KR101754311B1 - Air purifier and humidifier - Google Patents

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마사유키 오가와
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가부시키가이샤 다이키샤
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Abstract

본 발명은, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 얻으면서 청정수(淸淨水)의 급수량을, 요구되는 가스 성분 제거 효율에 대하여 필요하고 또한 충분한 양으로 할 수 있는 공기 정화 가습 장치를 제공한다. 기액(氣液) 접촉실(16)에서의 청정수 W와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 OA 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기 OA를 정화하고, 또한 처리 대상 공기 OA를 가습(加濕)하는 공기 정화 가습 장치에 있어서, 기액 접촉실(16)로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수 W'의 배수량 Lo를 검출하는 배수량 검출 수단(27)을 구비하고, 또한 기액 접촉실(16)에 대한 청정수 W의 급수량 Li를 배수량 검출 수단(27)의 검출 배수량 Lo에 기초하여 조정하여 배수량 Lo를 설정 배수량 SLo로 조정하는 제어 수단(29)을 구비한다.The present invention provides an air purifying and humidifying device capable of providing necessary and sufficient amount of water to be supplied to clean water while obtaining necessary purification performance and required humidifying performance. Liquid contact with the clean water W in the gas-liquid contact chamber 16 removes water-soluble gas components in the processing air OA to purify the processing air OA and also humidifies the processing air OA And a drain amount detecting means (27) for detecting a drain amount Lo of the used clean water (W ') discharged from the gas-liquid contact chamber (16) is provided in the air-cleaning and humidifying device And control means (29) for adjusting the water supply amount Li of the clean water W based on the detection drain amount Lo of the drainage amount detection means 27 to adjust the drain amount Lo to the set drainage amount SLo.

Description

공기 정화 가습 장치{AIR PURIFIER AND HUMIDIFIER}{AIR PURIFIER AND HUMIDIFIER}

본 발명은 공기 정화 가습(加濕) 장치에 관한 것이다. 이 공기 정화 가습 장치는 반도체 제조용의 청정실(淸淨室)에 공급하는 공기의 조정 등에 사용된다. The present invention relates to an air purifying humidifying device. This air cleaning and humidifying device is used for adjusting air supplied to a clean room for semiconductor manufacturing.

보다 상세하게 설명하면, 이 공기 정화 가습 장치는 기액(氣液) 접촉실을 구비하고 있다. 이 기액 접촉실에서는, 실내에 통풍되는 처리 대상 공기를 청정수와 기액 접촉시킨다. More specifically, the air cleaning and humidifying device is provided with a gas-liquid contact chamber. In this gas-liquid contact chamber, air to be treated ventilated in the room is brought into gas-liquid contact with clean water.

이 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분이 제거되고, 처리 대상 공기는 정화된다. 또한, 이 공기 정화에 의해 처리 대상 공기는 가습된다.This gas-liquid contact removes water-soluble gas components in the air to be treated and purifies the air to be treated. Further, the air to be treated is humidified by this air purification.

종래, 이 종류의 공기 정화 가습 장치로서, 예를 들면, 특허 문헌 1의 도 1, 도 2에 나타낸 순환 급수식의 장치가 알려져 있다. BACKGROUND ART [0002] Conventionally, as an air purifying and humidifying device of this kind, for example, a circulating water feeding device shown in Figs. 1 and 2 of Patent Document 1 is known.

이 순환 급수식의 장치는, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수(즉, 처리 대상 공기에 포함되는 수용성의 가스 성분을 흡수한 청정수)를 캐치(catch)하는 저류(貯留) 탱크를 구비하고 있다. This recirculating water supply type apparatus is provided with a storage tank for catching used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber (that is, clean water absorbing water-soluble gas components contained in the air to be treated) have.

이 저류 탱크로부터 빼낸 청정수를 기액 접촉실에 순환 공급함으로써, 이 공급 청정수와 처리 대상 공기를 기액 접촉실에서 기액 접촉시킨다.And the purified water withdrawn from the storage tank is circulated and supplied to the gas-liquid contact chamber, so that the supplied clean water and the air to be treated are brought into gas-liquid contact in the gas-liquid contact chamber.

이 순환 급수식의 장치에서는, 청정수의 일부가 처리 대상 공기의 가습에 소비되어 처리 대상 공기로 사라진다. In this apparatus of the circulating water type, a part of the purified water is consumed in the humidification of the air to be treated and disappears into the air to be treated.

또한, 처리 대상 공기로부터 흡수 제거된 수용성의 가스 성분이 사용이 끝난 청정수와 함께 저류 탱크에 반입(搬入)된다. Further, a water-soluble gas component absorbed and removed from the air to be treated is carried into the storage tank together with the used purified water.

이러한 것에 대하여, 청정수 공급 수단으로부터 필요량의 신선한 청정수를 저류 탱크에 보급한다. In this regard, a fresh amount of fresh water is supplied from the clean water supply means to the storage tank.

이 보급에 의해, 저류 탱크로부터 기액 접촉실에 순환 공급하는 청정수의 수용성 가스 성분 농도를 일정값 이하로 유지한다(즉, 일정 이상의 청정도로 유지한다).With this supply, the concentration of the water-soluble gas component circulating and supplied from the storage tank to the gas-liquid contact chamber is maintained at a predetermined value or lower (that is, the cleanliness degree is maintained at a certain level or more).

한편, 예를 들면, 하기 특허 문헌 1의 도 4에 나타낸 일과(一過) 급수식의 장치도 알려져 있다. On the other hand, for example, a device shown in Fig. 4 of Patent Document 1 and a (single) water-feeding type device is also known.

이 일과 급수식의 장치에서는, 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수를 기액 접촉실에 일과적으로 공급한다. In this apparatus and the water supply type apparatus, fresh fresh water supplied from the clean water supply means is supplied to the gas-liquid contact chamber on a daily basis.

이에 대하여, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수는 모두 장치 밖으로 배출한다.On the other hand, all of the used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber is discharged to the outside of the apparatus.

그리고, 청정수 공급 수단이 원수(原水)를 정화하여 청정수를 생성하는 것인 경우, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수를 원수의 일부로 하여 청정수 공급 수단으로 되돌리는 일과 급수식의 장치도 있다.In the case where the purified water supply means purifies raw water to generate purified water, there is also a device for returning the used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber to the clean water supply means as a part of raw water and a water supply type.

그런데, 이들 순환 급수식 및 일과 급수식 중 어느 공기 정화 가습 장치로 해도, 기액 접촉실에 공급하는 청정수의 급수량에 대해서는, 처리 대상 공기로부터 수용성 가스 성분을 제거하는 정화 성능으로서 필요한 가스 성분 제거 효율을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량(必要水量)을 기본수량으로 한다. As to the water supply amount of the clean water to be supplied to the gas-liquid contact chamber, any gas-component removal efficiency required as the purifying performance for removing the water-soluble gas component from the air to be treated The required amount of water required for purification (amount of water required) is taken as the basic quantity.

그리고, 처리 대상 공기를 일정 가습 상태까지 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량을 상기 정화용 필요수량에 더한 수량이 필요한 급수량으로 된다.Then, the water supply amount required for the humidification necessary for humidifying the air to be treated up to a certain humidification condition is added to the necessary water quantity for the purification purpose.

따라서, 처리 대상 공기가 외기(外氣) 등의 상태 변화(처리 전 공기 상태의 변화)가 있는 공기인 경우, 그 상태 변화가 원인으로 상기 가습에 필요한 가습용 필요수량이 변화하면, 기액 접촉실에 대한 청정수의 필요 급수량도 가습용 필요수량의 변화분만큼 변화한다. Therefore, when the air to be treated is air having a state change (change in the state of the air before the treatment) such as the outside air, if the required amount for humidification necessary for the humidification changes due to the state change, The required amount of water supplied to the clean water changes by the amount of change in the required amount for humidification.

그러나, 종래의 공기 정화 가습 장치에서는, 가습용의 수량으로서 충분한 안전률을 예상한 일정한 큰 가습용 설계수량을 설정하고, 이 가습용 설계수량을 기본수량으로서의 정화용 필요수량에 더한 수량을 설계 급수량으로 하고 있었다. However, in the conventional air purifying and humidifying device, it is necessary to set a certain large design quantity for humidification in which a sufficient safety rate is expected as the quantity of humidification, and the quantity of the design for humidification is added to the required quantity for cleaning as the basic quantity, .

그리고, 이 일정 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하는 급수량 일정 운전을 행하도록 하고 있었다. Then, the constant water amount constant operation is performed to continuously supply the constantly designed water amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber continuously.

즉, 가습용 필요수량의 변화에 따라 급수량을 조정하는 것은 행해지지 않았었다.That is, the adjustment of the water supply amount was not carried out according to the change in the required amount of humidification.

또한, 처리 대상 공기 상태 변화에 기인하는 가습용 필요수량의 변화에 대응하기 위해서는, 예를 들면, 처리 대상 공기의 처리 전의 공기 상태를 검출하고, 그 검출 공기 상태에 기초하여, 처리 대상 공기 상태 변화에 의한 가습용 필요수량의 변화분만큼, 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 증감 조정하는 것도 생각할 수 있다. In order to cope with a change in the required amount of humidification due to a change in the state of air to be treated, for example, it is necessary to detect the state of the air before the processing of the air to be treated, It is also conceivable to increase or decrease the amount of water supplied to the gas-liquid contact chamber by the amount of change in the required amount for humidification by the air-liquid contact chamber.

그러나, 이 경우, 필요한 가스 성분 제거 효율로 가스 성분이 제거되었는지의 여부는 불명료하기 때문에, 가스 성분의 제거 처리에 대하여 정밀도가 양호한 제어 결과를 얻기 어렵게 된다.However, in this case, since it is unclear whether or not the gas component has been removed due to the necessary gas component removal efficiency, it is difficult to obtain a control result with a good precision with respect to the gas component removal process.

그러므로, 상기와 같은 검출 공기 상태에 기초한 급수량 조정에서는 조정 오차 등이 생기기 쉽다. 이 조정 오차가 원인으로, 조정 급수량 중 가습용 수량분(水量分)이 각각의 시점(時点)의 실제의 가습용 필요수량에 대하여 일시적으로든 부족하게 되는 상태가 생기면, 그 부족분이 조정 급수량 중 정화용 수량분으로부터 보충되는 상태로 되어, 정화용 수량분의 일부가 가습용 수량분과 함께 처리 대상 공기의 가습에 소비되어 버린다. Therefore, adjustment of the water supply amount based on the detection air condition as described above tends to cause an adjustment error or the like. If there is a temporary shortage of the actual amount of humidification required at each time (point in time) due to the adjustment error, the amount of humidification water in the adjusted water supply becomes temporarily insufficient, A part of the water for purifying water is consumed for humidification of the air to be treated together with the water for humidification.

이로써, 가스 성분 제거 효율(즉, 정화 성능)이 소요값을 하회하는 상태로 되어, 필요한 정화도의 처리된 공기를 얻을 수 없게 되는 현상을 초래한다.As a result, the gas component removal efficiency (that is, the purification performance) falls below the required value, resulting in a phenomenon in which the treated air with the required degree of purification can not be obtained.

이와 같은 현상을 확실하게 회피하기 위해, 이 종류의 공기 정화 가습 장치에서는, 종래, 상기와 같이 과대한 일정 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하는 급수량 일정 운전을 행하고 있었다.In order to reliably avoid such a phenomenon, in the air cleaning and humidifying device of this kind, conventionally, the constant water supply amount constant operation is performed in which the above-mentioned clean water of a predetermined designed water supply amount is continuously supplied to the gas-liquid contact chamber.

일본공개특허 제2000―279741호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-279741

그러나, 상기한 급수량 일정 운전에서는, 과대한 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하므로, 순환 급수식의 장치에서는, 저류 탱크로부터 기액 접촉실에 순환 청정수를 보내는 펌프 동력이 커져, 운전 비용이 커지는 문제가 있었다.However, in the constant water supply operation described above, since the clean water having an excessively designed water supply amount is continuously supplied to the gas-liquid contact chamber, in the circulating water supply type apparatus, the pump power for sending the circulating clean water from the reservoir tank to the gas- There has been a problem of increasing the size.

또한, 일과 급수식의 장치에서는, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수 모두를 장치 밖으로 배출하므로, 신선한 청정수를 기액 접촉실에 공급하는 펌프 동력이 커질뿐아니라, 기액 접촉실에 공급하는 순수(純水) 등의 신선한 청정수의 소비량이 커져, 그에 의해 운전 비용이 한층 커지는 문제가 있었다.In addition, in the apparatus for daily water supply, since all of the used fresh water discharged from the gas-liquid contact chamber is discharged to the outside of the apparatus, not only the pump power for supplying fresh fresh water to the gas-liquid contact chamber is increased, The amount of fresh fresh water such as pure water is increased, thereby increasing the operation cost.

상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명의 주된 과제는, 합리적인 급수량 조정을 행함으로써, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 확실하고 또한 안정적으로 얻으면서, 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을, 요구되는 가스 성분 제거 효율에 대하여 필요하고 또한 충분한 양으로 하는 것이 가능하도록 하고, 이로써 운전 비용을 효과적으로 저감할 수 있는 공기 정화 가습 장치를 제공하는 점에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, a main object of the present invention is to provide an apparatus and a method for adjusting the amount of water supplied to a gas-liquid contact chamber, And it is an object of the present invention to provide an air cleaning and humidifying device capable of effectively reducing the operation cost by making it possible to make a necessary and sufficient amount of required gas component removal efficiency.

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상기한 바와 같은 공기 정화 가습 장치를 구성하기 위해, 본 발명의 제1 참고 구성으로서,
실내로 통풍시키는 처리 대상 공기를 실내에서 청정수(淸淨水)와 기액(氣液) 접촉시키는 기액 접촉실을 구비하고,
상기 기액 접촉실에서의 상기 청정수와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기를 정화하고, 또한 처리 대상 공기를 가습하는 공기 정화 가습 장치로서,
상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수량을 검출하는 배수량 검출 수단을 구비하고, 또한
상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 상기 배수량 검출 수단의 검출 배수량에 기초하여 조정하여 상기 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 제어 수단을 구비해도 된다.
즉, 이 종류의 공기 정화 가습 장치의 가스 성분 제거 효율은, 기액 접촉실에 공급하는 청정수의 수질이 같으면, 기액 접촉실에 대한 급수량 중에서 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량과 처리 대상 공기의 풍량과의 비(즉, L/G값)에 따라 정해지는 것이 알려져 있다.
In order to constitute the air purifying and humidifying device as described above, as a first reference configuration of the present invention,
And a gas-liquid contact chamber for bringing the object air to be ventilated into the room into contact with clean water in a room,
An air purifying and humidifying device for purifying the air to be treated by removing an aqueous gas component in the air to be treated by the gas-liquid contact with the clean water in the gas-liquid contact chamber,
And drainage amount detecting means for detecting a drainage amount of the used purified water discharged from the gas-liquid contact chamber,
And a control means for adjusting the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber on the basis of the detected water discharge amount of the water discharge amount detection means and adjusting the water discharge amount to the set water discharge amount.
That is, when the quality of the purified water supplied to the gas-liquid contact chamber is the same, the gas-component removal efficiency of this type of air-cleaning and humidifying device is such that the quantity of water, which contributes to the purification of the air to be treated, (I.e., the L / G value).

그러나, 이 종류의 공기 정화 가습 장치에서는, 전술한 바와 같이, 기액 접촉실에 대한 급수량 중 가습용 수량분이 각각의 시점에서의 실제의 가습용 필요수량에 대하여 부족하게 되는 상태가 생기면, 그 부족분은 급수량 중 정화용 수량분으로부터 보충되어, 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량이 부족한 상태로 된다.However, in this type of air purifying humidifying device, if there occurs a state in which the water amount for humidification in the water supply amount to the gas-liquid contact chamber becomes insufficient for the actual humidification required quantity at each time point as described above, The amount of water contributing to the purification of the air to be treated is supplemented from the water quantity for purification in the water supply amount.

또한, 반대로, 급수량 중 가습용 수량분이 각각의 시점에서의 실제의 가습용 필요수량에 대하여 과잉으로 되는 상태가 생기면, 그 과잉분은 급수량 중 정화용 수량분과 함께 처리 대상 공기의 정화에 기여한 후 기액 접촉실로부터 배출된다.On the contrary, when a state in which the amount of water for humidification in the water supply amount becomes excessive with respect to the actual water amount for humidification at each time point is generated, the excess amount contributes to the purification of the air to be treated together with the water amount for purification in the water supply amount, Lt; / RTI >

즉, 일정 급수량 하에서는, 처리 대상 공기의 상태 변화 등에 따라 가습용 필요수량이 변화하면, 급수량 중 처리 대상 공기의 가습에 소비되는 수량이 변화 후에 있어서의 실제의 가습용 필요수량과 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되고, 이로써, 급수량 중 가습에 소비되지 않고 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(즉, 정화에 기여한 후 기액 접촉실로부터 배출되는 수량) 쪽이 변화한다.That is, under a constant water feed rate, if the required amount of humidification varies depending on the state of the air to be treated or the like, the quantity of water to be humidified by the air to be treated in the water supply amount is preferentially The amount of water supplied to the purification of the air to be treated (that is, the quantity discharged from the gas-liquid contact chamber after contributing to the purification) changes without being consumed in the humidification of the water supply amount.

이러한 것에 대하여, 상기 제1 참고 구성의 공기 정화 가습 장치에서는, 검출 배수량에 기초하여 급수량을 조정하여 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 것에 있어서, 그 설정 배수량으로서 필요한 가스 성분 제거 효율을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량과 같은 수량을 설정하여 둔다. On the other hand, in the air cleaning and humidifying device of the first reference construction, the water supply amount is adjusted based on the detected water discharge amount to adjust the water discharge amount to the set water discharge amount, Set quantity such as quantity.

이로써, 상기 제1 참고 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면, 가습용 필요수량의 변화에 따라 급수량 중 가습에 소비되는 수량이 변화 후의 가습용 필요수량과 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되는 것에 대해서도, 급수량 중 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(즉, 기액 접촉실로부터의 배수량이 되는 수량)을 설정 배수량으로 하여 설정된 정화용 필요수량으로 유지할 수 있다.As a result, according to the air purification and humidification device of the first reference configuration, the amount of water used for humidification in the water supply amount is adjusted in priority to the required quantity for the humidification after the change according to the change in the required water amount for humidification, It is possible to maintain the quantity of water which contributes to the purification of the air to be treated (that is, the quantity which becomes the displacement quantity from the gas-liquid contact chamber) to the required quantity for the purification set as the set displacement quantity.

이로써, 처리 대상 공기 상태의 변화 등에 기인하여 가습용 필요수량이 변화되는 것에 관계없이, 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 소요값으로 유지할 수 있으므로, 처리된 공기의 정화도를 필요한 정화도로 유지할 수 있다. 또한, 가습 성능에 대해서는, 가습에 소비되는 수량이 상기와 같이 가습용 필요수량의 변화에 대하여 우선적으로 자체 조정됨으로써 유지된다.As a result, the gas component removal efficiency (purification performance) can be maintained at a desired value regardless of whether the required amount for humidification changes due to a change in the air condition to be treated or the like, have. With regard to the humidifying performance, the amount of water consumed for humidification is maintained by preferentially self-adjusting to the change in the required amount for humidification as described above.

그리고 또한, 습도나 온도라는 공기 상태의 검출에 비해 배수량의 검출은 일반적으로 검출 정밀도의 면에서의 신뢰성이 높아 검출 오차가 쉽게 생기지 않는다. 따라서, 상기와 같은 검출 배수량에 기초한 급수량 조정에 의하면, 전술한 검출 공기 상태에 기초한 급수량 조정에서의 문제, 즉 조정 오차 등의 원인으로 가스 성분 제거 효율이 소요값을 하회하는 현상을 초래하는 것도 더욱 확실하게 회피할 수 있다.In addition, the detection of the amount of displacement compared with the detection of the air condition, such as humidity or temperature, generally has high reliability in terms of detection accuracy and does not easily cause a detection error. Therefore, by adjusting the water supply amount based on the above-described detection displacement, it is also possible to cause the phenomenon that the gas component removal efficiency is lower than the required value due to a problem in the adjustment of the water supply amount based on the above-described detected air condition, It can be surely avoided.

이들로부터, 상기 제1 참고 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 확실하고 또한 안정적으로 얻으면서도, 과대한 설계 급수량의 청정수를 기액 접촉실에 연속적으로 공급하는 급수량 일정 운전을 채용하는 종래 장치에 비하여, 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을, 요구되는 가스 성분 제거 효율에 대하여 필요하고 또한 충분한 양으로 효과적으로 저감할 수 있고, 이로써 장치의 운전 비용을 효과적으로 저감할 수 있다.From these, it can be seen from the above that, according to the air purification and humidification device of the first reference configuration, even when the necessary purification performance and necessary humidification performance are securely and stably obtained, the water supply amount constant operation for continuously supplying the excessively designed water supply amount of clean water to the gas- The water supply amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber can be effectively reduced to a necessary and sufficient amount with respect to the required gas component removal efficiency, whereby the operation cost of the apparatus can be effectively reduced.

그리고, 설정 배수량으로서는, 현실적으로는 다소의 안전률을 예상하여 정화용 필요수량보다 어느 정도 큰 수량을 설정하는 것이 바람직하다. 그러나, 그 경우라도 급수량 일정 운전을 행하는 종래 장치에 비해 운전 비용은 대폭 저감할 수 있다.As the set drainage amount, it is preferable to set a certain amount of water somewhat larger than the necessary amount for purification in anticipation of a somewhat safe rate. However, even in this case, the operation cost can be greatly reduced as compared with the conventional apparatus that performs constant water supply operation.

또한, 처리 대상 공기 상태 변화 등에 기인하여 가습용 필요수량이 변화하는 것에 대하여 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 유지하기 위해서는, 다음과 같은 급수량 조정도 생각할 수 있다. Further, in order to maintain the required cleaning performance and necessary humidification performance for the required amount of humidification to change due to changes in the air condition to be treated, etc., the following water amount adjustment may be considered.

즉, 가습용 필요수량의 변화로 급수량 중 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량에 과부족이 생기면, 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 수용성 가스 성분 농도(즉, 흡수 가스 성분 농도)도 변화한다. 따라서, 기액 접촉실로부터의 배출 청정수의 가스 성분 농도를 검출하고, 그 검출 농도에 기초하여 배출 청정수의 가스 성분 농도를 설정 농도로 유지하도록 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 자동 조정하는 것을 생각할 수 있다.That is, when the amount of water to be supplied to purify the air to be treated in the water supply becomes excessive or small due to the change in the required amount for humidification, the concentration of the water-soluble gas component (that is, the concentration of the absorbed gas component) of the used clean water discharged from the gas- do. Therefore, it is conceivable to detect the gas component concentration of the discharge purified water from the gas-liquid contact chamber and automatically adjust the water supply amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber so that the gas component concentration of the discharge clean water is maintained at the set concentration based on the detected concentration have.

그러나, 수중 가스 성분 농도의 검출은 일반적으로 검출 정밀도의 면에서의 신뢰성이 낮아 검출 오차가 생기기 쉽고, 그러므로, 검출 가스 성분 농도에 기초한 급수량의 조정에서는, 역시 조정 오차 등에 기인하여 가스 성분 제거 효율이 소요값을 하회하는 현상을 초래하기 쉽다. However, in the detection of the concentration of the underwater gas component, the reliability in terms of detection accuracy is low, so that a detection error tends to occur. Therefore, in the adjustment of the water supply amount based on the detected gas component concentration, It is liable to cause a phenomenon that the required value is lowered.

이 점에 있어서, 검출 배수량에 기초하여 급수량을 조정하는 상기 제1 참고 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면, 전술한 바와 같이, 그와 같은 현상을 초래하는 것을 더욱 확실하게 회피할 수 있고, 이로써, 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 확실하고 또한 안정적으로 얻으면서, 청정수의 급수량을 효과적으로 저감할 수 있다.In this regard, according to the air cleaning and humidifying device of the first reference construction for adjusting the water supply amount based on the detected displacement, as described above, it is possible to more reliably avoid occurrence of such a phenomenon, It is possible to reliably and stably obtain necessary purification performance and required humidification performance while effectively reducing the amount of water supplied to the clean water.

그리고, 여기서 말하는 가스 성분 제거 효율 η는 다음 식에 의해 표시되는 것이다. Here, the gas component removal efficiency? Described here is represented by the following equation.

η= (Cai―Cao)/Cai      ? = (Cai-Cao) / Cai

단, Cai: 처리 전의 처리 대상 공기의 수용성 가스 성분 농도  Cai: concentration of water-soluble gas component in the air to be treated before treatment

Cao: 처리 후의 처리 대상 공기의 수용성 가스 성분 농도     Cao: concentration of water-soluble gas component in the air to be treated after treatment

상기 제1 참고 구성의 실시에 있어서, 청정수와 처리 대상 공기와의 접촉 방식에 대해서는, 기액 접촉실에 있어서 청정수를 흘러내림용 부재의 표면에 전해지게 하여 수막(水膜) 상태로 흘러내리게 하는 방식이나, 기액 접촉실에 배치한 함수성(含水性)이나 젖는 성질을 가지는 통기성 부재에 청정수를 공급하는 방식, 또한 기액 접촉실에 있어서 청정수를 고밀도 상태로 살수(撒水)하는 방식이나, 이들 방식을 조합한 방식 등, 각종 접촉 방식을 채용할 수 있다.In the implementation of the first reference configuration, the contact between the clean water and the air to be treated is performed in such a manner that the clean water flows in the gas-liquid contact chamber to the surface of the falling member and flows down in a water film state Or a method of supplying purified water to an air-permeable member having a water-containing or wetting property disposed in a gas-liquid contact chamber, a method of spraying clean water in a gas-liquid contact chamber at a high density, Various contact methods such as a combination method can be adopted.

사용하는 청정수(순환 급수식에서는 순환계에 보급하는 신선한 청정수, 일과 급수식에서는 기액 접촉실에 공급하는 신선한 청정수)는 순수나 일반 상수(上水) 또는 필터 등으로 정화한 정화수 등, 대략 일정한 수질을 유지할 수 있는 것이면, 각종 청정수를 사용할 수 있다. 또한, 청정수로서 약품을 첨가한 각종 수용액을 사용하도록 해도 된다.The clean water used (fresh clean water supplied to the circulation in the circulating water system, fresh clean water supplied to the gas-liquid contact chamber in the daily water system) can be treated with pure water or purified water purified by a filter If it can be maintained, various kinds of clean water can be used. Further, various aqueous solutions to which chemicals are added as the clean water may be used.

제1 참고 구성의 공기 정화 가습 장치는, 외기 등 처리 전의 공기 상태가 시시각각으로 변화하는 공기를 처리 대상 공기로 하는 경우에 특히 유효하다. 그러나, 처리 대상 공기는 처리 전의 공기 상태가 통상은 변화하지 않거나, 또는 그다지 변화하지 않는 공기라도 되고, 그 경우라도 어떠한 원인에 의한 처리 대상 공기 상태 변화에 대비하는 의미에서 유효하다.The air cleaning and humidifying device of the first reference structure is particularly effective when the air to be treated is air whose air condition before the treatment such as outside air changes instantaneously. However, the air to be treated may be air that does not normally change, or does not change much, before the treatment, and even in this case, it is effective in terms of preparation for the change of the air condition to be treated for any reason.

또한, 가습용 필요수량의 변화의 원인은 처리 대상 공기의 상태 변화에 한정되지 않고, 그 이외의 원인에 의한 가습용 필요수량의 변화라도 되고, 그 경우에도, 제1 참고 구성의 공기 정화 가습 장치에 의하면 필요한 정화 성능을 안정적으로 유지할 수 있다.
공기 정화 가습 장치를 구성하기 위해, 본 발명의 제2 참고 구성으로서,
상기 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량을 검출하는 풍량 검출 수단을 구비하고,
The cause of the change in the required amount of humidification is not limited to the change in the state of the air to be treated but may be a change in the required amount for humidification due to other causes. The required purifying performance can be stably maintained.
As a second reference configuration of the present invention for constituting an air cleaning and humidifying device,
And air volume detecting means for detecting a ventilation amount of air to be treated with respect to the gas-liquid contact chamber,

상기 제어 수단은, 상기 풍량 검출 수단의 검출 통풍량에 기초하여, 상기 설정 배수량을 변경하는 구성으로 해도 된다.The control means may change the set drain amount based on the detected ventilation amount of the air volume detecting means.

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즉, 가스 성분 제거 효율(정화 성능)은 전술한 바와 같이, 급수량 중 가습에 소비되지 않고 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(즉, 배수량이 되는 수량)과 처리 대상 공기의 풍량과의 비인 L/G값에 따라 정해진다. 따라서, 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량(즉, 처리 대상 공기의 처리 풍량)이 변화하면, 처리 대상 공기를 일정 가습 상태로 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량이 비례적으로 변화하는 것에 더하여, 필요한 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량도 일정한 상관(相關)을 가지고 변화한다.That is, as described above, the gas component removal efficiency (purification performance) is the ratio of the quantity of water to be treated (that is, the quantity of water to be discharged) to the air volume of the air to be treated / G value. Therefore, when the amount of ventilation of the air to be treated (that is, the air flow rate of the processing air) to the gas-liquid contact chamber changes, the required amount for humidification required to humidify the air to be treated in a constant humidification state varies proportionally In addition, the required amount of purification required to obtain the required gas component removal efficiency (purification performance) also varies with a constant correlation.

이것에 대하여, 상기 제2 참고 구성에 의하면, 검출 통풍량에 기초하여 설정 배수량을 변경할 때, 처리 대상 공기의 통풍량과 정화용 필요수량과의 사이에 존재하는 일정한 상관 상에서 각각의 시점에서의 처리 대상 공기의 통풍량에 대응하는 정화용 필요수량과 같은 수량(현실적으로는 어느 정도의 안전률을 예상한 수량)을 설정 배수량으로 할 수 있다 On the other hand, according to the second reference configuration, when the set drainage amount is changed on the basis of the detected ventilation amount, on the basis of a constant correlation existing between the ventilation amount of the air to be treated and the necessary amount for purification, A quantity equal to the required quantity for the purification corresponding to the amount of ventilation of the air (a quantity in which a degree of safety is expected in actuality to some extent) can be set as the set displacement

이와 같이 하여 두면, 처리 대상 기체의 통풍량의 변화에 대하여, 급수량 중 처리 대상 공기의 가습에 소비되는 수량이 전술한 바와 같이, 각각의 시점의 가습용 필요수량(즉, 통풍량 변화에 따라 비례적으로 변화하는 가습용 필요수량)과 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되는 것을 허락하면서, 급수량 중 처리 대상 공기의 정화에 기여하는 수량(배수량이 되는 수량)의 쪽도 각각의 시점의 정화용 필요수량(즉, 통풍량 변화에 따라 일정한 상관을 가지고 변화하는 정화용 필요수량)과 같은 수량으로 자동적으로 변경할 수 있다.As described above, the amount of water to be humidified by the air to be treated in the water supply amount is changed in proportion to the required amount for humidification at each time point (that is, proportional to the change in ventilation amount) (The amount of water to be discharged) contributing to the purification of the air to be treated in the water supply amount, the amount required for purification at each point of time That is, the necessary quantity for the purification which changes with a certain correlation according to the change in the ventilation amount).

이에 의해, 처리 대상 공기의 통풍량 변화에 관계없이, 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 소요값으로 유지할 수 있으므로, 처리된 공기의 정화도를 필요한 정화도로 유지할 수 있고, 또한 필요한 가습 성능도 유지할 수 있다.As a result, the gas component removal efficiency (purification performance) can be maintained at a desired value regardless of the change in the amount of ventilation of the air to be treated, so that the degree of purification of the treated air can be maintained at a required degree of purification, .

또한, 전술한 바와 같이, 기액 접촉실로부터의 배출 청정수의 가스 성분 농도(흡수 가스 성분 농도)를 검출하고, 그 검출 농도에 기초하여 배출 청정수의 가스 성분 농도를 설정 농도로 유지하도록 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 조정하는 경우에는, 그것만으로 처리 대상 공기의 통풍량의 변화에 대해서도 가스 성분 제거 효율(정화 성능)을 소요값으로 유지하고, 또한 필요한 가습 성능을 유지할 수 있다.As described above, the gas component concentration (absorbing gas component concentration) of the discharged clean water from the gas-liquid contact chamber is detected, and based on the detected concentration, the gas component concentration of the discharged clean water is maintained at the set concentration, In the case of adjusting the water supply amount of the clean water, the gas component removal efficiency (purification performance) can be maintained at a desired value and the necessary humidification performance can be maintained even with respect to the change in the ventilation amount of the air to be treated.

그러나, 이것도 전술한 바와 같이, 수중 가스 성분 농도의 검출은 일반적으로 검출 정밀도의 면에서의 신뢰성이 낮아서 검출 오차가 생기기 쉽다. However, as described above, the detection of the concentration of the underwater gas component is generally low in reliability in terms of detection accuracy, and thus, a detection error is likely to occur.

그러나, 검출 통풍량에 기초하여 설정 배수량을 변경하는 상기 구성에 의하면, 통풍량 검출의 신뢰성이 높아 조정 오차가 쉽게 생기지 않으므로, 처리 대상 공기의 통풍량 변화에 대하여 가스 성분 제거 효율이 소요값을 하회하는 현상을 초래하는 것을 더욱 확실하게 회피할 수 있다.
여기서, 공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제1 특징적 구성은,
실내로 통풍시키는 처리 대상 공기를 실내에서 청정수와 기액 접촉시키는 기액 접촉실을 구비하고,
상기 기액 접촉실에서의 상기 청정수와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기를 정화하고, 또한 처리 대상 공기를 가습하는 공기 정화 가습 장치로서,
상기 기액 접촉실에 공급하는 청정수로서, 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수를 일과적(一過的)으로 상기 기액 접촉실에 공급하는 구성으로 하고,
상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수로로서, 상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량이 일정한 하에서는 처리 대상 공기를 일정 가습 상태까지 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량(必要水量)의 변화에 따라 배수량이 변화하는 배수로에, 상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수량을 검출하는 배수 유량계를 구비하고, 또한
상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 조정하는 급수 유량 조정 밸브를 구비하고,
상기 배수 유량계의 검출 배수량에 기초하여 상기 급수 유량 조정 밸브를 조정하여 상기 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 제어 수단을 구비하고,
상기 설정 배수량으로서, 처리 대상 공기의 정화에 있어서 소정의 가스 성분 제거 효율을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량과 같은 수량을 설정하고 있는 점에 있다.
즉, 신선한 청정수를 기액 접촉실에 일과적으로 연속적으로 공급하는 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치는, 순환 급수식의 것과 비교하여 일반적으로 보다 높은 가스 성분 제거 효율을 얻을 수 있다.
또한, 전술한 제1 특징적 구성에 의하면 기본적으로, 상기한 제1 참고 구성의 작용 효과와 마찬가지의 작용 효과를 얻을 수 있어, 처리 대상 공기의 상태 변화에 대해서도 필요한 가스 성분 제거 효율을 안정적으로 유지할 수 있다.
However, according to the above configuration in which the set drainage amount is changed based on the detected ventilation amount, since the reliability of the ventilation amount detection is high and the adjustment error does not easily occur, Can be avoided more reliably.
Here, the first characteristic configuration of the present invention relating to the air-
And a gas-liquid contact chamber for bringing the object air to be ventilated into the room into gas-liquid contact with clean water in the room,
An air purifying and humidifying device for purifying the air to be treated by removing an aqueous gas component in the air to be treated by the gas-liquid contact with the clean water in the gas-liquid contact chamber,
And fresh fresh water supplied from the clean water supply means is temporarily and uniformly supplied to the gas-liquid contact chamber as clean water to be supplied to the gas-liquid contact chamber,
Liquid contact chamber is discharged from the gas-liquid contact chamber. When the amount of the purified water to be supplied to the gas-liquid contact chamber is constant, the amount of water required for humidification And a drainage flowmeter for detecting a drainage amount of the used purified water discharged from the gas-liquid contact chamber in a drainage passage in which the drainage amount is changed,
And a water feed flow rate adjusting valve for adjusting the water feed amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber,
And a control means for adjusting the water supply flow rate adjusting valve based on the detected water discharge amount of the drainage flow meter to adjust the water discharge amount to a set water discharge amount,
Wherein the set drainage amount is set to a quantity equal to the required quantity for the purification required for obtaining a predetermined gas component removal efficiency in purifying the air to be treated.
That is, the operation of continuously supplying fresh fresh water to the gas-liquid contact chamber continuously and the water-cleaning type air humidification device of a water supply type can generally obtain a higher gas component removal efficiency than that of the circulating water supply type.
According to the first characteristic configuration described above, basically, the same operational effects as those of the first reference configuration can be obtained, and the required gas component removal efficiency can be stably maintained even with respect to the state change of the air to be treated have.

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이러한 것이 서로 작용하여, 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치를 적용 대상으로 하는 상기 제1 특징적 구성에 의하면, 처리된 공기의 필요한 정화도로서 높은 정화도가 요구되는 경우에 특히 바람직한 공기 정화 가습 장치로 할 수 있다.
공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제2 특징적 구성은,
상기 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량을 검출하는 풍량 검출 수단을 구비하고,
상기 제어 수단은, 상기 풍량 검출 수단의 검출 통풍량에 기초하여, 그 검출 통풍량의 변화에 비례시켜 상기 설정 배수량을 변경하는 구성으로 하고 있는 점에 있다.
이 제2 특징적 구성은 실질적으로 제2 참고 구성과 같으며, 상기한 제2 참고 구성의 작용 효과와 마찬가지의 작용 효과를 얻을 수 있다.
공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제3 특징적 구성은,
상기 청정수 공급 수단은, 상기 기액 접촉실에 공급하는 신선한 청정수를 원수(原水)의 정화에 의해 생성하는 것으로 하고,
상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 일부를 상기 원수의 일부로 하여 상기 청정수 공급 수단으로 되돌리는 구성으로 하고 있는 점에 있다.
공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제5 특징적 구성은,
상기 기액 접촉실에는, 공기의 가로 방향 통풍 경로에 대하여 횡단 상태로 배치된 흘러내림 매체, 및 상기 흘러내림 매체에 대하여 위쪽으로부터 청정수를 적하(滴下)하는 급수 헤더를 장비하고,
상기 흘러내림 매체는, 다수의 경사 파부(波部)를 형성한 세로 자세로 공기의 가로 방향 통풍 방향을 따른 자세의 파판형(波板形) 부재를 평면에서 볼 때 공기의 가로 방향 통풍 방향에 대하여 직교하는 방향으로 조밀하게 병설하여 구성하고, 인접하는 파판형 부재마다 상기 경사 파부의 경사 방향을 반전시키고 있는 점에 있다.
즉, 이 제5 특징적 구성에 의하면, 통풍 공기와 청정수를 효율적으로 기액 접촉시킬 수 있어, 공기 정화 성능 및 공기 가습 성능의 각각에 대하여 높은 성능을 얻을 수 있다.
공기 정화 가습 장치에 관한 본 발명의 제6 특징적 구성은,
According to the first characterizing feature of the present invention, the air purifying and humidifying device of the daily water supply type is applied to the air purifying and humidifying device so that the required purifying degree of the treated air can do.
A second characterizing feature of the present invention relating to the air purifying humidifier includes:
And air volume detecting means for detecting a ventilation amount of air to be treated with respect to the gas-liquid contact chamber,
The control means changes the set displacement amount in proportion to the change in the detected ventilation amount based on the detected ventilation amount of the air volume detection means.
This second characteristic configuration is substantially the same as the second reference configuration, and the same operational effects as those of the second reference configuration can be obtained.
A third characterizing feature of the present invention relating to the air cleaning /
The fresh water supply means is configured to generate fresh clean water to be supplied to the gas-liquid contact chamber by purifying raw water,
And a part of the used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber is returned to the clean water supplying means as a part of the raw water.
A fifth characterizing feature of the present invention relating to the air purifying humidifier includes:
Wherein the gas-liquid contact chamber is provided with a flow-down medium arranged transversely with respect to a transverse ventilation path of air, and a water supply header for dropping clean water from above on the flow-down medium,
The flow-down medium includes a corrugated sheet-like member having an attitude along the transverse direction of the air in a longitudinal posture in which a plurality of inclined wave parts are formed, And the inclined direction of the inclined wave portion is reversed for each adjacent wave plate-like member.
That is, according to the fifth characterizing feature, the ventilation air and the clean water can be efficiently brought into gas-liquid contact, and high performance can be obtained for each of the air cleaning performance and the air humidifying performance.
A sixth characterizing feature of the present invention relating to the air cleaning /

2개의 상기 흘러내림 매체를 공기의 가로 방향 통풍 방향에 근접 상태로 배열하여 배치하고, 상기 급수 헤더를 2개의 상기 흘러내림 매체끼리의 사이의 미소(微小) 간극의 위쪽에 배치되어 있는 점에 있다.The two water dropping media are arranged in the state of being arranged close to the lateral direction airflow direction of the air, and the water supply header is disposed above the minute gap between the two run-down media .

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도 1은 청정실에 대한 공조 설비를 나타낸 도면이다.
도 2는 외조기(外調機)의 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 기액 접촉부를 나타낸 사시도이다.
도 4는 기액 접촉부에서의 물질 수지의 설명도이다.
1 is a view showing an air conditioning system for a clean room.
2 is a diagram showing a configuration of an external apparatus (an external apparatus).
3 is a perspective view showing a gas-liquid contact portion.
4 is an explanatory view of the material balance in the gas-liquid contact portion.

도 1은 청정실의 공조 설비를 나타낸다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 청정실인 대상실(對象室)(1)의 천정부에는, 그 전체면에 걸쳐 팬 필터 유닛(2)을 행렬 배치로 병설하고 있다. 1 shows an air conditioning system of a clean room. As shown in Fig. 1, a fan filter unit 2 is arranged in a matrix arrangement on the entire surface of a ceiling portion of a target room 1 as a clean room.

급기로(給氣路)(3)를 통해 급기팬 Fs에 의해 천정 챔버(4)에 공급되는 공조용 공기 SA를 각 팬 필터 유닛(2)에 장비된 고성능 필터(2a)에 의해 정화하고, 이 정화 후의 공조용 공기 SA를 각 팬 필터 유닛(2)에 장비의 팬(2b)에 의해 실내에 하방향으로 분출하여 공급한다. 이로써, 대상실(1)의 실내를 필요한 온습도 상태로 필요한 청정도로 조정 유지한다.The air conditioning air SA supplied to the ceiling chamber 4 by the air supply fan Fs through the air supply path 3 is purified by the high performance filter 2a equipped in each fan filter unit 2, The purified air for air conditioning SA is fed to the respective fan filter units 2 in a downward direction by a fan 2b of the equipment and supplied. Thereby, the room of the target room 1 is adjusted and maintained in a required degree of heat and humidity to a necessary degree of cleanliness.

대상실(1)의 바닥 하부는, 팬 필터 유닛(2)에 의한 정화 공조용 공기 SA의 실내 공급에 따라 격자(格子) 바닥(5)을 통해 실내로부터 배출되는 공기 RA를 받아들이는 바닥 하부 챔버(6)로 하고 있다.The lower part of the bottom of the target chamber 1 is connected to the bottom of the chamber 1 for receiving the air RA discharged from the room through the lattice floor 5 in accordance with the indoor supply of the air for purification and air conditioning SA by the fan filter unit 2 (6).

공조용 공기 SA의 생성에는 외조기(7)(외기 조정용 공조기) 및 공조기(8)를 장비하고 있다. 즉, 외기 팬 Fo에 의해 외기 도입로(9)를 통해 안내되는 외기 OA를 외조기(7)에 의해 조정하고, 이 외조기(7)에서의 조정 외기 OAs를 중계로(10)를 통해 공조기(8)에 안내한다. An air conditioner 7 (air conditioner for outdoor air conditioning) and an air conditioner 8 are provided to generate the air conditioning air SA. That is, the outside air OA guided through the outside air introduction path 9 by the outside air fan Fo is adjusted by the outside air generator 7, and the conditioned outside air OAs in the outside air generator 7 is supplied to the air conditioner (8).

또한, 바닥 하부 챔버(6)에 받아들여진 배출 공기 RA의 일부를 환기 공기 RAs로서 환기팬 Fr에 의해 환기로(11)를 통해 공조기(8)로 안내한다. Further, a part of the exhaust air RA received in the lower floor chamber 6 is guided to the air conditioner 8 through the ventilation path 11 by the ventilation fan Fr as the ventilation air RAs.

그리고, 이들 조정 외기 OAs와 환기 공기 RAs와의 혼합 공기를 공조기(8)에 있어서 온습도 조정하고, 이 공조기(8)에서의 조정 공기를 상기 공조용 공기 SA로서 급기로(3)를 통해 대상실(1)의 천정 챔버(4)에 공급한다.The mixed air of the conditioned outside air OAS and the ventilation air RAs is adjusted in the air conditioner 8 to adjust the temperature and humidity and the conditioned air in the air conditioner 8 is supplied to the target room 1 to the ceiling chamber 4 of the apparatus.

그리고, 바닥 하부 챔버(6)에 받아들여진 배출 공기 RA의 잔부[외기 도입로(9)로부터의 외기 OA의 입수량과 같은 양의 배출 공기 RA]는 배기로(12)를 통해 배기팬 Fe에 의해 외부로 배출한다.The remaining amount of the exhaust air RA received in the bottom chamber 6 (the amount of exhaust air RA equal to the amount of outside air OA from the outside air introduction path 9) is supplied to the exhaust fan Fe through the exhaust path 12 To the outside.

외조기(7)에는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 처리 대상 공기인 외기 OA의 통풍 방향에 있어서 상류측으로부터 순차로, 필터(13), 예열기(14), 예냉기(15), 기액 접촉기(16), 냉각기(17), 재열기(再熱器)(18)를 내장하고 있다.2, a filter 13, a pre-heater 14, an air cooler 15, a gas-liquid contactor (not shown), and a gas-liquid contactor (not shown) are arranged in this order from the upstream side in the ventilation direction of the outside air OA 16, a cooler 17, and a reheater 18.

즉, 이 외조기(7)에서는 외기 OA의 조정 처리로서, 외기 도입로(9)를 통해 안내되는 외기 OA를 필터(13)에 의해 제진(除塵)하고, 이 제진한 외기 OA를 동계(冬季)에는 예열기(14)로 예열하고, 또한 하계(夏季)에는 예냉기(15)로 예냉하고, 이들 예열 또는 예냉한 외기 OA를 공기 정화 가습 장치로서의 기액 접촉기(16)에 있어서 청정수 W와 기액 접촉시킴으로써 정화하고, 또한 그 정화에 따라 포화 상태 근처까지 가습한다.That is, in the outer furnace 7, as the adjustment process of the outside air OA, the outside air OA guided through the outside air introducing path 9 is removed by the filter 13, and the thus- And the preheated or precooled outside air OA is sent to the gas-liquid contactor 16 as an air-cleaning and humidifying device through the gas-liquid contactor 16 with the clean water W And also humidifies to near saturation according to the purification.

그리고, 기액 접촉기(16)에 있어서 정화 및 가습한 외기 OA를 냉각기(17)에 의해 소정 온도까지 냉각함으로써, 그 외기 OA를 소정 절대 습도까지 냉각 제습하고, 이어서, 이 냉각 제습한 외기 OA를 재열기(18)에 의해 소정 온도까지 재가열하고, 이와 같이 온습도 조정할 수 있는 동시에 정화한 외기 OA를 조정 외기 OAs로서 중계로(10)를 통해 공조기(8)에 공급한다.Then, the outside air OA cleaned and humidified by the gas-liquid contactor 16 is cooled to a predetermined temperature by the cooler 17 to cool and dehumidify the outside air OA to a predetermined absolute humidity, The air is reheated to a predetermined temperature by the heat exchanger 18, and the purified outdoor air OA is supplied to the air conditioner 8 through the relay furnace 10 as the conditioned outdoor air OAs.

기액 접촉기(16)에는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 외조기(7)에서의 외기 OA의 통풍 경로에 대하여 횡단 상태로 배치하는 흘러내림 매체(19), 이 흘러내림 매체(19)에 대하여 위쪽으로부터 청정수 W를 적하하는 복수의 적하구(20a)를 설치한 급수 헤더(20), 및 흘러내림 매체(19)의 하방으로 흘러내리는 청정수 W´를 캐치하는 드레인 팬(21)을 장비하고 있다.
흘러내림 매체(19)는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 다수의 경사 파부(22a)를 형성한 세로 자세로 외기 OA의 가로 방향 통풍 방향을 따른 자세의 파판형 부재(22)를 평면에서 볼 때 외기 OA의 가로 방향 통풍 방향에 대하여 직교하는 방향으로 조밀하게 병설한 것이며, 이 흘러내림 매체(19)에서는, 인접하는 파판형 부재(22)마다 경사 파부(22a)의 경사 방향(능선 방향)을 반전시키고 있다.
As shown in Fig. 3, the gas-liquid contactor 16 is provided with a flow-down medium 19 arranged transversely to the ventilation path of the outside air OA in the outer vessel 7, A water supply header 20 provided with a plurality of drop ports 20a for dropping the clean water W and a drain fan 21 for catching the clean water W 'flowing down the down streaming medium 19.
As shown in Fig. 3, the flow-down medium 19 has a plurality of oblique wave portions 22a formed in a vertical posture and viewed from a plane in a wavy plate-shaped member 22 having an attitude along the lateral direction airflow direction of the outside air OA (In the ridge direction) of the oblique wave portion 22a for each of the adjacent wavy plate-like members 22 is set to be smaller than that of the oblique wave portion 22a Inversion.

또한, 2개의 흘러내림 매체(19)를 외기 OA의 가로 방향 통풍 방향으로 근접 상태로 배열하여 배치하고, 급수 헤더(20)는 2개의 흘러내림 매체(19)끼리의 사이의 미소 간극의 위쪽에 배치되어 있다.In addition, the two water dropping media 19 are arranged in the state of being close to each other in the lateral direction ventilation direction of the outside air OA, and the water supply header 20 is disposed above the small gap between the two flowing mediums 19 Respectively.

즉, 이 기액 접촉기(16)에서는, 급수 헤더(20)의 적하구(20a)로부터 흘러내림 매체(19)에 청정수 W를 적하함으로써, 그 적하 청정수 W를 흘러내림 매체(19)에서의 다수의 파판형 부재(22) 각각의 표면에 전해지게 하여 수막 상태로 흘러내리게 한다. That is, in the gas-liquid contactor 16, the clean water W is dropped from the drop inlet 20a of the water supply header 20 into the down streaming medium 19, To be transferred to the surface of each of the wobble plate-shaped members 22 and to flow down in the water film state.

이로써, 흘러내림 매체(19)의 배치 공간인 기내를 기액 접촉실로 하여, 파판형 부재(22)끼리의 사이의 간극(間隙)을 통과하는 처리 대상 공기로서의 외기 OA를 흘러내리는 과정에 있는 수막 상태의 청정수 W와 기액 접촉시키고, 이 기액 접촉에 의해, 외기 OA에 포함되는 수용성의 가스 성분을 제거하여 외기 OA를 정화하고, 또한 그 외기 OA를 포화 상태 근처까지 가습한다. As a result, the inside of the apparatus, which is the arrangement space of the flow-down medium 19, is used as the gas-liquid contact chamber, and the water film state (in the process of flowing the outside air OA as the processing air passing through the gap between the crush plate members 22) Liquid contact with the clean water W. By this gas-liquid contact, the water-soluble gas component contained in the outside air OA is removed to purify the outside air OA, and the outside air OA is also humidified to near the saturated state.

흘러내림 헤더(20)로부터 흘러내림 매체(19)에 적하 공급하는 청정수 W로서는, 청정수 공급 수단으로서의 순수 발생 장치(23)로부터 급수로(24)를 통해 급수 펌프 Pw에 의해 공급되는 신선한 청정수로서의 순수 W를 기액 접촉기(16)에 대하여 일과적으로 공급한다. The purified water W to be dropped and supplied to the down streaming medium 19 from the downflow header 20 is purified water supplied from the pure water generator 23 as clean water supply means through the water feed path 24 via the feed water pump Pw as pure fresh water W is supplied to the gas-liquid contactor 16 on a routine basis.

드레인 팬(21)에 의해 캐치한 흘러내림 매체(19)로부터의 흘러내리는 청정수 W´(즉, 가스 성분을 흡수한 사용이 끝난 청정수)는 배수로(25)를 통해 외부로 배출한다. 즉, 이 기액 접촉기(16)는 일과 급수식의 것으로 되어 있다.The clean water W '(that is, the used purified water that has absorbed the gas component) flowing down from the flowing medium 19 caught by the drain pan 21 is discharged to the outside through the drainage path 25. That is, the gas-liquid contactor 16 is of a water-supply type.

순수 발생 장치(23)로부터의 급수로(24)에는, 기액 접촉기(16)에 대한 신선한 청정수 W(순수)의 급수량 Li를 조정하는 급수 유량 조정 밸브(26)를 장비하고, 또한 기액 접촉기(16)로부터의 배수로(25)에는, 기액 접촉기(16)로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수 W´(사용이 끝난 순수)의 배수량 Lo를 검출하는 배수량 검출 수단으로서의 배수 유량계(27)를 장비하고 있다.The water supply passage 24 from the pure water generator 23 is provided with a water supply flow rate adjusting valve 26 for adjusting the water supply amount Li of fresh fresh water W (pure water) to the gas-liquid contactor 16, Is equipped with a drainage flow meter 27 serving as drainage amount detection means for detecting the drainage amount Lo of the used purified water W '(spent pure water) discharged from the gas-liquid contactor 16.

또한, 대상실(1)의 사용 상황에 따라 외조기(7)로부터 공조기(8)에 공급하는 조정 외기 OAs의 풍량이 변경되는 등의 이유로, 외조기(7)에서의 외기 OA의 통풍량 Gi[환언하면, 기액 접촉기(16)에서의 외기 OA의 통풍량]는 변화한다. 이에 대하여, 외조기(7)에는, 외기 OA의 통풍량 Gi를 검출하는 풍량 검출 수단으로서의 풍량계(28)를 장비하고 있다.The amount of ventilation Gi of the outside air OA in the outside air pre-heater 7 is changed by the reason that the air volume of the adjusting outside air OAs supplied from the outside air oven 7 to the air conditioner 8 is changed in accordance with the use situation of the target room 1, (In other words, the amount of ventilation of the outside air OA in the gas-liquid contactor 16) changes. On the other hand, the air conditioner 28 as air volume detecting means for detecting the ventilation amount Gi of the outside air OA is equipped in the outer furnace 7.

그리고, 이 외조기(7)에는, 이들 배수 유량계(27)에 의한 검출 배수량 Lo 및 풍량계(28)에 의한 검출 통풍량 Gi에 기초하여, 기액 접촉기(16)에 대한 신선한 청정수 W(순수)의 급수량 Li를 자동 조정하는 제어 수단으로서의 급수 제어기(29)를 장비하고 있다.Fresh fresh water W (pure water) is supplied to the gas-liquid contactor 16 based on the detected drain amount Lo by the drainage flow meter 27 and the detected ventilation amount Gi by the air flow meter 28, A water supply controller 29 is provided as a control means for automatically adjusting the water supply amount Li of the water supply system.

도 4는 기액 접촉기(16)에서의 물질 수지를 나타내고 있다. 도 4 중에서의 각 부호는 다음의 여러 값을 나타낸 것이다. Fig. 4 shows the mass balance in the gas-liquid contactor 16. Fig. Each symbol in FIG. 4 represents the following various values.

Li: 청정수 W의 급수량 Li: Water quantity of purified water W

Lo: 사용이 끝난 청정수 W´의 배수량 Lo: Discharge of used clean water W '

Lh: 처리 전의 외기 OA에 대한 처리 후의 외기 OAs의 가습량 Lh: Amount of humidification of outside air OAs after treatment for outside air OA before treatment

Gi: 외기 OA의 통풍량 Gi: Ventilation of outside air OA

Cwi: 공급 청정수 W의 수용성 가스 성분 농도(≒0)Cwi: water-soluble gas component concentration of the supply clean water W (? 0)

Cwo: 사용이 끝난 청정수 W´의 수용성 가스 성분 농도 Cwo: Water-soluble gas component concentration of the used clean water W '

Cai: 처리 전의 외기 OA의 수용성 가스 성분 농도 Cai: concentration of water-soluble gas component of outside air OA before treatment

Cao: 처리 후의 외기 OAs의 수용성 가스 성분 농도Cao: concentration of water-soluble gas component in the outside air OAs after treatment

여기서, 기액 접촉기(16)에서의 물질 수지(收支)를 고려한 경우, 기액 접촉기(16)에 들어가는 물측 및 공기측의 물질량과 기액 접촉실(16)로부터 나오는 물측 및 공기측의 물질량은 같으므로 다음의 (식 1)이 성립한다. Here, in consideration of the material balance in the gas-liquid contactor 16, the amount of material on the water side and on the air side entering the gas-liquid contactor 16 is the same as the amount of material on the water side and air side from the gas-liquid contact chamber 16 The following equation (1) is established.

Li×Cwi+Gi×Cai = Lo×Cwo+Gi×Cao+Lh×Cwi … (식 1)Li x Cwi + Gi x Cai = Lo x Cwo + Gi x Cao + Lh x Cwi ... (Equation 1)

또한, 급수량 Li로부터 가습량 Lh를 줄인 수량이 배수량 Lo로 되므로 다음의 (식 2)가 성립한다. In addition, since the amount of water supplied by reducing the amount of humidification Lh from the water supply amount Li becomes the displacement amount Lo, the following equation (2) is established.

Li = Lh+Lo … (식 2)Li = Lh + Lo ... (Equation 2)

그리고, (식 2)를 (식 1)에 대입하여 (식 1)을 정리하면 다음의 (식 3)을 얻을 수 있다. Then, by substituting (Equation 2) into (Equation 1) and summarizing (Equation 1), the following Equation 3 can be obtained.

Lo×(Cwi―Cwo) = Gi×(Cao―Cai) … (식 3)Lo × (Cwi-Cwo) = Gi × (Cao-Cai) ... (Equation 3)

이에 대하여, 기액 접촉기(16)의 외기 OA에 대한 정화 성능을 나타내는 가스 성분 제거 효율 η는 다음의 (식 4)로 나타낸다. On the other hand, the gas component removal efficiency? Indicating the purifying performance for the outside air OA of the gas-liquid contactor 16 is expressed by the following equation (4).

η= (Cai―Cao)/Cai … (식 4)? = (Cai-Cao) / Cai ... (Equation 4)

이 (식 4)에 상기한 (식 3)을 대입하면, 가스 성분 제거 효율 η는 다음의 (식 5)로 표시된다. Substituting (Equation 3) into (Equation 4), the gas component removal efficiency? Is expressed by the following (Equation 5).

η= (Lo/Gi)×((Cwi―Cwo)/Cai) … (식 5)? = (Lo / Gi) x ((Cwi-Cwo) / Cai) (Equation 5)

이 (식 5)에서의 사용이 끝난 청정수 W´의 수용성 가스 성분 농도 Cwo는, 수용성 가스 성분과 물과의 평형 관계, 및 외기 통풍량 Gi에 대한 사용이 끝난 청정수 W´의 배수량 L의 비(Lo/Gi)에 의해 결정된다. 이 비 Lo/Gi가 커지면(즉, 외기 통풍량 Gi가 일정한 경우에는 배수량 Lo가 커지면), 사용이 끝난 청정수 W´의 수용성 가스 성분 농도 Cwo가 작아져, 가스 성분 제거 효율 η는 상승하는 방향으로 선형(線形) 관계로 추이(推移)한다.The water-soluble gas component concentration Cwo of the used clean water W 'in the formula (5) is calculated by the following equation: Cwo is the balance between the water-soluble gas component and water and the ratio of the displacement amount L of the used clean water W' Lo / Gi). When the ratio Lo / Gi becomes larger (that is, when the amount of outside air ventilation Gi is constant, the amount of drain Lo becomes larger), the water-soluble gas component concentration Cwo of the used clean water W 'becomes smaller and the gas component removal efficiency? (Linear) relationship.

따라서, 〈식 5〉에 있어서 가스 성분 제거 효율 η를 지배하는 요인은, 공기와 물의 입구 조건으로서 고정되는 처리 전의 외기 OA의 수용성 가스 성분 농도 Cai와 공급 청정수 W의 수용성 가스 성분 농도 Cwi(≒0)를 제외하면, Lo/Gi이다.Therefore, the factor that governs the gas component removal efficiency? In Equation (5) is that the water-soluble gas component concentration Cai of the outside air OA before the treatment fixed as the inlet condition of air and water and the water- ), It is Lo / Gi.

즉, 정화 성능을 나타내는 가스 성분 제거 효율 η는, 기액 접촉기(16)에 공급하는 청정수 W의 수질이 같으면(즉, Cwi= 일정하면), 기액 접촉기(16)에 대한 급수량 Li 중에서 외기 OA의 정화에 기여하는 수량(= 배수량 Lo와 같은 수량)과 외기 OA의 풍량(= 통풍량 Gi)과의 비인 L/G값에 따라 정해진다.That is, the gas component removal efficiency? Indicating the purifying performance is determined by the purifying of the outside air OA among the water supply amount Li to the gas-liquid contactor 16 when the water quality of the clean water W supplied to the gas-liquid contactor 16 is the same (i.e., Cwi = Which is the ratio of the quantity of the air OA to the quantity of the outside air OA (= quantity equal to the displacement amount Lo) and the air flow rate of the outside air OA (= the air flow rate Gi).

한편, 이 종류의 기액 접촉기(16)에서는, 소정 통풍량 Gi의 외기 OA에 대하여 필요한 가스 성분 제거 효율 η를 얻는 데 필요한 정화용 필요수량 Lj를 기본수량으로 하고, 그 정화용 필요수량 Lj에 대하여 처리 대상의 외기 OA를 일정 가습 상태까지 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량 Lh를 부가한 수량(Lj+Lh)을 급수량 Li로 할 필요가 있다. On the other hand, in this kind of gas-liquid contactor 16, the necessary quantity Lj for purification necessary for obtaining the required gas component removal efficiency? With respect to the outside air OA having the predetermined ventilation amount Gi is set as the basic quantity, (Lj + Lh) to which the required amount Lh for humidification necessary for humidifying the outside air OA of the outside air OA to the constant humidification state is required to be the water supply amount Li.

따라서, 급수량 Li가 충분한 경우, 이 종류의 기액 접촉기(16)에서는 외기 OA의 처리 전의 상태에 관계없이 외기 OA를 대략 일정한 포화 상태 근방 습도(예를 들면, 상대 습도 95%)까지 안정적으로 가습할 수 있다.Therefore, when the water supply amount Li is sufficient, in the gas-liquid contactor 16 of this type, the outside air OA is stably humidified to a substantially constant saturation state neighborhood humidity (for example, relative humidity of 95%) irrespective of the state before the treatment of the outside air OA .

이것은, 일정 급수량 Li 하에서는, 처리 전의 외기 OA 상태 변화 등에 따라 가습용 필요수량 Lh가 변화하면, 급수량 Li 중 외기 OA의 가습에 소비되는 수량이 변화 후에서의 실제의 가습용 필요수량 Lh와 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되고, 이로써, 급수량 Li 중 가습에 소비되지 않고 외기 OA의 정화에 기여하는 수량[즉, 정화에 기여한 후 기액 접촉기(16)로부터 배출되는 배수량 Lo] 쪽이 변화되어, 그 정화용의 수량(= Lo)이 상기한 정화용 필요수량 Lj에 대하여 부족하게 되는 상태(Lo<Lj)나 과잉으로 되는 상태(Lo>Lj)를 초래하는 것을 의미한다.This is because, when the required amount Lh for humidification changes in accordance with the change in the outside air OA state before the processing, etc., under the constant water supply amount Li, the quantity of water consumed for humidification of the outside air OA in the water supply amount Li is equal to the actual necessary humidification quantity Lh (That is, the amount of drain Lo discharged from the gas-liquid contactor 16 after contributing to the purification) which is not consumed in the humidification of the water supply amount Li but contributes to the purification of the outside air OA is changed, (Lo < Lj) or excess (Lo > Lj) in which the quantity (= Lo)

이러한 것에 대하여, 전술한 급수 제어기(29)는, 그에 따른 급수량 조정으로서 다음의 (가), (나)의 제어를 실행하는 구성으로 하고 있다.With respect to this, the above-mentioned water supply controller 29 is configured to execute the following (a) and (b) as the adjustment of the water supply amount accordingly.

(가) 배수용 유량계(27)에 의한 검출 배수량 Lo에 기초하여 급수 유량 조정 밸브(26)를 조정함으로써, 기액 접촉기(16)로부터의 배출되는 사용이 끝난 청정수 W´(사용이 끝난 순수)의 배수량 Lo를 설정 배수량 SLo로 조정한다.(A) The water supply flow rate regulating valve 26 is adjusted based on the detection drain amount Lo by the drainage flow meter 27, so that the use amount of the used clean water W '(spent pure water) discharged from the gas-liquid contactor 16 Adjust the drain amount Lo to the set drain amount SLo.

(나) 풍량계(28)에 의한 검출 통풍량 Gi에 따라 설정 배수량 SLo를 변경한다. 구체적으로는, 설정 배수량 SLo는 각각의 시점의 외기 통풍량 Gi에 대한 정화용 필요수량 Lj를 기준수량으로 하고, 그 기준수량에 대하여 필요에 따라 여유를 예상한 수량을 설정 배수량 SLo로 한다.(B) The set drain amount SLo is changed in accordance with the detected ventilation amount Gi by the air flow meter 28. [ More specifically, the set drainage amount SLo is set as the reference water quantity Lj for purification for the outside air ventilation volume Gi at each time point, and the water quantity SLo is set as the expected water amount for the reference water quantity, if necessary.

여기서, 각각의 시점(時点)의 외기 통풍량 Gi에 대한 정화용 필요수량 Lj는, 장치 고유의 상수(常數)(즉, 장치 형상에 의한 접촉 계수나 요구 제거 효율 η 등과 상이한 상수)인 L/G값을 α로 한 경우에 Lj=α×Gi로 나타낼 수 있고, 급수 제어기(29)는, 이와 같은 상관 데이터(30)에 기초하여 각각의 시점에서의 설정 배수량 SLo를 결정한다.Here, the necessary purifying quantity Lj for the outside air ventilation quantity Gi at each time point (time point) is calculated by L / G (a constant that is different from the device specific contact coefficient and the demand removal efficiency eta etc.) And the feed controller 29 determines the set displacement SLo at each point of time based on the correlation data 30 as shown in Fig.

즉, 외기 OA 상태 변화나 풍량 변화 등에 의해 가습용 필요수량 Lh나 정화용 필요수량 Lj가 변화하는 것에 관계없이, 또한 전술한 바와 같이, 급수량 Li 중 가습에 소비되는 수량이 각각의 시점에서의 가습용 필요수량 Lh와 같은 수량으로 우선적으로 자체 조정되는 것에 관계없이, 상기 (가), (나)의 급수량 제어에 의해, 급수량 Li 중 외기 OA의 정화에 기여하는 수량(즉, 배수량 Lo와 같은 수량)을 각각의 시점에서의 정화용 필요수량 Lj와 같은 수량으로 조정 유지한다. 이로써, 기액 접촉기(16)에 대한 신선한 청정수 W의 급수량 Li를 최대한 절감하면서, 외기 OA에 대한 필요한 정화 성능 및 필요한 가습 성능을 안정적으로 얻는다.That is, regardless of whether the required quantity Lh for humidification or the necessary quantity Lj for purification is changed due to the change in the outside air OA state or the change in the air volume, the quantity of water consumed in humidification in the water supply quantity Li, (That is, a quantity equal to the amount of water Lo), which is contributed to the purification of the outside air OA among the water supply amount Li by the water supply amount control of (a) and (b) Is adjusted and maintained in the same quantity as the required amount Lj for purification at each time point. As a result, the required cleaning performance for the outside air OA and necessary humidifying performance can be stably obtained while minimizing the water supply amount Li of fresh fresh water W to the gas-liquid contactor 16 as much as possible.

〔다른 실시형태〕 [Other Embodiments]

다음의 본 발명의 다른 실시형태를 열기한다. Other embodiments of the present invention will be described next.

전술한 실시형태에서는, 배수량 Lo가 설정 배수량 SLo로 되도록 급수량 Li를 조정하는 급수량 제어를 일과 급수식의 공기 정화 가습 장치에 적용한 예를 나타냈으나, 참고예로서, 동일한 급수량 제어를 순환 급수식의 공기 정화 가습 장치에 적용해도 된다.In the above-described embodiment, the water supply amount control for adjusting the water supply amount Li so that the drain amount Lo becomes the set drainage amount SLo is applied to the air purifying and humidifying device of the work water supply type. However, as a reference example, It may be applied to an air purifying and humidifying device.

또한, 본 발명에 의한 공기 정화 가습 장치는, 전술한 실시형태에서 나타낸 바와 같이, 외조기(7)에 내장하여 장비하는 사용 형태에 한정되지 않고, 통상의 공조기에 내장하여 장비하는 사용 형태나, 경우에 따라서는 냉각기나 가열기 등과의 조합이 없는 상태로 단독 사용하는 사용 형태 등, 각종 사용 형태를 채용할 수 있다.The air purifying and humidifying device according to the present invention is not limited to the use form incorporated in the outer furnace 7 as shown in the above embodiment, In some cases, various forms of use can be employed, such as a mode of use in which the device is not used in combination with a cooler, a heater, or the like.

처리 대상 공기 OA의 통풍량 Gi에 따라 설정 배수량 SLo를 변경하는 경우, 통풍량 검출 수단으로서는, 각종 풍량계에 한정되지 않고, 예를 들면, 통풍량 Gi의 변경 지령에 기초하여 통풍량 Gi를 인지하는 검출 방식의 것 등, 각종 검출 방식의 것을 채용할 수 있다.When the set drainage amount SLo is changed in accordance with the ventilation amount Gi of the air OA to be treated, the ventilation amount detection means is not limited to various air flow meters. For example, the ventilation amount Gi may be recognized based on a change command of the ventilation amount Gi , And a detection method in which a detection method is used.

처리 대상 공기 OA는 외기에 한정되지 않고, 청정실에 순환 공급하는 공기나 리사이클 사용을 목적으로 하는 각종 설비로부터의 배출 공기 등, 정화 처리와 가습 처리를 요하는 공기, 또한 가습을 따른 정화 처리를 요하는 공기이면, 어떠한 공기라도 된다.The air OA to be treated is not limited to the outside air, but it is necessary to perform the purification treatment by humidification such as the air circulating in the clean room or the air required for the humidification treatment such as the exhaust air from various facilities for the purpose of using the recycle Any air can be used.

본 발명에 의한 공기 정화 가습 장치는, 공기의 정화 처리와 가습 처리를 요하는 각종 분야, 또한 가습을 따른 공기의 정화 처리를 요하는 각종 분야에 있어서 사용할 수 있다.The air cleaning and humidifying device according to the present invention can be used in various fields requiring air purification and humidification, and in various fields requiring purification treatment of air with humidification.

OA: 처리 대상 공기
W: 청정수
16: 기액 접촉실
W´: 사용이 끝난 청정수
Lo: 배수량
27: 배수량 검출 수단
Li: 급수량
SLo: 설정 배수량
29: 제어 수단
Gi: 통풍량
28: 풍량 검출 수단
23: 청정수 공급 수단
19: 흘러내림 매체
20: 급수 헤더
22a: 경사 파부
22: 파판형 부재
OA: Air to be treated
W: Clean water
16: gas-liquid contact chamber
W': Used purified water
Lo: Displacement
27:
Li: water quantity
SLo: Set displacement
29: Control means
Gi: Ventilation rate
28: air volume detecting means
23: Clean water supply means
19: Flowing media
20: Water supply header
22a: inclined wave
22: wave plate member

Claims (6)

실내로 통풍시키는 처리 대상 공기를 실내에서 청정수(淸淨水)와 기액(氣液) 접촉시키는 기액 접촉실을 구비하고,
상기 기액 접촉실에서의 상기 청정수와의 기액 접촉에 의해, 처리 대상 공기 중에서의 수용성의 가스 성분을 제거하여 처리 대상 공기를 정화하고, 또한 처리 대상 공기를 가습(加濕)하는 공기 정화 가습 장치로서,
상기 기액 접촉실에 공급하는 청정수로서, 청정수 공급 수단으로부터 공급되는 신선한 청정수를 일과적(一過的)으로 상기 기액 접촉실에 공급하는 구성으로 하고,
상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수로로서, 상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량이 일정한 하에서는 처리 대상 공기를 일정 가습 상태까지 가습하는 데 필요한 가습용 필요수량(必要水量)의 변화에 따라 배수량이 변화하는 배수로에, 상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 배수량을 검출하는 배수 유량계를 구비하고, 또한
상기 기액 접촉실에 대한 청정수의 급수량을 조정하는 급수 유량 조정 밸브를 구비하고,
상기 배수 유량계의 검출 배수량에 기초하여 상기 급수 유량 조정 밸브를 조정하여 상기 배수량을 설정 배수량으로 조정하는 제어 수단을 구비하고,
상기 설정 배수량으로서, 처리 대상 공기의 정화에 있어서 소정의 가스 성분 제거 효율을 얻는 데 필요한 정화용 필요수량과 같은 수량을 설정하고 있는, 공기 정화 가습 장치.
And a gas-liquid contact chamber for bringing the object air to be ventilated into the room into contact with clean water in a room,
An air purifying and humidifying device for purifying the air to be treated by removing an aqueous gas component in the air to be treated by the gas-liquid contact with the clean water in the gas-liquid contact chamber and for humidifying the air to be treated ,
And fresh fresh water supplied from the clean water supply means is temporarily and uniformly supplied to the gas-liquid contact chamber as clean water to be supplied to the gas-liquid contact chamber,
Liquid contact chamber is discharged from the gas-liquid contact chamber. When the amount of the purified water to be supplied to the gas-liquid contact chamber is constant, the amount of water required for humidification And a drainage flowmeter for detecting a drainage amount of the used purified water discharged from the gas-liquid contact chamber in a drainage passage in which the drainage amount is changed,
And a water feed flow rate adjusting valve for adjusting the water feed amount of the clean water to the gas-liquid contact chamber,
And a control means for adjusting the water supply flow rate adjusting valve based on the detected water discharge amount of the drainage flow meter to adjust the water discharge amount to a set water discharge amount,
Wherein the set amount of drainage is set to a quantity equal to the required quantity for the purification required to obtain a predetermined gas component removal efficiency in purifying the air to be treated.
제1항에 있어서,
상기 기액 접촉실에 대한 처리 대상 공기의 통풍량을 검출하는 풍량 검출 수단을 구비하고,
상기 제어 수단은, 상기 풍량 검출 수단의 검출 통풍량에 기초하여, 그 검출 통풍량의 변화에 비례시켜 상기 설정 배수량을 변경하는 구성으로 하고 있는, 공기 정화 가습 장치.
The method according to claim 1,
And air volume detecting means for detecting a ventilation amount of air to be treated with respect to the gas-liquid contact chamber,
Wherein the control means changes the set displacement amount in proportion to a change in the detected ventilation amount based on the detected ventilation amount of the air volume detection means.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 청정수 공급 수단은, 상기 기액 접촉실에 공급하는 신선한 청정수를 원수(原水)의 정화에 의해 생성하는 것으로 하고,
상기 기액 접촉실로부터 배출되는 사용이 끝난 청정수의 일부를 상기 원수의 일부로 하여 상기 청정수 공급 수단으로 되돌리는 구성으로 하고 있는, 공기 정화 가습 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
The fresh water supply means is configured to generate fresh clean water to be supplied to the gas-liquid contact chamber by purifying raw water,
And a part of the used clean water discharged from the gas-liquid contact chamber is returned to the clean water supplying means as a part of the raw water.
삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 기액 접촉실에는, 공기의 가로 방향 통풍 경로에 대하여 횡단 상태로 배치된 흘러내림 매체, 및 상기 흘러내림 매체에 대하여 위쪽으로부터 청정수를 적하(滴下)하는 급수 헤더를 장비하고,
상기 흘러내림 매체는, 다수의 경사 파부(波部)를 형성한 세로 자세로 공기의 가로 방향 통풍 방향을 따른 자세의 파판형(波板形) 부재를 평면에서 볼 때 공기의 가로 방향 통풍 방향에 대하여 직교하는 방향으로 조밀하게 병설하여 구성하고, 인접하는 파판형 부재마다 상기 경사 파부의 경사 방향을 반전시키고 있는, 공기 정화 가습 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the gas-liquid contact chamber is provided with a flow-down medium arranged transversely with respect to a transverse ventilation path of air, and a water supply header for dropping clean water from above on the flow-down medium,
The flow-down medium includes a corrugated sheet-like member having an attitude along the transverse direction of the air in a longitudinal posture in which a plurality of inclined wave parts are formed, And the inclined direction of the inclined wave portion is inverted for each adjacent wave-like member.
제5항에 있어서,
2개의 상기 흘러내림 매체를 공기의 가로 방향 통풍 방향에 근접한 상태로 배열하여 배치하고, 상기 급수 헤더를 2개의 상기 흘러내림 매체끼리의 사이의 미소(微小) 간극의 위쪽에 배치되어 있는, 공기 정화 가습 장치.
6. The method of claim 5,
The two water dropping media are arranged in the state of being arranged close to the transverse airflow direction of the air, and the water supply header is arranged in a position above the micro gap between the two downflow media, Humidifying device.
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