KR20140009639A

KR20140009639A - 복합시트, 그 제조방법 및 이를 포함하는 플렉시블 기판

Info

Publication number: KR20140009639A
Application number: KR20120075888A
Authority: KR
Inventors: 정은환; 김성국; 이우진; 김영권
Original assignee: 제일모직주식회사
Priority date: 2012-07-12
Filing date: 2012-07-12
Publication date: 2014-01-23
Also published as: CN104136506A; KR101526002B1; WO2014010826A1

Abstract

본 발명의 복합시트는 매트릭스; 및 상기 매트릭스 내에 함침된 보강재를 포함하고, 손실 모듈러스(G")와 저장모듈러스(G')의 비인 tanδ 값(tanδ = G"/G')이 0 초과 0.05 이하인 것을 특징으로 한다. 상기 복합시트는 특정 범위의 tanδ 값을 가져 기판 제작 시의 고온 공정에서 발생할 수 있는 재료의 불량을 개선할 수 있어 유연성, 내열특성, 특히 광학성질이 우수하다.

Description

복합시트, 그 제조방법 및 이를 포함하는 플렉시블 기판{COMPOSITE SHEET,　METHOD FOR PREPARING THEREOF AND FLEXIBLE SUBSTRATE COMPRISING THE SAME}

본 발명은 복합시트, 그 제조방법 및 이를 포함하는 플렉시블 기판에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 특정 범위의 tanδ값을 가지는 수지 설계를 통해 기판 제작 시의 고온 공정에서 발생할 수 있는 재료의 불량이 개선된 복합시트, 그 제조방법 및 이를 포함하는 플렉시블 기판에 관한 것이다.

유리 기판은 내열성 및　투명성이 우수하고, 선팽창 계수가 낮다. 따라서, 유기 기판은 액정 표시 소자나 유기 EL 표시 소자용 기판, 컬러 필터 기판, 태양 전지 기판 등으로 널리 사용되어 왔다. 그러나, 유리 기판은 두꺼운 두께와 무거운 중량으로 인해 액정표시장치의 박형화 및 경량화에 한계가 있고, 내충격에 취약하다는 문제점이 있다. 또한, 유리 소재의 취성으로 인해 디스플레이용 기판으로 사용하기에는 부적합하였다.

이에 따라, 플라스틱 광학 필름 소재의 플렉시블 기판이 종래 유리 기판을 대체할 소재로 각광받고 있다. 　플렉시블 기판은 액정디스플레이를 비롯하여 유기 EL, 전자페이퍼(e-paper) 등과 같은 차세대 디스플레이 장치에 매우 적합한 특성을 갖고 있다.

근래에는 플라스틱 기판으로 　폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리아릴레이트(PAR), 폴리카보네이트(PC), 폴리이미드(PI) 등의 소재가 사용되고 있다. 그러나, 이들 소재들은 열팽창계수가 상당히 높아 제품의 휘어짐이나 배선의 단선 등을 일으키는 문제가 있다. 폴리이미드계 수지는 비교적 낮은 열팽창계수를 갖지만, 투명성이 매우 낮고 높은 복굴절성, 흡습성 등으로 인해 기판 소재로는 적합하지 않다는 문제가 지적되고 있다.

이러한 문제를 해결하기 위해, 일본 공개공보 2004-51960호에서는 에스테르기를 포함하는 지환식 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 산무수물계 경화제 및 촉매와 유리섬유포로부터 제조되는 투명 복합 광학 시트가 개시되어 있다. 또한 일본 공개공보 2005-146258호에서는 에스테르기를 포함하는 지환식 에폭시 수지와 디사이클로펜타디엔 골격을 가지는 에폭시 수지, 산무수물계 경화제와 유리섬유포로부터 제조되는 투명 복합 광학 시트가 개시되어 있다. 일본 공개공보 2004-233851호에서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락(novolac)형 에폭시 수지, 산무수물계 경화제 및 유리섬유포로 제조되는 투명 기판을 개시하고 있다. 그러나, 상기 특허들은 섬유와 수지 매트릭스간에 응력이 생기고, 그로 인해 파손이 발생하며, 광학이방성이 크기 때문에 표시성능이 저하되는 단점이 있다. 기존의 유리섬유 복합체에 사용되던 아크릴계 및 에폭시계 등의 수지들의 경우 굴절률이 우수하지만 유연성 및 내열성에 문제가 있다.

한편, 고유연성 및 내열성을 부여하기 위해 실리콘계 고무를 사용하는 방법이 개시되었으나, 높은 열팽창 계수(약 300ppm/℃)로 인한 고온 공정에서의 깨짐현상이 발생할 수 있다. 특히 한국공개특허(2010-0014391)에서는 실리콘계 고무를 사용하여 유리섬유에 함침하여 복합 필름을 제작하는 언급이 되어 있으나, 유리섬유와 고무간의 열팽창 계수(CTE)의 차이로 인해 실제 기판 제작 시의 고온 공정(200℃ 이상)에서 수지의 크랙이 발생 하거나, 유리섬유와 수지 매트릭스간의 계면에서의 갈라짐이 발생할 수 있는 단점이 있다.

본 발명의 목적은 크랙이 발생 하지 않고 보강재와 매트릭스간 계면에서의 결함이 발생하지 않는 복합시트　및 그 제조방법을　제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 유연성, 투명성 및 내열성이 우수한 복합시트　및 그 제조방법을　제공하는 것이다.

본 발명의　또　다른 목적은 기판 제작 시의 고온 공정에서 발생할 수 있는 재료의 불량을 개선할 수 있어 플렉시블 기판에 적합하게 사용될 수 있는 복합시트　및 그 제조방법을　제공하는 것이다.

본 발명의 하나의 관점은 복합시트에 관한 것이다. 상기 복합시트는 매트릭스; 및 상기 매트릭스 내에 함침된 보강재를 포함하고, 손실 모듈러스(G")와 저장모듈러스(G')의 비인 tanδ 값(tanδ = G"/G')이 0 초과 0.05 이하인 것을 특징으로 한다.

상기 복합시트는 100℃에서 측정된 저장모듈러스가 0.1~5.0 MPa 일 수 있다.

상기 복합시트는 220 ℃에서 2시간 열처리후 헤이즈가 15 % 이하일 수 있다.

상기 매트릭스는 가교된 실리콘계 고무일 수 있다. .

상기 보강재는 유리 섬유포(glass cloth), 유리 직물(glass fibric), 유리 부직포　및　유리 메쉬(glass mesh)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.

본 발명의 다른 관점은 복합시트의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 비닐기 함유 실록산, 가교제, 촉매 및 억제제를 포함하는 매트릭스용 조성물을 제조하고; 그리고 상기 매트릭스용 조성물에 보강재를 함침하고 경화시켜 tanδ 값을 0 초과 0.05 이하로 조절하는 단계를 포함한다.

본 발명의 또 다른 관점은 상기 복합시트를 포함하는 플렉시블 기판에 관한 것이다.

본 발명은 크랙이 발생 하지 않고 보강재와 매트릭스간 계면에서의 결함이 발생하지 않으며,　유연성, 투명성 및 내열성이 우수하고　기판 제작 시의 고온 공정에서 발생할 수 있는 재료의 불량을 개선할 수 있어 플렉시블 기판에 적합하게 사용될 수 있는 복합시트　및 그 제조방법을　제공하는 발명의 효과를 갖는다.

도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 복합시트의 단면도를 나타낸 것이다.
　

도 1은 본 발명의 한 구체예에 따른 복합시트의 단면을 개략적으로 나타낸 것이다. 도 1에 따르면, 본 발명의 복합시트(10)는 매트릭스(1) 내에 보강재(2)가 포함된 구조로 되어 있다. 한 구체예에 따르면 상기 보강재(2)는 층 구조로 포함될 수 있다. 상기 보강재는 지지체로서 매트릭스에 함침되어 내부에 존재할 수 있다.

본 발명의 복합시트는 매트릭스; 및 상기 매트릭스 내에 함침된 보강재를 포함하고, tanδ 값이 0 초과 0.05 이하인 것을 특징으로 한다. 본 발명에서 tanδ 값은 손실 모듈러스와 저장모듈러스의 비로서 tanδ = G"(손실 모듈러스)/G'(저장모듈러스)의 식을 통해 얻을 수 있다. 상기 모듈러스는 Rheometer(Anton Paar, Physica MCR501) 장비를 사용하여, strain 0.5(%), frequency 10(1/s)의 조건으로 100℃에서 측정한 값이다. 만일 tanδ 값이 0.05를 초과할 경우, 기판 제작 시의 　220 ℃의 고온 공정에서 헤이즈가 현저히 증가할 뿐만 아니라, 기판에 크랙이 발생할 수 있다. 바람직하게는 tanδ는 0.001 내지 0.045 이며, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.04 이다. 가장 바람직하게는 tanδ는 0.01 내지 0.03 이다.

상기 매트릭스는 가교된 실리콘계 고무일 수 있다.

한 구체예에서 상기 실리콘계 고무로는 하기 화학식 1의 단위를 포함하는 폴리오르가노실록산 수지를 포함할 수 있다.

[화학식 1]

(상기 식에서, R과 R'은 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 사이클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 사이클로알키닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴기, 치환 또는 비치환된 C6-C30 아릴옥시기가 될 수 있고, n 은　2 내지 1000의 정수가 될 수 있다)　

본 발명에서 "치환된"의 의미는 수소, 할로겐원자, 하이드록시기, 아미노기, 카르보닐기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그의 염, 술폰산기 또는 그의 염, 포스페이트기 또는 그의 염, 탄소수 1-20의 알킬기, 탄소수 2-20의 알케닐기, 탄소수 2-20의 알키닐기, 탄소수 1-20의 알콕시기, 탄소수 6-30의 아릴기, 탄소수 6-30의 아릴옥시기, 탄소수 3-30의 사이클로알킬기, 탄소수 3-30의 사이클로알케닐기, 탄소수 3-30의 사이클로알키닐기 또는 이들의 조합을 의미한다.

바람직하게는, R과 R'은 C1-C10 알킬기, C2-C10 알케닐기, 또는 C6-C10 아릴기가 될 수 있다.

상기 실리콘계 고무의 중량평균분자량은 1,000~100,000 g/mol　이 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 합성의 용이성과 복합시트에서 매트릭스 수지의 경화 후 기계적 물성을 기대할 수　있다.　바람직하게는 1,000~50,000 g/mol 이다. 또한 상기 실리콘계 고무는　25℃에서 100cps 내지 10,000cps의 점도를 가질 수 있다.　상기 범위에서 우수한 평탄도와 함침성 및 공정성을 가질 수 있다.

실리콘 고무의 유리전이온도는 -150℃~30℃일 수 있다. 　바람직하게는 -100℃~20℃, 보다 바람직하게는 -80℃~0℃일 수 있다. 상기 범위에서, 유연성과 강성이 우수하며 열팽창계수가 작은 장점이 있다.

다른 구체예에서 상기 매트릭스는 상기 실리콘계 고무와 함께 스티렌-부타디엔 고무(SBR), 부타디엔계 고무, 이소프렌계 고무, 클로로프렌 고무, 네오프렌 고무, 에틸렌-프로필렌-디엔 삼원 공중합체, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌(SEBS) 블록 공중합체, 스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌(SEPS) 블록 공중합체, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(아크릴onitrile-butadiene 고무, NBR), 수소화된 니트릴 고무(hydrogenated nitrile 고무, NBR), 플로리네이티드 고무(fluorinated 고무), 및 가소화된 폴리비닐클로라이드 고무로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 더 포함할 수 있다.

상기 보강재는 매트릭스와의 굴절률 차이가 0.01 이하가 될 수 있다. 상기 범위 내에서, 우수한 투명성과 투광성을 가질 수 있다. 바람직하게는 상기 매트릭스와 굴절률 차이가 0.0001~0.007이 될 수 있다. 상기 보강재는 유리 섬유포(glass cloth), 유리 직물(glass fibric), 유리 부직포　및　유리 메쉬(glass mesh)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 유리 섬유포를 사용할 수 있다.

본 발명의 복합시트에서 매트릭스:보강재는 70:30 내지 95:5의 중량비, 바람직하게는 80:20　내지 90:10의 중량비로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 플렉시블 기판으로 사용될 수 있는 복합시트의 물성을　가질 수 있다.　

본 발명의 복합시트의 두께는 15㎛-200㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 플렉시블 기판 용도의 복합시트로 사용될 수 있다.

이러한 본 발명의 복합시트는 비닐기 함유 실록산, 가교제, 촉매 및 억제제를 포함하는 매트릭스용 조성물을 제조하고; 그리고 상기 매트릭스용 조성물에 보강재를 함침하고 경화시켜 제조될 수 있다.

상기 비닐기 함유 실록산은 말단에 비닐기를 함유하는 실록산으로, 바람직하게는 0.1~10.0 몰 % 함유할 수 있다. 상기 범위에서 경화효율이 높고, 경화 후 고무y한 물성을 가질 수 있다. 구체예에서 상기 비닐기 함유 실록산은 중량평균분자량이 10,000~50,000 g/mol 일 수 있다. 　상기 범위에서 배합이 용이하고, 함침성 및 공정성에 유리한 장점이 있다.

가교제는 플렉시블 기판용 복합시트 제조에서 통상적으로 사용되는 가교제를 사용할 수 있다. 예를 들면, Si-CH3와 Si-H를 갖는 폴리오르가노실록산을 사용할 수 있다. 바람직하게는 Si-H 말단 실록산 등이 사용될 수 있다. 상기 Si-H 말단 실록산은 중량평균분자량이 500~10,000 g/mol 일 수 있다. 상기 범위에서 배합이 용이하고 경화효율이 우수하며, 경화 후 물성이 우수한 장점이 있다. 상기 가교제는 실리콘 고무의 C2-C20 알케닐기의 몰 수에 대해 가교제의 Si-H의 몰 수의 몰 당량비가 1.0　이상, 바람직하게는 1.0　내지 1.3이 되도록 포함될 수 있다.

상기 촉매는 플렉시블 기판용 복합시트 제조에서 통상적으로 사용되는 촉매를 사용할 수 있다. 예를 들면, 백금계 또는 로듐계 촉매로서 백금과 유기 화합물의 복합체, 백금과 비닐화된 오르가노실록산 복합체, 로듐과 올레핀 착체 등을 사용할 수 있다. 구체적으로, Karstedt 촉매를 포함하는 비닐알킬실란 백금 착물, 백금흑(platinum black), 염화백금산, 염화백금산-올레핀 착체, 염화백금산-알코올 배위 화합물, 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 촉매는 금속의 중량으로, 러버계 화합물에 대해 2 내지 2000ppm, 바람직하게는 5 내지 500ppm으로 포함될 수 있다.

상기 억제제는 25℃에서는 촉매의 작용을 억제하고 고온의 경화 과정에서는 억제 작용을 하지 않음으로써, 고온에서 매트릭스를 경화시킬 수 있다.

상기 억제제는 플렉시블 기판용 복합시트 제조에서 통상적으로 사용되는 억제제를 사용할 수 있다. 예를 들면, 억제제는 디메틸-1-헥신-3-올을 포함하는 아세틸렌성 알코올, 피리딘, 포스핀, 유기 포스파이트, 불포화아미드, 디알킬카르올실레이트, 디알킬아세틸렌디카르복실레이트, 알킬화된 말리에이트, 디알릴말리에이트, 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 　억제제는 러버계 화합물에 대해 100 내지 2500ppm으로 포함될 수 있다.

상기 촉매와 억제제의 혼합물은 상기 러버계 화합물에 대해 0.01 내지 1중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 촉매 작용을 충분히 발휘할 수 있다. 바람직하게는, 0.05 내지 0.2중량%로 포함될 수 있다.

본 명세서에서 '함침'은 보강재가　매트릭스 내에 단층 또는 복층 구조로 형성된 것을 포함할 수 있다.

상기 경화는 40℃　내지 100℃ 바람직하게는 50℃　내지 90℃에서, 0.1분　내지 5시간,　바람직하게는 30분　내지 2시간 30분　동안 수행될 수 있다.　상기 범위에서, 매트릭스와 보강재의 충분한 경화를 확보하면서, 표면 평탄성을 높일 수 있다.

구체적으로는, 매트릭스용 조성물에 보강재를 놓고 함침시킨 후, 이형처리된 필름 사이에 넣고 라미네이션(lamination) 한 후, 경화시켜 제조할 수 있다.

상기 경화는 tanδ 값이 0 초과 0.05 이하의 범위가 되도록 조절한다. 본 발명의 　tanδ 값은 매트릭스로 사용되는 실록산과 가교제의 구조 및 비율, 가교제의 함량, 경화조건 등에 따라 조절될 수 있다. 　

상기와 같이 제조된　복합시트는 100℃에서 측정된 저장모듈러스가 0.1~5.0 MPa , 바람직하게는 0.5~2 MPa일 수 있다.

상기 복합시트는 220 ℃에서 2시간 열처리후 헤이즈가 15 % 이하, 예를 들면 0.1~14 %, 바람직하게는 0.5~10 %, 보다 바람직하게는 0.7~7 %, 가장 바람직하게는 0.7~5 % 일 수 있다.

다른 구체예에서는 상기 복합시트는 최소한 일면에 평활층, 가스배리어층 등이 더 형성될 수 있다. 이들의 형성방법은 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 용이하게 형성될 수 있다.

본 발명의 또 다른 관점인 플렉시블 기판 및 이를 포함하는 디스플레이 장치는 상기 복합시트를 포함할 수 있다. 플렉시블 기판은 액정 표시 소자(LCD)용 기판, 컬러 필터(color filter)용 기판, 유기 EL 표시소자용 기판, 태양 전지용 기판, 터치 스크린 패널(touch screen panel)용 기판 등의 디스플레이 또는 광소자의 용도로서 이용할 수 있다. 　

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.

여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.

실시예

하기 실시예와 비교예에서 사용된 구체적인 성분의 사양은 다음과 같다.

(a)비닐기 함유 실록산 : 페닐메틸 디메톡시 실록산(PMDMS), 디메틸 디메톡시 실록산(DMDMS), 비닐 트리메톡시 실록산(VTMS)를 사용하여 합성을 진행하였다. (PMDMS + DMDMS) :VTMS의 중량비를 95:5로 유지하였다. PMDMS 900g, DMDMS 615g, VTMS 60g을 계량한 후 70℃에서 1시간 동안 탈이온수/KOH 하에서 가수분해하였다. 90℃에서 계속 반응을 진행하고, 톨루엔과 물을 첨가하여 25℃로 온도를 낮추고 물로 세정하였다. Vi-MM(1,1,3,3,-tetramethyl-1,3-divinyl disiloxane) 300g을 첨가하고 50℃에서 5시간 동안 말단캡핑하고, 25℃로 세정하고, 용매를 제거하여 실리콘 고무인 PDMS 수지(페닐기, 메틸기, 비닐기를 갖는 폴리오르가노실록산 수지)를 제조하였다. 제조한 PDMS 수지의 25℃에서의 점도는 500cps이었다. 점도는 25℃에서 Viscometer(Brookfield)로 측정하였다.　굴절률 Matching을 위해 PMDMS와 DMDMS의 함량을 다르게 한 2종의 수지를 합성하였으며, 합성 후의 Vinyl PDMS의 분자량(Mn)은 두종 모두 10,000 g/mol 이었다.

(b) 보강재　: 유리 섬유포(D-glass cloth, Owen corning사)를 사용하였다.

(c) 가교제　:　

(c1) Si-H terminated PDMS : 페닐메틸 디메톡시 실록산(PMDMS), 디메틸 디메톡시 실록산(DMDMS)을 사용하여 합성을 진행하였다. Vinyl PDMS와 동일한 제조방법으로 H-MM으로 endcapping을 진행하였다. 합성후의 Si-H terminated PDMS의 분자량(Mn)은 2,000 g/mol 이었다.

(c2) HMS-991(Gelest)를 사용하였다.

(d) 촉매　: 　Karstedt 촉매(PT-CS-1.8CS, Umicore)를 사용하였다.

(e) 억제제　:　surfynol을 사용하였다.

실시예 1

상기 비닐기 함유 실록산(a), Si-H terminated PDMS(c1) 및 HMS-991(c2) 을 1:1:0.1의 몰비로 배합하고, 촉매(d)와 억제제(e)를 첨가하여 교반 후 이형처리된 필름 위에 있는 유리섬유포(b)에 10g 정도 부어 적신 후 진공 하에서 탈포를 진행하였다. 탈포된 샘플을 이형처리된 film과 Glass 사이에 놓고 0.1Mpa의 압력으로 Laminatation하고 50℃에서 2시간 동안 경화를 진행하여 최종 복합 필름을 제조하였다.

실시예　2

비닐기 함유 실록산(a), Si-H terminated PDMS(c1) 및 HMS-991(c2) 을 1:0.8:0.3의 몰비로 배합한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

실시예　3

비닐기 함유 실록산(a), Si-H terminated PDMS(c1) 및 HMS-991(c2) 을 1:0.5:0.6의 몰비로 배합한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

비교예 1

비닐기 함유 실록산(a), Si-H terminated PDMS(c1) 및 HMS-991(c2) 을 1:0.1:1의 몰비로 배합한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

비교예 2

비닐기 함유 실록산(a) 및 HMS-991(c2) 을 1:1.1의 몰비로 배합한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

상기 실시예와 비교예에서 제조한 복합시트에 대하여, 하기의 물성을 평가하고 그 결과를 표 1에 나타내었다.

물성평가방법

(1)저장 모듈러스 및　손실 모듈러스 : Rheometer(Anton Paar, Physica MCR501) 장비를 사용하여, strain 0.5(%), frequency 10(1/s)의 조건으로 100℃에서 측정하였다. 지그는 angle 1°의 diameter 50mm인 것을 사용하였으며, 측정 gap은 102 ㎛를 적용하였다.

(2) tanδ : 상기 저장 모듈러스(G')와 손실 모듈러스(G")을 각각 측정한 후, G"/G' 에 의해 계산하였다.

(3) HAZE : HAZE meter(Nippon Denshoku, NDH2000)로 측정하였다. 초기 제조된 샘플과 220℃_2hr 열처리 후 샘플 각각에 대해 측정하였다.

(4) 크랙 : 광학현미경으로 반사 mode로 측정하였다. 초기 제조된 샘플과 220℃ 2hr 열처리 후 샘플 각각에 대해 측정하였다.

× : 없음, △ : 부분적으로 존재, ○ : 있음

	Mechanical property		초기 함침 샘플		220℃_2hr 열처리 후
	G'(Mpa)	tanδ	HAZE(%)	크랙	HAZE(%)	크랙
실시예 1	0.8	0.02	2.8	×	3.0	×
실시예 2	0.7	0.03	2.7	×	4.6	×
실시예 3	0.8	0.05	2.9	×	13.3	△
비교예 1	1.1	0.11	3.0	×	58.0	○
비교예 2	1.0	0.15	2.6	×	65.4	○

상기 표 1에서 나타난 바와 같이, tanδ 값이 0 초과 0.05 이하인 실시예 1~3은 열처리 후 낮은 헤이즈를 유지하였으며, 크랙이 거의 발견되지 않은 것을 확인하였다. 이에 비해 tanδ 값이 0.05를 초과하는 비교예 1-2는 열처리 후 헤이즈가 급격히 증가하였으며, 크랙이 발생한 것을 알 수 있다.

이상 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야 한다.

1　:　매트릭스　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　2　:　보강재
10　:　복합시트

Claims

매트릭스; 및
상기 매트릭스 내에 함침된 보강재;
를 포함하고, 손실 모듈러스(G")와 저장모듈러스(G')의 비인 tanδ 값(tanδ = G"/G')이 0 초과 0.05 이하인 복합시트.
제1항에 있어서, 상기 복합시트는 100℃에서 측정된 저장모듈러스가 0.1~5.0 MPa 인 복합시트.
제1항에 있어서, 상기 복합시트는 220 ℃에서 2시간 열처리후 헤이즈가 15 % 이하인 복합시트.
제1항에 있어서, 상기 매트릭스는 가교된 실리콘계 고무인 것을 특징으로 하는 복합시트.
제1항에 있어서, 상기 보강재는 유리 섬유포(glass cloth), 유리 직물(glass fibric), 유리 부직포　및　유리 메쉬(glass mesh)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합시트.
　
비닐기 함유 실록산, 가교제, 촉매 및 억제제를 포함하는 매트릭스용 조성물을 제조하고;
상기 매트릭스용 조성물에 보강재를 함침하고 경화시켜 tanδ 값을 0 초과 0.05 이하로 조절하는 단계를 포함하는 복합시트의 제조 방법.
제1항　내지 제5항중 어느 한 항의 복합시트를 포함하는 플렉시블 기판.