KR20130068501A - 광학필름 및 광확산 패턴 형성방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기재 필름의 일면에 집광 패턴을 포함하고, 상기 기재 필름의 타면에 요철 형상의 광확산 패턴을 포함하는 광학필름이며, 상기 광학필름은 단일층이고, 광확산 입자를 포함하지 않는 것이다.

Description

광학필름 및 광확산 패턴 형성방법 {Optical Film And Fabrication Method Of Light Diffusing Pattern}
본 발명은 광학필름 및 광확산 패턴의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 광학 필름의 일면에 금속 몰드를 이용하여 형성되는 광확산 패턴에 관한 것이다.
광학 필름에 광확산 효과를 부여하기 위해 기저 필름층의 한 면에 광확산층을 형성하는데, 광확산 입자를 포함하는 수지를 Microgravure, Slot Die 등의 Wet 코팅법을 이용하여 코팅층을 형성하고, 이를 UV 및 열 처리하여 광확산층을 형성한다.
이때 광확산 효과는 광확산 입자의 표면 돌출에 의해 발생한 표면 돌기에 의한 광산란 효과와 서로 굴절률이 다른 광확산 입자와 수지 간의 굴절률 차에 의한 내부 굴절에 의해 발생한다. 이때, 사용되는 광확산 입자는 그 용도에 따라 적어도 한 가지 이상의 것을 사용하며, 크기는 서브 ~ 수십 ㎛의 것을 사용하고, 그 사용량은 수지 중량의 수 내지 수십 중량%를 사용한다.
또한, Wet 코팅법의 점도 조절 및 외관 개선을 위해 적어도 한 가지 이상의 유기용제를 사용하게 되는데, 비교적 비점이 낮은 휘발성 유기용제를 사용하며, 사용량은 수지 중량의 수 ~ 수백 중량%를 사용한다. 이때, 사용되는 광확산 입자는 수지와 유기용제 혼합물에 분산되어 있는 상태로 사용되며, 이로 인해 코팅 조건 및 시간 경과에 의해 광확산 입자 분산 상태의 안정성이 저하되면 형성된 광확산층의 외관 및 특성의 불균일을 초래할 수 있다.
또한, 제조 공정 중 광확산 입자와 유기용제에 의한 환경 오염 및 작업자 건강 문제를 초래할 수 있다.
본 발명의 목적은 광확산 입자의 분산 상태의 안정성 저하에 따른 광확산층의 외관 및 광확산 표면 특성 문제를 해결하는 광확산 패턴의 형성방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 광확산 패턴이 형성된 면의 표면 조도 및 Haze 값 등을 용이하게 조절할 수 있는 광확산 패턴의 형성방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 광확산 입자 및 유기용제를 사용하지 않음으로써, 친환경적이고 안전하면서 경제적인 이점을 갖는 광확산 패턴의 형성방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 본 발명의 광확산 패턴의 형성방법으로 제조된 광학 필름을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 관점에 따른 구체 예로서 광학 필름은, 기재 필름의 일면에 집광 패턴을 포함하고, 상기 기재 필름의 타면에 요철 형상의 광확산 패턴을 포함하는 광학필름이며, 상기 요철 형상의 광확산 패턴은 단일층 또는 복층으로 구성된다.
상기 광확산 패턴의 평균 Haze 값이 1 ~ 90%이며, 위치간 표준편차가 Haze 값에 상관없이 1% 내외로 균일성이 우수하다.
본 발명의 다른 관점에서의 광확산 패턴 형성방법은, (a) 금속 몰드에 패턴을 형성하는 단계, (b) 상기 금속 몰드를 이용하여 기재 필름의 일면에 상기 패턴을 전사하는 단계 및 (c) 상기 패턴이 전사된 기재 필름을 경화시켜 광확산 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것이다.
상기 금속 몰드는 스틸, 알루미늄 등과 그 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 금속 또는 상기 금속에 니켈, 동, 크롬, 알루미늄, 세라믹 등을 도금한 것을 포함하는 롤일 수 있다.
상기 단계 (a) 이후에, 상기 패턴이 형성된 금속 몰드에 금속 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 금속 코팅층은 니켈, 동, 크롬, 알루미늄, 세라믹 등과 그 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 금속의 코팅층일 수 있다.
상기 단계 (a)는 샌드 블라스트, 에칭, 레이저 가공, 드릴 가공 등에 의하는 것일 수 있다.
상기 샌드 블라스트는 유기, 무기 또는 유무기 복합 비드 중 하나 이상의 비드를 이용하여 1 ~ 50회 처리하는 것일 수 있다.
상기 비드 입자는 평균 0.1 ~ 1000㎛ 크기를 갖는 입자를 단일 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 비드 재질은 에스테르계, 올레핀계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴-우레탄계, 에폭시계 또는 실리콘계 수지 등의 유기물과 글라스, 세라믹 등의 무기 비드를 사용한다.
상기 기재 필름은 에스테르계, 올레핀계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴-우레탄계, 에폭시계 또는 실리콘계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나일 수 있다.
상기 기재 필름의 두께는 10 ~ 1000㎛일 수 있다.
상기 단계 (b)는, 상기 금속 몰드를 이용하여 상기 기재 필름의 일면에 패턴을 전사하면서 상기 기재 필름의 타면에 집광 패턴을 형성하는 것일 수 있다.
상기 광확산 패턴의 평균 Haze 값이 1 ~ 90%이며, 위치간 표준편차가 Haze 값에 상관없이 1% 내외로 균일성이 우수한 광확산 패턴 형성방법일 수 있다.
본 발명의 또 다른 관점에서의 광학 필름은, 상기의 방법으로 제조된 광확산 패턴을 포함하는 광학 필름일 수 있다.
본 발명은 광확산 입자를 사용하지 않음으로써, 광학산 입자의 분산 상태의 안정성 저하에 따른 광확산층의 외관 및 광확산 표면 특성 저하의 문제를 해결하고, 광확산 패턴이 형성된 면의 표면 조도 및 Haze 값 등을 용이하게 조절할 수 있으며, 광확산 입자 및 유기용제를 사용하지 않기 때문에 친환경적이고 작업자에게 안전한 동시에, 반 영구적인 금속 몰드를 사용함으로써 경제적인 이점을 갖는 광확산 패턴의 형성방법을 제공한다.
도 1은 종래의 Wet 코팅법에 의한 광확산 패턴의 형성방법의 공정 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일 구체 예에 따른 광확산 패턴 형성방법의 공정 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 일 구체 예에 따른 광확산 층의 형성 및 광학 필름 제조 과정의 개념도이다.
도 4는 본 발명의 일 구체 예에 따른 광확산 패턴 형성방법으로 제조된 광확산 패턴을 포함하는 광학 필름의 개략적인 단면도이다.
본 발명의 일 관점에 따른 구체예로서 광학 필름은, 기재 필름의 일면에 집광 패턴을 포함하고, 상기 기재 필름의 타면에 요철 형상의 광확산 패턴을 포함하는 광학필름이며, 상기 요철 형상의 광확산 패턴은 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있다.
광확산 효과를 얻기 위해서는 가시광선 파장 영역 이상의 표면 조도를 요하는데, 본 발명의 광확산 패턴은 가시광석 영역 이상의 표면 조도를 갖는 동시에, 평균 Haze 값이 1 ~ 90%이며, 위치간 표준편차가 Haze 값에 상관없이 1% 내외이다. 종래의 방법으로 형성하는 광확산 패턴은 Haze 값이 증가할수록 분산도가 떨어지게 되어 표준편차가 커지지만, 본 발명에 의한 광확산 패턴은 Haze의 증가에 무관하게 표준편차가 거의 일정한 수준으로 유지된다.
본 발명의 다른 관점에서의 광확산 패턴 형성방법은, (a) 금속 몰드에 패턴을 형성하는 단계, (b) 상기 금속 몰드를 이용하여 기재 필름의 일면에 상기 패턴을 전사하는 단계 및 (c) 상기 패턴이 전사된 기재 필름을 경화시켜 광확산 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것이다.
도 1은 종래의 Wet 코팅법에 의한 광확산 패턴의 형성방법의 공정 흐름도이다. 도 1과 같이 광확산 입자를 포함하는 고분자 수지 용액을 이용하여 광학 확산층을 코팅하는 경우에는, 고분자 내에 광확산 입자의 분산 상태에 따라 코팅 후 광합입자의 분포가 불안정하고, 그 결과 광확산 성능의 저하를 초래한다.
도 2는 본 발명의 일 구체 예에 따른 광확산 패턴 형성방법의 공정 흐름도이다. 도 1의 종래의 Wet 코팅법과 달리 본 발명의 광확산 패턴 형성방법은 광확산 패턴을 형성함에 있어, 광확산 입자 및 광확산 입자를 분산시키기 위한 고분자 수지와 휘발성 유기용제를 사용하지 않는다.
먼저, 금속 몰드, 바람직하게는 금속 롤에 샌드 블라스트 등의 방법으로 패턴을 형성한다. 상기 금속 몰드는 스틸, 알루미늄 등과 그 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 금속 또는 상기 금속에 니켈, 동, 크롬, 알루미늄, 세라믹, DLC 도금한 것을 포함하는 롤일 수 있다. 특히 이중 니켈, 동 등의 도금 층은 스틸에 비해 상대적으로 경도가 낮아 쉽게 샌드 블라스트에 의한 패턴 형성이 되는 쉬우며, 이로 인해 용도에 따른 Haze 조절이 용이함. 상기 금속으로는 단일 성분의 금속을 사용할 수도 있고, 둘 이상의 성분의 합금을 사용할 수도 있다. 금속 롤은 샌드 블라스트, 에칭, 레이저 가공, 드릴 가공 등으로 효과적으로 패턴이 형성되어야 하고, 용도에 따라 재사용이 되어야 하므로 비교적 표면 특성이 무르며, 형상을 유지할 수 있고, 재사용이 가능한 금속을 사용하여 도금 후 사용하는 것이 바람직하다.
단계 (a) 이후에, (a') 상기 패턴이 형성된 금속 몰드에 금속 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 패턴이 형성된 금속 몰드의 내구성을 향상시키고, 표면 거칠기를 향상시키기 위하여 강도가 높은 금속 코팅층을 도금하는 경우가 있다. 상기 금속 코팅층은 니켈, 크롬, 세라믹 등과 그 합금 등을 사용할 수 있으며, 단일 또는 2종 이상의 금속의 합금을 사용할 수도 있다. 상기 코팅층의 두께는 0.1 ~ 1000㎛가 바람직하고, 단일층이거나 단일 또는 서로 다른 금속으로 형성되는 복수의 층일 수도 있다.
상기 샌드 블라스트는 유기, 무기 또는 유무기 복합 비드 중 하나 이상의 비드를 이용하여 1 ~ 50회 처리하는 것일 수 있다.
상기 비드 입자 크기는 평균 0.1 ~ 1000㎛의 것을 단일 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 비드 재질은 에스테르계, 올레핀계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴-우레탄계, 에폭시계 또는 실리콘계 수지 등의 유기물과 글라스, 세라믹 등의 무기 비드를 사용한다.
상기 샌드 블라스트는 유기, 무기 또는 유무기 복합 비드 중 하나 이상의 비드를 이용하여 1 ~ 50회 처리하는 것일 수 있다.
사용하는 비드 입자의 강도가 높을수록, 분사 압력이 높을수록, 광확산 패턴의 표면 조도가 커지는 결과가 된다. 샌드 블라스트 조건은 원하는 광확산 패턴의 Haze 값 및 금속 몰드의 후 금속 코팅층 형성 조건을 고려하여 설정하는 것이 바람직하다.
상기 샌드 블라스트에 사용하는 입자의 종류, 크기, 분사 압력, 횟수 등의 샌드 블라스트의 조건을 조절하여 광확산 패턴이 형성된 면의 표면 조도 및 Haze 값 등을 용이하게 조절할 수 있다. 특히 본 발명에 따르면 종래의 wet 코팅법에 의하여 광확산 패턴을 형성할 경우, Haze 값을 높이게 되면 광확산 입자의 고분자 수지 용액 내 분산 안정성이 떨어지게 되므로, 표준편차가 커지지만, 본 발명에 의한 광확산 패턴 형성방법에 의하면 Haze의 증가에 무관하게 표준편차를 거의 일정한 수준으로 유지할 수 있다. 예를 들어 본 발명에 의하면, 평균 Haze 값이 65% 이상인 고 Haze의 경우에도 표준 편차를 1 이하로 유지할 수 있다.
상기 기재 필름으로 에스테르계, 올레핀계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴-우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 수지 등을 사용할 수 있다. 단일 성분 또는 복합 성분의 수지를 사용할 수 있다. 다만 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니고, 일반적인 광학 필름의 기재 필름으로 적용 가능한 필름을 사용할 수 있다.
상기 기재 필름의 두께는 용도에 따라 10 ~ 1000㎛ 일 수 있다.
상기 단계 (b)는, 상기 금속 몰드를 이용하여 상기 기재 필름의 일면에 패턴을 전사하면서 상기 기재 필름의 타면에 집광 패턴을 형성하는 것일 수 있다. 광확산 패턴을 형성하기 위한 금속 롤과 반대 면에 프리즘층 형성을 위한 인각 롤 등을 동시에 거치도록 하여 공정효율을 향상시킬 수 있다. 도 3은 본 발명의 일 구체 예에 따른 광확산 층의 형성 및 광학 필름 제조 과정의 개념도이다. 기재 필름 (1)이 패턴이 형성된 금속 롤 (2)에 접촉하면서 기재 필름의 일면에 금속 롤의 패턴이 전사되고, 연속적으로 기재 필름의 타면이 프리즘층 형성을 위한 인각롤에 접촉하면서 프리즘층이 형성되어 광학 필름이 완성되는 것이다. 한편, 광확산 패턴 형성과 프리즘층 형성의 순서는 변경될 수 있다. 다만, 반드시 광확산 패턴 형성을 위한 금속 롤과 프리즘층 형성을 위한 인각 롤이 시차를 두고 연이어 광확산 패턴 형성과 프리즘층 형성 과정을 수행하여야 하는 것은 아니고, 경우에 따라 기재 필름의 동일한 지점의 양면에서 광확산 패턴 형성을 위한 금속 롤과 프리즘층 형성을 위한 인각롤이 동시에 접촉될 수도 있다.
본 발명의 또 다른 관점에서의 광학 필름은, 상기의 방법으로 제조된 광학 필름일 수 있다. 이렇게 제조된 광학 필름은 광확산 입자의 분포의 불균일의 문제가 없이 원하는 분포의 광확산 패턴을 가질 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 구체 예에 따른 광확산 패턴 형성방법으로 제조된 광확산 패턴을 포함하는 광학 필름의 개략적인 단면도이다. 기재 필름 (1)의 일면에 광확산 패턴 (4)이 형성되어 있고, 타면에 집광 패턴 (5)이 형성되어 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 하나, 이러한 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명을 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.
실시예
실시예 1
니켈 도금된 스틸 롤에 입자 크기가 1~45㎛인 다분산 글라스 비드를 이용하여 분사압력 500MPa으로 왕복 10회 샌드 블라스트하여 패턴을 형성하였다. 패턴이 형성된 니켈 도금 스틸 롤에 100mA에서 10분간 1㎛ 니켈 코팅층을 형성하여 후도금을 실시하였다. 이를 UV 경화형 수지를 이용하여 250㎛ 두께의 PET Film의 일면에 전사하여 광확산 패턴을 형성한다. 이 때 PET Film을 교체하면서 총 5 Roll을 동일 방법으로 제작하였다.
실시예 2
니켈 도금된 스틸 롤에 입자 크기가 1~45㎛인 다분산 글라스 비드를 이용하여 분사압력 400MPa으로 왕복 5회 샌드 블라스트하여 패턴을 형성하였다. 패턴이 형성된 니켈 도금 스틸 롤에 100mA에서 10분간 1㎛ 니켈 코팅층을 형성하여 후도금을 실시하였다. 이를 UV 경화형 수지를 이용하여 250㎛ 두께의 PET Film의 일면에 전사하여 광확산 패턴을 형성한다. 이 때 PET Film을 교체하면서 총 5 Roll을 동일 방법으로 제작하였다.
비교 예
비교 예 1
다분산 PS (선진화학 HR59-80) 40 phr을 포함하는 고형분 40% (유기용제 60%, 유기용제 혼합비 MEK:Toluene=1:1)를 배합하고 분산 장치를 이용하여 충분히 분산 시켜 고분자 수지 용액을 준비하였다. 이를 이용하여 실시예 1 ~ 3과 동일한 250㎛ 두께의 PET Film의 일면에 Microgravure 코터로 코팅하고 UV 경화시켜 광확산층을 형성한다. 이 때 PET Film을 교체하면서 총 5 Roll을 동일 방법으로 제작하였다.
비교 예 2
단분산 PMMA (Soken社 MX500) 2 phr(part per hundred resin)을 포함하는 고형분 35% (유기용제 65%, 유기용제 혼합비 MEK:Toluene=1:1)를 배합하고 분산시켜 사용한 점을 제외하고는 비교 예 1과 동일하게 광확산층을 형성한다. 이 때 PET Film을 교체하면서 총 5 Roll을 동일 방법으로 제작하였다.
아래의 표 1은 실시예 1, 2 및 비교 예 1, 2의 조건을 나타낸 것이다.
실시예 1 실시예 2 비교 예 1 비교 예 2
광확산층
제조방법		 패터닝
(샌드 블라스트)		 패터닝
(샌드 블라스트)		 Wet 코팅
(Microgravure)		 Wet 코팅
(Microgravure)
샌드
블라스트
조건		 유무 有 有 無 無
종류 글라스 비드 글라스 비드 - -
크기 다분산 1~45㎛ 다분산 1~45㎛ - -
압력 500MPa 400MPa - -
횟수 10회 5회 - -
광확상
입자		 유무 無 無 有 有
종류 - - PS PMMA
크기 - - 다분산 8㎛ 단분산 10㎛
함량 - - 40phr 2phr
유기
용제		 유무 無 無 有 有
종류 - - MEK, Toluene MEK, Toluene
함량 - - 60% 65%
실시예 및 비교 예에서 제조된 광확산 패턴의 Haze 값은 헤이즈 측정기(Nippon Denshoku社 NDH5000W)를 이용하여 각 Roll의 시작점으로부터 0m, 200m, 400m, 600m, 800m, 1000m 지점의 Center 부위에서 SPL을 채취하여 ASTM D1003 방법으로 측정하여 그 평균값과 표준편차를 기록하였다.
실시예 1, 2 및 비교 예 1, 2의 Haze 측정 결과는 아래의 표 2와 같다.
Roll # 지점 실시예 1 실시예 2 비교 예 1 비교 예 2
1 0m 70.4 2.9 67.0 3.4
200m 70.5 2.9 62.0 4.3
400m 70.7 3.0 60.5 3.0
600m 69.4 3.0 70.2 3.3
800m 70.5 2.9 71.0 1.9
1000m 70.4 3.0 62.0 2.5
2 0m 70.1 3.0 73.2 2.4
200m 70.7 3.0 69.0 2.8
400m 69.2 3.1 72.5 1.9
600m 70.5 3.0 74.3 4.1
800m 70.2 3.0 70.0 3.3
1000m 69.7 3.0 62.0 3.1
3 0m 70.4 2.9 65.7 2.8
200m 70.7 2.9 66.8 1.7
400m 70.7 3.0 70.2 1.9
600m 70.5 3.0 72.5 3.3
800m 70.2 3.0 68.0 3.3
1000m 69.7 2.9 62.0 4.4
4 0m 69.4 2.9 69.0 1.8
200m 70.2 3.0 70.2 2.9
400m 70.1 3.0 74.3 2.8
600m 70.7 2.9 62 2.6
800m 70.2 3.1 74 2.8
1000m 69.7 3.0 72 2.1
5 0m 70.5 3.0 72.5 1.9
200m 70.7 2.9 66.9 3.8
400m 70.5 2.9 70.0 1.7
600m 69.7 3.1 69.0 4.2
800m 70.2 3 74.3 3.8
1000m 69.7 3 71.0 1.9
Haze 평균 (%) 70.2 3.0 68.8 2.9
Haze 표준편차 0.4 0.1 4.3 0.8
비교 예 1, 2와 같이 Microgravure를 이용하여 Wet Coating한 경우 작업 Roll 수가 증가함에 따라 Haze값이 비교적 크게 변화 하였으나, 본 발명에 따르는 실시예 1, 2의 경우는 상대적으로 균일한 결과 (작은 표준 편차 값)를 나타내었다.
특히, 높은 Haze 값(65% 이상)에서 균일도의 변화에서 큰 차이를 나타내었다.
실시예 2와 비교 예 2와 같이 평균 Haze 값이 3% 수준으로 낮은 Haze 값에서 실시예 2에서는 표준 편차가 0.1%(평균 Haze 값 3.0%), 비교 예 2에서는 표준 편차가 0.8%(평균 Haze 값 2.9%)로 그 차이가 비교적 적게 나타났다.
반면 실시예 1과 비교 예 1과 같이 평균 Haze 값이 70% 수준으로 높은 Haze 값에서 실시예 1에서는 표준 편차 0.4%(평균 Haze 값 70.2%), 비교 예 1에서는 표준 편차가 4.3%(평균 Haze 값 68.8%)로 그 차이가 상당폭 증가하는 것을 확인할 수 있다. 즉, 실시예에서는 Haze 값이 증가함에 따라 균일도가 크게 변하지 않았으나 비교 예에서는 균일도가 크게 떨어지는 것을 확인할 수 있었다
이를 토대로 본 발명의 광학한 패턴 형성 방법이 종래의 방법에 비하여, 균일도가 우수함을 알 수 있다.
실시예 2의 일면에 광확산 패턴이 형성된 기재 필름과 비교 예 2의 일면에 광확산층이 형성된 기재 필름의 각각의 타면에 동일하게 집광 패턴을 형성하고 특성을 평가하였다.
아래의 표 3은 실시예 1 및 비교 예 1에서 제조된 광학 필름의 특성 평가 결과이다.
물성평가방법:
(1) 부착력 : ASTM D3002에 의거하여 코팅 도막을 10X10 격자형태로 Cross cutting 하고 이를 Tape를 이용하여 떼어 낸 후 부착 정도를 측정하였다.
(2) 표면경도 : ASTM D3363에 의거하여 경도가 다른 연필을 이용하여 코팅 도막의 긁힘 유무를 측정하여 평가하였다.
(3) 중앙 휘도 : Topcon社 BM-7 휘도계를 사용하여 중앙 휘도를 측정하였다.
(4) 휘도균일도 : Topcon社 BM-7 휘도계를 사용하여 위치별 휘도를 측정하여 위치간 휘도 균일도를 측정하였다.
특 성 실시예 1 비교예 1
광확산
시 트		 제조 방법 패터닝
(샌드 블라스트+도금)		 Wet 코팅
(Microgravure)
Hz 평균 70.2% 68.8%
표준편차 0.4% 4.3%
부착력 100% 100%
표면경도 2H 2H
프리즘
시 트		 중앙휘도(Max.) 5,900nit (100%) 5,860nit (99%)
휘도 균일도 80 % 78 %
표 3에서 보듯이, 본 발명의 광확산 패턴의 형성방법에 따르면, 광확산 입자를 포함하는 광확산층을 형성하는 경우보다, 높은 Haze 값을 갖는 광확산 패턴을 적용하였을 때, Haze 값의 균일성이 향상되며, 이는 프리즘 시트 제조 후 휘도 균일도도 향상시킬 수 있다.
1 : 기재 필름
2 : 금속 롤
3 : 인각 롤
4 : 광확산 패턴
5 : 집광 패턴

Claims (14)

  1. 기재 필름의 일면에 집광 패턴을 포함하고, 상기 기재 필름의 타면에 요철 형상의 광확산 패턴을 포함하는 광학필름이며,
    상기 광학필름은 단일층이고, 광확산 입자를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 광학필름.

  2. 제1항에 있어서, 상기 광확산 패턴의 평균 Haze 값이 1 ~ 90%이며, 위치간 표준편차가 Haze 값에 상관없이 1% 내외인 것을 특징으로 하는 광학필름.
  3. (a) 금속 몰드에 패턴을 형성하는 단계;
    (b) 상기 금속 몰드를 이용하여 기재 필름의 일면에 상기 패턴을 전사하는 단계; 및
    (c) 상기 패턴이 전사된 기재 필름을 경화시켜 광확산 패턴을 형성하는 단계;
    를 포함하는 광확산 패턴 형성방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 금속 몰드는 스틸, 알루미늄 등과 그 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 금속 또는 상기 금속에 니켈, 동, 크롬, 알루미늄 또는 세라믹이 도금된 롤인 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 단계 (a) 이후에,
    상기 패턴이 형성된 금속 몰드에 금속 코팅층을 형성하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 금속 코팅층은 니켈, 동, 크롬, 알루미늄, 세라믹 및 그 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 금속의 코팅층인 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 단계 (a)는 샌드 블라스트, 에칭, 레이저 가공 또는 드릴 가공에 의하는 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 샌드 블라스트는 유기, 무기 또는 유무기 복합 비드 중 하나 이상의 비드를 이용하여 1 ~ 50회 샌드 블라스트하는 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 비드 입자는 평균 0.1 ~ 1000㎛의 크기를 갖는 입자를 단일 또는 2종 이상 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  10. 제3항에 있어서, 상기 기재 필름은 에스테르계, 올레핀계, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴-우레탄계, 에폭시계 또는 실리콘계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  11. 제3항에 있어서, 상기 기재 필름의 두께는 10 ~ 1000㎛인 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  12. 제3항에 있어서, 상기 단계 (b)는,
    상기 금속 몰드를 이용하여 상기 기재 필름의 일면에 패턴을 전사하면서, 상기 기재 필름의 타면에 집광 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  13. 제3항에 있어서,
    상기 광확산 패턴의 평균 Haze 값이 1 ~ 90%이며, 위치간 표준편차가 Haze 값에 상관없이 1% 내외인 것을 특징으로 하는 광확산 패턴 형성방법.
  14. 제3항 내지 제13항 중 한 항의 방법으로 제조된 광확산 패턴을 포함하는 광학 필름.


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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160056499A (ko) * 2014-11-11 2016-05-20 삼성에스디아이 주식회사 광학시트 및 이를 포함하는 광학 디스플레이 장치

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR102012012636B1 (pt) * 2012-05-25 2022-01-04 Mahle Metal Leve S/A Cilindro para aplicação em um motor de combustão interna
CN103293573A (zh) * 2013-05-27 2013-09-11 北京京东方光电科技有限公司 一种增光片、背光源以及液晶显示器
JP6476582B2 (ja) * 2014-04-23 2019-03-06 大日本印刷株式会社 積層体の製造方法、積層体、偏光板及び画像表示装置
US20180095330A1 (en) * 2015-04-07 2018-04-05 Corning Incorporated Texture gradient for uniform light output from a transparent backlight
CN107533161B (zh) * 2015-11-20 2020-08-04 Ａｇｃ株式会社 带膜的弯曲基材及其制造方法以及图像显示装置
US20220332976A1 (en) * 2019-12-20 2022-10-20 Lg Chem, Ltd. Film

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4592972B2 (ja) * 2001-02-08 2010-12-08 大日本印刷株式会社 光拡散フィルム、光拡散フィルムを用いた面光源装置及び表示装置
JP2002341115A (ja) * 2001-05-17 2002-11-27 Dainippon Printing Co Ltd 保護拡散フィルム及びその製造方法、面光源装置及び液晶表示装置
US20100079701A1 (en) * 2006-12-08 2010-04-01 Yoshiaki Murayama Lens sheet, surface light source device, and liquid crystal display device
JP5109483B2 (ja) * 2007-05-31 2012-12-26 日本ゼオン株式会社 光拡散フィルム
KR100912262B1 (ko) * 2007-08-28 2009-08-17 제일모직주식회사 균일한 표면 거칠기를 가지는 광확산 필름 및 그 제조방법
KR100957197B1 (ko) * 2008-04-10 2010-05-11 주식회사 엘엠에스 헤어라인 산란요소를 갖는 미세패턴 시트 및 그 제작 방법
KR101530995B1 (ko) * 2008-09-24 2015-06-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 광학 시트의 제조 방법
KR101086255B1 (ko) * 2010-03-10 2011-11-23 주식회사 창강화학 통합형 광학시트를 구비한 백라이트유닛용 도광판 및 이를 포함하는 백라이트유닛
TWI429961B (zh) * 2011-04-29 2014-03-11 Au Optronics Corp 光學膜片

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160056499A (ko) * 2014-11-11 2016-05-20 삼성에스디아이 주식회사 광학시트 및 이를 포함하는 광학 디스플레이 장치

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