JP6347696B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus.

現在、プロセスカートリッジや電子写真装置に用いられる電子写真感光体としては、有機光導電性物質を含有する電子写真感光体が主流である。電子写真感光体は、一般的に、支持体及び支持体上に形成された感光層を有する。そして、支持体側から感光層(電荷発生層)側への電荷注入を抑制し、カブリといった画像欠陥の発生を抑えることを目的として、支持体と感光層との間には中間層が設けられている。また、支持体の表面の欠陥を被覆することを目的として、金属酸化物粒子を含有する導電層を設けることも知られている。   At present, electrophotographic photoreceptors containing organic photoconductive substances are mainly used as electrophotographic photoreceptors used in process cartridges and electrophotographic apparatuses. An electrophotographic photoreceptor generally has a support and a photosensitive layer formed on the support. An intermediate layer is provided between the support and the photosensitive layer for the purpose of suppressing charge injection from the support side to the photosensitive layer (charge generation layer) side and suppressing the occurrence of image defects such as fogging. Yes. It is also known to provide a conductive layer containing metal oxide particles for the purpose of covering defects on the surface of the support.

近年、電荷発生物質は、より高い感度を有するものが用いられている。しかしながら、電荷発生物質が高感度化するのに伴い、電荷の発生量が多くなることにより、同一の画像を短時間に大量に出力する場合に、露光された部分の電荷が感光層中に滞留しやすいという課題がある。このような感光層中の電荷の滞留を抑制する技術として、中間層に電子輸送物質を含有させて、中間層を電子輸送能を有する層(以下、「電子輸送層」とも称する)とする技術が知られている。   In recent years, charge generation materials having higher sensitivity have been used. However, as the charge generation material becomes more sensitive, the amount of generated charge increases, so that when the same image is output in a short amount of time, the exposed portion of the charge stays in the photosensitive layer. There is a problem that it is easy to do. As a technique for suppressing such charge retention in the photosensitive layer, a technique in which an electron transport material is contained in the intermediate layer, and the intermediate layer is a layer having an electron transport ability (hereinafter also referred to as “electron transport layer”). It has been known.

特許文献1には、芳香族テトラカルボニルビスイミド骨格、架橋部位を持つ縮合ポリマー(電子輸送物質)、及び架橋剤との重合物を含有する電子輸送層、ならびに酸化スズ粒子を含有する導電層を有する電子写真感光体が記載されている。特許文献2には、電子受容性物質を含有する層と、電子受容性物質、及びシランカップリング剤で表面処理した酸化亜鉛粒子を含有する導電層とを有する電子写真感光体が記載されている。   Patent Document 1 includes an electron transport layer containing an aromatic tetracarbonylbisimide skeleton, a condensation polymer (electron transport material) having a crosslinking site, and a polymer with a crosslinking agent, and a conductive layer containing tin oxide particles. An electrophotographic photosensitive member is described. Patent Document 2 describes an electrophotographic photoreceptor having a layer containing an electron-accepting substance, and a conductive layer containing zinc acceptor particles surface-treated with the electron-accepting substance and a silane coupling agent. .

特許文献3、特許文献4には酸化スズ被覆酸化チタン粒子を含む導電層上に電子輸送層を有する電子写真感光体が記載されている。   Patent Documents 3 and 4 describe an electrophotographic photoreceptor having an electron transport layer on a conductive layer containing tin oxide-coated titanium oxide particles.

特表2009−505156号公報Special table 2009-505156 特開2008−65173号公報JP 2008-65173 A 特開2007−148294号公報JP 2007-148294 A 特開2008−250082号公報JP 2008-250082 A

近年、電子写真画像の品質に対する要求は高まる一方であり、同一の画像が短時間に大量に出力される機会が増えてきている。   In recent years, the demand for the quality of electrophotographic images has been increasing, and the opportunity to output a large amount of the same image in a short time has increased.

本発明者らの検討の結果、その場合、パターンメモリーと呼ばれる画像欠陥が発生しやすいことがわかった。パターンメモリーとは、図3の縦線306が含まれる画像301を大量に連続出力した後、ベタ黒画像302を出力すると、出力したベタ黒画像が、図3の画像301の縦線306の繰り返し履歴を起因とする縦線307が入った画像304となる現象である。図3の画像301を大量に連続出力した後、ハーフトーン画像303を出力する場合は、ベタ黒画像の場合と同様に、図3の画像301の縦線306の繰り返し履歴を起因とする縦線308が入った画像305となる現象である。   As a result of the study by the present inventors, it has been found that an image defect called a pattern memory is likely to occur in that case. The pattern memory is a continuous output of a large amount of the image 301 including the vertical line 306 of FIG. 3 and then outputting the solid black image 302. The output solid black image is a repetition of the vertical line 306 of the image 301 of FIG. This is a phenomenon that the image 304 includes a vertical line 307 caused by a history. When the halftone image 303 is output after a large amount of the image 301 in FIG. 3 is continuously output, the vertical line caused by the repetition history of the vertical line 306 in the image 301 in FIG. 3 is output as in the case of the solid black image. This is a phenomenon that becomes an image 305 containing 308.

特許文献1及び2に記載されている導電層、及び、電子輸送層又は電子受容物質含有層を有する電子写真感光体では、導電層と電子輸送層との間に電荷が滞留しやすく、上記パターンメモリーが発生する場合があることがわかった。   In the electrophotographic photosensitive member having the conductive layer and the electron transport layer or the electron-accepting substance-containing layer described in Patent Documents 1 and 2, charges easily accumulate between the conductive layer and the electron transport layer, and the above pattern It was found that memory might occur.

そこで、導電層と電子輸送層との間における電荷の滞留を抑制するために、導電層に金属酸化物粒子の含有量を増やして電気抵抗を下げることが考えられる。しかしながら、このように導電層の電気抵抗を低下させると、電子輸送層の密着性が十分でなく、高い電圧が印加された場合に、電子写真感光体にリークが発生しやすくなることがわかった。リークとは、電子写真感光体の局所部分で絶縁破壊が発生し、その部分に過剰な電流が流れる現象のことである。リークが発生すると、電子写真感光体を十分に帯電することができず、黒点、横黒スジといった画像欠陥が生じる場合がある。   Therefore, in order to suppress charge retention between the conductive layer and the electron transport layer, it is conceivable to increase the content of metal oxide particles in the conductive layer to lower the electrical resistance. However, it has been found that when the electrical resistance of the conductive layer is lowered in this way, the adhesion of the electron transport layer is not sufficient, and leakage is likely to occur in the electrophotographic photosensitive member when a high voltage is applied. . Leakage is a phenomenon in which dielectric breakdown occurs in a local portion of the electrophotographic photosensitive member, and an excessive current flows through that portion. When leakage occurs, the electrophotographic photosensitive member cannot be sufficiently charged, and image defects such as black spots and horizontal black stripes may occur.

本発明の目的は、パターンメモリーが抑制され、かつ、リークが発生しにくい電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which pattern memory is suppressed and leakage is hardly generated, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

本発明は、積層体、該積層体上に形成されている電荷発生層、及び該電荷発生層上に形成されている正孔輸送層を有する電子写真感光体であって、
該積層体が、導電性支持体、該導電性支持体上に形成されている第一中間層、及び該第一中間層上に形成されている第二中間層を有し、
該第一中間層は、結着樹脂、及び有機化合物で表面処理された金属酸化物粒子を含有し、
該第二中間層は、電子輸送性を有する硬化物を含有し、
該積層体が下記式(1)
R_nV/R_0V ≦0.80 式(1)
(式中、
R_nVは、該第二中間層の表面上に膜厚300nm、直径12mmの円状の金電極を蒸着法で設け、該導電性支持体から該金電極へ−0.3V/μmの直流電界を印加しながら、該導電性支持体と該金電極との間に3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンスを表す。
The present invention is an electrophotographic photosensitive member having a laminate, a charge generation layer formed on the laminate, and a hole transport layer formed on the charge generation layer,
The laminate has a conductive support, a first intermediate layer formed on the conductive support, and a second intermediate layer formed on the first intermediate layer,
The first intermediate layer contains a binder resin and metal oxide particles surface-treated with an organic compound,
The second intermediate layer contains a cured product having electron transport properties,
The laminate is represented by the following formula (1)
R_nV / R_0V ≦ 0.80 Formula (1)
(Where
For R_nV, a circular gold electrode having a thickness of 300 nm and a diameter of 12 mm is provided on the surface of the second intermediate layer by vapor deposition, and a DC electric field of −0.3 V / μm is applied from the conductive support to the gold electrode. It represents the impedance measured by applying an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz between the conductive support and the gold electrode while applying.

R_0Vは、該第二中間層の表面上に膜厚300nm、直径12mmの円状の金電極を蒸着法で設け、該導電性支持体から該金電極へ0Vの直流電界を印加しながら、該導電性支持体と該金電極との間に3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンスを表す。)
を満たすことを特徴とする電子写真感光体である。
R_0V provides a circular gold electrode having a film thickness of 300 nm and a diameter of 12 mm on the surface of the second intermediate layer by vapor deposition, and applying a DC electric field of 0 V from the conductive support to the gold electrode, It represents impedance measured by applying an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz between the conductive support and the gold electrode. )
An electrophotographic photoreceptor characterized by satisfying the above.

また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジに関する。   The present invention also integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. The present invention relates to a process cartridge.

また、本発明は、上記電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置に関する。   The present invention also relates to an electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit.

本発明によれば、パターンメモリーが抑制され、かつ、リークが発生しにくい電子写真感光体、ならびに、その電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member in which pattern memory is suppressed and leakage is hardly generated, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge including an electrophotographic photosensitive member. 本発明の判定法を実施するための判定装置の概略構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of schematic structure of the determination apparatus for enforcing the determination method of this invention. パターンメモリーについて説明する図である。It is a figure explaining a pattern memory. 図4(A)は、第一中間層の体積抵抗率の測定方法を説明するための図(上面図)である。図4(B)は、図4(A)の断面図である。FIG. 4A is a diagram (top view) for explaining a method for measuring the volume resistivity of the first intermediate layer. FIG. 4B is a cross-sectional view of FIG. 1ドット桂馬パターン画像を説明する図である。It is a figure explaining a 1 dot Keima pattern image. 電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the layer structure of an electrophotographic photoreceptor. 本発明の判定法を実施した際の、R_nVとR_0Vの代表的な例を示す図である。It is a figure which shows the representative example of R_nV and R_0V at the time of implementing the determination method of this invention.

本発明の電子写真感光体は、積層体、積層体上に形成された電荷発生層、及び電荷発生層上に形成されている正孔輸送層を有する。積層体は、導電性支持体、導電性支持体上に形成されている第一中間層、及び第一中間層上記に形成されている第二中間層を有する。   The electrophotographic photoreceptor of the present invention has a laminate, a charge generation layer formed on the laminate, and a hole transport layer formed on the charge generation layer. The laminate has a conductive support, a first intermediate layer formed on the conductive support, and a second intermediate layer formed above.

そして、本発明の電子写真感光体は、積層体が下記式(1)
R_nV/R_0V≦0.80 式(1)
(式中、R_nVおよびR_0Vは、以下のようにして測定されるインピーダンスを表す。)
を満たすことを特徴とする。
In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the laminate is represented by the following formula (1).
R_nV / R_0V ≦ 0.80 Formula (1)
(In the formula, R_nV and R_0V represent impedances measured as follows.)
It is characterized by satisfying.

まず、積層体の第二中間層の表面上に膜厚が300nmであり、直径が12mmである円状の金電極を蒸着法で設ける。次に、導電性支持体から金電極へ−0.3V/μmの直流電界を印加しながら、導電性支持体と金電極との間に3.0×10−3V/μm及び0.1Hzの交流電界を印加してインピーダンスを測定する。−0.3V/μmの直流電界とは、第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚の単位厚み(μm)に対して、−0.3Vの直流電界を印加することである。3.0×10−3V/μmの交流電界とは、第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚の単位厚み(μm)に対して、3.0×10−3Vの交流電界を印加することである。また、3.0×10−3V/μmの交流電界の、正弦波のピーク・トゥー・ピーク値は6.0×10−3V/μmである。 First, a circular gold electrode having a thickness of 300 nm and a diameter of 12 mm is provided by vapor deposition on the surface of the second intermediate layer of the laminate. Next, while applying a DC electric field of −0.3 V / μm from the conductive support to the gold electrode, 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz between the conductive support and the gold electrode. Impedance is measured by applying an alternating electric field. The −0.3 V / μm DC electric field means that a −0.3 V DC electric field is applied to the unit thickness (μm) of the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer. . The AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm is 3.0 × 10 −3 V with respect to the unit thickness (μm) of the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer. An AC electric field is applied. The peak-to-peak value of the sine wave of the AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm is 6.0 × 10 −3 V / μm.

R_0Vは、以下のようにして測定されるインピーダンスを表す。まず、積層体の第二中間層の表面上に上述の金電極を蒸着法で設ける。次に、導電性支持体から金電極へ0Vの直流電界を印加しながら、導電性支持体と金電極との間に3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加してインピーダンスを測定する。 R_0V represents the impedance measured as follows. First, the above-mentioned gold electrode is provided on the surface of the second intermediate layer of the laminate by an evaporation method. Next, while applying a DC electric field of 0 V from the conductive support to the gold electrode, an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz is applied between the conductive support and the gold electrode. Apply and measure impedance.

まず、電子写真感光体が、上記式(1)の関係を満たすか否かを判定する判定法(以下「本発明の判定法」と称する。)について説明する。本発明の判定法を行うときの温度及び湿度条件は、電子写真感光体を有する電子写真装置を使用する環境下であればよい。好ましくは、常温常湿環境下(温度23℃±3℃、湿度50%±5%RH)である。   First, a determination method (hereinafter referred to as “determination method of the present invention”) for determining whether or not the electrophotographic photosensitive member satisfies the relationship of the above formula (1) will be described. The temperature and humidity conditions when performing the determination method of the present invention may be in an environment where an electrophotographic apparatus having an electrophotographic photosensitive member is used. Preferably, it is in a normal temperature and normal humidity environment (temperature 23 ° C. ± 3 ° C., humidity 50% ± 5% RH).

この測定法は、上記積層体を用いて行う。その際には、積層体、積層体上に形成された電荷発生層、及び電荷発生層上に形成された正孔輸送層を有する電子写真感光体から、正孔輸送層、電荷発生層を剥離して、積層体とし、これを測定対象として用いることが好ましい。正孔輸送層及び電荷発生層を剥離する方法としては、2種類の方法がある。1つ目の方法は、正孔輸送層及び電荷発生層を溶解し、第二中間層に難溶な溶媒を用いて電子写真感光体を浸漬し、正孔輸送層及び電荷発生層を剥離する方法である。2つ目の方法は、正孔輸送層及び電荷発生層を研磨する方法である。   This measuring method is performed using the above-mentioned laminate. In that case, the hole transport layer and the charge generation layer are peeled from the electrophotographic photosensitive member having the laminate, the charge generation layer formed on the laminate, and the hole transport layer formed on the charge generation layer. Thus, it is preferable to use a laminate and use it as a measurement target. There are two methods for peeling the hole transport layer and the charge generation layer. In the first method, the hole transport layer and the charge generation layer are dissolved, and the electrophotographic photosensitive member is immersed in the second intermediate layer using a hardly soluble solvent, and the hole transport layer and the charge generation layer are peeled off. Is the method. The second method is a method of polishing the hole transport layer and the charge generation layer.

正孔輸送層及び電荷発生層を溶解し、第二中間層に難溶な溶媒は、正孔輸送層用塗布液又は電荷発生層用塗布液に用いる溶媒であることが好ましい。その溶媒の種類は後述する。この溶媒中に電子写真感光体を浸漬し、正孔輸送層及び電荷発生層を溶媒に溶解し、その後乾燥することにより積層体を得ることが可能である。正孔輸送層及び電荷発生層が剥離できていることは、例えば、FT−IR測定方法の中のATR法(全反射法)によって、正孔輸送層及び電荷発生層の樹脂成分が観測されないことにより確認可能である。   The solvent that dissolves the hole transport layer and the charge generation layer and is hardly soluble in the second intermediate layer is preferably a solvent used for the hole transport layer coating solution or the charge generation layer coating solution. The type of the solvent will be described later. It is possible to obtain a laminate by immersing the electrophotographic photoreceptor in this solvent, dissolving the hole transport layer and the charge generation layer in the solvent, and then drying. The fact that the hole transport layer and the charge generation layer are peeled off means that, for example, the resin component of the hole transport layer and the charge generation layer is not observed by the ATR method (total reflection method) in the FT-IR measurement method. Can be confirmed.

また、正孔輸送層及び電荷発生層を研磨する方法としては、例えば、ラッピングテープ(C2000:富士写真フィルム(株)製)を用い、押し当て圧力0.005N/m2以上15N/m2以下に制御して研磨する方法が挙げられる。その際、電荷発生層を研磨しすぎて第二中間層まで研磨しないように、膜厚を順次測定し、電子写真感光体の表面を観察しながら正孔輸送層及び電荷発生層がすべて除去することが好ましい。また、電荷発生層を研磨し、さらに第二中間層の膜厚が0.10μm以上あるところまで研磨したときは、第二中間層までは研磨しない場合と比較しても、上述の判定法でほぼ同じ値が得られることは確認されている。したがって、正孔輸送層及び電荷発生層だけでなく、第二中間層まで研磨しても、第二中間層の膜厚が0.10μm以上ある場合は、上述の判定法を用いることが可能である。   Further, as a method for polishing the hole transport layer and the charge generation layer, for example, a wrapping tape (C2000: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is used, and the pressing pressure is controlled to 0.005 N / m 2 or more and 15 N / m 2 or less. And a polishing method. At that time, measure the film thickness sequentially so that the charge generation layer is not excessively polished and not polished to the second intermediate layer, and the hole transport layer and the charge generation layer are all removed while observing the surface of the electrophotographic photoreceptor. It is preferable. In addition, when the charge generation layer is polished and the second intermediate layer is further polished to a thickness of 0.10 μm or more, the above determination method is used even if the second intermediate layer is not polished. It has been confirmed that almost the same value can be obtained. Therefore, if the second intermediate layer has a film thickness of 0.10 μm or more, not only the hole transport layer and the charge generation layer but also the second intermediate layer, the above-described determination method can be used. is there.

図2に、本発明の判定法を実施するための判定装置の概略構成の一例を示す。図2中、2cm(周方向)×4cm(長軸方向)に切り出した積層体101を測定対象とする。積層体の第二中間層の表面上に蒸着法により、直径が12mmであり、膜厚が300nmである円状の金電極102を設ける。金電極を蒸着する方法は、SANYU DENSHI社製のQuick Auto Coater(SC−707AT)を使用することが可能である。第二中間層の表面に金ターゲットを配置した構成で、20mAの放電電流を維持するように膜厚300nmになるまで蒸着を行い、金電極を作製する。導線105が第二中間層上の金電極と導電性支持体とに接続されていることを示し、導線105にインピーダンス測定機103が接続されている。インピーダンス測定機としては、例えば、東陽テクニカ社製のSI−1287−electrochemical−interface、SI−1260−impedance−gain−phase−analyzer、1296−dielectric−interfaceを組み合わせた測定モジュールを用いる。   In FIG. 2, an example of schematic structure of the determination apparatus for enforcing the determination method of this invention is shown. In FIG. 2, a laminate 101 cut out at 2 cm (circumferential direction) × 4 cm (long axis direction) is set as a measurement target. A circular gold electrode 102 having a diameter of 12 mm and a film thickness of 300 nm is provided on the surface of the second intermediate layer of the laminate by vapor deposition. As a method for depositing the gold electrode, Quick Auto Coater (SC-707AT) manufactured by SANYU DENSHI can be used. With a configuration in which a gold target is disposed on the surface of the second intermediate layer, vapor deposition is performed until the film thickness reaches 300 nm so as to maintain a discharge current of 20 mA, thereby producing a gold electrode. It shows that the conductive wire 105 is connected to the gold electrode on the second intermediate layer and the conductive support, and the impedance measuring machine 103 is connected to the conductive wire 105. As the impedance measuring device, for example, a measurement module combining SI-1287-electrochemical-interface, SI-1260-impedance-gain-phase-analyzer, and 1296-dielectric-interface manufactured by Toyo Technica is used.

本発明における、インピーダンスの測定は、図2の装置全体を室内光から遮断して行う。式中、R_0Vは、「DC Level」に0Vという値を設定して、導電性支持体から金電極へ0Vの直流電界を印加する。さらに、「AC Level」に第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚の厚みから、3.0×10−3V/μmになるように値を設定して、導電性支持体と金電極との間に3.0×10−3V/μmの交流電界を印加する。次に、交流電界の周波数を高周波の1MHzから低周波の0.1Hzに掃引してインピーダンスを測定し、0.1Hzにおけるインピーダンス(R_0V)が得られる。つまり、R_0Vは、導電性支持体から金電極へ0Vの直流電界を印加し、導電性支持体と金電極との間に3.0×10−3V/μm、0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンスを表す。 In the present invention, the impedance is measured by blocking the entire apparatus of FIG. 2 from room light. In the formula, R_0V sets a value of 0V to “DC Level” and applies a DC electric field of 0V from the conductive support to the gold electrode. Furthermore, the value is set so as to be 3.0 × 10 −3 V / μm from the thickness of the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer on “AC Level”, and the conductive support An AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm is applied between the electrode and the gold electrode. Next, the impedance is measured by sweeping the frequency of the alternating electric field from 1 MHz, which is a high frequency, to 0.1 Hz, which is a low frequency, and an impedance (R_0V) at 0.1 Hz is obtained. That is, R_0V applies a DC electric field of 0 V from the conductive support to the gold electrode, and an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm, 0.1 Hz is applied between the conductive support and the gold electrode. It represents the impedance measured when applied.

次に、R_nVは、「DC Level」に第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚の厚みから−0.3V/μmになるように値を設定して、導電性支持体から金電極へ−0.3V/μmの直流電界を印加する。さらに、「AC Level」に第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚の厚みから、3.0×10−3V/μmになるように3.0×10−3V/μmという値を設定して、導電性支持体と金電極との間に3.0×10−3V/μmの交流電界を印加する。次に、交流電界の周波数を高周波の1MHzから低周波の0.1Hzに掃引してインピーダンスを測定し、0.1Hzにおけるインピーダンス(R_nV)が得られる。つまり、R_nVは、導電性支持体から金電極へ−0.3V/μmの直流電界を印加しながら、導電性支持体と金電極間とのに3.0×10−3V/μm、0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンスを表す。 Next, R_nV is set to a value of −0.3 V / μm from the thickness of the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer in “DC Level”, and from the conductive support. A DC electric field of −0.3 V / μm is applied to the gold electrode. Furthermore, from the thickness of the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer on “AC Level”, 3.0 × 10 −3 V / μm so as to be 3.0 × 10 −3 V / μm. The AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm is applied between the conductive support and the gold electrode. Next, the impedance is measured by sweeping the frequency of the alternating electric field from 1 MHz, which is a high frequency, to 0.1 Hz, which is a low frequency, and the impedance (R_nV) at 0.1 Hz is obtained. That is, R_nV is 3.0 × 10 −3 V / μm between the conductive support and the gold electrode while applying a direct electric field of −0.3 V / μm from the conductive support to the gold electrode. Represents the impedance measured by applying an alternating electric field of 1 Hz.

図7に、R_nVとR_0Vの代表的な例を示す。なお、縦軸およびよそ軸は、対数目盛である。図7では、上述の方法により測定されたインピーダンス(R_nV及びR_0V)の周波数依存性が示されている。特に、低周波数側で、印加する直流電界の大きさの違いにより、インピーダンスの変化が大きくなっている。すなわち、0.1Hzにおいて、R_nV/R_0Vの比が0.80以下となることを表している。   FIG. 7 shows representative examples of R_nV and R_0V. The vertical axis and the other axis are logarithmic scales. In FIG. 7, the frequency dependence of the impedance (R_nV and R_0V) measured by the above-mentioned method is shown. In particular, on the low frequency side, the change in impedance is large due to the difference in the magnitude of the applied DC electric field. That is, it represents that the ratio of R_nV / R_0V is 0.80 or less at 0.1 Hz.

本発明では、パターンメモリーを抑制するには、R_nV/R_0Vの比が0.80以下となる。本発明者らは、本発明の積層体が上記式(1)を満足することによってパターンメモリーが抑制される理由を以下のように推測している。   In the present invention, in order to suppress the pattern memory, the ratio of R_nV / R_0V is 0.80 or less. The present inventors presume the reason why the pattern memory is suppressed when the laminate of the present invention satisfies the above formula (1) as follows.

パターンメモリーは、第一中間層及び第二中間層間に良好な導電パスが広範囲に形成されることで抑制されると考えられる。つまり、第二中間層中に滞留した電荷(電子)が、均一に第一中間層に注入されることでパターンメモリーが抑制されると考えられる。この理由として、第一中間層中の局所的な電荷の滞留又は蓄積が抑制され、電荷の流れがスムーズになっていると考えられる。   The pattern memory is considered to be suppressed by forming a good conductive path in a wide range between the first intermediate layer and the second intermediate layer. That is, it is considered that the charge (electrons) staying in the second intermediate layer is uniformly injected into the first intermediate layer, thereby suppressing the pattern memory. The reason for this is considered to be that the local charge accumulation or accumulation in the first intermediate layer is suppressed, and the flow of charges is smooth.

本発明の電子写真感光体において、露光光(画像露光光)が当たった部分では、電荷発生層で発生した電荷(正孔及び電子)のうち、正孔は正孔輸送層に注入し、電子は第二中間層及び第一中間層に注入し、導電性支持体へ移動する。しかしながら、光励起によって電荷発生層中に生じた電子が、次の帯電までに第二中間層及び第一中間層を移動しきれないと第一中間層、第二中間層界面に電子が滞留し、次の帯電時にもなお電子移動が生じてしまう。これらの現象は、電子写真感光体の繰り返し使用時に発生しやすく、第一中間層と第二中間層との界面に滞留する電子が増加していきやすい。滞留する電子の増加は、第一中間層及び第二中間層間の伝導準位の障壁、又は、トラップ準位に電荷がトラップされることに起因すると考えられる。第一中間層と第二中間層との界面に電子が滞留することによって生じる移動の遅い電子が、前述したパターンメモリーを発生させる原因であると考えている。   In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, in the portion exposed to the exposure light (image exposure light), among the charges (holes and electrons) generated in the charge generation layer, the holes are injected into the hole transport layer, and the electrons Is injected into the second intermediate layer and the first intermediate layer and moves to the conductive support. However, if the electrons generated in the charge generation layer by photoexcitation cannot move through the second intermediate layer and the first intermediate layer before the next charging, the electrons stay at the interface between the first intermediate layer and the second intermediate layer, Electron movement still occurs at the next charging. These phenomena are likely to occur when the electrophotographic photosensitive member is repeatedly used, and the electrons staying at the interface between the first intermediate layer and the second intermediate layer are likely to increase. The increase of the staying electrons is considered to be caused by the trapping of electric charges in the conduction level barrier or the trap level between the first intermediate layer and the second intermediate layer. It is considered that the slow-moving electrons generated by the electrons staying at the interface between the first intermediate layer and the second intermediate layer cause the pattern memory described above.

この電子の滞留を抑制するため、第一中間層に有機化合物で表面処理された金属酸化物粒子、結着樹脂を含有し、第二中間層に電子輸送性を有する硬化物(電子輸送性硬化物)を含有する。この構成にすることで、第一中間層の金属酸化物粒子による導電性と、第二中間層の電子輸送性を有する硬化物により、電子の滞留が低減されていると考えられる。しかしながら、第一中間層及び第二中間層を有する電子写真感光体では、パターンメモリーが十分に抑制されない場合があるため、さらに、上記式(1)を満足することが必要である。   In order to suppress the retention of electrons, the first intermediate layer contains a metal oxide particle surface-treated with an organic compound and a binder resin, and the second intermediate layer has a cured product (electron transport curing). Product). With this configuration, it is considered that the retention of electrons is reduced by the cured product having the conductivity of the metal oxide particles of the first intermediate layer and the electron transport property of the second intermediate layer. However, in the electrophotographic photosensitive member having the first intermediate layer and the second intermediate layer, the pattern memory may not be sufficiently suppressed, and it is further necessary to satisfy the above formula (1).

積層体が上記式(1)を満たすと、第二中間層と第一中間層との界面で電子の受け渡しが促進されていると考えられる。本発明では、電荷発生層及び正孔輸送層を有する電子写真感光体を用いてインピーダンスを測定すると、第二中間層と第一中間層との界面での電子の移動を正しく捉えにくくなるため、積層体を用いて本発明の評価法を行う必要がある。しかし、積層体には、電荷発生層がないため、光励起によって電荷発生層中に生じる電子が発生しない。そこで、上記本発明の評価法で説明したように、−0.3V/μmの直流電界を積層体に印加することによって、擬似的に光励起によって電荷発生層中に生じる電子を現わしていると考えている。つまり、第一中間層と第二中間層との間に、特定の直流電界を印加することで、第二中間層のトラップ準位に蓄積していた電子が放出され第二中間層の伝導準位から第一中間層の伝導準位を移動していくと考えている。   When the laminate satisfies the above formula (1), it is considered that the transfer of electrons is promoted at the interface between the second intermediate layer and the first intermediate layer. In the present invention, when impedance is measured using an electrophotographic photosensitive member having a charge generation layer and a hole transport layer, it becomes difficult to correctly capture the movement of electrons at the interface between the second intermediate layer and the first intermediate layer. It is necessary to perform the evaluation method of the present invention using the laminate. However, since the laminate does not have a charge generation layer, electrons generated in the charge generation layer by photoexcitation are not generated. Therefore, as described in the evaluation method of the present invention, when a DC electric field of −0.3 V / μm is applied to the laminate, the electrons generated in the charge generation layer by pseudo photoexcitation are revealed. thinking. In other words, by applying a specific DC electric field between the first intermediate layer and the second intermediate layer, electrons accumulated in the trap level of the second intermediate layer are emitted, and the conduction level of the second intermediate layer is released. It is thought that the conduction level of the first intermediate layer moves from the position.

そして、本発明の判定法において、−0.3V/μmの直流電界を印加しても、0Vの直流電界を印加したときと変化しないならば、第二中間層から第一中間層への電子の注入が不十分であり、電子が滞留し、移動の遅い電子が増加する傾向にある。その傾向は、R_nV/R_0Vの値が0.80より大きいある場合にあたると考えている。他方、−0.3V/μmの直流電界を印加した状態で、0Vの直流電界を印加したときと比べて、インピーダンスの値が小さくなるならば、第二中間層から第一中間層への電子の注入が十分に行われていると考えられる。このことにより、第二中間層中に移動の遅い電子が増加することが抑制され、電子の滞留が低減されていると考えられる。   In the determination method of the present invention, if a −0.3 V / μm DC electric field is applied and does not change when a 0 V DC electric field is applied, electrons from the second intermediate layer to the first intermediate layer Insufficient injection of electrons tends to retain electrons and increase the number of slow moving electrons. The tendency is considered to be when the value of R_nV / R_0V is greater than 0.80. On the other hand, if the value of impedance is smaller when a DC electric field of −0.3 V / μm is applied than when a DC electric field of 0 V is applied, electrons from the second intermediate layer to the first intermediate layer It is considered that the injection of this is sufficiently performed. As a result, it is considered that the slow movement of electrons in the second intermediate layer is suppressed, and the retention of electrons is reduced.

この移動の遅い電子の増加の程度は、低周波数でのインピーダンスに着目することで判別することが可能である。本発明の評価法では低周波数として、0.1Hzに着目しているが、0.1Hzよりも低周波であればいずれの周波数であっても、この移動の遅い電子のインピーダンスを表現することが可能であると考えられる。本発明では、0.1Hzにおけるインピーダンスで、移動の遅い電子のインピーダンスをみている。0.1Hzは、およそ10秒間の周期であり、電子写真感光体の繰り返し使用を通して、およそ10秒間の周期で電界に応答する電子が第二中間層と第一中間層との界面に滞留し、パターンメモリーが発生しやすい状態を表現していると考えられる。   The degree of the slow movement of electrons can be determined by paying attention to the impedance at a low frequency. In the evaluation method of the present invention, attention is paid to 0.1 Hz as a low frequency. However, any frequency that is lower than 0.1 Hz can express the impedance of this slow moving electron. It is considered possible. In the present invention, the impedance of electrons that move slowly is observed at an impedance of 0.1 Hz. 0.1 Hz is a period of about 10 seconds, and through repeated use of the electrophotographic photosensitive member, electrons that respond to an electric field with a period of about 10 seconds stay at the interface between the second intermediate layer and the first intermediate layer, It is thought that it represents a state where pattern memory is likely to occur.

上記式(1)を満たすと、移動の遅い電子の増加が抑制するような注入性が良好な状態を示す。そして、電子写真感光体の繰り返し使用時において、電子の滞留が低減され、パターンメモリーを低減することができると考えている。   When the above formula (1) is satisfied, a good injection property is exhibited such that an increase in slowly moving electrons is suppressed. Then, it is considered that the retention of electrons is reduced and the pattern memory can be reduced when the electrophotographic photosensitive member is repeatedly used.

特開2005−189764号公報には、下引き層(第二中間層)の電荷移動度を10−7cm/V・sec以上にすることが記載されている。しかしながら、特開2005−189764号公報に記載の電子写真感光体は、電子の移動の早さをより早く改善することを目的としており、移動の遅い電子が増加することを抑制するものではないと考えられる。さらに、特開2005−189764号公報では、第二中間層の電子移動度を測定するために、電荷発生層上に第二中間層を形成し、電子写真感光体で用いられる層構成とは逆の構成にして、測定を行っている。しかしながら、このような測定では、電子写真感光体が有する第二中間層の電子の移動を十分に評価できているものと言えるものではなかった。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-189964 describes that the charge mobility of the undercoat layer (second intermediate layer) is 10 −7 cm 2 / V · sec or more. However, the electrophotographic photosensitive member described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-189664 is intended to improve the speed of electron movement more quickly, and does not suppress an increase in electrons that move slowly. Conceivable. Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-189964, in order to measure the electron mobility of the second intermediate layer, a second intermediate layer is formed on the charge generation layer, which is opposite to the layer configuration used in the electrophotographic photoreceptor. The measurement is performed in the configuration of However, in such a measurement, it cannot be said that the movement of electrons in the second intermediate layer of the electrophotographic photosensitive member can be sufficiently evaluated.

例えば、第二中間層に電子輸送物質を含有させて電子輸送層とする場合は、上層である電荷発生層用塗布液及び正孔輸送層用塗布液を塗布して電荷発生層及び正孔輸送層を形成する時に、電子輸送物質が溶出してしまう場合がある。この場合では、上述のように第二中間層と電荷発生層を逆層として電子移動度を測定しても、電子輸送物質が溶出しているため、第二中間層の電子の移動を十分に評価できていないと考えられる。したがって、本発明の層構成を有する積層体を用いて、本発明の評価法で判定することが必要であると考えている。   For example, when an electron transport material is contained in the second intermediate layer to form an electron transport layer, a charge generation layer coating solution and a hole transport layer coating solution are applied to the charge generation layer and the hole transport layer. When the layer is formed, the electron transport material may be eluted. In this case, even when the electron mobility is measured using the second intermediate layer and the charge generation layer as the opposite layers as described above, the electron transport material is eluted, so that the electron transfer of the second intermediate layer is sufficiently performed. It is thought that it has not been evaluated. Therefore, it is thought that it is necessary to determine by the evaluation method of the present invention using the laminate having the layer structure of the present invention.

本発明において、R_nV/R_0Vの値が、下記式(2)を満足すると、パターンメモリーをより低減できるため、好ましい。また、R_nV/R_0Vの値が小さいほどパターンメモリー低減効果がより得られるため、0より大きければよい。
0.40≦R_nV/R_0V ≦0.75 式(2)
本発明の電子写真感光体は、積層体、積層体上に形成されている電荷発生層、及び電荷発生層上に形成されている正孔輸送層を有する。積層体は、導電性支持体、導電性支持体上に形成されている第一中間層、及び第一中間層上に形成されている第二中間層を有する。
In the present invention, it is preferable that the value of R_nV / R_0V satisfies the following formula (2) because the pattern memory can be further reduced. Further, the smaller the value of R_nV / R_0V is, the more effect of reducing the pattern memory is obtained.
0.40 ≦ R_nV / R_0V ≦ 0.75 Formula (2)
The electrophotographic photoreceptor of the present invention has a laminate, a charge generation layer formed on the laminate, and a hole transport layer formed on the charge generation layer. The laminate has a conductive support, a first intermediate layer formed on the conductive support, and a second intermediate layer formed on the first intermediate layer.

図6は、電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図6中、電子写真感光体は、導電性支持体701、第一中間層702、第二中間層703、電荷発生層704、及び正孔輸送層705を有する。   FIG. 6 is a diagram showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member. In FIG. 6, the electrophotographic photosensitive member includes a conductive support 701, a first intermediate layer 702, a second intermediate layer 703, a charge generation layer 704, and a hole transport layer 705.

一般的な電子写真感光体として、円筒状の導電性支持体上に感光層(電荷発生層、正孔輸送層)を形成している電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状、シート状といった形状とすることも可能である。   As a general electrophotographic photoreceptor, an electrophotographic photoreceptor in which a photosensitive layer (a charge generation layer, a hole transport layer) is formed on a cylindrical conductive support is widely used. It is also possible to have a shape such as

〔第一中間層〕
第一中間層は、結着樹脂、及び、有機化合物で表面処理された金属酸化物粒子を含有する。
[First intermediate layer]
The first intermediate layer contains a binder resin and metal oxide particles surface-treated with an organic compound.

結着樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。これらは1種又は2種以上用いることが可能である。また、これらの結着樹脂の中でも、他の層を形成するために用いる塗布液中の溶剤に対する耐性、導電性支持体に対する密着性、金属酸化物粒子の分散性・分散安定性という観点から、硬化性樹脂が好ましい。より好ましくは、熱硬化性樹脂である。熱硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性のフェノール樹脂、熱硬化性のポリウレタン樹脂が挙げられる。第一中間層の結着樹脂として硬化性樹脂を用いる場合は、第一中間層用塗布液には、硬化性樹脂のモノマー及び/又はオリゴマーを含有させる。   Examples of the binder resin include phenol resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyvinyl acetal resin, epoxy resin, acrylic resin, melamine resin, and polyester resin. These can be used alone or in combination of two or more. Among these binder resins, from the viewpoints of resistance to a solvent in a coating solution used for forming other layers, adhesion to a conductive support, dispersibility / dispersion stability of metal oxide particles, A curable resin is preferred. More preferably, it is a thermosetting resin. Examples of the thermosetting resin include a thermosetting phenol resin and a thermosetting polyurethane resin. When a curable resin is used as the binder resin for the first intermediate layer, the first intermediate layer coating solution contains a monomer and / or an oligomer of the curable resin.

金属酸化物粒子を表面処理するために用いる有機化合物としては、特に限定されるものではなく、公知の表面処理剤のうち有機化合物であるものから選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤が挙げられる。好ましくは、アルコキシシリル基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、又はチオール基を有する有機化合物が挙げられる。電子写真特性の観点から、シランカップリング剤であることがより好ましい。   It does not specifically limit as an organic compound used in order to surface-treat a metal oxide particle, It selects from what is an organic compound among well-known surface treatment agents. Examples include silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, and surfactants. Preferably, an organic compound having an alkoxysilyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxy group, or a thiol group is used. From the viewpoint of electrophotographic characteristics, a silane coupling agent is more preferable.

上記有機化合物の分子量は100〜1000の範囲であることが好ましい。この範囲内であると、リークの抑制効果と、残留電荷の蓄積の低減をより向上させることが可能である。   The molecular weight of the organic compound is preferably in the range of 100 to 1000. Within this range, it is possible to further improve the effect of suppressing leakage and the reduction of residual charge accumulation.

アルコキシシリル基を有する化合物としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシランが挙げられる。   Examples of the compound having an alkoxysilyl group include γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyl. Examples include dimethoxysilane and N, N-bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane.

アミノ基を有する化合物としては、例えば、ヘキシルアミン、n−オクチルアミン、n−デシルアミン、1−アミノドデカン、1−テトラデシルアミン、1−ヘキサデシルアミンが挙げられる。   Examples of the compound having an amino group include hexylamine, n-octylamine, n-decylamine, 1-aminododecane, 1-tetradecylamine, and 1-hexadecylamine.

エポキシ基を有する化合物としては、例えば、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポキシヘプタン、1,2−エポキシオクタン、1,2−エポキシノナン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシウンデカン、1,2−エポキシドデカン、1,2−エポキシトリデカン、1,2−エポキシテトラデカン、1,2−エポキシペンタデカンが挙げられる。   Examples of the compound having an epoxy group include 1,2-epoxyhexane, 1,2-epoxyheptane, 1,2-epoxyoctane, 1,2-epoxynonane, 1,2-epoxydecane, and 1,2-epoxy. Examples include undecane, 1,2-epoxydodecane, 1,2-epoxytridecane, 1,2-epoxytetradecane, and 1,2-epoxypentadecane.

カルボキシル基を有する化合物としては、例えば、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸が挙げられる。   Examples of the compound having a carboxyl group include heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, undecanoic acid, dodecanoic acid, tridecanoic acid, tetradecanoic acid, pentadecanoic acid and hexadecanoic acid.

ヒドロキシ基を有する化合物としては、例えば、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、1−ノナノール、1−デカノール、1−ウンデカノール、1−ドデカノール、1−トリデカノール、1−テトラデカノール、1−ペンタデカノールが挙げられる。   Examples of the compound having a hydroxy group include 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 1-nonanol, 1-decanol, 1-undecanol, 1-dodecanol, 1-tridecanol, 1-tetradecanol, 1- Examples include pentadecanol.

チオール基を有する化合物としては、例えば、1−ヘキサンチオール、1−ヘプタンチオール、1−オクタンチオール、1−ノナンチオール、1−デカンチオール、1−ウンデカンチオール、1−ドデカンチオール、1−トリデカンチオール、1−テトラデカンチオール、1−ペンタデカンチオールが挙げられる。   Examples of the compound having a thiol group include 1-hexanethiol, 1-heptanethiol, 1-octanethiol, 1-nonanethiol, 1-decanethiol, 1-undecanethiol, 1-dodecanethiol, 1-tridecanethiol. , 1-tetradecanethiol, 1-pentadecanethiol.

金属酸化物粒子を上記のような有機化合物で表面処理を行うことで、第一中間層中における金属酸化物粒子の分散状態を安定的に維持することが可能であり、第一中間層に均一な導電パスを形成することが可能であると考えられる。これにより、局所的な導電パスに電流が集中することが抑制され、リークが抑制されると考えている。   By subjecting the metal oxide particles to a surface treatment with the organic compound as described above, it is possible to stably maintain the dispersion state of the metal oxide particles in the first intermediate layer, and to uniformly distribute the first intermediate layer. It is considered possible to form a conductive path. Thereby, it is considered that the current is suppressed from being concentrated on the local conductive path, and the leakage is suppressed.

金属酸化物粒子を表面処理する表面処理方法は、公知の方法が挙げられ、乾式法又は湿式法が用いられる。   The surface treatment method for surface-treating the metal oxide particles includes known methods, and a dry method or a wet method is used.

乾式法にて、金属酸化物粒子に表面処理する場合には、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサで攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた有機化合物を添加し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって表面処理される。添加又は噴霧する際には、有機溶媒の沸点以下の温度で行われることが好ましい。添加又は噴霧した後、更に温度100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間は任意の範囲で実施される。   When surface treatment is performed on metal oxide particles by a dry method, an organic compound dissolved in an organic solvent is added while stirring the metal oxide particles with a mixer having a large shearing force, and dry air or nitrogen is added. Surface treatment is performed by spraying with gas. The addition or spraying is preferably performed at a temperature not higher than the boiling point of the organic solvent. After addition or spraying, baking may be further performed at a temperature of 100 ° C. or higher. The baking temperature and time are carried out in an arbitrary range.

また、湿式法としては、金属酸化物粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルを用いて分散し、有機化合物を添加し攪拌又は分散した後、有機溶剤を除去することで表面処理をおこなう。有機溶剤を除去する方法としては、ろ過又は蒸留により留去する方法がある。有機溶剤除去した後には、さらに温度100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。   In addition, as a wet method, metal oxide particles are stirred in a solvent, dispersed using an ultrasonic wave, a sand mill, an attritor, or a ball mill, added with an organic compound, stirred or dispersed, and then the organic solvent is removed. Perform surface treatment. As a method of removing the organic solvent, there is a method of distilling off by filtration or distillation. After removing the organic solvent, baking may be performed at a temperature of 100 ° C. or higher. The baking is not particularly limited as long as it is a temperature and time for obtaining electrophotographic characteristics.

第一中間層中の金属酸化物粒子を表面処理する際に用いる有機化合物の添加量は、金属酸化物粒子に対して、0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。   The addition amount of the organic compound used when surface-treating the metal oxide particles in the first intermediate layer is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the metal oxide particles.

金属酸化物粒子としては、例えば、酸化亜鉛、鉛白、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズの粒子が挙げられる。これらの中でも、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタンの粒子が好ましい。特に、酸化チタン粒子は、可視光及び近赤外光に対してほとんど吸収されず、白色であるため、高感度化の観点から好ましい。また、上記の金属酸化物粒子の中から2種類以上の金属酸化物粒子を選択して併用してもよい。   Examples of the metal oxide particles include zinc oxide, lead white, aluminum oxide, indium oxide, silicon oxide, zirconium oxide, tin oxide, titanium oxide, magnesium oxide, antimony oxide, bismuth oxide, tin-doped indium oxide and antimony. And tin oxide particles doped with tantalum. Among these, particles of zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide are preferable. In particular, titanium oxide particles are hardly absorbed with respect to visible light and near-infrared light, and are white, which is preferable from the viewpoint of increasing sensitivity. Two or more kinds of metal oxide particles may be selected from the above metal oxide particles and used in combination.

酸化チタンの結晶型として、例えば、ルチル型、アナターゼ型、ブルカイト型及びアモルファス型があり、いずれの結晶型を用いてもよい。また、針状結晶、粒状結晶の酸化チタン粒子も用いてもよい。より好ましくは、ルチル型の酸化チタン結晶の粒子である。   Examples of the crystal type of titanium oxide include a rutile type, anatase type, brookite type, and amorphous type, and any crystal type may be used. Moreover, you may also use the titanium oxide particle of a needle-like crystal and a granular crystal. More preferably, the particles are rutile type titanium oxide crystals.

金属酸化物粒子の個数基準の平均一次粒径は、リークの抑制とパターンメモリーの抑制の観点から、0.05〜1μmであることが好ましく、0.1〜0.5μmであることがより好ましい。   The average primary particle size based on the number of metal oxide particles is preferably 0.05 to 1 μm, and more preferably 0.1 to 0.5 μm, from the viewpoint of suppressing leakage and suppressing pattern memory. .

第一中間層は、溶剤、結着樹脂、及び有機化合物で表面処理された金属酸化物粒子を含有する第一中間層用塗布液を導電性支持体上に塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥及び/又は硬化させることによって形成することが可能である。   The first intermediate layer is formed by applying a coating solution for the first intermediate layer containing a metal oxide particle surface-treated with a solvent, a binder resin, and an organic compound on a conductive support, It can be formed by drying and / or curing the resulting coating.

第一中間層用塗布液は、有機化合物で表面処理された金属酸化物粒子を結着樹脂とともに溶剤に分散させることによって調製可能である。分散方法としては、例えば、ペイントシェーカー、サンドミル、ボールミル、液衝突型高速分散機を用いた方法が挙げられる。   The first intermediate layer coating liquid can be prepared by dispersing metal oxide particles surface-treated with an organic compound in a solvent together with a binder resin. Examples of the dispersion method include a method using a paint shaker, a sand mill, a ball mill, and a liquid collision type high-speed disperser.

第一中間層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールといったアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノンといったケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルといったエーテル、酢酸メチル、酢酸エチルといったエステル、トルエン、キシレンといった芳香族炭化水素が挙げられる。   Examples of the solvent used in the first intermediate layer coating solution include alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether, Examples thereof include esters such as methyl acetate and ethyl acetate, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene.

また、干渉縞が発生することを抑制するため、第一中間層には、表面粗し付与材を含有させてもよい。表面粗し付与材としては、個数平均粒径が1μm以上5μm以下の樹脂粒子が好ましい。樹脂粒子としては、例えば、硬化性ゴム、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル、シリコーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂が挙げられる。また、第一中間層には、レベリング剤や顔料粒子を含有させてもよい。   Further, in order to suppress the generation of interference fringes, the first intermediate layer may contain a surface roughening imparting material. As the surface roughening material, resin particles having a number average particle diameter of 1 μm or more and 5 μm or less are preferable. Examples of the resin particles include curable rubber, polyurethane, epoxy resin, alkyd resin, phenol resin, polyester, silicone resin, and acryl-melamine resin. Further, the first intermediate layer may contain a leveling agent or pigment particles.

第一中間層の膜厚は2μm以上40μm以下が好ましく、10μm以上30μm以下がより好ましい。   The film thickness of the first intermediate layer is preferably 2 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 30 μm or less.

なお、第一中間層を含む電子写真感光体の各層の膜厚の測定装置として、(株)フィッシャーインストルメンツ製のFISHERSCOPE mmsを用いた。   In addition, as a device for measuring the film thickness of each layer of the electrophotographic photosensitive member including the first intermediate layer, Fisherscope mms manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd. was used.

第一中間層の体積抵抗率は1.0×10Ω・cm以上であることが好ましい。さらに、第一中間層の体積抵抗率は、1.0×1015Ω・cm以下であることが好ましい。以上の範囲だと、電子写真感光体の帯電・露光時に第一中間層に流れる電荷が多くなりすぎず、電子写真感光体のリークがより発生しにくくなる。より好ましくは、3.7×1011Ω・cm以上3.1×1014Ω・cm以下である。 The volume resistivity of the first intermediate layer is preferably 1.0 × 10 8 Ω · cm or more. Furthermore, the volume resistivity of the first intermediate layer is preferably 1.0 × 10 15 Ω · cm or less. Within the above range, the charge flowing through the first intermediate layer at the time of charging / exposure of the electrophotographic photosensitive member does not increase so much that the leakage of the electrophotographic photosensitive member is less likely to occur. More preferably, it is 3.7 × 10 11 Ω · cm or more and 3.1 × 10 14 Ω · cm or less.

次に、第一中間層の体積抵抗率を測定する方法を説明する。図4(A)は、第一中間層の体積抵抗率を測定する方法を説明するための上面図であり、図4(B)は、第一中間層の体積抵抗率を測定する方法を説明するための断面図である。   Next, a method for measuring the volume resistivity of the first intermediate layer will be described. FIG. 4A is a top view for explaining a method of measuring the volume resistivity of the first intermediate layer, and FIG. 4B explains a method of measuring the volume resistivity of the first intermediate layer. It is sectional drawing for doing.

第一中間層の体積抵抗率は、常温常湿環境下(温度23℃±3℃、湿度50%±5%RH)において測定する。第一中間層202の表面に銅製テープ203(住友スリーエム(株)製、型番No.1181)を貼り、これを第一中間層202の表面側の電極とする。また、支持体(導電性支持体)201を第一中間層202の裏面側の電極とする。銅製テープ203と支持体201との間に電圧を印加するための電源206、及び、銅製テープ203と支持体201との間を流れる電流を測定するための電流測定機器207を設置する。また、銅製テープ203に電圧を印加するため、まず銅製テープ203の上に銅線204を載せる。そして、銅線204が銅製テープ203からはみ出さないように銅線204の上から銅製テープ203と同様の銅製テープ205を貼り、銅製テープ203に銅線204を固定する。銅製テープ203には、銅線204を用いて電圧を印加する。   The volume resistivity of the first intermediate layer is measured in a normal temperature and normal humidity environment (temperature 23 ° C. ± 3 ° C., humidity 50% ± 5% RH). A copper tape 203 (manufactured by Sumitomo 3M Limited, model number No. 1181) is attached to the surface of the first intermediate layer 202, and this is used as an electrode on the surface side of the first intermediate layer 202. The support (conductive support) 201 is an electrode on the back surface side of the first intermediate layer 202. A power source 206 for applying a voltage between the copper tape 203 and the support 201 and a current measuring device 207 for measuring a current flowing between the copper tape 203 and the support 201 are installed. In order to apply a voltage to the copper tape 203, first, the copper wire 204 is placed on the copper tape 203. And the copper tape 205 similar to the copper tape 203 is stuck on the copper wire 204 so that the copper wire 204 does not protrude from the copper tape 203, and the copper wire 204 is fixed to the copper tape 203. A voltage is applied to the copper tape 203 using a copper wire 204.

銅製テープ203と支持体201との間に電圧を印加しないときのバックグラウンド電流値をI(A)とし、直流電圧(直流成分)のみの電圧を−1V印加したときの電流値をI(A)とする。そして、第一中間層202の膜厚d(cm)、第一中間層202の表面側の電極(銅製テープ203)の面積をS(cm)とするとき、下記式(3)ρ=1/(I−I)×S/d(Ω・cm) ・・・(3)
で表される値を第一中間層202の体積抵抗率ρ(Ω・cm)とする。
The background current value when no voltage is applied between the copper tape 203 and the support 201 is I 0 (A), and the current value when a voltage of only a DC voltage (DC component) is applied by −1 V is I ( A). When the film thickness d (cm) of the first intermediate layer 202 and the area of the electrode (copper tape 203) on the surface side of the first intermediate layer 202 are S (cm 2 ), the following formula (3) ρ = 1 / (I-I 0 ) × S / d (Ω · cm) (3)
Is the volume resistivity ρ (Ω · cm) of the first intermediate layer 202.

この測定では、絶対値で1×10−6A以下という微小な電流量を測定するため、電流測定機器207としては、微小電流の測定が可能な機器を用いて行うことが好ましい。そのような機器としては、例えば、横河ヒューレットパッカード製のpAメーター(商品名:4140B)や、アジレントテクノロジー(株)製のハイレジスタンスメーター(商品名:4339B)が挙げられる。 In this measurement, in order to measure a minute current amount of 1 × 10 −6 A or less in absolute value, it is preferable to use a device capable of measuring a minute current as the current measuring device 207. Examples of such a device include a pA meter (trade name: 4140B) manufactured by Yokogawa Hewlett-Packard and a high resistance meter (trade name: 4339B) manufactured by Agilent Technologies.

なお、第一中間層の体積抵抗率は、導電性支持体上に第一中間層のみを形成したサンプルで測定してもよく、又、電子写真感光体から第一中間層上の各層を剥離して、導電性支持体上に第一中間層のみを残した構成で測定しても、同様の値を示す。   The volume resistivity of the first intermediate layer may be measured with a sample in which only the first intermediate layer is formed on the conductive support, and each layer on the first intermediate layer is peeled off from the electrophotographic photosensitive member. And even if it measures by the structure which left only the 1st intermediate | middle layer on the electroconductive support body, the same value is shown.

〔第二中間層〕
本発明における第二中間層は、電子輸送性を有する硬化物を含有する。この硬化物とは、電子輸送性部位を部分構造として有する3次元架橋物である。電子輸送性を有する硬化物としては、以下の組成物を硬化させて得られる硬化物がある。重合性官能基を有する電子輸送性物質、及び架橋剤を含む組成物が挙げられる。さらに、重合性官能基を有する電子輸送性物質、架橋剤、及び重合性官能基を有する樹脂を含む組成物が挙げられる。
[Second intermediate layer]
The second intermediate layer in the present invention contains a cured product having electron transport properties. This cured product is a three-dimensional crosslinked product having an electron transporting site as a partial structure. As hardened | cured material which has electron transportability, there exists hardened | cured material obtained by hardening the following compositions. Examples thereof include a composition containing an electron transporting substance having a polymerizable functional group and a crosslinking agent. Furthermore, the composition containing the electron transport substance which has a polymerizable functional group, a crosslinking agent, and resin which has a polymerizable functional group is mentioned.

第二中間層は、以下のようにして形成することが可能である。上記の組成物を含有する第二中間層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって、組成物を硬化(重合)させて、第二中間層を形成する。   The second intermediate layer can be formed as follows. A coating film of the second intermediate layer coating solution containing the above composition is formed, and the coating film is heated and dried to cure (polymerize) the composition, thereby forming a second intermediate layer.

パターンメモリーの改善の観点から、重合性官能基を有する電子輸送物質は、重合性官能基を有する電子輸送物質、ならびに、架橋剤及び/又は重合性官能基を有する樹脂を含む組成物の全質量に対して30質量%以上70質量%以下であることが好ましい。   From the viewpoint of improving the pattern memory, the electron transport material having a polymerizable functional group is a total mass of a composition containing an electron transport material having a polymerizable functional group and a resin having a crosslinking agent and / or a polymerizable functional group. It is preferable that they are 30 mass% or more and 70 mass% or less with respect to.

第二中間層用塗布液の塗膜を加熱乾燥させるときの加熱温度は、100〜200℃の温度であることが好ましい。   The heating temperature for heating and drying the coating film of the second intermediate layer coating solution is preferably 100 to 200 ° C.

〔電子輸送物質〕
電子輸送性を有する硬化物を構成する電子輸送物質としては、例えば、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物が挙げられる。電子輸送物質は、重合性官能基を有する電子輸送物質であることが好ましい。重合性官能基としては、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、又はメトキシ基が挙げられる。以下に、電子輸送物質の具体例として、下記式(A1)〜(A11)のいずれかで示される化合物を示す。
[Electron transport material]
As an electron transport substance which comprises the hardened | cured material which has electron transport property, a quinone compound, an imide compound, a benzimidazole compound, a cyclopentadienylidene compound is mentioned, for example. The electron transport material is preferably an electron transport material having a polymerizable functional group. Examples of the polymerizable functional group include a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, or a methoxy group. Below, the compound shown by either of following formula (A1)-(A11) is shown as a specific example of an electron transport substance.

式(A1)〜(A11)中、R11〜R16、R21〜R30、R31〜R38、R41〜R48、R51〜R60、R61〜R66、R71〜R78、R81〜R90、R91〜R98は、R101〜R110は、R111〜R120は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環を示す。アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つがO、S、NH又はNR121(R121はアルキル基)で置き換わっていても良い。置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基である。置換のアリール基の置換基、置換の複素環基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基である。Z21、Z31、Z41及びZ51は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を示す。Z21が酸素原子である場合はR29及びR30は存在せず、Z21が窒素原子である場合はR30は存在しない。Z31が酸素原子である場合はR37及びR38は存在せず、Z31が窒素原子である場合はR38は存在しない。Z41が酸素原子である場合はR47及びR48は存在せず、Z41が窒素原子である場合はR48は存在しない。Z51が酸素原子である場合はR59及びR60は存在せず、Z51が窒素原子である場合はR60は存在しない。 In formulas (A1) to (A11), R 11 to R 16 , R 21 to R 30 , R 31 to R 38 , R 41 to R 48 , R 51 to R 60 , R 61 to R 66 , R 71 to R 78, R 81 ~R 90, R 91 ~R 98 is R 101 to R 110 is R 111 to R 120 each independently represents a monovalent group represented by the following formula (a), a hydrogen atom, a cyano A group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic ring; One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with O, S, NH, or NR 121 (R 121 is an alkyl group). The substituent of the substituted alkyl group is an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, or an alkoxycarbonyl group. The substituent of the substituted aryl group and the substituent of the substituted heterocyclic group are a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, a halogen-substituted alkyl group, and an alkoxy group. Z 21 , Z 31 , Z 41 and Z 51 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom or an oxygen atom. When Z 21 is an oxygen atom, R 29 and R 30 do not exist, and when Z 21 is a nitrogen atom, R 30 does not exist. When Z 31 is an oxygen atom, R 37 and R 38 do not exist, and when Z 31 is a nitrogen atom, R 38 does not exist. If Z 41 is an oxygen atom R 47 and R 48 are absent, when Z 41 is a nitrogen atom R 48 is absent. When Z 51 is an oxygen atom, R 59 and R 60 do not exist, and when Z 51 is a nitrogen atom, R 60 does not exist.

式(A)中、α、β、及びγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。l及びmは、それぞれ独立に、0又は1であり、lとmの和は、0以上2以下である。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group. At least one group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、又はフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR122(式中、R122は、水素原子、又はアルキル基を示す。)で置き換わっても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, NR 122 (wherein R 122 represents a hydrogen atom or an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、又はアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro-substituted phenylene group, a halogen-substituted phenylene group, or an alkoxy-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group as a substituent.

γは、水素原子、主鎖の原子数が1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O又はS又はNR123(式中、R123は、水素原子又はアルキル基を示す。)で置き換わっていても良い。 γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, and a methoxy group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with O, S, or NR 123 (wherein R 123 represents a hydrogen atom or an alkyl group).

上記式(A1)〜(A11)のいずれかで示される電子輸送物質の中でも、R11〜R16の少なくとも1つ、R21〜R30の少なくとも1つ、R31〜R38の少なくとも1つ、R41〜R48の少なくとも1つ、R51〜R60の少なくとも1つ、R61〜R66の少なくとも1つ、R71〜R78の少なくとも1つ、R81〜R90の少なくとも1つ、R91〜R98の少なくとも1つ、R101〜R110の少なくとも1つ、R111〜R120の少なくとも1つは、式(A)で示される1価の基を有する電子輸送物質がより好ましい。 Among the electron transport materials represented by any of the above formulas (A1) to (A11), at least one of R 11 to R 16 , at least one of R 21 to R 30 , and at least one of R 31 to R 38 , At least one of R 41 to R 48 , at least one of R 51 to R 60 , at least one of R 61 to R 66 , at least one of R 71 to R 78 , at least one of R 81 to R 90 , At least one of R 91 to R 98 , at least one of R 101 to R 110 , and at least one of R 111 to R 120 are made of an electron transport material having a monovalent group represented by the formula (A). preferable.

以下に重合性官能基を有する電子輸送物質の具体例を示す。表中、Aaは、Aと同様な構造式で表され、その1価の基の具体例をA及びAaの欄に示す。表中、γが「−」である場合は、水素原子を示し、そのγの水素原子は、α又はβの欄に示す構造に含めて表示する。   Specific examples of the electron transport material having a polymerizable functional group are shown below. In the table, Aa is represented by the same structural formula as A, and specific examples of the monovalent group are shown in the columns of A and Aa. In the table, when γ is “−”, it indicates a hydrogen atom, and the hydrogen atom of γ is included in the structure shown in the column of α or β.

(A1)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、米国特許第4442193号公報、米国特許第4992349号公報、米国特許第5468583号公報、Chemistry of materials,Vol.19,No.11,2703−2705(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)、又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成することが可能である。   Derivatives having the structure of (A1) (derivatives of electron transport materials) are disclosed in U.S. Pat. No. 4,442,193, U.S. Pat. No. 4,992,349, U.S. Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, no. It is possible to synthesize using a known synthesis method described in 11, 2703-2705 (2007). Moreover, it is possible to synthesize by reaction of naphthalene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative, which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. is there.

(A1)で示される化合物には、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A1)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A1)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A1)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基を有するアリール基を導入する方法がある。さらに、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基を有するアルキル基を導入する方法がある。さらに、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、重合性官能基又は、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by (A1) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A1) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A1) include the following methods. For example, a method of directly introducing a polymerizable functional group after synthesizing a derivative having the structure of (A1), a method of introducing a structure having a functional group that can be a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group. is there. As a method to be described later, there is a method of introducing an aryl group having a functional group, for example, based on a halide of a naphthylimide derivative, using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. Furthermore, there is a method of introducing an alkyl group having a functional group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. Further, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO 2 after lithiation based on a halide of a naphthylimide derivative. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method of using a naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or a monoamine derivative having a polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

(A2)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フェナントレン誘導体又はフェナントロリン誘導体を基に、Chem.Educator No.6,227−234(2001)、有機合成化学協会誌,vol.15,29−32(1957)、有機合成化学協会誌,vol.15,32−34(1957)に記載の合成方法で合成することも可能である。マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することも可能である。   The derivative having the structure of (A2) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Chem. Educator No. 6, 227-234 (2001), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 29-32 (1957), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 32-34 (1957). It is also possible to introduce a dicyanomethylene group by reaction with malononitrile.

(A2)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A2)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A2)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A2)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えば、フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A2) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A2) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A2) include the following methods. For example, there is a method of directly introducing a polymerizable functional group after synthesizing a derivative having the structure of (A2), or a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group that is a precursor of the polymerizable functional group. . As a method to be described later, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. Furthermore, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO 2 after lithiation based on a halide of phenanthrenequinone.

(A3)の構造を有する誘導体は、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フェナントレン誘導体又はフェナントロリン誘導体を基に、Bull.Chem.Soc.Jpn.,Vol.65,1006−1011(1992)に記載の合成方法で合成することも可能である。マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することも可能である。   The derivative having the structure of (A3) can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Also, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Bull. Chem. Soc. Jpn. , Vol. 65, 1006-1011 (1992). It is also possible to introduce a dicyanomethylene group by reaction with malononitrile.

(A3)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A3)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A3)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A3)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A3) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A3) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A3) include the following methods. For example, there is a method of directly introducing a polymerizable functional group after synthesizing a derivative having the structure of (A3), or a method of introducing a structure having a functional group that becomes a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group. . As a method to be described later, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group based on a halide of phenanthroline quinone using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. Further, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of phenanthroline quinone. Furthermore, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group based on a halide of phenanthroline quinone after lithiation and then allowing an epoxy compound or CO 2 to act.

(A4)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、アセナフテンキノン誘導体を基にTetrahedron Letters,43(16),2991−2994(2002)、Tetrahedron Letters,44(10),2087−2091(2003)に記載の合成方法で合成することも可能である。マロノニトリルとの反応により、ジシアノメチレン基を導入することも可能である。   The derivative having the structure of (A4) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Moreover, it is also possible to synthesize | combine by the synthesis method of Tetrahedron Letters, 43 (16), 2991-2994 (2002), Tetrahedron Letters, 44 (10), 2087-2091 (2003) based on an acenaphthenequinone derivative. is there. It is also possible to introduce a dicyanomethylene group by reaction with malononitrile.

(A4)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A4)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A4)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A4)の構造を有する誘導体を誘導した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばアセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、アセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、アセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A4) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A4) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A4) include the following methods. For example, after deriving a derivative having the structure of (A4), there are a method of directly introducing a polymerizable functional group, and a method of introducing a polymerizable functional group or a structure having a functional group serving as a precursor of a polymerizable functional group. . As a method to be described later, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using, for example, a palladium catalyst and a base based on a halide of acenaphthenequinone. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of acenaphthenequinone. Furthermore, based on the halide of acenaphthenequinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A5)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フルオレノン誘導体とマロノニトリルを用い、米国特許第4562132号公報に記載の合成方法を用いて合成することが可能である。また、フルオレノン誘導体及びアニリン誘導体を用い、特開平5−279582号公報、特開平7−70038号公報に記載の合成方法を用いて合成することも可能である。   The derivative having the structure of (A5) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, it is possible to synthesize using a synthesis method described in US Pat. No. 4,562,132 using a fluorenone derivative and malononitrile. Moreover, it is also possible to synthesize | combine using a fluorenone derivative and an aniline derivative | guide_body using the synthesis method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 5-279582 and Unexamined-Japanese-Patent No. 7-70038.

(A5)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A5)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A5)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A5)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフルオレノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、フルオレノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、フルオレノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A5) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of a method for synthesizing the compound represented by (A5) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A5) include the following methods. For example, there is a method of directly introducing a polymerizable functional group after synthesizing a derivative having the structure of (A5), or a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group serving as a precursor of a polymerizable functional group. . As a method described later, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of fluorenone. Further, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of fluorenone. Furthermore, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO 2 after lithiation based on a halide of fluorenone.

(A6)の構造を有する誘導体は、例えばChemistry Letters,37(3),360−361(2008)、特開平9−151157号公報に記載の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。   The derivative having the structure (A6) can be synthesized by using a synthesis method described in Chemistry Letters, 37 (3), 360-361 (2008), Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-151157, for example. Moreover, it can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.

(A6)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A6)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A6)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A6)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフトキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、ナフトキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、ナフトキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A6) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A6) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A6) include the following methods. For example, after synthesizing the derivative having the structure of (A6), there are a method of directly introducing a polymerizable functional group, and a method of introducing a polymerizable functional group or a structure having a functional group that is a precursor of the polymerizable functional group. . As a method to be described later, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using, for example, a palladium catalyst and a base based on a halide of naphthoquinone. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a naphthoquinone halide. Furthermore, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO 2 after lithiation based on a naphthoquinone halide.

(A7)の構造を有する誘導体は、特開平1−206349号公報、PPCI/Japan Hard Copy’98 予稿集p.207(1998)に記載の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)又はシグマアルドリッチジャパン(株)から購入可能なフェノール誘導体を原料として合成することが可能である。   Derivatives having the structure (A7) are disclosed in JP-A-1-206349, PPCI / Japan Hard Copy '98 Preliminary Collection p. 207 (1998) can be used for the synthesis. Moreover, it is possible to synthesize | combine as a raw material the phenol derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. or Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd.

(A7)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A7)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A7)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A7)の構造を有する誘導体を合成した後、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばジフェノキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、ジフェノキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法る方法がある。さらに、ジフェノキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A7) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A7) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A7) include the following methods. For example, there is a method of synthesizing a derivative having the structure of (A7) and then introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group that becomes a precursor of the polymerizable functional group. As this method, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross coupling reaction using, for example, a palladium catalyst and a base based on a halide of diphenoquinone. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a diphenoquinone halide. Further, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO 2 after lithiation based on a diphenoquinone halide.

(A8)の構造を有する誘導体は、例えば、Journal of the American chemical society,Vol.129,No.49,15259−78(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)やシグマアルドリッチジャパン(株)やジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なペリレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成することが可能である。   Derivatives having the structure (A8) are described in, for example, Journal of the American chemical society, Vol. 129, no. 49, 15259-78 (2007), and can be synthesized using a known synthesis method. Moreover, it is possible to synthesize by reaction of perylenetetracarboxylic dianhydride which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. or Johnson Matthey Japan Inc. and a monoamine derivative. .

(A8)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A8)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A8)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A8)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばペリレンイミド誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用いる方法がある。さらに、ペリレンイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用いる方法がある。ペリレンイミド誘導体を合成する際の原料として、重合性官能基又は、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するペリレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by (A8) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A8) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A8) include the following methods. For example, a method of directly introducing a polymerizable functional group after synthesizing a derivative having the structure of (A8), a method of introducing a structure having a functional group that can be a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group. is there. As a method described later, for example, there is a method using a cross-coupling reaction using, for example, a palladium catalyst and a base based on a halide of a perylene imide derivative. Furthermore, there is a method of using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a perylene imide derivative. As a raw material for synthesizing a perylene imide derivative, there is a method of using a perylene tetracarboxylic dianhydride derivative or a monoamine derivative having a polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

(A9)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。   The derivative having the structure of (A9) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.

(A9)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A9)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A9)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A9)の構造を有する誘導体に重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばアントラキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、アントラキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、アントラキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A9) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A9) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A9) include the following methods. For example, there is a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group serving as a precursor of the polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A9). As this method, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using, for example, a palladium catalyst and a base based on an anthraquinone halide. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using an FeCl 3 catalyst and a base based on an anthraquinone halide. Furthermore, based on the anthraquinone halide, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A10)の構造を有する誘導体は、例えば特許第3717320号公報記載の公知の合成方法を用いて、以下のようにして合成可能である。すなわち、ヒドラゾン構造を有するフェノール誘導体を、有機溶媒中、過マンガン酸カリウム等の適当な酸化剤で酸化する事によって合成することができる。この、ヒドラゾン構造を有するフェノール誘導体は、例えば東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なフェニルヒドラジン誘導体と、ヒドロキシベンズアルデヒド誘導体とを縮合させる事で合成できる。   The derivative having the structure of (A10) can be synthesized as follows using a known synthesis method described in Japanese Patent No. 3717320, for example. That is, it can be synthesized by oxidizing a phenol derivative having a hydrazone structure with an appropriate oxidizing agent such as potassium permanganate in an organic solvent. This phenol derivative having a hydrazone structure condenses, for example, a phenyl hydrazine derivative that can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. or Johnson Matthey Japan Incorporated, and a hydroxybenzaldehyde derivative. It can be synthesized.

(A10)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A10)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A10)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A10)の構造を有する誘導体を合成した後、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばヒドラゾン構造を持つフェノール誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、ヒドラゾン構造を持つフェノール誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、ヒドラゾン構造を持つフェノール誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A10) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of the method for synthesizing the compound represented by (A10) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A10) include the following methods. For example, after synthesizing a derivative having the structure of (A10), there is a method of introducing a polymerizable functional group or a structure having a functional group that becomes a precursor of the polymerizable functional group. As this method, for example, based on a halide of a phenol derivative having a hydrazone structure, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a phenol derivative having a hydrazone structure. Furthermore, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group based on a halide of a phenol derivative having a hydrazone structure, after lithiation, by allowing an epoxy compound or CO 2 to act.

(A11)の構造を有する誘導体は、例えば特開2007−108670号公報、日本画像学会誌45(6), 521−525,(2006)記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体とヒドラジンとの反応で合成することが可能である。   The derivative having the structure (A11) can be synthesized by using a known synthesis method described in, for example, JP-A-2007-108670 and Journal of Imaging Society of Japan 45 (6), 521-525, (2006). is there. It is also possible to synthesize by reaction of naphthalene tetracarboxylic dianhydride, monoamine derivative and hydrazine which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. or Johnson Matthey Japan Inc. It is.

(A11)で示される化合物は、架橋剤と重合可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基)を有する。(A11)の構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、(A11)で示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、(A11)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。さらに、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。さらに、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 The compound represented by (A11) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, carboxyl group, and methoxy group) that can be polymerized with a crosslinking agent. Examples of methods for synthesizing the compound represented by (A11) by introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A11) include the following methods. For example, a method of directly introducing a polymerizable functional group after synthesizing a derivative having the structure of (A11), a method of introducing a structure having a functional group that can be a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group. is there. As a method described later, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. Furthermore, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. Further, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO 2 after lithiation based on a halide of a naphthylimide derivative.

重合性官能基を有する電子輸送物質としては、同一分子内に2つ以上重合性官能基を有することが好ましい。   The electron transport material having a polymerizable functional group preferably has two or more polymerizable functional groups in the same molecule.

〔架橋剤〕
次に、架橋剤について説明する。
[Crosslinking agent]
Next, the crosslinking agent will be described.

架橋剤としては、重合性官能基を有する電子輸送物質、及び重合性官能基を有する樹脂と重合又は架橋する化合物を用いることが可能である。具体的には、山下晋三,金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)に記載されている化合物を用いることが可能である。例えば、イソシアネート化合物、又はアミン化合物が好ましい。より好ましくは、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、または−CH−ORを示される1価の基を3〜6個有する架橋剤(イソシアネート化合物、アミン化合物)である。 As the crosslinking agent, it is possible to use an electron transport material having a polymerizable functional group and a compound that polymerizes or crosslinks with a resin having a polymerizable functional group. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko “Crosslinking Agent Handbook” published by Taiseisha (1981) can be used. For example, an isocyanate compound or an amine compound is preferable. More preferably, it is a crosslinking agent (isocyanate compound, amine compound) having 3 to 6 monovalent groups represented by an isocyanate group, a blocked isocyanate group, or —CH 2 —OR 1 .

イソシアネート化合物は、イソシアネート基又はブロックイソシアネート基を3〜6個有しているイソシアネート化合物が好ましい。また、イソシアネート化合物の分子量は、200〜1300の範囲であることが好ましい。   The isocyanate compound is preferably an isocyanate compound having 3 to 6 isocyanate groups or blocked isocyanate groups. Moreover, it is preferable that the molecular weight of an isocyanate compound is the range of 200-1300.

ブロックイソシアネート基は、−NHCOX(Xは保護基)という構造を有する基である。Xは、イソシアネート基に導入可能な保護基であれば何れでも良いが、下記式(H1)〜(H7)で示される基がより好ましい。 The blocked isocyanate group is a group having a structure of —NHCOX 1 (X 1 is a protecting group). X 1 may be any protecting group that can be introduced into an isocyanate group, but groups represented by the following formulas (H1) to (H7) are more preferable.

イソシアネート化合物としては、例えば、トリイソシアネートベンゼン、トリイソシアネートメチルベンゼン、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネートといったジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、トリメチロールプロパンやペンタエリストールとのアダクト変性体が挙げられる。   Examples of the isocyanate compound include triisocyanate benzene, triisocyanate methylbenzene, triphenylmethane triisocyanate, lysine triisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate. 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanate hexanoate, norbornane diisocyanate modified isocyanurate, biuret, allophanate, trimethylolpropane and pentaerythritol Adduct modified It is.

以下に、イソシアネート化合物の具体例を示す。   Below, the specific example of an isocyanate compound is shown.

また、アミン化合物としては、下記式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物、又は、下記式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物のオリゴマーが好ましい。また、それらの化合物の分子量としては、200〜1000の範囲が好ましい。より好ましくは、式(C1)で示されるメラミン化合物、又は式(C2)で示されるグアナミン化合物である。   As the amine compound, a compound represented by any one of the following formulas (C1) to (C5) or an oligomer of a compound represented by any one of the following formulas (C1) to (C5) is preferable. Moreover, as a molecular weight of those compounds, the range of 200-1000 is preferable. More preferably, it is a melamine compound represented by the formula (C1) or a guanamine compound represented by the formula (C2).

式(C1)〜(C5)中、R11〜R16、R22〜R25、R31〜R34、R41〜R44、及びR51〜R54は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アシル基又はCH−ORで示される1価の基を示す。R11〜R16の少なくとも1つ、R22〜R25の少なくとも1つ、R31〜R34の少なくとも1つ、R41〜R44の少なくとも1つ、及びR51〜R54の少なくとも1つは、−CH−ORで示される1価の基である。Rは、水素原子、又は炭素数1以上10以下のアルキル基を示す。アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基(n−プロピル基、iso−プロピル基)、ブチル基(n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基)が、重合性の観点から好ましい。R21は、アリール基、アルキル基置換のアリール基、シクロアルキル基、又はアルキル基置換のシクロアルキル基を示す。 In formulas (C1) to (C5), R 11 to R 16 , R 22 to R 25 , R 31 to R 34 , R 41 to R 44 , and R 51 to R 54 are each independently a hydrogen atom, hydroxy A monovalent group represented by a group, an acyl group, or CH 2 —OR 1 ; At least one of R 11 to R 16 , at least one of R 22 to R 25 , at least one of R 31 to R 34 , at least one of R 41 to R 44 , and at least one of R 51 to R 54 Is a monovalent group represented by —CH 2 —OR 1 . R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. As the alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-propyl group, iso-propyl group), and a butyl group (n-butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group) are preferable from the viewpoint of polymerizability. . R 21 represents an aryl group, an alkyl group-substituted aryl group, a cycloalkyl group, or an alkyl group-substituted cycloalkyl group.

以下に、式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物の具体例を示す。また、式(C1)〜(C5)のいずれかで示される化合物のオリゴマー(多量体)を含有していても良い。上述のオリゴマー及び単量体は、2種以上混合して用いることが可能である。   Specific examples of the compound represented by any one of formulas (C1) to (C5) are shown below. Moreover, you may contain the oligomer (multimer) of the compound shown by either of Formula (C1)-(C5). The above oligomers and monomers can be used in combination of two or more.

式(C1)で示される化合物としては、例えば、スーパーメラミNo.90(日本油脂社製)、スーパーベッカミン(R)TD−139−60、L−105−60、L127−60、L110−60、J−820−60、G−821−60(DIC社製)、ユーバン2020(三井化学)、スミテックスレジンM−3(住友化学工業)、ニカラックMW−30、MW−390、MX−750LM(日本カーバイド社製)が挙げられる。式(C2)で示される化合物としては、例えば、”スーパーベッカミン(R)L−148−55、13−535、L−145−60、TD−126(DIC社製)、ニカラックBL−60、BX−4000(日本カーバイド社製)が挙げられる。式(C3)で示される化合物としては、例えば、ニカラックMX−280(日本カーバイド社製)が挙げられる。式(C4)で示される化合物としては、例えば、ニカラックMX−270(日本カーバイド社製)が挙げられる。式(C5)で示される化合物としては、例えば、ニカラックMX−290(日本カーバイド社製)が挙げられる。   Examples of the compound represented by the formula (C1) include Super Melami No. 90 (manufactured by NOF Corporation), Super Becamine (R) TD-139-60, L-105-60, L127-60, L110-60, J-820-60, G-821-60 (manufactured by DIC) Uban 2020 (Mitsui Chemicals), Sumitex Resin M-3 (Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Nicalak MW-30, MW-390, MX-750LM (Nippon Carbide). Examples of the compound represented by the formula (C2) include “Super Becamine (R) L-148-55, 13-535, L-145-60, TD-126 (manufactured by DIC), Nicalac BL-60, BX-4000 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) Examples of the compound represented by the formula (C3) include Nicarak MX-280 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) The compound represented by the formula (C4) Examples include Nicalac MX-270 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) Examples of the compound represented by the formula (C5) include Nicalac MX-290 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.).

〔樹脂〕
次に、重合性官能基を有する樹脂について説明する。重合性官能基を有する樹脂としては、下記式(D)で示される構造単位を有する樹脂が挙げられる。
〔resin〕
Next, the resin having a polymerizable functional group will be described. Examples of the resin having a polymerizable functional group include a resin having a structural unit represented by the following formula (D).

式中、R61は、水素原子又はアルキル基を示す。Yは、単結合、アルキレン基又はフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、又はメトキシ基を示す。 In the formula, R 61 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 1 represents a single bond, an alkylene group or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, or a methoxy group.

式(D)で示される構造単位を有する樹脂としては、例えば、アセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂が挙げられる。このような樹脂は、上記式(D)で示される構造単位以外に、以下に示す特徴的な構造を有している。特徴的な構造を以下の(E−1)〜(E−5)に示す。(E−1)は、アセタール樹脂の構造単位である。(E−2)は、ポリオレフィン樹脂の構造単位である。(E−3)は、ポリエステル樹脂の構造単位である。(E−4)は、ポリエーテル樹脂の構造単位である。(E−5)は、ポリアミド樹脂の構造単位である。   Examples of the resin having the structural unit represented by the formula (D) include an acetal resin, a polyolefin resin, a polyester resin, a polyether resin, and a polyamide resin. Such a resin has the following characteristic structure in addition to the structural unit represented by the above formula (D). Characteristic structures are shown in (E-1) to (E-5) below. (E-1) is a structural unit of an acetal resin. (E-2) is a structural unit of polyolefin resin. (E-3) is a structural unit of a polyester resin. (E-4) is a structural unit of a polyether resin. (E-5) is a structural unit of polyamide resin.

上記式中、R201〜R205は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を示す。R206〜R210は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキレン基、又は置換もしくは無置換のアリーレン基を示す。R201がCである場合はブチラールと示す。 In the above formula, R 201 to R 205 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. R 206 to R 210 each independently represent a substituted or unsubstituted alkylene group or a substituted or unsubstituted arylene group. When R 201 is C 3 H 7, it is represented as butyral.

式(D)で示される構造単位を有する樹脂(以下、「樹脂D」とも称する)は、例えば、シグマアルドリッチジャパン(株)や東京化成工業(株)から購入可能な重合性官能基を有するモノマーを重合させることで得ることが可能である。   A resin having a structural unit represented by the formula (D) (hereinafter also referred to as “resin D”) is, for example, a monomer having a polymerizable functional group that can be purchased from Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. or Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Can be obtained by polymerizing.

購入可能な樹脂としては、例えば、日本ポリウレタン工業(株)製AQD−457、AQD−473、三洋化成工業(株)製サンニックスGP−400、GP−700といったポリエーテルポリオール系樹脂;日立化成工業(株)製フタルキッドW2343、DIC(株)製ウォーターゾールS−118、CD−520、ベッコライトM−6402−50、M−6201−40IM、ハリマ化成(株)製ハリディップWH−1188、日本ユピカ社製ES3604、ES6538といったポリエステルポリオール系樹脂;DIC(株)製、バーノックWE−300、WE−304といったポリアクリルポリオール系樹脂;(株)クラレ製クラレポバールPVA−203といったポリビニルアルコール系樹脂;積水化学工業(株)製BX−1、BM−1といったポリビニルアセタール系樹脂;ナガセケムテックス(株)製トレジンFS−350といったポリアミド系樹脂;日本触媒(株)製アクアリック、鉛市(株)製ファインレックスSG2000といったカルボキシル基含有樹脂;DIC(株)製、ラッカマイドといったポリアミン樹脂;東レ(株)製QE−340Mといったポリチオール樹脂が挙げられる。これらの中でもポリビニルアセタール系樹脂、ポリエステルポリオール系樹脂が重合性、下引き層の均一性の観点からより好ましい。   Examples of the resin that can be purchased include polyether polyol resins such as AQD-457 and AQD-473 manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Sannics GP-400 and GP-700 manufactured by Sanyo Chemical Industries; Hitachi Chemical Phthalkid W2343 manufactured by Co., Ltd., watersol S-118 manufactured by DIC Co., Ltd., CD-520, beccolite M-6402-50, M-6201-40IM, Hallidip WH-1188 manufactured by Harima Kasei Co., Ltd. Polyester polyol resins such as ES3604 and ES6538 manufactured by DIC Corporation; Polyacryl polyol resins such as Vernock WE-300 and WE-304 manufactured by DIC Corporation; Polyvinyl alcohol resins such as Kuraray Poval PVA-203 manufactured by Kuraray Co., Ltd .; Sekisui Chemical BX-1 manufactured by Kogyo Co., Ltd. Polyvinyl acetal resin such as M-1; Polyamide resin such as Toraysin FS-350 manufactured by Nagase ChemteX Corp .; Carboxyl group-containing resin such as Aqualic manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., Finelex SG2000 manufactured by Lead City Co., Ltd .; DIC Examples include polyamine resins such as racamide, manufactured by Co., Ltd .; polythiol resins such as QE-340M manufactured by Toray Industries, Inc. Among these, polyvinyl acetal resins and polyester polyol resins are more preferable from the viewpoints of polymerizability and uniformity of the undercoat layer.

樹脂Dの重量平均分子量(Mw)は5000〜400000であることがより好ましい。   The weight average molecular weight (Mw) of the resin D is more preferably 5,000 to 400,000.

樹脂中の重合性官能基の定量法は、以下の方法が挙げられる。水酸化カリウムを用いたカルボキシル基の滴定、亜硝酸ナトリウムを用いたアミノ基の滴定、無水酢酸と水酸化カリウムを用いたヒドロキシ基の滴定、5,5’−ジチオビス(2−ニトロ安息香酸)を用いたチオール基の滴定がある。さらに、重合性官能基導入比率を変化させた試料のIRスペクトルから得られる検量線法も挙げられる。   Examples of the quantitative method for the polymerizable functional group in the resin include the following methods. Titration of carboxyl group using potassium hydroxide, titration of amino group using sodium nitrite, titration of hydroxy group using acetic anhydride and potassium hydroxide, 5,5′-dithiobis (2-nitrobenzoic acid) There is a titration of the thiol groups used. Furthermore, a calibration curve method obtained from an IR spectrum of a sample in which the polymerizable functional group introduction ratio is changed can also be mentioned.

以下表12に、樹脂Dの具体例を示す。表12中、「特徴的な構造」の欄は、上記(E−1)〜(E−5)のいずれかで示される構造単位を示す。   Table 12 below shows specific examples of the resin D. In Table 12, the “characteristic structure” column indicates the structural unit represented by any one of (E-1) to (E-5) above.

第二中間層の膜厚は、電子の滞留を抑制し、パターンメモリーをより改善する観点から、0.1μm以上1.5μm以下が好ましく、0.2μm以上0.7μm以下がより好ましい。また、第二中間層には、添加剤として粗し粒子を含有してもよい。粗し粒子としては、硬化性樹脂の粒子、金属酸化物粒子が挙げられる。また、シリコーンオイル、界面活性剤、シラン化合物といった添加剤を含有してもよい。   The thickness of the second intermediate layer is preferably 0.1 μm or more and 1.5 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 0.7 μm or less from the viewpoint of suppressing the retention of electrons and further improving the pattern memory. The second intermediate layer may contain roughened particles as an additive. Examples of roughening particles include curable resin particles and metal oxide particles. Moreover, you may contain additives, such as a silicone oil, surfactant, and a silane compound.

第二中間層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤が挙げられる。   Examples of the solvent used in the second intermediate layer coating solution include alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents, ester solvents. Is mentioned.

〔導電性支持体〕
導電性支持体としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄といった金属又は合金で形成されている導電性支持体を用いることが可能である。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスといった絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金の金属の薄膜で形成した支持体、又は酸化インジウム、酸化スズといった導電性材料の薄膜で形成した支持体が挙げられる。
[Conductive support]
As the conductive support, for example, a conductive support formed of a metal or alloy such as aluminum, nickel, copper, gold, or iron can be used. A support formed by a thin film of aluminum, silver or gold metal on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin or glass, or a support formed by a thin film of conductive material such as indium oxide or tin oxide. Can be mentioned.

導電性支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化といった電気化学的な処理、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、又は切削処理を施してもよい。   The surface of the conductive support may be subjected to electrochemical treatment such as anodization, wet honing treatment, blast treatment, or cutting treatment in order to improve electrical characteristics and suppress interference fringes.

〔第一中間層、第二中間層〕
第一中間層、第二中間層については、上述の通りである。
[First intermediate layer, second intermediate layer]
The first intermediate layer and the second intermediate layer are as described above.

〔電荷発生層〕
第二中間層上には、電荷発生層が形成される。
(Charge generation layer)
A charge generation layer is formed on the second intermediate layer.

電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、フタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体が挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、及びヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。   Examples of charge generating materials include azo pigments, perylene pigments, anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives, isoviolanthrone derivatives, indigo derivatives, thioindigo derivatives, phthalocyanine pigments, and bisbenzimidazoles. Derivatives. Among these, azo pigments and phthalocyanine pigments are preferable. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine are preferable.

電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンといったビニル化合物の重合体及び共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、及びポリビニルアセタール樹脂が好ましく、ポリビニルアセタールがより好ましい。   Examples of the binder resin used for the charge generation layer include polymers and copolymers of vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic ester, methacrylic ester, vinylidene fluoride, and trifluoroethylene, polyvinyl Examples include alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polycarbonate resins, polyester resins, polysulfone resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, cellulose resins, phenol resins, melamine resins, silicon resins, and epoxy resins. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, and polyvinyl acetal resin are preferable, and polyvinyl acetal is more preferable.

電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂及び溶剤とともに分散して得られる電荷発生層用塗布液の塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することが好ましい。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜でもよい。   The charge generation layer is preferably formed by forming a coating film of a coating solution for a charge generation layer obtained by dispersing a charge generation material together with a binder resin and a solvent, and drying the obtained coating film. The charge generation layer may be a vapor generation film of a charge generation material.

電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との質量比率(電荷発生物質/結着樹脂)は、10/1〜1/10の範囲であることが好ましく、5/1〜1/5の範囲であることがより好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。   In the charge generation layer, the mass ratio of the charge generation material to the binder resin (charge generation material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, and is preferably 5/1 to 1/5. A range is more preferable. Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。   The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less.

〔正孔輸送層〕
電荷発生層上には正孔輸送層が形成される。
(Hole transport layer)
A hole transport layer is formed on the charge generation layer.

正孔輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンが挙げられる。又は、正孔輸送物質としては、これらの化合物から誘導される基を主鎖又は側鎖に有するポリマーも挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物、及びスチリル化合物が好ましい。   Examples of the hole transport material include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine. Alternatively, examples of the hole transport material include polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain. Among these, a triarylamine compound, a benzidine compound, and a styryl compound are preferable.

正孔輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂が挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの分子量としては、重量平均分子量(Mw)=10,000〜300,000が好ましい。   Examples of the binder resin used for the hole transport layer include polyester resins, polycarbonate resins, polymethacrylate resins, polyarylate resins, polysulfone resins, and polystyrene resins. Among these, polycarbonate resin and polyarylate resin are preferable. Moreover, as these molecular weights, weight average molecular weight (Mw) = 10,000-300,000 is preferable.

正孔輸送層において、正孔輸送物質と結着樹脂との質量比率(正孔輸送物質/結着樹脂)は、10/5〜5/10が好ましく、10/8〜6/10がより好ましい。   In the hole transport layer, the mass ratio of the hole transport material to the binder resin (hole transport material / binder resin) is preferably 10/5 to 5/10, and more preferably 10/8 to 6/10. .

正孔輸送層の膜厚は、3μm以上40μm以下であることが好ましく、より好ましくは5μm以上16μm以下である。正孔輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。   The thickness of the hole transport layer is preferably 3 μm or more and 40 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 16 μm or less. Examples of the solvent used in the hole transport layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

また、正孔輸送層上に保護層を形成してもよい。保護層には、導電性粒子又は電荷輸送物質と、結着樹脂とを含有させることが好ましい。また、保護層は、潤滑剤といった添加剤をさらに含有してもよい。また、結着樹脂自体に導電性や電荷輸送性を有させてもよく、その場合、保護層には、当該結着樹脂以外に導電性粒子や電荷輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は、熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光、放射線(電子線)により重合させて得られる硬化性樹脂であってもよい。保護層の膜厚は、1μm以上10μm以下が好ましい。   A protective layer may be formed on the hole transport layer. The protective layer preferably contains conductive particles or a charge transport material and a binder resin. The protective layer may further contain an additive such as a lubricant. In addition, the binder resin itself may have conductivity and charge transport property, and in that case, the protective layer may not contain conductive particles or a charge transport material in addition to the binder resin. The binder resin of the protective layer may be a thermoplastic resin or a curable resin obtained by polymerization with heat, light, or radiation (electron beam). The thickness of the protective layer is preferably 1 μm or more and 10 μm or less.

上記各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解及び/又は分散させて得られた塗布液を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥及び/又は硬化させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法が挙げられる。   As a method of forming each layer, a coating film obtained by dissolving and / or dispersing materials constituting each layer in a solvent is applied to form a coating film, and the resulting coating film is dried and / or cured. The method of forming by making it preferable is preferable. Examples of the method for applying the coating solution include a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a curtain coating method, and a spin coating method.

〔プロセスカートリッジ及び電子写真装置〕
図1に、電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す。
[Process cartridge and electrophotographic apparatus]
FIG. 1 shows a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge provided with an electrophotographic photosensitive member.

図1に示す電子写真装置は、円筒状の電子写真感光体1を有し、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラー)により、正又は負の所定電位に帯電する。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光といった露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4で露光する。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が形成される。   The electrophotographic apparatus shown in FIG. 1 has a cylindrical electrophotographic photosensitive member 1 and is driven to rotate about a shaft 2 in the direction of an arrow at a predetermined peripheral speed. The surface (circumferential surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 that is driven to rotate is charged to a predetermined positive or negative potential by a charging unit 3 (primary charging unit: charging roller). Next, exposure is performed with exposure light (image exposure light) 4 from an exposure means (not shown) such as slit exposure or laser beam scanning exposure. Thus, an electrostatic latent image corresponding to the target image is formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1.

電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像を形成する。次いで、電子写真感光体1の表面に形成されているトナー像が、転写手段(転写ローラー)6からの転写バイアスによって、転写材(紙)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて給送される。   The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is developed with toner contained in the developer of the developing means 5 to form a toner image. Next, the toner image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is sequentially transferred onto the transfer material (paper) P by the transfer bias from the transfer means (transfer roller) 6. The transfer material P is taken out from the transfer material supply means (not shown) between the electrophotographic photoreceptor 1 and the transfer means 6 (contact portion) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photoreceptor 1 and fed. Is done.

トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。   The transfer material P that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and introduced into the fixing means 8 to receive the image fixing, and is printed out as an image formed product (print, copy). Is done.

トナー像を転写した後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレード)7によって転写残りの現像剤(転写残トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図1に示すように、帯電手段3が帯電ローラーを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。   The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the toner image is transferred is cleaned by a cleaning means (cleaning blade) 7 after removal of the transfer residual developer (transfer residual toner). Next, after being subjected to charge removal processing by pre-exposure light (not shown) from pre-exposure means (not shown), it is repeatedly used for image formation. As shown in FIG. 1, when the charging unit 3 is a contact charging unit using a charging roller, pre-exposure is not always necessary.

電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6及びクリーニング手段7といった構成要素のうち、複数を選択して容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合する。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターといった電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図1では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5及びクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。   Among the constituent elements such as the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5, the transfer unit 6 and the cleaning unit 7, a plurality of components are selected and placed in a container and integrally coupled as a process cartridge. The process cartridge may be configured to be detachable from an electrophotographic apparatus main body such as a copying machine or a laser beam printer. In FIG. 1, an electrophotographic photosensitive member 1, a charging unit 3, a developing unit 5, and a cleaning unit 7 are integrally supported to form a cartridge, and an electrophotographic apparatus is provided using a guide unit 10 such as a rail of the electrophotographic apparatus main body. The process cartridge 9 is detachable from the main body.

(合成例1)
室温下、窒素気流下で300mlの3つ口フラスコに、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物の26.8g(100mmol)、及びジメチルアセトアミドの150ml加えた。これに、ブタノールアミンの8.9g(100mmol)とジメチルアセトアミドの25mlの混合物を攪拌しながら滴下した。滴下終了後、6時間加熱還流した。加熱還流終了後、容器を冷却し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。さらに、精製物を酢酸エチル/ヘキサンにより再結晶し、片側にのみブタノール構造が導入されたモノイミド体10.2gを得た。
(Synthesis Example 1)
26.8 g (100 mmol) of 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 150 ml of dimethylacetamide were added to a 300 ml three-necked flask under a nitrogen stream at room temperature. To this, a mixture of 8.9 g (100 mmol) of butanolamine and 25 ml of dimethylacetamide was added dropwise with stirring. After completion of the dropwise addition, the mixture was heated to reflux for 6 hours. After heating and refluxing, the container was cooled and concentrated under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, and the residue was purified by silica gel column chromatography. Furthermore, the purified product was recrystallized with ethyl acetate / hexane to obtain 10.2 g of a monoimide body in which a butanol structure was introduced only on one side.

300mlの3つ口フラスコに、上記モノイミド体6.8g(20mmol)、ヒドラジン1水和物1g(20mmol)、p―トルエンスルホン酸10mg、及びトルエン50mlを入れ、5時間加熱還流した。加熱還流終了後、容器を冷却し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。さらに、精製物をトルエン/酢酸エチルにより再結晶し、(A1101)で示される化合物(電子輸送物質)を2.54g得た。   A 300 ml three-necked flask was charged with 6.8 g (20 mmol) of the above monoimide, 1 g (20 mmol) of hydrazine monohydrate, 10 mg of p-toluenesulfonic acid, and 50 ml of toluene, and heated to reflux for 5 hours. After heating and refluxing, the container was cooled and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography. Further, the purified product was recrystallized from toluene / ethyl acetate to obtain 2.54 g of a compound (electron transport material) represented by (A1101).

(合成例2)
室温下、窒素気流下500ml3つ口フラスコに、下記式(X−1)で示される化合物23.4g(100mmol)、及び下記式(X−2)で示される化合物15.2g(100mmol)をテトラヒドロフラン200mlに溶解させた。次に、60℃まで加熱した後、6時間加熱還流させた。加熱還流終了後、容器を冷却した後、この反応液を濾過し、ろ液を濃縮して30gの粗結晶を得た。得られた結晶をアセトンで再結晶を行い、結晶を減圧乾燥し、下記式(X−3)で示される化合物を25.8g得た。なお、式(X−1)で示される化合物は、東京化成工業(株)製の3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒドを用いた。また、式(X−2)で示される化合物は、シグマアルドリッチジャパン(株)製の4−ヒドラジノ安息香酸を用いた。
(Synthesis Example 2)
In a 500 ml three-necked flask under a nitrogen stream at room temperature, 23.4 g (100 mmol) of the compound represented by the following formula (X-1) and 15.2 g (100 mmol) of the compound represented by the following formula (X-2) were added to tetrahydrofuran. Dissolved in 200 ml. Next, after heating to 60 ° C., the mixture was heated to reflux for 6 hours. After completion of heating and refluxing, the vessel was cooled, and then the reaction solution was filtered, and the filtrate was concentrated to obtain 30 g of crude crystals. The obtained crystal was recrystallized from acetone, and the crystal was dried under reduced pressure to obtain 25.8 g of a compound represented by the following formula (X-3). In addition, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzaldehyde manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used as the compound represented by the formula (X-1). Moreover, 4-hydrazinobenzoic acid made from Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd. was used as the compound represented by the formula (X-2).

次に、500ml3つ口フラスコに、式(X−3)で示される化合物23.2g(63mmol)をクロロホルム200mlに溶解させた後、過マンガン酸カリウム18.5g(117mmol)を加えた。これを52℃まで加熱した後、その温度下で5時間攪拌した。この反応液を濾過し、ろ液を濃縮して25.6gの粗結晶を得た。得られた結晶をアセトンで再結晶を行い、結晶を減圧乾燥し、下記式(X−4)で示される化合物を22.0g得た。   Next, after 23.2 g (63 mmol) of the compound represented by the formula (X-3) was dissolved in 200 ml of chloroform in a 500 ml three-necked flask, 18.5 g (117 mmol) of potassium permanganate was added. This was heated to 52 ° C. and stirred at that temperature for 5 hours. The reaction solution was filtered, and the filtrate was concentrated to obtain 25.6 g of crude crystals. The obtained crystal was recrystallized from acetone, and the crystal was dried under reduced pressure to obtain 22.0 g of a compound represented by the following formula (X-4).

500ml3つ口フラスコに、式(X−4)で示される化合物18.3g(50mmol)をテトラヒドロフラン200mlに溶解させた後、水素化ホウ素ナトリウム1.89g(50mmol)及び塩化ジルコニウム11.7g(50mmol)を加えた。これを52℃まで加熱した後、その温度下で5時間攪拌した。この反応液を濾過し、ろ液を濃縮して15.3gの粗結晶を得た。得られた結晶をアセトンで再結晶を行い、結晶を減圧乾燥し、例示化合物(A1001)を14.1g得た。   In a 500 ml three-necked flask, 18.3 g (50 mmol) of the compound represented by the formula (X-4) was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran, and then 1.89 g (50 mmol) of sodium borohydride and 11.7 g (50 mmol) of zirconium chloride. Was added. This was heated to 52 ° C. and stirred at that temperature for 5 hours. The reaction solution was filtered, and the filtrate was concentrated to obtain 15.3 g of crude crystals. The obtained crystals were recrystallized from acetone, and the crystals were dried under reduced pressure to obtain 14.1 g of the exemplified compound (A1001).

次に、第一中間層を形成するための、第一中間層用塗布液の調製例を説明する。「部」は「質量部」を意味する。   Next, a preparation example of the first intermediate layer coating solution for forming the first intermediate layer will be described. “Part” means “part by mass”.

(第一中間層用塗布液1)
酸化亜鉛粒子(テイカ(株)製、平均粒子径:70nm、比表面積値:15m/g)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM603、信越化学工業(株)製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理された酸化亜鉛粒子M1を得た。
(First intermediate layer coating solution 1)
100 parts of zinc oxide particles (manufactured by Teika Co., Ltd., average particle size: 70 nm, specific surface area value: 15 m 2 / g) are stirred and mixed with 500 parts of toluene, and N-2- (aminoethyl) -3-amino 1.25 parts of propyltrimethoxysilane (trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Then, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain zinc oxide particles M1 surface-treated with a silane coupling agent.

次に、ポリビニルアセタール樹脂(商品名:BM−1,積水化学工業(株)製)の15部、及びブロック化イソシアネート化合物(商品名:スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)の13.5部をメチルエチルケトンの85部に溶解した。この溶液に酸化亜鉛粒子M1の60部、1,2−ジヒドロキシアントラキノン(東京化成社製)の0.6部を加え、これを直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミル装置で温度23±3℃雰囲気下で4時間分散した。分散後、触媒としてジオクチルスズジラウレート(触媒)の0.005部、及びシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール145、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製)の4.0部を加えて攪拌し、第一中間層用塗布液1を調製した。   Next, 15 parts of a polyvinyl acetal resin (trade name: BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 13.5 parts of a blocked isocyanate compound (trade name: Sumidur 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.) Was dissolved in 85 parts of methyl ethyl ketone. To this solution, 60 parts of zinc oxide particles M1 and 0.6 part of 1,2-dihydroxyanthraquinone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added, and this is added to a sand mill apparatus using glass beads having a diameter of 1 mm at a temperature of 23 ± 3 ° C. Dispersed for 4 hours below. After dispersion, 0.005 part of dioctyltin dilaurate (catalyst) as a catalyst and 4.0 parts of silicone resin particles (trade name: Tospearl 145, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.) were added and stirred. A coating solution 1 for the first intermediate layer was prepared.

(第一中間層用塗布液2)
第一中間層用塗布液1の酸化亜鉛粒子を、酸化チタン粒子(商品名:CR−EL、石原産業(株)製、平均粒子径:250nm)に変更した以外は、第一中間層用塗布液1の記載と同様にしてシランカップリング剤で表面処理された酸化チタン粒子N1を得た。
(First intermediate layer coating solution 2)
The coating for the first intermediate layer, except that the zinc oxide particles in the coating liquid 1 for the first intermediate layer were changed to titanium oxide particles (trade name: CR-EL, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., average particle size: 250 nm). In the same manner as described in Liquid 1, titanium oxide particles N1 that were surface-treated with a silane coupling agent were obtained.

次に、アルキド樹脂(商品名:ベッコライトM−6401−50、大日本インキ化学工業(株)製)の6部及びメラミン樹脂(商品名:スーパーベッカミンG−821−60、大日本インキ化学工業(株)製)の4部を2−ブタノンの50部に溶解した。この溶液に酸化チタン粒子N1の60部を加え、直径2mmのジルコニアビーズビーズを用いたサンドミル装置で温度23±3℃雰囲気下で1時間分散して第一中間層用塗布液2を調製した。   Next, 6 parts of alkyd resin (trade name: Beckolite M-6401-50, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) and melamine resin (trade name: Super Becamine G-821-60, Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 4 parts of Kogyo Co., Ltd. were dissolved in 50 parts of 2-butanone. 60 parts of titanium oxide particles N1 were added to this solution and dispersed for 1 hour in a sand mill apparatus using zirconia bead beads having a diameter of 2 mm in an atmosphere of 23 ± 3 ° C. to prepare a first intermediate layer coating solution 2.

(第一中間層用塗布液3)
酸化チタン粒子(CR−EL)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、1−アミノドデカン(シグマ・アルドリッチ社製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、アミノ基を有する化合物で表面処理された酸化チタン粒子N2を得た。
(First intermediate layer coating solution 3)
100 parts of titanium oxide particles (CR-EL) were stirred and mixed with 500 parts of toluene, and 1.25 parts of 1-aminododecane (manufactured by Sigma-Aldrich) were added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide particles N2 surface-treated with a compound having an amino group.

次に、金属酸化物粒子として酸化チタン粒子N2を用いた以外は、第一中間層用塗布液2と同様にして第一中間層用塗布液3を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 3 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 2 except that the titanium oxide particles N2 were used as the metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液4)
酸化チタン粒子(CR−EL)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、1,2−エポキシドデカン(シグマ・アルドリッチ社製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、エポキシ基を有する化合物で表面処理された酸化チタン粒子N3を得た。
(First intermediate layer coating solution 4)
100 parts of titanium oxide particles (CR-EL) were stirred and mixed with 500 parts of toluene, and 1.25 parts of 1,2-epoxydodecane (manufactured by Sigma-Aldrich) were added and stirred for 2 hours. Then, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide particles N3 surface-treated with a compound having an epoxy group.

次に、金属酸化物粒子として酸化チタン粒子N3を用いた以外は、第一中間層用塗布液2と同様にして第一中間層用塗布液4を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 4 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 2 except that the titanium oxide particles N3 were used as the metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液5)
酸化チタン粒子(CR−EL)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、ウンデカン酸(シグマ・アルドリッチ社製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、カルボキシル基を有する化合物で表面処理された酸化チタン粒子N4を得た。
(First intermediate layer coating solution 5)
100 parts of titanium oxide particles (CR-EL) were stirred and mixed with 500 parts of toluene, and 1.25 parts of undecanoic acid (manufactured by Sigma-Aldrich) were added and stirred for 2 hours. Then, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide particles N4 surface-treated with a compound having a carboxyl group.

次に、金属酸化物粒子として酸化チタン粒子N4を用いた以外は、第一中間層用塗布液2と同様にして第一中間層用塗布液5を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 5 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 2 except that titanium oxide particles N4 were used as the metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液6)
酸化チタン粒子(CR−EL)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、1−ヘキサデカノール(東京化成社製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、ヒドロキシ基を有する化合物で表面処理された酸化チタン粒子N5を得た。
(First intermediate layer coating solution 6)
100 parts of titanium oxide particles (CR-EL) were stirred and mixed with 500 parts of toluene, and 1.25 parts of 1-hexadecanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide particles N5 surface-treated with a compound having a hydroxy group.

次に、金属酸化物粒子として酸化チタン粒子N5を用いた以外は、第一中間層用塗布液2と同様にして第一中間層用塗布液6を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 6 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 2 except that titanium oxide particles N5 were used as the metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液7)
酸化チタン粒子(CR−EL)の100部をトルエン500部と攪拌混合し、1−ドデカンチオール(東京化成社製)1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、チオール基を有する化合物で表面処理された酸化チタン粒子N6を得た。
(First intermediate layer coating solution 7)
100 parts of titanium oxide particles (CR-EL) were stirred and mixed with 500 parts of toluene, 1.25 parts of 1-dodecanethiol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Thereafter, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain titanium oxide particles N6 surface-treated with a compound having a thiol group.

次に、金属酸化物粒子として酸化チタン粒子N6を用いた以外は、第一中間層用塗布液2と同様にして第一中間層用塗布液7を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 7 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 2 except that the titanium oxide particles N6 were used as the metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液8)
第一中間層塗布液1において、1,2−ジヒドロキシアントラキノンを含有させなかった以外は同様にして第一中間層用塗布液8を調製した。
(First intermediate layer coating solution 8)
A first intermediate layer coating solution 8 was prepared in the same manner as in the first intermediate layer coating solution 1 except that 1,2-dihydroxyanthraquinone was not included.

(第一中間層用塗布液9)
第一中間層塗布液1において、金属酸化物粒子として酸化亜鉛粒子M1を45部用いた以外は同様にして第一中間層塗布液9を調製した。
(First intermediate layer coating solution 9)
A first intermediate layer coating solution 9 was prepared in the same manner except that 45 parts of zinc oxide particles M1 were used as metal oxide particles in the first intermediate layer coating solution 1.

(第一中間層用塗布液10)
第一中間層塗布液1において、金属酸化物粒子として酸化亜鉛粒子M1を70部用いた以外は同様にして第一中間層塗布液10を調製した。
(First intermediate layer coating solution 10)
A first intermediate layer coating solution 10 was prepared in the same manner as in the first intermediate layer coating solution 1, except that 70 parts of zinc oxide particles M1 were used as metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液11)
酸化亜鉛粒子(テイカ社製、平均粒子径:70nm、比表面積値:15m/g)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(商品名:KBM503、信越化学工業(株)製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理された酸化亜鉛粒子M2を得た。
(First intermediate layer coating solution 11)
100 parts of zinc oxide particles (manufactured by Teika, average particle size: 70 nm, specific surface area value: 15 m 2 / g) are stirred and mixed with 500 parts of toluene, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name: KBM503, 1.25 parts of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Then, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain zinc oxide particles M2 surface-treated with a silane coupling agent.

次に、金属酸化物粒子として酸化亜鉛粒子M2を用いた以外は、第一中間層用塗布液1と同様にして第一中間層用塗布液11を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 11 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 1 except that the zinc oxide particles M2 were used as the metal oxide particles.

(第一中間層用塗布液12)
酸化亜鉛粒子(テイカ社製、平均粒子径:70nm、比表面積値:15m/g)の100部をトルエンの500部と攪拌混合し、p−スチリルトリメトキシシラン(商品名:KBM1403、信越化学工業(株)製)の1.25部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、温度120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤で表面処理された酸化亜鉛粒子M3を得た。
(First intermediate layer coating solution 12)
100 parts of zinc oxide particles (Taika, average particle size: 70 nm, specific surface area value: 15 m 2 / g) are stirred and mixed with 500 parts of toluene, and p-styryltrimethoxysilane (trade name: KBM1403, Shin-Etsu Chemical). 1.25 parts of Kogyo Co., Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Then, toluene was distilled off under reduced pressure and baked at a temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain zinc oxide particles M3 surface-treated with a silane coupling agent.

次に、金属酸化物粒子として酸化亜鉛粒子M3を用いた以外は、第一中間層用塗布液1と同様にして第一中間層用塗布液12を調製した。   Next, a first intermediate layer coating solution 12 was prepared in the same manner as the first intermediate layer coating solution 1 except that the zinc oxide particles M3 were used as the metal oxide particles.

次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は下記の実施例によって何ら限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In the examples, “part” means “part by mass”.

(実施例1)
直径30mmのアルミニウムシリンダー(JIS−A3003)を導電性支持体とした。
Example 1
An aluminum cylinder (JIS-A3003) having a diameter of 30 mm was used as the conductive support.

次に、上記第一中間層塗布液1を上記導電性支持体に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度180℃で乾燥させることによって、膜厚が20μmの第一中間層を形成した。   Next, the first intermediate layer coating solution 1 is dip coated on the conductive support to form a coating film, and the resulting coating film is dried at a temperature of 180 ° C. for 40 minutes, whereby the film thickness is 20 μm. A first intermediate layer was formed.

次に、電子輸送物質(A101)の4部、架橋剤〔B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比)〕の5.5部、樹脂(D1)の0.3部、触媒(ジオクチルスズラウリレート)の0.05部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化(重合)させることによって、膜厚が0.26μmの第二中間層を形成した。このようにして、導電性支持体、第一中間層、第二中間層を有する積層体を形成した。なお、電子輸送物質、架橋剤及び樹脂の全質量に対する電子輸送物質の含有量は41質量%であった。樹脂(D1)中、特徴的な構造のブチラールである式(E−1)において、R201はCを示す Next, 4 parts of the electron transport material (A101), 5.5 parts of the crosslinking agent [B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)], 0.3 parts of the resin (D1) Part of the catalyst (dioctyltin laurate) was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for the second intermediate layer. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured (polymerized). A second intermediate layer of 0.26 μm was formed. Thus, the laminated body which has an electroconductive support body, a 1st intermediate | middle layer, and a 2nd intermediate | middle layer was formed. The content of the electron transport material with respect to the total mass of the electron transport material, the crosslinking agent, and the resin was 41% by mass. In the resin (D1), in formula (E-1) which is a butyral having a characteristic structure, R 201 represents C 3 H 7 .

次に、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°にピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)10部を用意した。この電荷発生物質、下記式(17)で示される化合物の0.1部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)の5部及びシクロヘキサノンの250部を、直径0.8mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。次に、分散液に酢酸エチルの250部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、第二中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を10分間温度100℃で乾燥させることによって、膜厚が0.15μmの電荷発生層を形成した。   Next, Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of CuKα characteristic X-ray diffraction of 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 10 parts of a hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generation material) having a peak at 28.3 ° was prepared. This charge generating substance, 0.1 part of a compound represented by the following formula (17), 5 parts of polyvinyl butyral (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 250 parts of cyclohexanone The mixture was placed in a sand mill using 0.8 mm glass beads and dispersed for 1.5 hours. Next, 250 parts of ethyl acetate was added to the dispersion to prepare a charge generation layer coating solution. The charge generation layer coating solution is dip-coated on the second intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is dried at a temperature of 100 ° C. for 10 minutes, whereby a film thickness of 0.15 μm is obtained. A generation layer was formed.

次に、下記式(9−1)示される化合物、及び下記式(9−2)で示される化合物をそれぞれ4部ずつ、及びビスフェノールZ型のポリカーボネート(商品名:Z400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製)の10部を、ジメトキシメタンの40部及びクロロベンゼンの60部の混合溶剤に溶解させることによって、正孔輸送層用塗布液を調製した。この正孔輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度120℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの正孔輸送層を形成した。   Next, 4 parts each of a compound represented by the following formula (9-1) and a compound represented by the following formula (9-2), and a bisphenol Z-type polycarbonate (trade name: Z400, Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd.) )) Was dissolved in a mixed solvent of 40 parts of dimethoxymethane and 60 parts of chlorobenzene to prepare a coating solution for a hole transport layer. This hole transport layer coating solution is dip-coated on the charge generation layer to form a coating film, and the resulting coating film is dried at a temperature of 120 ° C. for 40 minutes, thereby transporting a hole with a thickness of 15 μm. A layer was formed.

このようにして、積層体、積層体上に電荷発生層及び正孔輸送層を有するパターンメモリー評価用の電子写真感光体を製造した。また、上記と同様にしてもう1つ電子写真感光体を製造し、判定用の電子写真感光体とした。   In this manner, a laminate and an electrophotographic photoreceptor for pattern memory evaluation having a charge generation layer and a hole transport layer on the laminate were produced. Further, another electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as described above, and used as an electrophotographic photosensitive member for determination.

(判定試験)
上記、判定用の電子写真感光体をジメトキシメタンの40部及びクロロベンゼンの60部の混合溶剤に5分間浸漬させて超音波を印加し、正孔輸送層を剥離した。次に、ラッピングテープ(C2000:富士写真フィルム(株)製)を用いて電荷発生層を研磨した。その後、10分間、温度100℃で乾燥することによって、導電性支持体、第一中間層、及び第二中間層を有する積層体を作製し、判定用電子写真感光体とした。FTIR−ATR法を用いて表面に正孔輸送層及び電荷発生層の成分が検出されないことを確認した。
(Judgment test)
The electrophotographic photosensitive member for determination was immersed in a mixed solvent of 40 parts of dimethoxymethane and 60 parts of chlorobenzene for 5 minutes, ultrasonic waves were applied, and the hole transport layer was peeled off. Next, the charge generation layer was polished using a wrapping tape (C2000: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Then, the laminated body which has a conductive support body, a 1st intermediate | middle layer, and a 2nd intermediate | middle layer was produced by drying at the temperature of 100 degreeC for 10 minutes, and it was set as the electrophotographic photoreceptor for determination. Using the FTIR-ATR method, it was confirmed that the components of the hole transport layer and the charge generation layer were not detected on the surface.

次に、上記積層体において、測定部分を2cm(電子写真感光体の周方向)×4cm(電子写真感光体の長軸方向)に切り出し、第二中間層の表面上に、蒸着法によって、膜厚300nm、直径12mmの円状の金電極を作製した。これを測定用のサンプルとした。   Next, in the above laminate, a measurement part is cut into 2 cm (circumferential direction of the electrophotographic photosensitive member) × 4 cm (long axis direction of the electrophotographic photosensitive member), and a film is formed on the surface of the second intermediate layer by vapor deposition. A circular gold electrode having a thickness of 300 nm and a diameter of 12 mm was produced. This was used as a measurement sample.

次に、このサンプルを温度23℃、湿度50%RH環境下に24時間放置した後、上述の判定方法を用いた。まず、暗幕を用いてサンプル全体を室内光から遮断した。次に、導電性支持体から金電極へ0Vの直流電界を印加しながら、導電性支持体と金電極との間に3.0×10−3V/μmの交流電界を印加し、1MHzから0.1Hzまでの周波数を掃引して、インピーダンスを測定した。このようにして、0Vの直流電界を印加しながら、3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンス(R_0V)を測定した。 Next, this sample was allowed to stand for 24 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH, and then the above-described determination method was used. First, the entire sample was shielded from room light using a dark screen. Next, while applying a DC electric field of 0 V from the conductive support to the gold electrode, an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm was applied between the conductive support and the gold electrode, and from 1 MHz The impedance was measured by sweeping the frequency up to 0.1 Hz. Thus, the impedance (R_0V) measured by applying an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz while applying a DC electric field of 0 V was measured.

次に、第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚に対して−0.3V/μmの直流電界を導電性支持体から金電極へ印加する。この直流電界を印加しながら、導電性支持体と金電極間に3.0×10−3V/μmの交流電界を印加し、1MHzから0.1Hzまでの周波数を掃引して行い、インピーダンスを測定した。このようにして、第一中間層と第二中間層とを合計した膜厚の単位厚み当たり、−0.3V/μmの直流電界を印加しながら、3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンス(R_nV)を測定した。得られたR_0V、R_nVから、R_nV/R_0Vを算出した。測定結果を表17に示す。 Next, a DC electric field of −0.3 V / μm is applied from the conductive support to the gold electrode with respect to the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer. While applying this DC electric field, an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm is applied between the conductive support and the gold electrode, and a frequency from 1 MHz to 0.1 Hz is swept to perform impedance. It was measured. Thus, while applying a DC electric field of −0.3 V / μm per unit thickness of the total thickness of the first intermediate layer and the second intermediate layer, 3.0 × 10 −3 V / μm, And the impedance (R_nV) measured by applying an alternating electric field of 0.1 Hz was measured. R_nV / R_0V was calculated from the obtained R_0V and R_nV. Table 17 shows the measurement results.

(パターンメモリーの評価)
製造した評価用の電子写真感光体を、キヤノン(株)製のレーザービームプリンター(商品名:LBP−2510)の改造機)に装着して評価を行った。詳しくは以下のとおりである。
(Evaluation of pattern memory)
The manufactured electrophotographic photosensitive member for evaluation was mounted on a laser beam printer (trade name: LBP-2510) manufactured by Canon Inc. for evaluation. Details are as follows.

製造した電子写真感光体を、上記レーザービームプリンターに装着した。これを低温低湿環境下(温度15℃/湿度10%RH)に設置して、3ドット100スペースの縦線パターンの画像を15000枚繰り返し画像出力した。その後、4種類のハーフトーン画像、ベタ黒の画像を出力し、これらの出力画像に上記3ドット100スペースの縦線の履歴である縦スジの見え方により、表13のように6つにランク分けした。パターンメモリーが良好なものほど、ランクの数字が大きい。なお、4種類のハーフトーンとは、1ドット桂馬パターンのハーフトーン、1ドット1スペースの横線のハーフトーン、2ドット3スペースの横線のハーフトーン、及び、1ドット2スペースの横線のハーフトーンである。   The produced electrophotographic photosensitive member was mounted on the laser beam printer. This was installed in a low-temperature and low-humidity environment (temperature 15 ° C./humidity 10% RH), and an image of a vertical line pattern of 3 dots and 100 spaces was repeatedly output 15000 images. After that, 4 types of halftone images and solid black images are output, and these output images are ranked into 6 as shown in Table 13 according to the appearance of vertical stripes that are the history of vertical lines of 3 dots and 100 spaces. Divided. The better the pattern memory, the higher the rank number. The four halftones are the halftone of the 1-dot Keima pattern, the halftone of the horizontal line of 1 dot and 1 space, the halftone of the horizontal line of 2 dots and 3 spaces, and the halftone of the horizontal line of 1 dot and 2 spaces. is there.

(リークの評価)
さらに、製造した評価用の電子写真感光体を用いて、以下のようにしてリークの評価を行った。
(Leak evaluation)
Further, leakage was evaluated as follows using the produced electrophotographic photosensitive member for evaluation.

製造した電子写真感光体を、上記キヤノン社製の製レーザービームプリンターに装着した。これを低温低湿(温度15℃/湿度10%RH)環境下に設置し、3ドット100スペースの縦線パターンの画像を15000枚繰り返し画像出力した。上記15000枚繰り返し画像出力開始時、ならびに、7500枚画像出力終了後及び15000枚画像出力終了後に各1枚の1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像を出力した。1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像を目視で、以下の基準で5つにランク分けした。結果を表17に示す。画像の評価の基準は以下の通りである。
A:画像にリークの発生による画像不良は観測されない
B:画像にリークの発生による小さな黒点がわずかに観測される
C:画像にリークの発生による大きな黒点がはっきり観測される
D:画像にリークの発生による大きな黒点と短い横黒スジが観測される
E:画像にリークの発生による長い横黒スジが観測される。
The produced electrophotographic photosensitive member was mounted on the above-mentioned laser beam printer manufactured by Canon Inc. This was installed in a low-temperature and low-humidity environment (temperature: 15 ° C./humidity: 10% RH), and an image of a vertical line pattern with 3 dots and 100 spaces was repeatedly output 15000 images. One half-tone image of a 1-dot Keima pattern was output at the time when the above-mentioned 15000-sheet repeated image output was started, and after 7500-sheet image output was completed and after 15000-sheet image output was completed. The halftone images of the 1-dot Keima pattern were visually ranked into five according to the following criteria. The results are shown in Table 17. The criteria for image evaluation are as follows.
A: Image defect due to occurrence of leak in image is not observed B: Small black spot due to occurrence of leak is slightly observed in image C: Large black spot due to occurrence of leak in image is clearly observed D: Leak in image Large black spots and short horizontal black streaks due to occurrence are observed E: Long horizontal black streaks due to occurrence of leaks are observed in the image.

(実施例2)
第一中間層塗布液2を上記導電性支持体に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度180℃で乾燥させることによって、膜厚が3.5μmの第一中間層を形成した。それ以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 2)
The first intermediate layer coating solution 2 is dip-coated on the conductive support to form a coating film, and the resulting coating film is dried at a temperature of 180 ° C. for 40 minutes, whereby the film thickness is 3.5 μm. An intermediate layer was formed. Otherwise, an electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(実施例3〜12)
第一中間層を表14の示すように第一中間層用塗布液の種類及び膜厚を変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Examples 3 to 12)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the type and film thickness of the first intermediate layer coating solution were changed as shown in Table 14, and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(実施例13〜15)
第二中間層の膜厚を0.53μmから、0.35μm(実施例13)、0.50μm(実施例14)、1.05μm(実施例15)に変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、実施例1と同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Examples 13 to 15)
Example 2 except that the thickness of the second intermediate layer was changed from 0.53 μm to 0.35 μm (Example 13), 0.50 μm (Example 14), and 1.05 μm (Example 15). Thus, an electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 17.

(実施例16〜25)
実施例1の第二中間層中の電子輸送物質(A101)を表14に示す電子輸送物質に変更し、さらに第二中間層の膜厚を表14に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Examples 16 to 25)
Example 1 except that the electron transport material (A101) in the second intermediate layer of Example 1 was changed to the electron transport material shown in Table 14 and the film thickness of the second intermediate layer was changed as shown in Table 14. In the same manner as in Example 1, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(実施例26)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 26)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A101)の5部、アミン化合物(C1−3)の1.75部、樹脂(D1)の2.0部、触媒(ドデシルベンゼンスルホン酸)の0.1部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.70μmの第二中間層を形成した。電子輸送物質、架橋剤及び樹脂の全質量に対する電子輸送物質の含有量は57質量%であった。   5 parts of the electron transport material (A101), 1.75 parts of the amine compound (C1-3), 2.0 parts of the resin (D1) and 0.1 part of the catalyst (dodecylbenzenesulfonic acid) were mixed with dimethylacetamide. It melt | dissolved in the mixed solvent of 100 parts and 100 parts of methyl ethyl ketone, and prepared the coating liquid for 2nd intermediate | middle layers. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A 70 μm second intermediate layer was formed. The content of the electron transport material relative to the total mass of the electron transport material, the crosslinking agent, and the resin was 57% by mass.

(実施例27〜29)
第二中間層の膜厚を0.70μmから、0.35μm(実施例27)、0.50μm(実施例28)、1.00μm(実施例29)に変更した以外は実施例26と同様にして電子写真感光体を製造し、実施例26と同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Examples 27 to 29)
The same as Example 26, except that the thickness of the second intermediate layer was changed from 0.70 μm to 0.35 μm (Example 27), 0.50 μm (Example 28), and 1.00 μm (Example 29). An electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 26. The results are shown in Table 17.

(実施例30〜39)
実施例26の電子輸送物質を(A101)から、表14に示す電子輸送物質に変更し、さらに第二中間層の膜厚を表14に示すように変更した以外は実施例26と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Examples 30 to 39)
The electron transport material of Example 26 was changed from (A101) to the electron transport material shown in Table 14, and the film thickness of the second intermediate layer was changed as shown in Table 14 in the same manner as in Example 26. An electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(実施例40)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 40)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A101)の4.0部、架橋剤〔B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比)〕の5.8部、触媒(ジオクチルスズラウリレート)の0.05部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.26μmの第二中間層を形成した。   4.0 parts of electron transport material (A101), 5.8 parts of crosslinking agent [B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)], 0 of catalyst (dioctyltin laurate) .05 parts was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for the second intermediate layer. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A 26 μm second intermediate layer was formed.

電子輸送物質、架橋剤及び樹脂の全質量に対する電子輸送物質の含有量は41質量%であった。   The content of the electron transport material with respect to the total mass of the electron transport material, the crosslinking agent, and the resin was 41% by mass.

(実施例41〜43)
第二中間層の膜厚を0.55μmから、表15に示すように0.30μm(実施例41)、0.70μm(実施例42)、1.02μm(実施例43)に変更した以外は実施例26と同様にして電子写真感光体を製造し、実施例40と同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Examples 41 to 43)
The thickness of the second intermediate layer was changed from 0.55 μm to 0.30 μm (Example 41), 0.70 μm (Example 42), and 1.02 μm (Example 43) as shown in Table 15. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 26, and the same evaluation as in Example 40 was performed. The results are shown in Table 17.

(実施例44〜64)
電子輸送物質を表15に示すように変更し、第一中間層用塗布液の種類、第一中間層の膜厚、及び第二中間層の膜厚を表15に示すように変更した以外は実施例40と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Examples 44 to 64)
Except for changing the electron transport material as shown in Table 15 and changing the type of coating solution for the first intermediate layer, the thickness of the first intermediate layer, and the thickness of the second intermediate layer as shown in Table 15. An electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 40 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(実施例65)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 65)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A101)の5.0部、アミン化合物(C1−3)の3.75部、触媒(ドデシルベンゼンスルホン酸)の0.1部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.45μmの第二中間層を形成した。   5.0 parts of the electron transport material (A101), 3.75 parts of the amine compound (C1-3), 0.1 parts of the catalyst (dodecylbenzenesulfonic acid), 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone. It melt | dissolved in the mixed solvent and prepared the coating liquid for 2nd intermediate | middle layers. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A 45 μm second intermediate layer was formed.

電子輸送物質、架橋剤及び樹脂の全質量に対する電子輸送物質の含有量は57質量%であった。   The content of the electron transport material relative to the total mass of the electron transport material, the crosslinking agent, and the resin was 57% by mass.

(実施例66〜68)
第二中間層の膜厚を0.45μmから、0.30μm(実施例66)、0.72μm(実施例67)、1.10μm(実施例68)に変更した以外は実施例15と同様にして電子写真感光体を製造し、実施例65と同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Examples 66 to 68)
The film thickness of the second intermediate layer was changed from 0.45 μm to 0.30 μm (Example 66), 0.72 μm (Example 67), and 1.10 μm (Example 68). An electrophotographic photosensitive member was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 65. The results are shown in Table 17.

(実施例69〜89)
電子輸送物質を表15に示す電子輸送物質に変更し、第一中間層用塗布液の種類、第一中間層の膜厚、及び第二中間層の膜厚を表15に示すように変更した以外は、実施例65と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Examples 69 to 89)
The electron transport material was changed to the electron transport material shown in Table 15, and the type of the first intermediate layer coating solution, the film thickness of the first intermediate layer, and the film thickness of the second intermediate layer were changed as shown in Table 15. Except for the above, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 65 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(実施例90)
電荷発生層を以下のように形成した以外は実施例41と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 90)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 41 except that the charge generation layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

CuKαのX線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2゜)の9.0゜、14.2゜、23.9゜及び27.1゜にピークを有するオキシチタニウムフタロシアニン(電荷発生物質)の10部を用意した。この電荷発生物質、及びポリビニルブチラール樹脂(エスレックBX−1)を、シクロヘキサノン:水=97:3の混合溶媒に溶解し5質量%溶液としたものを166部用意した。この溶液と、シクロヘキサノン:水=97:3の混合溶媒を150部、それと共に1mmφガラスビーズ400部を用いてサンドミル装置で4時間分散した。その後、シクロヘキサノン:水=97:3の混合溶媒を210部及びシクロヘキサノンの260部を加えて電荷発生層用塗布液を調製した。電荷発生層用塗布液を第二中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を温度80℃で10分間乾燥して膜厚0.20μmの電荷発生層を形成した。   10 of oxytitanium phthalocyanine (charge generating material) having peaks at 9.0 °, 14.2 °, 23.9 ° and 27.1 ° of the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) in X-ray diffraction of CuKα. A department was prepared. 166 parts of this charge generation material and polyvinyl butyral resin (ESREC BX-1) were dissolved in a mixed solvent of cyclohexanone: water = 97: 3 to give a 5% by mass solution. Using this solution and 150 parts of a mixed solvent of cyclohexanone: water = 97: 3, together with 400 parts of 1 mmφ glass beads, the mixture was dispersed in a sand mill apparatus for 4 hours. Thereafter, 210 parts of a mixed solvent of cyclohexanone: water = 97: 3 and 260 parts of cyclohexanone were added to prepare a coating solution for a charge generation layer. The coating solution for charge generation layer was dip coated on the second intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film was dried at a temperature of 80 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.20 μm. .

(実施例91)
電荷発生層を以下のように形成した以外は実施例41と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 91)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 41 except that the charge generation layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

下記構造式(11)で表されるビスアゾ顔料の20部と、ポリビニルブチラール樹脂(エスレックBX−1)の10部とを、テトラヒドロフランの150部とともに混合分散させて、電荷発生層用塗布液を調製した。そしてこの塗布液を電子輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を温度110℃で30分間乾燥して、膜厚0.30μmの電荷発生層を形成した。   A charge generation layer coating solution is prepared by mixing and dispersing 20 parts of a bisazo pigment represented by the following structural formula (11) and 10 parts of a polyvinyl butyral resin (ESREC BX-1) together with 150 parts of tetrahydrofuran. did. And this coating liquid was dip-coated on the electron carrying layer, the coating film was formed, and the obtained coating film was dried for 30 minutes at the temperature of 110 degreeC, and the charge generation layer with a film thickness of 0.30 micrometer was formed.

(実施例92)
実施例1の上記式(9−2)で示されるベンジジン化合物から下記式(9−3)で示されるスチリル化合物(正孔輸送物質)に変更した以外は実施例41と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Example 92)
In the same manner as in Example 41 except that the benzidine compound represented by the above formula (9-2) in Example 1 was changed to a styryl compound (hole transport material) represented by the following formula (9-3). A body was prepared and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(比較例1)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 1)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A101)の2.4部、イソシアネート化合物〔B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比)〕の4.2部、樹脂(D1)5.4部、触媒(ジオクチルスズラウリレート)の0.05部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.26μmの第二中間層を形成した。   2.4 parts of the electron transport material (A101), 4.2 parts of the isocyanate compound [B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)], 5.4 parts of the resin (D1), 0.05 parts of the catalyst (dioctyltin laurate) was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for the second intermediate layer. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A 26 μm second intermediate layer was formed.

(比較例2)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 2)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A101)の3.2部、イソシアネート化合物〔B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比)〕の5部、樹脂(D1)の4.2部、触媒(ジオクチルスズラウリレート)の0.05部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.26μmの第二中間層を形成した。   3.2 parts of electron transport material (A101), 5 parts of isocyanate compound [B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)], 4.2 parts of resin (D1), catalyst 0.05 parts of (dioctyltin laurate) was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for the second intermediate layer. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to be cured, so that the film thickness is 0.26 μm. A second intermediate layer was formed.

(比較例3,4)
第二中間層の膜厚を0.40μm(比較例3)、1.00μm(比較例4)に変更した以外は比較例2と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Examples 3 and 4)
An electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the second intermediate layer was changed to 0.40 μm (Comparative Example 3) and 1.00 μm (Comparative Example 4). The results are shown in Table 17.

(比較例5〜8)
第二中間層の膜厚を1.25μm(比較例5)、1.40μm(比較例6)、1.50μm(比較例7)、2.00μm(比較例8)に変更した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Examples 5 to 8)
Example except that the film thickness of the second intermediate layer was changed to 1.25 μm (Comparative Example 5), 1.40 μm (Comparative Example 6), 1.50 μm (Comparative Example 7), and 2.00 μm (Comparative Example 8) In the same manner as in Example 1, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

(比較例9)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 9)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A225)の4部、ヘキサメチレンジイソシアネートの3部、及び樹脂(D1)の4部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が1.00μmの第二中間層を形成した。   4 parts of electron transport material (A225), 3 parts of hexamethylene diisocyanate, and 4 parts of resin (D1) are dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone, and applied for the second intermediate layer. A liquid was prepared. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A second intermediate layer of 00 μm was formed.

(比較例10)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 10)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A124)の5部、2,4−トルエンジイソシアネートの2.5部、及びポリ(p−ヒドロキシスチレン)(商品名:マルカリンカー、丸善石油化学社製)の2.5部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.40μmの第二中間層を形成した。   5 parts of an electron transport material (A124), 2.5 parts of 2,4-toluene diisocyanate, and 2.5 parts of poly (p-hydroxystyrene) (trade name: Marcalinker, manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) It was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for the second intermediate layer. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A 40 μm second intermediate layer was formed.

(比較例11)
第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 11)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

電子輸送物質(A124)の7部、2,4−トルエンジイソシアネートの2部、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)の1部を、ジメチルアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が0.40μmの第二中間層を形成した。   7 parts of the electron transport material (A124), 2 parts of 2,4-toluene diisocyanate, and 1 part of poly (p-hydroxystyrene) are dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone. A coating solution for two intermediate layers was prepared. The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 40 minutes to be cured, whereby the film thickness is 0.40 μm. A second intermediate layer was formed.

(比較例12)
第一中間層用塗布液1の表面処理された酸化亜鉛粒子をアンチモンドープ酸化スズ微粒子(商品名:SN100D、石原産業社製)に変更して第一中間層用塗布液を調製した。この第一中間層用塗布液を用いて、膜厚が6μmの第一中間層を形成した。次に、第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 12)
The surface-treated zinc oxide particles of the first intermediate layer coating solution 1 were changed to antimony-doped tin oxide fine particles (trade name: SN100D, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) to prepare a first intermediate layer coating solution. Using this first intermediate layer coating solution, a first intermediate layer having a film thickness of 6 μm was formed. Next, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the second intermediate layer was formed as follows and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

下記構造式で示されるブロック共重合体、ブロックイソシアネート、及び塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いて第二中間層を形成し、膜厚0.32μmの第二中間層を形成した。   A second intermediate layer was formed using a block copolymer represented by the following structural formula, a blocked isocyanate, and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer to form a second intermediate layer having a thickness of 0.32 μm.

(比較例13)
第一中間層用塗布液1を用いて、膜厚が25μmとなるように第一中間層を形成し、次に第二中間層を以下のように形成した以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に評価した。結果を表17に示す。
(Comparative Example 13)
Using the coating solution 1 for the first intermediate layer, the same procedure as in Example 1 was performed, except that the first intermediate layer was formed so that the film thickness was 25 μm, and then the second intermediate layer was formed as follows. An electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.

アリザリン(化合物名:1,2−ジヒドロキシアントラキノン、和光純薬社製)の5部、架橋剤〔B1:保護基(H1)=5.1:2.2(質量比)〕の13.5部、樹脂(D1)の10部、触媒としてのジオクチルスズラウリレートの0.05部を、ジメチアセトアミドの100部とメチルエチルケトンの100部の混合溶媒に溶解し、第二中間層用塗布液を調製した。この第二中間層用塗布液を第一中間層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を40分間温度160℃で加熱し、硬化させることによって、膜厚が1.00μmの第二中間層を形成した。   5 parts of alizarin (compound name: 1,2-dihydroxyanthraquinone, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 13.5 parts of cross-linking agent [B1: protecting group (H1) = 5.1: 2.2 (mass ratio)] 10 parts of resin (D1) and 0.05 part of dioctyltin laurate as a catalyst were dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare a coating solution for the second intermediate layer. . The coating solution for the second intermediate layer is dip-coated on the first intermediate layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at a temperature of 160 ° C. for 40 minutes to be cured. A second intermediate layer of 00 μm was formed.


Claims (15)

積層体、該積層体上に形成された電荷発生層、及び該電荷発生層上に形成された正孔輸送層を有する電子写真感光体であって、
該積層体は、導電性支持体、該導電性支持体上に形成されている第一中間層、及び該第一中間層上に形成されている第二中間層を有し、
該第一中間層は、結着樹脂、及び有機化合物で表面処理されている金属酸化物粒子を含有し、
該第二中間層は、電子輸送性を有する硬化物を含有し、
該積層体は、下記式(1)
R_nV/R_0V ≦0.80 式(1)
(式中、
R_nVは、該第二中間層の表面上に膜厚300nm、直径12mmの円状の金電極を蒸着法で設け、該導電性支持体から該金電極へ−0.3V/μmの直流電界を印加しながら、該導電性支持体と該金電極との間に3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンスを表す。
R_0Vは、該第二中間層の表面上に膜厚300nm、直径12mmの円状の金電極を蒸着法で設け、該導電性支持体から該金電極へ0Vの直流電界を印加しながら、該導電性支持体と該金電極との間に3.0×10−3V/μm、及び0.1Hzの交流電界を印加して測定されるインピーダンスを表す。)
を満たすことを特徴とする電子写真感光体。
An electrophotographic photosensitive member having a laminate, a charge generation layer formed on the laminate, and a hole transport layer formed on the charge generation layer,
The laminate has a conductive support, a first intermediate layer formed on the conductive support, and a second intermediate layer formed on the first intermediate layer,
The first intermediate layer contains a binder resin and metal oxide particles surface-treated with an organic compound,
The second intermediate layer contains a cured product having electron transport properties,
The laminate has the following formula (1)
R_nV / R_0V ≦ 0.80 Formula (1)
(Where
For R_nV, a circular gold electrode having a thickness of 300 nm and a diameter of 12 mm is provided on the surface of the second intermediate layer by vapor deposition, and a DC electric field of −0.3 V / μm is applied from the conductive support to the gold electrode. It represents the impedance measured by applying an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz between the conductive support and the gold electrode while applying.
R_0V provides a circular gold electrode having a film thickness of 300 nm and a diameter of 12 mm on the surface of the second intermediate layer by vapor deposition, and applying a DC electric field of 0 V from the conductive support to the gold electrode, It represents impedance measured by applying an AC electric field of 3.0 × 10 −3 V / μm and 0.1 Hz between the conductive support and the gold electrode. )
An electrophotographic photosensitive member characterized by satisfying the above.
該積層体は、下記式(2)
0.40≦R_nV/R_0V ≦0.75 式(2)
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体。
The laminate has the following formula (2)
0.40 ≦ R_nV / R_0V ≦ 0.75 Formula (2)
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein:
該有機化合物は、アルコキシシリル基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、又はチオール基を有する化合物である請求項1又は2に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the organic compound is a compound having an alkoxysilyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxy group, or a thiol group. 該有機化合物は、シランカップリング剤である請求項1から3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 3, wherein the organic compound is a silane coupling agent. 該第一中間層は、体積抵抗率が1.0×10Ω・cm以上である請求項1から4のいずれか1項に記載の電子写真感光体。 5. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the first intermediate layer has a volume resistivity of 1.0 × 10 8 Ω · cm or more. 該第一中間層は、体積抵抗率が1.0×1015Ω・cm以下である請求項1から5のいずれか1項に記載の電子写真感光体。 The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the first intermediate layer has a volume resistivity of 1.0 × 10 15 Ω · cm or less. 該第二中間層は、膜厚が0.2μm以上0.7μm以下である請求項1から6のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the second intermediate layer has a thickness of 0.2 μm or more and 0.7 μm or less. 該電子輸送性を有する硬化物は、重合性官能基を有する電子輸送物質、並びに、架橋剤及び/又は重合性官能基を有する樹脂を含む組成物の硬化物である請求項1から7のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The cured product having an electron transporting property is a cured product of a composition containing an electron transporting material having a polymerizable functional group and a resin having a crosslinking agent and / or a polymerizable functional group. 2. The electrophotographic photosensitive member according to item 1. 該重合性官能基を有する電子輸送物質は、含有量が該組成物の全質量に対して30質量%以上70質量%以下である請求項8に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photosensitive member according to claim 8, wherein the content of the electron transport material having a polymerizable functional group is 30% by mass or more and 70% by mass or less with respect to the total mass of the composition. 該架橋剤は、イソシアネート化合物、メラミン化合物、及びグアナミン化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物である請求項8又は9に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photoreceptor according to claim 8 or 9, wherein the crosslinking agent is at least one compound selected from the group consisting of an isocyanate compound, a melamine compound, and a guanamine compound. 該重合性官能基を有する樹脂は、下記式(D)

(式中、R61は、水素原子又はアルキル基を示し、Yは、単結合、アルキレン基又はフェニレン基を示し、Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、又はメトキシ基を示す。)
で示される構造単位を有する樹脂である請求項8から10のいずれか1項に記載の電子写真感光体。
The resin having a polymerizable functional group is represented by the following formula (D)

(In the formula, R 61 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y 1 represents a single bond, an alkylene group or a phenylene group, and W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, or a methoxy group. Is shown.)
The electrophotographic photosensitive member according to claim 8, which is a resin having a structural unit represented by:
該電荷発生層は、フタロシアニン顔料及びアゾ顔料からなる群より選択される少なくとも1種の電荷発生物質を含有する請求項1から11のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the charge generation layer contains at least one charge generation material selected from the group consisting of a phthalocyanine pigment and an azo pigment. 該正孔輸送層は、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物及びスチリル化合物からなる群より選択される少なくとも1種の正孔輸送物質を含有する請求項1から12のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   The electrophotography according to any one of claims 1 to 12, wherein the hole transport layer contains at least one hole transport material selected from the group consisting of a triarylamine compound, a benzidine compound, and a styryl compound. Photoconductor. 請求項1から13のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジ。   An electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 13, and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, are integrally supported, and A process cartridge that can be freely attached to and detached from the photographic device. 請求項1から13のいずれか1項に記載の電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する電子写真装置。
An electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 13, a charging unit, an exposing unit, a developing unit, and a transferring unit.
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