JP2015210446A - Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device Download PDF

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JP2015210446A JP2014093137A JP2014093137A JP2015210446A JP 2015210446 A JP2015210446 A JP 2015210446A JP 2014093137 A JP2014093137 A JP 2014093137A JP 2014093137 A JP2014093137 A JP 2014093137A JP 2015210446 A JP2015210446 A JP 2015210446A
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晃洋 丸山
Akihiro Maruyama
晃洋 丸山
石塚 由香
Yuka Ishizuka
由香 石塚
和範 野口
Kazunori Noguchi
和範 野口
藤井 淳史
Junji Fujii
淳史 藤井
奥田 篤
Atsushi Okuda
篤 奥田
延博 中村
Nobuhiro Nakamura
延博 中村
友紀 山本
Yuki Yamamoto
友紀 山本
和子 佐久間
Kazuko Sakuma
和子 佐久間
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor having reduced potential variations, and a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.SOLUTION: An undercoat layer of an electrophotographic photoreceptor comprises a polymer of a composition comprising a compound represented by formula (1), and a charge transport layer of the electrophotographic photoreceptor comprises a resin comprising silicon atoms.

Description

本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge having an electrophotographic photosensitive member, and an electrophotographic apparatus.

現在、プロセスカートリッジや電子写真装置に搭載される電子写真感光体としては、有機光導電性物質(電荷発生物質)を含有する電子写真感光体がある。   Currently, as an electrophotographic photosensitive member mounted on a process cartridge or an electrophotographic apparatus, there is an electrophotographic photosensitive member containing an organic photoconductive substance (charge generating substance).

電子写真感光体は、一般的に、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。そして、支持体から感光層側への電荷注入を抑制し、黒ポチなどの画像欠陥の発生を抑えることを目的として、支持体と感光層との間には下引き層が設けられることが多い。   An electrophotographic photoreceptor generally has a support and a photosensitive layer formed on the support. An undercoat layer is often provided between the support and the photosensitive layer for the purpose of suppressing charge injection from the support to the photosensitive layer side and suppressing the occurrence of image defects such as black spots. .

近年、電子写真感光体の電荷発生物質には、より高い感度を有するものが用いられている。そして、電荷発生物質が高感度化するのに伴い、電荷の発生量が多くなることにより電荷が感光層中に滞留しやすく、電位変動が大きくなりやすいという課題があった。具体的には、出力画像中、初期の画像と1000枚出力後の画像の色味が異なることが挙げられる。   In recent years, materials having higher sensitivity have been used as charge generating materials for electrophotographic photoreceptors. As the charge generating material becomes highly sensitive, the amount of generated charge increases, so that the charge tends to stay in the photosensitive layer and the potential fluctuation tends to increase. Specifically, in the output image, the color of the initial image and the image after output of 1000 sheets are different.

このような電位変動を抑制(低減)する技術として、特許文献1には、下引き層にイミド化合物等の電子輸送物質を含有させる技術が開示されている。   As a technique for suppressing (reducing) such potential fluctuations, Patent Document 1 discloses a technique in which an undercoat layer contains an electron transport material such as an imide compound.

特開2001−83726号公報JP 2001-83726 A

近年、電子写真画像の品質に対する要求は高まる一方であり、上述の電位変動に対する許容範囲が格段に厳しくなってきている。   In recent years, the demand for the quality of electrophotographic images has been increasing, and the permissible range for the above-described potential fluctuation has become much stricter.

そして、本発明者らの検討の結果、特許文献1に開示された技術では、電位変動の抑制が十分に改善されていない場合があり、さらなる改善の必要があるものであった。   As a result of the study by the present inventors, in the technique disclosed in Patent Document 1, suppression of potential fluctuation may not be sufficiently improved, and further improvement is necessary.

本発明の目的は、電位変動が抑制された電子写真感光体、および、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which potential fluctuation is suppressed, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

支持体、該支持体上に設けられた下引き層、該下引き層上に設けられた電荷発生層、および該電荷発生層上に設けられた電荷輸送層を有し、かつ、該電荷輸送層が表面層である電子写真感光体であって、
該下引き層が、下記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有し、
該電荷輸送層がケイ素原子を含む樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体である。
A support, an undercoat layer provided on the support, a charge generation layer provided on the undercoat layer, and a charge transport layer provided on the charge generation layer, and the charge transport An electrophotographic photoreceptor in which the layer is a surface layer,
The undercoat layer contains a polymer of a composition containing a compound represented by the following formula (1),
The electrophotographic photoreceptor, wherein the charge transport layer contains a resin containing a silicon atom.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

(式(1)中、R101〜R106は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR201(R201は、水素原子またはアルキル基を示す)で置き換わっていても良い。R101〜R106の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。 (In formula (1), R 101 to R 106 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted A substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and one of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group is O, S, NR 201 (R 201 is It represents a hydrogen atom or an alkyl group, and at least one of R 101 to R 106 is a monovalent group represented by the following formula (A).

該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。   The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom.

該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン化アルキル基からなる群より選択される基である。)   The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group. )

Figure 2015210446
Figure 2015210446

式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. One kind of group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNR301(R301は、水素原子またはアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, or NR 301 (R 301 is a hydrogen atom or an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogenated phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.

γは、水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR401(R401はアルキル基を示す)で置き換わっていても良い。)
また、本発明は、該電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジに関する。
γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 401 (R 401 represents an alkyl group). )
Further, the present invention integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. It relates to a certain process cartridge.

また、本発明は、該電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置に関する。   The present invention also relates to an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit.

本発明によれば、電位変動が抑制された電子写真感光体、および、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member in which potential fluctuation is suppressed, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.

本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge including the electrophotographic photosensitive member of the present invention. 電子写真感光体の表面電位を測定する感光体試験機について説明する図である。It is a figure explaining the photoconductor testing machine which measures the surface potential of an electrophotographic photoconductor.

本発明は、支持体、支持体上に設けられた下引き層、下引き層上に設けられた電荷発生層、および電荷発生層上に設けられた電荷輸送層を有し、かつ、電荷輸送層が表面層である電子写真感光体に関する。そして、下引き層が、下記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有し、電荷輸送層がケイ素原子を含む樹脂を含有することを特徴とする。   The present invention includes a support, an undercoat layer provided on the support, a charge generation layer provided on the undercoat layer, and a charge transport layer provided on the charge generation layer, and the charge transport The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member whose layer is a surface layer. The undercoat layer contains a polymer of a composition containing a compound represented by the following formula (1), and the charge transport layer contains a resin containing a silicon atom.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

式(1)中、R101〜R106は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR201(R201は、水素原子またはアルキル基を示す)で置き換わっていても良い。R101〜R106の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。 In formula (1), R 101 to R 106 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted An alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with O, S, NR 201 (R 201 represents a hydrogen atom or an alkyl group). At least one of R 101 to R 106 is a monovalent group represented by the following formula (A).

該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。   The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom.

該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン化アルキル基からなる群より選択される基である。   The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. One kind of group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNR301(R301は、水素原子またはアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group, O or S or NR 301 (R 301 is a hydrogen atom or an alkyl group.) It may be replaced by.

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogenated phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.

γは、水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR401(R401はアルキル基を示す)で置き換わっていても良い。)
また、式(1)で示される化合物において、R105及び106の少なくとも1つは、上記式(A)で示される1価の基であることが、電位変動の抑制効果が大きい。
γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 401 (R 401 represents an alkyl group). )
In the compound represented by the formula (1), at least one of R 105 and 106 is a monovalent group represented by the above formula (A), which has a great effect of suppressing potential fluctuation.

また、式(A)中に、α、β、およびγの少なくとも1つは前記置換基を有する基であり、前記置換基がヒドロキシ基であることが電位変動の抑制効果が大きい。また、式(1)で示される化合物は2種以上混合しても良い。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having the substituent, and the fact that the substituent is a hydroxy group has a great effect of suppressing potential fluctuation. Moreover, you may mix 2 or more types of compounds shown by Formula (1).

〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましく、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄などの金属または合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体、または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。
[Support]
As the support, those having conductivity (conductive support) are preferable, and for example, a support made of a metal such as aluminum, nickel, copper, gold, iron, or an alloy can be used. A support in which a thin film of metal such as aluminum, silver, or gold is formed on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, or glass, or a thin film of conductive material such as indium oxide or tin oxide is formed. A support is mentioned.

支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。   The surface of the support may be subjected to electrochemical treatment such as anodic oxidation, wet honing treatment, blast treatment, cutting treatment, etc. in order to improve electrical characteristics and suppress interference fringes.

支持体と、後述の下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、乾燥させることで得られる。導電性粒子としては、たとえば、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀のような金属粉や、導電性酸化スズ、ITOのような金属酸化物粉体が挙げられる。   A conductive layer may be provided between the support and the undercoat layer described below. The conductive layer can be obtained by forming a coating film of a coating liquid for conductive layer in which conductive particles are dispersed in a resin on a support and drying it. Examples of the conductive particles include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, and silver, and metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned.

また、樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。   Examples of the resin include polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin.

導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。導電層の膜厚は、0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより好ましい。   Examples of the solvent for the conductive layer coating solution include ether solvents, alcohol solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents. The thickness of the conductive layer is preferably 0.2 μm or more and 40 μm or less, more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and even more preferably 5 μm or more and 30 μm or less.

一般的な電子写真感光体として、円筒状支持体上に感光層(電荷発生層、電荷輸送層)を形成してなる円筒状の電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状、シート状などの形状とすることも可能である。   As a general electrophotographic photosensitive member, a cylindrical electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer (charge generation layer, charge transport layer) is formed on a cylindrical support is widely used. It is also possible to have a shape of

〔下引き層〕
支持体または導電層と、電荷発生層との間に下引き層が設けられる。
[Undercoat layer]
An undercoat layer is provided between the support or the conductive layer and the charge generation layer.

本発明は、下引き層が上記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有する。   This invention contains the polymer of the composition in which an undercoat layer contains the compound shown by the said Formula (1).

Figure 2015210446
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これらの例示化合物の中で、電位変動の抑制の観点から、下記式(11)〜(15)で示される化合物が好ましい。   Among these exemplary compounds, compounds represented by the following formulas (11) to (15) are preferable from the viewpoint of suppressing potential fluctuation.

式(1)で示される構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、米国特許第4442193号公報、米国特許第4992349号公報、米国特許第5468583号公報、Chemistry of materials,Vol.19,No.11,2703−2705(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)およびジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成可能である。   Derivatives having a structure represented by the formula (1) (derivatives of electron transport materials) are disclosed in, for example, US Pat. No. 4,442,193, US Pat. No. 4,992,349, US Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, no. It is possible to synthesize using a known synthesis method described in 11, 2703-2705 (2007). Moreover, it is compoundable by reaction with the naphthalene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., and Johnson Matthey Japan Incorporated.

式(1)で示される化合物には、重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。式(1)の構造を有する誘導体にこれらの置換基を導入する方法としては、式(1)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法がある。例えば、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法がある。また、ナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by the formula (1) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group). As a method of introducing these substituents into the derivative having the structure of the formula (1), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of the formula (1), the polymerizable functional group, or the polymerizable There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of a functional group. As a method to be described later, for example, there is a method of introducing a functional group-containing aryl group using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. For example, there is a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. Further, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by reacting an epoxy compound or CO2 after lithiation based on a halide of a naphthylimide derivative. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method using the naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。   As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method using the naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

下引き層に式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有するが、組成物には、さらに、架橋剤と樹脂を含有することが好ましい。   Although the undercoat layer contains a polymer of a composition containing the compound represented by formula (1), it is preferable that the composition further contains a crosslinking agent and a resin.

架橋剤について説明する。架橋剤としては、重合性官能基を有する電子輸送物質、及び重合性官能基を有する熱可塑性樹脂と重合又は架橋する化合物を用いることができる。具体的には、山下晋三,金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)等に記載されている化合物等を用いることができる。   The crosslinking agent will be described. As the crosslinking agent, an electron transport material having a polymerizable functional group and a compound that polymerizes or crosslinks with a thermoplastic resin having a polymerizable functional group can be used. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko “Crosslinking Agent Handbook” published by Taiseisha (1981) and the like can be used.

架橋剤中の官能基としては−NCO基(以下、イソシアネート基とも称する)、−NOR基、−SiOR基、アクリル基等が挙げられる。これらの中でも、電位変動の抑制の観点から、イソシアネート基が好ましい。   Examples of the functional group in the crosslinking agent include -NCO group (hereinafter also referred to as isocyanate group), -NOR group, -SiOR group, acrylic group and the like. Among these, an isocyanate group is preferable from the viewpoint of suppressing potential fluctuation.

さらに、イソシアネート基(−NCO基)又はブロックイソシアネート基(−NHCOX基、Xは保護基)を2〜6個有しているイソシアネート化合物が好ましい。Xは、イソシアネート基に導入可能な保護基であれば何れでも良いが、下記式(X1)〜(X7)のいずれかで示される基がより好ましい。 Furthermore, an isocyanate compound having 2 to 6 isocyanate groups (—NCO groups) or blocked isocyanate groups (—NHCOX 1 group, X 1 is a protecting group) is preferable. X 1 may be any protecting group that can be introduced into an isocyanate group, but is more preferably a group represented by any of the following formulas (X1) to (X7).

Figure 2015210446
Figure 2015210446

具体的には、トリイソシアネートベンゼン、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、トリメチロールプロパンとのアダクト体等の変性体各種が挙げられる。   Specifically, triisocyanate benzene, triphenylmethane triisocyanate, lysine triisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl Examples include various modified products such as isocyanurate modified products of biisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanate hexanoate, norbornane diisocyanate, biuret modified products, allophanate modified products, and adducts with trimethylolpropane.

本発明のイソシアネート化合物は、好ましくは、環状構造である。より好ましくは、イソシアヌレート構造であり、下記に示される構造である。   The isocyanate compound of the present invention preferably has a cyclic structure. More preferred is an isocyanurate structure, which is the structure shown below.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

市販のイソシアネート化合物としては、例えば、住化バイエルウレタン(株)製、BL3175、BL3475、BL3575、旭化成ケミカルズ(株)製、TPA−B80E、TPA−B80X、SBN−70D、SBN−70Mなどを用いることができる。   As commercially available isocyanate compounds, for example, Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., BL3175, BL3475, BL3575, Asahi Kasei Chemicals Corporation, TPA-B80E, TPA-B80X, SBN-70D, SBN-70M, etc. should be used. Can do.

樹脂としては、重合性官能基を有する熱可塑性樹脂が好ましい。この熱可塑性樹脂としては、下記式(B)で示される構造単位を有する熱可塑性樹脂が挙げられる。   As the resin, a thermoplastic resin having a polymerizable functional group is preferable. Examples of the thermoplastic resin include thermoplastic resins having a structural unit represented by the following formula (B).

Figure 2015210446
Figure 2015210446

式(B)中、R11は水素原子またはアルキル基を示す。Yは、単結合またはフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、またはカルボキシル基を示す。 In the formula (B), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y represents a single bond or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, or a carboxyl group.

式(B)で示される構造単位を有する熱可塑性樹脂としては、例えば、アセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂が挙げられる。上記式(B)で示される構造単位は、以下に示す特徴的な構造の中に有してもよいし、特徴的な構造以外に有してもよい。特徴的な構造を以下の(B−1)〜(B−5)に示す。(B−1)は、アセタール樹脂の構造単位である。(B−2)は、ポリオレフィン樹脂の構造単位である。(B−3)は、ポリエステル樹脂の構造単位である。(E−4)は、ポリエーテル樹脂の構造単位である。(B−5)は、ポリアミド樹脂の構造単位である。   Examples of the thermoplastic resin having the structural unit represented by the formula (B) include an acetal resin, a polyolefin resin, a polyester resin, a polyether resin, and a polyamide resin. The structural unit represented by the above formula (B) may be included in the following characteristic structure, or may be included other than the characteristic structure. Characteristic structures are shown in the following (B-1) to (B-5). (B-1) is a structural unit of an acetal resin. (B-2) is a structural unit of a polyolefin resin. (B-3) is a structural unit of a polyester resin. (E-4) is a structural unit of a polyether resin. (B-5) is a structural unit of polyamide resin.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

上記式中、R501〜R510は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を示す。 In the above formula, R 501 to R 510 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.

上記式(B)で示される構造単位を有する熱可塑性樹脂の購入可能な樹脂としては、以下のものが挙げられる。日本ポリウレタン工業(株)製AQD−457、AQD−473、三洋化成工業(株)製サンニックスGP−400、GP−700などのポリエーテルポリオール系樹脂、日立化成工業(株)製フタルキッドW2343、DIC(株)製ウォーターゾールS−118、CD−520、ハリマ化成(株)製ハリディップWH−1188などのポリエステルポリオール系樹脂、DIC(株)製バーノックWE−300、WE−304などのポリアクリルポリオール系樹脂、(株)クラレ製クラレポバールPVA−203などのようなポリビニルアルコール系樹脂、積水化学工業(株)製KW−1およびKW−3、BX−1、BM−1、KS−1、KS−3、KS−5Zなどのポリビニルアセタール系樹脂、ナガセケムテックス(株)製トレジンFS−350などのポリアミド化合物系樹脂、日本触媒(株)製アクアリック、鉛市(株)製ファインレックスSG2000などのカルボキシル基含有樹脂、DIC(株)製ラッカマイドなどのポリアミン、東レ(株)製QE−340Mなどのポリチオールが挙げられる。   Examples of the resin that can be purchased as the thermoplastic resin having the structural unit represented by the above formula (B) include the following. Polyether polyol resins such as AQD-457 and AQD-473 manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Sannics GP-400 and GP-700 manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd., Phthalkid W2343 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., DIC Polyester polyol resins such as Watersol S-118 and CD-520 manufactured by Harima Chemical Co., Ltd., and Haripip WH-1188 manufactured by Harima Kasei Co., Ltd. Polyacrylic polyols such as Burnock WE-300 and WE-304 manufactured by DIC Corporation Resins, polyvinyl alcohol resins such as Kuraray Kuraraypoval PVA-203, Sekisui Chemical Co., Ltd. KW-1 and KW-3, BX-1, BM-1, KS-1, KS -3, KS-5Z and other polyvinyl acetal resins, Toraysin F manufactured by Nagase ChemteX Corporation -350 and other polyamide compound resins, Nippon Shokubai Co., Ltd. Aquaric, Lead City Co., Ltd. Finelex SG2000 and other carboxyl group-containing resins, DIC Co., Ltd. racamide and other polyamines, Toray Industries, Inc. QE Polythiols such as -340M.

本発明の下引き層は重合を促進する目的で触媒を含有してもよい。触媒として、例えば、ジブチルスズジラウレート、アミン触媒、金属石鹸などが挙げられる。   The undercoat layer of the present invention may contain a catalyst for the purpose of promoting polymerization. Examples of the catalyst include dibutyltin dilaurate, amine catalyst, and metal soap.

下引き層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the coating solution for the undercoat layer include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

重合の形態として、架橋剤、式(1)で示される化合物、および式(B)で示される構造単位を有する樹脂が反応し、重合物(硬化物)が形成される。   As a form of polymerization, a crosslinking agent, a compound represented by the formula (1), and a resin having a structural unit represented by the formula (B) react to form a polymer (cured product).

本発明の下引き層は、式(1)で示される化合物を含有する下引き層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって下引き層を形成する。塗膜形成後これらの化合物が化学反応により重合(硬化)するが、その際に加熱をすることで化学反応が促進され、重合が促進される。   The undercoat layer of the present invention forms an undercoat layer by forming a coating film of a coating solution for an undercoat layer containing the compound represented by the formula (1) and heating and drying the coating film. Although these compounds are polymerized (cured) by a chemical reaction after the coating film is formed, the chemical reaction is accelerated and the polymerization is accelerated by heating at that time.

上記重合物の含有量は、電位変動の抑制という観点から、下引き層の全質量に対して50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、80質量%以上100質量%以下であることがより好ましい。   The content of the polymer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, and preferably 80% by mass or more and 100% by mass or less with respect to the total mass of the undercoat layer, from the viewpoint of suppressing potential fluctuation. Is more preferable.

下引き層には、上記重合物以外にも、下引き層の成膜性や電気的特性を高めるために、有機微粒子、無機微粒子、レベリング剤などを含有してもよい。ただし、下引き層におけるそれらの含有量は、下引き層の全質量に対して50質量%未満であることが好ましく、20質量%未満であることがより好ましい。   In addition to the polymer, the undercoat layer may contain organic fine particles, inorganic fine particles, a leveling agent, and the like in order to improve the film formability and electrical characteristics of the undercoat layer. However, their content in the undercoat layer is preferably less than 50% by mass and more preferably less than 20% by mass with respect to the total mass of the undercoat layer.

なお、支持体と上記下引き層との間や上記下引き層と感光層との間に、本発明に係る重合体を含有しない第2の下引き層などの別の層を設けてもよい。   In addition, another layer such as a second undercoat layer not containing the polymer according to the present invention may be provided between the support and the undercoat layer or between the undercoat layer and the photosensitive layer. .

本発明に係る化合物等の確認は、以下の方法によって行った。   The compound according to the present invention was confirmed by the following method.

・質量分析
質量分析計(MALDI−TOF MS:ブルカー・ダルトニクス(株)製 ultraflex)を用い、加速電圧:20kV、モード:Reflector、分子量標準品:フラーレンC60の条件で、分子量を測定した。得られたピークトップ値で確認した。
-Mass spectrometry The molecular weight was measured using a mass spectrometer (MALDI-TOF MS: ultraflex manufactured by Bruker Daltonics Co., Ltd.) under the conditions of acceleration voltage: 20 kV, mode: Reflector, molecular weight standard product: fullerene C60. It confirmed with the obtained peak top value.

・NMR分析
1,1,2,2−テトラクロロエタン(d2)または、ジメチルスルホキシド(d6)中、120℃にて1H−NMR、13C−NMR分析(FT−NMR:日本電子(株)製JNM−EX400型)により構造を確認した。
NMR analysis 1H-NMR, 13C-NMR analysis (FT-NMR: JNM-manufactured by JEOL Ltd.) in 1,1,2,2-tetrachloroethane (d2) or dimethyl sulfoxide (d6) at 120 ° C. The structure was confirmed by EX400 type).

・GPC分析
東ソー(株)製のゲルパーミエーションクロマトグラフィー「HLC−8120」で測定し、ポリスチレン換算で計算した。
-GPC analysis It measured with the gel permeation chromatography "HLC-8120" by Tosoh Corporation, and computed in polystyrene conversion.

また、イソシアネート化合物、樹脂、および電子輸送物質を含有する下引き層塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって得られた下引き層を、シクロヘキサノンに浸漬し、浸漬前後の下引き層の重量を確認した。浸漬することで下引き層の成分の溶出が無く、硬化(重合)していること確認した。   In addition, an undercoat layer obtained by forming a coating film of an undercoat layer coating solution containing an isocyanate compound, a resin, and an electron transport material, and heating and drying the coating film is immersed in cyclohexanone, before and after the immersion. The weight of the undercoat layer was confirmed. It was confirmed that the components of the undercoat layer were not dissolved by immersion, and were cured (polymerized).

・表面粗さ
接触式表面粗さ計(商品名:サーフコーダSE3500、小坂研究所(製))を測定器として用い、Rzjis(X)を確認した。測定長:2.5mm、測定速度:0.1mm/秒という条件で、測定箇所は長手方向で塗布上端部より30mm、185mm、340mmの各3点、円周方向4点で計12点の平均値をデータとした。
-Surface roughness Rzjis (X) was confirmed using the contact-type surface roughness meter (Brand name: Surfcorder SE3500, Kosaka Laboratory (made)) as a measuring device. Measurement length: 2.5 mm, measurement speed: 0.1 mm / second, the measurement location is the average of 12 points in the longitudinal direction, 3 points each of 30 mm, 185 mm, and 340 mm from the upper end of the coating, 4 points in the circumferential direction The value was taken as data.

〔電荷発生層〕
下引き層上には、電荷発生層が設けられる。
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、またはフタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。
(Charge generation layer)
A charge generation layer is provided on the undercoat layer.
Examples of charge generating materials include azo pigments, perylene pigments, anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives, isoviolanthrone derivatives, indigo derivatives, thioindigo derivatives, metal phthalocyanines, metal-free phthalocyanines, etc. Phthalocyanine pigments and bisbenzimidazole derivatives. Among these, azo pigments or phthalocyanine pigments are preferable. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine are preferable.

電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体および共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。   Examples of the binder resin used for the charge generation layer include polymers and copolymers of vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and polyvinyl alcohol. Examples thereof include resins, polyvinyl acetal resins, polycarbonate resins, polyester resins, polysulfone resins, polyphenylene oxide resins, polyurethane resins, cellulose resins, phenol resins, melamine resins, silicon resins, and epoxy resins. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, and polyvinyl acetal resin are preferable, and among these, polyvinyl acetal resin is more preferable.

電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との質量比率(電荷発生物質/結着樹脂)は、10/1〜1/10の範囲であることが好ましく、5/1〜1/5の範囲であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   In the charge generation layer, the mass ratio of the charge generation material to the binder resin (charge generation material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, and is preferably 5/1 to 1/5. A range is more preferable. The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less. Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

〔電荷輸送層〕
電荷発生層上には、電荷輸送層が設けられ。電荷輸送層が表面層である。電荷輸送層は、ケイ素原子を含む樹脂を含有する。この樹脂は、シロキサン構造を有する樹脂であることが好ましい。シロキサン構造とは、シロキサン構造を構成する両端のケイ素原子およびそれらに結合する基と、該両端のケイ素原子に挟まれた酸素原子、ケイ素原子およびそれらに結合する基を含む部位である。
(Charge transport layer)
A charge transport layer is provided on the charge generation layer. The charge transport layer is the surface layer. The charge transport layer contains a resin containing silicon atoms. This resin is preferably a resin having a siloxane structure. The siloxane structure is a site including silicon atoms at both ends constituting the siloxane structure and groups bonded thereto, and oxygen atoms, silicon atoms and groups bonded thereto sandwiched between the silicon atoms at both ends.

シロキサン構造を有する樹脂として、シロキサン構造を有するポリカーボネート樹脂、またはシロキサン構造を有するポリエステル樹脂であることが好ましい。   The resin having a siloxane structure is preferably a polycarbonate resin having a siloxane structure or a polyester resin having a siloxane structure.

また、ケイ素原子(シロキサン構造)を含む樹脂におけるシロキサン構造の含有量が10質量%以上40質量%以下であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that content of the siloxane structure in resin containing a silicon atom (siloxane structure) is 10 mass% or more and 40 mass% or less.

電荷輸送物質(正孔輸送物質)としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンなどが挙げられる。また、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーも挙げられる。   Examples of the charge transport material (hole transport material) include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine. Also included are polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain.

電荷輸送層(正孔輸送層)には、さらに、上記ケイ素原子を含む樹脂以外の樹脂を併用してもよい。ケイ素原子を含む樹脂以外の樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの重量平均分子量(Mw)は、10,000〜300,000の範囲であることが好ましい。   In the charge transport layer (hole transport layer), a resin other than the resin containing silicon atoms may be used in combination. Examples of resins other than resins containing silicon atoms include polyester resins, polycarbonate resins, polymethacrylate resins, polyarylate resins, polysulfone resins, and polystyrene resins. Among these, polycarbonate resin and polyarylate resin are preferable. Moreover, it is preferable that these weight average molecular weights (Mw) are the range of 10,000-300,000.

電荷輸送層において、電荷輸送物質と樹脂との質量比率(電荷輸送物質/結着樹脂)は、10/5〜5/10の範囲であることが好ましく、10/8〜6/10の範囲であることがより好ましい。電荷輸送層の膜厚は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。   In the charge transport layer, the mass ratio of the charge transport material to the resin (charge transport material / binder resin) is preferably in the range of 10/5 to 5/10, and in the range of 10/8 to 6/10. More preferably. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less.

電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the charge transport layer coating liquid include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

下引き層、電荷発生層、電荷輸送層、最表面層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解および/または分散させて得られた塗布液を塗布して塗膜を形成する。その後、得られた塗膜を乾燥および/または硬化させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。   As a method for forming each layer constituting the electrophotographic photosensitive member such as an undercoat layer, a charge generation layer, a charge transport layer, and an outermost surface layer, the material constituting each layer was obtained by dissolving and / or dispersing in a solvent. A coating solution is applied to form a coating film. Then, the method of forming by drying and / or hardening the obtained coating film is preferable. Examples of the method for applying the coating liquid include a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a curtain coating method, and a spin coating method. Among these, the dip coating method is preferable from the viewpoints of efficiency and productivity.

〔プロセスカートリッジおよび電子写真装置〕
図1に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
[Process cartridge and electrophotographic apparatus]
FIG. 1 shows an example of a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

図1において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラーなど)により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。   In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cylindrical electrophotographic photosensitive member, which is rotationally driven in a direction of an arrow about a shaft 2 at a predetermined peripheral speed. The surface (circumferential surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 that is rotationally driven is uniformly charged to a predetermined positive or negative potential by a charging unit 3 (primary charging unit: charging roller or the like). Next, it receives exposure light (image exposure light) 4 from exposure means (not shown) such as slit exposure or laser beam scanning exposure. In this way, electrostatic latent images corresponding to the target image are sequentially formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1.

電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)6からの転写バイアスによって、転写材(紙など)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて給送される。   The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is then developed with toner contained in the developer of the developing means 5 to become a toner image. Next, the toner image formed and supported on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is sequentially transferred onto a transfer material (such as paper) P by a transfer bias from a transfer unit (such as a transfer roller) 6. The transfer material P is taken out from the transfer material supply means (not shown) between the electrophotographic photoreceptor 1 and the transfer means 6 (contact portion) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photoreceptor 1 and fed. Is done.

トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。   The transfer material P that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and introduced into the fixing means 8 to receive the image fixing, and is printed out as an image formed product (print, copy). Is done.

トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレードなど)7によって転写残りの現像剤(転写残トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図1に示すように、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。   The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the transfer of the toner image is cleaned by receiving a transfer residual developer (transfer residual toner) by a cleaning means (cleaning blade or the like) 7. Next, after being subjected to charge removal processing by pre-exposure light (not shown) from pre-exposure means (not shown), it is repeatedly used for image formation. As shown in FIG. 1, when the charging unit 3 is a contact charging unit using a charging roller or the like, pre-exposure is not necessarily required.

上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6およびクリーニング手段7などの構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成してもよい。そして、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図1では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5およびクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化している。そして、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。   Of the above-described components such as the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5, the transfer unit 6 and the cleaning unit 7, a plurality of components may be housed in a container and integrally combined as a process cartridge. Good. The process cartridge may be configured to be detachable from an electrophotographic apparatus main body such as a copying machine or a laser beam printer. In FIG. 1, the electrophotographic photosensitive member 1, the charging unit 3, the developing unit 5, and the cleaning unit 7 are integrally supported to form a cartridge. The process cartridge 9 is detachably attached to the main body of the electrophotographic apparatus using guide means 10 such as a rail of the main body of the electrophotographic apparatus.

以下、実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。まず、式(1)で示される化合物(電子輸送物質)の合成例を示す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, “part” means “part by mass”. First, a synthesis example of a compound (electron transport material) represented by the formula (1) is shown.

(合成例1)
室温下、窒素気流下300ml3つ口フラスコに、1,4,5,8―ナフタレンテトラカルボン酸二無水物26.8部(100mmol)、ジメチルアセトアミド150部を入れた。これに、2−(4−アミノフェニル)エタノール6.9部(50mmol)とL―ロイシノール5.9部(50mmol)、ジメチルアセトアミド50部の混合物を攪拌しながら滴下した。滴下終了後、6時間加熱還流させた。反応終了後、容器を冷却し、減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加えた後濾過を行い、濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)を用いて濃縮した。さらに、濃縮物を酢酸エチル/ヘキサン混合溶液で再結晶を行い、式(11)で示される化合物15.0部を得た。
(Synthesis Example 1)
In a 300 ml three-necked flask under a nitrogen stream at room temperature, 26.8 parts (100 mmol) of 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 150 parts of dimethylacetamide were placed. To this, a mixture of 6.9 parts (50 mmol) of 2- (4-aminophenyl) ethanol, 5.9 parts (50 mmol) of L-leucinol and 50 parts of dimethylacetamide was added dropwise with stirring. After completion of dropping, the mixture was heated to reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the container was cooled and concentrated under reduced pressure. Ethyl acetate was added to the residue, followed by filtration, and the filtrate was concentrated using silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene). Furthermore, the concentrate was recrystallized with a mixed solution of ethyl acetate / hexane to obtain 15.0 parts of a compound represented by the formula (11).

(合成例2)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部および2,6−ジイソプロピルアニリン4部、2−アミノ−1,3−プロパンジオール3部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。
(Synthesis Example 2)
Under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4 parts of 2,6-diisopropylaniline and 3 parts of 2-amino-1,3-propanediol are added to 200 parts of dimethylacetamide. Stir for hours to prepare a solution.

溶液を調製後、10時間還流を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離した後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。その濃縮物を酢酸エチル/トルエン混合溶液で再結晶を行い、式(12)で示される化合物1.5部得た。   After preparing the solution, the mixture was refluxed for 10 hours and separated by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), and then the fraction containing the desired product was concentrated. The concentrate was recrystallized with an ethyl acetate / toluene mixed solution to obtain 1.5 parts of a compound represented by the formula (12).

(合成例3)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール5.2部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。ジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチルで再結晶を行い、式(13)で示される化合物5.0部を得た。
(Synthesis Example 3)
To 200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 5.2 parts of leucinol were added under a nitrogen atmosphere, stirred at room temperature for 1 hour, and then refluxed for 7 hours. After removing dimethylacetamide by distillation under reduced pressure, recrystallization was performed with ethyl acetate to obtain 5.0 parts of a compound represented by the formula (13).

(合成例4)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部および4−ヘプチルアミン4部、2−アミノ−1,3−プロパンジオール3部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間加熱還流を行い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。その濃縮物を酢酸エチル/トルエン混合溶液で再結晶を行い、式(14)で示される化合物2.0部を得た。
(Synthesis Example 4)
In a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4 parts of 4-heptylamine and 3 parts of 2-amino-1,3-propanediol are added to 200 parts of dimethylacetamide and stirred at room temperature for 1 hour. To prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was heated to reflux for 8 hours, separated by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), and the fraction containing the desired product was concentrated. The concentrate was recrystallized with an ethyl acetate / toluene mixed solution to obtain 2.0 parts of a compound represented by the formula (14).

(合成例5)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール2.6部、2−(2−アミノエチルチオ)エタノール2.7部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。得られた黒褐色溶液からジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチル/トルエン混合溶液に溶解させた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮した。その濃縮物をトルエン/ヘキサン混合溶液で再結晶を行い、式(15)で示される化合物2.5部を得た。
(Synthesis Example 5)
Under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2.6 parts of leucinol and 2.7 parts of 2- (2-aminoethylthio) ethanol are added to 200 parts of dimethylacetamide at room temperature for 1 hour. After stirring, the mixture was refluxed for 7 hours. Dimethylacetamide was removed from the resulting black brown solution by distillation under reduced pressure, and then dissolved in an ethyl acetate / toluene mixed solution. After separation by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), the fraction containing the desired product was concentrated. The concentrate was recrystallized with a toluene / hexane mixed solution to obtain 2.5 parts of a compound represented by the formula (15).

次に、以下のように電子写真感光体を製造し、評価した。   Next, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated as follows.

〔支持体例〕
アルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。長さおよび直径は表1に示す。
(Example of support)
An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) was used as a support (conductive support). The length and diameter are shown in Table 1.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

〔導電層作製例1〕
金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている酸化チタン(TiO)粒子214部、
結着材料としてのフェノール樹脂(フェノール樹脂のモノマー/オリゴマー)(商品名:プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60質量%)132部、および、
溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、
直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
[Conductive layer preparation example 1]
214 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles,
132 parts of phenol resin (monomer / oligomer of phenol resin) as a binding material (trade name: Priorofen J-325, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., resin solid content: 60% by mass), and
98 parts of 1-methoxy-2-propanol as solvent
Place in a sand mill using 450 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm, perform dispersion treatment under the conditions of rotation speed: 2000 rpm, dispersion treatment time: 4.5 hours, cooling water set temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion. It was.

この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して10質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製、平均粒径2μm)を分散液に添加した。さらに、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製)を分散液に添加して撹拌して、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層1を形成した。   Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120, as a surface roughening agent) so as to be 10% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads. Momentive Performance Materials, Inc., average particle size 2 μm) was added to the dispersion. Furthermore, silicone oil as a leveling agent (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) so that the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion is 0.01% by mass. ) Was added to the dispersion and stirred to prepare a coating solution for a conductive layer. This conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer 1 having a thickness of 30 μm.

〔導電層作製例2〕
金属酸化物粒子としてのリン(P)がドープされている酸化スズ(SnO)で被覆されている酸化チタン(TiO)粒子207部、
結着材料としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)144部、および、
溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、
直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
[Conductive layer preparation example 2]
207 parts of titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P) as metal oxide particles,
144 parts of a phenolic resin (trade name: Priorofen J-325) as a binding material, and
98 parts of 1-methoxy-2-propanol as solvent
Place in a sand mill using 450 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm, perform dispersion treatment under the conditions of rotation speed: 2000 rpm, dispersion treatment time: 4.5 hours, cooling water set temperature: 18 ° C. to obtain a dispersion. It was.

この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して15質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。さらに、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、シリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。   Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) were added to the dispersion so that the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads was 15% by mass. Furthermore, by adding and stirring the silicone oil (trade name: SH28PA) to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion, A coating solution for a conductive layer was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.

〔導電層作製例3〕
金属酸化物粒子としての酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている硫酸バリウム微粒子(粉体抵抗率:120Ω・cm、酸化スズの被覆率:40%)200部、
酸化チタン(商品名:TITANIX JR、テイカ(株)製、平均粒径0.27μm)、
結着材料としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325)166部、および
溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール100部を、直径0.8mmのガラスビーズ400部を用いたサンドミルに入れ、回転数:2000rpm、分散処理時間:3時間、冷却水の設定温度:18℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
[Conductive layer preparation example 3]
200 parts of barium sulfate fine particles (powder resistivity: 120 Ω · cm, tin oxide coverage: 40%) coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 ) as metal oxide particles,
Titanium oxide (trade name: TITANIX JR, manufactured by Teika Co., Ltd., average particle size 0.27 μm),
166 parts of phenolic resin (trade name: Priorofen J-325) as a binder and 100 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent are placed in a sand mill using 400 parts of glass beads with a diameter of 0.8 mm. The dispersion was performed under the conditions of a rotational speed of 2000 rpm, a dispersion treatment time of 3 hours, and a set temperature of cooling water of 18 ° C. to obtain a dispersion.

この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して10質量%になるように、シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。さらに、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して0.01質量%になるように、シリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間145℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が20μmの導電層を形成した。   Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm). Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) were added to the dispersion so that the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion after removing the glass beads was 10% by mass. Furthermore, by adding and stirring the silicone oil (trade name: SH28PA) to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder material in the dispersion, A coating solution for a conductive layer was prepared. This conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 145 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 20 μm.

〔下引き層作製例1〕
合成例1の式(11)で示される化合物8.5部、ブロックされたイソシアネート化合物(商品名:SBN−70D、旭化成ケミカルズ(株)製)15部、ポリビニルアルコール樹脂(商品名:KS−5Z、積水化学工業(株)製)0.97部、
触媒としてヘキサン酸亜鉛(II)(商品名:ヘキサン酸亜鉛(II)、三津和化学薬品(株)製)0.15部とを、1−メトキシ−2−プロパノール88部とテトラヒドロフラン88部の混合溶媒に溶解し、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を20分間170℃で加熱し、硬化(重合)させることによって、膜厚が0.6μmの下引き層1を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 1]
8.5 parts of the compound represented by formula (11) in Synthesis Example 1, 15 parts of blocked isocyanate compound (trade name: SBN-70D, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), polyvinyl alcohol resin (trade name: KS-5Z) 0.97 parts, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
Zinc hexanoate (II) (trade name: zinc hexanoate (II), manufactured by Mitsuwa Chemicals Co., Ltd.) 0.15 part as a catalyst and mixing of 88 parts of 1-methoxy-2-propanol and 88 parts of tetrahydrofuran It was dissolved in a solvent to prepare an undercoat layer coating solution. The undercoat layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 170 ° C. for 20 minutes to be cured (polymerized), thereby forming the undercoat layer 1 having a thickness of 0.6 μm. Formed. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例2〕
下引き層作製例1において、触媒を2−エチルヘキサン酸亜鉛(商品名:ビス(2−エチルヘキサン酸)亜鉛・ミネラルスピリット溶液(Zn:15%)、和光純薬工業(株))に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層2を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 2]
In subbing layer preparation example 1, the catalyst was changed to zinc 2-ethylhexanoate (trade name: bis (2-ethylhexanoic acid) zinc / mineral spirit solution (Zn: 15%), Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The undercoat layer 2 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 1 except that. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例3〕
下引き層作製例1において、式(11)で示される化合物8.5部を合成例2の式(12)で示される化合物に変更し、ブロックされたイソシアネート化合物15.7部に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層3を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 3]
In the undercoat layer production example 1, 8.5 parts of the compound represented by the formula (11) was changed to the compound represented by the formula (12) of Synthesis Example 2 and changed to 15.7 parts of the blocked isocyanate compound. The undercoat layer 3 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 3. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例4〕
下引き層作製例3において、式(12)で示される化合物を合成例3の式(13)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層4を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 4]
In the undercoat layer preparation example 3, the undercoat layer 4 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 3 except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (13) in the synthesis example 3. . Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例5〕
下引き層作製例3において、式(12)で示される化合物を合成例4の式(14)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層5を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 5]
In the undercoat layer preparation example 3, the undercoat layer 5 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 3 except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (14) in the synthesis example 4. . Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例6〕
下引き層作製例3において、式(12)で示される化合物を合成例5の式(15)に示される化合物に変更した以外は下引き層作製例3と同様に下引き層6を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 6]
In the undercoat layer preparation example 3, the undercoat layer 6 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 3 except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (15) of the synthesis example 5. . Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例7〕
下引き層作製例2において、式(11)で示される化合物8.5部を式(12)で示される化合物8.0部に変更し、ブロックされたイソシアネート化合物15.7部に変更した以外は下引き層作製例2と同様に下引き層7を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 7]
In the undercoat layer production example 2, 8.5 parts of the compound represented by the formula (11) was changed to 8.0 parts of the compound represented by the formula (12) and changed to 15.7 parts of a blocked isocyanate compound. The undercoat layer 7 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 2. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例8〕
下引き層作製例7において、式(12)で示される化合物を式(13)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例7と同様に下引き層8を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 8]
In the undercoat layer preparation example 7, the undercoat layer 8 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 7, except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (13). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例9〕
下引き層作製例7において、式(12)で示される化合物を式(14)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例7と同様に下引き層9を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 9]
In the undercoat layer preparation example 7, the undercoat layer 9 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 7, except that the compound represented by the formula (12) was changed to the compound represented by the formula (14). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例10〕
下引き層作製例7において式(12)で示される化合物を式(15)で示される化合物に変更した以外は下引き層作製例7と同様に下引き層10を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 10]
An undercoat layer 10 was formed in the same manner as in the undercoat layer preparation example 7 except that the compound represented by the formula (12) in the undercoat layer preparation example 7 was changed to the compound represented by the formula (15). Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例11〕
下引き層作製例1において、ブロックされたイソシアネート化合物を商品名:SBN−70M、旭化成ケミカルズ(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層11を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 11]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 11 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the blocked isocyanate compound was changed to trade name: SBN-70M, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例12〕
下引き層作製例1において、ポリビニルアセタール樹脂を商品名:BX−5、積水化学工業(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層12を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 12]
In undercoat layer preparation example 1, undercoat layer 12 was formed in the same manner as undercoat layer preparation example 1 except that the polyvinyl acetal resin was changed to trade name: BX-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例13〕
下引き層作製例1において、ポリビニルアセタール樹脂を商品名:BM−5、積水化学工業(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層13を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 13]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 13 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the polyvinyl acetal resin was changed to trade name: BM-5, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例14〕
下引き層作製例1において、ポリビニルアセタール樹脂を商品名:KS−3、積水化学工業(株)製に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層14を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 14]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 14 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the polyvinyl acetal resin was changed to trade name: KS-3, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例15〕
下引き層作製例1において、式(11)で示される化合物を8.0部、ブロックされたイソシアネート化合物を15.7部に変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層15を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 15]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 15 is the same as the undercoat layer preparation example 1 except that the compound represented by the formula (11) is changed to 8.0 parts and the blocked isocyanate compound is changed to 15.7 parts. Formed. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例16〕
下引き層作製例1において、膜厚を0.5μmに変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層16を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer production example 16]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 16 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the film thickness was changed to 0.5 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例17〕
下引き層作製例1において、膜厚を0.7μmに変更した以外は下引き層作製例1と同様に下引き層17を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 17]
In the undercoat layer preparation example 1, the undercoat layer 17 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 1 except that the film thickness was changed to 0.7 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例18〕
下引き層作製例16において、1−メトキシ−2−プロパノールをメタノールに変更し、かつ膜厚を0.4μmとした以外は下引き層作製例16と同様に下引き層18を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Example 18 for producing undercoat layer]
In the undercoat layer preparation example 16, the undercoat layer 18 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 16 except that 1-methoxy-2-propanol was changed to methanol and the film thickness was changed to 0.4 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例19〕
下引き層作製例16において、1−メトキシ−2−プロパノールをエタノールに変更した以外は下引き層作製例16と同様に下引き層19を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 19]
In the undercoat layer preparation example 16, the undercoat layer 19 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 16 except that 1-methoxy-2-propanol was changed to ethanol. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例20〕
下引き層作製例16において、20分間170℃で加熱する前に3分間120℃で加熱する工程を入れた以外は下引き層作製例16と同様に下引き層20を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。
[Undercoat layer preparation example 20]
In the undercoat layer preparation example 16, the undercoat layer 20 was formed in the same manner as the undercoat layer preparation example 16 except that a step of heating at 120 ° C. for 3 minutes was performed before heating at 170 ° C. for 20 minutes. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

〔下引き層作製例21〕
共重合ナイロン樹脂(商品名:アミランCM8000、東レ(株)製)10部およびメトキシメチル化ナイロン樹脂(商品名:トレジンEF30T、ナガセケムテックス(株)製)30部を、
メタノール500部およびブタノール250部の混合液に溶解し下引き層用塗布液を調製した。
[Undercoat layer preparation example 21]
10 parts of copolymer nylon resin (trade name: Amilan CM8000, manufactured by Toray Industries, Inc.) and 30 parts of methoxymethylated nylon resin (trade name: Toresin EF30T, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
An undercoat layer coating solution was prepared by dissolving in a mixed solution of 500 parts of methanol and 250 parts of butanol.

この下引き層用塗布液導電層の上に浸漬塗布し、得られた塗膜を20分間100℃で加熱し、膜厚が0.6μmの下引き層18を形成した。下引き層の膜厚及び組成を表2に示す。   The undercoat layer coating solution was dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film was heated at 100 ° C. for 20 minutes to form an undercoat layer 18 having a thickness of 0.6 μm. Table 2 shows the thickness and composition of the undercoat layer.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

〔電荷発生層作製例1〕
CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)を用意した。このヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶10部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)5部およびシクロヘキサノン260部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル240部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間95℃で乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。
[Charge generation layer preparation example 1]
Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, 25.1 ° and 28.3 in CuKα characteristic X-ray diffraction A crystalline form of hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generation material) having a peak at ° was prepared. 10 parts of this hydroxygallium phthalocyanine crystal, 5 parts of polyvinyl butyral resin (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 260 parts of cyclohexanone are placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm. Dispersed for 5 hours. Next, 240 parts of ethyl acetate was added thereto to prepare a charge generation layer coating solution. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 95 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.18 μm.

〔電荷輸送層作製例1〕
下記式(E−1)で示される電荷輸送物質8.1部、下記式(E−2)で示される電荷輸送物質0.9部、樹脂として下記式(F−1)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂F1(商品名:ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製)10部、下記式(G)で示される構造単位を有するポリカーボネート樹脂G1(重量平均分子量40,000)0.002部を、ジメトキシメタン35部、オルトキシレン45部および安息香酸メチル10部混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
[Charge transport layer preparation example 1]
8.1 parts of a charge transport material represented by the following formula (E-1), 0.9 part of a charge transport material represented by the following formula (E-2), and a structural unit represented by the following formula (F-1) as a resin Polycarbonate resin F1 (trade name: Iupilon Z400, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd.) 10 parts, polycarbonate resin G1 having a structural unit represented by the following formula (G) (weight average molecular weight 40,000) 0.002 A coating solution for a charge transport layer was prepared by dissolving a part in 35 parts of dimethoxymethane, 45 parts of orthoxylene and 10 parts of methyl benzoate.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

Figure 2015210446
Figure 2015210446

(式(G)中、0.95および0.05は2つの構造単位の共重合比である。)
この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が26μmの電荷輸送層1を形成した。
(In formula (G), 0.95 and 0.05 are copolymerization ratios of two structural units.)
This charge transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer 1 having a thickness of 26 μm.

〔電荷輸送層作製例2〕
電荷輸送層作製例1において、ポリカーボネート樹脂F1およびポリカーボネート樹脂G1を下記式(C−1)で示される構造単位、下記式(C−2)で示される構造単位を5:5の比で含有するポリエステル樹脂C1(重量平均分子量120,000)10部、および
下記式(F−1)で示される構造単位、下記式(F−2)で示される構造単位および、下記式(F−3)で示される末端構造を有するポリカーボネート樹脂F2(重量平均分子量40,000)0.3部に変更した。それ以外は電荷輸送層作製例1と同様に、電荷輸送層2を形成した。なお、ポリカーボネート樹脂F2に対する、式(F−3)で示される末端構造と式(F−1)で示される構造単位の合計質量は30質量%である。
[Charge transport layer preparation example 2]
In the charge transport layer production example 1, the polycarbonate resin F1 and the polycarbonate resin G1 contain a structural unit represented by the following formula (C-1) and a structural unit represented by the following formula (C-2) in a ratio of 5: 5. 10 parts of a polyester resin C1 (weight average molecular weight 120,000), a structural unit represented by the following formula (F-1), a structural unit represented by the following formula (F-2), and a following formula (F-3) The polycarbonate resin F2 (weight average molecular weight 40,000) having the terminal structure shown was changed to 0.3 part. Otherwise, the charge transport layer 2 was formed in the same manner as in Charge Transport Layer Preparation Example 1. The total mass of the terminal structure represented by the formula (F-3) and the structural unit represented by the formula (F-1) with respect to the polycarbonate resin F2 is 30% by mass.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

Figure 2015210446
Figure 2015210446

〔電荷輸送層作製例5〕
下記式(E−1)で示される電荷輸送物質9部、下記式(E−3)で示される構造を有する電荷輸送物質1部、
樹脂として、下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、および(A−4)で示される構造単位、下記式(B−1)および(B−2)で示される構造単位を有するポリエステル樹脂A1(重量平均分子量90,000)3部、および、
下記式(C−1)、および式(C−2)で示される構造単位を5:5の比で含有するポリエステル樹脂C1(重量平均分子量120,000)7部を
ジメトキシメタン40部およびオルトキシレン60部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを1時間120℃で乾燥させることによって、膜厚が16μmの電荷輸送層を形成した。なお、式(A−1)、(A−2)、(A−3)、および(A−4)で示される構造単位の質量比は、2.25:0.75:5.25:1.75であり、式(B−1)および式(B−2)で示される構造単位の質量比は、3:7である。さらに、ポリエステル樹脂A1に対して、式(A−1)、(A−2)、(A−3)、および(A−4)で示される構造単位の含有量は、10質量%であり、式(B−1)および式(B−2)で示される構造単位の含有量は90質量%である。
[Charge transport layer preparation example 5]
9 parts of a charge transport material represented by the following formula (E-1), 1 part of a charge transport material having a structure represented by the following formula (E-3),
As the resin, structural units represented by the following formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4), represented by the following formulas (B-1) and (B-2) 3 parts of a polyester resin A1 (weight average molecular weight 90,000) having a structural unit
7 parts of a polyester resin C1 (weight average molecular weight 120,000) containing the structural unit represented by the following formula (C-1) and formula (C-2) in a ratio of 5: 5 is 40 parts of dimethoxymethane and orthoxylene. A charge transport layer coating solution was prepared by dissolving in 60 parts of a mixed solvent. The charge transport layer coating solution was dip coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 16 μm. The mass ratio of the structural units represented by the formulas (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4) is 2.25: 0.75: 5.25: 1. And the mass ratio of the structural units represented by formula (B-1) and formula (B-2) is 3: 7. Furthermore, with respect to polyester resin A1, content of the structural unit shown by Formula (A-1), (A-2), (A-3), and (A-4) is 10 mass%, Content of the structural unit shown by Formula (B-1) and Formula (B-2) is 90 mass%.

形成された電荷輸送層には電荷輸送物質とポリエステル樹脂C1を含むマトリックス中にポリエステル樹脂A1を含むドメイン構造が含有されていることが確認された。   It was confirmed that the formed charge transport layer contained a domain structure containing the polyester resin A1 in a matrix containing the charge transport material and the polyester resin C1.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

Figure 2015210446
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Figure 2015210446
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Figure 2015210446
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〔電荷輸送層作製例2〜4、6〜27〕
電荷輸送層作製例2〜4、6〜27では、作例例1の電荷輸送物質、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂A1とポリエステル樹脂C1を表3に示すポリエステル樹脂A、と表4に示すポリエステル樹脂Cを用い、表5のように変更した。それ以外は、電荷輸送層作製例1と同様に電荷輸送層2〜4、6〜27を形成した。
[Charge Transport Layer Preparation Examples 2 to 4, 6 to 27]
In the charge transport layer production examples 2 to 4 and 6 to 27, the charge transport material, polycarbonate resin, polyester resin A1 and polyester resin C1 shown in Table 3 are shown in Table 3, and the polyester resin C shown in Table 4 is used. Used and changed as shown in Table 5. Otherwise, charge transport layers 2 to 4 and 6 to 27 were formed in the same manner as in Charge Transport Layer Preparation Example 1.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

Figure 2015210446
Figure 2015210446

表3中の式(A)、式(B)の欄の数字は各構造単位の質量比を示す。表3中の式(A)/式(B)は、ポリエステル樹脂A中の式(A)で示される構造単位と式(B)で示される構造単位の質量比を示す。   The numbers in the columns of Formula (A) and Formula (B) in Table 3 indicate the mass ratio of each structural unit. Formula (A) / Formula (B) in Table 3 represents the mass ratio of the structural unit represented by Formula (A) and the structural unit represented by Formula (B) in polyester resin A.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

表4中の式(C)の欄の数字は各構造単位の質量比を示す。   The numbers in the column of formula (C) in Table 4 indicate the mass ratio of each structural unit.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

表5中のポリエステル樹脂A、ポリエステル樹脂Cの欄の数字は各樹脂の混合質量比を示す。表5中の樹脂(A)/樹脂(C)は、ポリエステル樹脂Aとポリエステル樹脂Cとの質量比を示す。   The numbers in the column of polyester resin A and polyester resin C in Table 5 indicate the mixing mass ratio of each resin. Resin (A) / resin (C) in Table 5 represents the mass ratio of polyester resin A and polyester resin C.

(感光体作製例1〜15、26)
電子写真感光体を各層の作製例を組み合わせて、電子写真感光体を製造した。具体的には、表6に示す感光体作製例1〜15、及び26により電子写真感光体を製造した。
(Photosensitive member production examples 1 to 15, 26)
The electrophotographic photosensitive member was manufactured by combining the production examples of each layer with the electrophotographic photosensitive member. Specifically, electrophotographic photoreceptors were produced according to photoreceptor preparation examples 1 to 15 and 26 shown in Table 6.

Figure 2015210446
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〔評価例1〕
上記感光体作製例で作製した、電子写真感光体を温度15℃、湿度10%RHの環境下において、図2に示す、帯電ローラおよび露光器を有する感光体試験機に設置し、表面電位の測定を行った。詳しくは以下のとおりである。
[Evaluation Example 1]
The electrophotographic photoreceptor produced in the above photoreceptor preparation example was installed in a photoreceptor testing machine having a charging roller and an exposure device shown in FIG. 2 in an environment of a temperature of 15 ° C. and a humidity of 10% RH. Measurements were made. Details are as follows.

表面電位評価の測定は、電位プローブ(model6000B−7C:トレック・ジャパン(株)製)を装着し、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344:トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。感光体の表面電位は、初期暗部電位(Vd)、初期明部電位(Vl)、1分あたりの感光体回転数を表7に示すようになるように印加電圧および画像露光の光量を設定した。除電光は露光の3倍の光量になるように設定した。表7中の帯電方式において、DCはローラに直流電圧を印加する方式、AC/DCはローラに直流電圧と交流電圧を重畳して印加する方式を示す。   The surface potential evaluation is performed by attaching a potential probe (model 6000B-7C: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) and measuring the potential at the center of the electrophotographic photosensitive member by a surface potential meter (model 344: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.). Was measured using. As for the surface potential of the photoconductor, the initial dark portion potential (Vd), the initial bright portion potential (Vl), and the applied voltage and the amount of image exposure were set so that the rotational speed of the photoconductor per minute is as shown in Table 7. . The charge removal light was set to be 3 times the amount of light exposure. In the charging method in Table 7, DC indicates a method in which a DC voltage is applied to the roller, and AC / DC indicates a method in which a DC voltage and an AC voltage are superimposed and applied to the roller.

図2に装置の概略を示す。図2中、1は電子写真感光体、2は帯電ローラ、4は露光、6は露光(除電光)を示す。3は暗部電位測定用のプローブ、5は明部電位測定用のプローブを示す。   FIG. 2 shows an outline of the apparatus. In FIG. 2, 1 is an electrophotographic photosensitive member, 2 is a charging roller, 4 is exposure, and 6 is exposure (static discharge light). 3 is a probe for measuring dark part potential, and 5 is a probe for measuring light part potential.

〔評価例2〜10および参考評価例11〕
評価例1において、初期暗部電位(Vd)、初期明部電位(Vl)、1分あたりの感光体回転数、帯電方式、除電光の有無を表7に示すように設定した以外は評価例1と同様に設定した。結果を表7に示す。
[Evaluation Examples 2 to 10 and Reference Evaluation Example 11]
Evaluation Example 1 except that the initial dark portion potential (Vd), the initial bright portion potential (Vl), the number of rotations of the photosensitive member per minute, the charging method, and the presence or absence of charge removal light were set as shown in Table 7 in Evaluation Example 1. Was set in the same manner. The results are shown in Table 7.

Figure 2015210446
Figure 2015210446

〔評価例12〕
電子写真感光体の直径および長さを調整し、感光体作製例で作製した、電子写真感光体を温度15℃、湿度10%RHの環境下において、ヒューレットパッカード(株)製のレーザービームプリンター(商品名:CP4525dn)の改造機に装着した。そして、表面電位の測定を行った。詳しくは以下のとおりである。
[Evaluation Example 12]
A laser beam printer (manufactured by Hewlett-Packard Co., Ltd.) in an environment of a temperature of 15 ° C. and a humidity of 10% RH is prepared by adjusting the diameter and length of the electrophotographic photosensitive member. The product was mounted on a modified machine having a trade name: CP4525dn). Then, the surface potential was measured. Details are as follows.

表面電位評価の測定は、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ(model6000B−8)を装着し、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344)を使用して測定した。感光体の表面電位は、初期暗部電位(Vd)が−500V、初期明部電位(Vl)が−100Vになるよう、画像露光の光量を設定した。   The surface potential evaluation was performed by modifying the laser beam printer cyan process cartridge, mounting a potential probe (model 6000B-8) at the development position, and measuring the potential at the center of the electrophotographic photosensitive member with a surface potential meter ( Measured using model 344). For the surface potential of the photoconductor, the amount of image exposure was set so that the initial dark portion potential (Vd) was −500 V and the initial bright portion potential (Vl) was −100 V.

上記、レーザービームプリンター(CP4525dn)の1分あたりの電子写真感光体回転数は147回転、電子写真感光体の直径は24mm、帯電方式はローラに直流電圧を印加する方式、潜像形成以外の除電光を帯電前に有する方式である。転写は、中間転写ベルトを有する転写方式(ITB)を有している。また、現像方式は接触現像方式であり、評価に使用したトナーは懸濁重合トナーを用いている。   In the laser beam printer (CP4525dn), the rotation speed of the electrophotographic photosensitive member per minute is 147 rotations, the diameter of the electrophotographic photosensitive member is 24 mm, the charging method is a method in which a DC voltage is applied to the roller, and other than the latent image formation. In this method, lightning is provided before charging. The transfer has a transfer system (ITB) having an intermediate transfer belt. The developing method is a contact developing method, and the toner used for the evaluation is a suspension polymerization toner.

上記、レーザービームプリンター(CP4525dn)を用いて、A4サイズの普通紙で、10,000枚のフルカラー画像(各色印字率1%の文字画像)の出力を行った。   Using the above laser beam printer (CP4525dn), 10,000 full-color images (character images with a color printing rate of 1%) were output on A4 size plain paper.

(実施例1〜28および比較例1〜2)
感光体作製例1〜15で作製した電子写真感光体を表8に示す評価例の条件で繰り返し使用し、繰り返し使用後の明部電位(Vlt)と初期の明部電位(Vl)の差分を評価した。結果を表8に示す。
(Examples 1-28 and Comparative Examples 1-2)
The electrophotographic photoreceptors produced in Photoreceptor Production Examples 1 to 15 were repeatedly used under the conditions of the evaluation examples shown in Table 8, and the difference between the bright part potential (Vlt) after repeated use and the initial bright part potential (Vl) was calculated. evaluated. The results are shown in Table 8.

ΔVl=|繰り返し使用後明部電位(Vlt)−初期明部電位(Vl)|     ΔVl = | Bright part potential after repeated use (Vlt) −Initial bright part potential (Vl) |

Figure 2015210446
Figure 2015210446

実施例で、電位変動の抑制効果が大きいことが示されている。   The examples show that the effect of suppressing potential fluctuation is large.

1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング手段
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photoreceptor 2 Axis 3 Charging means 4 Exposure light 5 Developing means 6 Transfer means 7 Cleaning means 8 Fixing means 9 Process cartridge 10 Guide means

Claims (6)

支持体、該支持体上に設けられた下引き層、該下引き層上に設けられた電荷発生層、および該電荷発生層上に設けられた電荷輸送層を有し、かつ、該電荷輸送層が表面層である電子写真感光体であって、
該下引き層が、下記式(1)で示される化合物を含む組成物の重合物を含有し、
該電荷輸送層がケイ素原子を含む樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
Figure 2015210446

(式(1)中、R101〜R106は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、O、S、NR201(R201は、水素原子またはアルキル基を示す)で置き換わっていても良い。R101〜R106の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。
該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。
該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン化アルキル基からなる群より選択される基である。)
Figure 2015210446

(式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。
αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNR301(R301は、水素原子またはアルキル基である。)で置き換わっていても良い。
βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン化フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。
γは、水素原子、炭素数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR401(R401はアルキル基を示す)で置き換わっていても良い。)
A support, an undercoat layer provided on the support, a charge generation layer provided on the undercoat layer, and a charge transport layer provided on the charge generation layer, and the charge transport An electrophotographic photoreceptor in which the layer is a surface layer,
The undercoat layer contains a polymer of a composition containing a compound represented by the following formula (1),
An electrophotographic photoreceptor, wherein the charge transport layer contains a resin containing a silicon atom.
Figure 2015210446

(In formula (1), R 101 to R 106 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, substituted or unsubstituted A substituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, and one of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group is O, S, NR 201 (R 201 is It represents a hydrogen atom or an alkyl group, and at least one of R 101 to R 106 is a monovalent group represented by the following formula (A).
The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom.
The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogenated alkyl group. )
Figure 2015210446

(In Formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. At least one group, l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.
α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced with O, S, or NR 301 (R 301 is a hydrogen atom or an alkyl group).
β represents a phenylene group, an alkyl-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogenated phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.
γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 401 (R 401 represents an alkyl group). )
前記電荷輸送層におけるケイ素原子を含む樹脂がシロキサン構造を有し、
該樹脂におけるシロキサン構造の含有量が10質量%以上40質量%以下である請求項1に記載の電子写真感光体。
The resin containing silicon atoms in the charge transport layer has a siloxane structure,
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the content of the siloxane structure in the resin is 10% by mass or more and 40% by mass or less.
前記式(1)中、R105及び106の少なくとも1つは、前記式(A)で示される1価の基である請求項1または2に記載の電子写真感光体。 3. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein at least one of R 105 and 106 in the formula (1) is a monovalent group represented by the formula (A). 前記式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは前記置換基を有する基であり、前記置換基がヒドロキシ基である請求項1から3のいずれか1項に記載の電子写真感光体。   4. The electrophotography according to claim 1, wherein in the formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having the substituent, and the substituent is a hydroxy group. 5. Photoconductor. 請求項1から4のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジ。   An electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 4, and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, are integrally supported, and electrophotographic A process cartridge that is detachable from the main unit. 請求項1から4のいずれか1項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置。   An electrophotographic apparatus comprising: the electrophotographic photosensitive member according to claim 1; a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017010025A (en) * 2015-06-25 2017-01-12 キヤノン株式会社 Electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and electrophotographic device

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