JP2016215083A - 蒸気循環再生システム - Google Patents
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Abstract
Description
被加熱物の蒸気を液化することで液状物を生成する液化再生装置と、液化再生装置からの液状物を加熱して蒸気を生成する蒸気化装置と、液化再生装置と蒸気化装置とを連通して液化再生装置からの液状物を蒸気化装置に導く連通部と、蒸気を用いて被処理物の処理を行う処理装置と、処理装置で使用された蒸気を液化再生装置に戻す戻し管と、液化再生装置の温度を制御する液化再生温度制御部と、蒸気化装置の温度を制御する蒸気化温度制御部と、を少なくとも備え、被加熱物が、液化再生装置では蒸気及び液状物の形態で存在し、連通部では液状物の形態で存在し、蒸気化装置では液状物及び蒸気の形態で存在し、処理装置及び戻し管では蒸気の形態で存在することを特徴とする。
2 原料供給装置
3 液化再生装置
5 蒸気化装置
9 処理装置
11 戻し管
20 架台
21 液化で得られた液状物
22 液面
23 蒸気化用の液状物
24 液面
25 仕切り板
26 入口
27 液化空間
29 出口
31 液化容器
32 下部
33 上空間
34 加熱部
35 天板
36 熱電対
37 冷却フィン
38 断熱材
39 エア配管
40 連通部
41 導入管
43 キャリアガス排出部
45 原料投入ノズル
46 熱電対
51 蒸気化容器
52 下部
53 上空間
54 加熱部
55 天板
56 熱電対
57 ループ状配管
58 支持管
59 ノズルパイプ
60 熱電対
61 導出管
63 レベル検出部
被加熱物の蒸気を液化することで液状物を生成する液化再生装置であって、配管内を流れる流体との熱交換によって前記被加熱物の蒸気を液化する液化空間と、前記液状物の形態を保つための加熱部とを有する液化再生装置と、
前記液化再生装置からの前記液状物を加熱部で加熱して蒸気を生成する蒸気化装置と、
前記液化再生装置と前記蒸気化装置とを連通して前記液化再生装置からの前記液状物を前記蒸気化装置に導く連通部と、
前記蒸気を用いて被処理物の処理を行う処理装置と、
前記処理装置で使用された前記蒸気を前記液化再生装置に戻す戻し管と、
前記液化再生装置の温度を制御する液化再生温度制御部と、
前記蒸気化装置の温度を制御する蒸気化温度制御部と、を少なくとも備え、
前記被加熱物が、常温において固体の形態で存在し、前記液化再生装置では前記蒸気及び前記液状物の形態で存在し、前記連通部では前記液状物の形態で存在し、前記蒸気化装置では前記液状物及び前記蒸気の形態で存在し、前記処理装置及び前記戻し管では前記蒸気の形態で存在することを特徴とする。
Claims (8)
- 被加熱物の蒸気を液化することで液状物を生成する液化再生装置と、
前記液化再生装置からの前記液状物を加熱して蒸気を生成する蒸気化装置と、
前記液化再生装置と前記蒸気化装置とを連通して前記液化再生装置からの前記液状物を前記蒸気化装置に導く連通部と、
前記蒸気を用いて被処理物の処理を行う処理装置と、
前記処理装置で使用された前記蒸気を前記液化再生装置に戻す戻し管と、
前記液化再生装置の温度を制御する液化再生温度制御部と、
前記蒸気化装置の温度を制御する蒸気化温度制御部と、を少なくとも備え、
前記被加熱物が、前記液化再生装置では前記蒸気及び前記液状物の形態で存在し、前記連通部では前記液状物の形態で存在し、前記蒸気化装置では前記液状物及び前記蒸気の形態で存在し、前記処理装置及び前記戻し管では前記蒸気の形態で存在する、蒸気循環再生システム。 - 請求項1において、前記蒸気化装置には、前記蒸気を運ぶキャリアガスが導入される、蒸気循環再生システム。
- 請求項2において、前記キャリアガスが、前記蒸気化装置の上空間に配設された配管を流通することによって加熱される、蒸気循環再生システム。
- 請求項1乃至3のいずれか1つにおいて、前記蒸気化温度制御部によって、前記蒸気化装置が、前記液状物から前記蒸気を発生させるのを可能にする温度に制御されている、蒸気循環再生システム。
- 請求項1乃至4のいずれか1つにおいて、前記液化再生温度制御部によって、前記液化再生装置が、前記被加熱物の融点以上の温度であって、前記液状物から前記蒸気が発生しないような温度に制御されている、蒸気循環再生システム。
- 請求項1乃至5のいずれか1つにおいて、前記液化再生装置には、固形形状をした前記被加熱物を供給する原料供給装置が接続されるとともに、前記蒸気化装置には、前記蒸気化装置における前記液状物の液面レベルを検出するレベル検出部が配設されている、蒸気循環再生システム。
- 請求項1乃至6のいずれか1つにおいて、前記蒸気がセレン蒸気又は硫黄蒸気である、蒸気循環再生システム。
- 請求項1乃至7のいずれか1つにおいて、前記蒸気化装置で生成された前記蒸気が、化合物半導体の製膜に使用される、蒸気循環再生システム。
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