KR20140002543A - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus - Google Patents

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Abstract

An electrophotographic photosensitive body of the present invention includes a supporter, an undercoating layer formed on the supporter, and a photosensitive layer formed on the undercoating layer. The undercoating layer has a structure represented by chemical formula C1 or C2. In the chemical formula C1 and C2, R11-R16 and R22-R25 are hydrogen atoms, methylene groups, monovalent groups represented by -CH2OR2, groups represented by chemical formula i, and groups represented by chemical formula ii.

Description

전자 사진 감광체, 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치{ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MEMBER, PROCESS CARTRIDGE, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, a process cartridge, and an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photoreceptor,

본 발명은 전자 사진 감광체 및 전자 사진 감광체를 각각 포함하는 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a process cartridge and an electrophotographic apparatus each including an electrophotographic photosensitive member and an electrophotographic photosensitive member.

현재, 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치에 사용되는 전자 사진 감광체로서는, 유기 광도전성 물질을 함유하는 전자 사진 감광체가 주류이다. 일반적으로, 전자 사진 감광체는 지지체 및 지지체 상에 형성된 감광층을 포함한다. 지지체측으로부터의 감광층측으로의 전하 주입을 억제하여, 흐려짐(fog) 등의 화상 결함의 발생을 억제하기 위해, 지지체와 감광층 사이에는 언더코팅층이 설치되어 있다.At present, as an electrophotographic photosensitive member used in a process cartridge and an electrophotographic apparatus, an electrophotographic photosensitive member containing an organic photoconductive material is mainstream. In general, the electrophotographic photosensitive member includes a support and a photosensitive layer formed on the support. An undercoat layer is provided between the support and the photosensitive layer in order to suppress charge injection from the support side to the photosensitive layer side and to suppress the occurrence of image defects such as fog.

최근, 전하 발생 물질은 보다 높은 감도를 갖는 것이 사용되고 있다. 그러나, 전하 발생 물질의 고감도화에 수반하여 전하의 발생량이 많아짐으로써 전하가 감광층 중에 체류하기 쉬워, 고스트가 발생하기 쉽다고 하는 문제가 있다. 구체적으로는, 전방 회전 시에 광이 조사되는 부분에 대응하는 출력 화상의 부분에서만 농도가 증가되는 현상, 즉 포지티브 고스트(positive ghost) 현상이 발생하기 쉽다.In recent years, the thing which has higher sensitivity is used as a charge generating material. However, there is a problem that the charge is likely to stay in the photosensitive layer due to the increased sensitivity of the charge generating material and the ghost is easily generated. Specifically, a phenomenon in which the density increases only in a portion of the output image corresponding to the portion to which light is irradiated at the time of forward rotation, that is, a positive ghost phenomenon is likely to occur.

이와 같은 고스트 현상을 억제(저감)하는 기술로서, 언더코팅층 내에 전자 수송 물질을 포함시키는 기술이 알려져 있다. 언더코팅층 상의 감광층의 형성 시에 전자 수송 물질이 용출되지 않도록 하기 위해, 언더코팅층 내에 전자 수송 물질이 포함되는 경우, 감광층 코팅액의 용제에 대해 난용(難溶)인 경화성 재료로 구성되는 언더코팅층을 사용하는 기술이 알려져 있다.As a technique for suppressing (reducing) such a ghost phenomenon, a technique of including an electron transporting material in an undercoat layer is known. In order to prevent the electron transport material from eluting during formation of the photosensitive layer on the undercoat layer, when the electron transport material is included in the undercoat layer, the undercoat layer composed of a curable material that is poorly soluble to the solvent of the photosensitive layer coating liquid. Techniques for using are known.

일본 특허 공표 제2009-505156호 공보는, 방향족 테트라카르보닐비스이미드 골격 및 가교 부위를 갖는 축합 중합체(전자 수송 물질)를 함유하고, 가교제의 중합체를 함유하는 언더코팅층을 개시하고 있다. 일본 특허 공개 제2003-330209호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-299344호 공보는 비가수 분해성 중합성 관능기를 갖는 전자 수송 물질의 중합체를 함유하는 언더코팅층을 개시하고 있다.Japanese Patent Publication No. 2009-505156 discloses an undercoat layer containing a condensation polymer (electron transport material) having an aromatic tetracarbonylbisimide skeleton and a crosslinking site, and containing a polymer of a crosslinking agent. Japanese Unexamined Patent Publications No. 2003-330209 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-299344 disclose an undercoat layer containing a polymer of an electron transporting material having a non-hydrolyzable polymerizable functional group.

최근, 전자 사진 화상은 보다 양호한 화상 품질을 갖는 것이 요구되고 있어, 상술한 포지티브 고스트에 대한 허용 범위가 매우 엄격해지고 있다.In recent years, electrophotographic images are required to have better image quality, and the allowable range for the positive ghost described above has become very strict.

본 발명자들은 연구를 수행하여, 포지티브 고스트의 억제(저감), 특히 연속 화상 출력 전후에서의 포지티브 고스트의 레벨의 변동에 대해, 일본 특허 공표 제2009-505156호 공보, 일본 특허 공개 제2003-330209호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-299344호 공보에 개시된 기술에는, 아직 개량의 여지가 있다는 것을 알았다. 일본 특허 공표 제2009-505156호 공보, 일본 특허 공개 제2003-330209호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-299344호 공보에 개시된 기술에서는, 초기 단계 및 반복 사용 동안에, 포지티브 고스트가 충분히 저감되지 않는 경우가 있다.The present inventors have conducted research to investigate the suppression (reduction) of positive ghosts, in particular, the variation of the level of positive ghosts before and after continuous image output, Japanese Patent Publication No. 2009-505156, Japanese Patent Publication No. 2003-330209 It has been found that there is still room for improvement in the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2008-299344. In the techniques disclosed in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2009-505156, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2003-330209, and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2008-299344, there are cases where the positive ghost is not sufficiently reduced during the initial stage and repeated use. have.

본 발명의 양태는 포지티브 고스트가 보다 저감된 전자 사진 감광체 및 그 전자 사진 감광체를 갖는 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치를 제공한다.An aspect of the present invention provides an electrophotographic photosensitive member having a reduced positive ghost and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

본 발명의 개시된 일 양태는, 지지체, 상기 지지체 상에 형성된 언더코팅층 및 그 언더코팅층 상에 형성된 감광층을 포함하고, 상기 언더코팅층은 하기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 하기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 포함하는 전자 사진 감광체를 제공하며,One disclosed aspect of the present invention includes a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer, wherein the undercoat layer has a structure represented by the following formula (C1), or the following formula (C2) It provides an electrophotographic photosensitive member comprising a structure represented by,

Figure pat00001
Figure pat00001

화학식 (C1) 및 화학식 (C2) 에서, R11 내지 R16 및 R22 내지 R25는 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸렌기, -CH2OR2로 나타내지는 1가의 기, 하기 화학식 (i)로 나타내지는 기, 또는 하기 화학식 (ii)로 나타내지는 기를 나타내고, R11 내지 R16 중 하나 이상, 및 R22 내지 R25 중 하나 이상은 각각 하기 화학식 (i)로 나타내지는 기이고, R11 내지 R16 중 하나 이상, 및 R22 내지 R25 중 하나 이상은 각각 하기 화학식 (ii)로 나타내지는 기이며, R2는 수소 원자, 또는 탄소 원자수가 1 내지 10인 알킬기를 나타내고, R21은 알킬기, 페닐기, 또는 알킬기에 의해 치환된 페닐기를 나타낸다.In formulas (C1) and (C2), R 11 to R 16 and R 22 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, a methylene group, a monovalent group represented by -CH 2 OR 2 , and the following formula (i) Or a group represented by the following formula (ii), at least one of R 11 to R 16 , and at least one of R 22 to R 25 are each a group represented by the following formula (i), and R 11 At least one of R 16 and at least one of R 22 to R 25 are each a group represented by the following formula (ii), R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 21 is An alkyl group, a phenyl group, or the phenyl group substituted by the alkyl group is shown.

Figure pat00002
Figure pat00002

화학식 (i)에서, R61은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고, Y1은 단일 결합, 알킬렌기 또는 페닐렌기를 나타내며, D1은 하기 화학식 (D1) 내지 (D4) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고, "*"는 상기 화학식 (C1)의 질소 원자, 또는 상기 화학식 (C2)의 질소 원자에 결합하는 측을 나타내며,In formula (i), R 61 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y 1 represents a single bond, an alkylene group or a phenylene group, and D 1 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (D1) to (D4) "*" Represents the side which couple | bonds with the nitrogen atom of the said general formula (C1), or the nitrogen atom of the said general formula (C2),

Figure pat00003
Figure pat00003

Figure pat00004
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Figure pat00005
Figure pat00005

Figure pat00006
Figure pat00006

Figure pat00007
Figure pat00007

화학식 (ii)에서, D2는 상기 화학식 (D1) 내지 (D4) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고, α는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 벤질기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 알콕시카르보닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 페닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내며, 알킬렌기의 주쇄 중의 탄소 원자 중 1개는 O, S, NH 또는 NR1에 의해 치환될 수 있고, R1은 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기를 나타내고, β는 페닐렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 페닐렌기, 니트로기에 의해 치환된 페닐렌기, 또는 할로겐 원자에 의해 치환된 페닐렌기를 나타내며, γ는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내고, l, m 및 n은 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타내며, A1은 하기 화학식 (A1) 내지 (A9) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고, "*"는 상기 화학식 (C1)의 질소 원자, 또는 상기 화학식 (C2)의 질소 원자에 결합하는 측을 나타내며,In formula (ii), D 2 represents a divalent group represented by any one of the above formulas (D1) to (D4), and α represents an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms An alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkylene group, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a benzyl group, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or a phenyl group An alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by 1, wherein one of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be substituted by O, S, NH or NR 1 , and R 1 has 1 to 1 carbon atoms 6 represents an alkyl group, β represents a phenylene group, a phenylene group substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenylene group substituted by a nitro group, or a phenylene group substituted by a halogen atom, and γ is won Embroidery represents an alkylene group having 1 to 6 or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and l, m and n each independently represent 0 or 1, A 1 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (A1) to (A9), and “*” represents a side bonded to the nitrogen atom of formula (C1) or the nitrogen atom of formula (C2). ,

Figure pat00008
Figure pat00008

화학식 (A1) 내지 (A9)에서, R101 내지 R106, R201 내지 R210, R301 내지 R308, R401 내지 R408, R501 내지 R510, R601 내지 R606, R701 내지 R708, R801 내지 R810 및 R901 내지 R908은 각각 독립적으로, 단일 결합, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 알콕시카르보닐기, 카르복실기, 디알킬아미노기, 히드록시기, 치환 혹은 무치환된 알킬기, 치환 혹은 무치환된 아릴기, 또는 치환 혹은 무치환된 복소환기를 나타내고; R101 내지 R106 중 2개 이상, R201 내지 R210 중 2개 이상, R301 내지 R308 중 2개 이상, R401 내지 R408 중 2개 이상, R501 내지 R510 중 2개 이상, R601 내지 R606 중 2개 이상, R701 내지 R708 중 2개 이상, R801 내지 R810 중 2개 이상 및 R901 내지 R908 중 2개 이상은 단일 결합이며; 상기 치환된 알킬기의 치환기는 알킬기, 아릴기, 할로겐 원자, 또는 카르보닐기이고; 상기 치환된 아릴기 또는 복소환기의 치환기는, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 알킬기, 할로겐 치환된 알킬기, 알콕시기, 또는 카르보닐기이며; Z201, Z301, Z401, Z501은 각각 독립적으로, 탄소 원자, 질소 원자, 또는 산소 원자를 나타내고; Z201이 산소 원자인 경우 R209 및 R210은 존재하지 않고; Z201이 질소 원자인 경우 R210은 존재하지 않으며; Z301이 산소 원자인 경우 R307 및 R308은 존재하지 않고; Z301이 질소 원자인 경우 R308은 존재하지 않으며, Z401이 산소 원자인 경우 R407 및 R408은 존재하지 않고; Z401이 질소 원자인 경우 R408은 존재하지 않으며, Z501이 산소 원자인 경우 R509 및 R510은 존재하지 않고, Z501이 질소 원자인 경우 R510은 존재하지 않는다.In formulas (A1) to (A9), R 101 to R 106 , R 201 to R 210 , R 301 to R 308 , R 401 to R 408 , R 501 to R 510 , R 601 to R 606 , R 701 to R 708 , R 801 to R 810 and R 901 to R 908 each independently represent a single bond, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a dialkylamino group, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted alkyl group , A substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group; At least two of R 101 to R 106 , at least two of R 201 to R 210 , at least two of R 301 to R 308 , at least two of R 401 to R 408 , at least two of R 501 to R 510 , At least two of R 601 to R 606 , at least two of R 701 to R 708 , at least two of R 801 to R 810 and at least two of R 901 to R 908 are single bonds; The substituent of the substituted alkyl group is an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, or a carbonyl group; The substituent of the substituted aryl group or heterocyclic group is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, a halogen substituted alkyl group, an alkoxy group or a carbonyl group; Z 201 , Z 301 , Z 401 , Z 501 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom; R 209 and R 210 are absent when Z 201 is an oxygen atom; R 210 is absent when Z 201 is a nitrogen atom; R 307 and R 308 are absent when Z 301 is an oxygen atom; R 308 is absent when Z 301 is a nitrogen atom, and R 407 and R 408 are absent when Z 401 is an oxygen atom; When Z 401 is a nitrogen atom, R 408 is not present, when Z is an oxygen atom 501 R 509 and R 510 is absent, Z 501 does not exist 510 R when the nitrogen atom.

본 발명의 개시된 다른 양태는, 상술된 전자 사진 감광체와, 대전 디바이스, 현상 디바이스, 전사 디바이스 및 클리닝 디바이스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 디바이스를 일체로 지지하여, 전자 사진 장치 본체에 착탈 가능한 프로세스 카트리지를 제공한다.Another disclosed aspect of the present invention provides a process cartridge detachably attached to a main body of an electrophotographic apparatus by integrally supporting the above-mentioned electrophotographic photosensitive member and at least one device selected from the group consisting of a charging device, a developing device, a transfer device and a cleaning device. To provide.

본 발명의 개시된 다른 양태는, 상술된 전자 사진 감광체, 대전 디바이스, 노광 수단, 현상 디바이스 및 전사 디바이스를 포함하는 전자 사진 장치를 제공한다.Another disclosed aspect of the present invention provides an electrophotographic apparatus including the electrophotographic photosensitive member, charging device, exposure means, developing device, and transfer device.

본 발명의 양태들은, 포지티브 고스트가 저감된 전자 사진 감광체와, 그 전자 사진 감광체를 각각 포함하는 프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치를 제공한다.Aspects of the present invention provide an electrophotographic photosensitive member having a reduced positive ghost, a process cartridge and an electrophotographic apparatus each including the electrophotographic photosensitive member.

본 발명의 추가적인 특징은 첨부된 도면을 참조하여 이하의 예시적인 실시형태의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다.Additional features of the present invention will become apparent from the following detailed description of exemplary embodiments with reference to the attached drawings.

도 1은 전자 사진 감광체를 구비한 프로세스 카트리지를 포함하는 전자 사진 장치의 개략 구성을 도시하는 도면.
도 2는 고스트 화상 평가 시에 사용하는 고스트 평가용 화상을 도시하는 도면.
도 3은 1 도트 계마 패턴 화상을 도시하는 도면.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일 양태에 따른 전자 사진 감광체의 층 구조를 도시하는 도면.
1 shows a schematic configuration of an electrophotographic apparatus including a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member.
FIG. 2 is a diagram illustrating an image for ghost evaluation used in ghost image evaluation. FIG.
3 is a diagram illustrating a one dot stair pattern image.
4A and 4B show a layer structure of an electrophotographic photosensitive member according to an aspect of the present invention.

본 발명의 일 실시형태에 따른 언더코팅층은 하기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 하기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 갖는 층(경화층)이다.The undercoat layer which concerns on one Embodiment of this invention is a layer (cured layer) which has a structure represented by following General formula (C1), or a structure represented by following General formula (C2).

본 발명의 일 실시형태에 따른 언더코팅층을 포함하는 전자 사진 감광체가 포지티브 고스트의 발생의 저감을 높은 레벨로 달성하는 효과를 갖는 이유에 대해, 본 발명자들은 이하와 같이 추측하고 있다.The present inventors speculate on the reason why the electrophotographic photosensitive member including the undercoat layer according to the embodiment of the present invention has the effect of achieving the reduction of the generation of positive ghost at a high level.

본 발명의 일 실시형태에 따른 전자 사진 감광체에서, 언더코팅층은, 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물이 전자 수송 물질 및 수지 양자에 결합된, 화학식 (C1) 또는 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 갖고 있다.In the electrophotographic photosensitive member according to one embodiment of the present invention, the undercoat layer has a structure represented by formula (C1) or formula (C2) in which a melamine compound or guanamine compound is bonded to both an electron transporting material and a resin. .

화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조에서, 전자 흡인성을 갖는 트리아진환(triazine ring)과 A1로 나타내지는 전자 수송 부위가 함께 결합되어 상호 작용하여, 전자 수송성의 요인으로서 생각되는 전도 레벨이 형성되는 것으로 추측된다. 이 전도 레벨을 균일화함으로써, 전자가 트랩되기 어려워져, 잔류 전하가 저감된다고 생각된다.In the structure represented by the formula (C1) or (C2), a triazine ring having electron withdrawing properties and an electron transporting site represented by A 1 are bonded together to interact with each other, thereby being considered as a factor of electron transport properties. It is assumed that the level is formed. By making this conduction level uniform, it is considered that electrons are less likely to be trapped and residual charges are reduced.

그러나, 이와 같은 복수의 성분을 함유하는 언더코팅층에서는, 동일한 구조를 갖는 성분이 쉽게 응집하는 경우가 있다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 언더코팅층에서, 전자 수송 부위와 결합하고 있는 트리아진환이, 수지의 분자쇄[화학식 (i)로 나타내지는 기]에 결합됨으로써, 언더코팅층 중에서의 응집에 의한 동일 성분의 편재를 억제하여, 균일한 전도 레벨이 형성된다. 이에 의해, 전자가 트랩되기 어려워져, 장기간의 반복 사용 시에 잔류 전하가 저감되어, 포지티브 고스트의 발생이 억제된다고 생각된다. 또한, 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조를 갖는 경화물이 형성되므로, 전자 수송 물질의 용출이 억제되어, 보다 높은 수준으로 고스트 저감 효과가 제공된다고 생각된다.However, in the undercoat layer containing such a some component, the component which has the same structure may aggregate easily. In the undercoat layer according to the embodiment of the present invention, the triazine ring bonded to the electron transport site is bonded to the molecular chain of the resin (group represented by the formula (i)), whereby the same component due to aggregation in the undercoat layer By suppressing the ubiquitous of, uniform conduction level is formed. As a result, electrons are less likely to be trapped, residual charges are reduced during long-term repeated use, and it is considered that generation of positive ghost is suppressed. Moreover, since hardened | cured material which has a structure represented by general formula (C1) or (C2) is formed, it is thought that elution of an electron carrying material is suppressed and a ghost reduction effect is provided at a higher level.

본 발명의 일 실시형태에 따른 전자 사진 감광체는, 지지체, 상기 지지체 상에 형성된 언더코팅층 및 그 언더코팅층 상에 형성된 감광층을 포함한다. 감광층은 전하 발생 물질을 함유하는 전하 발생층과 전하 수송 물질을 함유하는 전하 수송층을 포함하는 적층형 구조(기능적으로 분리된 구조)를 갖는 감광층일 수 있다. 전자 사진 특성의 관점에서, 적층형 구조를 갖는 감광층은 지지체측으로부터 전하 발생층, 전하 수송층의 순서대로 적층한 통상 순서형(normal-order-type) 감광층일 수 있다.An electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention includes a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer. The photosensitive layer may be a photosensitive layer having a stacked structure (functionally separated structure) including a charge generating layer containing a charge generating material and a charge transporting layer containing a charge transporting material. From the viewpoint of electrophotographic characteristics, the photosensitive layer having a laminated structure may be a normal-order-type photosensitive layer laminated in the order of the charge generating layer and the charge transporting layer from the support side.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일 실시형태에 따른 전자 사진 감광체의 층 구조의 일례를 도시하는 도면이다. 도 4a 및 도 4b에서, 참조부호 101은 지지체이고, 참조부호 102는 언더코팅층이며, 참조부호 103은 감광층이고, 참조부호 104는 전하 발생층이며, 참조부호 105는 전하 수송층이다.4A and 4B are diagrams showing an example of a layer structure of an electrophotographic photosensitive member according to one embodiment of the present invention. 4A and 4B, reference numeral 101 is a support, reference numeral 102 is an undercoat layer, reference numeral 103 is a photosensitive layer, reference numeral 104 is a charge generating layer, and reference numeral 105 is a charge transport layer.

일반적인 전자 사진 감광체로서, 원통형 지지체 상에 형성된 감광층(전하 발생층, 전하 수송층)을 포함하는 원통형의 전자 사진 감광체가 널리 사용된다. 전자 사진 감광체는 벨트 형상, 시트 형상을 가질 수 있다.As a general electrophotographic photosensitive member, a cylindrical electrophotographic photosensitive member including a photosensitive layer (charge generating layer, charge transport layer) formed on a cylindrical support is widely used. The electrophotographic photosensitive member may have a belt shape and a sheet shape.

(언더코팅층)(Undercoat layer)

지지체 또는 후술하는 도전층과, 감광층 사이에 언더코팅층이 설치된다. 언더코팅층은 하기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 하기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 갖는다. 바꾸어 말하면, 언더코팅층은 하기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 하기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 갖는 경화물(중합체)을 함유한다:An undercoat layer is provided between the support or the conductive layer described later and the photosensitive layer. The undercoat layer has a structure represented by the following general formula (C1) or a structure represented by the following general formula (C2). In other words, the undercoat layer contains a cured product (polymer) having a structure represented by the following formula (C1) or a structure represented by the following formula (C2):

Figure pat00009
Figure pat00009

화학식 (C1)에서, R11 내지 R16 및 R22 내지 R25는 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸렌기, -CH2OR2로 나타내지는 1가의 기, 하기 화학식 (i)로 나타내지는 기, 또는 하기 화학식 (ii)로 나타내지는 기를 나타내고; R11 내지 R16 중 하나 이상, R22 내지 R25 중 하나 이상은 각각 하기 화학식 (i)로 나타내지는 기이고; R11 내지 R16 중 하나 이상, R22 내지 R25 중 하나 이상은 각각 하기 화학식 (ii)로 나타내지는 기이며; R2는 수소 원자, 또는 탄소 원자수가 1 내지 10인 알킬기를 나타내고; R21은 알킬기, 페닐기, 또는 알킬기에 의해 치환된 페닐기를 나타내며,In formula (C1), R 11 to R 16 and R 22 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, a methylene group, a monovalent group represented by -CH 2 OR 2 , a group represented by the following formula (i), Or a group represented by the following formula (ii); At least one of R 11 to R 16 and at least one of R 22 to R 25 are each a group represented by the following formula (i); At least one of R 11 to R 16 and at least one of R 22 to R 25 are each a group represented by the following formula (ii); R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; R 21 represents an alkyl group, a phenyl group, or a phenyl group substituted by an alkyl group,

Figure pat00010
Figure pat00010

화학식 (i)에서, R61은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고, Y1은 단일 결합, 알킬렌기 또는 페닐렌기를 나타내며, D1은 하기 화학식 (D1) 내지 (D4) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고, 알킬기는 메틸기 또는 에틸기일 수 있고, 알킬렌기는 메틸렌기일 수 있으며, 상기 화학식 (i)의 "*"는 상기 화학식 (C1)의 질소 원자, 또는 상기 화학식 (C2)의 질소 원자에 결합하는 측을 나타낸다.In formula (i), R 61 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y 1 represents a single bond, an alkylene group or a phenylene group, and D 1 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (D1) to (D4) Wherein the alkyl group may be a methyl group or an ethyl group, the alkylene group may be a methylene group, and “*” in Formula (i) is bonded to a nitrogen atom of Formula (C1), or a nitrogen atom of Formula (C2) Side.

Figure pat00011
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Figure pat00012
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Figure pat00013
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Figure pat00015
Figure pat00015

화학식 (ii)에서, D2는 상기 화학식 (D1) 내지 (D4) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고, α는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 벤질기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 알콕시카르보닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 페닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내며, 알킬렌기의 주쇄 중의 탄소 원자 중 1개는 O, S, NH 또는 NR1에 의해 치환될 수 있고, R1은 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기를 나타내며, β는 페닐렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 페닐렌기, 니트로기에 의해 치환된 페닐렌기, 또는 할로겐 원자에 의해 치환된 페닐렌기를 나타내며, γ는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내고, l, m 및 n은 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타내며, A1은 하기 화학식 (A1) 내지 (A9) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고, 상기 화학식 (ii)의 "*"는 상기 화학식 (C1)의 질소 원자, 또는 상기 화학식 (C2)의 질소 원자에 결합하는 측을 나타내며,In formula (ii), D 2 represents a divalent group represented by any one of the above formulas (D1) to (D4), and α represents an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms An alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkylene group, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a benzyl group, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or a phenyl group An alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by 1, wherein one of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be substituted by O, S, NH or NR 1 , and R 1 has 1 to 1 carbon atoms 6 represents an alkyl group, β represents a phenylene group, a phenylene group substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenylene group substituted by a nitro group, or a phenylene group substituted by a halogen atom, and γ is won Embroidery represents an alkylene group having 1 to 6 or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and l, m and n each independently represent 0 or 1, A 1 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (A1) to (A9), wherein “*” in the formula (ii) represents a nitrogen atom of the formula (C1) or a nitrogen atom of the formula (C2) Represents the side that binds to,

Figure pat00016
Figure pat00016

화학식 (A1) 내지 (A9)에서, R101 내지 R106, R201 내지 R210, R301 내지 R308, R401 내지 R408, R501 내지 R510, R601 내지 R606, R701 내지 R708, R801 내지 R810 및 R901 내지 R908은 각각 독립적으로, 단일 결합, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 알콕시카르보닐기, 카르복실기, 디알킬아미노기, 히드록시기, 치환 혹은 무치환된 알킬기, 치환 혹은 무치환된 아릴기, 또는 치환 혹은 무치환된 복소환기를 나타내고; R101 내지 R106 중 2개 이상, R201 내지 R210 중 2개 이상, R301 내지 R308 중 2개 이상, R401 내지 R408 중 2개 이상, R501 내지 R510 중 2개 이상, R601 내지 R606 중 2개 이상, R701 내지 R708 중 2개 이상, R801 내지 R810 중 2개 이상 및 R901 내지 R908 중 2개 이상은 단일 결합이며; 상기 치환된 알킬기의 치환기는, 알킬기, 아릴기, 할로겐 원자, 또는 카르보닐기이고; 상기 치환된 아릴기 또는 복소환기의 치환기는, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 알킬기, 할로겐 치환된 알킬기, 알콕시기, 또는 카르보닐기이며; Z201, Z301, Z401, Z501은 각각 독립적으로, 탄소 원자, 질소 원자, 또는 산소 원자를 나타내고, Z201이 산소 원자인 경우 R209 및 R210은 존재하지 않고; Z201이 질소 원자인 경우 R210은 존재하지 않으며; Z301이 산소 원자인 경우 R307 및 R308은 존재하지 않고; Z301이 질소 원자인 경우 R308은 존재하지 않으며; Z401이 산소 원자인 경우 R407 및 R408은 존재하지 않고; Z401이 질소 원자인 경우 R408은 존재하지 않으며; Z501이 산소 원자인 경우 R509 및 R510은 존재하지 않고; Z501이 질소 원자인 경우 R510은 존재하지 않는다.In formulas (A1) to (A9), R 101 to R 106 , R 201 to R 210 , R 301 to R 308 , R 401 to R 408 , R 501 to R 510 , R 601 to R 606 , R 701 to R 708 , R 801 to R 810 and R 901 to R 908 each independently represent a single bond, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a dialkylamino group, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted alkyl group , A substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group; At least two of R 101 to R 106 , at least two of R 201 to R 210 , at least two of R 301 to R 308 , at least two of R 401 to R 408 , at least two of R 501 to R 510 , At least two of R 601 to R 606 , at least two of R 701 to R 708 , at least two of R 801 to R 810 and at least two of R 901 to R 908 are single bonds; Substituent of the substituted alkyl group is an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, or a carbonyl group; The substituent of the substituted aryl group or heterocyclic group is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, a halogen substituted alkyl group, an alkoxy group or a carbonyl group; Z 201 , Z 301 , Z 401 , Z 501 each independently represents a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom, and when R 201 is an oxygen atom, R 209 and R 210 are not present; R 210 is absent when Z 201 is a nitrogen atom; R 307 and R 308 are absent when Z 301 is an oxygen atom; When Z 301 is a nitrogen atom R 308 is absent; R 407 and R 408 are absent when Z 401 is an oxygen atom; If Z 401 is a nitrogen atom R 408 is absent; R 509 and R 510 are absent when Z 501 is an oxygen atom; R 510 is absent when Z 501 is a nitrogen atom.

화학식 (C1)으로 나타내지는 구조는 멜라민 화합물로부터 유도되는 부위를 포함한다. 화학식 (C2)로 나타내지는 구조는 구아나민 화합물로부터 유도되는 부위를 포함한다. 멜라민 화합물로부터 유도되는 부위, 또는 구아나민 화합물로부터 유도되는 부위는 화학식 (i)로 나타내지는 기 및 화학식 (ii)로 나타내지는 기와 결합되어 있다. 화학식 (i)로 나타내지는 기는 수지로부터 유도되는 부위이다. 화학식 (ii)로 나타내지는 기는 화학식 (ii)에서 화학식 (A1) 내지 (A9) 중 어느 하나로 나타내지는 전자 수송 부위이다.The structure represented by the formula (C1) includes a site derived from the melamine compound. The structure represented by the formula (C2) includes a site derived from a guanamine compound. The site derived from the melamine compound, or the site derived from the guanamine compound, is combined with the group represented by the formula (i) and the group represented by the formula (ii). The group represented by the formula (i) is a site derived from the resin. The group represented by formula (ii) is an electron transport site represented by any one of formulas (A1) to (A9) in formula (ii).

화학식 (C1)으로 나타내지는 구조 및 화학식 (C2)로 나타내지는 구조 각각은 화학식 (i)로 나타내지는 적어도 하나의 기 및 화학식 (ii)로 나타내지는 적어도 하나의 기에 결합된다. 화학식 (i)로 나타내지는 기 또는 화학식 (ii)로 나타내지는 기에 결합되지 않은 남은 기는 수소 원자, 메틸렌기, 또는 -CH2OR2로 나타내지는 1가의 기(R2는 수소 원자 또는 탄소 원자수가 1 내지 10인 알킬기를 나타냄)를 나타낸다. 상기 남은 기가 메틸렌기를 나타내는 경우, 상기 구조는 메틸렌기를 통해 멜라민 구조 또는 구아나민 구조에 결합될 수 있다.Each of the structure represented by the formula (C1) and the structure represented by the formula (C2) is bonded to at least one group represented by the formula (i) and at least one group represented by the formula (ii). The remaining group not bonded to the group represented by the formula (i) or the group represented by the formula (ii) is a hydrogen atom, a methylene group, or a monovalent group represented by -CH 2 OR 2 (R 2 is a hydrogen atom or a carbon atom To an alkyl group of 1 to 10). When the remaining group represents a methylene group, the structure may be bonded to the melamine structure or guanamine structure through the methylene group.

Figure pat00017
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화학식 (ii)에서, A1 이외의 주쇄의 원자수는, 12 이하인 것이 바람직하고 2 이상 9 이하인 것이 보다 바람직한데, 이는 트리아진환과 전자 수송 부위 사이의 거리가 적당하기 때문이며, 따라서 상호 작용에 의한 원활한 전자 수송성이 제공되어, 포지티브 고스트가 더욱 저감된다.In the general formula (ii), the number of atoms of the main chain other than A 1 is preferably 12 or less and more preferably 2 or more and 9 or less, since the distance between the triazine ring and the electron transporting site is appropriate, and therefore, due to interaction Smooth electron transport is provided, further reducing positive ghosts.

화학식 (ii)에서, β는 페닐렌기를 나타낼 수 있다. α는 탄소 원자수가 1 내지 4인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 5인 알킬렌기를 나타낼 수 있거나, 또는 주쇄의 원자수가 1 내지 5인 알킬렌기를 나타낼 수 있다.In formula (ii), β may represent a phenylene group. α may represent an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or may represent an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain.

언더코팅층에서 상기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 상기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조는 언더코팅층의 전체 질량에 대해, 30질량% 이상 100질량% 이하일 수 있다.The structure represented by the said general formula (C1) in the undercoat layer, or the structure represented by the said general formula (C2) may be 30 mass% or more and 100 mass% or less with respect to the total mass of an undercoat layer.

언더코팅층 중 상기 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조의 함유량은 일반적인 분석 방법으로 분석 가능하다. 이하에, 분석 방법의 예를 나타낸다. 상기 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조의 함유량은 KBr-tablet법을 이용하여 FT-IR(Fourier transform infrared spectroscopy)에 의해 결정된다. KBr 분말에 대해 상이한 멜라민 첨가량을 갖는 샘플을 이용하여 트리아진환에 기인한 흡수에 기초하여 검량선을 작성함으로써, 언더코팅층 중의 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조의 함유량을 산출할 수 있다.The content of the structure represented by the formula (C1) or (C2) in the undercoat layer can be analyzed by a general analysis method. An example of an analysis method is shown below. The content of the structure represented by the formula (C1) or (C2) is determined by Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) using the KBr-tablet method. By using a sample having a different amount of melamine added to the KBr powder, a calibration curve is prepared based on the absorption caused by the triazine ring, so that the content of the structure represented by the formula (C1) or (C2) in the undercoat layer can be calculated.

또한, 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조는, 고체 13C-NMR 측정, 질량 분석 측정, 열분해 GC-MS 분석에 의한 MS 스펙트럼 측정, 적외 분광 분석에 의한 특성 흡수 측정 등의 측정 방법에 의해 언더코팅층을 분석함으로써 확인할 수 있다. 예를 들어, 고체 13C-NMR 측정은 Chemagnetics사제 CMX-300 Infiniy를 사용하여, 관측핵: 13C, 기준 물질: 폴리디메틸실록산, 적산 횟수: 8192회, 펄스 시퀀스: CP/MAS, DD/MAS, 펄스 폭: 2.1μsec(DD/MAS), 4.2μsec(CP/MAS), 콘택트 타임: 2.0msec, 샘플 회전 속도: 10㎑의 조건 하에서 행해졌다.In addition, the structure represented by general formula (C1) or (C2) is a measuring method, such as solid 13 C-NMR measurement, mass spectrometry measurement, MS spectrum measurement by pyrolysis GC-MS analysis, characteristic absorption measurement by infrared spectroscopic analysis, etc. This can be confirmed by analyzing the undercoat layer. For example, solid 13 C-NMR measurement using CMX-300 Infiniy manufactured by Chemagnetics, observation nucleus: 13 C, reference substance: polydimethylsiloxane, integration count: 8192, pulse sequence: CP / MAS, DD / MAS , Pulse width: 2.1 µsec (DD / MAS), 4.2 µsec (CP / MAS), contact time: 2.0 msec, sample rotational speed: 10 Hz.

질량 분석에 대해서는, 질량 분석계(MALDI-TOF MS, 모델: 부르커 달토닉스(주)제 ultraflex)를 사용하여, 가속 전압: 20㎸, 모드: Reflector, 분자량 표준: 풀러렌 C60의 조건 하에서, 분자량을 측정하였다. 분자량은 관찰된 피크 최대값에 기초하여 결정되었다.For mass spectrometry, using a mass spectrometer (MALDI-TOF MS, model: ultraflex from Burker Daltonics, Inc.), acceleration voltage: 20 kV, mode: Reflector, molecular weight standard: molecular weight under conditions of fullerene C 60 Was measured. The molecular weight was determined based on the peak maximum observed.

수지의 분자량은 토소(주)제의 겔 투과 크로마토그래피 "HLC-8120"으로 측정하고, 폴리스티렌 환산으로 계산하였다.The molecular weight of the resin was measured by gel permeation chromatography "HLC-8120" manufactured by Toso Corporation, and calculated in terms of polystyrene.

언더코팅층은, 상기 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조 이외에도, 성막성이나 전자 사진 특성을 증대시키기 위해, 예를 들어 유기 입자, 무기 입자, 금속 산화물 입자, 레벨링제(leveling agent), 경화 촉진을 위한 촉매를 함유할 수 있다. 그러나, 그들의 함유량은 언더코팅층의 전체 질량에 대해 50질량% 미만인 것이 바람직하고, 20질량% 미만인 것이 보다 바람직하다. 언더코팅층의 막 두께는 0.1㎛ 이상 5.0㎛ 이하일 수 있다.In addition to the structure represented by the general formula (C1) or (C2), the undercoat layer may be, for example, organic particles, inorganic particles, metal oxide particles, leveling agents, It may contain a catalyst for promoting hardening. However, it is preferable that they are less than 50 mass% with respect to the total mass of an undercoat layer, and it is more preferable that they are less than 20 mass%. The film thickness of the undercoat layer may be 0.1 µm or more and 5.0 µm or less.

이하에, 상기 화학식 (C1) 또는 (C2)로 나타내지는 구조의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되지 않는다. 각 구체예에 있어서, 전자 수송 부위로서 제공되는, A1 이외의 주쇄의 원자수가 기술된다. 표 1 내지 표 27에서, 결합 부위는 파선으로 나타내진다. 용어 "단일"은 단일 결합을 나타낸다. 화학식 (i)로 나타내지는 기 및 화학식 (ii)로 나타내지는 기의 좌우의 방향과 표 1 내지 표 27에 기재된 각각의 구조의 좌우의 방향은 동일하다.Although the specific example of the structure represented by the said general formula (C1) or (C2) is shown below, this invention is not limited to these. In each embodiment, the number of atoms of main chains other than A 1 provided as an electron transport site is described. In Tables 1 to 27, the binding sites are indicated by dashed lines. The term "single" refers to a single bond. The left and right directions of the group represented by the formula (i) and the group represented by the formula (ii) and the left and right directions of the respective structures shown in Tables 1 to 27 are the same.

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상기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조 또는 상기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 갖는 언더코팅층은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물, 이들의 화합물과 반응 가능한 중합성 관능기를 갖는 수지, 이들의 화합물과 반응 가능한 중합성 관능기를 갖는 전자 수송 물질을 함유하는 언더코팅층 코팅액을 도포하여 코팅막을 형성하고, 얻어진 코팅막을 열경화함으로써 형성된다.The undercoating layer having a structure represented by the above formula (C1) or a structure represented by the above formula (C2) is a melamine compound or guanamine compound, a resin having a polymerizable functional group capable of reacting with these compounds, and a compound thereof. It is formed by apply | coating the undercoat layer coating liquid containing the electron carrying material which has a polymeric functional group, forming a coating film, and thermosetting the obtained coating film.

(멜라민 화합물, 구아나민 화합물)(Melamine compound, guanamine compound)

멜라민 화합물 및 구아나민 화합물에 대해 설명한다. 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물은, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민과 포름알데히드를 사용하여 공지의 방법으로 합성된다.Melamine compound and guanamine compound are demonstrated. The melamine compound or guanamine compound is synthesized by a known method using, for example, melamine or guanamine and formaldehyde.

이하에, 멜라민 화합물 및 구아나민 화합물의 구체예를 설명한다. 이하에 설명된 구체예는 단량체이지만, 단량체의 올리고머(다량체)가 함유될 수 있다. 포지티브 고스트의 억제의 관점으로부터, 상기 단량체는, 단량체와 다량체의 전체 질량에 대해 10질량% 이상의 양으로 함유될 수 있다. 상기 다량체의 중합도는 2 이상 100 이하일 수 있다. 상기 다량체 및 단량체는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다. 일반적으로 구입 가능한 멜라민 화합물은, 예를 들어 SUPER MELAMI No.90(닛폰 유시사제); SUPER BECKAMIN (R) TD-139-60, L-105-60, L127-60, L110-60, J-820-60, G-821-60(DIC사제); UBAN 2020(미츠이카가쿠사제); SUMITEX RESIN M-3(스미토모 카가쿠사제); NIKALACK MW-30, MW-390, MX-750LM(닛폰 카바이드 고교사제)을 들 수 있다. 일반적으로 구입 가능한 구아나민 화합물은, 예를 들어 SUPER BECKAMIN (R) L-148-55, 13-535, L-145-60, TD-126(DIC사제); NIKALACK BL-60, BX-4000(닛폰 카바이드사제)을 들 수 있다.Below, the specific example of a melamine compound and a guanamine compound is demonstrated. The embodiments described below are monomers, but oligomers (multimers) of the monomers may be contained. From the viewpoint of suppression of positive ghost, the monomer may be contained in an amount of 10% by mass or more based on the total mass of the monomer and the multimer. The degree of polymerization of the multimer may be 2 or more and 100 or less. The multimer and monomer may be used by mixing two or more kinds. Generally available melamine compounds are, for example, SUPER MELAMI No. 90 (manufactured by Nippon Yushi Co., Ltd.); SUPER BECKAMIN (R) TD-139-60, L-105-60, L127-60, L110-60, J-820-60, G-821-60 (manufactured by DIC Corporation); UBAN 2020 (manufactured by Mitsui Chemicals); SUMITEX RESIN M-3 (manufactured by Sumitomo Kagaku Corporation); NIKALACK MW-30, MW-390, MX-750LM (made by Nippon Carbide High School) is mentioned. Generally available guanamine compounds include, for example, SUPER BECKAMIN (R) L-148-55, 13-535, L-145-60, TD-126 (manufactured by DIC Corporation); NIKALACK BL-60 and BX-4000 (made by Nippon Carbide) is mentioned.

이하에, 멜라민 화합물의 구체예를 나타낸다.Below, the specific example of a melamine compound is shown.

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이하에, 구아나민 화합물의 구체예를 나타낸다.Below, the specific example of guanamine compound is shown.

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상기 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 반응 가능한 중합성 관능기를 함유하는 전자 수송 물질에 대해 설명한다. 전자 수송 물질은 화학식 (ii) 중의 A1로 나타내지는 구조로부터 유도된다. 전자 수송 물질은 화학식 (A1) 내지 (A9) 중 어느 하나로 나타내지는 전자 수송 부위를 1개 함유하는 단량체일 수 있거나, 또는 이 전자 수송 부위를 복수 개 함유하는 올리고머일 수 있다. 올리고머의 경우, 전자 트랩을 억제하는 관점으로부터, 올리고머는 5000 이하의 중량 평균 분자량(Mw)을 가질 수 있다.An electron transporting material containing a polymerizable functional group capable of reacting with the melamine compound or guanamine compound will be described. The electron transport material is derived from the structure represented by A 1 in formula (ii). The electron transporting material may be a monomer containing one electron transporting site represented by one of formulas (A1) to (A9), or may be an oligomer containing a plurality of electron transporting sites. In the case of an oligomer, an oligomer can have a weight average molecular weight (Mw) of 5000 or less from a viewpoint of suppressing an electron trap.

전자 수송 물질의 예를 이하에 설명한다. 상기 화학식 (A1)으로 나타내지는 구조를 갖는 화합물의 구체예를 이하에 설명한다.Examples of electron transport materials are described below. Specific examples of the compound having a structure represented by the general formula (A1) will be described below.

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이하에 상기 화학식 (A2)로 나타내지는 구조를 갖는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of the compound which has a structure represented by the said General formula (A2) below is shown.

Figure pat00051
Figure pat00051

이하에 상기 화학식 (A3)으로 나타내지는 구조를 갖는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of the compound which has a structure represented by the said General formula (A3) below is shown.

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Figure pat00052

이하에 상기 화학식 (A4)로 나타내지는 구조를 갖는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of the compound which has a structure represented by the said General formula (A4) below is shown.

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이하에 상기 화학식 (A5)로 나타내지는 구조를 갖는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of the compound which has a structure represented by the said General formula (A5) below is shown.

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이하에 상기 화학식 (A6)으로 나타내지는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of a compound represented by the said general formula (A6) below is shown.

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이하에 상기 화학식 (A7)로 나타내지는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of a compound represented by the said general formula (A7) below is shown.

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이하에 상기 화학식 (A8)로 나타내지는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of a compound represented by the said general formula (A8) below is shown.

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이하에 상기 화학식 (A9)로 나타내지는 화합물의 구체예를 나타낸다.The specific example of a compound represented by the said general formula (A9) below is shown.

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화학식 (A1)으로 나타내지는 구조를 갖는 유도체(전자 수송 물질의 유도체)는, 예를 들어 미국 특허 제4,442,193호 공보, 미국 특허 제4,992,349호 공보, 미국 특허 제5,468,583호 공보, Chemistry of materials, Vol.19, No.11, pp.2703-2705(2007)에 기재된 공지의 합성 방법을 사용하여 합성될 수 있다. 상기 유도체는, 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주), 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능한 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물과 모노아민 유도체의 반응에 의해 합성될 수 있다.Derivatives having a structure represented by the formula (A1) (derivatives of electron transport materials) are described, for example, in US Pat. No. 4,442,193, US Pat. No. 4,992,349, US Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, No. 11, pp. 2703-2705 (2007) can be synthesized using a known synthesis method. The said derivative can be synthesize | combined by reaction of a monoamine derivative with naphthalene tetracarboxylic dianhydride which can be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.

화학식 (A1)으로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 경화(중합)하는 것이 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 및 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A1)으로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 이들의 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 직접 중합성 관능기를 도입하는 방법; 상기 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 후자의 방법으로서는, 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 예를 들어 나프틸이미드 유도체의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다. 나프틸이미드 유도체를 합성할 때의 원료로서, 상기 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체로 형성될 수 있는 관능기를 함유하는 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물 유도체 또는 모노아민 유도체를 사용하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A1) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group and methoxy group) that can be cured (polymerized) with a melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative which has a structure represented by general formula (A1), the method of introduce | transducing a polymeric functional group directly; There exists a method of introducing the structure which has a functional group used as a precursor of the said polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As the latter method, for example, a method of introducing a functional group-containing aryl group into a halogenated compound of a naphthylimide derivative by a cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method of using a naphthalene tetracarboxylic dianhydride derivative or a monoamine derivative containing a functional group which can be formed as the polymerizable functional group or a precursor of the polymerizable functional group. .

화학식 (A2)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 예를 들어 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능하다. 대안적으로, 상기 유도체는 페난트렌 유도체 또는 페난트롤린 유도체로부터, Chem. Educator No.6, pp.227-234(2001), 유기 합성 화학 협회지, 일본, Vol.15, pp.29-32(1957), 유기 합성 화학 협회지, 일본, Vol.15, pp.32-34(1957)에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수도 있다. 말로노니트릴과의 반응에 의해 디시아노메틸렌기를 도입할 수도 있다.The derivative which has a structure represented by general formula (A2) can be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc., for example. Alternatively, the derivative may be derived from a phenanthrene derivative or a phenanthroline derivative, as defined by Chem. Educator No. 6, pp.227-234 (2001), Journal of Organic Synthetic Chemistry, Japan, Vol. 15, pp.29-32 (1957), Journal of Organic Synthetic Chemistry, Japan, Vol. 15, pp.32-34 It may be synthesized by the synthesis method described in (1957). Dicyano methylene group can also be introduce | transduced by reaction with malononitrile.

화학식 (A2)로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합하는 것이 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A2)의 구조를 갖는 유도체에 상기 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 직접 중합성 관능기를 도입하는 방법; 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 후자의 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 페난트렌퀴논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A2) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) capable of polymerizing with a melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing the polymerizable functional group into the derivative having the structure of formula (A2), a method of directly introducing the polymerizable functional group; There exists a method of introducing the structure which has a functional group used as a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As the latter method, for example, a method of introducing a functional group-containing aryl group into a halogenated compound of phenanthrenequinone by a cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

화학식 (A3)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 예를 들어 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능하다. 대안적으로, 상기 유도체는 페난트렌 유도체 또는 페난트롤린 유도체로부터, Bull. Chem. Soc. Jpn., Vol.65, pp.1006-1011(1992)에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수도 있다. 말로노니트릴과의 반응에 의해 디시아노메틸렌기를 도입할 수도 있다.The derivative which has a structure represented by General formula (A3) can be purchased, for example from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Alternatively, the derivatives may be derived from phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives. Chem. Soc. It may also be synthesized by the synthesis method described in Jpn., Vol. 65, pp. 1006-1011 (1992). Dicyano methylene group can also be introduce | transduced by reaction with malononitrile.

화학식 (A3)으로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합하는 것이 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A3)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 상기 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 직접 중합성 관능기를 도입하는 방법; 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 후자의 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 페난트롤린퀴논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A3) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) capable of polymerizing with a melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing the polymerizable functional group into the derivative having a structure represented by the formula (A3), a method of directly introducing a polymerizable functional group; There exists a method of introducing the structure which has a functional group used as a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As the latter method, for example, a method of introducing a functional group-containing aryl group into a halogenated compound of phenanthrolinequinone by a cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

화학식 (A4)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 예를 들어 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능하다. 대안적으로, 아세나프텐퀴논 유도체로부터, Tetrahedron Letters, Vol.43, issue 16, pp.2991-2994(2002) 또는 Tetrahedron Letters, Vol.44, issue 10, pp.2087-2091(2003)에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수도 있다. 말로노니트릴과의 반응에 의해, 디시아노메틸렌기를 도입할 수도 있다.The derivative which has a structure represented by general formula (A4) can be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc., for example. Alternatively, from the acenaphthequinone derivatives, the synthesis method described in Tetrahedron Letters, Vol. 43, issue 16, pp. 2991-2994 (2002) or Tetrahedron Letters, Vol. 44, issue 10, pp. 2087-2091 (2003). It may be synthesized by. Dicyano methylene group can also be introduce | transduced by reaction with malononitrile.

화학식 (A4)로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A4)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 상기 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 직접 중합성 관능기를 도입하는 방법; 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 후자의 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 아세나프텐퀴논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A4) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) which can be polymerized with melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing the polymerizable functional group into the derivative having a structure represented by the formula (A4), a method of directly introducing a polymerizable functional group; There exists a method of introducing the structure which has a functional group used as a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As the latter method, for example, a method of introducing a functional group-containing aryl group into a halogenated compound of acenaphthequinone by a cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

화학식 (A5)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 예를 들어 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능하다. 대안적으로, 플루오레논 유도체와 말로노니트릴로부터, 미국 특허 제4,562,132호 공보에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수 있다. 또한, 상기 유도체는 플루오레논 유도체 및 아닐린 유도체로부터, 일본 특허 공개 평5-279582호 공보, 일본 특허 공개 평7-70038호 공보에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수도 있다.The derivative which has a structure represented by general formula (A5) can be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc., for example. Alternatively, it can be synthesized from fluorenone derivatives and malononitrile by the synthesis method described in US Pat. No. 4,562,132. The derivative may also be synthesized from fluorenone derivatives and aniline derivatives by the synthesis methods described in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 5-279582 and Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 7-70038.

화학식 (A5)로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A5)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 이들의 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 직접 중합성 관능기를 도입하는 방법; 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 후자의 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 플루오레논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A5) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) capable of polymerizing with melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative which has a structure represented by general formula (A5), the method of introduce | transducing a polymeric functional group directly; There exists a method of introducing the structure which has a functional group used as a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As the latter method, for example, a method of introducing a functional group-containing aryl group into a halogenated compound of fluorenone by a cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

화학식 (A6)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, Chemistry Letters, 37(3), pp.360-361(2008) 또는 일본 특허 공개 평9-151157호 공보에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수 있다. 대안적으로, 상기 유도체는 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능하다.The derivative having the structure represented by the formula (A6) can be synthesized by the synthesis method described in Chemistry Letters, 37 (3), pp. 360-361 (2008) or Japanese Patent Laid-Open No. 9-151157. Alternatively, the derivative may be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. or Johnson Matthey Japan Inc.

화학식 (A6)으로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합하는 것이 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A6)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 이들의 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 나프토퀴논 유도체에 중합성 관능기 혹은 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 이 방법은, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 나프토퀴논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A6) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) capable of polymerizing with a melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into a derivative having a structure represented by the formula (A6), there is a method of introducing a structure having a functional group that becomes a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group to a naphthoquinone derivative. This method includes, for example, a method of introducing a functional group-containing aryl group into a halogenated compound of naphthoquinone by a cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

화학식 (A7)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 일본 특허 공개 평1-206349호 공보 또는 PPCI/Japan Hardcopy '98, p.207(1998)에 기재된 합성 방법에 의해 합성될 수 있다. 예를 들어, 상기 유도체는 도쿄 카세이 고교(주) 또는 시그마 알드리치 재팬(주)으로부터 구입 가능한 페놀 유도체를 원료로 하여 합성될 수 있다.The derivative having the structure represented by the formula (A7) can be synthesized by the synthesis method described in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 1-206349 or PPCI / Japan Hardcopy '98, p. 207 (1998). For example, the said derivative can be synthesize | combined using the phenol derivative which can be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd. or Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. as a raw material.

화학식 (A7)로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합하는 것이 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A7)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 이들의 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 이 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 디페노퀴논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A7) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) capable of polymerizing with a melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into a derivative having a structure represented by the formula (A7), there is a method of introducing a structure having a functional group that becomes a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As this method, For example, the method of introduce | transducing a functional group containing aryl group into the halogenated compound of diphenoquinone by the cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

화학식 (A8)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 예를 들어 Journal of the American chemical society, Vol.129, No.49, pp.15259-78(2007)에 기재된 공지의 합성 방법을 사용하여 합성될 수 있다. 예를 들어, 상기 유도체는 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능한 페릴렌테트라카르복실산 2무수물과 모노아민 유도체 사이의 반응에 의해 합성될 수 있다.Derivatives having the structure represented by the formula (A8) can be synthesized using, for example, known synthetic methods described in the Journal of the American Chemical Society, Vol. 129, No. 49, pp. 15259-78 (2007). Can be. For example, the derivative is synthesized by a reaction between perylenetetracarboxylic dianhydride and a monoamine derivative, available from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. or Johnson Matthey Japan Inc. Can be.

화학식 (A8)로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A8)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 이들의 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 직접 중합성 관능기를 도입하는 방법; 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 후자의 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기와의, 페릴렌 이미드 유도체의 할로겐화 화합물의 크로스 커플링 반응이 사용되는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응을 사용하는 방법이 있다. 페릴렌 이미드 유도체의 합성 원료로서, 상기 중합성 관능기 또는 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 함유하는 페릴렌테트라카르복실산 2무수물 유도체 또는 모노아민 유도체를 사용하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A8) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) capable of polymerizing with a melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative which has a structure represented by general formula (A8), the method of introduce | transducing a polymeric functional group directly; There exists a method of introducing the structure which has a functional group used as a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group. As the latter method, for example, a method in which a cross-coupling reaction of a halogenated compound of a perylene imide derivative with a palladium catalyst and a base is used; There is a method using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base. As a synthetic raw material of a perylene imide derivative, there exists a method of using the perylene tetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative containing the said functional group or the functional group used as a precursor of a polymerizable functional group.

화학식 (A9)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체는, 예를 들어 도쿄 카세이 고교(주), 시그마 알드리치 재팬(주) 또는 존슨 매티 재팬 인코포레이티드사로부터 구입 가능하다.The derivative which has a structure represented by general formula (A9) can be purchased from Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matty Japan Inc., for example.

화학식 (A9)로 나타내지는 화합물은 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 중합 가능한 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유한다. 화학식 (A9)로 나타내지는 구조를 갖는 유도체에 상기 중합성 관능기를 도입하는 방법으로서는, 상업적으로 구입 가능한 안트라퀴논 유도체에 중합성 관능기 혹은 중합성 관능기의 전구체가 되는 관능기를 갖는 구조를 도입하는 방법이 있다. 이 방법으로서는, 예를 들어 팔라듐 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 안트라퀴논의 할로겐화 화합물에 관능기 함유 아릴기를 도입하는 방법; FeCl3 촉매와 염기를 사용한 크로스 커플링 반응에 의해, 관능기 함유 알킬기를 도입하는 방법; 리튬 치환 반응 후에 에폭시 화합물이나 CO2를 반응시켜, 히드록시알킬기나 카르복실기를 도입하는 방법이 있다.The compound represented by the formula (A9) contains a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group or methoxy group) which can be polymerized with melamine compound or guanamine compound. As a method of introducing the polymerizable functional group into a derivative having the structure represented by the formula (A9), a method of introducing a structure having a functional group which becomes a precursor of a polymerizable functional group or a polymerizable functional group to a commercially available anthraquinone derivative is have. As this method, For example, the method of introduce | transducing a functional group containing aryl group into the halogenated compound of anthraquinone by the cross coupling reaction using a palladium catalyst and a base; A method of introducing a functional group-containing alkyl group by a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base; There is a method of reacting an epoxy compound or CO 2 after a lithium substitution reaction to introduce a hydroxyalkyl group or a carboxyl group.

(수지)(Suzy)

멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물과 반응 가능한 중합성 관능기를 함유한 수지에 대해 이하에 설명한다. 수지는 화학식 (i)로 나타내지는 기를 함유한다. 이 수지는, 예를 들어 시그마 알드리치 재팬(주)이나 도쿄 카세이 고교(주)로부터 구입 가능한, 중합성 관능기(히드록시기, 티올기, 아미노기, 카르복실기 또는 메톡시기)를 함유하는 모노머를 중합함으로써 얻어진다.Resin containing the polymerizable functional group which can react with a melamine compound or a guanamine compound is demonstrated below. The resin contains a group represented by the formula (i). This resin is obtained by polymerizing the monomer containing a polymerizable functional group (hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, or a methoxy group) which can be purchased, for example from Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. and Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd ..

대안적으로, 수지는 일반적으로 구입하는 것도 가능하다. 구입 가능한 수지로서는, 예를 들어 닛폰 폴리우레탄 고교(주)제 AQD-457, AQD-473, 산요 카세이 고교(주)제 SANNIX GP-400 및 GP-700 등의 폴리에테르 폴리올계 수지; 히타치 카세이 고교(주)제 PHTHALKYD W2343, DIC(주)제 Watersol S-118 및 CD-520, BECKOLITE M-6402-50 및 M-6201-40IM, 하리마 카세이(주)제 HARIDIP WH-1188, 닛폰 유-피카사제 ES3604 및 ES6538 등의 폴리에스테르 폴리올계 수지; DIC(주)제, BURNOCK WE-300, WE-304 등의 폴리아크릴폴리올계 수지; (주)쿠라레제 KURARAY POVAL PVA-203 등과 같은 폴리비닐알코올계 수지; 세키스이 카가쿠 고교(주)제 BX-1, BM-1, KS-1, KS-5 등의 폴리비닐 아세탈계 수지; 나가세 켐텍스 주식회사제 Toresin FS-350 등의 폴리아미드계 수지, 닛폰 쇼쿠바이(주)제 AQUALIC, 나마리시(주)제 FINELEX SG2000 등의 카르복실기 함유 수지; DIC(주)제 LUCKAMIDE 등의 폴리아민 수지; 도레이(주)제 QE-340M 등의 폴리티올 수지를 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리비닐 아세탈계 수지, 폴리에스테르 폴리올계 수지 등이 중합성, 언더코팅층의 균일성의 관점으로부터 보다 바람직하다.Alternatively, resins are generally available for purchase. As a resin which can be purchased, For example, polyether polyol-type resins, such as Nippon Polyurethane Co., Ltd. make AQD-457, AQD-473, Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd. SANNIX GP-400, GP-700; PHTHALKYD W2343 manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd. Watersol S-118 and CD-520 manufactured by DIC Corporation, BECKOLITE M-6402-50 and M-6201-40IM, HARIDIP WH-1188 manufactured by Harima Kasei Co., Ltd., Nippon Yu Polyester polyol resins such as ES3604 and ES6538 manufactured by Picasa; Polyacryl polyol resins such as DIC Corporation, BURNOCK WE-300, and WE-304; Polyvinyl alcohol-based resins such as KURARAY POVAL PVA-203, manufactured by Kuraray Co., Ltd .; Polyvinyl acetal resins such as Sekisui Kagaku Kogyo Co., Ltd. BX-1, BM-1, KS-1, KS-5; Carboxyl group-containing resins such as polyamide-based resin such as Toresin FS-350 manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd., AQUALIC manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. and FINELEX SG2000 manufactured by Namarishi Co., Ltd .; Polyamine resins such as LUCKAMIDE manufactured by DIC Corporation; And polythiol resins such as Toray Co., Ltd. QE-340M. Among these, polyvinyl acetal resins, polyester polyol resins, and the like are more preferable from the viewpoint of polymerizability and uniformity of the undercoat layer.

수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 5,000 이상 400,000 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 5,000 이상 300,000 이하의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.It is preferable to exist in the range of 5,000 or more and 400,000 or less, and, as for the weight average molecular weight (Mw) of resin, it is more preferable to exist in the range of 5,000 or more and 300,000 or less.

수지 내의 관능기의 정량법은, 예를 들어 수산화칼륨을 사용한 카르복실기의 적정; 아질산나트륨을 사용한 아미노기의 적정; 무수아세트산과 수산화칼륨을 사용한 히드록시기의 적정; 5,5'-디티오비스(2-니트로벤조산)를 사용한 티올기의 적정; 상이한 관능기 함량을 갖는 샘플의 IR 스펙트럼으로부터 얻어지는 검량선을 이용한 검량선법을 들 수 있다.As a quantification method of the functional group in the resin, for example, titration of a carboxyl group using potassium hydroxide; Titration of amino group using sodium nitrite; Titration of a hydroxyl group using acetic anhydride and potassium hydroxide; Titration of a thiol group using 5,5'-dithiobis (2-nitrobenzoic acid); Calibration curve method using the calibration curve obtained from the IR spectrum of the sample which has a different functional group content is mentioned.

계속해서, 이하에 수지의 구체예를 나타낸다.Then, the specific example of resin is shown below.

Figure pat00065
Figure pat00065

수지 및 전자 수송 물질[화학식 (A1) 내지 (A9) 중 어느 하나로 나타내지는 구조를 갖는 화합물]의 중합성 관능기의 합계에 대한 멜라민 화합물 및 구아나민 화합물에 함유된 관능기의 비는 1:0.5 내지 1:3.0일 수 있는 데, 이는 반응하는 관능기의 비율이 높아지기 때문이다.The ratio of the functional groups contained in the melamine compound and the guanamine compound to the sum of the polymerizable functional groups of the resin and the electron transporting material [the compound having a structure represented by any one of Formulas (A1) to (A9)] is 1: 0.5 to 1 It may be: 3.0 because the proportion of functional groups reacting is high.

언더코팅층 코팅액을 조제하기 위한 용제로서는, 알코올계, 방향족 용제계, 할로겐화 탄화수소계, 케톤계, 케톤 알코올계, 에테르계, 에스테르계 등으로부터 임의로 선택될 수 있다. 사용될 수 있는 용제의 구체예는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 벤질 알코올, 메틸 셀로솔브, 에틸 셀로솔브, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산메틸, 아세트산 n-부틸, 디옥산, 테트라히드로푸란, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 클로로벤젠, 톨루엔 등의 유기 용제를 들 수 있다. 이들의 용제는 단독 혹은 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a solvent for preparing the undercoating layer coating liquid, it can be arbitrarily selected from alcohols, aromatic solvents, halogenated hydrocarbons, ketones, ketone alcohols, ethers, esters and the like. Specific examples of solvents that may be used include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, acetic acid n- Organic solvents, such as butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene, are mentioned. These solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types.

언더코팅층의 경화성은 이하와 같이 확인하였다. 멜라민 화합물 또는 구아나민 화합물, 수지 및 전자 수송 물질을 함유하는 언더코팅층 코팅액의 코팅막을 알루미늄 시트 상에 메이어 바(Meyer bar)를 사용하여 형성하였다. 이 코팅막을 160℃에서 40분 동안 가열 건조시켜, 언더코팅층을 형성하였다. 얻어진 언더코팅층을, 시클로헥사논/아세트산에틸(1/1)의 혼합 용제에 2분간 침지시키고, 160℃에서 5분 동안 건조시켰다. 침지 전후의 언더코팅층의 중량을 측정하였다. 본 실시예에서는, 침지로 인한 언더코팅층의 성분의 용출이 없는 것(중량차: ±2% 이내)을 확인하였다.Curability of the undercoat layer was confirmed as follows. A coating film of the undercoating layer coating liquid containing a melamine compound or guanamine compound, a resin and an electron transporting material was formed on the aluminum sheet using a Meyer bar. The coating film was heated to dry at 160 ° C. for 40 minutes to form an undercoat layer. The obtained undercoat layer was immersed for 2 minutes in the mixed solvent of cyclohexanone / ethyl acetate (1/1), and it dried at 160 degreeC for 5 minutes. The weight of the undercoat layer before and after dipping was measured. In the present Example, it confirmed that there was no elution of the component of the undercoat layer by immersion (weight difference: within +/- 2%).

(지지체)(Support)

지지체는, 도전성을 갖는 지지체일 수 있다. 사용될 수 있는 지지체는, 예를 들어 알루미늄, 니켈, 구리, 금, 철 등의 금속 또는 합금으로 구성된 지지체와; 예를 들어 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리이미드 수지, 또는 글래스로 구성된 절연성 베이스 상에, 예를 들어 알루미늄, 은 또는 금의 금속, 또는 산화인듐, 또는 예를 들어 산화주석의 도전성 재료로 구성된 박막이 형성된 지지체를 들 수 있다.The support may be a support having conductivity. Supports that can be used include, for example, supports made of metals or alloys such as aluminum, nickel, copper, gold, iron and the like; On insulating bases made of, for example, polyester resins, polycarbonate resins, polyimide resins, or glass, for example of metals of aluminum, silver or gold, or of indium oxide, or of conductive materials, for example of tin oxide And a support on which a thin film is formed.

지지체의 표면은, 전기적 특성의 개선과 간섭 무늬의 억제를 위해, 양극 산화 등의 전기 화학적인 처리나, 예를 들어 습식 호닝, 블래스팅 또는 절삭의 프로세스가 행해질 수 있다.The surface of the support may be subjected to an electrochemical treatment such as anodization or a wet honing, blasting or cutting process to improve electrical properties and suppress interference fringes.

지지체와 언더코팅층 사이에는 도전층이 설치될 수 있다. 도전층은 수지 내에 분산된 도전성 입자를 도전층 코팅액으로 구성되는 코팅막을 지지체 상에 형성하여, 건조시킴으로써 형성된다. 도전성 입자로서는, 예를 들어 카본 블랙, 아세틸렌 블랙과, 알루미늄, 니켈, 철, 니크롬, 구리, 아연, 은으로 구성된 금속 분말과, 도전성 산화주석 및 ITO(indium tin oxide) 등의 금속 산화물 분말을 들 수 있다.A conductive layer may be provided between the support and the undercoat layer. The conductive layer is formed by forming a coating film composed of a conductive layer coating liquid on a support, and drying the conductive particles dispersed in the resin. As electroconductive particle, the metal powder consisting of carbon black, acetylene black, aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, silver, and metal oxide powder, such as electroconductive tin oxide and ITO (indium tin oxide), are mentioned, for example. Can be.

수지로서는, 예를 들어 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지 및 알키드 수지를 들 수 있다.Examples of the resin include polyester resins, polycarbonate resins, polyvinyl butyral resins, acrylic resins, silicone resins, epoxy resins, melamine resins, urethane resins, phenol resins and alkyd resins.

도전층 코팅액의 용제로서는, 예를 들어 에테르계 용제, 알코올계 용제, 케톤계 용제 및 방향족 탄화수소 용제를 들 수 있다. 도전층의 막 두께는 0.2㎛ 이상 40㎛ 이하인 것이 바람직하고, 1㎛ 이상 35㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 또한 5㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.As a solvent of a conductive layer coating liquid, an ether solvent, an alcohol solvent, a ketone solvent, and an aromatic hydrocarbon solvent are mentioned, for example. The film thickness of the conductive layer is preferably 0.2 µm or more and 40 µm or less, more preferably 1 µm or more and 35 µm or less, and further preferably 5 µm or more and 30 µm or less.

(감광층)(Photosensitive layer)

언더코팅층 상에는 감광층이 설치된다.A photosensitive layer is provided on the undercoat layer.

전하 발생 물질로서는, 예를 들어 아조 안료, 페릴렌 안료, 안트라퀴논 유도체, 안트안트론 유도체, 디벤조피렌퀴논 유도체, 피란트론 유도체, 비올란트론 유도체, 이소비올란트론 유도체, 인디고 유도체, 티오인디고 유도체, 금속 프탈로시아닌 및 무금속 프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 안료, 비스벤즈이미다졸 유도체 등을 들 수 있다. 이들 화합물 중에서, 아조 안료, 또는 프탈로시아닌 안료가 사용될 수 있다. 프탈로시아닌 안료 중에서, 옥시티타늄 프탈로시아닌, 클로로갈륨 프탈로시아닌, 히드록시갈륨 프탈로시아닌이 사용될 수 있다.As the charge generating substance, for example, an azo pigment, a perylene pigment, an anthraquinone derivative, an anthrone derivative, a dibenzopyrenquinone derivative, a pyrantrone derivative, a violatron derivative, an isoviolandrone derivative, an indigo derivative, a thioindigo derivative, a metal Phthalocyanine pigments such as phthalocyanine and metal-free phthalocyanine, bisbenzimidazole derivatives, and the like. Among these compounds, azo pigments or phthalocyanine pigments can be used. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine can be used.

감광층이 적층형 감광층인 경우, 전하 발생층에 사용되는 결착 수지로서는, 예를 들어 스티렌, 아세트산비닐, 염화비닐, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌 등의 비닐 화합물의 중합체 및 공중합체; 폴리비닐알코올 수지, 폴리비닐 아세탈 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리술폰 수지, 폴리페닐렌 옥사이드 수지, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지를 들 수 있다. 이들 화합물 중에서, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리비닐 아세탈 수지가 사용될 수 있다. 폴리비닐 아세탈이 사용될 수 있다.When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, examples of the binder resin used in the charge generating layer include vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylate, methacrylate, vinylidene fluoride and trifluoroethylene. Polymers and copolymers; Polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polycarbonate resin, polyester resin, polysulfone resin, polyphenylene oxide resin, polyurethane resin, cellulose resin, phenol resin, melamine resin, silicone resin, epoxy resin. . Among these compounds, polyester resins, polycarbonate resins, polyvinyl acetal resins can be used. Polyvinyl acetal can be used.

전하 발생층에 있어서, 전하 발생 물질과 결착 수지의 비율(전하 발생 물질/결착 수지)은 10/1 내지 1/10의 범위인 것이 바람직하고, 5/1 내지 1/5의 범위인 것이 보다 바람직하다. 전하 발생층 코팅액에 사용되는 용제는, 예를 들어 알코올계 용제, 술폭시드계 용제, 케톤계 용제, 에테르계 용제, 에스테르계 용제, 방향족 탄화수소 용제를 들 수 있다.In the charge generating layer, the ratio of the charge generating material to the binder resin (charge generating material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, more preferably in the range of 5/1 to 1/5. Do. Examples of the solvent used for the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

전하 발생층의 막 두께는 0.05㎛ 이상 5㎛ 이하일 수 있다.The film thickness of the charge generating layer may be 0.05 µm or more and 5 µm or less.

정공 수송 물질로서는, 예를 들어 다환 방향족 화합물, 복소환 화합물, 히드라존 화합물, 스티릴 화합물, 벤지딘 화합물, 트리아릴아민 화합물, 트리페닐아민을 들 수 있고, 또한 이들 화합물로부터 유도되는 기를 주쇄 또는 측쇄에 갖는 중합체도 들 수 있다.Examples of the hole transporting material include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine, and main or side chain groups derived from these compounds. The polymer which has in is also mentioned.

감광층이 적층형 감광층인 경우, 전하 수송층(정공 수송층)에 사용되는 결착 수지로서는, 예를 들어 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리메타크릴레이트 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리술폰 수지, 폴리스티렌 수지를 들 수 있다. 이들 중에서, 폴리카보네이트 수지, 폴리아릴레이트 수지가 사용될 수 있다. 상기 수지 각각의 중량 평균 분자량(Mw)은 10,000 이상 300,000 이하의 범위 내일 수 있다.When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, as the binder resin used for the charge transport layer (hole transport layer), for example, polyester resin, polycarbonate resin, polymethacrylate resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polystyrene resin Can be mentioned. Among them, polycarbonate resins and polyarylate resins can be used. The weight average molecular weight (Mw) of each of the said resins may exist in the range of 10,000 or more and 300,000 or less.

전하 수송층에 있어서, 전하 수송 물질과 결착 수지의 비율(전하 수송 물질/결착 수지)은 10/5 내지 5/10의 범위인 것이 바람직하고, 10/8 내지 6/10의 범위인 것이 보다 바람직하다. 전하 수송층의 막 두께는 5㎛ 이상 40㎛ 이하일 수 있다. 전하 수송층 코팅액에 사용되는 용제는, 예를 들어 알코올계 용제, 술폭시드계 용제, 케톤계 용제, 에테르계 용제, 에스테르계 용제 또는 방향족 탄화수소 용제를 들 수 있다.In the charge transport layer, the ratio of the charge transport material and the binder resin (charge transport material / binder resin) is preferably in the range of 10/5 to 5/10, more preferably in the range of 10/8 to 6/10. . The film thickness of the charge transport layer may be 5 µm or more and 40 µm or less. Examples of the solvent used for the charge transport layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

지지체와 언더코팅층 사이 또는 언더코팅층과 감광층 사이에, 본 발명의 일 실시형태에 따른 중합체를 함유하지 않는 제2 언더코팅층 등의 다른 층이 설치될 수 있다.Between the support and the undercoat layer or between the undercoat and the photosensitive layer, another layer such as a second undercoat layer containing no polymer according to one embodiment of the present invention may be provided.

감광층(전하 수송층) 상에는 도전성 입자 또는 전하 수송 물질과 결착 수지를 함유하는 보호층(표면 보호층)이 설치될 수 있다. 보호층에는 윤활제 등의 첨가제가 더 함유될 수 있다. 보호층의 결착 수지는 도전성이나 전하 수송성을 가질 수 있다. 그 경우, 보호층은 당해 수지 이외의 도전성 입자나 전하 수송 물질이 함유되지 않을 수 있다. 보호층의 결착 수지는 열가소성 수지일 수 있거나, 또는 열, 광 또는 방사선(예를 들어, 전자 빔) 등에 의한 중합에 의해 경화되는 경화성 수지일 수 있다.On the photosensitive layer (charge transport layer), a protective layer (surface protective layer) containing conductive particles or a charge transport material and a binder resin may be provided. The protective layer may further contain additives such as lubricants. The binder resin of a protective layer can have electroconductivity or charge transport property. In that case, a protective layer may not contain electroconductive particle and charge transport material other than the said resin. The binder resin of the protective layer may be a thermoplastic resin, or may be a curable resin cured by polymerization by heat, light or radiation (for example, an electron beam) or the like.

언더코팅층, 전하 발생층, 전하 수송층 등의, 전자 사진 감광체를 구성하는 층을 형성하는 방법으로서는, 층을 구성하는 재료를 용제에 용해 및/또는 분산시켜 얻어진 코팅액을 도포하고, 얻어진 코팅막을 건조 및/또는 경화시켜 층을 형성하는 방법이 채용될 수 있다. 코팅액을 도포하는 방법으로서는, 예를 들어 침지 코팅법(딥(dip) 코팅법), 스프레이 코팅법, 커튼 코팅법, 스핀 코팅법을 들 수 있다. 이들 방법 중에서, 효율성 및 생산성의 관점으로부터, 침지 코팅법이 채용될 수 있다.As a method of forming a layer constituting an electrophotographic photosensitive member such as an undercoat layer, a charge generating layer, a charge transport layer, etc., a coating liquid obtained by dissolving and / or dispersing a material constituting the layer in a solvent is applied, and the resulting coating film is dried and And / or a method of curing to form a layer may be employed. As a method of apply | coating a coating liquid, the immersion coating method (dip coating method), the spray coating method, the curtain coating method, and the spin coating method are mentioned, for example. Among these methods, an immersion coating method can be adopted from the viewpoint of efficiency and productivity.

(프로세스 카트리지 및 전자 사진 장치)(Process cartridge and electrophotographic device)

도 1에, 전자 사진 감광체를 구비한 프로세스 카트리지를 포함하는 전자 사진 장치의 개략 구성을 도시한다.1, the schematic structure of the electrophotographic apparatus containing the process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member is shown.

도 1에 있어서, 참조부호 1은 축(2)을 중심으로 화살표로 나타낸 방향으로 소정의 주연 속도로 회전 구동되는 원통 형상의 전자 사진 감광체를 나타낸다. 회전 구동되는 전자 사진 감광체(1)의 표면(주위면)은 대전 디바이스(3)(1차 대전 디바이스: 예를 들어, 대전 롤러)에 의해, 정 또는 부의 소정 전위로 균일하게 대전된다. 그 후, 예를 들어 슬릿 노광이나 레이저 빔 주사 노광의 노광 디바이스(도시되지 않음)로부터 발광되는 노광 광(화상 노광 광)(4)을 받는다. 이와 같이 하여, 전자 사진 감광체(1)의 표면에, 원하는 화상에 대응하는 정전 잠상이 순차 형성되어 간다.In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cylindrical electrophotographic photosensitive member which is rotationally driven at a predetermined peripheral speed in the direction indicated by the arrow about the axis 2. The surface (peripheral surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 which is rotationally driven is uniformly charged to a positive or negative predetermined potential by the charging device 3 (primary charging device: for example, a charging roller). Then, the exposure light (image exposure light) 4 emitted from the exposure device (not shown) of slit exposure or a laser beam scanning exposure is received, for example. In this way, electrostatic latent images corresponding to desired images are sequentially formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1.

그 후, 전자 사진 감광체(1)의 표면에 형성된 정전 잠상은 현상 디바이스(5)의 현상제 내의 토너에 의해 현상되어 토너 화상을 형성한다. 전자 사진 감광체(1)의 표면에 형성 및 유지되어 있는 토너 화상은, 전사 디바이스(예를 들어, 전사 롤러)(6)로부터의 전사 바이어스에 의해, 전사재(예를 들어, 종이) P에 순차 전사되어 간다. 전사재 P는 전사재 공급 유닛(도시되지 않음)으로부터 전자 사진 감광체(1)와 전사 디바이스(6) 사이(접촉부)에 전자 사진 감광체(1)의 회전과 동기하여 취출되어 급송된다.Thereafter, the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is developed by toner in the developer of the developing device 5 to form a toner image. The toner image formed and held on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is sequentially placed on the transfer material (for example, paper) P by the transfer bias from the transfer device (for example, the transfer roller) 6. It is transferred. The transfer material P is taken out and fed from the transfer material supply unit (not shown) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photosensitive member 1 between the electrophotographic photosensitive member 1 and the transfer device 6 (contact portion).

토너 화상이 전사된 전사재 P는 전자 사진 감광체(1)의 표면으로부터 분리되어 정착 디바이스(8)에 반송되고 토너 화상이 정착된다. 그 후, 전사재 P는 화상 형성물(인쇄 또는 복사)로서 장치 밖으로 반송된다.The transfer material P to which the toner image is transferred is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and conveyed to the fixing device 8, and the toner image is fixed. Thereafter, the transfer material P is conveyed out of the apparatus as an image forming product (printing or copying).

토너 화상의 전사 후의 전자 사진 감광체(1)의 표면은 클리닝 디바이스(예를 들어, 클리닝 블레이드)(7)에 의해 전사 후의 나머지의 현상제(토너)를 제거함으로써 클리닝된다. 전자 사진 감광체(1)는 전 노광(pre-exposure) 디바이스(도시되지 않음)로부터 발광된 전 노광 광(도시되지 않음)에 의해 제전 처리된 후, 반복적으로 화상 형성에 사용된다. 또한, 도 1에 도시한 바와 같이, 대전 디바이스(3)가, 예를 들어 대전 롤러를 사용한 접촉 대전 디바이스인 경우, 전 노광 광은 항상 필요하지는 않다.The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the transfer of the toner image is cleaned by the cleaning device (for example, the cleaning blade) 7 by removing the remaining developer (toner) after the transfer. The electrophotographic photosensitive member 1 is subjected to antistatic treatment by pre-exposure light (not shown) emitted from a pre-exposure device (not shown), and then repeatedly used for image formation. In addition, as shown in FIG. 1, when the charging device 3 is a contact charging device using a charging roller, for example, full exposure light is not always necessary.

전자 사진 감광체(1), 대전 디바이스(3), 현상 디바이스(5), 전사 디바이스(6) 및 클리닝 디바이스(7) 등의 구성요소로부터 선택된, 복수의 구성요소는 하우징 내에 프로세스 카트리지로 일체로 결합하여 구성될 수 있다. 프로세스 카트리지는, 예를 들어 복사기나 레이저 빔 프린터의 전자 사진 장치의 본체에 대해 착탈 가능하게 장착될 수 있다. 도 1에서, 전자 사진 감광체(1)와, 대전 디바이스(3), 현상 디바이스(5) 및 클리닝 디바이스(7)는 일체로 지지되어, 레일 등의 가이드 부재(10)를 사용하여 전자 사진 장치 본체에 착탈 가능하게 장착되는 프로세스 카트리지(9)로 된다.A plurality of components, selected from components such as electrophotographic photosensitive member 1, charging device 3, developing device 5, transfer device 6 and cleaning device 7, are integrally coupled to a process cartridge in a housing Can be configured. The process cartridge may be detachably mounted to, for example, the main body of the electrophotographic apparatus of the copier or the laser beam printer. In Fig. 1, the electrophotographic photosensitive member 1, the charging device 3, the developing device 5, and the cleaning device 7 are integrally supported, and the electrophotographic apparatus main body using a guide member 10 such as a rail. The process cartridge 9 is detachably mounted to the process cartridge 9.

(실시예)(Example)

이하, 실시예에 의해, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 여기서, 실시예 중의 용어 "부"는 "질량부"를 나타낸다. 이제, 본 발명의 실시형태에 따른 전자 수송 물질의 합성예를 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Here, the term "part" in an Example represents a "mass part." Now, a synthesis example of the electron transporting material according to the embodiment of the present invention will be described.

(합성예 1)(Synthesis Example 1)

우선, 디메틸아세트아미드 200부에, 질소 분위기 하에서, 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물[도쿄 카세이 고교(주)제] 5.4부, 2-메틸-6-에틸아닐린[도쿄 카세이 고교(주)제] 4부, 2-아미노-1-부탄올 3부를 추가하였다. 상기 혼합물을 실온에서 1시간 교반하여, 용액을 조제하였다. 용액을 조제 후, 상기 용액을 8시간 환류시켰다. 석출물을 여과 분별하고, 아세트산에틸에 의해 재결정을 행하여, 화합물 (A1-8)을 1.0부 얻었다.First, 5.4 parts of naphthalene tetracarboxylic dianhydride [made by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.] and 2-methyl-6-ethyl aniline (made by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) under 200 parts of dimethylacetamides 4 Part and 3-part of 2-amino-1-butanol were added. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the solution was refluxed for 8 hours. The precipitate was separated by filtration and recrystallized with ethyl acetate to obtain 1.0 part of compound (A1-8).

(합성예 2)(Synthesis Example 2)

우선, 디메틸아세트아미드 200부에, 질소 분위기 하에서, 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물 5.4부 및 2-아미노부틸산[도쿄 카세이 고교(주)] 5부를 추가하였다. 상기 혼합물을 실온에서 1시간 교반하여, 용액을 조제하였다. 용액을 조제 후, 상기 용액을 8시간 환류시켰다. 석출물을 여과 분별하고, 아세트산에틸에 의해 재결정을 행하여, 화합물 (A1-42)를 4.6부 얻었다.First, 5.4 parts of naphthalene tetracarboxylic dianhydride and 5 parts of 2-aminobutyl acid (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were added to 200 parts of dimethylacetamides under nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the solution was refluxed for 8 hours. The precipitate was separated by filtration and recrystallized with ethyl acetate to obtain 4.6 parts of compound (A1-42).

(합성예 3)(Synthesis Example 3)

우선, 디메틸아세트아미드 200부에, 질소 분위기 하에서, 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물 5.4부, 2, 6-디에틸아닐린[도쿄 카세이 고교(주)] 4.5부, 4-2-아미노벤젠티올 4부를 추가하였다. 상기 혼합물을 실온에서 1시간 교반하여, 용액을 조제하였다. 용액을 조제 후, 상기 용액을 8시간 환류시켰다. 석출물을 여과 분별하고, 아세트산에틸에 의해 재결정을 행하여, 화합물 (A1-39)를 1.3부 얻었다.First, in 200 parts of dimethylacetamide, under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 4.5 parts of 2, 6-diethylaniline (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), 4 parts of 4-2-aminobenzenethiol Added. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the solution was refluxed for 8 hours. The precipitate was separated by filtration and recrystallized with ethyl acetate to obtain 1.3 parts of compound (A1-39).

(합성예 4)(Synthesis Example 4)

톨루엔 100부 및 에탄올 50부의 혼합 용제에, 4-(히드록시메틸)페닐붕소산[시그마 알드리치 재팬(주)사제] 2.8부 및 페난트렌퀴논[시그마 알드리치 재팬(주)사제]으로부터 질소 분위기 하에서 Chem. Educator No.6, pp.227-234(2001)에 기재된 합성 방법으로 합성한 3,6-디브로모-9,10-페난트렌디온 7.4부를 추가하였다. 상기 혼합물에 20% 탄산나트륨 수용액 100부를 적하한 후, 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(0)을 0.55부 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 2시간 환류시켰다. 반응 후, 유기상(organic phase)을 클로로포름에 의해 추출하고, 수세 후, 무수황산나트륨으로 건조를 행하였다. 용제를 감압 하에서 제거한 후, 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피로 정제하여, 화합물 (A2-24)를 3.2부 얻었다.Chem under a nitrogen atmosphere from 2.8 parts of 4- (hydroxymethyl) phenylboronic acid [manufactured by Sigma Aldrich Japan Co., Ltd.] and phenanthrenequinone [manufactured by Sigma Aldrich Japan Co., Ltd.] to a mixed solvent of 100 parts of toluene and 50 parts of ethanol. . 7.4 parts of 3,6-dibromo-9,10-phenanthrendione synthesize | combined by the synthesis method as described in Educator No. 6, pp.227-234 (2001) were added. 100 parts of 20% sodium carbonate aqueous solution was dripped at the said mixture, and 0.55 part of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) was added. The resulting mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the organic phase was extracted with chloroform, washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 3.2 parts of compound (A2-24).

(합성예 5)(Synthesis Example 5)

3-아미노페닐보른산 1수화물 2.8부 및 페난트롤린퀴논[시그마 알드리치 재팬(주)사제]을 질소 분위기 하에서, 합성예 4와 마찬가지로 2,7-디브로모-9,10-페난트롤린퀴논 7.4부를 합성하였다. 톨루엔 100부 및 에탄올 50부의 혼합 용제에, 2,7-디브로모-9,10-페난트롤린퀴논 7.4부를 추가하였다. 상기 혼합물에 20% 탄산나트륨 수용액 100부를 적하한 후, 테트라키스(트리페닐 포스핀)팔라듐(0)을 0.55부 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 2시간 환류시켰다. 반응 후, 유기상을 클로로포름에 의해 추출하고, 수세 후, 무수황산나트륨으로 건조를 행하였다. 용제를 감압 하에서 제거한 후, 잔류물을 실리카겔 크로마토그래피로 정제를 행하여, 화합물 (A3-18)을 2.2부 얻었다.2.8 parts of 3-aminophenylboric acid monohydrate and phenanthrolinequinone (manufactured by Sigma Aldrich Japan Co., Ltd.) were subjected to 2,7-dibromo-9,10-phenanthrolinequinone in the same manner as in Synthesis Example 4 7.4 parts were synthesized. 7.4 parts of 2,7-dibromo-9,10-phenanthrolinequinone was added to the mixed solvent of 100 parts of toluene and 50 parts of ethanol. 100 parts of 20% sodium carbonate aqueous solution was dripped at the said mixture, and 0.55 part of tetrakis (triphenyl phosphine) palladium (0) was added. The resulting mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the organic phase was extracted with chloroform, washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 2.2 parts of Compound (A3-18).

(합성예 6)(Synthesis Example 6)

우선, 디메틸아세트아미드 200부에, 질소 분위기 하에서, 페릴렌테트라카르복실산 2무수물[도쿄 카세이 고교(주)제] 7.4부, 2,6-디에틸아닐린[도쿄 카세이 고교(주)제] 4부, 2-아미노페닐에탄올 4부를 추가하였다. 상기 혼합물을 실온에서 1시간 교반하여 용액을 조제하였다. 용액을 조제 후, 상기 용액을 8시간 환류시켰다. 석출물을 여과 분별하고, 아세트산에틸에 의해 재결정을 행하여, 화합물 (A8-3)을 5.0부 얻었다.First, perylene tetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) 7.4 parts, 2,6-diethylaniline (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) under 200 parts of dimethylacetamide 4 Part and 4-part 2-aminophenylethanol were added. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the solution was refluxed for 8 hours. The precipitate was separated by filtration and recrystallized with ethyl acetate to obtain 5.0 parts of compound (A8-3).

(합성예 7)(Synthesis Example 7)

우선, 디메틸아세트아미드 200부에, 질소 분위기 하에서, 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물 5.4부 및 류시놀[도쿄 카세이 고교(주)제] 5.2부를 추가하였다. 상기 혼합물을 실온에서 1시간 교반 후, 7시간 환류시켰다. 디메틸아세트아미드를 감압 증류에 의해 제거한 후, 아세트산에틸에 의해 재결정을 행하여, 화합물 (A1-54)를 5.0부 얻었다.First, 5.4 parts of naphthalene tetracarboxylic dianhydride and 5.2 parts of leucinol (made by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were added to 200 parts of dimethylacetamides under nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then refluxed for 7 hours. After dimethylacetamide was removed by distillation under reduced pressure, recrystallization was performed with ethyl acetate to obtain 5.0 parts of compound (A1-54).

(합성예 8)(Synthesis Example 8)

우선, 디메틸아세트아미드 200부에, 질소 분위기 하에서, 나프탈렌테트라카르복실산 2무수물 5.4부, 류시놀 2.6부, 2-(2-아미노에틸티오)에탄올[와코 쥰야쿠 고교(주)제] 2.7부를 추가하였다. 상기 혼합물을 실온에서 1시간 교반 후, 7시간 환류시켰다. 얻어진 생성물을 흑갈색 용액으로부터 디메틸아세트아미드를 감압 증류에 의해 제거한 후, 아세트산에틸/톨루엔 혼합 용액에 용해하였다. 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용리제: 아세트산에틸/톨루엔)로 분리를 행한 후, 목적물을 함유하는 프랙션을 농축시켰다. 얻어진 결정을 톨루엔/헥산 혼합 용액에 의해 재결정을 행하여, 화합물 (A1-55)를 2.5부 얻었다. 이하에, 전자 사진 감광체의 제작 및 평가에 대해 설명한다.First, in 200 parts of dimethylacetamide, under nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2.6 parts of rucinol, 2- (2-aminoethylthio) ethanol [made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] 2.7 parts Added. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then refluxed for 7 hours. The obtained product was removed from the black brown solution by distillation under reduced pressure, and then dissolved in an ethyl acetate / toluene mixed solution. After separation by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate / toluene), the fraction containing the target product was concentrated. The obtained crystals were recrystallized with a toluene / hexane mixed solution to obtain 2.5 parts of compound (A1-55). The production and evaluation of the electrophotographic photosensitive member will be described below.

(실시예 1)(Example 1)

길이 260.5㎜ 및 직경 30㎜의 알루미늄 실린더(JIS-A3003, 알루미늄 합금)를 지지체(도전성 지지체)로서 사용하였다.An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 260.5 mm and a diameter of 30 mm was used as a support (conductive support).

다음에, 산소 결손형 산화주석이 피복되어 있는 산화티탄 입자(분말 저항률: 120Ωㆍ㎝, 산화주석의 피복률: 40%) 50부, 페놀 수지[플라이오펜 J-325, 다이닛폰 잉크 카가쿠 고교(주)제, 수지 고형분: 60%] 40부, 용제(분산매)로서의 메톡시프로판올 50부를, 직경 1㎜의 글래스 비즈를 사용한 샌드밀에 넣고, 상기 혼합물을 3시간 분산 처리하여, 도전층 코팅액(분산액)을 조제하였다. 이 도전층 코팅액을 지지체 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 30분간 150℃에서 건조 및 열경화시킴으로써 막 두께가 28㎛인 도전층을 형성하였다.Next, 50 parts of titanium oxide particles (powder resistivity: 120 Ω · cm, tin oxide coverage: 40%) coated with oxygen-depleted tin oxide were coated with phenol resin [plyofene J-325, Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co., Ltd. Co., Ltd., resin solid content: 60%] 40 parts and 50 parts of methoxypropanol as a solvent (dispersion medium) are put into the sand mill using the glass beads of diameter 1mm, the said mixture is disperse-processed for 3 hours, and a conductive layer coating liquid (Dispersion liquid) was prepared. This conductive layer coating liquid was immersed and applied onto a support. The obtained coating film was dried and thermosetted at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a film thickness of 28 μm.

이 도전층 코팅액에 있어서의 산소 결손형 산화주석이 피복되어 있는 산화티탄 입자의 평균 입자 크기는, 호리바 리미티드제의 입자 크기 분포 분석계(상품명: CAPA700)를 사용하여, 테트라히드로푸란을 분산매로 사용하는 원심 침강법에 의해 회전수 5000rpm에서 측정하여, 0.31㎛가 된다는 것을 알았다.The average particle size of the titanium oxide particles coated with the oxygen-depleted tin oxide in the conductive layer coating liquid was obtained by using tetrahydrofuran as a dispersion medium using a particle size distribution analyzer (trade name: CAPA700) manufactured by Horiba Limited. By centrifugal sedimentation method, it measured at 5000 rpm and it turned out that it becomes 0.31 micrometer.

다음에, 화합물 (A1-8) 5부, 멜라민 화합물 (C1-3) 3.5부, 수지 (B1) 3.4부, 촉매로서 제공되는 도데실벤젠술폰산 0.1부를, 디메틸아세트이미드 100부와 메틸에틸케톤 100부의 혼합 용제에 용해하여, 언더코팅층 코팅액을 조제하였다.Next, 5 parts of compound (A1-8), 3.5 parts of melamine compound (C1-3), 3.4 parts of resin (B1), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid provided as a catalyst, 100 parts of dimethylacetimide and 100 parts of methyl ethyl ketone It melt | dissolved in the negative mixed solvent and prepared the undercoat layer coating liquid.

이 언더코팅층 코팅액을 도전층 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 40분간 160℃로 가열함으로써 경화(중합)시켜, 막 두께가 0.5㎛인 언더코팅층을 형성하였다. 고체 13C-NMR 측정, 질량 분석 측정, 열분해 GC-MS 분석에 의한 MS 스펙트럼 측정, 적외 분광 분석에 의한 특성 흡수 측정에 의해 확인된 구조를 표 29에 나타낸다.This undercoat layer coating liquid was immersed and applied on the conductive layer. The obtained coating film was hardened (polymerized) by heating at 160 degreeC for 40 minutes, and the undercoat layer whose film thickness is 0.5 micrometer was formed. Table 29 shows structures confirmed by solid 13 C-NMR measurement, mass spectrometry measurement, MS spectrum measurement by pyrolysis GC-MS analysis, and characteristic absorption measurement by infrared spectroscopy.

다음에, CuKα 특성 방사선을 갖는 X선 회절에 있어서의 브랙각(2θ±0.2°)의 7.5°, 9.9°, 12.5°, 16.3°, 18.6°, 25.1° 및 28.3°에 강한 피크를 나타내는 결정형의 히드록시갈륨 프탈로시아닌 결정(전하 발생 물질) 10부, 폴리비닐 부티랄 수지[상품명: S-LEC BX-1, 세키스이 카가쿠 고교(주)제] 5부 및 시클로헥사논 250부를, 직경 1㎜의 글래스 비즈를 사용한 샌드밀에 넣어, 1.5시간 분산 처리하였다. 다음에, 이것에 아세트산에틸 250부를 추가함으로써, 전하 발생층 코팅액을 조제하였다.Next, crystal forms exhibiting strong peaks at 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3 ° of the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) in X-ray diffraction with CuKα characteristic radiation. 10 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals (charge generating substance), 5 parts of polyvinyl butyral resin [brand name: S-LEC BX-1, Sekisui Kagaku Kogyo Co., Ltd. product] and 250 parts of cyclohexanone, diameter 1mm It was put into the sand mill using the glass beads of, and was dispersed for 1.5 hours. Next, the charge generating layer coating liquid was prepared by adding 250 parts of ethyl acetate to this.

전하 발생층 코팅액을, 언더코팅층 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 10분간 100℃로 건조시킴으로써 막 두께가 0.18㎛인 전하 발생층을 형성하였다.The charge generating layer coating liquid was immersed and applied on the undercoat layer. The resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generating layer having a film thickness of 0.18 μm.

다음에, 하기 구조식 15로 나타내는 아민 화합물(정공 수송 물질) 8부, 하기 화학식 (16-1)로 나타내지는 반복 구조 단위와 하기 화학식 (16-2)로 나타내지는 반복 구조 단위를 5/5의 비율로 갖고, 중량 평균 분자량(Mw)이 100,000인 폴리아릴레이트 수지 10부를, 디메톡시메탄 40부 및 o-크실렌 60부의 혼합 용제에 용해시킴으로써 전하 수송층 코팅액을 조제하였다. 전하 수송층 코팅액을, 전하 발생층 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 40분간 120℃로 건조시킴으로써 막 두께가 15㎛인 전하 수송층(정공 수송층)을 형성하였다.Next, 8 parts of the amine compound (hole transport material) represented by the following structural formula 15, the repeating structural unit represented by the following general formula (16-1), and the repeating structural unit represented by the following general formula (16-2) are 5/5 The charge transport layer coating liquid was prepared by dissolving 10 parts of polyarylate resins which have a ratio and the weight average molecular weight (Mw) is 100,000 in the mixed solvent of 40 parts of dimethoxymethane and 60 parts of o-xylene. The charge transport layer coating liquid was immersed and applied onto the charge generating layer. The obtained coating film was dried at 120 ° C. for 40 minutes to form a charge transport layer (hole transport layer) having a film thickness of 15 μm.

Figure pat00066
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Figure pat00067
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Figure pat00068
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이와 같이 하여, 지지체 상에 도전층, 언더코팅층, 전하 발생층 및 전하 수송층을 갖는 전자 사진 감광체를 제조하였다.In this way, an electrophotographic photosensitive member having a conductive layer, an undercoating layer, a charge generating layer, and a charge transporting layer was prepared on a support.

(평가)(evaluation)

제조한 전자 사진 감광체를, 23℃ 및 50% RH의 환경 하에서, 캐논(주)제의 레이저 빔 프린터(상품명: LBP-2510)의 개조 프린터(1차 대전: 롤러 접촉 DC 대전, 프로세스 속도(120㎜/초, 레이저 노광)에 장착하였다. 출력 화상의 평가를 행하였다. 상세하게는 이하와 같다.The manufactured electrophotographic photosensitive member was subjected to a remodeling printer (primary charging: roller contact DC charging, process speed (120) of Canon's laser beam printer (trade name: LBP-2510) under an environment of 23 ° C. and 50% RH). Mm / sec, laser exposure) The output image was evaluated.

(포지티브 고스트 평가)(Positive ghost evaluation)

상기 레이저 빔 프린터의 시안색용 프로세스 카트리지를 개조하였다. 현상 위치에 전위 프로브[모델: 6000B-8, 트랙 재팬(주)제]를 설치하였다. 전자 사진 감광체의 중앙부의 전위를 표면 전위계[모델: 344, 트랙 재팬(주)제]를 사용하여 측정하였다. 또한, 암부 전위(Vd)가 -500V, 명부 전위(Vl)가 -150V로 되도록, 화상을 노광하는 데 사용되는 광량을 설정하였다.The cyan process cartridge of the laser beam printer was modified. A potential probe (model: 6000B-8, manufactured by Track Japan Co., Ltd.) was installed at the developing position. The electric potential of the center part of the electrophotographic photosensitive member was measured using a surface electrometer (Model: 344, manufactured by Track Japan Co., Ltd.). In addition, the amount of light used for exposing the image was set so that the dark portion potential Vd was -500V and the light potential potential Vl was -150V.

상기 레이저 빔 프린터의 시안색용 프로세스 카트리지에, 제조한 전자 사진 감광체를 장착하였다. 얻어진 프로세스 카트리지를 시안의 프로세스 카트리지의 스테이션에 장착하였다. 화상을 출력하였다.The manufactured electrophotographic photosensitive member was attached to the cyan process cartridge of the laser beam printer. The resulting process cartridge was mounted in a station of cyan process cartridge. And an image was output.

우선, 솔리드 화이트 화상 1매, 고스트 평가용 화상 5매, 솔리드 블랙 화상 1매, 고스트 평가용 화상 5매의 순으로 연속해서 화상 출력을 행하였다.First, image output was performed continuously in order of one solid white image, five images for ghost evaluation, one solid black image, and five images for ghost evaluation.

다음에, 5,000매의 A4 사이즈의 보통지에, 풀컬러 화상(각 색 인쇄율 1%의 문자 화상)의 출력을 행하였다. 그 후, 솔리드 화이트 화상 1매, 고스트 평가용 화상 5매, 솔리드 블랙 화상 1매, 고스트 평가용 화상 5매의 순서대로 연속해서 화상 출력을 행하였다.Next, a full-color image (character image of 1% of each color printing rate) was output to 5,000 sheets of A4 size plain paper. Then, image output was performed continuously in order of one solid white image, five images for ghost evaluation, one solid black image, and five images for ghost evaluation.

도 2에 도시한 바와 같이, 고스트 평가용 화상은, 시트의 선단부의 화이트 화상에 솔리드 스퀘어 화상을 출력한 후, 도 3에 도시된 1 도트 계마 패턴의 하프톤 화상이 형성된 것이다. 도 2에서, "고스트"로서 나타내지는 부분은 솔리드 화상에 기인하는 고스트가 출현할 수 있는 부분이다.As shown in FIG. 2, the ghost evaluation image is a halftone image of the one dot stair pattern shown in FIG. 3 after a solid square image is output to a white image of the tip portion of the sheet. In Fig. 2, the portion indicated as "ghost" is a portion where ghosts due to a solid image can appear.

포지티브 고스트의 평가는 1 도트 계마 패턴의 하프톤 화상과 고스트부 사이의 화상 농도의 차를 측정함으로써 행하였다. 분광 농도계[상품명: X-Rite 504/508, X-Rite(주)제]로, 1매의 고스트 평가용 화상에서 화상 농도차의 10점에서 측정하였다. 이 조작을 고스트 평가용 화상 10매에 모두 행하여, 합계 100점의 평균을 산출하였다. 초기 화상 출력 시의 맥베스 농도차(초기)를 평가하였다. 다음에, 5,000매의 출력 후의 맥베스 농도차와 초기 화상 출력 시의 맥베스 농도차 사이의 차(변화분)를 산출하여, 맥베스 농도차의 변동분을 구하였다. 맥베스 농도차가 작을 수록, 포지티브 고스트의 보다 양호한 억제를 나타낸다. 5,000매의 출력 후의 맥베스 농도차와 초기 화상 출력 시의 맥베스 농도차 사이의 차가 작을수록, 포지티브 고스트의 변동이 작은 것을 나타낸다. 결과를 표 29에 나타낸다.The positive ghost was evaluated by measuring the difference in the image density between the halftone image and the ghost portion of the one dot stair pattern. In the spectrophotometer [brand name: X-Rite 504/508, the product made by X-Rite Co., Ltd.], it measured at 10 points of image density differences in one image for ghost evaluation. This operation was performed to all 10 images for ghost evaluation, and the average of 100 points in total was computed. The Macbeth density difference (initial stage) at the time of initial image output was evaluated. Next, the difference (change amount) between the Macbeth density difference after 5,000 sheets of output and the Macbeth density difference at the time of initial image output was calculated, and the variation amount of Macbeth density difference was calculated | required. The smaller the Macbeth concentration difference, the better the suppression of positive ghost. The smaller the difference between the Macbeth density difference after 5,000 sheets of output and the Macbeth density difference at the time of initial image output, the smaller the variation of the positive ghost. The results are shown in Table 29.

(실시예 2 내지 115)(Examples 2 to 115)

전자 수송 물질, 수지 (수지 B), 멜라민 화합물, 구아나민 화합물의 종류와 함유량을 표 29 내지 표 31에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 29 내지 표 31에 나타낸다.The electrophotographic photosensitive member was produced like Example 1 except having changed the kind and content of an electron transport material, resin (resin B), a melamine compound, and a guanamine compound as shown in Tables 29-31. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Tables 29-31.

(실시예 116)(Example 116)

도전층 코팅액, 언더코팅층 코팅액 및 전하 수송층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 31에 나타낸다.An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the preparation of the conductive layer coating liquid, the undercoat layer coating liquid, and the charge transport layer coating liquid was changed as follows. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 31.

도전층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경하였다. 우선, 금속 산화물 입자로서 제공되는 산소 결손형 산화주석(SnO2)이 피복되어 있는 산화티탄(TiO2) 입자 214부, 결착 수지로서 제공되는 페놀 수지 (상품명: 플라이오펜 J-325) 132부 및 용제로서 제공되는 1-메톡시-2-프로판올 98부를, 직경 0.8㎜의 글래스 비즈 450부를 사용한 샌드밀에 넣었다. 회전수 2000rpm, 분산 처리 시간 4.5시간, 냉각수의 사전설정 온도 18℃를 나타내는 조건 하에 분산 처리를 행하여, 분산액을 얻었다. 이 분산액으로부터 메쉬(눈금: 150㎛)에 의해 글래스 비즈를 제거하였다.Preparation of the conductive layer coating liquid was changed as follows. First, 214 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with oxygen-depleted tin oxide (SnO 2 ) provided as metal oxide particles, 132 parts of phenol resin (trade name: Plyofene J-325) provided as a binder resin, and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol provided as a solvent were put into the sand mill using 450 parts of glass beads of 0.8 mm in diameter. Dispersion was performed on the conditions which show rotation speed 2000rpm, dispersion processing time 4.5 hours, and the preset temperature of cooling water 18 degreeC, and the dispersion liquid was obtained. Glass beads were removed from the dispersion by a mesh (scale: 150 µm).

글래스 비즈를 제거한 후의 분산액 중의 금속 산화물 입자와 결착 수지의 합계 질량에 대해 10질량%로 되도록, 표면 거칠기 부여 재료로서 제공되는 실리콘 수지 입자[상품명: 토스펄 120, 모멘티브 퍼포먼스 매테리얼(주)제, 평균 입자 크기: 2㎛]를 분산액에 첨가하였다. 또한, 분산액 중의 금속 산화물 입자와 결착 수지의 합계 질량에 대해 0.01질량%로 되도록, 레벨링제로서 제공되는 실리콘 오일[상품명: SH28PA, 다우 코닝 도레이(주)제]을 분산액에 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 교반함으로써, 도전층 코팅액을 조제하였다. 이 도전층 코팅액을 지지체 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 30분간 150℃로 건조 및 열경화시킴으로써 막 두께가 30㎛인 도전층을 형성하였다.Silicone resin particles provided as a surface roughness imparting material so as to be 10 mass% with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads [trade name: Tospearl 120, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd. , Average particle size: 2 μm] was added to the dispersion. Moreover, the silicone oil (brand name: SH28PA, Dow Corning Toray Co., Ltd. product) provided as a leveling agent was added to the dispersion liquid so that it may become 0.01 mass% with respect to the total mass of the metal oxide particle and binder resin in a dispersion liquid. The conductive layer coating liquid was prepared by stirring the obtained mixture. This conductive layer coating liquid was immersed and applied onto a support. The obtained coating film was dried and thermosetted at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a film thickness of 30 μm.

언더코팅층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경하였다. 우선, 화합물 (A1-54) 5부, 멜라민 화합물 (C1-3) 3.5부, 수지 (B25) 3.4부, 촉매로서 제공되는 도데실벤젠술폰산 0.1부를, 디메틸아세트아미드 100부와 메틸에틸케톤 100부의 혼합 용제에 용해하여, 언더코팅층 코팅액을 조제하였다. 이 언더코팅층 코팅액을 도전층 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 40분간 160℃로 가열함으로써 경화(중합)시켜 막 두께가 0.5㎛인 언더코팅층을 형성하였다. 고체 13C-NMR 측정, 질량 분석 측정, 열분해 GC-MS 분석에 의한 MS 스펙트럼 측정, 적외 분광 분석에 의한 특성 흡수 측정에 의해 확인된 구조를 표 31에 나타낸다.The preparation of the undercoat coating liquid was changed as follows. First, 5 parts of compound (A1-54), 3.5 parts of melamine compound (C1-3), 3.4 parts of resin (B25), 0.1 part of dodecylbenzenesulfonic acid provided as a catalyst, 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone It melt | dissolved in the mixed solvent and prepared the undercoat layer coating liquid. This undercoat layer coating liquid was immersed and applied on the conductive layer. The obtained coating film was cured (polymerized) by heating at 160 ° C. for 40 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 0.5 μm. Table 31 shows the structure confirmed by solid 13 C-NMR measurement, mass spectrometry measurement, MS spectrum measurement by pyrolysis GC-MS analysis, and characteristic absorption measurement by infrared spectroscopic analysis.

전하 수송층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경하였다. 우선, 상기 화학식 (15)로 나타내지는 구조를 갖는 전하 수송 물질 9부, 하기 화학식 (18)로 나타내지는 구조를 갖는 전하 수송 물질 1부, 수지로서 하기 화학식 (24)로 나타내지는 반복 구조 단위, 하기 화학식 (26)으로 나타내지는 반복 구조 단위 및 하기 화학식 (25)로 나타내지는 반복 구조 단위를 7:3의 비율로 갖는 폴리에스테르 수지 F(중량 평균 분자량: 90,000) 3부, 하기 화학식 (27)로 나타내지는 반복 구조 단위와 하기 화학식 (28)로 나타내지는 반복 구조 단위를 5:5의 비율로 함유하는 폴리에스테르 수지 H(중량 평균 분자량: 120,000) 7부를, 디메톡시메탄 30부 및 o-크실렌 50부의 혼합 용제에 용해시킴으로써 전하 수송층 코팅액을 조제하였다. 폴리에스테르 수지 F에 있어서, 하기 화학식 (24)로 나타내지는 반복 구조 단위의 함유량이 10질량%이고, 하기 화학식 (25), 화학식 (26)으로 나타내지는 반복 구조 단위의 함유량이 90질량%였다.The preparation of the charge transport layer coating liquid was changed as follows. Firstly, 9 parts of a charge transport material having a structure represented by the above formula (15), 1 part of a charge transport material having a structure represented by the following formula (18), a repeating structural unit represented by the following formula (24) as a resin, 3 parts of polyester resin F (weight average molecular weight: 90,000) which have a repeating structural unit represented by following formula (26) and a repeating structural unit represented by following formula (25) in 7: 3 ratio, and following formula (27) 7 parts of polyester resin H (weight average molecular weight: 120,000) containing the repeating structural unit represented by the following formula and the repeating structural unit represented by following General formula (28) in 5: 5 ratio: 30 parts of dimethoxymethane, and o-xylene The charge transport layer coating liquid was prepared by dissolving in 50 parts of mixed solvents. In the polyester resin F, content of the repeating structural unit represented by following formula (24) was 10 mass%, and content of the repeating structural unit represented by following formula (25) and formula (26) was 90 mass%.

Figure pat00069
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Figure pat00072
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이 전하 수송층 코팅액을 전하 발생층 상에 침지 도포하고, 이를 1시간 동안 120℃로 건조시킴으로써, 막 두께가 16㎛인 전하 수송층을 형성하였다. 얻어진 전하 수송층은 전하 수송 물질과 폴리에스테르 수지 H를 함유하는 매트릭스 중에 폴리에스테르 수지 F가 함유된 도메인 구조를 갖는 것이 확인되었다.The charge transport layer coating liquid was immersed and applied onto the charge generating layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a film thickness of 16 μm. It was confirmed that the obtained charge transport layer had a domain structure in which the polyester resin F was contained in the matrix containing the charge transport material and the polyester resin H.

(실시예 117)(Example 117)

전하 수송층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 116과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 31에 나타낸다.An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 116 except that the preparation of the charge transport layer coating liquid was changed as follows. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 31.

전하 수송층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경하였다. 우선, 상기 화학식 (15)로 나타내지는 구조를 갖는 전하 수송 물질 9부, 상기 화학식 (18)로 나타내지는 구조를 갖는 전하 수송 물질 1부, 수지로서 하기 화학식 (29)로 나타내지는 반복 구조를 갖는 폴리카보네이트 수지 I(중량 평균 분자량: 70,000) 10부 및 하기 화학식 (29)로 나타내지는 반복 구조 단위, 하기 화학식 (30)으로 나타내지는 반복 구조 단위 및 말단의 적어도 어느 하나에 위치된 하기 화학식 (31)로 나타내지는 구조를 갖는 폴리카보네이트 수지 J(중량 평균 분자량: 40,000) 0.3부를, 디메톡시메탄 30부 및 o-크실렌 50부 혼합 용제에 용해시킴으로써 전하 수송층 코팅액을 조제하였다. 폴리카보네이트 수지 J에 있어서, 하기 화학식 (30), (31)로 나타내지는 반복 구조 단위의 합계 질량이 30질량%였다. 이 전하 수송층 코팅액을 전하 발생층 상에 침지 도포하고, 이를 1시간 동안 120℃로 건조시킴으로써 막 두께가 16㎛인 전하 수송층을 형성하였다.The preparation of the charge transport layer coating liquid was changed as follows. First, 9 parts of charge transport materials having a structure represented by the formula (15), 1 part of charge transport materials having a structure represented by the formula (18), and a resin having a repeating structure represented by the following formula (29) 10 parts of polycarbonate resin I (weight average molecular weight: 70,000) and the repeating structural unit represented by following formula (29), the repeating structural unit represented by following formula (30), and the following formula (31) located in any one of the terminal (31) The charge transport layer coating liquid was prepared by melt | dissolving 0.3 part of polycarbonate resin J (weight average molecular weight: 40,000) which has a structure represented by) in 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of o-xylene mixed solvents. In polycarbonate resin J, the total mass of the repeating structural unit represented by the following general formula (30) or (31) was 30 mass%. The charge transport layer coating solution was immersed and applied onto the charge generating layer, and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a film thickness of 16 μm.

Figure pat00075
Figure pat00075

Figure pat00076
Figure pat00076

Figure pat00077
Figure pat00077

(실시예 118)(Example 118)

폴리카보네이트 수지 I(중량 평균 분자량: 70,000) 10부 대신에, 폴리에스테르 수지 H(중량 평균 분자량: 120,000) 10부가 사용된 것 이외는, 실시예 117과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 31에 나타낸다.An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 117 except that 10 parts of polyester resin H (weight average molecular weight: 120,000) were used instead of 10 parts of polycarbonate resin I (weight average molecular weight: 70,000). Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 31.

(실시예 119 내지 121)(Examples 119 to 121)

도전층 코팅액의 조제를 이하와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 116 내지 118과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 31에 나타낸다.An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Examples 116 to 118 except that the preparation of the conductive layer coating liquid was changed as follows. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 31.

우선, 금속 산화물 입자로서 제공되는 인(P)이 도팡되어 있는 산화주석(SnO2)으로 피복되어 있는 산화티탄(TiO2) 입자 207부, 결착 수지로서 제공되는 페놀 수지 (상품명: 플라이오펜J-325) 144부, 및 용제로서 제공되는 1-메톡시-2-프로판올 98부를, 직경 0.8㎜의 글래스 비즈 450부를 사용한 샌드밀에 넣었다. 상기 혼합물은 회전수 2000rpm, 분산 처리 시간 4.5시간, 냉각수의 사전설정 온도 18℃를 포함하는 조건 하에 분산 처리를 행하여, 분산액을 얻었다. 이 분산액으로부터 메쉬(눈금: 150㎛)에 의해 글래스 비즈를 제거하였다.First, 207 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P), which is provided as a metal oxide particle, and a phenol resin provided as a binder resin (trade name: plyopenf J- 325) 144 parts and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol provided as a solvent were put into the sand mill using 450 parts of 0.8 mm glass beads. The mixture was subjected to dispersion treatment under conditions including a rotational speed of 2000 rpm, a dispersion treatment time of 4.5 hours, and a preset temperature of 18 ° C of cooling water to obtain a dispersion. Glass beads were removed from the dispersion by a mesh (scale: 150 µm).

글래스 비즈를 제거한 후의 분산액 중의 금속 산화물 입자와 결착 수지의 합계 질량에 대해 15질량%로 되도록, 표면 거칠기 부여 재료로서 제공되는 실리콘 수지 입자(상품명: 토스펄 120)를 분산액에 첨가하였다. 또한, 분산액 중의 금속 산화물 입자와 결착 수지의 합계 질량에 대해 0.01질량%로 되도록, 레벨링제로서 제공되는 실리콘 오일(상품명: SH28PA)을 분산액에 첨가하였다. 상기 혼합물을 교반함으로써, 도전층 코팅액을 조제하였다. 이 도전층 코팅액을 지지체 상에 침지 도포하였다. 얻어진 코팅막을 30분간 150℃로 건조 및 열경화시킴으로써 막 두께가 30㎛인 도전층을 형성하였다.Silicone resin particles (brand name: Tospearl 120) provided as a surface roughness imparting material were added to the dispersion so as to be 15% by mass relative to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads. Moreover, the silicone oil (brand name: SH28PA) provided as a leveling agent was added to the dispersion liquid so that it may become 0.01 mass% with respect to the total mass of the metal oxide particle and binder resin in a dispersion liquid. The conductive layer coating liquid was prepared by stirring the said mixture. This conductive layer coating liquid was immersed and applied onto a support. The obtained coating film was dried and thermosetted at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a film thickness of 30 μm.

(실시예 122, 123)(Examples 122 and 123)

전자 수송 물질의 종류와 함유량을 표 31에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 116과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 31에 나타낸다.An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 116 except that the kind and content of the electron transporting material were changed as shown in Table 31. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 31.

Figure pat00078
Figure pat00078

Figure pat00079
Figure pat00079

Figure pat00080
Figure pat00080

(비교예 1 내지 5)(Comparative Examples 1 to 5)

수지를 함유하지 않고, 전자 수송 물질, 멜라민 화합물, 구아나민 화합물의 종류와 함유량을 표 32에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 32에 나타낸다.An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin was not contained and the kind and content of the electron transporting substance, the melamine compound, and the guanamine compound were changed as shown in Table 32. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 32.

(비교예 6 내지 10)(Comparative Examples 6 to 10)

전자 수송 물질을 하기 화학식 (Y-1)로 나타내지는 화합물로 변경하고, 멜라민 화합물, 구아나민 화합물과 수지의 종류와 함유량을 표 32에 나타낸 바와 같이 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 마찬가지로 포지티브 고스트의 평가를 행하였다. 결과를 표 32에 나타낸다.The electron transport material was changed to the compound represented by the following general formula (Y-1), and the electrons were changed in the same manner as in Example 1 except that the kind and content of the melamine compound, the guanamine compound and the resin were changed as shown in Table 32. Photosensitive photoreceptors were prepared. Similarly, positive ghosts were evaluated. The results are shown in Table 32.

Figure pat00081
Figure pat00081

(비교예 11)(Comparative Example 11)

하기 구조식으로 나타내는 블록 공중합체(일본 특허 공표 제2009-505156호 공보에 기재된 공중합체), 블록 이소시아네이트 화합물 및 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체로부터 언더코팅층을 형성한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 전자 사진 감광체를 제조하였다. 평가를 행하였다. 맥베스 농도의 초기는 0.048, 맥베스 농도의 변화분은 0.065였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that the undercoating layer was formed from a block copolymer (copolymer described in JP-A-2009-505156), a block isocyanate compound and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer represented by the following structural formula. Photosensitive photoreceptors were prepared. Evaluation was performed. The initial stage of the Macbeth concentration was 0.048 and the change in Macbeth concentration was 0.065.

Figure pat00082
Figure pat00082

Figure pat00083
Figure pat00083

실시예와 비교예 1 내지 5의 비교에 의해, 본 발명의 일 실시형태에 따른 특정한 구조를 갖는 언더코팅층을 포함하는 전자 사진 감광체에 비해, 일본 특허 공개 제2003-330209호 공보 및 일본 특허 공개 제2008-299344호 공보에 기재된 구성에서는, 반복 사용 시의 포지티브 고스트의 변동의 저감에 충분히 높은 효과가 얻어지지 않는 경우가 있는 것을 알 수 있다. 이는, 수지가 존재하지 않기 때문에, 언더코팅층 내의 트리아진환 및 전자 수송 물질의 편재를 일으켜서, 반복 사용에 의해 전자가 체류하기 쉽게 되어 있다고 생각된다. 실시예와 비교예 11의 비교에 의해, 일본 특허 공표 제2009-505156호 공보에 기재된 구성에서도, 반복 사용 시의 포지티브 고스트의 변동의 저감에 충분히 높은 효과는 얻어지지 않는 경우가 있는 것을 알 수 있다. 실시예와 비교예 6 내지 10의 비교에 의해, 수지와 전자 수송 물질이 함께 결합되지 않고, 용제에서 용해 후, 분산된 상태에서는, 초기의 포지티브 고스트 및 반복 사용 시의 포지티브 고스트의 변동의 저감에 충분한 효과가 얻어지지 않는 것을 알 수 있었다. 이는, 트리아진환과의 결합에 의한 포지티브 고스트 저감 효과가 얻어지지 않기 때문이라고 생각된다. 언더코팅층 상에 전하 발생층을 형성할 때에, 전자 수송 물질이 상층(전하 발생층)으로 이동하였기 때문에, 언더코팅층 내의 전자 수송 물질이 감소하여, 상층에 전자 수송 물질이 혼입됨으로써 전자의 체류가 발생하고 있기 때문이라고 생각된다.By comparison of Examples and Comparative Examples 1 to 5, Japanese Patent Laid-Open No. 2003-330209 and Japanese Patent Laid-Open No. 2 are compared with an electrophotographic photosensitive member including an undercoat layer having a specific structure according to one embodiment of the present invention. In the structure described in 2008-299344, it turns out that the effect high enough for reduction of the fluctuation | variation of the positive ghost at the time of repeated use may not be acquired. Since resin does not exist, it is considered that the triazine ring and the electron transporting material in the undercoat layer are unevenly distributed, and electrons are likely to stay due to repeated use. By comparison between Example 11 and Comparative Example 11, it can be seen that even in the configuration described in Japanese Patent Publication No. 2009-505156, a sufficiently high effect may not be obtained to reduce the variation of positive ghost at the time of repeated use. . By comparison between Examples and Comparative Examples 6 to 10, in a state where the resin and the electron transporting material are not bonded together and dissolved in a solvent and then dispersed, the reduction of the variation of the positive ghost during initial positive ghost and repeated use It turned out that sufficient effect is not acquired. This is considered to be because the effect of reducing the positive ghost by the combination with the triazine ring is not obtained. When forming the charge generating layer on the undercoat layer, since the electron transporting material moved to the upper layer (charge generating layer), the electron transporting material in the undercoating layer is reduced, and the electron transporting material is mixed in the upper layer, so that the electrons stay. I think it is because.

본 발명은 예시적인 실시형태를 참조하여 설명되었지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시형태에 한정되지 않는다는 점이 이해되어야 한다. 이하의 특허청구범위는 이러한 모든 수정, 동등한 구조 및 기능을 포괄하도록 광의의 해석에 따라야 한다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. The following claims are to be accorded the broadest interpretation so as to encompass all such modifications, equivalent structures and functions.

Claims (8)

지지체, 상기 지지체 상에 형성된 언더코팅층, 및 상기 언더코팅층 상에 형성된 감광층을 포함하는 전자 사진 감광체이며,
상기 언더코팅층은 하기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 하기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 포함하는, 전자 사진 감광체.
Figure pat00084

[화학식 (C1) 및 (C2)에서,
R11 내지 R16 및 R22 내지 R25는 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸렌기, -CH2OR2로 나타내지는 1가의 기, 하기 화학식 (i)로 나타내지는 기, 또는 하기 화학식 (ii)로 나타내지는 기를 나타내고,
R11 내지 R16 중 하나 이상, R22 내지 R25 중 하나 이상은 각각 하기 화학식 (i)로 나타내지는 기이며,
R11 내지 R16 중 하나 이상, R22 내지 R25 중 하나 이상은 각각 하기 화학식 (ii)로 나타내지는 기이며,
R2는 수소 원자 또는 탄소 원자수가 1 내지 10인 알킬기를 나타내고,
R21은 알킬기, 페닐기, 또는 알킬기에 의해 치환된 페닐기를 나타냄]
Figure pat00085

[화학식 (i)에서,
R61은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고,
Y1은 단일 결합, 알킬렌기 또는 페닐렌기를 나타내며,
D1은 하기 화학식 (D1) 내지 (D4) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고,
"*"는 상기 화학식 (C1)의 질소 원자, 또는 상기 화학식 (C2)의 질소 원자에 결합하는 측을 나타냄]
Figure pat00086

Figure pat00087

Figure pat00088

Figure pat00089

Figure pat00090

[화학식 (ii)에서,
D2는 상기 화학식 (D1) 내지 (D4) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내고,
α는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 벤질기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 알콕시카르보닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 페닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내며,
알킬렌기의 주쇄 중의 탄소 원자 중 1개는 O, S, NH 또는 NR1로 치환될 수 있고, R1은 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기를 나타내며,
β는 페닐렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 페닐렌기, 니트로기에 의해 치환된 페닐렌기, 또는 할로겐 원자에 의해 치환된 페닐렌기를 나타내고,
γ는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내며,
l, m 및 n은 각각 독립적으로 0 또는 1이고,
A1은 하기 화학식 (A1) 내지 (A9) 중 어느 하나로 나타내지는 2가의 기를 나타내며,
"*"는 상기 화학식 (C1)의 질소 원자, 또는 상기 화학식 (C2)의 질소 원자에 결합하는 측을 나타냄]
Figure pat00091

[화학식 (A1) 내지 (A9)에서,
R101 내지 R106, R201 내지 R210, R301 내지 R308, R401 내지 R408, R501 내지 R510, R601 내지 R606, R701 내지 R708, R801 내지 R810 및 R901 내지 R908은 각각 독립적으로, 단일 결합, 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 알콕시카르보닐기, 카르복실기, 디알킬아미노기, 히드록시기, 치환 혹은 무치환된 알킬기, 치환 혹은 무치환된 아릴기, 또는 치환 혹은 무치환된 복소환기를 나타내고,
R101 내지 R106 중 2개 이상, R201 내지 R210 중 2개 이상, R301 내지 R308 중 2개 이상, R401 내지 R408 중 2개 이상, R501 내지 R510 중 2개 이상, R601 내지 R606 중 2개 이상, R701 내지 R708 중 2개 이상, R801 내지 R810 중 2개 이상 및 R901 내지 R908 중 2개 이상은 단일 결합이며,
상기 치환된 알킬기의 치환기는, 알킬기, 아릴기, 할로겐 원자, 또는 카르보닐기이고,
상기 치환된 아릴기 또는 복소환기의 치환기는, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 알킬기, 할로겐 치환된 알킬기, 알콕시기, 또는 카르보닐기이며,
Z201, Z301, Z401 및 Z501은 각각 독립적으로, 탄소 원자, 질소 원자, 또는 산소 원자를 나타내고,
Z201이 산소 원자인 경우 R209 및 R210은 존재하지 않고,
Z201이 질소 원자인 경우 R210은 존재하지 않으며,
Z301이 산소 원자인 경우 R307 및 R308은 존재하지 않고,
Z301이 질소 원자인 경우 R308은 존재하지 않으며,
Z401이 산소 원자인 경우 R407 및 R408은 존재하지 않고,
Z401이 질소 원자인 경우 R408은 존재하지 않으며,
Z501이 산소 원자인 경우 R509 및 R510은 존재하지 않고,
Z501이 질소 원자인 경우 R510은 존재하지 않음]
An electrophotographic photosensitive member comprising a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer,
The undercoat layer includes an electrochemical photosensitive member comprising a structure represented by the following general formula (C1) or a structure represented by the following general formula (C2).
Figure pat00084

[Formula (C1) and (C2),
R 11 to R 16 and R 22 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, a methylene group, a monovalent group represented by -CH 2 OR 2 , a group represented by the following formula (i), or the following formula (ii) Represents a group represented by
At least one of R 11 to R 16 and at least one of R 22 to R 25 are each a group represented by the following general formula (i),
At least one of R 11 to R 16 and at least one of R 22 to R 25 are each a group represented by the following formula (ii),
R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
R 21 represents an alkyl group, a phenyl group, or a phenyl group substituted by an alkyl group.]
Figure pat00085

[Formula (i),
R 61 represents a hydrogen atom or an alkyl group,
Y 1 represents a single bond, an alkylene group or a phenylene group,
D 1 represents a divalent group represented by any one of the following general formulas (D1) to (D4),
"*" Represents the side which couple | bonds with the nitrogen atom of the said Formula (C1), or the nitrogen atom of the said Formula (C2)]
Figure pat00086

Figure pat00087

Figure pat00088

Figure pat00089

Figure pat00090

[Formula (ii),
D 2 represents a divalent group represented by any one of the formulas (D1) to (D4),
α is an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by the benzyl group An alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by a ethylene group, an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by a phenyl group,
One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be substituted with O, S, NH or NR 1 , R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
β represents a phenylene group, a phenylene group substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenylene group substituted by a nitro group, or a phenylene group substituted by a halogen atom,
γ represents an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
l, m and n are each independently 0 or 1,
A 1 represents a divalent group represented by any one of the following formulas (A1) to (A9),
"*" Represents the side which couple | bonds with the nitrogen atom of the said Formula (C1), or the nitrogen atom of the said Formula (C2)]
Figure pat00091

[Formula (A1) to (A9),
R 101 to R 106 , R 201 to R 210 , R 301 to R 308 , R 401 to R 408 , R 501 to R 510 , R 601 to R 606 , R 701 to R 708 , R 801 to R 810 and R 901 To R 908 are each independently a single bond, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a dialkylamino group, a hydroxy group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or A substituted or unsubstituted heterocyclic group,
At least two of R 101 to R 106 , at least two of R 201 to R 210 , at least two of R 301 to R 308 , at least two of R 401 to R 408 , at least two of R 501 to R 510 , At least two of R 601 to R 606 , at least two of R 701 to R 708 , at least two of R 801 to R 810 and at least two of R 901 to R 908 are single bonds,
The substituent of the substituted alkyl group is an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, or a carbonyl group,
The substituent of the substituted aryl group or heterocyclic group is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, a halogen substituted alkyl group, an alkoxy group, or a carbonyl group,
Z 201 , Z 301 , Z 401 and Z 501 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom,
R 209 and R 210 are absent when Z 201 is an oxygen atom,
R 210 is absent when Z 201 is a nitrogen atom,
R 307 and R 308 are absent when Z 301 is an oxygen atom,
R 308 is absent when Z 301 is a nitrogen atom,
R 407 and R 408 are absent when Z 401 is an oxygen atom,
R 408 is absent when Z 401 is a nitrogen atom,
R 509 and R 510 are absent when Z 501 is an oxygen atom,
R 510 does not exist when Z 501 is a nitrogen atom]
제1항에 있어서,
상기 화학식 (ii)에서,
α는 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 탄소 원자수가 1 내지 6인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 벤질기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 알콕시카르보닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기, 또는 페닐기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 6인 알킬렌기를 나타내고,
상기 알킬렌기의 주쇄 중의 탄소 원자 중 1개는 O, NH 또는 NR1로 치환될 수 있는, 전자 사진 감광체.
The method of claim 1,
In formula (ii),
α is an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by the benzyl group An alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by a ethylene group, an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted by a phenyl group,
One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be substituted with O, NH or NR 1 .
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 언더코팅층은 상기 화학식 (C1)으로 나타내지는 구조, 또는 상기 화학식 (C2)로 나타내지는 구조를 갖는 경화물을 포함하는, 전자 사진 감광체.
3. The method according to claim 1 or 2,
The undercoat layer comprises an electrophotographic photosensitive member comprising a structure represented by the formula (C1) or a cured product having a structure represented by the formula (C2).
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 화학식 (ii)로 나타내지는 기의, A1 이외의 주쇄의 원자수는 2 내지 9인, 전자 사진 감광체.
3. The method according to claim 1 or 2,
The electrophotographic photosensitive member whose atom number of main chains other than A <1> of the group represented by the said General formula (ii) is 2-9.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 화학식 (ii)에서,
α는 탄소 원자수가 1 내지 4인 알킬기에 의해 치환된 주쇄의 원자수가 1 내지 5인 알킬렌기, 또는 주쇄의 원자수가 1 내지 5인 알킬렌기인, 전자 사진 감광체.
3. The method according to claim 1 or 2,
In formula (ii),
α is an electrophotographic photosensitive member which is an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 화학식 (ii)에서,
β가 페닐렌기인, 전자 사진 감광체.
3. The method according to claim 1 or 2,
In formula (ii),
An electrophotographic photosensitive member wherein β is a phenylene group.
제1항 또는 제2항에 따른 전자 사진 감광체와, 대전 디바이스, 현상 디바이스, 전사 디바이스 및 클리닝 디바이스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 디바이스를 일체로 지지하여, 전자 사진 장치의 본체에 착탈 가능한, 프로세스 카트리지.A process, in which the electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2 and one or more devices selected from the group consisting of a charging device, a developing device, a transfer device, and a cleaning device are integrally supported and detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. cartridge. 제1항 또는 제2항에 따른 전자 사진 감광체와,
대전 디바이스와,
노광 수단과,
현상 디바이스와,
전사 디바이스를 포함하는, 전자 사진 장치.
An electrophotographic photosensitive member according to claim 1 or 2,
Charging device,
Exposure means,
Developing device,
An electrophotographic device comprising a transfer device.
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