JP5826212B2 - Method for producing electrophotographic photosensitive member - Google Patents

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本発明は、電子写真感光体の製造方法に関する。 The present invention relates to the production how the electronic photosensitive member.

現在、プロセスカートリッジや電子写真装置に搭載される電子写真感光体としては、有機光導電性物質を含有する電子写真感光体が主流である。この電子写真感光体は、成膜性が良く、塗工によって生産できるため、電子写真感光体の生産性が高いという利点を有している。   Currently, electrophotographic photoreceptors containing organic photoconductive substances are the mainstream as electrophotographic photoreceptors mounted on process cartridges and electrophotographic apparatuses. Since this electrophotographic photosensitive member has good film formability and can be produced by coating, it has an advantage that the productivity of the electrophotographic photosensitive member is high.

電子写真感光体は、一般的に、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。そして、支持体から感光層側への電荷注入を抑制し、黒ポチなどの画像欠陥の発生を抑えることを目的として、支持体と感光層との間には下引き層が設けられることが多い。   An electrophotographic photoreceptor generally has a support and a photosensitive layer formed on the support. An undercoat layer is often provided between the support and the photosensitive layer for the purpose of suppressing charge injection from the support to the photosensitive layer side and suppressing the occurrence of image defects such as black spots. .

近年、電子写真感光体の電荷発生物質には、より高い感度を有するものが用いられている。   In recent years, materials having higher sensitivity have been used as charge generating materials for electrophotographic photoreceptors.

しかしながら、電荷発生物質が高感度化するのに伴い、電荷の発生量が多くなることにより電荷が感光層中に滞留しやすく、ゴーストが発生しやすいという問題があった。具体的には、出力画像中、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が濃くなる、いわゆるポジゴーストという現象が発生しやすい。   However, as the charge generating material becomes highly sensitive, there is a problem that the amount of generated charge increases, so that the charge tends to stay in the photosensitive layer and ghost is likely to occur. Specifically, in the output image, a phenomenon called so-called positive ghost, in which the density is increased only in a portion irradiated with light during the previous rotation, is likely to occur.

このようなゴースト現象を抑制(低減)する技術として、特許文献1および特許文献2には、下引き層にイミド化合物等の電子輸送物質を含有させる技術が開示されている。   As a technique for suppressing (reducing) such a ghost phenomenon, Patent Documents 1 and 2 disclose a technique in which an undercoat layer contains an electron transport material such as an imide compound.

特開2001−83726号公報JP 2001-83726 A 特開2003−345044号公報JP 2003-345044 A

近年、電子写真画像の品質に対する要求は高まる一方であり、上述のポジゴーストに対する許容範囲が格段に厳しくなってきている。   In recent years, the demand for the quality of electrophotographic images has been increasing, and the allowable range for the above-mentioned positive ghost has become much stricter.

そして、本発明者らの検討の結果、特許文献1および2に開示された技術では、ポジゴーストの抑制が十分に改善されていない場合があり、さらなる改善の必要があるものであった。   As a result of the study by the present inventors, in the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2, the suppression of positive ghost may not be sufficiently improved, and further improvement is necessary.

本発明の目的は、ポジゴーストが抑制された電子写真感光体、および、その製造方法を提供することにある。また、本発明の別の目的は、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。また、本発明の別の目的は、ポジゴーストを抑制することのできる新規なイミド化合物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which positive ghost is suppressed, and a method for producing the same. Another object of the present invention is to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member. Another object of the present invention is to provide a novel imide compound capable of suppressing positive ghost.

本発明は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体の製造方法において、
下記(i)、(ii)及び(iii):
(i)−NCO基および−NHCOX基(Xは下記式(1)〜(7)のいずれかで示される基である。)からなる群より選択される基を3〜6個有する分子量(−NHCOX基を有する場合は、X基を除いて算出した分子量である。)が200〜1300のイソシアネート化合物、
(ii)下記式(B)で示される繰り返し構造単位を有する樹脂、および
(iii)下記式(A1)で示される化合物、下記式(A2)で示される化合物、下記式(A3)で示される化合物、下記式(A4)で示される化合物、下記式(A5)で示される化合物、下記式(A6)で示される化合物、下記式(A7)で示される化合物および下記式(A8)で示される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、
を含む組成物を重合させて得られる重合物を含有する下引き層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing an electrophotographic photosensitive member having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer.
The following (i), (ii) and (iii):
(I) Molecular weight having 3 to 6 groups selected from the group consisting of —NCO group and —NHCOX 1 group (X 1 is a group represented by any one of the following formulas (1) to (7)) (In the case of having -NHCOX 1 group, it is a molecular weight calculated by removing X 1 group.) Is an isocyanate compound of 200-1300,
(Ii) a resin having a repeating structural unit represented by the following formula (B), and (iii) a compound represented by the following formula (A1), a compound represented by the following formula (A2), and a following formula (A3). A compound represented by the following formula (A4), a compound represented by the following formula (A5), a compound represented by the following formula (A6), a compound represented by the following formula (A7), and a compound represented by the following formula (A8). At least one compound selected from the group consisting of compounds;
The present invention relates to a method for producing an electrophotographic photosensitive member , comprising a step of forming an undercoat layer containing a polymer obtained by polymerizing a composition containing.

Figure 0005826212
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式(B)中、R11は、水素原子またはアルキル基を示す。Yは、単結合またはフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、またはカルボキシル基を示す。 In the formula (B), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y represents a single bond or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, or a carboxyl group.

Figure 0005826212
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式(A1)〜(A8)中、R101〜R106、R201〜R210、R301〜R308、R401〜R408、R501〜R510、R601〜R606、R701〜R708、およびR801〜R810は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、を示す。ただし、R101〜R106の少なくとも1つ、R201〜R210の少なくとも1つ、R301〜R308の少なくとも1つ、R401〜R408の少なくとも1つ、R501〜R510の少なくとも1つ、R601〜R606の少なくとも1つ、R701〜R708の少なくとも1つ、およびR801〜R810の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。該アルキル基の炭素原子の1つは、O、S、NH、NR901(R901はアルキル基)で置き換わっても良い。該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン基置換アルキル基からなる群より選択される基である。Z201、Z301、Z401およびZ501は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、または酸素原子を示す。Z201が酸素原子である場合はR209およびR210は存在せず、Z201が窒素原子である場合はR210は存在しない。Z301が酸素原子である場合はR307およびR308は存在せず、Z301が窒素原子である場合はR308は存在しない。Z401が酸素原子である場合はR407およびR408は存在せず、Z401が窒素原子である場合はR408は存在しない。Z501が酸素原子である場合はR509およびR510は存在せず、Z501が窒素原子である場合はR510は存在しない。 In formulas (A1) to (A8), R 101 to R 106 , R 201 to R 210 , R 301 to R 308 , R 401 to R 408 , R 501 to R 510 , R 601 to R 606 , R 701 to R 708 and R 801 to R 810 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group Represents a substituted or unsubstituted aryl group. However, at least one of R 101 to R 106 , at least one of R 201 to R 210 , at least one of R 301 to R 308 , at least one of R 401 to R 408 , at least one of R 501 to R 510 At least one of R 601 to R 606 , at least one of R 701 to R 708 , and at least one of R 801 to R 810 is a monovalent group represented by the following formula (A). One of the carbon atoms of the alkyl group may be replaced with O, S, NH, or NR 901 (R 901 is an alkyl group). The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom. The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogen group-substituted alkyl group. Z 201 , Z 301 , Z 401 and Z 501 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom or an oxygen atom. When Z 201 is an oxygen atom, R 209 and R 210 are not present, and when Z 201 is a nitrogen atom, R 210 is not present. When Z 301 is an oxygen atom, R 307 and R 308 are not present, and when Z 301 is a nitrogen atom, R 308 is not present. When Z 401 is an oxygen atom, R 407 and R 408 are not present, and when Z 401 is a nitrogen atom, R 408 is not present. If Z 501 is an oxygen atom absent R 509 and R 510, when Z 501 is a nitrogen atom R 510 is absent.

Figure 0005826212
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式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示し、これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNHまたはNR19(R19はアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. One kind of group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less. α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O or S or NH or NR 19 (R 19 is an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル基置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示し、これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl group-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogen group-substituted phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group, and these groups are hydroxy groups as substituents , A thiol group, an amino group, and a carboxyl group may be included.

γは、水素原子、主鎖の原子数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示し、これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR902(R902はアルキル基)で置き換わっていても良い。 γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. May have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 902 (R 902 is an alkyl group).

また、本発明は、上記電子写真感光体を製造する方法であって、該製造方法が、
前記イソシアネート化合物、前記式(B)で示される繰り返し構造単位を有する樹脂、および前記式(A1)から(A8)のいずれかで示される化合物を含有する下引き層用塗布液の塗膜を形成する工程、および
該塗膜を加熱乾燥させることによって前記下引き層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法に関する。
Further, the present invention is a method for producing the electrophotographic photosensitive member, wherein the production method comprises:
Forming a coating film of an undercoat layer coating solution containing the isocyanate compound, a resin having a repeating structural unit represented by the formula (B), and a compound represented by any one of the formulas (A1) to (A8) And a process for forming the undercoat layer by heating and drying the coating film.

また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジに関する。   Further, the present invention integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. It relates to a certain process cartridge.

また、本発明は、上記電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置に関する。   The present invention also relates to an electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit.

また、本発明は、下記式(21)〜(24)で示されるイミド化合物に関する。   Moreover, this invention relates to the imide compound shown by following formula (21)-(24).

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本発明によれば、ポジゴーストが抑制された電子写真感光体、および、その製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。また、本発明によれば、ポジゴーストを抑制することのできる新規なイミド化合物を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member in which positive ghost is suppressed and a method for manufacturing the same. Further, according to the present invention, a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member can be provided. Moreover, according to this invention, the novel imide compound which can suppress a positive ghost can be provided.

本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge including the electrophotographic photosensitive member of the present invention. ゴースト画像評価の際に用いるゴースト評価用印字を説明する図である。It is a figure explaining the printing for ghost evaluation used in the case of ghost image evaluation. 1ドット桂馬パターン画像を説明する図である。It is a figure explaining a 1 dot Keima pattern image. 電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the layer structure of an electrophotographic photoreceptor.

本発明の下引き層を有する電子写真感光体がポジゴーストの抑制を高いレベルで達成する優れた効果を有する理由について、本発明者らは、以下のように推測している。   The present inventors speculate as follows why the electrophotographic photosensitive member having the undercoat layer of the present invention has an excellent effect of achieving positive ghost suppression at a high level.

本発明は、−NCO基(以下、イソシアネート基とも称する。)および−NHCOX基(以下、ブロックイソシアネート基とも称する。)からなる群より選択される基を3〜6個有する分子量200〜1300のイソシアネート化合物のイソシアネート基、式(A1)〜(A8)のいずれかで示される化合物(電子輸送物質とも称する。)の置換基、および式(B)で示される繰り返し構造単位を有する樹脂のWで示される置換基とが結合し、重合物(硬化物)が形成される。下引き層が、この重合物を含有することで、電子を輸送することができ、溶剤に溶けにくい下引き層を形成することができる。 The present invention has a molecular weight of 200 to 1300 having 3 to 6 groups selected from the group consisting of —NCO groups (hereinafter also referred to as isocyanate groups) and —NHCOX 1 groups (hereinafter also referred to as blocked isocyanate groups). W 1 of a resin having an isocyanate group of an isocyanate compound, a substituent of a compound represented by any one of formulas (A1) to (A8) (also referred to as an electron transport material), and a repeating structural unit represented by formula (B) And a polymer (cured product) is formed. By containing this polymer, the undercoat layer can transport electrons and can form an undercoat layer that is difficult to dissolve in a solvent.

しかしながら、このように複数の構成材料(イソシアネート化合物、電子輸送物質、樹脂)の組成物を重合させて得られた重合物を含有する下引き層は、同一の構造を有する構成材料同士が凝集し、ムラのある下引き層が形成されやすい。これにより、下引き層中、または下引き層と感光層との界面において、電子が滞留しやすくなり、ゴーストが発生しやすい。そこで、本発明のイソシアネート化合物は、イソシアネート基、およびブロックイソシアネート基を3〜6個有することにより、イソシアネート基同士が隣接せずに、適度に嵩高く大きな体積を有するという特徴をもつ。これにより、イソシアネート化合物のイソシアネート基またはブロックイソシアネート基が樹脂と重合した際に、樹脂の分子鎖を押し退け、樹脂の分子鎖同士の凝集(偏在)を抑えるという作用があると考えられる。さらに、偏在が抑制された樹脂の分子鎖に結合しているイソシアネート化合物に、電子輸送物質が結合しているため、電子輸送物質も偏在することなく下引き層内に均一に存在することになる。これにより、イソシアネート化合物、電子輸送物質、樹脂に由来する構造が均一に存在する重合物が得られ、電子の滞留が大幅に減少し、より高いレベルのゴースト抑制効果が得られると考えている。   However, in the undercoat layer containing a polymer obtained by polymerizing a composition of a plurality of constituent materials (isocyanate compound, electron transport material, resin) in this way, constituent materials having the same structure are aggregated together. An uneven undercoat layer is easily formed. As a result, electrons tend to stay in the undercoat layer or at the interface between the undercoat layer and the photosensitive layer, and ghosts are easily generated. Therefore, the isocyanate compound of the present invention has 3 to 6 isocyanate groups and blocked isocyanate groups, so that the isocyanate groups are not adjacent to each other and have a moderately bulky and large volume. Thereby, when the isocyanate group or block isocyanate group of an isocyanate compound superposes | polymerizes with resin, it is thought that there exists an effect | action which pushes away the molecular chain of resin and suppresses aggregation (uneven distribution) of resin molecular chains. Furthermore, since the electron transport material is bound to the isocyanate compound that is bound to the molecular chain of the resin in which uneven distribution is suppressed, the electron transport material is uniformly present in the undercoat layer without being unevenly distributed. . As a result, it is believed that a polymer in which the structure derived from the isocyanate compound, the electron transport material, and the resin is uniformly present is obtained, the retention of electrons is greatly reduced, and a higher level of ghost suppression effect is obtained.

一方、高分子鎖にイソシアネート基がペンダントされているような化合物や、イソシアネート化合物に電子輸送能を有する部位が直接結合している化合物を重合させて得られる重合物では、重合物中にその化合物に由来する構造の凝集が起こりやすい。それにより、高いレベルのポジゴースト抑制効果が十分に得られない。また、イソシアネート基の数が2個以下のイソシアネート化合物を重合させると、重合に寄与するイソシアネート基が少ないため、イソシアネート基が樹脂と重合した際に、樹脂鎖を押し退ける効果が小さいと考えられる。それにしたがい、電子輸送物質の偏在を抑制する効果も小さくなり、高いレベルのゴースト抑制効果が十分に得られないと考えられる。   On the other hand, in a polymer obtained by polymerizing a compound having an isocyanate group pendant on a polymer chain or a compound in which a site having an electron transporting ability is directly bonded to an isocyanate compound, the compound is contained in the polymer. Aggregation of the structure derived from is likely to occur. As a result, a high level of positive ghost suppression effect cannot be obtained sufficiently. In addition, when an isocyanate compound having two or less isocyanate groups is polymerized, there are few isocyanate groups contributing to the polymerization, and therefore, it is considered that the effect of pushing away the resin chain when the isocyanate group is polymerized with the resin is small. Accordingly, the effect of suppressing the uneven distribution of the electron transport material is reduced, and it is considered that a high level of ghost suppression effect cannot be obtained sufficiently.

本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。この感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型(機能分離型)感光層であることが好ましい。さらに、電子写真特性の観点から、積層型感光層は、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層であることが好ましい。   The electrophotographic photoreceptor of the present invention is an electrophotographic photoreceptor having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer. This photosensitive layer is preferably a laminated type (functional separation type) photosensitive layer separated into a charge generation layer containing a charge generation material and a charge transport layer containing a charge transport material. Furthermore, from the viewpoint of electrophotographic characteristics, the multilayer photosensitive layer is preferably a normal photosensitive layer in which a charge generation layer and a charge transport layer are laminated in this order from the support side.

図4の(a)および(b)は、電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図4の(a)および(b)中、101は支持体であり、102は下引き層であり、103は感光層であり、104は電荷発生層、105は電荷輸送層である。   FIGS. 4A and 4B are diagrams showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member. In FIGS. 4A and 4B, 101 is a support, 102 is an undercoat layer, 103 is a photosensitive layer, 104 is a charge generation layer, and 105 is a charge transport layer.

一般的な電子写真感光体として、円筒状支持体上に感光層(電荷発生層、電荷輸送層)を形成してなる円筒状の電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状、シート状などの形状とすることも可能である。   As a general electrophotographic photosensitive member, a cylindrical electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer (charge generation layer, charge transport layer) is formed on a cylindrical support is widely used. It is also possible to have a shape of

〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましく、例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄などの金属または合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体、または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。
[Support]
As the support, those having conductivity (conductive support) are preferable, and for example, a support made of a metal such as aluminum, nickel, copper, gold, iron, or an alloy can be used. A support in which a thin film of metal such as aluminum, silver, or gold is formed on an insulating support such as polyester resin, polycarbonate resin, polyimide resin, or glass, or a thin film of conductive material such as indium oxide or tin oxide is formed. A support is mentioned.

支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。   The surface of the support may be subjected to electrochemical treatment such as anodic oxidation, wet honing treatment, blast treatment, cutting treatment, etc. in order to improve electrical characteristics and suppress interference fringes.

支持体と、後述の下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、乾燥させることで得られる。導電性粒子としては、たとえば、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀のような金属粉や、導電性酸化スズ、ITOのような金属酸化物粉体が挙げられる。   A conductive layer may be provided between the support and the undercoat layer described below. The conductive layer can be obtained by forming a coating film of a coating liquid for conductive layer in which conductive particles are dispersed in a resin on a support and drying it. Examples of the conductive particles include carbon black, acetylene black, metal powder such as aluminum, nickel, iron, nichrome, copper, zinc, and silver, and metal oxide powder such as conductive tin oxide and ITO. Can be mentioned.

また、樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。   Examples of the resin include polyester resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenol resin, and alkyd resin.

導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。導電層の膜厚は、0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより好ましい。   Examples of the solvent for the conductive layer coating solution include ether solvents, alcohol solvents, ketone solvents, and aromatic hydrocarbon solvents. The thickness of the conductive layer is preferably 0.2 μm or more and 40 μm or less, more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and even more preferably 5 μm or more and 30 μm or less.

〔下引き層〕
支持体または導電層と、感光層との間に下引き層が設けられる。
[Undercoat layer]
An undercoat layer is provided between the support or the conductive layer and the photosensitive layer.

下引き層は、(i)上記イソシアネート化合物、(ii)上記樹脂、および(iii)上記電子輸送物質を含む組成物の重合により得られる重合物を含有する。   The undercoat layer contains a polymer obtained by polymerization of a composition containing (i) the isocyanate compound, (ii) the resin, and (iii) the electron transport material.

下引き層の形成方法は、上記イソシアネート化合物、下記式(B)で示される繰り返し構造単位を有する樹脂、電子輸送物質を含有する下引き層用塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって下引き層を形成する。塗膜形成後これらの化合物が化学反応により重合(硬化)するが、その際に加熱をすることで化学反応が促進され、重合が促進される。   The undercoating layer is formed by forming a coating film of a coating solution for an undercoating layer containing the above isocyanate compound, a resin having a repeating structural unit represented by the following formula (B), and an electron transport material. An undercoat layer is formed by heating and drying. Although these compounds are polymerized (cured) by a chemical reaction after the coating film is formed, the chemical reaction is accelerated and the polymerization is accelerated by heating at that time.

下引き層は、下引き層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the undercoat layer coating solution include an alcohol solvent, a sulfoxide solvent, a ketone solvent, an ether solvent, an ester solvent, and an aromatic hydrocarbon solvent.

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式(B)中、R11は水素原子またはアルキル基を示す。Yは、単結合またはフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、またはカルボキシル基を示す。 In the formula (B), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y represents a single bond or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, or a carboxyl group.

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式(A1)〜(A8)中、R101〜R106、R201〜R210、R301〜R308、R401〜R408、R501〜R510、R601〜R606、R701〜R708、およびR801〜R810は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。ただし、R101〜R106の少なくとも1つ、R201〜R210の少なくとも1つ、R301〜R308の少なくとも1つ、R401〜R408の少なくとも1つ、R501〜R510の少なくとも1つ、R601〜R606の少なくとも1つ、R701〜R708の少なくとも1つ、およびR801〜R810の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。該アルキル基の炭素原子の1つは、O、S、NH、NR901(R901はアルキル基)で置き換わっても良い。該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン基置換アルキル基からなる群より選択される基である。Z201、Z301、Z401およびZ501は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、または酸素原子を示す。Z201が酸素原子である場合はR209およびR210は存在せず、Z201が窒素原子である場合はR210は存在しない。Z301が酸素原子である場合はR307およびR308は存在せず、Z301が窒素原子である場合はR308は存在しない。Z401が酸素原子である場合はR407およびR408は存在せず、Z401が窒素原子である場合はR408は存在しない。Z501が酸素原子である場合はR509およびR510は存在せず、Z501が窒素原子である場合はR510は存在しない。 In formulas (A1) to (A8), R 101 to R 106 , R 201 to R 210 , R 301 to R 308 , R 401 to R 408 , R 501 to R 510 , R 601 to R 606 , R 701 to R 708 and R 801 to R 810 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group Represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group. However, at least one of R 101 to R 106 , at least one of R 201 to R 210 , at least one of R 301 to R 308 , at least one of R 401 to R 408 , at least one of R 501 to R 510 At least one of R 601 to R 606 , at least one of R 701 to R 708 , and at least one of R 801 to R 810 is a monovalent group represented by the following formula (A). One of the carbon atoms of the alkyl group may be replaced with O, S, NH, or NR 901 (R 901 is an alkyl group). The substituent of the substituted alkyl group is a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, and a halogen atom. The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogen group-substituted alkyl group. Z 201 , Z 301 , Z 401 and Z 501 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom or an oxygen atom. When Z 201 is an oxygen atom, R 209 and R 210 are not present, and when Z 201 is a nitrogen atom, R 210 is not present. When Z 301 is an oxygen atom, R 307 and R 308 are not present, and when Z 301 is a nitrogen atom, R 308 is not present. When Z 401 is an oxygen atom, R 407 and R 408 are not present, and when Z 401 is a nitrogen atom, R 408 is not present. If Z 501 is an oxygen atom absent R 509 and R 510, when Z 501 is a nitrogen atom R 510 is absent.

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式(A)中、α、β、およびγの少なくとも1つは置換基を有する基であり、該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。   In formula (A), at least one of α, β, and γ is a group having a substituent, and the substituent is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group. One kind of group. l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less.

αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNHまたはNR19(R19はアルキル基である。)で置き換わっていても良い。 α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group . These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O or S or NH or NR 19 (R 19 is an alkyl group).

βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル基置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。   β represents a phenylene group, an alkyl group-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogen group-substituted phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent.

γは、水素原子、主鎖の原子数数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示す。これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキル基の主鎖中の炭素原子の1つは、NR902(R902はアルキル基)で置き換わっていても良い。 γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkyl group may be replaced with NR 902 (R 902 is an alkyl group).

上記重合物の含有量は、ゴーストの抑制という観点から、下引き層の全質量に対して50質量%以上100質量%以下であることが好ましく、80質量%以上100質量%以下であることがより好ましい。   The content of the polymer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, and preferably 80% by mass or more and 100% by mass or less, based on the total mass of the undercoat layer, from the viewpoint of suppressing ghosts. More preferred.

下引き層には、上記重合物以外にも、下引き層の成膜性や電気的特性を高めるために、他の樹脂、上記イソシネート化合物以外の架橋剤、有機粒子、無機粒子、レベリング剤などを含有してもよい。ただし、下引き層におけるそれらの含有量は、下引き層の全質量に対して50質量%未満であることが好ましく、20質量%未満であることがより好ましい。   For the undercoat layer, in addition to the polymer, other resins, crosslinkers other than the isocyanate compounds, organic particles, inorganic particles, leveling agents, etc. in order to improve the film formability and electrical characteristics of the undercoat layer It may contain. However, their content in the undercoat layer is preferably less than 50% by mass and more preferably less than 20% by mass with respect to the total mass of the undercoat layer.

〔電子輸送物質〕
上記式(A1)から(A8)のいずれかで示される化合物は、好ましくは、分子量が150以上1000以下である。上記の分子量であると、電子輸送物質に由来する構造がより下引き層内に均一に存在すると考えられる。
[Electron transport material]
The compound represented by any one of the above formulas (A1) to (A8) preferably has a molecular weight of 150 or more and 1000 or less. It is considered that the structure derived from the electron transport material is present more uniformly in the undercoat layer when the molecular weight is as described above.

また、電子輸送物質に由来する構造の均一性という観点から、式(A1)から(A8)のいずれかで示される化合物と前記イソシアネート化合物の分子量との分子量の比が、3/20〜50/20であることが好ましい。より好ましくは12/20〜28/20である。   In addition, from the viewpoint of the uniformity of the structure derived from the electron transport material, the ratio of the molecular weight of the compound represented by any one of formulas (A1) to (A8) and the molecular weight of the isocyanate compound is 3/20 to 50 / 20 is preferable. More preferably, it is 12 / 20-28 / 20.

次に、電子輸送物質の具体例を以下に示す。表1−1、表1−2、表1−3、表1−4には、上記式(A1)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Next, specific examples of the electron transport material are shown below. Table 1-1, Table 1-2, Table 1-3, and Table 1-4 show specific examples of the compound represented by the formula (A1). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表2−1、表2−2には、上記式(A−2)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Tables 2-1 and 2-2 show specific examples of the compound represented by the formula (A-2). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表3−1、表3−2には、上記式(A−3)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Tables 3-1 and 3-2 show specific examples of the compound represented by the formula (A-3). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表4−1、表4−2には、上記式(A−4)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Tables 4-1 and 4-2 show specific examples of the compound represented by the formula (A-4). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表5−1、表5−2には、上記式(A−5)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Tables 5-1 and 5-2 show specific examples of the compound represented by the above formula (A-5). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表6には、上記式(A−6)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Table 6 shows specific examples of the compound represented by the above formula (A-6). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表7−1、表7−2には、上記式(A−7)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Tables 7-1 and 7-2 show specific examples of the compound represented by the formula (A-7). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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表8−1、表8−2には、上記式(A−8)で示される化合物の具体例を示す。表中、γが「−」である場合は、γは水素原子を示し、αまたはβの欄に表示する。   Tables 8-1 and 8-2 show specific examples of the compound represented by the above formula (A-8). In the table, when γ is “−”, γ represents a hydrogen atom and is displayed in the column of α or β.

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上記の表の中で、化合物A124(式(21)で示されるイミド化合物)、A135(式(22)で示されるイミド化合物)、A153(式(23)で示されるイミド化合物)、A173(式(24)で示されるイミド化合物)は、新規なイミド化合物である。このイミド化合物は、ポジゴースト抑制効果に優れる化合物である。   In the above table, compound A124 (imide compound represented by formula (21)), A135 (imide compound represented by formula (22)), A153 (imide compound represented by formula (23)), A173 (formula (Imide compound represented by (24)) is a novel imide compound. This imide compound is a compound having an excellent positive ghost suppressing effect.

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(A1)の構造を有する誘導体(電子輸送物質の誘導体)は、例えば、米国特許第4442193号公報、米国特許第4992349号公報、米国特許第5468583号公報、Chemistry of materials,Vol.19,No.11,2703−2705(2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)およびジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成する事が出来る。   Derivatives having the structure of (A1) (derivatives of electron transport materials) are disclosed in, for example, US Pat. No. 4,442,193, US Pat. No. 4,992,349, US Pat. No. 5,468,583, Chemistry of materials, Vol. 19, no. It is possible to synthesize using a known synthesis method described in 11, 2703-2705 (2007). Moreover, it can synthesize | combine by reaction with the naphthalene tetracarboxylic dianhydride and monoamine derivative which can be purchased from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd., and Johnson Matthey Japan Incorporated.

(A1)で示される化合物には、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合することが可能な重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A1)の構造を有する誘導体にこれらの置換基を導入する方法としては、(A1)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばナフチルイミド誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。ナフチルイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by (A1) has a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) that can be polymerized with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method of introducing these substituents into the derivative having the structure of (A1), a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A1), the polymerizable functional group, or the polymerizable functional group There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of the above. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. For example, a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a naphthylimide derivative. For example, based on a halide of a naphthylimide derivative, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation. As a raw material for synthesizing a naphthylimide derivative, there is a method using the naphthalenetetracarboxylic dianhydride derivative or monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

(A2)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から試薬として購入可能である。また、フェナントレン誘導体またはフェナントロリン誘導体を基に、Chem.Educator No.6,227−234(2001)、有機合成化学協会誌,vol.15,29−32(1957)、有機合成化学協会誌,vol.15,32−34(1957)に記載の合成方法で合成することもできる。また、マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することもできる。   The derivative having the structure of (A2) can be purchased as a reagent from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Chem. Educator No. 6, 227-234 (2001), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 29-32 (1957), Journal of Synthetic Organic Chemistry, vol. 15, 32-34 (1957). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.

(A2)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A2)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、例えば、式(A2)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばフェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばフェナントレンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 The compound represented by (A2) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A2), for example, a method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of the formula (A2), a polymerizable functional group or a polymerization There is a method of introducing a structure having a functional group that becomes a precursor of a functional functional group. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of phenanthrenequinone. For example, based on a halide of phenanthrenequinone, a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using an FeCl 3 catalyst and a base. For example, based on a halide of phenanthrenequinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A3)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から試薬として購入可能である。また、フェナントレン誘導体またはフェナントロリン誘導体を基に、Bull.Chem.Soc.Jpn.,Vol.65,1006−1011(1992)に記載の合成方法で合成することもできる。マロノニトリルとの反応によりジシアノメチレン基を導入することもできる。   The derivative having the structure of (A3) can be purchased as a reagent from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Also, based on phenanthrene derivatives or phenanthroline derivatives, Bull. Chem. Soc. Jpn. , Vol. 65, 1006-1011 (1992). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.

(A3)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A3)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、例えば、(A3)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばフェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばフェナントロリンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 The compound represented by (A3) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. Examples of the method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A3) include a method for directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A3), a polymerizable functional group, or a polymerizable property. There is a method of introducing a structure having a functional group that serves as a precursor of a functional group. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of phenanthroline quinone. For example, based on a halide of phenanthroline quinone, a functional group-containing alkyl group is introduced using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base. For example, based on a halide of phenanthroline quinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A4)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から試薬として購入可能である。また、アセナフテンキノン誘導体を基にTetrahedron Letters,43(16),2991−2994(2002)、Tetrahedron Letters,44(10),2087−2091(2003)に記載の合成方法で合成することもできる。マロノニトリルとの反応により、ジシアノメチレン基を導入することもできる。   The derivative having the structure of (A4) can be purchased as a reagent from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Moreover, based on an acenaphthenequinone derivative | guide_body, it can also synthesize | combine with the synthesis | combining method of Tetrahedron Letters, 43 (16), 2991-2994 (2002), Tetrahedron Letters, 44 (10), 2087-2091 (2003). A dicyanomethylene group can also be introduced by reaction with malononitrile.

(A4)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A4)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、例えば、(A4)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばアセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばアセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばアセナフテンキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 The compound represented by (A4) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A4), for example, a method for directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A4), a polymerizable functional group, or a polymerizable property. There is a method of introducing a structure having a functional group that serves as a precursor of a functional group. As a method to be described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of acenaphthenequinone. For example, a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of acenaphthenequinone. For example, based on a halide of acenaphthenequinone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A5)の構造を有する誘導体は、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から試薬として購入可能である。また、フルオレノン誘導体とマロノニトリルを用い、米国特許第4562132号公報に記載の合成方法を用いて合成することができる。また、フルオレノン誘導体およびアニリン誘導体を用い、特開平5−279582号公報、特開平7−70038号公報に記載の合成方法を用いて合成することもできる。   The derivative having the structure of (A5) can be purchased as a reagent from, for example, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc. Further, it can be synthesized using a fluorenone derivative and malononitrile by the synthesis method described in US Pat. No. 4,562,132. Moreover, it can also synthesize | combine using the synthesis method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 5-279582 and Unexamined-Japanese-Patent No. 7-70038 using a fluorenone derivative and an aniline derivative.

(A5)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A5)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、例えば、(A5)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばフルオレノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばフルオレノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばフルオレノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 The compound represented by (A5) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure (A5), for example, a method for directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure (A5), a polymerizable functional group, or a polymerizable property. There is a method of introducing a structure having a functional group that serves as a precursor of a functional group. As a method described later, for example, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of fluorenone. For example, a functional group-containing alkyl group is introduced using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of fluorenone. For example, based on a halide of fluorenone, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A6)の構造を有する誘導体は、例えばChemistry Letters,37(3),360−361(2008)、特開平9−151157号公報に記載の合成方法を用いて合成することが出来る。また、例えば、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)またはジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から試薬として購入可能である。   The derivative having the structure (A6) can be synthesized by using a synthesis method described in Chemistry Letters, 37 (3), 360-361 (2008), Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-151157, for example. For example, it can be purchased as a reagent from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., or Johnson Matthey Japan Inc.

(A6)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A6)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、ナフトキノン誘導体に重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばナフトキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばナフトキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばナフトキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCOを作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 The compound represented by (A6) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A6), there is a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group serving as a precursor of the polymerizable functional group into a naphthoquinone derivative. . As this method, for example, based on a naphthoquinone halide, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. For example, based on a naphthoquinone halide, a functional group-containing alkyl group is introduced using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base. For example, based on a naphthoquinone halide, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO 2 to act after lithiation.

(A7)の構造を有する誘導体は、例えば特開平1−206349号公報、PPCI/Japan Hard Copy’98 予稿集 p.207(1998)に記載の合成方法を用いて合成することができる。例えば、東京化成工業(株)またはシグマアルドリッチジャパン(株)から試薬として購入可能なフェノール誘導体を原料として合成することができる。   Derivatives having the structure (A7) are disclosed in, for example, JP-A-1-206349, PPCI / Japan Hard Copy '98 Preliminary Collection p. 207 (1998). For example, a phenol derivative that can be purchased as a reagent from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. or Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. can be used as a raw material.

(A7)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A7)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、重合性官能基もしくは重合性官能基の前駆体となる官能基を有する構造を導入する方法がある。この方法としては、例えばジフェノキノンのハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アリール基を導入する方法。例えばジフェノキノンのハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基含有アルキル基を導入する方法。例えばジフェノキノンのハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やCO2を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法などがある。 The compound represented by (A7) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method of introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A7), there is a method of introducing a structure having a polymerizable functional group or a functional group serving as a precursor of the polymerizable functional group. As this method, for example, based on a halide of diphenoquinone, a functional group-containing aryl group is introduced using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base. For example, based on a halide of diphenoquinone, a method of introducing a functional group-containing alkyl group using a cross-coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base. For example, based on a diphenoquinone halide, there is a method of introducing a hydroxyalkyl group or a carboxyl group by allowing an epoxy compound or CO2 to act after lithiation.

(A8)の構造を有する誘導体は、例えば、Journal of the American chemical society,Vol.129,No.49,15259−78 (2007)に記載の公知の合成方法を用いて合成することができる。また、東京化成工業(株)、シグマアルドリッチジャパン(株)やジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から試薬として購入可能なペリレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成することができる。   Derivatives having the structure (A8) are described in, for example, Journal of the American chemical society, Vol. 129, no. 49, 15259-78 (2007). Further, it can be synthesized by a reaction of perylenetetracarboxylic dianhydride, which can be purchased as a reagent from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Sigma Aldrich Japan Co., Ltd. or Johnson Matthey Japan Inc., and a monoamine derivative. .

(A8)で示される化合物は、イソシアネート化合物のイソシアネート基と重合可能な官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有する。(A8)の構造を有する誘導体にこれらの重合性官能基を導入する方法としては、(A8)の構造を有する誘導体に直接重合性官能基を導入する方法の他、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、例えばペリレンイミド誘導体のハロゲン化物を元に、パラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用いる方法。例えばペリレンイミド誘導体のハロゲン化物を元に、FeCl触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用いる方法などがある。また、ペリレンイミド誘導体を合成する際の原料として、前記重合性官能基または、重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有するペリレンテトラカルボン酸二無水物誘導体又はモノアミン誘導体を用いる方法がある。 The compound represented by (A8) has a functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) polymerizable with the isocyanate group of the isocyanate compound. As a method for introducing these polymerizable functional groups into the derivative having the structure of (A8), in addition to the method of directly introducing a polymerizable functional group into the derivative having the structure of (A8), the polymerizable functional group or There is a method of introducing a structure having a functional group that can be a precursor of a polymerizable functional group. As a method to be described later, for example, a method using a cross-coupling reaction using a palladium catalyst and a base based on a halide of a perylene imide derivative. For example, there is a method using a cross coupling reaction using a FeCl 3 catalyst and a base based on a halide of a perylene imide derivative. Further, as a raw material for synthesizing a perylene imide derivative, there is a method of using a perylene tetracarboxylic dianhydride derivative or a monoamine derivative having the polymerizable functional group or a functional group that can be a precursor of the polymerizable functional group.

〔イソシアネート化合物〕
本発明に用いられるイソシアネート化合物は、分子量が200以上1300以下で、イソシアネート基(NCO基)およびブロックイソシアネート基(NHCOX基)からなる群より選択される基が3〜6個有していれば何れの化合物でも良い。本発明に用いられるイソシアネート化合物は、トリイソシアネートベンゼン、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、トリメチロールプロパンとのアダクト体等の変性体各種が挙げられる。
[Isocyanate compound]
The isocyanate compound used in the present invention has a molecular weight of 200 to 1300 and has 3 to 6 groups selected from the group consisting of an isocyanate group (NCO group) and a blocked isocyanate group (NHCOX 1 group). Any compound may be used. The isocyanate compounds used in the present invention are triisocyanatebenzene, triphenylmethane triisocyanate, lysine triisocyanate, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2,2. , 4-Trimethylhexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanate hexanoate, norbornane diisocyanate modified isocyanurate modified, biuret modified, allophanate modified, adduct with trimethylolpropane, etc. Is mentioned.

本発明のイソシアネート化合物は、好ましくは、環状構造である。環状構造であると、樹脂の分子鎖同士の凝集や電子輸送物質の偏在をより抑制し、ゴースト抑制効果に優れる。より好ましくは、イソシアヌレート構造であり、下記に示される構造である。   The isocyanate compound of the present invention preferably has a cyclic structure. When it is a cyclic structure, the aggregation of resin molecular chains and the uneven distribution of the electron transport material are further suppressed, and the ghost suppression effect is excellent. More preferred is an isocyanurate structure, which is the structure shown below.

Figure 0005826212
Figure 0005826212

これらのイソシアネート化合物は、ブロックイソシアネート基(−NHCOX基)のブロック基(X)でブロックしている化合物であってもよい。Xは、下記式(1)〜(7)のいずれかで示される基である。 These isocyanate compounds may be compounds blocked with a blocking group (X 1 ) of a blocked isocyanate group (—NHCOX 1 group). X 1 is a group represented by any of the following formulas (1) to (7).

Figure 0005826212
Figure 0005826212

以下に、イソシアネート化合物の具体例を示す。   Below, the specific example of an isocyanate compound is shown.

Figure 0005826212
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Figure 0005826212
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Figure 0005826212
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また、イソシアネート化合物として、例えば、住化バイエルウレタン(株)製、BL3175、BL3475、BL3575なども用いることができる。   Moreover, as an isocyanate compound, Sumika Bayer Urethane Co., Ltd. product, BL3175, BL3475, BL3575, etc. can be used, for example.

〔樹脂〕
上記式(B)で示される繰り返し単位を有する樹脂は、例えばシグマアルドリッチジャパン(株)から試薬として購入可能な、重合性官能基(ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基)を有するモノマーを重合させることで得られる。
〔resin〕
The resin having a repeating unit represented by the above formula (B) is a monomer having a polymerizable functional group (hydroxy group, thiol group, amino group, and carboxyl group) that can be purchased as a reagent from Sigma-Aldrich Japan, for example. It is obtained by polymerizing.

また、樹脂として一般的に購入することも可能であり、購入可能な樹脂としては、日本ポリウレタン工業(株)製AQD−457、AQD−473、三洋化成工業(株)製サンニックスGP−400、GP−700などのポリエーテルポリオール系樹脂、日立化成工業(株)製フタルキッドW2343、DIC(株)製ウォーターゾールS−118、CD−520、ハリマ化成(株)製ハリディップWH−1188などのポリエステルポリオール系樹脂、DIC(株)製バーノックWE−300、WE−304などのポリアクリルポリオール系樹脂、(株)クラレ製クラレポバールPVA−203などのようなポリビニルアルコール系樹脂、積水化学工業(株)製KW−1およびKW−3、BX−1、BM−1、KS−1、KS−5などのポリビニルアセタール系樹脂、ナガセケムテックス(株)製トレジンFS−350などのポリアミド化合物系樹脂、日本触媒(株)製アクアリック、鉛市(株)製ファインレックスSG2000などのカルボキシル基含有樹脂、DIC(株)製ラッカマイドなどのポリアミン、東レ(株)製QE−340Mなどのポリチオールが挙げられる。   Moreover, it is also possible to generally purchase as resin, and as a resin which can be purchased, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. AQD-457, AQD-473, Sanyo Chemical Industries Co., Ltd. Sanniks GP-400, Polyether polyol resins such as GP-700, polyesters such as Hitachi Chemical Co., Ltd., Phthalkid W2343, DIC Corporation Watersol S-118, CD-520, Harima Kasei Co., Ltd. Halipip WH-1188 Polyol-based resins, polyacrylic polyol-based resins such as DIC's Vernock WE-300 and WE-304, polyvinyl alcohol-based resins such as Kuraray's Kuraray Poval PVA-203, Sekisui Chemical Co., Ltd. KW-1 and KW-3, BX-1, BM-1, KS-1, KS-5, etc. Vinyl acetal resins, polyamide compound resins such as Toray resin FS-350 manufactured by Nagase ChemteX Corporation, aqualic manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., carboxyl group-containing resins such as Finelex SG2000 manufactured by Lead City Corporation, DIC ( Examples include polyamines such as Racamamide manufactured by Co., Ltd., and polythiols such as QE-340M manufactured by Toray Industries, Inc.

続いて、表9に、上記式(B)で示される繰り返し単位を有する樹脂の具体例を示す。   Then, the specific example of resin which has a repeating unit shown by the said Formula (B) in Table 9 is shown.

Figure 0005826212
Figure 0005826212

本発明に係る化合物等の確認は、以下の方法によって行った。   The compound according to the present invention was confirmed by the following method.

・質量分析
質量分析計(MALDI−TOF MS:ブルカー・ダルトニクス(株)製 ultraflex)を用い、加速電圧:20kV、モード:Reflector、分子量標準品:フラーレンC60の条件で、分子量を測定した。得られたピークトップ値で確認した。
-Mass spectrometry The molecular weight was measured using a mass spectrometer (MALDI-TOF MS: ultraflex manufactured by Bruker Daltonics Co., Ltd.) under the conditions of acceleration voltage: 20 kV, mode: Reflector, molecular weight standard product: fullerene C60. It confirmed with the obtained peak top value.

・NMR分析
1,1,2,2−テトラクロロエタン(d2)または、ジメチルスルホキシド(d6)中、120℃にてH−NMR、13C−NMR分析(FT−NMR:日本電子(株)製JNM−EX400型)により構造を確認した。
・ NMR analysis 1 H-NMR, 13 C-NMR analysis (FT-NMR: manufactured by JEOL Ltd.) in 1,1,2,2-tetrachloroethane (d2) or dimethyl sulfoxide (d6) at 120 ° C. The structure was confirmed by JNM-EX400 type).

・GPC分析
東ソー(株)製のゲルパーミエーションクロマトグラフィー「HLC−8120」で測定し、ポリスチレン換算で計算した。
-GPC analysis It measured with the gel permeation chromatography "HLC-8120" by Tosoh Corporation, and computed in polystyrene conversion.

また、イソシアネート化合物、樹脂、および電子輸送物質を含有する下引き層塗布液の塗膜を形成し、この塗膜を加熱乾燥させることによって得られた下引き層を、シクロヘキサノンに浸漬し、浸漬前後の下引き層の重量を確認した。浸漬することで下引き層の成分の溶出が無く、硬化(重合)していること確認した。   In addition, an undercoat layer obtained by forming a coating film of an undercoat layer coating solution containing an isocyanate compound, a resin, and an electron transport material, and heating and drying the coating film is immersed in cyclohexanone, before and after the immersion. The weight of the undercoat layer was confirmed. It was confirmed that the components of the undercoat layer were not dissolved by immersion, and were cured (polymerized).

〔感光層〕
下引き層上には、感光層が設けられる。
(Photosensitive layer)
A photosensitive layer is provided on the undercoat layer.

電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、またはフタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。   Charge generation materials include azo pigments, perylene pigments, anthraquinone derivatives, anthanthrone derivatives, dibenzpyrenequinone derivatives, pyranthrone derivatives, violanthrone derivatives, isoviolanthrone derivatives, indigo derivatives, thioindigo derivatives, metal phthalocyanines, metal-free phthalocyanines, etc. Phthalocyanine pigments and bisbenzimidazole derivatives. Among these, azo pigments or phthalocyanine pigments are preferable. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, and hydroxygallium phthalocyanine are preferable.

感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体および共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、これらの中でも、ポリビニルアセタール樹脂がより好ましい。   When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the binder resin used for the charge generation layer includes vinyl compounds such as styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinylidene fluoride, and trifluoroethylene. Polymers and copolymers, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polycarbonate resin, polyester resin, polysulfone resin, polyphenylene oxide resin, polyurethane resin, cellulose resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, epoxy resin, etc. It is done. Among these, polyester resin, polycarbonate resin, and polyvinyl acetal resin are preferable, and among these, polyvinyl acetal resin is more preferable.

電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との比率(電荷発生物質/結着樹脂)は、10/1〜1/10の範囲であることが好ましく、5/1〜1/5の範囲であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   In the charge generation layer, the ratio of the charge generation material to the binder resin (charge generation material / binder resin) is preferably in the range of 10/1 to 1/10, and in the range of 5/1 to 1/5. It is more preferable that The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less. Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

電荷輸送物質(正孔輸送物質)としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンなどが挙げられる。また、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーも挙げられる。   Examples of the charge transport material (hole transport material) include polycyclic aromatic compounds, heterocyclic compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, benzidine compounds, triarylamine compounds, and triphenylamine. Also included are polymers having groups derived from these compounds in the main chain or side chain.

感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層(正孔輸送層)に用いられる結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの重量平均分子量(Mw)は、10,000〜300,000の範囲であることが好ましい。   When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, the binder resin used for the charge transport layer (hole transport layer) is a polyester resin, polycarbonate resin, polymethacrylate resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polystyrene resin. Etc. Among these, polycarbonate resin and polyarylate resin are preferable. Moreover, it is preferable that these weight average molecular weights (Mw) are the range of 10,000-300,000.

電荷輸送層において、電荷輸送物質と結着樹脂との比率(電荷輸送物質/結着樹脂)は、10/5〜5/10の範囲であることが好ましく、10/8〜6/10の範囲であることがより好ましい。電荷輸送層の膜厚は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。   In the charge transport layer, the ratio of the charge transport material to the binder resin (charge transport material / binder resin) is preferably in the range of 10/5 to 5/10, and in the range of 10/8 to 6/10. It is more preferable that The thickness of the charge transport layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less.

なお、支持体と上記下引き層との間や上記下引き層と感光層との間に、本発明に係る重合体を含有しない第2の下引き層などの別の層を設けてもよい。   In addition, another layer such as a second undercoat layer not containing the polymer according to the present invention may be provided between the support and the undercoat layer or between the undercoat layer and the photosensitive layer. .

電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。   Examples of the solvent used in the charge transport layer coating liquid include alcohol solvents, sulfoxide solvents, ketone solvents, ether solvents, ester solvents, and aromatic hydrocarbon solvents.

また、感光層(電荷輸送層)上には、導電性粒子または正孔輸送物質と結着樹脂とを含有する保護層(表面保護層)を設けてもよい。保護層には、潤滑剤などの添加剤をさらに含有させてもよい。また、保護層の結着樹脂自体に導電性や正孔輸送性を有させてもよく、その場合、保護層には、当該樹脂以外の導電性粒子や正孔輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は、熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光、放射線(電子線など)などにより硬化させてなる硬化性樹脂であってもよい。   Further, a protective layer (surface protective layer) containing conductive particles or a hole transport material and a binder resin may be provided on the photosensitive layer (charge transport layer). The protective layer may further contain an additive such as a lubricant. Further, the binder resin itself of the protective layer may have conductivity and hole transportability, and in that case, the protective layer may not contain conductive particles or hole transport materials other than the resin. Good. The binder resin of the protective layer may be a thermoplastic resin or a curable resin that is cured by heat, light, radiation (such as an electron beam), or the like.

下引き層、電荷発生層、電荷輸送層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解および/または分散させて得られた塗布液を塗布する。そして、得られた塗膜を乾燥および/または硬化させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法(浸漬コーティング法)、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性および生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。   As a method for forming each layer constituting the electrophotographic photosensitive member such as an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer, a coating solution obtained by dissolving and / or dispersing materials constituting each layer in a solvent is applied. To do. And the method of forming by drying and / or hardening the obtained coating film is preferable. Examples of the method for applying the coating liquid include a dip coating method (dip coating method), a spray coating method, a curtain coating method, and a spin coating method. Among these, the dip coating method is preferable from the viewpoints of efficiency and productivity.

〔プロセスカートリッジおよび電子写真装置〕
図1に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
[Process cartridge and electrophotographic apparatus]
FIG. 1 shows an example of a schematic configuration of an electrophotographic apparatus having a process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member of the present invention.

図1において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体1の表面(周面)は、帯電手段3(一次帯電手段:帯電ローラーなど)により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段(不図示)からの露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。   In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cylindrical electrophotographic photosensitive member, which is rotationally driven in a direction of an arrow about a shaft 2 at a predetermined peripheral speed. The surface (circumferential surface) of the electrophotographic photosensitive member 1 that is rotationally driven is uniformly charged to a predetermined positive or negative potential by a charging unit 3 (primary charging unit: charging roller or the like). Next, it receives exposure light (image exposure light) 4 from exposure means (not shown) such as slit exposure or laser beam scanning exposure. In this way, electrostatic latent images corresponding to the target image are sequentially formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1.

電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(転写ローラーなど)6からの転写バイアスによって、転写材(紙など)Pに順次転写されていく。なお、転写材Pは、転写材供給手段(不図示)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して取り出されて給送される。   The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor 1 is then developed with toner contained in the developer of the developing means 5 to become a toner image. Next, the toner image formed and supported on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is sequentially transferred onto a transfer material (such as paper) P by a transfer bias from a transfer unit (such as a transfer roller) 6. The transfer material P is taken out from the transfer material supply means (not shown) between the electrophotographic photoreceptor 1 and the transfer means 6 (contact portion) in synchronization with the rotation of the electrophotographic photoreceptor 1 and fed. Is done.

トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。   The transfer material P that has received the transfer of the toner image is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 and introduced into the fixing means 8 to receive the image fixing, and is printed out as an image formed product (print, copy). Is done.

トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(クリーニングブレードなど)7によって転写残りの現像剤(トナー)の除去を受けて清浄面化される。次いで、前露光手段(不図示)からの前露光光(不図示)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図1に示すように、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。   The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the transfer of the toner image is cleaned by receiving a developer (toner) remaining after transfer by a cleaning means (cleaning blade or the like) 7. Next, after being subjected to charge removal processing by pre-exposure light (not shown) from pre-exposure means (not shown), it is repeatedly used for image formation. As shown in FIG. 1, when the charging unit 3 is a contact charging unit using a charging roller or the like, pre-exposure is not necessarily required.

上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6およびクリーニング手段7から、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成し、このプロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図1では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5およびクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。   A plurality of the above-described electrophotographic photosensitive member 1, charging means 3, developing means 5, transfer means 6 and cleaning means 7 are housed in a container and integrally combined as a process cartridge. This process cartridge is electrophotographic. You may comprise so that attachment or detachment with respect to an apparatus main body is possible. In FIG. 1, an electrophotographic photosensitive member 1, a charging unit 3, a developing unit 5 and a cleaning unit 7 are integrally supported to form a cartridge, and an electrophotographic apparatus is provided using a guide unit 10 such as a rail of the electrophotographic apparatus main body. The process cartridge 9 is detachable from the main body.

以下、実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。まず、本発明に係る電子輸送物質の合成例を示す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In the examples, “part” means “part by mass”. First, a synthesis example of the electron transport material according to the present invention is shown.

(合成例1)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部および2−メチル6−エチルアニリン4部、2−アミノ1−ブタノール3部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A101を1.0部得た。
(Synthesis Example 1)
To 200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4 parts of 2-methyl 6-ethylaniline and 3 parts of 2-amino 1-butanol are added under nitrogen atmosphere and stirred at room temperature for 1 hour. A solution was prepared. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours. The precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 1.0 part of Compound A101.

(合成例2)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)5.4部、および2−アミノ酪酸(東京化成工業(株)製)5部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A128を4.6部得た。
(Synthesis Example 2)
In a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 5 parts of 2-aminobutyric acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are added to 200 parts of dimethylacetamide. And stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours, and the precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 4.6 parts of Compound A128.

(合成例3)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)5.4部、および2,6ジエチルアニリン(東京化成工業(株)製)4.5部、4−アミノベンゼンチオール4部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A114を1.3部得た。
(Synthesis Example 3)
200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), and 2,6 diethylaniline (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4.5 under a nitrogen atmosphere Part and 4-aminobenzenethiol 4 parts were added and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours. The precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 1.3 parts of Compound A114.

(合成例4)
ジメチルアセトアミド200部とナフタレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)1.8部中に、窒素雰囲気下で室温で2時間かけて2−アミノベンジルアルコール(東京化成工業(株)製)2.5部とジメチルアセトアミド50部を加えた。その後40℃で1時間、120℃で1時間撹拌後、8時間還流を行った。ジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、メタノール/水=1/1溶液100部を加え、結晶を析出させた上で濾別した。結晶を酢酸エチル/THF混合溶液に溶解後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル)で分離した。分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮し、得られた結晶を、酢酸エチル/THF混合溶液で再結晶を行い、化合物A124(式(21)で示されるイミド化合物)を1.6部得た。
(Synthesis Example 4)
2-Aminobenzyl alcohol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 200 parts of dimethylacetamide and 1.8 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) over 2 hours at room temperature in a nitrogen atmosphere. 2.5 parts) and 50 parts of dimethylacetamide were added. Thereafter, the mixture was stirred at 40 ° C. for 1 hour and at 120 ° C. for 1 hour, and then refluxed for 8 hours. Dimethylacetamide was removed by distillation under reduced pressure, 100 parts of a methanol / water = 1/1 solution was added, and crystals were precipitated, followed by filtration. The crystals were dissolved in a mixed solution of ethyl acetate / THF and separated by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate). After separation, the fraction containing the desired product was concentrated, and the obtained crystal was recrystallized with a mixed solution of ethyl acetate / THF to obtain 1.6 parts of compound A124 (imide compound represented by formula (21)). It was.

(合成例5)
ジメチルアセトアミド200部とナフタレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)2.7部中に、窒素雰囲気下でフェニルアラニノール(東京化成工業(株)製)3.6部とジメチルアセトアミド50部を加えた。その後120℃で3時間撹拌後、5時間還流を行った。ジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、水100部を加え、結晶を析出させた上で濾別した。エタノールで再結晶を行い、化合物A135(式(22)で示されるイミド化合物)を3.1部得た。
(Synthesis Example 5)
200 parts of dimethylacetamide and 2.7 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 3.6 parts of phenylalaninol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and dimethyl under a nitrogen atmosphere 50 parts of acetamide was added. Thereafter, the mixture was stirred at 120 ° C. for 3 hours and then refluxed for 5 hours. After removing dimethylacetamide by distillation under reduced pressure, 100 parts of water was added to precipitate crystals, followed by filtration. Recrystallization from ethanol gave 3.1 parts of Compound A135 (an imide compound represented by the formula (22)).

(合成例6)
4−(ヒドロキシメチル)フェニルボロン酸(アルドリッチ社製)2.8部およびフェナントレンキノン(シグマアルドリッチジャパン(株)社製)を、窒素雰囲気下で、Chem.Educator No.6, 227−234 (2001)に記載の合成方法で3,6−ジブロモ−9,10−フェナントレンジオン7.4部を合成した。トルエン100部およびエタノール50部の混合溶媒に、3,6−ジブロモ−9,10−フェナントレンジオン7.4部を加え、20%炭酸ナトリウム水溶液100部を滴下した後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を0.55部添加した後、2時間還流させた。反応後、有機相をクロロホルムで抽出し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥を行った。溶媒を減圧下で除去した後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製を行い、化合物A216を3.2部得た。
(Synthesis Example 6)
2.8 parts of 4- (hydroxymethyl) phenylboronic acid (manufactured by Aldrich) and phenanthrenequinone (manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd.) were added in a Chem. Educator No. 6, 227-234 (2001), 7.4 parts of 3,6-dibromo-9,10-phenanthrene range was synthesized. To a mixed solvent of 100 parts of toluene and 50 parts of ethanol, 7.4 parts of 3,6-dibromo-9,10-phenanthrene dione is added, and 100 parts of 20% aqueous sodium carbonate solution is added dropwise, followed by tetrakis (triphenylphosphine) palladium. After adding 0.55 parts of (0), the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the organic phase was extracted with chloroform, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 3.2 parts of Compound A216.

(合成例7)
3−アミノフェニルボロン酸1水和物2.8部およびフェナントロリンキノン(シグマアルドリッチジャパン(株)社製)を窒素雰囲気下で、合成例6と同様に2,7−ジブロモ−9,10−フェナントロリンキノン7.4部を合成した。トルエン100質量部およびエタノール50質量部の混合溶媒に、2,7−ジブロモ−9,10−フェナントロリンキノン7.4部を加えた。これに、20%炭酸ナトリウム水溶液100部を滴下した後、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)を0.55部添加した後、2時間還流させた。反応後、有機相をクロロホルムで抽出し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥を行った。溶媒を減圧下で除去した後、残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製を行い、化合物A316を2.2部得た。
(Synthesis Example 7)
2,7-Dibromo-9,10-phenanthroline was prepared in the same manner as in Synthesis Example 6 except that 2.8 parts of 3-aminophenylboronic acid monohydrate and phenanthroline quinone (manufactured by Sigma-Aldrich Japan Co., Ltd.) were used. 7.4 parts of quinone were synthesized. 7.4 parts of 2,7-dibromo-9,10-phenanthrolinequinone was added to a mixed solvent of 100 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of ethanol. To this was added dropwise 100 parts of a 20% aqueous sodium carbonate solution, 0.55 parts of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) was added, and the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the organic phase was extracted with chloroform, washed with water, and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel chromatography to obtain 2.2 parts of Compound A316.

(合成例8)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ペリレンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)7.4部、および2,6ジエチルアニリン(東京化成工業(株)製)4部、2−アミノフェニルエタノール4部を加え、室温で1時間撹拌し、溶液を調製した。溶液を調製後、8時間還流を行い、析出物を濾別し、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A803を5.0部得た。
(Synthesis Example 8)
200 parts of dimethylacetamide, under a nitrogen atmosphere, 7.4 parts of perylenetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 4 parts of 2,6 diethylaniline (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 4 parts of 2-aminophenylethanol was added and stirred at room temperature for 1 hour to prepare a solution. After preparing the solution, the mixture was refluxed for 8 hours, and the precipitate was filtered off and recrystallized from ethyl acetate to obtain 5.0 parts of Compound A803.

(合成例11)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール2.6部、2−(2−アミノエチルチオ)エタノール2.7部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。得られた黒褐色溶液からジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチル/トルエン混合溶液に溶解した。
(Synthesis Example 11)
Under a nitrogen atmosphere, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2.6 parts of leucinol and 2.7 parts of 2- (2-aminoethylthio) ethanol are added to 200 parts of dimethylacetamide at room temperature for 1 hour. After stirring, the mixture was refluxed for 7 hours. Dimethylacetamide was removed from the resulting black brown solution by distillation under reduced pressure, and then dissolved in a mixed solution of ethyl acetate / toluene.

シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒酢酸エチル/トルエン)で分離後、目的物を含有するフラクションを濃縮し、得られた結晶をトルエン/ヘキサン混合溶液で再結晶を行い、化合物A173(式(23)で示されるイミド化合物)を2.5部得た
(合成例10)
ジメチルアセトアミド200部に、窒素雰囲気下で、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物5.4部およびロイシノール5.2部を加え、室温で1時間撹拌後、7時間還流を行った。ジメチルアセトアミドを減圧蒸留で除いた後、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物A157(式(24)で示されるイミド化合物)を5.0部得た。
After separation by silica gel column chromatography (developing solvent: ethyl acetate / toluene), the fraction containing the target compound was concentrated, and the resulting crystals were recrystallized with a toluene / hexane mixed solution to obtain compound A173 (formula (23)). 2.5 parts of the imide compound shown) was obtained (Synthesis Example 10).
To 200 parts of dimethylacetamide, 5.4 parts of naphthalenetetracarboxylic dianhydride and 5.2 parts of leucinol were added under a nitrogen atmosphere, stirred at room temperature for 1 hour, and then refluxed for 7 hours. After removing dimethylacetamide by distillation under reduced pressure, recrystallization was performed with ethyl acetate to obtain 5.0 parts of Compound A157 (imide compound represented by the formula (24)).

次に、以下のように電子写真感光体を製造し、評価した。   Next, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated as follows.

(実施例1)
長さ260.5mmおよび直径30mmのアルミニウムシリンダー(JIS−A3003、アルミニウム合金)を支持体(導電性支持体)とした。
Example 1
An aluminum cylinder (JIS-A3003, aluminum alloy) having a length of 260.5 mm and a diameter of 30 mm was used as a support (conductive support).

次に、酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子(粉体抵抗率:120Ω・cm、酸化スズの被覆率:40%。)50部、フェノール樹脂(プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60%。)40部、メトキシプロパノール40部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、3時間分散処理することによって、導電層用塗布液(分散液)を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間145℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が16μmの導電層を形成した。   Next, 50 parts of titanium oxide particles coated with oxygen-deficient tin oxide (powder resistivity: 120 Ω · cm, tin oxide coverage: 40%), phenol resin (Pryofen J-325, Dainippon) Ink Chemical Industry Co., Ltd., resin solid content: 60%.) 40 parts and 40 parts of methoxypropanol were placed in a sand mill using glass beads with a diameter of 1 mm and dispersed for 3 hours, thereby applying a coating solution for a conductive layer. (Dispersion) was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 145 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 16 μm.

この導電層用塗布液における酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子の平均粒径を、(株)堀場製作所製の粒度分布計(商品名:CAPA700)を用い、テトラヒドロフランを分散媒とし、回転数5000rpmにて遠心沈降法で測定した。その結果、平均粒径は0.33μmであった。   The average particle diameter of the titanium oxide particles coated with oxygen-deficient tin oxide in the coating liquid for the conductive layer was measured using a particle size distribution meter (trade name: CAPA700) manufactured by Horiba, Ltd., and tetrahydrofuran as a dispersion medium. , And measured by centrifugal sedimentation at a rotational speed of 5000 rpm. As a result, the average particle size was 0.33 μm.

次に、化合物A101を8部、式(1)で示される基でブロックされたイソシアネート化合物(I−1)10部、触媒としてオクチル酸亜鉛(II)0.1部と、樹脂B1(2部)を、ジメチアセトアミド100部とメチルエチルケトン100部の混合溶媒に溶解し、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間160℃で加熱し、硬化(重合)させることによって、膜厚が0.5μmの下引き層を形成した。   Next, 8 parts of compound A101, 10 parts of isocyanate compound (I-1) blocked with a group represented by formula (1), 0.1 part of zinc octylate (II) as a catalyst, and resin B1 (2 parts) ) Was dissolved in a mixed solvent of 100 parts of dimethylacetamide and 100 parts of methyl ethyl ketone to prepare an undercoat layer coating solution. This undercoat layer coating solution is dip-coated on the conductive layer, and the resulting coating film is heated at 160 ° C. for 30 minutes and cured (polymerized) to form an undercoat layer having a thickness of 0.5 μm. did.

次に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°および28.3°に強いピークを有する。)10部、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレックBX−1、積水化学工業(株)製)5部およびシクロヘキサノン260部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、1.5時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル240部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を10分間95℃で乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。   Next, hydroxygallium phthalocyanine crystal (7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 ° of Bragg angle (2θ ± 0.2 °) in CuKα characteristic X-ray diffraction, 10 parts, 5 parts of polyvinyl butyral resin (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 260 parts of cyclohexanone having a diameter of 1 mm have strong peaks at 25.1 ° and 28.3 °. The mixture was placed in a sand mill using glass beads and dispersed for 1.5 hours. Next, 240 parts of ethyl acetate was added thereto to prepare a charge generation layer coating solution. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 95 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.18 μm.

次に、下記式(15)で示されるアミン化合物(正孔輸送物質)7部、および、ポリエステル樹脂D10部(下記式(16−1)で示される繰り返し構造単位と、下記式(16−2)で示される繰り返し構造単位を5/5の割合で有する。重量平均分子量(Mw)100000。)を、ジメトキシメタン30部およびクロロベンゼン70部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を60分間120℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの電荷輸送層を形成した。   Next, 7 parts of an amine compound (hole transport material) represented by the following formula (15) and 10 parts of a polyester resin D (repeating structural unit represented by the following formula (16-1), and the following formula (16-2) ) Is dissolved in a mixed solvent of 30 parts of dimethoxymethane and 70 parts of chlorobenzene to dissolve the coating composition for the charge transport layer. Was prepared. The charge transport layer coating solution was dip coated on the charge generation layer, and the resulting coating film was dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 15 μm.

Figure 0005826212
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このようにして、支持体上に導電層、下引き層、電荷発生層および電荷輸送層を有する電子写真感光体を製造した。   Thus, an electrophotographic photosensitive member having a conductive layer, an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer on a support was produced.

製造した電子写真感光体を、温度15℃、湿度10%RHの環境下にて、キヤノン(株)製のレーザービームプリンター(商品名:LBP−2510)の改造機に装着して、表面電位の測定および出力画像の評価を行った。詳しくは以下のとおりである。   The manufactured electrophotographic photoreceptor is mounted on a modified laser beam printer (trade name: LBP-2510) manufactured by Canon Inc. in an environment of a temperature of 15 ° C. and a humidity of 10% RH. Measurements and output image evaluation were performed. Details are as follows.

表面電位評価の測定は、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ(model6000B−8:トレック・ジャパン(株)製)を装着した。さらに、電子写真感光体の中央部の電位を表面電位計(model344:トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。ドラムの表面電位は、初期暗部電位(Vd)が−500V、初期明部電位(Vl)が−100Vになるよう、画像露光の光量を設定した。   For the measurement of the surface potential, a cyan process cartridge for the laser beam printer was modified, and a potential probe (model 6000B-8: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) was mounted at the development position. Further, the potential of the central portion of the electrophotographic photosensitive member was measured using a surface potentiometer (model 344: manufactured by Trek Japan Co., Ltd.). The surface potential of the drum was set such that the initial dark portion potential (Vd) was −500 V and the initial bright portion potential (Vl) was −100 V.

続いて、上記レーザービームプリンターのシアン色用のプロセスカートリッジに、製造した電子写真感光体を装着して、そのプロセスカートリッジをシアンのプロセスカートリッジのステーションに装着し、画像を出力した。まず、ベタ白画像1枚、ゴースト評価用画像5枚、ベタ黒画像1枚、ゴースト評価用画像5枚の順に連続して画像出力を行った。次に、A4サイズの普通紙で、10,000枚のフルカラー画像(各色印字率1%の文字画像)の出力を行い、その後、ベタ白画像1枚、ゴースト評価用画像5枚、ベタ黒画像1枚、ゴースト評価用画像5枚の順に連続して画像出力を行った。   Subsequently, the manufactured electrophotographic photosensitive member was attached to the cyan process cartridge of the laser beam printer, and the process cartridge was attached to a cyan process cartridge station to output an image. First, image output was successively performed in the order of one solid white image, five ghost evaluation images, one solid black image, and five ghost evaluation images. Next, 10,000 full-color images (character images with a color printing rate of 1%) are output on A4 size plain paper, and then one solid white image, five ghost evaluation images, and a solid black image. Image output was successively performed in the order of one image and five ghost evaluation images.

ゴースト評価用画像は、図2に示すように、画像の先頭部に「白画像」中に四角の「ベタ画像」を出した後、図3に示す「1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像」を作成したものである。なお、図2中、「ゴースト」部は、「ベタ画像」に起因するゴーストが出現し得る部分である。   As shown in FIG. 2, the ghost evaluation image has a “solid image” of a square in a “white image” at the head of the image, and then a “halftone image of 1-dot Keima pattern” shown in FIG. It was created. In FIG. 2, the “ghost” portion is a portion where a ghost attributed to the “solid image” may appear.

ポジゴーストの評価は、1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像の画像濃度と、ゴースト部の画像濃度との濃度差を測定することで行った。分光濃度計(商品名:X−Rite504/508、X−Rite(株)製)で、1枚のゴースト評価用画像中で濃度差を10点測定した。この操作をゴースト評価用画像10枚すべてで行い、合計100点の平均を算出し、初期画像出力時のマクベス濃度差(初期)を評価した。次に、10,000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差の差(変化分)を算出して、マクベス濃度差の変動分を求めた。マクベス濃度差が小さいほど、ポジゴーストが抑制されたことを意味する。そして10,000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差との差が小さい程、ポジゴーストの変動変化が小さい事を意味する。結果を表10に示す。   The positive ghost was evaluated by measuring the density difference between the halftone image density of the 1-dot Keima pattern and the image density of the ghost portion. A spectral densitometer (trade name: X-Rite 504/508, manufactured by X-Rite Co., Ltd.) was used to measure 10 density differences in one ghost evaluation image. This operation was performed on all 10 ghost evaluation images, the average of 100 points in total was calculated, and the Macbeth density difference (initial) at the time of initial image output was evaluated. Next, the difference (change) between the Macbeth density difference after output of 10,000 sheets and the Macbeth density difference at the time of initial image output was calculated to obtain the fluctuation amount of the Macbeth density difference. The smaller the Macbeth density difference, the more positive ghost is suppressed. The smaller the difference between the Macbeth density difference after outputting 10,000 sheets and the Macbeth density difference when outputting the initial image, the smaller the change in the positive ghost. The results are shown in Table 10.

(実施例2〜122)
イソシアネート化合物(化合物I、ブロック基X)、式(B)で示される繰り返し構造単位を有する樹脂(樹脂B)、電子輸送物質(化合物A)の種類と含有量を表10、11に示すように変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造した。また、同様にポジゴーストの評価を行った。結果を表10、11に示す。
(Examples 2-122)
Tables 10 and 11 show the types and contents of the isocyanate compound (compound I, blocking group X 1 ), the resin (resin B) having the repeating structural unit represented by the formula (B), and the electron transport material (compound A). An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the above was changed. Similarly, positive ghost was evaluated. The results are shown in Tables 10 and 11.

(実施例123)
実施例112の導電層を以下のように変更した以外は実施例112と同様に電子写真感光体を製造し、同様にポジゴーストの評価を行った。結果を表10、11に示す。
(Example 123)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 112 except that the conductive layer of Example 112 was changed as follows, and positive ghost was evaluated in the same manner. The results are shown in Tables 10 and 11.

金属酸化物粒子(リン(P)がドープされている酸化スズ(SnO)で被覆されている酸化チタン(TiO)粒子。)207部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、樹脂固形分:60質量%。)144部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れて分散処理を行い、分散液を得た。分散条件は、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃に制御した。この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。 207 parts of metal oxide particles (titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with tin oxide (SnO 2 ) doped with phosphorus (P)), phenol resin as a binder resin (trade name: Pryofen J-325, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc., resin solid content: 60% by mass.) 144 parts and 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent were added to glass beads 450 having a diameter of 0.8 mm. Dispersion treatment was carried out by putting in a sand mill using a part to obtain a dispersion. Dispersion conditions were controlled at a rotational speed of 2000 rpm, a dispersion treatment time of 4.5 hours, and a cooling water set temperature of 18 ° C. Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).

分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して15質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ(株)製、平均粒径2μm)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レ・ダウコーニング(株)製)を分散液に添加して撹拌し、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。   Silicone resin particles as a surface roughening agent (trade name: Tospearl 120, Momentive Performance Materials (so that the total mass of metal oxide particles and binder resin in the dispersion liquid is 15% by mass) Co., Ltd., average particle size 2 μm) was added to the dispersion. In addition, silicone oil as a leveling agent (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) so that the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion is 0.01% by mass. ) Was added to the dispersion and stirred to prepare a coating solution for the conductive layer. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.

(実施例124)
実施例112の導電層を以下のように変更した以外は実施例112と同様に電子写真感光体を製造し、同様にポジゴーストの評価を行った。結果を表10、11に示す。
(Example 124)
An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 112 except that the conductive layer of Example 112 was changed as follows, and positive ghost was evaluated in the same manner. The results are shown in Tables 10 and 11.

金属酸化物粒子(酸素欠損型酸化スズ(SnO)が被覆されている酸化チタン(TiO)粒子。)214部、結着樹脂としてのフェノール樹脂(商品名:プライオーフェンJ−325。)132部、および、溶剤としての1−メトキシ−2−プロパノール98部を、直径0.8mmのガラスビーズ450部を用いたサンドミルに入れて、分散処理を行い、分散液を得た。分散条件は、回転数:2000rpm、分散処理時間:4.5時間、冷却水の設定温度:18℃に制御した。この分散液からメッシュ(目開き:150μm)でガラスビーズを取り除いた。 Metal oxide particles (titanium oxide (TiO 2 ) particles coated with oxygen-deficient tin oxide (SnO 2 )) 214 parts, phenol resin as a binder resin (trade name: Pryofen J-325) 132 And 98 parts of 1-methoxy-2-propanol as a solvent were placed in a sand mill using 450 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm, and dispersion treatment was performed to obtain a dispersion. Dispersion conditions were controlled at a rotational speed of 2000 rpm, a dispersion treatment time of 4.5 hours, and a cooling water set temperature of 18 ° C. Glass beads were removed from this dispersion with a mesh (aperture: 150 μm).

分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して10質量%になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120)を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着樹脂の合計質量に対して0.01質量%になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル(商品名:SH28PA)を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を30分間150℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が30μmの導電層を形成した。   Silicone resin particles (trade name: Tospearl 120) as a surface roughening agent were added to the dispersion so as to be 10% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion. Further, a silicone oil (trade name: SH28PA) as a leveling agent is added to the dispersion so as to be 0.01% by mass with respect to the total mass of the metal oxide particles and the binder resin in the dispersion, followed by stirring. By doing this, the coating liquid for conductive layers was prepared. The conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer having a thickness of 30 μm.

(実施例125)
実施例112の電荷輸送層用塗布液塗布液の調製を以下のように変更した。上記式(8)で示される構造を有する電荷輸送物質9部、下記式(18)で示される構造を有する電荷輸送物質1部、ポリエステル樹脂E(下記式(26)で示される繰り返し構造単位と下記式(25)で示される繰り返し構造単位を7:3の比で有する。重量平均分子量90,000)3部および、ポリエステル樹脂D7部を、ジメトキシメタン30部およびオルトキシレン50部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。なお、ポリエステル樹脂Eのおける、下記式(24)で示される繰り返し構造単位の含有量が10質量%であり、下記式(25)、(26)で示される繰り返し構造単位の含有量が90質量%であった。
(Example 125)
The preparation of the coating solution for the charge transport layer in Example 112 was changed as follows. 9 parts of a charge transport material having a structure represented by the above formula (8), 1 part of a charge transport material having a structure represented by the following formula (18), polyester resin E (a repeating structural unit represented by the following formula (26)) It has a repeating structural unit represented by the following formula (25) at a ratio of 7: 3, 3 parts of weight average molecular weight 90,000) and 7 parts of polyester resin D in a mixed solvent of 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of orthoxylene. By dissolving, a coating solution for a charge transport layer was prepared. In addition, in polyester resin E, content of the repeating structural unit shown by following formula (24) is 10 mass%, and content of the repeating structural unit shown by following formula (25), (26) is 90 mass. %Met.

Figure 0005826212
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この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを60分間120℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの電荷輸送層を形成した。形成された電荷輸送層には電荷輸送物質とポリエステル樹脂Dを含むマトリックス中にポリエステル樹脂Eを含むドメイン構造が含有されていることが確認された。   The charge transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 15 μm. It was confirmed that the formed charge transport layer contained a domain structure containing the polyester resin E in a matrix containing the charge transport material and the polyester resin D.

(実施例126)
実施例112の電荷輸送層用塗布液塗布液の調整を以下のように変更した。
(Example 126)
The adjustment of the coating liquid for the charge transport layer in Example 112 was changed as follows.

上記式(8)で示される構造を有する電荷輸送物質9部、上記式(18)で示される構造を有する電荷輸送物質1部、下記式(29)で示される繰り返し構造を有するポリカーボネート樹脂F(重量平均分子量70,000)10部、および、下記式(29)で示される繰り返し構造単位、下記式(30)で示される繰り返し構造単位および、末端の少なくともいずれか一方に下記式(31)で示される構造を有するポリカーボネート樹脂G(重量平均分子量40,000)0.3部を、ジメトキシメタン30部およびオルトキシレン50部混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。なお、ポリカーボネート樹脂Gにおける、下記式(30)と(31)で示される構造の合計質量が30質量%であった。この電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、これを60分間120℃で乾燥させることによって、膜厚が15μmの電荷輸送層を形成した。   9 parts of a charge transport material having a structure represented by the above formula (8), 1 part of a charge transport material having a structure represented by the above formula (18), and a polycarbonate resin F having a repeating structure represented by the following formula (29) ( 10 parts by weight average molecular weight 70,000), a repeating structural unit represented by the following formula (29), a repeating structural unit represented by the following formula (30), and at least one of the terminals represented by the following formula (31) A coating solution for a charge transport layer was prepared by dissolving 0.3 part of polycarbonate resin G (weight average molecular weight 40,000) having the structure shown in 30 parts of dimethoxymethane and 50 parts of orthoxylene. The total mass of the structures represented by the following formulas (30) and (31) in the polycarbonate resin G was 30% by mass. The charge transport layer coating solution was dip-coated on the charge generation layer and dried at 120 ° C. for 60 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 15 μm.

Figure 0005826212
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(実施例127)
実施例126の電荷輸送層用塗布液の調製において、ポリカーボネート樹脂F10部の代わりに、ポリエステル樹脂D10部とした以外は実施例126と同様にして、電荷輸送層塗布液を調製し、電子写真感光体を製造した。
(Example 127)
In the preparation of the charge transport layer coating solution of Example 126, a charge transport layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 126 except that 10 parts of the polyester resin D was used instead of 10 parts of the polycarbonate resin F. The body was manufactured.

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表10〜12中、「化合物A/架橋剤」は、化合物A(電子輸送物質)の分子量とイソシアネート化合物の分子量(ブロック基Xを除いて算出した分子量)との比を示す。 In Table 10-12, "Compound A / crosslinker" refers to a ratio of Compound A molecular weight of the molecular weight and the isocyanate compound of (electron transport material) (molecular weight calculated with the exception of blocking groups X 1).

(比較例1)
実施例1において、イソシアネート化合物として、下記式(C−1)で示されるユニットを有するイソシアネート化合物(特開2008−250082号公報に記載の共重合体(下記式(C−1)で示されるユニットとスチレンの共重合体)。式(C−1)で示されるユニットは共重合体に対して5モル%、重量平均分子量Mw42000)を用いた以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、同様にゴーストの評価を行った。初期画像出力時のマクベス濃度差は、0.035、10,000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差の差(変化分)は、0.042だった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, as an isocyanate compound, an isocyanate compound having a unit represented by the following formula (C-1) (a copolymer described in JP 2008-250082 A (unit represented by the following formula (C-1)) The copolymer represented by the formula (C-1) is an electrophotographic photoreceptor in the same manner as in Example 1 except that the unit represented by the formula (C-1) is 5 mol% and the weight average molecular weight Mw is 42000). The ghost was similarly evaluated. The Macbeth density difference at the time of initial image output was 0.035, and the difference (change) between the Macbeth density difference after output of 10,000, 10,000 sheets and the Macbeth density difference at the time of initial image output was 0.042.

Figure 0005826212
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(比較例2)
ヘキサメチレンジイソシアネートと下記式(11)で示される化合物とを用いて下引き層を形成(特開2007−148293の実施例1の構成)した以外は実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、同様にゴーストの評価を行った。初期画像出力時のマクベス濃度は0.034、10,000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差の差(変化分)は、0.051だった。
(Comparative Example 2)
An electrophotographic photoreceptor is produced in the same manner as in Example 1 except that an undercoat layer is formed using hexamethylene diisocyanate and a compound represented by the following formula (11) (configuration of Example 1 of JP-A-2007-148293). In the same manner, the ghost was evaluated. The Macbeth density at the initial image output was 0.034, and the difference (change) between the Macbeth density difference after outputting 10,000 sheets and the Macbeth density difference at the initial image output was 0.051.

Figure 0005826212
Figure 0005826212

(比較例3)
ブロックイソシアネート化合物とブチラール樹脂と、下記式(12)で示される化合物を用いて下引き層を形成(特開2008−65173の実施例2の構成)した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、同様にゴーストの評価を行った。初期画像出力時のマクベス濃度は0.052、10,000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差の差(変化分)は、0.055だった。
(Comparative Example 3)
Electrophotography as in Example 1 except that an undercoat layer was formed using a blocked isocyanate compound, a butyral resin, and a compound represented by the following formula (12) (configuration of Example 2 of JP-A-2008-65173). Photoconductors were manufactured and ghosts were similarly evaluated. The Macbeth density at the time of initial image output was 0.052, and the difference (change) between the Macbeth density difference after output of 10,000 sheets and the Macbeth density difference at the time of initial image output was 0.055.

Figure 0005826212
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(比較例4)
実施例1において、例示化合物A101から、下記構造式で示されるブロック共重合体(特表2009−505156号公報に記載の共重合体)を用いた以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を製造し、評価を行った。初期画像出力時のマクベス濃度差は0.040、10,000枚の出力後のマクベス濃度差と初期画像出力時のマクベス濃度差の差(変化分)は0.055だった。
(Comparative Example 4)
In Example 1, electrophotographic photosensitization was performed in the same manner as in Example 1 except that the block copolymer represented by the following structural formula (the copolymer described in JP-T-2009-505156) was used from Example Compound A101. The body was manufactured and evaluated. The Macbeth density difference at the initial image output was 0.040, and the difference (change) between the Macbeth density difference after outputting 10,000 sheets and the Macbeth density difference at the initial image output was 0.055.

Figure 0005826212
Figure 0005826212

1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 クリーニング手段
8 定着手段
9 プロセスカートリッジ
10 案内手段
P 転写材
101 支持体
102 下引き層
103 感光層
104 電荷発生層
105 電荷輸送層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrophotographic photosensitive member 2 Axis 3 Charging means 4 Exposure light 5 Developing means 6 Transfer means 7 Cleaning means 8 Fixing means 9 Process cartridge 10 Guide means P Transfer material 101 Support body 102 Undercoat layer 103 Photosensitive layer 104 Charge generation layer 105 Charge Transport layer

Claims (8)

支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体の製造方法において、
下記(i)、(ii)及び(iii):
(i)−NCO基および−NHCOX基(Xは下記式(1)〜(7)のいずれかで示される基である。)からなる群より選択される基を3〜6個有する分子量(−NHCOX基を有する場合は、X基を除いて算出した分子量である。)が200〜1300のイソシアネート化合物、
(ii)下記式(B)で示される構造単位を有する樹脂、および
(iii)下記式(A1)で示される化合物、下記式(A2)で示される化合物、下記式(A3)で示される化合物、下記式(A4)で示される化合物、下記式(A5)で示される化合物、下記式(A6)で示される化合物、下記式(A7)で示される化合物および下記式(A8)で示される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の電子輸送物質、
を含む組成物を重合させて得られる重合物を含有する下引き層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法
Figure 0005826212

Figure 0005826212

(式(B)中、R11は水素原子またはアルキル基を示す。Yは、単結合またはフェニレン基を示す。Wは、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、またはカルボキシル基を示す。)
Figure 0005826212

(式(A1)〜(A8)中、R101〜R106、R201〜R210、R301〜R308、R401〜R408、R501〜R510、R601〜R606、R701〜R708、およびR801〜R810は、それぞれ独立に、下記式(A)で示される1価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換の複素環基を示す。ただし、R101〜R106の少なくとも1つ、R201〜R210の少なくとも1つ、R301〜R308の少なくとも1つ、R401〜R408の少なくとも1つ、R501〜R510の少なくとも1つ、R601〜R606の少なくとも1つ、R701〜R708の少なくとも1つ、およびR801〜R810の少なくとも1つは、下記式(A)で示される1価の基である。該アルキル基の炭素原子の1つは、O、S、NH、NR901(R901はアルキル基)で置き換わっても良い。該置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。該置換のアリール基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基およびハロゲン基置換アルキル基からなる群より選択される基である。Z201、Z301、Z401およびZ501は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、または酸素原子を示す。Z201が酸素原子である場合はR209およびR210は存在せず、Z201が窒素原子である場合はR210は存在しない。Z301が酸素原子である場合はR307およびR308は存在せず、Z301が窒素原子である場合はR308は存在しない。Z401が酸素原子である場合はR407およびR408は存在せず、Z401が窒素原子である場合はR408は存在しない。Z501が酸素原子である場合はR509およびR510は存在せず、Z501が窒素原子である場合はR510は存在しない。)
Figure 0005826212

(式(A)中、lおよびmは、それぞれ独立に、0または1であり、lとmの和は、0以上2以下である。l=1、m=1のとき、α、β、およびγの少なくとも1つが置換基を有し、l=1、m=0のとき、αおよびγの少なくとも1つが該置換基を有し、l=0、m=1のとき、βおよびγの少なくとも1つが該置換基を有し、l=0、m=0のとき、γが該置換基を有する。該置換基は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基である。
αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基を示し、これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはSまたはNHまたはNR19(R19はアルキル基である。)で置き換わっていても良い。
βは、フェニレン基、炭素数1〜6のアルキル基置換フェニレン基、ニトロ基置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、またはアルコキシ基置換フェニレン基を示し、これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。
γは、水素原子、主鎖の原子数が1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキル基を示し、これらの基は、置換基として、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、およびカルボキシル基からなる群より選択される少なくとも1種の基を有しても良い。)
In a method for producing an electrophotographic photoreceptor having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer,
The following (i), (ii) and (iii):
(I) Molecular weight having 3 to 6 groups selected from the group consisting of —NCO group and —NHCOX 1 group (X 1 is a group represented by any one of the following formulas (1) to (7)) (In the case of having -NHCOX 1 group, it is a molecular weight calculated by removing X 1 group.) Is an isocyanate compound of 200-1300,
(Ii) a resin having a structural unit represented by the following formula (B), and (iii) a compound represented by the following formula (A1), a compound represented by the following formula (A2), a compound represented by the following formula (A3) , A compound represented by the following formula (A4), a compound represented by the following formula (A5), a compound represented by the following formula (A6), a compound represented by the following formula (A7), and a compound represented by the following formula (A8) At least one electron transport material selected from the group consisting of:
A process for producing an electrophotographic photosensitive member , comprising a step of forming an undercoat layer containing a polymer obtained by polymerizing a composition comprising a polymer .
Figure 0005826212

Figure 0005826212

(In formula (B), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y represents a single bond or a phenylene group. W 1 represents a hydroxy group, a thiol group, an amino group, or a carboxyl group.)
Figure 0005826212

(Formula (A1) ~ (A8) in, R 101 ~R 106, R 201 ~R 210, R 301 ~R 308, R 401 ~R 408, R 501 ~R 510, R 601 ~R 606, R 701 ~ R 708 and R 801 to R 810 are each independently a monovalent group represented by the following formula (A), a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted alkyl Group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted heterocyclic group, provided that at least one of R 101 to R 106 , at least one of R 201 to R 210 , and at least one of R 301 to R 308 1, at least one of R 401 to R 408 , at least one of R 501 to R 510 , at least one of R 601 to R 606 , At least one of R 701 to R 708 and at least one of R 801 to R 810 is a monovalent group represented by the following formula (A): one of the carbon atoms of the alkyl group is O, S, NH, NR 901 (R 901 is an alkyl group) may be replaced with a group selected from the group consisting of an alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group and a halogen atom. The substituent of the substituted aryl group is a group selected from the group consisting of a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, and a halogen group-substituted alkyl group: Z 201 , Z 301 , Z 401 and Z 501 are each independently if .Z 201 showing a carbon atom, a nitrogen atom or oxygen atom, is an oxygen atom absent R 209 and R 210, 201 is not present is R 307 and R 308 when a .Z 301 is oxygen atom R 210 is absent when a nitrogen atom, .Z if Z 301 is a nitrogen atom R 308 is absent 401 there absent R 407 and R 408 when an oxygen atom, if Z 401 is a nitrogen atom if .Z 501 not present R 408 is an oxygen atom absent R 509 and R 510 In the case where Z 501 is a nitrogen atom, R 510 is not present.)
Figure 0005826212

(In Formula (A), l and m are each independently 0 or 1, and the sum of l and m is 0 or more and 2 or less. When l = 1 and m = 1, α, β, And at least one of γ has a substituent, and when l = 1 and m = 0, at least one of α and γ has the substituent, and when l = 0 and m = 1, β and γ At least one has the substituent, and when 1 = 0 and m = 0, γ has the substituent, and the substituent is selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group Is at least one group.
α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group These groups may have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. One of the carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O or S or NH or NR 19 (R 19 is an alkyl group).
β represents a phenylene group, an alkyl group-substituted phenylene group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group-substituted phenylene group, a halogen group-substituted phenylene group, or an alkoxy group-substituted phenylene group, and these groups are hydroxy groups as substituents , At least one group selected from the group consisting of a thiol group, an amino group, and a carboxyl group.
γ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain, or an alkyl group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. May have at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a thiol group, an amino group, and a carboxyl group as a substituent. )
前記式(A)中、
αは、主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数1〜6のアルキレン基、またはフェニル基で置換された主鎖の原子数が1〜6のアルキレン基であり、
該アルキレン基の主鎖中の炭素原子の1つは、OまたはNHまたはNR19(R19はアルキル基である。)で置き換わっていてもよいことを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体の製造方法
In the formula (A),
α is an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain, an alkylene group having 1-6 atoms in the main chain substituted with an alkyl group having 1-6 carbon atoms, or a main chain substituted with a benzyl group. An alkylene group having 1 to 6 atoms, an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with an alkoxycarbonyl group, or an alkylene group having 1 to 6 atoms in the main chain substituted with a phenyl group ,
2. The electrophotographic image according to claim 1, wherein one of carbon atoms in the main chain of the alkylene group may be replaced by O, NH, or NR 19 (R 19 is an alkyl group). A method for producing a photoreceptor.
前記イソシアネート化合物が、環状構造を有している請求項1または2に記載の電子写真感光体の製造方法The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the isocyanate compound has a cyclic structure. 前記環状構造が、イソシアヌレート構造である請求項3に記載の電子写真感光体の製造方法The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 3, wherein the cyclic structure is an isocyanurate structure. 前記式(B)で示される構造単位を有する樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂である請求項1から4のいずれか1項に記載の電子写真感光体の製造方法The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin having the structural unit represented by the formula (B) is a polyvinyl acetal resin. 前記電子輸送物質の分子量が150以上1000以下である請求項1から5のいずれか1項に記載の電子写真感光体の製造方法6. The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the molecular weight of the electron transport material is 150 or more and 1000 or less. 前記イソシアネート化合物の分子量と前記電子輸送物質の分子量の比が、3/20〜50/20である請求項1から6のいずれか1項に記載の電子写真感光体の製造方法The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 6, wherein a ratio of a molecular weight of the isocyanate compound to a molecular weight of the electron transport material is 3/20 to 50/20. 前記下引き層を形成する工程が、
前記イソシアネート化合物、前記式(B)で示される構造単位を有する樹脂、および前記電子輸送物質を含有する下引き層用塗布液の塗膜を形成する工程、および
該塗膜を加熱乾燥させることによって前記下引き層を形成する工程を有する請求項1から7のいずれか1項に記載の電子写真感光体の製造方法。
Forming the undercoat layer comprises:
A step of forming a coating film of a coating liquid for an undercoat layer containing the isocyanate compound, a resin having a structural unit represented by the formula (B), and the electron transport material; and heating and drying the coating film The method for producing an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, further comprising a step of forming the undercoat layer.
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