JP2001083726A - Electrophotographic photoreceptor, its manufacturing method and electrophotographic apparatus - Google Patents

Electrophotographic photoreceptor, its manufacturing method and electrophotographic apparatus

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JP2001083726A
JP2001083726A JP25941099A JP25941099A JP2001083726A JP 2001083726 A JP2001083726 A JP 2001083726A JP 25941099 A JP25941099 A JP 25941099A JP 25941099 A JP25941099 A JP 25941099A JP 2001083726 A JP2001083726 A JP 2001083726A
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group
substituted
charge
copolymer
layer
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JP25941099A
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Japanese (ja)
Inventor
Fumiaki Taho
文明 田甫
Masakazu Iijima
正和 飯島
Masahiro Iwasaki
真宏 岩崎
Taketoshi Hoshizaki
武敏 星崎
Yasuhiro Yamaguchi
康浩 山口
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Fujifilm Business Innovation Corp
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Fuji Xerox Co Ltd
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrophotographic photoreceptor formed by successively laminating an undercoat layer and a charge generating layer on a conductive substrate and having superior electric characteristics and being freed of occurrence of problems at the time of forming laminate films and having wide freedom in designing of materials for the laminate films. SOLUTION: The undercoat layer is made of a copolymer comprising insulating parts and charge transferring parts, and it is preferred that this copolymer is made of a material hardly soluble in a solvent to be used for forming the photosensitive layer or this copolymer has a three-dimensional cross-linking structure and the charge transferring parts transfer a charge reverse to the charge transfer material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、積層成膜性が良
く、電気的特性に優れる、導電性基体と感光層を含む電
子写真用感光体に関する。また、本発明は、これら電子
写真感光体の製造方法に関する。さらに、本発明は、こ
れら電子写真感光体を用いた電子写真装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor including a conductive substrate and a photosensitive layer, which has excellent lamination film forming properties and excellent electrical characteristics. Further, the present invention relates to a method for producing such an electrophotographic photoreceptor. Further, the present invention relates to an electrophotographic apparatus using the electrophotographic photosensitive member.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子写真技術は、高速、高印字品
質が得られる等の利点を有するために、複写機、プリン
ター、ファクシミリ等の分野において、中心的役割を果
たしている。
2. Description of the Related Art In recent years, electrophotographic technology has played a central role in the fields of copiers, printers, facsimiles, and the like because of its advantages such as high speed and high printing quality.

【0003】現在、電子写真用有機感光体(OPC)に
おいて、光導電性の有機材料として種々の構造のものが
提案され、実用化されている。光導電性の有機材料は、
正孔輸送性のものと、電子輸送性のものとに大別できる
が、電荷輸送層に正孔輸送性の材料を使用し、これを電
荷発生層上に積層したマイナス帯電型のものが、実用化
されているOPCの大半を占めている。この場合、導電
性支持体上に直接光導電層を形成した場合、帯電性が低
く、また繰り返し時の電位の安定性に欠ける等の問題が
あった。また、導電性支持体と光導電層との接着性の不
足により光導電層が剥離したり、導電性支持体上に光導
電層を塗布する際に塗布欠陥が発生する等の問題もあっ
た。さらに、導電性支持体表面の凹凸により光導電層の
膜厚のむらを生じ、その結果として黒点、白抜けなどの
画像欠陥が発生する等の問題もあった。
At present, various organic photoconductors (OPCs) for electrophotography have been proposed and put into practical use as photoconductive organic materials. Photoconductive organic materials are
It can be roughly classified into a hole-transporting material and an electron-transporting material, and a negatively-charged type in which a hole-transporting material is used for the charge-transporting layer and this is laminated on the charge-generating layer, It accounts for the majority of OPCs that are in practical use. In this case, when the photoconductive layer is formed directly on the conductive support, there are problems such as low chargeability and lack of stability of potential upon repetition. In addition, there were also problems such as peeling of the photoconductive layer due to lack of adhesion between the conductive support and the photoconductive layer, and occurrence of coating defects when applying the photoconductive layer on the conductive support. . Furthermore, unevenness of the surface of the conductive support causes unevenness in the thickness of the photoconductive layer, and as a result, image defects such as black spots and white spots occur.

【0004】これらの問題を解決するための手段とし
て、導電性支持体と光導電層との間に下引き層を設ける
ことが試みられている。この下引き層を構成する材料と
しては、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルフォルマール、ポリビニルブチラール、ポリエス
テル、ポリアミド等の熱可塑性樹脂あるいはエポキシ樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等の
熱硬化性樹脂を用いることが検討されている(例えば、
特開昭48−47344号公報、特開昭52−2038
6号公報、特開昭58−30757号公報、特開昭60
−225856号公報等を参照のこと)。
As a means for solving these problems, an attempt has been made to provide an undercoat layer between a conductive support and a photoconductive layer. Examples of a material constituting the undercoat layer include thermoplastic resins such as polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyester, and polyamide, or thermosetting resins such as epoxy resin, melamine resin, urethane resin, and phenol resin. The use of resin is being considered (for example,
JP-A-48-47344, JP-A-52-2038
No. 6, JP-A-58-30757, JP-A-60-30
-225856, etc.).

【0005】これらの材料を主成分とする下引き層を用
いた場合、前述の帯電性や画像欠陥等に対する改善の効
果を十分に引き出すためには、下引き層の膜厚を厚くす
る必要がある。しかしながら、膜厚を厚くすると、感光
体の光感度の低下や残留電位の増大を招きやすいという
難点があった。
When an undercoat layer containing these materials as a main component is used, it is necessary to increase the thickness of the undercoat layer in order to sufficiently bring out the effects of improving the above-described chargeability and image defects. is there. However, when the film thickness is large, there is a problem that the photosensitivity of the photoconductor is easily reduced and the residual potential is easily increased.

【0006】また、金属アルコキシドや金属キレートな
どの有機金属化合物を主成分とする下引き層を用いる
と、光感度の低下や残留電位の増大を引き起こすことな
く帯電性の低下や画像欠陥などを抑制できることが知ら
れている(特公平3−66663号公報、特開昭59−
223439号公報等を参照のこと)。しかしながら、
これらの有機金属化合物を用いた下引き層は一般に、湿
度等の環境の影響を受けやすく、また塗液状態では化学
的に不安定なために比較的短期間で劣化するなどの問題
がある。
When an undercoat layer containing an organic metal compound such as a metal alkoxide or a metal chelate as a main component is used, a decrease in chargeability and image defects can be suppressed without causing a decrease in photosensitivity or an increase in residual potential. It is known that it is possible (Japanese Patent Publication No. 3-66663,
223439 and the like). However,
The undercoat layer using these organometallic compounds generally has a problem that it is easily affected by the environment such as humidity, and is deteriorated in a relatively short period of time because it is chemically unstable in a coating liquid state.

【0007】下引き層は、その要求される機能上、電子
輸送性であることが好ましく、十分な性能を有する電子
輸送性材料が得られれば、これらの問題を回避すること
が可能となると考えられる。一つのアプローチとして、
高分子樹脂中に特定の電子輸送性もしくは電子受容性の
低分子化合物を添加した下引き層を用いることが検討さ
れている(特開昭55−142356号公報、特開昭5
9−170846号公報等を参照のこと)。
[0007] The undercoat layer is preferably electron-transporting in terms of its required function. It is considered that these problems can be avoided if an electron-transporting material having sufficient performance can be obtained. Can be As one approach,
Use of an undercoat layer in which a specific electron-transporting or electron-accepting low-molecular compound is added to a polymer resin has been studied (JP-A-55-142356, JP-A-5-142356).
9-170846 and the like).

【0008】しかし、これらの低分子化合物は、有機溶
剤に溶解し易いものの場合、導電性支持体上に形成され
た下引き層の上に光導電層を塗布する工程において、上
層である光導電層中に浸出して下引き層中での濃度の低
下を起こすか、又はその逆に有機溶剤に溶解し難いもの
の場合には、下引き層中で結晶化を起こし易いため、目
的とする改善の効果を発現し難いという問題があった。
However, when these low molecular weight compounds are easily soluble in an organic solvent, in the step of coating the photoconductive layer on the undercoat layer formed on the conductive support, the photoconductive layer which is the upper layer is used. In the case of a substance that leaches out into the layer and causes a decrease in the concentration in the undercoat layer, or conversely, is difficult to dissolve in an organic solvent, crystallization easily occurs in the undercoat layer. There is a problem that it is difficult to exhibit the effect of the above.

【0009】また、電荷発生層と電荷輸送層の順序を逆
にして、プラス帯電用OPCとして使用することも検討
されているが、この場合には機械的強度の低い電荷発生
層が上層となるため、OPCの寿命を伸ばすためにオー
バーコートを形成する必要がある。この場合にも機能
上、電子輸送性であることが好ましいが、電子輸送性材
料は一般的に溶剤に溶解しにくく、かつ樹脂にも相溶し
にくいため、均一で、機械的強度の高い塗膜が得られに
くいという欠点があった。
It has also been considered that the order of the charge generation layer and the charge transport layer is reversed to be used as OPC for positive charging. In this case, however, the charge generation layer having low mechanical strength becomes the upper layer. Therefore, it is necessary to form an overcoat in order to extend the life of the OPC. In this case as well, it is preferable that the material is electron-transporting in terms of function. However, since the electron-transporting material is generally difficult to dissolve in a solvent and is hardly compatible with a resin, the coating is uniform and has high mechanical strength. There was a drawback that a film was difficult to obtain.

【0010】さらに、これを改良する方法として、電子
輸送性材料をポリマー化する試みもなされている(特開
昭52−12153、特開昭52−12154等を参照
のこと)が、他層との接着性、強度などの点で未だ十分
な性能のものは得られていないのが現状である。
Further, as a method of improving this, attempts have been made to polymerize an electron transporting material (see JP-A-52-12153 and JP-A-52-12154). At present, a material having sufficient performance in terms of adhesiveness, strength and the like has not yet been obtained.

【0011】逆に、電荷輸送層に電子輸送性の材料を使
用し、これを電荷発生層上に積層したプラス帯電型、ま
たは電荷発生層と輸送層の順序を逆にしたマイナス帯電
用OPCの場合、下引き層中の電荷輸送材料は正孔輸送
性であることが好ましいが、これらについてはほとんど
検討がなされていないのが現状である。
On the other hand, a positively charged type in which an electron transporting material is used for the charge transporting layer and laminated on the charge generating layer, or a negatively charged OPC in which the order of the charge generating layer and the transporting layer is reversed. In this case, it is preferable that the charge transporting material in the undercoat layer has a hole transporting property, but at present it has hardly been studied.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術に
おける上記のような事情に鑑みてなされたものであっ
て、電気的特性に優れ、積層成膜時に問題の発生がな
く、積層成膜の材料設計上の自由度が高い電子写真感光
体を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances in the prior art, and has excellent electrical characteristics, has no problem during lamination film formation, An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a high degree of freedom in material design.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電荷輸送
材料および高分子材料に関して鋭意検討を重ねた結果、
所望とする機能を有する複数の部分(ブロック)を共有
結合で連結させると云うブロック共重合化及び/又はグ
ラフト共重合化の手法により、電荷輸送性部分(ブロッ
ク)と絶縁性部分(ブロック)とを有してなる共重合体
が下引き層材料として優れた総合特性を有し、好適であ
ることを見いだし本発明を完成するに至った。この共重
合体を用いることにより、各機能を損ねることなく、多
機能を有する下引き層材料を得ることができる。
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies on charge transporting materials and polymer materials, and as a result,
A charge transporting portion (block) and an insulating portion (block) are formed by a block copolymerization and / or graft copolymerization technique in which a plurality of portions (blocks) having a desired function are connected by a covalent bond. Have been found to have excellent overall properties as an undercoat layer material and are suitable, and have completed the present invention. By using this copolymer, an underlayer material having multiple functions can be obtained without impairing each function.

【0014】即ち、本発明者らは、以下の<1>〜<2
1>の発明を見出した。 <1> 導電性基体上に下引き層、並びに該下引き層上
に電荷発生材料及び電荷輸送材料を含有する感光層を少
なくとも有する電子写真感光体であって、該下引き層の
材料が絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合体で
あり、該共重合体が、好ましくは該共重合体の絶縁性部
分が感光層を塗布する際に用いられる溶剤に難溶な材料
からなり、電荷輸送性部分が電荷輸送材料とは逆の電荷
を輸送する、電子写真感光体。
That is, the present inventors have the following <1> to <2>
1> Invention was found. <1> An electrophotographic photoreceptor having an undercoat layer on a conductive substrate, and at least a photosensitive layer containing a charge generation material and a charge transport material on the undercoat layer, wherein the material of the undercoat layer is insulating. A copolymer comprising a conductive portion and a charge transporting portion, wherein the copolymer preferably comprises a material in which the insulating portion of the copolymer is hardly soluble in the solvent used when applying the photosensitive layer. An electrophotographic photoreceptor wherein the charge transporting portion transports a charge opposite to that of the charge transporting material.

【0015】<2> 上記<1>の電子写真感光体にお
いて、絶縁性部分がカルボン酸を有するのがよい。 <3> 上記<1>の電子写真感光体において、絶縁性
部分を構成する鎖が無水マレイン酸骨格を有するのがよ
い。 <4> 上記<1>の電子写真感光体において、絶縁性
部分がフッ素原子を有するのがよい。
<2> In the electrophotographic photoreceptor of the above <1>, the insulating portion preferably has a carboxylic acid. <3> In the electrophotographic photoreceptor of the above item <1>, the chain constituting the insulating portion preferably has a maleic anhydride skeleton. <4> In the electrophotographic photosensitive member according to <1>, the insulating portion preferably has a fluorine atom.

【0016】<5> 導電性基体上に下引き層、並びに
該下引き層上に電荷発生材料及び電荷輸送材料を含有す
る感光層を少なくとも有する電子写真感光体であって、
該下引き層の材料が絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含
み且つ架橋構造を有する共重合体であり、電荷輸送性部
分が電荷輸送材料とは逆の電荷を輸送する、電子写真感
光体。
<5> An electrophotographic photoreceptor having at least a subbing layer on a conductive substrate and a photosensitive layer containing a charge generating material and a charge transporting material on the subbing layer,
An electrophotographic photoreceptor, wherein the material of the undercoat layer is a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion and having a crosslinked structure, wherein the charge transporting portion transports charges opposite to the charge transporting material. .

【0017】<6> 上記<5>の電子写真感光体にお
いて、架橋構造が、第1の共重合体の絶縁性部分と第2
の共重合体の絶縁性部分とを架橋してなる構造を含むの
がよい。第1の共重合体と第2の共重合体とは、同じで
あっても異なっていてもよい。 <7> 上記<5>又は<6>の電子写真感光体におい
て、共重合体は、架橋可能な官能基を介して架橋構造を
形成するのがよい。 <8> 上記<5>〜<7>の電子写真感光体におい
て、第1の絶縁性部分及び第2の絶縁性部分が官能基を
有し、該官能基の縮合反応により架橋構造が形成される
のがよい。
<6> In the electrophotographic photoreceptor according to the above <5>, the crosslinked structure comprises the insulating portion of the first copolymer and the second portion.
It is preferable to include a structure obtained by cross-linking the copolymer with the insulating portion. The first copolymer and the second copolymer may be the same or different. <7> In the electrophotographic photoreceptor of the above item <5> or <6>, the copolymer may form a crosslinked structure via a crosslinkable functional group. <8> In the electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items <5> to <7>, the first insulating portion and the second insulating portion have a functional group, and a crosslinked structure is formed by a condensation reaction of the functional group. Is good.

【0018】<9> 上記<5>〜<8>の電子写真感
光体において、絶縁性部分がヒドロキシ基を有し、多価
イソシアネート化合物を用いて共重合体が架橋されてい
るのがよい。 <10> 上記<5>〜<8>の電子写真感光体におい
て、絶縁性部分がアルコキシシリル基を有するのがよ
い。
<9> In the electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items <5> to <8>, the insulating portion preferably has a hydroxy group, and the copolymer is preferably crosslinked using a polyvalent isocyanate compound. <10> In the electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items <5> to <8>, the insulating portion preferably has an alkoxysilyl group.

【0019】<11> 上記<1>〜<10>の電子写
真感光体において、絶縁性部分が、ビニル系モノマー由
来の重合物を含むのがよい。 <12> 上記<11>の電子写真感光体において、ビ
ニル系モノマーが下記一般式(I−α)または(I−
β)で示される化合物の少なくとも1種を含有するのが
よい。
<11> In the electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items <1> to <10>, the insulating portion preferably contains a polymer derived from a vinyl monomer. <12> In the electrophotographic photoreceptor of the above item <11>, the vinyl monomer is represented by the following general formula (I-α) or (I-α).
It preferably contains at least one compound represented by β).

【0020】[0020]

【化3】 Embedded image

【0021】一般式(I−α)又は(I−β)中、R1
〜R3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置
換もしくは未置換のアルキル基、または置換もしくは未
置換のアリール基を示す。R4は、フッ素原子を含む炭
素数3以上の置換アルキル基、フッ素原子を含む炭素数
6以上の置換アリール基、フッ素原子を含む炭素数3以
上の置換アルキルオキシカルボニル基、フッ素原子を含
む炭素数3以上の置換アルキルオキシ基、環状もしくは
非環状のアミド基、環状もしくは非環状のシアノ基、置
換もしくは未置換のシアノアルキル基、置換もしくは未
置換のシアノアリール基、または置換もしくは未置換の
カルボン酸基を示す。Zは、酸素原子、または置換もし
くは未置換のイミノ基を示す。
In the general formula (I-α) or (I-β), R 1
To R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. R 4 is a substituted alkyl group having 3 or more carbon atoms containing a fluorine atom, a substituted aryl group having 6 or more carbon atoms containing a fluorine atom, a substituted alkyloxycarbonyl group having 3 or more carbon atoms containing a fluorine atom, and a carbon atom containing a fluorine atom. A substituted or unsubstituted cyanoalkyl group, a substituted or unsubstituted cyanoaryl group, or a substituted or unsubstituted carboxyl group; Shows an acid group. Z represents an oxygen atom or a substituted or unsubstituted imino group.

【0022】<13> ビニル系モノマーが下記一般式
(II)で示される化合物の少なくとも1種、および下
記一般式(III)で示される架橋可能な官能基を有す
る化合物の少なくとも1種を含有する<11>記載の電
子写真感光体。
<13> The vinyl monomer contains at least one kind of a compound represented by the following formula (II) and at least one kind of a compound having a crosslinkable functional group represented by the following formula (III): The electrophotographic photosensitive member according to <11>.

【0023】[0023]

【化4】 Embedded image

【0024】一般式(II)中、R11〜R13はそれぞれ
独立に水素原子、ハロゲン原子、または置換もしくは未
置換のアルキル基またはアリール基を示し、R14はハロ
ゲン原子、または置換もしくは未置換のアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、
またはアルコキシカルボニル基を示す。また、一般式
(III)中、R15〜R17はそれぞれ独立に水素原子、
ハロゲン原子、または置換もしくは未置換のアルキル基
またはアリール基を示し、R18はクロルスルホン基、カ
ルボキシル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ニトリル
基、イソシアナート基、アミノ基、エポキシ基もしくは
アルコキシシリル基で置換された置換アルキル基、置換
アリール基、置換アルコキシ基、置換アシル基、置換ア
シルオキシ基、または置換アルコキシカルボニル基を示
す。
In the general formula (II), R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group, and R 14 represents a halogen atom, or a substituted or unsubstituted group. Alkyl group, aryl group, alkoxy group, acyl group, acyloxy group,
Or an alkoxycarbonyl group. In the general formula (III), R 15 to R 17 each independently represent a hydrogen atom,
A halogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group; R 18 is a chlorosulfone group, a carboxyl group, a hydroxy group, a mercapto group, a nitrile group, an isocyanate group, an amino group, an epoxy group or an alkoxysilyl group; A substituted alkyl group, substituted aryl group, substituted alkoxy group, substituted acyl group, substituted acyloxy group, or substituted alkoxycarbonyl group is shown.

【0025】<14> 上記<1>〜<13>の電子写
真感光体において、共重合体がブロック共重合体及び/
又はグラフト共重合体であるのがよい。 <15> 上記<1>〜<14>の電子写真感光体にお
いて、電荷輸送性部分が、トリアリールアミン構造を含
む繰返し単位を含むのがよい。 <16> 上記<15>の電子写真感光体において、ト
リアリールアミン構造が、下記一般式(IV)で示され
る構造を含むのがよい。
<14> In the electrophotographic photosensitive member of <1> to <13>, the copolymer is a block copolymer and / or
Or it is good to be a graft copolymer. <15> In the electrophotographic photosensitive member according to any one of the above items <1> to <14>, the charge transporting portion preferably contains a repeating unit containing a triarylamine structure. <16> In the electrophotographic photoreceptor of the above item <15>, the triarylamine structure preferably includes a structure represented by the following general formula (IV).

【0026】[0026]

【化5】 Embedded image

【0027】一般式(IV)中、Ar1及びAr2はそれ
ぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、X1
芳香族環構造を有する2価の炭化水素基またはヘテロ原
子含有炭化水素基を示し、X2及びX3はそれぞれ独立に
置換又は未置換のアリーレン基を示し、L1は分枝又は
環構造を含んでもよい2価の炭化水素基又はヘテロ原子
含有炭化水素基を示し、m及びnは、それぞれ0または
1から選ばれる整数を意味する。
In the general formula (IV), Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, and X 1 represents a divalent hydrocarbon group having an aromatic ring structure or a hetero atom-containing hydrocarbon. X 2 and X 3 each independently represent a substituted or unsubstituted arylene group; L 1 represents a divalent hydrocarbon group or a hetero atom-containing hydrocarbon group which may have a branched or ring structure; , M and n each represent an integer selected from 0 or 1.

【0028】<17> 上記<16>の電子写真感光体
において、前記一般式(IV)のX 1が、置換又は未置
換のビフェニレン基であるのがよい。 <18> 上記<15>の電子写真感光体において、ト
リアリールアミン構造を有する電荷輸送性部分が、下記
一般式(V)で示される構造の少なくとも1種を繰り返
し単位として有するのがよい。
<17> The electrophotographic photosensitive member according to <16> above
In the above, X of the above general formula (IV) 1Is replaced or unplaced
It may be a substituted biphenylene group. <18> The electrophotographic photosensitive member according to <15>, wherein
The charge transporting moiety having a riarylamine structure is as follows:
Repeating at least one of the structures represented by the general formula (V)
It is good to have as a unit.

【0029】[0029]

【化6】 Embedded image

【0030】一般式(V)中、Ar3及びAr4はそれぞ
れ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、L2は芳
香族環構造を有する3価の炭化水素基またはヘテロ原子
含有炭化水素基を示す。
In the general formula (V), Ar 3 and Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, and L 2 represents a trivalent hydrocarbon group having an aromatic ring structure or a heteroatom-containing hydrocarbon. Represents a group.

【0031】<19> 上記<1>〜<18>の電子写
真感光体を有する電子写真装置。 <20> 絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合
体を含有する塗工液を調製する工程、該塗工液を導電性
基体上に塗布して下引き層を調製する工程、及び該下引
き層調製工程後に電荷発生材料及び/又は電荷輸送材料
を含有する感光層を前記下引き層上に湿式塗布法により
調製する工程を有する電子写真感光体の製造方法。
<19> An electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member according to <1> to <18>. <20> a step of preparing a coating liquid containing a copolymer containing an insulating part and a charge transporting part, a step of applying the coating liquid on a conductive substrate to prepare an undercoat layer, and A method for producing an electrophotographic photoreceptor, comprising a step of preparing a photosensitive layer containing a charge generation material and / or a charge transport material on the undercoat layer by a wet coating method after the undercoat layer preparation step.

【0032】<21> 絶縁性部分と電荷輸送性部分と
を含み且つ架橋可能な官能基を有する共重合体を含有す
る塗工液を調製する工程、該塗工液を導電性基体上に塗
布する工程、該塗布工程後又は塗布工程中に前記共重合
体を架橋させて下引き層を調製する工程、及び該下引き
層調製工程後に電荷発生材料及び/又は電荷輸送材料を
含有する感光層を前記下引き層上に湿式塗布法により調
製する工程を有する電子写真感光体の製造方法。
<21> A step of preparing a coating solution containing a copolymer having an insulating portion and a charge transporting portion and having a crosslinkable functional group, and coating the coating solution on a conductive substrate Preparing the undercoat layer by crosslinking the copolymer after or during the coating step, and a photosensitive layer containing a charge generating material and / or a charge transport material after the undercoat layer preparing step. A method for producing an electrophotographic photoreceptor, comprising the step of: preparing on the undercoat layer by a wet coating method.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の電子写真感光体は、導電性基体、該導電
性基体上に下引き層、該下引き層上に感光層を少なくと
も有する。感光層は、電荷発生材料及び電荷輸送材料を
含有すればいかなる構造を採ってもよく、例えば単層型
であっても積層型であっても他の構造であってもよい。
この感光層上にさらに表面保護層を設けてもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The electrophotographic photoreceptor of the present invention has a conductive substrate, an undercoat layer on the conductive substrate, and at least a photosensitive layer on the undercoat layer. The photosensitive layer may have any structure as long as it contains a charge generating material and a charge transporting material. For example, the photosensitive layer may have a single-layer structure, a stacked structure, or another structure.
A surface protective layer may be further provided on this photosensitive layer.

【0034】本発明の電子写真感光体の構成を、図を用
いて説明すると以下のようになる。図1及び図2は本発
明の電子写真用感光体の断面を示す模式図である。図1
において、導電性基体1上に共重合体を含む下引き層
2、さらに下引き層2上に電荷発生材料及び電荷輸送材
料を含む感光層3が設けられている。図2においては、
感光層3上に表面保護層8がさらに設けられている。
The structure of the electrophotographic photosensitive member of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 are schematic views showing a cross section of the electrophotographic photosensitive member of the present invention. FIG.
1, an undercoat layer 2 containing a copolymer is provided on a conductive substrate 1, and a photosensitive layer 3 containing a charge generation material and a charge transport material is further provided on the undercoat layer 2. In FIG.
A surface protective layer 8 is further provided on the photosensitive layer 3.

【0035】図3及び図4は、本発明の他の形態の電子
写真用感光体の断面を示す模式図である。図3におい
て、導電性基体1上に共重合体を含む下引き層2が設け
られ、さらに下引き層2上に電荷発生層4と電荷輸送層
5とからなる感光層3が設けられている。図4におい
て、表面保護層8がさらに設けられている。
FIGS. 3 and 4 are schematic views showing a cross section of an electrophotographic photosensitive member according to another embodiment of the present invention. In FIG. 3, an undercoat layer 2 containing a copolymer is provided on a conductive substrate 1, and a photosensitive layer 3 including a charge generation layer 4 and a charge transport layer 5 is provided on the undercoat layer 2. . In FIG. 4, a surface protective layer 8 is further provided.

【0036】図5及び図6は、本発明の他の形態の電子
写真用感光体の断面を示す模式図である。図5において
は、導電性基体1上に、共重合体を含む下引き層2が設
けられ、その上に電荷発生層4が設けられ、第一の電荷
輸送層6と第二の電荷輸送層7が設けられている。感光
層3は、これらの電荷発生層4、第一の電荷輸送層6及
び第二の電荷輸送層7からなっている。図6において
は、表面保護層8がさらに設けられている。
FIGS. 5 and 6 are schematic views showing a cross section of an electrophotographic photosensitive member according to another embodiment of the present invention. In FIG. 5, an undercoat layer 2 containing a copolymer is provided on a conductive substrate 1, a charge generation layer 4 is provided thereon, and a first charge transport layer 6 and a second charge transport layer 7 are provided. The photosensitive layer 3 includes the charge generation layer 4, the first charge transport layer 6, and the second charge transport layer 7. In FIG. 6, a surface protection layer 8 is further provided.

【0037】以下、導電性基体から順に説明する。本発
明で用いることができる導電性基体は、不透明であって
も実質的に透明であってもよい。
Hereinafter, the conductive substrate will be described in order. The conductive substrate that can be used in the present invention may be opaque or substantially transparent.

【0038】導電性基体の例として、アルミニウム、ニ
ッケル、クロム、及びステンレス鋼等の金属類;アルミ
ニウム、チタン、ニッケル、クロム、ステンレス、金、
バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、及びITO等の
薄膜を設けたプラスチックフィルム及びガラス等;並び
に導電性付与剤を塗布または含浸させた紙、プラスチッ
クフィルムおよびガラス等があげられる。
Examples of the conductive substrate include metals such as aluminum, nickel, chromium, and stainless steel; aluminum, titanium, nickel, chromium, stainless steel, gold,
Plastic films and glasses provided with thin films such as vanadium, tin oxide, indium oxide, and ITO; and papers, plastic films and glasses coated or impregnated with a conductivity-imparting agent.

【0039】これらの導電性基体は、ドラム状、シート
状、プレート状等、適宜の形状で用いることができる
が、これらに限定されるものではない。さらに、必要に
応じて、画質に影響のない範囲で、導電性基体の表面に
対して、各種の処理を行うことができる。例えば、表面
の酸化処理や薬品処理、および着色処理等、または砂目
立てなどの乱反射処理等を行うことができる。
These conductive substrates can be used in an appropriate shape such as a drum shape, a sheet shape, and a plate shape, but are not limited thereto. Further, if necessary, various kinds of processing can be performed on the surface of the conductive substrate within a range that does not affect the image quality. For example, surface oxidation treatment, chemical treatment, coloring treatment, or irregular reflection treatment such as graining can be performed.

【0040】本発明電子写真感光体は、上記導電性基体
上に下引き層を、さらに、この下引き層上に感光層を設
けてなる。この下引き層上に感光層を設ける際、感光層
の材料を溶媒に分散又は溶解して下引き層上に塗布す
る。本発明において、下引き層の材料がこの溶媒によっ
て溶出もしくは溶解又は浸出しないようにするために、
この材料は絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合
体からなるものとした。
The electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises an undercoat layer on the conductive substrate, and a photosensitive layer on the undercoat layer. When the photosensitive layer is provided on the undercoat layer, the material of the photosensitive layer is dispersed or dissolved in a solvent and applied onto the undercoat layer. In the present invention, in order to prevent the material of the undercoat layer from being eluted or dissolved or leached by the solvent,
This material was made of a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion.

【0041】特に、本発明の第1の面として、共重合体
に、好ましくは該共重合体の絶縁性部分に、感光層材料
の溶媒に対する難溶性を持たせることとした。また、本
発明の第二の面として、共重合体が架橋構造を有するこ
とにより感光層材料の溶媒に対する難溶性を共重合体全
体に持たせることとした。
In particular, as a first aspect of the present invention, the copolymer, preferably the insulating portion of the copolymer, is made to have poor solubility in the solvent of the photosensitive layer material. Also, as a second aspect of the present invention, the copolymer has a cross-linked structure so that the entire copolymer has poor solubility in a solvent of the photosensitive layer material.

【0042】本発明において、共重合体は、絶縁性部分
及び電荷輸送性部分を有するブロック共重合体及び/又
はグラフト共重合体であるのがよい。本明細書におい
て、絶縁性『部分』および電荷輸送性『部分』における
『部分』とは、ブロック共重合体の各「ブロック」、及
びグラフト共重合体の主鎖「部」もしくは分枝「部」を
包含する意味である。
In the present invention, the copolymer is preferably a block copolymer and / or a graft copolymer having an insulating portion and a charge transporting portion. In the present specification, the “portion” in the insulating “portion” and the charge transporting “portion” refers to each “block” of the block copolymer, and the main chain “portion” or branched “portion” of the graft copolymer. Is included.

【0043】また、共重合体は、その各部分の連結形式
がいかなる形式であってもよい。即ち、電荷輸送性部分
をA、絶縁性部分をBとして、AB型、ABA型、BA
B型、(AB)n型、(AB)nA型、およびB(AB)
n型のブロック共重合体、電荷輸送性部分を主鎖、絶縁
性部分を側鎖とするグラフト共重合体、絶縁性部分を主
鎖、電荷輸送性部分を側鎖とするグラフト共重合体、も
しくはABA型等のブロック共重合体の側鎖にAおよび
/またはBをグラフト化したブロック-グラフト共重合
体等が挙げられる。
The copolymer may be connected in any form. That is, assuming that the charge transporting portion is A and the insulating portion is B, AB type, ABA type, BA
Type B, (AB) n type, (AB) n type A, and B (AB)
an n- type block copolymer, a charge-transporting portion having a main chain, a graft copolymer having an insulating portion as a side chain, an insulating portion having a main chain, a graft copolymer having a charge-transporting portion as a side chain, Alternatively, a block-graft copolymer obtained by grafting A and / or B to a side chain of a block copolymer such as an ABA type copolymer may be used.

【0044】ポリマーブレンド、ポリマーアロイの分野
でよく知られているように、一般に、異なる高分子は互
いに非相溶であり、それらの混合物およびブロック共重
合体またはグラフト共重合体は相分離状態を取る。一般
に、単なる混合物、すなわち、ポリマーブレンドではそ
の相分離のスケールは数μm以上のマクロなものとなる
(マクロ相分離)。これに対して、各成分が共有結合で
連結されたブロック共重合体およびグラフト共重合体
は、サブミクロン以下の微細なドメインからなる相分離
状態を与える(ミクロ相分離)。ブロック共重合体およ
びグラフト共重合体における相分離のスケールは、一般
的に各ブロックの平均長と同一次元であり、分子量にほ
ぼ比例することが知られている。本発明に用いる共重合
体も、一般的にミクロ相分離状態を取る。しかしなが
ら、本発明の共重合体は、必ずともミクロ相分離状態を
取るものばかりではなく、各ブロックの組合せによって
は、相溶性を示し、相分離を起こさないものもある。
As is well known in the field of polymer blends and polymer alloys, different polymers are generally incompatible with each other, and their mixtures and block copolymers or graft copolymers have a phase-separated state. take. Generally, in a mere mixture, that is, a polymer blend, the phase separation scale is macroscopic to several μm or more (macrophase separation). On the other hand, the block copolymer and the graft copolymer in which each component is connected by a covalent bond give a phase separation state composed of fine domains of submicron or less (microphase separation). It is known that the scale of phase separation in block copolymers and graft copolymers is generally the same dimension as the average length of each block, and is approximately proportional to the molecular weight. The copolymer used in the present invention also generally takes a microphase separated state. However, the copolymer of the present invention does not always take a microphase-separated state, and some copolymers exhibit compatibility and do not cause phase separation depending on the combination of each block.

【0045】一般的に、相分離性ブロックまたはグラフ
ト共重合体における相分離状態は構成ブロックの種類、
分子量、および両ブロックの組成比等により、熱力学的
に最も安定な構造が存在する。Aブロック及びBブロッ
クからなる共重合体では、連結形式には依らず、A/B
組成比にのみ依存する。A/B比の増加に伴い、Aが球
状ドメインでBがマトリックス、Aが棒状ドメインでB
がマトリックス、A/B交互層、Bが棒状ドメインでA
がマトリックス、Bが球状ドメインでAがマトリックス
へと系統的に変化する。但し、湿式塗布法により成膜す
る場合には、用いる溶媒および乾燥速度等により、相分
離状態を任意に制御することができる。例えば、A/B
比が大きく熱力学的にはBが球状ドメインでありAがマ
トリックスである構造を取る場合であっても、塗布溶媒
として、Bの良溶媒でありかつAの貧溶媒である溶媒を
選択すれば、Aが球状ドメインでありBがマトリックス
である構造を得ることができる。また、A、B両者の良
溶媒を用い、急速に溶媒を除去すると、スピノーダル分
解状態で凍結した相分離構造(変調構造)を得ることが
できる。また、A/B比が大きく熱力学的にはBが球状
ドメインでありAがマトリックスである構造を取る共重
合体に、Bのみと相溶性のある重合体を添加すると、そ
の添加量が増加するに伴い、B球が肥大化し、最終的に
は、Aが球状ドメインであり、BおよびBのみと相溶性
のある重合体がマトリックスとなる相分離構造を与え
る。
In general, the phase separation state in a phase-separable block or a graft copolymer depends on the type of constituent blocks,
The most thermodynamically stable structure exists depending on the molecular weight, the composition ratio of both blocks, and the like. In the copolymer consisting of A block and B block, A / B
It depends only on the composition ratio. As the A / B ratio increases, A is a spherical domain and B is a matrix, A is a rod-shaped domain and B
Is matrix, A / B alternating layer, B is rod-shaped domain, A
Is a matrix, B is a spherical domain and A is systematically changed to a matrix. However, when a film is formed by a wet coating method, the phase separation state can be arbitrarily controlled depending on the solvent used, the drying speed, and the like. For example, A / B
Even when the ratio is large and thermodynamically, B has a spherical domain and A has a matrix structure, if a solvent that is a good solvent for B and a poor solvent for A is selected as a coating solvent, , A is a spherical domain and B is a matrix. When a good solvent for both A and B is used and the solvent is rapidly removed, a phase-separated structure (modulated structure) frozen in a spinodal decomposition state can be obtained. Further, when a polymer having a large A / B ratio and having a structure in which B is a spherical domain and A is a matrix is thermodynamically added with a polymer compatible only with B, the amount of addition increases. As a result, the B spheres enlarge, and finally, a phase-separated structure in which A is a globular domain, and a polymer compatible with B and B alone becomes a matrix.

【0046】本明細書において『絶縁性』とは、その輸
送エネルギーレベルが、主たる輸送電荷の輸送エネルギ
ーレベルから大きくかけ離れており、通常の電界強度で
は、実質的に輸送電荷が注入されることがなく、主たる
電荷にとって事実上の電気的絶縁状態にあることを意味
する。
In this specification, the term "insulating" means that the transport energy level is far from the transport energy level of the main transport charge, and that the transport charge is substantially injected at the ordinary electric field strength. Rather, it is effectively in an electrically insulating state for the main charge.

【0047】本発明の共重合体中の絶縁性部分の抵抗値
としては、1013ohm・cm以上が好ましく、特に1014
ohm・cm以上であるのが好ましい。絶縁性部分の抵
抗値が低くなると、絶縁性部分中に輸送電荷が侵入し、
残留電位の上昇、繰り返し安定性の低下などの障害が起
こる。なお、共重合体中の絶縁性部分の電気抵抗率を、
直接測定することは困難である。そのため、共重合体中
の絶縁性部分の抵抗値は、対象となっている絶縁性部分
と同一構造の高分子の電気抵抗率で代用することができ
る。
The resistance of the insulating portion in the copolymer of the present invention is preferably 10 13 ohm · cm or more, particularly 10 14 ohm · cm.
It is preferably at least ohm · cm. When the resistance value of the insulating portion decreases, transport charges penetrate into the insulating portion,
Problems such as an increase in residual potential and a decrease in repetition stability occur. Incidentally, the electrical resistivity of the insulating portion in the copolymer,
It is difficult to measure directly. Therefore, the resistance of the insulating portion in the copolymer can be substituted by the electric resistivity of a polymer having the same structure as the insulating portion to be treated.

【0048】また、本明細書において、『電荷輸送性』
とは、まわりの電界強度によって輸送電荷が注入できる
状態を意味する。下引き層の共重合体の電荷輸送性部分
は、下引き層の上層である感光層にある電荷輸送材料と
は逆の電荷を輸送するのがよい。本発明の共重合体中の
電荷輸送性部分の電荷移動度は、電子写真感光体の応答
速度を支配する一因子であり、移動度が高いほどのもの
ほど良い。したがって、これらの移動度の高いものは、
露光から現像までの時間の短い高速型、または小型の電
子写真装置に、好適に用いられる。本発明の電子写真装
置においては、少なくとも現像に用いる電界強度域にお
いて、10-8cm2/Vs以上であることが好ましい。よ
り好ましくは10-7cm2/Vs以上である。尚、電荷輸
送性部分の電荷移動度を、直接測定することは困難であ
る。そのため、電荷輸送性部分の電荷移動度は、対象と
なっている電荷輸送性部分と同一構造の電荷輸送性高分
子の電荷移動度で代用することができる。移動度の測定
は、当業界における常法である、Time−of−Fl
ight法により行うことができ、電界強度5V/μm
での値で代表される。
In this specification, the term “charge transporting property” is used.
Means a state in which transport charges can be injected by the intensity of the surrounding electric field. The charge transporting portion of the copolymer of the undercoating layer preferably transports charges opposite to the charge transporting material in the photosensitive layer which is the upper layer of the undercoating layer. The charge mobility of the charge transporting portion in the copolymer of the present invention is one factor that governs the response speed of the electrophotographic photoreceptor, and the higher the mobility, the better. Therefore, these high mobility ones
It is suitably used for a high-speed or small electrophotographic apparatus having a short time from exposure to development. In the electrophotographic apparatus of the present invention, it is preferably 10 -8 cm 2 / Vs or more at least in an electric field intensity range used for development. More preferably, it is at least 10 −7 cm 2 / Vs. Incidentally, it is difficult to directly measure the charge mobility of the charge transporting portion. Therefore, the charge mobility of the charge transporting portion can be replaced by the charge mobility of the charge transporting polymer having the same structure as the target charge transporting portion. Mobility measurement is a common practice in the industry, Time-of-Fl
It can be performed by the light method, and the electric field strength is 5 V / μm
Is represented by the value of

【0049】以下、本発明の第一の面及び第二の面につ
いて詳細に説明する。まず、本発明の第一の面について
説明する。本発明の第一の面において、下引き層の材料
として、絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合体
であって該共重合体が、好ましくは該共重合体の絶縁性
部分が、感光層を塗布する際に使用する溶媒に難溶であ
る共重合体を用いる。この共重合体を用いることによ
り、電荷輸送性部分の機能を損なうことなく、感光層を
塗布する際に用いる溶媒への耐性を高めることができ
る。
Hereinafter, the first and second aspects of the present invention will be described in detail. First, the first aspect of the present invention will be described. In the first aspect of the present invention, the material of the undercoat layer is a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion, wherein the copolymer is preferably an insulating portion of the copolymer. A copolymer that is hardly soluble in a solvent used for coating the photosensitive layer is used. By using this copolymer, the resistance to the solvent used when applying the photosensitive layer can be increased without impairing the function of the charge transporting portion.

【0050】本明細書において『感光層を塗布する際に
使用する溶媒に難溶』とは、感光層を塗布する際に使用
する特定の溶媒に対して溶解しにくいということであ
り、その他の溶媒には溶解してもよい。感光層に塗布す
る際に使用する溶媒については、後述する。
In the present specification, "slightly soluble in a solvent used for coating the photosensitive layer" means that it is hardly soluble in a specific solvent used for coating the photosensitive layer. It may be dissolved in a solvent. The solvent used for coating the photosensitive layer will be described later.

【0051】本発明の共重合体、好ましくは該共重合体
の絶縁性部分は、感光層を塗布する際に使用する溶媒に
対して難溶性を示す基を有する。この難溶性を示す基と
して、感光層を塗布する際に使用する溶媒に対して難溶
性を示すものであれば如何なるものでも構わない。例え
ば、フッ素原子、アミド基、シアノ基、カルボン酸基、
並びに酸無水物構造を持つもの及び酸アミド構造を持つ
もの等が挙げられる。これら難溶性を示す基は、電荷輸
送性部分と絶縁性部分の双方またはどちらかに一方に存
在していればよいが、好ましくは主として絶縁性部分中
に、特に好ましくは絶縁性部分中にのみ存在している方
が、電荷輸送性部分によって形成される電荷輸送性への
影響を与えにくく、電気特性上有利である。
The copolymer of the present invention, preferably, the insulating portion of the copolymer has a group that is hardly soluble in the solvent used when coating the photosensitive layer. Any group which exhibits poor solubility in a solvent used for coating the photosensitive layer may be used as the group exhibiting poor solubility. For example, a fluorine atom, an amide group, a cyano group, a carboxylic acid group,
And those having an acid anhydride structure and those having an acid amide structure. These poorly soluble groups may be present in one or both of the charge transporting portion and the insulating portion, but are preferably present mainly in the insulating portion, particularly preferably only in the insulating portion. The presence thereof is less likely to affect the charge transporting property formed by the charge transporting portion, and is advantageous in electrical characteristics.

【0052】難溶性基がカルボン酸基もしくはフッ素原
子、又は無水マレイン酸骨格が主鎖部として含まれるも
のである場合が特に好ましい。これら極性基は、極性基
を含む溶剤以外には溶けにくいため、上層である感光層
を塗布する際に好ましく用いることができる。また、機
械的強度、電気特性の面も優れた特性を示す。
It is particularly preferable that the hardly soluble group contains a carboxylic acid group or a fluorine atom or a maleic anhydride skeleton as a main chain. Since these polar groups are hardly soluble in solvents other than the solvent containing the polar groups, they can be preferably used when applying the upper photosensitive layer. In addition, mechanical strength and electrical properties are also excellent.

【0053】本発明に用いる難溶性基は、上述のよう
に、電荷輸送性部分と絶縁性部分の両方、またはどちら
か一方に含まれていればよい。絶縁性部分が難溶性基を
有する場合、絶縁性部分は、難溶性基を有する繰り返し
単位を重合した部分と難溶性基を有しない繰り返し単位
を重合した部分より形成されていてもよい。また、絶縁
性部分が難溶性基を有する繰り返し単位を重合した部分
のみで形成されていてもよい。
As described above, the poorly soluble group used in the present invention only needs to be contained in the charge transporting portion and / or the insulating portion. When the insulating portion has a poorly soluble group, the insulating portion may be formed of a portion obtained by polymerizing a repeating unit having a hardly soluble group and a portion obtained by polymerizing a repeating unit having no hardly soluble group. Further, the insulating portion may be formed only of a portion obtained by polymerizing a repeating unit having a poorly soluble group.

【0054】特に、難溶性基が絶縁性部分のみに存在す
る場合、(絶縁性部分中の難溶性基を有する繰り返し単
位):(難溶性基を有しない繰り返し単位)の組成比
は、1:20〜10:1の範囲が好ましく、1:5〜
3:1の範囲がより好ましい。難溶性基を有する繰り返
し単位の組成比が高すぎると、得られる下引き層が脆く
なる傾向にあり、難溶性基を有する繰り返し単位の組成
比が低すぎると、得られる下引き層の機械的強度が悪化
する傾向にある。
In particular, when the hardly soluble group is present only in the insulating portion, the composition ratio of (a repeating unit having a hardly soluble group in the insulating portion) :( a repeating unit having no hardly soluble group) is 1: 1. A range of 20 to 10: 1 is preferable, and a range of 1: 5
A range of 3: 1 is more preferred. If the composition ratio of the repeating unit having a poorly soluble group is too high, the resulting undercoat layer tends to be brittle, and if the composition ratio of the repeating unit having a poorly soluble group is too low, the mechanical properties of the obtained undercoat layer are low. The strength tends to deteriorate.

【0055】本発明の共重合体は、電荷輸送性部分と絶
縁性部分よりなるブロック共重合体及び/またはグラフ
ト共重合体の電荷輸送性部分または絶縁性部分の生成の
際に、難溶性基を有する繰り返し単位を各部分中にラン
ダム共重合、または、ブロック共重合させることによっ
て得られる。また、難溶性基を持たない電荷輸送性部分
と絶縁性部分よりなるブロック共重合体及び/またはグ
ラフト共重合体に、難溶性基を生成させても得ることが
できる。
The copolymer of the present invention can be used to form a block copolymer and / or a graft copolymer comprising a charge transporting portion and an insulating portion. Can be obtained by random copolymerization or block copolymerization of a repeating unit having the formula: Further, it can also be obtained by generating a hardly soluble group in a block copolymer and / or a graft copolymer comprising a charge transporting portion having no hardly soluble group and an insulating portion.

【0056】本発明の共重合体中の絶縁性部分として、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ポ
リスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン
等、如何なるものでも構わないが、機械的強度、可撓
性、可視光および赤外光透過性、化学的安定性、絶縁性
等の点で、ビニル系モノマーの重合物からなることが好
ましい。
As the insulating portion in the copolymer of the present invention,
Any material such as polycarbonate, polyarylate, polyester, polysulfone, polymethyl methacrylate, and polyurethane may be used, but the mechanical strength, flexibility, visible light and infrared light transmittance, chemical stability, insulation, etc. And preferably a polymer of a vinyl monomer.

【0057】特に、ビニル系モノマーとして、下記一般
式(I−α)または(I−β)で示される化合物の少な
くとも1種を重合して得られるものを用いるのが好まし
い。さらに、下記一般式(II)で示されるビニルモノ
マーと、下記一般式(I−α)または(I−β)で示さ
れるビニルモノマーの少なくとも1種とを共重合して得
られるものを用いるのが好ましい。
In particular, it is preferable to use, as the vinyl monomer, a monomer obtained by polymerizing at least one compound represented by the following formula (I-α) or (I-β). Further, a product obtained by copolymerizing a vinyl monomer represented by the following general formula (II) and at least one vinyl monomer represented by the following general formula (I-α) or (I-β) is used. Is preferred.

【0058】[0058]

【化7】 Embedded image

【0059】上記一般式(I−α)または(I−β)
中、R1〜R3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、または置換もし
くは未置換のアリール基から選ばれる。置換もしくは未
置換のアルキル基またはアリール基の具体例としては、
メチル基、エチル基、メトキシ基、クロロメチル基、フ
ェニル基、トリル基等が挙げられる。
Formula (I-α) or (I-β)
Wherein R 1 to R 3 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group include
Examples include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a chloromethyl group, a phenyl group, and a tolyl group.

【0060】上記一般式(I−β)中、R4は、少なく
とも1つのフッ素原子を含む炭素数3以上の置換アルキ
ル基、少なくとも1つのフッ素原子を含む炭素数6以上
の置換アリール基、少なくとも1つのフッ素原子を含む
炭素数3以上の置換アルキルオキシカルボニル基、少な
くとも1つのフッ素原子を含む炭素数3以上の置換アル
キルオキシ基、環状もしくは非環状のアミド基、環状も
しくは非環状のシアノ基、置換もしくは未置換のシアノ
アルキル基、置換もしくは未置換のシアノアリール基、
または置換もしくは未置換のカルボン酸基から選ばれ
る。上記の置換アルキル基として、分枝鎖又は環構造を
含んでも良く、炭素数が1〜20個のものが好ましい。
また、上記の置換アリール基として、フェニル基、ナフ
チル基、ピレニル等が挙げられる。Zは、酸素原子、ま
たは置換もしくは未置換のイミノ基から選ばれる。
In the above general formula (I-β), R 4 is a substituted alkyl group having 3 or more carbon atoms containing at least one fluorine atom, a substituted aryl group having 6 or more carbon atoms containing at least one fluorine atom, A substituted alkyloxycarbonyl group having 3 or more carbon atoms containing one fluorine atom, a substituted alkyloxy group having 3 or more carbon atoms containing at least one fluorine atom, a cyclic or acyclic amide group, a cyclic or acyclic cyano group, A substituted or unsubstituted cyanoalkyl group, a substituted or unsubstituted cyanoaryl group,
Alternatively, it is selected from a substituted or unsubstituted carboxylic acid group. The above substituted alkyl group may have a branched chain or a ring structure, and preferably has 1 to 20 carbon atoms.
Examples of the substituted aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and pyrenyl. Z is selected from an oxygen atom or a substituted or unsubstituted imino group.

【0061】[0061]

【化8】 Embedded image

【0062】上記一般式(VI)中、R5〜R7は、それ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置
換のアルキル基または置換もしくは未置換のアリール基
から選ばれる。置換もしくは未置換のアルキル基または
アリール基の具体例として、メチル基、エチル基、メト
キシ基、クロロメチル基、フェニル基、トリル基等が挙
げられる。
In the general formula (VI), R 5 to R 7 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of the substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a chloromethyl group, a phenyl group, a tolyl group, and the like.

【0063】上記一般式(VI)中、R8は、ハロゲン
原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは
未置換のアリール基、置換もしくは未置換のアルコキシ
基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしく
は未置換のアシル基、置換もしくは未置換のアシルオキ
シ基、または置換もしくは未置換のアルコキシカルボニ
ル基から選ばれる。アルキル基、アルコキシ基、アルコ
キシル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキ
シカルボニル基の炭素数は1〜18個が好ましい。ま
た、アリール基として、フェニル基、ナフチル基、ピレ
ニル等を挙げることができる。
In the above general formula (VI), R 8 represents a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, It is selected from a substituted or unsubstituted acyl group, a substituted or unsubstituted acyloxy group, and a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group. The alkyl group, alkoxy group, alkoxyl group, acyl group, acyloxy group, and alkoxycarbonyl group preferably have 1 to 18 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and pyrenyl.

【0064】本発明の第1の面において、絶縁性部分中
に繰返し単位として含有する、上記一般式(I−α)及
び(I−β)で表される具体例を、下記の表1及び表2
に示す。また、一般式(VI)で表される具体例を、下
記表3に示す。これらの例は、単に具体的に挙げたもの
であり、これらの例に限定されるものではない。
In the first aspect of the present invention, specific examples represented by the above general formulas (I-α) and (I-β), which are contained as a repeating unit in the insulating portion, are shown in Tables 1 and 2 below. Table 2
Shown in Table 3 below shows specific examples represented by the general formula (VI). These examples are merely specific examples, and the present invention is not limited to these examples.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】[0066]

【表2】 [Table 2]

【0067】[0067]

【表3】 [Table 3]

【0068】[0068]

【表4】 [Table 4]

【0069】[0069]

【表5】 [Table 5]

【0070】[0070]

【表6】 [Table 6]

【0071】[0071]

【表7】 [Table 7]

【0072】[0072]

【表8】 [Table 8]

【0073】[0073]

【表9】 [Table 9]

【0074】次に、本発明の第2の面について説明す
る。本発明の第2の面において、下引き層の材料とし
て、絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合体であ
って且つ架橋構造を含む共重合体を用いる。特に、架橋
構造により共重合体の分子構造が3次元化されているの
がよい。
Next, the second aspect of the present invention will be described. In the second aspect of the present invention, a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion and having a crosslinked structure is used as a material of the undercoat layer. In particular, it is preferable that the molecular structure of the copolymer be made three-dimensional by the crosslinked structure.

【0075】また、この架橋構造は、共重合体のどの部
分を架橋してなるものであってもよい。例えば、第1の
共重合体の絶縁性部分と第2の共重合体の絶縁性部分と
を架橋する構造、第1の共重合体の絶縁性部分と第2の
共重合体の電荷輸送性部分とを架橋する構造、又は第1
の共重合体の電荷輸送性部分と第2の共重合体の電荷輸
送性部分とを架橋する構造のいずれであってもよい。こ
こで、第1の共重合体と第2の共重合体とは同じであっ
ても異なっていてもよい。
The crosslinked structure may be formed by crosslinking any part of the copolymer. For example, a structure in which the insulating portion of the first copolymer and the insulating portion of the second copolymer are cross-linked, and the charge transporting property of the insulating portion of the first copolymer and the second copolymer. A structure that crosslinks the part, or the first
Any structure may be used to crosslink the charge transporting portion of the copolymer and the charge transporting portion of the second copolymer. Here, the first copolymer and the second copolymer may be the same or different.

【0076】第1の共重合体の絶縁性部分と第2の共重
合体の絶縁性部分とが架橋されてなる構造が好ましい。
絶縁性部分同士を架橋した共重合体、特に架橋によりそ
の分子構造を3次元化した共重合体を用いることによっ
て、電荷輸送性部分の機能を損なうことなく、感光層を
塗布する際に用いる溶媒への耐性を高めることができ
る。
A structure in which the insulating portion of the first copolymer and the insulating portion of the second copolymer are cross-linked is preferable.
By using a copolymer in which insulating portions are cross-linked, particularly a copolymer in which the molecular structure is three-dimensionalized by cross-linking, a solvent used when coating the photosensitive layer without impairing the function of the charge transporting portion. Resistance can be increased.

【0077】なお、以下において、本明細書のおける説
明上、「絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合体
であって且つ架橋構造を含む共重合体」を単に「架橋さ
れた共重合体」と、「絶縁性部分と電荷輸送性部分とを
含む共重合体であって架橋可能な官能基を有する共重合
体」を単に「架橋可能な官能基を有する共重合体」と、
さらに「絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重合体
であって未だ架橋が行われていない共重合体」を単に
「架橋前の共重合体」と略記する場合がある。
In the following description, the term “copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion and containing a crosslinked structure” is simply referred to as “crosslinked copolymer”. `` Polymer '', `` a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion and having a crosslinkable functional group '' simply `` copolymer having a crosslinkable functional group '',
Further, “a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion and not yet crosslinked” may be simply abbreviated as “a copolymer before crosslinking”.

【0078】また、架橋された共重合体の調製におい
て、その架橋反応が徐々に進み、「分子構造が3次元
化」された部分が、共重合体の調製途中で生じることが
ある。このため、本明細書において、「分子構造が3次
元化されていない」とは、『分子構造が100%3次元
化されていない』ことではなく、その共重合体が塗工液
などの中で、ほぼ均一に溶解し、塗布できうる程度の流
動性が保たれる範囲にあることをいう。したがって、架
橋可能な官能性基を有する共重合体を調製する際、その
一部が架橋している場合であっても、「分子構造が3次
元化されていない」状態に含まれる。
In the preparation of a cross-linked copolymer, the cross-linking reaction proceeds gradually, and a portion where the molecular structure is made three-dimensional may occur during the preparation of the copolymer. For this reason, in this specification, "the molecular structure is not three-dimensionalized" is not "the molecular structure is not three-dimensionally 100%", but is not that the copolymer is in a coating liquid or the like. Means that it is in a range in which fluidity is maintained to such an extent that it can be substantially uniformly dissolved and applied. Therefore, when a copolymer having a crosslinkable functional group is prepared, even if a part of the copolymer is crosslinked, it is included in a state where the molecular structure is not three-dimensional.

【0079】架橋された共重合体は、分子構造が3次元
化されていない架橋前の共重合体と、必要により架橋剤
及び/又は触媒とを混合した塗工液より成膜し、必要に
応じて架橋のための処理を行うことにより得ることがで
きる。架橋された共重合体は、結着樹脂の主な成分とし
て該共重合体を30重量%以上含まれていることが好ま
しい。より好ましくは50重量%以上、さらに好ましく
は70重量%以上である。
The crosslinked copolymer is formed into a film from a coating liquid in which a copolymer before molecular crosslinking whose molecular structure is not three-dimensionally mixed and, if necessary, a crosslinking agent and / or a catalyst. It can be obtained by performing a treatment for crosslinking accordingly. The crosslinked copolymer preferably contains the copolymer as a main component of the binder resin in an amount of 30% by weight or more. It is more preferably at least 50% by weight, further preferably at least 70% by weight.

【0080】架橋前の共重合体が有する架橋可能な官能
性基として、種々の架橋可能な官能基を挙げることがで
きる。例えば架橋剤ハンドブック(大成社、昭和56
年)、反応性ポリマーの合成と応用(シーエムシー、19
89年)等の文献に記載されている架橋可能な官能基が挙
げられる。例として、ヒドロキシ基、アルコキシシリル
基、エポキシ基、カルボキシル基、ハロゲン基、イソシ
アナート基、メルカプト基、クロルスルホン基、アミノ
基、アミド基、第三級アミノ基、ニトリル基、及びピリ
ジン基、並びに酸無水物構造を持つもの、及び二重結合
を持つもの等が挙げられる。
The crosslinkable functional groups of the copolymer before crosslinking include various crosslinkable functional groups. For example, Crosslinking Agent Handbook (Taiseisha, Showa 56
Years), synthesis and application of reactive polymers (CMC, 19
(1989)) and the like. Examples include hydroxy, alkoxysilyl, epoxy, carboxyl, halogen, isocyanate, mercapto, chlorosulfone, amino, amide, tertiary amino, nitrile, and pyridine groups, and Examples thereof include those having an acid anhydride structure and those having a double bond.

【0081】これら架橋可能な官能性基は、電荷輸送性
部分及び絶縁性部分の双方、又はいずれかに存在してい
れば良いが、好ましくは主として絶縁性部分に、特に好
ましくは絶縁性部分のみに存在しているのがよい。なぜ
なら、電荷輸送性部分の電荷輸送性への影響が少なく、
電気特性上有利であるからである。
These crosslinkable functional groups may be present in either or both of the charge transporting portion and the insulating portion, but are preferably present mainly in the insulating portion, particularly preferably in the insulating portion alone. It is better to exist. Because the charge transporting portion has little effect on the charge transporting property,
This is because it is advantageous in electrical characteristics.

【0082】架橋反応は、その反応に応じて、架橋剤及
び/又は触媒、並びに架橋条件を必要とする。架橋反
応、架橋剤、触媒及び架橋条件、並びにそれらの組合せ
は、架橋剤ハンドブック(大成社、昭和56年)、反応性
ポリマーの合成と応用(シーエムシー、1989年)等の文
献に記載されている、架橋可能な官能基が架橋するもの
であれば如何なるものであっても構わない。
The crosslinking reaction requires a crosslinking agent and / or a catalyst and crosslinking conditions depending on the reaction. Cross-linking reactions, cross-linking agents, catalysts and cross-linking conditions, and combinations thereof, are described in literatures such as Cross-Linking Agent Handbook (Taiseisha, 1981), Synthesis and Application of Reactive Polymers (CMC, 1989). Any type can be used as long as the crosslinkable functional group crosslinks.

【0083】架橋剤として、例えば硫黄系化合物、有機
過酸化物、多価のフェノール樹脂、多価のアミノ樹脂、
多価のハロゲン化合物、多価のアミン化合物、多価のア
ゾ化合物、多価のイソシアネート化合物、多価のシリル
イソシアネート化合物多価のエポキシ化合物、シラン化
合物、チタネート化合物、多価のカルボン酸化合物、酸
無水物などが挙げられる。有機過酸化物として、t-ブチ
ルバーオキシイソプロピルモノカーボネートおよびt-ブ
チルバーオキシベンゾエイトなどのパーオキシエステル
類、ケトンパーオキサイド類、パーオキシケタール類、
ハイドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド
類、ジアシルパーオキサイド類、及びパーオキシジカー
ボネート類などをあげることができる。
As a crosslinking agent, for example, a sulfur compound, an organic peroxide, a polyvalent phenol resin, a polyvalent amino resin,
Polyvalent halogen compound, polyvalent amine compound, polyvalent azo compound, polyvalent isocyanate compound, polyvalent silyl isocyanate compound polyvalent epoxy compound, silane compound, titanate compound, polyvalent carboxylic acid compound, acid Anhydrides and the like. As organic peroxides, peroxyesters such as t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate and t-butyl peroxybenzoate, ketone peroxides, peroxy ketals,
Examples include hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, and peroxydicarbonates.

【0084】これら架橋剤を架橋前の共重合体と予め混
合したものを塗布し、その後に架橋反応を行ったり、架
橋前の共重合体を予め塗布した上にこれらの架橋剤をス
プレイや浸漬、蒸気への暴露によって接触させて架橋を
行うことができる。
A mixture of these cross-linking agents in advance with the copolymer before cross-linking is applied, followed by a cross-linking reaction, or after applying the copolymer before cross-linking, spraying or dipping these cross-linking agents. Cross-linking can be effected by contact with steam.

【0085】架橋可能な官能性基がヒドロキシ基であ
り、かつ、架橋剤として多価のイソシアナート化合物と
した場合が特に好ましい。この場合、触媒として、酢酸
金属塩、金属塩化物、硫酸銅、ジ-n-ブチル錫ジラウレ-
トなどを加えることができる。また、架橋を促進するた
め、加熱するのがよい。
It is particularly preferred that the crosslinkable functional group is a hydroxy group and that the crosslinking agent is a polyvalent isocyanate compound. In this case, as a catalyst, metal acetate, metal chloride, copper sulfate, di-n-butyltin dilaure-
Can be added. Further, it is preferable to heat to promote crosslinking.

【0086】多価のイソシアネート化合物として、イソ
シアネート単量体から得られる誘導体やプレポリマーな
どのポリイソシアネート変性体を用いることがより望ま
しい。これらの例として、官能基数3以上のポリオール
にイソシアネートを付加したアダクト変性体、ウレア結
合を有する化合物をイソシアネート化合物で変成したビ
ウレット変性体、ウレタン基にイソシアネートを付加し
たアロファネート変性体、イソシアヌレート変性体など
が好ましく、他にもカルボジイミド変性体などが用いら
れる。特に、下記構造式(A−1) 、(A−2)で表さ
れるものに代表される、ヘキサメチレンジイソシアネー
トのビウレット変性体、およびヘキサメチレンジイソシ
アネートのイソシアヌレート変性体は、機械的強度、電
気特性の面で特に優れた特性を示す。
As a polyvalent isocyanate compound, it is more desirable to use a derivative obtained from an isocyanate monomer or a modified polyisocyanate such as a prepolymer. Examples thereof include an adduct modified product obtained by adding an isocyanate to a polyol having 3 or more functional groups, a biuret modified product obtained by modifying a compound having a urea bond with an isocyanate compound, an allophanate modified product obtained by adding an isocyanate to a urethane group, and an isocyanurate modified product And the like, and a carbodiimide-modified product is also used. In particular, the biuret-modified hexamethylene diisocyanate and the isocyanurate-modified hexamethylene diisocyanate represented by the following structural formulas (A-1) and (A-2) have mechanical strength and electric strength. It shows particularly excellent characteristics in terms of characteristics.

【0087】[0087]

【化9】 Embedded image

【0088】また、他のイソシアネート化合物として、
例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェ
ニルメタンジイソソアネート(MDI)、1,5-ナフチレ
ンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,6-
ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシア
ネート、リジンイソシアネート、テトラメチルキシレン
ジイソシアネート、1,3,6-ヘキサメチレントリイソシア
ネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11-
ウンデカントリイソシアネート、1,8-イイソシアネート
-4-イソシアネートメチルオクタン、トリフェニルメタ
ントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニ
ル)チオフォスフェート、などの一般的なイソシアネー
ト単量体があげられる。
Further, as other isocyanate compounds,
For example, tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisosocyanate (MDI), 1,5-naphthylene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,6-
Hexamethylene diisocyanate, xylene diisocyanate, lysine isocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-
Undecane triisocyanate, 1,8-isocyanate
General isocyanate monomers such as -4-isocyanatemethyloctane, triphenylmethanetriisocyanate, and tris (isocyanatephenyl) thiophosphate.

【0089】上記のポリイソシアネート変性体に含まれ
るが、イソシアネート基の活性を一時的にマスクするた
めのブロッキング剤を反応させたブロックイソシアネー
トも好ましく用いることができる。これは、塗布液のポ
ットライフを延長させる点からも好ましいものである。
Blocked isocyanates which are included in the above-mentioned modified polyisocyanate and reacted with a blocking agent for temporarily masking the activity of the isocyanate group can also be preferably used. This is preferable from the viewpoint of extending the pot life of the coating liquid.

【0090】また、架橋剤としてシラン化合物、チタネ
ート化合物などを使用することができる。これらの具体
例として、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、トリス-(β-メトキシエトキシ)ビニルシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、γ-メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、β-メルカプトエチルトリメトキ
シシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、イ
ソプロピルトリステアロイルチタネート、イソプロピル
メタクリルイソステアロイルチタネート等の公知の化合
物が挙げられる。
Further, silane compounds, titanate compounds and the like can be used as a crosslinking agent. Specific examples of these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, tris- (β-methoxyethoxy) vinylsilane, vinyltriacetoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, β-mercaptoethyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, isopropyl tristearoyl titanate, isopropyl methacrylisostearoyl titanate, etc. Known compounds.

【0091】また、架橋前の共重合体が、架橋可能な官
能基を有し、その官能性基同士の縮合反応によって、架
橋された共重合体を得ることができる。この場合、架橋
剤を添加する必要がなく、電荷輸送性部分に架橋剤が残
留するために生じる電荷輸送性への悪影響をなくすこと
ができる。特に、架橋された共重合体の架橋部位が主に
絶縁性部分にのみ存在する場合、及び架橋前の共重合体
の架橋可能な官能基が主に絶縁性部分のみにある場合、
電荷輸送性部中に架橋剤の残留が無い上に、電荷輸送性
部分中に架橋部位及び未架橋の架橋可能な官能基も無い
ため、電荷輸送性を損なうことが無く、特に好ましい。
Further, the copolymer before crosslinking has a crosslinkable functional group, and a crosslinked copolymer can be obtained by a condensation reaction between the functional groups. In this case, it is not necessary to add a cross-linking agent, and it is possible to eliminate an adverse effect on the charge transporting property caused by the cross-linking agent remaining in the charge transporting portion. In particular, when the cross-linked site of the cross-linked copolymer is mainly present only in the insulating portion, and when the cross-linkable functional group of the copolymer before cross-linking is mainly present only in the insulating portion,
Since the charge transporting portion has no cross-linking agent remaining and the charge transporting portion has neither a cross-linking site nor an uncross-linked cross-linkable functional group, the charge transporting property is not impaired, which is particularly preferable.

【0092】官能基同士で縮合反応ができ、それによっ
て架橋構造ができる官能基の例として、アルコキシシリ
ル基同士、イソシアネート基同士、ヒドロキシル基とイ
ソシアネート基などが挙げられる。特に、アルコキシシ
リル基は適度な反応性を有している一方、合成や取扱い
に有利であるため、好ましい。また、容易に架橋反応を
起こすことができ、さらに縮合により生じるアルコール
も気化することにより感光層中に残留しないため、好ま
しい。
Examples of the functional groups capable of undergoing a condensation reaction between the functional groups and thereby forming a crosslinked structure include alkoxysilyl groups, isocyanate groups, a hydroxyl group and an isocyanate group. In particular, an alkoxysilyl group is preferable because it has appropriate reactivity, but is advantageous for synthesis and handling. Further, a crosslinking reaction can be easily caused, and alcohol generated by condensation does not remain in the photosensitive layer by being vaporized, which is preferable.

【0093】架橋可能な官能性基がアルコキシシリル基
の場合、触媒として、酢酸もしくは塩酸などの酸、アル
カリ、又は有機金属化合物等を加えることができ、さら
に水を加えてもよい。また、架橋を促進するため、加熱
することができる。
When the crosslinkable functional group is an alkoxysilyl group, an acid such as acetic acid or hydrochloric acid, an alkali, or an organometallic compound can be added as a catalyst, and water may be further added. Heating can be performed to promote crosslinking.

【0094】本発明に用いる架橋前の共重合体の架橋可
能な官能基は、上述のように、電荷輸送性部分と絶縁性
部分との両方、またはどちらか一方に含まれていればよ
い。絶縁性部分が、架橋可能な官能基を有する繰返し単
位を重合したブロックと架橋可能な官能基を有しない繰
返し単位を重合したブロックより形成されていてもよ
い。また、絶縁性部分が架橋可能な官能基を有する繰返
し単位を重合したブロックのみで形成されていても良
い。
As described above, the crosslinkable functional group of the copolymer before crosslinking used in the present invention may be contained in either or both of the charge transporting portion and the insulating portion. The insulating portion may be formed of a block in which a repeating unit having a crosslinkable functional group is polymerized and a block in which a repeating unit having no crosslinkable functional group is polymerized. Further, the insulating portion may be formed only of a block in which a repeating unit having a crosslinkable functional group is polymerized.

【0095】特に、架橋可能な官能基が絶縁性部分のみ
に存在する場合、絶縁性部分中の(架橋可能な官能基を
有する繰返し単位)と(架橋可能な官能基を有しない繰
返し単位)の組成比は、1:20〜10:1の範囲が好
ましく、さらに1:5〜3:1の範囲であるのがより好
ましい。架橋可能な官能基を有する繰返し単位の組成比
が高すぎると、脆くなる傾向があり、架橋可能な官能基
を有する繰返し単位の組成比が低すぎると、機械的強度
が悪化する傾向にある。
In particular, when the crosslinkable functional group is present only in the insulating portion, the (repeating unit having a crosslinkable functional group) and the (repeating unit having no crosslinkable functional group) in the insulating portion may be used. The composition ratio is preferably in the range of 1:20 to 10: 1, and more preferably in the range of 1: 5 to 3: 1. If the composition ratio of the repeating unit having a crosslinkable functional group is too high, the composition tends to become brittle, and if the composition ratio of the repeating unit having a crosslinkable functional group is too low, the mechanical strength tends to deteriorate.

【0096】本発明の第2の面の共重合体中の絶縁性部
分としては、第1の面でと同様に、ポリカーボネート、
ポリアリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリメ
チルメタクリレート、ポリウレタン等、如何なるもので
も構わないが、機械的強度、可撓性、可視光および赤外
光透過性、化学的安定性、絶縁性等の点で、ビニル系モ
ノマーの重合物からなることが好ましい。
As the insulating portion in the copolymer on the second surface of the present invention, the same as in the first surface, polycarbonate,
Polyarylate, polyester, polysulfone, polymethyl methacrylate, polyurethane, etc., may be anything, but in terms of mechanical strength, flexibility, visible and infrared light transmission, chemical stability, insulation, etc. It is preferred to be composed of a polymer of a vinyl monomer.

【0097】特に、本発明の第2の面において、ビニル
系モノマーとして、下記一般式(II)で示されるビニ
ルモノマーの少なくとも1種を重合し得られるものが好
ましい。さらに、下記一般式(III)で示される架橋
可能な官能基を有するビニルモノマー、及び、下記一般
式(II)で示されるビニルモノマーの少なくとも1種
を共重合し得られるものが好ましい。
In particular, in the second aspect of the present invention, as the vinyl monomer, those obtained by polymerizing at least one vinyl monomer represented by the following general formula (II) are preferable. Further, a vinyl monomer having a crosslinkable functional group represented by the following general formula (III) and a vinyl monomer represented by the following general formula (II) are preferable.

【0098】[0098]

【化10】 Embedded image

【0099】上記一般式(II)中、R11〜R13はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または置換もしく
は未置換のアルキル基またはアリール基から選ばれる。
置換もしくは未置換のアルキル基またはアリール基の具
体的としては、メチル基、エチル基、メトキシ基、クロ
ロメチル基、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
In the general formula (II), R 11 to R 13 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group.
Specific examples of the substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a chloromethyl group, a phenyl group, a tolyl group and the like.

【0100】上記一般式(II)中、R14は置換もしく
は未置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル
基から選ばれる。アルキル基、アルコキシ基、アシル
基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基の
炭素数は1〜18個が好ましく、またアリール基として
はフェニル基、ナフチル基、ピレニル等が挙げられる。
置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基、ヒドロキ
シ基、アミノ基、イソシアネート基、エポキシ基、アル
コキシシリル基等が挙げられる。
In the above general formula (II), R 14 is selected from a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, alkoxy group, acyl group, acyloxy group and alkoxycarbonyl group. The alkyl group, the alkoxy group, the acyl group, the acyloxy group, and the alkoxycarbonyl group preferably have 1 to 18 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and pyrenyl.
Examples of the substituent include a halogen atom, a phenyl group, a hydroxy group, an amino group, an isocyanate group, an epoxy group, and an alkoxysilyl group.

【0101】上記一般式(III)中、R15〜R17はそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未
置換のアルキル基、又は置換もしくは未置換のアリール
基から選ばれる。置換もしくは未置換のアルキル基また
は置換もしくは未置換のアリール基の具体例として、メ
チル基、エチル基、メトキシ基、クロロメチル基、フェ
ニル基、トリル基等が挙げられる。
In the above formula (III), R 15 to R 17 are each independently selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of the substituted or unsubstituted alkyl group or the substituted or unsubstituted aryl group include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, a chloromethyl group, a phenyl group, a tolyl group, and the like.

【0102】上記一般式(III)中、R18はクロルス
ルホン基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、メルカプト
基、ニトリル基、イソシアナート基、アミノ基、エポキ
シ基もしくはアルコキシシリル基で置換された置換アル
キル基、置換アリール基、置換アルコキシ基、置換アシ
ル基、置換アシルオキシ基、または置換アルコキシカル
ボニル基から選ばれる。該置換アルキル基は、分枝鎖も
しくは環構造を含んでもよいが、炭素数が1〜20個の
ものが好ましい。また、該置換アリール基として、フェ
ニル基、ナフチル基、ピレニル等が挙げられる。
In the above formula (III), R 18 is a substituted alkyl group substituted by a chlorosulfone group, a carboxyl group, a hydroxy group, a mercapto group, a nitrile group, an isocyanate group, an amino group, an epoxy group or an alkoxysilyl group. , A substituted aryl group, a substituted alkoxy group, a substituted acyl group, a substituted acyloxy group, or a substituted alkoxycarbonyl group. The substituted alkyl group may have a branched or cyclic structure, but preferably has 1 to 20 carbon atoms. Examples of the substituted aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and pyrenyl.

【0103】本発明の第2の面において、絶縁性部分中
に繰返し単位として含有する、上記一般式(II)で表
される具体例を、下記の表4に示す。また、一般式(I
II)で表される具体例を、下記表5に示す。これらの
例は単に具体的に挙げたものであり、これらに限定され
るものではない。
In the second aspect of the present invention, specific examples represented by the above general formula (II), which are contained as a repeating unit in the insulating portion, are shown in Table 4 below. In addition, the general formula (I
Specific examples represented by II) are shown in Table 5 below. These examples are merely specific and are not limiting.

【0104】[0104]

【表10】 [Table 10]

【0105】[0105]

【表11】 [Table 11]

【0106】[0106]

【表12】 [Table 12]

【0107】[0107]

【表13】 [Table 13]

【0108】本発明の共重合体の電荷輸送性部分は、そ
の繰返し単位中に電荷輸送性を有する構造を含み、かつ
感光層中に含まれる電荷輸送材料と逆の電荷を輸送する
ものであれば、例えばポリビニカルバゾール等、いかな
る材料からなるものであってもよい。但し、その繰返し
単位中にフルオレノンやトリアリールアミン構造を含む
ものは、電荷移動度、電荷注入性、電荷寿命、可視光お
よび赤外光透過性、化学的安定性等の点で好ましい。特
に、トリアリールアミン構造として下記一般式(IV)
または(V)で示される構造の少なくとも1種を繰返し
単位として含有するものが好ましい。
The charge transporting portion of the copolymer of the present invention is such that the repeating unit contains a structure having a charge transporting property and transports a charge opposite to that of the charge transporting material contained in the photosensitive layer. For example, it may be made of any material such as polyvinylcarbazole. However, those containing a fluorenone or triarylamine structure in the repeating unit are preferred in terms of charge mobility, charge injection property, charge life, visible light and infrared light transmittance, chemical stability and the like. In particular, a triarylamine structure represented by the following general formula (IV)
Or those containing at least one of the structures represented by (V) as a repeating unit are preferred.

【0109】[0109]

【化11】 Embedded image

【0110】上記一般式(IV)中、Ar1及びAr2
それぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から選
ばれる。該アリール基の具体例として、フェニル基、ビ
フェニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。
また、置換基としては、メチル基、エチル基、メトキシ
基、ハロゲン原子等が挙げられる。
In the general formula (IV), Ar 1 and Ar 2 are each independently selected from a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a pyrenyl group and the like.
Examples of the substituent include a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, and a halogen atom.

【0111】X1は芳香族環構造を有する2価の炭化水
素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれる。具
体例として、フェニレン基、ビフェニレン基、ターフェ
ニレン基、ナフチレン基、メチレンジフェニル基、シク
ロヘキシレデンジフェニル基、オキシジフェニル基、チ
オジフェニル基等、およびこれらのメチル置換体、エチ
ル置換体、メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が
挙げられる。特に、置換又は未置換のビフェニレン基
が、電荷輸送性の点で好ましい。
X 1 is selected from a divalent hydrocarbon group having an aromatic ring structure and a hetero atom-containing hydrocarbon group. Specific examples include a phenylene group, a biphenylene group, a terphenylene group, a naphthylene group, a methylenediphenyl group, a cyclohexyredenediphenyl group, an oxydiphenyl group, a thiodiphenyl group, and a methyl-substituted, ethyl-substituted, and methoxy-substituted product thereof. Or a halogen-substituted product. In particular, a substituted or unsubstituted biphenylene group is preferred from the viewpoint of charge transportability.

【0112】X2及びX3はそれぞれ独立に置換もしくは
未置換のアリーレン基から選ばれ、具体的には、フェニ
レン基、ビフェニレン基、ターフェニレン基、ナフチレ
ン基等、およびこれらのメチル置換体、エチル置換体、
メトキシ置換体、またはハロゲン置換体等が挙げられ
る。
X 2 and X 3 are each independently selected from a substituted or unsubstituted arylene group. Specifically, phenylene group, biphenylene group, terphenylene group, naphthylene group and the like, and their methyl-substituted products, ethyl Substitute,
Methoxy-substituted or halogen-substituted products are exemplified.

【0113】L1は分枝鎖もしくは環構造を含んでもよ
い2価の炭化水素基またはヘテロ原子含有炭化水素基か
ら選ばれ、上記の好ましい特性の少なくとも1つを発揮
するかぎり任意であるが、エーテル結合、エステル結
合、カーボネート結合、シロキサン結合等から選ばれる
結合基を含み、かつ炭素数が20以下であるものが好ま
しい。その具体例としては、以下のものが挙げられる。
L 1 is selected from a divalent hydrocarbon group or a heteroatom-containing hydrocarbon group which may have a branched chain or a ring structure, and is optional as long as it exhibits at least one of the preferable characteristics described above. Those containing a bonding group selected from an ether bond, an ester bond, a carbonate bond, a siloxane bond and the like and having 20 or less carbon atoms are preferred. Specific examples include the following.

【0114】[0114]

【化12】 Embedded image

【0115】上記一般式(V)中、Ar3及びAr4はそ
れぞれ独立に置換もしくは未置換のアリール基から選ば
れる。アリール基の具体例として、フェニル基、ビフェ
ニル基、ナフチル基、ピレニル基等が挙げられる。ま
た、置換基としては、炭素数1〜12個のアルキル基も
しくはアルコキシ基、ジフェニルアミノ基、又はハロゲ
ン原子等が挙げられる。
In the general formula (V), Ar 3 and Ar 4 are each independently selected from a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a pyrenyl group. Examples of the substituent include an alkyl or alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a diphenylamino group, and a halogen atom.

【0116】L2は芳香族環構造を有する3価の炭化水
素基またはヘテロ原子含有炭化水素基から選ばれ、上記
の好ましい特性の少なくとも1つを発揮するかぎり任意
であるが、炭素数が20個以下のものが好ましい。その
具体例としては、以下のものが挙げられる。
L 2 is selected from a trivalent hydrocarbon group having an aromatic ring structure or a heteroatom-containing hydrocarbon group, and is arbitrary as long as it exhibits at least one of the preferable characteristics described above. Preferably not more than one. Specific examples include the following.

【0117】[0117]

【化13】 Embedded image

【0118】本発明の共重合体において、電荷輸送性部
分中の繰返し単位として含有する、上記一般式(IV)
で表される具体例を下記表6に示す。また、上記一般式
(V)で表される具体例を下記表7に示す。
In the copolymer of the present invention, the compound represented by the above general formula (IV), which is contained as a repeating unit in the charge transporting moiety.
Is shown in Table 6 below. Table 7 below shows specific examples represented by the general formula (V).

【0119】[0119]

【表14】 [Table 14]

【0120】[0120]

【表15】 [Table 15]

【0121】[0121]

【表16】 [Table 16]

【0122】本発明に用いる共重合体の合成方法は、種
々の文献、例えば第4版実験化学講座28高分子合成
(丸善、1992年)、マクロモノマーの化学と工業
(アイピーシー、1990年)、高分子の相溶化と評価
技術(技術情報協会、1992年)、高分子新素材One
Point 12ポリマーアロイ(共立、1988年)等の文献
に記載されているブロック共重合体及び/またはグラフ
ト共重合体を提供することができる任意の適切な合成法
を用いることができる。
The method for synthesizing the copolymer used in the present invention is described in various literatures, for example, 4th edition Experimental Chemistry Lecture 28 Polymer Synthesis (Maruzen, 1992), Macromonomer Chemistry and Industry (IPC, 1990) , Polymer compatibilization and evaluation technology (Technical Information Association, 1992), Polymer New Material One
Any suitable synthetic method that can provide a block copolymer and / or a graft copolymer described in literature such as Point 12 Polymer Alloy (Kyoritsu, 1988) can be used.

【0123】例えば、予め電荷輸送性重合体と絶縁性重
合体を合成し、それら重合体同士を反応結合させること
によって所望とするブロック共重合体が得られる。ま
た、電荷輸送性部分を形成するモノマーと絶縁性部分を
形成するモノマーの重合形式が同じでありかつ両者の反
応性が大きく異なる場合には、単にそれらモノマーの混
合物を重合させることで、まず、反応性の高い方のモノ
マーが重合し、該モノマーが消費された後、反応性の低
い方のモノマーが重合し、所望とするブロック共重合体
が得られる。また、予め一方のモノマーの重合物を合成
し、該重合物の末端および/または側鎖にアゾ、過酸エ
ステル、パーオキシ、ジチオカルバマート、アルカリ金
属アルコラート、アルカリ金属アルキル等の重合開始能
を有する基を含む重合開始剤を導入し、該重合開始剤に
より、他方のモノマーを重合させることによっても、所
望とするブロック共重合体またはグラフト共重合体が得
られる。この方法によれば、重縮合または重付加系重合
体と付加重合または開環重合系重合体からなるブロック
共重合体またはグラフト共重合体を容易に得ることがで
きる。また、分子中にアゾ、過酸エステル、パーオキシ
等の重合開始能を有する基を複数含む化合物を用い、ま
ず、一部の重合開始基から、一方のモノマーを重合さ
せ、次に残りの重合開始基から、他方のモノマーを重合
させることによっても所望とするブロック共重合体が得
られる。また、カチオンリビング重合法、アニオンリビ
ング重合法、ラジカルリビング重合法等のリビング重合
法により、各モノマーを逐次重合させることによっても
所望とするブロック共重合体を得ることができる。リビ
ング重合法は、各ブロックの分子量を容易に制御でき、
かつ分子量分布の狭い重合体を与え得ると云う利点を有
する。また、イモータル重合法、Iniferter法等によ
り、各モノマーを逐次重合させることによっても所望と
するブロック共重合体を得ることができる。さらにま
た、予め一方のモノマーの重合物の末端に他方のモノマ
ーを導入したマクロモノマーを合成し、該マクロモノマ
ーを重合することによって所望とするグラフト共重合体
を得ることができる。
For example, a desired block copolymer can be obtained by previously synthesizing a charge transporting polymer and an insulating polymer and reacting and bonding the polymers. Further, when the polymerization mode of the monomer forming the charge transporting portion and the monomer forming the insulating portion are the same and the reactivities of both are greatly different, first, by simply polymerizing a mixture of the monomers, first, After the monomer having higher reactivity is polymerized and the monomer is consumed, the monomer having lower reactivity is polymerized to obtain a desired block copolymer. In addition, a polymer of one monomer is synthesized in advance, and the terminal and / or side chain of the polymer has a polymerization initiating ability of azo, peroxyester, peroxy, dithiocarbamate, alkali metal alcoholate, alkali metal alkyl, or the like. A desired block copolymer or graft copolymer can also be obtained by introducing a group-containing polymerization initiator and polymerizing the other monomer with the polymerization initiator. According to this method, a block copolymer or a graft copolymer comprising a polycondensation or polyaddition polymer and an addition polymerization or ring-opening polymerization polymer can be easily obtained. In addition, using a compound having a plurality of groups having a polymerization initiation ability such as azo, peroxyester, and peroxy in a molecule, first, one monomer is polymerized from a part of the polymerization initiation groups, and then the other polymerization initiation is started. The desired block copolymer can also be obtained by polymerizing the other monomer from the group. Also, a desired block copolymer can be obtained by sequentially polymerizing each monomer by a living polymerization method such as a cation living polymerization method, an anion living polymerization method, or a radical living polymerization method. The living polymerization method can easily control the molecular weight of each block,
In addition, it has the advantage that a polymer having a narrow molecular weight distribution can be obtained. Also, a desired block copolymer can be obtained by sequentially polymerizing each monomer by an immortal polymerization method, an Iniferter method, or the like. Furthermore, a desired macro-copolymer can be obtained by synthesizing a macromonomer in which the other monomer has been introduced into the terminal of the polymer of one monomer in advance, and polymerizing the macromonomer.

【0124】本発明の共重合体(絶縁性部分と電荷輸送
性部分とからなる共重合体)の分子量は如何なる値でも
構わないが、高分子特性を発揮するには、2,000以
上であることが望まれる。好ましくは5,000以上、
より好ましくは10,000以上、さらに好ましくは2
0,000以上である。分子量は、電気的特性上又は機
械特性上、その制限、特に分子量の上限に関する制限は
特にない。但し、湿式塗布法によって成膜を行う場合、
適当な溶液粘度を与える範囲内であるのがよい。一般的
には、5,000,000以下であることが好ましい。
The molecular weight of the copolymer (copolymer comprising an insulating portion and a charge transporting portion) of the present invention may be any value, but is 2,000 or more in order to exhibit high molecular properties. It is desired. Preferably 5,000 or more,
More preferably 10,000 or more, further preferably 2
It is more than 0000. The molecular weight is not limited in terms of electrical properties or mechanical properties, and there is no particular limitation on the upper limit of the molecular weight. However, when the film is formed by the wet coating method,
It should be within a range that gives an appropriate solution viscosity. Generally, it is preferable that it is 5,000,000 or less.

【0125】本発明の共重合体中の電荷輸送性部分と絶
縁性部分との重量比率は、1:9〜9:1の間に設定さ
れる。とくに、2:8〜8:2が好ましく、さらに、
3:7〜7:3が特に好ましい。電荷輸送性部分の重量
比率が小さいと電荷輸送性を十分に発揮することができ
ず、残留電位の上昇、繰り返し安定性の低下などの障害
を起こす。また、電荷輸送性部分の重量比率が大きい
と、耐溶剤性が低くなる傾向にある。
The weight ratio between the charge transporting portion and the insulating portion in the copolymer of the present invention is set between 1: 9 and 9: 1. In particular, 2: 8 to 8: 2 is preferable.
3: 7 to 7: 3 are particularly preferred. If the weight ratio of the charge-transporting portion is small, the charge-transporting portion cannot exhibit sufficient charge-transporting properties, causing problems such as an increase in residual potential and a decrease in repetition stability. When the weight ratio of the charge transporting portion is large, the solvent resistance tends to be low.

【0126】電子写真装置中で発生するオゾンもしくは
酸化性ガス、又は光もしくは熱による感光体の劣化を防
止する目的で、共重合体中に酸化防止剤、光安定剤、熱
安定剤等を添加することができる。酸化防止剤として、
公知のものを用いることができる。酸化防止剤として例
えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラ
フェニレンジアミン、ハイドロキノン、スピロクロマ
ン、スピロインダノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄
化合物、有機燐化合物等があげられる。光安定剤として
は、公知のものを用いることができる。光安定剤として
例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオ
カルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体、並
びに光励起状態をエネルギー移動又は電荷移動により失
活し得る電子吸引性化合物または電子供与性化合物等が
あげられる。
Antioxidants, light stabilizers, heat stabilizers, etc. are added to the copolymer for the purpose of preventing deterioration of the photoreceptor due to ozone or oxidizing gas generated in the electrophotographic apparatus, or light or heat. can do. As an antioxidant,
Known ones can be used. Examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, organic phosphorus compounds and the like. Known light stabilizers can be used. Examples of the light stabilizer include derivatives such as benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine, and electron-withdrawing compounds or electron-donating compounds that can deactivate the photoexcited state by energy transfer or charge transfer.

【0127】また、本発明の感光体の下引き層の共重合
体を含む層に、各種の粒子を分散させ含有することがで
きる。例えば、干渉縞の発生防止などの目的のため、有
機フィラー、無機フィラー等の絶縁性粒子を分散させて
もよい。
Further, various layers can be dispersed and contained in the layer containing the copolymer of the undercoat layer of the photoreceptor of the present invention. For example, insulating particles such as an organic filler and an inorganic filler may be dispersed for the purpose of preventing interference fringes from occurring.

【0128】本発明の難溶性共重合体を含む下引き層の
膜厚は、0.01〜10μmが適当であり、好ましくは
0.05〜5μmの範囲である。下引き層は、その材料
である共重合体を、ある溶媒に溶解又は分散させて得ら
れた液体を塗布することによって得ることができる。
The thickness of the undercoat layer containing the poorly soluble copolymer of the present invention is suitably from 0.01 to 10 μm, preferably from 0.05 to 5 μm. The undercoat layer can be obtained by applying a liquid obtained by dissolving or dispersing a copolymer as a material in a certain solvent.

【0129】その塗布方法として、ブレードコーティン
グ法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
の通常の方法を用いることができる。
As the application method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method can be used.

【0130】本発明の電子写真感光体において、感光層
は電荷発生材料及び電荷輸送材料を含有する。感光層
は、これらの電荷発生材料及び電荷輸送材料を一層に有
する単層であっても、複数層からなっていてもよい。
In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the photosensitive layer contains a charge generation material and a charge transport material. The photosensitive layer may be a single layer having the charge generation material and the charge transport material in one layer, or may be composed of a plurality of layers.

【0131】単層の場合、感光層は電荷輸送材料を含む
樹脂中に電荷発生材料を分散してなるのがよく、複数層
の場合、電荷発生層と電荷輸送層とからなる積層型であ
ってもよい。複数層からなる場合、電荷輸送層は2層以
上であってもよい。
In the case of a single layer, the photosensitive layer is preferably formed by dispersing a charge-generating material in a resin containing a charge-transporting material. In the case of a plurality of layers, the photosensitive layer is a laminated type comprising a charge-generating layer and a charge-transporting layer. You may. When the charge transport layer comprises a plurality of layers, the charge transport layer may be two or more layers.

【0132】本発明の電子写真用感光体の感光層が単層
型の場合は、電荷輸送材料を含む結着樹脂中に電荷発生
材料を分散、塗布することにより作製することができる
(例えば、図1及び図2)。また、光感度の向上、残留
電位の低下などの目的のために電子親和性を有する材料
を含めることができる。さらに、化学的安定性を保つた
め、酸化防止剤および/または紫外線吸収剤を含めるこ
とができる。
When the photosensitive layer of the electrophotographic photosensitive member of the present invention is of a single-layer type, it can be prepared by dispersing and applying a charge generating material in a binder resin containing a charge transporting material (for example, 1 and 2). In addition, a material having electron affinity can be included for the purpose of improving photosensitivity, reducing residual potential, and the like. In addition, antioxidants and / or UV absorbers can be included to maintain chemical stability.

【0133】本発明の単層型感光体における感光層中の
電荷発生材料と結着樹脂との配合比(重量比)は、1:1
〜1:100の範囲が好ましい。より好ましくは、1:
3〜1:50の範囲に設定される。電荷発生材料の結着
樹脂に対する配合比が多すぎると、暗減衰が増大し機械
的特性を悪化させる。また、電荷発生材料の結着樹脂に
対する配合比が少なすぎると、光感度の低下、残留電位
の増大等の障害が生じる。
In the single-layer type photoreceptor of the present invention, the compounding ratio (weight ratio) of the charge generating material and the binder resin in the photosensitive layer is 1: 1.
A range of 1 : 1: 100 is preferred. More preferably, 1:
It is set in the range of 3 to 1:50. If the compounding ratio of the charge generation material to the binder resin is too large, dark decay increases and mechanical properties deteriorate. On the other hand, if the mixing ratio of the charge generating material to the binder resin is too small, problems such as a decrease in photosensitivity and an increase in residual potential occur.

【0134】単層型における感光層の膜厚は一般的に
は、1〜100μmが適当であり、好ましくは5〜50
μmの範囲に設定される。塗布方法としては、ブレード
コーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレ
ーコティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティ
ング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーテ
ィング法等の通常の方法を用いることができる。
The thickness of the photosensitive layer in the single-layer type is generally 1 to 100 μm, preferably 5 to 50 μm.
It is set in the range of μm. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used.

【0135】この単層型の感光層を形成する際に用いる
溶媒として、後述の結着樹脂を溶解する特性を有するも
のが用いられる。具体的な溶媒の例として、トルエン、
キシレンなどを挙げることができる。上記単層型感光層
を前述の下引き層に設ける場合、下引き層に要求される
耐溶媒性は、上記の溶媒に耐性のあるものである。
As a solvent used for forming the single-layer type photosensitive layer, a solvent having a property of dissolving a binder resin described later is used. Examples of specific solvents include toluene,
Xylene and the like can be mentioned. When the single-layer type photosensitive layer is provided on the undercoat layer, the solvent resistance required for the undercoat layer is one that is resistant to the above-mentioned solvent.

【0136】本発明の電子写真用感光体が電荷発生層と
電荷輸送層とからなる積層型である場合を以下に述べ
る。電荷発生層は、電荷発生材料を真空蒸着法により、
または電荷発生材料を結着樹脂中に分散または溶解した
ものを被覆することにより作製できる。また、該電荷発
生層中に電荷輸送性低分子化合物及び/又は電荷輸送性
高分子化合物を含めることができる。さらに、化学的安
定性を保つため、酸化防止剤及び/又は紫外線吸収剤を
含めることができる。
The case where the electrophotographic photoreceptor of the present invention is of a laminate type comprising a charge generation layer and a charge transport layer will be described below. The charge generation layer is formed by depositing a charge generation material by a vacuum deposition method.
Alternatively, it can be produced by coating a material in which a charge generation material is dispersed or dissolved in a binder resin. The charge generation layer may contain a charge transporting low molecular weight compound and / or a charge transporting high molecular weight compound. In addition, an antioxidant and / or an ultraviolet absorber may be included to maintain chemical stability.

【0137】本発明の積層型感光体の電荷発生層におい
て、該層が電荷発生材料と結着樹脂とを有する場合、そ
の電荷発生材料:結着樹脂の配合比(重量比)は、1
0:1〜1:10の範囲が好ましい。より好ましくは、
3:1〜1:1の範囲であるのがよい。電荷発生材料の
結着樹脂に対する配合比が多すぎると、暗減衰が増大し
機械的特性を悪化させる。また、電荷発生材料の結着樹
脂に対する配合比が少なすぎると光感度の低下、残留電
位の増大等の障害が生じる。
In the charge generation layer of the laminated photoreceptor of the present invention, when the layer has a charge generation material and a binder resin, the charge generation material: binder resin composition ratio (weight ratio) is 1
The range of 0: 1 to 1:10 is preferred. More preferably,
The ratio is preferably in the range of 3: 1 to 1: 1. If the compounding ratio of the charge generation material to the binder resin is too large, dark decay increases and mechanical properties deteriorate. On the other hand, if the mixing ratio of the charge generating material to the binder resin is too small, problems such as a decrease in photosensitivity and an increase in residual potential occur.

【0138】また、本発明で用いる電荷発生層の膜厚は
一般的には、0.05〜5μmが適当であり、好ましく
は0.1〜2.0μmであるのがよい。塗布方法として
は、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティン
グ法、スプレーコティング法、浸漬コーティング法、ビ
ードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カ
ーテンコーティング法等の通常の方法を用いることがで
きる。また、この際に用いられる溶媒は、後述の結着樹
脂を溶解する特性を有するのがよい。電荷発生層を塗布
する際に用いられる溶媒の例として、キシレン、酢酸ブ
チルなどを挙げることができる。上記電荷発生層を前述
の下引き層に設ける場合、下引き層に要求される耐溶媒
性は、上記の溶媒に耐性のあるものである。
The thickness of the charge generation layer used in the present invention is generally from 0.05 to 5 μm, and preferably from 0.1 to 2.0 μm. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used. The solvent used at this time preferably has the property of dissolving the binder resin described below. Examples of the solvent used when applying the charge generation layer include xylene and butyl acetate. When the charge generation layer is provided on the undercoat layer, the solvent resistance required for the undercoat layer is one that is resistant to the solvent.

【0139】本発明の電子写真用感光体における単層型
の感光層および積層型の電荷発生層に用いる電荷発生材
料としては、公知のものを使用することができる。例え
ば、非晶質セレン、セレン-テルル合金、セレン-ヒ素合
金、その他セレン化合物およびセレン合金、酸化亜鉛、
酸化チタン、a−Si、a−SiC等の無機系光導電性
材料、フタロシアニン系、スクアリウム系、アントアン
トロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキノン系、ピ
レン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の有機顔料
および染料が使用できるが、これらに限定されるもので
はない。また、これらの有機顔料および染料は、単独又
は2種以上混合して用いることができる。
As the charge generating material used for the single-layer type photosensitive layer and the laminated type charge generating layer in the electrophotographic photoreceptor of the present invention, known materials can be used. For example, amorphous selenium, selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, other selenium compounds and alloys, zinc oxide,
Inorganic photoconductive materials such as titanium oxide, a-Si, a-SiC, and organic pigments such as phthalocyanine, squarium, anthantrone, perylene, azo, anthraquinone, pyrene, pyrylium salts, and thiapyrylium salts And dyes can be used, but are not limited thereto. These organic pigments and dyes can be used alone or in combination of two or more.

【0140】フタロシアニン系化合物は、デジタル式の
電子写真装置に光源として現在好まれて使用されている
LEDおよびレーザーダイオードの発振波長である60
0〜850nmに優れた光感度を有するため、本発明の
電荷発生材料として特に好ましい。詳しくは、無金属フ
タロシアニン、金属フタロシアニンであり、金属フタロ
シアニンの中心金属として、Cu、Ni、Zn、Co、
Fe、V、Si、Al、Sn、Ge、Ti、In、G
a、Mg、Pb等を挙げることができる。また、これら
中心金属の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルキル
化物、アルコキシ化物等も使用できる。具体的には、無
金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、クロロ
ガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシ
アニン、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフ
タロシアニン、ジクロロ錫フタロシアニンなどを挙げる
ことができる。また、これらのフタロシアニン環に任意
の置換基を含むものも使用することができる。さらに、
これらのフタロシアニン環中の任意の炭素原子が窒素原
子で置換されたものも有効である。これらフタロシアニ
ン系化合物の形態としては、アルモルファスまたは全て
の結晶多形のものが使用可能である。
The phthalocyanine-based compound has an oscillation wavelength of 60 nm of an LED or a laser diode which is currently favorably used as a light source in a digital electrophotographic apparatus.
Since it has excellent photosensitivity at 0 to 850 nm, it is particularly preferable as the charge generation material of the present invention. Specifically, it is a metal-free phthalocyanine, a metal phthalocyanine, and as a central metal of the metal phthalocyanine, Cu, Ni, Zn, Co,
Fe, V, Si, Al, Sn, Ge, Ti, In, G
a, Mg, Pb and the like. In addition, oxides, hydroxides, halides, alkylated compounds, alkoxylated compounds and the like of these central metals can also be used. Specific examples include metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, vanadyl phthalocyanine, chloroindium phthalocyanine, and dichlorotin phthalocyanine. Further, those having an arbitrary substituent in these phthalocyanine rings can also be used. further,
Those in which arbitrary carbon atoms in these phthalocyanine rings are substituted with nitrogen atoms are also effective. As the form of these phthalocyanine compounds, it is possible to use amorphous or all polymorphic forms.

【0141】これらフタロシアニン系化合物の中でも、
チタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニ
ン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、およびジクロ
ロ錫フタロシアニンは、特に優れた光感度を有してお
り、電荷発生材料として特に好ましい。
Among these phthalocyanine compounds,
Titanyl phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine, and dichlorotin phthalocyanine have particularly excellent photosensitivity and are particularly preferred as charge generation materials.

【0142】本発明の電子写真用感光体での単層型およ
び積層型での電荷発生層に用いる結着樹脂として、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、部
分変性ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、
塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、シリコン樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール樹脂等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。これらの
結着樹脂はブロック、ランダムまたは交互共重合体であ
ることができる。また、これらの結着樹脂は、単独ある
いは2種以上混合して用いることができる。
Examples of the binder resin used for the single-layer and multilayer charge-generating layers in the electrophotographic photoreceptor of the present invention include polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, partially modified polyvinyl acetal resin, polycarbonate resin, and polyester resin. , Acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin,
Examples include, but are not limited to, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, silicone resins, phenolic resins, poly-N-vinyl carbazole resins, and the like. These binder resins can be block, random or alternating copolymers. These binder resins can be used alone or in combination of two or more.

【0143】本発明の感光体における電荷輸送層として
は、従来の積層感光体に電荷輸送層として用いられてい
る公知のものを使用することができる。例えば、ベンジ
ジン系化合物、アミン系化合物、ヒドラゾン系化合物、
スチルベン系化合物、カルバゾール系化合物等のホール
輸送性低分子化合物またはフルオレノン系化合物、マロ
ノニトリル系化合物、ジフェノキノン系化合物等の電子
輸送性低分子化合物を、単独でまたは2種以上を混合し
て、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステ
ル、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート等の絶縁
性樹脂中に均一分子分散した固溶膜、あるいは、それ自
身電荷輸送能を有する高分子化合物等を用いることがで
きる。また、セレン、アモルファスシリコン、アモルフ
ァスシリコンカーバイト等の電荷輸送能を有する無機物
質を用いることもできる。電荷輸送性高分子化合物とし
ては、ポリビニカルバゾール等の電荷輸送能を有する基
を側鎖に含む高分子化合物、特開平5−232727号
公報等に開示されているような電荷輸送能を有する基を
主鎖に含む高分子化合物、およびポリシラン等をあげる
ことができる。
As the charge transporting layer in the photoreceptor of the present invention, a known charge transporting layer used as a charge transporting layer in a conventional laminated photoreceptor can be used. For example, benzidine compounds, amine compounds, hydrazone compounds,
Stilbene compounds, hole transporting low molecular weight compounds such as carbazole compounds or fluorenone compounds, malononitrile compounds, electron transporting low molecular weight compounds such as diphenoquinone compounds, alone or as a mixture of two or more, polycarbonate, A solid solution film in which molecules are uniformly dispersed in an insulating resin such as polyarylate, polyester, polysulfone, and polymethyl methacrylate, or a polymer compound having a charge transporting ability by itself can be used. Further, an inorganic substance having a charge transporting ability, such as selenium, amorphous silicon, or amorphous silicon carbide, can also be used. Examples of the charge transporting polymer compound include a polymer compound having a charge transporting group such as polyvinylcarbazole in a side chain, and a group having a charge transporting function as disclosed in JP-A-5-232727. And a polysilane having a main chain of

【0144】本発明で用いる電荷輸送層の膜厚は1〜1
00μm、好ましくは5〜50μmである。塗布方法と
しては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーテ
ィング法、スプレーコティング法、浸漬コーティング
法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いるこ
とができる。塗布する際に用いられる溶媒は、前述のホ
ール又は電子輸送性低分子化合物及び絶縁性樹脂を溶解
する特性を有するのがよい。電荷輸送層を塗布する際に
用いられる溶媒の例として、モノクロルベンゼン、p−
キシレン、トルエンなどを挙げることができる。上記電
荷輸送層を前述の下引き層上に設ける場合、下引き層に
要求される耐溶媒性は、上記の溶媒に耐性のあるもので
ある。また、電荷輸送層の材料が気相成膜可能なもので
ある場合、真空蒸着法等により直接成膜することもでき
る。
The thickness of the charge transport layer used in the present invention is from 1 to 1
00 μm, preferably 5 to 50 μm. As a coating method, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used. The solvent used for coating preferably has the property of dissolving the above-mentioned hole or electron transporting low molecular weight compound and insulating resin. Examples of the solvent used when applying the charge transport layer include monochlorobenzene, p-
Xylene, toluene and the like can be mentioned. When the charge transport layer is provided on the undercoat layer, the solvent resistance required for the undercoat layer is one that is resistant to the solvent. In addition, when the material of the charge transport layer is a material that can be formed in a vapor phase, it can be directly formed by a vacuum deposition method or the like.

【0145】単層型の感光層、又は電荷発生層と電荷輸
送層とからなる感光層の上には、表面保護層をさらに設
けてもよい。この表面保護層は、帯電部材から発生する
オゾン、酸化性ガス等もしくは紫外光等の化学的ストレ
ス、又は現像剤、紙もしくはクリーニング部材等との接
触に起因する機械的ストレスから感光層を保護し、感光
層の実質の寿命を改善するために有効である。特に、薄
層の電荷発生層が最上層である場合、表面保護層を設け
ることは、特にその効果が顕著である。
A surface protective layer may be further provided on a single-layer type photosensitive layer or a photosensitive layer comprising a charge generation layer and a charge transport layer. This surface protective layer protects the photosensitive layer from chemical stress such as ozone, oxidizing gas or ultraviolet light generated from the charging member, or mechanical stress caused by contact with a developer, paper or a cleaning member. Is effective for improving the substantial life of the photosensitive layer. In particular, when the thin charge generating layer is the uppermost layer, the effect of providing the surface protective layer is particularly remarkable.

【0146】表面保護層の膜厚は0.5〜20μmが適
当であり、好ましくは1〜10μmであるのがよい。ま
た、表面保護層を設けた場合、必要に応じて、感光層と
保護層との間に、保護層から感光層への電荷の漏洩を阻
止するブロッキング層を設けることができる。このブロ
ッキング層としては、公知のものを用いることができ
る。
The film thickness of the surface protective layer is suitably from 0.5 to 20 μm, and preferably from 1 to 10 μm. When a surface protective layer is provided, a blocking layer for preventing leakage of electric charge from the protective layer to the photosensitive layer can be provided between the photosensitive layer and the protective layer, if necessary. As the blocking layer, a known layer can be used.

【0147】本発明の電子写真感光体においては、電子
写真装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは、
光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、各層また
は最上層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等を添加
することができる。酸化防止剤としては、公知のものを
用いることができ、例えば、ヒンダードフェノール、ヒ
ンダードアミン、パラフェニレンジアミン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれら
の誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられ
る。光安定剤としては、公知のものを用いることがで
き、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジ
チオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導
体、および、光励起状態をエネルギー移動あるいは電荷
移動により失活し得る電子吸引性化合物または電子供与
性化合物等があげられる。
In the electrophotographic photosensitive member of the present invention, ozone or oxidizing gas generated in the electrophotographic apparatus, or
An antioxidant, a light stabilizer, a heat stabilizer and the like can be added to each layer or the uppermost layer for the purpose of preventing the photoconductor from being deteriorated by light and heat. As the antioxidant, known compounds can be used, and examples thereof include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and derivatives thereof, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds. . As the light stabilizer, known ones can be used, for example, derivatives such as benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine, and electron withdrawing properties that can deactivate the photoexcited state by energy transfer or charge transfer. And a compound or an electron donating compound.

【0148】さらに、表面磨耗の低減、転写性の向上、
クリーニング性の向上等を目的として、最表面層にフッ
素樹脂等の絶縁性粒子を分散させてもよい。各層の形成
方法としてはブレードコーティング法、ワイヤーバーコ
ーティング法、スプレーコティング法、浸漬コーティン
グ法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティン
グ法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いる
ことができる。
Furthermore, reduction of surface wear, improvement of transferability,
Insulating particles such as a fluororesin may be dispersed in the outermost surface layer for the purpose of improving the cleaning property and the like. As a method for forming each layer, a usual method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, or the like can be used.

【0149】本発明の電子写真感光体において電荷輸送
層を2層設ける場合(図5および図6)は、第一の電荷
輸送層の膜厚は0.1〜50μmが適当であり、好まし
くは0.2〜15μm、さらに好ましくは0.5〜10
μmの範囲に設定される。本発明の電子写真感光体は、
さらに所望により、下引き層と導電性基体との間など
に、乱反射層等を含めることができる。
When two charge transport layers are provided in the electrophotographic photoreceptor of the present invention (FIGS. 5 and 6), the thickness of the first charge transport layer is suitably from 0.1 to 50 μm, and preferably from 0.1 to 50 μm. 0.2 to 15 μm, more preferably 0.5 to 10
It is set in the range of μm. The electrophotographic photoreceptor of the present invention is
If desired, a diffuse reflection layer or the like can be included between the undercoat layer and the conductive substrate.

【0150】本発明の電子写真感光体を搭載する電子写
真装置としては、電子写真法を用いるものであれば如何
なるものでも構わない。例えば、アナログ露光系の電子
写真複写機、レーザー露光式デジタル電子写真複写機、
電子写真式ファクシミリ、レーザービームプリンター、
LEDプリンター、液晶シャッター式プリンター等であ
る。また、電子写真感光体とともにクリーニング手段、
帯電手段、現像手段などの1つ以上と組み合せて装置ユ
ニットとしても良い。
As the electrophotographic apparatus equipped with the electrophotographic photosensitive member of the present invention, any apparatus may be used as long as it uses an electrophotographic method. For example, analog exposure type electrophotographic copying machine, laser exposure type digital electrophotographic copying machine,
Electrophotographic facsimile, laser beam printer,
Examples include an LED printer and a liquid crystal shutter printer. Cleaning means together with the electrophotographic photosensitive member,
The device unit may be combined with at least one of a charging unit and a developing unit.

【0151】[0151]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。しかしながら、本発明は以下の実施例に限定され
るものではなく、当業者は電子写真技術の公知の知見か
ら、以下の実施例に変更を加えることが可能である。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and those skilled in the art can modify the following examples based on known knowledge of electrophotographic technology.

【0152】<合成例I−1> 反応性重合開始剤 4,4'-アゾビス(4-シアノ吉草酸クロ
リド)の合成 塩化チオニル220mlを氷冷し、4,4'-アゾビス(4-
シアノ吉草酸)100gを徐々に加えた。30℃で6時
間加熱し、過剰の塩化チオニルを減圧下で留去した。残
留物をクロロホルムより再結晶化して4,4'-アゾビス(4
-シアノ吉草酸クロリド)結晶を42g得た。
<Synthesis Example I-1> Synthesis of Reactive Polymerization Initiator 4,4'-Azobis (4-cyanovaleric chloride) 220 ml of thionyl chloride was cooled with ice, and 4,4'-azobis (4-
100 g of cyanovaleric acid) were gradually added. The mixture was heated at 30 ° C. for 6 hours, and excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure. The residue was recrystallized from chloroform to give 4,4'-azobis (4
42 g of (cyanovaleric acid chloride) crystals were obtained.

【0153】<合成例I−2>ポリビニルアルコール
(和光純薬製、重合度約500)1g、2,7-ジニトロフ
ルオレノン-4-カルボン酸7.1gおよびピリジン7.
9mlをN,N-ジメチルアセトアミド50mlに溶解し
た。この溶液に、別個に用意しておいた2,4,6-トリニト
ロクロロベンゼン5.7gをN,N-ジメチルアセトアミド
100mlに溶解した溶液をゆっくりと滴下した。滴下
終了後、80℃に加熱し、24時間反応を続けた。反応
終了後、アセトンを50ml加え、析出したポリマーを
ろ別し、アセトンで十分に洗浄した。得られたポリマー
をN,N-ジメチルアセトアミド50mlに溶解させた。こ
のポリマー溶液をアセトン中に撹拌しながらゆっくりと
滴下し、再沈殿処理を行った。析出したポリマーをろ別
し、アセトンで十分に洗浄し、減圧乾燥して、プレポリ
マー3.5gを得た。得られたプレポリマーの重量平均
分子量は6.3×104であった。
<Synthesis Example I-2> 1 g of polyvinyl alcohol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, polymerization degree: about 500), 7.1 g of 2,7-dinitrofluorenone-4-carboxylic acid, and pyridine 7.
9 ml was dissolved in 50 ml of N, N-dimethylacetamide. To this solution, a solution prepared by dissolving 5.7 g of 2,4,6-trinitrochlorobenzene separately prepared in 100 ml of N, N-dimethylacetamide was slowly added dropwise. After the completion of the dropwise addition, the mixture was heated to 80 ° C., and the reaction was continued for 24 hours. After completion of the reaction, 50 ml of acetone was added, and the precipitated polymer was separated by filtration and sufficiently washed with acetone. The obtained polymer was dissolved in 50 ml of N, N-dimethylacetamide. This polymer solution was slowly dropped into acetone while stirring, and a reprecipitation treatment was performed. The precipitated polymer was separated by filtration, sufficiently washed with acetone, and dried under reduced pressure to obtain 3.5 g of a prepolymer. The weight average molecular weight of the obtained prepolymer was 6.3 × 10 4 .

【0154】上記ポリマー3.0gとトリエチルアミン
0.035gをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、
0℃以下に冷却した。ここに、合成例I−1で得られた
4,4'-アゾビス(4-シアノ吉草酸クロリド)0.39g
をテトラヒドロフラン1.4mlに懸濁した液を滴下し
た。室温で1時間反応させた後に30℃で6時間反応さ
せた。この反応液をアセトン中に滴下し、1時間撹拌し
た後に濾別した。この再沈殿操作をさらに2回繰り返し
た。残った化合物を乾燥して水酸基末端にアゾ型重合開
始剤を有するポリマー2.5gを得た。
Dissolve 3.0 g of the above polymer and 0.035 g of triethylamine in 20 ml of tetrahydrofuran,
Cooled to below 0 ° C. Here, it was obtained in Synthesis Example I-1.
0.39 g of 4,4'-azobis (4-cyanovaleric chloride)
Was suspended in 1.4 ml of tetrahydrofuran. After reacting at room temperature for 1 hour, the reaction was carried out at 30 ° C. for 6 hours. This reaction solution was dropped into acetone, stirred for 1 hour, and filtered off. This reprecipitation operation was repeated twice more. The remaining compound was dried to obtain 2.5 g of a polymer having an azo type polymerization initiator at a hydroxyl group terminal.

【0155】上記重合開始剤含有ポリマー2g、メチル
メタクリレート2g、メタクリル酸0.67gをテトラ
ヒドロフラン40mlに溶解し、窒素置換した後に65
℃で95時間加熱した。この溶液をメタノールに滴下
し、1時間撹拌した後に濾別した。得られた固体をテト
ラヒドロフラン/アセトン/メタノールの混合液で十分
に洗浄し、下記構造式(I−1)で示されるブロック共
重合体2.2gを得た。この共重合体は、フルオレノン
構造を含む電荷輸送性ブロック、及び難溶性基としてカ
ルボン酸基を有する絶縁性ブロックを有していた。得ら
れた共重合体の重量平均分子量は11×104であり、
得られたブロック共重合体の1H−NMRスペクトルの
両ブロック固有のプロトンに対応するピークの積分比か
ら、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックとの重量組成
比はおよそ3:2と計算された。また、同様にして絶縁
性ブロック中の難溶性部位と可溶性部位の重量組成比は
およそ3:7と計算された。
2 g of the above polymerization initiator-containing polymer, 2 g of methyl methacrylate, and 0.67 g of methacrylic acid were dissolved in 40 ml of tetrahydrofuran, and the solution was replaced with nitrogen.
Heat at 95 ° C. for 95 hours. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off. The obtained solid was sufficiently washed with a mixed solution of tetrahydrofuran / acetone / methanol to obtain 2.2 g of a block copolymer represented by the following structural formula (I-1). This copolymer had a charge transporting block having a fluorenone structure and an insulating block having a carboxylic acid group as a hardly soluble group. The weight average molecular weight of the obtained copolymer is 11 × 10 4 ,
From the integral ratio of the peaks corresponding to the protons specific to both blocks in the 1 H-NMR spectrum of the obtained block copolymer, the weight composition ratio of the charge transporting block and the insulating block was calculated to be about 3: 2. . Similarly, the weight composition ratio between the hardly soluble portion and the soluble portion in the insulating block was calculated to be about 3: 7.

【0156】[0156]

【化14】 Embedded image

【0157】<合成例I−3>N,N’-ビス(p,m-ジメチ
ルフェニル)-N,N’-ビス[p-(2-メトキシカルボニルエチ
ル)フェニル]-[3,3'-ジメチル-1,1’-ビフェニル]-4,
4’-ジアミン100g、エチレングリコール200gお
よびテトラブトキシチタン5gを、窒素気流下で3時間
加熱還流した。N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス[p-(2-メ
トキシカルボニルエチル)フェニル]-[1,1’-ビフェニ
ル]-4,4’-ジアミンが消費されたことを確認したのち、
0.5mmHgに減圧しエチレングリコールを留去しな
がら230℃に加熱し、さらに5時間反応を続けた。そ
の後、室温まで冷却し、塩化メチレンを加え不溶分を溶
解させ、アセトンから再沈殿することにより、両末端に
ヒドロキシ基を有するプレポリマーを90g得た。得ら
れたプレポリマーの重量平均分子量は7.4×104
あった。
<Synthesis Example I-3> N, N'-bis (p, m-dimethylphenyl) -N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]-[3,3'- Dimethyl-1,1'-biphenyl] -4,
100 g of 4'-diamine, 200 g of ethylene glycol and 5 g of tetrabutoxy titanium were heated and refluxed for 3 hours under a nitrogen stream. After confirming that N, N'-diphenyl-N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine has been consumed, ,
The pressure was reduced to 0.5 mmHg, the mixture was heated to 230 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for another 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, methylene chloride was added to dissolve the insoluble matter, and the precipitate was reprecipitated from acetone to obtain 90 g of a prepolymer having hydroxy groups at both ends. The weight average molecular weight of the obtained prepolymer was 7.4 × 10 4 .

【0158】上記ポリマー43gとトリエチルアミン
0.5gをトルエン120mlに溶解し、0℃以下に冷
却した。ここに、合成例I−1で得られた4,4'-アゾビ
ス(4-シアノ吉草酸クロリド)5.6gをトルエン20
mlに懸濁した液を滴下した。室温で1時間反応させた
後に30℃で6時間反応させた。ここから溶媒を留去
し、テトラヒドロフランを加えて溶解させ、メタノール
に滴下し、1時間撹拌した後に濾別した。この再沈殿操
作をさらに2回繰り返した。残った化合物を乾燥して末
端にアゾ型重合開始剤を有するポリマーを41g得た。
The above polymer (43 g) and triethylamine (0.5 g) were dissolved in toluene (120 ml) and cooled to 0 ° C. or lower. Here, 5.6 g of 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid chloride) obtained in Synthesis Example I-1 was added to toluene 20
The liquid suspended in ml was dropped. After reacting at room temperature for 1 hour, the reaction was carried out at 30 ° C. for 6 hours. The solvent was distilled off from this, and it was dissolved by adding tetrahydrofuran, added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered. This reprecipitation operation was repeated twice more. The remaining compound was dried to obtain 41 g of a polymer having an azo-type polymerization initiator at a terminal.

【0159】上記重合開始剤含有ポリマー6g、メチル
メタクリレート6g、無水マレイン酸2gをトルエン1
20mlに溶解し、窒素置換した後に65℃で95時間
加熱した。この溶液をメタノールに滴下し、1時間撹拌
した後に濾別した。得られた固体をテトラヒドロフラン
/アセトン/メタノールの混合液で十分に洗浄し、下記
構造式(I−2)で示されるブロック共重合体を7g得
た。この共重合体は、構造式より明らかなように、トリ
アリールアミン構造を含む電荷輸送性ブロック、及び難
溶性基として無水マレイン酸骨格を有する絶縁性ブロッ
クを有していた。得られた共重合体の重量平均分子量は
10×104であり、得られたブロック共重合体の1H−
NMRスペクトルの両ブロック固有のプロトンに対応す
るピークの積分比から、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブ
ロックの重量組成比はおよそ3:2と計算された。ま
た、同様にして絶縁性ブロック中の難溶性部位と可溶性
部位の重量組成比はおよそ3:7と計算された。
6 g of the polymerization initiator-containing polymer, 6 g of methyl methacrylate, and 2 g of maleic anhydride were added to toluene 1
After dissolving in 20 ml and purging with nitrogen, the mixture was heated at 65 ° C. for 95 hours. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off. The obtained solid was sufficiently washed with a mixed solution of tetrahydrofuran / acetone / methanol to obtain 7 g of a block copolymer represented by the following structural formula (I-2). As apparent from the structural formula, this copolymer had a charge transporting block containing a triarylamine structure and an insulating block having a maleic anhydride skeleton as a hardly soluble group. The weight average molecular weight of the resulting copolymer was 10 × 10 4, the resulting block copolymer 1 H-
From the integral ratio of peaks corresponding to protons specific to both blocks in the NMR spectrum, the weight composition ratio of the charge transporting block and the insulating block was calculated to be about 3: 2. Similarly, the weight composition ratio between the hardly soluble portion and the soluble portion in the insulating block was calculated to be about 3: 7.

【0160】[0160]

【化15】 Embedded image

【0161】<合成例I−4>合成例I−3で得られた
重合開始剤含有ポリマー2.4g、1,1,2,2,2-ペンタフ
ルオロエチルアクリレート4.8gをテトラヒドロフラ
ン25mlに溶解し、窒素置換した後に70℃で72時
間加熱した。この溶液をメタノールに滴下し、1時間撹
拌した後に濾別した。得られた固体をテトラヒドロフラ
ン/アセトン/メタノールの混合液で十分に洗浄し、下
記構造式(I−3)で示されるブロック共重合体4.6
gを得た。この共重合体は、構造式からわかるように、
トリアリールアミン構造を含む電荷輸送性ブロック、及
び難溶性基としてフッ素原子を有する絶縁性ブロックを
有していた。得られた共重合体の重量平均分子量は9.
4×104であり、得られたブロック共重合体の1H−N
MRスペクトルの両ブロック固有のプロトンに対応する
ピークの積分比から、電荷輸送性ブロックと難溶性絶縁
性ブロックとの重量組成比はおよそ1:1と計算され
た。
<Synthesis Example I-4> 2.4 g of the polymerization initiator-containing polymer obtained in Synthesis Example I-3 and 4.8 g of 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl acrylate were dissolved in 25 ml of tetrahydrofuran. After purging with nitrogen, the mixture was heated at 70 ° C. for 72 hours. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off. The obtained solid was sufficiently washed with a mixed solution of tetrahydrofuran / acetone / methanol, and a block copolymer 4.6 represented by the following structural formula (I-3) was obtained.
g was obtained. This copolymer, as can be seen from the structural formula,
It had a charge transporting block containing a triarylamine structure and an insulating block having a fluorine atom as a hardly soluble group. The weight average molecular weight of the obtained copolymer is 9.
4 × 10 4 , and 1 H—N of the obtained block copolymer
From the integral ratio of the peaks corresponding to the protons specific to both blocks in the MR spectrum, the weight composition ratio between the charge transporting block and the poorly soluble insulating block was calculated to be approximately 1: 1.

【0162】[0162]

【化16】 Embedded image

【0163】<比較合成例I−1>1,1,2,2,2-ペンタフ
ルオロエチルアクリレートをメチルメタクリレートに代
えた以外は合成例I−3と同様にして、下記構造式(I
−4)で示されるブロック共重合体を合成した。この共
重合体は、トリアリールアミン構造を含む電荷輸送性ブ
ロックと可溶性基を有する絶縁性ブロックを有してい
た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量は10
×104であり、得られたブロック共重合体の1H−NM
Rスペクトルの両ブロック固有のプロトンに対応するピ
ークの積分比から、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロッ
クとの重量組成比はおよそ1:1と計算された。
<Comparative Synthesis Example I-1> The following structural formula (I) was prepared in the same manner as in Synthesis Example I-3 except that 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl acrylate was replaced with methyl methacrylate.
-4) was synthesized. This copolymer had a charge transporting block containing a triarylamine structure and an insulating block having a soluble group. The weight average molecular weight of the obtained block copolymer is 10
× 10 4 , and 1 H-NM of the obtained block copolymer
From the integral ratio of the peaks corresponding to the protons specific to both blocks in the R spectrum, the weight composition ratio of the charge transporting block and the insulating block was calculated to be approximately 1: 1.

【0164】[0164]

【化17】 Embedded image

【0165】(実施例I−1)合成例I−4で得られた
ブロック共重合体10重量部をテトラヒドロフラン90
重量部に溶解させた溶液を、浸漬コーティング法にてア
ルミニウムプレート上に塗布した後、135℃において
60分間加熱乾燥して、0.8μmの下引き層を形成し
た。次にポリカーボネートZ樹脂(ユーピロンZ-400、
三菱ガス化学(株)製)8重量部と下記構造式(I−
5)で示される低分子電荷輸送物質5重量部を予めトル
エン85部に溶解した溶液に、クロロガリウムフタロシ
アニン2重量部を加え、ステンレスビーズと共にボール
ミル法で48時間分散処理した。この塗工液を浸漬コー
ティング法で上記下引き層上に塗布し、135℃におい
て60分間加熱乾燥して、膜厚20μmの感光層を形成
し、図1に示す構造の電子写真感光体を作製した。
(Example I-1) 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example I-4 was mixed with tetrahydrofuran 90
The solution dissolved in parts by weight was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then dried by heating at 135 ° C. for 60 minutes to form a 0.8 μm undercoat layer. Next, polycarbonate Z resin (Iupilon Z-400,
8 parts by weight of Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) and the following structural formula (I-
2 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine was added to a solution prepared by dissolving 5 parts by weight of the low-molecular-weight charge-transporting substance shown in 5) in 85 parts of toluene in advance, and the mixture was dispersed with stainless beads by a ball mill for 48 hours. This coating solution was applied on the undercoat layer by a dip coating method, and dried by heating at 135 ° C. for 60 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of 20 μm, thereby producing an electrophotographic photosensitive member having a structure shown in FIG. did.

【0166】[0166]

【化18】 Embedded image

【0167】感光層を形成した後も下引き層はクラック
など発生せず、また、感光層の膜厚も均一で良好な膜で
あった。このようにして得られた電子写真用感光体に対
し、静電複写紙試験装置(エレクトロスタティックアナ
ライザーEPA-8100、川口電機製作所社製)を用いて、常
温常湿(20℃、40%RH)の環境下、電子写真特性
の評価を行った。コロナ放電電圧を調整し、感光体表面
を−750Vに帯電させた後、干渉フィルターを通し7
50nmに単色化したハロゲンランプ光を感光体表面上
で2mW/m2 の光強度になるように調整した。この光
を7秒間照射し、光誘起電位減衰曲線より半減露光量E
50を求めた。また、露光開始時より7秒後の電位を残留
電位とした。E50は6.7mJ/m2であり、残留電位
は−60Vであった。
Even after the formation of the photosensitive layer, the undercoat layer did not have cracks or the like, and the thickness of the photosensitive layer was uniform and excellent. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was subjected to normal temperature and normal humidity (20 ° C., 40% RH) using an electrostatic copying paper tester (Electrostatic Analyzer EPA-8100, manufactured by Kawaguchi Electric Works). The electrophotographic properties were evaluated under the environment described above. After adjusting the corona discharge voltage and charging the photoreceptor surface to -750 V, the photoreceptor was passed through an interference filter.
Halogen lamp light monochromatized to 50 nm was adjusted to have a light intensity of 2 mW / m 2 on the surface of the photoreceptor. This light was irradiated for 7 seconds, and the half-decrease exposure amount E was obtained from the photoinduced potential decay curve.
Asked for 50 . The potential 7 seconds after the start of exposure was defined as the residual potential. E 50 is 6.7mJ / m 2, the residual potential was -60 V.

【0168】(実施例I−2)合成例I−3で得られた
ブロック共重合体10重量部をテトラヒドロフラン90
重量部に溶解させた溶液を、浸漬コーティング法にてア
ルミニウムプレート上に塗布した後、135℃において
60分間加熱乾燥して、0.8μmの下引き層を形成し
た。
Example I-2 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example I-3 was mixed with tetrahydrofuran 90
The solution dissolved in parts by weight was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then dried by heating at 135 ° C. for 60 minutes to form a 0.8 μm undercoat layer.

【0169】次に、クロロガリウムフタロシアニン微結
晶4重量部を、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体(商品
名:UCARソリューションビニル樹脂VMCH、ユニオンカー
バイド社製)2重量部、キシレン67重量部、および酢
酸ブチル33重量部と混合し、直径1mmのガラスビー
ズとともにサンドグラインダーで2時間処理して分散し
た後、得られた塗布液を浸漬コーティング法で上記下引
き層上に塗布した。その後、100℃において10分間
加熱乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
Next, 4 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine microcrystals were mixed with 2 parts by weight of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (trade name: UCAR Solution Vinyl Resin VMCH, manufactured by Union Carbide), 67 parts by weight of xylene, and acetic acid After mixing with 33 parts by weight of butyl and dispersing the mixture with glass beads having a diameter of 1 mm using a sand grinder for 2 hours, the obtained coating solution was applied onto the undercoat layer by a dip coating method. Thereafter, the resultant was dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

【0170】さらに、前記構造式(I−5)で示される
低分子電荷輸送材料20重量部をモノクロロベンゼン8
0重量部に溶解し、上記電荷発生層上に浸漬コーティン
グ法で塗布した。その後、135℃において1時間加熱
乾燥して、膜厚20μmの電荷輸送層を形成し、図3で
示される構造の電子写真用感光体を作製した。
Further, 20 parts by weight of the low-molecular charge transporting material represented by the structural formula (I-5) was added to monochlorobenzene 8
It was dissolved in 0 parts by weight and applied on the charge generation layer by a dip coating method. Thereafter, the resultant was dried by heating at 135 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member having a structure shown in FIG. 3 was produced.

【0171】電荷発生層を形成した後も下引き層はクラ
ックなど発生せず、また、電荷発生層の膜厚も均一で良
好な膜であった。このようにして得られた電子写真用感
光体を帯電極性を正にしたこと以外は実施例I−1と同
様に評価を行った。E50は4.8mJ/m2、残留電位
は40Vであった。
After the formation of the charge generation layer, the undercoat layer was free from cracks and the like, and the thickness of the charge generation layer was uniform and excellent. The electrophotographic photosensitive member thus obtained was evaluated in the same manner as in Example I-1, except that the charging polarity was made positive. E 50 is 4.8mJ / m 2, the residual potential was 40V.

【0172】(実施例I−3)合成例I−2で得られた
ブロック共重合体10重量部をテトラヒドロフラン90
重量部に溶解させた溶液を、浸漬コーティング法にてア
ルミニウムプレート上に塗布した後、135℃において
60分間加熱乾燥して、0.8μmの下引き層を形成し
た。
Example I-3 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example I-2 was mixed with tetrahydrofuran 90
The solution dissolved in parts by weight was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then dried by heating at 135 ° C. for 60 minutes to form a 0.8 μm undercoat layer.

【0173】次に、クロロガリウムフタロシアニン微結
晶4重量部を、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体(商品
名:UCARソリューションビニル樹脂VMCH、ユニオンカー
バイド社製)2重量部、キシレン67重量部、および酢
酸ブチル33重量部と混合し、直径1mmのガラスビー
ズとともにサンドグラインダーで2時間処理して分散し
た。その後、得られた塗布液を浸漬コーティング法で上
記下引き層上に塗布し、100℃において10分間加熱
乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
Next, 4 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine microcrystals were mixed with 2 parts by weight of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (trade name: UCAR Solution Vinyl Resin VMCH, manufactured by Union Carbide), 67 parts by weight of xylene, and acetic acid The mixture was mixed with 33 parts by weight of butyl and dispersed by treating with glass beads having a diameter of 1 mm by a sand grinder for 2 hours. Thereafter, the obtained coating solution was applied on the undercoat layer by a dip coating method, and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a 0.2 μm-thick charge generation layer.

【0174】さらに、高分子電荷輸送材料である分子量
8万の下記構造式(I−6)で示される繰返し単位より
なる化合物20重量部をモノクロロベンゼン80重量部
に溶解した。この溶液を、上記電荷発生層上に浸漬コー
ティング法で塗布し、135℃において1時間加熱乾燥
して、膜厚20μmの電荷輸送層を形成し、図3で示さ
れる構造の電子写真用感光体を作製した。
Further, 20 parts by weight of a polymer charge transporting material having a molecular weight of 80,000 and comprising a repeating unit represented by the following structural formula (I-6) was dissolved in 80 parts by weight of monochlorobenzene. This solution was applied on the charge generation layer by dip coating, and dried by heating at 135 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm. The electrophotographic photoreceptor having the structure shown in FIG. Was prepared.

【0175】[0175]

【化19】 Embedded image

【0176】電荷発生層を形成した後も下引き層はクラ
ックなど発生せず、また、電荷発生層の膜厚も均一で良
好な膜であった。このようにして得られた電子写真用感
光体を実施例I−1と同様に評価を行った。E50は4.
4mJ/m2、残留電位は−20Vであった。
Even after the formation of the charge generation layer, the undercoat layer did not generate cracks and the like, and the thickness of the charge generation layer was uniform and excellent. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was evaluated in the same manner as in Example I-1. E 50 4.
4 mJ / m 2 and the residual potential was −20 V.

【0177】(比較例I−1)ジルコニウムアルコキシ
ド化合物(商品名:オルガチックスZC540、マツモト製
薬社製)20重量部およびγーアミノプロピルトリエト
キシシラン(商品名:A1100、日本ユニカー社製)2重
量部とポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM-S、積
水化学(株)製)1.5重量部とn-ブタノール70重量
部とからなる溶液を浸漬コーティング法でアルミニウム
プレート上に塗布した後、170℃において10分間加
熱硬化し、膜厚1.0μmの下引き層を形成した。次
に、実施例I−3と同様に電荷発生層と電荷輸送層とを
形成し、電子写真用感光体を作製した。このようにして
得られた電子写真用感光体を実施例I−3と同様に評価
を行った。E50は4.9mJ/m2、残留電位は−60
Vであった。
(Comparative Example I-1) 20 parts by weight of a zirconium alkoxide compound (trade name: Organix ZC540, manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd.) and 2 parts by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane (trade name: A1100, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) And a solution consisting of 1.5 parts by weight of a polyvinyl butyral resin (S-LEC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 70 parts by weight of n-butanol were applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then heated at 170 ° C. The film was cured by heating for 10 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 1.0 μm. Next, a charge generation layer and a charge transport layer were formed in the same manner as in Example I-3, and an electrophotographic photoconductor was manufactured. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was evaluated in the same manner as in Example I-3. E 50 is 4.9 mJ / m 2 , and residual potential is −60.
V.

【0178】(比較例I−2)合成例I−2で得られた
ブロック共重合体の代わりに比較合成例I−1で得られ
たブロック共重合体を用いた以外、実施例I−3と同様
に電子写真感光体を作製した。電荷発生層は膜厚の不均
一な膜であった。下引き層が難溶化されず、電荷発生層
を塗布する際に膨潤、溶解などがおこったためと思われ
る。
Comparative Example I-2 Example I-3 was repeated, except that the block copolymer obtained in Comparative Synthesis Example I-1 was used instead of the block copolymer obtained in Synthesis Example I-2. An electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as described above. The charge generation layer was a film having a non-uniform thickness. This is probably because the undercoat layer was not hardly dissolved, and swelling and dissolution occurred during application of the charge generation layer.

【0179】(実施例I−4)アルミニウム基板の代わ
りに表面を粗面化したアルミニウムドラムを使用した以
外、実施例I−3と同様に電子写真用感光体を作製し、
レーザープリンター(Laser Press 4105、富士ゼロッ
クス社製)に搭載し、印字試験を行った。この際、最適
な露光量を得るため、レーザー光の光路にNDフィルタ
ーを入れた。このレーザプリンターの概略の構成図を図
7に示す。感光体ドラム10の周りに前露光用光源(赤
色LED)11、帯電用スコロトロン12、露光用レー
ザー光学系13、現像器14、転写用コロトロン15お
よびクリーニングブレード16がプロセスの順序に順次
配置されている。露光用レーザー光学系13は、発振波
長780nmの露光用レーザーダイオードを備えてお
り、デジタル処理された画像信号に基づき発光する。発
光したレーザー光13はポリゴンミラーと複数のレン
ズ、ミラーによりスキャンされながら感光体上を露光す
るように構成されている。なお、17は用紙を示す。
(Example I-4) An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example I-3, except that an aluminum drum having a roughened surface was used instead of the aluminum substrate.
The printer was mounted on a laser printer (Laser Press 4105, manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd.) and a printing test was performed. At this time, an ND filter was provided in the optical path of the laser beam in order to obtain an optimal exposure amount. FIG. 7 shows a schematic configuration diagram of this laser printer. A pre-exposure light source (red LED) 11, a charging scorotron 12, an exposure laser optical system 13, a developing device 14, a transfer corotron 15, and a cleaning blade 16 are sequentially arranged around the photosensitive drum 10 in the order of the process. I have. The exposure laser optical system 13 includes an exposure laser diode having an oscillation wavelength of 780 nm, and emits light based on a digitally processed image signal. The emitted laser light 13 is configured to expose the photoreceptor while being scanned by a polygon mirror, a plurality of lenses, and a mirror. Reference numeral 17 denotes a sheet.

【0180】(比較例I−3)アルミニウム基板の代わ
りに表面を粗面化したアルミニムドラムを使用した以
外、比較例I−1と同様に電子写真用感光体を作製し、
実施例I−4と同様に印字試験を行った。実施例I−4
と比較例I−3で得られた印字の品質を比べたところ、
実施例I−4の方がコントラストの再現性等の点で印字
品質が優れており、1000枚印字試験後の印字品質の
変化が少なかった。
(Comparative Example I-3) An electrophotographic photosensitive member was manufactured in the same manner as in Comparative Example I-1, except that an aluminum drum having a roughened surface was used instead of the aluminum substrate.
A printing test was performed in the same manner as in Example I-4. Example I-4
And the quality of the printing obtained in Comparative Example I-3,
Example I-4 was superior in print quality in terms of contrast reproducibility and the like, and the change in print quality after a 1,000-sheet print test was small.

【0181】<合成例II−1> 反応性重合開始剤 4,4'-アゾビス(4-シアノ吉草酸クロ
リド)の合成 合成例I−1と同様に、4,4'-アゾビス(4-シアノ吉草酸
クロリド)を合成し、該化合物を42g得た。
<Synthesis Example II-1> Synthesis of reactive polymerization initiator 4,4'-azobis (4-cyanovaleric chloride) In the same manner as in Synthesis Example I-1, 4,4'-azobis (4-cyano Valeric acid chloride) was synthesized to obtain 42 g of the compound.

【0182】<合成例II−2>合成例I−2と同様
に、中間体として、重量平均分子量6.3×104のプ
レポリマーを3.5g得た。また、このプレポリマーを
用いて、合成例I−2と同様に、水酸基末端にアゾ型重
合開始剤を有するポリマー2.5gを得た。
<Synthesis Example II-2> As in Synthesis Example I-2, 3.5 g of a prepolymer having a weight average molecular weight of 6.3 × 10 4 was obtained as an intermediate. In addition, using this prepolymer, 2.5 g of a polymer having an azo-type polymerization initiator at a hydroxyl group terminal was obtained in the same manner as in Synthesis Example I-2.

【0183】上記重合開始剤含有ポリマー2g、メチル
メタクリレート2g、2-ヒドロキシエチルメタクリレー
ト0.67gをテトラヒドロフラン40mlに溶解し、
窒素置換した後に65℃で95時間加熱した。この溶液
をメタノールに滴下し、1時間撹拌した後に濾別した。
得られた固体をエタノールで十分に洗浄し、下記構造式
(II−3)で示されるブロック共重合体2.4gを得
た。この共重合体は、構造式(II−3)からわかるよ
うに、フルオレノン構造を含む電荷輸送性ブロック、及
び架橋可能な官能基としてヒドロキシ基を有する絶縁性
ブロックを有していた。得られた共重合体の重量平均分
子量は10×104であり、得られたブロック共重合体
1H−NMRスペクトルの両ブロック固有のプロトン
に対応するピークの積分比から、電荷輸送性ブロックと
絶縁性ブロックとの重量組成比はおよそ3:2と計算さ
れた。また、同様にして絶縁性ブロック中の架橋部位と
非架橋部位の重量組成比はおよそ3:7と計算された。
The above polymerization initiator-containing polymer (2 g), methyl methacrylate (2 g), and 2-hydroxyethyl methacrylate (0.67 g) were dissolved in tetrahydrofuran (40 ml).
After purging with nitrogen, the mixture was heated at 65 ° C. for 95 hours. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off.
The obtained solid was sufficiently washed with ethanol to obtain 2.4 g of a block copolymer represented by the following structural formula (II-3). As can be seen from the structural formula (II-3), this copolymer had a charge transporting block containing a fluorenone structure and an insulating block having a hydroxy group as a crosslinkable functional group. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 10 × 10 4 , and the charge transporting block was determined from the integral ratio of the peaks corresponding to the protons specific to both blocks in the 1 H-NMR spectrum of the obtained block copolymer. The weight composition ratio between the and the insulating block was calculated to be about 3: 2. Similarly, the weight composition ratio of the crosslinked portion and the non-crosslinked portion in the insulating block was calculated to be about 3: 7.

【0184】[0184]

【化20】 Embedded image

【0185】<合成例II−3>N,N’-ビス(p,m-ジメ
チルフェニル)-N,N’-ビス[p-(2-メトキシカルボニルエ
チル)フェニル]-[3,3'-ジメチル-1,1’-ビフェニル]-4,
4’-ジアミン100g、エチレングリコール200gお
よびテトラブトキシチタン5gを、窒素気流下で3時間
加熱還流した。N,N’-ジフェニル-N,N’-ビス[p-(2-メ
トキシカルボニルエチル)フェニル]-[1,1’-ビフェニ
ル]-4,4’-ジアミンが消費されたことを確認したのち、
0.5mmHgに減圧しエチレングリコールを留去しな
がら230℃に加熱し、さらに5時間反応を続けた。そ
の後、室温まで冷却し、塩化メチレンを加え不溶分を溶
解させ、アセトンから再沈殿することにより、両末端に
ヒドロキシ基を有するプレポリマー90gを得た。得ら
れたプレポリマーの重量平均分子量は7.4×104
あった。
<Synthesis Example II-3> N, N'-bis (p, m-dimethylphenyl) -N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]-[3,3'- Dimethyl-1,1'-biphenyl] -4,
100 g of 4'-diamine, 200 g of ethylene glycol and 5 g of tetrabutoxy titanium were heated and refluxed for 3 hours under a nitrogen stream. After confirming that N, N'-diphenyl-N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]-[1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine has been consumed, ,
The pressure was reduced to 0.5 mmHg, the mixture was heated to 230 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for another 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, methylene chloride was added to dissolve the insoluble matter, and the precipitate was reprecipitated from acetone to obtain 90 g of a prepolymer having hydroxy groups at both ends. The weight average molecular weight of the obtained prepolymer was 7.4 × 10 4 .

【0186】上記ポリマー43gとトリエチルアミン
0.5gをトルエン120mlに溶解し、0℃以下に冷
却した。ここに、合成例II−1で得られた4,4'-アゾビ
ス(4-シアノ吉草酸クロリド)5.6gをトルエン20m
lに懸濁した液を滴下した。室温で1時間反応させた後
に30℃で6時間反応させた。ここから溶媒を留去し、
テトラヒドロフランを加えて溶解させ、メタノールに滴
下し、1時間撹拌した後に濾別した。この再沈殿操作を
さらに2回繰り返した。残った化合物を乾燥して末端に
アゾ型重合開始剤を有するポリマー41gを得た。
43 g of the above polymer and 0.5 g of triethylamine were dissolved in 120 ml of toluene, and cooled to 0 ° C. or lower. Here, 5.6 g of 4,4′-azobis (4-cyanovaleric chloride) obtained in Synthesis Example II-1 was added to 20 m of toluene.
l was added dropwise. After reacting at room temperature for 1 hour, the reaction was carried out at 30 ° C. for 6 hours. The solvent is distilled off from here,
Tetrahydrofuran was added to dissolve the solution, dropped into methanol, stirred for 1 hour, and then filtered. This reprecipitation operation was repeated twice more. The remaining compound was dried to obtain 41 g of a polymer having an azo-type polymerization initiator at a terminal.

【0187】上記重合開始剤含有ポリマー6g、メチル
メタクリレート6g、2-ヒドロキシエチルメタクリレー
ト2gをトルエン120mlに溶解し、窒素置換した後
に65℃で95時間加熱した。この溶液をメタノールに
滴下し、1時間撹拌した後に濾別した。得られた固体を
メタノールで十分に洗浄し、下記構造式(II−4)で
示されるブロック共重合体6gを得た。この共重合体
は、構造式(II−4)にあるように、トリアリールア
ミン構造を含む電荷輸送性ブロック、及び架橋可能な官
能基としてヒドロキシ基を有する絶縁性ブロックを有し
ていた。得られた共重合体の重量平均分子量は12×1
4であり、得られたブロック共重合体の1H−NMRス
ペクトルの両ブロック固有のプロトンに対応するピーク
の積分比から、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックと
の重量組成比はおよそ3:2と計算された。また、同様
にして絶縁性ブロック中の架橋部位と非架橋部位との重
量組成比はおよそ3:7と計算された。
6 g of the polymerization initiator-containing polymer, 6 g of methyl methacrylate, and 2 g of 2-hydroxyethyl methacrylate were dissolved in 120 ml of toluene, and the mixture was purged with nitrogen and heated at 65 ° C. for 95 hours. This solution was added dropwise to methanol, stirred for 1 hour, and filtered off. The obtained solid was sufficiently washed with methanol to obtain 6 g of a block copolymer represented by the following structural formula (II-4). This copolymer had a charge transporting block containing a triarylamine structure and an insulating block having a hydroxy group as a crosslinkable functional group, as shown in Structural Formula (II-4). The weight average molecular weight of the obtained copolymer is 12 × 1
0 is 4, from the area ratio of the peaks corresponding to the two blocks unique proton 1 H-NMR spectrum of the obtained block copolymer, the weight composition ratio of the charge transporting blocks insulating block is about 3: Calculated as 2. Similarly, the weight composition ratio between the crosslinked portion and the non-crosslinked portion in the insulating block was calculated to be about 3: 7.

【0188】[0188]

【化21】 Embedded image

【0189】<合成例II−4>N,N’-ビス(p,m-ジメ
チルフェニル)-N,N’-ビス[p-(2-メトキシカルボニルエ
チル)フェニル]-[3,3'-ジメチル-1,1’-ビフェニル]-4,
4’-ジアミンを N,N-ビス(p,m-ジメチルフェニル)- N-
[p-(m,m'-ビスメトキシカルボニルエチル)フェニル]ア
ミンに、2-ヒドロキシエチルメタクリレートをトリメト
キシシリルプロピルメタクリレートに代えた以外、合成
例II−3と同様にして、下記構造式(II−5)で示
される、トリアリールアミン構造を含む電荷輸送性ブロ
ックと架橋可能な官能基としてアルコキシシリル基を有
する絶縁性ブロックよりなるブロック共重合体を合成し
た。得られた共重合体の重量平均分子量は11×104
であり、得られたブロック共重合体の1H−NMRスペ
クトルの両ブロック固有のプロトンに対応するピークの
積分比から、電荷輸送性ブロックと絶縁性ブロックとの
重量組成比はおよそ3:2と計算された。また、絶縁性
ブロック中の架橋部位と非架橋部位の重量組成比はおよ
そ3:7と計算された。
<Synthesis Example II-4> N, N'-bis (p, m-dimethylphenyl) -N, N'-bis [p- (2-methoxycarbonylethyl) phenyl]-[3,3'- Dimethyl-1,1'-biphenyl] -4,
4'-Diamine is converted to N, N-bis (p, m-dimethylphenyl) -N-
[p- (m, m'-Bismethoxycarbonylethyl) phenyl] amine was replaced with 2-methoxyethyl methacrylate by trimethoxysilylpropyl methacrylate, and was treated in the same manner as in Synthesis Example II-3. A block copolymer composed of a charge transporting block having a triarylamine structure and an insulating block having an alkoxysilyl group as a crosslinkable functional group represented by -5) was synthesized. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 11 × 10 4
From the integration ratio of the peaks corresponding to the protons specific to both blocks in the 1 H-NMR spectrum of the obtained block copolymer, the weight composition ratio of the charge transporting block and the insulating block was approximately 3: 2. calculated. The weight composition ratio between the crosslinked portion and the non-crosslinked portion in the insulating block was calculated to be about 3: 7.

【0190】[0190]

【化22】 Embedded image

【0191】<合成例II−5>合成例II−3の2-ヒ
ドロキシエチルメタクリレートを加えなかった以外、合
成例II−3と同様に合成した。得られたブロック共重
合体の重量平均分子量は11×104であり、得られた
ブロック共重合体の1H−NMRスペクトルの両ブロッ
ク固有のプロトンに対応するピークの積分比から、電荷
輸送性ブロックと絶縁性ブロックとの重量組成比はおよ
そ2:1と計算された。
<Synthesis Example II-5> Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example II-3 except that 2-hydroxyethyl methacrylate of Synthesis Example II-3 was not added. The weight average molecular weight of the obtained block copolymer was 11 × 10 4 , and the charge transport property was determined from the integral ratio of peaks corresponding to protons specific to both blocks in the 1 H-NMR spectrum of the obtained block copolymer. The weight composition ratio between the block and the insulating block was calculated to be approximately 2: 1.

【0192】(実施例II−1)合成例II−4で得ら
れたブロック共重合体5重量部を予めトルエン95部に
溶解し、酢酸0.1重量部を加え、浸漬コーティング法
でアルミニウムプレート上に塗布し、135℃において
60分間加熱硬化させて、0.8μmの下引き層を形成
した。次にポリカーボネートZ樹脂(ユーピロンZ-400、
三菱ガス化学(株)製)8重量部と構造式(II−6)
で示される低分子電荷輸送物質5重量部を予めトルエン
85部に溶解した溶液に、クロロガリウムフタロシアニ
ン2重量部を加え、ステンレスビーズと共にボールミル
法で48時間分散処理した。この塗工液を浸漬コーティ
ング法で上記下引き層上に塗布し、135℃において6
0分間加熱乾燥して、膜厚20μmの感光層を形成し、
図1に示す構造の電子写真感光体を作製した。
Example II-1 5 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example II-4 was previously dissolved in 95 parts of toluene, and 0.1 part by weight of acetic acid was added. It was applied on top and cured by heating at 135 ° C. for 60 minutes to form a 0.8 μm undercoat layer. Next, polycarbonate Z resin (Iupilon Z-400,
8 parts by weight of Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and structural formula (II-6)
2 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine were added to a solution of 5 parts by weight of a low-molecular charge transporting material previously shown in 85 parts of toluene, and the mixture was dispersed with stainless beads by a ball mill for 48 hours. This coating solution was applied on the undercoat layer by a dip coating method,
Heat drying for 0 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of 20 μm,
An electrophotographic photosensitive member having the structure shown in FIG. 1 was produced.

【0193】[0193]

【化23】 Embedded image

【0194】感光層を形成した後も下引き層はクラック
など発生せず、また、感光層の膜厚も均一で良好な膜で
あった。このようにして得られた電子写真用感光体に対
し、静電複写紙試験装置(エレクトロスタティックアナ
ライザーEPA-8100、川口電機製作所社製)を用いて、常
温常湿(20℃、40%RH)の環境下、電子写真特性
の評価を行った。コロナ放電電圧を調整し、感光体表面
を−750Vに帯電させた後、干渉フィルターを通し7
50nmに単色化したハロゲンランプ光を感光体表面上
で2mW/m2 の光強度になるように調整した。この光
を7秒間照射し、光誘起電位減衰曲線より半減露光量E
50を求めた。また、露光開始時より7秒後の電位を残留
電位とした。E50は6.8mJ/m2、残留電位は−7
0Vであった。
Even after the formation of the photosensitive layer, the undercoat layer did not have cracks or the like, and the photosensitive layer was a uniform and good film. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was subjected to normal temperature and normal humidity (20 ° C., 40% RH) using an electrostatic copying paper tester (Electrostatic Analyzer EPA-8100, manufactured by Kawaguchi Electric Works). The electrophotographic properties were evaluated under the environment described above. After adjusting the corona discharge voltage and charging the photoreceptor surface to -750 V, the photoreceptor was passed through an interference filter.
Halogen lamp light monochromatized to 50 nm was adjusted to have a light intensity of 2 mW / m 2 on the surface of the photoreceptor. This light was irradiated for 7 seconds, and the half-exposure amount E
Asked for 50 . The potential 7 seconds after the start of exposure was defined as the residual potential. E 50 is 6.8mJ / m 2, the residual potential is -7
It was 0V.

【0195】(実施例II−2)合成例II−3で得ら
れたブロック共重合体10重量部と架橋剤として前記構
造式(II−1)で示される三価のイソシアネート化合
物1重量部をシクロヘキサノン90重量部に溶解させた
溶液を、浸漬コーティング法にてアルミニウムプレート
上に塗布した後、150℃で60分間加熱硬化させて、
0.8μmの下引き層を形成した。
Example II-2 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example II-3 and 1 part by weight of a trivalent isocyanate compound represented by the structural formula (II-1) as a crosslinking agent were used. A solution dissolved in 90 parts by weight of cyclohexanone was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then cured by heating at 150 ° C. for 60 minutes.
An undercoat layer of 0.8 μm was formed.

【0196】次に、クロロガリウムフタロシアニン微結
晶4重量部を、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体(商品
名:UCARソリューションビニル樹脂VMCH、ユニオンカー
バイド社製)2重量部、キシレン67重量部、および酢
酸ブチル33重量部と混合し、直径1mmのガラスビー
ズとともにサンドグラインダーで2時間処理して分散さ
せた。その後、得られた塗布液を浸漬コーティング法で
上記下引き層上に塗布し、100℃において10分間加
熱乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
Next, 4 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine microcrystals were mixed with 2 parts by weight of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (trade name: UCAR Solution Vinyl Resin VMCH, manufactured by Union Carbide), 67 parts by weight of xylene, and acetic acid The mixture was mixed with 33 parts by weight of butyl and dispersed by treating with glass beads having a diameter of 1 mm in a sand grinder for 2 hours. Thereafter, the obtained coating solution was applied on the undercoat layer by a dip coating method, and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a 0.2 μm-thick charge generation layer.

【0197】さらに、前記構造式(II−6)で示され
る低分子電荷輸送20重量部をモノクロロベンゼン80
重量部に溶解し、上記電荷発生層上に浸漬コーティング
法で塗布した。その後、135℃において1時間加熱乾
燥して、膜厚20μmの電荷輸送層を形成し、図3で示
す構造の電子写真用感光体を作製した。
Further, 20 parts by weight of the low molecular charge transporting compound represented by the structural formula (II-6) was added to monochlorobenzene 80
It was dissolved in parts by weight and applied on the charge generation layer by dip coating. Thereafter, the resultant was dried by heating at 135 ° C. for 1 hour to form a charge transporting layer having a thickness of 20 μm. Thus, an electrophotographic photosensitive member having a structure shown in FIG. 3 was produced.

【0198】電荷発生層を形成した後も下引き層はクラ
ックなど発生せず、また、電荷発生層の膜厚も均一で良
好な膜であった。このようにして得られた電子写真用感
光体を帯電極性を正にしたこと以外は実施例II−1と
同様に評価を行った。E50は5.7mJ/m2、残留電
位は60Vであった。
After the formation of the charge generation layer, the undercoat layer was free from cracks and the like, and the thickness of the charge generation layer was uniform and excellent. The electrophotographic photosensitive member thus obtained was evaluated in the same manner as in Example II-1, except that the charging polarity was made positive. E 50 is 5.7mJ / m 2, the residual potential was 60V.

【0199】(実施例II−3)合成例II−2で得ら
れたブロック共重合体10重量部と架橋剤として前記構
造式(II−1)で示される三価のイソシアネート化合
物1重量部をシクロヘキサノン90重量部に溶解させた
溶液を、浸漬コーティング法にてアルミニウムプレート
上に塗布した後、150℃で60分間加熱硬化させて、
0.8μmの下引き層を形成した。
Example II-3 10 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example II-2 and 1 part by weight of a trivalent isocyanate compound represented by the structural formula (II-1) as a crosslinking agent were used. A solution dissolved in 90 parts by weight of cyclohexanone was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then cured by heating at 150 ° C. for 60 minutes.
An undercoat layer of 0.8 μm was formed.

【0200】次に、クロロガリウムフタロシアニン微結
晶4重量部を、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体(商品
名:UCARソリューションビニル樹脂VMCH、ユニオンカー
バイド社製)2重量部、キシレン67重量部、および酢
酸ブチル33重量部と混合し、直径1mmのガラスビー
ズとともにサンドグラインダーで2時間処理して分散さ
せた。その後、得られた塗布液を浸漬コーティング法で
上記下引き層上に塗布し、100℃において10分間加
熱乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
Next, 4 parts by weight of chlorogallium phthalocyanine microcrystals were mixed with 2 parts by weight of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (trade name: UCAR Solution Vinyl Resin VMCH, manufactured by Union Carbide), 67 parts by weight of xylene, and acetic acid The mixture was mixed with 33 parts by weight of butyl and dispersed by treating with glass beads having a diameter of 1 mm in a sand grinder for 2 hours. Thereafter, the obtained coating solution was applied on the undercoat layer by a dip coating method, and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a 0.2 μm-thick charge generation layer.

【0201】さらに、高分子電荷輸送材料である分子量
8万の下記構造式(II−7)で示される繰返し単位よ
りなる化合物20重量部をモノクロロベンゼン80重量
部に溶解した。この溶液を、上記電荷発生層上に浸漬コ
ーティング法で塗布し、135℃において1時間加熱乾
燥して、膜厚20μmの電荷輸送層を形成し、図3で示
す構造の電子写真用感光体を作製した。
Further, 20 parts by weight of a polymer charge transporting material having a molecular weight of 80,000 and comprising a repeating unit represented by the following structural formula (II-7) was dissolved in 80 parts by weight of monochlorobenzene. This solution was applied on the charge generation layer by dip coating, and dried by heating at 135 ° C. for 1 hour to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm. Produced.

【0202】[0202]

【化24】 Embedded image

【0203】電荷発生層を形成した後も下引き層はクラ
ックなど発生せず、また、電荷発生層の膜厚も均一で良
好な膜であった。このようにして得られた電子写真用感
光体を実施例II−1と同様に評価を行った。E50
4.5mJ/m2、残留電位は−30Vであった。
Even after the formation of the charge generation layer, the undercoat layer did not generate cracks and the like, and the thickness of the charge generation layer was uniform and excellent. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was evaluated in the same manner as in Example II-1. E 50 is 4.5mJ / m 2, the residual potential was -30 V.

【0204】(比較例II−1)ジルコニウムアルコキ
シド化合物(商品名:オルガチックスZC540、マツモト
製薬社製)20重量部およびγ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン(商品名:A1100、日本ユニカー社製)2
重量部とポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM-S、
積水化学(株)製)1.5重量部とn-ブタノール70重
量部からなる溶液を浸漬コーティング法でアルミニウム
プレート上に塗布した後、170℃において10分間加
熱乾燥し、膜厚1.0μmの下引き層を形成した。次
に、実施例II−3と同様に電荷発生層と電荷輸送層を
形成し、電子写真用感光体を作製した。このようにして
得られた電子写真用感光体を実施例II−3と同様に評
価を行った。E50は4.9mJ/m2、残留電位は−6
0Vであった。
(Comparative Example II-1) 20 parts by weight of a zirconium alkoxide compound (trade name: Organix ZC540, manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd.) and γ-aminopropyltriethoxysilane (trade name: A1100, manufactured by Nippon Unicar) 2
Parts by weight and polyvinyl butyral resin (S-LEC BM-S,
A solution consisting of 1.5 parts by weight of Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 70 parts by weight of n-butanol was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then heated and dried at 170 ° C. for 10 minutes to form a film having a thickness of 1.0 μm. An undercoat layer was formed. Next, a charge generation layer and a charge transport layer were formed in the same manner as in Example II-3, and an electrophotographic photoconductor was manufactured. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was evaluated in the same manner as in Example II-3. E 50 is 4.9 mJ / m 2 , residual potential is −6
It was 0V.

【0205】(比較例II−2)イソシアネート化合物
を加えなかった以外、実施例II−3と同様に電子写真
感光体を作製した。電荷発生層は膜厚の不均一な膜であ
った。イソシアネート化合物がないために、下引き層が
架橋により分子構造が3次元化されず、電荷発生層を塗
布する際に膨潤、溶解などがおこったためと思われる。
(Comparative Example II-2) An electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Example II-3, except that no isocyanate compound was added. The charge generation layer was a film having a non-uniform thickness. It is considered that the molecular structure was not three-dimensionally formed by crosslinking of the undercoat layer due to the absence of the isocyanate compound, and swelling and dissolution occurred when the charge generation layer was applied.

【0206】(実施例II−4)合成例II−5で得ら
れたブロック共重合体15重量部と架橋剤として過酸化
物であるt-ブチルバーオキシイソプロピルモノカーボネ
ート1重量部をトルエン84重量部に溶解させた溶液を
浸漬コーティング法でアルミニウムプレート上に塗布し
た後、150℃で30分加熱硬化させて、膜厚1.0μ
mの下引き層を形成した。次に、実施例II−2と同様
に電荷発生層と電荷輸送層を形成し、電子写真用感光体
を作製した。このようにして得られた電子写真用感光体
を実施例II−2と同様に評価を行った。E50は5.8
mJ/m2、残留電位は70Vであった。
(Example II-4) 15 parts by weight of the block copolymer obtained in Synthesis Example II-5 and 1 part by weight of a peroxide, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, as a crosslinking agent were added to 84 parts by weight of toluene. The solution dissolved in the part was applied on an aluminum plate by a dip coating method, and then cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes to form a film having a thickness of 1.0 μm.
m was formed. Next, a charge generation layer and a charge transport layer were formed in the same manner as in Example II-2, to produce a photoconductor for electrophotography. The electrophotographic photoreceptor thus obtained was evaluated in the same manner as in Example II-2. E 50 5.8
mJ / m 2 , and the residual potential was 70 V.

【0207】(実施例II−5)アルミニウム基板の代
わりに表面を粗面化したアルミニウムドラムを使用した
以外、実施例II−3と同様に電子写真用感光体を作製
し、レーザープリンター(Laser Press 4105、富士ゼロ
ックス社製)に搭載し、印字試験を行った。この際、最
適な露光量を得るため、レーザー光の光路にNDフィル
ターを入れた。このレーザプリンターの概略構成図を図
7に示す。
(Example II-5) An electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example II-3 except that an aluminum drum having a roughened surface was used instead of the aluminum substrate, and a laser printer (Laser Press) was used. 4105, manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd.). At this time, an ND filter was provided in the optical path of the laser beam in order to obtain an optimal exposure amount. FIG. 7 shows a schematic configuration diagram of this laser printer.

【0208】感光体ドラム10の周りに前露光用光源
(赤色LED)11、帯電用スコロトロン12、露光用
レーザー光学系13、現像器14、転写用コロトロン1
5およびクリーニングブレード16がプロセスの順序に
順次配置されている。露光用レーザー光学系13は、発
振波長780nmの露光用レーザーダイオードを備えて
おり、デジタル処理された画像信号に基づき発光する。
発光したレーザー光13はポリゴンミラー、並びに複数
のレンズ及びミラーによりスキャンされながら感光体上
を露光するように構成されている。なお、17は用紙を
示す。
Around the photosensitive drum 10, a pre-exposure light source (red LED) 11, a charging scorotron 12, an exposure laser optical system 13, a developing unit 14, and a transfer corotron 1
5 and the cleaning blade 16 are sequentially arranged in the order of the process. The exposure laser optical system 13 includes an exposure laser diode having an oscillation wavelength of 780 nm, and emits light based on a digitally processed image signal.
The emitted laser light 13 is configured to expose the surface of the photoconductor while being scanned by a polygon mirror and a plurality of lenses and mirrors. Reference numeral 17 denotes a sheet.

【0209】(比較例II−3)アルミニウム基板の代
わりに表面を粗面化したアルミニムドラムを使用した以
外、比較例II−1と同様に電子写真用感光体を作製
し、実施例II−5と同様に印字試験を行った。実施例
II−5と比較例II−3で得られた印字の品質を比べ
たところ、実施例II−5の方がコントラストの再現性
等の点で印字品質が優れており、1000枚印字試験後
の印字品質の変化が少なかった。
(Comparative Example II-3) An electrophotographic photosensitive member was prepared in the same manner as in Comparative Example II-1, except that an aluminum drum having a roughened surface was used instead of the aluminum substrate. A printing test was performed in the same manner as in No. 5. When the quality of the prints obtained in Example II-5 and Comparative Example II-3 was compared, the print quality of Example II-5 was superior in terms of contrast reproducibility, etc. Subsequent changes in print quality were small.

【0210】[0210]

【発明の効果】本発明は、電気的特性に優れ、積層成膜
時に問題の発生がなく、積層成膜の材料設計上の自由度
が高い電子写真感光体を提供することができる。また、
この電子写真感光体を用いた電子写真装置を提供するこ
とができる。
According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photoreceptor which has excellent electrical characteristics, does not cause any problem during lamination film formation, and has a high degree of freedom in designing materials for lamination film formation. Also,
An electrophotographic apparatus using the electrophotographic photosensitive member can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 単層型感光体の構造の一例を示す模式的断面
図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the structure of a single-layer type photoconductor.

【図2】 図1の単層型感光体の感光層上にさらに保護
層を有する感光体の模式的断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a photosensitive member having a protective layer on the photosensitive layer of the single-layer photosensitive member of FIG.

【図3】 積層型感光体の構造の一例を示す模式的断面
図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the structure of a stacked photoconductor.

【図4】 図3の積層型感光体の感光層上にさらに保護
層を有する感光体の模式的断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a photoreceptor having a protective layer on a photosensitive layer of the laminated photoreceptor of FIG.

【図5】 積層型感光体の感光層のうち、電荷輸送層が
2層存在する感光体の一例を示す模式的断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a photoconductor in which two charge transport layers are present among the photosensitive layers of the stacked photoconductor.

【図6】 図5の積層型感光体の感光層上にさらに保護
層を有する感光体の模式的断面図である。
6 is a schematic cross-sectional view of a photoconductor having a protective layer on the photoconductor layer of the laminated photoconductor of FIG. 5;

【図7】 本発明の感光体を用いたレーザプリンタの概
略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a laser printer using the photoconductor of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 導電性基体、2 下引き層、3 感光層、4 電荷
発生層、5 電荷輸送層、6 第1の電荷輸送層、7
第2の電荷輸送層、8 表面保護層、10 感光体、1
1 前露光光源(赤色LED)、12 帯電用スコロト
ロン、13 レーザ光、14 現像器、15 転写用コ
ロトロン、16 クリーニングブレード、17 用紙。
REFERENCE SIGNS LIST 1 conductive substrate, 2 undercoat layer, 3 photosensitive layer, 4 charge generation layer, 5 charge transport layer, 6 first charge transport layer, 7
Second charge transport layer, 8 surface protective layer, 10 photoreceptor, 1
1 Pre-exposure light source (red LED), 12 Scorotron for charging, 13 Laser light, 14 Developing device, 15 Corotron for transfer, 16 Cleaning blade, 17 Paper.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 222/40 C08F 222/40 293/00 293/00 C08J 3/24 CEY C08J 3/24 CEYZ (72)発明者 岩崎 真宏 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 星崎 武敏 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 山口 康浩 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内 Fターム(参考) 2H068 AA43 AA48 BB02 BB20 BB44 BB57 BB61 BB62 EA12 FB02 FB05 4F070 AA12 AA17 AA18 AA23 AA25 AA29 AA33 AA34 AA35 AA37 AC35 AC40 AC45 AC53 AC56 AC59 AC63 AC64 AC67 AE08 GA01 GA03 GA05 GA06 GA08 GB09 GC09 4J026 HA06 HA11 HA17 HA46 HB05 HB06 HB09 HB10 HB11 HB12 HB20 HB22 HB32 HE01 HE02 4J100 AA15Q AA17Q AA19Q AA21Q AB00Q AB02Q AB03Q AB04Q AB07Q AB07R AC21P AC22P AD07P AE01Q AF10Q AJ01P AJ02P AK31P AK32P AK33P AL03Q AL04Q AL05Q AL08P AL08Q AL08R AL19Q AL24Q AM01P AM02P AM03P AM15P AM17P AM42P AM43P AM45P AM47P AM48P AS06P BA03P BA03R BA16R BA29R BA40P BA40R BA42R BA52R BA58R BA75R BB01P BB01R BB07P BB12P BB17P BB18P BC02Q BC04Q BC26Q BC43P BC43Q BC48Q BC49Q BC54R CA04 CA05 CA31 DA01 HA53 HC04 HC12 HC28 HC36 HC43 HC51 HC54 HC78 HC80 JA43 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 222/40 C08F 222/40 293/00 293/00 C08J 3/24 CEY C08J 3/24 CEYZ (72) Inventor Masahiro Iwasaki 1600 Takematsu, Minami Ashigara, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Xerox Co., Ltd. (72) Inventor Taketoshi Hoshizaki 1600 Takematsu, Minami Ashigara City, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Xerox Co., Ltd. Address F-term in Fuji Xerox Co., Ltd. (reference) 2H068 AA43 AA48 BB02 BB20 BB44 BB57 BB61 BB62 EA12 FB02 FB05 4F070 AA12 AA17 AA18 AA23 AA25 AA29 AA33 AA34 AA35 AA37 AC35 AC40 GA45 AC53 AC06 GA03 GB09 GC09 4J026 HA06 HA11 HA17 HA46 HB05 HB06 HB09 HB10 HB11 HB12 HB20 HB22 HB32 HE01 HE02 4J10 0 AA15Q AA17Q AA19Q AA21Q AB00Q AB02Q AB03Q AB04Q AB07Q AB07R AC21P AC22P AD07P AE01Q AF10Q AJ01P AJ02P AK31P AK32P AK33P AL03Q AL04Q AL05Q AL08P AL08Q AL08R AL19Q AL24Q AM01P AM02P AM03P AM15P AM17P AM42P AM43P AM45P AM47P AM48P AS06P BA03P BA03R BA16R BA29R BA40P BA40R BA42R BA52R BA58R BA75R BB01P BB01R BB07P BB12P BB17P BB18P BC02Q BC04Q BC26Q BC43P BC43Q BC48Q BC49Q BC54R CA04 CA05 CA31 DA01 HA53 HC04 HC12 HC28 HC36 HC43 HC51 HC54 HC78 HC80 JA43

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性基体上に下引き層、並びに該下引
き層上に電荷発生材料及び電荷輸送材料を含有する感光
層を少なくとも有する電子写真感光体であって、該下引
き層の材料が絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共重
合体であり、前記絶縁性部分が前記感光層を塗布する際
に用いられる溶剤に難溶な材料からなり、前記電荷輸送
性部分が前記電荷輸送材料と逆の電荷を輸送する、電子
写真感光体。
1. An electrophotographic photoreceptor having an undercoat layer on a conductive substrate, and a photosensitive layer containing a charge generating material and a charge transport material on the undercoat layer, wherein the material of the undercoat layer is provided. Is a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion, wherein the insulating portion is made of a material that is hardly soluble in a solvent used when applying the photosensitive layer, and the charge transporting portion is the charge An electrophotographic photoreceptor that transports the opposite charge to the transport material.
【請求項2】 導電性基体上に下引き層、並びに該下引
き層上に電荷発生材料及び電荷輸送材料を含有する感光
層を少なくとも有する電子写真感光体であって、該下引
き層の材料が絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含みかつ
架橋構造を有する共重合体であり、前記電荷輸送性部分
が前記電荷輸送材料と逆の電荷を輸送する、電子写真感
光体。
2. An electrophotographic photoreceptor having at least a subbing layer on a conductive substrate and a photosensitive layer containing a charge generating material and a charge transporting material on the subbing layer, wherein the material for the subbing layer is provided. Is a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion and having a crosslinked structure, wherein the charge transporting portion transports a charge opposite to that of the charge transporting material.
【請求項3】 前記架橋構造が、第1の共重合体の絶縁
性部分と第2の共重合体の絶縁性部分とを架橋してなる
構造を含む請求項2記載の電子写真感光体。
3. The electrophotographic photoreceptor according to claim 2, wherein the crosslinked structure includes a structure formed by crosslinking an insulating portion of the first copolymer and an insulating portion of the second copolymer.
【請求項4】 前記共重合体は、架橋可能な官能基を介
して前記架橋構造を形成する請求項2又は3記載の電子
写真感光体。
4. The electrophotographic photoconductor according to claim 2, wherein the copolymer forms the crosslinked structure via a crosslinkable functional group.
【請求項5】 前記絶縁性部分が、ビニル系モノマー由
来の重合物を含む請求項1〜4のいずれか1項記載の電
子写真感光体。
5. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the insulating portion contains a polymer derived from a vinyl monomer.
【請求項6】 ビニル系モノマーが下記一般式(I−
α)または(I−β)で示される化合物の少なくとも1
種を含有する請求項5記載の電子写真感光体。 【化1】 (式中、R1〜R3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲ
ン原子、置換もしくは未置換のアルキル基、または置換
もしくは未置換のアリール基を示す。R4は、フッ素原
子を含む炭素数3以上の置換アルキル基、フッ素原子を
含む炭素数6以上の置換アリール基、フッ素原子を含む
炭素数3以上の置換アルキルオキシカルボニル基、フッ
素原子を含む炭素数3以上の置換アルキルオキシ基、環
状もしくは非環状のアミド基、環状もしくは非環状のシ
アノ基、置換もしくは未置換のシアノアルキル基、置換
もしくは未置換のシアノアリール基、または置換もしく
は未置換のカルボン酸基を示す。Zは、酸素原子、また
は置換もしくは未置換のイミノ基を示す。)
6. A vinyl monomer represented by the following general formula (I-
at least one of the compounds represented by α) or (I-β)
The electrophotographic photoreceptor according to claim 5, comprising a seed. Embedded image (Wherein, R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. R 4 has 3 carbon atoms including a fluorine atom. The above substituted alkyl group, a substituted aryl group having 6 or more carbon atoms containing a fluorine atom, a substituted alkyloxycarbonyl group having 3 or more carbon atoms containing a fluorine atom, a substituted alkyloxy group having 3 or more carbon atoms containing a fluorine atom, cyclic or Z represents an oxygen atom, an acyclic amide group, a cyclic or acyclic cyano group, a substituted or unsubstituted cyanoalkyl group, a substituted or unsubstituted cyanoaryl group, or a substituted or unsubstituted carboxylic acid group. Or a substituted or unsubstituted imino group.)
【請求項7】 ビニル系モノマーが下記一般式(II)
で示される化合物の少なくとも1種、および下記一般式
(III)で示される架橋可能な官能基を有する化合物
の少なくとも1種を含有する請求項5記載の電子写真感
光体。 【化2】 (一般式(II)中、R11〜R13はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、または置換もしくは未置換のアル
キル基またはアリール基を示し、R14はハロゲン原子、
または置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアル
コキシカルボニル基を示す。また、一般式(III)
中、R15〜R17はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原
子、または置換もしくは未置換のアルキル基またはアリ
ール基を示し、R18はクロルスルホン基、カルボキシル
基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ニトリル基、イソシ
アナート基、アミノ基、エポキシ基もしくはアルコキシ
シリル基で置換された置換アルキル基、置換アリール
基、置換アルコキシ基、置換アシル基、置換アシルオキ
シ基、または置換アルコキシカルボニル基を示す。)
7. A vinyl monomer represented by the following general formula (II):
6. The electrophotographic photoreceptor according to claim 5, comprising at least one compound represented by the following formula and at least one compound having a crosslinkable functional group represented by the following general formula (III). Embedded image (In the general formula (II), R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group, R 14 represents a halogen atom,
Or a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group,
Represents an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, or an alkoxycarbonyl group. In addition, general formula (III)
Wherein R 15 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group, and R 18 represents a chlorosulfone group, a carboxyl group, a hydroxy group, a mercapto group, a nitrile group, A substituted alkyl group, a substituted aryl group, a substituted alkoxy group, a substituted acyl group, a substituted acyloxy group, or a substituted alkoxycarbonyl group substituted with an isocyanate group, an amino group, an epoxy group or an alkoxysilyl group. )
【請求項8】 絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含む共
重合体を含有する塗工液を調製する工程、該塗工液を導
電性基体上に塗布して下引き層を調製する工程、及び該
下引き層調製工程後に電荷発生材料及び/又は電荷輸送
材料を含有する感光層を前記下引き層上に湿式塗布法に
より調製する工程を有する電子写真感光体の製造方法。
8. A step of preparing a coating solution containing a copolymer containing an insulating portion and a charge transporting portion, and a step of applying the coating solution on a conductive substrate to prepare an undercoat layer. And a method of preparing a photosensitive layer containing a charge generation material and / or a charge transport material on the undercoat layer by a wet coating method after the undercoat layer preparation step.
【請求項9】 絶縁性部分と電荷輸送性部分とを含み且
つ架橋可能な官能基を有する共重合体を含有する塗工液
を調製する工程、該塗工液を導電性基体上に塗布する工
程、該塗布工程後又は塗布工程中に前記共重合体を架橋
させて下引き層を調製する工程、及び該下引き層調製工
程後に電荷発生材料及び/又は電荷輸送材料を含有する
感光層を前記下引き層上に湿式塗布法により調製する工
程を有する電子写真感光体の製造方法。
9. A step of preparing a coating solution containing a copolymer having an insulating portion and a charge transporting portion and having a crosslinkable functional group, and applying the coating solution on a conductive substrate. A step of preparing an undercoat layer by crosslinking the copolymer after or during the coating step, and a step of preparing a photosensitive layer containing a charge generation material and / or a charge transport material after the undercoat layer preparation step. A method for producing an electrophotographic photosensitive member, comprising a step of preparing the undercoat layer by a wet coating method.
【請求項10】 請求項1〜7のいずれか1項記載の電
子写真感光体を有する電子写真装置。
10. An electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
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