KR20130046156A - 반도체 제조장비의 부산물 포집장치 - Google Patents

반도체 제조장비의 부산물 포집장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130046156A
KR20130046156A KR1020110110556A KR20110110556A KR20130046156A KR 20130046156 A KR20130046156 A KR 20130046156A KR 1020110110556 A KR1020110110556 A KR 1020110110556A KR 20110110556 A KR20110110556 A KR 20110110556A KR 20130046156 A KR20130046156 A KR 20130046156A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
trap
housing
fluid
module
gas
Prior art date
Application number
KR1020110110556A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101287064B1 (ko
Inventor
강상희
Original Assignee
강상희
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 강상희 filed Critical 강상희
Priority to KR1020110110556A priority Critical patent/KR101287064B1/ko
Publication of KR20130046156A publication Critical patent/KR20130046156A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101287064B1 publication Critical patent/KR101287064B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 제조장비의 포집장치에 관한 것으로, 상세하게는 트랩 하우징 내부에 포집된 부산물을 자동적으로 용이하게 제거할 수 있는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치에 관한 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 공정챔버와 연결되어 공정챔버에서 토출되는 배기가스가 유입될 수 있는 트랩 하우징과; 상기 트랩 하우징 내부에 마련되되, 상기 배기가스에 포함된 부산물 포집시 정적상태를 유지하여 반응 부산물을 포집하고, 상기 트랩 하우징 내부 부산물 제거 작용시 동적상태로 변환가능하게 마련되는 트랩모듈과; 상기 하우징 내부에 마련되되, 상기 트랩모듈과 접촉가능하게 마련되어, 상기 트랩모듈이 동적상태로 변환하는 경우 상기 트랩모듈의 움직임에 따라 움직이며 상기 트랩모듈 또는 상기 하우징 내부에 부착된 부산물을 제거하는 이동부재와; 상기 하우징과 연결되어 상기 트랩 하우징 내부 부산물 제거작용시 상기 트랩 하우징 내부로 세척용 유체를 공급하는 유체공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 포집장치를 제공한다.

Description

반도체 제조장비의 부산물 포집장치{An apparatus for trapping by-product in semiconductor manufacturing appartus}
본 발명은 반도체 제조장비의 부산물 포집장치에 관한 것으로, 상세하게는 트랩 하우징 내부에 포집된 부산물을 자동적으로 용이하게 제거할 수 있는 반도체 제조장비의 포집장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조 공정은 크게 전공정(Fabrication 공정)과, 후공정(Assembly 공정)으로 이루어진다.
전공정이라함은 각종 공정 챔버 내에서 웨이퍼 상에 박막을 증착하고, 증착된 박막을 선택적으로 식각하는 과정을 반복적으로 수행하여, 특정의 패턴을 가공하는 것에 의하여 반도체 칩을 제조하는 공정을 말한다.
후공정이라함은 상기 전 공정에서 제조된 칩을 개별적으로 분리한 후, 리드프레임과 결합하여 완제품을 조립하는 공정을 말한다.
전공정에서 웨이퍼 상에 박막을 증착하거나, 웨이퍼 상에 증착된 박막을 식각하는 공정은 프로세스 챔버 내에서 실란(Silane), 아르신(Arsine) 및 염화 붕소 등에 유해가스와 수소 등의 공정 가스를 사용하여 고온에서 수행된다.
상기 공정이 진행되는 동안 공정 챔버 내부에는 각종 발화성 가스와 부식성 이물질 및 유독 성분을 함유한 유해가스 등이 다량 발생하게 된다.
따라서, 반도체 제조 장비에는 공정챔버를 진공상태로 만들어 주는 진공펌프 후단에 공정 챔버에서 배출되는 배기가스를 정화시킨 후 대기로 방출하는 스크루버(Scrubber)를 설치한다.
하지만 공정챔버에서 배출되는 배기가스는 대기와 접촉하거나 주변 온도가 낮으면 고형화 되어 파우더로 변하게 되는데, 이러한 파우더는 배기라인에서 고착되어 배기 압력을 상승시킨다.
또한, 파우더가 진공펌프로 유입될 경우 진공펌프의 고장을 유발하고, 배기가스의 역류를 유발하여 공정 챔버 내에 있는 웨이퍼를 오염시키는 문제가 있었다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 통상적으로 공정챔버와 진공펌프 사이에 배기가스 부산물을 포집하기 위한 포집장치, 이른바 트랩장치를 두고 있다.
포집장치는 공정챔버와 진공펌프 사이에 펌핑 라인에 의하여 연결되어 공정챔버에서 토출되는 배기가스에 포함된 부산물을 파우더 형태로 포집한다.
공정챔버에서 토출되는 배기가스에는 공정챔버에서 일어나는 박막의 증착이나 식각시 발생된 미반응 가스가 포함되는데, 이러한 가스에 포함되는 부산물은 공정챔버에 비하여 상대적으로 낮은 온도 분위기를 갖는 펌핑라인 쪽으로 유입되면서 분말상태의 파우더로 고형화 된 후, 포집장치에 쌓이게 된다.
종래의 포집장치의 경우, 어느정도 부산물이 그 내부에 누적되어 일정 수준이상이 되는 경우, 부산물 포집 기능을 수행하는데 한계가 있어서, 이를 펌핑라인으로부터 분리하여 그 내부를 세척해야 하는 불편함이 있었다.
따라서, 이를 펌핑라인으로 부터 분리하고, 세척한 다음에 다시 장착해야하는 시간과 비용이 소모된다는 문제점이 있었다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 포집장치 내부를 세척하는 경우, 펌핑라인으로 부터 분리하지 않고 그 내부를 신속하고 용이하게 세척하여 포집된 부산물을 제거할 수 있는 포집장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 공정챔버와 연결되어 공정챔버에서 토출되는 배기가스가 유입될 수 있는 트랩 하우징과; 상기 트랩 하우징 내부에 마련되되, 상기 배기가스에 포함된 부산물 포집시 정적상태를 유지하여 반응 부산물을 포집하고, 상기 트랩 하우징 내부 부산물 제거 작용시 동적상태로 변환가능하게 마련되는 트랩모듈과; 상기 하우징 내부에 마련되되, 상기 트랩모듈과 접촉가능하게 마련되어, 상기 트랩모듈이 동적상태로 변환하는 경우 상기 트랩모듈의 움직임에 따라 움직이며 상기 트랩모듈 또는 상기 하우징 내부에 부착된 부산물을 제거하는 이동부재와; 상기 하우징과 연결되어 상기 트랩 하우징 내부 부산물 제거작용시 상기 트랩 하우징 내부로 세척용 유체를 공급하는 유체공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치를 제공한다.
상기 트랩 하우징 외부에 마련되고, 상기 트랩 모듈과 연결되어 선택적으로 상기 트랩모듈을 움직이는 구동모터를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 트랩모듈은 스크류 형태로 마련되되, 상기 하우징 내부의 상하 방향으로 배치되는 상기 트랩모듈은 상기 하우징 내부의 상하방향으로 배치되며 상기 구동모터에 의하여 선택적으로 회전가능하게 마련되는 기둥부와; 상기 기둥부를 따라서 나선형으로 마련되는 이송 블레이드를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 이동부재는 복수개로 마련되며, 상호 독립적으로 배치되되,
상기 트랩 하우징에 수용되고 상기 이송 블레이드에 이동가능하게 마련되어,
상기 트랩모듈 회전시 상기 이송 블레이드의 안내에 의하여 상기 트랩하우징 내부를 움직이며 상기 트랩하우징 내부 또는 상기 트랩모듈 또는 다른 이동부재들과 접촉하도록 마련되는 것을 특징으로 한다.
상기 이동부재는 구슬 또는 볼 형태로 마련되는 것을 특징으로 한다.
상기 유체공급부는; 상기 하우징 내부로 부산물 제거용 기체를 공급하는 기체 공급부와, 상기 하우징 내부로 부산물 제거용 유체를 공급하는 유체 공급부 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 트랩 하우징 내부로 세척용 유체를 안내하는 유체 유입구와;
상기 트랩 하우징 내부로 공급되는 세척용 유체가 배출되는 유체 배출부가 연결된 유체 토출구를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 유체공급부와 유체배출부 및 상기 구동모터를 제어하는 제어부를 더 포함하며, 상기 제어부는 배기가스 부산물 포집시에는 상기 트랩모듈이 정적상태를 유지하도록 제어하고,
부산물 제거동작시에는 상기 구동모터를 동작시켜 상기 트랩모듈을 회전시키는 한편, 상기 유체공급부가 상기 트랩 하우징 내부로 유체를 공급할 수 있도록 제어하는 것을 특징으로 한다.
상기 제어부는 부산물 제거 동작시 제1시간 동안 기체공급부로부터 상기 트랩하우징 내부로 세척용 기체가 유입되도록 하고, 제1시간이 종료된 이후, 제2시간동안 상기 유체공급부 및 상기 기체공급부로부터 상기 트랩하우징 내부로 세척용 기체 및 유체가 유입되도록 하고, 제2시간이 종료된 이후, 제3시간 동안 상기 트랩 하우징 건조를 위하여 상기 기체공급부로부터 상기 트랩하우징 내부로 세척용 기체가 유입되도록 제어하는 것을 특징으로 한다.
공급되는 세척용 유체가 고압 분사될 수 있도록 상기 유체 유입구는 분사 노즐 형태로 구현되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에 의하여 포집된 부산물의 제거 또는 세척을 위하여 상기 포집장치를 펌핑라인에서 제거할 필요가 사라지게 되었다.
즉, 상기 회전 가능하게 마련되는 트랩모듈과 상기 트랩모듈에 의하여 움직이는 이동부재에 의하여 이동부재 표면 또는 트랩모듈 표면 또는 트랩 하우징 내부에 부착되거나 누적되었던 부산물이 용이하게 제거될 수 있다.
한편, 트랩모듈의 동작과 동시에 세척용 기체 또는 액체를 분사함으로써 부산물의 제거가 보다 원활하고 확실하게 이루어진다는 장점도 있다.
또한, 기체 또는 액체의 분사가 고압분사로 이루어짐에 따라서, 분사력에 의해서 부산물이 보다 신속하게 제거되고 세척될 수 있는 기술적 효과도 구현할 수 있게 되었다.
도1은 본 발명에 의한 포집장치를 구비하는 반도체 제조 장비의 개략도이다.
도2는 본 발명에 의한 포집장치의 사시도이다.
도3는 본 발명에 의한 포집장치의 분해 사시도이다.
도4는 본 발명에 의한 포집장치의 트랩모듈과 이동부재의 사시도이다.
도5와 도6은 본 발명에 의한 포집장치의 측단면도이다.
도7은 본 발명에 의한 포집장치에 의하여 부산물이 포집되는 과정을 도시한 측단면도이다.
도8과 9는 본 발명에 의한 포집장치에서 부산물이 세척되어 제거되는 과정을 도시한 측단면도이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 알아보도록 하겠다.
도1은 본 발명에 의한 포집장치(30)가 포함되는 반도체 제조장비(1)를 도시한 것이다.
반도체 제조장비(1)는 웨이퍼 박막 증착공정 또는 식각 공정이 수행되는 공정챔버(10)와, 상기 공정챔버(10)와 펌핑라인(20)에 의하여 연결되어 공정챔버(10)에서 토출되는 배기가스에 포함된 부산물을 포집하는 포집장치(30)와, 상기 포집장치(30)와 연결되어 상기 공정챔버(10) 및 상기 포집장치(30)에 진공압을 제공하는 진공펌프(40)와, 상기 진공펌프(40)의 배출부에 연결되고 배기가스를 정화화여 대기로 배출하는 스크루버(Scrubber)(50)를 포함한다.
상기 포집장치(30)는 하나 또는 복수개가 상기 펌핑라인(20)에 연결될 수 있다.
복수개의 포집장치(30)가 연결되는 경우, 일부 포집장치(30)에서 내부 세척이 이루어지는 동안에 다른 포집장치(30)에서는 배기가스 부산물의 포집동작을 수행할 수 있는 장점이 있다.
이를 위하여, 상기 포집장치(30)들의 가스유입구(301)의 앞쪽에는 선택적으로 배기가스의 흐름을 제어할 수 있는 가스밸브(330)가 마련될 수 있다.
상기 가스밸브(330)의 동작에 의하여 모든 포집장치(30) 내부에 배기가스가 유입될 수도 있고, 일부에만 배기가스가 유입될 수 도 있으며, 모든 포집장치(30) 내부에 배기가스 유입이 차단될 수 있다.
상기 포집장치(30)는 트랩하우징(300)과, 상기 트랩하우징(300)에 마련되어 부산물이 포함된 배기가스가 유입되는 가스유입구(301)와, 상기 트랩하우징(300) 하부에 마련되는 베이스부(320)에 마련되어 부산물이 포집된 후 토출되는 배기가스를 상기 진공펌프(40) 쪽으로 안내하는 가스 토출구(322)를 포함한다.
상기 포집장치(30) 내부에는 배기가스가 지나가도록 마련되어 부산물을 포집할 수 있는 트랩모듈(도3참조, 340)이 마련되어 있고, 상기 포집장치(30)의 하부에는 상기 트랩모듈(340)을 선택적으로 회전시키는 구동모터(360)가 마련된다.
한편, 상기 포집장치(30)는 그 내부에 세척용 유체를 공급하는 유체공급부(370)와, 공급된 유체가 배출되는 유체배출부(380)를 포함하고 있다.
상기 유체공급부(370)는 세척용 기체를 공급하는 기체공급부(371)와, 세척용 액체를 공급하는 액체공급부(370)를 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, 세척용 기체는 N2가스가 대표적이나 이에만 한정되지는 않는다.
상기 포집장치(30)의 상부에는 상기 유체공급부(370)가 연결될 수 있는 유체 유입구(303)가 마련되어 있어서, 상기 유체공급부(370)의 공급파이프(372)가 연결될 수 있다.
그리고, 상기 포집장치(30)의 하부에는 상기 포집장치(30) 내부에 공급된 유체가 토출될 수 있는 유체토출구(324)가 마련되며, 상기 유체 토출구(324)는 상기 유체배출부(380)를 구성하는 배출파이프(381)가 연결될 수 있다.
상기 기체공급부(371)와 상기 액체공급부(372)와 연결되는 공급파이프(373)에는 기체 또는 액체의 유입을 조절할 수 있는 조절밸브(374)가 마련되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 유체 유입구(303)와 상기 유체 토출구(324)에는 밸브 형태의 개폐장치(304)가 마련되어 있어서, 선택적으로 상기 유체 유입구(301)와 상기 유체 토출구(324)를 개방하거나 폐쇄할 수 있다.
즉, 공정챔버(10)에서 배기가스가 토출되어 상기 포집장치(30) 내부로 유입되는 경우에는 포집된 부산물이 상기 유체 유입구(301)와 상기 유체 토출구(324)를 통과할 수 없도록 상기 유체 유입구(301)와 상기 유체 토출구(324)가 폐쇄되어야 한다.
그리고, 상기 포집장치(30) 내부의 세척작용시에는 세척용 유체의 공급과 토출이 원활하게 이루어질 수 있도록 상기 유체 유입구(303)와 상기 유체 토출구(324)가 개방되어야 한다.
본 발명에 의한 포집장치(30)는 상기 유체공급부(370)와 유체배출부(380) 및 상기 구동모터(360)를 제어하는 제어부(400)를 더 포함한다.
상기 제어부(400)는 배기가스 부산물 포집시에는 상기 트랩모듈(340)이 정적상태를 유지하도록 제어하고,부산물 제거동작시에는 상기 구동모터(360)를 동작시켜 상기 트랩모듈(340)을 회전시키는 한편, 상기 유체공급부(370)가 상기 트랩 하우징 내부로 유체를 공급할 수 있도록 제어하는 역할을 한다.
도2와 도3에서 도시한 바와 같이, 본 발명에 의한 포집장치(30)는 트랩 하우징(300)과, 상기 트랩하우징(300)이 얹히는 베이스부(320)와, 상기 베이스부(320)에 마련되고, 상기 트랩 하우징(300) 내부에 수용되는 트랩모듈(340)과, 상기 트랩하우징(300) 하부에 마련되어 상기 트랩모듈(340)을 선택적으로 회전시키는 구동모터(360)와, 상기 트랩하우징(300) 내부에 수용되어 상기 트랩모듈(340)의 동작에 따라서 상기 트랩모듈(340) 및 상기 트랩 하우징(300) 내부에서 움직일 수 있는 이동부재(350)를 포함한다.
여기서, 상기 베이스부(320)의 폭은 상기 트랩 하우징(300) 보다 크게 형성되어 상기 트랩 하우징(300)이 안착될 수 있는 구조를 제공한다.
상기 트랩하우징(300)의 상부에는 상기 배기가스의 펌핑라인(20)이 결합되는 가스유입구(301)가 형성되고, 상기 가스유입구(301)의 주변에는 상기 유체 유입구(303)가 마련된다.
상기 베이스부(320)의 하부에는 포집된 부산물과 분리된 배기가스가 토출되는 가스토출구(322)와 상기 유체 토출구(324)가 마련된다.
한편, 상기 베이스부(320)의 상부에는 상기 트랩모듈(340)이 상기 구동모터(360)와 연결된 상태로 회동가능하게 마련된다.
상기 트랩모듈(340)은 상기 구동모터(360)의 동작에 따라서 정적상태 또는 정지상태를 유지하거나, 동적상태, 즉 회전상태로 변환될 수 있다.
상기 트랩 하우징(300) 내에서 배기가스의 부산물을 포집하는 과정에서는 상기 트랩모듈(360)이 정적상태를 유지하는 것이 바람직하다.
한편, 상기 트랩모듈(360) 및 이동부재 (350) 또는 트랩 하우징(300) 내부에 파우더 또는 덩어리 형태로 포집된 부산물을 제거하는 과정에서는 상기 트랩모듈(340)이 동적상태로 변환되어 상기 이동부재(350)를 상기 트랩 하우징(300) 내부에서 움직이도록 가이드 하는 것이 바람직하다.
상기 트랩모듈(340)은 상하방향으로 배치되며, 상기 구동모터(360)와 연결되는 기둥부(341)와, 상기 기둥부(341)의 외주면에 나선형으로 배치되는 이송 블레이드(342)를 포함한다.
상기 이송 블레이드(342)는 상기 기둥부(341)의 외주면에 대해 하부에서 상부로 나선형태를 형성하며 연속적으로 배치된다.
이와 같은 형태를 가짐으로써 상기 이동부재(350)를 밀어서 움직일 수 있는 것이다.
상기 베이스부(320)의 상면에는 포집된 부산물과 분리된 배기가스 또는 세척된 부산물이 통과할 수 있는 메쉬(390)가 마련된다.
상기 이동부재(350)는 구슬이나 볼 또는 기타 다른 형상을 가진 세척편(片)으로 구성되는 것이 바람직하며, 상기 트랩 하우징(300) 내부 또는 상기 이송 블레이드(342)상에 이동가능하게 마련되고, 그 수량을 복수개로 구성되는 것이 바람직하다.
상기 트랩모듈(340)이 상기 구동모터(360)에 의하여 동적상태로 변하는 경우, 즉, 회전하는 경우, 상기 이송 블레이드(342)가 상기 이동부재(350)를 위로 이동시켜서, 트랩모듈(340)의 상단부까지 위치시킨다.
그 이후, 상기 이동부재(350)는 낙하하면서 다른 이동부재(350) 및 상기 트랩 하우징(300) 내면과 마찰하거나 충돌하면서, 다른 이동부재(350) 또는 상기 트랩 하우징(300) 또는 상기 트랩모듈(340)에 붙어 있는 부산물을 긁어낼 수 있다.
도3에서 나타난 상기 이동부재(350)의 모습은 상기 이송 블레이드(342)의 회전운동에 따라서 이동하는 궤적을 나타낸 것이다.
도4(a)에서 도시한 바와 같이, 실제적으로 상기 이동부재(350)가 상기 트랩모듈(340) 외부 또는 트랩 하우징(300) 내부에 배치되는 경우, 수많은 개수로 배치되며, 상기 트랩모듈(340)을 둘러싸며, 상기 트랩 하우징(300) 내부 공간 50~90%를 차지하도록 배치되는 것이 바람직하다.
이와 같이, 수많은 이동부재(350)가 상기 트랩모듈(340)을 둘러싸고, 상기 트랩하우징(300)내부에 수용되어야 상기 이동부재(350)에 의한 부산물의 포집이 원활하게 일어날 수 있다.
또한, 상기 트랩모듈(340)이 회전하여 상기 이동부재(350)들을 움직이는 경우, 수많은 이동부재(350)들이 서로 간에 마찰하거나, 또는 트랩모듈(340) 표면 또는 상기 트랩 하우징(300)의 내면과 마찰하거나 충돌하여 그곳에 부착된 부산물들을 긁어낼 수 있는 것이다.
도4(b)는 상기 도4(a)와 같이 배치된 이동부재(350) 더미의 절반을 덜어내어 상기 이동부재(350)와 상기 트랩모듈(340)간의 배치상태를 시각적으로 구현될 수 있도록 도시한 도면이다.
도4(b)에서 도시한 바와 같이, 다수의 이동부재(350)는 상기 기둥부(341)의 주변과, 상기 이송 블레이드(342)의 상면과 하면에 위치하고 있으며, 상기 이동부재(350)들 사이, 이동부재(350)와 상기 트랩모듈(340) 사이에는 작은 공극들이 형성되어 있어서, 그 공극을 통하여 부산물과 분리된 배기가스가 통과할 수 있다.
도5에서 도시한 바와 같이, 상기 트랩모듈(340)은 상기 베이스부(320)의 상부에 마련되고, 상기 트랩 하우징(300) 내부에 수용된다.
상기 트랩모듈(340)의 이송 블레이드(342)는 하부에서 상부로 갈수록 그 폭이 감소되는 형태를 취하는 것이 바람직하다. 이는 위로 올라갈수록 낙하하는 이동부재(350)의 비율이 높아지도록 하기 위함이다.
도5에서 나타난 이동부재(350)의 위치는 상기 트랩모듈(340)의 회전에 따라서 움직이는 이동부재(350)의 궤적을 나타나내는 것이다.
상기 트랩모듈(340)이 회전하는 경우, 상기 이송 블레이드(342) 최하단에 위치한 이동부재(350)는 상기 이송 블레이드(342)의 표면에 대하여 수직방향으로 가해지는 힘에 의하여 위로 이동할 수 있다.
그리고, 상기 트랩모듈(340)의 최상단 부에 이른 후에 아래로 낙하하는 과정을 거친 후, 상기 베이스부(320)위로 떨어지며, 상술한 과정을 반복할 수 있다.
상기 베이스부(320)에는 소정의 공간부(321)가 마련된다.
상기 공간부(321)는 배기가스 또는 세척용 유체에 의하여 제거되어 외부로 토출되는 부산물을 안내하는 역할을 한다.
상기 공간부(321) 내부에는 상기 구동모터(360)와 상기 기둥부(341)을 연결하여 구동모터(360)의 동력을 상기 기둥부(341)에 전달하는 동력전달부(361)가 마련된다.
한편, 상기 베이스부(320)의 하부에는 상기 가스토출구(322)와 유체 토출구(324)가 마련되고, 상기 트랩 하우징(300)의 상면에는 상기 가스유입구(301)와 유체 유입구(303)가 마련된다.
도6에서는 상기 이동부재(350)가 상기 트랩 하우징(300) 내부에 소정량 수용된 상태를 도시하고 있다. 이 경우, 상기 이동부재(350)는 일종의 더미를 이루며, 이러한 이동부재(350)의 더미는 상기 트랩모듈(340)을 둘러싸며, 상기 트랩하우징(300) 내면과도 접촉한다.
다만, 배기가스 또는 세척용 유체의 원활한 유입을 위해서 상기 이동부재(350)는 상기 트랩 하우징(300) 상면과 소정 간격 이격되어 있는 것이 바람직하다.
이하에서는 본 발명의 동작에 대하여 알아보도록 하겠다.
도7에서 도시한 바와 같이, 공정챔버(10)에서 부산물이 포함된 배기가스가 토출되면, 그 배기가스는 상기 포집장치(30) 내부로 유입된다. 상기 배기가스는 상기 트랩 하우징(300)과, 상기 이동부재(350), 그리고 상기 트랩모듈(340)을 거치게 된다.
이 때, 상기 배기가스에 포함되는 부산물은 상기 트랩하우징(300)과 상기 이동부재(350) 그리고 상기 트랩모듈(340)에 포집되어 파우더 형태로 누적된다.
상기 부산물 포집과정이 수행되는 과정 중에는 상기 유체 유입구(303)와, 상기 유체 토출구(324)는 폐쇄되어 상기 유체 유입구(303)와 상기 유체 토출구(324)로 상기 배기가스 및 부산물이 유입되거나 배출되지 않도록 한다.
부산물의 포집이 어느 정도 이루어지게 되면, 상기 포집장치(30) 내부에는 부산물이 파우더 또는 덩어리 형태로 포집된다.
포집된 부산물의 양이 소정량 이상이 되면, 부산물 포집이 원활하게 이루어지지 않고, 배기가스 또한 원활하게 유입되거나 배출되지 않는다.
따라서, 이러한 부산물을 제거하기 위한 세척동작이 필요하다.
이를 위하여 도8에서 도시한 바와 같이, 상기 구동모터(360)가 상기 트랩 모듈(340)을 회전시키고, 이에 따라서 상기 이동부재(350)가 상기 트랩 하우징(300) 내부에서 이동한다
즉, 상기 트랩모듈(340)의 회전운동에 따라서, 상기 이동부재(350)는 상기 트랩모듈(340)의 안내를 받아서 상기 트랩 하우징(300)의 하부에서 상부로 이동한 이후 아래로 낙하할 수 있다.
또한, 이동부재(350)는 다른 이동부재(350)와 함께 움직이면서, 뒤섞여 지는 모습을 보이고, 이에 의하여 상기 이동부재(350)들은 다른 이동부재(350)와 접촉하거나, 상기 트랩하우징(300) 내부와 접촉하거나, 상기 트랩모듈(340)과 접촉한다.
이러한 접촉과정 또는 마찰운동에 의하여 상기 이동부재(350), 상기 트랩모듈(340), 상기 트랩 하우징(300) 내부에 묻어있던 부산물이 떨어져 나간다.
상기 트랩모듈(340)의 회전에 의한 상기 이동부재(350)의 운동과 동시에 상기 유체 유입구(303)에서 세척용 유체가 유입되어 떨어져 나온 부산물을 외부로 배출한다.
우선, 상기 기체공급부(도1참조, 371)에서 나온 기체가 상기 트랩 하우징(300)으로 유입되어 부산물과 함께 상기 유체 토출구(324)를 통과하여 외부로 배출된다.
공급되는 기체가 고압에 의하여 분사될 수 있도록 상기 유체 유입구(303)는 분사 노즐 형태로 구현되는 것이 바람직하다.
기체 공급부(371)에서 공급되는 기체가 어느정도 공급되어 1차적으로 부산물 일부를 제거한 경우, 상기 액체 공급부(도1참조, 372)에서 세척용 액체가 공급되고 상기 트랩 하우징(300) 내부로 분사된다.
이 경우, 세척의 효율을 높이기 위해, 상기 기체 공급부(371)에서 세척용 기체도 같이 분사되는 것이 바람직하다.
상기 세척용 액체에 의하여 상기 이동부재(350), 상기 트랩모듈(340), 상기 트랩 하우징(300) 내부에 잔존해 있던 부산물이 씻겨지고, 이러한 부산물들은 상기 액체와 함께 상기 유체 토출구(324)를 통하여 외부로 토출된다.
세척용 액체에 의한 세척작용이 완료된 이후에는 도8에서 도시한 바와 같이, 다시 상기 기체 공급부(371)로부터 기체만이 공급되어, 상기 트랩 하우징(300) 내부 및 상기 이동부재(350)의 표면, 상기 트랩 모듈(341)의 표면을 건조시킨다.
세척용 유체공급시 상기 트랩모듈(340)은 계속적으로 회전하면서 상기 이동부재(350)를 이동시키는 것이 바람직하다.
상기 세척용 유체의 공급 및 트랩모듈(340)에 의한 세척이 이루어지는 동안에 상기 가스 유입구(301) 및 상기 가스 토출구(322)는 폐쇄상태를 유지하여, 상기 펌핑라인(도1참조, 20)에 상기 부산물과 세척용 유체가 유입을 방지하는 것이 필요하다.
세척 과정은 제어부(도1참조, 400)의 제어에 의하여 이루어지는데, 이를 정리하면, 상기 제어부(400)는 부산물 제거 동작시 제1시간 동안 기체공급부(371)로부터 상기 트랩하우징 (300)내부로 세척용 기체가 유입되도록 한다.
그리고, 제1시간이 종료된 이후, 제2시간동안 상기 액체공급부(372) 및 상기 기체공급부(371)로부터 상기 트랩하우징(370) 내부로 세척용 기체 및 유체가 유입되도록 한다.
제2시간이 종료된 이후, 제3시간 동안 상기 트랩 하우징(300)과 상기 이동부재(350)의 표면과 상기 트랩모듈(340)의 표면 건조를 위하여 상기 기체공급부(371)로부터 상기 트랩하우징(300) 내부로 세척용 기체가 유입되도록 제어하는 것이 필요하다.
이와 같은 트랩 하우징(300) 내부의 세척이 완료되면, 상기 유체 유입구(303)와 유체 토출구(324)를 폐쇄한 다음, 도7에서 도시한 바와 같이, 다시 상기 가스유입구(301)와 상기 가스 토출구(322)를 개방하고, 상기 진공펌프(도1참조, 40)를 동작시켜 상기 공정챔버(도1참조, 10)에서 배출되는 배기가스가 상기 트랩 하우징(300)으로 유입되도록 하는 과정을 수행하여 상기 배기가스의 포함된 부산물을 포집할 수 있다.
1: 반도체 제조장비 10: 공정챔버
20: 펌핑라인 30: 포집장치
40: 진공펌프 50: 스크루버
300: 트랩하우징 301: 가스 유입구
303: 유체유입구 304: 개폐장치
320: 베이스부 321: 공간부
322: 가스 토출구 324: 유체토출구
330: 가스밸브 340: 트랩모듈
341: 기둥부 342: 이송 블레이드
350: 이동부재 360: 구동모터
370: 유체공급부 371: 기체공급부
372: 액체공급부 373: 공급파이프
374: 조절밸브 380: 유체배출부

Claims (10)

  1. 공정챔버와 연결되어 공정챔버에서 토출되는 배기가스가 유입될 수 있는 트랩 하우징과;
    상기 트랩 하우징 내부에 마련되되, 상기 배기가스에 포함된 부산물 포집시 정적상태를 유지하여 반응 부산물을 포집하고, 상기 트랩 하우징 내부 부산물 제거 작용시 동적상태로 변환가능하게 마련되는 트랩모듈과;
    상기 하우징 내부에 마련되되, 상기 트랩모듈과 접촉가능하게 마련되어, 상기 트랩모듈이 동적상태로 변환하는 경우 상기 트랩모듈의 움직임에 따라 움직이며 상기 트랩모듈 또는 상기 하우징 내부에 부착된 부산물을 제거하는 이동부재와;
    상기 하우징과 연결되어 상기 트랩 하우징 내부 부산물 제거작용시 상기 트랩 하우징 내부로 세척용 유체를 공급하는 유체공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 트랩 하우징 외부에 마련되고, 상기 트랩 모듈과 연결되어 선택적으로 상기 트랩모듈을 움직이는 구동모터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장비의 부산물 포집장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 트랩모듈은 스크류 형태로 마련되되,
    상기 하우징 내부의 상하 방향으로 배치되는 상기 트랩모듈은 상기 하우징 내부의 상하방향으로 배치되며 상기 구동모터에 의하여 선택적으로 회전가능하게 마련되는 기둥부와;
    상기 기둥부를 따라서 나선형으로 마련되는 이송 블레이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 이동부재는 복수개로 마련되며, 상호 독립적으로 배치되되,
    상기 트랩 하우징에 수용되고 상기 이송 블레이드에 이동가능하게 마련되어,
    상기 트랩모듈 회전시 상기 이송 블레이드의 안내에 의하여 상기 트랩하우징 내부를 움직이며 상기 트랩하우징 내부 또는 상기 트랩모듈 또는 다른 이동부재들과 접촉하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 이동부재는 구슬 또는 볼 형태로 마련되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 유체공급부는;
    상기 하우징 내부로 부산물 제거용 기체를 공급하는 기체 공급부와,
    상기 하우징 내부로 부산물 제거용 유체를 공급하는 유체 공급부 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 트랩 하우징 내부로 세척용 유체를 안내하는 유체 유입구와;
    상기 트랩 하우징 내부로 공급되는 세척용 유체가 배출되는 유체 배출부가 연결된 유체 토출구를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 유체공급부와 유체배출부 및 상기 구동모터를 제어하는 제어부를 더 포함하며,
    상기 제어부는 배기가스 부산물 포집시에는 상기 트랩모듈이 정적상태를 유지하도록 제어하고,
    부산물 제거동작시에는 상기 구동모터를 동작시켜 상기 트랩모듈을 회전시키는 한편, 상기 유체공급부가 상기 트랩 하우징 내부로 유체를 공급할 수 있도록 제어하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는 부산물 제거 동작시
    제1시간 동안 기체공급부로부터 상기 트랩하우징 내부로 세척용 기체가 유입되도록 하고,
    제1시간이 종료된 이후, 제2시간동안 상기 유체공급부 및 상기 기체공급부로부터 상기 트랩하우징 내부로 세척용 기체 및 유체가 유입되도록 하고,
    제2시간이 종료된 이후, 제3시간 동안 상기 트랩 하우징 건조를 위하여 상기 기체공급부로부터 상기 트랩하우징 내부로 세척용 기체가 유입되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
  10. 제7항에 있어서,
    공급되는 세척용 유체가 고압 분사될 수 있도록 상기 유체 유입구는 분사 노즐 형태로 구현되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비의 부산물 포집장치.
KR1020110110556A 2011-10-27 2011-10-27 반도체 제조장비의 부산물 포집장치 KR101287064B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110110556A KR101287064B1 (ko) 2011-10-27 2011-10-27 반도체 제조장비의 부산물 포집장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110110556A KR101287064B1 (ko) 2011-10-27 2011-10-27 반도체 제조장비의 부산물 포집장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130046156A true KR20130046156A (ko) 2013-05-07
KR101287064B1 KR101287064B1 (ko) 2013-07-17

Family

ID=48657923

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110110556A KR101287064B1 (ko) 2011-10-27 2011-10-27 반도체 제조장비의 부산물 포집장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101287064B1 (ko)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101479969B1 (ko) * 2013-05-14 2015-01-07 (주)클린팩터스 입자 포집용 트랩장치
KR20180041521A (ko) * 2016-10-14 2018-04-24 신경순 반응 부산물 압축 트랩 장치
JP2019217489A (ja) * 2018-06-21 2019-12-26 東泰高科装備科技有限公司Ｄｏｎｇｔａｉ Ｈｉ−Ｔｅｃｈ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ 排気ガス処理装置、真空コーティングシステム及び排気ガス処理装置の操作方法
KR20200051214A (ko) * 2018-11-05 2020-05-13 (주)엘오티베큠 사이클론 분산장치
KR102352815B1 (ko) * 2021-06-08 2022-01-17 권도희 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치
KR102572053B1 (ko) * 2023-05-16 2023-08-28 조민철 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4053112B2 (ja) * 1997-03-27 2008-02-27 敏夫 淡路 半導体製造工程の排ガス処理方法及び半導体製造工程の排ガス処理装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101479969B1 (ko) * 2013-05-14 2015-01-07 (주)클린팩터스 입자 포집용 트랩장치
KR20180041521A (ko) * 2016-10-14 2018-04-24 신경순 반응 부산물 압축 트랩 장치
JP2019217489A (ja) * 2018-06-21 2019-12-26 東泰高科装備科技有限公司Ｄｏｎｇｔａｉ Ｈｉ−Ｔｅｃｈ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ 排気ガス処理装置、真空コーティングシステム及び排気ガス処理装置の操作方法
KR20200051214A (ko) * 2018-11-05 2020-05-13 (주)엘오티베큠 사이클론 분산장치
KR102352815B1 (ko) * 2021-06-08 2022-01-17 권도희 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치
KR102572053B1 (ko) * 2023-05-16 2023-08-28 조민철 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101287064B1 (ko) 2013-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101287064B1 (ko) 반도체 제조장비의 부산물 포집장치
JP6214043B2 (ja) マルチサイクロン式コレクタ
TWI543822B (zh) 基板處理裝置及基板處理方法
JP2009504310A (ja) アップライト型真空掃除機の集塵容器構造及びアップライト型真空掃除機の集塵容器カバー支持構造
KR100987462B1 (ko) 메쉬필터를 사용하는 스크러버 및 이를 이용한 반도체 제조장치의 배기 가스 처리장치
US9768010B2 (en) Liquid treatment apparatus
CN103188985A (zh) 洗碟机
CN206535812U (zh) Pcba离线清洗机
KR101024504B1 (ko) 입자 관성을 이용한 반도체 공정에서의 잔류 케미칼 및 부산물 포집장치
CN111135697A (zh) 用于气流的湿式清洁的设备和方法
KR101280541B1 (ko) 반도체 제조장치용 부산물 포집 장치
KR101457421B1 (ko) 먼지를 포집하여 배출하는 습식 집진 시스템
CN214441243U (zh) 半导体圆晶清洗设备
KR102066183B1 (ko) 반도체 부산물 포집 장치
KR102119826B1 (ko) 우드 펠렛 제조용 집진장치
KR100913031B1 (ko) 복합형 집진장치
KR100784392B1 (ko) 파티클 포집방법 및 파티클 포집유닛, 그리고 이를구비하는 기판처리장치
KR102176596B1 (ko) 반도체 공정의 반응부산물 자체 세정이 가능한 연속운전형 듀얼 포집 시스템
CN207602532U (zh) 旋转式漂洗干燥装置
CN210159376U (zh) 一种石灰窑窑尾除尘脱硫装置
KR101479969B1 (ko) 입자 포집용 트랩장치
KR100497001B1 (ko) 가스 스크러버용 백 필터 조립체 및 이를 구비하는 가스스크러버
CN101322894A (zh) 节能型迴转筛管带湿式除尘器
TWM479507U (zh) 用於清洗晶圓之盤式載具
CN108686450A (zh) 一种湿式无填料粉尘处理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee