JP5784074B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus.
現在、プロセスカートリッジや電子写真装置に用いられる電子写真感光体としては、有機光導電性物質を含有する電子写真感光体が主流である。電子写真感光体は、一般的に、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。 At present, electrophotographic photoreceptors containing organic photoconductive substances are mainly used as electrophotographic photoreceptors used in process cartridges and electrophotographic apparatuses. An electrophotographic photoreceptor generally has a support and a photosensitive layer formed on the support.
そして、支持体側から感光層側への電荷注入を抑制し、黒ポチなどの画像欠陥の発生を抑えることを目的として、支持体と感光層との間に下引き層が設けられていることが多い。 An undercoat layer may be provided between the support and the photosensitive layer for the purpose of suppressing charge injection from the support side to the photosensitive layer side and suppressing the occurrence of image defects such as black spots. Many.
近年、電荷発生物質は、より高い感度を有するものが用いられている。しかしながら、電荷発生物質が高感度化するのに伴い、電荷の発生量が多くなることにより電荷が感光層中に滞留しやすく、ゴーストが発生しやすいという問題があった。具体的には、出力画像中、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が濃くなる、いわゆるポジゴーストという現象が発生しやすい。 In recent years, charge generation materials having higher sensitivity have been used. However, as the charge generating material becomes highly sensitive, there is a problem that the amount of generated charge increases, so that the charge tends to stay in the photosensitive layer and ghost is likely to occur. Specifically, in the output image, a phenomenon called so-called positive ghost, in which the density is increased only in a portion irradiated with light during the previous rotation, is likely to occur.
このようなゴースト現象を抑制(低減)する技術として、下引き層に電子輸送物質を含有させる技術が知られている。また、下引き層上に形成する感光層の材料設計の自由度の観点から、電子輸送物質を含有する下引き層は、感光層用塗布液の溶剤に対して難溶である硬化性材料を用いることが求められている。そこで、特許文献1では、芳香族テトラカルボニルビスイミド骨格と架橋部位を持つ縮合ポリマー(電子輸送物質)と、架橋剤との重合物を含有する下引き層が開示されている。特許文献2では、下引き層に非加水分解性の縮重合性官能基を有する電子輸送物質の重合物を含有させることが開示されている。 As a technique for suppressing (reducing) such a ghost phenomenon, a technique for containing an electron transport material in an undercoat layer is known. In addition, from the viewpoint of the degree of freedom in material design of the photosensitive layer formed on the undercoat layer, the undercoat layer containing the electron transport material is made of a curable material that is hardly soluble in the solvent of the photosensitive layer coating solution. It is required to use. Therefore, Patent Document 1 discloses an undercoat layer containing a polymer of a condensation polymer (electron transport material) having an aromatic tetracarbonylbisimide skeleton and a crosslinking site, and a crosslinking agent. Patent Document 2 discloses that the undercoat layer contains a polymer of an electron transport material having a non-hydrolyzable polycondensable functional group.
近年、電子写真画像の品質に対する要求は高まる一方であり、上述のポジゴーストに対する許容範囲が格段に厳しくなってきている。 In recent years, the demand for the quality of electrophotographic images has been increasing, and the allowable range for the above-mentioned positive ghost has become much stricter.
そして本発明者らの検討の結果、特許文献1および2に開示された技術では、ポジゴーストの低減に関して、さらなる改善の必要があるものであった。同時に、下引き層、下引き層と感光層との界面で電荷が滞留しやすくなると、繰り返し使用後の電位変動が生じやすいため、電位変動を低減する必要がある。 As a result of the study by the present inventors, the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2 require further improvement with respect to the reduction of positive ghost. At the same time, if the charge tends to stay at the undercoat layer, or the interface between the undercoat layer and the photosensitive layer, the potential change after repeated use tends to occur, so the potential change needs to be reduced.
本発明の目的は、長期間繰り返し使用してもポジゴーストおよび電位変動が低減された電子写真感光体、ならびに、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which positive ghosts and potential fluctuations are reduced even after repeated use over a long period of time, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.
本発明は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体において、
該下引き層が下記式(1)で示される構造を有する硬化物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer.
The electrophotographic photoreceptor, wherein the undercoat layer contains a cured product having a structure represented by the following formula (1).
式(1)中、R1およびR3は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R2は、単結合、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のアルキレン基の置換基は、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、またはハロゲン原子である。該置換のフェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、またはハロゲン置換アルキル基である。R9は、水素原子、またはアルキル基を示す。A1は、下記式(A−1)〜(A−6)で示されるいずれかの基を示す。B1は、下記式(B−1)〜(B−3)のいずれかで示される基を示す。D1は、下記式(D)で示される主鎖の原子数が5から15の基である。E1は、下記式(E−1)〜(E−8)のいずれかで示される基である。 In formula (1), R 1 and R 3 each independently represents an alkylene group having 1 to 10 atoms in the substituted or unsubstituted main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 2 represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 10 atoms in the main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group. The substituent of the substituted alkylene group is an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, or a halogen atom. The substituent of the substituted phenylene group is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an alkyl group, or a halogen-substituted alkyl group. R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group. A 1 represents any group represented by the following formulas (A-1) to (A-6). B 1 represents a group represented by any of the following formulas (B-1) to (B-3). D 1 is a group having 5 to 15 atoms in the main chain represented by the following formula (D). E 1 is a group Ru indicated by any one of the following formulas (E-1) ~ (E -8).
R10は水素原子、またはアルキル基を示す。 R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
式(B−1)〜(B−3)中、R2は、単結合、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R6およびR7は、それぞれ独立に、主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、炭素数が1から5のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基を示す。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NHまたはNR15で置き換わっていても良い。R15はアルキル基である。Ar2は、置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のフェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキル基、またはハロゲン化アルキル基である。R12は、水素原子またはアルキル基を示す。A1およびA2は、前記式(A−1)〜(A−6)で示されるいずれかの基を示す。o、pおよびqは、それぞれ独立に、0または1であり、o、pおよびqの和は、1以上3以下である。*は、上記式(1)中のR3に結合する側を表す。 In formulas (B-1) to (B-3), R 2 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 10 atoms in the substituted or unsubstituted main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 6 and R 7 are each independently an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain, an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Number of main chain atoms substituted with a benzyl group substituted alkylene group with 1 to 5 atoms, a main chain substituted alkylene group with 1 to 5 atoms, or a phenyl group Represents an alkylene group of 1 to 5; One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, S, NH or NR 15 . R 15 is an alkyl group. Ar 2 represents a substituted or unsubstituted phenylene group. The substituent of the substituted phenylene group is a halogen atom, a nitro group, a hydroxy group, a cyano group, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group. A 1 and A 2 represent any group represented by the formulas (A-1) to (A-6). o, p, and q are each independently 0 or 1, and the sum of o, p, and q is 1 or more and 3 or less. * Represents the side bonded to R 3 in the above formula (1).
式(D)中、R4、R5、R6およびR7は、それぞれ独立に、主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、炭素数が1から5のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基を示す。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NHまたはNR15で置き換わっていても良い。R15はアルキル基である。Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のフェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキル基、またはハロゲン化アルキル基である。A2は、前記式(A−1)〜(A−6)のいずれかで示される基を示す。l、m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立に、0または1であり、l、mおよびnの和、o、pおよびqの和は、1以上3以下である。 In formula (D), R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a main chain substituted with an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. An alkylene group having 1 to 5 chain atoms, an alkylene group having 1 to 5 main chain atoms substituted with a benzyl group, an alkylene group having 1 to 5 main chain atoms substituted with an alkoxycarbonyl group, Or an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a phenyl group; One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, S, NH or NR 15 . R 15 is an alkyl group. Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted phenylene group. The substituent of the substituted phenylene group is a halogen atom, a nitro group, a hydroxy group, a cyano group, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. A 2 represents a group represented by any one of the formulas (A-1) to (A-6). l, m, n, o, p and q are each independently 0 or 1, and the sum of l, m and n and the sum of o, p and q are 1 or more and 3 or less.
式(E−1)〜(E−8)中、X 11〜X16、X21〜X29、X31〜X36、X41〜X48、X51〜X58、X61〜X66、X71〜X78、およびX81〜X88は、それぞれ独立に、単結合、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、複素環基、ニトロ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、または置換もしくは無置換のアルキル基を示す。
X 11 〜X 16 の少なくとも1つ、X 21 〜X 29 の少なくとも1つ、X 31 〜X 36 の少なくとも1つ、X 41 〜X 48 の少なくとも1つ、X 51 〜X 58 の少なくとも1つ、X 61 〜X 66 の少なくとも1つ、X 71 〜X 78 の少なくとも1つ、およびX 81 〜X 88 の少なくとも1つは、単結合である。
Z51〜Z52、Z61〜Z62、およびZ81は、それぞれ独立に、酸素原子、C(CN)2基、またはN−R11を示す。R11は、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のアルキル基を示す。
Wherein (E-1) ~ (E -8), X 11 ~X 16, X 21 ~X 29, X 31 ~X 36, X 41 ~X 48, X 51 ~X 58, X 61 ~X 66, X 71 to X 78 and X 81 to X 88 each independently represent a single bond , a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, a heterocyclic group, or a nitro group. Represents a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted alkyl group.
At least one of X 11 to X 16, at least one of X 21 to X 29, at least one of X 31 to X 36, at least one of X 41 to X 48, at least one of X 51 to X 58, at least one of X 61 to X 66, at least one of X 71 to X 78, at least one of and X 81 to X 88 is a single bond.
Z 51 to Z 52 , Z 61 to Z 62 , and Z 81 each independently represent an oxygen atom, a C (CN) 2 group, or N—R 11 . R 11 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted alkyl group.
また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジに関する。 Further, the present invention integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. The present invention relates to a process cartridge.
また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、露光手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置に関する。 The present invention also relates to an electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member, a charging unit, a developing unit, an exposure unit, and a transfer unit.
本発明によれば、長期間繰り返し使用してもポジゴーストおよび電位変動が低減された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member in which positive ghosts and potential fluctuations are reduced even after repeated use over a long period of time, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型(機能分離型)感光層であることが好ましい。さらに、電子写真特性の観点から、積層型感光層は、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層であることが好ましい。 The electrophotographic photoreceptor of the present invention is an electrophotographic photoreceptor having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer. The photosensitive layer is preferably a stacked type (functional separation type) photosensitive layer separated into a charge generation layer containing a charge generation material and a charge transport layer containing a charge transport material. Furthermore, from the viewpoint of electrophotographic characteristics, the multilayer photosensitive layer is preferably a normal photosensitive layer in which a charge generation layer and a charge transport layer are laminated in this order from the support side.
図4の(a)および(b)は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図1の(a)および(b)中、101は支持体であり、102は下引き層であり、103は感光層であり、104は電荷発生層、105は電荷輸送層である。 FIGS. 4A and 4B are views showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. In FIGS. 1A and 1B, 101 is a support, 102 is an undercoat layer, 103 is a photosensitive layer, 104 is a charge generation layer, and 105 is a charge transport layer.
下引き層は、下記式(1)で示される構造を有する層(硬化層)である。換言すれば、下引き層は、下記式(1)で示される構造を有する硬化物(重合体)を含有する。本発明の下引き層は、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。下引き層が2層以上である場合、それらのうちの少なくとも1層が下記式(1)で示される構造を有する。 The undercoat layer is a layer (cured layer) having a structure represented by the following formula (1). In other words, the undercoat layer contains a cured product (polymer) having a structure represented by the following formula (1). The undercoat layer of the present invention may be a single layer or two or more layers. When there are two or more undercoat layers, at least one of them has a structure represented by the following formula (1).
式(1)中、R1およびR3は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R2は、単結合、置換もしくは無置換の炭素数1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R9は、水素原子、またはアルキル基を示す。A1は、下記式(A−1)〜(A−6)で示されるいずれかの基を示す。B1は、下記式(B−1)〜(B−3)のいずれかで示される基を示す。D1は、下記式(D)で示される主鎖の原子数が5から15の基である。E1は、下記式(E−1)〜(E−8)のいずれかで示される基である。 In formula (1), R 1 and R 3 each independently represent a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 2 represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group. A 1 represents any group represented by the following formulas (A-1) to (A-6). B 1 represents a group represented by any of the following formulas (B-1) to (B-3). D 1 is a group having 5 to 15 atoms in the main chain represented by the following formula (D). E 1 is a group Ru indicated by any one of the following formulas (E-1) ~ (E -8).
該置換アルキレン基の置換基は、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、またはハロゲン原子である。該置換フェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基が挙げられる。 The substituent of the substituted alkylene group is an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, or a halogen atom. Examples of the substituent of the substituted phenylene group include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an alkyl group, and a halogen-substituted alkyl group.
R10は水素原子、またはアルキル基を示す。 R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
式(B−1)〜(B−3)中、R2は、単結合、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R6、R7は、それぞれ独立に、主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、炭素数1から5のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基を示す。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NHまたはNR15で置き換わっていても良い。R15はアルキル基である。Ar2は置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R12は、水素原子またはアルキル基を示す。A1およびA2は、前記式(A−1)〜(A−6)で示されるいずれかの基を示す。o、pおよびqは、それぞれ独立に0または1の整数であり、o、pおよびqの和は、1以上3以下である。該置換アルキレン基の置換基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子である。該置換フェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基などが挙げられる。*は、上記式(1)中のR3に結合する側を表す。 In formulas (B-1) to (B-3), R 2 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 10 atoms in the substituted or unsubstituted main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 6 and R 7 are each independently an alkylene group having 1 to 5 main chain atoms, an alkylene group having 1 to 5 main chain atoms substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, benzyl An alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a group, an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an atom number in the main chain substituted with a phenyl group. 1 to 5 alkylene groups are shown. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, S, NH or NR 15 . R 15 is an alkyl group. Ar 2 represents a substituted or unsubstituted phenylene group. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group. A 1 and A 2 represent any group represented by the formulas (A-1) to (A-6). o, p and q are each independently an integer of 0 or 1, and the sum of o, p and q is 1 or more and 3 or less. The substituent of the substituted alkylene group is an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom. Examples of the substituent of the substituted phenylene group include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group. * Represents the side bonded to R 3 in the above formula (1).
式(D)中、R4、R5、R6およびR7は、それぞれ独立に、主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、炭素数1から5のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基を示す。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NHまたはNR15で置き換わっていても良い。R15はアルキル基である。Ar1、Ar2は、置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のアルキレン基の置換基は、アルキル基、アリール基、およびハロゲン原子である。該置換フェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキル基、またはハロゲン化アルキル基である。A2は、前記式(A−1)〜(A−6)のいずれかで示される基を示す。l、m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立に0または1であり、l、mおよびnの和、o、pおよびqの和は、1以上3以下である。 In formula (D), R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a main chain substituted with an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. An alkylene group having 1 to 5 atoms, an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a benzyl group, an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or An alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a phenyl group is shown. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, S, NH or NR 15 . R 15 is an alkyl group. Ar 1 and Ar 2 represent a substituted or unsubstituted phenylene group. The substituent of the substituted alkylene group is an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom. The substituent of the substituted phenylene group is a halogen atom, a nitro group, a hydroxy group, a cyano group, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. A 2 represents a group represented by any one of the formulas (A-1) to (A-6). l, m, n, o, p and q are each independently 0 or 1, and the sum of l, m and n and the sum of o, p and q are 1 or more and 3 or less.
R4、R5、R6およびR7が、それぞれ独立に、メチル基もしくはエチル基置換の主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、または主鎖の原子数が1から5のアルキレン基であることが、より好ましい。Ar1およびAr2が、フェニレン基であることが、より好ましい。 R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently an alkylene group having 1 to 5 main chain atoms substituted with a methyl group or an ethyl group, or an alkylene group having 1 to 5 main chain atoms It is more preferable that More preferably, Ar 1 and Ar 2 are phenylene groups.
また、ポジゴースト抑制の観点から、より好ましくは、前記式(D)で示される主鎖の原子数が10以上15以下の基である。 Further, from the viewpoint of suppressing positive ghosts, more preferably a group having 10 to 15 atoms in the main chain represented by the formula (D).
式(E−1)〜(E−8)中、X 11〜X16、X21〜X29、X31〜X36、X41〜X48、X51〜X58、X61〜X66、X71〜X78、およびX81〜X88は、それぞれ独立に、単結合、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、複素環基、ニトロ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、または置換もしくは無置換のアルキル基を示す。該置換アルコキシ基の置換基は、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、ニトロ基、またはハロゲン原子である。該置換アルキル基の置換基は、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、ニトロ基、またはハロゲン原子である。
X 11 〜X 16 の少なくとも1つ、X 21 〜X 29 の少なくとも1つ、X 31 〜X 36 の少なくとも1つ、X 41 〜X 48 の少なくとも1つ、X 51 〜X 58 の少なくとも1つ、X 61 〜X 66 の少なくとも1つ、X 71 〜X 78 の少なくとも1つ、およびX 81 〜X 88 の少なくとも1つは、単結合である。
Z51〜Z52、Z61〜Z62、およびZ81は、それぞれ独立に、酸素原子、C(CN)2基、またはN−R11を示す。R11は、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のアルキル基を示す。該置換のアリール基の置換基は、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、ニトロ基、またはハロゲン原子である。該置換のアルキル基の置換基は、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ置換アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシ基、ニトロ基、またはハロゲン原子である。
Wherein (E-1) ~ (E -8), X 11 ~X 16, X 21 ~X 29, X 31 ~X 36, X 41 ~X 48, X 51 ~X 58, X 61 ~X 66, X 71 to X 78 and X 81 to X 88 each independently represent a single bond , a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, a heterocyclic group, or a nitro group. Represents a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted alkyl group. The substituent of the substituted alkoxy group includes a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkoxy group, an alkoxy-substituted alkoxy group, a halogen-substituted alkoxy group, and a nitro group. Or a halogen atom. The substituent of the substituted alkyl group includes a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkoxy group, an alkoxy-substituted alkoxy group, a halogen-substituted alkoxy group, and a nitro group. Or a halogen atom.
At least one of X 11 to X 16, at least one of X 21 to X 29, at least one of X 31 to X 36, at least one of X 41 to X 48, at least one of X 51 to X 58, at least one of X 61 to X 66, at least one of X 71 to X 78, at least one of and X 81 to X 88 is a single bond.
Z 51 to Z 52 , Z 61 to Z 62 , and Z 81 each independently represent an oxygen atom, a C (CN) 2 group, or N—R 11 . R 11 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted alkyl group. The substituent of the substituted aryl group includes a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkoxy group, an alkoxy-substituted alkoxy group, a halogen-substituted alkoxy group, a nitro group A group, or a halogen atom. The substituent of the substituted alkyl group includes a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy-substituted alkyl group, a halogenated alkyl group, an alkoxy group, an alkoxy-substituted alkoxy group, a halogen-substituted alkoxy group, a nitro group A group, or a halogen atom.
本発明の式(1)で示される構造において、式(1)中のR2は、下記式(1−A)に示される破線で囲まれている構造Xに結合している。なお、この構造Xは、樹脂鎖に相当する部分であると考えられる。 In the structure represented by the formula (1) of the present invention, R 2 in the formula (1) is bonded to the structure X surrounded by a broken line represented by the following formula (1-A). This structure X is considered to be a portion corresponding to a resin chain.
D1において、主鎖の原子数とは、上記式(D)の右端と左端の結合間の最短の原子数のことである。例えば、p−フェニレン基は主鎖の原子数が4である。m−フェニレン基は主鎖の原子数が3である。o−フェニレン基は主鎖の原子数が2である。 In D 1, and the number of atoms of the main chain, is that the shortest number of atoms in linkage of right and left ends of the above formula (D). For example, the p-phenylene group has 4 main chain atoms. The m-phenylene group has 3 main chain atoms. The o-phenylene group has 2 main chain atoms.
本発明者らは、下引き層が、上記式(1)で示される構造を有していることにより、長期間繰り返し使用してもポジゴーストが低減される理由を以下のように考えている。 The present inventors consider the reason why the positive ghost is reduced even when used repeatedly for a long time because the undercoat layer has the structure represented by the above formula (1) as follows. .
特許文献1の重合物では、電子輸送性化合物と架橋剤との距離(分子間距離)が長いため、電子トラップになりやすいと考えられる。下引き層中に電子トラップが形成されると、電子輸送性が低下しやすく、残留電荷が発生しやすくなる。これにより、長期間の繰り返し使用時に残留電荷が蓄積しやすくなることで、ポジゴーストの発生が起こると考えられる。 In the polymer of Patent Document 1, since the distance (intermolecular distance) between the electron transporting compound and the crosslinking agent is long, it is considered that the polymer easily becomes an electron trap. When an electron trap is formed in the undercoat layer, the electron transport property is likely to be lowered, and residual charges are likely to be generated. As a result, it is considered that the occurrence of positive ghost occurs because residual charges are likely to accumulate during repeated use over a long period of time.
本発明者らは、電子輸送性構造(E1)とイソシアヌレート構造(下記式(1−A)に示される破線で囲まれている部分)との間が、主鎖の原子数が5から15(5以上15以下)の基で結合していることにより、本願のポジゴーストが低減されると考えている。電子輸送性構造(E1)およびイソシアヌレート構造は、どちらも電子輸送性を有しており、この2つの構造が結合されることにより電子輸送性の要因と考えられる伝導準位を形成する。そして、電子輸送性構造とイソシアヌレート構造との間に式(D)で示される主鎖の原子数が5から15の基があることで、均一な伝導準位が形成されると考えられる。これにより、電荷がトラップされにくくなり、下引き層の残留電荷が抑制され、長期間の繰り返し使用時のポジゴーストが低減されていると考えられる。D1中の主鎖の原子数が5より小さい、D1中の主鎖の原子数が15より大きいと、長期間の繰り返し使用時に下引き層に残留電荷が蓄積し、ポジゴーストが起こりやすい。 The inventors of the present invention have a structure in which the number of atoms in the main chain is 5 between the electron transporting structure (E 1 ) and the isocyanurate structure (the part surrounded by the broken line shown in the following formula (1-A)). It is considered that the positive ghost of the present application is reduced by bonding with 15 (5 or more and 15 or less) groups. Both the electron transporting structure (E 1 ) and the isocyanurate structure have electron transporting properties, and by combining these two structures, a conduction level that is considered to be a factor of electron transporting properties is formed. And it is thought that a uniform conduction level is formed by the group having 5 to 15 atoms in the main chain represented by the formula (D) between the electron transporting structure and the isocyanurate structure. As a result, it is considered that charges are not easily trapped, residual charges in the undercoat layer are suppressed, and positive ghosts during long-term repeated use are reduced. D atoms of the main chain in 1 5 less, larger than D atoms in the main chain in 1 15, residual charge accumulated in the undercoat layer during long-term repeated use, prone to positive ghost .
D1中の主鎖の原子数が5より小さいと、ウレタン結合部分(−NHCO−)に直接イソシアヌレート構造または電子輸送性構造が結合することになる。この場合、ウレタン結合部分が加水分解を受けやすく、ウレタン結合が切断されやすくなると考えられる。そして、下引き層中の局所的な伝導準位が変化することによって、電荷トラップが発生し、長期間の繰り返し使用時に下引き層の残留電荷が蓄積しやすくなると考えられる。D1中の主鎖の原子数が15より大きいと、電子輸送性構造とイソシアヌレート構造が相互作用しにくく、電子輸送性構造同士が局在化し、イソシアヌレート構造同士が局在化しやすい。そのため、電子輸送性構造同士、イソシアヌレート構造同士で伝導準位が形成されるため、下引き層中で伝導準位が不均一になると考えられる。伝導準位が不均一になることで、電荷トラップが発生し、長期間の繰り返し使用時に下引き層の残留電荷が蓄積しやすくなると考えられる。 When the number of atoms of the main chain in D 1 is less than 5, an isocyanurate structure or an electron transport structure is bonded directly to the urethane bond portion (—NHCO—). In this case, it is considered that the urethane bond portion is easily hydrolyzed and the urethane bond is easily cleaved. Then, it is considered that a charge trap occurs due to a change in the local conduction level in the undercoat layer, and the residual charge in the undercoat layer is likely to accumulate during repeated use over a long period of time. When the number of atoms of the main chain in D 1 is greater than 15, the electron transporting structure and the isocyanurate structure are unlikely to interact with each other, the electron transporting structures are localized, and the isocyanurate structures are easily localized. For this reason, conduction levels are formed between the electron transporting structures and the isocyanurate structures, so that it is considered that the conduction levels are not uniform in the undercoat layer. When the conduction level becomes non-uniform, charge traps are generated, and it is considered that residual charges in the undercoat layer are likely to accumulate during repeated use over a long period of time.
以上より、本発明のように電子輸送性構造とイソシアヌレート構造との間が式(D)で示される主鎖の原子数が5以上15以下の基で結合されていると、長期間繰り返し使用時によるポジゴーストの低減が達成されると考えられる。 As described above, when the electron transporting structure and the isocyanurate structure are bonded with a group having 5 to 15 atoms in the main chain represented by the formula (D) as in the present invention, it can be used repeatedly for a long time. It is thought that the positive ghost reduction with time is achieved.
下引き層は、上記式(1)で示される構造を下引き層の全質量に対して30質量%以上70質量%以下含有することが好ましい。 The undercoat layer preferably contains the structure represented by the above formula (1) in an amount of 30% by mass to 70% by mass with respect to the total mass of the undercoat layer.
下引き層中の上記式(1)で示される構造の含有量は一般的な分析手法で解析可能である。以下に、分析手法の例を示す。下引き層中の上記式(1)で示される構造の含有量はFT−IRを用い、KBr−tab法を用いる。KBr紛に対してイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)添加量を変化させたサンプルでイソシアヌレート構造由来の吸収に基づいた検量線を作成することで、下引き層中の式(1)で示される構造の含有量を算出することができる。 The content of the structure represented by the above formula (1) in the undercoat layer can be analyzed by a general analysis method. Examples of analysis methods are shown below. For the content of the structure represented by the above formula (1) in the undercoat layer, FT-IR is used and the KBr-tab method is used. By creating a calibration curve based on the absorption derived from the isocyanurate structure in the sample in which the amount of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate added to the KBr powder is changed, the equation (1) in the undercoat layer shows The content of the structure to be obtained can be calculated.
さらに、式(1)で示される構造は、下引き層に対して、固体13C−NMR測定、質量分析測定、熱分解GC−MS分析によるMSスペクトル測定、赤外分光分析による特性吸収測定などの測定方法により確認することができる。例えば、固体13C−NMR測定は、Chemagnetics社製CMX−300Infiniyを用い、観測核13C、基準物質ポリジメチルシロキサン、積算回数8192回、パルス系列CP/MAS、DD/MAS、パルス幅2.1μsec(DD/MAS)、4.2μsec(CP/MAS)、コンタクトタイム2.0msec、試料回転数10kHzの条件で測定した。質量分析は質量分析計(MALDI−TOF MS:ブルカー・ダルトニクス(株)製 ultraflex)を用い、加速電圧:20kV、モード:Reflector、分子量標準品:フラーレンC60の条件で、分子量を測定した。得られたピークトップ値で確認した。 Furthermore, the structure represented by the formula (1) has a solid 13 C-NMR measurement, mass spectrometry measurement, MS spectrum measurement by pyrolysis GC-MS analysis, characteristic absorption measurement by infrared spectroscopy, etc. This can be confirmed by the measurement method. For example, solid 13 C-NMR measurement is performed using CMX-300 Infinity manufactured by Chemenetics, using observation nucleus 13 C, reference material polydimethylsiloxane, integration number 8192 times, pulse sequence CP / MAS, DD / MAS, pulse width 2.1 μsec. (DD / MAS) Measurement was performed under the conditions of 4.2 μsec (CP / MAS), contact time 2.0 msec, and sample rotation speed 10 kHz. Mass spectrometry Mass spectrometry: using (MALDI-TOF MS Bruker Daltonics Co. ultraflex), accelerating voltage: 20 kV, mode: Reflector, molecular weight standard product: the conditions of fullerene C 60, to measure the molecular weight. It confirmed with the obtained peak top value.
下引き層は、上記式(1)で示される構造以外にも、成膜性や電子写真特性を良化させるために、種々の樹脂、架橋剤、レベリング剤、金属酸化物粒子などを含有してもよい。ただし、それらの含有量は、下引き層の全質量に対して50質量%未満であることが好ましく、20質量%未満であることがより好ましい。また、下引き層の膜厚は0.1μm以上5.0μm以下が好ましい。 In addition to the structure represented by the above formula (1), the undercoat layer contains various resins, cross-linking agents, leveling agents, metal oxide particles and the like in order to improve film forming properties and electrophotographic characteristics. May be. However, the content thereof is preferably less than 50% by mass and more preferably less than 20% by mass with respect to the total mass of the undercoat layer. The thickness of the undercoat layer is preferably 0.1 μm or more and 5.0 μm or less.
以下に、式(1)で示される構造の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されない。 Although the specific example of the structure shown by Formula (1) below is shown, this invention is not limited to these.
ここで、式(1)中のE1の右側は、水素原子、置換もしくは無置換のアリール基、アルキル基、または、結合部位を示す。置換もしくは無置換のアルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NH、またはNR16で置き換わっていても良い。R16はアルキル基である。置換アリール基の置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、またはシアノ基が挙げられる。置換アルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、またはシアノ基が挙げられる。結合部位の場合は、置換もしくは無置換のアリーレン基、または、アルキレン基を介して式(1)で示される構造からE1を除いて、D1に結合していることを示す。置換アリーレン基の置換基は、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基が挙げられる。また、l、m、n、o、pおよびqは、0または1である。 Here, the right side of E 1 in Formula (1) represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group, an alkyl group, or a bonding site. One of the carbon atoms in the main chain of the substituted or unsubstituted alkyl group may be replaced with O, S, NH, or NR 16 . R 16 is an alkyl group. Examples of the substituent of the substituted aryl group include an alkyl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group. Examples of the substituent of the substituted alkyl group include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group. In the case of a binding site, it indicates that it is bonded to D 1 by removing E 1 from the structure represented by formula (1) via a substituted or unsubstituted arylene group or an alkylene group. Examples of the substituent of the substituted arylene group include an alkyl group, a halogen atom, and a nitro group. L, m, n, o, p and q are 0 or 1.
表中のB1は、下記式(B−1)〜(B−3)のいずれかで示される基を示す。ここで、(B−2)中のE1の右側は、水素原子、置換もしくは無置換のアリール基、アルキル基、複素環基または、結合部位を示す。置換アリール基の置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基が挙げられる。結合部位の場合は、置換もしくは無置換のアリーレン基、または、アルキレン基を介して上記式(1)で示される構造からE1を除いて、上記式(1)中のD1に結合していることを示す。式(B−3)中、R2の下側は、下引き層中に存在する樹脂の側鎖に結合していることを示す。 B 1 in the table represents a group represented by any of the following formulas (B-1) to (B-3). Here, the right side of E 1 in (B-2) represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group, an alkyl group, a heterocyclic group, or a bonding site. Examples of the substituent for the substituted aryl group include an alkyl group, a halogen atom, and a nitro group. In the case of a binding site, E 1 is excluded from the structure represented by the above formula (1) via a substituted or unsubstituted arylene group or an alkylene group, and the bond is bonded to D 1 in the above formula (1). Indicates that In formula (B-3), the lower side of R 2 indicates that it is bonded to the side chain of the resin present in the undercoat layer.
下記の表1から表9中、結合部位は破線で示す。また、単結合である場合は「単」と示す。また、式(1)の左右の向きと表1から表9中の各構造の左右の向きは同じである。また、表1から表9中の例示化合物において、式(1)中のR9は、すべて水素原子である。 In Tables 1 to 9 below, the binding sites are indicated by broken lines. In the case of a single bond, “single” is indicated. Moreover, the left-right direction of Formula (1) and the left-right direction of each structure in Table 1 to Table 9 are the same. Moreover, in the exemplary compounds in Table 1 to Table 9, all of R 9 in Formula (1) are hydrogen atoms.
本発明の式(1)で示される構造を有する下引き層は、以下のようして形成できる。まず、イソシアネート化合物(架橋剤)、イソシアネート化合物のイソシアネート基と反応可能な重合性官能基を有する樹脂、およびイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応可能な重合性官能基を有する電子輸送物質を溶剤に溶解させる。これにより、下引き層用塗布液を調製し、その下引き層用塗布液の塗膜を形成して、塗膜を熱硬化することで得られる。熱硬化は、塗膜の乾燥中に反応させた方が均一に反応させることができるため好ましい。 The undercoat layer having the structure represented by the formula (1) of the present invention can be formed as follows. First, an isocyanate compound (crosslinking agent), a resin having a polymerizable functional group capable of reacting with an isocyanate group of the isocyanate compound, and an electron transporting material having a polymerizable functional group capable of reacting with the isocyanate group of the isocyanate compound are dissolved in a solvent. . Thereby, the coating liquid for undercoat layers is prepared, the coating film of the coating liquid for undercoat layers is formed, and it obtains by thermosetting a coating film. Thermal curing is preferable because the reaction can be performed uniformly during drying of the coating film.
上記イソシアネート化合物は、イソシアヌレート構造を有している。また、イソシアネート化合物のイソシアネート基が、例えばオキシムなどのブロック剤で保護されたイソシアネート化合物(ブロック化イソシアネート化合物)であることが好ましい。ブロック化イソシアネート化合物は、上記樹脂および上記電子輸送物質とともに加熱をすることで付加反応を開始し、ブロック剤が外れて架橋反応が進む。そして、下引き層に式(1)で示される構造を有する硬化物が得られる。 The isocyanate compound has an isocyanurate structure. The isocyanate group of the isocyanate compound is preferably an isocyanate compound (blocked isocyanate compound) protected with a blocking agent such as oxime. When the blocked isocyanate compound is heated together with the resin and the electron transport material, the addition reaction is started, and the blocking agent is removed and the crosslinking reaction proceeds. And the hardened | cured material which has a structure shown by Formula (1) in an undercoat layer is obtained.
前記ブロック剤としては、酢酸エチル、アセチルアセトンなどの活性メチレン系化合物、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのメルカプタン系化合物、アセトアニリド、酢酸アミドなどの酸アミド系化合物、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタムなどのラクタム系化合物、コハク酸イミド、マレイン酸イミドなどの酸イミド系化合物、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、などのイミダゾール系化合物、尿素、チオ尿素、エチレン尿素などの尿素系化合物、ホルムアミドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトンオキシム、メチルエチルケトオキシム、メチルイソブチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム系化合物、ジフェニルアニリン、アニリン、カルバゾール、エチレンイミン、ポリエチレンイミンなどのアミン系化合物が挙げられ、これらのブロック剤は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of the blocking agent include active methylene compounds such as ethyl acetate and acetylacetone, mercaptan compounds such as butyl mercaptan and dodecyl mercaptan, acid amide compounds such as acetanilide and acetic acid amide, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ- Lactam compounds such as butyrolactam, acid imide compounds such as succinimide and maleic imide, imidazole compounds such as imidazole and 2-methylimidazole, urea compounds such as urea, thiourea and ethyleneurea, formamide oxime, Oxime compounds such as acetoaldoxime, acetone oxime, methyl ethyl ketoxime, methyl isobutyl ketoxime, cyclohexanone oxime, diphenylaniline, aniline, carbazole, ethylene Min, include amine compounds such as polyethyleneimine, these blocking agents can be used alone or in combination of two or more kinds of them.
これらのブロック剤の中でも、汎用性、製造の容易さ、作業性、熱硬化温度の観点から、メチルエチルケトオキシムなどのオキシム系化合物、ε−カプロラクタムなどのラクタム系化合物、2−メチルイミダゾールなどのイミダゾール系化合物が好ましい。 Among these blocking agents, oxime compounds such as methyl ethyl ketoxime, lactam compounds such as ε-caprolactam, and imidazole compounds such as 2-methylimidazole from the viewpoints of versatility, ease of production, workability, and thermosetting temperature. Compounds are preferred.
次に、上記イソシアネート化合物の例を以下に挙げる。 Next, the example of the said isocyanate compound is given below.
イソシアネート化合物のイソシアネート基(モル数=Iとする)は、上記樹脂の重合性官能基および上記電子輸送物質の重合性官能基の和(モル数=Hとする)に対して、0.5以上2.5以下のモル比(I/H)の割合で存在するのが好ましい。このモル比(I/H)が0.5以上2.5以下であると、イソシアネート基と重合性官能基の反応効率が良く、架橋密度が高まるため好ましい。 The isocyanate group of the isocyanate compound (number of moles = I) is 0.5 or more with respect to the sum of the polymerizable functional group of the resin and the polymerizable functional group of the electron transport material (number of moles = H). It is preferably present at a molar ratio (I / H) of 2.5 or less. It is preferable for this molar ratio (I / H) to be 0.5 or more and 2.5 or less because the reaction efficiency between the isocyanate group and the polymerizable functional group is good and the crosslinking density is increased.
上記樹脂の重合性官能基は、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基であるのが好ましい。さらには、イソシアネート基との反応効率が高い、ヒドロキシ基またはアミノ基であるのが好ましい。つまり、樹脂としては、2つ以上のヒドロキシ基またはアミド基を有するポリオール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂またはポリアミド樹脂が好ましい。本発明で用いられる樹脂の分子量としては、重量平均分子量(Mw)=5000〜1500000の範囲が好ましい。 The polymerizable functional group of the resin is preferably a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, or a thiol group. Furthermore, it is preferable that it is a hydroxyl group or an amino group with high reaction efficiency with an isocyanate group. That is, the resin is preferably a polyol resin, polyvinyl phenol resin, polyvinyl phenol resin or polyamide resin having two or more hydroxy groups or amide groups. The molecular weight of the resin used in the present invention is preferably in the range of weight average molecular weight (Mw) = 5000 to 1500,000.
上記式(1)で示される構造を有する硬化物は、さらに下記式(2)で示される構造を有することが好ましい。つまり、樹脂が下記式(2)で示される構造を有することが好ましい。式(2)で示される構造を有すると、下引き層の下層や上層との接着性、下引き層の膜厚均一性が良好となり、より長期間繰り返し使用時におけるポジゴーストおよび電位変動が低減される。 The cured product having the structure represented by the above formula (1) preferably further has a structure represented by the following formula (2). That is, the resin preferably has a structure represented by the following formula (2). With the structure represented by the formula (2), the adhesion of the undercoat layer to the lower layer and the upper layer and the film thickness uniformity of the undercoat layer are improved, and the positive ghost and potential fluctuation during repeated use for a longer period are reduced. Is done.
式(2)中、R8は置換もしくは無置換の炭素数1〜5のアルキル基を示す。該置換アルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子である。 In the formula (2), R 8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The substituent of the substituted alkyl group is an alkyl group, an aryl group or a halogen atom.
D1中のR4、R5、R6およびR7は、それぞれ独立に、メチル基もしくはエチル基置換の主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、または主鎖の原子数が1から5のアルキレン基であることが、初期ポジゴーストが低減の観点から好ましい。 R 4 , R 5 , R 6 and R 7 in D 1 are each independently an alkylene group having a methyl or ethyl group-substituted main chain having 1 to 5 atoms or a main chain having 1 to 5 atoms. 5 is preferable from the viewpoint of reducing the initial positive ghost.
上記式(1)で示される構造を有する重合体は、D1中の、Ar1およびAr2は、それぞれ独立に無置換のフェニレン基あることが、初期ポジゴーストが低減の観点から好ましい。 In the polymer having the structure represented by the above formula (1), Ar 1 and Ar 2 in D 1 are preferably each independently an unsubstituted phenylene group from the viewpoint of reducing initial positive ghost.
次に、上記重合性官能基を有する電子輸送物質の例を以下に挙げる。 Next, examples of the electron transport material having the polymerizable functional group are listed below.
これらの電子輸送物質の中でも、より好ましくは、例示化合物(E−1−1)から(E−1−34)に例示した化合物が好ましい。また、重合性官能基を2つ以上有している電子輸送物質は、重合(架橋)密度を高めやすいため、好ましい。 Among these electron transport materials, the compounds exemplified in the exemplified compounds (E-1-1) to (E-1-34) are more preferred. In addition, an electron transport material having two or more polymerizable functional groups is preferable because it tends to increase the polymerization (crosslinking) density.
(E−1)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、米国特許第4442193号公報、米国特許第4992349号公報、米国特許第5468583号公報、Chemistry of materials,Vol.19,No.11,2703−2705(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)やジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成する事が出来る。 Derivatives having a structure of (E-1) (electron transport material derivatives) are disclosed in, for example, US Pat. No. 4,442,193, US Pat. No. 4,992,349, US Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, no. It is possible to synthesize using a known synthesis method described in 11, 2703-2705 (2007). Moreover, it can synthesize | combine by reaction with the naphthalene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., and Johnson Matthey Japan Incorporated.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには以下の方法が挙げられる。例えば、(E−1)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法。前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法が挙げられる。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体またはモノアミン誘導体を用いる方法がある。 Moreover, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the crosslinking agent, the following method may be mentioned. For example, a method of directly introducing a polymerizable functional group into a derivative having the structure (E-1). There is a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. A method for introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. Based on the halide of the naphthylimide derivative, a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation is used. As a raw material when synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method of using the polymerizable functional group or a naphthalene tetracarboxylic dianhydride derivative or a monoamine derivative having a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.
(E−2)または(E−8)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フルオレノン誘導体とマロノニトリルを用い、米国特許第4562132号公報に記載の合成方法を用いて合成することができる。また、フルオレノン誘導体およびアニリン誘導体を用い、特開平5−279582号公報、特開平7−70038号公報に記載の合成方法を用いて合成することもできる。 The derivative having the structure of (E-2) or (E-8) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, it can be synthesized using a fluorenone derivative and malononitrile by the synthesis method described in US Pat. No. 4,562,132. Moreover, it can also synthesize | combine using the synthesis method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 5-279582 and Unexamined-Japanese-Patent No. 7-70038 using a fluorenone derivative and an aniline derivative.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには以下の方法が挙げられる。例えば、(E−2)または(E−8)の構造を有する誘導体に、重合性官能基を導入する方法。重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフルオレノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。フルオレノンのハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。フルオレノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。 Moreover, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the crosslinking agent, the following method may be mentioned. For example, a method of introducing a polymerizable functional group into a derivative having the structure (E-2) or (E-8). There is a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group that becomes a precursor of the polymerizable functional group. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of fluorenone. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of fluorenone. There is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group based on a halide of fluorenone by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.
(E−3)の構造を有する誘導体は、例えばChemistry Letters,37(3),360−361(2008)、特開平9−151157号公報に記載の合成方法を用いて合成することが出来る。また、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。 The derivative having the structure of (E-3) can be synthesized by using a synthesis method described in, for example, Chemistry Letters, 37 (3), 360-361 (2008), and JP-A-9-151157. Moreover, it can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには、ナフトキノン誘導体に重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばナフトキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。ナフトキノンのハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。ナフトキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 In addition, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) that can be polymerized with a crosslinking agent, a functional group that becomes a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group is added to a naphthoquinone derivative. There is a method for introducing a structure having the same. As this method, for example, based on a naphthoquinone halide, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a naphthoquinone halide. Based on the naphthoquinone halide, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.
(E−4)の構造を有する誘導体は、例えば特開平1−206349号公報、PPCI/Japan Hard Copy’98 予稿集p.207(1998)に記載の合成方法を用いて合成することができる。例えば、東京化成工業(株)またはシグマアルドリッチジャパン(株)から購入可能なフェノール誘導体を原料として合成することができる。 Derivatives having the structure of (E-4) are disclosed in, for example, JP-A-1-206349, PPCI / Japan Hard Copy '98 Preliminary Collection p. 207 (1998). For example, a phenol derivative that can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. or Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. can be used as a raw material.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばジフェノキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。ジフェノキノンのハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。ジフェノキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 Moreover, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) that can be polymerized with a crosslinking agent, a structure having a functional group that becomes a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group is used. There is a way to introduce. As this method, for example, based on a halide of diphenoquinone, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a diphenoquinone halide. Based on the diphenoquinone halide, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.
(E−5)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フェナントレン誘導体またはフェナントロリン誘導体を基に、Chem.Educator No.6,227−234(2001)、有機合成化学協会誌,vol.15,29−32(1957)、有機合成化学協会誌,vol.15,32−34(1957)に記載の合成方法で合成することもできる。また、マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することもできる。 The derivative having the structure of (E-5) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Chem. Educator No. 6, 227-234 (2001), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 29-32 (1957), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 32-34 (1957). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには以下の方法が挙げられる。例えば、上記式(E−5)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。フェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 Moreover, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the crosslinking agent, the following method may be mentioned. For example, after synthesizing a derivative having the structure of the above formula (E-5), a method of directly introducing a polymerizable functional group, a structure having a functional group that becomes a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group is introduced. There is a way to do it. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. Based on the halide of phenanthrenequinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.
(E−6)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。また、フェナントレン誘導体またはフェナントロリン誘導体を基に、Bull.Chem.Soc.Jpn.,Vol.65,1006−1011(1992)に記載の合成方法で合成することもできる。マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することもできる。 The derivative having the structure of (E-6) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Also, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Bull. Chem. Soc. Jpn. , Vol. 65, 1006-1011 (1992). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには以下の方法が挙げられる。例えば、上記式(E−6)の構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。フェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 Moreover, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the crosslinking agent, the following method may be mentioned. For example, after synthesizing a derivative having the structure of the above formula (E-6), a method for directly introducing a polymerizable functional group, a structure having a functional group that becomes a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group is introduced. There is a way to do it. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of phenanthroline quinone. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of phenanthroline quinone. Based on the halide of phenanthroline quinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.
(E−7)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。 The derivative having the structure of (E-7) can be purchased from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Incorporated.
また、架橋剤と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するためには、購入可能なアントラキノン誘導体に重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばアントラキノンのハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。アントラキノンのハロゲン化物を元に、FeCl3触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。アントラキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 Moreover, in order to have a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) that can be polymerized with a crosslinking agent, it becomes a polymerizable functional group or a precursor of a polymerizable functional group to a commercially available anthraquinone derivative. There is a method of introducing a structure having a functional group. As this method, for example, based on an anthraquinone halide, a functional group-containing aryl group is introduced using, for example, a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. A method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using an FeCl 3 catalyst and a base based on an anthraquinone halide. Based on the anthraquinone halide, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.
下引き層用塗布液に用いられる溶剤としては、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。より具体的には、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これらの溶剤は、単独あるいは2種以上を混合して用いることができる。2種以上混合して用いる場合、混合溶媒として上記イソシアネート化合物と、上記樹脂と、上記電子輸送物質を溶解することができる溶媒であれば、特に限定されない。 Examples of the solvent used in the coating solution for the undercoat layer include alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents, ester solvents, and the like. It is done. More specifically, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyselsolve, ethylcellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene Examples include chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene. These solvents can be used alone or in admixture of two or more. In the case of using a mixture of two or more kinds, there is no particular limitation as long as it is a solvent that can dissolve the isocyanate compound, the resin, and the electron transport material as a mixed solvent.
本発明の電子写真感光体は、一般的には、円筒状支持体上に感光層(電荷発生層、電荷輸送層)を形成してなる円筒状の電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状、シート状などの形状とすることも可能である。 The electrophotographic photosensitive member of the present invention is generally a cylindrical electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer (a charge generation layer, a charge transport layer) is formed on a cylindrical support. It is also possible to have a shape such as a shape or a sheet shape.
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましく、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄などの金属または合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体、または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。 As the support, those having conductivity (conductive support) are preferable, and for example, a support made of a metal such as aluminum, nickel, copper, gold, iron, or an alloy can be used. A support in which a thin film of metal such as aluminum, silver, or gold is formed on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, or glass, or a thin film of conductive material such as indium oxide or tin oxide is formed. A support is mentioned.
支持体の表面は、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。 The surface of the support may be subjected to electrochemical treatment such as anodic oxidation, wet honing treatment, blast treatment, cutting treatment, etc. in order to improve electrical characteristics and suppress interference fringes.
支持体と、上述の下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、塗膜を乾燥させることで得られる。導電性粒子としては、たとえば、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀のような金属粉や、導電性酸化スズ、ITOのような金属酸化物粉体が挙げられる。 A conductive layer may be provided between the support and the undercoat layer described above. The conductive layer is obtained by forming a coating film of a coating solution for conductive layer in which conductive particles are dispersed in a resin on a support and drying the coating film. Examples of the conductive particles include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, and silver, and metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned.
また、樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。 Examples of the resin include polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin.
導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。導電層の膜厚は、0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより好ましい。 Examples of the solvent for the conductive layer coating solution include ether solvents, alcohol solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents. The thickness of the conductive layer is preferably 0.2 μm or more and 40 μm or less, more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and even more preferably 5 μm or more and 30 μm or less.
支持体または導電層と、感光層との間には、上述の下引き層が設けられる。 The undercoat layer described above is provided between the support or the conductive layer and the photosensitive layer.
次に、下引き層上には感光層が設けられる。 Next, a photosensitive layer is provided on the undercoat layer.
電荷発生物質としては、アゾ顔料や、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン該導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、またはフタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。 Examples of charge generating materials include azo pigments, perylene pigments, anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives, isoviolanthrone conductors, indigo derivatives, thioindigo derivatives, metal phthalocyanines, metal-free Examples thereof include phthalocyanine pigments such as phthalocyanine and bisbenzimidazole derivatives. Among these, azo pigments or phthalocyanine pigments are preferable. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine are preferable.
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体および共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル、ポリカーボネートおよびポリビニルアセタールが好ましく、これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。 When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the binder resin used for the charge generation layer includes vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinylidene fluoride, and trifluoroethylene. Polymers and copolymers, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polycarbonate resin, polyester resin, polysulfone resin, polyphenylene oxide resin, polyurethane resin, cellulose resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, epoxy resin, etc. It is done. Among these, polyester, polycarbonate, and polyvinyl acetal are preferable, and among these, a polyvinyl acetal resin is more preferable.
電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との比率(電荷発生物質/結着樹脂)は、10/1〜1/10の範囲であることが好ましく、5/1〜1/5の範囲であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。 In the charge generation layer, the ratio of the charge generation material to the binder resin (charge generation material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, and in the range of 5/1 to 1/5. It is more preferable that The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less. Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.
正孔輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミン化合物などが挙げられる。また、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーも挙げられる。 Examples of the hole transport material include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine compounds. Also included are polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain.
感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層(正孔輸送層)に用いられる結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの樹脂の重量平均分子量(Mw)は、10,000〜300,000の範囲であることが好ましい。 When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the binder resin used for the charge transport layer (hole transport layer) is a polyester resin, polycarbonate resin, polymethacrylate resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polystyrene resin. Etc. Among these, polycarbonate resin and polyarylate resin are preferable. The weight average molecular weight (Mw) of these resins is preferably in the range of 10,000 to 300,000.
電荷輸送層において、正孔輸送物質と結着樹脂との比率(正孔輸送物質/結着樹脂)は、10/5〜5/10の範囲であることが好ましく、10/8〜6/10の範囲であることがより好ましい。正孔輸送層の膜厚は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。 In the charge transport layer, the ratio of the hole transport material to the binder resin (hole transport material / binder resin) is preferably in the range of 10/5 to 5/10, and 10/8 to 6/10. More preferably, it is the range. The thickness of the hole transport layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less.
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。 Examples of the solvent used in the charge transport layer coating liquid include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.
また、感光層(電荷輸送層)上には、導電性粒子または正孔輸送物質と、結着樹脂とを含有する保護層(表面保護層)を形成してもよい。保護層には、潤滑剤などの添加剤をさらに含有してもよい。また、保護層の結着樹脂自体に導電性や正孔輸送性を有させてもよい。その場合、保護層には、当該樹脂以外の導電性粒子や正孔輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光または放射線(電子線など)などにより硬化(重合)させてなる硬化性樹脂であってもよい。 In addition, a protective layer (surface protective layer) containing conductive particles or a hole transport material and a binder resin may be formed on the photosensitive layer (charge transport layer). The protective layer may further contain an additive such as a lubricant. Further, the binder resin itself of the protective layer may have conductivity and hole transportability. In that case, the protective layer may not contain conductive particles or a hole transport material other than the resin. The binder resin for the protective layer may be a thermoplastic resin, or a curable resin that is cured (polymerized) by heat, light, radiation (electron beam or the like), and the like.
下引き層、電荷発生層、電荷輸送層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解もしくは分散させて得られた塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および/重合させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。 As a method for forming each layer constituting the electrophotographic photosensitive member such as an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer, a coating solution obtained by dissolving or dispersing materials constituting each layer in a solvent is applied, The method of forming by drying and / or polymerizing the obtained coating film is preferable. Examples of the method for applying the coating liquid include a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a curtain coating method, and a spin coating method. Among these, the dip coating method is preferable from the viewpoints of efficiency and productivity.
図1に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す。 FIG. 1 shows a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
図1において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラーなど)により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。 In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cylindrical electrophotographic photosensitive member, which is rotationally driven in a direction of an arrow about a shaft 2 at a predetermined peripheral speed. The surface (circumferential surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 that is rotationally driven is uniformly charged to a predetermined positive or negative potential by a charging unit 3 (primary charging unit: charging roller or the like). Next, it receives exposure light (image exposure light) 4 from exposure means (not shown) such as slit exposure or laser beam scanning exposure. In this way, electrostatic latent images corresponding to the target image are sequentially formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1.
電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)6からの転写バイアスによって、転写材(紙など)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて給送される。 The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is then developed with toner contained in the developer of the developing means 5 to become a toner image. Next, the toner image formed and supported on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is sequentially transferred onto a transfer material (such as paper) P by a transfer bias from a transfer unit (such as a transfer roller) 6. The transfer material P is taken out from the transfer material supply means (not shown) between the electrophotographic photoreceptor 1 and the transfer means 6 (contact portion) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photoreceptor 1 and fed. Is done.
トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。 The transfer material P that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and introduced into the fixing means 8 to receive the image fixing, and is printed out as an image formed product (print, copy). Is done.
トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレードなど)7によって転写残りの現像剤(トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図2に示すように、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。 The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the transfer of the toner image is cleaned by receiving a developer (toner) remaining after transfer by a cleaning means (cleaning blade or the like) 7. Next, after being subjected to charge removal processing by pre-exposure light (not shown) from pre-exposure means (not shown), it is repeatedly used for image formation. As shown in FIG. 2, when the charging unit 3 is a contact charging unit using a charging roller or the like, pre-exposure is not necessarily required.
上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6およびクリーニング手段7などの構成要素のうち、複数のものを選択し容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成してもよい。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図1では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5およびクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。 A plurality of components such as the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5, the transfer unit 6 and the cleaning unit 7 described above are selected and placed in a container, and integrally combined as a process cartridge. May be. The process cartridge may be configured to be detachable from an electrophotographic apparatus main body such as a copying machine or a laser beam printer. In FIG. 1, an electrophotographic photosensitive member 1, a charging unit 3, a developing unit 5 and a cleaning unit 7 are integrally supported to form a cartridge, and an electrophotographic apparatus is provided using a guide unit 10 such as a rail of the electrophotographic apparatus main body. The process cartridge 9 is detachable from the main body.
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. In the examples, “part” means “part by mass”.
(実施例1)
以下のように作成された電子写真感光体を2本用意した。1本は、下引き層の構造解析に用い、もう1本は、ポジゴーストの評価に用いた。
Example 1
Two electrophotographic photoreceptors prepared as follows were prepared. One was used for structural analysis of the undercoat layer, and the other was used for evaluation of positive ghost.
長さ260.5mmおよび直径30mmのアルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。 An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 260.5 mm and a diameter of 30 mm was used as a support (conductive support).
次に、酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子(粉体抵抗率:120Ω・cm、SnO2の被覆率(質量比率):40%。)50部、フェノール樹脂(プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60%。)40部、メトキシプロパノール40部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルで3時間分散処理して、導電層用塗布液(分散液)を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間145℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が16μmの導電層を形成した。 Next, titanium oxide particles coated with oxygen-deficient tin oxide (powder resistivity: 120 Ω · cm, SnO 2 coverage (mass ratio): 40%), 50 parts of phenol resin (Pryofen J- 325, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., resin solid content: 60%.) 40 parts and 40 parts of methoxypropanol were dispersed for 3 hours in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm to apply for a conductive layer. A liquid (dispersion) was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 145 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 16 μm.
この導電層用塗布液における酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子の平均粒径を、(株)堀場製作所製の粒度分布計(商品名:CAPA700)を用い、テトラヒドロフランを分散媒とし、回転数5000rpmにて遠心沈降法で測定した。その結果、平均粒径は、0.33μmであった。 The average particle diameter of the titanium oxide particles coated with oxygen-deficient tin oxide in the coating liquid for the conductive layer was measured using a particle size distribution meter (trade name: CAPA700) manufactured by Horiba, Ltd., and tetrahydrofuran as a dispersion medium. , And measured by centrifugal sedimentation at a rotational speed of 5000 rpm. As a result, the average particle size was 0.33 μm.
次に、電子輸送物質として例示化合物(E−1−1)3.6部、イソシアネート化合物として例示化合物(I−8)6.2部、および樹脂としてブチラール樹脂(商品名:BM−1、積水化学工業(株)製。)1.29部を、メチルエチルケトン50部とジメチルアセトアミド50部の混合溶液に溶解した。得られた溶液に、触媒としてジオクチルスズジウラレートを0.031部添加して、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を、上記導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間160℃で加熱し、重合(硬化)させることによって、膜厚が0.5μmの下引き層を形成した。 Next, 3.6 parts of exemplary compound (E-1-1) as an electron transport substance, 6.2 parts of exemplary compound (I-8) as an isocyanate compound, and butyral resin (trade name: BM-1, Sekisui as resin) 1.29 parts of Chemical Industry Co., Ltd. was dissolved in a mixed solution of 50 parts of methyl ethyl ketone and 50 parts of dimethylacetamide. 0.031 parts of dioctyltin diurarate as a catalyst was added to the obtained solution to prepare a coating solution for an undercoat layer. The undercoat layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated for 30 minutes at 160 ° C. and polymerized (cured), whereby the undercoat layer has a thickness of 0.5 μm. Formed.
次に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質、CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に強いピークを有する。)10部、ブチラール樹脂(商品名:BX−1、積水化学工業(株)製)5部およびシクロヘキサノン260部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル240部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、上記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間95℃で乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。 Next, hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generation material, BraK angle (2θ ± 0.2 °) of CuKα characteristic X-ray diffraction of 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18 10 parts, butyral resin (trade name: BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 260 parts of cyclohexanone having a diameter of 6 parts, 6 parts, 25.1 degrees and 28.3 degrees. The mixture was placed in a sand mill using 1 mm glass beads and dispersed for 1.5 hours. Next, 240 parts of ethyl acetate was added thereto to prepare a charge generation layer coating solution. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 95 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.18 μm.
次に、ポリアリレート樹脂(下記式(16−1)で示される繰り返し構造単位と、下記式(16−2)で示される繰り返し構造単位を5/5の割合で有し、重量平均分子量(Mw)が100,000である。)10部、および下記式(15)で示されるアミン化合物(正孔輸送物質)7部を、ジメトキシメタン30部およびクロロベンゼン70部の混合溶媒に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を40分間120℃で乾燥させることによって、膜厚が18μmの電荷輸送層を形成した。 Next, a polyarylate resin (having a repeating structural unit represented by the following formula (16-1) and a repeating structural unit represented by the following formula (16-2) at a ratio of 5/5, and having a weight average molecular weight (Mw ) Is 100,000.) By dissolving 10 parts and 7 parts of an amine compound (hole transport material) represented by the following formula (15) in a mixed solvent of 30 parts of dimethoxymethane and 70 parts of chlorobenzene, A coating solution for charge transport layer was prepared. The charge transport layer coating solution was dip coated on the charge generation layer, and the resulting coating film was dried at 120 ° C. for 40 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 18 μm.
このようにして、支持体上に導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を有する電子写真感光体を製造した。 Thus, an electrophotographic photosensitive member having a conductive layer, an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer on a support was produced.
下引き層の構造は、以下のようにして解析した。下引き層の構造解析用の電子写真感光体をジメトキシメタン40部およびクロロベンゼン60部の混合溶剤に5分間浸漬させて超音波を印加し、正孔輸送層を剥離させた。次に、ラッピングテープ(C2000:富士写真フィルム(株)製)を用いて電荷発生層を研磨した後、10分100℃で乾燥させることによって、下引き層の構造解析用電子写真感光体とした。尚、FTIR−ATR法を用いて下引き層表面に電荷輸送層および電荷発生層の成分が残留していない事を確認した。感光体を25℃/50%RH環境下に24時間放置後、電子写真感光体の中央部(端から130mm位置)を1cm角に切り出し、下引き層の構造解析用サンプルとした。上述の固体13C−NMR測定、質量分析測定、熱分解GC−MS分析によるMSスペクトル測定、赤外分光分析による特性吸収測定で確認された、式(1)で示される構造およびD1構造の主鎖の原子数を表15〜17に示す。 The structure of the undercoat layer was analyzed as follows. The electrophotographic photoreceptor for structural analysis of the undercoat layer was immersed in a mixed solvent of 40 parts of dimethoxymethane and 60 parts of chlorobenzene for 5 minutes, and ultrasonic waves were applied to peel off the hole transport layer. Next, the charge generation layer was polished using a wrapping tape (C2000: manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and then dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain an electrophotographic photoreceptor for structural analysis of the undercoat layer. . In addition, it was confirmed that the components of the charge transport layer and the charge generation layer did not remain on the surface of the undercoat layer using the FTIR-ATR method. The photoconductor was allowed to stand in a 25 ° C./50% RH environment for 24 hours, and then the central portion (130 mm position from the end) of the electrophotographic photoconductor was cut into a 1 cm square to obtain a sample for structural analysis of the undercoat layer. The structure represented by the formula (1) and the structure of D 1 confirmed by the above-mentioned solid 13 C-NMR measurement, mass spectrometry measurement, MS spectrum measurement by pyrolysis GC-MS analysis, and characteristic absorption measurement by infrared spectroscopy analysis The number of atoms in the main chain is shown in Tables 15-17.
もう1本の電子写真感光体を用いて、以下の評価を行った。製造した電子写真感光体を温度23度、湿度50%RHの環境下にて、キヤノン(株)製のレーザービームプリンター(商品名:LBP−2510)の改造機に装着した。その後、表面電位の測定、5000枚繰り返し使用時の明部電位の変動(電位変動)の評価および5000枚繰り返し使用時のゴーストの評価を行った。詳しくは以下のとおりである。 The following evaluation was performed using another electrophotographic photosensitive member. The manufactured electrophotographic photosensitive member was mounted on a modified laser beam printer (trade name: LBP-2510) manufactured by Canon Inc. in an environment of a temperature of 23 degrees and a humidity of 50% RH. Thereafter, measurement of the surface potential was performed, evaluation of bright part potential fluctuation (potential fluctuation) when 5000 sheets were repeatedly used, and ghost evaluation when 5000 sheets were repeatedly used. Details are as follows.
上記前露光が発光しないように改造したレーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジに、製造した電子写真感光体を装着して、そのプロセスカートリッジをシアンのプロセスカートリッジのステーションに装着し、画像を出力した。まず、ベタ白画像1枚、ゴースト評価用画像5枚、ベタ黒画像1枚、ゴースト評価用画像5枚の順に連続して画像出力を行った。次に、A4サイズの普通紙で、5000枚のテストチャート(印字率5%の文字画像)の出力を行い、その後、ベタ白画像1枚、ゴースト評価用画像5枚、ベタ黒画像1枚、ゴースト評価用画像5枚の順に連続して画像出力を行った。 Attach the manufactured electrophotographic photosensitive member to the cyan process cartridge of the laser beam printer modified so that the pre-exposure does not emit light, attach the process cartridge to the cyan process cartridge station, and output the image did. First, image output was successively performed in the order of one solid white image, five ghost evaluation images, one solid black image, and five ghost evaluation images. Next, 5000 test charts (character images with a printing rate of 5%) are output on A4 size plain paper, and then 1 solid white image, 5 ghost evaluation images, 1 solid black image, Images were output continuously in the order of five ghost evaluation images.
ゴースト評価用画像は、図2に示すように、画像の先頭部に「白画像」中に四角の「ベタ画像」を出力した後、図3に示す「1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像」を作成したものである。なお、図2中、「ゴースト」部は、「ベタ画像」に起因するゴーストが出現し得る部分である。 As shown in FIG. 2, the ghost evaluation image is obtained by outputting a square “solid image” in the “white image” at the head of the image and then displaying the “halftone image of the 1-dot Keima pattern” shown in FIG. It was created. In FIG. 2, the “ghost” portion is a portion where a ghost attributed to the “solid image” may appear.
ポジゴースト画像の評価は、1ドット桂馬パターンの画像の画像濃度と、ゴースト部の画像濃度との濃度差(マクベス濃度差)を測定することで行った。分光濃度計(商品名:X−Rite504/508、X−Rite(株)製)で、1枚のゴースト評価用画像中で濃度差を10点測定した。この操作をゴースト評価用画像10枚すべてで行い、合計100点の平均を算出し、初期および5000枚繰り返し使用後のマクベス濃度差を評価した。ゴースト部の濃度の方が高い画像が、ポジゴースト画像である。この濃度差は、値が小さいほど、ポジゴーストが抑制されたことを意味する。また、5000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差との差が小さい程、ポジゴーストの変動抑制効果が大きいことを意味する。結果を表15から17に示す。 The evaluation of the positive ghost image was performed by measuring the density difference (Macbeth density difference) between the image density of the 1-dot Keima pattern image and the image density of the ghost part. A spectral densitometer (trade name: X-Rite 504/508, manufactured by X-Rite Co., Ltd.) was used to measure 10 density differences in one ghost evaluation image. This operation was performed on all 10 images for ghost evaluation, the average of 100 points was calculated, and the Macbeth density difference after initial use and after 5000 repeated use was evaluated. An image having a higher ghost density is a positive ghost image. This density difference means that the smaller the value, the more positive ghost is suppressed. Further, the smaller the difference between the Macbeth density difference after outputting 5000 sheets and the Macbeth density difference when outputting the initial image, the greater the positive ghost fluctuation suppressing effect. The results are shown in Tables 15 to 17.
電位変動(明部電位変動量)は、以下のように評価した。 The potential fluctuation (bright part potential fluctuation amount) was evaluated as follows.
評価装置の780nmのレーザー光源の露光量(画像露光量)については、電子写真感光体の表面での光量が0.3μJ/cm2となるように設定した。電子写真感光体の表面電位(暗部電位および明部電位)の測定は、電子写真感光体の端部から130mmの位置に電位測定用プローブが位置するように固定された冶具と現像器とを交換して、現像器位置で行った。電子写真感光体の非露光部の暗部電位が−450Vとなるよう印加バイアスを設定し、レーザー光を照射して暗部電位から光減衰させた明部電位を測定した。また、A4サイズの普通紙を用い、連続して画像出力を5000枚行い、その後の明部電位(繰り返し使用後の明部電位)を測定し、初期明部電位と繰り返し使用後の明部電位との差(明部電位変動量)を算出した。テストチャートは、印字比率5%のものを用いた。結果を表15から17中の電位変動に示す。 The exposure amount (image exposure amount) of the 780 nm laser light source of the evaluation apparatus was set so that the light amount on the surface of the electrophotographic photosensitive member was 0.3 μJ / cm 2 . To measure the surface potential (dark part potential and bright part potential) of the electrophotographic photosensitive member, replace the jig and the developing device fixed so that the potential measuring probe is positioned 130 mm from the end of the electrophotographic photosensitive member. Then, it was carried out at the developing unit position. The applied bias was set so that the dark portion potential of the non-exposed portion of the electrophotographic photosensitive member was −450 V, and the light portion potential was attenuated from the dark portion potential by laser irradiation. In addition, using A4 size plain paper, image output is continuously performed for 5000 sheets, and the subsequent bright part potential (bright part potential after repeated use) is measured. The initial bright part potential and the bright part potential after repeated use are measured. (Light portion potential fluctuation amount) was calculated. A test chart having a printing ratio of 5% was used. The results are shown as potential fluctuations in Tables 15-17.
(実施例2〜10)
実施例1において、電子輸送物質、イソシアネート化合物(架橋剤)、樹脂を表15のように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表15に示す。
(Examples 2 to 10)
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the electron transport material, isocyanate compound (crosslinking agent), and resin were changed as shown in Table 15. The results are shown in Table 15.
(実施例11)
実施例1において、電子輸送物質、イソシアネート化合物を表15に示すように変更し、樹脂としてブチラール樹脂(商品名:BX−1、積水化学社製)1.29部に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表15に示す。
(Example 11)
In Example 1, the electron transport material and the isocyanate compound were changed as shown in Table 15, and Example 1 was changed except that the resin was changed to 1.29 parts of butyral resin (trade name: BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). In the same manner as above, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated. The results are shown in Table 15.
(実施例12)
実施例1において、電子輸送物質、イソシアネート化合物を表15に示すように変更し、樹脂としてポリビニルアルコール樹脂(商品名:PVA117、クラレ株式会社製)1.29部に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表15に示す。
(Example 12)
In Example 1, the electron transport material and the isocyanate compound were changed as shown in Table 15, and Example 1 was changed except that the resin was changed to 1.29 parts of polyvinyl alcohol resin (trade name: PVA117, manufactured by Kuraray Co., Ltd.). Similarly, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated. The results are shown in Table 15.
(実施例13)
実施例1において、電子輸送物質、イソシアネート化合物を表15に示すように変更し、樹脂として部分加水分解した塩化ビニル/酢酸ビニル樹脂(商品名:VAGH、ダウ・ケミカル社製。)1.29部に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表15に示す。
(Example 13)
In Example 1, 1.29 parts of a vinyl chloride / vinyl acetate resin (trade name: VAGH, manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.) obtained by changing the electron transport material and the isocyanate compound as shown in Table 15 and partially hydrolyzing the resin. An electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the above was changed. The results are shown in Table 15.
(実施例14)
実施例1において、電子輸送物質、イソシアネート化合物を表15に示すように変更し、樹脂としてポリ(p−ヒドロキシスチレン)(商品名:マルカリンカー、丸善石油化学社製。)1.29部に変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表15に示す。
(Example 14)
In Example 1, the electron transport material and the isocyanate compound were changed as shown in Table 15, and the resin was changed to 1.29 parts of poly (p-hydroxystyrene) (trade name: Marcalinker, manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.). Except that, an electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 15.
(実施例15〜90)
実施例1において、電子輸送物質、イソシアネート化合物、樹脂を表15〜17に示すように変更した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表15〜17に示す。
(Examples 15 to 90)
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the electron transport material, the isocyanate compound, and the resin were changed as shown in Tables 15 to 17. The results are shown in Tables 15-17.
(実施例91)
実施例1において、導電層用塗布液、下引き層用塗布液および電荷輸送層用塗布液の調整を以下のように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、同様にポジゴーストの評価を行った。結果を表17に示す。
(Example 91)
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1, except that the adjustment of the conductive layer coating solution, the undercoat layer coating solution, and the charge transport layer coating solution was changed as follows. Similarly, positive ghost was evaluated. The results are shown in Table 17.
導電層用塗布液の調製を以下のように変更した。金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO2)が被覆されている酸化チタン(TiO2)粒子214部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60質量%。)132部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れて分散処理(分散条件、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃。)を行い、分散液を得た。この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。 The preparation of the coating solution for the conductive layer was changed as follows. 214 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles, phenol resin as a binder resin (trade name: Priorofen J-325, Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., resin solid content: 60% by mass.) 132 parts and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent were put in a sand mill using 450 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm. Then, dispersion treatment (dispersion conditions, rotation speed: 2000 rpm, dispersion treatment time: 4.5 hours, set temperature of cooling water: 18 ° C.) was performed to obtain a dispersion. Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).
ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して10質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子を分散液に添加した。該シリコーン樹脂粒子は、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製のトスパール120(商品名)であり、平均粒径は2μmである。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製。)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。 Silicone resin particles as a surface-roughening agent were added to the dispersion so as to be 10% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads. The silicone resin particles are Tospearl 120 (trade name) manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd., and the average particle size is 2 μm. In addition, silicone oil as a leveling agent (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) so that the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion is 0.01% by mass. .) Was added to the dispersion and stirred to prepare a coating solution for a conductive layer. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.
次に、電子輸送物質、イソシアネート化合物を表17のように変更し、樹脂としてアセタール樹脂(商品名:KS−5、積水化学社製)、触媒としてオクチル酸亜鉛(II)を0.031部を添加した以外は、実施例1のように下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を、上記導電層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を30分間160℃で加熱し、重合(硬化)させることによって、膜厚が0.5μmの下引き層を形成した。 Next, the electron transport material and isocyanate compound were changed as shown in Table 17, acetal resin (trade name: KS-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) as the resin, and 0.031 part of zinc octylate (II) as the catalyst. A coating solution for the undercoat layer was prepared as in Example 1 except for the addition. The undercoat layer coating solution is dip-coated on the conductive layer to form a coating film, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 30 minutes to be polymerized (cured), whereby the film thickness is reduced to 0. A subbing layer of 5 μm was formed.
電荷発生層は実施例1と同様に形成した。 The charge generation layer was formed in the same manner as in Example 1.
次に電荷輸送層用塗布液の調製を以下のように変更した。ポリエステル樹脂F(下記式(24)で示される繰り返し構造、式(26)で示される繰り返し構造と式(25)で示される繰り返し構造を7:3の比で有し、重量平均分子量が90,000である。)3部、ポリエステル樹脂H(下記式(27)で示される繰り返し構造と下記式(28)で示される繰り返し構造を5:5の比で含有し、重量平均分子量が120,000である。)7部、上記式(15)で示される電荷輸送物質9部、および下記式(18)で示される電荷輸送物質1部を、ジメトキシメタン30部およびオルトキシレン50部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。なお、ポリエステル樹脂Fのおける、下記式(24)で示される繰り返し構造単位の含有量が10質量%であり、下記式(25)、(26)で示される繰り返し構造単位の含有量が90質量%であった。 Next, the preparation of the charge transport layer coating solution was changed as follows. Polyester resin F (having a repeating structure represented by the following formula (24), a repeating structure represented by the formula (26) and a repeating structure represented by the formula (25) in a ratio of 7: 3, and a weight average molecular weight of 90, 3 parts, polyester resin H (containing a repeating structure represented by the following formula (27) and a repeating structure represented by the following formula (28) in a ratio of 5: 5, and a weight average molecular weight of 120,000. 7 parts, 9 parts of the charge transport material represented by the above formula (15) and 1 part of the charge transport material represented by the following formula (18) in a mixed solvent of 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of orthoxylene. By dissolving, a coating solution for a charge transport layer was prepared. In addition, the content of the repeating structural unit represented by the following formula (24) in the polyester resin F is 10% by mass, and the content of the repeating structural unit represented by the following formulas (25) and (26) is 90% by mass. %Met.
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が16μmの電荷輸送層を形成した。形成された電荷輸送層には電荷輸送物質とポリエステル樹脂Hを含むマトリックス中にポリエステル樹脂Fを含むドメイン構造が含有されていることが確認された。 The charge transport layer coating solution was dip coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 16 μm. It was confirmed that the formed charge transport layer contained a domain structure containing the polyester resin F in a matrix containing the charge transport material and the polyester resin H.
(実施例92〜111)
実施例91において、電子輸送物質、イソシアネート化合物、樹脂を表17に示すように変更した以外は実施例91と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表16に示す。
(Examples 92 to 111)
In Example 91, an electrophotographic photosensitive member was produced and evaluated in the same manner as in Example 91 except that the electron transport material, the isocyanate compound, and the resin were changed as shown in Table 17. The results are shown in Table 16.
(実施例112)
実施例93において、電荷輸送層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例93と同様に電子写真感光体を製造し、同様に評価を行った。結果を表17に示す。
(Example 112)
In Example 93, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 93 except that the preparation of the coating solution for the charge transport layer was changed as follows, and evaluation was performed in the same manner. The results are shown in Table 17.
電荷輸送層用塗布液の調製を以下のように変更した。ポリカーボネート樹脂I(下記式(29)で示される繰り返し構造を有し、重量平均分子量が70,000である。)10部、ポリカーボネート樹脂J(下記式(29)で示される繰り返し構造、下記式(30)で示される繰り返し構造および、末端の少なくともいずれか一方に下記式(31)で示される構造を有し、重量平均分子量が40,000である。)0.3部、上記式(15)で示される電荷輸送物質9部、および上記式(18)で示される電荷輸送物質1部、ジメトキシメタン30部およびオルトキシレン50部混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。なお、ポリカーボネート樹脂Jにおける、下記式(30)と(31)で示される繰り返し構造単位の合計質量が30質量%であった。 The preparation of the coating solution for the charge transport layer was changed as follows. 10 parts of polycarbonate resin I (having a repeating structure represented by the following formula (29) and a weight average molecular weight of 70,000), polycarbonate resin J (a repeating structure represented by the following formula (29), 30) and at least one of the terminals has a structure represented by the following formula (31) and a weight average molecular weight of 40,000.) 0.3 part, the above formula (15) A charge transport layer coating solution was prepared by dissolving in 9 parts of the charge transport material represented by formula (1) and 1 part of the charge transport material represented by the formula (18), 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of orthoxylene. . In addition, the total mass of the repeating structural units represented by the following formulas (30) and (31) in the polycarbonate resin J was 30% by mass.
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が16μmの電荷輸送層を形成した。 The charge transport layer coating solution was dip coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 16 μm.
(実施例113)
実施例112の電荷輸送層用塗布液を、ポリカーボネート樹脂I(重量平均分子量70,000)から、ポリエステル樹脂H(重量平均分子量120,000)10部とした以外は実施例112と同様に電子写真感光体を製造し、同様に評価を行った。結果を表17に示す。
(Example 113)
An electrophotographic process similar to that of Example 112, except that the charge transport layer coating solution of Example 112 was changed from polycarbonate resin I (weight average molecular weight 70,000) to 10 parts of polyester resin H (weight average molecular weight 120,000). Photoconductors were manufactured and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 17.
(実施例114)
実施例93において、導電層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例93と同様に電子写真感光体を製造し、同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Example 114)
In Example 93, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 93 except that the preparation of the conductive layer coating solution was changed as follows, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 17.
導電層用塗布液の調製を以下のように変更した。金属酸化物粒子としてのリン(P)がドープされている酸化スズ(SnO2)で被覆されている酸化チタン(TiO2)粒子207部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)144部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。 The preparation of the coating solution for the conductive layer was changed as follows. 207 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P) as metal oxide particles, phenol resin as a binder resin (trade name: Pryofen J -325) 144 parts and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent are put in a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm, the rotation speed is 2000 rpm, and the dispersion treatment time is 4.5. Dispersion treatment was performed under the conditions of time and cooling water set temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion. Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).
ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して15質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。 Silicone resin particles as a surface roughening agent (trade name: Tospearl 120) so as to be 15% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion after removing the glass beads Was added to the dispersion. Further, a silicone oil (trade name: SH28PA) as a leveling agent is added to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion, followed by stirring. By doing this, the coating liquid for conductive layers was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.
(実施例115)
実施例112において、導電層用塗布液の調整を以下のように変更した以外は、実施例112と同様に電子写真感光体を製造し、同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Example 115)
In Example 112, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 112 except that the adjustment of the coating liquid for the conductive layer was changed as follows, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 17.
導電層用塗布液の調整を以下のように変更した。金属酸化物粒子としてのリン(P)がドープされている酸化スズ(SnO2)で被覆されている酸化チタン(TiO2)粒子207部、結着材料としてのフェノール樹脂(フェノール樹脂のモノマー/オリゴマー)(商品名:プライオーフェンJ−325)144部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。 The adjustment of the coating liquid for the conductive layer was changed as follows. 207 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P) as metal oxide particles, phenol resin as binder (monomers / oligomers of phenol resin) ) (Product name: Priorofen J-325) 144 parts and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent were put in a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm, and the rotational speed was 2000 rpm. The dispersion treatment was performed under the conditions of dispersion treatment time: 4.5 hours and cooling water set temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion.
この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。 Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).
ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して15質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。 Silicone resin particles as a surface-roughening agent (trade name: Tospearl 120) so as to be 15% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads Was added to the dispersion. Further, a silicone oil (trade name: SH28PA) as a leveling agent is added to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion, followed by stirring. By doing this, the coating liquid for conductive layers was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.
(実施例116)
実施例113において、導電層用塗布液の調製を以下のように変更した以外は、実施例113と同様に電子写真感光体を製造し、同様の評価を行った。結果を表17に示す。
(Example 116)
In Example 113, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 113 except that the preparation of the conductive layer coating solution was changed as follows, and the same evaluation was performed. The results are shown in Table 17.
導電層用塗布液の調製を以下のように変更した。金属酸化物粒子としてのリン(P)がドープされている酸化スズ(SnO2)で被覆されている酸化チタン(TiO2)粒子207部、フェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)144部、および、1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。 The preparation of the coating solution for the conductive layer was changed as follows. 207 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P) as metal oxide particles, 144 parts of phenol resin (trade name: Priorofen J-325) In addition, 98 parts of 1-methoxy-2-propanol was put into a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm, the rotational speed: 2000 rpm, the dispersion treatment time: 4.5 hours, and the set temperature of the cooling water: Dispersion treatment was performed at 18 ° C. to obtain a dispersion. Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).
ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子とフェノール樹脂の合計質量に対して15質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子とフェノール樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、シリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。 Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) were added to the dispersion so that the total mass of the metal oxide particles and the phenol resin in the dispersion after removing the glass beads was 15% by mass. In addition, silicone oil (trade name: SH28PA) is added to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the phenol resin in the dispersion, and the conductive is obtained. A layer coating solution was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.
(比較例1)
実施例1において、電子輸送物質として下記式(C−1)で示される化合物を用い、イソシアネート化合物(架橋剤)に(I−1)を用いた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表18に示す。式(1)で示される構造中のD1に相当する構造の主鎖の原子数は4であった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was used in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the following formula (C-1) was used as the electron transport material and (I-1) was used as the isocyanate compound (crosslinking agent). Were manufactured and evaluated. The results are shown in Table 18. The number of atoms in the main chain of the structure corresponding to D 1 in the structure represented by the formula (1) was 4.
(比較例2)
実施例1において、電子輸送物質として下記式(C−2)で示される化合物を用い、イソシアネート化合物(架橋剤)に(I−1)を用いた以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表18に示す。式(1)で示される構造中のD1に相当する構造の主鎖の原子数は4であった。
(Comparative Example 2)
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was used in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by the following formula (C-2) was used as the electron transporting material and (I-1) was used as the isocyanate compound (crosslinking agent). Were manufactured and evaluated. The results are shown in Table 18. The number of atoms in the main chain of the structure corresponding to D 1 in the structure represented by the formula (1) was 4.
(比較例3)
実施例1において、電子輸送物質として、特表2009−505156号公報に記載されている下記式で示される構造を有するブロック共重合体を用いて下引き層を形成した以外は、本発明の実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。結果を表18に示す。式(1)で示される構造中のD1に相当する構造の主鎖の原子数は25であった。
(Comparative Example 3)
In Example 1, the present invention was carried out except that an undercoat layer was formed using a block copolymer having a structure represented by the following formula described in JP-T-2009-505156 as an electron transport material. An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 and evaluated. The results are shown in Table 18. The number of atoms in the main chain of the structure corresponding to D 1 in the structure represented by the formula (1) was 25.
(比較例4)
ヘキサメチレンジイソシアネートと下記化合物(11)とを用いて下引き層を作成(特開2007−148293号公報の実施例1の構成)した以外は実施例1と同様に感光体を製造し、同様に評価を行った。結果を表18に示す。
(Comparative Example 4)
A photoconductor was produced in the same manner as in Example 1 except that an undercoat layer was prepared using hexamethylene diisocyanate and the following compound (11) (configuration of Example 1 of JP-A-2007-148293). Evaluation was performed. The results are shown in Table 18.
<溶出試験>
実施例1〜116において調製した下引き層用塗布液0.5gを、アルミニウムシート上にワイヤーバー法により均一に塗布し、得られた塗膜を温度160℃30分間で加熱し、重合(硬化)させてサンプルを得た。このサンプルの中央部を100mm×50mmの領域だけ切り取り、それぞれ温度20度のアノンおよび酢酸エチルの混合液(重量比=1:1)中に10分間浸漬し、浸漬前の初期重量と浸漬後の重量を測定した。さらに、サンプル上に形成された塗膜を削り取り、アルミニウムシートの重量を測定した。下記式により浸漬後重量減少率(溶出量、%)を求めた。
浸漬後重量減少率(%)=((初期重量−浸漬後重量)/初期重量−アルミニウムシート重量))×100
浸漬後重量減少率(%)が5%以下の場合、下引き層は溶出しにくい膜であると判断した。この結果、実施例1〜116で形成した下引き層は、浸漬後重量減少率(%)が5%以下であり、溶出しにくい膜であった。
<Dissolution test>
0.5 g of the coating solution for the undercoat layer prepared in Examples 1-116 was uniformly applied on the aluminum sheet by the wire bar method, and the resulting coating film was heated at 160 ° C. for 30 minutes to polymerize (cured). ) To obtain a sample. The central part of this sample was cut out in a region of 100 mm × 50 mm, and immersed in a mixed solution of anone and ethyl acetate (weight ratio = 1: 1) at a temperature of 20 degrees, respectively, for the initial weight before immersion and after immersion. The weight was measured. Furthermore, the coating film formed on the sample was scraped off, and the weight of the aluminum sheet was measured. The weight reduction rate (elution amount,%) after immersion was determined by the following formula.
Weight reduction rate after immersion (%) = ((initial weight−weight after immersion) / initial weight−aluminum sheet weight)) × 100
When the weight reduction rate (%) after immersion was 5% or less, the undercoat layer was judged to be a film that hardly dissolves. As a result, the undercoat layer formed in Examples 1 to 116 had a weight reduction rate (%) after immersion of 5% or less, and was a film that was difficult to elute.
表15、16、17中、「電子輸送物質の含有量」は、下引き層用塗布液中の電子輸送物質の含有量(質量部)を示す。「イソシアネート化合物の含有量」は、下引き層用塗布液中のイソシアネート化合物の含有量(質量部)を示す。「樹脂質量部」は、下引き層用塗布液中の樹脂の含有量(質量部)を示す。 In Tables 15, 16, and 17, “content of electron transport material” indicates the content (parts by mass) of the electron transport material in the coating liquid for the undercoat layer. “Content of isocyanate compound” indicates the content (part by mass) of the isocyanate compound in the coating solution for the undercoat layer. “Resin part by mass” indicates the content (parts by mass) of the resin in the coating solution for the undercoat layer.
実施例60と比較例1および比較例2により、式(1)で示される構造中のD1の主鎖の原子数が5より小さい場合、十分なポジゴースト変動抑制の効果が得られないことが示されている。このことは本評価法の初期および5000枚繰り返し使用後のマクベス濃度の変化が、実施例に比べて大きいことにより示されている。これは、D1の主鎖の原子数が5より小さい場合、ウレタン結合と電子輸送性構造の結合距離が短いため、繰り返し使用時加水分解され電荷トラップが増加したためだと考えられる。 According to Example 60 and Comparative Example 1 and Comparative Example 2, when the number of atoms of the main chain of D 1 in the structure represented by Formula (1) is smaller than 5, a sufficient effect of suppressing positive ghost fluctuation cannot be obtained. It is shown. This is shown by the fact that the change in Macbeth concentration at the initial stage of this evaluation method and after repeated use of 5000 sheets is larger than that of the Examples. This is thought to be because when the number of atoms in the main chain of D 1 is less than 5, the bond distance between the urethane bond and the electron transporting structure is short, and thus the number of charge traps increases due to hydrolysis during repeated use.
実施例13と比較例3により、式(1)で示される構造中のD1の主鎖の原子数が15より大きい場合、十分なポジゴースト変動抑制の効果が得られないことが示されている。このことは本評価法の初期および5000枚繰り返し使用後のマクベス濃度の変化が、実施例に比べて大きいことにより示されている。これは、D1の主鎖の原子数が15より大きい場合、比較例3の電子輸送性構造であるナフタレンカルボン酸無水物構造とイソシアヌレート構造部分が相互作用しにくく、伝導準位が不均一になると考えられる。その結果、電子輸送構造の劣化が引き起こされ電荷トラップが増加したためだと考えられる。 Example 13 and Comparative Example 3 show that when the number of atoms of the main chain of D 1 in the structure represented by the formula (1) is larger than 15, sufficient effect of suppressing positive ghost fluctuation cannot be obtained. Yes. This is shown by the fact that the change in Macbeth concentration at the initial stage of this evaluation method and after repeated use of 5000 sheets is larger than that of the Examples. This is because, when the number of atoms in the main chain of D 1 is larger than 15, the naphthalenecarboxylic acid anhydride structure, which is an electron transporting structure of Comparative Example 3, and the isocyanurate structure portion are unlikely to interact with each other, and the conduction level is uneven. It is thought that it becomes. As a result, the electron transport structure is deteriorated and the charge traps are increased.
1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング手段
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
P 転写材
101 支持体
102 下引き層
103 感光層
104 電荷発生層
105 電荷輸送層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photosensitive member 2 Axis 3 Charging means 4 Exposure light 5 Developing means 6 Transfer means 7 Cleaning means 8 Fixing means 9 Process cartridge 10 Guide means P Transfer material 101 Support body 102 Undercoat layer 103 Photosensitive layer 104 Charge generation layer 105 Charge Transport layer
Claims (7)
該下引き層が下記式(1)で示される構造を有する硬化物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
(式(1)中、R1およびR3は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R2は、単結合、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のアルキレン基の置換基は、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、またはハロゲン原子である。該置換のフェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、またはハロゲン置換アルキル基である。R9は、水素原子、またはアルキル基を示す。A1は、下記式(A−1)〜(A−6)で示されるいずれかの基を示す。B1は、下記式(B−1)〜(B−3)のいずれかで示される基を示す。D1は、下記式(D)で示される主鎖の原子数が5から15の基である。E1は、下記式(E−1)〜(E−8)のいずれかで示される基である。)
(R10は水素原子、またはアルキル基を示す。)
(式(B−1)〜(B−3)中、R2は、単結合、置換もしくは無置換の主鎖の原子数が1から10のアルキレン基、または置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。R6およびR7は、それぞれ独立に、主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、炭素数が1から5のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基を示す。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NHまたはNR15で置き換わっていても良い。R15はアルキル基である。Ar2は、置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のフェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキル基、またはハロゲン化アルキル基である。R12は、水素原子またはアルキル基を示す。A1およびA2は、前記式(A−1)〜(A−6)で示されるいずれかの基を示す。o、pおよびqは、それぞれ独立に、0または1であり、o、pおよびqの和は、1以上3以下である。*は、上記式(1)中のR3に結合する側を表す。)
(式(D)中、R4、R5、R6およびR7は、それぞれ独立に、主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、炭素数が1から5のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1から5のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1から5のアルキレン基を示す。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NHまたはNR15で置き換わっていても良い。R15はアルキル基である。Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のフェニレン基を示す。該置換のフェニレン基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルキル基、またはハロゲン化アルキル基である。A2は、前記式(A−1)〜(A−6)のいずれかで示される基を示す。l、m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立に、0または1であり、l、mおよびnの和、o、pおよびqの和は、1以上3以下である。)
(式(E−1)〜(E−8)中、X 11〜X16、X21〜X29、X31〜X36、X41〜X48、X51〜X58、X61〜X66、X71〜X78、およびX81〜X88は、それぞれ独立に、単結合、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、複素環基、ニトロ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、または置換もしくは無置換のアルキル基を示す。
X 11 〜X 16 の少なくとも1つ、X 21 〜X 29 の少なくとも1つ、X 31 〜X 36 の少なくとも1つ、X 41 〜X 48 の少なくとも1つ、X 51 〜X 58 の少なくとも1つ、X 61 〜X 66 の少なくとも1つ、X 71 〜X 78 の少なくとも1つ、およびX 81 〜X 88 の少なくとも1つは、単結合である。
Z51〜Z52、Z61〜Z62、およびZ81は、それぞれ独立に、酸素原子、C(CN)2基、またはN−R11を示す。R11は、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のアルキル基を示す。) In an electrophotographic photosensitive member having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer,
The electrophotographic photoreceptor, wherein the undercoat layer contains a cured product having a structure represented by the following formula (1).
(In formula (1), R 1 and R 3 each independently represents an alkylene group having 1 to 10 atoms in the substituted or unsubstituted main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 2 represents Represents a single bond, an alkylene group having 1 to 10 atoms in the substituted or unsubstituted main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group, which can be an alkyl group, an aryl group, a hydroxy group, The substituent of the substituted phenylene group is a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an alkyl group, or a halogen-substituted alkyl group, and R 9 is a hydrogen atom or an alkyl group A 1 represents any group represented by the following formulas (A-1) to (A-6), and B 1 represents any of the following formulas (B-1) to (B-3). Indicated by .D 1 showing the group, .E 1 is a group of 15 atoms in the main chain is from 5 represented by the following formula (D) is any one of the following formulas (E-1) ~ (E -8) in a indicated Ru group.)
(R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group.)
(In formulas (B-1) to (B-3), R 2 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 10 atoms of a substituted or unsubstituted main chain, or a substituted or unsubstituted phenylene group. R 6 and R 7 are each independently an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain, or an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. An alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a benzyl group, an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an atom in the main chain substituted with a phenyl group Represents an alkylene group having a number of 1 to 5. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, S, NH or NR 15. R 15 is an alkyl group Ar 2 Is a substituted or unsubstituted phenylene group Shown. Substituents of phenylene group as said substituent include a halogen atom, a nitro group, hydroxy group, a cyano group, an alkyl group or .R 12 is a halogenated alkyl group, it is .A 1 and a hydrogen atom or an alkyl group A 2 represents any group represented by the formulas (A-1) to (A-6), o, p and q are each independently 0 or 1, and o, p and q The sum is from 1 to 3. * represents the side bonded to R 3 in the above formula (1).
(In formula (D), R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently substituted with an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. An alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain, an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a benzyl group, and an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group Or an alkylene group having 1 to 5 atoms in the main chain substituted with a phenyl group, and one of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, S, NH or NR 15 R 15 is an alkyl group, Ar 1 and Ar 2 each independently represents a substituted or unsubstituted phenylene group, and the substituted phenylene group includes a halogen atom, a nitro group, a hydroxy group, Cyano group, alkyl A 2 represents a group represented by any one of the formulas (A-1) to (A-6), and l, m, n, o, p and q are Each independently 0 or 1, and the sum of l, m and n, and the sum of o, p and q is 1 or more and 3 or less.)
(In the formula (E-1) ~ (E -8), X 11 ~X 16, X 21 ~X 29, X 31 ~X 36, X 41 ~X 48, X 51 ~X 58, X 61 ~X 66 , X 71 to X 78 , and X 81 to X 88 are each independently a single bond , a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a hydroxy group, a heterocyclic group, nitro A group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted alkyl group;
At least one of X 11 to X 16, at least one of X 21 to X 29, at least one of X 31 to X 36, at least one of X 41 to X 48, at least one of X 51 to X 58, at least one of X 61 to X 66, at least one of X 71 to X 78, at least one of and X 81 to X 88 is a single bond.
Z 51 to Z 52 , Z 61 to Z 62 , and Z 81 each independently represent an oxygen atom, a C (CN) 2 group, or N—R 11 . R 11 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted alkyl group. )
(式(2)中、R8は、置換もしくは無置換の炭素数が1から5のアルキル基を示す。該置換の炭素数が1から5のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子である。) The electrophotographic photosensitive member according to claim 1 , wherein the cured product further has a structure represented by the following formula (2).
(In Formula (2), R 8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The substituent of the substituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is an alkyl group or an aryl group. Or a halogen atom.)
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