KR20130120613A - 씨비디 박막 제조장치 - Google Patents

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KR20130120613A
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김종완
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Abstract

본 발명은 씨비디(CBD) 박막 증착 공정에 사용되는 씨비디 박막 제조장치에 관한 것으로서, 반응공간을 제공하는 메인챔버와, 기판상에 증착 공정을 수행하는 약액이 저장되는 약액반응조, 및 상기 약액반응조에 약액을 공급하는 약액공급조를 구비하고, 상기 약액반응조에서 흘러 넘치는 약액을 상기 약액공급조로 회수하는 드레인배관부 및 상기 드레인배관부를 냉각하는 배관냉각수단을 구비하여 오버플로우(over flow)된 고온의 씨비디(CBD) 약액을 적정 온도로 냉각시킬 수 있게 함으로써, 고온의 약액이 드레인배관부 내측에 증착되는 현상을 방지하여 드레인배관부의 메인트(maint, 유지 보수) 주기를 연장함과 동시에 약액의 안정적인 순환을 유도하여 공정 효율성 향상과 제조원가를 절감할 수 있는 씨비디 박막 제조장치에 관한 것이다.

Description

씨비디 박막 제조장치{Chemical Bath Deposition apparatus}
본 발명은 태양 전지 제조에 있어서 기판상에 CdS, ZnS 등의 버퍼층을 형성하기 위한 씨비디 박막 제조장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 오버플로우(over flow)된 고온의 씨비디(CBD) 약액을 드레인배관부에서 적정 온도로 냉각시킬 수 있게 함으로써, 고온의 약액이 드레인배관부 내측에 증착되는 현상을 방지할 수 있는 씨비디 박막 제조장치에 관한 것이다.
일반적으로 씨비디(CBD:Chemical Bath Deposition) 장치는 기판상에 박막을 증착시키는 기판 증착 장치의 하나로서, 액상 또는 기체 상태의 약액이 실리콘 웨이퍼나 유리(glass)와 같은 기판과 화학 반응을 하도록 하여 기판상에 원하는 박막을 증착시키는 데 사용되는 장비이다.
따라서 상기와 같은 씨비디 장치는 일반적으로 태양전지(Solar Cell)의 제조에 있어서 웨이퍼나 유리(glass) 또는 폴리머(polymer) 등의 기판상에 버퍼층 증착 공정을 수행하는 데 사용되고 있다.
태양전지는 기판에 다수의 박막층을 적층시켜 빛 에너지를 직접 전기 에너지로 변환하는 반도체 소자의 하나로서, 전력 생산을 위해 다수개의 모듈(module)과 태양전지 패널(panel)로 구성되는 태양전지 어레이(array)를 구성함으로써, 전기 에너지를 발전하게 되는 광전지의 하나이다.
일반적인 CIGS(구리, 인듐, 갈륨 및 셀레늄 화합물) 박막 태양전지의 버퍼층인 CdS(cadmium sulfide) 박막 제조는 CBD(chemical bath deposition) 방법에 의해 제조된다.
따라서 씨비디(CBD) 장치는 챔버 내에 약액[황화카드뮴(CdS) 용액 등]을 투입한 후, 기판이 상기 약액에 잠기도록 하여 기판상에 버퍼층이 증착되도록 하는 것이다.
이러한 CBD 방법은 제조 장치가 간단하고, 공정비용이 낮아 대량생산이 가능한 장점을 가지고 있기 때문에 많은 주목을 받고 있으나, 조성의 균일한 제어가 어렵고 합성 온도에 의한 물리적 특성 변화로 인해 표면 특성이 고르지 못한 단점이 있다.
이하 종래의 씨비디 장치를 도 1을 참조하여 간략히 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 씨비디 박막 제조장치는 반응용기(100)와 순환용기(200) 및 펌프(300)로 구성된다.
기판(W)은 증착면이 상향 위치함과 동시에 히터(106)에 의해 적정 온도로 가열되도록 반응용기(100) 내부에 위치하게 된다.
한편 약액(150)은 펌프(300)에 의해 순환용기(200)로부터 반응용기(100)로 공급된 후, 반응용기(100)에 채워진 상태에서 기판(W)과 화학 반응에 의해 기판(W) 표면에 박막층을 형성하게 되고, 약액(150)은 다시 순환용기(200)로 회수되는 것이다.
이때 약액(150)은 화학적 반응에 따라 온도, 농도 등이 지속적으로 변하기 때문에 연속적인 증착 공정의 수행을 위해 펌프(300)에 의해 강제 순환되도록 하는 것이다.
그러나 상기와 같은 종래의 씨비디 박막 제조장치는 다음과 같은 문제점들이 있었다.
첫째, 통상적으로 오버플로우(over flow) 방식의 씨비디 장치에 있어서, 증착이 완료된 후 반응용기에서 오버플로우된 용액이 약액순환로를 통해 이동하기 때문에 순환 과정에서 약액순환로에 고온의 약액이 흐르게 되고, 이때 약액의 온도가 일정 이상이 되면 약액과 접촉하는 고체 표면에 증착이 일어나게 됨으로써, 약액을 드레인(drain)하는 배관부나 약액순환로의 배관에도 증착이 일어나게 되어 배관이 막히는 등 잦은 고장의 원인이 될 뿐 아니라, 약액의 순환이 불안정하게 되는 문제점이 있었다.
둘째, 약액의 반응이 드레인 배관부 내에서도 발생하기 때문에 공정에 필요한 약액의 양이 증가하게 되어 제조 원가가 증대되는 문제점이 있었다.
셋째, 도 1에 도시된 바와 같이 종래의 씨비디 장치는 기판이 반응용기 하부에 위치하게 됨으로써, 약액 유입시 약액의 흐름에 의한 패턴이 기판 표면에 발생되거나 또는 불균일한 흐름 발생으로 인해 증착 효율이 현저히 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 약액을 약액공급조로 순환시킬 수 있는 드레인배관부를 구비함과 동시에 상기 드레인배관부에 배관냉각수단을 구비하여 오버플로우(over flow)된 고온의 씨비디(CBD) 약액을 적정 온도로 냉각시킬 수 있게 함으로써, 고온의 약액이 드레인배관부 내측에 증착되는 현상을 방지하고 약액의 안정적인 순환을 유도할 수 있는 씨비디 박막 제조장치를 제공하고자 하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 반응공간을 제공하는 메인챔버와, 상기 메인챔버 내부에 설치되며 기판상에 증착 공정을 수행하는 약액이 저장되는 약액반응조와, 상기 메인챔버 하측부에 설치되며 상기 약액반응조의 저면을 통해 약액을 상향 공급할 수 있도록 구비되는 약액공급조와, 상기 약액반응조에서 흘러 넘치는 약액을 상기 메인챔버 외부로 안내하여 상기 약액공급조로 회수하는 드레인배관부, 및 상기 드레인배관부를 냉각하는 배관냉각수단을 포함하여 구성된다.
여기서 상기 드레인배관부는 상기 메인챔버 하부에 하향 설치되는 일정 길이의 약액배출관, 및 일단이 상기 약액배출관의 선단부에 연결되고, 타단은 상기 액액공급조에 연결되는 약액회수관으로 구성된다.
또한 상기 약액반응조와 약액공급조는 펌프가 구비된 약액공급관으로 연결하되, 상기 약액공급관은 상기 약액배출관을 길이 방향으로 관통하여 상기 약액반응조 하단에 연결되도록 할 수 있다.
한편 상기 배관냉각수단은 상기 약액회수관의 외주면을 냉각시킬 수 있게 구비된다.
이때 상기 배관냉각수단은 상기 약액회수관의 외주면에 냉각수 순환유로를 형성하는 이중관 및 상기 냉각수 순환유로에 냉각수를 순환 공급하는 냉각수공급부로 구성될 수 있다.
또한 상기 배관냉각수단에는 상기 냉각수가 적정 온도로 유지될 수 있도록 냉각수 온도를 제어하는 온도제어부 및 상기 약액회수관에서 유출되는 약액의 온도를 측정할 수 있는 온도센서를 구비하여 상기 약액회수관에서 배출되는 약액과 상기 약액공급조에 저장된 약액의 온도를 동일하게 제어하도록 하는 것이 바람직하다.
또 상기 약액공급조에는 약액을 냉각하는 약액냉각수단이 더 구비된다.
여기서 상기 약액냉각수단은 상기 약액공급조 내부에 설치되는 냉각수 순환유로 및 상기 냉각수 순환유로에 냉각수를 순환시키는 냉각수공급부로 구성될 수 있다.
한편 상기 약액은 CdS 도는 ZnS 중 적어도 어느 하나의 물질로 이루어질 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 고온의 약액이 드레인배관부 내측에 증착되는 것을 방지할 수 있게 되는 것은 물론 약액의 안정적인 순환을 유도할 수 있게 되어 드레인배관부의 메인트(maint, 유지 보수) 주기를 연장할 수 있게 될 뿐 아니라, 공정 효율성 향상과 이에 따른 제조원가를 절감할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 씨비디 박막 제조장치의 개략적인 구성도,
도 2는 본 발명의 씨비디 박막 제조장치의 구성도,
도 3은 본 발명의 씨비디 박막 제조장치의 공정 흐름도이다.
이하 본 발명에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 씨비디 박막 제조장치의 구성도를 나타낸 것이고, 도 3은 본 발명의 씨비디 박막 제조장치의 공정 흐름도를 나타낸 것이다.
도시된 바와 같이 본 발명은 메인챔버(1), 약액반응조(10), 약액공급조(30), 드레인배관부(50), 및 배관냉각수단(60)으로 구성된다.
메인챔버(1)는 증착 공정을 수행하기 위한 일정 크기의 반응공간을 제공하는 것으로서, 약액방응조(10)가 내설될 수 있도록 충분한 밀폐 공간을 확보하도록 구비된다.
또한 메인챔버(1) 상부에는 기판홀더(5)가 구비되고, 기판(W) 하측부에는 일정량의 약액을 수용할 수 있는 약액반응조(10)가 설치된다.
기판홀더(5)는 기판(W)을 지지함과 동시에 가열시키는 역할을 하는 것으로서, 진공이젝터(Vacuum ejector)(6)와 히터(8) 및 온도제어부(Thermo controller)(7)가 설치된다.
진공이젝터(6)는 기판홀더(5) 상부에 연결됨으로써, 기판홀더(5) 하측면에 기판(W)을 수평 상태로 고정시키게 되고, 히터(8)는 고정된 기판(W)을 적정 온도로 가열하게 된다.
이때 온도제어부(7)는 기판(W)이 증착 공정에 필요한 설정 온도까지 가열될 수 있도록 히터(8)를 제어하게 된다.
여기서 기판홀더(5), 진공이젝터(6), 히터(8) 및 온도제어부(7)는 증착 공정에 사용되는 통상적인 다양한 구조의 장치들이 사용될 수 있을 것이다.
또한 기판홀더(5)는 상기와 같은 진공 흡착 방식 외에도 정전기의 전위차를 이용하여 전극면과 대상물의 상호간에 형성되는 전기적인 인력에 의해 대상물을 흡착시키는 정전척 등이 사용될 수도 있을 것이다.
한편 약액반응조(10)는 약액(500)에 의해 기판(W) 표면에 증착 공정이 수행되는 부분으로서, 일정량의 약액(500)이 저장됨과 아울러 외부로 오버플로우(over flow)될 수 있도록 내부가 비어 있고 상부가 개방된 일정 크기의 용기 형상으로 구비된다.
이때 약액반응조(10)는 약액(500)에 의한 기판(W) 상의 증착 공정이 이루어질 수 있도록 약액(500)의 최상부 액면이 기판(W)의 하측면에 접촉된 후 외부로 흘러 넘칠 수 있게 설치된다.
여기서 기판(W)은 표면이 약액반응조(10)에 수용되는 약액(500)과 접촉되어 약액(500)과의 화학 반응에 의해 표면에 박막이 증착되는 것이다.
이때 기판(W)과 접촉하는 약액(500)은 대략 60℃ 이상의 고온에서 반응하게 된다.
약액(500)은 기판(W)과의 화학 반응을 통해 기판(W) 표면에 박막층을 형성하는 것으로서, 다양한 성분으로 조성된 액상의 용액이 사용되며, 일반적으로 태양전지 제조에 있어서는 아연(Zn), 카드뮴(Cd), 인듐(In), 갈륨(Ga) 등의 이온과 촉매 역할을 하는 성분 등이 혼합된 액상의 혼합 용액이 사용되는 것으로, CdS(황화카드뮴)이나 ZnS(황화아연) 등의 물질이 사용될 수 있다.
여기서 기판(W)은 약액(500)의 흐름에 의한 영향으로 인해 불필요한 패턴(pattern) 자국이나 증착 불량이 발생되는 것이 최소화되도록 증착면이 하측을 향할 수 있게 약액반응조(10)의 상부에 역상으로 설치된다.
이때 기판(W)은 하면(증착면)이 약액반응조(10)에서 오버 플로우 되는 약액(500)의 최상면과 접촉되는 높이에 설치된다.
약액(500)은 약액공급조(30)로부터 약액반응조(10)로 유입되어 채워지게 되며, 약액반응조(10)에 지속적으로 유입됨으로써 화살표(10a)와 같이 흘러 넘치게 된다.
이때 약액(500)은 위치 에너지에 의한 자유낙하 상태로 흘러 내려 메인챔버(1) 하부로 이동하게 되는 것이다.
한편 약액공급조(30)는 약액(500)을 약액반응조(10)로 지속적으로 공급하는 역할을 하는 것으로서, 약액반응조(10)와 마찬가지로 일정량의 약액(500)이 저장될 수 있도록 내부가 비어 있고 상부가 개방된 일정 크기의 용기 형상으로 구비된다.
이때 약액공급조(30)는 메인챔버(1)보다 하측부에 설치되며, 약액공급관(35)을 통해 약액반응조(10)와 연결된다.
여기서 약액공급조(30)는 내부 cleaning시 HCI에 의한 손상(damage)을 고려하여 PP(Poly propylene) 소재로 제작되는 것이 바람직하다.
약액공급관(35)은 일단이 메인챔버(1) 하부를 관통하여 약액반응조(10) 저면에 연결되고, 타단은 약앵공급조(30)의 저면에 연결되며, 이때 펌프(36)는 약액(500)을 약액공급조(30)로부터 약액반응조(10)로 강제 이송시키게 된다.
또한 약액공급조(30)에는 약액(500)을 냉각하는 약액냉각수단(40)이 구비된다.
약액냉각수단(40)은 약액반응조(10)로 공급되는 약액(500)이 적정온도를 유지할 수 있도록 냉각하는 것으로서, 냉각수 순환유로(41) 및 냉각수공급부(45)로 구성된다.
냉각수 순환유로(41)는 도시된 바와 같이 냉각효율이 향상될 수 있도록 약액공급조(30) 내부에 쿨링 코일(cooling coil) 형태로 설치될 수 있으며, 냉각수공급부(45)와 연결되어 냉각수를 순환시키게 되는 것이다.
따라서 약액냉각수단(40)은 반응성이 높은 약액(500)의 조성 성분들이 서로 미리 반응하는 것을 방지할 수 있도록 약액(500)을 냉각시키게 된다.
여기서 약액공급조(30) 내의 약액(500)은 약액냉각수단(40)을 이용하여 대략 10℃ 이하로 유지되도록 하는 것이 바람직하다.
이때 약액공급조(30) 하단에는 배출구(38)가 설치된다.
한편 드레인배관부(50)는 약액반응조(10)에서 흘러 넘치는 약액(500)을 메인챔버(1) 외부로 안내하여 약액공급조(30)로 회수하는 역할을 하는 것으로서, 약액배출관(51)과 약액회수관(55)으로 구성된다.
약액배출관(51)은 메인챔버(1) 하부에 일정 길이로 하향 설치되는 것으로서, 약액반응조(10)에서 흘러 넘치는 약액(500)을 약액회수관(55)으로 유도하게 된다.
이때 도 2에 도시된 바와 같이, 약액공급관(35)이 약액배출관(51)을 길이 방향으로 관통하여 약액반응조(10) 하단에 연결됨으로써, 약액배출관(51)은 약액공급관(35)을 감싸는 이중관 형태로 구성된다.
여기서 약액회수관(55)은 약액(500)이 약액공급조(30)로 회수될 수 있도록 하는 것으로서, 일단은 약액배출관(51)의 선단부(하단) 외주면 측부에 결합되어 약액배출관(51)과 연통되도록 설치되고, 타단은 약액공급조(30)에 약액(500)이 투입될 수 있도록 약액공급조(30) 상부에 위치하여 약액(500)에 잠기도록 설치된다.
따라서 약액배출관(51) 상부로 유입된 약액(500)은 약액공급관(35)의 외주면을 따라 흘러내린 후 약액회수관(55)으로 유입되는 것이다.
약액반응조(10)에서 오버플로우된 약액(500)은 약액배출관(51)과 약액회수관(56)을 순차적으로 경우하여 약액공급조(30)로 회수됨으로써, 순환하게 되는 것이다.
한편 배관냉각수단(60)은 약액회수관(55)의 외주면을 냉각시킬 수 있도록 구비된다.
즉 약액회수관(55)으로 유입되는 고온의 약액(500)을 적정 온도로 냉각하여 약액(500)이 약액회수관(55) 내부에 증착되는 것을 방지하는 것이다.
배관냉각수단(60)은 약액회수관(55)의 외주면에 냉각수 순환유로(62)를 형성하는 이중관(61) 및 이중관(61)에 냉각수를 순환 공급하는 냉각수공급부(65)로 구성된다.
즉 이중관(61)은 약액회수관(55)의 외주면에 냉각수 순환유로(62)가 형성될 수 있도록 약액회수관(55)을 감싸도록 설치되며, 양단부에는 냉각수공급부(65)에 연결되는 냉각수유입구(66)와 냉각수배출구(67)가 각각 설치된다.
따라서 고온의 약액(500)은 약액회수관(55)을 통과하는 동안 적정 온도로 냉각된 후 약액공급조(30)로 투입되는 것이다.
한편 배관냉각수단(60)에는 냉각수가 적정 온도로 유지될 수 있도록 냉각수의 온도를 제어하는 온도제어부가 구비되는 것이 바람직하며, 또한 약액회수관(55)에는 배출되는 약액(500)의 온도를 측정할 수 있는 온도센서(70)가 설치되는 것이 바람직하다.
따라서 배관냉각수단(60)은 온도센서(70)로부터 전송되는 약액(500)의 온도를 체크하여 약액회수관(55)에서 배출되는 약액(500)의 온도가 약액공급조(30)에 저장된 약액(500)의 온도와 동일하게 유지될 수 있도록 제어할 수도 있을 것이다.
일반적으로 배관냉각수단(60)이 없는 경우에는 고온의 약액(500)이 약액공급조(30)로 바로 유입되므로, 약액공급조(30) 내의 약액(500)의 온도 균일도를 유지하기 위하여 별도의 교반기가 필요하게 된다.
따라서 본 발명은 배관냉각수단(60)이 고온의 약액(500)을 냉각하여 약액회수관(55)에서 배출되는 약액(500)의 온도가 약액공급조(30)에 저장된 약액(500)의 온도와 동일하도록 하거나, 또는 대략 5 ~ 20℃ 정도 높게 유지되도록 함으로써, 약액공급조(30) 내의 약액(500)의 온도 균일도를 유지하기 위한 별도의 교반기가 필요 없게 되는 것이다.
이하 도 3을 참조하여 본 발명의 공정 순서를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 씨비디 박막 제조장치의 공정 흐름도를 나타낸 것이다.
먼저 기판(W)이 메인챔버(1) 내에 로딩되어 진공이젝터(6)에 의해 기판홀더(5)에 고정되면 히터(80)는 기판(w)과 약액(500)의 증착 반응을 위해 기판(w)을 가열시키게 되고, 이때 온도제어부(7)는 기판(W)이 반응에 필요한 적정 온도를 유지할 수 있도록 제어하게 된다.
상기와 같이 기판(w)의 로딩과 가열이 완료되면 약액공급관(35)에 구비된 펌프(36)는 약액(500)을 강제 이송시켜 약액(500)이 약액공급조(30)로부터 약액반응조(10)로 주입되도록 하게 된다.
약액(500)은 펌프(36)에 의해 지속적으로 약액반응조(10)로 주입되어 넘치게 되고, 넘치는 약액(500)의 최상면이 기판(W)의 하면과 접촉하게 되는 것이다.
이때 약액(500)은 기판(W)에 의해 가열됨으로써 기판(W)과의 화학반응에 의해 증착 반응을 하게 되는 것이다.
여기서 약액(500)은 기판(W)의 하면과 접촉되어 증착 반응이 이루어지는 동안 액면이 약액반응조(10)의 상단보다 높아지면 오버 플로우되어 약액반응조(10)의 외부로 흘러 넘치게 되는 것이다.
따라서 기판(W)은 약액(500)의 최상면에 접촉되어 반응하게 됨으로써, 약액(500)이 약액반응조(10)로 유입되는 과정에서 발생될 수 있는 와류나 약액(500)의 흐름에 의해 증착면이 불균일해지는 것을 방지할 수 있게 되는 것이다.
약액반응조(10)에서 흘러넘친 약액(500)은 메인챔버(1)의 하부로 이동한 후 드레인배관부(50)의 약액배출관(51)으로 유입되는 것이다.
약액배출관(51)으로 유입된 약액(500)은 약액회수관(55)을 통과하여 약액공급조(30)로 다시 회수되는 것이다.
이때 배관냉각수단(60)은 약액회수관(55)의 외주면에 형성되는 냉각수 순환유로(62)에 냉각수를 공급하여 약액회수관(55)을 냉각시키게 되어 약액(500)의 온도를 감소시키게 됨으로써, 약액(500)이 약액회수관(55)의 내측면에 증착되는 것을 방지하게 되는 것이다.
이때 배관냉각수단(60)은 온도센서(70)에 의해 감지되는 약액(500)의 온도를 체크하고, 이 데이터를 이용하여 약액회수관(55)에서 배출되는 약액(500)의 온도가 약액공급조(30)에 저장된 약액(500)의 온도와 동일하도록 냉각시킨 후 약액(500)을 약액공급조(30)로 배출시키게 되는 것이다.
약액공급조(30)로 회수된 약액(500)은 약액냉각수단(40)에 의해 정온 제어된 후 다시 약액반응조(10)로 재공급되어 순환하게 되는 것이다.
따라서 본 발명은 배관냉각수단을 이용하여 드레인배관부를 냉각시킬 수 있게 됨으로써, 오버플로우(over flow)된 고온의 씨비디(CBD) 약액을 적정 온도로 냉각시킨 후 약액공급조로 재투입되도록 하여 고온의 약액이 드레인배관부 내측면에 증착되는 현상을 방지할 수 있게 되고, 또한 약액의 안정적인 순환을 도모할 수 있게 되는 것이다.
이상, 상기의 실시 예는 단지 설명의 편의를 위해 예시로서 설명한 것에 불과하므로 특허청구범위를 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 기술 범주 내에서 다양한 변형이 가능할 것이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 메인챔버 5,106 : 기판홀더
6 : 진공이젝터 7 : 온도제어부
8 : 히터 10 : 약액반응조
30 : 약액공급조 35 : 약액공급관
36,300 : 펌프 38 : 배출구
40 : 약액냉각수단 41,62 : 냉각수 순환유로
45,65 : 냉각수공급부 50 : 드레인배관부
51 : 약액배출관 55 : 약액회수관
60 : 배관냉각수단 61 : 이중관
66 : 냉각수투입구 67 : 냉각수배출구
70 : 온도센서 100 : 반응용기
200 : 순환용기 150,500 : 용액

Claims (9)

  1. 반응공간을 제공하는 메인챔버;
    상기 메인챔버 내부에 설치되며 기판상에 증착 공정을 수행하는 약액이 저장되는 약액반응조;
    상기 메인챔버 하측부에 설치되며 상기 약액반응조의 저면을 통해 약액을 상향 공급할 수 있도록 구비되는 약액공급조;
    상기 약액반응조에서 흘러 넘치는 약액을 상기 메인챔버 외부로 안내하여 상기 약액공급조로 회수하는 드레인배관부; 및
    상기 드레인배관부를 냉각하는 배관냉각수단;
    을 포함하여 구성되는 씨비디 박박 제조 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 드레인배관부는,
    상기 메인챔버 하부에 하향 설치되는 일정 길이의 약액배출관; 및
    일단이 상기 약액배출관의 선단부에 연결되고, 타단은 상기 액액공급조에 연결되는 약액회수관;
    으로 구성되는 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 약액반응조와 약액공급조는 펌프가 구비된 약액공급관으로 연결하되, 상기 약액공급관은 상기 약액배출관을 길이 방향으로 관통하여 상기 약액반응조 하단에 연결되도록 한 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 배관냉각수단은 상기 약액회수관의 외주면을 냉각시킬 수 있게 구비되는 것을 특징으로 씨비디 박막 제조장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 배관냉각수단은,
    상기 약액회수관의 외주면에 냉각수 순환유로를 형성하는 이중관 및 상기 냉각수 순환유로에 냉각수를 순환 공급하는 냉각수공급부로 구성되는 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.
  6. 상기 제5항에 있어서,
    상기 배관냉각수단에는 상기 냉각수가 적정 온도로 유지될 수 있도록 냉각수 온도를 제어하는 온도제어부 및 상기 약액회수관에서 유출되는 약액의 온도를 측정할 수 있는 온도센서를 구비하여 상기 약액회수관에서 배출되는 약액과 상기 약액공급조에 저장된 약액의 온도를 동일하게 제어하도록 하는 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 약액공급조에는 약액을 냉각하는 약액냉각수단이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 약액냉각수단은 상기 약액공급조 내부에 설치되는 냉각수 순환유로 및 상기 냉각수 순환유로에 냉각수를 순환시키는 냉각수공급부로 구성되는 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 약액은 CdS 또는 ZnS 중 적어도 어느 하나의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 씨비디 박막 제조장치.






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