CN106716183B - 包括纳米图案的光学片及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种制造光学片的方法，所述方法包括以下步骤：(S1)供给可固化树脂组合物并形成单层；(S2)通过使在(S1)中形成的所述单层通过具有节距为50nm至500nm且纵横比为1.0至5.0的纳米图案的脱模模具，而获得在表面上具有转印的纳米图案的所述单层；以及(S3)将在(S2)中获得的具有转印的纳米图案的单层固化。

Description

包括纳米图案的光学片及其制造方法
技术领域
本发明涉及用于液晶显示器的光学片，更具体地，涉及具有纳米图案的光学片及其制造方法。
背景技术
近来，通过各种研究，已知在诸如显示器、发光二极管、太阳能电池等光学器件的表面上形成周期等于或小于可见光波长范围(约380nm至780nm)的微细不规则结构的情况表现出抗反射效果和莲花效应，从而提高光学器件的效率。这种被称为蛾眼结构的微细不规则结构在具有不同折射率的两种介质之间的折射率变化中起到了缓冲作用。具体地，当光通过两种不同的介质时，由于折射率的差异而发生反射，但是在两种介质之间存在细微不规则性的情况下，两种介质的折射率连续增加，从而防止了这种反射。
在光学器件的表面上形成微细不规则结构可以包括，例如包括以下步骤(i)至(iii)(纳米压印)的方法：
(i)在结构与微细不规则结构互补的模具和作为透光膜的基底的基板膜之间供应活性能量射线固化组合物；
(ii)通过用诸如UV光等活性能量射线的照射使活性能量射线固化组合物固化，而在基板膜的表面上形成具有微细不规则结构的固化树脂层；以及
(iii)将模具与固化树脂层分离。
然而，模具具有孔，该孔具有纳米级周期和较大的纵横比，因此模具和活性能量射线固化组合物之间的接触界面变大。因此，难以将模具的图案精确地压印在固化树脂层上，并且随着界面力的增加，步骤(iii)中的模具的分离变得非常困难。特别地，由于模具的分离与生产率直接相关，所以已经公开了用于解决这个问题的一些专利。
在这点上，日本专利申请公开No.2007-326367公开了一种用脱模剂(外部脱模剂)处理模具的具有微细不规则结构的表面的方法，并且日本专利申请公开No.2009-061628公开了使用固相光可固化转印层，该光可固化转印层包括光可固化树脂组合物，该光可固化树脂组合物包含磷酸酯类化合物作为内部脱模剂。然而，在如上述专利中那样仅仅简单地进行使用脱模剂处理的情况下，由于重复的转印工艺，脱模性可能逐渐降低，或者由于脱模剂的沉积，模具的表面会逐渐被污染。
同时，其上形成有具有微细不规则结构的固化树脂层的基板膜由PE、PC、PMMA等制成，并且这种基板膜具有高透明性和柔性，但缺点在于，它容易起皱和卷曲。此外，由于使用基板膜，可以改善诸如强度等的特性，但是难以形成薄膜，并且制造成本的降低有限。
此外，如图1所示，通常形成包括基板膜和可固化树脂层的多层结构，因此在层间界面处可能发生光透射损失，而未透射的光会成为反射的原因。因此，已经设计了不使用基板层的技术，但是仅以在形成树脂层之后通过化学处理剥离基板膜的方式实施，并且待形成的图案被限制为微米级。
发明内容
技术问题
因此，本发明旨在提供一种具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片，其中应用诸如卷对卷工艺或印模工艺的常规的图案转印工艺，而不使用基板膜，并且仅使用可固化树脂形成纳米图案，因此不会在与基板的界面处发生光透射损失(反射)，并且呈现95％以上的高透射率。
技术方案
本发明的第一优选实施例提供了一种制造光学片的方法，包括以下步骤(S1)至(S3)：
(S1)通过供给可固化树脂组合物来形成单层；(S2)通过使在(S1)中形成的所述单层通过具有节距为50nm至500nm且纵横比为1.0至5.0的纳米图案的脱模模具，获得在表面上具有转印的纳米图案的所述单层；以及(S3)将在(S2)中获得的具有所述转印的纳米图案的所述单层固化。
在所述第一实施例中，所述可固化树脂组合物可以包含100重量份的重均分子量为100至30,000的聚氨酯丙烯酸酯(urethane acrylate)和基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯的75重量份至250重量份的重均分子量为100至10,000的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物。这里，基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯，所述可固化树脂组合物还可以包括60重量份至125重量份的稀释剂和10重量份至25重量份的聚合引发剂。因此，所述可固化树脂组合物的粘度可以为100cps至300cps。
同样在所述第一实施例中，(S2)可以包括在转印所述纳米图案的同时用50mj/cm2至150mj/cm2的剂量的光对所述单层进行预固化，并且用于转印所述图案的所述脱模模具可以涂布有选自由有机硅、氟和特氟龙所组成的组中的至少一种脱模剂。
此外，本发明的第二优选实施例提供了一种光学片，该光学片由可固化组合物形成，所述可固化组合物包含100重量份的重均分子量为100至30,000的聚氨酯丙烯酸酯和基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯的75重量份至250重量份的重均分子量为100至10,000的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物，并且在所述光学片的至少一个表面上具有多个纳米图案，所述纳米图案具有50nm至500nm的节距和1.0至5.0的纵横比。
在第二实施例中，所述光学片可以在用550nm的光照射时具有95％以上的透射率，并且在23℃下的卷曲值(curl value)为0至2.0mm。
在第二实施例中，所述光学片可以通过根据第一实施例的方法制造。
有益效果
根据本发明，光学片是不使用基板的无基板(缺基板)型光学片，因此不会由于在基板层和树脂图案层之间的界面处折射率的差异而产生反射(光损失)，从而表现出95％以上的透射率并同时改善光的会聚和扩散性能。
此外，具有单层结构的光学片可以仅使用可固化树脂制造，并且即使在恒定的温度和湿度(60℃，RH85％)和高温(120℃)条件下的可靠性试验之后也可以表现出优异的起皱性能和卷曲性能，因此可以制造出高度可靠的光学片并可以形成薄膜。此外，可以应用常规的卷对卷工艺而无需改变，从而通过在加工期间不使用基板膜来降低制造成本，从而确保批量生产和价格竞争力。
附图说明
图1示出了在基板层的一个表面或两个表面上包括纳米图案层的典型纳米图案光学片的剖面图；
图2示出了根据本发明的使用可固化树脂形成的具有多个纳米图案的无基板(缺基板)型光学片的剖面图；
图3是示意图，示出根据示例性实施例的使用具有纳米图案的脱模模具(软模具)在单层(可固化树脂)的一个表面上形成图案的卷对卷工艺；
图4是示意图，示出根据另一示例性实施例的使用具有纳米图案的模具(硬模具)在单层(可固化树脂)的一个表面上形成图案的卷对卷工艺；以及
图5是示意图，示出根据又一示例性实施例的使用具有纳米图案的脱模模具在单层(可固化树脂)的两个表面上形成图案的卷对卷工艺。
<附图的参考标记的说明>
1：脱模模具(软模具) 2：脱模模具(硬模具)
11：导向辊 12：压辊
13：卷绕辊 14：狭缝模头
100：基板层 200：图案层
具体实施例
本发明的一个方面提出一种光学片的制造方法，包括：S1)通过供给可固化树脂组合物来形成单层；(S2)通过使在(S1)中形成的所述单层通过具有节距为50至500nm且纵横比为1.0至5.0的纳米图案的脱模模具，而获得在表面上具有转印的纳米图案的所述单层；以及(S3)将在(S2)中获得的具有转印的纳米图案的单层固化。
通过用可固化树脂涂布由PET、PC、PMMA、TAC、COC或COP制成的基板膜(基板层)的上表面然后执行图案化(形成图案层)，来制造具有微图案或纳米图案的常规光学片。然而，如图1所示，在基板层100与图案层200之间的界面处会发生光损失，由此显著降低透射率或频繁引起光反射。此外，为了解决这样的问题，已经提出了通过在基板层上形成图案层然后去除该基板层，来制造具有单层结构的光学片，但是另外需要分离基板层，因此其制备过程变得非常困难，并且对这种制备工艺在实际处理中的应用施加了限制。
此外，在将纳米级图案转印到光学片上时，可固化树脂与模具相接触的表面积增加，并且与模具的脱模性有所降低，使得在没有常规情况所使用的基板层的情况下，非常难以形成具有纳米图案的光学片。
然而，在本发明中，即使不使用额外工艺，也可以直接应用诸如卷对卷工艺的常规图案转印工艺，因此如图2所示，形成没有基板层的无基板(缺基板)型光学片，其中在其至少一个表面上形成具有50nm至500nm的节距和1.0至5.0的纵横比的纳米级图案。
为了使用常规的压印工艺制造根据本发明的具有纳米级图案的无基板(缺基板)型光学片，本发明的可固化树脂组合物优选包含100重量份的重均分子量为100至30,000的聚氨酯丙烯酸酯和基于100重量份的聚氨酯丙烯酸酯的75重量份至250重量份的重均分子量为100至10,000的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物。
这里，为了防止最终制造的不具有基板层的光学片过度脆性或过度柔性，各个重均分子量优选落入上述范围内，并且可以使用诸如MALDS(基质辅助激光解吸电离质谱法)或GPC(凝胶渗透色谱法)等测量聚合物的分子量的方法确定重均分子量。
具体地，本发明的聚氨酯丙烯酸酯是作为主要成分，所述主要成分被添加以赋予光学片的耐久性、耐卷曲和耐黄化、柔性和作为单层的支撑能力，并且为了确保上述性能，基于可固化树脂的总重量，聚氨酯丙烯酸酯的用量可以为20wt％至40wt％。
另外，在本发明中，含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物是参与固化反应的主要成分，并且具有用氟取代硅氧烷丙烯酸酯的分子结构，因此可以在固化过程之后增大与模具的脱模性中起重要作用。对于具有图案的典型光学片，使用重均分子量为900至1500的硅氧烷丙烯酸酯以得到与模具的脱模性。硅氧烷丙烯酸酯能够在微量级上转印图案，但不能满足纳米级的脱模性。此外，可以使用氟树脂来获得脱模性。在这种情况下，该树脂易于保留在模具中并污染模具，使得难以获得可重复性。
相反，在本发明中，被配置为用氟来取代硅氧烷丙烯酸酯的低聚物被用作主要组分，因此获得脱模性和图案可重复性两者。如果基于100重量份的聚氨酯丙烯酸酯，含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物的量小于75重量份，则脱模性和转印速率会降低，因此导致图案聚集。另一方面，当含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物的量为250重量份以下时，可充分确保脱模性。因此，考虑到氟的价格，其量优选不超过250重量份。
在本发明中，基于100重量份的聚氨酯丙烯酸酯，可固化树脂组合物还可以包含60重量份至125重量份的稀释剂和10重量份至25重量份的聚合引发剂。在本发明中，可以添加稀释剂以调节树脂的粘度，并且该稀释剂优选为丙烯酸酯类单体。由于所有的稀释剂和主要成分都含有丙烯酸酯类单体，所以乙烯基的双键断裂，并因此发生自由基聚合，并且可以容易地进行固化反应。
这里，稀释剂的量优选落入上述范围内，以便将树脂的粘度保持在100cps至300cps的范围内。如果可固化树脂组合物的粘度小于100cps，则在卷对卷压印工艺中组合物的流动性会过度增加，因此导致膜厚度的变化。另一方面，如果其粘度超过300cps，则组合物会渗透入纳米图案中，使得难以形成所需的图案。
在本发明中，聚合引发剂可以是选自由氧化膦类聚合引发剂、丙酮类聚合引发剂、酮类聚合引发剂和甲酸酯类聚合引发剂所组成的组中的至少一种，并且基于100重量份的聚氨酯丙烯酸酯，聚合引发剂优选以10重量份至25重量份的量添加，以防止聚合反应期间的着色或机械强度的劣化。
此外，本发明的可固化树脂组合物可进一步包括但不限于至少一种下述添加剂，所述添加剂选自由UV吸收剂、UV稳定剂、颜色稳定剂、均化剂、抗氧化剂、消泡剂和抗静电剂所组成的组。
同时，本发明的光学片可以使用卷对卷工艺或印模工艺(stamp process)制造，并且优选为卷对卷工艺。这里，如图3至图5所示，使用两个用作轴的导向辊11、具有纳米图案以在光学片上形成图案的脱模模具1,2、以及用于供给片状形式可固化树脂组合物的狭缝模头14，来执行卷对卷工艺。
在本发明的(S1)中，将可固化树脂组合物供给到狭缝模头中以形成单层。在形成单层时，通过根据其最终用途调节卷对卷系统的线速度(line speed)，可以将其厚度设置在10μm至500μm的范围内，但不必限于此。从狭缝模头排出的单层可以在形成纳米图案之前初步固化，但是本发明不必限于此。
当在(S1)中形成的单层通过具有纳米图案的脱模模具时(软模具：图3和图5的1，硬模具：图4和图5的2)，该模具的图案转印在单层的一个表面或两个表面上，由此形成图案(S2)。这里，所述图案可以具有重复的半球形状、圆柱形状、三角锥形状或四角锥形状的微透镜形状，或者诸如棱镜图案或透镜图案的线网格形状，但是本发明不限于此。在对具有图案的单层沿着垂直方向切割时，在剖面上观察到的纳米图案单元形状优选具有50nm至500nm的节距和1.0至5.0的纵横比。所述图案具有在上述范围内的纳米尺寸，因此减轻了由于微细不规则结构引起的折射率的变化。
在本发明中，在(S2)中在单层上形成图案优选以如下方式进行，其中单层用50mj/cm2至150mj/cm2剂量的光进行预固化以及图案转印。当通过用50mj/cm2至150mj/cm2剂量的光照射树脂组合物来执行预固化时，在即使不使用基板层的情况下，也可以防止图案从模具脱模时的图案破碎或层撕裂，并且可以确保最终光学片的卷曲性能和透射率。这里，如果在预固化时以小于50mj/cm2的剂量施加光，则难以在不使用基板的情况下形成图案，或者会使所述片材的卷曲性能劣化。另一方面，如果光的剂量超过150mj/cm2，则可以形成无基板(缺基板)型片材，但是模具脱模性和可重复性会降低。
此外，在本发明中，脱模模具必须在将图案转印到单层上之后有效地脱离，以便在卷对卷工艺中可重复地使用，并且还应当容易清洗。因此，根据本发明的优选方面，脱模模具可以涂覆有选自由硅树脂、氟和特氟龙所组成的组中的至少一种脱模剂。
对模具的表面用脱模剂以如下方式进行处理：在脱模剂的稀释溶液中浸渍模具主体，或者是将脱模剂或其稀释溶液涂布在具有微细不规则结构的模具主体的表面上。更优选地，因为具有微细不规则结构的模具主体的表面可以用脱模剂均匀处理，所以将模具主体浸渍在脱模剂的稀释溶液中。
随后，可以用150mj/cm2以上，优选150mj/cm2至1000mj/cm2的剂量的光对在(S2)中形成的具有纳米图案的单层进行照射，从而最终制造出具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片(S3)。这里，如果光的剂量小于150mj/cm2，则不能进行固化，可靠性会有问题。另一方面，如果光的剂量超过1000mj/cm2，由于过固化会产生脆性，不期望地引起与操作或可靠性有关的问题。光的剂量不必限于此，并且考虑到固化时在卷对卷系统中的线速度，可以优化光的剂量和固化程度。
因此，本发明的光学片可以在用550nm的光照射时呈现为95％以上的透射率，以及在23℃下0至2.0mm的卷曲值。光学片具有上述光学特性和性能，并且与包括基板层的光学片相比，本发明能够提供具有改善的透射率和稳定的可靠性的无基板(缺基板)型光学片。
实施方式
通过以下实例可以获得对本发明的更好理解，所述实例用于说明，而不应被理解为限制本发明的范围。
实例1
基于混合物的总重量，通过将50wt％的作为主要化合物的重均分子量为5,500的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物、20wt％的重均分子量为1,800的聚氨酯丙烯酸酯、25wt％的作为稀释剂的1,6-己二醇二丙烯酸酯以及5wt％的作为聚合引发剂的1-羟基-环己基苯基酮进行混合，来制备粘度为150cps的可固化树脂组合物，然后该可固化树脂组合物被供给到卷对卷系统中，在该卷对卷系统中仅在片材的一个表面上设置脱模模具(购自Soken，日本)，如图3或4所示，由此通过以下方法制造具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片。
(S1)：将所制备的可固化组合物供给到卷对卷系统的狭缝模头中，由此通过狭缝模头14来形成厚度为75μm的单层。
(S2)：将在(S1)中形成的单层供给到具有节距为100nm和纵横比为3.5的纳米棱镜图案的脱模软模具1中，由此在该单层的一个表面上形成蛾眼图案，同时转印该图案。此外，在转印该图案时，以100mj/cm2的剂量施加UV光，从而进行预固化。
(S3)：使用500mj/cm2的剂量的UV光固化在(S2)中形成的具有图案的单层，最终制造具有纳米图案的光学片。
实例2
除了如图5所示在(S2)中的单层的两个表面上形成与实例1相同的图案(上图案和下图案相同)之外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的光学片。
实例3
除了将在(S2)中预固化时光的剂量改变为50mj/cm2之外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的光学片。
实例4
除了将在(S2)中预固化时光的剂量改变为150mj/cm2之外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的光学片。
实例5
除了添加30wt％的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物和40wt％的聚氨酯丙烯酸酯以外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的光学片。
比较例1.形成包括基板层的具有纳米图案的光学片
除了使用与实例1中相同的可固化组合物，还使用PET膜(KOLON，50μm)作为基板层，以及在(S1)中在该基板层上涂布厚度为25μm的可固化性组合物之外，以与实例1相同的方式制造含有基板层的具有纳米图案的光学片。
比较例2.省略预固化
使用与实例1相同的可固化组合物，尝试省略(S2)中的预固化，但是可固化组合物粘附到模具，使得不可能制造出片材。
比较例3.在改变预固化光剂量的条件下形成无基板(缺基板)型光学片
除了使用与实例1中相同的可固化组合物，以及将在(S2)中预固化时光的剂量改变为45mj/cm2之外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的光学片。
比较实例4.在改变预固化光剂量的条件下形成无基板(缺基板)型光学片
除了使用与实例1中相同的可固化组合物，以及将在(S2)中预固化时光的剂量改变为160mj/cm2之外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的光学片。
比较例5.使用具有不同组分比的可固化组合物形成无基板(缺基板)型光学片
除了添加10wt％的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物和60wt％的聚氨酯丙烯酸酯之外，以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片。
比较例6.使用具有不同组分的可固化组合物形成无基板(缺基板)型光学片
除了使用30wt％的分子量为1,100的聚硅氧烷丙烯酸酯(购自Miwon)以代替含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物之外，以与实例3中相同的方式制造具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片。
比较例7.使用具有不同组分和不同组分比的可固化组合物形成无基板(缺基板) 型光学片
除了进一步添加10wt％的聚硅氧烷丙烯酸酯(购自Miwon)和添加30wt％的聚氨酯丙烯酸酯(购自Miwon)之外，以与实例3相同的方式制造具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片。
比较例8.使用典型的可固化组合物形成无基板(缺基板)型光学片
除了不添加含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物或聚硅氧烷丙烯酸酯，以及仅添加70wt％的聚氨酯丙烯酸酯之外，尝试以与实例1相同的方式制造具有纳米图案的无基板(缺基板)型光学片，但是组合物粘附到模具，并且不能形成图案。
用于制造实例1至实例5和比较例1至比较例8的光学片的可固化组合物的组分总结在下表1中。
表1
1)化合物A：含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物
2)化合物B：聚硅氧烷丙烯酸酯
3)化合物C：聚氨酯丙烯酸酯
4)稀释剂：(1,6-己二醇二丙烯酸酯)
5)固化剂：(1-羟基-环己基苯基-酮)
此外，在实例1至5和比较例1至8中，除了不能形成图案本身的比较例2(没有预固化)和比较例8(使用典型的组合物)之外，通过以下方法测量脱模性、透射率和卷曲性能。结果如下表2中所示。
<测量>
转印速率(脱模性)和可重复性的测量
对于脱膜性，当在图案化之后在移除模具后或从模具移除后没有在棱镜上进行转印时，外观有缺陷。用肉眼观察到缺陷的情况被判定为NG(不良)，而在用SEM观察时脱模后的图案转印率为90％以上的情况被判定为良好。对于连续五次转印，当光学膜的转印率保持在相同水平时，可重复性被判定为良好，但是当基于五次连续转印的结果，由于模具的表面污染而使转印率降低20％以上时，可重复性被判定为差。
透射率的测量
将片材切成5cm*5cm的尺寸，并使用分光光度计(CM-3600)在550nm的波长下测量其透射率。
卷曲性能的测量
样品在以下条件下进行可靠性测试：其处于65℃的温度和85％的湿度下1000小时，之后该样品处于室温(23°C)下1小时，并使用钢尺或间隙规来测量其卷曲性能。
[表2]
由表2显而易见，在实例1至5中，与包括基板层的比较例1相比，转印率、可重复性、透射率和卷曲性能均是优异的，特别是透射率和卷曲性能得以显著提高。基于比较例3和4的结果，当预固化时光的剂量小于50mj/cm2时，卷曲性能变差。另一方面，当光的剂量超过150mj/cm2时，制造出无基板(缺基板)型片材，但是脱模性差，因此降低了生产率。
对于可固化组合物，如果基于组合物的总重量，含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物的量小于30wt％，如在比较例5中那样，发生图案聚集，因此使得不可能形成精细的纳米图案，由此显著降低透射率。在比较例6中，使用通常的不含氟的聚硅氧烷丙烯酸酯代替含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物，脱模性显著降低，因此未形成纳米图案。即使在比较例7中含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物的添加量为30wt％以上，其与聚硅氧烷丙烯酸酯混合使用，因此有可能转印时，但氟含量相对较低，因此可重复性低，因此不适合用于大量生产。

Claims (9)

1.一种制造光学片的方法，包括：
(S1)通过供给可固化树脂组合物来形成单层；
(S2)通过使在(S1)中形成的所述单层通过具有节距为50nm至500nm且纵横比为1.0至5.0的纳米图案的脱模模具，来获得在所述单层的表面上具有转印的纳米图案的所述单层；以及
(S3)将在(S2)中获得的具有所述转印的纳米图案的所述单层固化，
其中，(S1)中的所述可固化树脂组合物包含100重量份的重均分子量为100至30,000的聚氨酯丙烯酸酯和基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯的75重量份至250重量份的重均分子量为100至10,000的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯，(S1)中的所述可固化树脂组合物进一步包含60重量份至125重量份的稀释剂和10重量份至25重量份的聚合引发剂。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，(S1)中的所述可固化树脂组合物的粘度为100cps至300cps。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，(S2)包括在转印所述纳米图案的同时用50mj/cm2至150mj/cm2的剂量的光对所述单层进行预固化。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱模模具涂布有选自由有机硅、氟和特氟龙组成的组中的至少一种脱模剂。
6.一种光学片，该光学片由可固化组合物形成，所述可固化组合物包含100重量份的重均分子量为100至30,000的聚氨酯丙烯酸酯和基于100重量份的所述聚氨酯丙烯酸酯的75重量份至250重量份的重均分子量为100至10,000的含氟硅氧烷丙烯酸酯低聚物，并且在所述光学片的至少一个表面上具有多个纳米图案，所述纳米图案具有50nm至500nm的节距和1.0至5.0的纵横比。
7.根据权利要求6所述的光学片，其中，所述光学片在用550nm的光照射时具有95％以上的透射率。
8.根据权利要求6所述的光学片，其中，所述光学片在23℃下的卷曲值为0至2.0mm。
9.根据权利要求6所述的光学片，其中，所述光学片通过权利要求1至5中任意一项所述的方法制造。
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