KR20130064689A - 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치 - Google Patents

광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130064689A
KR20130064689A KR1020120123102A KR20120123102A KR20130064689A KR 20130064689 A KR20130064689 A KR 20130064689A KR 1020120123102 A KR1020120123102 A KR 1020120123102A KR 20120123102 A KR20120123102 A KR 20120123102A KR 20130064689 A KR20130064689 A KR 20130064689A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substituted
unsubstituted
group
photorefractive
formulas
Prior art date
Application number
KR1020120123102A
Other languages
English (en)
Inventor
황규영
이계황
정재은
최칠성
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Publication of KR20130064689A publication Critical patent/KR20130064689A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/01Hydrocarbons
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0016Plasticisers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0041Optical brightening agents, organic pigments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L65/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/32Holograms used as optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35Non-linear optics
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0476Holographic printer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/10Processes or apparatus for producing holograms using modulated reference beam
    • G03H1/12Spatial modulation, e.g. ghost imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/22Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
    • G03H1/2294Addressing the hologram to an active spatial light modulator
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/26Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
    • G03H1/268Holographic stereogram
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026Recording materials or recording processes
    • G03H2001/0264Organic recording material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/18Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
    • G03H1/182Post-exposure processing, e.g. latensification
    • G03H2001/183Erasing the holographic information
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/26Processes or apparatus specially adapted to produce multiple sub- holograms or to obtain images from them, e.g. multicolour technique
    • G03H1/2645Multiplexing processes, e.g. aperture, shift, or wavefront multiplexing
    • G03H2001/2655Time multiplexing, i.e. consecutive records wherein the period between records is pertinent per se
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2225/00Active addressable light modulator
    • G03H2225/20Nature, e.g. e-beam addressed
    • G03H2225/25Optically addressed SLM [OA-SLM]
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00Recording materials or recording processes
    • G03H2260/50Reactivity or recording processes
    • G03H2260/54Photorefractive reactivity wherein light induces photo-generation, redistribution and trapping of charges then a modification of refractive index, e.g. photorefractive polymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

일 측면에 따라 광전도성 고분자; 비선형 광학 색소; 및 하기의 화학식 1A 내지 화학식 1C 로 표시되는 카보레인 화합물 중 1종 이상을 포함하는 광굴절 복합체를 제공한다.
Figure pat00045

상기 화학식 1A 내지 화학식 1C 중, R1 및 R2는 발명의 상세한 설명을 참조한다.

Description

광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치{Photorefractive composite, spatial light modulator and hologram display device using the same}
광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치에 관한 것이다.
홀로그램(hologram)을 구현하기 위하여 광굴절 복합체(photorefractive composite)를 이용한 공간광 변조기(spatial light modulator; SLM)가 활발하게 연구되고 있다. 광굴절 복합체는 비선형 광학성질(optical nonlinearity)과 광전도성(photoconductivity)을 동시에 갖고 있는 물질로서, 조사하는 빛에 의하여 발생된 전하의 재분포로 인하여 물질의 굴절율이 공간상에서 주기적으로 변화(spatial modutation of refractvie index)하는 물질이다. 공간광 변조기는 광빔(light beam)의 강도(intensity) 및 위상(phase)을 변조할 수 있는 장치로서 3D 정보를 반복적으로 기록하는 것이 가능하다. 그러나 현재 공간광 변조기는 광변조 속도가 디스플레이를 구현하기에는 충분히 빠르지 못하여 새로운 광굴절 복합체의 개발이 요구되고 있다.
일 측면은 광굴절 효율과 광굴절 속도가 향상된 광굴절 복합체를 제공하는 것이다.
다른 일 측면은 광변조 효율과 광변조 속도가 향상된 공간광 변조기를 제공하는 것이다.
다른 일 측면은 화면전환 속도가 향상된 홀로그램 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
일 측면에 따라 광전도성 고분자; 비선형 광학 색소; 및 하기의 화학식 1A 내지 화학식 1C 로 표시되는 카보레인 화합물 중 1종 이상을 포함하는 광굴절 복합체를 제공한다.
Figure pat00001
상기 화학식 1A 내지 화학식 1C 중,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C5-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴티오기 중 하나이이다.
다른 일 측면에 따라 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하는 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재되고, 전도성 고분자, 비선형 광학 물질, 및 상기의 화학식 1A 내지 화학식 1C로 표시되는 카보레인 화합물 중 1종 이상을 포함하는 광굴절층; 을 포함하는 공간광 변조기를 제공한다.
또 다른 일 측면에 따라 물체의 3차원 영상을 기록하고 재생하기 위한 광을 조사하는 광원부; 상기 물체의 3차원 영상 정보를 입력하는 입력부; 상기 광원부로부터 조사되는 광을 이용하여 상기 입력부의 상기 물체의 3차원 영상 정보를 기록하고 상기 물체의 3차원 영상을 재생하는 상기의 공간광 변조기를 포함하는 표시부; 및 상기 광원부에서 조사되는 광을 상기 입력부와 상기 표시부로 배분하여 전달하는 광학계; 를 포함하는 홀로그램 디스플레이 장치를 제공한다.
광굴절 복합체에 전자를 공간적으로 고정시키는 역할을 할 수 있는 카보레인 화합물을 도입함으로써 광굴절 복합체의 광굴절 속도를 향상시킬 수 있다. 또한, 광굴절 속도가 향상된 광굴절 복합체를 사용함으로써 광변조 속도가 향상된 공간광 변조기 및 화면전환 속도가 향상된 홀로그램 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 일 구현예에 따른 공간광 변조기를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2는 일 구현예에 따른 홀로그램 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 3은 실시예 1, 2 및 비교예 1의 광굴절 소자의 암전도도(dark conductivity) 대 전기장의 그래프이다.
도 4는 실시예 1, 2 및 비교예 1의 광굴절 소자의 광전도도(photo conductivity) 대 전기장의 그래프이다.
이하에서 일 구현예에 따른 광굴절 복합체에 관하여 상세하게 설명한다.
일 구현예에 따른 광굴절 복합체는 광전도성 고분자, 비선형 광학 색소 및 카보레인 화합물을 포함한다.
광전도성 고분자는 전자기 방사(electomagnetic radiatiion)를 흡수하면 전기 전도도가 향상되는 고분자이다. 전자기 방사에는 가시광, UV, 적외선 등의 광이 포함된다. 광전도성 고분자는 광굴절 복합체 내에서 광조사에 의하여 생성된 전하를 이동시켜서 정공과 전자의 공간적 비율을 변화시킴으로써 광굴절 복합체 내부에 전기장을 유도시킬 수 있다.
광전도성 고분자는 예를 들면, 카바졸 유닛 또는 트리페닐아민 유닛을 포함할 수 있으나, 이에 한정된 것은 아니다. 광전도성 고분자는 예를 들면, 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole: PVK), 폴리실록산카바졸(polysiloxane carbazole), 폴리파라페닐렌비닐렌(polyparaphenylenevinylene), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리아세틸렌(polyacetylene), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리알킬티오펜(polyalkylthiophene), 카바졸 치환된 폴리 실란(carbazole-substituted polysiloxane: PSX-Cz), 폴리페닐터프탈레이트카바졸(poly(p-phenylene terephthalate) carbazole: PPT-CZ), 폴리아크릴레이트트리페닐아민(polyacrylate triphenylamine: TATPD) 이들의 유도체, 이들의 혼합물 또는 이들의 공중합체를 포함할 수 있다.
광전도성 고분자는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 30-60 중량부의 범위를 가질 수 있다.
비선형 광학 색소(nonlinear optical chromophore)는 광굴절 복합체 내부에 유도된 전기장에 의하여 공간적인 굴절율 차이를 나타내게 한다.
비선형 광학 색소는 예를 들면, PDCST(4-piperidinobenzylidene malononitrile), DMNPAA(2,5-dimethyl-4-(p-nitrophenylazo)anisole), DHADC-MPN(2,N,N-dihexyl-amino-7-dicyanomethylidenyl-3,4,5,6,10-pentahydronaphthalene), AODCST(4-di(2-methoxyethyl)aminobenzylidene malonotitrile), ATOP(amino-thienyl-dioxocyano-pyridine), FTCN(fluorinated cyano-tolane chromophore), 또는 DEANST(diethylamino-nitrostyrene)을 포함할 수 있다.
Figure pat00002
<PDCST>
Figure pat00003
<DMNPAA>
Figure pat00004
<DHADC-MPN>
Figure pat00005
<AODCST>
Figure pat00006
<ATOP>
Figure pat00007
<FTCN>
Figure pat00008
<DEANST>
Figure pat00009
<5CB>
Figure pat00010
<8OCB>
비선형 광학 색소는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 20-50 중량부의 범위를 가질 수 있다.
전자 부족(electron-deficient) 원자인 보론을 다수 포함하고 있는 카보레인 화합물은 전자 친화도(electron affinity)가 매우 우수하여 전자를 잘 트랩할 수 있다. 광굴절 복합체 내에서 전자가 잘 트랩되면 정공과 전자의 공간적 분포의 차이가 생겨서 광굴절 변환 속도가 증가될 수 있으며, 또한 암전류(dark current)가 크게 감소하여 광굴절 효율을 향상시킬 수 있다.
한편, 카보레인 화합물은 광을 흡수할 수 있으며, 카보레인 화합물의 공액 길이(conjugation length)를 조절하여 흡수되는 광의 파장 영역을 조절할 수 있다. 카보레인 화합물의 공액 길이는 치환기를 변경하여 조절할 수 있다. 예를 들면, 벤젠 고리가 길어져서 공액 길이가 증가되어 카보레인 화합물의 광흡수 영역이 가시광선 영역에 속할 수 있다. 카보레인 화합물의 광흡수 영역이 가시광선 영역일 경우, 카보레인 화합물이 가시광선을 받아서 광굴절 복합체 내에 전하를 생성하는 감광제의 역할을 수행할 수 있으므로 광굴절 복합체에 별도의 감광제를 사용하지 않을 수 있다.
카보레인 화합물은 하기의 화학식 1A 내지 1C로 표시되는 화합물 중 하나일 수 있다.
<화학식 1A> <화학식 1B> <화학식 1C>
Figure pat00011
Figure pat00012
Figure pat00013

상기 화학식 1A 내지 1C 중, R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C5-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴옥시기, 또는 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴티오기 중 하나일 수 있다. 이때 상기 치환된 C5-C60 아릴기는 하나 이상의 카보레인기를 포함할 수 있고, 카보레인기를 포함하지 않을 수도 있다.
상기 "치환 또는 비치환된 A(A는 임의의 치환기)"라는 표현 중 "치환된 A"란 용어는 "상기 A의 하나 이상의 수소 원자가 중수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실기, 시아노기, 니트로기, 아미노기, 히드라진, 히드라존, 카르복실기 또는 이의 염 유도체, 술폰산기 또는 이의 염 유도체, 인산기 또는 이의 염 유도체, C1-C20 알킬기, C2-C20 알케닐기, C2-C20 알키닐기, C1-C20 알콕시기, C3-C20 시클로알킬기, C3-C20 시클로알케닐기, C5-C60 아릴기, C5-C20 아릴옥시기, C5-C20 아릴티오기, C3-C20 헤테로아릴기, N(Q1)(Q2)로 표시되는 그룹 및 Si(Q3)(Q4)(Q5)로 표시되는 그룹 중 하나로 치환된 A"를 의미한다. 여기서, Q1 내지 Q5는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 히드록실기, 시아노기, 아미노기, 니트로기, 카르복실기, C1-C20 알킬기, C2-C20 알케닐기, C2-C20 알키닐기, C1-C20 알콕시기, C3-C20 시클로알킬기, C3-C20 시클로알케닐기, C5-C60 아릴기, C5-C20 아릴옥시기, C5-C20 아릴티오기 및 C3-C20 헤테로아릴기 중 하나일 수 있다.
예를 들면, 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2A 내지 2P로 표시되는 화합물 중 하나일 수 있다.
Figure pat00014
Figure pat00015
Figure pat00016
Figure pat00017
Figure pat00018
Figure pat00019
상기 화학식 2A 내지 2P 중, Z1 및 Z2는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C5-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C5-C20 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C5-C20 아릴티오기 중 하나이다.
복수 개의 Z1 및 Z2는 각각 서로 동일하거나 상이할 수 있고, p 및 q 는 1 내지 5 의 정수 중 하나이고, n 은 0 내지 10 의 정수 중 하나이다.
Ar1, Ar2 및 Ar3 은 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴렌기이고, a 및 b는 각각 0 내지 2의 정수 중 하나이고, c는 1 내지 5의 정수 중 하나이다.
더욱 구체적으로, 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2A 내지 2C로 표시되는 화합물 중 하나일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure pat00020
또한, 상기 화학식 2N 내지 화학식 2P로 표시되는 카보레인 화합물은 하기의 화학식 3A 내지 화학식 3D로 표시되는 카보레인 화합물 중 하나일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Figure pat00021
Figure pat00022
카보레인 화합물은 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-5 중량부의 범위를 가질 수 있다.
다른 일 구현예에 따른 광굴절 복합체는 광전도성 고분자, 비선형 광학 색소, 카보레인 화합물 및 광감제(sensitizer)를 포함한다.
광전도성 고분자, 비선형 광학 색소 및 카보레인 화합물은 앞에서 설명한 바와 같다.
광감제(sensitizer)는 특정한 파장대의 광원, 예를 들면 가시광선에 의해 여기되어 전자와 정공을 생성할 수 있다. 광감제는 예를 들면, C60 풀러렌(C60 fullerene), PCBM(phenyl-C61-butyric acid methyl ester), TNF(2,4,7-trinitrofluorenone), 또는 TNFDM(2,4,7-trinitro-9-fluorenylidene-malononitrile) 을 포함할 수 있다.
Figure pat00023
Figure pat00024
본 구현예에서 광전도성 고분자는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 30-60 중량부의 범위를 가질 수 있다. 비선형 광학 색소는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 20-50 중량부의 범위를 가질 수 있다. 카보레인 화합물은 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-5 중량부의 범위를 가질 수 있다. 감광제는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-3 중량부의 범위를 가질 수 있다.
또 다른 일 구현예에 따른 광굴절 복합체는 광전도성 고분자, 비선형 광학 색소, 카보레인 화합물, 광감제 및 가소제(plasticizer)를 포함한다.
광전도성 고분자, 비선형 광학 색소, 카보레인 화합물 및 감광제는 앞에서 설명한 바와 같다.
가소제는 광굴절 복합체의 유리 전이 온도를 감소시킴으로써 광굴절 복합체 물질들의 자유도를 증가시켜 배향 증가(orientational enhancement) 효과에 의해 광굴절 효율을 향상시킬 수 있다.
가소제는 예를 들면, ECZ(ethylcarbazole), DMP(dimethylphthalate), DEP(diethylphthalate), DIBP(diisobutylphtalate), DBP(dibutylphtalate), DHP((diheptylphtalate), DOP(di-2-ethylhexyl phthalate), DIOP(dioctyl phthalate), DnOP (di-n-octyl phthalate), DNP(dinonylphthalate), DIDP(diisodecylphthalate), DTDP(ditridecylphthalate), DCHP(dicyclohexyl phthalate); BBP(benzyl butyl phthalate), BLP(butyllauryl phthalate), DOA(dioctyl adipate), DIDA(diisodecyl adipate), DOZ(dioctyl azelate), DBS(dibutyl sebacate), DOS(dioctyl sebacate), DOTP(dioctyl terephthalate), DEDB(diethylene glycol dibenzoate), BO(butyl oleate), TCP(tricresyl phosphate), TOP (trioctyl phosphate), TPP(triphenyl phosphate), TCEP(trichloroethyl phosphate) 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.
본 구현예에서 광전도성 고분자는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 30-60 중량부의 범위를 가질 수 있다. 비선형 광학 색소는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 20-50 중량부의 범위를 가질 수 있다. 카보레인 화합물은 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-5 중량부의 범위를 가질 수 있다. 감광제는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-3 중량부의 범위를 가질 수 있다. 가소제는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 1-30 중량부의 범위를 가질 수 있다.
이하에서 일 구현예에 따른 공간광 변조기(space light modulator: SLM)에 관하여 상세하게 설명한다.
도 1은 일 구현예에 따른 공간광 변조기를 개략적으로 도시한 단면도이다. 도 1을 참조하면, 일 구현예에 따른 공간광 변조기(100)는 제1 전극(10), 상기 제1 전극(10)과 대향하는 제2 전극(30), 상기 제1 전극(10)과 상기 제2 전극(30) 사이에 개재된 광굴절층(20)을 포함한다. 제1 전극(10)은 Au, Al, ITO, IZO 등의 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 전극(30)은 제1 전극(10)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
광굴절층(20)은 앞의 구현예들에서 설명한 전도성 고분자, 비선형 광학 색소 및 카보레인 화합물을 포함하는 광굴절 복합체로 이루어질 수 있다.
광굴절층(20)에 동일한 파장의 가간섭성 광(coherent light)이 조사되면 보강간섭이 일어난 부분에서 전하가 생성되어 이동하면서 내부 전기장이 생성된다. 내부 전기장에 의하여 광굴절층(20) 내에서 굴절율이 변하여 회절격자 구조가 형성된다. 공간광 변조기에 형성된 회절격자는 3차원 영상의 정보를 가지고 있어 기준광(reference beam)를 조사해 주면 3차원 영상을 공간광 변조기 주위에 형성시키게 된다.
본 구현예에서는 광굴절층(20)에 위에서 설명한 바와 같은 카보레인 화합물을 포함하는 광굴절 복합체를 사용함으로써, 조사되는 광이 변화함에 따른 전하의 재분포 속도를 빠르게 하여 광굴절 속도가 향상될 수 있고 따라서 광변조 속도가 향상될 수 있다.
이하에서 일 구현예에 따른 홀로그램 디스플레이 장치에 관하여 상세하게 설명한다.
도 2는 일 구현예에 따른 홀로그램 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다. 도 2를 참조하면, 일 구현예에 따른 홀로그램 디스플레이 장치(200)는 광원부(210), 입력부(220), 광학계(230) 및 표시부(240)를 포함한다.
광원부(210)는 입력부(220) 및 표시부(240)에서 물체의 3차원 영상 정보를 제공, 기록 및 재생하는데 사용되는 레이저빔을 조사하는 부분이다.
입력부(220)는 표시부(240)에 기록할 물체의 3차원 영상 정보를 미리 입력하는 부분이다. 입력부(220)는 예를 들면, 전기 구동 액정 SLM(electrically addressed liquid crystal SLM)(221)에 공간별 빛의 세기와 위상과 같은 물체의 3차원 정보를 입력할 수 있다. 이때 입력빔(212)이 사용될 수 있다.
광학계(230)는 미러, 편광기, 빔스플리터, 빔셔터, 렌즈 등으로 구성될 수 있다. 광학계(230)는 광원부(210)에서 나오는 레이저빔(211)을 입력부(220)로 보내는 입력빔(212), 표시부(240)로 보내는 기록빔(213), 기준빔(214), 소거빔(215), 독출빔(216) 등으로 분배할 수 있다.
표시부(240)는 입력부(220)로부터 물체의 3차원 영상 정보를 전달받아서 광학 구동 SLM(optically addressed SLM)으로 이루어진 홀로그램 플레이트(241)에 기록하고, 물체의 3차원 영상을 재생할 수 있다. 이때, 입력빔(213)과 기준빔(214)의 간섭을 통하여 물체의 3차원 영상 정보를 기록할 수 있다. 홀로그램 플레이트(241)의 광학 구동 SLM은 위의 구현예에 따른 공간광 변조기를 사용할 수 있다. 홀로그램 플레이트(241)에 기록된 물체의 3차원 영상 정보는 독출빔(216)이 생성하는 회절 패턴에 의하여 3차원 영상으로 재생될 수 있다. 소거빔(215)은 형성된 회절 격자를 빠르게 원상태로 만드는데 사용될 수 있다. 한편, 홀로그램 플레이트(241)를 3차원 영상을 입력하는 위치와 재생하는 위치 사이에서 이동시킬 수 있다.
본 구현예의 홀로그램 디스플레이 장치는 홀로그램 플레이트(241)의 광학 구동 SLM 에 위의 구현예에서 설명한 바와 같은 공간광 변조기를 사용함으로써, 빠른 광변조 속도에 따라서 화면 전환 속도가 향상될 수 있다.
한편, 위에서 설명한 홀로그램 디스플레이 장치뿐만 아니라, 다양한 형태의 홀로그램 디스플레이 장치에 대하여 상기 구현예들에서 설명한 광굴절 복합체 및 공간광 변조기를 적용될 수 있다.
실시예 1
중량비 49.4: 30: 20: 0.5: 0.1의 PVK: PDCST: ECZ: PCBM: 화학식 2A(o-카보레인, Aldrich)을 톨루엔 용매에 녹여서 광굴절 복합체용 용액을 제조하였다. 이때 톨루엔 용매에 대한 전체 조성물(PVK, PDCST, ECZ, PCBM 및 o-카보레인)의 중량비는 4:1이었다.
상기 광굴절 복합체용 용액을 스페이서에 의하여 100㎛ 간격으로 벌어진 두 ITO 전극 사이에 채우고, 증발에 의하여 용매를 제거함으로써 두 전극 사이에 광굴절층을 포함하는 광굴절 소자를 형성하였다.
실시예 2
광굴절 복합체용 용액에서 o-카보레인 대신, 화학식 3B의 카보레인 화합물을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 광굴절 소자를 형성하였다.
실시예 3
광굴절 복합체용 용액에서 o-카보레인 대신, 화학식 3D의 카보레인 화합물을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 광굴절 소자를 형성하였다.
비교예 1
카보레인 화합물을 사용하지 않은 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐서 광굴절 소자를 형성하였다.
실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예의 광굴절 복합체의 성분비를 아래 표 1에 나타내었다.
광전도성 고분자 비선형
광학색소
광감제 가소제 카보레인 화합물
실시예 1 PVK
49.4 wt %
PDCST
30 wt %
PCBM
0.5 wt %
ECZ
20 wt %
화학식 2A
0.1 wt %
실시예 2 PVK
49.4 wt %
PDCST
30 wt %
PCBM
0.5 wt %
ECZ
20 wt %
화학식 3B
0.1 wt %
실시예 3 PVK
49.4 wt %
PDCST
30 wt %
PCBM
0.5 wt %
ECZ
20 wt %
화학식 3D
0.1 wt %
비교예 PVK
49.5 wt %
PDCST
30 wt %
PCBM
0.5 wt %
ECZ
20 wt %
-
전도도 특성( conductivity characteristics )
도 3은 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1의 광굴절 소자의 암전도도(dark conductivity) 대 전기장의 그래프이다. 도 3의 암전도도 대 전기장 특성은 빛이 들어가지 않는 조건에서 광굴절 소자에 전압을 인가하면서 전도도를 측정하여 얻었다. 도 3의 그래프를 참조하면, 실시예 1의 광굴절 소자의 암전도도가 가장 낮았고, 또한, 실시예 1 내지 실시예 3의 광굴절 소자의 암전도도가 모두 비교예 1의 광굴절 소자의 암전도도보다 더 낮았다. 이는 카보레인이 높은 전자 친화력을 갖고 있어서 효율적으로 전자를 포획하여 전류를 낮추기 때문으로 여겨진다. 암전도도가 낮으므로 광굴절 소자의 효율 또한 우수할 것으로 예상된다.
도 4는 실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1의 광굴절 소자의 광전도도(photo conductivity) 대 전기장의 그래프이다. 도 4의 암전도도 대 전기장 특성은 광굴절 소자에 13mW의 633㎚ 파장의 He-Ne 레이저를 조사하는 조건에서 얻었다. 도 4의 그래프를 참조하면, 실시예 2 및 실시예 3의 광굴절 소자의 광전도도가 가장 높고, 실시예 1과 비교예 1의 광굴절 소자의 광전도도는 거의 비슷한 수준이었다.
상기 실시예 1 내지 실시예 3의 광굴절 소자의 전도도 특성으로부터 본 구현예에 의한 광굴절 소자의 특성이 종래의 광굴절 소자 보다 우수함을 알 수 있다.
100: 공간광 변조기 10: 제1 전극
20: 광굴절층 30: 제2 전극
200: 홀로그램 디스플레이 장치 210: 광원부
220: 입력부 230: 광학계
240: 표시부 221: 전기 구동 액정 SLM
241: 홀로그램 플레이트

Claims (30)

  1. 광전도성 고분자;
    비선형 광학 색소; 및
    하기의 화학식 1A 내지 화학식 1C 로 표시되는 카보레인 화합물 중 1종 이상을 포함하는 광굴절 복합체:
    Figure pat00025

    상기 화학식 1A 내지 화학식 1C 중,
    R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C5-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴티오기 중 하나이다.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2A 내지 2M 으로 표시되는 화합물 중 하나인 광굴절 복합체:
    Figure pat00026

    Figure pat00027

    Figure pat00028

    Figure pat00029

    상기 화학식 2A 내지 화학식 2M 중,
    Z1 및 Z2 는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴티오기 중 하나이고,
    복수 개의 Z1 및 Z2는 각각 서로 동일하거나 상이할 수 있고, p 및 q 는 1 내지 5 의 정수 중 하나이고, n 은 0 내지 10 의 정수 중 하나이다.
  3. 제1 항에 있어서, 상기 치환된 C5-C60 아릴기는 적어도 하나 이상의 카보레인기를 포함하는 광굴절 복합체.
  4. 제3 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2N 내지 2P로 표시되는 화합물 중 하나인 광굴절 복합체:
    Figure pat00030

    Figure pat00031

    상기 화학식 2N 내지 화학식 2P 중,
    Z1 및 Z2 는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴티오기 중 하나이고,
    복수 개의 Z1 및 Z2는 각각 서로 동일하거나 상이할 수 있고, p 및 q 는 1 내지 5 의 정수 중 하나이고, n 은 0 내지 10 의 정수 중 하나이고,
    Ar1, Ar2 및 Ar3 은 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴렌기이고, a 및 b는 각각 0 내지 2의 정수 중 하나이고, c는 1 내지 5의 정수 중 하나이다.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2A 내지 2C로 표시되는 화합물 중 하나인 광굴절 복합체:
    Figure pat00032
  6. 제4 항에 있어서, 상기 화학식 2N 내지 화학식 2P로 표시되는 화합물은 하기의 화학식 3A 내지 화학식 3D로 표시되는 화합물 중 하나인 광굴절 복합체:
    Figure pat00033

    Figure pat00034
  7. 제1 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-5 범위의 중량부인 광굴절 복합체.
  8. 제1 항에 있어서, 상기 전도성 고분자는 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole: PVK), 폴리실록산카바졸(polysiloxane carbazole), 폴리파라페닐렌비닐렌(polyparaphenylenevinylene), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리아세틸렌(polyacetylene), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리알킬티오펜(polyalkylthiophene), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광굴절 복합체.
  9. 제1 항에 있어서, 상기 전도성 고분자는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 30-60 범위의 중량부인 광굴절 복합체.
  10. 제1 항에 있어서, 상기 비선형 광학 색소는 PDCST(4-piperidinobenzylidene malononitrile), DMNPAA(2,5-dimethyl-4-(p-nitrophenylazo)anisole), DHADC-MPN(2,N,N-dihexyl-amino-7-dicyanomethylidenyl-3,4,5,6,10-pentahydronaphthalene), AODCST(4-di(2-methoxyethyl)aminobenzylidene malonotitrile), ATOP(amino-thienyl-dioxocyano-pyridine), FTCN(fluorinated cyano-tolane chromophore), DEANST(diethylamino-nitrostyrene), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광굴절 복합체.
  11. 제1 항에 있어서, 상기 비선형 광학 색소는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 20-50 범위의 중량부인 광굴절 복합체.
  12. 제1 항에 있어서, 광감제를 더 포함하는 광굴절 복합체.
  13. 제12 항에 있어서, 상기 광감제는 C60 풀러렌(C60 fullerene), PCBM(phenyl-C61-butyric acid methyl ester), TNF(2,4,7-trinitrofluorenone), TNFDM(2,4,7-trinitro-9-fluorenylidene-malononitrile) 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광굴절 복합체.
  14. 제12 항에 있어서, 상기 광감제는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 0.1-3 범위의 중량부인 광굴절 복합체.
  15. 제1 항에 있어서, 가소제를 더 포함하는 광굴절 복합체.
  16. 제15 항에 있어서, 상기 가소제는 ECZ(ethylcarbazole), DMP(dimethylphthalate), DEP(diethylphthalate), DIBP(diisobutylphtalate), DBP(dibutylphtalate), DHP((diheptylphtalate), DOP(di-2-ethylhexyl phthalate), DIOP(dioctyl phthalate), DnOP (di-n-octyl phthalate), DNP(dinonylphthalate), DIDP(diisodecylphthalate), DTDP(ditridecylphthalate), DCHP(dicyclohexyl phthalate); BBP(benzyl butyl phthalate), BLP(butyllauryl phthalate), DOA(dioctyl adipate), DIDA(diisodecyl adipate), DOZ(dioctyl azelate), DBS(dibutyl sebacate), DOS(dioctyl sebacate), DOTP(dioctyl terephthalate), DEDB(diethylene glycol dibenzoate), BO(butyl oleate), TCP(tricresyl phosphate), TOP (trioctyl phosphate), TPP(triphenyl phosphate), TCEP(trichloroethyl phosphate), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광굴절 복합체.
  17. 제15 항에 있어서, 상기 가소제는 전체 광굴절 복합체 100 중량부에 대하여 1-20 범위의 중량부인 광굴절 복합체.
  18. 제1 전극;
    상기 제1 전극과 대향하는 제2 전극; 및
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재되고, 전도성 고분자, 비선형 광학 물질, 및 하기의 화학식 1A 내지 화학식 1C로 표시되는 카보레인 화합물 중 1종 이상을 포함하는 광굴절층; 을 포함하는 공간광 변조기:
    Figure pat00035

    상기 화학식 1A 내지 1C 중,
    R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C30 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C30 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C5-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C30 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C5-C30 아릴티오기 중 하나이다.
  19. 제18 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2A 내지 2M으로 표시되는 화합물 중 하나인 공간광 변조기:
    Figure pat00036

    Figure pat00037

    Figure pat00038

    Figure pat00039

    상기 화학식 2A 내지 2M 중,
    복수 개의 Z1 및 Z2는 각각 서로 동일하거나 상이할 수 있고, p 및 q 는 1 내지 5 의 정수 중 하나이고, n 은 0 내지 10 의 정수 중 하나이다.
  20. 제18 항에 있어서, 상기 치환된 C5-C60 아릴기는 적어도 하나 이상의 카보레인기를 포함하는 공간광 변조기.
  21. 제20 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2N 내지 2P로 표시되는 화합물 중 하나인 공간광 변조기:
    Figure pat00040

    Figure pat00041

    상기 화학식 2N 내지 화학식 2P 중,
    Z1 및 Z2 는 서로 독립적으로 수소 원자, 중수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C1-C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C3-C20 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환된 C6-C60 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2-C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴옥시기, 및 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴티오기 중 하나이고,
    복수 개의 Z1 및 Z2는 각각 서로 동일하거나 상이할 수 있고, p 및 q 는 1 내지 5 의 정수 중 하나이고, n 은 0 내지 10 의 정수 중 하나이고,
    Ar1, Ar2 및 Ar3 은 치환 또는 비치환된 C6-C20 아릴렌기이고, a 및 b는 각각 0 내지 2의 정수 중 하나이고, c는 1 내지 5의 정수 중 하나이다.
  22. 제18 항에 있어서, 상기 카보레인 화합물은 하기의 화학식 2A 내지 2C로 표시되는 화합물 중 하나인 공간광 변조기:
    Figure pat00042
  23. 제21 항에 있어서, 상기 화학식 2N 내지 화학식 2P로 표시되는 화합물은 하기의 화학식 3A 내지 화학식 3D로 표시되는 화합물 중 하나인 공간광 변조기:
    Figure pat00043

    Figure pat00044
  24. 제18 항에 있어서, 상기 전도성 고분자는 폴리비닐카바졸(polyvinylcarbazole: PVK), 폴리실록산카바졸(polysiloxane carbazole), 폴리파라페닐렌비닐렌(polyparaphenylenevinylene), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리아세틸렌(polyacetylene), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리알킬티오펜(polyalkylthiophene), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 공간광 변조기.
  25. 제18 항에 있어서, 상기 비선형 광학 색소는 PDCST(4-piperidinobenzylidene malononitrile), DMNPAA(2,5-dimethyl-4-(p-nitrophenylazo)anisole), DHADC-MPN(2,N,N-dihexyl-amino-7-dicyanomethylidenyl-3,4,5,6,10-pentahydronaphthalene), AODCST(4-di(2-methoxyethyl)aminobenzylidene malonotitrile), ATOP(amino-thienyl-dioxocyano-pyridine), FTCN(fluorinated cyano-tolane chromophore), DEANST(diethylamino-nitrostyrene), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 공간광 변조기.
  26. 제18 항에 있어서, 상기 광굴절층은 광감제를 더 포함하는 공간광 변조기.
  27. 제26 항에 있어서, 상기 광감제는 C60 풀러렌(C60 fullerene), PCBM(phenyl-C61-butyric acid methyl ester), TNF(2,4,7-trinitrofluorenone), TNFDM(2,4,7-trinitro-9-fluorenylidene-malononitrile) 또는 이들의 혼합물을 포함하는 공간광 변조기.
  28. 제18 항에 있어서, 상기 광굴절층은 가소제를 더 포함하는 공간광 변조기.
  29. 제28 항에 있어서, 상기 가소제는 ECZ(ethylcarbazole), DMP(dimethylphthalate), DEP(diethylphthalate), DIBP(diisobutylphtalate), DBP(dibutylphtalate), DHP((diheptylphtalate), DOP(di-2-ethylhexyl phthalate), DIOP(dioctyl phthalate), DnOP (di-n-octyl phthalate), DNP(dinonylphthalate), DIDP(diisodecylphthalate), DTDP(ditridecylphthalate), DCHP(dicyclohexyl phthalate); BBP(benzyl butyl phthalate), BLP(butyllauryl phthalate), DOA(dioctyl adipate), DIDA(diisodecyl adipate), DOZ(dioctyl azelate), DBS(dibutyl sebacate), DOS(dioctyl sebacate), DOTP(dioctyl terephthalate), DEDB(diethylene glycol dibenzoate), BO(butyl oleate), TCP(tricresyl phosphate), TOP (trioctyl phosphate), TPP(triphenyl phosphate), TCEP(trichloroethyl phosphate), 또는 이들의 혼합물을 포함하는 공간광 변조기.
  30. 물체의 3차원 영상을 기록하고 재생하기 위한 광을 조사하는 광원부;
    상기 물체의 3차원 영상 정보를 입력하는 입력부;
    상기 광원부로부터 조사되는 광을 이용하여 상기 입력부의 상기 물체의 3차원 영상 정보를 기록하고 상기 물체의 3차원 영상을 재생하는 제16 항 내지 제25 항 중 어느 한 항의 공간광 변조기를 포함하는 표시부; 및
    상기 광원부에서 조사되는 광을 상기 입력부와 상기 표시부로 배분하여 전달하는 광학계; 를 포함하는 홀로그램 디스플레이 장치.
KR1020120123102A 2011-12-08 2012-11-01 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치 KR20130064689A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20110131115 2011-12-08
KR1020110131115 2011-12-08

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180147659A Division KR102049099B1 (ko) 2011-12-08 2018-11-26 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20130064689A true KR20130064689A (ko) 2013-06-18

Family

ID=48571743

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120123102A KR20130064689A (ko) 2011-12-08 2012-11-01 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치
KR1020120142241A KR20130064711A (ko) 2011-12-08 2012-12-07 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치
KR1020180147659A KR102049099B1 (ko) 2011-12-08 2018-11-26 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치
KR1020180147660A KR102026734B1 (ko) 2011-12-08 2018-11-26 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120142241A KR20130064711A (ko) 2011-12-08 2012-12-07 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치
KR1020180147659A KR102049099B1 (ko) 2011-12-08 2018-11-26 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치
KR1020180147660A KR102026734B1 (ko) 2011-12-08 2018-11-26 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9164382B2 (ko)
KR (4) KR20130064689A (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013543138A (ja) * 2010-09-02 2013-11-28 日東電工株式会社 電解質を利用することによってフォトリフラクティブデバイスの性能を改良するためのシステムおよび方法
KR101881082B1 (ko) * 2011-06-20 2018-07-24 삼성디스플레이 주식회사 카보레인 화합물, 이를 포함한 유기 전계 발광 소자 및 상기 유기 전계 발광 소자를 포함하는 평판 표시 장치
US9097970B2 (en) * 2011-12-08 2015-08-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Photorefractive composite, spatial light modulator, and hologram display device using the same
KR101965292B1 (ko) * 2011-12-12 2019-04-04 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 유기전계발광 소자용 재료 및 그것을 사용한 유기전계발광 소자
KR101858576B1 (ko) 2012-11-12 2018-05-16 삼성전자주식회사 광굴절 고분자 복합체, 상기 광굴절 고분자 복합체를 포함하는 광굴절 소자 및 홀로그램 디스플레이 장치
KR102014992B1 (ko) * 2013-03-06 2019-10-21 삼성전자주식회사 해도형 광굴절 고분자 복합체, 상기 해도형 광굴절 고분자 복합체를 포함하는 광굴절 소자 및 광학 장치
CN107353302A (zh) * 2017-07-03 2017-11-17 南京邮电大学 一种基于咔唑的碳硼烷衍生物材料及其制备方法与应用

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3711180A (en) * 1971-08-24 1973-01-16 Univ Mississippi Optical switching and video devices using organo-substituted carboranes
US5361148A (en) * 1993-01-21 1994-11-01 International Business Machines Corporation Apparatus for photorefractive two beam coupling
JP3318604B2 (ja) 1999-08-24 2002-08-26 東北大学長 フラーレン−カルボランリジッドロッドハイブリッド化合物およびその合成方法
JP3543108B2 (ja) 2000-03-08 2004-07-14 東北大学長 フラーレン−カルボランリジッドロッドハイブリッド化合物およびその合成方法
KR100426805B1 (ko) * 2001-03-22 2004-04-08 한국과학기술원 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한고분자 조성물 및 그 제조 방법
KR100453464B1 (ko) * 2001-07-10 2004-10-20 (주)아이블포토닉스 다기능성 가소제 및 이를 포함하는 광굴절 고분자 복합체
KR100432147B1 (ko) * 2001-08-06 2004-05-17 (주)아이블포토닉스 광 기록소자용 광굴절 고분자 물질 및 그 제조방법
US7067230B2 (en) 2003-01-15 2006-06-27 Nitto Denko Corporation Photorefractive composite
US20040242841A1 (en) * 2003-03-18 2004-12-02 Cammack J. Kevin Methods for extending amorphous photorefractive material lifetimes
JP4323935B2 (ja) * 2003-12-05 2009-09-02 キヤノン株式会社 有機発光素子
JP4387781B2 (ja) 2003-12-05 2009-12-24 キヤノン株式会社 カルボラン化合物及び導電材料
US7615556B2 (en) * 2006-01-27 2009-11-10 Bristol-Myers Squibb Company Piperazinyl derivatives as modulators of chemokine receptor activity
US20100099789A1 (en) 2008-10-20 2010-04-22 Nitto Denko Corporation Method for modulating light of photorefractive composition
KR101212672B1 (ko) * 2008-12-26 2012-12-14 제일모직주식회사 전도성 고분자, 전도성 고분자 조성물, 전도성 고분자 유기막 및 이를 포함하는 유기발광소자
KR101174087B1 (ko) * 2009-10-21 2012-08-16 제일모직주식회사 전도성 고분자, 전도성 고분자 조성물, 전도성 고분자 유기막 및 이를 포함하는 유기광전소자
JP5402860B2 (ja) * 2010-07-09 2014-01-29 信越化学工業株式会社 レジストパターンの転写方法及びフォトマスクの製造方法
JP5774104B2 (ja) * 2010-08-05 2015-09-02 日東電工株式会社 可視光スペクトルの範囲にある複数のレーザー波長に応答する光屈折性組成物
KR101881082B1 (ko) * 2011-06-20 2018-07-24 삼성디스플레이 주식회사 카보레인 화합물, 이를 포함한 유기 전계 발광 소자 및 상기 유기 전계 발광 소자를 포함하는 평판 표시 장치
US9097970B2 (en) * 2011-12-08 2015-08-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Photorefractive composite, spatial light modulator, and hologram display device using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR102026734B1 (ko) 2019-09-30
US20130148180A1 (en) 2013-06-13
KR102049099B1 (ko) 2019-11-26
KR20180131520A (ko) 2018-12-10
KR20180131519A (ko) 2018-12-10
KR20130064711A (ko) 2013-06-18
US9164382B2 (en) 2015-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102049099B1 (ko) 광굴절 복합체, 상기 광굴절 복합체를 포함하는 공간광 변조기 및 홀로그램 디스플레이 장치
US9097970B2 (en) Photorefractive composite, spatial light modulator, and hologram display device using the same
Köber et al. Organic photorefractive materials and applications
KR101858576B1 (ko) 광굴절 고분자 복합체, 상기 광굴절 고분자 복합체를 포함하는 광굴절 소자 및 홀로그램 디스플레이 장치
Tsutsumi Molecular design of photorefractive polymers
Thomas et al. Photoconducting polymers for photorefractive 3D display applications
US5361148A (en) Apparatus for photorefractive two beam coupling
WO2010141323A1 (en) Three-dimensional holographic display device
WO2008013774A2 (en) Non-linear optical device with long grating persistency
WO2008013775A2 (en) Non-linear optical device sensitive to green laser
Li et al. High-efficiency video-rate holographic display using quantum dot doped liquid crystal
Zhang et al. Selective Expression of Organic P hosphorescence Units: When H-Benzo [f] indole Meets 7 H-Benzo [c] carbazole
Thomas et al. Non-linear optical polymers for photorefractive applications
JP2013543138A (ja) 電解質を利用することによってフォトリフラクティブデバイスの性能を改良するためのシステムおよび方法
KR102014992B1 (ko) 해도형 광굴절 고분자 복합체, 상기 해도형 광굴절 고분자 복합체를 포함하는 광굴절 소자 및 광학 장치
JP3907988B2 (ja) 光記録媒体
KR100471399B1 (ko) 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 및 그 제조 방법
KR100426805B1 (ko) 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한고분자 조성물 및 그 제조 방법
Blanche et al. Review of Organic Photorefractive Materials and Their Use for Updateable 3D Display. Materials 2021, 14, 5799
Thomas et al. Recent advances in photorefractive polymers
Peyghambarian et al. Final Performance Report
WO2013148892A1 (en) Benzylidene derivative chromophores for photorefractive compositions
He Synthesis of organic molecules for photorefractive applications
Zilker et al. Influence of the charge transport characteristics on the holographic response of organic photorefractive materials
KR20210063058A (ko) 함질소 헤테로방향족 포함 아조벤젠 화합물 및 이를 포함하는 녹색 홀로그램 기록용 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
A107 Divisional application of patent