KR20130058850A - Glass edge grinding system - Google Patents

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KR20130058850A
KR20130058850A KR1020110124826A KR20110124826A KR20130058850A KR 20130058850 A KR20130058850 A KR 20130058850A KR 1020110124826 A KR1020110124826 A KR 1020110124826A KR 20110124826 A KR20110124826 A KR 20110124826A KR 20130058850 A KR20130058850 A KR 20130058850A
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Abstract

PURPOSE: A beveling system for an edge of a glass is provided to shorten tact time, and to improve productivity by continuously transferring a substrate through adsorbing the substrate using a continuous accuracy adsorption conveyor unit and an adsorption belt conveyor unit. CONSTITUTION: A beveling system(1) for an edge of a glass comprises an adsorption belt conveyor unit(100), a continuous accuracy adsorption conveyor unit(200), and a beveling unit(300). The continuous accuracy adsorption conveyor unit is equipped on the adsorption belt conveyor unit, and supports a substrate(10) by adsorbing. The beveling unit processes the edge with respect to the substrate while the substrate is moved by the adsorption belt conveyor unit and the continuous accuracy adsorption conveyor unit.

Description

글라스용 면취 가공 시스템{Glass Edge Grinding System}Chamfering System for Glass {Glass Edge Grinding System}

본 발명은, 글라스용 면취 가공 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착 지지하며 이송함으로써 이송 중 기판에 대한 면취 가공을 안정적으로 수행할 수 있는 면취 가공 유닛에 관한 것이다.The present invention relates to a chamfering processing system for glass, and more particularly, by using an adsorption belt conveyor unit and a continuous precision adsorption conveyor unit to adsorb and support the substrate, the chamfering processing of the substrate can be stably performed during transfer. It relates to a chamfering processing unit that can be.

일반적으로 액정표시장치(LCD, liquid crystal display), 플라즈마 디스플레이 기판(PDP, Plasma Display Panel), 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등을 포함하는 평면디스플레이용 기판은 유리(glass) 재질로 이루어진다. 또한 반도체의 성질을 이용하여 빛 에너지를 전기 에너지로 변환시키는 태양전지(solar cells) 중에서 박막 태양전지(thin-film solar cells)용 기판 역시 유리(glass) 재질로 이루어진다.In general, substrates for flat panel displays including liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), organic light emitting diodes (OLEs), and the like are made of glass. . In addition, substrates for thin-film solar cells are also made of glass among solar cells that convert light energy into electrical energy using properties of semiconductors.

이와 같이 평면디스플레이용 또는 태양전지용 기판은 유리 재질로 이루어지기 때문에 기판의 에지 가공(Edge Cut), 즉 기판의 코너 및 변에 대한 면취 가공을 해야만 유리 자체의 날카로움이 제거되어 공정간 이송 및 조작이 수월해지게 되고 안전사고를 미연에 예방할 수 있다. 이러한 면취 가공을 위해 면취기가 사용된다.Since the substrate for flat display or solar cell is made of glass material, edge cutting of the substrate, that is, chamfering of the corners and sides of the substrate must be carried out to remove the sharpness of the glass itself, thereby transferring and manipulating between processes. It will be easier and prevent accidents in advance. Chamfering machine is used for this chamfering process.

그런데, 이러한 종래의 면취기에 있어서는, 글라스가 장착되는 별도의 글라스 장착 스테이지(stage)를 마련하여, 글라스(glass)의 모서리를 그라인딩하기 위해서 그라인더(grinder)를 정위치시키고, 글라스가 장착된 스테이지(stage)를 이동시키면서 면취 가공하였다.However, in such a conventional chamfering machine, by providing a separate glass mounting stage (glass stage), the grinder (Poinder) in order to grind the edges of the glass (glass), the glass mounted stage ( Chamfering was performed while moving the stage).

이 경우 그라인딩이 끝나면 스테이지를 다시 글라스의 로딩 영역으로 원위치시키고 새로운 글라스를 스테이지에 장착한 다음 면취 가공을 수행하게 된다.이에 의하여 글라스의 면취 가공을 위한 택트 타임(tact time)이 길어지며, 면취 가공 비용이 증가하며 장비 이용의 효율성이 감소되는 문제점이 있다.In this case, after grinding is completed, the stage is returned to the loading area of the glass, a new glass is mounted on the stage, and chamfering is performed, thereby increasing the tact time for the chamfering of the glass. There is a problem that the cost is increased and the efficiency of using the equipment is reduced.

대한민국 등록특허 제10-0924267호 (2009.10.23)Republic of Korea Patent No. 10-0924267 (2009.10.23)

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있는 글라스용 면취 가공 시스템을 제공하는 것이다.Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention, by using a suction belt conveyor unit and a continuous precision adsorption conveyor unit to absorb the substrate and transfer continuously high-precision chamfering process to reduce the tact time and improve the productivity of glass chamfering To provide a system.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛; 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛에 인접하게 마련되어 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛; 및 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측부에 마련되어 상기 기판이 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 동안 상기 기판에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템이 제공될 수 있다.According to an aspect of the invention, the suction belt conveyor unit for absorbing and transporting the substrate; A continuous precision adsorption conveyor unit provided adjacent to the adsorption belt conveyor unit to adsorb and support the substrate or to raise the air; And a chamfering processing unit provided on the side of the suction belt conveyor unit to chamfer the substrate while the substrate is moved by the suction belt conveyor unit and the continuous precision suction conveyor unit. This may be provided.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 체인 컨베이어 벨트; 및 상기 체인 컨베이어 벨트와 연결되어 상기 체인 컨베이어 벨트에 의해 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit, the chain conveyor belt; And a jig panel connected to the chain conveyor belt and moved by the chain conveyor belt to adsorb and support the substrate on the upper surface or to float the air.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및 상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit, the guide bracket is connected to the side of the jig panel to guide the movement of the jig panel; And a vertical bearing provided in a pair of upper and lower portions of the guide bracket to support the guide bracket in a vertical direction when the guide bracket is moved.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 가이드 브라켓의 측면에 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상기 가이드 브라켓의 이동 방향과 교차되는 방향으로 지지하는 측면지지 베어링을 더 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit may further include a side support bearing provided on a side of the guide bracket to support the guide bracket in a direction crossing the direction of movement of the guide bracket when the guide bracket moves.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit may further include a pair of pin bearings supporting both side surfaces of the protruding connection portion protruding from the lower surface of the jig panel.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되며, 상기 지그 판넬의 하부에 마련되어 상기 체인 컨베이어 벨트 및 상기 지그 판넬을 지지하며 상기 지그 판넬의 하면에서 상기 에어홀과 연결되는 연결공이 형성되는 지지몸체; 및 상기 지지몸체의 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit, the jig panel is formed with an air hole which is an air passage connected from the upper surface of the jig panel to the lower surface of the jig panel, is provided in the lower portion of the jig panel the chain conveyor belt and the jig panel A support body for supporting a connection hole formed at a lower surface of the jig panel and connected to the air hole; And a pneumatic control module connected to the connection hole of the support body to suck or spray air.

상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은, 상기 기판이 놓여지며 판면에 흡착공이 형성되어 상기 기판을 흡착 지지하며 이송시키는 흡착 컨베이어 벨트; 및 일정한 간격을 두고 상기 흡착 컨베이어 벨트의 내측 하부에 마련되어 상기 흡착공을 통하여 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 상기 흡착 컨베이어 벨트에 흡착시키는 진공 흡착 모듈을 포함할 수 있다.The suction belt conveyor unit may include: a suction conveyor belt on which the substrate is placed, and suction holes are formed on a plate surface to suck and support and transport the substrate; And a vacuum suction module provided at an inner lower portion of the suction conveyor belt at regular intervals to suck air through the suction hole to suck the substrate onto the suction conveyor belt.

상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사이에 두고 한 쌍이 상호 이격 거리가 조절 가능하도록 마련될 수 있다.The suction belt conveyor unit may be provided such that a pair of mutually spaced distances can be adjusted with the continuous precision suction conveyor unit interposed therebetween.

상기 글라스용 면취 가공 시스템은, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛 사이에 마련되어 상기 기판을 지지하며 이동시키는 적어도 하나의 처짐방지 컨베이어 유닛을 더 포함할 수 있다.The chamfering system for glass may further include at least one sag-preventing conveyor unit provided between the suction belt conveyor unit and the continuous precision suction conveyor unit to support and move the substrate.

상기 면취 가공 유닛은, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 면취 가공하는 면취 가공용 휠; 및 상기 면취 가공용 휠을 회전 구동시키는 회전 구동부를 포함할 수 있다.The chamfering processing unit, a chamfering wheel for chamfering the side surface of the substrate provided on the side of the suction belt conveyor unit; And it may include a rotation drive unit for rotationally driving the chamfering wheel.

상기 면취 가공 유닛은, 상기 면취 가공용 휠은 복수가 상하 방향으로 적층되는 구조를 가지며, 상기 면취 가공용 휠을 상하 방향으로 이동시키는 상하 이동 모듈을 더 포함할 수 있다.The chamfering processing unit, the chamfering processing wheel has a structure in which a plurality is stacked in the vertical direction, may further include a vertical movement module for moving the chamfering wheel in the vertical direction.

상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 이송 방향의 양 측면에 복수로 마련되며 복수의 상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 측면 모서리를 순차적으로 황삭 가공하고 정삭 가공할 수 있다.The chamfering processing unit may be provided in plural on both side surfaces of the substrate in the transport direction, and the plurality of chamfering processing units may roughly roughen and finish side edges of the substrate.

상기 글라스용 면취 가공 시스템은, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 정렬하여 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 공급하는 정렬 장치를 더 포함할 수 있다.The chamfering processing system for glass may further include an alignment device provided at the front of the suction belt conveyor unit to align the substrate and to supply the suction belt conveyor unit.

상기 정렬 장치는, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 이송시키는 정렬 컨베이어 유닛; 및 상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판을 정렬하는 센터링 유닛을 포함할 수 있다.The alignment device may include an alignment conveyor unit provided at a front of the suction belt conveyor unit to transfer the substrate to the suction belt conveyor unit; And a centering unit provided at a side of the alignment conveyor unit to align the substrate.

상기 정렬 컨베이어 유닛은, 판면에 플렉시블 브러쉬(flexible brush)가 마련되어 상기 기판을 지지하는 브러쉬 벨트를 갖는 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어; 및 한 쌍의 상기 브러쉬벨트 컨베이어 사이에 배치되며 상기 기판의 하부에서 상기 기판을 향하여 공기를 분사하는 공기부상 컨베이어를 포함할 수 있다.The alignment conveyor unit includes a pair of brush belt conveyors having a brush belt provided with a flexible brush on a plate surface to support the substrate; And an air float conveyor disposed between the pair of brush belt conveyors and spraying air from the lower portion of the substrate toward the substrate.

상기 정렬 컨베이어 유닛은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은 한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 적어도 일 영역까지 연장되어 마련될 수 있다.The alignment conveyor unit may be provided in pairs spaced apart from each other, and the continuous precision adsorption conveyor unit may extend to at least one region between the pair of alignment conveyor units.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 영역에서는 상기 기판의 하면으로 공기를 분사하여 상기 기판을 공기 부상시키도록 작동되며, 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 인접한 영역에서는 상기 기판을 흡착하여 지지하며 이송시킬 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit is operated to infuse air to the substrate by injecting air into the lower surface of the substrate in the region between the pair of alignment conveyor units, and in the region adjacent to the adsorption belt conveyor unit. Adsorbed, supported and can be transported.

상기 센터링 유닛은, 상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 가압하는 가압롤러; 및 상기 가압롤러가 회전 가능하게 결합되는 롤러지지부를 포함할 수 있다.The centering unit may include a pressure roller provided at a side of the alignment conveyor unit to press the side of the substrate; And it may include a roller support that the pressure roller is rotatably coupled.

상기 센터링 유닛은, 상기 롤러지지부를 상기 기판의 이송 방향으로 이동시키는 유닛 이동부를 더 포함할 수 있다.The centering unit may further include a unit moving part for moving the roller support part in the transport direction of the substrate.

상기 면취 가공 유닛과 인접하여 마련되어 상기 면취 가공 유닛에 의하여 면취 가공된 상기 기판의 가공 상태를 검사하는 검사 유닛을 더 포함할 수 있다.It may further include an inspection unit provided adjacent to the chamfering processing unit to inspect the processing state of the substrate chamfered by the chamfering processing unit.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 타이밍 벨트; 및 상기 타이밍 벨트와 연결되어 상기 타이밍 벨트에 의하여 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit, the timing belt; And a jig panel connected to the timing belt and moved by the timing belt to adsorb and support the substrate on the upper surface, or to float the air.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및 상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit, the guide bracket is connected to the side of the jig panel to guide the movement of the jig panel; And a vertical bearing provided in a pair of upper and lower portions of the guide bracket to support the guide bracket in a vertical direction when the guide bracket is moved.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함할 수 있다.The continuous precision adsorption conveyor unit may further include a pair of pin bearings supporting both side surfaces of the protruding connection portion protruding from the lower surface of the jig panel.

상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은, 상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되고, 상기 타이밍 벨트에는 판면을 관통하여 상기 에어홀과 연결되는 제1 연결공이 형성되며, 상기 타이밍 벨트의 내측면에서 상기 타이밍 벨트와 접촉하며 상기 타이밍 벨트를 구동시키며 판면을 관통하여 상기 제1 연결공과 연결되는 제2 연결공이 형성되는 벨트 구동부; 상기 벨트 구동부의 하부에 마련되어 상기 벨트 구동부를 지지하며 상기 벨트 구동부의 하면에서 상기 제2 연결공과 연결되는 제3 연결공이 형성되는 지지몸체; 및 상기 지지몸체의 제3 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함할 수 있다.In the continuous precision adsorption conveyor unit, the jig panel is formed with an air hole which is an air passage connected from the upper surface of the jig panel to the lower surface of the jig panel, and the timing belt is connected to the air hole through the plate surface A belt driving part having a first connecting hole formed therein, the second connecting hole being in contact with the timing belt on the inner side of the timing belt and driving the timing belt and penetrating the plate to be connected to the first connecting hole; A support body provided below the belt driving part to support the belt driving part and having a third connecting hole formed at a lower surface of the belt driving part to be connected to the second connecting hole; And a pneumatic control module connected to the third connection hole of the support body to suck or spray air.

본 발명의 실시예들은, 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사용하여 기판을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있는 글라스용 면취 가공 시스템을 제공할 수 있다.Embodiments of the present invention provide a chamfering processing system for glass that can reduce tact time and improve productivity by high precision chamfering while adsorbing and continuously transporting a substrate using a suction belt conveyor unit and a continuous precision suction conveyor unit. can do.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 평면 구성도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도이다.
도 3은 도 1의 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛의 변형 실시예를 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 단면도이다.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ에 따른 단면도이다.1 is a plan view of a chamfering system for glass according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in Fig.
3 is a cross-sectional view showing a modified embodiment of the continuous precision adsorption conveyor unit of FIG.
Figure 4 is a cross-sectional view of the chamfering system for glass according to another embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 평면 구성도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도이며, 도 3은 도 1의 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛의 변형 실시예를 나타낸 단면도이다.1 is a planar configuration diagram of a chamfering processing system for glass according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view according to II-II of Figure 1, Figure 3 is a modified implementation of the continuous precision adsorption conveyor unit of Figure 1 It is sectional drawing which showed the example.

도면 대비 설명에 앞서, 이하에서 설명될 기판이라 함은, TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display) 기판, 플라즈마 디스플레이 기판(PDP, Plasma Display Panel), 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes) 등의 평면디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 기판 및 태양전지용 PV 글라스(Photovoltaic glass) 중 어느 하나일 수 있다.Prior to the description of the drawings, the substrates to be described below include a TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display) substrate, a plasma display panel (PDP), and organic light emitting diodes (OLED). It may be any one of a flat panel display (FPD) substrate and PV glass for photovoltaic cells.

이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템(1)은, 기판(10)을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)에 인접하게 마련되어 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 측부에 마련되어 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)에 의해 이동되는 동안 기판(10)에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛(300)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200) 사이에 마련되어 기판(10)을 지지하며 이동시키는 적어도 하나의 처짐방지 컨베이어 유닛(400)과, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 전방에 마련되어 기판(10)을 정렬하여 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 공급하는 정렬 장치(500)와, 면취 가공 유닛(300)과 인접하여 마련되어 면취 가공 유닛(300)에 의하여 면취 가공된 기판(10)의 가공 상태를 검사하는 검사 유닛(600)을 포함한다.As shown in these drawings, the glass chamfering processing system 1 according to an embodiment of the present invention, the suction belt conveyor unit 100 for absorbing and transporting the substrate 10, the suction belt conveyor unit 100 ) Is provided adjacent to the continuous precision adsorption conveyor unit 200 for adsorbing and supporting or air floating by the substrate 10, and the substrate 10 is provided on the side of the adsorption belt conveyor unit 100, the adsorption belt conveyor unit 100 And a chamfering processing unit 300 for chamfering the substrate 10 while being moved by the continuous precision adsorption conveyor unit 200, and between the adsorption belt conveyor unit 100 and the continuous precision adsorption conveyor unit 200. At least one sag-preventing conveyor unit 400 provided at the substrate 10 to support and move the substrate 10 and the suction belt conveyor unit 100 in front of the suction belt conveyor unit 100 to align the substrate 10 with the suction belt conveyor. The inspection unit 600 which is provided adjacent to the alignment apparatus 500 and the chamfering processing unit 300 supplied to the unit 100, and examines the processing state of the board | substrate 10 chamfered by the chamfering processing unit 300. It includes.

흡착벨트 컨베이어 유닛(100)은 기판(10)을 흡착 지지하며 이송시킨다. 이에 의해서, 별도의 기판(10) 장착 스테이지 없이 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)에 의하여 이송되는 동안 면취 가공 유닛(300)에 의하여 기판(10)의 측면을 면취 가공할 수 있다.The adsorption belt conveyor unit 100 suctions and transports the substrate 10. Thereby, the side surface of the board | substrate 10 can be chamfered by the chamfering processing unit 300, while the board | substrate 10 is conveyed by the adsorption belt conveyor unit 100, without a separate board | substrate 10 mounting stage.

도 1 및 도 2를 참조하면, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)은, 기판(10)이 놓여지며 판면에 흡착공(111)이 형성되어 기판(10)을 흡착 지지하며 이송시키는 흡착 컨베이어 벨트(110)와, 일정한 간격을 두고 흡착 컨베이어 벨트(110)의 내측 하부에 마련되어 흡착공(111)을 통하여 공기를 흡입함으로써 기판(10)을 흡착 컨베이어 벨트(110)에 흡착시키는 진공 흡착 모듈을 포함한다.1 and 2, the suction belt conveyor unit 100 includes a substrate 10 on which a suction hole 111 is formed on a plate surface to suck and support and transport the substrate 10. And a vacuum adsorption module provided at an inner lower portion of the adsorption conveyor belt 110 at regular intervals to suck the air through the adsorption holes 111 to adsorb the substrate 10 to the adsorption conveyor belt 110.

흡착 컨베이어 벨트(110)는 판면에 일정 간격을 두고 흡착공(111)이 형성되어, 기판(10)이 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 놓여지면 흡착공(111)에 의하여 흡착 지지되어 이송된다. 흡착 컨베이어 벨트(110)의 내측 하부에는 일정한 간격을 두고 흡착공(111)을 통하여 공기를 흡입하는 진공 흡착 모듈이 마련되는데, 진공 흡착 모듈에 의하여 흡착 컨베이어 벨트(110)의 흡입공과 기판(10) 사이의 공간이 진공 상태가 됨으로써 기판(10)이 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 흡착 지지되며 이송될 수 있다.The adsorption conveyor belt 110 is formed with adsorption holes 111 at regular intervals on the plate surface, and the substrate 10 is adsorbed and supported by the adsorption holes 111 when the substrate 10 is placed on the adsorption conveyor belt 110. The inner lower portion of the suction conveyor belt 110 is provided with a vacuum suction module for sucking air through the suction hole 111 at regular intervals, the suction hole and the substrate 10 of the suction conveyor belt 110 by the vacuum suction module. As the space between them becomes a vacuum state, the substrate 10 may be adsorbed and supported on the adsorption conveyor belt 110 and transported.

흡착 컨베이어 벨트(110)는 흡착 컨베이어 벨트(110)의 양단부의 내측면에 마련되어 흡착 컨베이어 벨트(110)와 접촉되며 회전하는 회전롤러(미도시)에 의하여 회전되며, 흡착 컨베이어 벨트(110)의 폐루프 내부에는 컨베이어 몸체(120)(미도시)가 마련되어 흡착 컨베이어 벨트(110) 및 진공 흡착 모듈은 컨베이어 몸체(120)에 의하여 지지된다.The adsorption conveyor belt 110 is provided on the inner side surfaces of both ends of the adsorption conveyor belt 110 and is rotated by a rotating roller (not shown) in contact with the adsorption conveyor belt 110 and closed of the adsorption conveyor belt 110. A conveyor body 120 (not shown) is provided inside the roof to support the suction conveyor belt 110 and the vacuum suction module by the conveyor body 120.

회전롤러는 컨베이어 몸체(120)와 연결되어 컨베이어 몸체(120)에 의하여 지지되며, 회전축에 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 이동 가능하도록 결합된다. 컨베이어 몸체(120)는 컨베이어 몸체(120)를 지지하는 컨베이어 간격 조절 유닛(미도시)에 의하여 지지되며, 컨베이어 간격 조절 유닛은 컨베이어 몸체(120)를 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 이동시킨다.The rotary roller is connected to the conveyor body 120 and supported by the conveyor body 120, and is coupled to be movable in a direction crossing the direction in which the substrate 10 is transferred to the rotating shaft. The conveyor body 120 is supported by a conveyor gap adjusting unit (not shown) supporting the conveyor body 120, and the conveyor gap adjusting unit crosses the conveyor body 120 with the direction in which the substrate 10 is transferred. Move to.

흡착벨트 컨베이어 유닛(100)은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 사이에는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)이 마련되고, 한 쌍의 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 사이의 간격은 컨베이어 간격 조절 유닛에 의하여 기판(10)의 크기에 따라 조절 가능하다.The suction belt conveyor unit 100 is provided with a pair of spaced apart from each other, a continuous precision suction conveyor unit 200 is provided between the suction belt conveyor unit 100, the interval between the pair of suction belt conveyor unit 100. Is adjustable according to the size of the substrate 10 by the conveyor gap adjusting unit.

연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 면취 가공 시 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)에 의하여 흡착 지지되는 기판(10)을 더욱 견고하게 흡착 지지하며 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 함께 기판(10)을 이송시킴으로써 기판(10)의 면취 가공을 안정적으로 수행되게 하며, 기판(10)의 이송 시 기판(10)이 면취 가공 위치에서 이송되도록 기판(10)을 안정적으로 지지한다.The continuous precision adsorption conveyor unit 200 more firmly supports and supports the substrate 10 which is adsorbed and supported by the adsorption belt conveyor unit 100 during chamfering and supports the substrate 10 together with the adsorption belt conveyor unit 100. By transferring, the chamfering processing of the substrate 10 is stably performed, and the substrate 10 is stably supported so that the substrate 10 is transferred at the chamfering processing position when the substrate 10 is transferred.

도 2를 참조하면, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 체인 컨베이어 벨트(210)와, 체인 컨베이어 벨트(210)와 연결되어 체인 컨베이어 벨트(210)에 의해 이동되며 상면으로부터 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀(221)이 형성되어 상면에 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬(220)과, 지그 판넬(220)의 하부에 마련되어 체인 컨베이어 벨트(210) 및 지그 판넬(220)을 지지하며 지그 판넬(220)의 하면에서 에어홀(221)과 연결되는 연결공(261)이 형성되는 지지 몸체(260)와, 지지 몸체(260)의 연결공(261)과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈(270)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the continuous precision adsorption conveyor unit 200 is connected to the chain conveyor belt 210 and the chain conveyor belt 210 to be moved by the chain conveyor belt 210 and connected to the lower surface from the upper surface. Air holes 221, which are passages, are formed and are provided on the upper surface of the jig panel 220 for adsorbing and supporting or air floating the substrate 10, and the chain conveyor belt 210 and the jig panel (provided below the jig panel 220). 220 is connected to the support body 260 and the support hole 261 of the support body 260 is formed in the lower surface of the jig panel 220 is formed with a connection hole 261 connected to the air hole 221 It includes a pneumatic control module 270 to inhale or inject air.

체인 컨베이어 벨트(210)는 한 쌍으로 마련되며, 양단부의 내측면에 마련되는 체인 스프로켓(미도시, chain sprocket)과 체인 스프로켓에 연결되는 구동모터(미도시)에 의하여 구동된다. 체인 컨베이어 벨트(210)는 체인으로 이루어져 있으므로 정확한 구동이 가능하고 구동 마력이 높은 장점이 있다.The chain conveyor belt 210 is provided as a pair, and is driven by a chain sprocket (not shown, provided on both inner ends of the chain sprocket) and a driving motor (not shown) connected to the chain sprocket. Since the chain conveyor belt 210 is composed of a chain, it is possible to accurately drive and has a high driving horsepower.

지그 판넬(220)은 사각 판넬 형상으로 마련되며 판면에 기판(10)을 흡착하거나 공기 분사할 수 있는 에어홀(221)이 마련된다. 에어홀(221)은 지그 판넬(220)의 상면으로부터 하면까지 연결되도록 형성된다. 지그 판넬(220)은 상면에 기판(10)을 접촉하여 지지하며, 공압 조절 모듈(270)이 에어홀(221)로부터 공기를 흡입하거나 분사함으로써 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시킨다.The jig panel 220 is provided in a rectangular panel shape and is provided with an air hole 221 for adsorbing or injecting the substrate 10 on the plate surface. The air hole 221 is formed to be connected from the upper surface of the jig panel 220 to the lower surface. The jig panel 220 contacts and supports the substrate 10 on an upper surface thereof, and the pneumatic control module 270 sucks or sprays air from the air hole 221 to adsorb and support the substrate 10 or to raise the air.

지지 몸체(260)는 지그 판넬(220)의 하부에 마련되어 지그 판넬(220)을 지지하며, 지그 판넬(220)과 접촉되는 부분에는 지그 판넬(220)의 에어홀(221)과 연결되는 연결공(261)이 형성된다. 연결공(261)은 지지 몸체(260)의 내측을 관통하여 공압 조절 모듈(270)과 연결된다. 또한, 지지 몸체(260)에는 한 쌍의 체인 컨베이어 벨트(210)를 지지하는 체인 지지부(262)가 마련되어 체인 컨베이어 벨트(210)가 체인 지지부(262)에 의하여 지지되면서 이동된다.The support body 260 is provided at the bottom of the jig panel 220 to support the jig panel 220, and the connection hole is connected to the air hole 221 of the jig panel 220 in the contact portion with the jig panel 220 261 is formed. The connection hole 261 is connected to the pneumatic control module 270 through the inside of the support body 260. In addition, the support body 260 is provided with a chain support portion 262 for supporting a pair of chain conveyor belt 210 is moved while being supported by the chain conveyor belt 210 chain support portion (262).

한편, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 지그 판넬(220)의 측면에 연결되어 지그 판넬(220)의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓(230)과, 가이드 브라켓(230)의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 가이드 브라켓(230)의 이동시 가이드 브라켓(230)을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링(240)과, 가이드 브라켓(230)의 측면에 마련되어 가이드 브라켓(230)의 이동시 가이드 브라켓(230)을 가이드 브라켓(230)의 이동 방향과 교차되는 방향으로 지지하는 측면지지 베어링(250)을 더 포함한다.On the other hand, the continuous precision adsorption conveyor unit 200 is connected to the side of the jig panel 220, a guide bracket 230 for guiding the movement of the jig panel 220 and a pair of upper and lower portions of the guide bracket 230 It is provided on the upper and lower bearings 240 to support the guide bracket 230 in the vertical direction during the movement of the guide bracket 230, and the guide bracket 230 is provided on the side of the guide bracket 230, the guide bracket 230 during the movement of the guide bracket 230 It further includes a side support bearing 250 for supporting in a direction intersecting with the moving direction of (230).

가이드 브라켓(230), 상하 베어링(240) 및 측면지지 베어링(250)은 지그 판넬(220)이 기판(10)을 지지하며 이동시킬 때 기판(10)의 측면이 면취 가공 유닛(300)에 의하여 면취 가공되는 정위치를 따라 이동될 수 있도록 지그 판넬(220)을 상하 방향 및 측면 방향에서 지지함으로써 가이드한다.The guide bracket 230, the upper and lower bearings 240, and the side support bearings 250 are formed by the chamfering unit 300 when the jig panel 220 moves and supports the substrate 10. The jig panel 220 is guided by supporting the jig panel 220 in the vertical direction and the lateral direction so as to be moved along the chamfered processing position.

이에 의해서, 지그 판넬(220)은 상하 방향 및 측면 방향으로의 힘이 작용하더라도 기판(10)이 정위치에서 이동되도록 안정적으로 지지하며 이동시킬 수 있다.As a result, the jig panel 220 may be stably supported and moved so that the substrate 10 is moved in the correct position even when the force in the vertical direction and the lateral direction is applied.

본 실시예에서는 측면지지 베어링(250)을 사용하여 가이드 브라켓(230)의 측면을 지지하였으나, 이와 달리 도 3에서와 같이, 지그 판넬(220)의 하면 중앙에 돌출되어 마련되는 돌출연결부(222)를 마련하고, 돌출연결부(222)의 양 측면에 한 쌍의 핀 베어링(280)을 마련하여 돌출연결부(222)를 양 측면에서 지지함으로써 지그 판넬(220)을 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 지지할 수도 있다.In the present embodiment, the side support bearing 250 is used to support the side surface of the guide bracket 230. However, as shown in FIG. 3, the protruding connection portion 222 protruding from the center of the lower surface of the jig panel 220 is provided. And a pair of pin bearings 280 on both sides of the protruding connecting portion 222 to support the protruding connecting portion 222 on both sides thereof, thereby supporting the jig panel 220 with the direction in which the substrate 10 is transferred. It may be supported in an intersecting direction.

도 2를 참조하면, 면취 가공 유닛(300)은, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 측면에 마련되어 기판(10)의 측면을 면취 가공하는 면취 가공용 휠(310)과, 면취 가공용 휠(310)을 회전 구동시키는 회전 구동부(320)와, 면취 가공용 휠(310)을 상하 방향으로 이동시키는 상하 이동 모듈(330)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the chamfering processing unit 300 includes a chamfering wheel 310 and a chamfering wheel 310 provided on the side of the suction belt conveyor unit 100 to chamfer the side surface of the substrate 10. Rotation drive unit 320 for driving the rotation, and the vertical movement module 330 for moving the chamfering wheel 310 in the vertical direction.

면취 가공용 휠(310)은 회전 구동부(320)에 의하여 고속으로 회전하며 기판(10)의 측면에서 기판(10)과 접촉하여 기판(10)의 측면 모서리를 면취 가공한다. 면취 가공 유닛(300)의 면취 가공용 휠(310)은 복수가 상하 방향으로 적층되도록 마련되며 상하 이동 모듈(330)에 의하여 상하 방향으로 이동될 수 있다.The chamfering wheel 310 rotates at a high speed by the rotation driving unit 320 and contacts the substrate 10 at the side of the substrate 10 to chamfer the side edges of the substrate 10. The chamfering wheel 310 of the chamfering processing unit 300 is provided to be stacked in a plurality of vertical direction and may be moved in the vertical direction by the vertical movement module 330.

면취 가공용 휠(310)이 일정 시간 가동되며 면취 가공 공정을 수행하면 마모 또는 훼손이 발생할 수 있는데, 상하 이동 모듈(330)은 마모 또는 훼손이 발생된 면취 가공용 휠(310)을 상하 방향으로 이동시켜서 새로운 면취 가공용 휠(310)이 기판(10)의 면취 가공을 수행하게 한다. 이에 의하여, 면취 가공용 휠(310) 전체의 교체 주기를 지연시킬 수 있으며 생산성을 향상시킬 수 있다.When the chamfering wheel 310 is operated for a predetermined time and the chamfering process is performed, wear or damage may occur, and the vertical movement module 330 moves the chamfering wheel 310 for wear or damage in the vertical direction. A new chamfering wheel 310 causes the chamfering of the substrate 10 to be performed. Thereby, the replacement cycle of the whole chamfering wheel 310 can be delayed and productivity can be improved.

면취 가공 유닛(300)은 기판(10)의 이송 방향을 따라 기판(10)의 양 측면에 복수로 마련되며 기판(10)을 먼저 면취 가공하는 순서대로 황삭 가공에서 정삭 가공을 수행하도록 그에 따른 면취 가공용 휠(310)을 구비한다.Chamfering unit 300 is provided in plurality on both sides of the substrate 10 along the conveying direction of the substrate 10 and accordingly chamfering to perform the finishing operation in roughing in the order of first chamfering the substrate 10 The processing wheel 310 is provided.

또한, 면취 가공 유닛(300)은 기판(10)의 이송 방향과 교차되는 방향으로 이동 가능하게 마련되어 기판(10)의 크기에 따라 이동됨으로써 기판(10)의 측면을 면취 가공할 수 있는 정확한 위치에서 기판(10)의 측면 면취 가공을 수행할 수 있다.In addition, the chamfering processing unit 300 is provided to be movable in a direction intersecting with the transfer direction of the substrate 10 is moved in accordance with the size of the substrate 10 in an accurate position to chamfer the side surface of the substrate 10 Side chamfering of the substrate 10 can be performed.

도 1을 참조하면, 처짐방지 컨베이어 유닛(400)은, 일반 벨트 컨베이어로 마련되며 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200) 사이에 마련되어 기판(10)을 지지하며 이동시킨다. 이에 의하여 기판(10)이 대형인 경우에 기판(10)의 처짐을 방지할 수 있다. 처짐방지 컨베이어 유닛(400)은 기판(10)의 크기에 따라 복수가 마련될 수도 있다.Referring to FIG. 1, the sag prevention conveyor unit 400 is provided as a general belt conveyor and is provided between the suction belt conveyor unit 100 and the continuous precision suction conveyor unit 200 to support and move the substrate 10. Thereby, sagging of the board | substrate 10 can be prevented when the board | substrate 10 is large. Deflection conveyor unit 400 may be provided in plurality depending on the size of the substrate (10).

도 1을 참조하면, 정렬 장치(500)는, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)의 전방에 마련되어 기판(10)을 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송시키는 정렬 컨베이어 유닛(510)과, 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 마련되어 기판(10)을 정렬하는 센터링 유닛(520)과, 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 마련되어 기판(10)의 정렬 상태를 검사하는 얼라인 비전부(530)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the alignment apparatus 500 includes an alignment conveyor unit 510 which is provided in front of the suction belt conveyor unit 100 and transfers the substrate 10 to the suction belt conveyor unit 100, and the alignment conveyor unit. A centering unit 520 provided on the side of the 510 to align the substrate 10, and an alignment vision unit 530 provided on the side of the alignment conveyor unit 510 to inspect the alignment state of the substrate 10. do.

정렬 컨베이어 유닛(510)은 기판(10)을 면취 가공을 위해 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송시킬 때 기판(10)이 센터링 유닛(520)에 의하여 손상 없이 정렬될 수 있도록, 기판(10)의 접촉면에서의 마찰을 감소시키며 지지한다.The alignment conveyor unit 510 allows the substrate 10 to be aligned without damage by the centering unit 520 when the substrate 10 is transferred to the adsorption belt conveyor unit 100 for chamfering. Support with reduced friction at the contact surface of the

정렬 컨베이어 유닛(510)은, 판면에 플렉시블 브러쉬(flexible brush)가 마련되어 기판(10)을 지지하는 브러쉬 벨트를 갖는 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어(511)와, 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어(511) 사이에 배치되며 기판(10)의 하부에서 기판(10)을 향하여 공기를 분사하는 공기부상 컨베이어(512)를 포함한다.The alignment conveyor unit 510 is provided between a pair of brush belt conveyors 511 having a brush belt provided with a flexible brush on a plate surface and supporting a substrate 10, and a pair of brush belt conveyors 511. And an air levitation conveyor 512 disposed in the lower portion of the substrate 10 to inject air toward the substrate 10.

브러쉬벨트 컨베이어(511)는 플렉시블 브러쉬가 촘촘하게 마련되는 브러쉬 벨트에 의하여 기판(10)을 지지함으로써 기판(10)이 센터링 유닛(520)에 의하여 이동되더라도 기판(10)의 접촉면에서의 손상을 방지할 수 있다. 공기부상 컨베이어(512) 또한 기판(10)을 향하여 공기를 분사함으로써 기판(10)이 공기압에 의하여 지지되도록 하여 기판(10)이 센터링 유닛(520)에 의하여 이동되더라도 마찰에 의한 기판(10)의 손상을 방지한다.The brush belt conveyor 511 supports the substrate 10 by a brush belt in which a flexible brush is tightly formed, thereby preventing damage to the contact surface of the substrate 10 even if the substrate 10 is moved by the centering unit 520. Can be. The air floating conveyor 512 also sprays air toward the substrate 10 so that the substrate 10 is supported by pneumatic pressure so that the substrate 10 may be moved by friction even if the substrate 10 is moved by the centering unit 520. Prevent damage.

센터링 유닛(520)은 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 한 쌍이 마련되어 기판(10)의 양 측면에서 기판(10)을 가압하여 정렬시킨다.The centering unit 520 is provided on the side of the alignment conveyor unit 510 to align the substrate 10 by pressing the substrate 10 on both sides of the substrate 10.

센터링 유닛(520)은, 정렬 컨베이어 유닛(510)의 측면에 마련되어 기판(10)의 측면을 가압하는 가압롤러(521)와, 가압롤러(521)가 회전 가능하게 결합되는 롤러지지부(522)와, 롤러지지부(522)를 기판(10)의 이송 방향으로 이동시키는 유닛 이동부(523)를 포함한다.The centering unit 520 is provided on the side of the alignment conveyor unit 510, the pressure roller 521 to press the side of the substrate 10, the roller support portion 522 to which the pressure roller 521 is rotatably coupled; And a unit moving part 523 for moving the roller support part 522 in the transport direction of the substrate 10.

가압롤러(521)는 롤러지지부(522)에 회전 가능하게 결합되어 기판(10)의 측면을 가압함으로써 기판(10)을 정렬 이동시킨다. 유닛 이동부(523)는 기판(10)이 정렬 컨베이어 유닛(510)에 의하여 이동될 때에 가압롤러(521)를 기판(10)의 이동 방향으로 함께 이동시킴으로써 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이동되기 전까지 정밀하게 정렬되도록 한다.The pressure roller 521 is rotatably coupled to the roller support 522 to align the substrate 10 by pressing the side surface of the substrate 10. The unit moving unit 523 moves the pressure roller 521 together in the moving direction of the substrate 10 when the substrate 10 is moved by the alignment conveyor unit 510. Ensure precise alignment before moving to 100).

얼라인 비전부(530)는 정렬 컨베이어 유닛(510)이 끝나는 지점의 측부에 마련되어 기판(10)이 정위치로 정렬되었는 지를 검사한다.The alignment vision unit 530 is provided at the side of the end point of the alignment conveyor unit 510 to check whether the substrate 10 is aligned in position.

한편, 도 1을 참조하면, 정렬 컨베이어 유닛(510)은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 한 쌍의 정렬 컨베이어 유닛(510) 사이의 적어도 일 영역까지 연장되어 마련된다. 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은, 한 쌍의 정렬 컨베이어 유닛(510) 사이의 영역에서는 기판(10)의 하면으로 공기를 분사하여 기판(10)을 공기 부상시키도록 작동되며, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 인접한 영역에서는 기판(10)을 흡착하여 지지하며 이송시킨다.Meanwhile, referring to FIG. 1, the alignment conveyor unit 510 is provided with a pair spaced apart from each other, and the continuous precision adsorption conveyor unit 200 extends to at least one region between the pair of alignment conveyor units 510. do. The continuous precision adsorption conveyor unit 200 is operated to inflate air to the substrate 10 by injecting air to the lower surface of the substrate 10 in the region between the pair of alignment conveyor units 510, and the adsorption belt conveyor unit. In the region adjacent to the 100, the substrate 10 is adsorbed, supported and transported.

즉, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 기판(10)이 정렬되는 정렬 장치(500)에서는 공압 조절 모듈(270)이 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 분사하도록 작동되며, 기판(10)이 면취 가공되는 영역에서는 공압 조절 모듈(270)이 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 흡입하도록 작동되어 기판(10)을 흡착 지지한다.That is, the continuous precision adsorption conveyor unit 200 is operated so that the pneumatic control module 270 injects air through the air hole 221 of the jig panel 220 in the alignment device 500 where the substrate 10 is aligned. In the region where the substrate 10 is chamfered, the pneumatic control module 270 is operated to suck air through the air hole 221 of the jig panel 220 to adsorb and support the substrate 10.

도 1을 참조하면, 검사 유닛(600)은, 카메라 모듈을 포함하며 기판(10)의 측면 모서리부를 촬영함으로써 기판(10)의 면취 가공 상태를 검사한다.Referring to FIG. 1, the inspection unit 600 includes a camera module and inspects a chamfering state of the substrate 10 by photographing side edge portions of the substrate 10.

이러한 구성을 갖는 글라스용 면취 가공 시스템(1)의 작용에 대해 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the glass chamfering system 1 having such a configuration as follows.

먼저, 기판(10)이 정렬 장치(500)에 의하여 정렬되어 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 공급된다. 정렬 장치(500)에서는, 정렬 컨베이어 유닛(510)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)에 의하여 기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송되며, 기판(10)의 양 측면에서 센터링 유닛(520)에 의하여 기판(10)이 가압되며 정렬된다. 이때, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 분사함으로써 센터링 유닛(520)에 의하여 기판(10)이 정렬 이동될 때에 기판(10)에 마찰에 의한 손상이 발생되지 않도록 한다. 또한, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)과 정렬 컨베이어 유닛(510)은 동기 구동하며 기판(10)을 이송시킨다.First, the substrate 10 is aligned by the alignment device 500 and supplied to the suction belt conveyor unit 100. In the alignment apparatus 500, the substrate 10 is transferred to the adsorption belt conveyor unit 100 by the alignment conveyor unit 510 and the continuous precision adsorption conveyor unit 200, and the centering unit is disposed at both sides of the substrate 10. The substrate 10 is pressed and aligned by 520. At this time, the continuous precision adsorption conveyor unit 200 by injecting air through the air hole 221 of the jig panel 220 by friction to the substrate 10 when the substrate 10 is aligned by the centering unit 520 Do not cause damage. In addition, the continuous precision adsorption conveyor unit 200 and the alignment conveyor unit 510 drives synchronously and transports the substrate 10.

정렬 장치(500)에 의하여 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)으로 이송된 기판(10)은, 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 놓여지고 흡착 컨베이어 벨트(110)의 흡착공(111)을 통하여 흡착 컨베이어 벨트(110) 상에 흡착 지지되어 이송된다. 이때, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)은 지그 판넬(220)의 에어홀(221)을 통하여 공기를 흡입함으로써 기판(10)이 지그판넬에 흡착 지지되어 이송되도록 작동한다.The substrate 10 transferred to the adsorption belt conveyor unit 100 by the alignment device 500 is placed on the adsorption conveyor belt 110, and the adsorption conveyor belt through the adsorption holes 111 of the adsorption conveyor belt 110. It is supported by suction on 110 and is conveyed. At this time, the continuous precision adsorption conveyor unit 200 operates to suck the air through the air hole 221 of the jig panel 220 so that the substrate 10 is adsorbed and supported by the jig panel.

기판(10)이 흡착벨트 컨베이어 유닛(100)과 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)에 의하여 흡착되어 이송됨으로써 이송되는 중에 기판(10)의 양 측면에 마련되는 면취 가공 유닛(300)에 의해서 기판(10)의 양 측면 모서리부를 면취 가공할 수 있다.The substrate 10 is absorbed by the adsorption belt conveyor unit 100 and the continuous precision adsorption conveyor unit 200 and transported by the chamfering processing unit 300 provided on both sides of the substrate 10 while being transported. Both side edges of 10) can be chamfered.

면취 가공 유닛(300)은 기판(10)의 측면 위치에 맞추어 면취 가공용 휠(310)을 위치시켜서 기판(10)의 측면 모서리부를 면취 가공하고, 면취 가공용 휠(310)이 마모되거나 손상된 경우에는 상하 이동 모듈(330)에 의하여 새로운 면취 가공용 휠(310)이 면취 가공을 수행하도록 면취 가공용 휠(310)을 상하 방향으로 이동시킨다.Chamfering processing unit 300 is to chamfer the side edge portion of the substrate 10 by positioning the chamfering wheel 310 in accordance with the side position of the substrate 10, and when the chamfering wheel 310 is worn or damaged up and down The chamfering wheel 310 is moved upward and downward so that the new chamfering wheel 310 performs chamfering by the moving module 330.

기판(10)은 양 측면에서 각각 복수의 면취 가공 유닛(300)을 거치며 황삭 및 정삭 가공되고, 면취 가공을 마친 기판(10)은 이송되면서 검사 유닛(600)에 의하여 면취 가공 상태가 검사된다. 검사 유닛(600)에 의하여 불량으로 판정된 기판(10)은 폐기 처분된다.The substrate 10 is roughed and finished by passing through a plurality of chamfering processing units 300 on both sides, and the chamfering processing state is inspected by the inspection unit 600 while the substrate 10 having been chamfered is transferred. The substrate 10 determined as defective by the inspection unit 600 is disposed of.

한편, 면취 가공을 마친 기판(10)은, 90도 회전하여 다시 정렬 장치(500)로 공급되어 면취 가공되지 않은 앞뒤 에지부를 면취 가공하거나, 또는 본 실시예의 글라스용 면취 가공 시스템(1)을 직렬로 2개 연결하고 그 사이에 기판(10)을 90도 회전시키는 회전 장치를 두어 기판(10)의 4면을 모두 면취 가공할 수 있다.On the other hand, the substrate 10 having been chamfered is rotated 90 degrees and fed back to the alignment device 500 to chamfer the front and rear edge portions which are not chamfered, or in series with the glass chamfering system 1 of the present embodiment. The two surfaces of the substrate 10 can be chamfered by connecting two furnaces and a rotating device for rotating the substrate 10 by 90 degrees between them.

이와 같이, 본 발명의 글라스용 면취 가공 시스템(1)에 의하면, 흡착벨트 컨베이어 유닛(100) 및 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(200)을 사용하여 기판(10)을 흡착하여 연속적으로 이송시키면서 고정밀 면취 가공함으로써 택트 타임을 감소시키고 생산성을 향상시킬 수 있다.As described above, according to the glass chamfering processing system 1 of the present invention, the suction belt conveyor unit 100 and the continuous precision adsorption conveyor unit 200 are used to adsorb and continuously transport the substrate 10 to chamfer high precision chamfering processing. This reduces tact time and improves productivity.

한편, 이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템을 설명하면 다음과 같다. 단, 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템에서 설명한 바와 동일한 것에 대해서는 그 설명을 생략하기로 한다.On the other hand, in the following, with reference to the accompanying drawings illustrating a glass chamfering processing system according to another embodiment of the present invention. However, the same description as that described in the chamfering processing system for glass according to an embodiment of the present invention will be omitted.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템의 단면도이고, 도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ에 따른 단면도이다. 도 4 및 도 5에 있어서, 도 1 내지 도 3과 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타내며 상세한 설명은 생략하기로 한다.4 is a cross-sectional view of a chamfering system for glass according to another embodiment of the present invention, Figure 5 is a cross-sectional view according to VV of FIG. 4 and 5, the same reference numerals as used in FIGS. 1 to 3 denote the same members and detailed descriptions thereof will be omitted.

이들 도면을 참조하여 살펴보면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스용 면취 가공 시스템에서, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(700)은, 판면을 관통하여 제1 연결공(711)이 형성되는 타이밍 벨트(710)와, 하면에서 제1 연결공(711)과 연결되는 공기 통로인 에어홀(721)이 형성되고 타이밍 벨트(710)와 연결되어 타이밍 벨트(710)에 의하여 이동되며 상면에 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬(720)과, 타이밍 벨트(710)의 내측면에서 타이밍 벨트(710)와 접촉하며 타이밍 벨트(710)를 구동시키며 판면을 관통하여 제1 연결공(711)과 연결되는 제2 연결공(731)이 형성되는 벨트 구동부(730)와, 벨트 구동부(730)의 하부에 마련되어 벨트 구동부(730)를 지지하며 벨트 구동부(730)의 하면에서 제2 연결공(731)과 연결되는 제3 연결공(761)이 형성되는 지지몸체(760)와, 지지몸체(760)의 제3 연결공(761)과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈(미도시)을 포함한다.Referring to these drawings, in the glass chamfering processing system according to another embodiment of the present invention, the continuous precision adsorption conveyor unit 700, the timing belt 710 through which the first connection hole 711 is formed through the plate surface ) And an air hole 721, which is an air passage connected to the first connection hole 711 at the bottom surface, is connected to the timing belt 710 and moved by the timing belt 710 to move the substrate 10 to the top surface. The jig panel 720 which adsorbs and supports or floats the air and the timing belt 710 in contact with the timing belt 710 on the inner side of the timing belt 710 drive the timing belt 710 to penetrate the first surface 711. And a belt driving unit 730 having a second connection hole 731 connected thereto and a belt driving unit 730 provided below the belt driving unit 730 to support the belt driving unit 730 and at a lower surface of the belt driving unit 730. Support body 760 is formed with a third connection hole (761) connected to 731 And a pneumatic control module (not shown) connected to the third connection hole 761 of the support body 760 to suck or spray air.

지그 판넬(720)은 사각 판넬 형상으로 마련되며 판면에 기판(10)을 흡착하거나 공기 분사할 수 있는 에어홀(721)이 마련된다. 에어홀(721)은 지그 판넬(720)의 상면으로부터 하면까지 연결되도록 형성된다. 지그 판넬(720)은 상면에 기판(10)을 접촉하여 지지하며, 공압 조절 모듈이 에어홀(721)로부터 공기를 흡입하거나 분사함으로써 기판(10)을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시킨다.The jig panel 720 is provided in a rectangular panel shape and is provided with an air hole 721 for adsorbing or injecting the substrate 10 on the plate surface. The air hole 721 is formed to be connected from the top surface of the jig panel 720 to the bottom surface. The jig panel 720 contacts and supports the substrate 10 on an upper surface thereof, and the pneumatic control module sucks or sprays air from the air hole 721 to adsorb and support the substrate 10 or to raise the air.

타이밍 벨트(710)는 한 쌍으로 마련되어 지그 판넬(720)의 하부에서 지그 판넬(720)을 지지하며, 판면을 관통하여 지그 판넬(720)의 에어홀(721)과 연결되는 제1 연결공(711)이 형성된다. 타이밍 벨트(710)는 타이밍 벨트(710)의 내측면에 마련되는 벨트 구동부(730)와 벨트 구동부(730)에 연결되는 구동모터(미도시)에 의하여 구동된다. 벨트 구동부(730)에는 타이밍 벨트(710)의 제1 연결공(711)과 연결되는 제2 연결공(731)이 형성된다. 타이밍 벨트(710)는 내측면에 요철부가 마련되어 정확한 구동이 가능하고 구동 마력이 높은 장점이 있다.The timing belt 710 is provided in a pair to support the jig panel 720 at the bottom of the jig panel 720, and penetrates the first surface of the jig panel 720 to be connected to the air hole 721 of the jig panel 720. 711 is formed. The timing belt 710 is driven by a belt driver 730 provided on the inner side of the timing belt 710 and a driving motor (not shown) connected to the belt driver 730. The belt driving unit 730 is provided with a second connecting hole 731 connected to the first connecting hole 711 of the timing belt 710. The timing belt 710 is provided with an uneven portion on the inner side to enable accurate driving and has a high driving horsepower.

지지몸체(760)는 벨트 구동부(730)의 하부에 마련되어 벨트 구동부(730)를 지지하며, 벨트 구동부(730)와 접촉되는 부분에는 벨트 구동부(730)의 제2 연결공(731)과 연결되는 제3 연결공(761)이 형성된다. 제3 연결공(761)은 지지몸체(760)의 내측을 관통하여 공압 조절 모듈(미도시)과 연결된다.The support body 760 is provided below the belt driving part 730 to support the belt driving part 730, and is connected to the second connection hole 731 of the belt driving part 730 at a part contacting the belt driving part 730. The third connecting hole 761 is formed. The third connection hole 761 is connected to the pneumatic control module (not shown) through the inner side of the support body 760.

한편, 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛(700)은, 지그 판넬(720)의 측면에 연결되어 지그 판넬(720)의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓(740)과, 가이드 브라켓(740)의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 가이드 브라켓(740)의 이동시 가이드 브라켓(740)을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링(750)과, 지그 판넬(720)의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부(722)의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링(770)을 더 포함한다.On the other hand, the continuous precision adsorption conveyor unit 700 is connected to the side of the jig panel 720, a guide bracket 740 for guiding the movement of the jig panel 720, and a pair of upper and lower portions of the guide bracket 740 The upper and lower bearings 750 are provided to support the guide brackets 740 in the vertical direction when the guide brackets 740 are moved, and as long as they support both sides of the protruding connecting portions 722 protruding from the lower surface of the jig panel 720. It further includes a pair of pin bearings 770.

가이드 브라켓(740), 상하 베어링(750) 및 핀 베어링(770)은 지그 판넬(720)이 기판(10)을 지지하며 이동시킬 때 기판(10)의 측면이 면취 가공 유닛에 의하여 면취 가공되는 정위치를 따라 이동될 수 있도록 지그 판넬(720)을 상하 방향 및 측면 방향에서 지지함으로써 가이드한다. 이에 의해서, 지그 판넬(720)은 상하 방향 및 측면 방향으로의 힘이 작용하더라도 기판(10)이 정위치에서 이동되도록 안정적으로 지지하며 이동시킬 수 있다.The guide bracket 740, the upper and lower bearings 750, and the pin bearings 770 are formed by chamfering the side surface of the substrate 10 by the chamfering unit when the jig panel 720 supports and moves the substrate 10. The jig panel 720 is guided by supporting the jig panel 720 in the vertical direction and the lateral direction so as to be moved along the position. As a result, the jig panel 720 can be stably supported and moved so that the substrate 10 is moved in the correct position even when the force in the vertical direction and the lateral direction is applied.

본 실시예에서는 핀 베어링(770)을 사용하여 지그 판넬(720)의 돌출연결부(722)의 양 측면을 지지하였으나, 이와 달리, 가이드 브라켓(740)의 측면에 측면지지 베어링(미도시)을 마련하여 가이드 브라켓(740)을 양 측면에서 지지함으로써 지그 판넬(720)을 기판(10)이 이송되는 방향과 교차되는 방향으로 지지할 수도 있다.In this embodiment, the pin bearings 770 are used to support both side surfaces of the protruding connecting portion 722 of the jig panel 720. Alternatively, side support bearings (not shown) are provided on the side surfaces of the guide bracket 740. By supporting the guide brackets 740 on both sides, the jig panel 720 may be supported in a direction crossing the direction in which the substrate 10 is transferred.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시 예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정 예 또는 변형 예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

1 : 글라스용 면취 가공 시스템 10 : 기판
100 : 흡착벨트 컨베이어 유닛 110 : 흡착 컨베이어 벨트
111 : 흡착공 200 : 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛
210 : 체인 컨베이어 벨트 220 : 지그 판넬
221 : 에어홀 222 : 돌출연결부
230 : 가이드 브라켓 240 : 상하 베어링
250 : 측면지지 베어링 260 : 지지 몸체
261 : 연결공 262 : 체인 지지부
270 : 공압 조절 모듈 280 : 핀 베어링
300 : 면취 가공 유닛 310 : 면취 가공용 휠
320 : 회전 구동부 330 : 상하 이동 모듈
400 : 처짐방지 컨베이어 유닛 500 : 정렬 장치
510 : 정렬 컨베이어 유닛 511 : 브러쉬벨트 컨베이어
512 : 공기부상 컨베이어 520 : 센터링 유닛
521 : 가압롤러 522 : 롤러지지부
523 : 유닛 이동부 600 : 검사 유닛1: Chamfering System for Glass 10: Substrate
100: adsorption belt conveyor unit 110: adsorption conveyor belt
111: adsorption hole 200: continuous precision adsorption conveyor unit
210: chain conveyor belt 220: jig panel
221: air hole 222: projecting connection
230: guide bracket 240: up and down bearing
250: side support bearing 260: support body
261: connection hole 262: chain support
270: pneumatic adjustment module 280: pin bearing
300: chamfering unit 310: chamfering wheel
320: rotary drive unit 330: vertical movement module
400: deflection prevention conveyor unit 500: alignment device
510: alignment conveyor unit 511: brush belt conveyor
512: air floating conveyor 520: centering unit
521: pressure roller 522: roller support portion
523: unit moving unit 600: inspection unit

Claims (24)

기판을 흡착하여 이송시키는 흡착벨트 컨베이어 유닛;
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛에 인접하게 마련되어 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛; 및
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측부에 마련되어 상기 기판이 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛 및 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛에 의해 이동되는 동안 상기 기판에 대한 면취 가공을 수행하는 면취 가공 유닛을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.An adsorption belt conveyor unit for absorbing and transporting the substrate;
A continuous precision adsorption conveyor unit provided adjacent to the adsorption belt conveyor unit to adsorb and support the substrate or to raise the air; And
And a chamfering processing unit provided on the side of the suction belt conveyor unit to chamfer the substrate while the substrate is moved by the suction belt conveyor unit and the continuous precision suction conveyor unit. 제1항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
체인 컨베이어 벨트; 및
상기 체인 컨베이어 벨트와 연결되어 상기 체인 컨베이어 벨트에 의해 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
Chain conveyor belt; And
And a jig panel connected to the chain conveyor belt and moved by the chain conveyor belt, the jig panel for adsorbing and supporting or air floating the substrate on an upper surface thereof. 제2항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및
상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 2,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
A guide bracket connected to a side of the jig panel to guide movement of the jig panel; And
And a pair of upper and lower bearings provided in a pair of upper and lower portions of the guide bracket to support the guide bracket in a vertical direction when the guide bracket is moved. 제3항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 가이드 브라켓의 측면에 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상기 가이드 브라켓의 이동 방향과 교차되는 방향으로 지지하는 측면지지 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 3,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
And a side support bearing provided on a side surface of the guide bracket to support the guide bracket in a direction crossing the moving direction of the guide bracket when the guide bracket is moved. 제3항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 3,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
Chamfering processing system for the glass further comprises a pair of pin bearings for supporting both sides of the projecting connection portion protruding from the lower surface of the jig panel. 제2항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되며,
상기 지그 판넬의 하부에 마련되어 상기 체인 컨베이어 벨트 및 상기 지그 판넬을 지지하며 상기 지그 판넬의 하면에서 상기 에어홀과 연결되는 연결공이 형성되는 지지몸체; 및
상기 지지몸체의 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 2,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
The jig panel is formed with an air hole which is an air passage connected to the lower surface of the jig panel from the upper surface of the jig panel,
A support body provided below the jig panel to support the chain conveyor belt and the jig panel and having a connection hole connected to the air hole at a bottom of the jig panel; And
Chamfering processing system for the glass further comprises a pneumatic control module connected to the connection hole of the support body to suck or spray air. 제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은,
상기 기판이 놓여지며 판면에 흡착공이 형성되어 상기 기판을 흡착 지지하며 이송시키는 흡착 컨베이어 벨트; 및
일정한 간격을 두고 상기 흡착 컨베이어 벨트의 내측 하부에 마련되어 상기 흡착공을 통하여 공기를 흡입함으로써 상기 기판을 상기 흡착 컨베이어 벨트에 흡착시키는 진공 흡착 모듈을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
The suction belt conveyor unit,
An adsorption conveyor belt on which the substrate is placed and adsorption holes are formed on a plate surface to adsorb and support the substrate; And
And a vacuum suction module provided at an inner lower portion of the suction conveyor belt at regular intervals to suck air through the suction hole to suck the substrate onto the suction conveyor belt. 제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛은, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛을 사이에 두고 한 쌍이 상호 이격 거리가 조절 가능하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
The suction belt conveyor unit, chamfering processing system for a glass, characterized in that the pair is provided so that the mutual separation distance can be adjusted with the continuous precision suction conveyor unit therebetween. 제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛 사이에 마련되어 상기 기판을 지지하며 이동시키는 적어도 하나의 처짐방지 컨베이어 유닛을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
And at least one sag prevention conveyor unit provided between the suction belt conveyor unit and the continuous precision suction conveyor unit to support and move the substrate. 제1항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛은,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 면취 가공하는 면취 가공용 휠; 및
상기 면취 가공용 휠을 회전 구동시키는 회전 구동부를 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
The chamfering processing unit,
Chamfering wheel is provided on the side of the suction belt conveyor unit for chamfering the side of the substrate; And
Chamfering processing system for a glass comprising a rotation drive for rotating the chamfering wheel. 제10항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛은,
상기 면취 가공용 휠은 복수가 상하 방향으로 적층되는 구조를 가지며,
상기 면취 가공용 휠을 상하 방향으로 이동시키는 상하 이동 모듈을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 10,
The chamfering processing unit,
The chamfering wheel has a structure in which a plurality of stacked in the vertical direction,
Chamfering processing system for glass further comprising a vertical movement module for moving the chamfering wheel in the vertical direction. 제1항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 이송 방향의 양 측면에 복수로 마련되며 복수의 상기 면취 가공 유닛은 상기 기판의 측면 모서리를 순차적으로 황삭 가공하고 정삭 가공하는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
The chamfering unit is provided in plural on both sides of the transfer direction of the substrate and the plurality of chamfering unit is roughly chamfered and finish machining the side edges of the substrate sequentially. 제1항에 있어서,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 정렬하여 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 공급하는 정렬 장치를 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
And an alignment device provided in front of the suction belt conveyor unit to align the substrate and to supply the substrate to the suction belt conveyor unit. 제13항에 있어서,
상기 정렬 장치는,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛의 전방에 마련되어 상기 기판을 상기 흡착벨트 컨베이어 유닛으로 이송시키는 정렬 컨베이어 유닛; 및
상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판을 정렬하는 센터링 유닛을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 13,
The alignment device,
An alignment conveyor unit provided in front of the suction belt conveyor unit to transfer the substrate to the suction belt conveyor unit; And
Chamfering processing system for a glass comprising a centering unit provided on the side of the alignment conveyor unit to align the substrate. 제14항에 있어서,
상기 정렬 컨베이어 유닛은,
판면에 플렉시블 브러쉬(flexible brush)가 마련되어 상기 기판을 지지하는 브러쉬 벨트를 갖는 한 쌍의 브러쉬벨트 컨베이어; 및
한 쌍의 상기 브러쉬벨트 컨베이어 사이에 배치되며 상기 기판의 하부에서 상기 기판을 향하여 공기를 분사하는 공기부상 컨베이어를 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.15. The method of claim 14,
The alignment conveyor unit,
A pair of brush belt conveyors provided with a flexible brush on a plate surface and having a brush belt for supporting the substrate; And
And an air levitation conveyor disposed between the pair of brush belt conveyors and injecting air from the lower portion of the substrate toward the substrate. 제14항에 있어서,
상기 정렬 컨베이어 유닛은 한 쌍이 상호 이격되어 마련되며, 상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은 한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 적어도 일 영역까지 연장되어 마련되는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.15. The method of claim 14,
The alignment conveyor unit is provided with a pair of spaced apart from each other, the continuous precision adsorption conveyor unit is a glass chamfering processing system, characterized in that provided to extend to at least one area between the pair of the alignment conveyor unit. 제16항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
한 쌍의 상기 정렬 컨베이어 유닛 사이의 영역에서는 상기 기판의 하면으로 공기를 분사하여 상기 기판을 공기 부상시키도록 작동되며,
상기 흡착벨트 컨베이어 유닛과 인접한 영역에서는 상기 기판을 흡착하여 지지하며 이송시키는 것을 특징으로 하는 글라스용 면취 가공 시스템.17. The method of claim 16,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
In the area between the pair of alignment conveyor units is operated to inflate the substrate by injecting air into the lower surface of the substrate,
Chamfering processing system for a glass, characterized in that for adsorbing, supporting and transporting the substrate in an area adjacent to the adsorption belt conveyor unit. 제14항에 있어서,
상기 센터링 유닛은,
상기 정렬 컨베이어 유닛의 측면에 마련되어 상기 기판의 측면을 가압하는 가압롤러; 및
상기 가압롤러가 회전 가능하게 결합되는 롤러지지부를 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.15. The method of claim 14,
The centering unit,
A pressure roller provided on a side of the alignment conveyor unit to press the side of the substrate; And
Chamfering processing system for a glass comprising a roller support to which the pressure roller is rotatably coupled. 제18항에 있어서,
상기 센터링 유닛은,
상기 롤러지지부를 상기 기판의 이송 방향으로 이동시키는 유닛 이동부를 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.19. The method of claim 18,
The centering unit,
Chamfering processing system for glass further comprising a unit moving part which moves the said roller support part to the conveyance direction of the said board | substrate. 제1항에 있어서,
상기 면취 가공 유닛과 인접하여 마련되어 상기 면취 가공 유닛에 의하여 면취 가공된 상기 기판의 가공 상태를 검사하는 검사 유닛을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
And an inspection unit provided adjacent to the chamfering processing unit and inspecting a processing state of the substrate chamfered by the chamfering processing unit. 제1항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
타이밍 벨트; 및
상기 타이밍 벨트와 연결되어 상기 타이밍 벨트에 의하여 이동되며 상면에 상기 기판을 흡착하여 지지하거나 공기 부상시키는 지그 판넬을 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 1,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
Timing belts; And
And a jig panel connected to the timing belt and moved by the timing belt to adsorb and support the substrate or to float the air on an upper surface thereof. 제21항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 측면에 연결되어 상기 지그 판넬의 이동을 가이드하는 가이드 브라켓; 및
상기 가이드 브라켓의 상하부에 한 쌍으로 마련되어 상기 가이드 브라켓의 이동시 상기 가이드 브라켓을 상하 방향으로 지지하는 상하 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 21,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
A guide bracket connected to a side of the jig panel to guide movement of the jig panel; And
And a pair of upper and lower bearings provided in a pair of upper and lower portions of the guide bracket to support the guide bracket in a vertical direction when the guide bracket is moved. 제22항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬의 하면에서 돌출되어 마련되는 돌출연결부의 양 측면을 지지하는 한 쌍의 핀 베어링을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 22,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
Chamfering processing system for the glass further comprises a pair of pin bearings for supporting both sides of the projecting connection portion protruding from the lower surface of the jig panel. 제21항에 있어서,
상기 연속 정밀 흡착 컨베이어 유닛은,
상기 지그 판넬에는 상기 지그 판넬의 상면으로부터 상기 지그 판넬의 하면으로 연결되는 공기 통로인 에어홀이 형성되고,
상기 타이밍 벨트에는 판면을 관통하여 상기 에어홀과 연결되는 제1 연결공이 형성되며,
상기 타이밍 벨트의 내측면에서 상기 타이밍 벨트와 접촉하며 상기 타이밍 벨트를 구동시키며 판면을 관통하여 상기 제1 연결공과 연결되는 제2 연결공이 형성되는 벨트 구동부;
상기 벨트 구동부의 하부에 마련되어 상기 벨트 구동부를 지지하며 상기 벨트 구동부의 하면에서 상기 제2 연결공과 연결되는 제3 연결공이 형성되는 지지몸체; 및
상기 지지몸체의 제3 연결공과 연결되어 공기를 흡입 또는 분사하는 공압 조절 모듈을 더 포함하는 글라스용 면취 가공 시스템.The method of claim 21,
The continuous precision adsorption conveyor unit,
The jig panel is formed with an air hole which is an air passage connected from the upper surface of the jig panel to the lower surface of the jig panel,
The timing belt is formed with a first connection hole penetrating the plate surface and connected to the air hole,
A belt driving part in contact with the timing belt on an inner side of the timing belt and driving the timing belt and having a second connection hole formed through the plate to be connected to the first connection hole;
A support body provided below the belt driving part to support the belt driving part and having a third connecting hole formed at a lower surface of the belt driving part to be connected to the second connecting hole; And
Chamfering processing system for glass further comprising a pneumatic control module connected to the third connection hole of the support body to suck or spray air.
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