KR102352815B1 - 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치에 관한 것으로, 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치는 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 타원형 하우징, 타원형 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어 타원형 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩, 및 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함하는바, 부산물들이 이동 및 포집되는 포집 용기만 별도로 교체할 수 있도록 해서 반도체 프로세스 챔버의 멈춤 횟수와 기간을 최소화할 수 있다.

Description

반도체 제조 장비용 부산물 포집장치{A COLLECTING BYPRODUCT TRAPPING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE}

본 발명은 반도체 제조공정 중에 발생되는 반응 부산물의 포집 용량을 효율적으로 증대시킴과 아울러, 반도체 제조 공정 라인을 다운 또는 정지시키지 않고도 포집된 반응 부산물들을 제거할 수 있는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치에 관한 것이다.

반도체 제조 공정은 크게 전공정(Fabrication Process)과 후공정(Assembly Process)으로 이루어진다. 여기서, 전공정은 프로세서 챔버(Chamber)내에서 웨이퍼(Wafer)상에 박막을 증착하고, 증착된 박막을 선택적으로 식각하는 과정을 반복적으로 수행하여 특정의 패턴을 가공하는 과정을 이르는바, 반도체 칩(Chip) 제조 공정을 말한다. 반면, 후공정은 상기 전공정에서 제조된 칩을 개별적으로 분리한 후, 리드 프레임과 결합하여 완제품으로 조립하는 공정을 말한다.

웨이퍼 상에 박막을 증착하거나, 웨이퍼 상에 증착된 박막을 식각하는 전공정은 프로세서 챔버 내에서 실란(Silane), 아르신(Arsine), 염화 붕소 등의 유해 가스, 및 수소 등의 프로세서 가스를 사용하여 고온에서 수행된다. 이렇게, 증착 및 식각 공정이 반복적으로 진행되는 동안 프로세서 챔버 내부에는 각종 발화성 가스와 부식성 이물질 및 유독 성분을 함유한 유해가스 등이 다량 발생하게 된다.

따라서, 반도체 제조 장비에는 프로세서 챔버를 진공상태로 만들어 주는 진공 펌프의 전/후단에는 프로세서 챔버에서 배출되는 배기가스를 정화시켜서 대기로 방출하는 스크러버(Scrubber)를 설치한다.

하지만, 프로세서 챔버에서 배출되는 배기가스는 대기와 접촉해서 배기 온도가 낮아지면 고형화되어 파우더로 변하게 된다. 이때. 파우더가 배기 라인에 고착되면 배기 압력을 상승시키게 되고, 진공 펌프로 유입될 경우 진공 펌프의 고장을 유발시키게 된다. 또한, 파우더가 다량 고착되면 배기가스의 역류를 초래하여 프로세서 챔버 내에 있는 웨이퍼를 오염시키게 되는 문제점이 있었다.

이에, 최근에는 국내 등록특허공보 제10-0647725호 및 제10-0676927호 등을 통해 반도체 제조장치의 부산물을 포집하는 트랩 장치가 제안되고 또 적용되기도 하였다.

하지만, 종래 기술에 따른 부산물 포집장치나 트랩 장치는 파우더가 적체되어 있는 트랩관의 포집면적(또는, 공간)이 매우 협소한 관계로 트랩관에 적체된 파우더 제거 작업을 위한 프로세스 챔버의 멈춤 횟수와 멈춤 기간이 증가하는 문제가 있었다.

특히, 저용량 포집 장치일수록 트랩관의 파우더 제거 주기가 짧아서 반도체 프로세스 챔버의 멈춤 횟수와 기간이 증가할 수밖에 없었고, 반도체 프로세스의 멈춤 기간이 길어질수록 반도체 생산성을 더욱 저하시키는 문제점이 있었다.

이에, 근래에는 반도체 공정에 따른 반응 부산물의 포집 효율과 용량을 더욱 높이면서도 반도체 프로세스 챔버의 멈춤 횟수를 최소화할 수 있는 대용량의 효율성 좋은 반응 부산물 포집장치가 요구되고 있다.

본 발명은 상기의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 자체 구조와 동작 방식은 간단하면서도 부산물들의 포집 용량은 크게 증대시킬 수 있는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

또한, 부산물 포집장치의 내부 부산물 트랩 구조를 별도로 크리닝하지 않고도 반영구적으로 부산물을 포집할 수 있도록 한 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

또한, 부산물 포집장치에서 부산물들이 이동 및 포집되는 포집 용기만 별도로 교체할 수 있도록 함으로써, 반도체 프로세스 챔버의 멈춤 횟수와 기간을 최소화할 수 있는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.

본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치는 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치는 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 타원형 하우징, 타원형 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어 타원형 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩, 및 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함한다.

이와 더불어, 배기가스가 유입되고 반응 부산물이 포집된 상태의 배기가스가 배출되도록 내부 공간을 형성하고, 내부 공간에 타원형 하우징이 배치되도록 전체적인 외형을 형성하는 박스형 하우징을 더 포함할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치는 적어도 하나의 회전 트랩을 회전시키는 적어도 하나의 모터 구동모듈, 타원형 하우징의 적어도 어느 한 내부 측면에 배치되어, 적어도 하나의 회전 트랩 각각에 구성된 날개형 회전 트랩 유닛들의 상부면에 쌓이는 반응 부산물들을 하부로 낙하시키는 적어도 하나의 트랩 클리닝 유닛, 및 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되어 낙하되는 반응 부산물들을 받아서 부산물 이송 부재의 포집 부산물 이송 모듈로 이동시키는 포집 부산물 받침 유닛을 더 포함한다.

본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치는 내부의 부산물 포집 트랩 구조는 간단하게 구성되도록 하면서도 부산물의 포집 용량은 효율적으로 크게 증대시킴으로써 그 운용 및 관리 효율성을 증대시킬 수 있다.

또한, 부산물 포집장치의 내부 부산물 트랩 구조를 별도로 크리닝하지 않고도 반영구적으로 부산물들을 포집할 수 있도록 구성함으로써, 운용 유지 및 관리 비용을 절감시키고 반도체 제조 수율을 향상시킬 수 있다.

또한, 부산물 포집장치에서 부산물들이 이동 및 포집되는 포집 용기만 별도로 교체할 수 있도록 함으로써, 반도체 프로세스 챔버의 멈춤 횟수와 기간을 최소화하여 반도체 제조 수율을 더더욱 높이면서도 그 만족도와 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

이상, 상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 부산물 포집장치의 구성 요소들과 그 내부 구조를 구체적으로 나타낸 단면 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치의 내부 구조를 구체적으로 나타낸 단면 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치의 내부 구조를 구체적으로 나타낸 단면 사시도이다.
도 5는 도 2, 3에 도시된 타원형 하우징과 복수 열의 회전 트랩 배치 구조를 나타낸 사시도이다.
도 6은 도 5에 도시된 타원형 하우징과 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛의 배치 구조를 나타낸 사시도이다.
도 7은 도 2, 3에 도시된 타원형 하우징과 복수 열의 회전 트랩 배치 구조를 나타낸 상부도이다.
도 8은 도 7에 도시된 제1 및 제2 열 회전 트랩 배치 구조를 나타낸 상부도이다.
도 9는 도 1 및 도 2의 제1 열 회전 트랩에 포함된 제1 내지 제4 트랩 유닛을 각각 나타낸 도면이다.
도 10은 도 9의 제1 내지 제4 트랩 유닛이 소정의 서로 다른 회전 각도로 배치 및 조립된 형태를 나타낸 사시도이다.
도 11은 타원형 하우징의 내부에 위치하는 제1 및 제2 열의 회전 트랩과 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛의 배치 구조를 나타낸 단면 사시도이다.
도 12는 도 10 및 도 11에 도시된 제1 트랩 유닛 구조를 구체적으로 나타낸 사시도이다.
도 13은 도 2, 3의 제1 및 제2 열의 회전 트랩과 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛에 따른 배기가스 흐름과 부산물 이동 포집 방법을 설명하기 위한 내부 하우징의 단면 사시도이다.
도 14는 도 2, 3의 포집 부산물 받침 유닛과 포집 부산물 이송 모듈에 따른 부산물 이동 경로를 설명하기 위한 내부 하우징의 단면 사시도이다.

전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 출원에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계를 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치를 나타낸 사시도이다. 그리고, 도 2는 도 1에 도시된 부산물 포집장치의 구성 요소들과 그 내부 구조를 구체적으로 나타낸 단면 사시도이다.

도 1을 참조하면, 부산물 포집장치는 박막 증착 및 식각 등의 반도체 제조공정을 수행하는 반도체 프로세서 챔버와 진공 펌프의 사이에 설치 및 배치될 수 있다.

부산물 포집장치는 반도체 프로세서 챔버에서 배기되는 배기가스가 상부 가스 유입공으로 유입되면, 유입된 배기가스에 포함된 반도체 부산물(이하, 반응 부산물 또는 부산물)을 포집함으로써, 반응 부산물들이 하부의 가스 배출공과 연결된 진공 펌프로 이동되는 것을 방지한다.

도 2를 참조하면, 부산물 포집장치는 외형을 이루는 박스형 하우징(110), 박스형 하우징(110) 내부에 포집 공간을 형성하는 원통 또는 타원형 하우징(112), 타원형 하우징(112)의 내부에서 반응 부산물들을 포집하는 다양한 포집 구조물들(120,140,161,162,190), 포집된 반응 부산물을 보관 용기(103(b)로 이송시키는 부산물 이송 부재(103(a)) 등을 포함해서 구성될 수 있다.

가스 유입공은 박스형 하우징(110)의 상부면 상판에 형성되어 반도체 프로세서 챔버에서 배기되는 배기가스가 유입되도록 경로를 형성하고, 가스 배출구는 박스형 하우징(110)의 하부면 하판에 하부 방향을 향하도록 형성되어 별도의 진공 펌프와 연결된다.

제1 실시예에 따른 부산물 포집장치의 박스형 하우징(110) 포집 장치의 전체적인 외형을 이루며 사각 박스형으로 형성될 수 있다. 박스형 하우징(110)은 도면으로 도시된 사각 박스형 만이 아닌 원통형, 타원통형 등의 다양한 형태의 다각 통형으로 형성될 수 있다. 실시 예에 따른, 박스형 하우징(110)의 상부면 상판에는 가스 유입공이 형성되고, 하부면 하판에는 가스 배출공이 형성된다. 또한, 박스형 하우징(110)의 상판에는 가스 유입공을 통해 유입되는 배기가스를 냉각시키기 위한 상판 쿨링 부재(미도시)가 더 형성될 수 있다.

박스형 하우징(110)의 상판 쿨링 부재는 별도의 냉각기를 통해 냉각 구동을 위한 냉매를 유체 형태로 공급받고, 냉각 사이클을 순환하면서 박스형 하우징(110)의 상판 및 배기 가스의 열을 흡수해서 냉각기를 통해 열을 방출하는 방식으로 박스형 하우징(110)의 상판과 배기 가스를 일시적으로 냉각시킬 수 있다.

타원형 하우징(112)은 박스형 하우징(110)의 내부에 배치되어 가스 유입공을 통해 내부로 유입되는 배기가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성한다.

구체적으로, 타원형 하우징(112)은 그 수평 단면이 원통형, 타원형 등 굴곡이 있는 타원 형태를 유지하는 통형으로 구성된다. 또한, 타원형 하우징(112)은 도면으로 도시된 바와 달리, 원통형이나 타원형만이 아닌 사각 박스형이나 타원통형 등의 다양한 형태의 다각 통형으로 형성될 수도 있다. 그리고, 타원형 하우징(112)의 내부에는 배기가스 유입공을 통해 유입된 배기가스가 소정 기간 동안 분산되도록 하면서 배기 가스로부터 반응 부산물들을 포집하는 구조물들(120,140,161,162,190)이 배치 및 조립된다. 타원형 하우징(112)의 높이, 폭, 길이 등 타원형 하우징(112)의 전체적인 크기는 박스형 하우징(110)의 전체적인 높이, 폭, 길이, 크기보다 작게 형성될 수 있다.

타원형 하우징(112) 내에서 배기가스를 분산시키면서 배기 가스로부터 반응 부산물들을 포집하기 위한 구조물로는 적어도 하나의 트랩 플레이트(120), 적어도 하나의 히팅 플레이트(140), 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162), 및 적어도 하나의 트랩 클리닝 유닛 등이 포함될 수 있다.

또한, 부산물 포집장치는 적어도 하나의 회전 트랩(161,162)을 회전시키는 적어도 하나의 모터 구동모듈(113(a), 113(b)), 적어도 하나의 회전 트랩(161,162)으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기(103(b)로 이송시키는 부산물 이송 부재(103(a)), 포집되는 반응 부산물을 부산물 이송 부재(103(a))로 이동시키는 포집 부산물 받침 유닛(180), 부산물이 포집되는 부산물 포집 타워(190) 등을 더 포함한다.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치의 내부 구조를 구체적으로 나타낸 단면 사시도이다.

도 3을 참조하면, 부산물 포집장치는 제1 실시예에 따른 박스형 하우징(110)은 제거하고, 타원형 하우징(112)만을 이용해서 가스 유입공을 통해 내부로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성할 수도 있다.

이 경우, 타원형 하우징(112)의 상부면 상판에는 가스 유입공이 형성되고, 하부면 하판에는 가스 배출공이 형성된다. 그리고, 타원형 하우징(112)의 내부에는 배기가스 유입공을 통해 유입된 배기가스가 소정 기간 동안 분산되도록 하면서 배기 가스로부터 반응 부산물들을 포집하는 구조물들이 배치 및 조립된다.

다시 말해, 타원형 하우징(112)의 내부에는 적어도 하나의 트랩 플레이트(120), 적어도 하나의 히팅 플레이트(140), 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162), 적어도 하나의 트랩 클리닝 유닛, 포집 부산물 받침 유닛(180), 부산물 포집 타워(190), 및 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기(103(b)로 이송시키는 부산물 이송 부재(103(a)) 등이 배치된다.

도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치의 내부 구조를 구체적으로 나타낸 단면 사시도이다.

도 4로 도시된 바와 같이, 타원형 하우징(112)은 원통형으로 형성될 수 있으며, 하나의 제1 회전 트랩(161)이 타원형 하우징(112)의 내부 공간에 1열 형태로 지면과 수직 상태로 배치될 수 있다. 이에, 하나의 제1 회전 트랩(161)은 수직 방향의 중심 축을 수평 방향으로 회전시키는 어느 하나의 모터 구동모듈(113(a))에 의해 수평 방향으로 회전하면서 트랩 플레이트(120)를 거쳐 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집할 수 있다.

그러나, 이하에서는 도 2, 3을 기반으로 부산물 포집 용량과 효율을 높이기 위해 다수의 열로 배치된 다수의 회전 트랩(161, 162) 즉, 제1 및 제2 열로 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)이 배치 및 구성된 예를 설명하기로 한다.

또한, 각각의 회전 트랩(161, 162)은 대용량 포집을 위해 3열 이상으로 다수 배치될 수 있음이 당연하나, 설명의 편의상 도 2 및 도 3과 같이, 제1 및 제2 열로 배치 및 구성된 예를 설명하기로 한다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 배기가스 유입공을 통해 유입되는 배기 가스는 적어도 하나의 트랩 플레이트(120) 및 적어도 하나의 히팅 플레이트(140) 등을 통해 온도가 상승함으로써, 반응 부산물의 분해 반응이 우세하게 나타날 수 있다.

이를 위해, 적어도 하나의 트랩 플레이트(120)는 타원형 하우징(112) 또는 박스형 하우징(110) 내부의 최상단에 가스 유입공과 미리 설정된 소정의 간격을 유지하도록 조립 및 고정될 수 있다. 이에, 각 트랩 플레이트(120)는 상부의 배기가스 유입공을 통해 유입된 배기 가스로부터 부산물을 포집하면서 배기 가스를 분산 통과시킨다.

본 발명에서 참조된 도면으로, 트랩 플레이트(120)는 직사각 형태로 형성된 예를 도시하였으나, 적어도 하나의 트랩 플레이트(120)는 그 평면적 형태가 타원형, 원형, 직사각이나 정사각형, 및 오각형 이상의 다각형 중 어느 한 형태로 형성될 수 있다.

각 트랩 플레이트(120)의 배기가스 분산 및 통과 형태는 트랩 플레이트(120) 자체에 구성된 복수의 가스 통과공 개수, 가스 통과공들의 크기, 및 가스 통과공들의 배치 위치에 따라 측면 및 하부 방향으로 고르게 분산 통과된다.

적어도 하나의 히팅 플레이트(140)는 적어도 하나의 트랩 플레이트(120)의 전면 또는 배면에 부착되어 트랩 플레이트(120)를 히팅시키고, 트랩 플레이트(120)를 통과되는 배기 가스의 분산 형태를 가변시킨다.

구체적으로, 히팅 플레이트(140)는 트랩 플레이트(120)의 배면에 부착 및 배치되어 트랩 플레이트(120)를 히팅시킨다. 히팅 플레이트(140)는 원형 또는 다각형 플레이트 타입으로 구성되어, 트랩 플레이트(120)의 배면 중심영역에 부착 및 배치될 수 있다.

히팅 플레이트(140)가 트랩 플레이트(120)의 배면에 배치 및 부착되면, 트랩 플레이트(120)를 히팅시키고 트랩 플레이트(120)를 통해 분산되는 배기 가스의 분산 방향과 분산 형태를 가변시키게 된다. 이와 같이, 원형 또는 다각형의 히팅 플레이트(140)가 트랩 플레이트(120)의 배면 중심영역에 부착되는 경우에는 배기가스가 타원형 하우징(112)의 내벽 방향인 측면 방향으로 이동하게 되며, 히팅 플레이트(140)와 중첩되지 않은 트랩 플레이트(120)의 측면 영역 가스 통과공들을 통해서 하단에 배치된 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162)으로 이동하게 된다.

상기에서는 하나의 트랩 플레이트(120) 배면에 하나의 히팅 플레이트(140)가 부착 및 배치된 예를 설명하였으나, 트랩 플레이트(120)의 개수 및 각 트랩 플레이트(120)에 부착되는 히팅 플레이트(140)의 개수는 부산물 포집 장치의 크기나 용량에 따라 다수로 적용 가능하다.

도 5는 도 2, 3에 도시된 타원형 하우징과 복수 열의 회전 트랩 배치 구조를 나타낸 사시도이다.

도 3 및 도 5를 참조하면, 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)은 트랩 플레이트(120) 및 히팅 플레이트(140)의 하단에 2열로 배치되어 회전하면서 트랩 플레이트(120)를 거쳐 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물들을 포집한다.

구체적으로, 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)은 타원형 하우징(112) 내부의 하부면에 수직 방향으로 배치된다. 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)은 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)의 수직 방향 중심축들을 수평 방향으로 회전시키는 모터 구동모듈(113(a), 113(b))에 의해 수평 방향으로 회전한다.

즉, 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)은 모터 구동모듈(113(a), 113(b))에 의해 타원형 하우징(112) 내부의 하부면과 수평한 방향으로 회전하게 되고, 회전하면서 타원형 하우징(112)의 내부 공간으로 유입된 배기 가스로부터 파우더 형태의 반응 부산물을 포집한다.

도 5를 참조하면, 제1 열에 배치된 제1 회전 트랩(161)은 다수의 회전 날개로 이루어진 원판형의 트랩 유닛들이 제1 열의 중심축 방향인 수직 방향으로 소정의 간격을 유지해서 적층된 상태로 결착 및 조립되어 구성된다.

마찬가지로, 제2 열에 배치된 제2 회전 트랩(162)은 다수의 회전 날개로 이루어진 원판형의 트랩 유닛들이 제2 열의 중심축 방향인 수직 방향으로 소정의 간격을 유지해서 적층된 상태로 결착 및 조립되어 구성된다.

이에, 적어도 하나의 모터 구동모듈(113(a), 113(b))은 타원형 하우징(112)이나 박스형 하우징(110)의 외부에 구성되어 제1 회전 트랩(161)의 중심 축과 제2 회전 트랩(162)의 중심 축을 회전시킴으로써, 제1 회전 트랩(161)과 제2 회전 트랩(162)이 각각 하부면의 수평 방향으로 회전될 수 있도록 한다.

제1 회전 트랩(161)과 제2 회전 트랩(162)은 각각 서로 다른 제1 모터 구동모듈(113(a))이나 제2 모터 구동모듈(113(b))에 의해 회전 구동됨으로써, 서로 동일하거나 서로 다른 회전 방향(시계방향 또는 시계 반대방향 등)으로 회전 구동될 수 있다.

도 6은 도 5에 도시된 타원형 하우징과 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛의 배치 구조를 나타낸 사시도이다. 그리고, 도 7은 도 2, 3에 도시된 타원형 하우징과 복수 열의 회전 트랩 배치 구조를 나타낸 상부도이다.

도 5 내지 도 7을 참조하면, 타원형 하우징(112)의 적어도 어느 한 측벽면에는 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)을 이루는 회전 날개형 트랩 유닛들의 상부면에 쌓이는 반응 부산물들을 하부로 이동시키기 위한 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)이 구성된다.

제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)은 타원형 하우징(112)의 적어도 어느 한 측벽면에 수직 방향으로 부착되는 형태로 구성된다.

이때, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170) 각각은 타원형 하우징(112)의 측벽에서 제1 및 제2 회전 트랩(161,162) 방향으로 각각 도출되는 다수의 막대 형태로 형성될 수 있다. 이에, 막대 형태로 구성된 각각의 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)이 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 회전 날개형 트랩 유닛들의 사이 사이에 교번해서 위치하도록 배치된다.

전술한 바와 같이, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170) 각각은 다수의 막대 형태로 형성될 수 있으며, 알루미늄, 테프론, 스텐레스스틸, 티타늄 중 적어도 하나의 재질이나 합금으로 형성될 수 있다. 그리고, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170) 각각에는 테프론, Al2O3, 아노다이징, Y2O3 중 적어도 하나의 분체 도장이 코팅될 수 있다.

이러한 구조에 따라, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)은 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 회전 날개형 트랩 유닛들의 상부면에 반응 부산물들이 포집되면, 회전 날개형 트랩 유닛들의 상부면에 쌓이는 반응 부산물들이 각각의 막대형 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)에 결려서 하부로 단계적으로 이동되도록 한다.

한편, 타원형 하우징(112)의 내부 벽면에는 타원형 하우징(112)의 내부 벽면과 원형태인 제1 및 제2 회전 트랩(161,162) 간의 간격이 최소화될 수 있도록 하기 위한 돌출형 벽 구조물(112(a))이 더 형성될 수 있다.

돌출형 벽 구조물(112(a))은 타원형 하우징(112)의 내부 벽면에 수직 방향으로 새워진 형태로 형성되며, 그 단면이 삼각 형태로 형성될 수도 있다. 그리고, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)은 돌출형 벽 구조물(112(a))의 돌출 벽면을 따라 수직 방향으로 부착되는 형태로 구성될 수 있다. 이러한, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)의 구조와 배치 형태 등에 대해서는 이후에 도면을 참조해서 더욱 구체적으로 설명하기로 한다.

한편, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 도 6에 도시된 바와 같이, 타원형 하우징(112) 내부에서 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 하단부에 소정의 기울기를 갖는 플레이트 형태로 배치될 수 있다. 또한, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 타원형 하우징(112)을 비롯한 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 하단부에 소정의 기울기를 갖는 플레이트 형태로 배치될 수도 있다.

포집 부산물 받침 유닛(180)은 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162)으로부터 포집되어, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)에 걸려서 하부 방향으로 낙하하는 반응 부산물들이 부산물 이송 부재(103(a))의 포집 부산물 이송 모듈(104)로 이동되도록 한다.

한편, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 타원형 하우징(112)과 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)의 하단부에 소정 각도의 삼각 지붕형으로 굴곡된 형태로 배치될 수도 있다. 구체적으로, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 플레이트 형태의 중심 영역이 가장 높고, 포집 부산물 이송 모듈(104)이 하단에 배치된 측면 영역은 가장 낮아지도록 그 단면이 삼각 지붕 형태로 구성될 수 있다. 이에, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162)으로부터 포집되어 하부 방향으로 낙하하는 반응 부산물들이 포집 부산물 받침 유닛(180)의 자체 경사면을 따라 양 옆의 포집 부산물 이송 모듈(104)로 각각 이동되도록 한다. 이러한, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 제1 내지 제3 실시 예에 따른 타원형 하우징(112)과의 배치 구조에 따라 타원형 하우징(112)의 수평방향 단면적과 대응되거나 더 넓게 또는 더 좁은 면적으로 구성될 수도 있다.

도 2와 함께 도 6을 참조하면, 부산물 이송 부재(103(a))의 포집 부산물 이송 모듈(104)은 컨베이어 타입의 이송 모듈을 포함하며, 포집 부산물 받침 유닛(180)의 양 측면 하단부에서부터 부산물 보관 용기(103(b)의 상부면 조립 부재(103)까지 연장되도록 구성된다.

이에, 포집 부산물 이송 모듈(104)은 포집 부산물 받침 유닛(180)의 경사면을 따라 포집 부산물 이송 모듈(104)로 낙하한 부산물들을 부산물 보관 용기(103(b)의 상부로 이동 및 낙하시킴으로써, 반응 부산물들이 부산물 보관 용기(103(b)의 내부에 적재되도록 한다.

부산물 보관 용기(103(b)는 상부면 조립 부재(103)로부터 탈착 또는 결착되도록 구성되어, 내부에 보관되는 반응 부산물들의 용량에 따라 교체될 수 있다.

부산물 포집 타워(190)는 포집 부산물 받침 유닛(180)의 하부에 가스 배출공의 적어도 일부를 덮도록 다수의 중첩된 사각 박스형 또는 다수의 사각 벽면 형성 형태로 배치된다. 이러한, 부산물 포집 타워(190)에는 다수의 투과공들이 형성되는 바, 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162)을 통과해서 타원형 하우징(112)의 하단까지 이동한 배기 가스로부터 반응 부산물을 추가로 포집함으로써, 가스 배출공으로 배출되는 배기 가스의 반응 부산물이 최소화되도록 할 수 있다.

도 8은 도 7에 도시된 제1 및 제2 회전 트랩 배치 구조를 나타낸 상부도이다.

먼저, 도 5 등을 통해 도시된 바와 같이, 제1 열에 배치된 제1 회전 트랩(161)은 다수의 회전 날개형 트랩 유닛들이 제1 열의 중심축 방향인 수직 방향으로 소정의 간격을 유지해서 적층된 상태로 결착 및 조립되어 구성된다. 그리고, 제2 열에 배치된 제2 회전 트랩(162)은 다수의 회전 날개형 트랩 유닛들이 제2 열의 중심축 방향인 수직 방향으로 소정의 간격을 유지해서 적층된 상태로 결착 및 조립되어 구성된다.

이러한, 제1 열의 제1 회전 트랩(161)과 제2 열의 제2 회전 트랩(162)은 서로 다른 높이와 단차를 갖도록 구성되며, 제1 및 제2 회전 트랩(161,162) 각각의 중심 축 간 간격에 따라 미리 설정된 소정 면적이 중첩되도록 배치될 수 있다.

제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 중첩되는 면적이 넓을수록 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)과 타원형 하우징(112)의 내벽면 간의 간격을 좁힐 수 있고, 돌출형 벽 구조물(112(a))의 돌출 크기나 단면적을 줄일 수 있다.

도 9는 도 1 및 도 2의 제1 열 회전 트랩에 포함된 제1 내지 제4 트랩 유닛을 각각 나타낸 도면이다. 그리고, 도 10은 도 9의 제1 내지 제4 트랩 유닛이 소정의 서로 다른 회전 각도로 배치 및 조립된 형태를 나타낸 사시도이다.

제1 회전 트랩(161)을 이루는 다수의 회전 날개형 트랩 유닛은 4개씩의 제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d) 단위로 각각의 그룹을 이루도록 구분될 수 있다. 이에, 각각의 그룹을 이루는 제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d)은 수평 방향으로 미리 설정된 소정 각도씩 회전각이 다르게 조립될 수 있다.

이에, 제1 트랩 유닛(161a)의 회전 날개 상에 포집되어 쌓이는 반응 부산물이 제1 트랩 클리닝 유닛(170)에 걸려서 하부로 낙하하게 되면 하단에서 회전하는 제2 트랩 유닛(161b)의 회전 날개 상에 쌓이게 되고, 다시 제2 트랩 유닛(161b)의 반응 부산물이 제1 트랩 클리닝 유닛(170)에 걸려서 다시 하부의 제3 트랩 유닛(161c)으로 낙하 되도록 하는 방식으로 단계적으로 반응 부산물들을 최하단까지 낙하시킬 수 있다.

도 11은 타원형 하우징의 내부에 위치하는 제1 및 제2 열의 회전 트랩과 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛의 배치 구조를 나타낸 단면 사시도이다.

도 11을 참조하면, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)은 각각 분리되어 타원형 하우징(112)의 서로 다른 측벽면에 수직 방향으로 부착되는 형태로 구성될 수 있다.

제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170) 각각은 타원형 하우징(112)의 서로 다른 양 측벽 부착부(171)에서 각각 제1 및 제2 회전 트랩(161,162) 방향으로 다수의 고정형 막대(172)가 도출되도록 형성되어, 각각의 고정형 막대(172)가 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 회전 날개형 트랩 유닛들의 사이 사이에 교번해서 위치하도록 배치된다.

이에, 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)의 고정형 막대(172)들은 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 날개형 트랩 유닛들에 반응 부산물들이 포집되면, 회전 날개형 트랩 유닛들의 상부면에 쌓이는 반응 부산물들이 각각의 고정형 막대(172)들에 결려서 하부로 단계적으로 이동되도록 할 수 있다.

도 12는 도 10 및 도 11에 도시된 제1 트랩 유닛 구조를 구체적으로 나타낸 사시도이다.

제1 및 제2 회전 트랩(161,162)을 이루는 각각의 제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d)에는 다수의 회전 날개를 이루는 각각의 수평 날개면에서 수직으로 절곡되어 각각의 수평 날개면을 수직 방향으로 지지하는 절곡면(168)이 형성된다.

제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d) 각각은 알루미늄, 테프론, 스텐레스스틸, 티타늄 중 적어도 하나의 재질이나 합금으로 형성될 수 있다. 그리고, 제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d)에는 테프론, Al2O3, 아노다이징, Y2O3 중 적어도 하나의 분체 도장이 코팅될 수 있다.

반면, 제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d) 각각은 수평 날개면으로부터 절곡되는 절곡라인(169)과 절곡라인(169)에 의해 절곡된 절곡면(168)에만 테프론, Al2O3, 아노다이징, Y2O3 중 적어도 하나의 분체 도장이 코팅되어 되어 반응 부산물과의 마찰력을 최소화시킬 수 있다. 여기서, 절곡라인(169)과 절곡면(168)에는 반응 부산물과의 마찰력을 최소화시켜 반응 부산물의 포집력을 약화시킴으로써, 제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 반영구성 사용이 가능할 수 있다.

한편. 제1 내지 제4 트랩 유닛(161a,161b,161c,161d)에는 서로 동일하거나 다른 크기로 다수의 홀(H)이 형성되어 배기 가스의 순환력을 높이고, 반응 부산물의 낙하량을 높일 수 있다.

도 13은 도 2, 3의 제1 및 제2 회전 트랩과 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛에 따른 배기가스 흐름과 부산물 이동 포집 방법을 설명하기 위한 내부 하우징의 단면 사시도이다.

도 13을 참조하면, 배기가스 유입공을 통해 유입되는 배기 가스는 트랩 플레이트(120) 및 히팅 플레이트(140) 등을 통해 온도가 상승하게 되고, 배기 가스의 일부 반응 부산물들은 트랩 플레이트(120)에 포집될 수 있다. 즉, 트랩 플레이트(120)는 상부의 배기가스 유입공을 통해 유입된 배기 가스로부터 부산물을 포집하면서 배기 가스를 분산 통과시킨다.

히팅 플레이트(140)가 트랩 플레이트(120)의 배면 중심영역에 부착되는 경우, 배기가스가 타원형 하우징(112)의 내벽 방향인 측면 방향으로 이동하게 되며, 히팅 플레이트(140)와 중첩되지 않은 트랩 플레이트(120)의 측면 영역 가스 통과공들을 통해 하단에 배치된 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)으로 이동하게 된다.

제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)은 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)의 수직 방향 중심 축(131,132)들을 수평 방향으로 회전시키는 모터 구동모듈(113(a), 113(b))에 의해 수평 방향으로 회전한다. 적어도 하나의 모터 구동모듈(113(a), 113(b))은 타원형 하우징(112)이나 박스형 하우징(110)의 외부에 구성되어 제1 회전 트랩(161)의 중심 축(131)과 제2 회전 트랩(162)의 중심 축(132)을 회전시킴으로써, 제1 회전 트랩(161)과 제2 회전 트랩(162)이 각각 하부면의 수평 방향으로 회전될 수 있도록 한다. 이때, 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)은 타원형 하우징(112) 내부의 하부면과 수평한 방향으로 회전하면서 타원형 하우징(112)의 내부 공간으로 유입된 배기 가스로부터 파우터 형태의 반응 부산물을 포집한다.

제1 및 제2 회전 트랩(161,162)의 회전 날개형 트랩 유닛들의 상부면에 반응 부산물들이 포집되면, 회전 날개형 트랩 유닛들의 상부면에 쌓이는 반응 부산물들은 막대형 제1 및 제2 트랩 클리닝 유닛(170)에 결려서 하부로 단계적으로 이동된다.

도 14는 도 2, 3의 포집 부산물 받침 유닛과 포집 부산물 이송 모듈에 따른 부산물 이동 경로를 설명하기 위한 내부 하우징의 단면 사시도이다.

도 14에 도시된 바와 같이, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 타원형 하우징(112)과 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)의 하단부에 소정 각도의 삼각 지붕형으로 굴곡된 형태로 배치될 수도 있다. 이에, 포집 부산물 받침 유닛(180)은 적어도 하나의 회전 트랩(161, 162)으로부터 포집되어 하부 방향으로 낙하하는 반응 부산물들이 포집 부산물 받침 유닛(180)의 자체 경사면을 따라 포집 부산물 이송 모듈(104)로 이동되도록 한다.

포집 부산물 이송 모듈(104)은 포집 부산물 받침 유닛(180)의 경사면을 따라 포집 부산물 이송 모듈(104)로 낙하한 부산물들은 부산물 보관 용기(103(b)의 상부로 이동 및 낙하시킴으로써, 반응 부산물들이 부산물 보관 용기(103(b)의 내부에 보관되도록 한다.

반면, 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)을 통과한 배기 가스는 가스 배출공의 적어도 일부를 덮도록 다수의 중첩된 사각 박스형 또는 다수의 사각 벽면 형성 형태로 배치된 부산물 포집 타워(190)를 통과해서 가스 배출공으로 배출된다. 이때, 부산물 포집 타워(190)는 제1 및 제2 회전 트랩(161, 162)을 통과한 배기 가스로부터 반응 부산물을 추가로 포집함으로써, 가스 배출공으로 배출되는 배기 가스의 반응 부산물이 최소화되도록 한다.

이상, 상술한 바와 같이, 본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치는 내부의 트랩 구조는 간단하면서도 부산물들의 포집 용량은 효율적으로 크게 증대시킴으로써 그 운용 및 관리 효율성을 증대시킬 수 있다.

또한, 부산물 포집장치의 내부 부산물 트랩 구조를 별도로 크리닝하지 않고도 반영구적으로 동작시킬 수 있도록 함으로써, 운용 유지 및 관리 비용을 절감시키면서도 반도체 제조 수율을 향상시킬 수 있다.

또한, 부산물 포집장치에서 부산물들이 이동 및 포집되는 포집용기만 별도로 교체할 수 있도록 함으로써, 반도체 프로세스 챔버의 멈춤 횟수와 기간을 최소화하여 반도체 제조 수율을 더더욱 높이면서도 그 만족도와 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

이상과 같이 본 발명에 대해서 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시 예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시 예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.

113(a), 113(b): 제1 및 제2 모터 구동 모듈
110: 박스형 하우징
112: 타원형 하우징
161: 제1 회전 트랩
162: 제2 회전 트랩
170: 트랩 클리닝 유닛
180: 포집 부산물 받침 유닛
190: 부산물 포집 타워

Claims (13)

1. 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 제1 하우징;
   상기 제1 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어, 상기 제1 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩;
   상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함하며,
   배기가스가 유입되고 반응 부산물이 포집된 상태의 배기가스가 배출되도록 내부 공간을 형성하고, 내부 공간에 상기 제1 하우징이 배치되도록 전체적인 외형을 형성하는 제2 하우징을 더 포함하며,
   상기 제1 하우징 및 제2 하우징은 서로 동일하거나 다른 원통형, 타원형, 사각 박스형 중 어느 한 형태로 각각 형성된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
2. 삭제
3. 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 제1 하우징;
   상기 제1 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어, 상기 제1 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩;
   상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함하며,
   상기 제1 하우징은 적어도 하나의 회전 트랩이 상기 제1 하우징의 내부 공간에 1열 형태로 지면과 수직 상태로 배치되며,
   상기 적어도 하나의 회전 트랩은 수직 방향의 중심 축을 수평 방향으로 회전시키는 하나의 모터 구동모듈에 의해 수평 방향으로 회전하면서 상부의 트랩 플레이트를 거쳐 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
   상기 제1 하우징 내부의 최상단에 배치되어 상기 제1 하우징 상부의 배기가스 유입공을 통해 유입된 배기 가스로부터 부산물을 포집하면서 배기가스를 분산 통과시키는 적어도 하나의 트랩 플레이트; 및
   상기 적어도 하나의 트랩 플레이트의 전면 또는 배면에 부착되어 상기 트랩 플레이트를 히팅시키고, 상기 적어도 하나의 트랩 플레이트를 통과되는 배기 가스의 분산 형태를 가변시키는 적어도 하나의 히팅 플레이트를 더 포함하는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
5. 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 제1 하우징;
   상기 제1 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어, 상기 제1 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩;
   상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함하며,
   상기 제1 하우징의 적어도 어느 한 내부 측면에 배치되어, 상기 적어도 하나의 회전 트랩 각각에 구성된 날개형 회전 트랩 유닛들의 상부면에 쌓이는 반응 부산물들을 하부로 낙하시키는 적어도 하나의 트랩 클리닝 유닛을 더 포함하는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
6. 제 5 항에 있어서,
   상기 적어도 하나의 트랩 클리닝 유닛은
   상기 제1 하우징의 측벽에서 상기 적어도 하나의 회전 트랩 방향으로 각각 도출되는 다수의 막대 형태로 알루미늄, 테프론, 스텐레스스틸, 티타늄 중 적어도 하나의 재질이나 합금으로 형성되며,
   테프론, Al2O3, 아노다이징, Y2O3 중 적어도 하나의 분체 도장이 코팅되고,
   상기 막대 형태로 구성된 각각의 트랩 클리닝 유닛은 상기 회전 트랩을 이루는 회전 날개형 트랩 유닛들의 사이 사이에 교번해서 위치하도록 배치된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 제1 하우징의 내부 벽면에는
   상기 제1 하우징의 내부 벽면과 적어도 하나의 회전 트랩 간의 간격이 최소화될 수 있도록 하기 위한 돌출형 벽 구조물이 더 형성되며,
   상기 적어도 하나의 트랩 클리닝 유닛은
   상기 돌출형 벽 구조물에서 상기 적어도 하나의 회전 트랩 방향으로 각각 도출되는 다수의 막대 형태로 형성되며,
   상기 막대 형태로 구성된 각각의 트랩 클리닝 유닛은 상기 회전 트랩을 이루는 회전 날개형 트랩 유닛들의 사이 사이에 교번해서 위치하도록 배치된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
8. 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 제1 하우징;
   상기 제1 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어, 상기 제1 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩;
   상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함하며,
   상기 적어도 하나의 회전 트랩을 회전시키는 적어도 하나의 모터 구동모듈; 및
   상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되어 낙하되는 반응 부산물들을 받아서 상기 부산물 이송 부재의 포집 부산물 이송 모듈로 이동시키는 포집 부산물 받침 유닛을 더 포함하는 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 포집 부산물 받침 유닛은
   플레이트 형태의 중심 영역이 가장 높고 상기 포집 부산물 이송 모듈이 하단에 배치된 측면 영역은 가장 낮아지도록 그 단면이 삼각 지붕 형태로 구성됨으로써, 상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되어 하부 방향으로 낙하하는 반응 부산물들이 상기 포집 부산물 받침 유닛의 자체 경사면을 따라 양 옆의 상기 포집 부산물 이송 모듈로 각각 이동되도록 구성된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
   
10. 배기 가스로부터 반응 부산물을 포집하기 위한 내부 공간을 형성하는 제1 하우징;
    상기 제1 하우징의 내부 공간에 회전 가능하도록 구성되어, 상기 제1 하우징의 내부 공간으로 유입되는 배기 가스로부터 반응 부산물을 파우더 형태로 포집하는 적어도 하나의 회전 트랩;
    상기 적어도 하나의 회전 트랩으로부터 포집되는 반응 부산물을 보관 용기로 이송시키는 부산물 이송 부재를 포함하며,
    상기 적어도 하나의 회전 트랩은
    제1 열로 배치된 제1 회전 트랩과 제2 열에 배치된 제2 회전 트랩으로 구분되며,
    상기 제1 회전 트랩은 다수의 회전 날개형 트랩 유닛들이 제1 열의 중심축 방향인 수직 방향으로 소정의 간격을 유지해서 적층된 상태로 결착 및 조립되어 구성되고,
    상기 제2 열에 배치된 제2 회전 트랩은 다수의 회전 날개형 트랩 유닛들이 제2 열의 중심축 방향인 수직 방향으로 소정의 간격을 유지해서 적층된 상태로 결착 및 조립되어 구성된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
    
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제1 열의 제1 회전 트랩과 상기 제2 열의 제2 회전 트랩은 서로 다른 높이와 단차를 갖도록 구성되며, 상기 제1 및 제2 회전 트랩 각각의 중심축 간 간격에 따라 미리 설정된 소정 면적이 중첩되도록 배치된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
    
12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 회전 트랙을 이루는 다수의 회전 날개형 트랩 유닛은 4개씩의 제1 내지 제4 트랩 유닛 단위로 각각의 그룹을 이루도록 구분되고,
    상기 각각의 그룹을 이루는 제1 내지 제4 트랩 유닛은 수평 방향으로 미리 설정된 소정 각도씩 회전각이 다르게 조립된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.
    
13. 제 12 항에 있어서,
    상기 각각의 제1 내지 제4 트랩 유닛에는 다수의 회전 날개를 이루는 각각의 수평 날개면에서 수직으로 절곡되어 각각의 수평 날개면을 수직 방향으로 지지하는 절곡면이 형성되고,
    상기 수평 날개면으로부터 절곡되는 절곡라인과 상기 절곡라인에 의해 절곡된 절곡면에는 테프론, Al2O3, 아노다이징, Y2O3 중 적어도 하나의 분체 도장이 코팅된 반도체 제조 장비용 부산물 포집장치.

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