KR20130004946A - Apparatus for transferring substrates - Google Patents

Apparatus for transferring substrates Download PDF

Info

Publication number
KR20130004946A
KR20130004946A KR1020110065153A KR20110065153A KR20130004946A KR 20130004946 A KR20130004946 A KR 20130004946A KR 1020110065153 A KR1020110065153 A KR 1020110065153A KR 20110065153 A KR20110065153 A KR 20110065153A KR 20130004946 A KR20130004946 A KR 20130004946A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carrier
unit
vacuum chamber
permanent magnet
guide
Prior art date
Application number
KR1020110065153A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101310762B1 (en
Inventor
정홍기
김기찬
한경록
김정훈
이춘수
오기용
서상훈
은희관
김영민
Original Assignee
주식회사 에스에프에이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에스에프에이 filed Critical 주식회사 에스에프에이
Priority to KR1020110065153A priority Critical patent/KR101310762B1/en
Priority to TW101122964A priority patent/TWI476139B/en
Priority to CN201210224161.XA priority patent/CN102849462B/en
Publication of KR20130004946A publication Critical patent/KR20130004946A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101310762B1 publication Critical patent/KR101310762B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/067—Sheet handling, means, e.g. manipulators, devices for turning or tilting sheet glass
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G54/00—Non-mechanical conveyors not otherwise provided for
    • B65G54/02—Non-mechanical conveyors not otherwise provided for electrostatic, electric, or magnetic
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE: An apparatus for transporting a substrate is provided to transfer to prevent the generation of particles in a transferring process. CONSTITUTION: A carrier(120) transfers a substrate(S) to a vacuum chamber(110). An upper transferring unit(130) transfers driving force to the upper part of the carrier in a non-contact state. The upper conveying unit includes an upper permanent magnet(131) and an upper electromagnet(133). A counter flow allowable unit(140) is movably connected to the lower part of the carrier. Multiple guide units touch the movement of the carrier to guide the carrier.

Description

기판 이송장치{Apparatus for transferring substrates}Apparatus for transferring substrates}

본 발명은, 기판 이송장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판이 안착된 캐리어를 통해 진공챔버의 내부에서 기판을 이송하는 기판 이송장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer apparatus, and more particularly, to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate in a vacuum chamber through a carrier on which the substrate is seated.

일반적으로, 평판표시장치(Flat Panel Display device : FPD)로서, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device:LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광표시장치(Electro luminescence Display device : ELD) 등과 같은 평판 디스플레이 패널의 제조 공정의 대부분은 기판을 대상으로 진행된다.In general, as a flat panel display device (FPD), a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel device (PDP), a field emission display device (Field Emission Display device: Most of the manufacturing processes of flat panel display panels such as FED) and electroluminescent display devices (ELDs) are directed to substrates.

이와 같은, 평판 디스플레이 패널의 제조과정에서 박막증착(deposition) 공정, 포토리소그라피(photolithography) 공정, 식각(etching) 공정이 수차례 반복되며, 그 밖에 세정, 합착, 절단 등의 수많은 공정이 수반된다.In the manufacturing process of such a flat panel display panel, a thin film deposition process, a photolithography process, and an etching process are repeated several times. In addition, many processes such as cleaning, bonding, and cutting are involved.

따라서 각 공정들을 수행하기 위하여 기판을 로딩 또는 언로딩하여야 하는데, 이러한 기판의 로딩 또는 언로딩을 위하여, 기판이 안착된 캐리어를 수직으로 챔버를 통해 이송시키는 인라인형 방법이 고려되고 있다.Therefore, in order to perform each process, a substrate must be loaded or unloaded. In order to load or unload such a substrate, an inline type method of vertically transferring a carrier on which a substrate is seated through a chamber is considered.

도 1은 종래기술에 따른 기판 이송장치의 단면도로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 종래 기술에 따른 기판 이송장치는, 챔버(10)와, 기판(S)이 안착되는 캐리어(20)와, 캐리어(20)의 하단부와 접촉되어 캐리어(20)에 추력을 전달하는 구동롤러(30)를 포함한다. 구동롤러(30)는 모터(40)에 의해 회전함으로써 캐리어(20)에 추력을 전달한다. 1 is a cross-sectional view of a substrate transfer apparatus according to the prior art, as shown in FIG. 1, a substrate transfer apparatus according to the prior art includes a chamber 10, a carrier 20 on which a substrate S is seated, And a driving roller 30 in contact with the lower end of the carrier 20 to transmit thrust to the carrier 20. The drive roller 30 transmits thrust to the carrier 20 by rotating by the motor 40.

한편, 수직으로 이동하는 캐리어(20)가 쓰러지는 것을 방지하기 위해 자기력을 통해 캐리어(20)를 가이드하는 가이드부(11,21)가 구비된다. 자세히 설명하면, 캐리어(20)의 상단부에는 캐리어 영구자석(21)이 마련되며, 캐리어 영구자석(21)에 인접하는 챔버(10)의 내부에는 챔버 영구자석(11)이 마련된다. 이때, 캐리어 영구자석(21)과 챔버 영구자석(11)에 서로 접촉되지 않은 상태이며, 상호 극성이 다른 경우 인력이 작용하므로 캐리어(20)가 넘어지지 않으며 이동될 수 있다. 즉, 종래기술에 따른 기판 이송장치는 챔버(10)의 하측에 배치된 구동롤러(30)와 캐리어(20)의 하부가 접촉되고, 구동롤러(30)의 회전력에 의해 캐리어(20)를 이동시키는 방식이다. Meanwhile, guide parts 11 and 21 for guiding the carrier 20 through magnetic force are provided to prevent the carrier 20 moving vertically. In detail, the carrier permanent magnet 21 is provided at the upper end of the carrier 20, and the chamber permanent magnet 11 is provided inside the chamber 10 adjacent to the carrier permanent magnet 21. In this case, the carrier permanent magnet 21 and the chamber permanent magnet 11 are not in contact with each other, and when the polarity is different from each other, since the attraction force acts, the carrier 20 does not fall and may be moved. That is, in the substrate transfer apparatus according to the related art, the driving roller 30 disposed below the chamber 10 contacts the lower portion of the carrier 20, and moves the carrier 20 by the rotational force of the driving roller 30. This is how you do it.

그러나, 종래기술에 따른 기판 이송장치는, 구동롤러(30)가 캐리어(20)의 하부와 접촉하여 추력을 전달하기 때문에 캐리어(20)에 미끄럼이 발생되어 구동롤러(30)에 정합하지 않는 현상이 발생될 수 있다. 즉, 기판(S)의 이송과정에서 캐리어(20)와 구동롤러(30)가 정위치에서 접촉하지 않는 현상이 발생되어 불량이 증가하고 생산성이 떨어지는 문제가 있다.However, in the substrate transfer apparatus according to the related art, since the driving roller 30 is in contact with the lower portion of the carrier 20 to transmit thrust, slippage occurs in the carrier 20 so that the driving roller 30 does not match the driving roller 30. This may occur. That is, the phenomenon in which the carrier 20 and the driving roller 30 do not contact at the correct position in the transfer process of the substrate S occurs, so that there is a problem that the defect increases and the productivity decreases.

또한, 종래기술에 따른 기판 이송장치는, 캐리어(20)가 추력을 전달하는 구동롤러(30)에 접촉된 상태에서 이송되기 때문에, 파티클(particle)에 의한 악영향이 발생될 수 있다.In addition, in the substrate transfer apparatus according to the related art, since the carrier 20 is transported in contact with the driving roller 30 for transmitting thrust, adverse effects due to particles may be generated.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 비접촉상태에서 캐리어에 추력을 전달할 수 있으며, 이송과정에서 캐리어가 정위치를 벗어나더라도 빠르게 원래의 위치로 복귀할 수 있고 또한 이송과정에서 파티클의 발생을 억제할 수 있는 기판 이송장치를 제공하는 것이다.Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention, can transmit the thrust to the carrier in a non-contact state, and can quickly return to the original position even if the carrier is out of position in the transfer process and also suppress the generation of particles in the transfer process It is to provide a substrate transfer apparatus that can be.

본 발명의 일 측면에 따르면, 진공챔버; 상기 진공챔버의 내부에서 기판을 이송하는 캐리어; 상기 캐리어의 상단부와 비접촉된 상태에서 상기 캐리어의 상부에 추력을 전달하는 상부이송유닛; 상기 캐리어의 하단부에 상기 캐리어에 대하여 상대적으로 유동가능하게 결합되는 상대유동허용유닛; 및 상기 상대허용유닛에 접촉되어 상기 캐리어의 이동을 가이드하는 복수의 가이드 유닛을 포함하는 기판 이송장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the invention, the vacuum chamber; A carrier for transporting a substrate in the vacuum chamber; An upper transfer unit configured to transfer thrust to an upper portion of the carrier in a non-contact state with an upper end of the carrier; A relative flow permitting unit coupled to the lower end of the carrier so as to be movable relative to the carrier; And a plurality of guide units in contact with the relative allowable unit to guide the movement of the carrier.

상기 상대유동허용유닛은, 상기 캐리어에 대하여 상대 회전가능하게 결합되는 회전체일 수 있다.The relative flow permitting unit may be a rotating body that is rotatably coupled to the carrier.

상기 회전체는, 상기 캐리어의 하단부에 결합되는 캐리어 지지축; 상기 캐리어 지지축을 내부에 수용하며, 외면이 상기 가이드 유닛과 접촉되는 회전관; 및 내륜이 상기 캐리어 지지축과 결합되고, 외륜이 상기 회전관과 결합되는 베어링을 포함할 수 있다.The rotating body, the carrier support shaft coupled to the lower end of the carrier; A rotary tube accommodating the carrier support shaft therein and having an outer surface in contact with the guide unit; And an inner ring coupled to the carrier support shaft, and an outer ring coupled to the rotary tube.

상기 가이드 유닛은 중앙으로 갈수록 직경이 작아지는 곡률의 안내면을 갖는 가이드 롤러이며, 상기 회전관의 곡률은 상기 가이드 롤러의 안내면의 곡률보다 작을 수 있다.The guide unit may be a guide roller having a guide surface of curvature that decreases in diameter toward the center, and the curvature of the rotary tube may be smaller than the curvature of the guide surface of the guide roller.

상기 가이드 유닛은, 중앙으로 갈수록 직경이 작아지는 곡률의 안내면을 갖는 가이드 롤러일 수 있다. The guide unit may be a guide roller having a guide surface of curvature that decreases in diameter toward the center.

상기 상부이송유닛은, 상기 캐리어의 상단부에 마련되는 상부영구자석; 및 상기 상부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 내부에 마련되는 상부전자석을 포함할 수 있다.The upper transfer unit, the upper permanent magnet provided on the upper end of the carrier; And an upper electromagnet provided in the vacuum chamber adjacent to the upper permanent magnet.

상기 상부이송유닛은, 상기 캐리어의 상단부에 마련되는 상부영구자석; 및 상기 상부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 외부에 마련되는 상부전자석을 포함할 수 있다.The upper transfer unit, the upper permanent magnet provided on the upper end of the carrier; And an upper electromagnet provided outside the vacuum chamber adjacent to the upper permanent magnet.

상기 캐리어의 상단부에 인접하는 상기 진공챔버의 외벽에는 외면으로부터 함몰형성된 설치홈이 마련되며, 상기 상부전자석은 상기 설치홈에 삽입설치될 수 있다.The outer wall of the vacuum chamber adjacent to the upper end of the carrier is provided with an installation groove recessed from the outer surface, the upper electromagnet may be inserted into the installation groove.

상기 상부전자석은 상기 설치홈에 착탈가능하게 설치될 수 있다.The upper electromagnet may be detachably installed in the installation groove.

상기 상대유동허용유닛과 비접촉된 상태에서 상기 캐리어의 하부에 추력을 전달하는 하부이송유닛을 더 포함할 수 있다.It may further include a lower transfer unit for transmitting a thrust to the lower portion of the carrier in a non-contact state with the relative flow allowable unit.

상기 하부이송유닛은, 상기 상대유동허용유닛에 마련되는 하부영구자석; 및 상기 하부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 내부에 마련되는 하부전자석을 포함할 수 있다.The lower transfer unit, the lower permanent magnet provided in the relative flow allowable unit; And a lower electromagnet provided in the vacuum chamber adjacent to the lower permanent magnet.

상기 하부이송유닛은, 상기 상대유동허용유닛에 마련되는 하부영구자석; 및 상기 하부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 외부에 마련되는 하부전자석을 포함할 수 있다.The lower transfer unit, the lower permanent magnet provided in the relative flow allowable unit; And a lower electromagnet provided outside the vacuum chamber adjacent to the lower permanent magnet.

상기 진공챔버의 외벽은 상기 가이드 유닛 사이에서 상측으로 돌출된 돌출부를 형성하되, 상기 진공챔버의 돌출부에는 외면으로부터 함몰형성된 설치홈이 마련되며, 상기 하부전자석은 상기 설치홈에 삽입설치될 수 있다.The outer wall of the vacuum chamber forms a protrusion projecting upwardly between the guide units, the protrusion of the vacuum chamber is provided with an installation groove recessed from the outer surface, the lower electromagnet can be inserted into the installation groove.

상기 하부전자석은 상기 설치홈에 착탈가능하게 설치될 수 있다.The lower electromagnet may be detachably installed in the installation groove.

본 발명의 실시예들은, 상부이송유닛이 캐리어의 상단부와 비접촉된 상태에서 캐리어에 추력을 전달하며, 캐리어의 하단부에 결합된 상대유동허용유닛 가이드 유닛에 접촉되되, 상대유동허용유닛이 캐리어에 대하여 상대적으로 유동가능하게 결합됨으로써, 이송과정에서 캐리어가 흔들려도 빠르게 원래의 위치로 복귀될 수 있으며, 이송과정에서 파티클의 발생이 억제될 수 있다.Embodiments of the present invention, the upper transfer unit transmits the thrust to the carrier in a non-contact state with the upper end of the carrier, contacting the relative flow permitting unit guide unit coupled to the lower end of the carrier, the relative flow permitting unit with respect to the carrier By being relatively fluidly coupled, the carrier can be quickly returned to its original position even when the carrier is shaken during the transfer process, and generation of particles can be suppressed during the transfer process.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치의 상대유동허용유닛이 도시된 사시도이다.
도 5는 도 2의 'A'영역을 확대하여 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 이송장치의 상부전자석이 진공챔버의 외부에 설치되는 것이 도시된 사시도이다.
도 7은 도 6의 상부전자석이 진공챔버의 외부에 설치되는 것을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 제3 실시예에 따른 기판 이송장치의 하부전자석이 도시된 사시이다.
도 9는 제4 실시예에 따른 기판 이송장치의 하부전자석이 진공챔버의 외부에 설치되는 것이 도시된 사시도이다.2 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a substrate transfer apparatus according to a first embodiment of the present invention.
4 is a perspective view showing a relative flow permitting unit of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is an enlarged view of region 'A' of FIG. 2.
6 is a perspective view showing that the upper electromagnet of the substrate transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention is installed outside the vacuum chamber.
FIG. 7 is a view for explaining that the upper electromagnet of FIG. 6 is installed outside the vacuum chamber.
8 is a perspective view showing a lower electromagnet of the substrate transfer apparatus according to the third embodiment.
9 is a perspective view showing that the lower electromagnet of the substrate transfer apparatus according to the fourth embodiment is installed outside the vacuum chamber.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치의 사시도이며, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치의 상대유동허용유닛이 도시된 사시도이고, 도 5는 도 2의 'A'영역을 확대하여 도시한 도면이다.2 is a cross-sectional view of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention, Figure 3 is a perspective view of the substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention, Figure 4 is a first embodiment of the present invention FIG. 5 is a perspective view illustrating a relative flow permitting unit of the substrate transfer device, and FIG. 5 is an enlarged view of region 'A' of FIG. 2.

도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 기판 이송장치는, 진공챔버(110)와, 진공챔버(110)의 내부에서 기판(S)을 이송하는 캐리어(120)와, 캐리어(120)의 상단부와 비접촉된 상태에서 캐리어(120)의 상부에 추력을 전달하는 상부이송유닛(130)과, 캐리어(120)의 하단부에 캐리어(120)에 대하여 상대적으로 유동가능하게 결합되는 상대유동허용유닛(140)과, 상대유동허용유닛(140)에 접촉되어 캐리어(120)의 이동을 가이드하는 복수의 가이드 유닛(150)을 포함한다.2 to 5, the substrate transport apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a vacuum chamber 110 and a carrier 120 for transporting the substrate S inside the vacuum chamber 110. ), The upper transfer unit 130 for transmitting the thrust to the upper portion of the carrier 120 in a non-contact state with the upper end of the carrier 120, and the lower portion of the carrier 120 is relatively movable with respect to the carrier 120 And a plurality of guide units 150 contacting the relative flow allowing unit 140 to guide the movement of the carrier 120 in contact with the relative flow allowing unit 140.

진공챔버(110)는 외부의 대기영역과 내부의 진공영역을 구분하며 내부에서 캐리어(120)를 통해 기판(S)이 이송되는 영역이다.The vacuum chamber 110 divides the outer atmospheric region and the inner vacuum region and is an area in which the substrate S is transferred through the carrier 120.

캐리어(120)는 폭이 얇은 평판형태로 형성되며 일 측면에 기판(S)이 안착되기 위한 안착부(미도시)가 마련된다. 즉, 기판(S)은 캐리어(120)의 안착부에 수직상태로 적재된다. 이러한 캐리어(120)는 본 실시예에서 수직으로 세워진 상태로 이송된다. 여기서, 캐리어(120)의 이송방향은 캐리어(120)의 길이방향으로 설명한다.The carrier 120 is formed in a thin flat plate shape and is provided with a mounting portion (not shown) for mounting the substrate S on one side thereof. That is, the substrate S is loaded in a vertical state on the seating portion of the carrier 120. This carrier 120 is conveyed in a vertical position in this embodiment. Here, the conveyance direction of the carrier 120 will be described in the longitudinal direction of the carrier 120.

기판(S)은 액정 표시 장치뿐만 아니라 평판 표시 장치 등을 제작하기 위한 다양한 기판(S)일 수 있으며, 반도체의 웨이퍼(wafer)도 가능하다.The substrate S may be not only a liquid crystal display but also various substrates S for manufacturing a flat panel display and the like, and a wafer of a semiconductor may also be used.

한편, 상대유동허용유닛(140)은 캐리어(120)의 하단부에 결합된다. 자세히 설명하면, 상대유동허용유닛(140)은, 캐리어(120)에 대하여 상대 회전가능하게 결합되는 회전체이다. 이러한, 상대유동허용유닛(140)은 캐리어(120)의 하단부에 회전가능하게 결합된다. 즉, 상대유동허용유닛(140)은 캐리어(120)의 길이방향(하기에서 설명할 캐리어 지지축(141)의 방향에 해당됨)을 중심축으로 하여 회전된다. 이러한 상대유동허용유닛(140)은, 캐리어(120)가 폭 방향에 대하여 정위치를 벗어난 채로 이송되는 것을 방지하는 역할을 하는데, 이에 대해서는 자세히 후술하기로 한다.On the other hand, the relative flow permitting unit 140 is coupled to the lower end of the carrier 120. In detail, the relative flow permitting unit 140 is a rotating body coupled to the carrier 120 so as to be relatively rotatable. The relative flow permitting unit 140 is rotatably coupled to the lower end of the carrier 120. That is, the relative flow permitting unit 140 is rotated about the longitudinal direction of the carrier 120 (corresponding to the direction of the carrier support shaft 141 to be described later) with the central axis. The relative flow permitting unit 140 serves to prevent the carrier 120 from being transported out of a fixed position with respect to the width direction, which will be described later in detail.

도 4 및 도 5에 자세히 도시된 바와 같이, 상대유동허용유닛(140)은, 캐리어(120)의 하단부에 결합되는 캐리어 지지축(141)과, 캐리어 지지축(141)을 내부에 수용하며, 외면이 가이드 유닛(150)과 접촉되는 회전관(143)과, 내륜이 캐리어 지지축(141)과 결합되고, 외륜이 회전관(143)과 결합되는 베어링(145)을 포함한다.As shown in detail in FIGS. 4 and 5, the relative flow permitting unit 140 accommodates the carrier support shaft 141 and the carrier support shaft 141 coupled to the lower end of the carrier 120. The outer surface includes a rotating tube 143 in contact with the guide unit 150, an inner ring is coupled to the carrier support shaft 141, and an outer ring is coupled to the rotating tube 143.

즉, 캐리어(120)의 하단부에 캐리어(120)의 길이방향으로 결합되는 캐리어 지지축(141)은 베어링(145)의 내륜과 결합된다. 이때, 회전관(143)은 베어링(145)의 외륜과 결합되기 때문에, 회전관(143)은 캐리어 지지축(141)을 중심으로 상대회전할 수 있다.That is, the carrier support shaft 141 coupled to the lower end of the carrier 120 in the longitudinal direction of the carrier 120 is coupled to the inner ring of the bearing 145. At this time, since the rotary tube 143 is coupled to the outer ring of the bearing 145, the rotary tube 143 may rotate relative to the carrier support shaft 141.

회전관(143)은 내부가 중공된 원통형이며, 외주면이 가이드 유닛(150)과 접촉되고, 베어링(145)을 통해 캐리어 지지축(141)에 상대회전가능하게 결합된다.The rotary tube 143 is a hollow cylindrical shape, the outer circumferential surface is in contact with the guide unit 150, and is coupled to the carrier support shaft 141 through the bearing 145 to be relatively rotatable.

회전관(143)은 캐리어 지지축(141)을 중심으로 회전가능하기 때문에, 캐리어(120)의 이송과정에서 가이드 유닛(150)의 안내면에 존재하는 미세한 파티클이나 이송과정에서의 가감속 등에 의해서 캐리어(120)의 폭 방향에 대한 정위치가 벗어나는 경우에도 회전관(143)의 회전에 의해 캐리어(120)의 정위치가 바로잡힐 수 있게 된다. Since the rotary tube 143 is rotatable about the carrier support shaft 141, the carrier may be rotated by the fine particles existing on the guide surface of the guide unit 150 or the acceleration and deceleration during the transfer process. Even when the correct position with respect to the width direction of the 120 is off, the correct position of the carrier 120 can be corrected by the rotation of the rotary tube 143.

베어링(145)은 본 실시예에서 외륜과 내륜 사이에 볼이 삽입된 레이디얼 볼베어링이며, 내륜이 캐리어 지지축(141)과 결합되고, 외륜이 회전관(143)에 결합됨으로써, 회전관(143)이 캐리어 지지축(141)을 중심으로 상대회전되도록 한다.The bearing 145 is a radial ball bearing having a ball inserted between the outer ring and the inner ring in this embodiment, the inner ring is coupled to the carrier support shaft 141, the outer ring is coupled to the rotary tube 143, the rotary tube 143 ) Rotates relative to the carrier support shaft 141.

한편, 도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 가이드 유닛(150)은, 중앙으로 갈수록 직경이 작아지는 곡률의 안내면(153)을 갖는 가이드 롤러(151)일 수 있다. 가이드 롤러(151)는 복수개가 소정의 간격으로 이격되어 진공챔버(110)의 하측면에 회전가능하게 설치된다. 가이드 롤러(151)의 안내면(153)은 회전관(143)의 외주면에 상응하도록 소정의 곡률을 갖는다. 이때, 상대유동허용유닛(140)이 가이드 롤러(151)에서 이탈하는 것을 방지하기 위해 회전관(143)의 곡률은 가이드 롤러(151)의 안내면(153)의 곡률보다 작은 것이 바람직하다.2 to 5, the guide unit 150 may be a guide roller 151 having a guide surface 153 of curvature whose diameter decreases toward the center. A plurality of guide rollers 151 are spaced apart at predetermined intervals and rotatably installed on the lower side of the vacuum chamber 110. The guide surface 153 of the guide roller 151 has a predetermined curvature to correspond to the outer circumferential surface of the rotary tube 143. In this case, the curvature of the rotary tube 143 is preferably smaller than the curvature of the guide surface 153 of the guide roller 151 in order to prevent the relative flow allowable unit 140 from being separated from the guide roller 151.

한편, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상부이송유닛(130)은, 캐리어(120)의 상단부에 마련되는 상부영구자석(131)과, 상부영구자석(131)에 인접하게 진공챔버(110)의 내부에 마련되는 상부전자석(133)을 포함한다.On the other hand, as shown in Figure 2 and 3, the upper transfer unit 130, the upper permanent magnet 131 is provided on the upper end of the carrier 120, and the vacuum chamber adjacent to the upper permanent magnet 131 ( The upper electromagnet 133 is provided in the interior of the 110.

상부전자석(133)은 진공챔버(110)의 외벽의 내면에 결합된다. 즉, 캐리어(120)의 상부영구자석(131)과 마찬가지로 상부전자석(133)도 진공챔버의 내부에 배치되는 것이다, 여기서, 상부전자석(133)은 고정자에 해당되고 상부영구자석(131)은 가동자에 해당된다. 즉, 고정자인 상부전자석(133)에 전류가 흐르면, 가동자인 상부영구자석(131)에 로렌쯔(Lorenz)의 힘이 발생된다. 이때, 상부영구자석(131)은 캐리어(120)의 상단부에 결합되어 있으므로, 상부영구자석(131)에 발생된 로렌쯔의 힘에 의해 캐리어(120)가 이동된다.The upper electromagnet 133 is coupled to the inner surface of the outer wall of the vacuum chamber 110. That is, like the upper permanent magnet 131 of the carrier 120, the upper electromagnet 133 is disposed inside the vacuum chamber, where the upper electromagnet 133 corresponds to a stator and the upper permanent magnet 131 is movable This is true. That is, when a current flows through the upper electromagnet 133, which is the stator, the force of Lorenz is generated in the upper permanent magnet 131, which is the mover. At this time, the upper permanent magnet 131 is coupled to the upper end of the carrier 120, the carrier 120 is moved by the force of Lorentz generated in the upper permanent magnet 131.

이하, 본 실시예에 따른 기판 이송장치(100)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the substrate transfer apparatus 100 according to the present embodiment will be described.

기판(S)이 안착된 캐리어(120)의 이송과정에서 상부이송유닛(130)은 캐리어(120)의 상부에 추력을 전달한다. 즉, 고정자인 상부전자석(133)에 전류가 흐르면 가동자인 상부영구자석(131)에 로렌쯔(Lorenz)의 힘이 발생되고, 상부영구자석(131)과 결합된 캐리어(120)가 이동된다.In the transfer process of the carrier 120 on which the substrate S is seated, the upper transfer unit 130 transmits thrust to the upper portion of the carrier 120. That is, when current flows through the upper electromagnet 133 that is the stator, the force of Lorenz is generated in the upper permanent magnet 131 that is the mover, and the carrier 120 coupled with the upper permanent magnet 131 is moved.

한편, 캐리어(120)의 하단부에 결합된 상대유동허용유닛(140)은 가이드 롤러(151)와 접촉된 상태에서 캐리어(120)의 이동을 안내한다. 이때, 가이드 롤러(151)의 안내면(153)에 파티클이 존재하거나 캐리어(120)의 가감속 등에 의해 캐리어(120)가 수직을 유지하지 못하고 기울어진 모양으로 이송될 수 있다. 이러한 캐리어(120)의 기울어짐이 발생되는 경우에는 상대유동허용유닛(140)이 가이드 롤러(151)의 안내면(153)의 중앙부에 위치하지 못하고 안내면(153)의 가장자리에 위치하게 된다. 본 실시예에 따른 상대유동허용유닛(140)은 캐리어 지지축(141)을 중심으로 회전가능하기 때문에 상술한 파티클이나 충격에 의해 상대유동허용유닛(140)이 가이드 롤러(151)의 안내면(153)의 가장자리에 위치하더라도 회전에 의해 중앙부로 이동된다. 따라서, 본 실시예에 따른 기판 이송장치(100)는 이송과정에서 캐리어(120)는 정위치를 유지하며 이송될 수 있다.즉, 이송과정에서 캐리어(120)가 흔들려도 빠르게 원래의 위치로 복귀될 수 있는 것이다. 또한, 이송과정에서 캐리어(120)가 흔들려도 파티클의 발생이 억제된다.On the other hand, the relative flow permitting unit 140 coupled to the lower end of the carrier 120 guides the movement of the carrier 120 in contact with the guide roller 151. In this case, particles may be present on the guide surface 153 of the guide roller 151 or the carrier 120 may be transferred in an inclined shape without maintaining verticality due to acceleration and deceleration of the carrier 120. When the inclination of the carrier 120 occurs, the relative flow permitting unit 140 is not positioned at the center of the guide surface 153 of the guide roller 151 and is positioned at the edge of the guide surface 153. Since the relative flow permitting unit 140 according to the present embodiment is rotatable about the carrier support shaft 141, the relative flow permitting unit 140 is guided by the particles or impacts described above. Even if it is located at the edge of), it is moved to the center part by rotation. Therefore, the substrate transport apparatus 100 according to the present embodiment may be transported while maintaining the home position in the transport process. That is, even if the carrier 120 is shaken in the transport process, the carrier 120 may be quickly returned to the original position. It can be. In addition, even if the carrier 120 is shaken during the transfer process, the generation of particles is suppressed.

또한, 상부이송유닛(130)이 캐리어(120)의 상단부에 마련되고, 캐리어(120)의 이동을 안내하는 가이드 유닛(150)이 캐리어(120)의 하단부에 마련되기 때문에, 이송과정에서 캐리어(120)가 가감속되더라도 진동이나 흔들림이 적은 장점이 있다.In addition, since the upper transfer unit 130 is provided at the upper end of the carrier 120, the guide unit 150 for guiding the movement of the carrier 120 is provided at the lower end of the carrier 120, the carrier ( 120) even if the acceleration and deceleration has the advantage of less vibration or shaking.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 이송장치(100a)의 구성을 도시한 도면이이고, 도 7은 도 6의 상부전자석(133a)이 진공챔버(110)의 외부에 설치되는 것을 설명하기 위한 도면이다.6 is a view showing the configuration of the substrate transfer apparatus 100a according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 shows that the upper electromagnet 133a of FIG. 6 is installed outside the vacuum chamber 110. It is a figure for demonstrating.

본 실시예는 제1 실시예와 비교할 때에 상부이송유닛(130)의 구성에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 2 내지 도 5의 제1 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 상부이송유닛(130a)의 구성에 대해서만 설명하기로 한다.This embodiment differs only in the configuration of the upper transfer unit 130 as compared with the first embodiment, and in other configurations is the same as the configuration of the first embodiment of Figs. Only the configuration of the upper transfer unit 130a will be described.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 상부이송유닛(130a)은, 캐리어(120)의 상단부에 마련되는 상부영구자석(131)과, 상부영구자석(131)에 인접하게 진공챔버(110)의 외부에 마련되는 상부전자석(133a)을 포함한다.6 and 7, the upper transfer unit 130a, the upper permanent magnet 131 is provided on the upper end of the carrier 120, and the vacuum chamber 110 adjacent to the upper permanent magnet 131 It includes an upper electromagnet 133a provided on the outside.

즉, 본 실시예에 따른 기판 이송장치(100a)에서 상부전자석(133a)은, 제1 실시예와 달리 진공챔버(110)의 외부인 대기 중에 배치되는 것이다.That is, in the substrate transfer apparatus 100a according to the present embodiment, the upper electromagnet 133a is disposed in the atmosphere outside of the vacuum chamber 110, unlike the first embodiment.

자세히 설명하면, 도 6 또는 도 7에 도시된 바와 같이, 캐리어(120)의 상단부에 인접하는 진공챔버(110)의 외벽에는 외면으로부터 함몰형성된 설치홈(H)이 마련되며, 상부전자석(133a)은 설치홈(H)에 삽입설치된다. In detail, as shown in FIG. 6 or 7, the outer groove of the vacuum chamber 110 adjacent to the upper end of the carrier 120 is provided with an installation groove H recessed from the outer surface, and the upper electromagnet 133a. Is inserted into the installation groove (H).

이와 같이, 상부전자석(133a)이 진공챔버(110)의 외부, 즉 대기 중에 설치되면, 진공챔버(110)의 내부에서 발생되는 아크(arc)현상을 방지할 수 있다. 이러한 아크현상은 진공방전(vaccum discharge)의 한 형태이다. 진공방전이란, 고진공상태에서 높은 전압에 의해 발생되는 방전현상이다. 따라서, 본 실시예와 같이 진공챔버(110)의 외부인 대기상태에 상부전자석(133a)을 배치하면, 상부전자석(133a)이 진공상태에 노출되어 진공챔버(110)의 내부에 아크가 발생되는 것을 방지할 수 있는 장점이 있다. As such, when the upper electromagnet 133a is installed outside of the vacuum chamber 110, that is, in the air, arcs generated in the vacuum chamber 110 may be prevented. This arc phenomenon is a form of vaccum discharge. Vacuum discharge is a discharge phenomenon generated by a high voltage in a high vacuum state. Therefore, when the upper electromagnet 133a is disposed in the standby state that is outside the vacuum chamber 110 as in the present embodiment, the upper electromagnet 133a is exposed to a vacuum state to generate an arc inside the vacuum chamber 110. There is an advantage that can be prevented.

또한, 이러한 상부전자석(133a)은 본 실시예에서 착탈가능하게 마련된다. 즉, 상부전자석(133a)은 진공챔버(110)의 설치홈(H)에 착탈될 수 있다. 이러한 구성으로 인하여, 상부전자석(133a)에 고장이나 성능저하가 발생된 경우에는 진공챔버(110)의 외부에서 손쉽게 교환할 수 있는 장점이 있다.In addition, the upper electromagnet 133a is provided detachably in this embodiment. That is, the upper electromagnet 133a may be attached to or detached from the installation groove H of the vacuum chamber 110. Due to this configuration, when a failure or performance degradation occurs in the upper electromagnet 133a, there is an advantage that it can be easily exchanged outside the vacuum chamber 110.

도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기판 이송장치(100b)의 구성을 도시한 도면이다.8 is a diagram showing the configuration of the substrate transfer apparatus 100b according to the third embodiment of the present invention.

본 실시예는 제1 실시예와 비교할 때에 하부이송유닛(160b)의 구성에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 2 내지 도 5의 제1 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 하부이송유닛(160b)의 구성에 대해서만 설명하기로 한다.This embodiment differs only in the configuration of the lower transfer unit 160b compared with the first embodiment, and in other configurations is the same as that of the first embodiment of FIGS. Only the configuration of the lower transfer unit 160b will be described.

도 8에 도시된 바와 같이, 하부이송유닛(160b)은, 상대유동허용유닛(140)과 비접촉된 상태에서 캐리어(120)의 하부에 추력을 전달한다. 자세히 설명하면, 하부이송유닛(160b)은, 상대유동허용유닛(140)에 마련되는 하부영구자석(미도시)과, 하부영구자석에 인접하게 진공챔버(110)의 내부에 마련되는 하부전자석(163b)을 포함한다. 하부영구자석은, 상대유동허용유닛(140)에 별도의 구성으로 추가될 수 있으며, 상술한 캐리어 지지축(141)을 자성체로 형성할 수도 있다. 즉, 캐리어 지지축(141)이 자성소재로 이루어져 하부영구자석을 역할을 수행할 수 있다. 또한, 캐리어 지지축(141)에 캐리어 지지축(141)의 설치방향으로 하부영구자석이 결합되는 것도 가능하다.As shown in FIG. 8, the lower transfer unit 160b transmits thrust to the lower portion of the carrier 120 in a non-contact state with the relative flow permitting unit 140. In detail, the lower transfer unit 160b may include a lower permanent magnet (not shown) provided in the relative flow permitting unit 140 and a lower electromagnet provided in the vacuum chamber 110 adjacent to the lower permanent magnet. 163b). The lower permanent magnet may be added to the relative flow permitting unit 140 in a separate configuration, and the carrier support shaft 141 may be formed of a magnetic material. That is, the carrier support shaft 141 is made of a magnetic material may serve as a lower permanent magnet. In addition, the lower permanent magnet may be coupled to the carrier support shaft 141 in the installation direction of the carrier support shaft 141.

본 실시예에서 하부전자석(163b)은 진공챔버(110)의 외벽의 내면에 결합된다. 하부전자석(163b)은 이격된 가이드 롤러(151)의 사이에 마련된다. 이러한 하부전자석(163b)은 고정자에 해당되며, 상대유동허용유닛(140)에 마련된 하부영구자석은 가동자에 해당된다. 즉, 하부이송유닛(160b)은, 상술한 상부이송유닛(130)과 마찬가지로 로렌쯔의 힘에 의해 캐리어(120)에 이동력을 부여한다.In the present embodiment, the lower electromagnet 163b is coupled to the inner surface of the outer wall of the vacuum chamber 110. The lower electromagnet 163b is provided between the spaced guide rollers 151. The lower electromagnet 163b corresponds to the stator, and the lower permanent magnet provided to the relative flow permitting unit 140 corresponds to the mover. That is, the lower transfer unit 160b, like the upper transfer unit 130 described above, imparts a moving force to the carrier 120 by the force of Lorentz.

본 실시예에 따른 기판 이송장치(100b)의 작동을 살펴보면, 하부이송유닛(160b)은 캐리어(120)의 하부에 추력을 전달한다. 즉, 상부이송유닛(130)에 의해 캐리어(120)의 상부에 추력을 전달하는 동시에 캐리어(120)의 하부에도 추력을 전달하기 때문에 캐리어(120)의 이송을 더욱 원활히 할 수 있다. 결국, 캐리어(120)의 상부 및 하부에서 추력을 전달하므로 힘의 평형에 의해 캐리어(120)가 균형을 더욱 용이하게 유지할 수 있는 장점이 있다.Looking at the operation of the substrate transfer apparatus 100b according to the present embodiment, the lower transfer unit 160b transmits thrust to the lower portion of the carrier 120. That is, the thrust is transmitted to the upper portion of the carrier 120 by the upper transfer unit 130, and the thrust is also transmitted to the lower portion of the carrier 120, it is possible to facilitate the transfer of the carrier 120. As a result, since the thrust is transmitted from the upper and lower portions of the carrier 120, the carrier 120 may be more easily maintained by the balance of the force.

도 9는 본 발명의 제4 실시예에 따른 기판 이송장치(100c)의 구성을 도시한 도면이다.9 is a view showing the configuration of the substrate transfer apparatus 100c according to the fourth embodiment of the present invention.

본 실시예는 제2 실시예 및 제3 실시예와 비교할 때에 하부이송유닛(160b)의 구성에 있어서 차이가 있을 뿐, 다른 구성에 있어서는 도 6 및 도 7의 제2 실시예와, 도 8의 제3 실시예의 구성과 동일하므로, 이하에서는 본 실시예의 하부이송유닛(160c)의 구성에 대해서만 설명하기로 한다.This embodiment differs only in the configuration of the lower transfer unit 160b as compared with the second and third embodiments, and in other configurations, the second embodiment of FIGS. 6 and 7 and FIG. Since it is the same as the structure of 3rd Embodiment, only the structure of the lower conveyance unit 160c of this embodiment is demonstrated below.

본 실시예에서, 상부이송유닛(130a)은, 제2 실시예와 동일한 구성을 가지며, 하부전자석(163c)은 제3 실시예와 달리 진공챔버(110)의 외부에 마련된다.In the present embodiment, the upper transfer unit 130a has the same configuration as the second embodiment, and the lower electromagnet 163c is provided outside the vacuum chamber 110 unlike the third embodiment.

즉, 도 9에 도시된 바와 같이, 진공챔버(110)의 외벽은 가이드 유닛(150) 사이에서 상측으로 돌출된 돌출부를 형성하되, 진공챔버(110)의 돌출부에는 외면으로부터 함몰형성된 설치홈(H)이 마련되며, 하부전자석(163c)은 설치홈(H)에 삽입설치된다.That is, as illustrated in FIG. 9, the outer wall of the vacuum chamber 110 forms a protrusion projecting upward between the guide units 150, and the installation groove H recessed from the outer surface is formed in the protrusion of the vacuum chamber 110. ) Is provided, the lower electromagnet 163c is inserted into the installation groove (H).

즉, 진공챔버(110)에는, 가이드 롤러(151)의 사이에서 상대유동허용유닛(140)에 인접되도록 돌출부(111)가 형성된다. 돌출부(111)의 외면에는 하부전자석(163c)이 삽입설치되는 설치홈(H)이 마련됨으로써, 하부전자석(163c)이 대기 중인 진공챔버(110)의 외부에 마련되는 것이다. 하부전자석(163c)이 진공챔버(110)의 외부에 마련되는 것은 상술한 제2 실시예에서 상부전자석(133a)이 진공챔버(110)의 외부에 마련되는 것과 같은 효과를 가진다.That is, the protrusion 111 is formed in the vacuum chamber 110 so as to be adjacent to the relative flow permitting unit 140 between the guide rollers 151. The outer surface of the protrusion 111 is provided with an installation groove (H) into which the lower electromagnet 163c is inserted, so that the lower electromagnet 163c is provided outside of the vacuum chamber 110 in the atmosphere. The lower electromagnet 163c is provided on the outside of the vacuum chamber 110 in the above-described second embodiment to have the same effect as the upper electromagnet 133a is provided on the outside of the vacuum chamber 110.

한편, 이러한 하부전자석(163c)은 본 실시예에서 착탈가능하게 마련된다. 즉, 하부전자석(163c)이 진공챔버(110)의 설치홈(H)에 착탈될 수 있다. 이러한 구성으로 인하여, 하부전자석(163c)에 고장이나 성능저하가 발생된 경우에는 진공챔버(110)의 외부에서 손쉽게 교환할 수 있는 장점이 있다.On the other hand, such a lower electromagnet 163c is provided detachably in this embodiment. That is, the lower electromagnet 163c may be attached to or detached from the installation groove H of the vacuum chamber 110. Due to this configuration, when a failure or performance degradation occurs in the lower electromagnet 163c, there is an advantage that it can be easily exchanged outside the vacuum chamber 110.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100: 기판 이송장치 110: 챔버
120: 캐리어 130,130a: 상부이송유닛
131: 상부영구자석 133,133a: 상부전자석
140: 상대유동허용유닛 141: 캐리어 지지축
143: 회전관 145: 베어링
150: 가이드 유닛 151: 가이드 롤러
153: 안내면 160b,160c: 하부이송유닛
163b,160c: 하부전자석 S: 기판
H: 설치홈 100: substrate transfer device 110: chamber
120: carrier 130, 130a: upper transfer unit
131: upper permanent magnet 133,133a: upper electromagnet
140: relative flow allowable unit 141: carrier support shaft
143: rotary tube 145: bearing
150: guide unit 151: guide roller
153: guide surface 160b, 160c: lower feed unit
163b and 160c: lower electromagnet S: substrate
H: mounting groove

Claims (14)

진공챔버;
상기 진공챔버의 내부에서 기판을 이송하는 캐리어;
상기 캐리어의 상단부와 비접촉된 상태에서 상기 캐리어의 상부에 추력을 전달하는 상부이송유닛;
상기 캐리어의 하단부에 상기 캐리어에 대하여 상대적으로 유동가능하게 결합되는 상대유동허용유닛; 및
상기 상대허용유닛에 접촉되어 상기 캐리어의 이동을 가이드하는 복수의 가이드 유닛을 포함하는 기판 이송장치.A vacuum chamber;
A carrier for transporting a substrate in the vacuum chamber;
An upper transfer unit configured to transfer thrust to an upper portion of the carrier in a non-contact state with an upper end of the carrier;
A relative flow permitting unit coupled to the lower end of the carrier so as to be movable relative to the carrier; And
And a plurality of guide units in contact with the relative allowable unit to guide movement of the carrier. 제1항에 있어서,
상기 상대유동허용유닛은,
상기 캐리어에 대하여 상대 회전가능하게 결합되는 회전체인 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The method of claim 1,
The relative flow allowable unit,
Substrate transfer apparatus, characterized in that the rotating body coupled to the carrier relative to the carrier. 제2항에 있어서,
상기 회전체는,
상기 캐리어의 하단부에 결합되는 캐리어 지지축;
상기 캐리어 지지축을 내부에 수용하며, 외면이 상기 가이드 유닛과 접촉되는 회전관; 및
내륜이 상기 캐리어 지지축과 결합되고, 외륜이 상기 회전관과 결합되는 베어링을 포함하는 기판 이송장치.The method of claim 2,
The rotating body includes:
A carrier support shaft coupled to a lower end of the carrier;
A rotary tube accommodating the carrier support shaft therein and having an outer surface in contact with the guide unit; And
And an inner ring coupled to the carrier support shaft, and an outer ring coupled to the rotary tube. 제3항에 있어서,
상기 가이드 유닛은 중앙으로 갈수록 직경이 작아지는 곡률의 안내면을 갖는 가이드 롤러이며,
상기 회전관의 곡률은 상기 가이드 롤러의 안내면의 곡률보다 작은 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The method of claim 3,
The guide unit is a guide roller having a guide surface of curvature that decreases in diameter toward the center,
The curvature of the rotary tube is smaller than the curvature of the guide surface of the guide roller substrate transfer apparatus. 제1항에 있어서,
상기 가이드 유닛은,
중앙으로 갈수록 직경이 작아지는 곡률의 안내면을 갖는 가이드 롤러인 것을 특징으로 하는 기판 이송장치. The method of claim 1,
The guide unit includes:
A substrate transfer apparatus, comprising: a guide roller having a guide surface of curvature that decreases in diameter toward the center. 제1항에 있어서,
상기 상부이송유닛은,
상기 캐리어의 상단부에 마련되는 상부영구자석; 및
상기 상부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 내부에 마련되는 상부전자석을 포함하는 기판 이송장치.The method of claim 1,
The upper transfer unit,
An upper permanent magnet provided at an upper end of the carrier; And
And an upper electromagnet provided in the vacuum chamber adjacent to the upper permanent magnet. 제1항에 있어서,
상기 상부이송유닛은,
상기 캐리어의 상단부에 마련되는 상부영구자석; 및
상기 상부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 외부에 마련되는 상부전자석을 포함하는 기판 이송장치.The method of claim 1,
The upper transfer unit,
An upper permanent magnet provided at an upper end of the carrier; And
And an upper electromagnet provided outside the vacuum chamber adjacent to the upper permanent magnet. 제7항에 있어서,
상기 캐리어의 상단부에 인접하는 상기 진공챔버의 외벽에는 외면으로부터 함몰형성된 설치홈이 마련되며,
상기 상부전자석은 상기 설치홈에 삽입설치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The method of claim 7, wherein
The outer wall of the vacuum chamber adjacent to the upper end of the carrier is provided with an installation groove recessed from the outer surface,
The upper electromagnet is a substrate transfer device, characterized in that inserted into the installation groove. 제8항에 있어서,
상기 상부전자석은 상기 설치홈에 착탈가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.9. The method of claim 8,
And the upper electromagnet is detachably installed in the installation groove. 제1항에 있어서,
상기 상대유동허용유닛과 비접촉된 상태에서 상기 캐리어의 하부에 추력을 전달하는 하부이송유닛을 더 포함하는 기판 이송장치.The method of claim 1,
And a lower transfer unit configured to transfer thrust to a lower portion of the carrier in a non-contact state with the relative flow allowable unit. 제10항에 있어서,
상기 하부이송유닛은,
상기 상대유동허용유닛에 마련되는 하부영구자석; 및
상기 하부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 내부에 마련되는 하부전자석을 포함하는 기판 이송장치.The method of claim 10,
The lower transfer unit,
A lower permanent magnet provided in the relative flow permitting unit; And
And a lower electromagnet provided in the vacuum chamber adjacent to the lower permanent magnet. 제10항에 있어서,
상기 하부이송유닛은,
상기 상대유동허용유닛에 마련되는 하부영구자석; 및
상기 하부영구자석에 인접하게 상기 진공챔버의 외부에 마련되는 하부전자석을 포함하는 기판 이송장치.The method of claim 10,
The lower transfer unit,
A lower permanent magnet provided in the relative flow permitting unit; And
And a lower electromagnet provided outside the vacuum chamber adjacent to the lower permanent magnet. 제12항에 있어서,
상기 진공챔버의 외벽은 상기 가이드 유닛 사이에서 상측으로 돌출된 돌출부를 형성하되, 상기 진공챔버의 돌출부에는 외면으로부터 함몰형성된 설치홈이 마련되며,
상기 하부전자석은 상기 설치홈에 삽입설치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The method of claim 12,
The outer wall of the vacuum chamber forms a protrusion projecting upwardly between the guide units, the protrusion of the vacuum chamber is provided with an installation groove recessed from the outer surface,
And the lower electromagnet is inserted into and installed in the installation groove. 제13항에 있어서,
상기 하부전자석은 상기 설치홈에 착탈가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송장치.The method of claim 13,
And the lower electromagnet is detachably installed in the installation groove.
KR1020110065153A 2011-06-30 2011-06-30 Apparatus for transferring substrates KR101310762B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110065153A KR101310762B1 (en) 2011-06-30 2011-06-30 Apparatus for transferring substrates
TW101122964A TWI476139B (en) 2011-06-30 2012-06-27 Apparatus for transferring substrates
CN201210224161.XA CN102849462B (en) 2011-06-30 2012-06-29 Device used for conveying substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110065153A KR101310762B1 (en) 2011-06-30 2011-06-30 Apparatus for transferring substrates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130004946A true KR20130004946A (en) 2013-01-15
KR101310762B1 KR101310762B1 (en) 2013-09-25

Family

ID=47836372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110065153A KR101310762B1 (en) 2011-06-30 2011-06-30 Apparatus for transferring substrates

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101310762B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101499526B1 (en) * 2013-06-14 2015-03-09 엘아이지에이디피 주식회사 Transferring Guide And Evaporating Apparatus Using The Same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0621194A (en) * 1992-07-01 1994-01-28 Ulvac Japan Ltd Board attaching/detaching apparatus
KR20080046761A (en) * 2006-11-23 2008-05-28 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for transferring substrate and apparatus for manufacturing thin film having the same
KR101288599B1 (en) * 2007-05-29 2013-07-22 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus for transferring substrates
KR100880877B1 (en) * 2007-11-02 2009-01-30 한국기계연구원 Maglev-type substrate transfer apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101499526B1 (en) * 2013-06-14 2015-03-09 엘아이지에이디피 주식회사 Transferring Guide And Evaporating Apparatus Using The Same

Also Published As

Publication number Publication date
KR101310762B1 (en) 2013-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101288599B1 (en) Apparatus for transferring substrates
TWI476139B (en) Apparatus for transferring substrates
KR20160063969A (en) Apparatus for transferring substrate
KR20170110065A (en) Apparatus for transferring substrate
KR101310762B1 (en) Apparatus for transferring substrates
JP2016103633A (en) Substrate transfer apparatus
KR100821964B1 (en) Apparatus for carrying a substrate
KR20110063016A (en) Substrate Transfer Device
KR20080103753A (en) Apparatus for transferring substrates
CN107667421B (en) Substrate processing apparatus disposed in a process chamber and method of operating the same
JP2016211030A (en) Vacuum treatment apparatus
KR20110058012A (en) Conveying shaft device
KR100904451B1 (en) Conveyor apparatus and conveyor method
JP2007307533A (en) Washing device
JPH10244201A (en) Base plate treatment apparatus
KR102085715B1 (en) Substrate inversion device
WO2019052248A1 (en) Substrate transfer apparatus
KR101708710B1 (en) Apparatus for transferring substrate
KR20180118593A (en) Apparatus for routing a carrier in a processing system, a system for processing a substrate on a carrier, and a method for routing a carrier in a vacuum chamber
KR20110004709A (en) A mother glass transfer stage equipment
KR101870162B1 (en) Apparatus for transporting a substrate and appratus for depositing thin film using the same
CN115398029B (en) Sputtering apparatus
KR20090125935A (en) Apparatus for transferring a glass and apparatus for processing a glass including the same
KR20100086412A (en) Transferring apparatus
KR100846121B1 (en) Substrate transfer apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160816

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180814

Year of fee payment: 6