KR20130142867A - Cleaning device and cleaning method - Google Patents

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노부오 호리우치
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도레 엔지니아린구 가부시키가이샤
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Abstract

Provided are a cleaning device and a cleaning method capable of forcefully removing a fixated material fixated on a lip with a low price. A cleaning device (40) comprises a cleaning unit (5) and a cleaning solution supply unit (14) for supplying a cleaning solution to clean a lip surface (23) and cleans the lip surface (23) while moving the cleaning unit (5) and the cleaning solution supply unit (14) to the long side direction of the lip surface (23) by a movement means (6), and a cleaning unit (5), to which a ultrasonic vibrator (15) is attached, includes a ultrasonic vibrating unit (11) having a facing groove (13), forms a retting unit (19) by moving the facing groove (13) and the lip surface to be close to each other and supplying the cleaning solution to a gap between the facing groove and the lip surface from the cleaning solution supply unit (14), cleans part of the lip surface (23) by performing ultrasonic vibration of the ultrasonic vibrating unit (11), and cleans the lip surface (23) to the long side direction by moving the cleaning unit (5) and the cleaning solution supply unit (14) to the long side direction.

Description

세정 장치 및 세정 방법{CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD}[0001] CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD [0002]

본 발명은 기판에 대하여 도포액을 토출(吐出)하는 구금(口金)의 립(lip)을 세정하는 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning a lip of a molten metal for discharging a coating liquid onto a substrate.

액정 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이, 태양 전지 패널 등에는, 화소, 회로 패턴 등이 형성된 기판이 이용되고 있고, 이와 같은 기판은, 예를 들어 레지스트액(도포액)을 도포하여 행하는 포토리소그래피(photolithography) 기술이 이용되는 것에 의하여 제작되고 있다. 그리고, 기판에 대하여 도포액을 도포하는 장치로서, 슬릿이 내부에 형성되어 있는 구금을 가진 도포 장치가 알려져 있다. 또한, 이 구금의 하부에는 립으로 불리는 돌출부가 형성되어 있고, 이 립의 선단(先端)에 있어서, 상기 슬릿이 개구(開口)하고 있다. 이 도포 장치에 의하면, 기판에 대하여 구금을 수평 이동시키면서, 립 선단의 개구로부터 도포액을 토출하는 것으로, 기판 표면에 도포액의 막을 형성할 수 있다. A substrate on which pixels, circuit patterns, and the like are formed is used for a flat panel display such as a liquid crystal display, a solar cell panel, and the like. Such a substrate is formed by, for example, photolithography in which a resist solution (coating liquid) Technology is being used. As a device for applying a coating liquid to a substrate, there is known a coating device having a slit in which a slit is formed. Further, a protrusion called a lip is formed in the lower part of the opening, and the slit is opened at the tip of the lip. According to this coating apparatus, a film of the coating liquid can be formed on the surface of the substrate by discharging the coating liquid from the opening of the lip tip while horizontally moving the plunger against the substrate.

이 도포 장치에 의한 도포 작업이 장시간 계속하여 행하여지면, 립 선단 및 립을 형성하는 면 등에, 도포액의 고화물이나 도포액에 혼입한 이물이라고 하는 고착물이 고착하는 일이 있고, 이러한 고착물은 도포액의 토출에 영향을 주어, 도포 결함이 발생할 우려가 있다. When the coating operation by this coating apparatus is continuously performed for a long time, there is a case where the fixture of the coating liquid or the foreign matter mixed with the coating liquid adheres to the surface of the lip and the surface on which the lip is formed, May affect the discharge of the coating liquid, which may cause coating defects.

이 고착물을 청소, 제거하는 청소 부재를 가지는 도포 장치가 하기 특허 문헌 1에 나타내져 있다. 이 청소 부재는, 립과 합치하는 형상을 가지며, 고분자 수지로 이루어지는 부재이고, 이것을 립에 당접(當接, 부딪는 상태로 접함)시킨 상태로 립의 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여, 립의 고착물을 긁어내어 제거하는 것이다. A coating device having a cleaning member for cleaning and removing the fixture is shown in Patent Document 1 below. The cleaning member has a shape conforming to the lip and is made of a polymer resin. By moving the cleaning member in the longitudinal direction of the lip while abutting the lip against the lip, And scrape off.

또한, 하기 특허 문헌 2에는, 고착물을 세정, 제거하는 세정 장치를 구비하는 도포 장치가 나타내져 있다. 이 세정 장치는, 세정액을 저류(貯留)한 조(槽)이며, 이 조는 초음파 진동자를 가진다. 그리고, 립을 조 내의 세정액에 침지(浸漬)시킨 상태로 세정액을 초음파 진동시키는 것에 의하여, 립을 초음파 세정하여, 강력하게 고착물을 제거할 수 있다.Also, in Patent Document 2 below, there is shown a coating apparatus provided with a cleaning device for cleaning and removing a fixture. This cleaning apparatus is a tank in which a cleaning liquid is stored, and this tank has an ultrasonic vibrator. By ultrasonic vibration of the cleaning liquid in a state in which the lip is immersed (immersed) in the cleaning liquid in the bath, the lip can be ultrasonically cleaned to strongly remove the fixture.

일본국 공개특허공보 특개평9-187710호Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-187710 일본국 특허출원 특원2011-153903호Japanese Patent Application No. 2011-153903

그러나, 상기 특허 문헌 1에 기재된 청소 부재에서는, 완전하게는 고착물을 제거할 수 없다고 하는 문제가 있었다. 구체적으로는, 고착물의 양이 많은 경우에는 긁어낸 고착물이 청소 부재의 상방(上方)으로 넘쳐, 가로줄 형상으로 립에 잔존할 우려가 있었다. 또한, 고착물이 강력하게 고체화된 경우, 긁어내는 동작만으로는 충분히 고착물을 제거할 수 없을 우려가 있었다. However, the cleaning member described in Patent Document 1 has a problem that it is impossible to remove the fixture completely. Specifically, in the case where the amount of the fixture is large, there is a fear that the scraped fixture overflows above the cleaning member and remains in the ribs in the form of a horizontal line. Further, when the fixture is strongly solidified, there is a fear that the fixture can not be sufficiently removed only by the scraping operation.

또한, 상기 특허 문헌 2에 기재된 세정 장치에서는, 코스트가 고가가 된다고 하는 문제가 있었다. 구체적으로는, 세정 장치에 침지한 립의 전체를 강력하게 초음파 세정하기 위해서는, 다수의 초음파 진동자를 세정 장치에 배치할 필요가 있기 때문에, 세정 장치 자체의 코스트가 고가가 되어 버린다. 또한, 세정 장치의 크기는 구금의 크기 이상이 되기 때문에, 세정 장치의 배치에 의하여 도포 장치의 사이즈가 큰 폭으로 증가하여, 도포 장치의 제작 코스트도 증가하여 버린다. Further, the cleaning apparatus described in Patent Document 2 has a problem that the cost becomes high. Specifically, in order to strongly ultrasonically clean the entire lip immersed in the cleaning device, it is necessary to arrange a plurality of ultrasonic vibrators in the cleaning device, so that the cost of the cleaning device itself becomes high. Further, since the size of the cleaning device is larger than the size of the detaching device, the size of the coating device is greatly increased by the arrangement of the cleaning device, and the manufacturing cost of the coating device is also increased.

본 발명은, 상기 문제점에 감안하여 이루어진 것이며, 립에 고착한 고착물을 강력하게 제거하는 것이 가능하고, 또한 저가로 구성 가능한 세정 장치 및 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a cleaning device and a cleaning method that can strongly remove a fixture adhering to a lip and can be configured at low cost.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 세정 장치는, 도포 장치가 가지는 구금의 긴쪽 방향을 따라 형성되는 토출구를 형성하는 립면에 대향하는 대향 홈을 가지고, 당해 립면에 근접하는 세정 유닛과, 상기 립면을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급구와, 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 이동 수단을 가지고, 상기 이동 수단에 의하여 상기 긴쪽 방향으로 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 이동시키면서, 상기 립면을 세정하는 세정 장치이며, 상기 세정 유닛은, 초음파 진동자가 취부되고, 상기 대향 홈이 형성된 초음파 진동부를 구비하고 있고, 상기 대향 홈과 상기 립면을 근접시켜, 상기 대향 홈과 상기 립면으로 형성되는 간극(間隙)에 상기 세정액 공급구로부터 세정액을 공급하는 것에 의하여, 상기 립면이 세정액에 침지되는 상태를 형성하고, 이 상태에 있어서 상기 초음파 진동자에 의하여 상기 초음파 진동부를 초음파 진동시키는 것에 의하여 상기 립면의 부분적 세정이 행하여지며, 나아가 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여, 상기 립면이 상기 긴쪽 방향으로 세정되는 것을 특징으로 하고 있다. In order to solve the above-described problems, the cleaning apparatus of the present invention comprises: a cleaning unit having an opposite groove facing a lip surface forming a discharge port formed along a longitudinal direction of a nipping portion of a coating device, the cleaning unit being close to the lip surface; A cleaning liquid supply port for supplying a cleaning liquid to be cleaned and a moving means for moving the cleaning unit and the cleaning liquid supply port in the longitudinal direction while moving the cleaning unit and the cleaning liquid supply port in the longitudinal direction by the moving means And a cleaning unit for cleaning the lip surface, wherein the cleaning unit is provided with an ultrasonic vibrator having an ultrasonic vibrator mounted thereon and the opposed grooves formed, and the opposed grooves and the lip surface are brought close to each other, By supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply port to the formed gap And forming a state in which the lip surface is immersed in the cleaning liquid, and in this state, partial cleaning of the lip surface is performed by ultrasonically vibrating the ultrasonic vibration unit by the ultrasonic vibrator. The lip surface is washed in the longitudinal direction by moving in the longitudinal direction.

상기 세정 장치에 의하면, 립면이 세정액에 침지되는 상태를 형성하고, 이 상태에 있어서 초음파 진동부를 초음파 진동시키는 것에 의하여 립면의 세정을 행하는 것에 의하여, 립면이 초음파 세정되기 때문에, 립면에 고착한 고착물을 강력하게 제거하는 것이 가능하다. 또한, 립면의 부분적 세정을 행하는 구성으로 하는 것에 의하여, 세정 유닛을 소형화할 수 있기 때문에, 초음파 진동자의 개수를 줄여, 저가의 코스트로 구성 가능하다. 또한, 세정 유닛 및 세정액 공급구를 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여 립면이 긴쪽 방향으로 세정되는 것에 의하여, 상기의 소형화된 세정 유닛을 이용한 경우여도 립면 전체를 세정하는 것도 가능하다. According to the above-described cleaning device, the lip surface is ultrasonically cleaned by forming a state in which the lip surface is immersed in the cleaning liquid and cleaning the lip surface by ultrasonic vibrating the ultrasonic vibrator in this state. Therefore, Can be strongly removed. Further, since the cleaning unit can be downsized by partially cleaning the lip surface, the number of ultrasonic vibrators can be reduced and the cost can be reduced. In addition, by cleaning the lip surface in the longitudinal direction by moving the cleaning unit and the cleaning liquid supply port in the longitudinal direction, it is also possible to clean the entire lip surface even when using the above-described miniaturized cleaning unit.

또한, 상기 대향 홈의 상기 립면과 대향하는 면인 대향면은, 상기 립면과 평행한 면을 가지면 된다. Moreover, the opposing surface which is a surface which opposes the said lip surface of the said opposing groove | channel should just have a surface parallel to the said lip surface.

이렇게 하는 것에 의하여, 대향 홈과 립면과의 간극을 전체적으로 작게 할 수 있기 때문에, 립면이 세정액에 침지하는 상태를 보다 적은 세정액의 유량으로 형성하고, 또한, 이 세정액에 세정 유닛의 초음파 진동을 효율적으로 부여하는 것이 가능해진다. 또한, 대향 홈과 립면과의 간극이 작아지는 것에 의하여 발생하는 세정액의 표면 장력을 이용하여, 립면으로 형성되는 립의 근원까지 세정액으로 덮어 세정하는 것도 용이해진다. By doing so, the gap between the opposing groove and the lip surface can be made small as a whole, so that the state in which the lip surface is immersed in the cleaning liquid is formed at a smaller flow rate of the cleaning liquid, and the ultrasonic vibration of the cleaning unit is efficiently And the like. Further, by using the surface tension of the cleaning liquid, which is caused by a reduction in the gap between the opposing groove and the lip surface, it is also easy to cover the root of the lip formed with the lip surface with the cleaning liquid and clean it.

또한, 상기 세정 유닛은, 상기 세정액 공급구를 구비한 세정액 공급부를 가지고, 상기 세정액 공급부는, 상기 초음파 진동자의 진동의 마디에 해당하는 개소에 접속되어 있으면 된다. Moreover, the said washing | cleaning unit should just have a washing | cleaning liquid supply part provided with the said washing | cleaning liquid supply port, and the said washing | cleaning liquid supply part should just be connected to the location corresponding to the node of the vibration of the said ultrasonic vibrator.

이와 같이 하는 것에 의하여, 세정액 공급구를 설치하기 위하여 초음파 진동부에 구멍내기 가공을 행하는 것이 불필요하게 되기 때문에, 초음파 진동부에 소정의 진동을 시키는 것이 용이해지고, 또한, 세정액 공급구에 접속하는 배관 등이 초음파 진동하는 것을 막을 수 있기 때문에, 배관 등의 손상을 막을 수 있다. By doing in this way, it becomes unnecessary to perform a perforation process on an ultrasonic vibration part in order to provide a washing | cleaning liquid supply port, and it becomes easy to make a predetermined vibration to an ultrasonic vibration part, and also the piping connected to a washing | cleaning liquid supply port Since the back can be prevented from ultrasonic vibration, damage to the pipe and the like can be prevented.

또한, 상기 초음파 진동부와 상기 세정액 공급부와의 사이에는, 상기 초음파 진동부의 진동이 상기 세정액 공급부에 전반(傳搬)하는 것을 차단하는 진동 차단부가 설치되어 있으면 된다. It is only necessary to provide a vibration blocking portion between the ultrasonic vibration portion and the cleaning liquid supply portion to prevent transmission of vibration of the ultrasonic vibration portion to the cleaning liquid supply portion.

이와 같이 하는 것에 의하여, 나아가 세정액 공급구에 접속하는 배관 등이 초음파 진동하는 것을 막을 수 있다. By doing in this way, the ultrasonic wave can be prevented from the piping connected to the washing | cleaning liquid supply port etc. further.

또한, 상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 세정 방법은, 도포 장치가 가지는 구금의 긴쪽 방향을 따라 형성되는 토출구를 형성하는 립면에 대향하는 대향 홈이 형성된 초음파 진동부를 가지고, 당해 립면에 근접하는 세정 유닛과, 상기 립면을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급구와, 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 이동 수단을 가지는 세정 장치에 의하여 상기 립면을 세정하는 세정 방법이며, 상기 대향 홈과 상기 립면을 근접시켜, 상기 대향 홈과 상기 립면으로 형성되는 간극에 상기 세정액 공급구로부터 세정액을 공급하는 것에 의하여, 상기 립면이 세정액에 침지되는 상태를 형성하고, 이 상태에 있어서 상기 초음파 진동부를 초음파 진동시키는 것에 의하여 상기 립면의 부분적 세정을 행하며, 나아가 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여, 상기 립면을 상기 긴쪽 방향으로 세정하는 것을 특징으로 하고 있다. Moreover, in order to solve the said subject, the washing | cleaning method of this invention has the ultrasonic vibration part in which the opposing groove | channel opposing the lip surface which forms the ejection opening formed along the longitudinal direction of the mold which a coating apparatus has, and wash | cleans close to the said lip surface It is a washing | cleaning method which wash | cleans the said lip surface by the washing | cleaning apparatus which has a unit, the washing | cleaning liquid supply port which supplies the washing | cleaning liquid which wash | cleans the said lip surface, and the moving means which moves the said washing | cleaning unit and the said washing | cleaning liquid supply port to the said longitudinal direction, The lip surface is immersed in the cleaning liquid by supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply port to a gap formed between the groove and the lip surface in proximity with the groove and the lip surface, and the ultrasonic vibration in this state. Partial washing of the lip surface by ultrasonic vibration of the portion, Furthermore, the said lip surface is wash | cleaned in the said longitudinal direction by moving the said washing | cleaning unit and the said washing | cleaning liquid supply port in the said longitudinal direction. It is characterized by the above-mentioned.

상기 세정 방법에 의하면, 립면이 세정액에 침지되는 상태를 형성하고, 이 상태에 있어서 초음파 진동부를 초음파 진동시키는 것에 의하여 립면의 세정을 행하는 것에 의하여, 립면이 초음파 세정되기 때문에, 립면에 고착한 고착물을 강력하게 제거하는 것이 가능하다. 또한, 립면의 부분적 세정을 행하는 구성으로 하는 것에 의하여, 세정 유닛을 소형화할 수 있기 때문에, 저가의 코스트로 구성 가능하다. 또한, 세정 유닛 및 세정액 공급구를 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여 립면을 긴쪽 방향으로 세정하는 것에 의하여, 상기의 소형화된 세정 유닛을 이용한 경우여도 립면 전체를 세정하는 것도 가능하다. According to the above cleaning method, the lip surface is ultrasonically cleaned by forming a state in which the lip surface is immersed in the cleaning liquid and cleaning the lip surface by ultrasonic vibrating the ultrasonic vibrator in this state. Therefore, Can be strongly removed. Further, since the cleaning unit can be downsized by constituting a part of the lip surface to be cleaned, the cost can be reduced. Further, by cleaning the lip surface in the longitudinal direction by moving the cleaning unit and the rinse solution supply port in the longitudinal direction, it is also possible to clean the whole lip surface even when using the above-mentioned miniaturized cleaning unit.

또한, 상기 대향 홈과 상기 립면과의 사이에서 생기는 세정액의 표면 장력에 의하여, 상기 립면에 의하여 형성되는 립의 근원까지 세정액으로 덮는 상태를 형성하여, 상기 립면을 초음파 세정하면 된다. The surface tension of the cleaning liquid generated between the opposing grooves and the lip surface may form a state of covering the root of the lip formed by the lip surface with the cleaning liquid to ultrasonically clean the lip surface.

이렇게 하는 것에 의하여, 립의 근원까지 초음파 세정을 행할 수 있어, 보다 고착물을 잔류시키는 것이 없게 세정하는 것이 가능하다.By doing so, the ultrasonic cleaning can be carried out up to the origin of the lip, and it is possible to clean so that the fixture does not remain.

본 발명의 세정 장치 및 세정 방법에 의하면, 립에 고착한 고착물을 저가의 구성으로 또한 강력하게 제거하는 것이 가능하다.According to the cleaning device and the cleaning method of the present invention, it is possible to strongly remove the fixture adhering to the lip with a low-cost construction.

도 1은 도포 장치의 개략도이며, 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 있어서의 세정 장치의 개략도이며, 사시도이다.
도 3은 본 실시예의 세정 장치의 정면도 및 단면도이다.
도 4는 본 실시예의 세정 장치가 립을 세정하는 상태를 도시하는 개략도이다.
도 5는 본 실시예의 세정 장치의 사용예이다.
도 6은 다른 실시예에 있어서의 세정 장치의 개략도이다.
도 7은 다른 실시예에 있어서의 세정 장치의 개략도이다.
1 is a schematic view of a coating device and is a perspective view.
2 is a schematic view of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and is a perspective view.
3 is a front view and a cross-sectional view of the cleaning apparatus of this embodiment.
4 is a schematic view showing a state in which the cleaning apparatus of this embodiment cleans the lip.
5 is an example of use of the cleaning apparatus of the present embodiment.
6 is a schematic view of a cleaning apparatus in another embodiment.
7 is a schematic view of a cleaning apparatus in another embodiment.

본 발명에 관련되는 실시예를 도면을 이용하여 설명한다. Embodiments related to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 세정 장치를 이용하는 도포 장치의 개략도이다. 도포 장치(1)는, 기판(W)에 도포액을 도포하는 도포부(2), 기판(W)을 반송하는 반송부(3), 및 후술하는 립면(23)을 세정하는 본 발명에 관련되는 세정 장치(4)를 가지고 있다. 1 is a schematic view of a coating apparatus using the cleaning apparatus of the present invention. The application device 1 is provided with an application section 2 for applying a coating liquid to a substrate W, a transport section 3 for transporting the substrate W, and a lip surface 23 And a cleaning device 4 for cleaning.

도포부(2)는 구금(21)을 구비하고, 이 구금(21)은 반송부(3)에 의한 기판(W)의 반송 방향과 수직인 방향을 긴쪽 방향으로 하는 슬릿을 내부에 가지고 있다. 또한, 구금(21)은 하부에 립(22)을 가지고 있다. The application section 2 has a nest 21 and the nest 21 has therein a slit in which the direction perpendicular to the transport direction of the substrate W by the transport section 3 is a longitudinal direction. In addition, the nipping 21 has a lip 22 at the bottom.

립(22)은, 후에 설명하는 도 3(a)에 도시하는 바와 같이, 구금(21)으로부터 하방(下方)을 향하여 끝으로 갈수록 뾰족해지는 부리 형상으로 돌출하는 형상을 가지고 있고, 경사한 면인 2개의 립면(23)(도 3(a)에 도시하는 립면(23a) 및 립면(23b))을 가지고 있다. As shown in Fig. 3A, the lip 22 has a shape protruding in a beak-like shape that becomes sharp toward the end from the neck 21 toward the bottom (lower side), and the lip 22 has a shape of 2 Has a lip surface 23 (lip surface 23a and lip surface 23b shown in Fig. 3 (a)).

립면(23)은, 상기 슬릿과 마찬가지로 기판(W)의 반송 방향과 수직인 방향을 긴쪽 방향으로 하고 있고, 이러한 립면(23)의 사이에는 상기 슬릿의 개구부인 토출구(24)가 형성되어 있다. 여기서, 도시하지 않는 도포액 공급 장치로부터 도포부(2)로 공급된 도포액은, 상기 슬릿을 통하여 이 토출구(24)로부터 토출된다. The lip surface 23 has a longitudinal direction perpendicular to the conveying direction of the substrate W like the slit. A discharge port 24, which is an opening of the slit, is formed between the lip surfaces 23. Here, the coating liquid supplied from the coating liquid supply device (not shown) to the coating portion 2 is discharged from the discharge port 24 through the slit.

그리고, 반송부(3)가 기판(W)을 소정 속도로 반송하는 것에 의하여, 기판(W)이 도포부(2)의 하방을 통과할 때에, 이 토출구(24)로부터 도포액을 토출하여, 기판(W) 상에 도포막을 형성한다. The substrate W is conveyed at a predetermined speed by the carry section 3 to discharge the coating liquid from the discharge port 24 when the substrate W passes under the application section 2, A coating film is formed on the substrate W.

세정 장치(4)는, 기판(W)에의 도포가 종료하고, 다음의 기판(W)에의 도포가 개시될 때까지의 사이 등에, 립면(23)을 세정하는 것이며, 이것에 의하여 립면(23)에 도포액 및 이물이 고착하는 것을 방지한다. The cleaning device 4 cleans the lip surface 23 during the period until the application to the substrate W is finished and the next application to the substrate W is started, Thereby preventing the coating liquid and the foreign matter from sticking to each other.

덧붙여, 이하의 설명에서는, 기판(W)의 반송 방향을 X축 방향, X축 방향과 수평면 상에서 직교하는 방향, 즉 립면(23)의 긴쪽 방향을 Y축 방향, X축 및 Y축 방향의 쌍방에 직교하는 방향을 Z축 방향으로 하여 설명을 진행하는 것으로 한다. In the following description, it is assumed that the transport direction of the substrate W is the X-axis direction, the direction perpendicular to the X-axis direction, that is, the longitudinal direction of the lip surface 23 is the Y- The direction orthogonal to the Z-axis direction will be described.

도 2는, 본 발명의 일 실시예에 있어서의 세정 장치(4)의 사시도이다. 세정 장치(4)는, 세정 유닛(5) 및 이동 수단(6)을 구비하고 있으며, 립면(23)에 세정 유닛(5)이 근접하고, 이 세정 유닛(5)이 근접한 부분에 있어서 세정 장치(4)가 립면(23)을 세정하면서, 이동 수단(6)이 세정 유닛(5)을 립면(23)의 긴쪽 방향(Y축 방향)으로 이동시키는 것에 의하여, 립면(23)이 긴쪽 방향으로 세정된다. Fig. 2 is a perspective view of the cleaning device 4 in the embodiment of the present invention. The cleaning device 4 is provided with a cleaning unit 5 and a moving means 6. The cleaning unit 5 is brought close to the lip surface 23 and the cleaning device 5, The moving means 6 moves the cleaning unit 5 in the longitudinal direction (Y-axis direction) of the lip surface 23 while cleaning the lip surface 23 of the lip surface 23 while cleaning the lip surface 23, Lt; / RTI >

또한, 세정 유닛(5)에는 후술하는 초음파 진동자(15)가 취부되어 있고, 이 초음파 진동자(15)에 전기적으로 접속된 발진기(7)로부터의 신호에 의하여 초음파 진동자(15)가 진동하는 것에 의하여, 립면(23)을 세정하는 세정액에 초음파 진동이 가해져, 립면(23)은 초음파 세정된다. An ultrasonic oscillator 15 to be described later is attached to the cleaning unit 5. The ultrasonic oscillator 15 vibrates due to a signal from the oscillator 7 electrically connected to the ultrasonic oscillator 15 , Ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid for cleaning the lip surface 23, and the lip surface 23 is ultrasonically cleaned.

도 3은 본 실시예의 세정 장치(4)의 정면도 및 단면도이며, 도 3(a)는 세정 장치(4)의 정면도, 도 3(b)는 도 3(a)에 있어서의 A-A 단면도이다. Fig. 3 is a front view and a cross-sectional view of the cleaning device 4 of the present embodiment. Fig. 3 (a) is a front view of the cleaning device 4 and Fig. 3 (b) is an AA sectional view of Fig. .

세정 유닛(5)은, 본 실시예에서는, 초음파 진동부(11) 및 세정액 공급부(12)를 가지고 있다. 초음파 진동부(11)는 초음파 진동하는 것이 가능하고, 세정액 공급부(12)는 세정액 공급구(14)를 가지고 있다. 이 구성에 있어서, 립면(23)의 세정 시, 세정 유닛(5)이 립면(23)에 근접한 상태로 세정액 공급구(14)로부터 립면(23)을 향하여 세정액이 공급되면서, 초음파 진동부(11)가 초음파 진동하는 것에 의하여, 세정액에 초음파 진동을 가하여 립면(23)을 초음파 세정한다. The cleaning unit 5 has an ultrasonic vibration section 11 and a cleaning liquid supply section 12 in the present embodiment. The ultrasonic vibration section 11 is capable of ultrasonic vibration, and the cleaning liquid supply section 12 has a cleaning liquid supply port 14. In this configuration, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply port 14 toward the lip surface 23 while the cleaning unit 5 is close to the lip surface 23 at the time of cleaning the lip surface 23, Is subjected to ultrasonic vibration, ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid, and the lip surface 23 is ultrasonically cleaned.

또한, 초음파 진동부(11) 및 세정액 공급부(12)는, 후술의 진동자 커버(17)에 지지되며, 일체의 세정 유닛(5)을 형성하고 있다. The ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12 are supported by a vibrator cover 17 to be described later to form an integral cleaning unit 5.

초음파 진동부(11)는 금속제의 블록이며, 립면(23)의 세정 시에 립면(23)에 하방으로부터 대향한다. 초음파 진동부(11)의 립면(23)에 대향하는 부분에는, 립면(23)의 형상에 대응한 대향 홈(13)이 설치되어 있고, 립면(23)을 세정할 때는, 세정 유닛(5)이 립면(23)에 근접하는 것에 의하여 립(22)이 소정의 간극을 설치하여 이 대향 홈(13)에 들어가는 형태를 취한다. The ultrasonic vibration section 11 is a metal block and opposes the lip surface 23 from below when cleaning the lip surface 23. An opposing groove 13 corresponding to the shape of the lip surface 23 is provided at a portion of the ultrasonic vibration section 11 opposite to the lip surface 23. When the lip surface 23 is to be cleaned, The lips 22 are arranged close to the lip surface 23 so that the lips 22 enter the opposed grooves 13 with a predetermined clearance therebetween.

이 대향 홈(13)의 형상은, 후술대로, 본 실시예에서는 립면(23a) 및 립면(23b)과 평행한 면인 대향면(13a) 및 대향면(13b)을 가지는 형상으로 되어 있다. The shape of the opposing groove 13 has a shape having an opposing face 13a and an opposing face 13b which are planes parallel to the lip face 23a and the lip face 23b in this embodiment as described later.

또한, 초음파 진동부(11)에는 초음파 진동자(15)가 취부되어 있고, 이 초음파 진동자(15)가 발진하는 것에 의하여, 초음파 진동부(11)가 초음파 진동한다. An ultrasonic vibrator 15 is attached to the ultrasonic vibration section 11. The ultrasonic vibration section 11 is ultrasonically vibrated by the oscillation of the ultrasonic vibrator 15. [

 초음파 진동자(15)는, 전기적으로 접속된 발진기(7)로부터의 발진 신호에 기초하여 대상물을 여진(勵振)시키는 것이며, 예를 들어 전극 및 피에조 소자를 가지는 랑주뱅형(Langevin type) 진동자가 있다. 랑주뱅형 진동자는, 발진기(7)에 의하여 전극에 구동 전압이 인가되는 것으로 피에조 소자가 진동하여, 소정의 진폭 및 주파수로 발진한다. The ultrasonic transducer 15 excites an object based on an oscillation signal from an electrically connected oscillator 7 and has a Langevin type oscillator having an electrode and a piezo element, for example . In the Langevin type oscillator, the piezo element is oscillated by applying a drive voltage to the electrode by the oscillator 7, and oscillates at a predetermined amplitude and frequency.

이 초음파 진동자(15)의 단부(端部)에는, 진동시키는 대상물(본 실시예에서는, 초음파 진동부(11))을 취부하기 위한 진동 부여부(16)가 설치되어 있고, 이 진동 부여부(16)에 취부된 대상물은, 초음파 진동자(15)의 발진에 맞추어 초음파 진동한다. At the end of the ultrasonic transducer 15 is provided a vibrating part 16 for mounting an object to be vibrated (ultrasonic vibration part 11 in the present embodiment) 16 are ultrasonically vibrated in accordance with the oscillation of the ultrasonic vibrator 15.

또한, 초음파 진동자(15)는 진동자 커버(17)에 수용되어 있고, 진동 부여부(16)만이 진동자 커버(17)로부터 돌출하여 있다. 또한, 진동자 커버(17)는, 연결부(18)를 통하여 초음파 진동자(15)와 연결되어 있다. The ultrasonic vibrator 15 is housed in the vibrator cover 17 and only the vibrator 16 protrudes from the vibrator cover 17. [ The vibrator cover 17 is connected to the ultrasonic transducer 15 through a connecting portion 18. [

여기서, 일반적으로 물체가 일정한 주파수로 진동하는 경우에는, 진동의 배에 해당하는 부분 및 마디에 해당하는 부분이 존재하며, 배에 해당하는 부분에서는 진동의 진폭은 최대로 된다. 또한, 마디에 해당하는 부분에서는 진폭은 제로로 된다. 즉, 진동하지 않는다. 본 실시예에 있어서의 초음파 진동자(15)에 관해서도 진동의 배 및 마디는 존재하며, 초음파 진동자(15)가 소정의 주파수로 발진하고 있는 경우여도, 진동의 마디의 부분에서는 전혀 진동하지 않는다. Generally, when an object vibrates at a constant frequency, there is a portion corresponding to a vibration and a portion corresponding to a node, and the amplitude of vibration is maximized at a portion corresponding to the vibration. In addition, the amplitude is zero at the portion corresponding to the node. That is, it does not vibrate. The ultrasonic transducer 15 in this embodiment also has vibrations and nodes, and even if the ultrasonic transducer 15 oscillates at a predetermined frequency, it does not vibrate at all at the node of the vibration.

이것에 대하여, 본 실시예에서는, 상기의 연결부(18)는 초음파 진동자(15)의 진동의 마디의 부분에 취부되어 있다. 즉, 초음파 진동자(15)가 발진하고 있어도 연결부(18) 및 진동자 커버(17)에 진동은 전반하지 않는다. 그리고, 이 진동자 커버(17)가 외부 기기에 취부되는 것에 의하여, 이 외부 기기에 진동이 전반하는 것 없이, 외부 기기가 진동자 커버(17) 및 초음파 진동자(15)를 지지하여, 진동 부여부(16)에 취부된 대상물만을 초음파 진동시킬 수 있다. On the other hand, in the present embodiment, the connecting portion 18 is attached to the node of the vibration of the ultrasonic vibrator 15. That is, even when the ultrasonic vibrator 15 oscillates, the vibration does not propagate to the connecting portion 18 and the vibrator cover 17. When the vibrator cover 17 is attached to the external device, the external device supports the vibrator cover 17 and the ultrasonic vibrator 15 without oscillating the external device, 16 can be ultrasonically vibrated.

또한, 본 실시예에서는, 이 진동자 커버(17)가 이동 수단(6)에 취부되어 있기 때문에, 이동 수단(6)은 초음파 진동자(15)의 발진의 영향을 받는 것 없이 세정 유닛(5)을 반송하는 것이 가능하다. 만일, 진동자 커버(17)에 초음파 진동이 전반하고, 이 진동에 의하여 이동 수단(6)이 미소(微小)의 왕복동(往復動)을 반복하게 된 경우, 이동 수단(6)에 눌어붙음이 생길 우려가 있다. 이것에 대하여, 본 실시예에서는 진동자 커버(17)는 진동하지 않기 때문에, 이 눌어붙음을 막는 것이 가능하다. In this embodiment, since the vibrator cover 17 is attached to the moving means 6, the moving means 6 can move the cleaning unit 5 without being influenced by the oscillation of the ultrasonic vibrator 15 It is possible to carry it. If the ultrasonic vibration is transmitted to the vibrator cover 17 and the moving means 6 repeats a minute reciprocating motion due to the ultrasonic vibration, the moving means 6 is stuck There is a concern. On the other hand, in the present embodiment, since the vibrator cover 17 does not vibrate, it is possible to prevent the vibration.

또한, 초음파 진동부(11)의 Y축 방향의 길이는 립면(23)의 Y축 방향의 길이보다도 짧고, 초음파 진동부(11)는 초음파 진동자(15)에 의한 진동이 전체에 충분히 전반될 수 있는 정도의 크기로 되어 있다. The length in the Y-axis direction of the ultrasonic vibration section 11 is shorter than the length in the Y-axis direction of the lip surface 23 and the ultrasonic vibration section 11 can sufficiently propagate the vibration by the ultrasonic vibrator 15 The size is about.

여기서, 만약, 립(22) 전체를 수용할 수 있는 세정조를 설치하고, 이 세정조에 침지한 립면(23)을 초음파 세정하는 경우, 립면(23)의 전체를 강력하게 초음파 세정하기 위해서는, 다수의 초음파 진동자(15)를 Y축 방향으로 준비하여, 배치할 필요가 있다. 또한, 이와 같이 다수의 초음파 진동자(15)를 나란히 배열하는 경우는, 초음파 진동자(15)끼리가 진동에 영향을 서로 미치거나 진동에 의하여 서로 파괴하거나 하는 것을 막기 위하여, 초음파 진동자(15)의 배치 간격을 크게 하거나 출력을 제한하거나 할 필요가 있었다. In order to ultrasonically clean the whole of the lip surface 23 when ultrasonic cleaning is performed on the lip surface 23 immersed in the cleaning tank and a cleaning tank capable of accommodating the entire lip 22 is provided, It is necessary to arrange and place the ultrasonic transducer 15 in the Y-axis direction. When the plurality of ultrasonic transducers 15 are arranged side by side in this manner, in order to prevent the ultrasonic transducers 15 from mutually influencing the vibration or being destroyed by vibration, the arrangement of the ultrasonic transducers 15 It was necessary to increase the interval or limit the output.

이것에 대하여, 본 실시예에서는 1개의 초음파 진동자(15)만을 설치하여 세정 장치(4)를 구성하고 있다. 이것에 의하여, 필요수의 초음파 진동자(15)를 준비하기 위한 코스트를 억제할 뿐만 아니라, 출력을 제한할 필요가 없어지기 때문에, 고출력의 초음파 진동자(15)를 설치하여 세정력을 강력하게 할 수도 있다. On the other hand, in the present embodiment, only one ultrasonic vibrator 15 is provided to constitute the cleaning device 4. [ In this way, the cost for preparing the required number of ultrasonic transducers 15 is suppressed, and the output is not restricted, so that the ultrasonic vibrator 15 having a high output power can be provided to make the cleaning force strong .

세정액 공급부(12)는, 세정액을 공급하는 개구인 세정액 공급구(14)를 가지는 블록이며, 초음파 진동부(11)를 사이에 두고 X축 방향의 양 측방(側方)에 설치되어 있다. 그리고, 도시하지 않는 세정액 탱크로부터 배관을 통하여 송액된 세정액을 세정액 공급구(14)로부터 방출하는 것에 의하여, 초음파 진동부(11)와 립면(23)과의 사이로 세정액을 공급한다. The cleaning liquid supply unit 12 is a block having a cleaning liquid supply port 14 that is an opening for supplying a cleaning liquid and is provided on both sides in the X axis direction with the ultrasonic vibration unit 11 interposed therebetween. Then, a cleaning liquid is supplied between the ultrasonic vibration section 11 and the lip surface 23 by discharging the cleaning liquid sent from the cleaning liquid tank (not shown) through the piping from the cleaning liquid supply port 14. [

이 세정액 공급부(12)는, 진동자 커버(17)에 취부되어 있다. 즉, 세정액 공급부(12)는 진동자 커버(17) 및 연결부(18)를 통하여 초음파 진동자(15)의 진동의 마디에 해당하는 개소에 접속되어 있다. 이렇게 하는 것에 의하여, 전술대로, 초음파 진동자(15)가 발진하고 있어도 연결부(18) 및 진동자 커버(17)에 진동은 전반하지 않아, 세정액 공급부(12)도 진동하지 않는다. The cleaning liquid supply portion 12 is attached to the vibrator cover 17. That is, the cleaning liquid supply unit 12 is connected to a position corresponding to a node of the vibration of the ultrasonic vibrator 15 through the vibrator cover 17 and the connection unit 18. By doing so, even if the ultrasonic vibrator 15 oscillates as described above, vibration does not propagate to the connecting portion 18 and the vibrator cover 17, and the cleaning liquid supply portion 12 does not vibrate.

또한, 이것에 의하여, 진동자 커버(17)가 초음파 진동부(11) 및 세정액 공급부(12)를 지지하는 형태로 되며, 세정 유닛(5)이 일체로 되어 있다. In this way, the vibrator cover 17 supports the ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12, and the cleaning unit 5 is integrated.

여기서, 만일 세정액 공급부(12)가 진동하는 경우, 세정액 공급구(14)에 접속되는 배관에 이 진동이 전반하여, 이 배관의 손상을 초래할 우려가 있다. 이것에 대하여, 세정액 공급부(12)가 진동하지 않도록, 초음파 진동자(15)의 진동의 마디에 해당하는 개소에 접속되는 것에 의하여, 이와 같은 배관의 손상을 막는 것이 가능하다. Here, if the cleaning liquid supply unit 12 vibrates, this vibration propagates to the piping connected to the cleaning liquid supply port 14, which may cause damage to the piping. On the contrary, it is possible to prevent such piping from being damaged by being connected to a position corresponding to a node of the vibration of the ultrasonic vibrator 15 so that the cleaning liquid supply unit 12 does not vibrate.

또한, X축 방향으로 나란히 배열된 세정액 공급부(12)와 초음파 진동부(11)와의 사이에는 간극이 설치되어 있다. 이와 같이 간극이 설치되는 것에 의하여, 초음파 진동부(11)의 진동이 세정액 공급부(12)에 전반하지 않도록 하고 있다. 만일, 세정액 공급부(12)가 초음파 진동부(11)와 밀착하고 있는 경우, 세정액 공급부(12)에 진동이 전반할 뿐만 아니라, 세정액 공급부(12)에 의하여 초음파 진동부(11)의 공진 주파수가 바뀌어 버리는 등, 초음파 진동부(11)의 초음파 진동의 동작에 악영향을 미칠 우려가 있다. 이것에 대하여, 상기대로 간극을 설치하는 것에 의하여, 이 우려를 막을 수 있다. In addition, a clearance is provided between the cleaning liquid supply portion 12 and the ultrasonic vibration portion 11 arranged in the X-axis direction. By providing the gaps as described above, the vibration of the ultrasonic vibration section 11 is prevented from propagating to the cleaning liquid supply section 12. In the case where the cleaning liquid supply unit 12 is in close contact with the ultrasonic vibration unit 11, not only the vibration is transmitted to the cleaning liquid supply unit 12 but also the vibration frequency of the ultrasonic vibration unit 11 There is a possibility that the operation of ultrasonic vibration of the ultrasonic vibration section 11 may be adversely affected. On the other hand, by providing a clearance as described above, this concern can be prevented.

세정액 공급구(14)는, 본 실시예에서는 도 3(a)에 도시하는 바와 같이 초음파 진동부(11)의 양 측방의 세정액 공급부(12)에 취부된 관의 개구단(開口端)이며, X축 방향에 관하여 립면(23)의 방향으로 향해져 있다. 덧붙여, 세정액 공급부(12)에 관통 구멍을 설치하고, 그 개구단을 세정액 공급구(14)로 하여도 무방하다. 또한, 본 실시예에서는, 세정액 공급구(14)는, Y축 방향으로 나란히 복수 개씩 설치되어 있다. The cleaning liquid supply port 14 is an opening end of a pipe attached to the cleaning liquid supply portion 12 on both sides of the ultrasonic vibration portion 11 as shown in Fig. And is directed toward the lip surface 23 with respect to the X-axis direction. In addition, a through hole may be provided in the cleaning liquid supply portion 12, and the opening end of the cleaning liquid supply portion 14 may be provided. Further, in the present embodiment, a plurality of cleaning liquid supply ports 14 are provided side by side in the Y axis direction.

이러한 세정액 공급구(14)는 도시하지 않는 세정액 탱크와 배관을 통하여 접속되어 있고, 이 세정액 탱크로부터 송액된 세정액은, 각 세정액 공급구(14)로부터 방출된다. The cleaning liquid supply port 14 is connected to a cleaning liquid tank (not shown) through a pipe, and the cleaning liquid sent from the cleaning liquid tank is discharged from each cleaning liquid supply port 14. [

또한, 세정액 공급구(14)는, 방출한 세정액을 초음파 진동부(11)의 대향 홈(13)으로 공급하는 것이 가능한 높이에 설치되어 있다. 또한, 세정 유닛(5)이 립면(23)에 근접할 때에 세정액 공급구(14) 및 세정액 공급부(12)가 구금(21)에 간섭하지 않도록 하는 것도 필요하고, 세정액 공급구(14)의 위치가 너무 높아도 문제가 되기 때문에, 본 실시예에서는, 세정액 공급구(14)는 초음파 진동부(11)의 상면(上面)보다 1mm 정도 상방에 설치되어 있다. The cleaning liquid supply port 14 is provided at such a height as to enable the discharged cleaning liquid to be supplied to the opposing grooves 13 of the ultrasonic vibration section 11. It is also necessary to prevent the cleaning liquid supply port 14 and the cleaning liquid supply portion 12 from interfering with the detents 21 when the cleaning unit 5 is close to the lip surface 23 and the position of the cleaning liquid supply port 14 The cleaning liquid supply port 14 is provided 1 mm above the upper surface of the ultrasonic vibration section 11 in this embodiment.

덧붙여, 세정액은 탈기(脫氣)가 행하여진 것을 사용하는 것에 의하여, 탈기되어 있지 않는 세정액을 사용한 경우와 비교하여 후술대로 강력한 세정력을 얻을 수 있다. In addition, by using the cleaning liquid which has been degassed, a strong cleaning force as described later can be obtained as compared with the case of using a cleaning liquid which has not been degassed.

이동 수단(6)은, Y축 방향의 이동 축을 가지는 직동(直動) 유닛이며, 세정 유닛(5)을 Y축 방향으로 이동시킨다. 이 이동 수단(6)은, 볼 나사, 리니어 스테이지 등, 어떠한 직동 기구를 이용하여도 무방하고, 세정 유닛(5)의 이동 정도(精度)의 목표값 등을 고려하여, 적당 선택하면 된다. The moving means 6 is a linear motion unit having a moving axis in the Y-axis direction, and moves the cleaning unit 5 in the Y-axis direction. Any moving mechanism such as a ball screw or a linear stage may be used as the moving means 6, and it may be suitably selected in consideration of a target value of the degree of movement (accuracy) of the cleaning unit 5 and the like.

또한, 전술대로, 세정 유닛(5)은, 진동자 커버(17)를 통하여 이 이동 수단(6)에 취부되어 있다. 이것에 의하여, 이동 수단(6)은 이 초음파 진동자(15)의 발진의 영향을 받는 것 없이 세정 유닛(5)을 이동시키는 것이 가능하여, 상기 직동 기구의 눌어붙음을 막는 것이 가능하다. Further, as described above, the cleaning unit 5 is attached to the moving means 6 via the vibrator cover 17. Thereby, the moving means 6 can move the cleaning unit 5 without being influenced by the oscillation of the ultrasonic vibrator 15, and it is possible to prevent the sticking of the linearly moving mechanism.

또한, 도시하고 있지 않지만, 이동 수단(6)에 더하여, 세정 유닛(5)을 Z 방향으로 이동시키는 Z 방향 구동 장치를 설치하여도 무방하다. 이 Z 방향 구동 장치를 설치하는 것에 의하여, 립면(23)의 세정 시는 세정 유닛(5)을 상방으로 이동시켜 립면(23)에 근접시키고, 기판(W)에의 도포 등 세정 이외의 프로세스가 실시되고 있을 때는, 세정 유닛(5)을 하방으로 이동시켜 립면(23)으로부터 이간(離間)시켜, 세정 유닛(5)과 립면(23)과의 간섭을 회피시킬 수 있다. In addition to the moving means 6, a Z-direction driving device for moving the cleaning unit 5 in the Z direction may be provided, though not shown. When the lip surface 23 is cleaned, the cleaning unit 5 is moved upward to come close to the lip surface 23, and a process other than cleaning such as application to the substrate W is performed The cleaning unit 5 can be moved downward and separated from the lip surface 23 to avoid interference between the cleaning unit 5 and the lip surface 23. [

또한, 이 Z 방향 구동 장치는, 세정 유닛(5)과 이동 수단(6)과의 사이에 설치하여, 세정 유닛(5)만을 상하동(上下動)시켜도 무방하고, 세정 유닛(5)과 이동 수단(6)을 함께 상하동시키도록 설치하여도 무방하다. It is also possible to provide the Z direction drive device between the cleaning unit 5 and the moving means 6 so that only the cleaning unit 5 moves up and down, (6) may be installed to vertically move together.

또한, 이와 같은 Z 방향 구동 장치를 설치하지 않고, 그 대신에, 세정 이외의 프로세스가 실시되고 있을 때는, 상방에 립면(23)이 존재하지 않는 위치까지 세정 유닛(5)이 Y축 방향으로 퇴피하고, 세정 시는, 세정 유닛(5)이 립면(23)의 하방까지 Y축 방향으로 이동하는 것에 의하여 세정 유닛(5)과 립면(23)이 근접하는 상태로 되도록, 이동 수단(6)이 설치되어도 무방하다. When the process other than the cleaning process is being performed, the cleaning unit 5 is retracted in the Y-axis direction to the position where the lip surface 23 is not present above the Z-direction drive device, The cleaning unit 5 moves to the lower side of the lip surface 23 in the Y axis direction so that the cleaning unit 5 and the lip surface 23 come close to each other. It may be installed.

이상에 나타낸 구성의 세정 장치(4)에 의하여 립면(23)을 세정하는 상태를 도 4에 도시한다. FIG. 4 shows a state in which the lip surface 23 is cleaned by the cleaning device 4 having the above-described configuration.

세정 장치(4)가 립면(23)을 세정할 때, 우선, 세정 유닛(5)이 립면(23)에 근접하여, 대향 홈(13)에 립면(23)이 간극 d를 설치하여 들어가는 상태로 된다. 세정 유닛(5)이 립면(23)에 근접하는 방법은, 상기대로 세정 유닛(5)이 Z축 방향으로 이동하는 것이어도 무방하고, Y축 방향으로 이동하는 것이어도 무방하다. When the cleaning device 4 cleans the lip surface 23, the cleaning unit 5 is first brought close to the lip surface 23 and the lip surface 23 is set in the opposed groove 13 with the gap d do. The method in which the cleaning unit 5 approaches the lip surface 23 may be such that the cleaning unit 5 moves in the Z-axis direction as described above, and moves in the Y-axis direction.

이 상태에 있어서, X축 방향에 있어서의 립(22)의 양 측방의 세정액 공급구(14)로부터 세정액이 공급되는 것에 의하여, 세정액이 이 간극 d로 들어가, 침지부(19)를 형성한다. 이것에 의하여, 침지부(19)에 있어서 립면(23)이 국소적으로 세정액에 침지되는 상태로 된다. In this state, the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply ports 14 on both sides of the lip 22 in the X-axis direction, so that the cleaning liquid enters the gap d to form the dipped portion 19. Thus, in the dipping section 19, the lip surface 23 is locally immersed in the cleaning liquid.

그리고, 초음파 진동자(15)가 발진하는 것에 의하여, 초음파 진동부(11)가 초음파 진동한다. 이것에 의하여, 침지부(19)를 형성하는 세정액에 초음파 진동이 전반하여, 이 세정액이 립면(23)을 초음파 세정하기 때문에, 단순히 세정액을 립면(23)에 내뿜는 방법보다도 강력하게 립면(23)의 고착물을 제거하는 것이 가능하다. Then, the oscillation of the ultrasonic vibrator 15 causes the ultrasonic vibration section 11 to undergo ultrasonic vibration. Ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid forming the dipping section 19 and the cleaning liquid is ultrasonically cleaned by the cleaning liquid so that the lipid surface 23 is more strongly adhered to the lip surface 23 than the method of simply spraying the cleaning liquid onto the lip surface 23. [ It is possible to remove the adhered material.

또한, 간극 d의 폭 및 세정액의 공급량을 적당한 값으로 조절하는 것에 의하여, 대향 홈(13)과 립면(23)과의 사이에서 세정액의 표면 장력이 발생하여, 도 4에 도시하는 대로, 립(22)의 근원(구금(21)에 대한 립(22)의 밑동 부분)까지 세정액으로 덮는 상태를 형성하는 것도 가능하다. By adjusting the width of the gap d and the supply amount of the cleaning liquid to an appropriate value, surface tension of the cleaning liquid is generated between the opposing groove 13 and the lip surface 23, and as shown in Fig. 4, 22 (the base of the lip 22 with respect to the nest 21) with the cleaning liquid.

특허 문헌 2에 나타내진 바와 같은 세정조 방식에서는, 립면(23)은 세정조에 잠겨 있는 부위밖에 세정되지 않지만, 본 실시예에 의하면, 표면 장력을 이용하는 것에 의하여, 대향 홈(13)의 상단(上端)보다도 한층 더 상방까지 세정액으로 채운 상태로 침지부(19)를 보지(保持)하여 초음파 세정할 수 있어, 보다 고착물을 잔류시키는 것이 없도록 세정하는 것이 가능해진다. In the washing tank system as shown in Patent Document 2, the lip surface 23 is not cleaned only in a region immersed in the cleaning tank. According to this embodiment, by using the surface tension, the upper end It is possible to perform ultrasonic cleaning by holding the dipped portion 19 in a state of being filled with the cleaning liquid even further upward than that of the dipping portion 19,

또한, 세정액에 초음파 진동을 가하면 세정액이 튀는 현상이 발생하지만, 립면(23)과 대향 홈(13)이 거리 d만큼 이간하는 것에 의하여, 튄 세정액이 구금(21)에 부착하기 어려워진다. Further, when the ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid, a phenomenon of splashing of the cleaning liquid occurs. However, the splash cleaning liquid is hardly attached to the nipping 21 by the separation of the lip surface 23 and the opposing groove 13 by the distance d.

그리고, 세정 유닛(5)이 상기의 초음파 세정을 행하면서, 이동 수단(6)에 의하여 세정 유닛(5)이 Y축 방향으로 이동하는 것에 의하여, 립면(23)이 긴쪽 방향으로 세정된다. The cleaning unit 5 moves in the Y-axis direction by the moving means 6 while the cleaning unit 5 performs the ultrasonic cleaning as described above, whereby the lip surface 23 is cleaned in the longitudinal direction.

또한, 본 실시예에서는, 대향 홈(13)은, 립면(23a) 및 립면(23b)과 평행한 면인 대향면(13a) 및 대향면(13b)을 가지는 형상으로 되어 있다. 이것에 의하여, 대향 홈(13)과 립면(23)과의 간극을 전체적으로 작게 하는 것이 용이해지기 때문에, 침지부(19)를 보다 적은 세정액의 유량으로 형성하는 것이 가능하고, 또한, 침지부(19)를 형성하는 세정액에 초음파 진동부(11)로부터의 초음파 진동을 효율적으로 부여하는 것이 가능하기 때문에, 강력한 초음파 세정의 세정력을 얻을 수 있다. In the present embodiment, the opposite groove 13 has a shape having an opposing face 13a and an opposing face 13b, which are planes parallel to the lip face 23a and the lip face 23b. This makes it easier to reduce the gap between the opposing groove 13 and the lip surface 23 as a whole so that the dipping portion 19 can be formed with a smaller flow rate of the cleaning liquid and the damping portion It is possible to efficiently apply the ultrasonic vibration from the ultrasonic vibration section 11 to the cleaning liquid forming the ultrasonic cleaning section 19, thereby obtaining a strong ultrasonic cleaning cleaning force.

여기서, 본 실시예에서는, Y축 방향에 있어서의 초음파 진동부(11)의 단부에 있어서 세정액을 막는 형상은 가지고 있지 않다. 따라서, 간극 d로 들어간 세정액은 곧바로 Y축 방향에 있어서의 초음파 진동부(11)의 단부로부터 유출한다. Here, in the present embodiment, the end portion of the ultrasonic vibration portion 11 in the Y-axis direction does not have a shape for blocking the cleaning liquid. Therefore, the cleaning liquid which has entered the gap d immediately flows out from the end of the ultrasonic vibration section 11 in the Y-axis direction.

그래서, 본 실시예에 있어서 립면(23)을 세정할 때는, 세정액을 초음파 진동부(11)의 단부로부터 계속 유출시키면서 세정액 공급구(14)로부터 계속 공급하고 있다. Therefore, when cleaning the lip surface 23 in the present embodiment, the cleaning liquid is continuously supplied from the cleaning liquid supply port 14 while continuously flowing out from the end of the ultrasonic vibration section 11.

이렇게 하는 것에 의하여, 세정액이 곧바로 유출하는 상태여도, 단위 시간당 세정액이 유출하는 양에 대하여 단위 시간당 세정액 공급구(14)로부터 세정액을 공급하는 양을 조절하는 것에 의하여, 침지부(19)를 확보하는 것은 가능하다. 또한, 세정액의 표면 장력에 의하여 립(22)의 근원까지 세정액으로 덮는 것도 가능하다. By doing so, the amount of the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply port 14 per unit time is controlled with respect to the amount of the cleaning liquid discharged per unit time, even when the cleaning liquid immediately flows out, thereby securing the dipped portion 19 It is possible. It is also possible to cover the source of the lip 22 with the cleaning liquid by the surface tension of the cleaning liquid.

게다가, 이와 같이 세정액이 곧바로 유출하는 상태에 있어서 세정액 공급구(14)로부터 세정액을 공급하여 침지부(19)를 형성하는 것에 의하여, 침지부(19)는 항상 세정액 공급구(14)로부터 공급된지 얼마 되지 않은, 외기(外氣)에 거의 접하고 있지 않는 세정액으로 형성된다. By supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply port 14 and forming the dipped portion 19 in the state where the cleaning liquid immediately flows out as described above, the dipped portion 19 is always supplied from the cleaning liquid supply port 14 And is formed of a cleaning liquid which is not in contact with the outside air.

여기서, 특허 문헌 2에 나타내진 바와 같은 세정조 방식에서는, 세정액을 공급하기 전에 충분히 탈기하고 있어도 세정액을 대량으로 공급하고 있는 동안에 세정액이 공기를 받아들여, 충분한 탈기의 효과를 얻을 수 없었다. 그리고, 세정액에 공기가 용해한 경우, 이 용존 공기가 초음파 세정액 중에 있어서의 캐비테이션(cavitation)의 발생을 저해하기 때문에, 세정력이 약해져 버린다. In the washing tank system as shown in Patent Document 2, even when the washing liquid is thoroughly degassed before supplying the washing liquid, the washing liquid absorbs air while the washing liquid is supplied in a large amount, and sufficient deaeration effect can not be obtained. When air is dissolved in the cleaning liquid, the dissolved air deteriorates the generation of cavitation in the ultrasonic cleaning liquid, so that the cleaning power is weakened.

한편, 본 실시예와 같이, 상기대로 침지부(19)가 항상 거의 외기에 접하고 있지 않는 세정액으로 형성되는 것에 의하여, 항상 충분히 탈기된 세정액으로 초음파 세정을 행할 수 있기 때문에, 강력한 세정력을 유지하는 것이 가능하다. On the other hand, as in the present embodiment, since the dipping portion 19 is always formed of the cleaning liquid which is not in contact with the outside air at all times, the ultrasonic cleaning can be always performed with the cleaning liquid sufficiently deaerated, It is possible.

또한, 립면(23)으로부터 제거된 고착물도 초음파 진동부(11) 상에서 체류하는 것 없이 곧바로 초음파 진동부(11)로부터 유출하기 때문에, 항상 깨끗한 세정액으로 침지부(19)가 형성되어, 세정액이 더러워지는 것에 의한 세정력의 저하를 막는 것이 가능하다. Since the fixed object removed from the lip surface 23 also flows out from the ultrasonic vibration section 11 immediately without staying on the ultrasonic vibration section 11, the damping section 19 is always formed with a clean cleaning liquid, It is possible to prevent the deterioration of the washing power due to losing.

또한, 초음파 진동부(11)는, 초음파 진동에 의하여 발열할 우려가 있지만, 세정액의 공급 및 유출이 계속되는 것에 의하여, 초음파 진동부(11)를 냉각하는 효과도 가진다. The ultrasonic vibration section 11 may generate heat by ultrasonic vibration. However, the ultrasonic vibration section 11 also has an effect of cooling the ultrasonic vibration section 11 by continuously supplying and discharging the cleaning liquid.

여기서, 간극 d는, 세정액이 들어가기 쉬운 폭일 필요가 있고, 그것을 채우는 폭의 범위 내에서 좁은 간극 d인 것이, 침지부(19)를 형성하기 위하여 필요한 세정액의 공급량을 줄일 수 있고, 또한, 초음파 진동부(11)의 진동을 효율적으로 침지부(19)의 세정액에 전반하여, 립면(23)을 강력하게 초음파 세정할 수 있다. 본 실시예에서는, 이 간극 d는 1mm 정도가 최적이었다. Here, the clearance d needs to be a width at which the cleaning liquid can easily enter, and a narrow gap d within the range of filling the clearance d can reduce the supply amount of the cleaning liquid necessary for forming the dipping section 19, The vibration of the eccentric portion 11 can be efficiently propagated to the cleaning liquid of the dipping portion 19 and the lip surface 23 can be strongly ultrasonically cleaned. In this embodiment, the gap d of about 1 mm was optimum.

다음으로, 본 실시예의 세정 장치(4)의 사용예를 도 5에 도시한다. Next, Fig. 5 shows an example of use of the cleaning device 4 of the present embodiment.

상기대로, 세정 장치(4)가 립면(23)을 초음파 세정하는 것에 의하여, 강력하게 립면(23)의 고착물을 제거하는 것이 가능하다. 이것에 더하여, 수지로 이루어지는 부재를 립면(23)에 당접시켜 고착물을 긁어내는 종래의 청소 장치(8)와 조합하여, 이 청소 장치에서 고착물의 대부분을 제거한 후, 잔존한 고착물을 세정 장치(4)로 세정하여도 무방하다. 이렇게 하는 것에 의하여, 세정 장치(4)로 제거해야 할 고착물의 양이 세정 장치(4)에서 사용하는 세정액의 양과 비교하여 너무 많은 것 없이 효율적으로 고착물을 제거하는 것이 가능하다. By the ultrasonic cleaning of the lip surface 23 by the cleaning device 4 as described above, it is possible to strongly remove the adhered matter of the lip surface 23. In addition to this, in combination with a conventional cleaning device 8 for abutting a member made of a resin to the lip surface 23 to scrape off the fixture, most of the fixture is removed from the cleaning device, (4). By doing so, it is possible to efficiently remove the fixture without excessively comparing the amount of fixture to be cleaned by the cleaning device 4 with the amount of the cleaning solution used in the cleaning device 4. [

또한, 세정 장치(4)로 세정한 후는 세정액이 립면(23)에 잔존하는 경우가 있다. 그 때문에, 기체를 내뿜어 이 세정액을 제거하는 블로우 장치(9)를 더 설치하여도 무방하다. Further, after cleaning with the cleaning device 4, the cleaning liquid may remain on the lip surface 23 in some cases. Therefore, it is also possible to further provide a blow device 9 for blowing gas to remove the cleaning liquid.

블로우 장치(9)는, 예를 들어, 기체가 분출하는 분출구를 가지고, 도시하지 않는 기체 공급원으로부터 공급된 기체를 이 분출구로부터 립면(23)을 향하여 분출하는 것이다. The blowing device 9 has, for example, an ejection port through which a gas is ejected, and ejects a gas supplied from a gas supply source (not shown) from the ejection port toward the lip surface 23.

이러한 세정 장치(4), 청소 장치(8) 및 블로우 장치(9)를 함께 이용하는 경우, 이것들은 예를 들어 세정 장치(4)가 가지는 이동 수단(6)에 함께 취부되어, 함께 Y축 방향으로 이동한다. 그리고, 립면(23)의 고착물을 제거할 때는, 이것들이 일 방향으로 이동하도록 하며, 립면(23)의 각 부분을 우선 청소 장치(8)가 통과하고, 다음으로 세정 장치(4)가 통과하고, 마지막에 블로우 장치(9)가 통과하도록 배치된다. When the cleaning device 4, the cleaning device 8 and the blowing device 9 are used together, they are mounted together with the moving means 6 of the cleaning device 4, for example, Move. When the fixture of the lip surface 23 is to be removed, these are moved in one direction and each part of the lip surface 23 passes firstly through the cleaning device 8 and then through the cleaning device 4 And finally, the blowing device 9 is passed through.

이렇게 하는 것에 의하여, 립면(23)에 고착물(31)이 고착하고 있었던 경우, 이하의 순서로 고착물(31)이 제거된다. By doing so, when the fixture 31 is adhered to the lip surface 23, the fixture 31 is removed in the following procedure.

우선 청소 장치(8)에 의하여 이 고착물(31)이 긁어내진다. 여기서, 통상은, 고착물(31)은 립면(23)의 하방으로 긁어 떨어지지만, 고착물(31)이 다량인 경우, 청소 장치(8)의 상방으로 고착물(31)이 넘쳐, 가로줄 형상의 잔존 고착물(32)이 잔존한다. 또한, 그 외의 이유에 의하여 긁어낼 수 없었던 고착물(31)도 잔존 고착물(32)로서 잔존한다. First, the fixture 31 is scraped off by the cleaning device 8. In this case, normally, the fixture 31 is scraped down to the lip surface 23, but when the fixture 31 is large, the fixture 31 overflows the cleaning device 8, The remaining fixture 32 remains. In addition, the fixture 31, which could not be scratched due to other reasons, remains as the remaining fixture 32.

다음으로, 세정 장치(4)에 의하여 립면(23)이 국소적으로 세정액에 침지한 상태를 형성하여 초음파 세정을 행하는 것에 의하여, 잔존 고착물(32)을 강력하게 제거한다. 제거된 잔존 고착물(32)은, 세정액과 함께 립면(23)의 하방으로 씻어 없애진다. 이러한 청소 장치(8) 및 세정 장치(4)에 의하여, 고착물(31) 및 잔존 고착물(32)은 제거되지만, 초음파 세정에 이용한 세정액이 잔존 세정액(33)으로서 립면(23)에 잔존한다. Next, the state in which the lip surface 23 is locally immersed in the cleaning liquid is formed by the cleaning device 4, and ultrasonic cleaning is carried out to strongly remove the remaining fixture 32. The removed remaining fixture 32 is washed off along the lip surface 23 together with the cleaning liquid. By this cleaning device 8 and the cleaning device 4, the fixture 31 and the remaining fixture 32 are removed, but the cleaning solution used for the ultrasonic cleaning remains on the lip surface 23 as the remaining cleaning solution 33 .

마지막으로, 블로우 장치(9)에 의하여 립면(23)에 기체를 내뿜어, 잔존 세정액(33)을 날려 버린다. 고착물(31)의 상태인 채로는, 블로우로 제거하는 것은 곤란하지만, 세정 장치(4)가 통과한 후는 립면(23)에는 잔존 세정액(33)밖에 잔존하지 않기 때문에, 블로우로 이것을 제거하면, 립면(23)에는 고착물(31)도 세정액도 잔존하지 않는 상태로 된다. Finally, the blowing device 9 blows gas to the lip surface 23 to blow off the remaining cleaning liquid 33. [ It is difficult to remove by the blow while the state of the fixture 31 is maintained. However, after passing through the cleaning device 4, only the remaining cleaning liquid 33 remains on the lip surface 23, , The fixture 31 and the cleaning liquid do not remain on the lip surface 23.

그리고, 세정 장치(4), 청소 장치(8) 및 블로우 장치(9)를 함께 Y축 방향으로 이동시켜, 립면(23) 전체에 대하여 상기의 고착물(31)의 제거 동작을 행하는 것에 의하여, 립면(23) 전체의 고착물(31)을 깨끗하게 제거하는 것이 가능하다. By moving the cleaning device 4, the cleaning device 8 and the blow device 9 together in the Y-axis direction to perform the removal operation of the fixture 31 with respect to the entire lip surface 23, It is possible to cleanly remove the fixture 31 of the entire lip surface 23.

다음으로, 다른 실시예에 있어서의 세정 장치를 도 6에 도시한다. Next, a cleaning apparatus in another embodiment is shown in Fig.

도 6(a)는 초음파 진동부(11)와 세정액 공급부(12)와의 사이에 스페이서(34)를 설치한 예이다. 도 3(a)에 도시한 실시예에서는 초음파 진동부(11)와 세정액 공급부(12)에는 간극을 설치하고 있기 때문에, 이 간극으로부터 세정액이 떨어져, 초음파 진동부(11)와 립면(23)과의 간극으로 공급되는 세정액의 양이 약간 줄어 있다. 이것에 대하여, 도 6(a)에서는 스페이서(34)로 간극을 막는 것에 의하여, 보다 효율적으로 초음파 진동부(11)와 립면(23)과의 간극으로 세정액을 공급한다. 6 (a) shows an example in which a spacer 34 is provided between the ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12. As shown in Fig. In the embodiment shown in Fig. 3 (a), since the gap is provided between the ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12, the cleaning liquid is separated from the gap and the ultrasonic vibration section 11, the lip surface 23, The amount of cleaning liquid supplied to the clearance of the cleaning liquid is slightly reduced. On the other hand, in FIG. 6 (a), the gap is blocked by the spacer 34, thereby supplying the cleaning liquid to the clearance between the ultrasonic vibration portion 11 and the lip surface 23 more efficiently.

다만, 이 경우, 전술대로, 초음파 진동부(11)의 진동이 세정액 공급부(12)에 전반하는 것은 바람직하지 않고, 또한, 세정액 공급부(12)가 초음파 진동부(11)의 진동 특성에 영향을 미치는 것도 바람직하지 않다. In this case, it is not preferable that the vibration of the ultrasonic vibration section 11 propagates to the cleaning liquid supply section 12 as described above. Further, the cleaning liquid supply section 12 influences the vibration characteristics of the ultrasonic vibration section 11 It is also not desirable.

따라서, 이 경우는, 스페이서(34)는 초음파 진동부(11)와 세정액 공급부(12)가 진동에 관하여 영향을 서로 미치지 않도록 하는 「진동 차단부」로서도 기능할 필요가 있다. 그래서, 스펀지 등 강성이 낮은 재료로 스페이서(34)가 형성되는 것이 바람직하다. Therefore, in this case, the spacer 34 also needs to function as a " vibration blocking portion " which prevents the ultrasonic vibration portion 11 and the cleaning liquid supply portion 12 from mutually influencing the vibration. Therefore, it is preferable that the spacers 34 are formed of a material having low rigidity such as a sponge.

덧붙여, 초음파 진동부(11)와 세정액 공급부(12)와의 사이에 간극을 설치하고 있는 도 3(a)의 실시예에서는, 이 간극이 이 진동 차단부로서 기능하고 있다고 말할 수 있다. In the embodiment of Fig. 3 (a) in which a gap is provided between the ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12, it can be said that the gap functions as the vibration isolation section.

또한, 초음파 진동부(11)와 세정액 공급부(12)와의 사이에 간극을 설치하지 않고, 또한, 스페이서(34)를 이용하지 않고 초음파 진동부(11)와 세정액 공급부(12)를 직접 연결하는 경우는, 초음파 진동부(11)의 진동을 세정액을 공급하는 배관에 전하지 않도록 하고, 또한, 세정액 공급부(12)가 초음파 진동부(11)의 진동 특성에 영향을 미치지 않도록 하기 위하여, 세정액 공급부(12) 자체가 진동 차단부로서 기능하도록, 세정액 공급부(12)는 수지 등 강성이 낮은 재료로 형성될 필요가 있다. When a gap is not provided between the ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12 and the ultrasonic vibration section 11 and the cleaning liquid supply section 12 are directly connected without using the spacer 34 In order to prevent the vibration of the ultrasonic vibration section 11 from being transmitted to the piping for supplying the cleaning liquid and to prevent the cleaning liquid supply section 12 from affecting the vibration characteristics of the ultrasonic vibration section 11, The cleaning liquid supply unit 12 needs to be formed of a material having a low rigidity such as a resin.

도 6(b)는 초음파 진동부(11)에 직접 세정액 공급구(14)를 설치한 예이다. 이 형태를 취하는 것에 의하여, 초음파 진동부(11)와 립면(23)과의 간극에, 보다 효율적으로 세정액을 공급하는 것이 가능하다. Fig. 6 (b) shows an example in which the cleaning liquid supply port 14 is provided directly in the ultrasonic vibration section 11. Fig. By adopting this form, it is possible to more efficiently supply the cleaning liquid to the gap between the ultrasonic vibration section 11 and the lip surface 23.

이 경우, 세정액을 공급하기 위한 배관을 직접 초음파 진동부(11)에 접속하기 때문에, 가능한 한 강성이 낮은 배관을 이용하는 등, 초음파 진동부(11)로부터 전반하는 진동에 의하여 배관이 손상하는 것을 막는 대책을 세울 필요가 있지만, 이와 같은 구성으로 하는 것에 의하여, 별도 세정액 공급부(12)를 설치하는 것 없이, 세정 장치(4)의 구성을 간소화하는 것도 가능하다. In this case, since the piping for supplying the cleaning liquid is directly connected to the ultrasonic vibration section 11, it is possible to prevent the piping from being damaged by the oscillation propagated from the ultrasonic vibration section 11, It is also possible to simplify the structure of the cleaning device 4 without providing the separate cleaning liquid supply part 12. [

다음으로, 대향 홈(13)의 형상에 관한 다른 실시예에 있어서의 세정 장치를 도 7에 도시한다. Next, Fig. 7 shows a cleaning apparatus in another embodiment relating to the shape of the opposing groove 13. As shown in Fig.

전술대로, 도 3(a)에 도시하는 실시예에서는, 대향 홈(13)은 립면(23a) 및 립면(23b)과 평행한 대향면(13a) 및 대향면(13b)을 가지는 형상으로 되어 있지만, 예를 들어 도 7(a) 및 도 7(b)에 도시하는 대향 홈(13)의 형상과 같이, 립면(23)과 평행한 면을 가지고 있지 않아도, 초음파 진동부(11)와 립면(23)과의 사이에서 침지부(19)를 형성하는 것이 가능하다면, 본 발명의 목적을 실현하는 것은 가능하고, 반드시 대향 홈(13)이 립면(23)과 평행한 면을 가지고 있지 않아도 상관없다. As described above, in the embodiment shown in Fig. 3 (a), the opposing groove 13 is in the shape having the opposing face 13a and the opposing face 13b parallel to the lip face 23a and the lip face 23b The ultrasonic vibration section 11 and the lip face 23 (see FIG. 7 (a) and FIG. 7 (b) 23, it is possible to realize the object of the present invention, and it is not necessarily required that the counter grooves 13 have a surface parallel to the lip surface 23 .

다만, 도 3(a)의 실시예와 같이 하는 것에 의하여, 전술대로, 세정 유닛(5)이 립면(23)에 근접하였을 때에 대향 홈(13)과 립면(23)과의 간극을 전체적으로 작게 할 수 있기 때문에, 침지부(19)를 보다 적은 세정액의 유량으로 형성하는 것이 가능하고, 또한, 침지부(19)를 형성하는 세정액에 초음파 진동부(11)로부터의 초음파 진동을 효율적으로 부여하는 것이 가능하기 때문에, 강력한 초음파 세정의 세정력을 얻을 수 있다. 3 (a), the clearance between the opposing groove 13 and the lip face 23 is made small as a whole when the cleaning unit 5 is close to the lip face 23 as described above It is possible to form the dipping section 19 with a smaller flow rate of the cleaning liquid and to efficiently apply the ultrasonic vibration from the ultrasonic vibration section 11 to the cleaning liquid forming the damping section 19 It is possible to obtain a cleaning power of a strong ultrasonic cleaning.

또한, 도 7(c)와 같이, 초음파 진동부(11)의 X축 방향의 양 단부에 리브(35)를 설치하고, 이 리브(35)에 끼인 대향 홈(13)에 세정액을 저류하기 쉽게 하여도 무방하다. 다만, 이 경우, 리브(35)의 높이가 너무 높은 것에 의하여 립면(23)으로부터 씻어내진 고착물이 대향 홈(13)에 잔류하여 버리는 것은 바람직하지 않다. 7 (c), ribs 35 are provided at both ends in the X-axis direction of the ultrasonic vibration section 11, and the cleaning liquid can be easily stored in the opposing grooves 13 caught by the ribs 35 It is also acceptable. However, in this case, it is not preferable that the fixture washed away from the lip surface 23 remains in the opposite groove 13 due to the height of the rib 35 being too high.

이상 설명한 대로의 세정 장치 및 세정 방법에 의하여, 립에 고착한 고착물을 저가의 구성으로 또한 강력하게 제거하는 것이 가능하다. With the cleaning device and the cleaning method as described above, it is possible to strongly remove the fixture adhered to the lip with a low-cost construction.

1 : 도포 장치 2 : 도포부
3 : 반송부 4 : 세정 장치
5 : 세정 유닛 6 : 이동 수단
7 : 발진기 8 : 청소 장치
9 : 블로우 장치 11 : 초음파 진동부
12 : 세정액 공급부 13 : 대향 홈
13a : 대향면 13b : 대향면
14 : 세정액 공급구 15 : 초음파 진동자
16 : 진동 부여부 17 : 초음파 진동자 커버
18 : 연결부 19 : 침지부
21 : 구금 22 : 립
23 : 립면 23a : 립면
23b : 립면 24 : 토출구
31 : 고착물 32 : 잔존 고착물
33 : 잔류 세정액 34 : 스페이서
35 : 리브 d : 간극
W : 기판
1: Coating device 2: Coating part
3: Carrier 4: Cleaning device
5: Cleaning unit 6: Moving means
7: Oscillator 8: Cleaning device
9: blow device 11: ultrasonic vibration part
12: cleaning liquid supply unit 13: opposed groove
13a: facing surface 13b: facing surface
14: Cleaning liquid supply port 15: Ultrasonic vibrator
16: vibration mount 17: ultrasonic vibrator cover
18: connection part 19:
21: detention 22: lip
23: Lip surface 23a: Lip surface
23b: lip surface 24: discharge port
31: Fixture 32: Remaining fixture
33: Residual cleaning liquid 34: Spacer
35: rib d: clearance
W: substrate

Claims (6)

도포 장치가 가지는 구금(口金)의 긴쪽 방향을 따라 형성되는 토출구(吐出口)를 형성하는 립(lip)면에 대향하는 대향 홈을 가지고, 당해 립면에 근접하는 세정 유닛과,
상기 립면을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급구와,
상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 이동 수단
을 가지고, 상기 이동 수단에 의하여 상기 긴쪽 방향으로 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 이동시키면서, 상기 립면을 세정하는 세정 장치이며,
상기 세정 유닛은, 초음파 진동자가 취부되고, 상기 대향 홈이 형성된 초음파 진동부를 구비하고 있고,
상기 대향 홈과 상기 립면을 근접시켜, 상기 대향 홈과 상기 립면으로 형성되는 간극(間隙)에 상기 세정액 공급구로부터 세정액을 공급하는 것에 의하여, 상기 립면이 세정액에 침지(浸漬)되는 상태를 형성하고, 이 상태에 있어서 상기 초음파 진동자에 의하여 상기 초음파 진동부를 초음파 진동시키는 것에 의하여 상기 립면의 부분적 세정이 행하여지며, 나아가 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여, 상기 립면이 상기 긴쪽 방향으로 세정되는 것을 특징으로 하는, 세정 장치.
A cleaning unit having an opposite groove facing a lip surface forming a discharge port formed along a longitudinal direction of a mouth of the applicator,
A cleaning liquid supply port for supplying a cleaning liquid for cleaning the lip surface,
The cleaning unit and the cleaning liquid supply port are moved in the longitudinal direction,
And a cleaning device for cleaning the lip surface while moving the cleaning unit and the cleaning liquid supply port in the longitudinal direction by the moving unit,
The cleaning unit includes an ultrasonic vibrator having an ultrasonic vibrator mounted thereon and an opposing groove formed therein,
The lip surface is immersed in the cleaning liquid by bringing the opposite groove and the lip surface into close proximity and supplying the cleaning liquid from the cleaning liquid supply port to a gap formed between the opposing groove and the lip surface. In this state, partial cleaning of the lip surface is performed by ultrasonically vibrating the ultrasonic vibration unit by the ultrasonic vibrator, and further, the lip surface is moved by moving the cleaning unit and the cleaning liquid supply port in the longitudinal direction. The cleaning apparatus, characterized in that the cleaning in the longitudinal direction.
제1항에 있어서,
상기 대향 홈의 상기 립면과 대향하는 면인 대향면은, 상기 립면과 평행한 면을 가지는 것을 특징으로 하는, 세정 장치.
The method of claim 1,
Wherein the opposing face, which is a face opposing the lip face of the opposite groove, has a plane parallel to the lip face.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 세정 유닛은, 상기 세정액 공급구를 구비한 세정액 공급부를 가지고, 상기 세정액 공급부는, 상기 초음파 진동자의 진동의 마디에 해당하는 개소에 접속되어 있는 것을 특징으로 하는, 세정 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The said washing | cleaning unit has the washing | cleaning liquid supply part provided with the said washing | cleaning liquid supply port, The said washing | cleaning liquid supply part is connected to the location corresponding to the node of the vibration of the said ultrasonic vibrator, The washing | cleaning apparatus characterized by the above-mentioned.
제3항에 있어서,
상기 초음파 진동부와 상기 세정액 공급부와의 사이에는, 상기 초음파 진동부의 진동이 상기 세정액 공급부에 전반(傳搬)하는 것을 차단하는 진동 차단부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 세정 장치.
The method of claim 3,
Wherein a vibration blocking portion is provided between the ultrasonic vibration portion and the cleaning liquid supply portion so as to prevent transmission of vibration of the ultrasonic vibration portion to the cleaning liquid supply portion.
도포 장치가 가지는 구금의 긴쪽 방향을 따라 형성되는 토출구를 형성하는 립면에 대향하는 대향 홈이 형성된 초음파 진동부를 가지고, 당해 립면에 근접하는 세정 유닛과,
상기 립면을 세정하는 세정액을 공급하는 세정액 공급구와,
상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 이동 수단
을 가지는 세정 장치에 의하여, 상기 립면을 세정하는 세정 방법이며,
상기 대향 홈과 상기 립면을 근접시켜, 상기 대향 홈과 상기 립면으로 형성되는 간극에 상기 세정액 공급구로부터 세정액을 공급하는 것에 의하여, 상기 립면이 세정액에 침지되는 상태를 형성하고, 이 상태에 있어서 상기 초음파 진동부를 초음파 진동시키는 것에 의하여 상기 립면의 부분적 세정을 행하며, 나아가 상기 세정 유닛 및 상기 세정액 공급구를 상기 긴쪽 방향으로 이동시키는 것에 의하여, 상기 립면을 상기 긴쪽 방향으로 세정하는 것을 특징으로 하는, 세정 방법.
A cleaning unit having an ultrasonic vibration portion having an opposing groove formed opposite to a lip surface forming a discharge port formed along a longitudinal direction of a nipping portion of a coating device,
A cleaning liquid supply port for supplying a cleaning liquid for cleaning the lip surface,
The cleaning unit and the cleaning liquid supply port are moved in the longitudinal direction,
And a cleaning device for cleaning the lip surface,
And a cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid supply port to a gap formed by the opposing groove and the lip face to bring the lip face into a state in which the lip face is immersed in the cleaning liquid, Characterized in that the ultrasonic vibrator is ultrasonically vibrated to partially clean the lip surface and further to move the cleaning unit and the cleaning liquid supply port in the longitudinal direction to clean the lip surface in the longitudinal direction, Way.
제5항에 있어서,
상기 대향 홈과 상기 립면과의 사이에서 생기는 세정액의 표면 장력에 의하여, 상기 립면에 의하여 형성되는 립의 근원까지 세정액으로 덮는 상태를 형성하여, 상기 립면을 초음파 세정하는 것을 특징으로 하는, 세정 방법.
The method of claim 5,
Wherein a surface of the lip formed by the lip surface is covered with a cleaning liquid by surface tension of a cleaning liquid generated between the opposed grooves and the lip surface, and the lip surface is ultrasonically cleaned.
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