KR20140004787A

KR20140004787A - 성막 장치

Info

Publication number: KR20140004787A
Application number: KR1020137031164A
Authority: KR
Inventors: 유지 가지하라; 야스시 야스마츠; 가즈야 고나가
Original assignee: 캐논 아네르바 가부시키가이샤
Priority date: 2011-04-28
Filing date: 2012-04-16
Publication date: 2014-01-13
Also published as: JPWO2012147298A1; US9322095B2; TWI444493B; US20140034489A1; TW201307594A; KR101583122B1; CN103502504B; CN103502504A; WO2012147298A1; JP5632072B2

Abstract

본 발명은, 셔터 장치로 타깃을 선택할 수 있고, 타깃 간에서의 콘태미네이션이 발생하는 것을 방지할 수 있는 성막 장치를 제공한다. 성막 장치(10)는, 각각 회전 가능한 제1 셔터판(65) 및 제2 셔터판(67)을 갖는 셔터 장치(54)와, 타깃 전극(C)의 제1 셔터판(65)측에 고정된 상부 실드판(63)을 구비하고 있다. 또한, 제1 셔터판(65)의 타깃 전극(C)측의 면에는 회전 분리벽(72)이, 상부 실드판(63)의 제1 셔터판(65)측의 면에는 고정 분리벽(71)이 각각 개구(65a, 63a)를 사이에 두도록 설치되어 있다. 성막 처리 시, 회전 분리벽(72)과 고정 분리벽(71)과의 사이에서 래비린스가 형성되도록 제1 셔터판(65)을 회전함으로써 타깃(C) 간의 콘태미네이션을 방지할 수 있다.

Description

성막 장치{FILM-FORMING APPARATUS}

본 발명은 성막 장치에 관한 것으로, 예를 들어 단일 챔버 내에 재질이 상이한 복수의 타깃 전극을 구비하고, 또한 회전 셔터 장치를 이용해서 다층막을 스퍼터 성막하는 다원 스퍼터 성막 장치에 있어서의 콘태미네이션의 방지에 관한 것이다.

다원 스퍼터 성막 장치(예를 들어, 특허문헌 1)에서는, 필요로 하는 다층막을, 하나의 성막 챔버 내에 있어서 기판 상의 최하층부터 최상층까지 중단하지 않고 계속해서 연속적으로 스퍼터 성막할 수 있다.

상술한 바와 같은 다층막의 스퍼터 성막을 행하기 위해서, 특허문헌 1의 성막 장치에서는, 하나의 챔버 내에 복수의 재질이 상이한 타깃을 챔버 천장부, 즉, 성막 대상인 기판의 상방 공간에 배치하고, 또한 스퍼터 성막에 사용하는 타깃을 선택하기 위한 셔터 장치를 설치하고 있다. 이 셔터 장치는, 각각 독립적으로 회전하는 2중 셔터의 구조를 갖고, 2매의 셔터판 각각에는, 선택한 타깃을 기판측으로부터 볼 수 있는 소요 수의 개구가 소요 위치에 형성되어 있다.

회전 셔터 장치는, 성막하지 않은 재질의 타깃은 실드하고, 스퍼터 성막하려고 하는 재질의 타깃은 개구를 통해서 기판에 대하여 나타나게 된다. 회전 셔터 장치는, 기판으로부터 보아 거의 원 형상의 2개의 셔터판을 구비하고 있고, 이 2개의 셔터판이 독립적으로 회전할 수 있도록 구성되어 있다. 스퍼터 성막에 사용하는 타깃을 선택할 때에는, 회전 셔터 장치에 의해 각 셔터판을 회전시켜, 성막해야 할 재질의 타깃이 개구를 통해서 기판을 들여다 보이게 한다.

일본 특허 공개 제2011-001597 공보

여기서, 성막해야 할 재질이 상이한 복수의 타깃을 특정 순서로 선택해서 스퍼터 성막할 때, 타깃 간에 콘태미네이션이 발생하면 성막되는 막 성능이 저하될 우려가 있다. 막 성능이 양호한 다층막을 기판 상에 퇴적시키기 위해서 콘태미네이션의 발생을 확실하게 방지하는 기술이 요구되고 있다.

본 발명의 목적은, 상기의 과제를 감안하여, 하나의 챔버 내에 복수의 타깃을 구비해서 다층막을 스퍼터 성막하고, 또한 회전 셔터 장치로 타깃의 선택을 행하도록 한 성막 장치로서, 타깃 간에 콘태미네이션이 발생하는 것을 방지할 수 있는 성막 장치를 제공하는 것에 있다.

본 발명에 따른 성막 장치는, 타깃이 설치되는 설치면을 구비하는 복수의 타깃 전극과, 상기 복수의 타깃 전극에 대향하는 위치에서 상기 기판을 보유 지지하는 기판 홀더와, 상기 복수의 타깃 전극과 상기 기판 홀더와의 사이에 회전 가능하게 설치되고, 회전했을 때 상기 설치면에 대향하는 복수의 개구를 갖는 제1 셔터 부재와, 상기 제1 셔터 부재의 상기 타깃 전극측의 면에 설치된 제1 분리벽과, 상기 제1 셔터 부재와 상기 타깃 전극과의 사이에 설치된 제2 분리벽을 갖고, 상기 제1 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구의 각각을 사이에 두도록 설치되고, 상기 제2 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재가 회전축의 주위로 소정 각도 이상 회전했을 때, 상기 제1 분리벽과 접촉 가능하게 설치되고, 성막 처리 시, 상기 제1 분리벽은, 상기 제2 분리벽과의 사이에서 간극을 형성하도록 위치되는 것을 특징으로 한다.

혹은, 본 발명에 따른 성막 장치는, 타깃이 설치되는 설치면을 구비하는 복수의 타깃 전극과, 상기 복수의 타깃 전극에 대향하는 위치에서 상기 기판을 보유 지지하는 기판 홀더와, 상기 복수의 타깃 전극과 상기 기판 홀더의 사이에 회전 가능하게 설치되고, 회전했을 때 상기 설치면에 대향하는 복수의 개구를 갖는 제1 셔터 부재와, 상기 제1 셔터 부재와 상기 복수의 타깃 전극의 사이에 설치되고, 상기 설치면에 대향하는 개구를, 상기 복수의 타깃 전극의 수와 동등한 수만큼 갖는 실드 부재와, 상기 제1 셔터 부재의 상기 기판 홀더측의 면에 설치된 제1 분리벽과, 상기 실드 부재의 제1 셔터 부재측의 면에 설치된 제2 분리벽을 갖고, 상기 제1 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구 각각을 사이에 두도록 설치되고, 상기 제2 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재가 회전축의 주위로 소정 각도 이상 회전했을 때, 상기 제1 분리벽과 접촉 가능하게 설치되고, 성막 처리 시, 상기 제1 분리벽은, 상기 제2 분리벽과의 사이에서 간극을 갖도록 위치되는 것을 특징으로 한다.

하나의 챔버 내에 복수의 타깃을 구비해서 다층막을 스퍼터 성막하고, 또한 회전 셔터 장치로 타깃의 선택을 행하도록 한 성막 장치로서, 타깃 간에서 콘태미네이션을 방지할 수 있는 성막 장치를 제공할 수 있다.

본 발명의 그 밖의 특징 및 이점은, 첨부 도면을 참조로 한 이하의 설명에 의해 밝혀질 것이다. 또한, 첨부 도면에 있어서는, 동일하거나 혹은 마찬가지의 구성에는 동일한 참조 번호를 붙인다.

첨부 도면은 명세서에 포함되어 그 일부를 구성하고, 본 발명의 실시 형태를 나타내며, 그 기술(記述)과 함께 본 발명의 원리를 설명하기 위해서 사용된다.
도 1은 본 발명에 따른 자기 저항 디바이스의 제조 방법에 사용하는 성막 장치의 대표적인 실시 형태의 구성을 도시하는 평면도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 성막 장치의 하나의 성막 챔버의 구성을 개략적으로 도시하는 상면도이다.
도 3은 도 2의 성막 챔버의 구성을 개략적으로 도시하는 종단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 셔터 장치를 구성하는 각 부재의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 셔터 장치를 구성하는 부재 각각을 상방으로부터 본 모식도이다.
도 6a는 도 5의 I-I 단면도이다.
도 6b는 도 5의 II-II 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 셔터 장치의 동작 설명도이다.

이하에, 본 발명의 적합한 실시 형태를 첨부 도면에 기초하여 설명한다. 이하에 설명하는 부재, 배치 등은 발명을 구체화한 일례로서, 본 발명을 한정하는 것이 아니고, 본 발명의 취지에 따라 각종 개변할 수 있는 것은 물론이다. 본 발명에 따른 성막 장치의 적용은, 스퍼터링 장치에 한정되는 것이 아니라, 진공 용기 내에서 셔터 장치에 의해 증착 재료를 선택할 수 있는 각종 PVD 장치에 적용 가능하다.

(제1 실시 형태)

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 성막 장치의 대표적인 구성을 도시하고, 내부 기구의 개략 구성이 판명될 정도로 도시된 평면도이다. 이 성막 장치(10)는 클러스터형이고, 복수의 성막 챔버를 구비하고 있다. 로봇 반송 장치(11)가 구비된 반송 챔버(12)가 중앙 위치에 설치되어 있다. 로봇 반송 장치(11)는 신축 가능한 아암에 설치된 핸드(14)에 의해 기판을 보유 지지할 수 있다. 아암의 기단부는 반송 챔버(12)의 중심부에 회전 가능하게 설치되어 있다.

성막 장치(10)의 반송 챔버(12)에는, 로드/언로드 챔버(15, 16)가 설치되어 있다. 로드/언로드 챔버(15)를 이용하여, 외부로부터 성막 장치(10)에 피처리재로서의 기판을 반입하면서, 또한 다층막의 성막 처리가 종료된 기판을 성막 장치(10)의 외부로 반출할 수 있다. 로드/언로드 챔버(16)도 동일한 기능을 갖는다. 로드/언로드 챔버(16)를 경유해서 반입된 기판은, 로드/언로드 챔버(16)로부터 반출될 수 있다. 로드/언로드 챔버를 2개 설치한 이유는, 2개의 챔버를 교대로 구분지어 사용함으로써, 생산성을 높이기 위함이다.

이 성막 장치(10)에서는, 반송 챔버(12)의 주위에 복수, 예를 들어 5개의 성막 챔버(17A, 17B, 17C, 17D, 17E)(이하 17A 내지 17E)가 설치되어 있다. 2개의 챔버의 사이에는, 양쪽 챔버를 격리하고, 또한 필요에 따라 개폐 가능한 게이트 밸브(20)가 설치되어 있다.

성막 챔버(17A 내지 17E)의 각각은, 상이한 종류의 막을 같은 챔버 내에서 연속해서 성막하기 위한 성막 챔버다. 본 실시 형태에 따르면, 기판 상에 퇴적되는 다층막을 복수의 그룹으로 나누고, 각 그룹에 속하는 복수의 막을 미리 설정한 어느 한쪽 성막 챔버에서 성막시키도록 구성하고 있다. 이에 의해 클러스터형 성막 장치가 실현되고 있다. 성막 챔버(17A 내지 17E)의 각각에서는 스퍼터링을 이용한 PVD(Physical Vapor Deposition)법에 의해 자성막을 퇴적한다. 또한, 동일 그룹에 속하는 막을 성막하는 성막 챔버를 복수 배치함으로써 스루풋을 향상하는 구성이어도 좋은 것은 물론이다.

성막 장치(10)에 있어서, 로드/언로드 챔버(15)를 통해서 반송 챔버(12)의 내부에 반입된 기판(W)은, 로봇 반송 장치(11)에 의해, 성막 챔버(17A 내지 17E)의 각각에, 제작 대상인 다층막 디바이스에 따라서 미리 정해진 순서로 도입되고, 각 성막 챔버에서는 소정의 성막 처리가 행해진다. 제작 대상인 다층막 디바이스의 예를 들면, LED, MRAM, TMR 헤드, 어드밴스트(개량형) GMR 등이다.

또한, 도 1에 있어서, 성막 챔버(17A 내지 17E)의 내부를 필요한 진공 상태로 하기 위한 진공 배기 유닛, 타깃 전극(35 내지 38)에 전력을 공급하기 위한 유닛, 타깃 전극(35 내지 38) 각각에 설치되는 타깃, 프로세스 가스 도입 유닛 등의 플라즈마를 생성하기 위한 유닛 등의 도시는 생략되어 있다.

또한, 필요에 따라 성막 챔버 대신 산화막 성막 챔버나 크리닝 챔버를 배치할 수도 있다. 산화막 성막 챔버는 금속층을 산화하는 표면 화학 반응이 행해지는 챔버이고, 표면 화학 반응에는 플라즈마 산화, 자연 산화, 오존 산화, 자외선-오존 산화, 라디칼 산소 등이 사용된다. 크리닝 챔버는, 이온 빔 에칭 기구나 RF 스퍼터 에칭 기구에 의해 표면 평탄화가 행해지는 챔버다. 본 실시 형태의 성막 챔버(17A 내지 17E)는, 모두 마찬가지의 구성이지만, 제작 대상인 다층막 디바이스의 막 구성에 따라서 각 성막 챔버의 타깃 전극에 탑재되는 타깃의 종류도 변경되는 것은 물론이다.

다음으로 성막 챔버(17A 내지 17E)의 각각에 설치되는 특징적인 구조에 대해서 도 2, 3을 참조하여 설명한다. 본 실시 형태의 성막 챔버(17A, 17B, 17C, 17D, 17E)는 모두 마찬가지의 구성이기 때문에, 대표적으로 성막 챔버(17E)를 도 2, 3에 도시하였다. 도 2는 성막 챔버(17E)를 상방으로부터 본 상면도이고, 타깃 전극(35 내지 38)과 기판(34)의 위치 관계를 알 수 있도록 천장부(52)를 제외하여 그린 도면이다. 도 3은 성막 챔버(17E)의 종단면도이다. 도 2, 3에 있어서, 도 1에서 설명한 요소와 실질적으로 동일한 요소에는 동일한 부호를 부여하고 있다.

성막 챔버(17E)의 용기(51)(진공 용기)의 천장부(52)에는 상술한 바와 같이 4개의 타깃 전극(35 내지 38)이 설치되어 있다. 이들 타깃 전극(35 내지 38)은 경사진 상태로 천장부(52)에 설치되어 있다. 타깃 전극은 피성막 재료가 본딩된 타깃을 기판에 대향해서 보유 지지할 수 있는 공지된 캐소드다. 성막 챔버(17E)의 저면부의 중앙에 회전 가능하게 설치된 기판 홀더(33)는 기판(34)을 수평 상태로 유지하고 있다. 기판(34)에 대해 스퍼터 성막할 때 기판(34)은 회전 상태에 있다. 경사져서 설치된 타깃 전극(35 내지 38) 각각에는, 그 하방에 수평하게 배치된 기판(34)의 상면에 대하여 대향하도록 타깃(T)을 배치할 수 있다. 타깃(T)에는 성막 처리에 사용되는 피성막 재료가 본딩되어 있다. 또한, 여기에서의 타깃(T)과 기판이 대향하는 상태는, 타깃 전극이 기판 주변을 향해서 배치되어 있는 상태나, 도 3에 도시한 바와 같이 타깃(T)의 스퍼터면이 경사져서 기판(34)을 향해져 있는 상태도 포함하는 것으로 한다.

이들 타깃(T)과 기판(34)의 사이에는 셔터 장치(54)가 배치되어 있다. 셔터 장치(54)는 2중 셔터판을 갖고 있다. 셔터 장치(54)의 동작에 의해, 4개의 타깃 전극(35 내지 38)에 각각 설치된 타깃(T) 중 스퍼터 성막에 사용되는 타깃(T)이 선택된다.

여기서, 도 4 내지 도 6에 기초하여 셔터 장치(54)의 구조를 설명한다. 도 4는 셔터 장치(54)를 구성하는 각 부재의 사시도이다. 셔터 장치(54)는, 주요 구성 요소로서, 예를 들어 타깃 전극 홀더(61), 상부 실드판(실드 부재)(63), 제1 셔터판(제1 셔터 부재)(65), 제2 셔터판(제2 셔터 부재)(67)을 갖고 있다. 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)은, 2중 회전 셔터의 셔터판으로 구성되어 있다. 상부 실드판(63), 제1 셔터판(65), 제2 셔터판(67)은 실질적으로 평행해지도록, 모두 위로 볼록한 만곡 형상을 가질 수 있다.

타깃 전극 홀더(61)는, 타깃 전극을 보유 지지하는 설치부(61a)가 4군데에 설치된 부재이며, 용기(51)의 상부에 설치되어 있다. 본 실시 형태의 타깃 전극 홀더(61)는, 용기(51)의 덮개로서의 기능도 갖고, 천장부(52)와 일체로 구성되어 있지만, 용기(51)의 일부에 설치부(61a)를 설치하는 구성이어도 좋다. 설치부(61a)에 보유 지지된 타깃 전극에는, 성막 처리에 사용되는 임의의 피성막 물질이 본딩된 타깃(T)을 기판(34)의 방향을 향해서 보유 지지할 수 있다. 또한, 타깃 전극의 타깃(T)을 보유 지지하는 부분을 타깃 설치면으로 한다.

상부 실드판(실드 부재)(63)은, 타깃 전극 홀더(61)의 기판 홀더(33)측에 설치된 부착 방지 실드판이며, 타깃(T)으로부터 스퍼터된 원자가 타깃 전극 홀더(61)에 부착되는 것을 방지한다. 상부 실드판(63)은, 타깃 전극의 타깃 설치면(설치면)에 대향하는 영역에 개구(63a)가 형성되어 있다. 타깃 전극 홀더(61)에는 4개의 타깃 전극(35 내지 38)이 보유 지지되는 점에서, 상부 실드판(63)의 각 타깃 전극(35 내지 38)의 타깃 설치면에 대향하는 위치에는 각각 개구가 형성되어 있다. 상부 실드판(63)에 형성되어 있는 4개의 개구(63a)의 양측에는, 제1 셔터판(65)측으로 돌출된 판상 부재인 고정 분리벽(stationery separating wall)(71)(제2 분리벽)이 설치되어 있다. 고정 분리벽(71)에 대해서는 후술한다.

제1 셔터판(제1 셔터 부재)(65)은, 상부 실드판(63)의 기판 홀더(33)측에 회전 가능하게 설치된 셔터판이며, 회전축(65b)을 회전시킴으로써 회전 각도를 제어할 수 있다. 제1 셔터판(65)은, 회전에 의해 2개의 타깃 전극의 타깃 설치면에 대향할 수 있는 영역에 개구(65a)가 형성되어 있다. 제1 셔터판(65)에 형성된 2개의 개구(65a)는 회전축(65b)에 대하여 대칭인 위치에 형성되어 있다. 제1 셔터판(65)에 형성되어 있는 2개의 개구(65a)의 양측에는, 상부 실드판(63)측으로 돌출된 판상 부재인 회전 분리벽(rotational separating wall)(72)(제1 분리벽)이 설치되어 있다. 회전 분리벽(72)에 대해서는 후술한다.

제2 셔터판(제2 셔터 부재)(67)은, 제1 셔터판(65)의 기판 홀더(33)측에 회전 가능하게 설치된 셔터판이며, 회전축(67b)을 회전시킴으로써 회전 각도를 제어할 수 있다. 회전축(65b)과 회전축(67b)은 독립하여 회전을 제어 가능하게 구성되어 있다. 제2 셔터판(67)에는, 회전에 의해 3개의 타깃 전극의 타깃 설치면에 대향할 수 있는 영역에 각각 개구(67a)가 형성되어 있다. 또한, 제2 셔터판(67)에 형성된 3개의 개구 중, 회전축(67b)에 대하여 대칭인 위치에 형성되어 있는 2개의 개구는 제1 셔터판(65)에 형성된 2개의 개구에 대향해서 배치할 수 있도록 형성되어 있다.

도 5는 셔터 장치(54)를 구성하는 부재 중 상부 실드판(63), 제1 셔터판(65), 제2 셔터판(67) 각각을 상방으로부터 본 모식도이다. 도 5에서는, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)의 상방으로부터 본 위치 관계가 명확해지도록, 실제로는 상방으로부터는 보이지 않는 고정 분리(71)를 파선으로 나타냈다. 상술한 바와 같이 상부 실드판(63)의 제1 셔터판(65)측의 면에는 4개의 고정 분리벽(71)이 설치되어 있고, 한편, 제1 셔터판(65)의 상부 실드판(63)측의 면에는 4개의 회전 분리벽(72)이 설치되어 있다.

고정 분리벽(71)(제2 분리벽)은, 제1 셔터판(65)을 향해서 돌출된 4개의 판상 부재(볼록 형상 부재)이며, 인접하는 개구(63a) 사이의 위치에 각각 설치되어 있다. 4개의 고정 분리벽(71)은, 상부 실드판(63)의 중심으로부터 방사상으로 연장되도록 배치되어 있다. 본 실시 형태에서는 고정 분리벽(71)이 상부 실드판(63)에 설치되어 있지만, 상부 실드판(63)을 갖지 않은 구성에 있어서는 용기(51) 혹은 타깃 전극 홀더(61)에 고정 분리벽(71)이 설치되어도 좋다.

회전 분리벽(72)(제1 분리벽)은, 상부 실드판(63)을 향해서 돌출된 4개의 판상 부재(볼록 형상 부재)이며, 개구(65a)의 둘레 방향의 양측에 각각 설치되어 있다. 4개의 회전 분리벽(72)은, 제1 셔터판(65)의 중심으로부터 방사상으로 연장되도록 배치되어 있다. 도 5 중의 부호(80a, 80b, 80c)는 Mark이며, 제1 셔터판(65), 제2 셔터판(67)의 회전 각도의 기준 위치를 나타내고 있다.

도 6a는 도 5의 I-I 단면도, 도 6b는 도 5의 II-II 단면도이다. 도 6b에서는, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)의 측방으로부터 본 위치 관계가 명확해지도록 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)에 대해서도 도시하였다. 도 6a, 도 6b 중에서는 타깃 전극(35 내지 38) 중 임의의 타깃 전극을 부호 C로, 임의의 타깃을 부호 T로 나타냈다. 또한, 도시의 간략화를 위해서, 타깃 전극 홀더(61), 상부 실드판(63), 제1 셔터판(65), 제2 셔터판(67)을 모두 평행하게 구성한 것으로서 도시하고 있다.

도 6a는 지면상을 향해서 좌측에 위치하는 한 쪽 타깃(T)만이 스퍼터 성막에 사용되는 경우의 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 배치이다. 구체적으로는, 한쪽 타깃(T)에 대향하는 위치에는, 제1 셔터판(65)에 개구(65a)가 위치하고, 다른 쪽 타깃(T)에 대향하는 위치는 제1 셔터판(65)에 의해 폐쇄되어 있다. 또한, 양쪽 타깃(T)에 대향하는 위치의 제2 셔터판(67)은 모두 개구(67a)에 의해 개방되어 있다.

2개의 타깃(T)에 대향하는 위치의 사이에는, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 위치하고 있다. 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)은 회전축(65b, 67b)의 축 방향(회전축 방향)에 있어서 겹치는 영역을 갖고 있다. 즉, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)의 높이의 합은, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)의 간극의 거리보다도 긴 치수로 설정되어 있다. 도 6b에서, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)을 둘레 방향으로부터 보면, 고정 분리벽(71)은 회전축(65b)으로부터 직경 방향으로 상부 실드판(63)의 외주 부분까지 형성되어 있다. 회전 분리벽(72)도 마찬가지로 회전축(65b)으로부터 직경 방향으로 제1 셔터판(65)의 외주 부분까지 형성되어 있다.

즉, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)의 간극의 영역에서, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)에 의해 래비린스를 형성할 수 있다. 이로 인해, 한쪽 타깃(T)으로부터 스퍼터된 원자가, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)의 간극을 통과해서 다른 쪽 타깃(T)에 도달하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.

본 실시 형태에 있어서는, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)은 회전축(65b, 67b)의 축 방향에 있어서 겹치는 영역을 갖기 때문에, 제1 셔터판(65)이 회전축(65b)의 주위로 소정 각도 이상 회전하면 회전 분리벽(72)은 고정 분리벽(71)과 접촉하게 된다. 즉, 도 5에 도시되어 있는 바와 같이, 모든 회전 분리벽(72)은 고정 분리벽(71)의 둘레 방향의 일방측에 각각 접근해서 위치할 수 있도록 설치되어 있다. 스퍼터 성막 처리를 행할 때에는, 회전 분리벽(72)은, 고정 분리벽(71)과의 사이에서 래비린스를 형성하도록, 각각의 고정 분리벽의 둘레 방향의 일방측에 소정의 간극을 두고 배치된다. 소정의 간극은 예를 들어 몇 밀리미터로 할 수 있다.

예를 들어, 도 5에 도시한 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)의 위치 관계를 기준으로 하여, 제1 셔터판(65)을, 도 5의 지면에 대하여 반시계 방향으로 90°부근까지 회전시킬 수 있다. 제1 셔터판(65)을 회전할 수 있는 각도는, 회전 분리벽(72)이 고정 분리벽(71)의 둘레 방향의 타방측에 접촉하기 직전까지이며, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)의 둘레 방향의 두께에 따라 어느 정도 변동하지만, 70 내지 90°이다.

본 실시 형태에서는, 제1 셔터판(65)을 회전할 수 있는 각도(회전 각도)는 80°로 설정되어 있다. 회전 각도가 90° 미만이므로, 제1 셔터판(65)에 형성된 개구(65a)를 제1 셔터판(65)의 직경 방향보다도 둘레 방향으로 길게 형성함으로써, 타깃에 대향하는 영역을 크게 개방할 수 있도록 하였다. 또한, 제2 셔터판(67)은 회전할 수 있는 각도는 제한되지 않는다.

도 7에 기초하여 본 실시 형태에 따른 셔터 장치(54)의 동작과 그 효과에 대해서 설명한다. 도 7은 타깃 전극 홀더(61), 제1 셔터판(65), 제2 셔터판(67) 각각을 상방으로부터 본 모식도이며, 각 타깃을 사용할 때의 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 회전 위치를 알 수 있도록 일람으로 통합한 도면이다. 또한, 도 7의 우측의 열은 기판(34)측으로부터 셔터 장치(54)를 보았을 때의 모식도이다. 또한 도 7 중에서는, 상부 실드판(63)은 타깃 전극 홀더(61)와 일체로 설치되어 있는 것으로 하면서, 또한 타깃 전극(35 내지 38)에 설치된 타깃을 부호 T1 내지 T4로서 나타냈다.

우선, 도 7에 도시한 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 회전 위치를 나타내는 조합 중에서, 타깃(T1)만을 사용해서 기판(34)에 성막을 행할 때의 셔터 장치(54)의 동작에 대해서 설명한다. 도 7의 T1이라고 기재된 행에 기초하여 설명한다. 타깃(T1)에 대하여 제1 셔터판(65)의 개구(65a)와 제2 셔터판(67)의 개구(67a)의 위치를 겹침으로써 타깃(T1)을 이용한 스퍼터 성막이 행해지고, 회전 중인 기판(34)의 표면에 소정의 막을 퇴적시킬 수 있다. 이때 타깃(T2, T4)은 제1 셔터판(65)으로 덮이고, 타깃(T3)은 제2 셔터판(67)으로 덮이기 때문에, 타깃(T1)으로부터 스퍼터된 피성막 물질이 다른 타깃(T2, T3, T4)에 기판측으로부터 부착되는 것을 방지할 수 있다.

또한, 타깃(T1)과 타깃(T2)의 사이 및 타깃(T1)과 타깃(T3)의 사이의 위치에는, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)과의 간극에서의 타깃(T1)으로부터의 피성막 물질의 이동이 방해되어, 효과적으로 콘태미네이션을 방지할 수 있다. 또한, 타깃(T2, T4)의 전방면은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)과의 간극에서의 타깃(T1)으로부터의 피성막 물질의 타깃(T2, T4)으로의 이동을 방지할 수 있다. 타깃(T3)은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있지 않지만, 타깃(T1)으로부터 가장 이격되어 있는 점 및 타깃(T3)과 타깃(T1)의 사이에 회전축(65b, 67b)이 존재하고 있는 점에서 타깃(T1)으로부터의 피성막 물질이 타깃(T3)에 도달하는 것이 방해되고 있다.

이어서, 타깃(T2)만을 사용해서 기판(34)에 성막을 행할 때의 셔터 장치(54)의 동작에 대해서 설명한다(도 7의 T2라고 기재된 행을 참조). 타깃(T2)만을 사용해서 스퍼터 성막을 행할 때는, 타깃(T1)만을 사용했을 때와 비교하여, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 양쪽을 지면을 향해서 반시계 방향으로 80° 회전시킨 위치로 한다. 이에 의해, 타깃(T2)에 대하여 제1 셔터판(65)의 개구(65a)와 제2 셔터판(67)의 개구(67a)의 위치를 겹칠 수 있다. 타깃(T1, T3)은 제1 셔터판(65)으로 덮이고, 타깃(T4)은 제2 셔터판(67)으로 덮이기 때문에, 타깃(T2)으로부터 스퍼터된 피성막 물질이 다른 타깃(T1, T3, T4)에 기판측으로부터 부착되는 것을 방지할 수 있다.

타깃(T2)과 타깃(T3)의 사이 및 타깃(T2)과 타깃(T4)의 사이의 위치에는, 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)과의 간극에서의 타깃(T2)으로부터의 피성막 물질의 이동이 방해되어, 효과적으로 콘태미네이션을 방지할 수 있다. 또한, 타깃(T1, T3)의 전방면은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)과의 간극에서의 타깃(T2)으로부터의 피성막 물질의 타깃(T1, T3)으로의 이동을 방지할 수 있다. 그리고, 타깃(T4)은 타깃(T2)으로부터 가장 이격되어 있는 점 및 타깃(T4)과 타깃(T2)의 사이에 회전축(65b, 67b)이 존재하고 있는 점에서, 타깃(T2)으로부터의 피성막 물질이 타깃(T4)에 도달하는 것을 방해할 수 있다.

타깃(T3)만을 사용해서 기판(34)에 성막을 행할 때의 셔터 장치(54)의 동작에 대해서 설명한다(도 7의 T3라고 기재된 행을 참조). 타깃(T3)만을 사용해서 스퍼터 성막을 행할 때는, 타깃(T1)만을 사용했을 때와 비교하여, 제1 셔터판(65)을 회전시키지 않고, 제2 셔터판(67)을 지면을 향해서 180° 회전시킨 위치로 한다. 타깃(T2, T4)은 제1 셔터판(65)으로 덮이고, 타깃(T1)은 제2 셔터판(67)으로 덮이기 때문에, 타깃(T3)으로부터 스퍼터된 피성막 물질이 다른 타깃(T1, T2, T4)에 기판측으로부터 부착되는 것을 방지할 수 있다.

타깃(T3)의 둘레 방향의 양측에서 인접하는 타깃(T2, T4)의 사이의 위치에는, 모두 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)과의 간극에서의 타깃(T3)으로부터의 피성막 물질의 이동이 방해되어, 효과적으로 콘태미네이션을 방지할 수 있다. 또한, 타깃(T2, T4)의 전방면은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)과의 간극에서의 타깃(T3)으로부터의 피성막 물질의 타깃(T2, T4)으로의 이동을 방지할 수 있다. 그리고, 타깃(T1)은 타깃(T3)으로부터 가장 이격되어 있는 점 및 타깃(T1)과 타깃(T3)의 사이에 회전축(65b, 67b)이 존재하고 있는 점에서 타깃(T3)으로부터의 피성막 물질이 타깃(T1)에 도달하는 것을 방해할 수 있다.

타깃(T4)만을 사용해서 기판(34)에 성막을 행할 때의 셔터 장치(54)의 동작에 대해서 설명한다(도 7의 T4라고 기재된 행을 참조). 타깃(T4)만을 사용해서 스퍼터 성막을 행할 때는, 타깃(T1)만을 사용했을 때와 비교하여, 제1 셔터판(65)을 지면에 대하여 반시계 방향으로 80° 회전시키면서, 또한 제2 셔터판(67)을 지면을 향해서 반시계 방향으로 270° 회전시킨 위치로 한다. 타깃(T1, T3)은 제1 셔터판(65)으로 덮이고, 타깃(T2)은 제2 셔터판(67)으로 덮이기 때문에, 타깃(T4)으로부터 스퍼터된 피성막 물질이 다른 타깃(T1, T2, T3)에 기판측으로부터 부착되는 것을 방지할 수 있다.

타깃(T4)의 둘레 방향의 양측에서 인접하는 타깃(T1, T3) 사이의 위치에는, 모두 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)과의 간극에서의 타깃(T4)으로부터의 피성막 물질의 이동이 방해되어, 효과적으로 콘태미네이션을 방지할 수 있다. 또한, 타깃(T1, T3)의 전방면은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)과의 간극에서의 타깃(T4)으로부터의 피성막 물질의 타깃(T1, T3)으로의 이동을 방지할 수 있다. 그리고, 타깃(T2)은 타깃(T4)으로부터 가장 이격되어 있는 점 및 타깃(T2)과 타깃(T4)의 사이에 회전축(65b, 67b)이 존재하고 있는 점에서 타깃(T4)으로부터의 피성막 물질이 타깃(T2)에 도달하는 것을 방해할 수 있다.

타깃(T1)과 타깃(T3) 양쪽을 사용한 동시 스퍼터(co-sputtering) 혹은 동시 성막 처리에 의해 기판(34)에 성막을 행할 때의 셔터 장치(54)의 동작에 대해서 설명한다(도 7의 T1-T3 Co-SP라고 기재된 행을 참조). 타깃(T1)과 타깃(T3)의 Co-스퍼터를 행할 때는, 타깃(T1)만을 사용했을 때와 비교하여, 제1 셔터판(65)을 회전시키지 않고, 제2 셔터판(67)을 지면을 향해서 반시계 방향으로 90° 회전시킨 위치로 한다. 이때, 타깃(T1)과 타깃(T3)이 기판(34)에 대하여 개방되면서, 또한 타깃(T2, T4)은 제1 셔터판(65)으로 덮인다.

타깃(T1)과 타깃(T3)의 둘레 방향의 양측 위치에서는, 각각 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)과의 간극에서의 타깃(T1)과 타깃(T3)으로부터의 피성막 물질의 이동이 방해되어, 효과적으로 콘태미네이션을 방지할 수 있다. 또한, 타깃(T2, T4)의 전방면은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)과의 간극에서의 타깃(T1)과 타깃(T3)으로부터의 피성막 물질의 타깃(T2, T4)으로의 이동을 방지할 수 있다. 타깃(T1)과 타깃(T3)의 동시 스퍼터에 있어서, 제1 셔터판(65)의 2개의 개구(65a)는 회전축(65b)을 사이에 두고 대칭 위치이기 때문에, 타깃(T1)과 타깃(T3)과의 거리가 길어 크로스 콘태미네이션을 효과적으로 방지할 수 있다. 특히, 타깃(T1)과 타깃(T3)의 피성막 물질이 상이할 때는 본 실시 형태의 구성에 의해 크로스 콘태미네이션을 효과적으로 방지할 수 있다.

타깃(T2)과 타깃(T4)의 양쪽을 사용한 동시 스퍼터에 의해 기판(34)에 성막을 행할 때의 셔터 장치(54)의 동작에 대해서 설명한다(도 7의 T2-T4 Co-SP라고 기재된 행을 참조). 타깃(T2)과 타깃(T4)의 Co-스퍼터를 행할 때는, 타깃(T1)만을 사용했을 때와 비교하여, 제1 셔터판(65)을 지면을 향해서 반시계 방향으로 80° 회전시키고, 제2 셔터판(67)을 회전시키지 않는 위치로 한다. 이때, 타깃(T2)과 타깃(T4)이 기판(34)에 대하여 개방되면서, 또한 타깃(T1, T3)은 제1 셔터판(65)으로 덮인다.

타깃(T2)과 타깃(T4)의 둘레 방향의 양측 위치에는, 각각 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)과의 간극에서의 타깃(T2)과 타깃(T4)으로부터의 피성막 물질의 이동이 방해되어, 효과적으로 콘태미네이션을 방지할 수 있다. 또한, 타깃(T1, T3)은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)과의 간극에서의 타깃(T2)과 타깃(T4)으로부터의 피성막 물질의 타깃(T1, T3)으로의 이동을 방지할 수 있다. 타깃(T2)과 타깃(T4)의 동시 스퍼터에 있어서, 제1 셔터판(65)의 2개의 개구(65a)는 회전축(65b)을 사이에 두고 대칭 위치이기 때문에, 타깃(T2)과 타깃(T4)과의 거리가 길어 크로스 콘태미네이션을 효과적으로 방지할 수 있다. 특히, 타깃(T2)과 타깃(T4)의 피성막 물질이 상이할 때는 본 실시 형태의 구성에 의해 크로스 콘태미네이션을 효과적으로 방지할 수 있다.

상술한 본 실시 형태에서는, 타깃(타깃 전극)을 4개 탑재할 수 있는 성막 장치에 대해서 설명했지만, 타깃의 수는 4개에 한정되지 않는다. 예를 들어, 타깃(타깃 전극)을 2개, 제1 셔터판(65)의 개구(65a)와 제2 셔터판(67)의 개구(67a)를 각각 2개 갖는 구성이어도, 상술한 실시 형태와 마찬가지의 콘태미네이션의 방지 효과를 발휘할 수 있다. 이 경우에는, 도 7에서 말하면, 타깃(T1)과 타깃(T3)(또는 T2와 T4)만을 구비하는 성막 장치에 적절하게 사용할 수 있다.

본 실시 형태의 성막 장치의 효과에 대해서 설명한다. 하나의 챔버 내에 복수의 타깃을 구비해서 다층막을 스퍼터 성막하고, 또한 회전 셔터 장치에서 타깃의 선택을 행하도록 한 성막 장치에 상술한 회전 셔터(54)를 설치함으로써, 타깃 간에서의 콘태미네이션을 효과적으로 방지할 수 있다. 특히, 동시 스퍼터 성막 시의 크로스 콘태미네이션을 효과적으로 방지할 수 있다. 이에 의해, 막 성능이 양호한 다층막을 기판 상에 퇴적시킬 수 있다.

또한, 성막 장치(10)의 셔터 장치(54)는, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)은 각각의 타깃의 스퍼터면(타깃 전극의 타깃 설치면)에 평행해지도록 만곡된 단면 형상으로 형성되어 있다. 이러한 각 셔터판(65, 67)을 사용함으로써, 성막 물질을 기판(34)에 대하여 비스듬한 방향으로부터 스퍼터하는 본 실시 형태의 성막 장치에 있어서도 성막 속도를 줄이지 않고, 균일한 막 두께 분포를 실현할 수 있다.

(제2 실시 형태)

이하에 본 발명의 다른 실시 형태에 대해서 설명한다. 상술한 실시 형태에 있어서의 셔터 장치(54)는, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)을 모두 구비하는 구성이지만, 제2 셔터판(67)을 구비하지 않은 셔터 장치여도 콘태미네이션의 발생을 방지할 수 있다. 즉, 타깃(T1 내지 T4)의 둘레 방향의 양측 위치에는, 각각 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)이 래비린스를 형성하고 있기 때문에, 상부 실드판(63)과 제1 셔터판(65)의 간극에서의 피성막 물질의 이동이 방해되기 때문이다. 또한, 사용되지 않은 타깃은 제1 셔터판(65)으로 덮여 있기 때문에, 사용되지 않은 타깃에 스퍼터된 물질이 부착되는 것을 방지할 수 있다. 이 실시 형태에서는, 타깃을 2개 이상 탑재하는 성막 장치로 콘태미네이션을 방지할 수 있다.

(제3 실시 형태)

또한, 상술한 실시 형태에 있어서의 셔터 장치(54)는 상부 실드판(63)이 제1 셔터판(65)과 타깃 전극(C)과의 사이에 배치되어 있지만, 상부 실드판(63)을 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 사이에 배치해도 거의 마찬가지의 효과를 발휘할 수 있다. 이 경우, 회전 분리벽(72)은 제1 셔터판(65)의 기판 홀더측(33)의 면에 설치되고, 고정 분리벽(71)은 상부 실드판(63)의 제1 셔터 부재(65)측의 면에 설치된다. 마찬가지로, 상부 실드판(63)을 제2 셔터판(67)의 기판 홀더(33)측에 배치하고, 회전 분리벽(72)을 제2 셔터판(67)의 기판 홀더측(33)의 면에 설치해도 거의 마찬가지의 효과를 발휘할 수 있다.

(제4 실시 형태)

또한, 셔터 장치(54)로부터 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)을 제외한 구성의 셔터 장치에 대해서 설명한다. 고정 분리벽(71)과 회전 분리벽(72)을 구비하지 않은 셔터 장치여도, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 간극을 통해서 피성막 물질이 다른 타깃으로 이동하는 것은 방지할 수 있다. 제1 셔터판(65)의 2개의 개구(65a)가 이격되어서 위치하고 있고, 또한 2개의 타깃의 사이에 회전축(65b, 67b)이 위치하고 있기 때문에다. 특히, Co-스퍼터 성막 처리에 있어서는, 제1 셔터판(65)과 제2 셔터판(67)의 간극을 통한 피성막 물질에 의해 일어나는 크로스 콘태미네이션을 방지할 수 있다.

본 발명은 상기 실시 형태에 제한되는 것이 아니고, 본 발명의 정신 및 범위로부터 이탈하지 않고, 여러 변경 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 범위를 알리기 위해서, 이하의 청구항을 첨부한다.

본원은, 2011년 4월 28일에 제출한 일본 특허 출원 제2011-100784호를 기초로 해서 우선권을 주장하는 것으로, 그 기재 내용 전부를 본 명세서에 원용한다.

T: 타깃
10: 성막 장치
11: 로봇 반송 장치
12: 반송 챔버
14: 핸드
15, 16: 로드/언로드 챔버
17A 내지 17E: 성막 챔버
20: 게이트 밸브
33: 기판 홀더
34: 기판
35 내지 38, C: 타깃 전극
51: 용기
52: 천장부
53: 마그네트
54: 셔터 장치
61: 타깃 전극 홀더
63: 상부 실드판(실드 부재)
65: 제1 셔터판(제1 셔터 부재)
63a, 65a, 67a: 개구
65b, 67b: 회전축
67: 제2 셔터판(제2 셔터 부재)
71: 고정 분리벽(제2 분리벽)
72: 회전 분리벽(제1 분리벽)

Claims

타깃이 설치되는 설치면을 구비하는 복수의 타깃 전극과,
상기 복수의 타깃 전극에 대향하는 위치에서 상기 기판을 보유 지지하는 기판 홀더와,
상기 복수의 타깃 전극과 상기 기판 홀더와의 사이에 회전 가능하게 설치되고, 회전했을 때 상기 설치면에 대향하는 복수의 개구를 갖는 제1 셔터 부재와,
상기 제1 셔터 부재의 상기 타깃 전극측의 면에 설치된 제1 분리벽과,
상기 제1 셔터 부재와 상기 타깃 전극과의 사이에 설치된 제2 분리벽을 갖고,
상기 제1 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구의 각각을 사이에 두도록 설치되고,
상기 제2 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재가 회전축의 주위로 소정 각도 이상 회전했을 때, 상기 제1 분리벽과 접촉 가능하게 설치되고,
성막 처리 시, 상기 제1 분리벽은, 상기 제2 분리벽과의 사이에서 간극을 형성하도록 위치되는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제1항에 있어서,
상기 제1 셔터 부재와 상기 기판 홀더와의 사이에 회전 가능하게 설치되고, 상기 제2 셔터 부재 또는 상기 제2 셔터 부재가 회전했을 때 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구 중 어느 하나에 대향하는 개구를 갖는 제2 셔터 부재를 더 갖고,
상기 제2 셔터 부재의 상기 개구의 수는, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구의 수 이상인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 타깃 전극과 상기 제1 셔터 부재와의 사이에 설치된 실드 부재를 더 갖고,
상기 실드 부재는, 상기 설치면에 대향하는 개구를, 상기 복수의 타깃 전극의 수와 동등한 수만큼 갖고,
상기 제2 분리벽은, 상기 실드 부재에 설치되는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
타깃이 설치되는 설치면을 구비하는 복수의 타깃 전극과,
상기 복수의 타깃 전극에 대향하는 위치에서 상기 기판을 보유 지지하는 기판 홀더와,
상기 복수의 타깃 전극과 상기 기판 홀더와의 사이에 회전 가능하게 설치되고, 회전했을 때 상기 설치면에 대향하는 복수의 개구를 갖는 제1 셔터 부재와,
상기 제1 셔터 부재와 상기 복수의 타깃 전극과의 사이에 설치되고, 상기 설치면에 대향하는 개구를, 상기 복수의 타깃 전극의 수와 동등한 수만큼 갖는 실드 부재와,
상기 제1 셔터 부재의 상기 기판 홀더측의 면에 설치된 제1 분리벽과,
상기 실드 부재의 제1 셔터 부재측의 면에 설치된 제2 분리벽을 갖고,
상기 제1 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구 각각을 사이에 두도록 설치되고,
상기 제2 분리벽은, 상기 제1 셔터 부재가 회전축의 주위로 소정 각도 이상 회전했을 때, 상기 제1 분리벽과 접촉 가능하게 설치되고,
성막 처리 시, 상기 제1 분리벽은, 상기 제2 분리벽과의 사이에서 간극을 갖도록 위치되는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제4항에 있어서,
상기 실드 부재와 상기 기판 홀더와의 사이에 회전 가능하게 설치되고, 상기 제2 셔터 부재 또는 상기 제2 셔터 부재가 회전했을 때 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구 중 어느 하나에 대향하는 개구를 갖는 제2 셔터 부재를 더 갖고,
상기 제2 셔터 부재의 개구의 수는, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구의 수 이상인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타깃 전극 중 2개는 동시 성막 처리에 사용되는 것이고,
상기 동시 성막 처리 시, 상기 제1 셔터 부재의 상기 복수의 개구 중 2개의 개구는, 상기 동시 성막 처리에 사용되는 상기 타깃 전극의 상기 설치면에 동시에 대향하는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제6항에 있어서,
상기 제1 셔터 부재에는 상기 복수의 개구의 전부 또는 일부로서 2개의 개구가 형성되고, 상기 2개의 개구는, 상기 회전축에 대한 대칭 위치에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 분리벽 및 상기 제2 분리벽은 모두, 상기 회전축을 중심으로 해서 직경 방향으로 연장되어 있는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 셔터 부재에 형성된 상기 복수의 개구는, 제1 셔터 부재의 직경 방향보다도 둘레 방향으로 긴 치수를 갖고 있는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.