JP2015210447A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device Download PDF

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石塚 由香
Yuka Ishizuka
由香 石塚
晃洋 丸山
Akihiro Maruyama
晃洋 丸山
和範 野口
Kazunori Noguchi
和範 野口
藤井 淳史
Junji Fujii
淳史 藤井
奥田 篤
Atsushi Okuda
篤 奥田
延博 中村
Nobuhiro Nakamura
延博 中村
友紀 山本
Yuki Yamamoto
友紀 山本
和子 佐久間
Kazuko Sakuma
和子 佐久間
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor having reduced potential variations, and a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.SOLUTION: An undercoat layer of an electrophotographic photoreceptor comprises a polymer of a composition comprising a compound represented by formula (1), and a surface layer of the electrophotographic photoreceptor comprises a polymer obtained by polymerization of a compound having a chain polymerizable functional group through application of an electron beam.

Description

本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus.

現在、プロセスカートリッジや電子写真装置に搭載される電子写真感光体としては、有機光導電性物質(電荷発生物質)を含有する電子写真感光体がある。   Currently, as an electrophotographic photosensitive member mounted on a process cartridge or an electrophotographic apparatus, there is an electrophotographic photosensitive member containing an organic photoconductive substance (charge generating substance).

電子写真感光体は、一般的に、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。そして、支持体から感光層側への電荷注入を抑制し、黒ポチなどの画像欠陥の発生を抑えることを目的として、支持体と感光層との間には下引き層が設けられることが多い。   An electrophotographic photoreceptor generally has a support and a photosensitive layer formed on the support. An undercoat layer is often provided between the support and the photosensitive layer for the purpose of suppressing charge injection from the support to the photosensitive layer side and suppressing the occurrence of image defects such as black spots. .

近年、電子写真感光体の電荷発生物質には、より高い感度を有するものが用いられている。そして、電荷発生物質が高感度化するのに伴い、電荷の発生量が多くなることにより電荷が感光層中に滞留しやすく、電位変動が大きくなりやすいという課題があった。具体的には、出力画像中、初期の画像と1000枚出力後の画像の色味が異なることが挙げられる。   In recent years, materials having higher sensitivity have been used as charge generating materials for electrophotographic photoreceptors. As the charge generating material becomes highly sensitive, the amount of generated charge increases, so that the charge tends to stay in the photosensitive layer and the potential fluctuation tends to increase. Specifically, in the output image, the color of the initial image and the image after output of 1000 sheets are different.

このような電位変動を抑制(低減)する技術として、特許文献1には、下引き層にイミド化合物等の電子輸送物質を含有させる技術が開示されている。   As a technique for suppressing (reducing) such potential fluctuations, Patent Document 1 discloses a technique in which an undercoat layer contains an electron transport material such as an imide compound.

一方で、機械的ストレスによって電子写真感光体の表面が摩耗することに伴い、電位変動が大きくなりやすいという課題があった。このような課題に対する技術として、特許文献2には、電子写真感光体の表面層に連鎖重合性官能基を有する化合物の重合物を含有させる技術が開示されている。   On the other hand, as the surface of the electrophotographic photosensitive member is worn by mechanical stress, there is a problem that the potential fluctuation tends to increase. As a technique for solving such a problem, Patent Document 2 discloses a technique in which a polymer of a compound having a chain polymerizable functional group is contained in the surface layer of an electrophotographic photosensitive member.

特開2001−83726号公報JP 2001-83726 A 特開2006−154796号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-154796

近年、電子写真画像の品質に対する要求は高まる一方であり、上述の電位変動に対する許容範囲が格段に厳しくなってきている。   In recent years, the demand for the quality of electrophotographic images has been increasing, and the permissible range for the above-described potential fluctuation has become much stricter.

そして、本発明者らの検討の結果、特許文献1と2に開示された技術を組み合わせたとしても、電位変動の抑制が十分に改善されていない場合があり、さらなる改善の必要があるものであった。   As a result of the study by the present inventors, even when the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2 are combined, the suppression of potential fluctuation may not be sufficiently improved, and further improvement is necessary. there were.

本発明の目的は、電位変動が抑制された電子写真感光体、および、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which potential fluctuation is suppressed, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

本発明は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該下引き層が、下記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有し、
該電子写真感光体の表面層が、電子線を照射して連鎖重合性官能基を有する化合物を重合させて得られる重合物を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体に関する。
The present invention is an electrophotographic photosensitive member having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer,
The undercoat layer contains a polymer of a composition containing a compound represented by the following formula (1),
The electrophotographic photosensitive member is characterized in that the surface layer of the electrophotographic photosensitive member contains a polymer obtained by polymerizing a compound having a chain polymerizable functional group by irradiation with an electron beam.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

(式(1)中、R101〜R106は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR201(R201は、水素原子またはアルキル基)で置き換わっていても良い。R101〜R106の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。
該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。
該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン化アルキル基からなる群より選択される基である。)
(In formula (1), R 101 to R 106 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted A substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and one of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group is O, S, NR 201 (R 201 is And at least one of R 101 to R 106 is a monovalent group represented by the following formula (A).
The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom.
The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group. )

Figure 2015210447
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(式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。 (In Formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. At least one group, l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNR301(R301は、水素原子またはアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, or NR 301 (R 301 is a hydrogen atom or an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogenated phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.

γは、水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR401(R401はアルキル基)で置き換わっていても良い。)
また、本発明は、該電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジに関する。
γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 401 (R 401 is an alkyl group). )
Further, the present invention integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. It relates to a certain process cartridge.

また、本発明は、該電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置に関する。   The present invention also relates to an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit.

本発明によれば、電位変動が抑制された電子写真感光体、および、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member in which potential fluctuation is suppressed, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge including the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 研磨シートを用いた研磨機の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the polisher using an abrasive sheet. 乾式ブラスト処理装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a dry-type blast processing apparatus. 電子写真感光体の表面電位を測定する感光体試験機について説明する図である。It is a figure explaining the photoconductor testing machine which measures the surface potential of an electrophotographic photoconductor.

本発明は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体に関する。そして、下引き層が、下記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有する。さらに、電子写真感光体の表面層が、電子線を照射して連鎖重合性官能基を有する化合物を重合させて得られる重合物を含有することを特徴とする。   The present invention relates to a support, an undercoat layer formed on the support, and an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer formed on the undercoat layer. And an undercoat layer contains the polymer of the composition containing the compound shown by following formula (1). Furthermore, the surface layer of the electrophotographic photoreceptor contains a polymer obtained by polymerizing a compound having a chain polymerizable functional group by irradiation with an electron beam.

上述のような電子写真感光体を使用することで、下引き層の電位変動抑制効果と表面層の摩耗抑制効果との相乗効果でより一層の電位変動が抑制される。   By using the electrophotographic photosensitive member as described above, the potential variation is further suppressed by the synergistic effect of the potential variation suppressing effect of the undercoat layer and the wear suppressing effect of the surface layer.

Figure 2015210447
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式(1)中、R101〜R106は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR201(R201は、水素原子またはアルキル基)で置き換わっていても良い。R101〜R106の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。 In formula (1), R 101 to R 106 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted An alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with O, S, NR 201 (R 201 is a hydrogen atom or an alkyl group). At least one of R 101 to R 106 is a monovalent group represented by the following formula (A).

該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。   The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom.

該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン化アルキル基からなる群より選択される基である。   The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group.

Figure 2015210447
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式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. One kind of group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNR301(R301は、水素原子またはアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, or NR 301 (R 301 is a hydrogen atom or an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogenated phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.

γは、水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR401(R401はアルキル基)で置き換わっていても良い。 γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 401 (R 401 is an alkyl group).

また式(1)で示される化合物において、R105及び106の少なくとも1つは、上記式(A)で示される1価の基であることが電位変動の抑制効果が大きい。 In the compound represented by the formula (1), at least one of R 105 and 106 is a monovalent group represented by the formula (A), which has a great effect of suppressing potential fluctuation.

また、式(A)中に、α、β、およびγの少なくとも1つは前記置換基を有する基であり、前記置換基がヒドロキシ基であることが電位変動の抑制効果が大きい。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having the substituent, and the fact that the substituent is a hydroxy group has a great effect of suppressing potential fluctuation.

また式(1)で示される化合物は2種以上混合しても良い。   Moreover, you may mix 2 or more types of compounds shown by Formula (1).

〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましく、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄などの金属または合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体、または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。
[Support]
As the support, those having conductivity (conductive support) are preferable, and for example, a support made of a metal such as aluminum, nickel, copper, gold, iron, or an alloy can be used. A support in which a thin film of metal such as aluminum, silver, or gold is formed on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, or glass, or a thin film of conductive material such as indium oxide or tin oxide is formed. A support is mentioned.

支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。   The surface of the support may be subjected to electrochemical treatment such as anodic oxidation, wet honing treatment, blast treatment, cutting treatment, etc. in order to improve electrical characteristics and suppress interference fringes.

支持体と、後述の下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、乾燥させることで得られる。導電性粒子としては、たとえば、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀のような金属粉や、導電性酸化スズ、ITOのような金属酸化物粉体が挙げられる。   A conductive layer may be provided between the support and the undercoat layer described below. The conductive layer can be obtained by forming a coating film of a coating liquid for conductive layer in which conductive particles are dispersed in a resin on a support and drying it. Examples of the conductive particles include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, and silver, and metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned.

また、樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。   Examples of the resin include polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin.

導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。導電層の膜厚は、0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより好ましい。   Examples of the solvent for the conductive layer coating solution include ether solvents, alcohol solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents. The thickness of the conductive layer is preferably 0.2 μm or more and 40 μm or less, more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and even more preferably 5 μm or more and 30 μm or less.

一般的な電子写真感光体として、円筒状支持体上に感光層(電荷発生層、電荷輸送層)を形成してなる円筒状の電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状、シート状などの形状とすることも可能である。   As a general electrophotographic photosensitive member, a cylindrical electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer (charge generation layer, charge transport layer) is formed on a cylindrical support is widely used. It is also possible to have a shape of

〔下引き層〕
支持体または導電層と、感光層との間に下引き層が設けられる。
[Undercoat layer]
An undercoat layer is provided between the support or the conductive layer and the photosensitive layer.

本発明は、下引き層が、上記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有する。   In the present invention, the undercoat layer contains a polymer of a composition containing a compound represented by the above formula (1).

より好ましい化合物として、下記式(11)〜(68)で示される例示化合物が挙げられる。   More preferable compounds include exemplified compounds represented by the following formulas (11) to (68).

Figure 2015210447
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これらの例示化合物の中で、電位変動抑制の観点から、式(11)〜(15)で示される化合物が好ましい。   Among these exemplary compounds, compounds represented by formulas (11) to (15) are preferable from the viewpoint of suppressing potential fluctuation.

式(1)で示される構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、米国特許第4442193号公報、米国特許第4992349号公報、米国特許第5468583号公報、Chemistry of materials,Vol.19,No.11,2703−2705(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。   Derivatives having a structure represented by the formula (1) (derivatives of electron transport materials) are disclosed in, for example, US Pat. No. 4,442,193, US Pat. No. 4,992,349, US Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, no. It is possible to synthesize using a known synthesis method described in 11, 2703-2705 (2007).

また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)およびジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成する事が出来る。   Moreover, it can synthesize | combine by reaction with the naphthalene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., and Johnson Matthey Japan Incorporated.

式(1)で示される化合物には、重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。式(1)の構造を有する誘導体にこれらの置換基を導入する方法としては、式(1)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。例えば、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。また、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by the formula (1) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group). As a method of introducing these substituents into the derivative having the structure of the formula (1), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of the formula (1), the polymerizable functional group, or the polymerizable There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of a functional group. As a method to be described later, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. For example, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. Further, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO2 after lithiation based on a halide of a naphthylimide derivative. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method using the naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method using the naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

下引き層に式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有する場合、組成物には、さらに、架橋剤と樹脂を含有することが好ましい。   When the undercoat layer contains a polymer of a composition containing the compound represented by formula (1), the composition preferably further contains a crosslinking agent and a resin.

架橋剤について説明する。架橋剤としては、重合性官能基を有する電子輸送物質、及び重合性官能基を有する熱可塑性樹脂と重合又は架橋する化合物を用いることができる。具体的には、山下晋三,金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等に記載されている化合物等を用いることができる。   The crosslinking agent will be described. As the crosslinking agent, an electron transport material having a polymerizable functional group and a compound that polymerizes or crosslinks with a thermoplastic resin having a polymerizable functional group can be used. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko “Crosslinking Agent Handbook” published by Taiseisha (1981) and the like can be used.

架橋剤中の官能基としては−NCO基(以下、イソシアネート基とも称する)、−NOR基、−SiOR基、アクリル基等が挙げられる。これらの中でも、電位変動の抑制の観点から、イソシアネート基が好ましい。   Examples of the functional group in the crosslinking agent include -NCO group (hereinafter also referred to as isocyanate group), -NOR group, -SiOR group, acrylic group and the like. Among these, an isocyanate group is preferable from the viewpoint of suppressing potential fluctuation.

イソシアネート基(−NCO基)又はブロックイソシアネート基(−NHCOX基、Xは保護基)を2〜6個有しているイソシアネート化合物が好ましい。Xは、イソシアネート基に導入可能な保護基であれば何れでも良いが、下記式(X1)〜(X7)のいずれかで示される基がより好ましい。 An isocyanate compound having 2 to 6 isocyanate groups (—NCO groups) or blocked isocyanate groups (—NHCOX 1 group, X 1 is a protecting group) is preferable. X 1 may be any protecting group that can be introduced into an isocyanate group, but is more preferably a group represented by any of the following formulas (X1) to (X7).

Figure 2015210447
Figure 2015210447

具体的には、トリイソシアネートベンゼン、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、トリメチロールプロパンとのアダクト体等の変性体各種が挙げられる。   Specifically, triisocyanate benzene, triphenylmethane triisocyanate, lysine triisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl Examples include various modified products such as isocyanurate modified products of biisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanate hexanoate, norbornane diisocyanate, biuret modified products, allophanate modified products, and adducts with trimethylolpropane.

本発明のイソシアネート化合物は、好ましくは、環状構造である。より好ましくは、イソシアヌレート構造であり、下記に示される構造である。   The isocyanate compound of the present invention preferably has a cyclic structure. More preferred is an isocyanurate structure, which is the structure shown below.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

市販のイソシアネート化合物としては、例えば、住化バイエルウレタン(株)製、BL3175、BL3475、BL3575、旭化成ケミカルズ(株)製、TPA−B80E、TPA−B80X、SBN−70D、SBN−70Mなどを用いることができる。   As commercially available isocyanate compounds, for example, Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., BL3175, BL3475, BL3575, Asahi Kasei Chemicals Corporation, TPA-B80E, TPA-B80X, SBN-70D, SBN-70M, etc. should be used. Can do.

樹脂としては、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂が好ましい。この熱可塑線樹脂としては、下記式(B)で示される構造単位を有する熱可塑性樹脂が挙げられる。   As the resin, a thermoplastic resin having a polymerizable functional group is preferable. Examples of the thermoplastic wire resin include thermoplastic resins having a structural unit represented by the following formula (B).

Figure 2015210447
Figure 2015210447

式(B)中、R11は水素原子またはアルキル基を示す。Yは、単結合またはフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、またはカルボキシル基を示す。 In the formula (B), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y represents a single bond or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, or a carboxyl group.

式(B)で示される構造単位を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、アセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂が挙げられる。上記式(B)で示される構造単位は、以下に示す特徴的な構造の中に有してもよいし、特徴的な構造以外に有してもよい。特徴的な構造を以下の(B−1)〜(B−5)に示す。(B−1)は、アセタール樹脂の構造単位である。(B−2)は、ポリオレフィン樹脂の構造単位である。(B−3)は、ポリエステル樹脂の構造単位である。(B−4)は、ポリエーテル樹脂の構造単位である。(B−5)は、ポリアミド樹脂の構造単位である。   Examples of the thermoplastic resin having the structural unit represented by the formula (B) include an acetal resin, a polyolefin resin, a polyester resin, a polyether resin, and a polyamide resin. The structural unit represented by the above formula (B) may be included in the following characteristic structure, or may be included other than the characteristic structure. Characteristic structures are shown in the following (B-1) to (B-5). (B-1) is a structural unit of an acetal resin. (B-2) is a structural unit of a polyolefin resin. (B-3) is a structural unit of a polyester resin. (B-4) is a structural unit of a polyether resin. (B-5) is a structural unit of polyamide resin.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

上記式中、R501〜R510は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を示す。 In the above formula, R 501 to R 510 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.

上記式(B)で示される構造単位を有する熱可塑性樹脂の購入可能な樹脂としては、以下のものが挙げられる。日本ポリウレタン工業(株)製AQD−457、AQD−473、三洋化成工業(株)製サンニックスGP−400、GP−700などのポリエーテルポリオール系樹脂、日立化成工業(株)製フタルキッドW2343、DIC(株)製ウォーターゾールS−118、CD−520、ハリマ化成(株)製ハリディップWH−1188などのポリエステルポリオール系樹脂、DIC(株)製バーノックWE−300、WE−304などのポリアクリルポリオール系樹脂、(株)クラレ製クラレポバールPVA−203などのようなポリビニルアルコール系樹脂、積水化学工業(株)製KW−1およびKW−3、BX−1、BM−1、KS−1、KS−3、KS−5Zなどのポリビニルアセタール系樹脂、ナガセケムテックス(株)製トレジンFS−350などのポリアミド化合物系樹脂、日本触媒(株)製アクアリック、鉛市(株)製ファインレックスSG2000などのカルボキシル基含有樹脂、DIC(株)製ラッカマイドなどのポリアミン、東レ(株)製QE−340Mなどのポリチオールが挙げられる。   Examples of the resin that can be purchased as the thermoplastic resin having the structural unit represented by the above formula (B) include the following. Polyether polyol resins such as AQD-457 and AQD-473 manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Sannics GP-400 and GP-700 manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd., Phthalkid W2343 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., DIC Polyester polyol resins such as Watersol S-118 and CD-520 manufactured by Harima Chemical Co., Ltd., and Haripip WH-1188 manufactured by Harima Kasei Co., Ltd. Polyacrylic polyols such as Burnock WE-300 and WE-304 manufactured by DIC Corporation Resins, polyvinyl alcohol resins such as Kuraray Kuraraypoval PVA-203, Sekisui Chemical Co., Ltd. KW-1 and KW-3, BX-1, BM-1, KS-1, KS -3, KS-5Z and other polyvinyl acetal resins, Toraysin F manufactured by Nagase ChemteX Corporation -350 and other polyamide compound resins, Nippon Shokubai Co., Ltd. Aquaric, Lead City Co., Ltd. Finelex SG2000 and other carboxyl group-containing resins, DIC Co., Ltd. racamide and other polyamines, Toray Industries, Inc. QE Polythiols such as -340M.

本発明の下引き層は重合を促進する目的で触媒を含有してもよい。触媒として、例えば、ジブチルスズジラウレート、アミン触媒、金属石鹸などが挙げられる。     The undercoat layer of the present invention may contain a catalyst for the purpose of promoting polymerization. Examples of the catalyst include dibutyltin dilaurate, amine catalyst, and metal soap.

下引き層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the coating solution for the undercoat layer include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

重合の形態として、架橋基、式(1)で示される化合物、および式(B)で示される構造単位を有する樹脂が反応し、重合物(硬化物)が形成される。   As a form of polymerization, a crosslinking group, a compound represented by the formula (1), and a resin having a structural unit represented by the formula (B) react to form a polymer (cured product).

本発明の下引き層は、式(1)で示される化合物を含有する下引き層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって下引き層を形成する。塗膜形成後これらの化合物が化学反応により重合(硬化)するが、その際に加熱をすることで化学反応が促進され、重合が促進される。   The undercoat layer of the present invention forms an undercoat layer by forming a coating film of a coating solution for an undercoat layer containing the compound represented by the formula (1) and heating and drying the coating film. Although these compounds are polymerized (cured) by a chemical reaction after the coating film is formed, the chemical reaction is accelerated and the polymerization is accelerated by heating at that time.

上記重合物の含有量は、電位変動の抑制という観点から、下引き層の全質量に対して50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、80質量%以上100質量%以下であることがより好ましい。   The content of the polymer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, and preferably 80% by mass or more and 100% by mass or less with respect to the total mass of the undercoat layer, from the viewpoint of suppressing potential fluctuation. Is more preferable.

下引き層には、上記重合物以外にも、下引き層の成膜性や電気的特性を高めるために、有機微粒子、無機微粒子、レベリング剤などを含有してもよい。ただし、下引き層におけるそれらの含有量は、下引き層の全質量に対して50質量%未満であることが好ましく、20質量%未満であることがより好ましい。   In addition to the polymer, the undercoat layer may contain organic fine particles, inorganic fine particles, a leveling agent, and the like in order to improve the film formability and electrical characteristics of the undercoat layer. However, their content in the undercoat layer is preferably less than 50% by mass and more preferably less than 20% by mass with respect to the total mass of the undercoat layer.

なお、支持体と上記下引き層との間や上記下引き層と感光層との間に、本発明に係る重合体を含有しない第2の下引き層などの別の層を設けてもよい。   In addition, another layer such as a second undercoat layer not containing the polymer according to the present invention may be provided between the support and the undercoat layer or between the undercoat layer and the photosensitive layer. .

本発明に係る化合物等の確認は、以下の方法によって行った。   The compound according to the present invention was confirmed by the following method.

・質量分析
質量分析計(MALDI−TOF MS:ブルカー・ダルトニクス(株)製 ultraflex)を用い、加速電圧:20kV、モード:Reflector、分子量標準品:フラーレンC60の条件で、分子量を測定した。得られたピークトップ値で確認した。
-Mass spectrometry The molecular weight was measured using a mass spectrometer (MALDI-TOF MS: ultraflex manufactured by Bruker Daltonics Co., Ltd.) under the conditions of acceleration voltage: 20 kV, mode: Reflector, molecular weight standard product: fullerene C60. It confirmed with the obtained peak top value.

・NMR分析
1,1,2,2−テトラクロロエタン(d2)または、ジメチルスルホキシド(d6)中、120℃にてH−NMR、13C−NMR分析(FT−NMR:日本電子(株)製JNM−EX400型)により構造を確認した。
・ NMR analysis 1 H-NMR, 13 C-NMR analysis (FT-NMR: manufactured by JEOL Ltd.) in 1,1,2,2-tetrachloroethane (d2) or dimethyl sulfoxide (d6) at 120 ° C. The structure was confirmed by JNM-EX400 type).

・GPC分析
東ソー(株)製のゲルパーミエーションクロマトグラフィー「HLC−8120」で測定し、ポリスチレン換算で計算した。
-GPC analysis It measured with the gel permeation chromatography "HLC-8120" by Tosoh Corporation, and computed in polystyrene conversion.

また、イソシアネート化合物、樹脂、および電子輸送物質を含有する下引き層塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって得られた下引き層を、シクロヘキサノンに浸漬し、浸漬前後の下引き層の重量を確認した。浸漬することで下引き層の成分の溶出が無く、硬化(重合)していること確認した。   In addition, an undercoat layer obtained by forming a coating film of an undercoat layer coating solution containing an isocyanate compound, a resin, and an electron transport material, and heating and drying the coating film is immersed in cyclohexanone, before and after the immersion. The weight of the undercoat layer was confirmed. It was confirmed that the components of the undercoat layer were not dissolved by immersion, and were cured (polymerized).

・表面粗さ
接触式表面粗さ計(商品名:サーフコーダSE3500、小坂研究所(製))を測定器として用い、Rzjis(X)を確認した。測定長:2.5mm、測定速度:0.1mm/秒という条件で、測定箇所は長手方向で塗布上端部より30mm、185mm、340mmの各3点、円周方向4点で計12点の平均値をデータとした。
-Surface roughness Rzjis (X) was confirmed using the contact-type surface roughness meter (Brand name: Surfcorder SE3500, Kosaka Laboratory (made)) as a measuring device. Measurement length: 2.5 mm, measurement speed: 0.1 mm / second, the measurement location is the average of 12 points in the longitudinal direction, 3 points each of 30 mm, 185 mm, and 340 mm from the upper end of the coating, 4 points in the circumferential direction The value was taken as data.

〔感光層〕
下引き層上には、感光層が設けられる。
(Photosensitive layer)
A photosensitive layer is provided on the undercoat layer.

電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、またはフタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。   Charge generation materials include azo pigments, perylene pigments, anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives, isoviolanthrone derivatives, indigo derivatives, thioindigo derivatives, metal phthalocyanines, metal-free phthalocyanines, etc. Phthalocyanine pigments and bisbenzimidazole derivatives. Among these, azo pigments or phthalocyanine pigments are preferable. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine are preferable.

感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体および共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。   When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the binder resin used for the charge generation layer includes vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinylidene fluoride, and trifluoroethylene. Polymers and copolymers, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polycarbonate resin, polyester resin, polysulfone resin, polyphenylene oxide resin, polyurethane resin, cellulose resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, epoxy resin, etc. It is done. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, and polyvinyl acetal resin are preferable, and among these, polyvinyl acetal resin is more preferable.

電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との質量比率(電荷発生物質/結着樹脂)は、10/1〜1/10の範囲であることが好ましく、5/1〜1/5の範囲であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   In the charge generation layer, the mass ratio of the charge generation material to the binder resin (charge generation material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, and is preferably 5/1 to 1/5. A range is more preferable. The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less. Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

電荷輸送物質(正孔輸送物質)としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンなどが挙げられる。また、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーも挙げられる。   Examples of the charge transport material (hole transport material) include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine. Also included are polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain.

感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層(正孔輸送層)に用いられる結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの重量平均分子量(Mw)は、10,000〜300,000の範囲であることが好ましい。   When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the binder resin used for the charge transport layer (hole transport layer) is a polyester resin, polycarbonate resin, polymethacrylate resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polystyrene resin. Etc. Among these, polycarbonate resin and polyarylate resin are preferable. Moreover, it is preferable that these weight average molecular weights (Mw) are the range of 10,000-300,000.

電荷輸送層において、電荷輸送物質と結着樹脂との質量比率(電荷輸送物質/結着樹脂)は、10/5〜5/10の範囲であることが好ましく、10/8〜6/10の範囲であることがより好ましい。電荷輸送層の膜厚は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。   In the charge transport layer, the mass ratio of the charge transport material to the binder resin (charge transport material / binder resin) is preferably in the range of 10/5 to 5/10, and is preferably 10/8 to 6/10. A range is more preferable. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less.

電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the charge transport layer coating liquid include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

〔表面層〕
感光層(電荷輸送層)上には、表面層(保護層)を設けてもよい。
[Surface layer]
A surface layer (protective layer) may be provided on the photosensitive layer (charge transport layer).

本発明の表面層は、機械的強度を高めるために、電子線を照射して連鎖重合性官能基を有する化合物を重合させて得られる重合物を含有する。   The surface layer of the present invention contains a polymer obtained by irradiating an electron beam to polymerize a compound having a chain polymerizable functional group in order to increase mechanical strength.

連鎖重合性官能基を有する化合物としては、電荷輸送能を有する化合物、すなわち、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質であることが好ましい。連鎖重合性官能基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アルコキシシリル基、エポキシ基などが挙げられる。連鎖重合性官能基を有する化合物を重合させる方法としては、熱、光、放射線(電子線など)が挙げられる。
その中でも本発明で使用するのに特に好ましい連鎖重合性官能基は下記式(2)で示される基が好ましい。
The compound having a chain polymerizable functional group is preferably a compound having a charge transport ability, that is, a charge transport material having a chain polymerizable functional group. Examples of the chain polymerizable functional group include an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an alkoxysilyl group, and an epoxy group. Examples of the method for polymerizing a compound having a chain polymerizable functional group include heat, light, and radiation (such as an electron beam).
Among them, a particularly preferred chain polymerizable functional group for use in the present invention is a group represented by the following formula (2).

Figure 2015210447
Figure 2015210447

式(2)中、Kは、水素原子、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子などのハロゲン原子、置換基を有してもよいメチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基などのアルキル基、置換基を有してもよいベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基及びチエニル基などのアラルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピレニル基、チオフェニル基及びフリル基などのアリール基、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基などのアルコキシ基、CN基、ニトロ基、−COOR601またはCONR602603を示す。 In formula (2), K is a hydrogen atom, a fluorine atom, a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group which may have a substituent, An aralkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, a furfuryl group and a thienyl group which may have a group, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group, an anthryl group, a pyrenyl group, a thiophenyl group, and An aryl group such as a furyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group, a CN group, a nitro group, —COOR 601 or CONR 602 R 603 is shown.

Jは、置換基を有してもよい2価のフェニレン、ナフチレン及びアントラセニレンなどのアリーレン基、置換基を有してもよいメチレン、エチレン及びブチレンなどの2価のアルキレン基、−COO−、−CH−、−O−、−OO−、−S−または−CONR604−で示される。 J is an arylene group such as divalent phenylene, naphthylene and anthracenylene which may have a substituent, a divalent alkylene group such as methylene, ethylene and butylene which may have a substituent, -COO-,- It is represented by CH 2 —, —O—, —OO—, —S— or —CONR 604 —.

601、R602、R603及びR604は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基または置換基を有してもよいアリール基を示す。R602とR603は互いに同一であっても、異なっていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基などが挙げられる。アラルキル基としては、ベンジル基及びフェネチル基などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ナフチル基及びアンスリル基などが挙げられる。また、fは、0または1を示す。 R 601 , R 602 , R 603 and R 604 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or an aryl which may have a substituent Indicates a group. R 602 and R 603 may be the same as or different from each other. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthryl group. F represents 0 or 1.

J、K及びR601〜R604が有してもよい置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基などのアルコキシ基、フェノキシ基及びナフトキシ基などのアリールオキシ基、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、フルフリル基及びチエニル基などのアラルキル基またはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基及びピレニル基などのアリール基などが挙げられる。 Examples of the substituent that J, K, and R 601 to R 604 may have include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a methyl group, an ethyl group, Alkyl groups such as propyl group and butyl group, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group, aryloxy groups such as phenoxy group and naphthoxy group, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, furfuryl group and thienyl group And aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a pyrenyl group.

下引き層、電荷発生層、電荷輸送層、最表面層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解および/または分散させて得られた塗布液を塗布する。   As a method for forming each layer constituting the electrophotographic photosensitive member such as an undercoat layer, a charge generation layer, a charge transport layer, and an outermost surface layer, the material constituting each layer was obtained by dissolving and / or dispersing in a solvent. Apply the coating solution.

その後、得られた塗膜を乾燥および/または硬化させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。   Then, the method of forming by drying and / or hardening the obtained coating film is preferable. Examples of the method for applying the coating liquid include a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a curtain coating method, and a spin coating method. Among these, the dip coating method is preferable from the viewpoints of efficiency and productivity.

〔プロセスカートリッジおよび電子写真装置〕
図1に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
[Process cartridge and electrophotographic apparatus]
FIG. 1 shows an example of a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

図1において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラーなど)により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。   In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cylindrical electrophotographic photosensitive member, which is rotationally driven in a direction of an arrow about a shaft 2 at a predetermined peripheral speed. The surface (circumferential surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 that is rotationally driven is uniformly charged to a predetermined positive or negative potential by a charging unit 3 (primary charging unit: charging roller or the like). Next, it receives exposure light (image exposure light) 4 from exposure means (not shown) such as slit exposure or laser beam scanning exposure. In this way, electrostatic latent images corresponding to the target image are sequentially formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1.

電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)6からの転写バイアスによって、転写材(紙など)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて給送される。   The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is then developed with toner contained in the developer of the developing means 5 to become a toner image. Next, the toner image formed and supported on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is sequentially transferred onto a transfer material (such as paper) P by a transfer bias from a transfer unit (such as a transfer roller) 6. The transfer material P is taken out from the transfer material supply means (not shown) between the electrophotographic photoreceptor 1 and the transfer means 6 (contact portion) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photoreceptor 1 and fed. Is done.

トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。   The transfer material P that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and introduced into the fixing means 8 to receive the image fixing, and is printed out as an image formed product (print, copy). Is done.

トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレードなど)7によって転写残りの現像剤(転写残トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図1に示すように、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。   The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the transfer of the toner image is cleaned by receiving a transfer residual developer (transfer residual toner) by a cleaning means (cleaning blade or the like) 7. Next, after being subjected to charge removal processing by pre-exposure light (not shown) from pre-exposure means (not shown), it is repeatedly used for image formation. As shown in FIG. 1, when the charging unit 3 is a contact charging unit using a charging roller or the like, pre-exposure is not necessarily required.

上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6およびクリーニング手段7などの構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成してもよい。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。   Of the above-described components such as the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5, the transfer unit 6 and the cleaning unit 7, a plurality of components may be housed in a container and integrally combined as a process cartridge. Good. The process cartridge may be configured to be detachable from an electrophotographic apparatus main body such as a copying machine or a laser beam printer.

図1では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5およびクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化している。そして、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。   In FIG. 1, the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5, and the cleaning unit 7 are integrally supported to form a cartridge. The process cartridge 9 is detachably attached to the main body of the electrophotographic apparatus using guide means 10 such as a rail of the main body of the electrophotographic apparatus.

以下、実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。まず、本発明に係る電子輸送物質の合成例を示す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, “part” means “part by mass”. First, a synthesis example of the electron transport material according to the present invention is shown.

(合成例1)
室温下、窒素気流下300ml3つ口フラスコに、1,4,5,8―ナフタレンテトラカルボン酸二無水物26.8部(100mmol)、ジメチルアセトアミド150部を入れた。これに、2−(4−アミノフェニル)エタノール6.9部(50mmol)とL―ロイシノール5.9部(50mmol)、ジメチルアセトアミド50部の混合物を攪拌しながら滴下した。滴下終了後、6時間加熱還流させた。反応終了後、容器を冷却し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加えた後濾過を行い、濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)を用いて分離精製した。分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。得られた濃縮物を酢酸エチル/ヘキサン混合溶液で再結晶を行い、式(11)で示されるイミド化合物15.0部を得た。
(Synthesis Example 1)
In a 300 ml three-necked flask under a nitrogen stream at room temperature, 26.8 parts (100 mmol) of 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 150 parts of dimethylacetamide were placed. To this, a mixture of 6.9 parts (50 mmol) of 2- (4-aminophenyl) ethanol, 5.9 parts (50 mmol) of L-leucinol and 50 parts of dimethylacetamide was added dropwise with stirring. After completion of dropping, the mixture was heated to reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the container was cooled and concentrated under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, followed by filtration. The filtrate was separated and purified using silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene). After separation, the fraction containing the desired product was concentrated. The resulting concentrate was recrystallized with an ethyl acetate / hexane mixed solution to obtain 15.0 parts of an imide compound represented by the formula (11).

(合成例2)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部および2,6−ジイソプロピルアニリン4部、2−アミノ−1,3−プロパンジオール3部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。
(Synthesis Example 2)
Under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4 parts of 2,6-diisopropylaniline and 3 parts of 2-amino-1,3-propanediol are added to 200 parts of dimethylacetamide. Stir for hours to prepare a solution.

溶液を調製後、10時間還流を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離した後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。その濃縮物を酢酸エチル/トルエン混合溶液で再結晶を行い、式(12)で示されるイミド化合物1.5部得た。   After preparing the solution, the mixture was refluxed for 10 hours and separated by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), and then the fraction containing the desired product was concentrated. The concentrate was recrystallized with an ethyl acetate / toluene mixed solution to obtain 1.5 parts of an imide compound represented by the formula (12).

(合成例3)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール5.2部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。ジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチルで再結晶を行い、式(13)で示されるイミド化合物5.0部を得た。
(Synthesis Example 3)
To 200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 5.2 parts of leucinol were added under a nitrogen atmosphere, stirred at room temperature for 1 hour, and then refluxed for 7 hours. After removing dimethylacetamide by distillation under reduced pressure, recrystallization was performed with ethyl acetate to obtain 5.0 parts of an imide compound represented by the formula (13).

(合成例4)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部および4−ヘプチルアミン4部、2−アミノ−1,3−プロパンジオール3部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間加熱還流を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。その濃縮物を酢酸エチル/トルエン混合溶液で再結晶を行い、式(14)で示されるイミド化合物2.0部を得た。
(Synthesis Example 4)
In a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4 parts of 4-heptylamine and 3 parts of 2-amino-1,3-propanediol are added to 200 parts of dimethylacetamide and stirred at room temperature for 1 hour. To prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was heated to reflux for 8 hours, separated by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), and the fraction containing the desired product was concentrated. The concentrate was recrystallized with an ethyl acetate / toluene mixed solution to obtain 2.0 parts of an imide compound represented by the formula (14).

(合成例5)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール2.6部、2−(2−アミノエチルチオ)エタノール2.7部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。得られた黒褐色溶液からジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチル/トルエン混合溶液に溶解させた。
(Synthesis Example 5)
Under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2.6 parts of leucinol and 2.7 parts of 2- (2-aminoethylthio) ethanol are added to 200 parts of dimethylacetamide at room temperature for 1 hour. After stirring, the mixture was refluxed for 7 hours. Dimethylacetamide was removed from the resulting black brown solution by distillation under reduced pressure, and then dissolved in an ethyl acetate / toluene mixed solution.

シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。得られた濃縮物をトルエン/ヘキサン混合溶液で再結晶を行い、式(15)で示されるイミド化合物2.5部を得た。   After separation by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), the fraction containing the desired product was concentrated. The obtained concentrate was recrystallized with a toluene / hexane mixed solution to obtain 2.5 parts of an imide compound represented by the formula (15).

次に、以下のように電子写真感光体を製造し、評価した。   Next, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated as follows.

〔支持体例〕
アルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。長さおよび直径は表1に記載した。
(Example of support)
An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) was used as a support (conductive support). The length and diameter are listed in Table 1.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

〔導電層作製例1〕
金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている酸化チタン(TiO)粒子214部、
結着材料としてのフェノール樹脂(フェノール樹脂のモノマー/オリゴマー)(商品名:プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60質量%)132部、
および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
[Conductive layer preparation example 1]
214 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles,
132 parts of phenolic resin (monomer / oligomer of phenolic resin) as a binding material (trade name: PRIOFEN J-325, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., resin solid content: 60% by mass),
And 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent is put into a sand mill using 450 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm, rotation speed: 2000 rpm, dispersion treatment time: 4.5 hours, setting of cooling water Dispersion treatment was performed under conditions of temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion.

この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して10質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製、平均粒径2μm)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層1を形成した。   Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120, as a surface roughening agent) so as to be 10% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads. Momentive Performance Materials, Inc., average particle size 2 μm) was added to the dispersion. In addition, silicone oil as a leveling agent (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion. ) Was added to the dispersion and stirred to prepare a conductive layer coating solution. This conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer 1 having a thickness of 30 μm.

〔導電層作製例2〕
金属酸化物粒子としてのリン(P)がドープされている酸化スズ(SnO)で被覆されている酸化チタン粒子(TiO)粒子207部、
結着材料としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)144部、
および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
[Conductive layer preparation example 2]
207 parts of titanium oxide particles (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P) as metal oxide particles,
144 parts of phenolic resin (trade name: Priorofen J-325) as a binding material,
And 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent is put into a sand mill using 450 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm, rotation speed: 2000 rpm, dispersion treatment time: 4.5 hours, setting of cooling water Dispersion treatment was performed under conditions of temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion.

この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して15質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、シリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。   Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) were added to the dispersion so that the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads was 15% by mass. Further, by adding and stirring the silicone oil (trade name: SH28PA) to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion, A coating solution for a conductive layer was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.

〔導電層作製例3〕
金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている硫酸バリウム微粒子(粉体抵抗率:120Ω・cm、酸化スズの被覆率:40%)200部、
酸化チタン粒子(商品名:TITANIX JR、テイカ(株)製、平均粒径0.27μm)、
フェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)166部、
および溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール100部を、直径0.8mmのガラスビーズ400部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:3時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
[Conductive layer preparation example 3]
200 parts of barium sulfate fine particles (powder resistivity: 120 Ω · cm, tin oxide coverage: 40%) coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles,
Titanium oxide particles (trade name: TITANIX JR, manufactured by Teika Co., Ltd., average particle size 0.27 μm),
166 parts of phenolic resin (trade name: Priorofen J-325),
And 100 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent was put into a sand mill using 400 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm, the rotation speed: 2000 rpm, the dispersion treatment time: 3 hours, the set temperature of the cooling water: 18 Dispersion treatment was performed under the condition of ° C. to obtain a dispersion.

この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して10質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、シリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間145℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が20μmの導電層を形成した。   Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) were added to the dispersion so that the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads was 10% by mass. Further, by adding and stirring the silicone oil (trade name: SH28PA) to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion, A coating solution for a conductive layer was prepared. This conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 145 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 20 μm.

〔下引き層作製例1〕
合成例1の式(11)で示される化合物8.5部、ブロックされたイソシアネート化合物(商品名:SBN−70D、旭化成ケミカルズ(株)製)15部、ポリビニルアセタール樹脂(商品名:KS−5Z、積水化学工業(株)製)0.97部、触媒としてヘキサン酸亜鉛(II)(商品名:ヘキサン酸亜鉛(II)、三津和化学薬品(株)製)0.15部とを、1−メトキシ−2−プロパノール88部とテトラヒドロフラン88部の混合溶媒に溶解し、下引き層用塗布液を調製した。
[Undercoat layer production example 1]
8.5 parts of the compound represented by formula (11) in Synthesis Example 1, 15 parts of blocked isocyanate compound (trade name: SBN-70D, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), polyvinyl acetal resin (trade name: KS-5Z) 0.97 parts of Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 0.15 part of zinc hexanoate (II) (trade name: zinc hexanoate (II), manufactured by Mitsuwa Chemical Co., Ltd.) as a catalyst. -Dissolved in a mixed solvent of 88 parts of methoxy-2-propanol and 88 parts of tetrahydrofuran to prepare an undercoat layer coating solution.

この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を20分間170℃で加熱し、硬化(重合)させることによって、膜厚が0.6μmの下引き層1を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。   The undercoat layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 170 ° C. for 20 minutes to be cured (polymerized), thereby forming the undercoat layer 1 having a thickness of 0.6 μm. Formed. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例2〕
下引き層作製例1において、触媒を2−エチルヘキサン酸亜鉛(商品名:ビス(2−エチルヘキサン酸)亜鉛・ミネラルスピリット溶液(Zn:15%)、和光純薬工業(株))に変更した。それ以外は下引き層作製例1と同様に下引き層2を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 2]
In subbing layer preparation example 1, the catalyst was changed to zinc 2-ethylhexanoate (trade name: bis (2-ethylhexanoic acid) zinc / mineral spirit solution (Zn: 15%), Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) did. Other than that, the undercoat layer 2 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 1. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例3〕
下引き層作製例1において、式(11)で示される化合物8.5部を合成例2の式(12)で示される化合物8.0部に変更し、ブロックされたイソシアネート化合物15.7部に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層3を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 3]
In the undercoat layer production example 1, 8.5 parts of the compound represented by the formula (11) was changed to 8.0 parts of the compound represented by the formula (12) in Synthesis Example 2, and 15.7 parts of the blocked isocyanate compound The undercoat layer 3 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 3 except that the change was made. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例4〕
下引き層作製例3において、式(12)で示される化合物を合成例3の式(13)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層4を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 4]
In the undercoat layer preparation example 3, the undercoat layer 4 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 3 except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (13) in the synthesis example 3. . Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例5〕
下引き層作製例3において、式(12)で示される化合物を式(14)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層5を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 5]
In the undercoat layer preparation example 3, the undercoat layer 5 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 3 except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (14). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例6〕
下引き層作製例3において、式(12)で示される化合物を式(15)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層6を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 6]
In the undercoat layer preparation example 3, the undercoat layer 6 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 3 except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (15). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例7〕
下引き層作製例2において、式(11)で示される化合物8.5部を式(12)で示される化合物8.0部に変更し、ブロックされたイソシアネート化合物15.7部に変更した。それ以外は下引き層作製例2と同様に下引き層7を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 7]
In Subbing Layer Preparation Example 2, 8.5 parts of the compound represented by the formula (11) was changed to 8.0 parts of the compound represented by the formula (12) and 15.7 parts of a blocked isocyanate compound. Other than that, the undercoat layer 7 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 2. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例8〕
下引き層作製例7において、式(12)で示される化合物を式(13)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例7と同様に下引き層8を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 8]
In the undercoat layer preparation example 7, the undercoat layer 8 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 7, except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (13). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例9〕
下引き層作製例7において、式(12)で示される化合物を式(14)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例7と同様に下引き層9を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 9]
In the undercoat layer preparation example 7, the undercoat layer 9 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 7, except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (14). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例10〕
下引き層作製例7において式(12)で示される化合物を式(15)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例7と同様に下引き層10を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 10]
An undercoat layer 10 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 7 except that the compound represented by the formula (12) in the undercoat layer preparation example 7 was changed to the compound represented by the formula (15). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例11〕
下引き層作製例1において、ブロックされたイソシアネート化合物を商品名:SBN−70M、旭化成ケミカルズ(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層11を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 11]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 11 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the blocked isocyanate compound was changed to trade name: SBN-70M, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例12〕
下引き層作製例1において、ポリビニルアセタール樹脂を商品名:BX−5、積水化学工業(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層12を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 12]
In undercoat layer preparation example 1, undercoat layer 12 was formed in the same manner as undercoat layer preparation example 1 except that the polyvinyl acetal resin was changed to trade name: BX-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例13〕
下引き層作製例1において、ポリビニルアセタール樹脂を商品名:BM−5、積水化学工業(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層13を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 13]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 13 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the polyvinyl acetal resin was changed to trade name: BM-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例14〕
下引き層作製例1において、ポリビニルアセタール樹脂を商品名:KS−1、積水化学工業(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層14を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 14]
In undercoat layer preparation example 1, undercoat layer 14 was formed in the same manner as undercoat layer preparation example 1 except that the polyvinyl acetal resin was changed to trade name: KS-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例15〕
下引き層作製例1において、式(11)で示される化合物を8.0部、ブロックされたイソシアネート化合物を15.7部に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層15を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 15]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 15 is the same as the undercoat layer preparation example 1 except that the compound represented by the formula (11) is changed to 8.0 parts and the blocked isocyanate compound is changed to 15.7 parts. Formed. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例16〕
下引き層作製例1において、膜厚を0.5μmに変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層16を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 16]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 16 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the film thickness was changed to 0.5 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例17〕
下引き層作製例1において、膜厚を0.7μmに変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層17を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 17]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 17 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the film thickness was changed to 0.7 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例18〕
下引き層作製例16において、1−メトキシ−2−プロパノールをメタノールに変更し、かつ膜厚を0.4μmとした以外は下引き層作製例16と同様に下引き層18を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Example 18 for producing undercoat layer]
In the undercoat layer preparation example 16, the undercoat layer 18 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 16 except that 1-methoxy-2-propanol was changed to methanol and the film thickness was changed to 0.4 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例19〕
下引き層作製例16において、1−メトキシ−2−プロパノールをエタノールに変更した以外は下引き層作製例16と同様に下引き層19を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 19]
In the undercoat layer preparation example 16, the undercoat layer 19 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 16 except that 1-methoxy-2-propanol was changed to ethanol. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例20〕
下引き層作製例16において、20分間170℃で加熱する前に3分間120℃で加熱する工程を入れた以外は下引き層作製例16と同様に下引き層20を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 20]
In the undercoat layer preparation example 16, the undercoat layer 20 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 16 except that a step of heating at 120 ° C. for 3 minutes was performed before heating at 170 ° C. for 20 minutes. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例21〕
共重合ナイロン樹脂(商品名:アミランCM8000、東レ(株)製)10部およびメトキシメチル化ナイロン樹脂(商品名:トレジンEF30T、ナガセケムテックス(株)製)30部を、
メタノール500部およびブタノール250部の混合液に溶解し下引き層用塗布液を調製した。
[Undercoat layer preparation example 21]
10 parts of copolymer nylon resin (trade name: Amilan CM8000, manufactured by Toray Industries, Inc.) and 30 parts of methoxymethylated nylon resin (trade name: Toresin EF30T, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
An undercoat layer coating solution was prepared by dissolving in a mixed solution of 500 parts of methanol and 250 parts of butanol.

この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を20分間100℃で加熱し、膜厚が0.6μmの下引き層20を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。   The undercoat layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 100 ° C. for 20 minutes to form an undercoat layer 20 having a thickness of 0.6 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

〔電荷発生層作製例1〕
CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)を用意した。このヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶10部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)5部およびシクロヘキサノン260部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。
[Charge generation layer preparation example 1]
Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3 in CuKα characteristic X-ray diffraction A crystalline form of hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generation material) having a peak at ° was prepared. 10 parts of this hydroxygallium phthalocyanine crystal, 5 parts of polyvinyl butyral resin (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 260 parts of cyclohexanone are placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm. Dispersed for 5 hours.

次に、これに酢酸エチル240部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間95℃で乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。
〔電荷輸送層作製例1〕
下記式(E−1)で示される電荷輸送物質8.1部、下記式(E−2)で示される電荷輸送物質0.9部、
樹脂として下記式(F−1)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂F1(商品名:ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製)10部、
下記式(G)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂G1(重量平均分子量40,000)0.002部を、
ジメトキシメタン35部、オルトキシレン45部および安息香酸メチル10部混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
Next, 240 parts of ethyl acetate was added thereto to prepare a charge generation layer coating solution. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 95 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.18 μm.
[Charge transport layer preparation example 1]
8.1 parts of a charge transport material represented by the following formula (E-1), 0.9 part of a charge transport material represented by the following formula (E-2),
10 parts of polycarbonate resin F1 (trade name: Iupilon Z400, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics) having a structural unit represented by the following formula (F-1) as the resin,
0.002 part of polycarbonate resin G1 (weight average molecular weight 40,000) having a structural unit represented by the following formula (G):
A coating solution for a charge transport layer was prepared by dissolving in 35 parts of dimethoxymethane, 45 parts of orthoxylene and 10 parts of methyl benzoate.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

Figure 2015210447
Figure 2015210447

(式(G)中、0.95および0.05は2つの構造単位の共重合比である。)
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が26μmの電荷輸送層1を形成した。
(In formula (G), 0.95 and 0.05 are copolymerization ratios of two structural units.)
This charge transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer 1 having a thickness of 26 μm.

〔電荷輸送層作製例2〕
電荷輸送層作製例1において、ポリカーボネート樹脂F1およびポリカーボネート樹脂G1を下記式(C−1)で示される構造単位、下記式(C−2)で示される構造単位を5:5の比で含有するポリエステル樹脂C1(重量平均分子量120,000)10部、および
下記式(F−1)で示される構造単位、下記式(F−2)で示される構造単位および、下記式(F−3)で示される末端構造を有するポリカーボネート樹脂F2(重量平均分子量40,000)0.3部に変更した。それ以外は電荷輸送層作製例1と同様に、電荷輸送層2を形成した。なお、ポリカーボネート樹脂F2に対する、式(F−3)で示される末端構造と式(F−1)で示される構造単位の合計質量は30質量%である。
[Charge transport layer preparation example 2]
In the charge transport layer production example 1, the polycarbonate resin F1 and the polycarbonate resin G1 contain a structural unit represented by the following formula (C-1) and a structural unit represented by the following formula (C-2) in a ratio of 5: 5. 10 parts of a polyester resin C1 (weight average molecular weight 120,000), a structural unit represented by the following formula (F-1), a structural unit represented by the following formula (F-2), and a following formula (F-3) The polycarbonate resin F2 (weight average molecular weight 40,000) having the terminal structure shown was changed to 0.3 part. Otherwise, the charge transport layer 2 was formed in the same manner as in Charge Transport Layer Preparation Example 1. The total mass of the terminal structure represented by the formula (F-3) and the structural unit represented by the formula (F-1) with respect to the polycarbonate resin F2 is 30% by mass.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

Figure 2015210447
Figure 2015210447

〔保護層作製例1〕
分散剤としてフッ素原子含有樹脂(商品名:GF−400、東亞合成(株)製)1.5部を、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン(商品名:ゼオローラH、日本ゼオン(株)製)45部及び1−プロパノール45部の混合溶剤に溶解した。その後、四フッ化エチレン樹脂粉体(商品名:ルブロンL−2、ダイキン工業(株)製)30部を加えた液を、高圧分散機(商品名:マイクロフルイダイザーM−110EH、米Microfluidics(株)製)に通し、分散液を得た。その後、下記式(H)で示される正孔輸送性化合物70部、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン30部および1−プロパノール30部を前記分散液に加え、
ポリフロンフィルター(商品名:PF−040、アドバンテック東洋(株)製)で濾過を行い、保護層用塗布液を調製した。
[Protective layer preparation example 1]
As a dispersant, 1.5 parts of fluorine atom-containing resin (trade name: GF-400, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is added to 1,1,2,2,3,4,4-heptafluorocyclopentane (trade name: It was dissolved in a mixed solvent of 45 parts of Zeolola H, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and 45 parts of 1-propanol. Thereafter, a solution obtained by adding 30 parts of tetrafluoroethylene resin powder (trade name: Lubron L-2, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was added to a high-pressure disperser (trade name: Microfluidizer M-110EH, US Microfluidics ( The dispersion liquid was obtained. Thereafter, 70 parts of a hole transporting compound represented by the following formula (H), 30 parts of 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane and 30 parts of 1-propanol were added to the dispersion. ,
Filtration was performed using a polyflon filter (trade name: PF-040, manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) to prepare a coating solution for a protective layer.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

この保護層用塗布液を電荷輸送層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を5分間50℃で乾燥させた。乾燥後、窒素雰囲気下にて、加速電圧60KV、吸収線量8000Gyの条件で1.6秒間電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が130℃になる条件で1分間加熱処理を行った。なお、電子線の照射から1分間の加熱処理までの酸素濃度は20ppmであった。次に、大気中において、塗膜が110℃になる条件で1時間加熱処理を行い、膜厚5μmである保護層1を形成した。   This coating solution for protective layer was dip coated on the charge transport layer to form a coating film, and the resulting coating film was dried at 50 ° C. for 5 minutes. After drying, the coating film was irradiated with an electron beam for 1.6 seconds under the conditions of an acceleration voltage of 60 KV and an absorbed dose of 8000 Gy in a nitrogen atmosphere. Thereafter, heat treatment was performed for 1 minute in a nitrogen atmosphere under conditions where the temperature of the coating film was 130 ° C. The oxygen concentration from the electron beam irradiation to the heat treatment for 1 minute was 20 ppm. Next, heat treatment was performed in the atmosphere for 1 hour under the condition that the coating film became 110 ° C., thereby forming the protective layer 1 having a thickness of 5 μm.

〔保護層作製例2〕
保護層作製例1において、フッ素原子含有樹脂及び四フッ化エチレン樹脂粉体の量をそれぞれ、0.5部及び10部に変更した以外は保護層作製例1と同様に、保護層を形成し、その後、以下の方法に従い研磨を行った後、保護層2とした。
[Protective layer preparation example 2]
In Protective Layer Preparation Example 1, a protective layer was formed in the same manner as in Protective Layer Preparation Example 1 except that the amounts of fluorine atom-containing resin and tetrafluoroethylene resin powder were changed to 0.5 parts and 10 parts, respectively. Then, after polishing according to the following method, the protective layer 2 was obtained.

<研磨工程>
得られた保護層を、ラッピングシートを用いて研磨した。図2はラッピングシートを用いた研磨装置を上から見たときの模式図である。ラッピングシートは、研磨砥粒が結着樹脂に分散されたものが基材に塗布されたシートである。ラッピングシート10は2つの軸9にロールトゥロールで巻かれており、4本のガイドローラ11とバックアップローラ8を介していずれの方向にも巻き取ることができる。軸9には、巻き取りを行うためのモータと、シートが送られる方向と逆方向に、ラッピングシート10に張力が与えるためのモータ(不図示)が配置されている。
<Polishing process>
The obtained protective layer was polished using a wrapping sheet. FIG. 2 is a schematic view of a polishing apparatus using a wrapping sheet as viewed from above. A wrapping sheet is a sheet in which abrasive grains are dispersed in a binder resin and applied to a substrate. The wrapping sheet 10 is wound by roll-to-roll on the two shafts 9 and can be wound in any direction via the four guide rollers 11 and the backup roller 8. The shaft 9 is provided with a motor for winding and a motor (not shown) for applying tension to the wrapping sheet 10 in the direction opposite to the sheet feeding direction.

この装置を用いて、以下に示す条件で保護層の研磨を行った。
ラッピングシート:品名:MAXIMA−GC−#2000(日本レフライト工業株式会社製)
研磨砥粒:SiC(平均粒径:9μm)
基材:ポリエステルフィルム(厚さ:75μm)
ラッピングシート送り:B方向、400mm/min
ラッピングシートの張架力:1N/m2
バックアップローラ:材質:発泡ウレタン
アスカーC硬度:20°
電子写真感光体回転数:30rpm
電子写真感光体のバックアップローラへの侵入量:3mm
処理時間:12秒
以上のようにして、研磨された保護層2を得た。この感光体の研磨目の方向は、b方向である。また表面粗さRzjis(A)は、0.60μmであった。
Using this apparatus, the protective layer was polished under the following conditions.
Wrapping sheet: Product name: MAXIMA-GC- # 2000 (manufactured by Nippon Reflight Industry Co., Ltd.)
Polishing abrasive grains: SiC (average particle diameter: 9 μm)
Base material: Polyester film (Thickness: 75 μm)
Wrapping sheet feed: B direction, 400mm / min
Wrapping sheet tension: 1N / m2
Backup roller: Material: Urethane foam Asker C hardness: 20 °
Electrophotographic photosensitive member rotation speed: 30 rpm
Amount of penetration of electrophotographic photosensitive member into backup roller: 3 mm
Treatment time: 12 seconds As described above, a polished protective layer 2 was obtained. The direction of the polishing eye of this photoreceptor is the b direction. The surface roughness Rzjis (A) was 0.60 μm.

〔保護層作製例3〕
保護層作製例2において、四フッ化エチレン樹脂粉体の量を3部に変更した以外は保護層作製例2と同様に、保護層を作製し、その後、以下の方法に従い租面化を行った後、保護層3とした。
[Protective layer production example 3]
In Protective Layer Preparation Example 2, a protective layer was prepared in the same manner as in Protective Layer Preparation Example 2 except that the amount of the tetrafluoroethylene resin powder was changed to 3 parts. After that, the protective layer 3 was obtained.

<租面化工程>
乾式ブラスト装置を用いてブラスト処理を行った。粗面化処理の方法を図3に示す。その際、噴射ノズルのブラストノズル部分は内径7mm、圧縮エアのノズル径は3mmとしている。
<Rating process>
Blasting was performed using a dry blasting apparatus. A roughening method is shown in FIG. At that time, the blast nozzle portion of the injection nozzle has an inner diameter of 7 mm and the compressed air has a nozzle diameter of 3 mm.

研磨粒子としては、ガラスビーズ(1)(粒度規格:38〜45μm、JISR6002で測定した場合の50%径:43.9μm、鋭角:0.1%、泡:20.8%、双子:0.5%、偏平:0.3%)を使用した。ブラスト処理における圧縮エアの圧力は0.21MPaとした。噴射ノズルは、回転軸方向に沿って移動し、その速度は200mm/分とした。感光体の回転速度は60rpm、ノズルと感光体の距離は100mm、ノズルの延長線と感光体の接線あるいは回転軸のなす角度は共に90°、研磨粒子の供給量は200g/分とした。以上の条件で、上記の保護層表面が全面粗面化処理されるまでブラストを行った。以上のようにして、粗面化された保護層3を得た。得られた表面粗さRzjis(A)は、0.60μmであった。   As abrasive particles, glass beads (1) (particle size standard: 38 to 45 μm, 50% diameter measured by JIS R6002: 43.9 μm, acute angle: 0.1%, foam: 20.8%, twins: 0.00 5%, flatness: 0.3%) was used. The pressure of the compressed air in the blasting process was 0.21 MPa. The spray nozzle was moved along the direction of the rotation axis, and its speed was 200 mm / min. The rotational speed of the photosensitive member was 60 rpm, the distance between the nozzle and the photosensitive member was 100 mm, the angle between the nozzle extension line and the tangent line of the photosensitive member or the rotation axis was 90 °, and the supply amount of abrasive particles was 200 g / min. Under the above conditions, blasting was performed until the entire surface of the protective layer was roughened. Thus, a roughened protective layer 3 was obtained. The obtained surface roughness Rzjis (A) was 0.60 μm.

〔保護層作製例4〕
保護層作製例2において、フッ素原子含有樹脂及び四フッ化エチレン樹脂粉体を用いず、分散をしなかった以外は保護層作製例2と同様に、保護層4を形成した。
[Protective layer production example 4]
In Protective Layer Preparation Example 2, a protective layer 4 was formed in the same manner as in Protective Layer Preparation Example 2 except that the fluorine atom-containing resin and the tetrafluoroethylene resin powder were not used and dispersed.

(感光体作製例1〜26)
電子写真感光体を各層の作製例を組み合わせて、電子写真感光体とした。具体的には、感光体作製例1〜26により電子写真感光体を作製した。
(Photoreceptor Preparation Examples 1 to 26)
The electrophotographic photosensitive member was combined with an example of manufacturing each layer to obtain an electrophotographic photosensitive member. Specifically, electrophotographic photoreceptors were produced according to photoreceptor preparation examples 1 to 26.

Figure 2015210447
Figure 2015210447

〔評価例1〕
上記作製例で作製した、電子写真感光体を温度15℃、湿度10%RHの環境下において、図4に示す、帯電ローラおよび露光器を有する感光体試験機に設置し、表面電位の測定を行った。詳しくは以下のとおりである。
[Evaluation Example 1]
The electrophotographic photoreceptor produced in the above production example was installed in a photoreceptor testing machine having a charging roller and an exposure device shown in FIG. 4 in an environment of a temperature of 15 ° C. and a humidity of 10% RH, and the surface potential was measured. went. Details are as follows.

表面電位評価の測定は、電位プローブ(model6000B−7C:トレック・ジャパン(株)製)を装着し、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344:トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。感光体の表面電位は、初期暗部電位(Vd=−500V)、初期明部電位(Vl=−100V)、1分あたりの感光体の回転数を400回転になるように設定し、印加電圧および画像露光の光量を設定した。除電光は露光の3倍の光量になるように設定した。帯電方式はローラに直流電圧を印加する方式とした。評価は電子写真感光体を10000回転させた。 図4に装置の概略を示す。(図4中、1は電子写真感光体、2は帯電ローラ、4は露光、6は露光(除電光)を示す。3は暗部電位測定用のプローブ、5は明部電位測定用のプローブを示す。)
〔評価例2〕
電子写真感光体の直径および長さを調整し、作製例で作製した、電子写真感光体を温度15℃、湿度10%RHの環境下において、ヒューレットパッカード(株)製のレーザービームプリンター(商品名:CP4525dn)の改造機に装着した。そして、表面電位の測定を行った。詳しくは以下のとおりである。
The surface potential evaluation is performed by attaching a potential probe (model 6000B-7C: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) and measuring the potential at the center of the electrophotographic photosensitive member by a surface potential meter (model 344: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.). Was measured using. The surface potential of the photoconductor is set so that the initial dark portion potential (Vd = −500 V), the initial bright portion potential (Vl = −100 V), and the number of rotations of the photoconductor per minute is 400 rotations. The amount of image exposure was set. The charge removal light was set to be 3 times the amount of light exposure. The charging method was a method in which a DC voltage was applied to the roller. In the evaluation, the electrophotographic photosensitive member was rotated 10,000 times. FIG. 4 shows an outline of the apparatus. (In FIG. 4, 1 is an electrophotographic photosensitive member, 2 is a charging roller, 4 is exposure, 6 is exposure (static discharge light), 3 is a probe for measuring dark part potential, and 5 is a probe for measuring bright part potential. Show.)
[Evaluation Example 2]
A laser beam printer manufactured by Hewlett-Packard Co., Ltd. (trade name) under the environment of a temperature of 15 ° C. and a humidity of 10% RH in which the diameter and length of the electrophotographic photoreceptor are adjusted and the electrophotographic photoreceptor produced in the production example is prepared. : CP4525dn). Then, the surface potential was measured. Details are as follows.

表面電位評価の測定は、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ(model6000B−8:トレック・ジャパン(株)製)を装着した。さらに、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344:トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。感光体の表面電位は、初期暗部電位(Vd)が−500V、初期明部電位(Vl)が−100Vになるよう、画像露光の光量を設定した。   For the measurement of the surface potential, a cyan process cartridge for the laser beam printer was modified, and a potential probe (model 6000B-8: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) was mounted at the development position. Further, the potential of the central portion of the electrophotographic photosensitive member was measured using a surface potentiometer (model 344: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.). For the surface potential of the photoconductor, the amount of image exposure was set so that the initial dark portion potential (Vd) was −500 V and the initial bright portion potential (Vl) was −100 V.

上記、レーザービームプリンター(CP4525dn)の1分あたりの電子写真感光体回転数は147回転、感光体の直径は24mm、帯電方式はローラに直流電圧を印加する方式、潜像形成以外の除電光を帯電前に有する方式である。転写は中間転写ベルトを有する転写方式(ITB)を有している。また、現像方式は接触現像方式であり、評価に使用したトナーは懸濁重合トナーを用いている。   In the laser beam printer (CP4525dn), the rotational speed of the electrophotographic photosensitive member per minute is 147 rotations, the diameter of the photosensitive member is 24 mm, the charging method is a method of applying a DC voltage to the roller, and neutralizing light other than latent image formation is used. This is a method that is included before charging. The transfer has a transfer system (ITB) having an intermediate transfer belt. The developing method is a contact developing method, and the toner used for the evaluation is a suspension polymerization toner.

上記、レーザービームプリンター(商品名:CP4525dn)を用いて、A4サイズの普通紙で、10,000枚のフルカラー画像(各色印字率1%の文字画像)の出力を行った。結果を表4に示す。   Using the above-mentioned laser beam printer (trade name: CP4525dn), 10,000 full-color images (character images with a color printing rate of 1%) were output on A4 size plain paper. The results are shown in Table 4.

(実施例1〜50および比較例1、2)
感光体作製例1〜26で作製した感光体を表4に示す評価例の条件で繰り返し使用し、繰り返し使用後の明部電位(Vlt)と初期の明部電位(Vl)の差分を評価した。結果を表4に示す。
ΔVl=|繰り返し使用後の明部電位(Vlt)−初期明部電位(Vl)|
(Examples 1-50 and Comparative Examples 1 and 2)
The photoreceptors produced in photoreceptor preparation examples 1 to 26 were repeatedly used under the conditions of the evaluation examples shown in Table 4, and the difference between the light portion potential (Vlt) after repeated use and the initial light portion potential (Vl) was evaluated. . The results are shown in Table 4.
ΔVl = | Bright part potential after repeated use (Vlt) −Initial bright part potential (Vl) |

Figure 2015210447
Figure 2015210447

実施例で、電位安定の抑制効果が大きい。   In the embodiment, the effect of suppressing the potential stability is great.

1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング手段
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
6−1 研磨剤供給管
6−2 ノズル固定冶具
6−3 エア供給管
6−4 噴射ノズル
6−5 研磨剤
6−6 ワーク支持体
6−7 感光体
6−8 ノズル支持体
6−9 アーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photoreceptor 2 Axis 3 Charging means 4 Exposure light 5 Developing means 6 Transfer means 7 Cleaning means 8 Fixing means 9 Process cartridge 10 Guide means 6-1 Abrasive supply pipe 6-2 Nozzle fixing jig 6-3 Air supply pipe 6-4 Injection nozzle 6-5 Abrasive agent 6-6 Work support 6-7 Photoconductor 6-8 Nozzle support 6-9 Arm

Claims (5)

支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
該下引き層が、下記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有し、
該電子写真感光体の表面層が、電子線を照射して連鎖重合性官能基を有する化合物を重合させて得られる重合物を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体。
Figure 2015210447

(式(1)中、R101〜R106は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR201(R201は、水素原子またはアルキル基)で置き換わっていても良い。R101〜R106の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。
該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。
該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン化アルキル基からなる群より選択される基である。)
Figure 2015210447

(式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。
αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNR301(R301は、水素原子またはアルキル基である。)で置き換わっていても良い。
βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。
γは、水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR401(R401はアルキル基)で置き換わっていても良い。)
An electrophotographic photosensitive member having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer,
The undercoat layer contains a polymer of a composition containing a compound represented by the following formula (1),
An electrophotographic photoreceptor, wherein the surface layer of the electrophotographic photoreceptor contains a polymer obtained by polymerizing a compound having a chain polymerizable functional group by irradiation with an electron beam.
Figure 2015210447

(In formula (1), R 101 to R 106 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted A substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and one of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group is O, S, NR 201 (R 201 is And at least one of R 101 to R 106 is a monovalent group represented by the following formula (A).
The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom.
The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group. )
Figure 2015210447

(In Formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. At least one group, l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.
α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, or NR 301 (R 301 is a hydrogen atom or an alkyl group).
β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogenated phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.
γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 401 (R 401 is an alkyl group). )
該式(1)中、R105及び106の少なくとも1つは、前記式(A)で示される1価の基である請求項1に記載の電子写真感光体。 2. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein at least one of R 105 and 106 in the formula (1) is a monovalent group represented by the formula (A). 該式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは前記置換基を有する基であり、前記置換基がヒドロキシ基である請求項1または2に記載の電子写真感光体。   3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein in the formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having the substituent, and the substituent is a hydroxy group. 請求項1から3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジ。   An electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 3, and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, are integrally supported, and electrophotographic A process cartridge that is detachable from the main unit. 請求項1から3のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置。   An electrophotographic apparatus comprising: the electrophotographic photosensitive member according to claim 1; a charging unit, an exposing unit, a developing unit, and a transferring unit.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018205671A (en) * 2017-06-09 2018-12-27 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic apparatus

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