KR20130122519A - Air purifier and humidifier - Google Patents

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KR20130122519A
KR20130122519A KR1020127031502A KR20127031502A KR20130122519A KR 20130122519 A KR20130122519 A KR 20130122519A KR 1020127031502 A KR1020127031502 A KR 1020127031502A KR 20127031502 A KR20127031502 A KR 20127031502A KR 20130122519 A KR20130122519 A KR 20130122519A
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마사유키 오가와
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가부시키가이샤 다이키샤
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Abstract

본 발명은, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 얻으면서 청정수(淸淨水)의 급수량을, 요구되는 가스 성분 제거 효율에 대하여 필요하고 또한 충분한 양으로 할 수 있는 공기 정화 가습 장치를 제공한다. 기액(氣液) 접촉실(16)에서의 청정수 W와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 OA 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기 OA를 정화하고, 또한 처리 대상 공기 OA를 가습(加濕)하는 공기 정화 가습 장치에 있어서, 기액 접촉실(16)로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수 W'의 배수량 Lo를 검출하는 배수량 검출 수단(27)을 구비하고, 또한 기액 접촉실(16)에 대한 청정수 W의 급수량 Li를 배수량 검출 수단(27)의 검출 배수량 Lo에 기초하여 조정하여 배수량 Lo를 설정 배수량 SLo로 조정하는 제어 수단(29)을 구비한다.This invention provides the air purification humidification apparatus which can make the water supply amount of clean water into the required and sufficient quantity with respect to the required gas component removal efficiency, while obtaining the required purification performance and the required humidification performance. The gas-liquid contact with the clean water W in the gas-liquid contact chamber 16 removes the water-soluble gas component in the air OA to be treated to purify the air OA to be treated, and further humidifies the air OA to be treated. Iii) An air purifying humidification apparatus comprising: a drainage detecting means 27 for detecting a drainage amount Lo of used clean water W 'discharged from the gas-liquid contacting chamber 16, The control means 29 is provided to adjust the water supply amount Li of the clean water W based on the detected discharge amount Lo of the discharge amount detecting means 27 to adjust the discharge amount Lo to the set discharge amount SLo.

Description

공기 정화 가습 장치{AIR PURIFIER AND HUMIDIFIER}Air purification humidification device {AIR PURIFIER AND HUMIDIFIER}

본 발명은 공기 정화 가습(加濕) 장치에 관한 것이다. 이 공기 정화 가습 장치는 반도체 제조용의 청정실(淸淨室)에 공급하는 공기의 조정 등에 사용된다. TECHNICAL FIELD This invention relates to an air purification humidification apparatus. This air purification humidification apparatus is used for adjustment of the air supplied to the clean room for semiconductor manufacture.

보다 상세하게 설명하면, 이 공기 정화 가습 장치는 기액(氣液) 접촉실을 구비하고 있다. 이 기액 접촉실에서는, 실내에 통풍되는 처리 대상 공기를 청정수와 기액 접촉시킨다. In more detail, this air purification humidification apparatus is provided with the gas-liquid contact chamber. In this gas-liquid contacting chamber, air to be treated that is ventilated indoors is brought into gas-liquid contact with clean water.

이 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분이 제거되고, 처리 대상 공기는 정화된다. 또한, 이 공기 정화에 의해 처리 대상 공기는 가습된다.By this gas-liquid contact, the water-soluble gas component in air to be processed is removed, and the air to be treated is purified. In addition, the air to be treated is humidified by this air purification.

종래, 이 종류의 공기 정화 가습 장치로서, 예를 들면, 특허 문헌 1의 도 1, 도 2에 나타낸 순환 급수식의 장치가 알려져 있다. Conventionally, the circulation water supply type apparatus shown by FIG. 1, FIG. 2 of patent document 1 is known as this kind of air purification humidification apparatus.

이 순환 급수식의 장치는, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수(즉, 처리 대상 공기에 포함되는 수용성의 가스 성분을 흡수한 청정수)를 캐치(catch)하는 저류(貯留) 탱크를 구비하고 있다. This circulating water-type apparatus is provided with the storage tank which catches used clean water discharged | emitted from a gas-liquid contact chamber (namely, clean water which absorbed the water-soluble gas component contained in the process target air), have.

이 저류 탱크로부터 빼낸 청정수를 기액 접촉실에 순환 공급함으로써, 이 공급 청정수와 처리 대상 공기를 기액 접촉실에서 기액 접촉시킨다.By circulating and supplying the clean water extracted from this storage tank to a gas-liquid contact chamber, this supplied clean water and a process object air are made to gas-liquid contact in a gas-liquid contact chamber.

이 순환 급수식의 장치에서는, 청정수의 일부가 처리 대상 공기의 가습에 소비되어 처리 대상 공기로 사라진다. In this circulation water type device, part of the clean water is consumed for humidifying the air to be treated and disappears into the air to be treated.

또한, 처리 대상 공기로부터 흡수 제거된 수용성의 가스 성분이 사용이 끝난 청정수와 함께 저류 탱크에 반입(搬入)된다. In addition, the water-soluble gas component absorbed and removed from the air to be treated is carried into the storage tank together with the used clean water.

이러한 것에 대하여, 청정수 공급 수단으로부터 필요량의 신선한 청정수를 저류 탱크에 보급한다. On the contrary, fresh clean water of a required amount is supplied to the storage tank from the clean water supply means.

이 보급에 의해, 저류 탱크로부터 기액 접촉실에 순환 공급하는 청정수의 수용성 가스 성분 농도를 일정값 이하로 유지한다(즉, 일정 이상의 청정도로 유지한다).By this replenishment, the concentration of the water-soluble gas component of the clean water circulated and supplied from the storage tank to the gas-liquid contact chamber is maintained at a predetermined value or lower (that is, maintained at a predetermined or higher cleanness).

한편, 예를 들면, 하기 특허 문헌 1의 도 4에 나타낸 일과(一過) 급수식의 장치도 알려져 있다. On the other hand, the daily water supply type apparatus shown by FIG. 4 of following patent document 1 is also known.

이 일과 급수식의 장치에서는, 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수를 기액 접촉실에 일과적으로 공급한다. In this work and water supply device, fresh clean water supplied from the clean water supply means is supplied to the gas-liquid contacting chamber routinely.

이에 대하여, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수는 모두 장치 밖으로 배출한다.In contrast, all of the used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber is discharged out of the apparatus.

그리고, 청정수 공급 수단이 원수(原水)를 정화하여 청정수를 생성하는 것인 경우, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수를 원수의 일부로 하여 청정수 공급 수단으로 되돌리는 일과 급수식의 장치도 있다.And when the clean water supply means purifies raw water and produces | generates clean water, there exists also the apparatus of returning to the clean water supply means using the used clean water discharged from a gas-liquid contact chamber as a part of raw water, and a water supply type apparatus.

그런데, 이들 순환 급수식 및 일과 급수식 중 어느 공기 정화 가습 장치로 해도, 기액 접촉실에 공급하는 청정수의 급수량에 대해서는, 처리 대상 공기로부터 수용성 가스 성분을 제거하는 정화 성능으로서 필요한 가스 성분 제거 효율을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량(必要水量)을 기본수량으로 한다. By the way, even if it is any air purification humidification apparatus of these circulation water supply type | work and a daily water supply type | formula, about the water supply amount of the clean water supplied to a gas-liquid contact chamber, the gas component removal efficiency required as a purification performance which removes a water-soluble gas component from the process target air is The necessary quantity for purification necessary to obtain is taken as a basic quantity.

그리고, 처리 대상 공기를 일정 가습 상태까지 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량을 상기 정화용 필요수량에 더한 수량이 필요한 급수량으로 된다.Then, the required amount for humidification necessary for humidifying the air to be treated to a constant humidification state is a necessary amount of water plus the required amount for purification.

따라서, 처리 대상 공기가 외기(外氣) 등의 상태 변화(처리 전 공기 상태의 변화)가 있는 공기인 경우, 그 상태 변화가 원인으로 상기 가습에 필요한 가습용 필요수량이 변화하면, 기액 접촉실에 대한 청정수의 필요 급수량도 가습용 필요수량의 변화분만큼 변화한다. Therefore, in the case where the air to be treated is air with a change of state (change of air state before treatment) such as outside air, if the required amount for humidification necessary for the humidification changes due to the change of state, the gas-liquid contact chamber The amount of water needed for clean water also changes by the amount of water required for humidification.

그러나, 종래의 공기 정화 가습 장치에서는, 가습용의 수량으로서 충분한 안전률을 예상한 일정한 큰 가습용 설계수량을 설정하고, 이 가습용 설계수량을 기본수량으로서의 정화용 필요수량에 더한 수량을 설계 급수량으로 하고 있었다. However, in the conventional air purifying humidification apparatus, the constant large humidification design quantity which anticipated sufficient safety factor as the quantity for humidification is set, and the quantity which added this humidification design quantity to the required quantity for purification as a basic quantity as a design water quantity is designed water quantity. Was doing.

그리고, 이 일정 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하는 급수량 일정 운전을 행하도록 하고 있었다. And the water supply amount constant operation which continuously supplies the clean water of this fixed design water supply amount to a gas-liquid contact chamber was performed.

즉, 가습용 필요수량의 변화에 따라 급수량을 조정하는 것은 행해지지 않았었다.That is, adjusting the water supply amount according to the change of the required amount for humidification was not performed.

또한, 처리 대상 공기 상태 변화에 기인하는 가습용 필요수량의 변화에 대응하기 위해서는, 예를 들면, 처리 대상 공기의 처리 전의 공기 상태를 검출하고, 그 검출 공기 상태에 기초하여, 처리 대상 공기 상태 변화에 의한 가습용 필요수량의 변화분만큼, 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 증감 조정하는 것도 생각할 수 있다. In addition, in order to respond to the change in the required amount of humidification due to the change in the air state to be treated, for example, the air state before the processing of the air to be processed is detected, and the change in the air state to be processed is based on the detected air state. It is also conceivable to increase or decrease the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contacting chamber by the amount of change in the required amount for humidification.

그러나, 이 경우, 필요한 가스 성분 제거 효율로 가스 성분이 제거되었는지의 여부는 불명료하기 때문에, 가스 성분의 제거 처리에 대하여 정밀도가 양호한 제어 결과를 얻기 어렵게 된다.In this case, however, it is not clear whether or not the gas component has been removed at the required gas component removal efficiency, so that it is difficult to obtain a control result with good precision with respect to the gas component removal process.

그러므로, 상기와 같은 검출 공기 상태에 기초한 급수량 조정에서는 조정 오차 등이 생기기 쉽다. 이 조정 오차가 원인으로, 조정 급수량 중 가습용 수량분(水量分)이 각각의 시점(時点)의 실제의 가습용 필요수량에 대하여 일시적으로든 부족하게 되는 상태가 생기면, 그 부족분이 조정 급수량 중 정화용 수량분으로부터 보충되는 상태로 되어, 정화용 수량분의 일부가 가습용 수량분과 함께 처리 대상 공기의 가습에 소비되어 버린다. Therefore, in the water supply amount adjustment based on the detected air state as described above, an adjustment error and the like tend to occur. Due to this adjustment error, if a condition in which the water supply for humidification of the adjustment water supply temporarily becomes insufficient for the actual amount of humidification required at each time point occurs, the shortage is used for purification of the adjustment water supply. It becomes the state which is replenished from water supply part, and a part of water purification part for purification is consumed for the humidification of the process object air with humidification water supply part.

이로써, 가스 성분 제거 효율(즉, 정화 성능)이 소요값을 하회하는 상태로 되어, 필요한 정화도의 처리된 공기를 얻을 수 없게 되는 현상을 초래한다.As a result, the gas component removal efficiency (ie, the purification performance) is lower than the required value, resulting in a phenomenon that the treated air having the required degree of purification cannot be obtained.

이와 같은 현상을 확실하게 회피하기 위해, 이 종류의 공기 정화 가습 장치에서는, 종래, 상기와 같이 과대한 일정 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하는 급수량 일정 운전을 행하고 있었다.In order to reliably avoid such a phenomenon, this kind of air purification humidification apparatus has conventionally performed the water supply amount constant operation which continuously supplies the clean water of the excessive constant design water supply amount to a gas-liquid contact chamber as mentioned above.

일본공개특허 제2000―279741호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-279741

그러나, 상기한 급수량 일정 운전에서는, 과대한 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하므로, 순환 급수식의 장치에서는, 저류 탱크로부터 기액 접촉실에 순환 청정수를 보내는 펌프 동력이 커져, 운전 비용이 커지는 문제가 있었다.However, in the above water supply constant operation, since the clean water having an excessive design water supply is continuously supplied to the gas-liquid contact chamber, the pump power for sending the circulating clean water from the storage tank to the gas-liquid contact chamber is increased in the circulating water supply type, and the operating cost is increased. There was a growing problem.

또한, 일과 급수식의 장치에서는, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수 모두를 장치 밖으로 배출하므로, 신선한 청정수를 기액 접촉실에 공급하는 펌프 동력이 커질뿐아니라, 기액 접촉실에 공급하는 순수(純水) 등의 신선한 청정수의 소비량이 커져, 그에 의해 운전 비용이 한층 커지는 문제가 있었다.In addition, since the used clean water discharges all used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber out of the apparatus, the pump power for supplying fresh clean water to the gas-liquid contact chamber is increased, and the pure water supplied to the gas-liquid contact chamber ( The consumption amount of fresh clean water, such as water, has become large, and there existed a problem which operating cost became large by this.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명의 주된 과제는, 합리적인 급수량 조정을 행함으로써, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 확실하고 또한 안정적으로 얻으면서, 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을, 요구되는 가스 성분 제거 효율에 대하여 필요하고 또한 충분한 양으로 하는 것이 가능하도록 하고, 이로써 운전 비용을 효과적으로 저감할 수 있는 공기 정화 가습 장치를 제공하는 점에 있다.In order to solve the problems as described above, the main problem of the present invention is to provide a water supply amount of clean water to the gas-liquid contact chamber while reliably and stably obtaining necessary purification performance and necessary humidification performance by performing rational water supply adjustment. It is an object of the present invention to provide an air purifying humidification apparatus capable of making it necessary and sufficient for the required gas component removal efficiency, thereby effectively reducing the running cost.

공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제1 특징적 구성은, The 1st characteristic structure of this invention which concerns on an air purification humidification apparatus is

실내로 통풍시키는 처리 대상 공기를 실내에서 청정수와 기액 접촉시키는 기액 접촉실을 구비하고, A gas-liquid contact chamber for gas-treating contacting the air to be treated to the room with clean water in a room,

이 기액 접촉실에서의 청정수와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기를 정화하고, 또한 처리 대상 공기를 가습하는 공기 정화 가습 장치로서, As an air purifying humidification apparatus which purifies the process object by removing the water-soluble gas component in the process target air by gas-liquid contact with the clean water in this gas-liquid contact chamber,

상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수량을 검출하는 배수량 검출 수단을 포함하고, 또한 Drainage detection means for detecting the drainage amount of the used clean water discharged from said gas-liquid contact chamber, and

상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 상기 배수량 검출 수단의 검출 배수량에 기초하여 조정하여 상기 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 제어 수단을 포함하는 점에 있다.And a control means for adjusting the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contacting chamber based on the detected drainage amount of the water discharge amount detecting means to adjust the drainage amount to the set drainage amount.

즉, 이 종류의 공기 정화 가습 장치의 가스 성분 제거 효율은, 기액 접촉실에 공급하는 청정수의 수질이 같으면, 기액 접촉실에 대한 급수량 중에서 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량과 처리 대상 공기의 풍량과의 비(즉, L/G값)에 따라 정해지는 것이 알려져 있다.That is, the gas component removal efficiency of this kind of air purifying humidifier is equal to the water quality of the clean water supplied to the gas-liquid contact chamber, and the quantity of water that contributes to the purification of the air to be treated and the air volume of the object to be treated in the water supply to the gas-liquid contact chamber. It is known that it is decided according to ratio (i.e., L / G value) of and.

그러나, 이 종류의 공기 정화 가습 장치에서는, 전술한 바와 같이, 기액 접촉실에 대한 급수량 중 가습용 수량분이 각각의 시점에서의 실제의 가습용 필요수량에 대하여 부족하게 되는 상태가 생기면, 그 부족분은 급수량 중 정화용 수량분으로부터 보충되어, 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량이 부족한 상태로 된다.However, in this type of air purifying humidification apparatus, as described above, if a condition in which the amount of water for humidification of the water supply to the gas-liquid contact chamber becomes insufficient for the actual amount of humidification necessary for each time point occurs, the shortage is The water supply amount is replenished from the water for purification and contributes to the insufficient amount of water contributing to the purification of the air to be treated.

또한, 반대로, 급수량 중 가습용 수량분이 각각의 시점에서의 실제의 가습용 필요수량에 대하여 과잉으로 되는 상태가 생기면, 그 과잉분은 급수량 중 정화용 수량분과 함께 처리 대상 공기의 정화에 기여한 후 기액 접촉실로부터 배출된다.On the contrary, if a state in which the amount of water for humidification of the water supply becomes excessive with respect to the actual amount of humidification required at each point in time, the excess amount contributes to the purification of the air to be treated together with the amount of water for purification in the water supply, and then the gas-liquid contact Ejected from the room.

즉, 일정 급수량 하에서는, 처리 대상 공기의 상태 변화 등에 따라 가습용 필요수량이 변화하면, 급수량 중 처리 대상 공기의 가습에 소비되는 수량이 변화 후에 있어서의 실제의 가습용 필요수량과 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되고, 이로써, 급수량 중 가습에 소비되지 않고 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(즉, 정화에 기여한 후 기액 접촉실로부터 배출되는 수량) 쪽이 변화한다.That is, under the constant water supply, when the required amount for humidification changes according to the change in the state of the air to be treated, the quantity of water consumed for humidification of the air to be treated in the water supply amount preferentially equals to the actual required amount for humidification after the change. Self-adjustment, thereby changing the amount of water that is not consumed by humidification but contributes to the purification of the air to be treated (that is, the quantity discharged from the gas-liquid contact chamber after contributing to the purification).

이러한 것에 대하여, 상기 제1 특징적 구성의 공기 정화 가습 장치에서는, 검출 배수량에 기초하여 급수량을 조정하여 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 것에 있어서, 그 설정 배수량으로서 필요한 가스 성분 제거 효율을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량과 같은 수량을 설정하여 둔다. On the other hand, in the air purification humidification apparatus of the said 1st characteristic structure, in the case of adjusting water supply amount based on a detected discharge amount, and adjusting a discharge amount to a preset discharge amount, the necessity for purification required for obtaining the gas component removal efficiency required as the preset discharge amount. Set the same quantity as the quantity.

이로써, 상기 제1 특징적 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면, 가습용 필요수량의 변화에 따라 급수량 중 가습에 소비되는 수량이 변화 후의 가습용 필요수량과 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되는 것에 대해서도, 급수량 중 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(즉, 기액 접촉실로부터의 배수량이 되는 수량)을 설정 배수량으로 하여 설정된 정화용 필요수량으로 유지할 수 있다.Thereby, according to the said air purification humidification apparatus of the said 1st characteristic structure, even if the quantity of water consumed for humidification of water supply amount preferentially adjusts itself to the same quantity as the required quantity for humidification after a change according to the change of the quantity of water required for humidification, The amount of water that contributes to the purification of the heavy air to be treated (that is, the amount of water that becomes the amount of water discharged from the gas-liquid contacting chamber) can be maintained as the set required amount of purification for the set amount of water.

이로써, 처리 대상 공기 상태의 변화 등에 기인하여 가습용 필요수량이 변화되는 것에 관계없이, 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 소요값으로 유지할 수 있으므로, 처리된 공기의 정화도를 필요한 정화도로 유지할 수 있다. 또한, 가습 성능에 대해서는, 가습에 소비되는 수량이 상기와 같이 가습용 필요수량의 변화에 대하여 우선적으로 자체 조정됨으로써 유지된다.As a result, the gas component removal efficiency (purification performance) can be maintained at the required value irrespective of the change in the required amount of humidification due to the change in the air state to be treated, and the like, so that the degree of purification of the treated air can be maintained at the required purification degree. have. In addition, with respect to the humidification performance, the quantity of water consumed for humidification is maintained by first self-adjusting with respect to the change of the required quantity for humidification as mentioned above.

그리고 또한, 습도나 온도라는 공기 상태의 검출에 비해 배수량의 검출은 일반적으로 검출 정밀도의 면에서의 신뢰성이 높아 검출 오차가 쉽게 생기지 않는다. 따라서, 상기와 같은 검출 배수량에 기초한 급수량 조정에 의하면, 전술한 검출 공기 상태에 기초한 급수량 조정에서의 문제, 즉 조정 오차 등의 원인으로 가스 성분 제거 효율이 소요값을 하회하는 현상을 초래하는 것도 더욱 확실하게 회피할 수 있다.In addition, compared with the detection of air conditions such as humidity and temperature, the detection of the drainage is generally high in reliability in terms of detection accuracy, so that a detection error does not easily occur. Therefore, according to the above-described water supply amount adjustment based on the detected drainage amount, the gas component removal efficiency is less than the required value due to the problem in the water supply amount adjustment based on the detected air state, that is, the adjustment error. It can be reliably avoided.

이들로부터, 상기 제1 특징적 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 확실하고 또한 안정적으로 얻으면서도, 과대한 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하는 급수량 일정 운전을 채용하는 종래 장치에 비하여, 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을, 요구되는 가스 성분 제거 효율에 대하여 필요하고 또한 충분한 양으로 효과적으로 저감할 수 있고, 이로써 장치의 운전 비용을 효과적으로 저감할 수 있다.From these, according to the air purifying humidification apparatus of the said 1st characteristic structure, the water supply constant operation which continuously supplies clean water of excessive design water supply quantity to a gas-liquid contact chamber, while obtaining the required purification performance and required humidification performance reliably and stably. Compared with the conventional apparatus employing the apparatus, the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber can be effectively reduced to the required and sufficient amount with respect to the required gas component removal efficiency, thereby effectively reducing the operating cost of the apparatus.

그리고, 설정 배수량으로서는, 현실적으로는 다소의 안전률을 예상하여 정화용 필요수량보다 어느 정도 큰 수량을 설정하는 것이 바람직하다. 그러나, 그 경우라도 급수량 일정 운전을 행하는 종래 장치에 비해 운전 비용은 대폭 저감할 수 있다.As the set drainage amount, it is desirable to set a quantity which is somewhat larger than the required amount for purification in anticipation of some safety factor in reality. However, even in such a case, the operating cost can be significantly reduced as compared with the conventional apparatus which performs constant water supply.

또한, 처리 대상 공기 상태 변화 등에 기인하여 가습용 필요수량이 변화하는 것에 대하여 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 유지하기 위해서는, 다음과 같은 급수량 조정도 생각할 수 있다. Further, in order to maintain the necessary purification performance and the necessary humidification performance against the change in the required amount of humidification due to the change in the air state to be treated, the following water supply adjustment can also be considered.

즉, 가습용 필요수량의 변화로 급수량 중 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량에 과부족이 생기면, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 수용성 가스 성분 농도(즉, 흡수 가스 성분 농도)도 변화한다. 따라서, 기액 접촉실로부터의 배출 청정수의 가스 성분 농도를 검출하고, 그 검출 농도에 기초하여 배출 청정수의 가스 성분 농도를 설정 농도로 유지하도록 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 자동 조정하는 것을 생각할 수 있다.That is, if there is an insufficient amount of water that contributes to the purification of the air to be treated in the water supply due to the change in the required amount of humidification, the water-soluble gas component concentration (ie, absorbed gas component concentration) of the used clean water discharged from the gas-liquid contacting chamber is also changed. do. Therefore, it is conceivable to detect the gas component concentration of the discharged clean water from the gas-liquid contact chamber and automatically adjust the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber to maintain the gas component concentration of the discharged clean water at the set concentration based on the detected concentration. have.

그러나, 수중 가스 성분 농도의 검출은 일반적으로 검출 정밀도의 면에서의 신뢰성이 낮아 검출 오차가 생기기 쉽고, 그러므로, 검출 가스 성분 농도에 기초한 급수량의 조정에서는, 역시 조정 오차 등에 기인하여 가스 성분 제거 효율이 소요값을 하회하는 현상을 초래하기 쉽다. However, the detection of the gas component concentration in water generally has low reliability in terms of detection accuracy, so that a detection error is likely to occur. Therefore, in the adjustment of the water supply amount based on the detection gas component concentration, the gas component removal efficiency is also reduced due to the adjustment error. It is easy to cause the phenomenon below the required value.

이 점에 있어서, 검출 배수량에 기초하여 급수량을 조정하는 상기 제1 특징적 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면, 전술한 바와 같이, 그와 같은 현상을 초래하는 것을 더욱 확실하게 회피할 수 있고, 이로써, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 확실하고 또한 안정적으로 얻으면서, 청정수의 급수량을 효과적으로 저감할 수 있다.In this regard, according to the air purifying humidification device of the first characteristic configuration which adjusts the water supply amount based on the detected drainage amount, it is possible to more reliably avoid causing such a phenomenon as described above. It is possible to effectively reduce the water supply amount of the clean water while reliably and stably obtaining the necessary purification performance and the necessary humidification performance.

그리고, 여기서 말하는 가스 성분 제거 효율 η는 다음 식에 의해 표시되는 것이다. And the gas component removal efficiency (eta) here is represented by following Formula.

η= (Cai―Cao)/Cai      η = (Cai―Cao) / Cai

단, Cai: 처리 전의 처리 대상 공기의 수용성 가스 성분 농도  However, Cai: concentration of water-soluble gas component in the air to be treated before treatment

Cao: 처리 후의 처리 대상 공기의 수용성 가스 성분 농도     Cao: The water-soluble gas component concentration of the air to be treated after the treatment

상기 제1 특징적 구성의 실시에 있어서, 청정수와 처리 대상 공기와의 접촉 방식에 대해서는, 기액 접촉실에 있어서 청정수를 흘러내림용 부재의 표면에 전해지게 하여 수막(水膜) 상태로 흘러내리게 하는 방식이나, 기액 접촉실에 배치한 함수성(含水性)이나 젖는 성질을 가지는 통기성 부재에 청정수를 공급하는 방식, 또한 기액 접촉실에 있어서 청정수를 고밀도 상태로 살수(撒水)하는 방식이나, 이들 방식을 조합한 방식 등, 각종 접촉 방식을 채용할 수 있다.In the implementation of the first characteristic constitution, the contact method between the clean water and the air to be treated includes a method in which the clean water flows into the surface of the member for flowing down in the gas-liquid contact chamber so as to flow down into the water film state. Or a method of supplying clean water to a moisture-permeable or wet-permeable member disposed in a gas-liquid contact chamber, or a method of spraying clean water in a high-density state in a gas-liquid contact chamber, or these methods. Various contact methods, such as a combined method, can be employ | adopted.

사용하는 청정수(순환 급수식에서는 순환계에 보급하는 신선한 청정수, 일과 급수식에서는 기액 접촉실에 공급하는 신선한 청정수)는 순수나 일반 상수(上水) 또는 필터 등으로 정화한 정화수 등, 대략 일정한 수질을 유지할 수 있는 것이면, 각종 청정수를 사용할 수 있다. 또한, 청정수로서 약품을 첨가한 각종 수용액을 사용하도록 해도 된다.The clean water used (fresh water supplied to the circulation system in the circulating water type, and fresh water supplied to the gas-liquid contacting chamber in the daily water supply type) has a substantially constant water quality such as pure water, purified water purified by ordinary water, or a filter. Various clean water can be used as long as it can be maintained. Moreover, you may make it use the various aqueous solution which added the chemical | medical agent as clean water.

제1 특징적 구성의 공기 정화 가습 장치는, 외기 등 처리 전의 공기 상태가 시시각각으로 변화하는 공기를 처리 대상 공기로 하는 경우에 특히 유효하다. 그러나, 처리 대상 공기는 처리 전의 공기 상태가 통상은 변화하지 않거나, 또는 그다지 변화하지 않는 공기라도 되고, 그 경우라도 어떠한 원인에 의한 처리 대상 공기 상태 변화에 대비하는 의미에서 유효하다.The air purifying humidification device of the first characteristic configuration is particularly effective when the air to be treated changes in the air state before the treatment such as outside air. However, the air to be treated may be air which does not usually change or does not change much before the air condition, and even in this case, the air to be treated is effective in preparation for the change in the air state to be treated by any cause.

또한, 가습용 필요수량의 변화의 원인은 처리 대상 공기의 상태 변화에 한정되지 않고, 그 이외의 원인에 의한 가습용 필요수량의 변화라도 되고, 그 경우에도, 제1 특징적 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면 필요한 정화 성능을 안정적으로 유지할 수 있다.In addition, the cause of the change of the required amount of humidification is not limited to the change of the state of the air to be treated, and the change of the required amount of humidification by other causes may be used, and even in that case, the air purification humidification device of the first characteristic configuration According to the present invention, the required purification performance can be maintained stably.

공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제2 특징적 구성은, The 2nd characteristic structure of this invention which concerns on an air purification humidification apparatus is

상기 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량을 검출하는 풍량 검출 수단을 구비하고, Air flow rate detection means for detecting the airflow amount of the air to be treated to the gas-liquid contact chamber,

상기 제어 수단은, 이 풍량 검출 수단의 검출 통풍량에 기초하여 상기 설정 배수량을 변경하는 구성으로 하고 있는 점에 있다.The control means is configured to change the set drainage amount based on the detected ventilation amount of the airflow rate detection means.

즉, 가스 성분 제거 효율(정화 성능)은 전술한 바와 같이, 급수량 중 가습에 소비되지 않고 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(즉, 배수량이 되는 수량)과 처리 대상 공기의 풍량과의 비인 L/G값에 따라 정해진다. 따라서, 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량(즉, 처리 대상 공기의 처리 풍량)이 변화하면, 처리 대상 공기를 일정 가습 상태로 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량이 비례적으로 변화하는 것에 더하여, 필요한 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량도 일정한 상관(相關)을 가지고 변화한다.That is, as described above, the gas component removal efficiency (purification performance) is L, which is a ratio between the quantity of water that is not consumed by humidification in the water supply amount (that is, the quantity of water to be drained) and the amount of air flow of the object air, as described above. It depends on the value of / G. Therefore, if the ventilation amount of the air to be treated (that is, the amount of air to be processed by the air to be treated) to the gas-liquid contact chamber is changed, the amount of humidification required for humidifying the air to be treated to a constant humidification state changes proportionally. In addition, the required amount for purification necessary to obtain the required gas component removal efficiency (purification performance) also changes with a constant correlation.

이것에 대하여, 상기 제2 특징적 구성에 의하면, 검출 통풍량에 기초하여 설정 배수량을 변경할 때, 처리 대상 공기의 통풍량과 정화용 필요수량과의 사이에 존재하는 일정한 상관 상에서 각각의 시점에서의 처리 대상 공기의 통풍량에 대응하는 정화용 필요수량과 같은 수량(현실적으로는 어느 정도의 안전률을 예상한 수량)을 설정 배수량으로 할 수 있다 On the other hand, according to the said 2nd characteristic structure, when changing a set drainage amount based on a detection ventilation amount, it is a process object in each time point on the constant correlation which exists between the ventilation amount of the process object air, and the required quantity for purification. The amount of water (in reality, a certain amount of safety factor expected) equal to the required amount for purification corresponding to the ventilation amount of the air can be set as the drainage amount.

이와 같이 하여 두면, 처리 대상 기체의 통풍량의 변화에 대하여, 급수량 중 처리 대상 공기의 가습에 소비되는 수량이 전술한 바와 같이, 각각의 시점의 가습용 필요수량(즉, 통풍량 변화에 따라 비례적으로 변화하는 가습용 필요수량)과 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되는 것을 허락하면서, 급수량 중 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(배수량이 되는 수량)의 쪽도 각각의 시점의 정화용 필요수량(즉, 통풍량 변화에 따라 일정한 상관을 가지고 변화하는 정화용 필요수량)과 같은 수량으로 자동적으로 변경할 수 있다.In this way, the quantity of water consumed for humidification of the air to be treated in the water supply amount is proportional to the change in the amount of humidification at each point in time, that is, proportional to the change in the amount of air flow. The amount of water that contributes to the purification of the air to be treated (the amount that becomes drainage) of the water supply is also allowed to be preferentially self-adjusted to the same quantity as the required amount of humidifying water). That is, it can be automatically changed to the same quantity as the required quantity for purification that changes with a constant correlation in accordance with the change in the ventilation amount.

이에 의해, 처리 대상 공기의 통풍량 변화에 관계없이, 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 소요값으로 유지할 수 있으므로, 처리된 공기의 정화도를 필요한 정화도로 유지할 수 있고, 또한 필요한 가습 성능도 유지할 수 있다.As a result, the gas component removal efficiency (purification performance) can be maintained at the required value irrespective of the change in the ventilation amount of the air to be treated, so that the degree of purification of the treated air can be maintained at the required degree of purification, and the required humidification performance is also maintained. Can be.

또한, 전술한 바와 같이, 기액 접촉실로부터의 배출 청정수의 가스 성분 농도(흡수 가스 성분 농도)를 검출하고, 그 검출 농도에 기초하여 배출 청정수의 가스 성분 농도를 설정 농도로 유지하도록 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 조정하는 경우에는, 그것만으로 처리 대상 공기의 통풍량의 변화에 대해서도 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 소요값으로 유지하고, 또한 필요한 가습 성능을 유지할 수 있다.In addition, as described above, the gas component concentration (absorption gas component concentration) of the discharged clean water from the gas-liquid contact chamber is detected, and the gas-liquid contact chamber is maintained at the set concentration based on the detected concentration. In the case of adjusting the water supply amount of the clean water, the gas component removal efficiency (purification performance) can be maintained at the required value and the necessary humidification performance can be maintained even with the change in the ventilation amount of the air to be treated alone.

그러나, 이것도 전술한 바와 같이, 수중 가스 성분 농도의 검출은 일반적으로 검출 정밀도의 면에서의 신뢰성이 낮아서 검출 오차가 생기기 쉽다. However, as described above, however, the detection of the concentration of the gas component in water generally has low reliability in terms of detection accuracy, and thus a detection error is likely to occur.

그러나, 검출 통풍량에 기초하여 설정 배수량을 변경하는 상기 구성에 의하면, 통풍량 검출의 신뢰성이 높아 조정 오차가 쉽게 생기지 않으므로, 처리 대상 공기의 통풍량 변화에 대하여 가스 성분 제거 효율이 소요값을 하회하는 현상을 초래하는 것을 더욱 확실하게 회피할 수 있다.However, according to the above-described configuration of changing the set drainage amount on the basis of the detected ventilation amount, since the reliability of the ventilation amount detection is high and adjustment errors do not easily occur, the gas component removal efficiency is less than the required value with respect to the change in the ventilation amount of the air to be treated. It can be more surely avoided to cause the phenomenon.

공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제3 특징적 구성은, The 3rd characteristic structure of this invention which concerns on an air purification humidification apparatus is

상기 기액 접촉실에 공급하는 청정수로서, 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수를 일과적으로 상기 기액 접촉실에 공급하는 구성으로 하고 있는 점에 있다.As clean water supplied to the said gas-liquid contact chamber, it is set as the structure which supplies fresh clean water supplied from a clean water supply means to the said gas-liquid contact chamber routinely.

즉, 전술한 제1 특징적 구성이나 제2 특징적 구성은 순환 급수식 또는 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치의 양쪽 모두에 적용할 수 있다. 그러나, 신선한 청정수를 기액 접촉실에 일과적으로 연속적으로 공급하는 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치는, 순환 급수식의 것과 비교하여 일반적으로 보다 높은 가스 성분 제거 효율을 얻을 수 있다.That is, the above-mentioned 1st characteristic structure or 2nd characteristic structure can be applied to both a circulating water supply type | work or the daily and water supply type air purification humidification apparatus. However, the daily and continuous supply of fresh clean water to the gas-liquid contact chamber and the water purification air purifying humidifier can generally obtain higher gas component removal efficiency as compared with the circulation water supply.

또한, 전술한 제1 특징적 구성이나 제2 특징적 구성에서는, 그 효과로서, 처리 대상 공기 상태의 변화나 통풍량의 변화에 대해서도 필요한 가스 성분 제거 효율을 안정적으로 유지할 수 있다.Moreover, in the above-mentioned 1st characteristic structure and 2nd characteristic structure, the gas component removal efficiency required also can be stably maintained also with respect to the change of the air state to be processed, or the change of ventilation amount as an effect.

이러한 것이 서로 작용하여, 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치를 적용 대상으로 하는 상기 제3 특징적 구성에 의하면, 처리된 공기의 필요한 정화도로서 높은 정화도가 요구되는 경우에 특히 바람직한 공기 정화 가습 장치로 할 수 있다.This works together, and according to the third characteristic configuration in which the work-type air purification humidification device is applied, the air purification humidification device is particularly preferable when a high degree of purification is required as the required degree of purification of the treated air. can do.

공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제4 특징적 구성은, The 4th characteristic structure of this invention which concerns on an air purification humidification apparatus is

상기 기액 접촉실에 공급하는 청정수로서, 상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수와 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수와의 혼합수를 상기 기액 접촉실에 공급하는 구성으로 하고 있는 점에 있다.The clean water supplied to the gas-liquid contact chamber is configured to supply a mixed water of used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber with fresh clean water supplied from the clean water supply means to the gas-liquid contact chamber.

즉, 신선한 청정수를 보급수로서 소비할뿐인 순환 급수식의 공기 정화 가습 장치는, 일과 급수식의 것과 비교하여 본질적으로 신선한 청정수의 소비량이 적다.That is, the circulating water-type air purifying humidifier which only consumes fresh clean water as replenishing water has a small consumption of fresh clean water in essence compared with the work and water supply type.

또한, 전술한 제1 특징적 구성이나 제2 특징적 구성에서는, 그 효과로서, 기액 접촉실에 청정수를 공급하는 펌프의 소비 동력을 효과적으로 저감할 수 있다.Moreover, in the above-mentioned 1st characteristic structure and 2nd characteristic structure, as a effect, the power consumption of the pump which supplies clean water to a gas-liquid contact chamber can be reduced effectively.

이러한 것이 서로 작용하여, 순환 급수식의 공기 정화 가습 장치를 적용 대상으로 하는 상기 제4 특징적 구성에 의하면, 운전 비용의 저비용화가 가스 성분 제거 효율에 우선적으로 특별히 요구되는 경우에 바람직한 공기 정화 가습 장치로 할 수 있다. This works together, and according to the fourth characteristic configuration in which the air purifying humidification device of the circulation water supply type is applied, the air purifying humidification device which is preferable in the case where the reduction in the running cost is particularly required for the gas component removal efficiency is preferred. can do.

공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제5 특징적 구성은, The 5th characteristic structure of this invention which concerns on an air purification humidification apparatus is

상기 기액 접촉실에는, 공기의 통풍 경로에 대하여 횡단 상태로 배치한 흘러내림 매체, 및 이 흘러내림 매체에 대하여 위쪽으로부터 청정수를 적하(滴下)하는 급수 헤더를 장비하고, The gas-liquid contact chamber is equipped with a flowing medium arranged in a transverse state with respect to the air passage of air, and a water supply header dropping clean water from above with respect to the flowing medium.

이 흘러내림 매체는, 다수의 경사 파부(波部)를 형성한 세로 자세의 파판형(波板形) 부재를 조밀하게 병설하여 구성하고, 인접하는 파판형 부재마다 상기 경사 파부의 경사 방향을 반전시키고 있는 점에 있다. The downflow medium is formed by densely arranging a wave-shaped member in a vertical posture in which a plurality of inclined wave portions are formed, and inverting the inclination direction of the inclined wave portion for each adjacent wave-shaped member. I'm at a point.

즉, 이 제5 특징적 구성에 의하면, 통풍 공기와 청정수를 효율적으로 기액 접촉시킬 수 있어, 공기 정화 성능 및 공기 가습 성능의 각각에 대하여 높은 성능을 얻을 수 있다.That is, according to this fifth characteristic configuration, the gas-liquid can be efficiently contacted with the ventilation air and the clean water, and high performance can be obtained for each of the air purification performance and the air humidification performance.

도 1은 청정실에 대한 공조 설비를 나타낸 도면이다.
도 2는 외조기(外調機)의 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 기액 접촉부를 나타낸 사시도이다.
도 4는 기액 접촉부에서의 물질 수지의 설명도이다.
1 is a view showing an air conditioning facility for a clean room.
2 is a view showing the configuration of an external tank.
3 is a perspective view showing a gas-liquid contacting portion.
4 is an explanatory diagram of a material resin in a gas-liquid contact portion.

도 1은 청정실의 공조 설비를 나타낸다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 청정실인 대상실(對象室)(1)의 천정부에는, 그 전체면에 걸쳐 팬 필터 유닛(2)을 행렬 배치로 병설하고 있다. 1 shows the air conditioning equipment of the clean room. As shown in FIG. 1, the fan filter unit 2 is arranged in a matrix arrangement in the ceiling part of the target room 1 which is a clean room over the whole surface.

급기로(給氣路)(3)를 통해 급기팬 Fs에 의해 천정 챔버(4)에 공급되는 공조용 공기 SA를 각 팬 필터 유닛(2)에 장비된 고성능 필터(2a)에 의해 정화하고, 이 정화 후의 공조용 공기 SA를 각 팬 필터 유닛(2)에 장비의 팬(2b)에 의해 실내에 하방향으로 분출하여 공급한다. 이로써, 대상실(1)의 실내를 필요한 온습도 상태로 필요한 청정도로 조정 유지한다.The air-conditioning air SA supplied to the ceiling chamber 4 by the air supply fan Fs through the air supply path 3 is purified by the high performance filter 2a provided in each fan filter unit 2, The air-conditioning air SA after this purification is blown down and supplied to each fan filter unit 2 indoors by the fan 2b of equipment. Thereby, the interior of the target room 1 is adjusted and maintained to the required cleanliness in the required temperature-humidity state.

대상실(1)의 바닥 하부는, 팬 필터 유닛(2)에 의한 정화 공조용 공기 SA의 실내 공급에 따라 격자(格子) 바닥(5)을 통해 실내로부터 배출되는 공기 RA를 받아들이는 바닥 하부 챔버(6)로 하고 있다.The bottom lower chamber of the target chamber 1 receives a bottom RA chamber which receives air RA discharged from the room through the lattice bottom 5 in accordance with the indoor supply of the purifying air conditioning air SA by the fan filter unit 2. I assume (6).

공조용 공기 SA의 생성에는 외조기(7)(외기 조정용 공조기) 및 공조기(8)를 장비하고 있다. 즉, 외기 팬 Fo에 의해 외기 도입로(9)를 통해 안내되는 외기 OA를 외조기(7)에 의해 조정하고, 이 외조기(7)에서의 조정 외기 OAs를 중계로(10)를 통해 공조기(8)에 안내한다. The air conditioner SA is equipped with an external air conditioner 7 (air conditioner air conditioner) and an air conditioner 8. That is, the outside air OA guided through the outside air introduction path 9 by the outside air fan Fo is adjusted by the outside air conditioner 7, and the air conditioner OAs adjusted in this outside air conditioner 7 is relayed through the relay path 10. We guide to (8).

또한, 바닥 하부 챔버(6)에 받아들여진 배출 공기 RA의 일부를 환기 공기 RAs로서 환기팬 Fr에 의해 환기로(11)를 통해 공조기(8)로 안내한다. In addition, a part of the exhaust air RA received in the bottom lower chamber 6 is guided to the air conditioner 8 through the ventilation path 11 by the ventilation fan Fr as the ventilation air RAs.

그리고, 이들 조정 외기 OAs와 환기 공기 RAs와의 혼합 공기를 공조기(8)에 있어서 온습도 조정하고, 이 공조기(8)에서의 조정 공기를 상기 공조용 공기 SA로서 급기로(3)를 통해 대상실(1)의 천정 챔버(4)에 공급한다.Then, the mixed air between these regulated outside air OAs and the ventilation air RAs is adjusted in the air conditioner 8 to adjust the temperature and humidity, and the controlled air in the air conditioner 8 is supplied to the target chamber via the air supply unit 3 as the air conditioning air SA. It supplies to the ceiling chamber 4 of 1).

그리고, 바닥 하부 챔버(6)에 받아들여진 배출 공기 RA의 잔부[외기 도입로(9)로부터의 외기 OA의 입수량과 같은 양의 배출 공기 RA]는 배기로(12)를 통해 배기팬 Fe에 의해 외부로 배출한다.Then, the remainder of the exhaust air RA received in the bottom lower chamber 6 (exhaust air RA equal to the amount of air OA received from the outside air introduction passage 9) is fed to the exhaust fan Fe through the exhaust passage 12. Discharge to outside.

외조기(7)에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 처리 대상 공기인 외기 OA의 통풍 방향에 있어서 상류측으로부터 순차로, 필터(13), 예열기(14), 예냉기(15), 기액 접촉기(16), 냉각기(17), 재열기(再熱器)(18)를 내장하고 있다.As illustrated in FIG. 2, the outer tank 7 includes a filter 13, a preheater 14, a precooler 15, and a gas-liquid contactor sequentially from the upstream side in the ventilation direction of the outside air OA that is air to be treated. 16, a cooler 17 and a reheater 18 are incorporated.

즉, 이 외조기(7)에서는 외기 OA의 조정 처리로서, 외기 도입로(9)를 통해 안내되는 외기 OA를 필터(13)에 의해 제진(除塵)하고, 이 제진한 외기 OA를 동계(冬季)에는 예열기(14)로 예열하고, 또한 하계(夏季)에는 예냉기(15)로 예냉하고, 이들 예열 또는 예냉한 외기 OA를 공기 정화 가습 장치로서의 기액 접촉기(16)에 있어서 청정수 W와 기액 접촉시킴으로써 정화하고, 또한 그 정화에 따라 포화 상태 근처까지 가습한다.That is, in this outer tank 7, as an adjustment process of outside air OA, the outside air OA guided through the outside air introduction path 9 is damped with the filter 13, and this damped outside air OA is winter-bound. ) Is preheated by a preheater 14, and preheated by a precooler 15 in summer, and these preheated or precooled outdoor air OA is contacted with clean water W and gas-liquid contact in the gas-liquid contactor 16 as an air purifying humidifier. It purifies by making it humidify and humidifies to near saturation according to the purification.

그리고, 기액 접촉기(16)에 있어서 정화 및 가습한 외기 OA를 냉각기(17)에 의해 소정 온도까지 냉각함으로써, 그 외기 OA를 소정 절대 습도까지 냉각 제습하고, 이어서, 이 냉각 제습한 외기 OA를 재열기(18)에 의해 소정 온도까지 재가열하고, 이와 같이 온습도 조정할 수 있는 동시에 정화한 외기 OA를 조정 외기 OAs로서 중계로(10)를 통해 공조기(8)에 공급한다.Then, by cooling the outside air OA purified and humidified in the gas-liquid contactor 16 to a predetermined temperature by the cooler 17, the outside air OA is cooled and dehumidified to a predetermined absolute humidity, and then the cooled air dehumidified outside air OA is again The hot air 18 is reheated to a predetermined temperature, and thus the temperature and humidity can be adjusted and the purified outside air OA is supplied to the air conditioner 8 through the relay path 10 as the regulated outside air OAs.

기액 접촉기(16)에는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 외조기(7)에서의 외기 OA의 통풍 경로에 대하여 횡단 상태로 배치하는 흘러내림 매체(19), 이 흘러내림 매체(19)에 대하여 위쪽으로부터 청정수 W를 적하하는 복수의 적하구(20a)를 설치한 급수 헤더(20), 및 흘러내림 매체(19)의 하방으로 흘러내리는 청정수 W´를 캐치하는 드레인 팬(21)을 장비하고 있다.In the gas-liquid contactor 16, as shown in FIG. 3, the flow medium 19 arrange | positioned in the transverse state with respect to the ventilation path | route of the outside air OA in the outer shell machine 7, and it is upwards with respect to this flow medium 19 And a drain pan 21 for catching the water supply header 20 provided with a plurality of dropping holes 20a for dropping clean water W therefrom and the clean water W 'flowing down the flow medium 19.

흘러내림 매체(19)는, 다수의 경사 파부(22a)를 형성한 세로 자세의 파판형 부재(22)를 조밀하게 병설한 것이며, 이 흘러내림 매체(19)에서는, 인접하는 파판형 부재(22)마다 경사 파부(22a)의 경사 방향(능선 방향)을 반전시키고 있다.The flowing-down medium 19 densely arranges the wave-shaped member 22 of the vertical posture in which the many inclined wave parts 22a were formed, and in this flowing-down medium 19, the adjacent wave-shaped member 22 is carried out. ), The inclination direction (ridgeline direction) of the inclined wave portion 22a is inverted.

즉, 이 기액 접촉기(16)에서는, 급수 헤더(20)의 적하구(20a)로부터 흘러내림 매체(19)에 청정수 W를 적하함으로써, 그 적하 청정수 W를 흘러내림 매체(19)에서의 다수의 파판형 부재(22) 각각의 표면에 전해지게 하여 수막 상태로 흘러내리게 한다. That is, in this gas-liquid contactor 16, the clean water W is dripped from the dripping opening 20a of the water supply header 20 to the dropping medium 19, and many of the dripping clean water W flows in the dropping medium 19. The wave-like members 22 are allowed to be transferred to the surface of each of the wave-like members 22 to flow down into the water film state.

이로써, 흘러내림 매체(19)의 배치 공간인 기내를 기액 접촉실로 하여, 파판형 부재(22)끼리의 사이의 간극(間隙)을 통과하는 처리 대상 공기로서의 외기 OA를 흘러내리는 과정에 있는 수막 상태의 청정수 W와 기액 접촉시키고, 이 기액 접촉에 의해, 외기 OA에 포함되는 수용성의 가스 성분을 제거하여 외기 OA를 정화하고, 또한 그 외기 OA를 포화 상태 근처까지 가습한다. Thereby, the water film state in the process of flowing out the outside air OA as the process object air which passes through the clearance gap between the wave-shaped members 22 as the gas-liquid contact chamber as an inside space which is the arrangement space of the downflow medium 19. Gas-liquid contact with the clean water W, and the gas-liquid contact removes the water-soluble gas component contained in the air OA to purify the air OA, and further humidifies the air OA to the saturation state.

흘러내림 헤더(20)로부터 흘러내림 매체(19)에 적하 공급하는 청정수 W로서는, 청정수 공급 수단으로서의 순수 발생 장치(23)로부터 급수로(24)를 통해 급수 펌프 Pw에 의해 공급되는 신선한 청정수로서의 순수 W를 기액 접촉기(16)에 대하여 일과적으로 공급한다. As clean water W supplied dropwise from the downflow header 20 to the downflow medium 19, the pure water as fresh clean water supplied by the feed water pump Pw from the pure water generating device 23 as the clean water supply means through the water supply passage 24. W is supplied daily to the gas-liquid contactor 16.

드레인 팬(21)에 의해 캐치한 흘러내림 매체(19)로부터의 흘러내리는 청정수 W´(즉, 가스 성분을 흡수한 사용이 끝난 청정수)는 배수로(25)를 통해 외부로 배출한다. 즉, 이 기액 접촉기(16)는 일과 급수식의 것으로 되어 있다.The clean water W 'flowing down from the downflow medium 19 caught by the drain pan 21 (that is, the used clean water absorbing gas components) is discharged to the outside through the drainage path 25. That is, this gas-liquid contactor 16 is of a work type and a water supply type.

순수 발생 장치(23)로부터의 급수로(24)에는, 기액 접촉기(16)에 대한 신선한 청정수 W(순수)의 급수량 Li를 조정하는 급수 유량 조정 밸브(26)를 장비하고, 또한 기액 접촉기(16)로부터의 배수로(25)에는, 기액 접촉기(16)로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수 W´(사용이 끝난 순수)의 배수량 Lo를 검출하는 배수량 검출 수단으로서의 배수 유량계(27)를 장비하고 있다.The water supply passage 24 from the pure water generator 23 is equipped with a water supply flow rate adjusting valve 26 for adjusting the water supply amount Li of the fresh clean water W (pure water) to the gas liquid contactor 16, and further, the gas liquid contactor 16 ), A drain flow meter 27 serving as a drainage amount detecting means for detecting the drainage amount Lo of the used clean water W '(used pure water) discharged from the gas-liquid contactor 16 is provided.

또한, 대상실(1)의 사용 상황에 따라 외조기(7)로부터 공조기(8)에 공급하는 조정 외기 OAs의 풍량이 변경되는 등의 이유로, 외조기(7)에서의 외기 OA의 통풍량 Gi[환언하면, 기액 접촉기(16)에서의 외기 OA의 통풍량]는 변화한다. 이에 대하여, 외조기(7)에는, 외기 OA의 통풍량 Gi를 검출하는 풍량 검출 수단으로서의 풍량계(28)를 장비하고 있다.In addition, the air volume Gi of the outside air OA in the outside air conditioner 7 is changed due to the change in the air volume of the adjusted outdoor air OAs supplied from the outside air conditioner 7 to the air conditioner 8 in accordance with the use situation of the target chamber 1. In other words, the ventilation amount of the outside air OA in the gas-liquid contactor 16 changes. On the other hand, the outer tank 7 is equipped with the airflow meter 28 as a wind volume detection means which detects the ventilation amount Gi of external air OA.

그리고, 이 외조기(7)에는, 이들 배수 유량계(27)에 의한 검출 배수량 Lo 및 풍량계(28)에 의한 검출 통풍량 Gi에 기초하여, 기액 접촉기(16)에 대한 신선한 청정수 W(순수)의 급수량 Li를 자동 조정하는 제어 수단으로서의 급수 제어기(29)를 장비하고 있다.And this external tank 7 has fresh clean water W (pure water) with respect to the gas-liquid contactor 16 based on the detected discharge amount Lo by these wastewater flowmeters 27 and the detected ventilation amount Gi by the air flow meter 28. A water supply controller 29 is provided as a control means for automatically adjusting the water supply amount Li of.

도 4는 기액 접촉기(16)에서의 물질 수지를 나타내고 있다. 도 4 중에서의 각 부호는 다음의 여러 값을 나타낸 것이다. 4 shows the material resin in the gas-liquid contactor 16. Each symbol in FIG. 4 represents the following various values.

Li: 청정수 W의 급수량 Li: water supply of clean water W

Lo: 사용이 끝난 청정수 W´의 배수량 Lo: drainage of used clean water W´

Lh: 처리 전의 외기 OA에 대한 처리 후의 외기 OAs의 가습량 Lh: Humidification amount of outside air OAs after treatment with respect to outside air OA before treatment

Gi: 외기 OA의 통풍량 Gi: Aeration of OA OA

Cwi: 공급 청정수 W의 수용성 가스 성분 농도(≒0)Cwi: concentration of water-soluble gas component of feed fresh water W (≒ 0)

Cwo: 사용이 끝난 청정수 W´의 수용성 가스 성분 농도 Cwo: Water-soluble gas component concentration of used clean water W´

Cai: 처리 전의 외기 OA의 수용성 가스 성분 농도 Cai: concentration of water-soluble gas component of outside air OA before treatment

Cao: 처리 후의 외기 OAs의 수용성 가스 성분 농도Cao: Water-soluble Gas Component Concentration of Outdoor OAs After Treatment

여기서, 기액 접촉기(16)에서의 물질 수지(收支)를 고려한 경우, 기액 접촉기(16)에 들어가는 물측 및 공기측의 물질량과 기액 접촉실(16)로부터 나오는 물측 및 공기측의 물질량은 같으므로 다음의 (식 1)이 성립한다. Here, in the case where the material balance in the gas-liquid contactor 16 is taken into consideration, the amount of material on the water and air sides entering the gas-liquid contactor 16 and the amount of material on the water-side and air sides exiting from the gas-liquid contact chamber 16 are the same. Equation 1 below holds.

Li×Cwi+Gi×Cai = Lo×Cwo+Gi×Cao+Lh×Cwi … (식 1)Li × Cwi + Gi × Cai = Lo × Cwo + Gi × Cao + Lh × Cwi... (Equation 1)

또한, 급수량 Li로부터 가습량 Lh를 줄인 수량이 배수량 Lo로 되므로 다음의 (식 2)가 성립한다. In addition, since the quantity of water which reduced the humidification amount Lh from the water supply amount Li turns into the amount of discharge Lo, the following (equation 2) is established.

Li = Lh+Lo … (식 2)Li = Lh + Lo. (Equation 2)

그리고, (식 2)를 (식 1)에 대입하여 (식 1)을 정리하면 다음의 (식 3)을 얻을 수 있다. Then, by substituting (Equation 2) into (Equation 1) and arranging (Equation 1), the following (Equation 3) can be obtained.

Lo×(Cwi―Cwo) = Gi×(Cao―Cai) … (식 3)Lo x (Cwi-Cwo) = Gi x (Cao-Cai). (Equation 3)

이에 대하여, 기액 접촉기(16)의 외기 OA에 대한 정화 성능을 나타내는 가스 성분 제거 효율 η는 다음의 (식 4)로 나타낸다. On the other hand, the gas component removal efficiency (eta) which shows the purification performance with respect to the outdoor air OA of the gas-liquid contactor 16 is shown by following (equation 4).

η= (Cai―Cao)/Cai … (식 4)η = (Cai-Cao) / Cai... (Equation 4)

이 (식 4)에 상기한 (식 3)을 대입하면, 가스 성분 제거 효율 η는 다음의 (식 5)로 표시된다. When the above-mentioned (formula 3) is substituted into this (formula 4), gas component removal efficiency (eta) is represented by following (formula 5).

η= (Lo/Gi)×((Cwi―Cwo)/Cai) … (식 5)η = (Lo / Gi) x ((Cwi-Cwo) / Cai)... (Eq. 5)

이 (식 5)에서의 사용이 끝난 청정수 W´의 수용성 가스 성분 농도 Cwo는, 수용성 가스 성분과 물과의 평형 관계, 및 외기 통풍량 Gi에 대한 사용이 끝난 청정수 W´의 배수량 L의 비(Lo/Gi)에 의해 결정된다. 이 비 Lo/Gi가 커지면(즉, 외기 통풍량 Gi가 일정한 경우에는 배수량 Lo가 커지면), 사용이 끝난 청정수 W´의 수용성 가스 성분 농도 Cwo가 작아져, 가스 성분 제거 효율 η는 상승하는 방향으로 선형(線形) 관계로 추이(推移)한다.The water-soluble gas component concentration Cwo of the used clean water W ′ in this expression (Equation 5) is the ratio of the equilibrium relationship between the water-soluble gas component and water and the drainage amount L of the used clean water W ′ with respect to the outside air flow Gi. Lo / Gi). When this ratio Lo / Gi becomes large (that is, when the drainage Lo becomes large when the outside air flow rate Gi is constant), the water-soluble gas component concentration Cwo of the used clean water W´ becomes small, and the gas component removal efficiency η increases in the increasing direction. Transition in a linear relationship.

따라서, 〈식 5〉에 있어서 가스 성분 제거 효율 η를 지배하는 요인은, 공기와 물의 입구 조건으로서 고정되는 처리 전의 외기 OA의 수용성 가스 성분 농도 Cai와 공급 청정수 W의 수용성 가스 성분 농도 Cwi(≒0)를 제외하면, Lo/Gi이다.Therefore, in <Equation 5>, the factor governing the gas component removal efficiency η is that the water-soluble gas component concentration Cai of the outside air OA and the water-soluble gas component concentration Cwi (공급 0) of the supplied clean water W which are fixed as inlet conditions of air and water. Except), Lo / Gi.

즉, 정화 성능을 나타내는 가스 성분 제거 효율 η는, 기액 접촉기(16)에 공급하는 청정수 W의 수질이 같으면(즉, Cwi= 일정하면), 기액 접촉기(16)에 대한 급수량 Li 중에서 외기 OA의 정화에 기여하는 수량(= 배수량 Lo와 같은 수량)과 외기 OA의 풍량(= 통풍량 Gi)과의 비인 L/G값에 따라 정해진다.That is, the gas component removal efficiency η exhibiting purification performance is equal to the water quality of the clean water W supplied to the gas-liquid contactor 16 (that is, if Cwi is constant), and the purification of outside air OA in the water supply amount Li to the gas-liquid contactor 16 is performed. It depends on the L / G value, which is the ratio between the quantity of water (= quantity equal to the drainage Lo) and the quantity of air of the outside air OA (= airflow Gi).

한편, 이 종류의 기액 접촉기(16)에서는, 소정 통풍량 Gi의 외기 OA에 대하여 필요한 가스 성분 제거 효율 η를 얻는 데 필요한 정화용 필요수량 Lj를 기본수량으로 하고, 그 정화용 필요수량 Lj에 대하여 처리 대상의 외기 OA를 일정 가습 상태까지 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량 Lh를 부가한 수량(Lj+Lh)을 급수량 Li로 할 필요가 있다. On the other hand, in this type of gas-liquid contactor 16, the required amount of purification Lj necessary for obtaining the required gas component removal efficiency η for the outside air OA of the predetermined ventilation amount Gi is taken as the basic quantity, and the required amount of purification Lj for treatment is treated. It is necessary to make the water supply amount Li the quantity (Lj + Lh) which added the necessary quantity Lh for humidification required to humidify the external air OA to a constant humidification state.

따라서, 급수량 Li가 충분한 경우, 이 종류의 기액 접촉기(16)에서는 외기 OA의 처리 전의 상태에 관계없이 외기 OA를 대략 일정한 포화 상태 근방 습도(예를 들면, 상대 습도 95%)까지 안정적으로 가습할 수 있다.Therefore, when the water supply amount Li is sufficient, the gas-liquid contactor 16 of this type can stably humidify the outdoor air OA to a substantially constant saturated state humidity (for example, 95% relative humidity) regardless of the state before the outdoor air OA treatment. Can be.

이것은, 일정 급수량 Li 하에서는, 처리 전의 외기 OA 상태 변화 등에 따라 가습용 필요수량 Lh가 변화하면, 급수량 Li 중 외기 OA의 가습에 소비되는 수량이 변화 후에서의 실제의 가습용 필요수량 Lh와 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되고, 이로써, 급수량 Li 중 가습에 소비되지 않고 외기 OA의 정화에 기여하는 수량[즉, 정화에 기여한 후 기액 접촉기(16)로부터 배출되는 배수량 Lo] 쪽이 변화되어, 그 정화용의 수량(= Lo)이 상기한 정화용 필요수량 Lj에 대하여 부족하게 되는 상태(Lo<Lj)나 과잉으로 되는 상태(Lo>Lj)를 초래하는 것을 의미한다.This means that under the constant water supply Li, when the required amount of humidification Lh for humidification changes according to the change in the state of the external air OA before the treatment, the quantity of water consumed for humidification of the external air OA in the water supply Li is the same as the actual required quantity for humidification Lh after the change. The amount of water that is not consumed by humidification but contributes to the purification of the outside air OA (that is, the amount of drainage Lo discharged from the gas-liquid contactor 16 after contributing to the purification) is changed. This means that the quantity of water (= Lo) causes a state (Lo &lt; Lj) which becomes insufficient with respect to the required amount of purification Lj described above, or a state (Lo &gt; Lj), which becomes excess.

이러한 것에 대하여, 전술한 급수 제어기(29)는, 그에 따른 급수량 조정으로서 다음의 (가), (나)의 제어를 실행하는 구성으로 하고 있다.On the other hand, the above-described water supply controller 29 is configured to execute the following (a) and (b) control as the water supply amount adjustment accordingly.

(가) 배수용 유량계(27)에 의한 검출 배수량 Lo에 기초하여 급수 유량 조정 밸브(26)를 조정함으로써, 기액 접촉기(16)로부터의 배출되는 사용이 끝난 청정수 W´(사용이 끝난 순수)의 배수량 Lo를 설정 배수량 SLo로 조정한다.(A) By adjusting the water supply flow rate adjusting valve 26 based on the detected drainage amount Lo by the water flow meter 27 for drainage, the wastewater of the used clean water W ′ (used pure water) discharged from the gas-liquid contactor 16 is adjusted. Adjust the displacement Lo to the set displacement SLo.

(나) 풍량계(28)에 의한 검출 통풍량 Gi에 따라 설정 배수량 SLo를 변경한다. 구체적으로는, 설정 배수량 SLo는 각각의 시점의 외기 통풍량 Gi에 대한 정화용 필요수량 Lj를 기준수량으로 하고, 그 기준수량에 대하여 필요에 따라 여유를 예상한 수량을 설정 배수량 SLo로 한다.(B) The set drainage amount SLo is changed in accordance with the detected ventilation amount Gi by the air flow meter 28. Specifically, the set drainage amount SLo is a reference amount of the required amount Lj for purification of the outside air volume Gi at each time point, and the set amount of water SLo is a quantity expected to be spared as necessary for the reference amount.

여기서, 각각의 시점(時点)의 외기 통풍량 Gi에 대한 정화용 필요수량 Lj는, 장치 고유의 상수(常數)(즉, 장치 형상에 의한 접촉 계수나 요구 제거 효율 η 등과 상이한 상수)인 L/G값을 α로 한 경우에 Lj=α×Gi로 나타낼 수 있고, 급수 제어기(29)는, 이와 같은 상관 데이터(30)에 기초하여 각각의 시점에서의 설정 배수량 SLo를 결정한다.Here, the required amount of purification Lj for the outside air flow rate Gi at each time point is L / G, which is a device-specific constant (that is, a constant different from the contact coefficient, the required removal efficiency η, etc., depending on the device shape). When the value is α, Lj = α × Gi can be represented, and the water supply controller 29 determines the set discharge amount SLo at each time point based on such correlation data 30.

즉, 외기 OA 상태 변화나 풍량 변화 등에 의해 가습용 필요수량 Lh나 정화용 필요수량 Lj가 변화하는 것에 관계없이, 또한 전술한 바와 같이, 급수량 Li 중 가습에 소비되는 수량이 각각의 시점에서의 가습용 필요수량 Lh와 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되는 것에 관계없이, 상기 (가), (나)의 급수량 제어에 의해, 급수량 Li 중 외기 OA의 정화에 기여하는 수량(즉, 배수량 Lo와 같은 수량)을 각각의 시점에서의 정화용 필요수량 Lj와 같은 수량으로 조정 유지한다. 이로써, 기액 접촉기(16)에 대한 신선한 청정수 W의 급수량 Li를 최대한 절감하면서, 외기 OA에 대한 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 안정적으로 얻는다.That is, irrespective of the change in the necessary amount of humidification Lh or the required amount of purification Lj due to the change in the air OA state or the air volume change, etc., as described above, the amount of water consumed for humidification in the water supply amount Li is used for humidification at each time point. Irrespective of being self-adjusted preferentially to the same quantity as the required quantity Lh, the quantity of water contributing to the purification of the outside air OA in the quantity of water Li (ie, the quantity of the quantity of water Lo) in the quantity of water Li is controlled by the above-mentioned (a) and (b). Is maintained at the same quantity as the required quantity Lj for purification at each time point. Thereby, while reducing the water supply amount Li of the fresh clean water W to the gas-liquid contactor 16 as much as possible, the necessary purification performance and the required humidification performance with respect to the outside air OA are obtained stably.

〔다른 실시형태〕 [Other Embodiments]

다음의 본 발명의 다른 실시형태를 열기한다. The following is another embodiment of the present invention.

전술한 실시형태에서는, 배수량 Lo가 설정 배수량 SLo로 되도록 급수량 Li를 조정하는 급수량 제어를 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치에 적용한 예를 나타냈으나, 동일한 급수량 제어를 순환 급수식의 공기 정화 가습 장치에 적용해도 된다.In the above-mentioned embodiment, although the water supply amount control which adjusts the water supply amount Li so that wastewater Lo becomes set drainage volume SLo was shown to the example of applying the daily water supply type air purification humidification apparatus, the same water supply control was applied to the circulation water supply type air purification humidification apparatus. You may apply to.

또한, 본 발명에 의한 공기 정화 가습 장치는, 전술한 실시형태에서 나타낸 바와 같이, 외조기(7)에 내장하여 장비하는 사용 형태에 한정되지 않고, 통상의 공조기에 내장하여 장비하는 사용 형태나, 경우에 따라서는 냉각기나 가열기 등과의 조합이 없는 상태로 단독 사용하는 사용 형태 등, 각종 사용 형태를 채용할 수 있다.Moreover, as shown in the above-mentioned embodiment, the air purification humidification apparatus which concerns on this invention is not limited to the usage form built-in in the external air conditioner 7, and the use form built-in and equipped with a normal air conditioner, In some cases, various usage forms, such as a single use form, can be adopted, without a combination with a cooler or a heater.

처리 대상 공기 OA의 통풍량 Gi에 따라 설정 배수량 SLo를 변경하는 경우, 통풍량 검출 수단으로서는, 각종 풍량계에 한정되지 않고, 예를 들면, 통풍량 Gi의 변경 지령에 기초하여 통풍량 Gi를 인지하는 검출 방식의 것 등, 각종 검출 방식의 것을 채용할 수 있다.When the set discharge amount SLo is changed in accordance with the ventilation amount Gi of the air OA to be treated, the ventilation amount detection means is not limited to various air flow meters, and for example, the ventilation amount Gi is recognized based on the change instruction of the ventilation amount Gi. Various detection methods, such as the detection method mentioned above, can be adopted.

처리 대상 공기 OA는 외기에 한정되지 않고, 청정실에 순환 공급하는 공기나 리사이클 사용을 목적으로 하는 각종 설비로부터의 배출 공기 등, 정화 처리와 가습 처리를 요하는 공기, 또한 가습을 따른 정화 처리를 요하는 공기이면, 어떠한 공기라도 된다.The air OA to be treated is not limited to the outside air, and air that requires purification and humidification treatment, such as air to be circulated and supplied to a clean room or discharged air from various equipment for recycling use, and purification according to humidification is required. Any air may be sufficient as it is air.

본 발명에 의한 공기 정화 가습 장치는, 공기의 정화 처리와 가습 처리를 요하는 각종 분야, 또한 가습을 따른 공기의 정화 처리를 요하는 각종 분야에 있어서 사용할 수 있다.The air purifying and humidifying apparatus according to the present invention can be used in various fields requiring air purification and humidification, and in various fields requiring purifying air with humidification.

OA: 처리 대상 공기
W: 청정수
16: 기액 접촉실
W´: 사용이 끝난 청정수
Lo: 배수량
27: 배수량 검출 수단
Li: 급수량
SLo: 설정 배수량
29: 제어 수단
Gi: 통풍량
28: 풍량 검출 수단
23: 청정수 공급 수단
19: 흘러내림 매체
20: 급수 헤더
22a: 경사 파부
22: 파판형 부재
OA: Air to Process
W: fresh water
16: gas-liquid contact chamber
W´: used clean water
Lo: displacement
27: displacement detection means
Li: water supply
SLo: set displacement
29: control means
Gi: ventilation
28: air volume detection means
23: means of supplying clean water
19: flushing medium
20: water supply header
22a: warp breaking
22: wave-shaped member

Claims (5)

실내로 통풍시키는 처리 대상 공기를 실내에서 청정수(淸淨水)와 기액(氣液) 접촉시키는 기액 접촉실을 구비하고,
상기 기액 접촉실에서의 청정수와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기를 정화하고, 또한 처리 대상 공기를 가습(加濕)하는 공기 정화 가습 장치로서,
상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수량을 검출하는 배수량 검출 수단을 포함하고, 또한
상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 상기 배수량 검출 수단의 검출 배수량에 기초하여 조정하여 상기 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 제어 수단
을 포함하는, 공기 정화 가습 장치.
A gas-liquid contacting chamber for allowing the air to be treated to be ventilated into the room to contact clean water with gas-liquid,
As an air purifying humidification apparatus which purifies the process object by removing the water-soluble gas component in the process object air by the gas-liquid contact with the clean water in the said gas-liquid contact chamber, and humidifying the process object air,
Drainage detection means for detecting the drainage amount of the used clean water discharged from said gas-liquid contact chamber, and
Control means for adjusting the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contacting chamber based on the detected water supply amount of the water discharge amount detecting means to adjust the water supply amount to the set drainage amount
Containing, air purification humidification device.
제1항에 있어서,
상기 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량을 검출하는 풍량 검출 수단을 구비하고,
상기 제어 수단은, 상기 풍량 검출 수단의 검출 통풍량에 기초하여 상기 설정 배수량을 변경하는 구성으로 하고 있는, 공기 정화 가습 장치.
The method of claim 1,
Air flow rate detection means for detecting the airflow amount of the air to be treated to the gas-liquid contact chamber,
The control means is configured to change the set drainage amount based on the detected ventilation amount of the airflow rate detection means.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 기액 접촉실에 공급하는 청정수로서, 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수를 일과적(一過的)으로 상기 기액 접촉실에 공급하는 구성으로 하고 있는, 공기 정화 가습 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
An air purifying humidification device, wherein the clean water supplied to the gas-liquid contacting chamber is configured to supply fresh clean water supplied from a clean water supplying means to the gas-liquid contacting chamber routinely.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 기액 접촉실에 공급하는 청정수로서, 상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수와 상기 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수와의 혼합수를 상기 기액 접촉실에 공급하는 구성으로 하고 있는, 공기 정화 가습 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The purified water supplied to the said gas-liquid contact chamber WHEREIN: The air purification which consists of supplying the mixed liquid of the used clean water discharged | emitted from the said gas-liquid contact chamber and the fresh clean water supplied from the said clean-water supply means to the said gas-liquid contact chamber. Humidification device.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기액 접촉실에는, 공기의 통풍 경로에 대하여 횡단 상태로 배치한 흘러내림 매체, 및 이 흘러내림 매체에 대하여 위쪽으로부터 청정수를 적하(滴下)하는 급수 헤더를 장비하고,
상기 흘러내림 매체는, 다수의 경사 파부(波部)를 형성한 세로 자세의 파판형(波板形) 부재를 조밀하게 병설하여 구성하고, 인접하는 파판형 부재마다 상기 경사 파부의 경사 방향을 반전(反轉)시키고 있는, 공기 정화 가습 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The gas-liquid contact chamber is equipped with a flowing medium arranged in a transverse state with respect to the air passage of air, and a water supply header dropping clean water from above with respect to the flowing medium.
The downflow medium is configured by densely arranging a wave-shaped member in a vertical posture in which a plurality of inclined wave portions are formed, and inverting the inclination direction of the inclined wave portions for each adjacent wave-shaped member. The air purification humidification apparatus which makes it anti.
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