive product and method of making and using the same | |
| JPH07186030A (ja) | 光学レンズの研磨仕上げ方法 | |
| US20160311080A1 (en) | Abrasive, abrasive article and the method for preparing the same | |
| US10265826B2 (en) | Method of forming a recess in a substrate | |
| KR100805326B1 (ko) | 후면 슬립저항성 수지층을 갖는 연마 벨트 제품 및 그 제조방법 | |
| KR20210014990A (ko) | 연마제품 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal |