KR20130107236A - 터치 패널의 전도성 필름 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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유-옌 리
시안빈 수
케밍 루안
펭밍 린
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티피케이 터치 솔루션즈 (씨아먼) 인코포레이티드
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Abstract

본 발명의 개시내용은 터치 패널의 전도성 필름을 제공한다. 그 전도성 필름은 필름, 및 복수개의 소수성 유닛을 갖는다. 그 필름은 터치 패널을 감지하는데 사용되고, 소수성 유닛은 간격을 두고 필름 내에 배치된다. 터치 패널의 전도성 필름의 전도성 물질은 소수성 유닛의 영역 외부에 분포되고, 소수성 유닛이 우수한 투광도를 갖기 때문에, 본 발명의 개시내용의 터치 패널은 고 투광도의 특징을 갖는다.

Description

터치 패널의 전도성 필름 및 이의 제조 방법{CONDUCTIVE FILM OF A TOUCH PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명의 개시내용은 터치 패널에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명의 개시내용은 터치 패널의 전도성 필름 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
터치 패널 장치는 일상적인 삶에서 널리 사용되고 있다. 터치 패널은 전형적으로 디스플레이 패널과 통합되어 있으며, 여기서 사용자는 디스플레이 패널을 터치함으로써 상응하는 명령어를 수행하는 전자 장치를 제어할 수 있다. 현재, 터치 패널에 전형적으로 사용되는 전도성 필름은 산화인듐주석(간략하게 ITO로 표시됨) 필름이고, 이것은 유리 플레이트 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(간략하게 PET로 표시됨) 플레이트와 같은 투명 절연 기재 상에서 형성될 수 있다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c를 참조하면, 도 1a는 전형적인 터치 패널의 전도성 필름의 스테레오그램(stereogram)이고, 도 1b는 전형적인 터치 패널의 전도성 필름의 평면도이며, 도 1c는 섹션 라인 AA를 따른 전형적인 터치 패널의 전도성 필름의 단면도이다. 도 1a, 도 1b 및 도 1c에 도시되어 있는 바와 같이, 전도성 필름(11)은 패턴화가 설계된 전극 패턴을 기초로 하여 수행되기 전에 기재(12) 상에 오버레이 된다(overlaid). ITO 등의 물질로 구성되는 전도성 필름(11)의 물질이 광을 흡수하기 때문에, 전도성 필름(11)을 전체 오버레이함으로써 형성된 전형적인 터치 패널의 투광도는 불량하게 된다. 현재, 전도성 필름은 또한 전도성 중합체, 카본 나노튜브(간략하게 CNT라고 표시됨) 또는 Ag 나노와이어로 형성될 수 있다. 전도성 중합체, 탄소 나노튜브 또는 Ag 나노와이어 등의 물질은 보다 강력한 흡수율 및 보다 낮은 투과율을 갖는다. 그러므로, 상기 언급된 물질들로 이루어진 전도성 필름을 갖는 터치 패널의 투광도는 현저하게 감소된다.
현행 기술에서, ITO로 형성된 전도성 필름은 그의 투광도를 증가시키기 위해서 일반적인 패턴화 공정에 의해 중공 처리될(hollowed) 수 있다. 그러나, 전도성 중합체로 형성된 전도성 필름은 전도성 중합체의 특성 때문에 일반적인 패턴화 공정으로 적용하기가 어렵다. 게다가, 상기 방법은 터치 패널의 제조 비용이 증가할 정도로 추가적인 패턴화 공정을 부가한다. 따라서, 고 투광도를 갖는 터치 패널의 전도성 필름, 및 터치 패널의 전도성 필름의 단순 제조 방법을 제공하는 것은 해당 기술 분야의 당업자가 해결할 수 있는 기술적 난제가 되고 있다.
본 발명의 개시내용은 터치 패널의 전도성 필름을 제공하고, 여기서 터치 패널의 전도성 필름은 필름, 및 복수개의 소수성 유닛을 포함한다. 필름은 터치 신호를 감지하는데 사용되고, 소수성 유닛은 간격을 두고 필름 내에 배치된다. 소수성 유닛은 우수한 투광도를 가짐으로써, 터치 패널의 전도성 필름의 투광도를 증가시키게 된다.
본 발명 개시내용의 실시양태는 터치 패널의 전극 층을 제공하며, 여기서 전극 층은 복수개의 전극 및 복수개의 소수성 유닛을 포함한다. 전극은 패턴화된 전도성 필름으로 형성되고, 소수성 유닛은 간격을 두고 전극 내에 배치된다. 소수성 유닛은 우수한 투광도를 가짐으로써 터치 패널의 전극 층의 투광도를 효율적으로 증가시키게 된다.
본 발명의 개시내용의 실시양태는 고 투광도를 지닌 전도성 필름을 보유하는 터치 패널을 제공하고, 여기서 터치 패널은 기재(substrate), 및 기재 상에 배치된(disposed) 전극 층을 포함한다. 전극 층은 복수개의 전극 및 복수개의 전도성 와이어를 포함하고, 여기서 전극은 패턴화된 전도성 필름으로 형성되고, 전도성 와이어는 전극들을 전기적으로 접속한다. 복수개의 소수성 유닛은 간격을 두고 전극 내에 배치된다. 그러므로, 터치 패널은 사용자의 터치를 감지하는 고 투광도를 갖게 된다.
본 발명 개시내용의 실시양태는 터치 패널의 전도성 필름을 제조하는 방법으로 제공하며, 여기서 그 방법은 복수개의 소수성 유닛을 형성시키는 단계, 및 터치 신호를 감지하는 필름을 형성시키는 단계를 포함하고, 여기서 소수성 유닛은 간격을 두고 필름 내에 배치된다. 따라서, 터치 패널의 전도성 필름은 우수한 투광도를 갖는 소수성 유닛 때문에 투광도를 효율적으로 증가시킬 수 있다.
전술한 실시양태들에 따르면, 본 발명의 개시내용에 의해 제공되고 제조되는 터치 패널의 전도성 필름은 복수개의 소수성 유닛을 가짐으로써 보다 우수한 투광도를 갖게 된다.
도 1a는 전형적인 터치 패널의 전도성 필름의 스테레오그램이고, 도 1b는 전형적인 터치 패널의 전도성 필름의 평면도이며, 그리고 도 1c는 섹션 라인 AA에 따른 전형적인 터치 패널의 전도성 필름의 단면도이다.
도 2a는 본 발명의 개시내용의 실시양태에 따른 전도성 필름의 스테레오그램이고, 도 2b는 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 전도성 필름의 평면도이며, 그리고 도 2c는 섹션 라인 AA에 따른 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 터치 패널의 전도성 필름의 단면도이다.
도 3a 내지 도 3d는 각각 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 상이한 지문 방지 코팅에 대한 화학 구조식의 개략도를 예시한 것이다.
도 4a 내지 도 4e는 각각 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 소수성 유닛의 상이한 형상의 개략도이다.
도 5a 내지 도 5d는 각각 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 상이한 배열 모드에 의해 기재 상에 소수성 유닛을 형성하는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 개시내용의 실시양태에 따른 터치 패널의 전도성 필름을 제조하는 방법의 공정도이다.
도 7은 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 터치 패널의 전극 층으로서 전도성 필름의 평면도이다.
도 8은 본 발명의 개시내용의 실시양태에서 개시된 전도성 필름을 사용하는 터치 패널의 평면도이다.
본 발명의 개시내용의 특징 및 기술적 양태를 더 이해하기 위해서, 도면을 수반한 몇 가지 설명은 하기에 상세히 설명되어 있다. 그러나, 설명 및 수반되는 도면은 단지 참고 및 명세를 목적으로만 기재한 것이고, 본 발명의 개시내용의 영역을 어떠한 방식으로도 제한하는 것이 아니다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 도 2a는 본 발명의 개시내용에 따른 전도성 필름의 스테레오그램이고, 도 2b는 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 터치 패널의 전도성 필름의 평면도이다. 도 2a 및 도 2b에서 도시되어 있는 바와 같이, 터치 패널의 전도성 필름(21)은 터치 신호를 감지하는데 사용된 필름(24), 및 복수개의 소수성 유닛(23)을 포함하고, 여기서 소수성 유닛(23)은 터치 패널의 전도성 필름(21)이 고 투광도를 갖도록 간격을 두고 필름(24) 내에 배치된다. 그 소수성 유닛(23)은 터치 패널의 전도성 필름(21)의 투광도가 효율적으로 증가되도록 우수한 투광도를 갖는다.
도 2c을 추가로 참조하면, 도 2c는 섹션 라인 AA에 따른 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 터치 패널의 전도성 필름의 단면도이다. 도 2c에 도시되어 있는 바와 같이, 터치 패널의 전도성 필름(21)은 기재(22) 상에 형성되고, 여기서 기재(22)는 투명 절연 기재, 예컨대 유리 플레이트, 세라믹 플레이트, 플라스틱 플레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 플레이트, 또는 가요성 기재 또는 임의 다른 적용가능한 물질로 형성된 기재일 수 있다.
임의 실시양태에서, 소수성 유닛(23)은 소수성 물질을 패턴화함으로써 형성될 수 있다. 필름(24)은 수용성 전도성 물질로 제조된 투명 필름일 수 있다. 구체적으로, 소수성 물질이 미리 기재(22) 상에 오버레이될 수 있고, 복수개의 소수성 유닛(23)이 스크린 인쇄, 잉크젯 인쇄 또는 리소그래피/에칭 등에 의해 형성될 수 있다. 이어서, 그 수용성의 전도성 물질을 함유하는 수용성의 전도성 용액이 기재(22) 상에 배치될(allocated) 수 있고, 기재(22)가 소성된 후에, 터치 패널의 전도성 필름(21)이 형성될 수 있다. 소수성 유닛(23)의 물질은 수용성의 전도성 물질이 소수성 유닛(23)을 위치한 영역에 분포되는 것을 방지할 수 있는 소수성을 갖기 때문에, 그 수용성의 전도성 물질은 소수성 유닛(23)의 영역 외부의 기재(22)만을 피복하여 필름(24)을 형성할 수 있다.
전술한 소수성 물질은 지문 방지 코팅(AF: anti-fingerprint coating), 박리제(parting agent), 이형제(release agent), 실리콘 오일 및 실리콘 중 하나 이상이고, 하지만 그것은 이들에 국한되지 않는다는 점을 유의해야 한다. 지문 방지 코팅은 플루오로카본에 속하고, 그 플루오로카본의 일반식은 F(C3HOF4)nC2F4(CH2)mO(CH2)aSi(OR)3이고, 식 중에서 m은 1 내지 6의 정수일 수 있고, R은 최대 6개의 탄소 원자를 함유하는 메틸일 수 있다. 도 3a에 도시된 화학식의 경우, 이러한 실시양태에서, m 및 a는 각각 1 및 3이고, R은 메틸(도 3a에서는 Me에 의해 표시됨)이고, 화합물의 분자식은 F(C3HOF4)nC2F4CH2O(CH2)3Si(OMe)3이다. 도 3b는 상기 식의 변경된 실시양태를 예시한 것이고, 도 3a에서의 OMe는 OSMe2(CH2)2Si(OMe)3에 의해 치환되고, 플루오로카본의 분자식은 F(C3HOF4)nC2F4CH2O(CH2)3Si(OMe)3OSMe2(CH2)2Si(OMe)3이다. 게다가, 플루오로카본은 또한 F(C3HOF4)nC2F4-R일 수 있고, 여기서 R은 CONH(CH2)3Si(OMe)3이고, 이러한 경우 그의 화학 구조식은 도 3c에 도시되어 있는 바와 같고, 그의 분자식은 F(C3HOF4)nC2F4CONH(CH2)3Si(OMe)3이고; R은 또한 CONH(CH2)3SiMe2OSMe2(CH2)2Si(OMe)3일 수 있고, 그의 화학 구조식은 도 3d에 도시되어 있는 바와 같고, 그의 분자식은 F(C3HOF4)nC2F4CONH(CH2)3SiMe2OSMe2(CH2)2Si(OMe)3이고, 하지만 본 발명의 개시내용의 플루오로카본은 이들에 국한되는 것이 아니다. 수용성의 전도성 물질은 전도성 중합체, 탄소 나노튜브, Ag 나노와이어, 또는 이들의 조합과 같은 임의의 수용성의 전도성 물질일 수 있고, 하지만 그것은 이들에 국한되는 것이 아니다.
게다가, 터치 패널의 전도성 필름(21) 내의 소수성 유닛(23)의 형상은 설계 요건에 따라 조정될 수 있다. 도 4a 내지 도 4e를 참조하면, 도 4a 내지 도 4e는 각각 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 소수성 유닛(23)의 상이한 형상의 개략도이다. 도 4a 내지 도 4e에 도시되어 있는 바와 같이, 도 2a의 원형 소수성 유닛(23)과는 상이한 도 4a 내지 도 4e의 소수성 유닛(23)의 형상은 각각 정사각형, 직사각형, 사방형(rhombus), 오각형 및 육각형이다.
도 5a 내지 도 5d를 참조하면, 도 5a 내지 도 5d는 각각 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 상이한 배열 모드에 의해 기재 상에 소수성 유닛(23)을 형성시키는 개략도이다. 도 5a에 도시된 바와 같이, 그 소수성 유닛(23)은 각각 정사각형 모드로 배열되어 있고(임의의 2개의 인접한 소수성 유닛(23) 간의 거리는 d임); 도 5b에 도시되어 있는 바와 같이, 소수성 유닛(23)은 각각 육각형 모드로 배열되어 있으며; 도 5c에 도시되어 있는 바와 같이, 소수성 유닛(23)은 각각 사방형 모드로 배열되어 있고; 도 5d에 도시되어 있는 바와 같이, 소수성 유닛(23)은 각각 직사각형 모드로 배열되어 있다(2개의 좌측과 우측 인접 소수성 유닛(23)의 거리는 d1이고, 2개의 상측과 하측 인접 소수성 유닛(23)의 거리는 d2이고, d1은 d2와 동일하지 않음).
본 발명의 개시내용의 터치 패널의 전도성 필름(21)의 경우, 수용성의 전도성 물질의 유형, 소수성 유닛(23)의 형상 및 배열 모드, 및 소수성 물질의 유형은 제한되지 않는 것으로 이해되어야 한다. 게다가, 또다른 실시양태에서, 터치 패널의 전도성 필름(21)은 필름(24) 상에 오버레이된 보호 필름(도 2a, 도 2b 및 도 2c에는 도시되어 있지 않음)을 포함하고, 여기서 보호 필름은 전도성 필름을 보호하기 위한 터치 패널의 보호층으로서 사용되고, 보호 필름의 물질 및 제조 공정은 도 6에 상세히 기술되어 있다.
도 6을 추가로 참조하면, 도 6은 본 발명의 개시내용의 실시양태에 따른 터치 패널의 전도성 필름을 제조하는 방법의 공정도이다. 도 6에 도시되어 있는 바와 같이, 단계(S500)는 복수개의 소수성 유닛(23)(예를 들면, 정사각형 배열 모드를 가갖는 기재(22) 상에서는 각각의 소수성 유닛(23)의 형상이 원형임)을 형성시키는 단계를 포함한다. 구체적으로, 소수성 물질이 기재(22) 상에 오버레이되고, 복수개의 소수성 유닛(23)이 패턴화 공정, 예컨대 스크린 인쇄, 잉크젯 인쇄 또는 리소그래피/에칭 등에 의해 형성된다. 단계(S502)는 탄소 나노튜브와 같은 수용성의 전도성의 물질을 함유하는 수용성의 전도성 용액을 기재(22) 상에 배치(allocating)하여 필름(24)을 형성시키는 단계로서, 여기서 소수성 유닛(23)은 간격을 두고 그 필름(24) 내에 배치되는 것인 단계를 포함한다. 특히, 소수성 유닛(23)의 물질이 소수성 물질이기 때문에, 그 수용성의 전도성 물질은 소수성 유닛(23)의 영역의 외부에 있는 기재(22)만을 피복할 수 있어서 필름(24)을 형성하게 된다. 단계(S504)는 기재(22)를 소성하여 기재(22) 상에 형성되어 있는 터치 패널의 전도성 필름(21)을 얻는 단계를 포함한다.
게다가, 터치 패널의 전도성 필름(21)을 추가 보호하기 위해서, 터치 패널의 전도성 필름을 제조하는 방법은 단계(S506 및 S508)를 추가로 포함한다. 단계(S506)는 기재(22) 상에 보호 필름 용액을 배치(allocating)하는 단계를 포함한다. 단계(S508)는 기재(22)를 소성하여 필름(24) 상에 오버레이된 보호 필름을 형성시키는 단계를 포함한다. 보호 필름의 물질은 무기 물질, 예컨대 질화규소, 산화규소, 및 옥시질화규소, 또는 유기 물질, 예컨대 아크릴 수지 또는 다른 적용가능한 물질을 포함할 수 있다. 소수성 유닛(23)의 물질, 형성 및 배열 모드, 및 수용성의 전도성 물질의 유형은 이미 전술한 설명에서 상세히 개시되어 있고, 따라서 그것들은 여기서 다시 설명하지 않는다.
추가로, 도 7을 참조하면, 도 7은 본 발명의 개시내용의 또다른 실시양태에 따른 터치 패널의 전극 층으로서 전도성 필름의 평면도이다. 도 7에 도시되어 있는 바와 같이, 이러한 실시양태에서, 터치 패널의 전도성 필름은 설계된 전극 패턴에 따른 리소그래피/에칭 공정에 의해 패턴화되어 복수개의 전극(71)을 형성하게 된다. 복수개의 소수성 유닛(23)은 간격을 두고 전극(71) 내에 배치된다. 전극(71)은 제1 축(예컨대, X 축)에 따라 분포된 제1 전극 어레이(L1) 및 제2 축(예컨대, Y 축)에 따라 분포된 제2 전극 어레이(L2)를 포함하고, 여기서 제1 전극 어레이(L1) 및 제2 전극 어레이(L2)는 접합부에 절연 블록(72)을 삽입함으로써 서로 절연되어 있다. 터치 패널의 전극 층(73)을 형성하도록, 제1 전극 어레이(L1)는 전도성 와이어(75)에 의해 전기적으로 접속되어 있고, 제2 전극 어레이(L2)는 전도성 와이어(74)에 의해 전기적으로 접속되어 있다.
도 7에서, 전극 층(73) 내의 전극(71) 각각은 그 내부에 실제적으로 복수개의 소수성 유닛(23) 및 필름(24)을 가지며, 여기서 소수성 유닛은 간격을 두고 필름(24) 내에 배치됨으로써(도 7에서 전극(71)의 확대된 개략도 참조), 전극 층(73)으로 하여금 고 투광도를 갖게 한다는 점을 유의해야 한다. 게다가, 전술한 전극 층(73)의 형상은 실제 요건에 따라 조정될 수 있다. 요약하건대, 전극 층(73)의 형상은 본 발명의 개시내용을 제한하기 것이 아니다.
도 8을 추가로 참조하면, 도 8은 본 발명의 개시내용의 실시양태에 개시된 전도성 필름을 사용하는 터치 패널의 평면도이다. 도 8에서, 터치 패널(81)은 기재(82) 및 이 기재(82) 상에 배치된 전극 층(73)을 포함한다. 전극 층(73)은 패턴화된 전도성 필름(21)으로 형성되는 복수개의 전극(71)을 포함하고, 복수개의 소수성 유닛(23)은, 터치 패널(81)로 하여금 고 투광도를 갖게 하고 사용자의 터치를 감지할 수 있도록, 간격을 두고 전극 내에 배치된다. 복수개의 소수성 유닛(23)이 전도성 필름(21) 내에 배치되기 때문에, 이러한 실시양태에서 터치 패널(81)은 매우 우수한 시각적 효과를 수행하는 우수한 투광도를 갖는다.
게다가, 본 발명의 개시내용의 상기 실시양태가 전도성 필름을 터치 패널에 적용하는 것이지만, 본 발명의 개시내용의 전도성 필름의 적용이 이에 국한되는 것이 아님을 유의해야 한다. 터치 패널의 전술한 전도성 필름의 구조, 제조 방법 및 원리에 대한 모든 유사성은 본 발명의 개시내용의 영역 내에 속한다.
결론적으로, 본 발명의 실시양태에 따라 형성되는 터치 패널의 전도성 필름의 전도성 물질은 오직 소수성 유닛이 없는 영역 내에만 분포되어 있고, 소수성 유닛이 우수한 투광도를 갖기 때문에, 본 발명의 개시내용의 결과로 생성된 터치 패널은 고 투광도의 특징을 갖는다.
게다가, 터치 패널의 전도성 필름은 전형적인 ITO 필름과는 대조적으로 고 전도도를 지닌 전도성 물질로 제조되기 때문에, 터치 패널의 전도성 필름은 보다 우수한 전도도를 갖는다. 또한, 전도성 필름을 중공 처리하여 전도성 필름의 투광도를 증가시키기 위해서 전도성 필름을 절삭 또는 에칭하는 물리적 방법을 이용하는 터치 패널의 전형적인 전도성 필름과는 대조적으로, 본 발명의 개시내용의 실시양태에 따른 터치 패널의 전도성 필름의 제조 방법은 보다 낮은 비용으로 비교적 단순하고 용이하다.
전술한 설명은 단지 본 발명의 개시내용의 바람직한 실시양태에 불과한 것이다. 거기에서는 본 발명의 개시내용의 사상 및 영역으로부터 벗어나는 일 없이 다양한 변형예가 이루어질 수 있다. 본 발명의 개시내용의 특허청구범위에 대한 모든 변형예 및 대체예는 첨부된 특허청구범위에 의해 한정된다.

Claims (26)

  1. 고 투광도를 지닌 전도성 필름을 보유하는 터치 패널로서,
    기재(substrate), 및
    기재 상에 배치된(disposed) 전극 층으로서,
    패턴화된 전도성 필름으로 형성된 복수개의 전극,
    전극들을 전기적으로 접속하는 복수개의 전도성 와이어, 및
    터치 패널로 하여금 고 투광도를 갖게 하고 사용자의 터치를 감지할 수 있도록 간격을 두고 전극 내에 배치된 복수개의 소수성 유닛
    을 포함하는 전극 층
    을 포함하는 터치 패널.
  2. 제1항에 있어서, 전극은 제1 축에 따라 분포된 제1 전극 어레이, 및 제2 축을 따라 분포된 제2 전극 어레이를 포함하고, 제1 전극 어레이 및 제2 전극 어레이는 서로 전기적으로 절연되어 있고, 제1 전극 어레이 및 제2 전극 어레이는 복수개의 전도성 와이어에 의해 전기적으로 접속되어 있는 것인 터치 패널.
  3. 터치 패널의 전극 층으로서,
    패턴화된 전도성 필름으로 형성된 복수개의 전극, 및
    전극 층이 고 투광도를 갖도록 간격을 두고 전극 내에 배치된 복수개의 소수성 유닛
    을 포함하는 터치 패널의 전극 층.
  4. 제3항에 있어서, 전극은 제1 축에 따라 분포된 제1 전극 어레이 및 제2 축에 따라 분포된 제2 전극 어레이를 포함하고, 제1 전극 어레이 및 제2 전극 어레이는 서로 전기적으로 절연되어 있는 것인 전극 층.
  5. 터치 패널의 전도성 필름으로서,
    터치 신호를 감지하는데 사용된 필름, 및
    전도성 필름이 고 투광도를 갖도록 간격을 두고 필름 내에 배치된 복수개의 소수성 유닛
    을 포함하는 터치 패널의 전도성 필름.
  6. 제5항에 있어서, 필름이 투명 필름인 터치 패널의 전도성 필름.
  7. 제5항에 있어서, 소수성 유닛은 소수성 물질로 제조되고, 소수성 물질은 지문 방지 코팅, 박리제(parting agent), 이형제(release agent), 실리콘 오일 및 실리콘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  8. 제7항에 있어서, 지문 방지 코팅이 플루오로카본인 터치 패널의 전도성 필름.
  9. 제8항에 있어서, 플루오로카본의 일반식은 F(C3HOF4)nC2F4(CH2)mO(CH2)aSi(OR)3이고, 식중에서 m 및 n은 1 내지 6의 정수일 수 있고, R은 최대 6개의 탄소를 함유하는 메틸일 수 있는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  10. 제8항에 있어서, 플루오로카본은 F(C3HOF4)nC2F4CH2O(CH2)3Si(OMe)3, F(C3HOF4)nC2F4CH2O(CH2)3Si(OMe)3OSMe2(CH2)2Si(OMe)3, F(C3HOF4)nC2F4CONH(CH2)3Si(OMe)3 및 F(C3HOF4)nC2F4CONH(CH2)3SiMe2OSMe2(CH2)2Si(OMe)3 중 하나 이상인 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  11. 제5항에 있어서, 소수성 유닛의 형상은 원형, 직사각형, 사방형(rhombus), 오각형, 육각형 또는 이들의 조합 중 하나 이상으로부터 선택되는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  12. 제5항에 있어서, 전도성 필름은 기재 상에 형성되는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  13. 재12항에 있어서, 기재가 유리 플레이트 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 플레이트인 터치 패널의 전도성 필름.
  14. 제12항에 있어서, 소수성 유닛은 정사각형, 직사각형, 사방형 또는 육각형의 배열 모드에 의해 기재 상에 형성되는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  15. 제5항에 있어서, 필름은 수용성의 전도성 물질로 제조되고, 수용성의 전도성 물질은 전도성 중합체, 탄소 나노튜브 및 Ag 나노와이어로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  16. 제5항에 있어서, 전도성 필름은 이 필름 상에 오버레이된(overlaid) 보호 필름을 추가로 포함하고, 보호 필름의 물질은 질화규소, 산화규소, 옥시질화규소 및 아크릴 수지로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 터치 패널의 전도성 필름.
  17. 터치 패널의 전도성 필름을 제조하는 방법으로서,
    복수개의 소수성 유닛을 형성시키는 단계, 및
    터치 신호를 감지하는 필름을 형성시키는 단계로서, 복수개의 소수성 유닛은 터치 패널의 전도성 필름이 고 투광도를 갖도록 간격을 두고 필름 내에 배치되는 것인 단계
    를 포함하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 터치 패널의 전도성 필름은 기재 상에 형성되는 것인 방법.
  19. 제18항에 있어서, 소수성 유닛의 형성 단계는
    기재 상에 소수성 물질을 오버레이하는 단계, 및
    스크린 인쇄, 잉크젯 인쇄, 및 리소그래피/에칭 중 하나 이상에 의해 소수성 유닛을 형성시키는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  20. 제19항에 있어서, 소수성 물질은 지문 방지 코팅(FA), 박리제, 이형제, 실리콘 오일 및 실리콘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 방법.
  21. 제20항에 있어서, 지문 방지 코팅이 플루오로카본인 방법.
  22. 제18항에 있어서, 소수성 유닛은 정사각형, 직사각형, 사방형 또는 육각형의 배열 모드에 의해 기재 상에 형성되는 것인 방법.
  23. 제18항에 있어서, 필름의 형성 단계는
    수용성의 전도성 물질을 함유하는 수용성의 전도성 용액을 기재 상에 배치하는(allocating) 단계로서, 수용성의 전도성 용액은 소수성 유닛의 영역 외부의 기재를 피복하는 것인 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  24. 제23항에 있어서, 수용성의 전도성 물질은 전도성 중합체, 탄소 나노튜브, 및 Ag 나노와이어로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 방법.
  25. 제18항에 있어서,
    기재 상에 보호 필름 용액을 배치(allocating)하는 단계, 및
    기재를 소성하여 망상 구조체 상에 오버레이된 보호 필름을 형성시키는 단계
    를 추가로 포함하는 방법.
  26. 제17항에 있어서, 전도성 필름은 필름 형성 후에 소성되는 것인 방법.
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