KR20110111820A - The small size glass polishing system that contain washing and drying instrument - Google Patents

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KR20110111820A
KR20110111820A KR1020100031095A KR20100031095A KR20110111820A KR 20110111820 A KR20110111820 A KR 20110111820A KR 1020100031095 A KR1020100031095 A KR 1020100031095A KR 20100031095 A KR20100031095 A KR 20100031095A KR 20110111820 A KR20110111820 A KR 20110111820A
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glass substrate
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glass
drying
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최양환
안치수
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디엔씨엔지니어링 주식회사
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Abstract

본 발명은 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템에 관한 것으로서, 종래 모든 공정이 인라인 형태로 구성되어 중간에 특정 공정에서 문제가 발생하면 전체 라인이 정지하여 생산에 막대한 손실을 가져오던 문제점을 해결하기 위하여 개발된 것으로;
글라스 기판의 상호 대응하는 양측면의 상단 및 하단 모서리를 연마하여 제1 내지 제4 연마면을 형성하는 글라스 연마시스템에 있어서;
일정한 크기로 절단되어 공급되는 글라스 기판을 들어 운반하는 픽업장치를 포함하여 상기 제1 연마면을 연마하는 제1 연마장치로 이루어지는 제1 연마스테이지와; 상기 글라스 기판을 평면상에서 180°회전하는 제1 회전수단을 포함하여 상기 제2 연마면을 연마하는 제2 연마장치로 이루어지는 제2 연마스테이지와; 상기 글라스 기판의 상면과 저면을 반전시키는 제1 반전수단을 포함하여 제3 연마면을 연마하는 제3 연마장치로 이루어지는 제3 연마스테이지와; 상기 글라스 기판을 평면상에서 180°회전하는 제2 회전수단을 포함하여 상기 제4 연마면을 연마하는 제4 연마장치로 이루어지는 제4 연마스테이지와; 상기 글라스 기판의 표면에 잔존하는 각종 미세 먼지 및 연마작업에서 발생하는 파티클을 브러쉬에 의하여 제거하는 브러시모듈과; 상기 글라스 기판을 이송하는 이송컨베어와, 이송되는 글라스 기판의 상면과 저면에 세정액을 분사하는 세정액 분사장치와, 고압의 공기를 상면과 저면에 분사하여 세정액을 제거하는 하나 이상의 에어나이프와, 뜨거운 공기를 분사하여 건조시키는 건조장치와 건조된 글라스 기판을 반출하는 반출수단을 포함하는 세정 및 건조모듈과; 상기 글라스 기판을 제1 내지 제4 연마스테이지와 브러쉬 모듈을 거쳐 상기 이송컨베어로 이송하는 이송장치로 구성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마 시스템에 관한 것이다.
The present invention relates to a small glass polishing system including a cleaning and drying apparatus, and all the processes are formed in an inline form, and when a problem occurs in a specific process in the middle, the entire line stops causing a huge loss in production. Was developed to solve;
A glass polishing system for forming first to fourth polishing surfaces by polishing upper and lower edges of mutually opposite sides of a glass substrate;
A first polishing stage comprising a first polishing apparatus for polishing the first polishing surface, including a pick-up apparatus for carrying and feeding a glass substrate cut and supplied to a predetermined size; A second polishing stage comprising a second polishing apparatus for polishing the second polishing surface, including first rotating means for rotating the glass substrate 180 degrees on a plane; A third polishing stage comprising a third polishing apparatus for polishing the third polishing surface, including first inverting means for inverting the top and bottom surfaces of the glass substrate; A fourth polishing stage comprising a fourth polishing apparatus for polishing the fourth polishing surface, including second rotating means for rotating the glass substrate 180 degrees on a plane; A brush module which removes particles generated in various fine dusts and polishing operations remaining on the surface of the glass substrate by a brush; A conveying conveyor for transporting the glass substrate, a cleaning liquid injector for spraying a cleaning liquid on the upper and lower surfaces of the glass substrate being transferred, one or more air knives for removing the cleaning liquid by spraying high pressure air on the upper and lower surfaces, and hot air A washing and drying module including a drying apparatus for spraying and drying and a carrying means for carrying out the dried glass substrate; The present invention relates to a small glass polishing system including a cleaning and drying device, wherein the glass substrate is configured to transfer the glass substrate to the transfer conveyor via the first to fourth polishing stages and the brush module.

Figure P1020100031095
Figure P1020100031095

Description

세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템{The small size glass polishing system that contain washing and drying instrument}The small size glass polishing system that contain washing and drying instrument

본 발명은 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템에 관한 것으로서, 좀더 상세하게 설명하면 종래 모든 공정이 인라인 형태로 구성되어 중간에 특정 공정에서 문제가 발생하면 전체 라인이 정지하여 생산에 막대한 손실을 가져오던 문제점을 해결하기 위하여 개발된 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a small glass polishing system including a cleaning and drying apparatus, and in more detail, all the processes in the prior art are configured in an in-line form, and if a problem occurs in a specific process in the middle, the entire line stops and a huge loss in production The present invention relates to a compact glass polishing system including a cleaning and drying apparatus developed to solve the problem of bringing about a problem.

과거 음극선관(CRT; Cathode Ray Tube)으로 대표되는 디스플레이 장치는 대부분의 텔레비젼과 모니터에 적용되어 오랜 시간 동안 사용되어 왔으나 저소비전력 및 경량, 적은 부피를 가지는 디스플레이 장치에 대한 연구는 계속되어 최근에는 상기 요구에 적합한 LCD, OLED, LED, TFT 등의 보급이 점차 확대되고 있다.In the past, display devices represented by Cathode Ray Tubes (CRTs) have been used for most TVs and monitors, and have been used for a long time. However, research on display devices having low power consumption, light weight, and small volume has been continued. The spread of LCDs, OLEDs, LEDs, and TFTs suitable for demand is gradually expanding.

이러한 디스플레이 장치는 화상 데이터를 액정의 광학적 성질을 이용하여 디스플레이하는 액정 패널과 이를 구동하기 위한 구동회로가 형성된 인쇄회로기판을 포함하는 액정 패널 어셈블리, 화면표시를 위한 광을 공급하는 백라이트 어셈블리 및 액정 패널 어셈블리와 백라이트 어셈블리를 고정, 수용하는 몰드 프레임으로 구성된다.Such a display device includes a liquid crystal panel assembly including a liquid crystal panel for displaying image data using optical properties of liquid crystal and a printed circuit board having a driving circuit for driving the same, a backlight assembly for supplying light for a screen display, and a liquid crystal panel. It consists of a mold frame for fixing and receiving the assembly and the backlight assembly.

이때 상기 액정 패널에서는 유리기판은 신호입력 패턴과 인쇄회로기판의 미스얼라인(misalign)을 방지하고, 공정충격에 의한 크랙(crack) 발생을 방지하기 위하여 액정 패널의 모서리(edge)를 연마하는 연마 공정을 수행한다.At this time, in the liquid crystal panel, the glass substrate is used to prevent misalignment between the signal input pattern and the printed circuit board, and to polish the edges of the liquid crystal panel in order to prevent cracks caused by process shocks. Perform the process.

또한 이러한 연마 공정 중에 발생하는 연마되어 떨어져 나간 미세 파티클이 잔존해 있으면 유리기판 즉 글라스에 스크래치를 일으키거나 표면에 남겨져 있는 파티클이 제거되지 않고 제조된 디스플레이 장치는 그 부분의 화질이 변질되거나 시인성이 떨어지는 문제점이 발생한다.In addition, if the fine particles that have been abraded and broken out during the polishing process remain, the display device manufactured without scratching the glass substrate, that is, the particles left on the surface, is not removed, and the image quality of the part is deteriorated or the visibility is poor. A problem occurs.

하지만 종래에는 연마장치와 세정기 및 건조기는 독립적인 장치로써 연결되어 있었으나 특정 공정에서 문제가 발생하면 다른 장치들도 가동을 중지해야하므로 생산량에 막대한 손실을 가져오는 문제점이 있었다.However, in the past, the polishing apparatus, the scrubber and the dryer were connected as independent apparatuses, but when a problem occurred in a specific process, other apparatuses had to be shut down, resulting in a huge loss in production.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 개발된 것으로서, 그 목적은 종래 독립적인 장치로 구성되었던 연마장치와 세정기 및 건조기의 기능을 복합적인 형태로 통합하여 구성되는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템을 개발하는 것에 있다.The present invention was developed in order to solve the above problems, the object of which is a compact including a washing and drying device that is configured by integrating the functions of the polishing device and the cleaner and the dryer in a complex form that was conventionally configured as an independent device It is to develop a glass polishing system.

또한, 연마와 세정 및 건조 과정의 일련의 과정이 진행되는 것을 자동화하여 작업자의 개입을 최소화할 수 있는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템을 개발하는 것에 있다.In addition, to develop a small glass polishing system including a cleaning and drying apparatus that can minimize the operator's intervention by automating the progress of a series of polishing, cleaning and drying process.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 글라스 기판의 상호 대응하는 양측면의 상단 및 하단 모서리를 연마하여 제1 내지 제4 연마면을 형성하는 글라스 연마시스템에 있어서;In order to achieve the above object, the present invention provides a glass polishing system for forming the first to fourth polishing surfaces by polishing the upper and lower edges of the opposite side surfaces of the glass substrate;

일정한 크기로 절단되어 공급되는 글라스 기판을 들어 운반하는 픽업장치를 포함하여 상기 제1 연마면을 연마하는 제1 연마장치로 이루어지는 제1 연마스테이지와;A first polishing stage comprising a first polishing apparatus for polishing the first polishing surface, including a pick-up apparatus for carrying and feeding a glass substrate cut and supplied to a predetermined size;

상기 글라스 기판을 평면상에서 180°회전하는 제1 회전수단을 포함하여 상기 제2 연마면을 연마하는 제2 연마장치로 이루어지는 제2 연마스테이지와;A second polishing stage comprising a second polishing apparatus for polishing the second polishing surface, including first rotating means for rotating the glass substrate 180 degrees on a plane;

상기 글라스 기판의 상면과 저면을 반전시키는 제1 반전수단을 포함하여 제3 연마면을 연마하는 제3 연마장치로 이루어지는 제3 연마스테이지와;A third polishing stage comprising a third polishing apparatus for polishing the third polishing surface, including first inverting means for inverting the top and bottom surfaces of the glass substrate;

상기 글라스 기판을 평면상에서 180°회전하는 제2 회전수단을 포함하여 상기 제4 연마면을 연마하는 제4 연마장치로 이루어지는 제4 연마스테이지와;A fourth polishing stage comprising a fourth polishing apparatus for polishing the fourth polishing surface, including second rotating means for rotating the glass substrate 180 degrees on a plane;

상기 글라스 기판의 표면에 잔존하는 각종 미세 먼지 및 연마작업에서 발생하는 파티클을 브러쉬에 의하여 제거하는 브러시모듈과;A brush module which removes particles generated in various fine dusts and polishing operations remaining on the surface of the glass substrate by a brush;

상기 글라스 기판을 이송하는 이송컨베어와, 이송되는 글라스 기판의 상면과 저면에 세정액을 분사하는 세정액 분사장치와, 고압의 공기를 상면과 저면에 분사하여 세정액을 제거하는 하나 이상의 에어나이프와, 뜨거운 공기를 분사하여 건조시키는 건조장치와 건조된 글라스 기판을 반출하는 반출수단을 포함하는 세정 및 건조모듈과;A conveying conveyor for transporting the glass substrate, a cleaning liquid injector for spraying a cleaning liquid on the upper and lower surfaces of the glass substrate being transferred, one or more air knives for removing the cleaning liquid by spraying high pressure air on the upper and lower surfaces, and hot air A washing and drying module including a drying apparatus for spraying and drying and a carrying means for carrying out the dried glass substrate;

상기 글라스 기판을 제1 내지 제4 연마스테이지와 브러쉬 모듈을 거쳐 상기 이송컨베어로 이송하는 이송장치로 구성됨을 특징으로 한다.
The glass substrate is characterized by consisting of a transfer device for transferring to the transfer conveyor via the first to fourth polishing stage and the brush module.

아울러, 상기 이송장치은 일렬로 정렬 장착되는 제1 내지 제4 연마스테이지의 하부를 따라 형성되는 제1 이송레일과, 상면에 상기 글라스 기판이 안착되고 상기 제1 이송레일을 따라 왕복 운동하는 4 개의 제1 이송테이블로 구성되는 제1 이송부와;In addition, the conveying apparatus includes a first conveying rail formed along a lower portion of the first to fourth polishing stages aligned and arranged in a row, and the four conveying elements seated on an upper surface thereof and reciprocating along the first conveying rail. A first transfer unit comprising a first transfer table;

상기 제1 이송부의 일 이송테이블이 제4 연마스테이지를 지나 외측으로 이송되었을 때 하강하여 글라스 기판의 상면에 밀착 흡입하는 제1 흡입장치와, 상기 제1 흡입장치의 상단과 연결되어 수평이송하도록 하는 제2 이송레일로 구성되는 제1 트랜스퍼와;A first suction device which is lowered when the one transfer table of the first transfer part is transferred to the outside through the fourth polishing stage and is sucked in close contact with the upper surface of the glass substrate, and is horizontally connected to an upper end of the first suction device; A first transfer composed of a second transfer rail;

일렬로 정렬 장착되는 브러쉬 모듈에서 세정 및 건조장치의 이송컨베어까지 하부를 따라 형성되는 제3 이송레일과, 상면에 상기 이송 트렌스퍼에 의하여 이송된 상기 글라스 기판이 안착되고 상기 제3 이송레일을 따라 왕복 운동하는 2 개의 제2 이송테이블로 구성되는 제2 이송부로 구성됨을 특징으로 한다.
A third transfer rail is formed along the lower side from the brush modules arranged in a row to the transfer conveyor of the cleaning and drying apparatus, and the glass substrate transferred by the transfer transformer is mounted on an upper surface of the brush module, and along the third transfer rail. It is characterized by consisting of a second transfer unit consisting of two second transfer table for reciprocating motion.

또한, 상기 제1 연마스테이지의 픽업장치는 장입트레이에 위치한 일 글라스 기판을 흡착하여 들어올리는 제2 흡입장치와, 상기 제2 흡입장치를 수평이송하여 인접한 제1 연마스테이지의 제1 이송테이블로 글라스 기판을 이송하도록 구성되고;In addition, the pick-up device of the first polishing stage includes a second suction device for absorbing and lifting one glass substrate positioned in a charging tray, and horizontally transferring the second suction device to a first transfer table of an adjacent first polishing stage. Is configured to transfer a substrate;

상기 제1 연마스테이지에는 상하 좌우로 이동하며 그 하단에는 글라스 기판의 상면에 밀착 흡입하고 정확한 위치로 이동하도록 하는 정렬장치가 추가로 형성됨을 특징으로 한다.
The first polishing stage is moved up and down and left and right, the lower end is characterized in that the alignment device is further formed in close contact with the upper surface of the glass substrate to move to the correct position.

아울러, 상기 제1 내지 제4 연마스테이지에 위치한 4 개의 상기 제1 이송테이블의 상면에는 올려진 글라스 기판을 흡착 고정하도록 흡입홀이 다수 형성되고;In addition, a plurality of suction holes are formed on the upper surfaces of the four first transfer tables positioned on the first to fourth polishing stages to suck and fix the raised glass substrates;

상기 제1 내지 제2 연마장치는 상기 제1 이송테이블의 이송경로에서 고정된 글라스 기판의 일 모서리를 절삭숫돌이 연마하도록 하는 위치에 장착됨을 특징으로 한다.
The first to the second polishing apparatus is characterized in that it is mounted at a position to allow the cutting grind to polish a corner of the glass substrate fixed in the transport path of the first transfer table.

또한, 상기 제2 연마스테이지와 제4 연마스테이지의 제1 및 제2 회전수단은 모터에 의하여 회전하도록 수직으로 입설되는 축과, 상기 축의 하단에 흡입매니폴더에 의하여 흡입력이 발생하는 제1 흡입부로 구성되어 수직으로 승하강됨을 특징으로 한다.
In addition, the first and second rotation means of the second polishing stage and the fourth polishing stage are vertically installed so as to rotate by a motor, and a first suction part in which suction force is generated by a suction manifold at a lower end of the shaft. It is configured to rise and fall vertically.

아울러, 상기 브러쉬모듈은 글라스 기판이 올려진 제2 이송테이블의 이동에 따라 상면을 지나가도록 하는 원통형의 회전하는 제1 브러시와, 상기 글라스 기판의 상면과 저면을 반전시키는 제2 반전수단과, 반전을 마친 글라스 기판의 이동경로에 위치하는 제2 브러쉬와, 글라스 기판의 상면에 밀착 흡입하는 제3 흡입장치와, 상기 제3 흡입장치의 상단과 연결되어 수평이송하도록 하는 제6 이송레일로 구성되는 제2 트랜스퍼를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
In addition, the brush module is a first rotating cylindrical brush to pass through the upper surface in accordance with the movement of the second transfer table, the glass substrate, the second inverting means for inverting the upper and lower surfaces of the glass substrate, and the inversion A second brush positioned in the movement path of the finished glass substrate, a third suction device in close contact with the upper surface of the glass substrate, and a sixth transfer rail connected to an upper end of the third suction device to move horizontally And a second transfer.

또한, 상기 제1 반전수단 및/또는 제2 반전수단은 모터에 의하여 회전하는 제1 기어와, 상기 제1 기어와 밸트에 의하여 연동하는 제2 기어와, 상기 제2 기어와 연동하여 최초 하부 방향으로 형성되어 글라스 기판이 흡착되면 제2 기어의 회전에 의하여 회전 상기 글라스 기판의 저면이 상면이 되도록 반전되도록 하고 제6 이송레일에 의하여 전후방으로 이동가능하게 형성되는 제2 흡입부와;The first reversing means and / or the second reversing means may include a first gear that rotates by a motor, a second gear that cooperates with the first gear and a belt, and an initial lower direction in cooperation with the second gear. A second suction part which is formed to be inverted so that the bottom surface of the glass substrate is rotated by the rotation of the second gear when the glass substrate is adsorbed, and is moved forward and backward by the sixth transfer rail;

상기 글라스 기판의 저면이 상면이 되도록 반전되면 하강하여 글라스 기판을 흡입하고, 상기 제2 흡입부가 후방으로 후퇴하면 다시 하강하여 글라스 기판을 제3 연마스테이지의 작업 라인 상에 올려놓도록 제3 흡입부로 구성됨을 특징으로 한다.
When the bottom surface of the glass substrate is inverted to become an upper surface, the glass substrate is lowered to suck the glass substrate, and when the second suction unit retreats backward, the glass substrate is lowered again to place the glass substrate on the work line of the third polishing stage. Characterized in that configured.

아울러, 상기 세정 및 건조모듈에서 반출수단은 건조장치를 통과한 글라스 기판을 흡착하여 들어올리는 제3 흡입장치와, 상기 제3 흡입장치를 수평이송하여 인접한 대기테이블 위에 상기 글라스 기판을 올려놓는 제3 트랜스퍼와, 상기 대기테이블 위의 상기 글라스 기판을 반출트레이로 옮기는 반출로봇이 추가로 형성됨을 특징으로 한다.In addition, the means for carrying out the cleaning and drying module may include a third suction device for absorbing and lifting the glass substrate that has passed through the drying device, and a third suction device for horizontally transferring the third suction device to place the glass substrate on an adjacent waiting table. Transfer and a transport robot for moving the glass substrate on the standby table to the transport tray is further formed.

상술한 바와 같이 본 발명은 종래 독립적인 장치로 구성되었던 연마장치와 세정기 및 건조기의 기능을 복합적인 형태로 통합하여 구성되는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템을 제공하여 종래 분리되었던 공정을 하나로 통합 공정상의 불량발생률을 줄이고 생산성을 향상시키는 효과가 있다.As described above, the present invention provides a compact glass polishing system including a polishing apparatus and a washing and drying apparatus, which are configured by integrating the functions of a washing machine and a dryer and a dryer, which are conventionally independent apparatuses, in a complex form. Hana has the effect of reducing defect rate and improving productivity in the integrated process.

또한, 연마와 세정 및 건조 과정의 일련의 과정이 진행되는 것을 자동화하여 작업자의 개입을 최소화함으로 처리능력을 대폭 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, there is an effect that can greatly improve the processing capacity by minimizing the operator's intervention by automating the progress of a series of grinding and cleaning and drying process.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 평면도
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 정면도
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 우측면도
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 배면도
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따라 가공된 글라스 기판을 나타낸 사시도
도 6a 내지 6b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 제1 연마스테이지의 작동을 나타낸 개념도
도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 연마장치를 나타낸 개념도
도 8a 내지 8b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 회전수단의 작동을 나타낸 개념도
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반전장치를 나타낸 정면도
도 10a 내지 도 10e는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반전장치의 작동을 나타낸 개념도
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 제1 트랜스퍼를 나타낸 측면도
도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따른 브러시모듈을 나타낸 배면도
도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 세정 및 건조장치를 나타낸 배면도
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반출수단을 나타낸 배면도
1 is a plan view according to an embodiment of the present invention
2 is a front view according to an embodiment of the present invention;
3 is a right side view according to an embodiment of the present invention;
4 is a rear view according to an embodiment of the present invention.
5 is a perspective view showing a glass substrate processed according to an embodiment of the present invention
6a to 6b are conceptual views illustrating the operation of the first polishing stage according to an embodiment of the present invention.
7 is a conceptual view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
8a to 8b is a conceptual diagram showing the operation of the rotating means according to an embodiment of the present invention
9 is a front view showing an inverting apparatus according to an embodiment of the present invention.
10a to 10e is a conceptual diagram showing the operation of the inverting apparatus according to an embodiment of the present invention
11 is a side view showing a first transfer according to an embodiment of the present invention.
12 is a rear view showing a brush module according to an embodiment of the present invention.
13 is a rear view showing a washing and drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
14 is a rear view showing the carrying out means according to an embodiment of the present invention.

이에 본 발명의 구성을 첨부된 도면에 의하여 당업자가 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세하게 설명하면 다음과 같다.Accordingly, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily understand and reproduce.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 평면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 정면도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 우측면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 배면도이며, 도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따라 가공된 글라스 기판을 나타낸 사시도로서, 글라스 기판(1)의 상호 대응하는 양측면의 상단 및 하단 모서리를 연마하여 제1 내지 제4 연마면(11, 12, 13, 14)을 형성하는 글라스 연마시스템에 있어서;1 is a plan view according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a front view according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a right side view according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is one of the present invention FIG. 5 is a perspective view illustrating a glass substrate processed according to an embodiment of the present invention, wherein the upper and lower edges of the opposite side surfaces of the glass substrate 1 are polished to be first to first. 4. A glass polishing system for forming four polishing surfaces (11, 12, 13, 14);

일정한 크기로 절단되어 공급되는 글라스 기판(1)을 들어 운반하는 픽업장치(21)를 포함하여 상기 제1 연마면(11)을 연마하는 제1 연마장치(22)로 이루어지는 제1 연마스테이지(2)와;A first polishing stage (2) comprising a first polishing apparatus (22) for polishing the first polishing surface (11), including a pickup (21) for carrying and carrying a glass substrate (1) cut and supplied to a predetermined size. )Wow;

상기 글라스 기판(1)을 평면상에서 180°회전하는 제1 회전수단(31)을 포함하여 상기 제2 연마면(12)을 연마하는 제2 연마장치(32)로 이루어지는 제2 연마스테이지(3)와;A second polishing stage 3 comprising a second polishing device 32 for polishing the second polishing surface 12, including a first rotating means 31 for rotating the glass substrate 1 180 degrees on a plane. Wow;

상기 글라스 기판(1)의 상면과 저면을 반전시키는 제1 반전수단(41)을 포함하여 제3 연마면(13)을 연마하는 제3 연마장치(42)로 이루어지는 제3 연마스테이지(4)와;A third polishing stage (4) comprising a third polishing device (42) for polishing the third polishing surface (13), including first inverting means (41) for inverting the top and bottom surfaces of the glass substrate (1); ;

상기 글라스 기판(1)을 평면상에서 180°회전하는 제2 회전수단(51)을 포함하여 상기 제4 연마면(14)을 연마하는 제4 연마장치(52)로 이루어지는 제4 연마스테이지(5)와;Fourth polishing stage (5) comprising a fourth polishing device (52) for polishing the fourth polishing surface (14), including a second rotating means (51) for rotating the glass substrate (1) 180 degrees on a plane. Wow;

상기 글라스 기판(1)의 표면에 잔존하는 각종 미세 먼지 및 연마작업에서 발생하는 파티클을 브러쉬에 의하여 제거하는 브러시모듈(6)과;A brush module 6 which removes, by a brush, particles generated in various fine dusts and polishing operations remaining on the surface of the glass substrate 1;

상기 글라스 기판(1)을 이송하는 이송컨베어(71)와, 이송되는 글라스 기판(1)의 상면과 저면에 세정액을 분사하는 세정액 분사장치(72)와, 고압의 공기를 상면과 저면에 분사하여 세정액을 제거하는 하나 이상의 에어나이프(73)와, 뜨거운 공기를 분사하여 건조시키는 건조장치(74)와 건조된 글라스 기판(1)을 반출하는 반출수단(75)을 포함하는 세정 및 건조모듈(7)과;The conveying conveyor 71 for conveying the glass substrate 1, the cleaning liquid injector 72 for spraying the cleaning liquid on the upper and lower surfaces of the glass substrate 1 to be transported, and high pressure air are sprayed on the upper and lower surfaces. Cleaning and drying module (7) comprising at least one air knife (73) for removing the cleaning liquid, a drying device (74) for spraying hot air to dry it, and a carrying means (75) for carrying out the dried glass substrate (1). )and;

상기 글라스 기판(1)을 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)와 브러쉬 모듈(6)을 거쳐 상기 이송컨베어(71)로 이송하는 이송장치(8)로 구성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마 시스템을 나타내었다.The glass substrate 1 is characterized in that it comprises a transfer device 8 for transferring to the transfer conveyor 71 through the first to fourth polishing stages (2, 3, 4, 5) and the brush module (6) A compact glass polishing system is shown that includes a cleaning and drying apparatus.

기존의 장치의 경우 본원과 같이 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)를 거치면서 단계적으로 작업을 수행하지 않고 한 장소에서 제1 내지 제4 연마면(11, 12, 13, 14)을 가공하도록 하는 경우가 많아 장치가 복잡해지고 반전과 회전작업이 반복되면서 발생하는 딜레이 타임에 의하여 생산성이 상당히 떨어지는 문제점이 있으나 본원의 경우 연속적으로 이송되면서 가공하기 때문에 생산성이 향상되는 장점이 있다.In the case of the existing apparatus, the first to fourth polishing surfaces 11, 12, and 13 at one place without performing the stepwise operation while passing through the first to fourth polishing stages 2, 3, 4, and 5 as in the present application. , 14) the process is often complicated, the productivity is significantly reduced due to the delay time caused by the reversal and rotation is repeated, but in this case the productivity is improved because the processing is continuously transported have.

또한 연마작업과 연마 후 발생하는 파티클이나 미세 먼지 등을 브러쉬에 의하여 제거하고 다시 세정과 건조과정을 하나의 일련의 장치에 의하여 수행하도록 함으로 작업자의 개입을 최소화함으로 처리능력을 대폭 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
In addition, by removing the particles and fine dust generated after polishing and polishing by a brush, and cleaning and drying process by a series of devices to minimize the intervention of the operator to significantly improve the processing capacity There is.

이하 본 발명의 보다 구체적인 실시 예와 동작의 설명을 첨부된 도면에 의하여 작업순서에 따라 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a detailed description of the embodiment and operation of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in the working order.

도 6a 내지 6b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 제1 연마스테이지의 작동을 나타낸 개념도로서, 상기 제1 연마스테이지(2)의 픽업장치(21)는 장입트레이(211)에 위치한 일 글라스 기판(1)을 흡착하여 들어올리는 제2 흡입장치(212)와, 상기 제2 흡입장치(212)를 수평이송하여 인접한 제1 연마스테이지(2)의 제1 이송테이블(812)로 글라스 기판(1)을 이송하도록 구성되고;6A to 6B are conceptual views illustrating an operation of a first polishing stage according to an embodiment of the present invention, wherein the pick-up apparatus 21 of the first polishing stage 2 is a glass substrate positioned on a charging tray 211 (FIG. 2) the glass substrate 1 to the first suction table 212 for adsorbing and lifting the second suction device 212 and the second suction device 212 horizontally and adjoining the first transfer table 812 of the adjacent first polishing stage 2. Is configured to convey;

상기 제1 연마스테이지(2)에는 상하 좌우로 이동하며 그 하단에는 글라스 기판(1)의 상면에 밀착 흡입하고 정확한 위치로 이동하도록 하는 정렬장치(23)가 추가로 형성됨을 특징으로 한다.The first polishing stage (2) is characterized in that the alignment device 23 is further formed to move up and down and left and right and close to the upper surface of the glass substrate (1) to move to the correct position.

또한 이때 상기 이송장치(8)은 일렬로 정렬 장착되는 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)의 하부를 따라 형성되는 제1 이송레일(811)과, 상면에 상기 글라스 기판(1)이 안착되고 상기 제1 이송레일(811)을 따라 왕복 운동하는 4 개의 제1 이송테이블(812)로 구성되는 제1 이송부(81)를 포함하는 실시 예를 제시하였다.In this case, the transfer device 8 may include a first transfer rail 811 formed along a lower portion of the first to fourth polishing stages 2, 3, 4, and 5 arranged in a row, and the glass substrate on an upper surface thereof. An embodiment including a first transfer part 81 consisting of four first transfer tables 812 on which (1) is seated and reciprocates along the first transfer rail 811 has been presented.

이에 따라 정렬작업을 수행한 후 제1 이송테이블(812)이 다음 단계로 이송되면서 제1 연마장치(22)를 지나면서 일 모서리가 연마되게 된다.Accordingly, after performing the alignment operation, the first transfer table 812 is transferred to the next step, and one edge thereof is polished while passing through the first polishing apparatus 22.

또한 본원은 그 발명의 명칭에서 나타낸 바와 같이 소형의 글라스 기판(1)의 연마를 목적으로 하는 것으로 상기 제1 이송테이블(812) 위에는 수 개의 글라스 기판(1)이 일정한 열로 정렬되어 동시에 연마작업을 진행하도록 하는 것이 바람직하며 이에 따라 생산성도 대폭 향상되는 것이다.
In addition, the present application aims to polish the small glass substrate 1 as indicated by the name of the invention. On the first transfer table 812, several glass substrates 1 are aligned in a constant row to simultaneously polish. It is preferable to proceed so that the productivity is greatly improved.

도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 연마장치를 나타낸 개념도로서, 제 2항에 있어서, 상기 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)에 위치한 4 개의 상기 제1 이송테이블(812)의 상면에는 올려진 글라스 기판(1)을 흡착 고정하도록 흡입홀(24)이 다수 형성되고;7 is a conceptual view showing a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, wherein the first four transfer tables located in the first to fourth polishing stages 2, 3, 4 and 5 according to claim 2 A plurality of suction holes 24 are formed on an upper surface of the 812 to suck and fix the raised glass substrate 1;

상기 제1 내지 제2 연마장치(22, 32, 42, 52)는 상기 제1 이송테이블(812)의 이송경로에서 고정된 글라스 기판(1)의 일 모서리를 절삭숫돌(221)이 연마하도록 하는 위치에 장착됨을 나타내었다.The first to second polishing devices 22, 32, 42, and 52 may allow the cutting grindstone 221 to polish one edge of the glass substrate 1 fixed in the transport path of the first transport table 812. Indicated to be mounted in position.

상기 흡입홀(24)은 연마작업중에 글라스 기판(1)이 밀리는 것을 방지하기 위하여 형성한 것이며, 상기 제1 내지 제2 연마장치(22, 32, 42, 52)는 통상의 모터에 의하여 회전하는 원판 형태의 절삭숫돌(221)을 경사지게 고정한 것이다.The suction hole 24 is formed to prevent the glass substrate 1 from being pushed during the polishing operation, and the first to second polishing devices 22, 32, 42, and 52 rotate by a conventional motor. The grinding wheel 221 of the disc shape is fixed to be inclined.

이때 연마장치는 연마작업이 진행됨에 따라 상기 절삭숫돌(221)이 마모되기 때문에 이를 보정할 수 있는 수단이 장착됨이 바람직하다.
In this case, the polishing apparatus is preferably equipped with a means for correcting the grinding wheel 221 is worn as the grinding operation proceeds.

도 8a 내지 8b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 회전수단의 작동을 나타낸 개념도로서, 상기 제2 연마스테이지(3)와 제4 연마스테이지(5)의 제1 및 제2 회전수단(31, 51)은 모터(311)에 의하여 회전하도록 수직으로 입설되는 축(312)과, 상기 축(312)의 하단에 흡입매니폴더(313)에 의하여 흡입력이 발생하는 제1 흡입부(314)로 구성되어 수직으로 승하강하도록 구성됨을 나타내었다.8A to 8B are conceptual views illustrating the operation of the rotating means according to an embodiment of the present invention, wherein the first and second rotating means 31 and 51 of the second polishing stage 3 and the fourth polishing stage 5 are illustrated. ) Is composed of a shaft 312 vertically entered to rotate by the motor 311, and the first suction portion 314, the suction force is generated by the suction manifold 313 at the lower end of the shaft 312 It is shown to be configured to move up and down vertically.

즉 상기 제1 흡입부(314)에 의하여 글라스 기판(1)을 흡착한 뒤에 상기 모터(311)를 작동하여 상기 축(312)과 함께 글라스 기판(1)을 회전하도록 하는 것으로서, 전술한 도 5에서 도시된 글라스 기판(1)의 경우 180°회전하면 완료가 된다.That is, by adsorbing the glass substrate 1 by the first suction part 314, the motor 311 is operated to rotate the glass substrate 1 together with the shaft 312, as described above with reference to FIG. 5. In the case of the glass substrate 1 shown in Figure 180 rotates when complete.

또한 정확하게 180°를 회전하기 위해서 상기 축(312)의 회전을 제한하는 수단이 구비함이 바람직하다.It is also desirable to have means for limiting the rotation of the shaft 312 in order to rotate exactly 180 °.

또한 상기 도 8b에서는 상기 흡입매니폴더(313)는 일 방향으로 길게 연장되는 형상을 가지고 제1 흡입부(314)에서는 흡입력을 작용하는 수 개의 홀을 형성하여 상기 도면에서와 같이 여러 개의 글라스 기판(1)을 동시에 흡착 회전하도록 하였다.
In addition, in FIG. 8B, the suction manifold 313 has a shape extending in one direction, and the first suction part 314 forms several holes exerting a suction force, thereby forming a plurality of glass substrates ( 1) was made to adsorb and rotate simultaneously.

도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반전장치를 나타낸 정면도이고, 도 10a 내지 도 10e는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반전장치의 작동을 나타낸 개념도로서, 상기 제1 반전수단(41) 및/또는 제2 반전수단(62; 도 12 참조)은 모터(411)에 의하여 회전하는 제1 기어(412)와, 상기 제1 기어(412)와 밸트(413)에 의하여 연동하는 제2 기어(414)와, 상기 제2 기어(414)와 연동하여 최초 하부 방향으로 형성되어 글라스 기판(1)이 흡착되면 제2 기어(414)의 회전에 의하여 회전 상기 글라스 기판(1)의 저면이 상면이 되도록 반전되도록 하고 제6 이송레일(415)에 의하여 전후방으로 이동가능하게 형성되는 제2 흡입부(416, 621)와;9 is a front view showing an inverting apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 10a to 10e is a conceptual diagram showing the operation of the inverting apparatus according to an embodiment of the present invention, the first inverting means 41 and And / or the second inverting means 62 (see FIG. 12) may include a first gear 412 rotating by the motor 411, and a second gear cooperating with the first gear 412 and the belt 413. 414 and the second gear 414 are formed in the first downward direction, and when the glass substrate 1 is adsorbed, the bottom surface of the glass substrate 1 is rotated by the rotation of the second gear 414. Second suction parts 416 and 621 which are inverted so as to be inverted and movably moved forward and backward by the sixth transfer rail 415;

상기 글라스 기판(1)의 저면이 상면이 되도록 반전되면 하강하여 글라스 기판(1)을 흡입하고, 상기 제2 흡입부(416)가 후방으로 후퇴하면 다시 하강하여 글라스 기판(1)을 제3 연마스테이지(4)의 작업 라인 상에 올려놓도록 제3 흡입부(417, 622)로 구성되는 실시 예를 나타내었다.When the bottom surface of the glass substrate 1 is inverted to become an upper surface, the glass substrate 1 is lowered to suck up the glass substrate 1, and when the second suction part 416 retreats backward, the glass substrate 1 is lowered again to thirdly polish the glass substrate 1. An embodiment is illustrated in which the third suction units 417 and 622 are placed on the work line of the stage 4.

이때 제2 반전수단(62)과 제2 흡입부(621) 및 제3 흡입부(622)는 도 12에 도시되어 있다.In this case, the second inverting means 62, the second suction part 621, and the third suction part 622 are illustrated in FIG. 12.

상기 반전장치는 도 5에 도시된 글라스 기판(1)에서 상부 양측 모서리인 제1 내지 제2 연마면(11, 12)을 가공한 후 하부 모서리인 제3 내지 제4 연마면(13, 14)를 가공하는 작업을 수행해야하지만 하부는 제1 이송테이블(812) 위에 올려져 있어 가공이 불가능하다.The inverting apparatus processes the first to second polishing surfaces 11 and 12, which are upper edges, on the glass substrate 1 shown in FIG. 5, and then the third to fourth polishing surfaces 13 and 14, which are lower edges. It is necessary to perform the operation, but the lower part is placed on the first transfer table 812, the machining is impossible.

따라서 이를 뒤집어주는 장치를 필요로 하며 이에 따라 제1 반전수단(41)에 글라스 기판(1)이 진입하면 제2 흡입부(416)에 의하여 들어 올려지고, 모터(411) 에 의하여 회전하여 상기 글라스 기판(1)의 저면이 상면이 되도록 반전하면, 제3 흡입부(417)가 하강하여 글라스 기판(1)을 흡착한 후 작업대 또는 제1 이송테이블(812) 위에 올려지도록 하였다.Therefore, a device for overturning it is required. Accordingly, when the glass substrate 1 enters the first reversing means 41, the glass substrate 1 is lifted by the second suction part 416, and rotated by the motor 411 to rotate the glass. When the bottom surface of the substrate 1 is inverted to become an upper surface, the third suction part 417 is lowered to absorb the glass substrate 1 and then placed on the work table or the first transfer table 812.

이때 본 발명에서는 상기 제2 흡입부(416)가 후방으로 후퇴하여 상기 제3 흡입부(417)의 하강을 방해하지 않도록 하였다.
At this time, in the present invention, the second suction part 416 retreats backward so as not to interfere with the lowering of the third suction part 417.

도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 제1 트랜스퍼를 나타낸 측면도로서, 상기 이송장치(8)은 상기 제1 이송부(81)의 일 이송테이블(812)이 제4 연마스테이지(5)를 지나 외측으로 이송되었을 때 하강하여 글라스 기판(1)의 상면에 밀착 흡입하는 제1 흡입장치(821)와, 상기 제1 흡입장치(821)의 상단과 연결되어 수평이송하도록 하는 제2 이송레일(822)로 구성되는 제1 트랜스퍼(82)를 포함함을 나타내었다.FIG. 11 is a side view illustrating a first transfer according to an embodiment of the present invention, wherein the transfer device 8 includes a transfer table 812 of the first transfer unit 81 passing through a fourth polishing stage 5. The first suction device 821 is lowered when being transported to the outside and in close contact with the upper surface of the glass substrate 1, and the second transfer rail 822 is connected to the upper end of the first suction device 821 so as to move horizontally It is shown that it comprises a first transfer (82) consisting of.

상기 제1 트렌스퍼(82)는 일련의 장치를 직선상으로 배치하여 작업을 진행하도록 하여도 무방하지만 공간상의 제약이 따르게 되어 이를 전후로 구분하여 일측에서 작업이 시작되고 일단까지 진행하면 상기 글라스 기판(1)이 후방으로 이동하고 다시 역방향으로 일련의 작업이 진행되도록 하기 위하여 형성한 것이다.
The first transfer unit 82 may be arranged to arrange a series of devices in a straight line, but work may be performed, but space constraints may be applied. 1) is formed to move backwards and to perform a series of work in the reverse direction again.

도 12는 본 발명의 일 실시 예에 따른 브러시모듈을 나타낸 배면도이며, 도 13은 본 발명의 일 실시 예에 따른 세정 및 건조장치를 나타낸 배면도로서, 먼저 상기 이송장치(8)는 일렬로 정렬 장착되는 브러쉬 모듈(6)에서 세정 및 건조장치(7)의 이송컨베어(71) 까지 하부를 따라 형성되는 제3 이송레일(831)과, 상면에 상기 이송 트렌스퍼(82)에 의하여 이송된 상기 글라스 기판(1)이 안착되고 상기 제3 이송레일(831)을 따라 왕복 운동하는 2 개의 제2 이송테이블(832)로 구성되는 제2 이송부(83)를 포함하여 구성된다.12 is a rear view showing a brush module according to an embodiment of the present invention, Figure 13 is a rear view showing a cleaning and drying apparatus according to an embodiment of the present invention, first, the transfer device 8 in a row A third conveying rail 831 is formed along the lower portion from the brush module 6 to be aligned and mounted to the conveying conveyor 71 of the cleaning and drying apparatus 7, and conveyed by the conveying transfer 82 on the upper surface. The glass substrate 1 is configured to include a second transfer portion 83 is composed of two second transfer table 832 to be reciprocated along the third transfer rail 831.

또한 상기 브러쉬모듈(6)은 글라스 기판(1)이 올려진 제2 이송테이블(832)의 이동에 따라 상면을 지나가도록 하는 원통형의 회전하는 제1 브러시(61)와, 상기 글라스 기판(1)의 상면과 저면을 반전시키는 제2 반전수단(62)과, 반전을 마친 글라스 기판(1)의 이동경로에 위치하는 제2 브러쉬(63)와, 글라스 기판(1)의 상면에 밀착 흡입하는 제3 흡입장치(641)와, 상기 제3 흡입장치(641)의 상단과 연결되어 수평이송하도록 하는 제7 이송레일(642)로 구성되는 제2 트랜스퍼(64)를 포함하여 구성됨을 나타내었다.In addition, the brush module 6 has a cylindrical rotating first brush 61 to pass through the upper surface in accordance with the movement of the second transfer table 832 on which the glass substrate 1 is mounted, and the glass substrate 1 Second inverting means 62 for inverting the top and bottom surfaces of the substrate, a second brush 63 positioned in the movement path of the glass substrate 1 that has been inverted, and an agent for inhaling the top surface of the glass substrate 1 in close contact with each other. It is shown that it comprises a second suction (64) consisting of a third suction device 641, and a seventh transfer rail (642) connected to the upper end of the third suction device (641) for horizontal transfer.

즉 제2 이송테이블(832)이 상기 제1 및 제2 브러시(61, 63)을 지나가면서 상면을 청소하게 되는데 중간에 제2 반전수단(62)에 의하여 상면과 저면이 모두 청소가 이루어지도록 하는 것이다.
That is, the second transfer table 832 cleans the upper surface while passing through the first and second brushes 61 and 63, so that both the upper and lower surfaces are cleaned by the second reversing means 62 in the middle. will be.

도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 반출수단을 나타낸 배면도로서, 상기 세정 및 건조모듈(7)에서 반출수단(75)은 건조장치(74)를 통과한 글라스 기판(1)을 흡착하여 들어올리는 제3 흡입장치(751)와, 상기 제3 흡입장치(751)를 수평이송하여 인접한 대기테이블(752) 위에 상기 글라스 기판(1)을 올려놓는 제3 트랜스퍼(753)와, 상기 대기테이블(752) 위의 상기 글라스 기판(1)을 반출트레이(754)로 옮기는 반출로봇(755)이 추가로 형성되는 실시 예를 나타내었다.14 is a rear view showing the carrying out means according to an embodiment of the present invention. In the cleaning and drying module 7, the carrying out means 75 adsorbs the glass substrate 1 passing through the drying apparatus 74. A third transfer 753 for lifting the third suction device 751, the third suction device 751 horizontally and placing the glass substrate 1 on an adjacent waiting table 752, and the waiting table. An embodiment in which an export robot 755 for transferring the glass substrate 1 to the export tray 754 is further formed.

상기 반출로봇(755)은 글라스 기판(1)을 들어올린 후 암이 회전하여 원하는 위치에 놓도록 하는 것이 가장 일반적인 실시 예 일 것이다.The carrying out robot 755 may be the most common embodiment to lift the glass substrate 1 and rotate the arm to a desired position.

이러한 실시 예에 의하여 일련의 장치는 일측으로 자재가 공급되면 일련의 장치를 거쳐 바로 옆으로 반출되는 구조 즉 공급과 반출이 일 방향에서 이루어지도록 함으로 동선이 줄어들어 운반작업이 용이해지는 효과가 있다.According to this embodiment, when a series of devices is supplied with material to one side, a structure that is directly transported through a series of devices, that is, supply and export is performed in one direction, thereby reducing the copper wire, thereby facilitating a transport operation.

1 : 글라스 기판
11 : 제1 연마면 12 : 제2 연마면
13 : 제3 연마면 14 : 제4 연마면
2 : 제1 연마스테이지
21 : 픽업장치
211 : 장입트레이 212 : 제2 흡입장치
22 : 제1 연마장치
221 : 절삭숫돌
23 : 정렬장치 24 : 흡입홀
3 : 제2 연마스테이지
31 : 제1 회전수단
311 : 모터 312 : 축
313 : 흡입매니폴더 314 : 제1 흡입부
32 : 제2 연마장치
4 : 제3 연마스테이지
41 : 제1 반전수단
411 : 모터 412 : 제1 기어
413 : 밸트 414 : 제2 기어
415 : 제6 이송레일 416 : 제2 흡입부
417 : 제3 흡입부
42 : 제3 연마장치
5 : 제4 연마스테이지
51 : 제2 회전수단 52 : 제4 연마장치
6 : 브러시모듈
61 : 제1 브러쉬
62 : 제2 반전수단
621 : 제2 흡입부 622 : 제3 흡입부
63 : 제3 브러시
64 : 제2 트랜스퍼
641 : 제3 흡입장치 642 : 제7 이송레일
7 : 세정 및 건조모듈
71 : 이송컨베어 72 : 세정액 분사장치
73 : 에어나이프 74 : 건조장치
75 : 반출수단
751 : 제3 흡입장치 752 : 대기테이블
753 : 제3 트랜스퍼 754 : 반출트레이
755 : 반출로봇
8 : 이송장치
81 : 제1 이송부
811 : 제1 이송레일 812 : 제1 이송테이블
82 : 제1 트랜스퍼
821 : 제1 흡입장치 822 : 제2 이송레일
83 : 제2 이송부
831 : 제3 이송레일 832 : 제2 이송테이블
1: glass substrate
11: first polishing surface 12: second polishing surface
13: 3rd polishing surface 14: 4th polishing surface
2: 1st grinding stage
21: pickup device
211: charging tray 212: second suction device
22: first polishing apparatus
221: cutting grindstone
23: alignment device 24: suction hole
3: second polishing stage
31: first rotating means
311: motor 312: shaft
313: suction manifold 314: first suction unit
32: second polishing apparatus
4: 3rd grinding stage
41: first reversal means
411: Motor 412: First Gear
413: belt 414: second gear
415: sixth transfer rail 416: second suction part
417: third suction unit
42: third polishing apparatus
5: 4th polishing stage
51 second rotating means 52 fourth polishing apparatus
6: brush module
61: first brush
62: second reversal means
621: second suction part 622: third suction part
63: third brush
64: second transfer
641: third suction device 642: seventh transfer rail
7: cleaning and drying module
71: conveying conveyor 72: cleaning liquid injection device
73: air knife 74: drying device
75: export means
751: third suction device 752: waiting table
753: 3rd Transfer 754: Export Tray
755: Export Robot
8: Feeding device
81: first transfer unit
811: first transfer rail 812: first transfer table
82: first transfer
821: first suction device 822: second transfer rail
83: second transfer unit
831: third transfer rail 832: second transfer table

Claims (8)

글라스 기판(1)의 상호 대응하는 양측면의 상단 및 하단 모서리를 연마하여 제1 내지 제4 연마면(11, 12, 13, 14)을 형성하는 글라스 연마시스템에 있어서;
일정한 크기로 절단되어 공급되는 글라스 기판(1)을 들어 운반하는 픽업장치(21)를 포함하여 상기 제1 연마면(11)을 연마하는 제1 연마장치(22)로 이루어지는 제1 연마스테이지(2)와;
상기 글라스 기판(1)을 평면상에서 180°회전하는 제1 회전수단(31)을 포함하여 상기 제2 연마면(12)을 연마하는 제2 연마장치(32)로 이루어지는 제2 연마스테이지(3)와;
상기 글라스 기판(1)의 상면과 저면을 반전시키는 제1 반전수단(41)을 포함하여 제3 연마면(13)을 연마하는 제3 연마장치(42)로 이루어지는 제3 연마스테이지(4)와;
상기 글라스 기판(1)을 평면상에서 180°회전하는 제2 회전수단(51)을 포함하여 상기 제4 연마면(14)을 연마하는 제4 연마장치(52)로 이루어지는 제4 연마스테이지(5)와;
상기 글라스 기판(1)의 표면에 잔존하는 각종 미세 먼지 및 연마작업에서 발생하는 파티클을 브러쉬에 의하여 제거하는 브러시모듈(6)과;
상기 글라스 기판(1)을 이송하는 이송컨베어(71)와, 이송되는 글라스 기판(1)의 상면과 저면에 세정액을 분사하는 세정액 분사장치(72)와, 고압의 공기를 상면과 저면에 분사하여 세정액을 제거하는 하나 이상의 에어나이프(73)와, 뜨거운 공기를 분사하여 건조시키는 건조장치(74)와 건조된 글라스 기판(1)을 반출하는 반출수단(75)을 포함하는 세정 및 건조모듈(7)과;
상기 글라스 기판(1)을 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)와 브러쉬 모듈(6)을 거쳐 상기 이송컨베어(71)로 이송하는 이송장치(8)로 구성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마 시스템.
A glass polishing system for forming first to fourth polishing surfaces (11, 12, 13, 14) by polishing upper and lower edges of mutually opposite sides of the glass substrate (1);
A first polishing stage (2) comprising a first polishing apparatus (22) for polishing the first polishing surface (11), including a pickup (21) for carrying and carrying a glass substrate (1) cut and supplied to a predetermined size. )Wow;
A second polishing stage 3 comprising a second polishing device 32 for polishing the second polishing surface 12, including a first rotating means 31 for rotating the glass substrate 1 180 degrees on a plane. Wow;
A third polishing stage (4) comprising a third polishing device (42) for polishing the third polishing surface (13), including first inverting means (41) for inverting the top and bottom surfaces of the glass substrate (1); ;
Fourth polishing stage (5) comprising a fourth polishing device (52) for polishing the fourth polishing surface (14), including a second rotating means (51) for rotating the glass substrate (1) 180 degrees on a plane. Wow;
A brush module 6 which removes, by a brush, particles generated in various fine dusts and polishing operations remaining on the surface of the glass substrate 1;
The conveying conveyor 71 for conveying the glass substrate 1, the cleaning liquid injector 72 for spraying the cleaning liquid on the upper and lower surfaces of the glass substrate 1 to be transported, and high pressure air are sprayed on the upper and lower surfaces. Cleaning and drying module (7) comprising at least one air knife (73) for removing the cleaning liquid, a drying device (74) for spraying hot air to dry it, and a carrying means (75) for carrying out the dried glass substrate (1). )and;
The glass substrate 1 is characterized in that it comprises a transfer device 8 for transferring to the transfer conveyor 71 through the first to fourth polishing stages (2, 3, 4, 5) and the brush module (6) Small glass polishing system including a cleaning and drying device.
제 1항에 있어서, 상기 이송장치(8)은 일렬로 정렬 장착되는 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)의 하부를 따라 형성되는 제1 이송레일(811)과, 상면에 상기 글라스 기판(1)이 안착되고 상기 제1 이송레일(811)을 따라 왕복 운동하는 4 개의 제1 이송테이블(812)로 구성되는 제1 이송부(81)와;
상기 제1 이송부(81)의 일 이송테이블(812)이 제4 연마스테이지(5)를 지나 외측으로 이송되었을 때 하강하여 글라스 기판(1)의 상면에 밀착 흡입하는 제1 흡입장치(821)와, 상기 제1 흡입장치(821)의 상단과 연결되어 수평이송하도록 하는 제2 이송레일(822)로 구성되는 제1 트랜스퍼(82)와;
일렬로 정렬 장착되는 브러쉬 모듈(6)에서 세정 및 건조장치(7)의 이송컨베어(71) 까지 하부를 따라 형성되는 제3 이송레일(831)과, 상면에 상기 이송 트렌스퍼(82)에 의하여 이송된 상기 글라스 기판(1)이 안착되고 상기 제3 이송레일(831)을 따라 왕복 운동하는 2 개의 제2 이송테이블(832)로 구성되는 제2 이송부(83)로 구성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.
2. The conveying apparatus (8) according to claim 1, wherein the conveying apparatus (8) has a first conveying rail (811) formed along a lower portion of the first to fourth polishing stages (2, 3, 4, 5) arranged in a row, and an upper surface thereof. A first transfer part (81) on which the glass substrate (1) is seated and which comprises four first transfer tables (812) reciprocating along the first transfer rail (811);
When the one transfer table 812 of the first transfer portion 81 is transferred to the outside through the fourth polishing stage 5, the first suction device 821 is lowered and in close contact with the upper surface of the glass substrate 1; A first transfer 82 connected to an upper end of the first suction device 821 and configured as a second transfer rail 822 for horizontal transfer;
A third conveying rail 831 is formed along the lower part from the brush modules 6 arranged in a row to the conveying conveyor 71 of the cleaning and drying apparatus 7, and on the upper surface by the conveying transfer member 82. And a second conveying part 83 composed of two second conveying tables 832 on which the conveyed glass substrate 1 is seated and reciprocates along the third conveying rail 831. Compact glass polishing system with drying device.
제 2항에 있어서, 상기 제1 연마스테이지(2)의 픽업장치(21)는 장입트레이(211)에 위치한 일 글라스 기판(1)을 흡착하여 들어올리는 제2 흡입장치(212)와, 상기 제2 흡입장치(212)를 수평이송하여 인접한 제1 연마스테이지(2)의 제1 이송테이블(812)로 글라스 기판(1)을 이송하도록 구성되고;
상기 제1 연마스테이지(2)에는 상하 좌우로 이동하며 그 하단에는 글라스 기판(1)의 상면에 밀착 흡입하고 정확한 위치로 이동하도록 하는 정렬장치(23)가 추가로 형성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.
The second suction device (212) of claim 2, wherein the pickup device (21) of the first polishing stage (2) has a second suction device (212) for sucking and lifting one glass substrate (1) located in the charging tray (211). 2 is configured to horizontally transfer the suction device 212 to transfer the glass substrate 1 to the first transfer table 812 of the adjacent first polishing stage 2;
Cleaning and drying is characterized in that the first polishing stage (2) is further provided with an alignment device (23) to move up and down and left and right and close to the upper surface of the glass substrate (1) and to move to the correct position Compact glass polishing system with device.
제 2항에 있어서, 상기 제1 내지 제4 연마스테이지(2, 3, 4, 5)에 위치한 4 개의 상기 제1 이송테이블(812)의 상면에는 올려진 글라스 기판(1)을 흡착 고정하도록 흡입홀(24)이 다수 형성되고;
상기 제1 내지 제2 연마장치(22, 32, 42, 52)는 상기 제1 이송테이블(812)의 이송경로에서 고정된 글라스 기판(1)의 일 모서리를 절삭숫돌(221)이 연마하도록 하는 위치에 장착됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.
3. The suction device of claim 2, wherein the glass substrate 1 is sucked and fixed to an upper surface of the four first transfer tables 812 located on the first to fourth polishing stages 2, 3, 4, and 5. A plurality of holes 24 are formed;
The first to second polishing devices 22, 32, 42, and 52 may allow the cutting grindstone 221 to polish one edge of the glass substrate 1 fixed in the transport path of the first transport table 812. Compact glass polishing system with cleaning and drying apparatus, characterized in that it is mounted in position.
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 제2 연마스테이지(3)와 제4 연마스테이지(5)의 제1 및 제2 회전수단(31, 51)은 모터(311)에 의하여 회전하도록 수직으로 입설되는 축(312)과, 상기 축(312)의 하단에 흡입매니폴더(313)에 의하여 흡입력이 발생하는 제1 흡입부(314)로 구성되어 수직으로 승하강됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.3. The first and second rotating means (31, 51) of the second polishing stage (3) and the fourth polishing stage (5) are vertically rotated by a motor (311). Washing and drying apparatus comprising a shaft 312 to be installed, and the first suction portion 314 to generate a suction force by the suction manifold 313 at the lower end of the shaft 312 is raised and lowered vertically Small glass polishing system included. 제 2항에 있어서, 상기 브러쉬모듈(6)은 글라스 기판(1)이 올려진 제2 이송테이블(832)의 이동에 따라 상면을 지나가도록 하는 원통형의 회전하는 제1 브러시(61)와, 상기 글라스 기판(1)의 상면과 저면을 반전시키는 제2 반전수단(62)과, 반전을 마친 글라스 기판(1)의 이동경로에 위치하는 제2 브러쉬(63)와, 글라스 기판(1)의 상면에 밀착 흡입하는 제3 흡입장치(641)와, 상기 제3 흡입장치(641)의 상단과 연결되어 수평이송하도록 하는 제7 이송레일(642)로 구성되는 제2 트랜스퍼(64)를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.3. The brush module (6) according to claim 2, wherein the brush module (6) has a cylindrical rotating first brush (61) to pass through the upper surface in accordance with the movement of the second transfer table (832) on which the glass substrate (1) is mounted. Second inverting means 62 for inverting the top and bottom surfaces of the glass substrate 1, the second brush 63 positioned in the movement path of the glass substrate 1 that has been inverted, and the top surface of the glass substrate 1. And a second transfer device 64 configured to be in close contact with the suction device 641 and a seventh transfer rail 642 connected to an upper end of the third suction device 641 to allow horizontal transfer. Small glass polishing system including a cleaning and drying apparatus characterized in that. 제 1항 또는 제 6항에 있어서, 상기 제1 반전수단(41) 및/또는 제2 반전수단(62)은 모터(411)에 의하여 회전하는 제1 기어(412)와, 상기 제1 기어(412)와 밸트(413)에 의하여 연동하는 제2 기어(414)와, 상기 제2 기어(414)와 연동하여 최초 하부 방향으로 형성되어 글라스 기판(1)이 흡착되면 제2 기어(414)의 회전에 의하여 회전 상기 글라스 기판(1)의 저면이 상면이 되도록 반전되도록 하고 제6 이송레일(415)에 의하여 전후방으로 이동가능하게 형성되는 제2 흡입부(416, 621)와;
상기 글라스 기판(1)의 저면이 상면이 되도록 반전되면 하강하여 글라스 기판(1)을 흡입하고, 상기 제2 흡입부(416)가 후방으로 후퇴하면 다시 하강하여 글라스 기판(1)을 제3 연마스테이지(4)의 작업 라인 상에 올려놓도록 제3 흡입부(417, 622)로 구성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.
The method of claim 1 or 6, wherein the first inverting means 41 and / or the second inverting means 62 is a first gear 412 rotated by a motor 411, and the first gear ( 412 and the second gear 414 interlocked by the belt 413 and the second gear 414 is formed in the first lower direction in conjunction with the second gear 414 when the glass substrate (1) is adsorbed of the second gear 414 A second suction part (416, 621) formed to be inverted so that the bottom surface of the glass substrate (1) is rotated by the rotation to become an upper surface and movable forward and backward by the sixth transfer rail (415);
When the bottom surface of the glass substrate 1 is inverted to become an upper surface, the glass substrate 1 is lowered to suck up the glass substrate 1, and when the second suction part 416 retreats backward, the glass substrate 1 is lowered again to thirdly polish the glass substrate 1. Compact glass polishing system comprising a cleaning and drying device, characterized in that it comprises a third suction portion (417, 622) to be placed on the work line of the stage (4).
제 1항에 있어서, 상기 세정 및 건조모듈(7)에서 반출수단(75)은 건조장치(74)를 통과한 글라스 기판(1)을 흡착하여 들어올리는 제3 흡입장치(751)와, 상기 제3 흡입장치(751)를 수평이송하여 인접한 대기테이블(752) 위에 상기 글라스 기판(1)을 올려놓는 제3 트랜스퍼(753)와, 상기 대기테이블(752) 위의 상기 글라스 기판(1)을 반출트레이(754)로 옮기는 반출로봇(755)이 추가로 형성됨을 특징으로 하는 세정 및 건조장치가 포함된 소형 글라스 연마시스템.The cleaning and drying module (7) according to claim 1, wherein the carrying-out means (75) is a third suction device (751) for adsorbing and lifting the glass substrate (1) passing through the drying device 74, and the first 3 A third transfer 753 for horizontally transporting the suction device 751 to place the glass substrate 1 on an adjacent waiting table 752 and the glass substrate 1 on the waiting table 752 are carried out. Small glass polishing system including a cleaning and drying device, characterized in that the transport robot 755 is further formed to move to the tray 754.
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