KR20130106836A - 기판 시트 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 배리어층(barrier layer; 103) 및 금속 요소들(metallic elements; 104)을 포함하는 플렉서블 배리어 시트(flexible barrier sheet; 200)를 생산하기 위한 방법을 제공하는데, 상기 방법은 a) 폴리머 지지층(polymeric support layer; 101) 상에 도포되고, 상기 폴리머 지지층을 향하는(facing) 제1 표면(105) 및 상기 폴리머 지지층으로부터 반대로 향하는(facing away) 제2 표면(106)을 가지는 금속층(102)을 제공하는 단계; b) 상기 금속층의 상기 제2 표면상에 금속 요소들을 제공하는 단계; c) 상기 금속층의 상기 제2 표면 및 상기 금속 요소들을 피복하여(covering), 상기 금속층을 향하는 제1 표면 및 상기 금속층으로부터 반대로 향하는 제2 표면을 가지는 배리어층을 제공하는 단계; d) 상기 금속층으로부터 상기 폴리머 지지층을 릴리즈하는 단계; 및 e) 상기 금속 요소들 및 배리어층으로부터 금속층을 제거하는 단계를 포함한다. 플렉서블 배리어 시트는 OLED들과 같은 고품질 배리어 기판 시트를 요구하는 박막 반도체 장치들의 롤투롤(roll-to-roll) 제조에서 사용될 수 있다.
Description
본 발명은 반도체 장치 제조용 기판 시트의 생산을 위한 방법 및 상기 방법에서 이용되는 층 구조 또는 상기 방법에 의한 층 구조에 관한 것이다.
박막 전자 장치의 생산은 더욱더 비용 효율적인, 대규모의 생산을 향해 수년간 발전해왔다. OLED들(OLEDs: organic light emitting diodes), 일렉트로크롬(electrochrome) 장치들 및 광기전력(photovoltaic) 장치 등과 같은 반도체 장치들의 대규모 제조에 있어서 매우 흥미로운 기술이 롤투롤 프로세싱(roll-to-roll processing)인데, 이 프로세싱에서 장치는 플라스틱 기판과 같은 플렉서블하며, 가능하게는 투명한 기판재 상에 형성된다.
일례로 OLED들의 대량생산에 사용되는 기판 시트는 희생 금속(sacrificial metal) 기판 상에 형성될 수 있고, 시트를 생산하기 위해 상기 기판 상에 금속 션트 구조(metallic shunting structure) 및 배리어층(barrier layer)이 도포되고(applied), 선택적으로 유기 코팅(organic coating)으로 적층되거나(laminated) 피복된다. 다음으로, 상기 희생 금속 기판은 에칭되어(etched away), 배리어 특성 및 션팅 구조를 포함하는 자기 지지형(self-supporting) 플렉서블 기판 시트가 남는다. 그 후, 희생 금속 기판이 제거되기 전에, 희생 금속 기판을 향하던(faced) 시트의 표면상에 반도체 장치가 형성된다.
그러나, 전술한 접근법은 몇 가지 단점을 갖는다. 첫째로, 알루미늄 시트가 일반적으로 희생 금속 기판으로 사용되는데, 상기 알루미늄 시트는, 기판 시트 상에 반도체 장비가 생산되는 경우 기판 시트가 저품질 배리어를 가지는 결과를 초래하는 표면 거칠기를 가지고, 따라서 고품질 배리어가 요구되지 않는 장치들의 제조에 사용되는 것으로 제한된다. 더욱이, 금속 기판을 에칭하는 것은 시간 소모가 크고, 따라서 보다 더 시간적 및 비용적으로 효율적인 제조 프로세스를 행하는데 장애를 가져온다.
따라서, 본 분야 기술에서 박막 반도체 장치의 저비용 대량 생산을 위한 향상된 방법에 대한 필요성이 남아있다.
이러한 문제를 극복하고, 롤투롤 제조용 기판 시트를 생산하기 위한 보다 효율적인 방법을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다. 또한 향상된 배리어 특성을 갖는 롤투롤 제조용 기판을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.
본 발명의 첫 번째 태양에 따르면, 상기 및 기타 목적들은 박막 반도체 장치의 제조용 기판 시트로 사용되기 위한, 배리어 층 및 금속 요소들을 포함하는 플렉서블 시트를 생산하기 위한 방법에 의해 행하여질 수 있는데, 상기 방법은 a) 폴리머 지지층(polymeric support layer) 상에 도포되고, 상기 폴리머 지지층을 향하는(facing) 제1 표면 및 상기 폴리머 지지층으로부터 반대로 향하는(facing away) 제2 표면을 가지는 금속층을 제공하는 단계; b) 상기 금속층의 상기 제2 표면상에 금속 요소들을 제공하는 단계; c) 상기 금속층의 제2 표면 및 상기 금속 요소들을 피복하여, 상기 금속층을 향하는 제1 표면 및 상기 금속층으로부터 반대로 향하는 제2 표면을 가지는 배리어층을 제공하는 단계; d) 상기 금속층으로부터 상기 폴리머 지지층을 릴리즈하는 단계; 및 e) 상기 금속 요소들 및 상기 배리어층으로부터 상기 금속층을 제거하는 단계를 포함한다. 본 발명자는, 플렉서블 시트를 형성하기 위한 지지부로서 상대적으로 얇은 금속층으로 피복된 자기 지지형 폴리머층을 사용함으로써, 향상된 배리어 품질을 갖는 플렉서블 시트를 얻을 수 있음을 발견했다. 폴리머 지지층이 매우 매끄럽기(smooth) 때문에, 금속층도 또한 종래의 압연된 금속박(rolled metal foil)의 표면에 비해 매우 매끄러워질 수 있다. 매끄러운 금속층의 결과로서, 배리어층의 제1 표면 또한 매우 매끄러워지고(종래의 압연된 금속박에 도포된 배리어층보다 더 매끄러움), 따라서 더 양호한 배리어를 제공한다.
더욱이, 폴리머 지지층이 첫 번째 단계에서 제거되고 금속층이 종래의 압연된 금속박에 비해 매우 얇기 때문에, 금속층을 제거하기 위해 에칭이 거의 요구되지 않는다. 이러한 이유로, 에칭 단계는 더 적은 시간을 소모하고, 또한 더 적은 에천트(etchant)를 사용하는데, 이는 경제적 관점뿐만 아니라 환경적 관점에서도 이익이다.
본 발명의 실시예들에서, 금속층으로부터 폴리머 지지층을 릴리즈하는 것은 금속층에 열을 가함으로써 행하여진다. 이러한 이유로, 열은 층간분리할(delaminate) 수 있는 폴리머 지지층으로 전달될 수 있다. 전형적으로, 금속층은 폴리머 지지층의 증발 온도(evaporation temperature)보다 더 높은 용융 온도(melting temperature)를 가지며, 금속층은 폴리머 지지층의 증발 온도 이상이나 금속층의 용융 온도보다는 더 낮은 온도로 가열된다. 바람직하게, 금속층으로부터 폴리머 지지층을 릴리즈하는 것은 레이저를 사용하여 수행된다. 레이저는 전형적으로 금속층을 가열한다.
발명의 실시예들에서, 금속층은 에칭에 의해 제거될 수 있다.
발명의 실시예에 따르면, 방법은 f) 상기 배리어층의 상기 제1 표면(107) 및 상기 금속 요소들 상에 반도체 장치 또는 물질을 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다. 본 단계는 일반적으로 롤투롤 제조 프로세스에서 수행되며, 이는 박막 장치를 대량 생산하는 매우 편리하고 비용 효율적인 방법이다.
본 발명의 다른 태양에 따르면, 본 발명은 폴리머 지지층과 금속 요소들을 포함하는 기판 시트 사이에 샌드위칭된(sandwiched) 금속층을 포함하는 층 구조를 제공하는데, 상기 금속층의 제1 표면은 폴리머 지지층을 향하며, 상기 금속층의 제2 표면은 기판 시트의 제1 표면을 향하고, 상기 기판 시트의 상기 금속 요소들은 상기 금속층의 제2 표면과 접촉한다. 전형적으로 상기 기판 시트는 배리어층을 포함한다. (플렉서블 배리어 시트를 형성하기 위해 의도된) 금속 요소들 및 배리어층을 형성하기 위한 지지부로서, 종래의 압연된 금속박 대신 기판 시트 상에 피복된 폴리머층 및 금속층을 사용함으로써, 배리어층의 배리어 품질은 향상되고, 따라서 OLED들과 같은 고품질 배리어 시트를 요구하는 박막 장치의 롤투롤 제조를 가능하게 한다.
본 발명의 실시예들에서, 폴리머 지지층은 폴리이미드(polyimide)를 포함한다. 또한 전형적으로, 금속층은 알루미늄을 포함할 수 있다. 금속층은 폴리머 지지층에 비해 얇고, 금속층은 0.02에서 100㎛ 범위의 두께를 가질 수 있다. 반면에, 폴리머 지지층은 5에서 500㎛ 범위의 두께를 가질 수 있다.
전형적으로, 기판 시트의 금속 요소들은 최종적인 박막(예를 들어, OLED) 장치에 대한 션트 구조를 제공하기 위해 의도될 수 있다.
본 발명의 또 다른 태양에 따르면, 본 발명은 박막 장치의 제조를 위한 방법을 제공하는데, 상기 방법은, 상기 발명의 첫 번째 태양에 따른 방법에 의해 얻어진 상기 플렉서블 기판 시트를 제공하는 단계; 및 롤투롤 제조 프로세스에서 상기 플렉서블 기판 시트를 사용하는 단계를 포함한다. 따라서 본 발명의 또 다른 태양에 따라, 본 발명의 첫 번째 태양에 따른 방법에 의해 얻어진 플렉서블 기판 시트는 박막 장치 제조용 프로세스에서 사용될 수 있다.
본 발명은 청구항들에서 나열된 특징들의 모든 가능한 조합들과 관련됨을 주의해야한다.
본 발명의 상기 및 기타 태양들은 본 발명의 실시예(들)을 도시한 첨부된 도면을 참조하여, 이제 보다 상세히 서술될 것이다.
도 1의 (a) 내지 (e)는, 본 발명의 실시예들에 따른 방법을 간략히 도시한 도면.
도 2a 및 도 2b는 각각, 금속층으로부터 폴리머 지지층을 릴리즈하는 것을 간략히 도시한 도면.
도 1의 (a) 내지 (e)는, 본 발명의 실시예들에 따른 방법을 간략히 도시한 도면.
도 2a 및 도 2b는 각각, 금속층으로부터 폴리머 지지층을 릴리즈하는 것을 간략히 도시한 도면.
본 발명자는 롤투롤 프로세싱용 배리어 시트의 종래 제조에 사용된 두꺼운 금속 시트를, 얇은 금속층으로 피복된 폴리머 지지층을 포함하는 희생층 스택으로 대체하여, 최종 박막 장치의 향상된 배리어 품질을 비롯한 몇몇의 장점들 및 더 효율적인 생산 프로세스를 초래함을 발견하였다.
본 발명에 따른 방법은 도 1에 간략히 도시되었다. 첫 번째로, 폴리머 지지층(101) 및 금속층(102)을 포함하는 층 구조 또는 스택(100)이 제공된다(단계 a; 도 1의 (a)). 다음으로, 최종 장치에서 션트 구조를 형성하기 위해 의도된 금속 요소들(104)이 금속층에 형성된다(단계 b; 도 1의 (b)). 그 다음으로, 전형적으로는 폴리머 배리어층인 배리어층(103)은, 금속 요소들(104) 및 금속 요소들 사이의 노출된 금속층의 표면(106)과 접촉하여 피복하기 위해 공지 기술에 의해 도포된다(단계 c; 도 1의 (c)). 다음으로, 자기 지지형인, 플렉서블 배리어 시트를 생산하기 위해, 레이저에 의한 층간분리(laser-assisted delamination)가, 금속층(102)으로부터 폴리머 지지층(101)을 릴리즈하는데 사용되고(단계 d; 도 1의 (d)), 이어서 종래의 에칭에 의해 금속층(102)이 배리어층(103) 및 금속 요소들(104)로부터 제거된다(단계 e; 도 1의 (e)). 완성된 배리어 시트(200)는 배리어층 및 금속 요소들을 포함하나 폴리머 지지층(101) 및 금속층(102)은 포함하지 않는데, OLED들과 같은 박막 반도체 장치들의 제조용 롤투롤 프로세싱에 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 방법의 각각의 단계들(a-e)은 더 자세히 후술될 것이다.
폴리머 지지층 및 금속층은 널리 알려진 기술에 의해 생산될 수 있다. 금속층은 폴리머 지지층 상에 코팅으로서 피착될(deposited) 수 있는데, 일례로 스퍼터링(sputtering)에 의할 수 있다. 선택적으로, 피착 후에 금속층은 전기도금(electroplating)에 의해 더 두꺼워질 수 있는데, 일례로 알루미늄층의 경우 이온성 액체 전기도금(ionic liquid electroplating)에 의한다. 두꺼워진 금속층은 (희생 폴리머층으로부터 반대로 향하는) 금속층 아래에 층들을 열로부터 보호하기 위해 바람직할 수 있다.
종래의 두꺼운 알루미늄 시트 부분을 교체하기 위해 본 발명에 따라 사용된 폴리머 지지층(101)은 금속층으로부터 레이저에 의한 층간분리를 허용하는 임의의 적합한 폴리머 물질로 형성될 수 있는데, 일례로 폴리이미드, 온도 안정화된(temperature stabilized) 폴리 에틸렌 테레프탈레이트(PET: poly ethylene tepephthalate), 폴리 에틸렌 나프탈레이트(PEN: poly ethylene naphthalate) 및 폴리에테르 에테르 케톤(PEEK: polyether ether ketone)을 포함한다. 바람직하게는 폴리머 지지층은 폴리이미드를 포함하고, 더 바람직하게는 폴리이미드층이다. 폴리이미드는 그 높은 온도 안정성 때문에 선호된다.
금속층(102)은 금속 또는 합금, 바람직하게는 상대적으로 낮은 용융점을 가진 알루미늄과 같은 연질 금속 또는 합금일 수 있다.
금속층(102)은 폴리머 지지층(101)에 비해 얇다. 예를 들어, 금속층의 두께는 0.02에서 100㎛ 범위, 예를 들어 대략 1㎛일 수 있다. 반면에, 폴리머 지지층은 전형적으로 5에서 500㎛ 범위의 두께, 예를 들어 대략 100㎛의 두께를 가진다.
도면들에 도시된 바와 같이, 금속층(102)은 폴리머 지지층(101)을 향하고 직접적으로 접촉하고 있는 제1 표면(105)을 가진다. 금속층은 또한, 열이 금속층의 표면(105)을 통해 금속층에서 폴리머 지지층으로 전달될 수 있도록 폴리머 지지층과 직접적인 열 접촉을 한다.
더욱이, 금속층(102)은 또한, 폴리머 지지층으로부터 반대로 향하고 상기 표면상에서 금속 요소들(104)이 도포될 수 있는, 제2 표면(106)을 가진다. 요소들(104)은 종래의 기술을 이용하여 금속층 상에 형성될 수 있는데, 일례로 큐어된(cured) 도전성 잉크(conductive ink)의 피착을 이용할 수 있다. 완성된 시트(200)에서 금속 요소들(104)의 기능은 최종 장치에서 도전성의, 션트 구조를 제공하는 것인데, 이는 투명 전극(transparent electrode) 전체에 걸쳐 시트(200) 상에 정렬될 전류 및 양호한 전압 분포를 제공한다. 금속 요소들(104)은 대략 0.5에서 100㎛ 범위의 폭과 높이 디멘젼을 갖는 금속의 얇은 션트 선(shunting lines)들을 포함할 수 있고, 선택적으로 또한 더 큰 버스바(busbars)들도 포함할 수 있다. 션트 선들 및 선택적으로 버스바들은 금속층 상에 임의의 패턴, 예를 들어 그리드 패턴(grid pattern)을 형성할 수 있다.
금속 요소들을 형성한 후에, 금속층 및 금속 요소들은 전형적으로 폴리머 배리어층인, 배리어층(103)에 의해 피복된다. 배리어층(103)은 금속 요소(104) 및 금속층(103)의 제2 표면(106)을 향하며 직접적으로 접촉하는 제1 표면(107)을 가진다. 따라서, 도 1의 (c)에서 도시된 층 구조가 얻어진다. 희생층들 및 금속 요소들로부터 반대로 향하는 배리어층의 표면은 108로 표시된다.
폴리머 지지층(101) 및 금속층(102)은 희생층들이고, 이는 폴리머 지지층(101) 및 금속층(102)이 다른 층들 또는 구조들의 형성을 돕기 위해서만 제공되고 이 목적을 달성한 후에 제거됨을 의미한다. 폴리머 지지층 및 금속층의 목적은 금속 요소들(104)을 포함하는 매끄러운 표면을 가지는 배리어층(103)을 형성하기 위한 지지 표면을 제공하는 것이다. 그 다음 폴리머 지지층 및 금속층은 롤투롤 프로세싱용으로 사용될 플렉서블 시트를 생산하는 프로세스의 일부분으로서 제거된다.
폴리머 지지층(101)은 금속층에 강력히 붙어있을 수 있다. 그러나 본 발명자는 금속층에 열을 가하기 위해 레이저 빔을 사용하고 이에 따라 폴리머층의 증발 온도보다 높은 층간 분리 온도로 폴리머층에 간접적으로 열을 가함으로써, 층 구조체(layer assembly)의 다른 층들 또는 구조들에 손상 없이, 레이저에 의한 층간분리에 의해, 폴리머 지지층이 금속층으로부터 제거될 수 있음을 발견하였다. 금속층을 향하고 있는 폴리머 지지층의 표면(109)에서 증발하는 폴리머 지지층의 물질의 일부분으로서, 폴리머 지지층은 금속층으로부터 층간 분리된다. 층 구조체를 따라 끊임없이 레이저 빔을 움직임으로써, (도 2a의 단면으로 도시된) 층간 분리 선이 생성된다. 복수의 본질적으로 나란한 층간 분리 선이 만들어질 수 있고, 이는 전체 폴리머 지지층의 층간 분리를 완전히 행할 수 있다. 도 2b는 폴리머 지지층의 연속적인 부분의 완전한 층간 분리를 도시한다.
바람직하게는, 사용되는 층간 분리 온도가 금속층을 형성하는 금속 또는 합금의 용융 온도 이하다. 층간 분리 온도는 100에서 1000℃의 범위일 수 있으나, 각각의 폴리머 지지층의 물질의 증발 온도 및 금속층의 용융 온도에 의존한다. 예를 들어, 알루미늄층으로부터 폴리이미드층을 릴리즈하기 위해 알루미늄은 바람직하게는 300에서 700℃ 범위의 온도, 예를 들어 대략 500℃의 온도로 가열될 수 있다. 그러나 폴리머 지지층이 너무 낮은 온도에서 증발하는 폴리머를 포함하고 있어서 층간 분리 온도가 100℃ 이하인 것이 가능함을 고려해야 한다. 예를 들어, 층간 분리를 행하기 위해, 1050부터 1100㎚ 범위의 방사 파장(emission wavelength)을 가진 적외선 섬유 레이저(infra-red fiber laser)가 사용될 수 있다.
폴리머 지지층의 제거 다음으로, 노출된 금속층이 종래의 화학적 에칭을 이용하여 제거될 수 있다. 금속층은 종래에 사용된 지지 금속 시트들에 비해 얇기 때문에 금속층을 제거하는데 요구되는 에칭 기간이 더 짧을 것이고 더 적은 에천트가 요구될 것이다. 에칭 시간은 대략 1분일 수 있다. 짧은 에칭 시간은, 생산 프로세스에서 시간을 절약할 수 있을 뿐만 아니라, 배리어층에 악영향을 줄 수 있는 에천트로의 배리어층의 노출이 감소할 수 있기 때문에 유리하다. 알루미늄층의 에칭용으로 수산화칼륨(KOH: potassium hydroxide)이 사용될 수 있다. 그러나 수산화칼륨은 또한 배리어층의 질화물 배리어(nitride barrier)를 저속으로(at a low rate) 에칭할 수 있기 때문에, 긴 에칭 기간으로 인해 배리어의 기능이 저하될 수 있다. 게다가 짧은 에칭 기간을 사용함으로써, 금속층과 에천트 사이에서의 원하지 않은 반응들을 감소시키거나 피할 수 있다.
기판 시트(200)는, 이어서 박막 장치의 롤투롤 생산에 사용될 수 있다. 반도체 장치는 배리어층의 표면(107) 상에, 따라서 금속 요소들(104)과 접촉하여, 또는 배리어층의 표면(108) 상에 형성될 수 있다.
당업자는 본 발명이 전술된 선호된 실시예에 제한되는 것이 아님을 인식할 것이다. 반대로 많은 수정들 및 변형들이 첨부된 청구항의 범위 내에서 가능할 것이다. 예를 들어, 금속 요소들(104)이 형성되기 전에, 배리어층(103)이 금속 요소들 및 금속 요소들 사이에 노출된 도체의 부분에 접촉하여 피복하는데 도포될 수 있도록 얇은 금속층인 ITO, AlZnO, TiF 등과 같은 투명한 도체가 금속층(103)의 표면(106) 상에 도포될 수 있다. 이러한 실시예들에서, 금속층(102)이 제거될 때 도체가 실질적으로 에칭되지 않도록 에칭 단계가 조절된다. 기타 실시예들에서, 마이크로전자기계(micro-electromechanical) 장치와 같은 구조 또는 장치가, 레이저에 의한 릴리즈 및 희생층들의 연속된 에칭 이전에, 희생층으로부터 반대로 향하는 배리어층의 표면(108) 상에 형성될 수 있다.
전술된 실시예들은 본 발명을 제한하기보다는 예시하는 것이고, 당업자는 첨부된 청구항들의 범위에 벗어나지 않고, 많은 대안적 실시예들을 고안할 수 있을 것임을 주의해야 한다. 청구항들에서, 괄호들 사이에 놓인 임의의 참조 표시들은 청구항을 제한하는 것으로 해석되어서는 안 될 것이다. "포함한다(to comprise)" 동사 및 그 동사의 활용들의 사용은 청구항에서 언급된 구성요소들 또는 단계들 외에 기타 구성요소들 또는 단계들의 존재를 배제하지 않는다. 구성요소 앞의 관사 "a" 또는 "an"은 해당 구성요소의 복수의 존재를 배제하지 않는다. 복수의 수단들을 나열하고 있는 장치 청구항에서, 이러한 수단들의 복수는 단수 및 하드웨어의 동일 항목에 의해서 구현될 수 있다. 임의의 수단들이 서로 다른 종속항에서 인용되었다는 사실만으로, 이 수단들의 조합이 이점을 얻기 위해 사용될 수 없음을 나타내는 것은 아니다.
Claims (15)
- 박막 반도체 장치의 제조용 기판 시트로서 의도된, 배리어층(barrier layer) 및 금속 요소들(metallic elements)을 포함하는 플렉서블 시트(flexible sheet)를 생산하기 위한 방법으로,
a) 폴리머 지지층(polymeric support layer; 101) 상에 도포되고, 상기 폴리머 지지층을 향하는(facing) 제1 표면(105) 및 상기 폴리머 지지층으로부터 반대로 향하는(facing away) 제2 표면(106)을 가지는 금속층(102)을 제공하는 단계;
b) 상기 금속층의 상기 제2 표면 상에 금속 요소들(104)을 제공하는 단계;
c) 상기 금속층의 상기 제2 표면 및 상기 금속 요소들을 피복하여(covering), 상기 금속층을 향하는 제1 표면(107) 및 상기 금속층으로부터 반대로 향하는 제2 표면(108)을 가지는 배리어층(103)을 제공하는 단계;
d) 상기 금속층으로부터 상기 폴리머 지지층을 릴리즈하는 단계; 및
e) 상기 금속 요소들 및 상기 배리어층으로부터 상기 금속층을 제거하는 단계를 포함하는 플렉서블 시트 생산 방법. - 제1항에 있어서, 상기 금속층으로부터 상기 폴리머 지지층을 릴리즈하는 단계는, 상기 금속층에 열을 가함으로써 달성되는 것인, 플렉서블 시트 생산 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 금속층은 상기 폴리머 지지층의 증발 온도(evaporation temperature)보다 더 높은 용융 온도(melting temperature)를 가지고, 상기 폴리머 지지층의 상기 증발 온도 이상의 온도이나 상기 금속층의 상기 용융 온도보다는 낮은 온도로 상기 금속층이 가열되는, 플렉서블 시트 생산 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 금속층으로부터 상기 폴리머 지지층을 릴리즈하는 단계는, 레이저를 사용하여 수행되는, 플렉서블 시트 생산 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 금속층은, 에칭(etching)을 사용하여 제거되는, 플렉서블 시트 생산 방법.
- 제1항에 있어서,
f) 상기 배리어층의 상기 제1 표면(107) 및 상기 금속 요소들 상에 반도체 장치 또는 물질을 제공하는 단계를 더 포함하는 플렉서블 시트 생산 방법. - 층 구조로서,
폴리머층(101)과 금속 요소들(104)을 포함하는 기판 시트(103) 사이에 샌드위칭된(sandwiched) 금속층(102) - 상기 금속층의 제1 표면(105)은 상기 폴리머층을 향하며 상기 금속층의 제2 표면(106)은 상기 기판 시트(103)의 제1 표면(107)을 향하며, 및 상기 기판 시트의 상기 금속 요소들은 상기 금속층의 상기 제2 표면과 접촉하고 있는 것임 -
을 포함하는 층 구조. - 제7항에 있어서,
상기 기판 시트(103)는 배리어층을 포함하는, 층 구조. - 제1항 또는 제7항에 있어서,
상기 폴리머층(101)은 폴리이미드(polyimide)를 포함하는, 플렉서블 시트 생산 방법 또는 층 구조. - 제1항 또는 제7항에 있어서,
상기 금속층은 알루미늄을 포함하는, 플렉서블 시트 생산 방법 또는 층 구조. - 제1항 또는 제7항에 있어서,
상기 금속 요소들은 션트 구조(shunting structure)를 제공하기 위해 의도된, 플렉서블 시트 생산 방법 또는 층 구조. - 제1항 또는 제7항에 있어서,
상기 금속층(102)은 0.02에서 100㎛ 범위의 두께를 갖는, 플렉서블 시트 생산 방법 또는 층 구조. - 박막 장치의 제조를 위한 방법에 있어서,
a) 제1항에 따른 상기 방법에 의해 얻어진 플렉서블 기판 시트를 제공하는 단계; 및
b) 롤투롤(roll-to-roll) 제조 프로세스에서 상기 플렉서블 기판 시트를 사용하는 단계
를 포함하는 박막 장치 제조 방법. - 박막 장치의 제조를 위한 프로세스에서,
제1항에 따른 플렉서블 시트 생산 방법에 의해 얻어진 플렉서블 기판 시트 사용 방법. - 제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 박막 장치는 유기 발광 다이오드(organic light emitting diode)인, 박막 장치 제조 방법 또는 플렉서블 기판 시트 사용 방법.
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