KR20120135788A - Large area imprinting apparatus with uniform pressing structure - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A large-area imprinting apparatus having a uniform pressing structure is provided to install an ultraviolet light source in a space between meshes of one side of a chamber so that ultraviolet lights can be reached a shadow region. CONSTITUTION: A large-area imprinting apparatus having a uniform pressing structure comprises chambers(100,110,120), an ultraviolet ray transmitting plate(230), a substrate(20), a stamp(10), an elastic plate(220), and a gas supplying unit(240). The chamber provides an internal space(212) and one side of the chamber is formed into a mesh form. The ultraviolet ray transmitting plate is arranged in an inner surface of one side of the chamber. The substrate is arranged in the ultraviolet ray transmitting plate. Patterns placed on the substrate are carved on the stamp. The elastic plate is arranged on the stamp. The elastic plate is pressed by providing a gas in the inside of the chamber so that the patterns on the stamp are imprinted on the substrate.

Description

균일 가압구조를 가진 대면적 임프린팅 장치{LARGE AREA IMPRINTING APPARATUS WITH UNIFORM PRESSING STRUCTURE}LARGE AREA IMPRINTING APPARATUS WITH UNIFORM PRESSING STRUCTURE}

본 발명은 균일 가압 구조를 가진 대면적 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 자외선 투과판의 손상 없이 대면적의 스탬프 또는 기판에 균일하게 압력을 가할 수 있는 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a large area imprinting apparatus having a uniform pressurized structure and an imprinting method using the same. More particularly, the present invention relates to an imprinting apparatus and an imprinting method using the same, capable of uniformly applying pressure to a large area stamp or substrate without damaging the ultraviolet ray transmitting plate.

나노 크기의 패턴을 형성하기 위한 기술은 흔히 나노 기술이라고 일컬어진다. 나노 기술은 나노 크기의 소재, 구조, 기구, 기계, 소자 등을 생산하고 활용하는 기술이다. 나노 기술은 정보 기술과 생명공학 기술을 실현시키는 기초 기반 기술로서 대부분의 생산, 가공, 응용기술은 나노 기술과 밀접한 관계를 가지고 있다.The technique for forming nanoscale patterns is often referred to as nanotechnology. Nanotechnology is a technology that produces and utilizes nanoscale materials, structures, instruments, machines, and devices. Nanotechnology is a foundational technology that realizes information technology and biotechnology. Most of the production, processing and application technologies are closely related to nanotechnology.

위와 같은 의미를 가지는 나노 기술에 있어서 핵심적인 기술은 나노 크기의 소재, 소자 등을 생산하고 활용할 수 있도록 하는 나노 공정 기술이다. 나노 공정 기술은 반도체 소자 고정에서의 평면 기술과 같은 탑 다운 방식과, 원자와 분자들의 자기 조립 기술을 이용하여 나노 소재 및 소자를 제조하는 바텀 업(bottom up) 방식으로 나뉘어진다. 바텀 업 방식은 현재 단계에서 기술적인 한계로 인하여 사용되지 못하고 있으나, 탑 타운 방식은 현재 단계에서 상업적으로 실용화되고 있다.The core technology in nano technology with the above meaning is nano process technology that enables the production and utilization of nano sized materials, devices, and the like. Nano process technology is divided into top down method such as planar technology in semiconductor device fixing and bottom up method for manufacturing nanomaterials and devices using self-assembly technology of atoms and molecules. The bottom up method is not used at present stage due to technical limitations, but the top town method is commercially available at this stage.

나노 공정 기술은 나노 크기의 초극 미세 패턴을 형성하는 리소그래피(lithography) 기술이 그 핵심 기술에 해당된다. 현재에는 미세 패턴을 형성하기 위한 리소그래피 기술로서 광학적 리소그래피 기술이 주로 사용된다. 그러나, 광학적 리소그래피 기술은, 100㎚ 크기 이상의 마이크론 크기의 미세 패턴 형성에는 탁월하게 적용될 수 있으나, 그 이하의 크기를 갖는 초극 미세 패턴 형성에는 한계가 있다.Nano process technology is the core technology of lithography technology that forms nano-sized ultra-fine patterns. Currently, optical lithography is mainly used as a lithography technique for forming fine patterns. However, the optical lithography technique can be excellently applied to the formation of micron-sized patterns having a size of 100 nm or more, but there is a limit to the formation of ultra-fine micro-patterns having a size of less than that.

따라서, 광학적 리소그래피 기술을 대신하여 나노 패턴을 형성할 수 있는 새로운 방식의 리소그래피 기술이 요구되고 있다. 이와 같은 새로운 방식의 리소그래피 기술로서 엑스선(x-ray) 리소그래피 기술, 전자빔(e-beam) 리소그래피 기술, 프락시멀(proximal) 리소그래피 기술, 나노 임프린팅(nano imprinting) 리소그래피 기술 등이 광학적 리소그래피 기술의 대안으로 제시되었다.Thus, there is a need for a new type of lithography technique that can form nanopatterns in place of optical lithography techniques. X-ray lithography, e-beam lithography, proximal lithography, and nano imprinting lithography are alternatives to optical lithography. Was presented.

엑스선 리소그래피 기술은 20㎚ 이하의 나노 패턴을 형성할 수 있으나, 사용되는 광학 시스템의 제작이 어렵고 높은 비용이 요구되므로 현실적으로 상용화가 가능하지 않은 문제점이 있다.X-ray lithography technology can form a nano-pattern of 20nm or less, but it is difficult to manufacture the optical system to be used and the high cost is required, there is a problem that is not commercially practical.

전자빔 리소그래피 기술은 저비용으로 나노 패턴을 형성할 수 있으나 공정 수율이 낮은 문제점이 있다.Electron beam lithography techniques can form nanopatterns at low cost, but have a low process yield.

프락시멀 리소그래피 기술은 원자 또는 분자의 크기에 해당되는 수 나노미터 크기의 나노 패턴을 형성할 수 있으나, 대표적인 바텀 업 방식의 기술로서, 상술한 바와 같이, 현실적으로 사용 가능성이 낮은 문제점이 있다.The proximal lithography technique may form nano-patterns having a size of several nanometers corresponding to the size of atoms or molecules, but as a representative bottom-up technique, as described above, there is a problem in that practical use is low.

그에 반해, 나노 임프린팅 리소그래피(nano imprinting lithography) 기술은 나노 패턴(nano pattern)을 용이하게 형성할 수 있고, 대량 생산이 가능하여 공정 수율이 높은 장점이 있다. 이와 같은 나노 임프린팅 리소그래피 기술은 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위해서도 사용될 수 있다. 즉, 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위해 광학적 리소그래피 기술을 대신하여 임프린팅 리소그래피 기술이 사용될 수도 있다.On the other hand, nano imprinting lithography technology can easily form nano-patterns and can be mass-produced to have high process yields. Such nanoimprinting lithography techniques can also be used to form micrometer-sized patterns. That is, imprint lithography techniques may be used in place of optical lithography techniques to form micrometer-sized patterns.

나노미터 또는 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위한 종래의 나노 임프린팅 리소그래피 과정에 대해 간략히 설명하면, 먼저 임프린트 공정 공간에 유입되는 소정의 가스에 의해 탄성체판이 가압됨으로써, 탄성체판이 스탬프 및 기판에 압력을 가하여 소정의 패턴을 기판 상의 고분자층에 전사할 수 있다. 또한, 임프린트 공정 과정에서 자외선이 기판에 조사되어 기판의 고분자층을 경화시킬 수 있다. Brief description of a conventional nanoimprinting lithography process for forming a pattern of nanometer or micrometer size, first, the elastic plate is pressed by a predetermined gas flowing into the imprint process space, so that the elastic plate pressurizes the stamp and the substrate. The predetermined pattern can be transferred to the polymer layer on the substrate. In addition, ultraviolet rays may be irradiated onto the substrate during the imprint process to cure the polymer layer of the substrate.

그러나, 이러한 종래의 나노 임프린팅 리소그래피 장치는 주로 웨이퍼(wafer) 기반의 원형 형태의 기판을 사용하기 위한 것으로 기판 크기에 제한이 있었다. 따라서 종래의 나노 임프린팅 리소그래피 기술은 반복적 작업에 의해 대면적 패턴 제작 비용이 많이 소요되거나, 반복적인 임프린트 공정에 의하더라도 균일한 패턴을 전사할 수 없는 문제점이 있었다.However, such a conventional nanoimprinting lithography apparatus is mainly intended to use a wafer-based circular substrate, which has a limited substrate size. Therefore, the conventional nanoimprinting lithography technology has a problem in that a large area pattern manufacturing cost is required by repetitive work or a uniform pattern cannot be transferred even by a repetitive imprint process.

대면적의 기판에 나노 임프린팅 리소그래피 기술을 사용하기 위해서는 대면적에 균일한 압력을 가하는 임프린팅 장치가 필요한데, 이 경우 자외선 광원에서 조사되는 자외선을 투과할 수 있으며, 기판을 지지하는 역할을 하는 자외선 투과판이 압력을 견디지 못하는 문제점이 있었다. 이러한 문제점은 스탬프의 패턴이 기판에 정확하게 임프린팅 되지 못하게 하는 원인이 되어, 대면적의 기판에 나노 임프린팅 리소그래피 기술을 적용하는데 걸림돌이 되었다.In order to use nanoimprinting lithography technology on a large-area substrate, an imprinting device that applies a uniform pressure to the large-area is required. In this case, it is able to transmit ultraviolet rays irradiated from an ultraviolet light source and support ultraviolet rays. There was a problem that the permeable plate can not withstand the pressure. This problem causes the pattern of the stamp to not be imprinted accurately on the substrate, which is an obstacle to applying nanoimprint lithography technology to a large area substrate.

또한, 종래의 나노 임프린팅 리소그래피 장치에 따르면, 자외선 광원에서 조사되는 자외선이 대면적의 기판에 고르게 도달하지 못하여 대면적의 기판을 사용할 경우 스탬프의 패턴이 기판에 정확하게 임프린팅 되지 못하게 되는 원인이 되었다.In addition, according to the conventional nanoimprinting lithography apparatus, ultraviolet rays irradiated from an ultraviolet light source do not evenly reach a large area substrate, which causes a pattern of a stamp not to be imprinted correctly on a large area substrate. .

이에 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 자외선 투과판의 손상 없이 대면적의 스탬프 또는 기판에 균일하게 압력을 가할 수 있는 대면적 임프린팅 장치 및 이를 이용한 대면적 임프린팅 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems of the prior art, a large-area imprinting apparatus and a large area using the same can be applied to uniform pressure on a large area stamp or substrate without damaging the UV transmission plate The purpose is to provide an imprinting method.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치는 소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버, 상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판, 상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판, 상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프, 상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판 및 상기 챔버 내에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하고, 상기 챔버의 상기 내부 공간으로 상기 가스가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a large area imprinting apparatus according to an embodiment of the present invention provides a predetermined internal space and one side of the chamber having a mesh (mesh) shape, on the inner surface of the one side of the chamber A UV transmission plate disposed, a substrate disposed on the UV transmission plate, a stamp in which a pattern disposed on the substrate is imprinted, an elastic body plate disposed on the stamp, and a gas supply unit supplying gas into the chamber; The pattern of the stamp is imprinted on the substrate by supplying the gas to the inner space of the chamber and pressurizing the elastic body plate.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치는 소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버, 상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판, 상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판, 상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프, 상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판 및 상기 탄성체판 상에 배치되는 평판을 포함하고, 상기 탄성체판이 상기 평판에 의해 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a large area imprinting apparatus according to an embodiment of the present invention provides a predetermined internal space and one side of the chamber having a mesh (mesh) shape, on the inner surface of the one side of the chamber An ultraviolet transmitting plate disposed on the substrate, a substrate disposed on the ultraviolet transmitting plate, a stamp in which the pattern disposed on the substrate is stamped, an elastic plate disposed on the stamp, and a flat plate disposed on the elastic plate; The elastic plate is pressed by the flat plate, characterized in that the pattern of the stamp is imprinted on the substrate.

상기 내부 공간은 상기 탄성체판에 의해 서로 차단된 제1 내부 공간 및 제2 내부 공간으로 분할되고, 제1 내부 공간에서는 상기 가스가 유입되어 상기 탄성체판을 가압하고, 제2 내부 공간에서는 상기 탄성체판을 가압하는 동안 진공 상태가 유지될 수 있다.The inner space is divided into a first inner space and a second inner space which are separated from each other by the elastic plate, and the gas flows in the first inner space to press the elastic plate, and in the second inner space, the elastic plate The vacuum state can be maintained while pressurizing.

상기 챔버의 외측에 상기 자외선 투과판과 대향하여 배치되는 자외선 광원을 더 포함할 수 있다.The outer side of the chamber may further include an ultraviolet light source disposed to face the ultraviolet transmission plate.

상기 챔버의 상기 일면의 메쉬 사이의 공간에 상기 자외선 투과판과 대향하여 배치되는 자외선 광원을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include an ultraviolet light source disposed to face the ultraviolet transmission plate in a space between the meshes of the one surface of the chamber.

상기 자외선 광원의 후방에 배치되는 반사판을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a reflector disposed behind the ultraviolet light source.

상기 자외선 투과판은 복수개의 단위 자외선 투과판으로 구성될 수 있다.The ultraviolet transmission plate may be composed of a plurality of unit ultraviolet transmission plate.

상기 자외선 투과판의 재질은 석영을 포함할 수 있다.The material of the ultraviolet transmitting plate may include quartz.

상기 탄성체판의 재질은 실리콘을 포함할 수 있다.The material of the elastic plate may include silicon.

상기 챔버의 상기 일면의 내측면과 상기 자외선 투과판 사이에 배치되는 개스킷(gasket)을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a gasket disposed between an inner side surface of the one surface of the chamber and the ultraviolet ray transmitting plate.

상기 내부 공간으로 가스가 공급되어 탄성체판이 가압되는 과정은 전체 탄성체판에 균일한 압력을 가할 수 있다.The process of pressurizing the elastic plate by supplying gas into the internal space may apply uniform pressure to the entire elastic plate.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 임프린팅 방법은 소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버, 상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판, 상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판, 상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프, 상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판 및 상기 챔버 내에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하는 대면적 임프린팅 장치를 이용하되, 상기 챔버의 상기 내부 공간으로 상기 가스가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a large area imprinting method according to an embodiment of the present invention provides a predetermined internal space and one side of the chamber having a mesh (mesh), on the inner surface of the one side of the chamber A UV transmissive plate disposed on the substrate, a substrate disposed on the UV transmissive plate, a stamp on which the pattern disposed on the substrate is imprinted, an elastic plate disposed on the stamp, and a gas supply unit supplying gas into the chamber. By using an area imprinting device, the pattern of the stamp is imprinted on the substrate by supplying the gas to the inner space of the chamber to pressurize the elastic body plate.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 대면적 임프린팅 방법은 소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버, 상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판, 상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판, 상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프, 상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판 및 상기 탄성체판 상에 배치되는 평판을 포함하는 대면적 임프린팅 장치를 이용하되, 상기 탄성체판이 상기 평판에 의해 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a large area imprinting method according to an embodiment of the present invention provides a predetermined internal space and one side of the chamber having a mesh (mesh), on the inner surface of the one side of the chamber A large area comprising an ultraviolet transmissive plate disposed on the substrate, a substrate disposed on the ultraviolet transmissive plate, a stamp with a pattern disposed on the substrate, an elastic plate disposed on the stamp, and a flat plate disposed on the elastic plate Using an imprinting device, the pattern of the stamp is imprinted on the substrate by pressing the elastic plate by the flat plate.

본 발명에 의하면, 챔버의 일면을 메쉬 형태로 구성함으로써 자외선 투과판의 손상 없이 대면적의 스탬프 또는 기판에 균일하게 압력을 가할 수 있는 대면적 임프린팅 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a large-area imprinting apparatus capable of uniformly applying pressure to a large-area stamp or substrate without damaging the ultraviolet transmission plate by configuring one surface of the chamber in a mesh form.

또한, 본 발명에 의하면, 상술된 임프린팅 장치를 이용하여 임프린팅 공정을 수행함으로써, 스탬프의 패턴을 기판에 효과적으로 임프린팅 시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, by performing the imprinting process using the above-described imprinting apparatus, it is possible to effectively imprint the pattern of the stamp on the substrate.

또한, 본 발명에 의하면, 챔버 일면의 메쉬 사이의 공간에 자외선 광원을 설치함으로써, 챔버 일면의 메쉬 형태에 의해 기판에 생성되는 음영 부분에도 자외선을 도달시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, by providing an ultraviolet light source in the space between the mesh on one side of the chamber, the ultraviolet ray can also reach the shaded portion generated in the substrate by the mesh form on one side of the chamber.

또한, 본 발명에 의하면, 자외선 투과판을 복수개의 단위 자외선 투과판으로 구성함으로써 자외선 투과판의 손상을 방지할 수 있고, 제조상의 한계를 극복할 수 있다.In addition, according to the present invention, by damaging the ultraviolet transmitting plate by configuring the ultraviolet transmitting plate with a plurality of unit ultraviolet transmitting plates, it is possible to overcome manufacturing limitations.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제4 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
1 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a second embodiment of the present invention.
3 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a third embodiment of the present invention.
4 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views, and length and area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

이하에서 설명되는 대면적 임프린팅 장치는 스탬프(10)에 형성된 패턴을 기판(20)에 임프린팅 하기 위한 압력을 스탬프(10) 또는 기판(20)에 제공하는 장치이다.The large-area imprinting apparatus described below is a device for providing the stamp 10 or the substrate 20 with a pressure for imprinting the pattern formed on the stamp 10 onto the substrate 20.

본 발명에서, 스탬프(10)는 소정의 패턴을 가지도록 구성되어 상기 패턴을 기판(20)에 임프린팅 하는데 사용될 수 있다. 이러한 스탬프(10)는 실리콘, 유리, 금속 등을 이용하여 제조될 수 있으나, 바람직하게는 PDMS, h-PDMS, PVC등의 고분자를 이용하여 제조될 수 있다.In the present invention, the stamp 10 may be configured to have a predetermined pattern and may be used to imprint the pattern on the substrate 20. The stamp 10 may be manufactured using silicon, glass, metal, etc., but preferably, may be manufactured using a polymer such as PDMS, h-PDMS, PVC, and the like.

또한, 본 발명에서 기판(20)은 임프린팅 공정이 요구되는 판형 부재이다. 이러한 기판(20)으로는 실리콘 기판을 일반적으로 의미할 수 있겠으나, 경우에 따라서는 갈륨 비소 기판, 석영 기판, 알루미나 기판 등을 의미할 수도 있다. 또한, 본 발명의 기판(20)은 실리콘 기판과 같이 반도체 공정 전반에서 일반적으로 사용되는 기판 상에 고분자층(미도시됨)과 같은 일정한 층이 형성된 것을 포함할 수 있다. 특히, 본 발명의 기판(20)은 LCD 제조에 사용되는 기판 등과 같이 대면적의 기판을 포함할 수 있다.In addition, in the present invention, the substrate 20 is a plate-shaped member that requires an imprinting process. The substrate 20 may generally mean a silicon substrate, but in some cases, may also mean a gallium arsenide substrate, a quartz substrate, an alumina substrate, or the like. In addition, the substrate 20 of the present invention may include a predetermined layer such as a polymer layer (not shown) formed on a substrate generally used in a semiconductor process, such as a silicon substrate. In particular, the substrate 20 of the present invention may include a large area substrate, such as a substrate used in LCD manufacturing.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.1 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치는 임프린팅 공정 공간을 제공하는 챔버(100: 110, 120), 챔버의 내부 공간(211, 212) 및 자외선 광원(300)을 포함하여 구성됨을 알 수 있다.Referring to FIG. 1, a large area imprinting apparatus according to a first exemplary embodiment of the present invention may include chambers 100 and 110 and 120 that provide an imprinting process space, internal spaces 211 and 212 of the chamber, and an ultraviolet light source. It can be seen that comprises a 300).

먼저, 챔버는 스탬프(10)에 형성된 패턴을 기판(20)에 임프린팅 하기 위한 공정 공간을 제공한다. 챔버(100: 110, 120)의 내부 공간(211, 212)은 스탬프(10), 기판(20), 탄성체판(220)을 포함할 수 있고, 가스 공급부(240) 및 진공펌프(250)가 연결될 수 있다. 챔버의 재질은 내부에 유입되는 가스의 압력을 견딜 수 있어 안정되게 나노 임프린트 리소그래피 공정 공간을 제공할 수 있으면 한정되지 않는다.First, the chamber provides a process space for imprinting a pattern formed on the stamp 10 on the substrate 20. The internal spaces 211 and 212 of the chambers 100 and 110 may include a stamp 10, a substrate 20, and an elastic plate 220, and the gas supply unit 240 and the vacuum pump 250 may be provided. Can be connected. The material of the chamber is not limited as long as it can withstand the pressure of the gas introduced therein and can stably provide a nanoimprint lithography process space.

챔버(100)는 제1 내부 공간(211)에 대응하는 상부 챔버(110)와 제2 내부 공간에 대응하는 하부 챔버(120)로 구성될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 챔버(100)의 일면, 보다 상세하게는 후술할 자외선 투과판(230)을 지지하는 하부 챔버(120)의 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가질 수 있다. 챔버(100)의 일면이 메쉬 형태를 가지는 경우의 효과에 대해서는 이하에서 상술하기로 한다.The chamber 100 may include an upper chamber 110 corresponding to the first internal space 211 and a lower chamber 120 corresponding to the second internal space. As shown in FIG. 1, one surface of the chamber 100, more specifically, one surface of the lower chamber 120 supporting the ultraviolet ray transmitting plate 230 to be described later may have a mesh shape. An effect when one surface of the chamber 100 has a mesh shape will be described in detail below.

챔버(100)의 내부 공간은 제1 내부 공간(211)과 제2 내부 공간(212)으로 탄성체판(220)에 의해 분할될 수 있다. 제1 내부 공간(211)은 가스 공급부(240)에 의해 가스가 유입되면 탄성체판(220)을 가압하여 스탬프(10) 및 기판(20)에 압력을 가할 수 있으며, 공급된 가스가 외부로 빠져나가지 못하도록 밀폐되어 있을 수 있다. 제2 내부 공간(212)은 스탬프(10), 기판(20) 및 자외선 투과판(230)이 위치하는 공간으로, 탄성체판(220)이 가압됨에 따라 스탬프(10)의 패턴을 기판(20)에 전사하는 임프린트 리소그래피 공정이 수행될 수 있다.The inner space of the chamber 100 may be divided by the elastic plate 220 into the first inner space 211 and the second inner space 212. When the gas is introduced by the gas supply unit 240, the first internal space 211 may pressurize the elastic body plate 220 to apply pressure to the stamp 10 and the substrate 20, and the supplied gas may be discharged to the outside. It may be sealed to prevent exit. The second internal space 212 is a space in which the stamp 10, the substrate 20, and the ultraviolet ray transmitting plate 230 are positioned. As the elastic plate 220 is pressed, the pattern of the stamp 10 is applied to the substrate 20. An imprint lithography process that transfers to can be performed.

탄성체판(220)은 챔버(100)의 내부 공간에 포함되어 스탬프(10)와 기판(20)이 압착되도록 하는 역할을 수행할 수 있다. 보다 구체적으로, 탄성체판(220)은 외부로부터 공급된 가스에 의하여 가압되어 탄성적으로 변형될 수 있으며, 이러한 탄성적인 변형에 의하여 스탬프(10)와 기판(20)은 압착될 수 있다. 이러한 탄성체판(110)은 폴리디메틸 실록세인(polydimethylsiloxane) 또는 실리콘 고무와 같은 탄성력 있는 고분자 물질로 구성될 수 있다.The elastic body plate 220 may be included in the internal space of the chamber 100 to serve to compress the stamp 10 and the substrate 20. More specifically, the elastic body plate 220 may be elastically deformed by being pressed by a gas supplied from the outside, and the stamp 10 and the substrate 20 may be compressed by such elastic deformation. The elastic plate 110 may be made of an elastic polymer material such as polydimethylsiloxane (polydimethylsiloxane) or silicone rubber.

자외선 투과판(230)은 기판(20)을 지지하며, 후술할 자외선 광원(300)에서 조사된 자외선이 기판(20)에 용이하게 도달될 수 있도록 자외선을 투과시킬 수 있도록 구성될 수 있다. 이를 테면, 자외선 투과판(230)을 석영과 같이 자외선 또는 적외선에 대하여 투명한 재질로서 선택하여 구성할 수 있다. 자외선 투과판(230)은 메쉬(230) 형태의 하부 챔버(230)에 의해 지지될 수 있다.The ultraviolet transmission plate 230 supports the substrate 20 and may be configured to transmit ultraviolet rays so that ultraviolet rays emitted from the ultraviolet light source 300 to be described later can easily reach the substrate 20. For example, the ultraviolet transmission plate 230 may be selected and configured as a material transparent to ultraviolet or infrared rays, such as quartz. The ultraviolet transmission plate 230 may be supported by the lower chamber 230 in the form of a mesh 230.

한편, 하부 챔버(120)와 자외선 투과판(230)의 사이에는 개스킷(gasket, 260)이 더 설치될 수 있다. 개스킷(260)은 외부의 충격으로부터 자외선 투과판(230)을 보호하는 기능과, 하부 챔버(120)의 진공 유지 성능을 향상시키는 기능을 수행할 수 있다.Meanwhile, a gasket 260 may be further installed between the lower chamber 120 and the ultraviolet ray transmitting plate 230. The gasket 260 may perform a function of protecting the ultraviolet ray transmitting plate 230 from an external shock and improving a vacuum holding performance of the lower chamber 120.

제1 내부 공간(211) 의 일측에는 상부 챔버(110)를 관통하는 가스 공급부(240)가 설치될 수 있다. 가스 공급부(240)는 외부에 존재하는 가스를 제1 내부 공간(211)에 공급하는 기능을 수행할 수 있다. 이렇게 제1 내부 공간(211)으로 공급된 가스에 의하여 탄성체판(220)이 가압될 수 있음은 앞서 설명한 바와 같다. 또한, 가스 공급부(240)는 밸브(미도시됨)를 포함할 수 있다. 이러한 밸브를 이용하여 작업자는 자동적으로 또는 수동적으로 제1 내부 공간(211)으로 공급되는 가스의 투입량 또는 압력 등을 제어할 수 있을 것이다.A gas supply unit 240 penetrating the upper chamber 110 may be installed at one side of the first internal space 211. The gas supply unit 240 may perform a function of supplying a gas existing outside to the first internal space 211. As described above, the elastic body plate 220 may be pressurized by the gas supplied to the first internal space 211. In addition, the gas supply unit 240 may include a valve (not shown). By using such a valve, the operator may automatically or manually control the input amount or pressure of the gas supplied to the first internal space 211.

제2 내부 공간(212)의 일측에는 진공 펌프(250)가 설치될 수 있다. 진공 펌프(250)를 이용하여 제2 공간(212)을 진공 상태로 조성하는 경우 임프린팅 공정은 더욱 원활하게 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로, 진공 펌프(250)를 이용하여 제2 내부 공간(212)을 진공 상태로 조성하는 경우, 제1 내부 공간(211)과 제2 내부 공간(212)의 압력 차이가 커지기 때문에 제1 공간(211)으로 적은 가스를 공급하는 경우라도 높은 압력을 얻을 수 있게 된다. 진공 펌프(250)가 설치되는 위치는 특별하게 한정되지 아니하나 바람직하게는 하부 챔버(120)를 관통하여 설치될 수 있다.The vacuum pump 250 may be installed at one side of the second internal space 212. When the second space 212 is formed in the vacuum state using the vacuum pump 250, the imprinting process may be more smoothly performed. More specifically, when the second internal space 212 is formed in the vacuum state by using the vacuum pump 250, the pressure difference between the first internal space 211 and the second internal space 212 is increased, so that the first internal space is increased. Even when a small amount of gas is supplied to the space 211, a high pressure can be obtained. The position where the vacuum pump 250 is installed is not particularly limited but may be preferably installed through the lower chamber 120.

도 1을 더 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치는 자외선 광원(300)을 포함하여 구성될 수 있다. 자외선 광원(300)은 기판(20)에 자외선을 조사하여, 기판(20)상의 고분자층을 경화시키는 기능을 수행할 수 있다. 자외선 광원(300)으로는 자외선 또는 적외선을 조사하기 위한 공지의 광 램프가 제한 없이 이용될 수 있다. 자외선 광원(300)은 챔버(100)의 하부에 설치되어, 메쉬 형태의 일면을 갖는 하부 챔버(120)에 자외선을 조사함으로써 자외선이 자외선 투과판(230)을 투과하여 기판(20)에 전달될 수 있게 한다.Referring to FIG. 1, the large area imprinting apparatus according to the first exemplary embodiment of the present invention may include an ultraviolet light source 300. The ultraviolet light source 300 may perform ultraviolet ray irradiation on the substrate 20 to cure the polymer layer on the substrate 20. As the ultraviolet light source 300, a known light lamp for irradiating ultraviolet rays or infrared rays may be used without limitation. The ultraviolet light source 300 is installed at the lower portion of the chamber 100, and the ultraviolet light is transmitted to the substrate 20 by transmitting ultraviolet rays to the lower chamber 120 having one surface of a mesh shape. To be able.

이에 대해서 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail as follows.

종래의 임프린팅 장치는 자외선 광원으로부터 조사되는 자외선을 기판에 전달하기 위해 자외선 투과판을 지지하는 챔버의 하부가 일부 개방된 형태를 취하고 있었다. 또한, 일반적인 자외선 투과판은 석영과 같이 광원을 투과시킬 수 있는 투명체의 재질을 사용하므로 내구성이 약하였다. 따라서, 대면적의 기판에 패턴을 임프린트하기 위한 임프린팅 장치에서 나노 임프린팅 리소그래피 기술을 사용하는 경우, 기존의 광학적 리소그래피 기술과는 달리 패턴의 입력을 위해 직접 압력을 가해야 하므로 자외선 투과판이 압력에 견디지 못하고 손상되는 문제가 있었다.The conventional imprinting apparatus has a form in which the lower part of the chamber supporting the ultraviolet transmitting plate is partially opened in order to transmit ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet light source to the substrate. In addition, the general ultraviolet light transmitting plate is weak in durability because it uses a material of a transparent material that can transmit a light source, such as quartz. Therefore, when the nanoimprinting lithography technique is used in an imprinting apparatus for imprinting a pattern on a large-area substrate, unlike the conventional optical lithography technique, the ultraviolet transmission plate must be directly pressurized for the input of the pattern. There was a problem of being unbearable and damaged.

그러나, 본 발명에 따르면, 종래의 임프린팅 장치에서는 자외선 투과판(230)의 하부에 위치하는 챔버(100) 일면, 즉 하부 챔버(120)를 도 1에 도시된 바와 같이 메쉬 형태로 구성하여 상술한 문제점을 해결할 수 있다. 이러한 경우, 메쉬 형태의 하부 챔버는 자외선 광원(300)에서 조사되는 자외선을 대면적의 기판(20)에 전달하면서도, 자외선 투과판(230)을 안정적으로 지지할 수 있어 자외선 투과판(230)에 챔버(100) 내부의 압력을 균일하게 분산시켜 자외선 투과판(230)이 손상되는 문제점을 해결할 수 있다.However, according to the present invention, in the conventional imprinting apparatus, one surface of the chamber 100, that is, the lower chamber 120, positioned below the ultraviolet ray transmitting plate 230, is configured in the form of a mesh as illustrated in FIG. 1. One problem can be solved. In this case, the lower chamber in the form of a mesh may transmit the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet light source 300 to the substrate 20 having a large area, and stably support the ultraviolet transmitting plate 230 to the ultraviolet transmitting plate 230. By uniformly dispersing the pressure in the chamber 100 can be solved the problem that the ultraviolet transmission plate 230 is damaged.

다시, 도 1을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치는 반사판(310)을 포함하여 구성될 수 있다. 반사판(310)은 자외선 광원(300)에서 나오는 자외선을 반사시켜 자외선의 조사량을 조절하는 역할을 할 수 있다. 반사판(310)의 재질은 반사율이 높은 금속, 백색의 수지(예를 들면 액정폴리머계의 수지), 광 산란체(이산화티탄이나 실리카등)를 분산시켜서 광 반 사율을 올린 수지, 표면에 금속을 피막한 수지 등이 사용가능하며, 반사율이 높은 물질이라면 특별히 제한되지 않는다.Referring back to FIG. 1, the large area imprinting apparatus according to the first embodiment of the present invention may include a reflecting plate 310. The reflector 310 may serve to adjust the irradiation amount of ultraviolet rays by reflecting the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet light source 300. The reflective plate 310 is made of a metal having high reflectance, a resin having a high reflectance by dispersing a white resin (for example, a liquid crystal polymer resin), and a light scattering agent (titanium dioxide or silica). A coated resin or the like can be used, and any material having a high reflectance is not particularly limited.

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.2 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2 실시예는 본 발명의 제1 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제1 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The second embodiment of the present invention is a modification of the first embodiment of the present invention will be omitted for the same or corresponding configuration as the first embodiment of the present invention and will be described only for the configuration added or modified Shall be.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치에서 자외선 광원(300)이 하부 챔버(120)의 메쉬 사이의 공간에 자외선 투과판(230)과 대향하여 배치되는 모습을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 2, in the large area imprinting apparatus according to the second embodiment of the present invention, the ultraviolet light source 300 is disposed to face the ultraviolet transmission plate 230 in the space between the meshes of the lower chamber 120. can confirm.

본 발명의 제1 실시예와 같이 자외선 투과판(300)이 챔버(100)의 외부에 설치되는 경우, 하부 챔버(120)의 메쉬 형태 지지체에 의해 광원이 통과하지 못하여 자외선 투과판(230) 및 기판(20)에 음영 부분(shadow region)이 생기는 문제점이 있을 수 있다. 그러나, 도 2와 같이 여러 개의 자외선 램프를 사용하여 메쉬 사이의 공간에 자외선 광원(300)을 삽입하는 경우, 빛의 산란 효과에 의해 음영 부분에도 자외선이 도달하는 효과를 얻을 수 있다.When the ultraviolet light transmitting plate 300 is installed outside the chamber 100 as in the first embodiment of the present invention, the light source does not pass through the mesh-shaped support of the lower chamber 120 so that the ultraviolet light transmitting plate 230 and There may be a problem that a shadow region occurs in the substrate 20. However, when the ultraviolet light source 300 is inserted into the space between the meshes using a plurality of ultraviolet lamps as shown in FIG. 2, the ultraviolet rays reach the shaded portion by the light scattering effect.

또한, 도 2를 참조하면, 자외선 광원(300)은 후방에 반사판(310)을 포함할 수 있다. 반사판(310)의 구조 설계에 따라 음영 부분에 조사되는 자외선의 조사량을 조절할 수 있게 되어 자외선 투과판(230) 및 기판(20)의 전면적에 균일할 자외선을 조사할 수 있다.In addition, referring to FIG. 2, the ultraviolet light source 300 may include a reflector 310 at the rear. According to the structural design of the reflector 310, the irradiation amount of ultraviolet rays irradiated to the shaded portion may be adjusted, thereby irradiating UV rays uniform to the entire area of the ultraviolet transmission plate 230 and the substrate 20.

도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.3 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a third embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시예는 본 발명의 제2 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제2 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The third embodiment of the present invention is a modification of the second embodiment of the present invention will be omitted for the same or corresponding configuration as the second embodiment of the present invention and will be described only for the configuration added or modified. Shall be.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 대면적 임프린팅 장치를 구현하기 위해서는 자외선 투과판(230)도 대면적의 형태를 가져야 한다. 이 경우, 자외선 투과판(230)의 제조상의 한계로 인한 크기의 제약이 있을 수 있으므로 복수개의 단위 자외선 투과판으로 자외선 투과판(230)을 구성할 수 있다. 복수개의 단위 자외선 투과판(230)이 구비되는 경우 대면적의 자외선 투과판(230)에서 국소 부위에 압력이 집중되는 것을 방지할 수 있어 자외선 투과판(230)의 손상을 방지하는 효과도 있다.Referring to FIG. 3, in order to implement a large area imprinting apparatus according to the present invention, the ultraviolet light transmitting plate 230 should also have a large area shape. In this case, since there may be a limitation of the size due to the manufacturing limitation of the ultraviolet transmission plate 230, the ultraviolet transmission plate 230 may be composed of a plurality of unit ultraviolet transmission plate. When a plurality of unit UV transmitting plate 230 is provided, it is possible to prevent the concentration of pressure in the local area in the large UV transmitting plate 230, thereby preventing damage to the ultraviolet transmitting plate 230.

도 4은 본 발명의 제4 실시예에 따른 대면적 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.4 is a view showing the configuration of a large-area imprinting apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

본 발명의 제4 실시예는 본 발명의 제3 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제3 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The fourth embodiment of the present invention is a modification to the third embodiment of the present invention will be omitted for the same or corresponding configuration as the third embodiment of the present invention will be described only for the configuration added or modified Shall be.

도 4를 참조하면, 대면적의 평판(270)이 탄성체판 상에 위치하고 있음을 알 수 있다. 평판(270)은 상하운동이 가능하게 설치될 수 있고, 가스 공급 대신 평판(270)의 하강운동에 의해 탄성체판(220)이 가압됨으로써 스탬프(10)의 패턴이 기판(20)에 임프린트 될 수 있다. 이 경우, 챔버(100) 내부에 가스가 공급되어 가압하는 경우보다 스탬프(10)에 균일한 압력이 전달되지 못할 수 있으므로, 균일하게 대면적의 스탬프(10) 및 기판(20)을 가압하기 위하여 탄성체판(220)의 두께는 가능한 두껍게 하는 것이 바람직하다. 평판(270)이 상하운동을 할 수 있도록, 평판(270)에 결합된 에어 실린더(280)가 설치될 수 있다. 평판(270)의 재질은 금속 또는 중합체일 수 있으며, 대면적의 탄성체판(220)을 안정적으로 가압할 수 있으면 특별히 제한되지 않는다.Referring to Figure 4, it can be seen that the large-area flat plate 270 is located on the elastic plate. The plate 270 may be installed to enable vertical movement, and the pattern of the stamp 10 may be imprinted onto the substrate 20 by pressing the elastic plate 220 by the downward movement of the plate 270 instead of the gas supply. have. In this case, since a uniform pressure may not be transmitted to the stamp 10 than when the gas is supplied and pressurized inside the chamber 100, in order to uniformly press the stamp 10 and the substrate 20 having a large area. The thickness of the elastic plate 220 is preferably as thick as possible. An air cylinder 280 coupled to the flat plate 270 may be installed to allow the flat plate 270 to move up and down. The material of the flat plate 270 may be a metal or a polymer, and is not particularly limited as long as it can stably press the elastic plate 220 having a large area.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. Variations and changes are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

10: 스탬프
20: 기판
100: 챔버
110: 상부 챔버
120: 하부 챔버
211: 제1 내부 공간
212: 제2 내부 공간
220: 탄성체판
230: 자외선 투과판
240: 가스 공급부
250: 진공 펌프
260: 개스킷
270: 평판
280: 에어 실린더
300: 자외선 광원
310: 반사판
10: stamp
20: substrate
100: chamber
110: upper chamber
120: lower chamber
211: first interior space
212: second interior space
220: elastic body plate
230: UV transmission plate
240: gas supply unit
250: vacuum pump
260: gasket
270: reputation
280: air cylinder
300: ultraviolet light source
310: reflector

Claims (24)

소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버;
상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판;
상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판;
상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프;
상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판; 및
상기 챔버 내에 가스를 공급하는 가스 공급부
를 포함하고,
상기 챔버의 상기 내부 공간으로 상기 가스가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
A chamber providing a predetermined internal space and having a mesh shape on one surface thereof;
An ultraviolet transmitting plate disposed on an inner side of the one side of the chamber;
A substrate disposed on the ultraviolet transmission plate;
A stamp with a pattern disposed on the substrate;
An elastic plate disposed on the stamp; And
Gas supply unit for supplying gas into the chamber
Including,
And the pattern of the stamp is imprinted on the substrate by supplying the gas to the inner space of the chamber to pressurize the elastic body plate.
소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버;
상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판;
상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판;
상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프;
상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판; 및
상기 탄성체판 상에 배치되는 평판;
을 포함하고,
상기 탄성체판이 상기 평판에 의해 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
A chamber providing a predetermined internal space and having a mesh shape on one surface thereof;
An ultraviolet transmitting plate disposed on an inner side of the one side of the chamber;
A substrate disposed on the ultraviolet transmission plate;
A stamp with a pattern disposed on the substrate;
An elastic plate disposed on the stamp; And
A flat plate disposed on the elastic plate;
Including,
And the pattern of the stamp is imprinted on the substrate by the elastic plate being pressed by the flat plate.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 내부 공간은 상기 탄성체판에 의해 서로 차단된 제1 내부 공간 및 제2 내부 공간으로 분할되고,
제1 내부 공간에서는 상기 가스가 유입되어 상기 탄성체판을 가압하고,
제2 내부 공간에서는 상기 탄성체판을 가압하는 동안 진공 상태가 유지되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The inner space is divided into a first inner space and a second inner space blocked by each other by the elastic plate,
In the first internal space the gas is introduced to press the elastic plate,
The large area imprinting apparatus of claim 2, wherein a vacuum state is maintained while pressing the elastic body plate in the second internal space.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 챔버의 외측에 상기 자외선 투과판과 대향하여 배치되는 자외선 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The large-area imprinting apparatus, further comprising an ultraviolet light source disposed opposite the ultraviolet transmission plate on the outside of the chamber.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 챔버의 상기 일면의 메쉬 사이의 공간에 상기 자외선 투과판과 대향하여 배치되는 자외선 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And a UV light source disposed in a space between the meshes of the one surface of the chamber to face the ultraviolet transmission plate.
제4항에 있어서,
상기 자외선 광원의 후방에 배치되는 반사판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
5. The method of claim 4,
A large area imprinting apparatus, further comprising a reflector disposed behind the ultraviolet light source.
제5항에 있어서,
상기 자외선 광원의 후방에 배치되는 반사판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method of claim 5,
A large area imprinting apparatus, further comprising a reflector disposed behind the ultraviolet light source.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 자외선 투과판은 복수개의 단위 자외선 투과판으로 구성되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The ultraviolet transmissive plate is a large area imprinting apparatus, characterized in that composed of a plurality of unit ultraviolet transmissive plate.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 자외선 투과판의 재질은 석영을 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The large-area imprinting device, characterized in that the material for the ultraviolet transmission plate comprises quartz.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 탄성체판의 재질은 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Large-area imprinting apparatus, characterized in that the material of the elastic plate comprises silicon.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 챔버의 상기 일면의 내측면과 상기 자외선 투과판 사이에 배치되는 개스킷(gasket)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And a gasket disposed between an inner side surface of the one surface of the chamber and the ultraviolet ray transmitting plate.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 내부 공간으로 가스가 공급되어 탄성체판이 가압되는 과정은 전체 탄성체판에 균일한 압력을 가하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 장치.
The method according to claim 1 or 2,
The process of pressurizing the elastic plate by supplying gas into the inner space is characterized in that to apply a uniform pressure to the entire elastic plate.
소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버, 상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판, 상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판, 상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프, 상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판 및 상기 챔버 내에 가스를 공급하는 가스 공급부를 포함하는 대면적 임프린팅 장치를 이용하되, 상기 챔버의 상기 내부 공간으로 상기 가스가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.A chamber having a predetermined internal space and having one surface formed of a mesh, an ultraviolet transmitting plate disposed on an inner side of the one surface of the chamber, a substrate disposed on the ultraviolet transmitting plate, and disposed on the substrate Using a large-area imprinting apparatus including a stamp stamped in the pattern, an elastic plate disposed on the stamp and a gas supply unit for supplying gas into the chamber, wherein the gas is supplied to the inner space of the chamber and the elastic body And the pattern of the stamp is imprinted on the substrate by pressing a plate. 소정의 내부 공간을 제공하고 일면은 메쉬(mesh) 형태를 가지는 챔버, 상기 챔버의 상기 일면의 내측면 상에 배치되는 자외선 투과판, 상기 자외선 투과판 상에 배치되는 기판, 상기 기판 상에 배치되는 패턴이 각인된 스탬프, 상기 스탬프 상에 배치되는 탄성체판 및 상기 탄성체판 상에 배치되는 평판을 포함하는 대면적 임프린팅 장치를 이용하되, 상기 탄성체판이 상기 평판에 의해 가압됨으로써 상기 기판 상에 상기 스탬프의 상기 패턴이 임프린팅 되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.A chamber having a predetermined internal space and having one surface formed of a mesh, an ultraviolet transmitting plate disposed on an inner side of the one surface of the chamber, a substrate disposed on the ultraviolet transmitting plate, and disposed on the substrate A large-area imprinting apparatus including a stamp having a pattern imprinted therein, an elastic plate disposed on the stamp, and a flat plate disposed on the elastic plate, wherein the elastic plate is pressed by the flat plate so that the stamp is placed on the substrate. Large area imprinting method, characterized in that the pattern of imprinting. 제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 내부 공간은 상기 탄성체판에 의해 서로 차단된 제1 내부 공간 및 제2 내부 공간으로 분할되고,
제1 내부 공간에서는 상기 가스가 유입되어 상기 탄성체판을 가압하고,
제2 내부 공간에서는 상기 탄성체판을 가압하는 동안 진공 상태가 유지되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The inner space is divided into a first inner space and a second inner space blocked by each other by the elastic plate,
In the first internal space the gas is introduced to press the elastic plate,
A large area imprinting method according to claim 2, wherein a vacuum state is maintained while pressing the elastic body plate in the second internal space.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 챔버의 외측에 상기 자외선 투과판과 대향하여 배치되는 자외선 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The large-area imprinting method of claim 1, further comprising an ultraviolet light source disposed opposite the ultraviolet transmission plate on the outside of the chamber.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 챔버의 상기 일면의 메쉬 사이의 공간에 상기 자외선 투과판과 대향하여 배치되는 자외선 광원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
And an ultraviolet light source disposed in the space between the meshes of the one surface of the chamber to face the ultraviolet transmission plate.
제16항에 있어서,
상기 자외선 광원의 후방에 배치되는 반사판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
17. The method of claim 16,
A large area imprinting method further comprising a reflector disposed behind the ultraviolet light source.
제17항에 있어서,
상기 자외선 광원의 후방에 배치되는 반사판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
18. The method of claim 17,
A large area imprinting method further comprising a reflector disposed behind the ultraviolet light source.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 자외선 투과판은 복수개의 단위 자외선 투과판으로 구성되는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The ultraviolet transmission plate is a large area imprinting method, characterized in that composed of a plurality of unit ultraviolet transmission plate.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 자외선 투과판의 재질은 석영을 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The large-area imprinting method, characterized in that the material of the ultraviolet transmission plate comprises quartz.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 탄성체판의 재질은 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
Large-area imprinting method, characterized in that the material of the elastic plate comprises silicon.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 챔버의 상기 일면의 내측면과 상기 자외선 투과판 사이에 배치되는 개스킷(gasket)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
And a gasket disposed between the inner surface of the one surface of the chamber and the ultraviolet light transmitting plate.
제13항 또는 제14항에 있어서,
상기 내부 공간으로 가스가 공급되어 탄성체판이 가압되는 과정은 전체 탄성체판에 균일한 압력을 가하는 것을 특징으로 하는 임프린팅 방법.
The method according to claim 13 or 14,
The process of pressurizing the elastic plate by supplying gas into the internal space is characterized in that to apply a uniform pressure to the entire elastic plate.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113031391A (en) * 2021-03-05 2021-06-25 中国科学院光电技术研究所 Simple ultraviolet nano-imprint lithography device
CN114789598A (en) * 2022-04-02 2022-07-26 丹阳市业成塑料制品有限公司 Thermoprinting process applied to automobile plastic lamp

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109407464A (en) * 2018-11-23 2019-03-01 京东方科技集团股份有限公司 A kind of nano-imprint stamp and preparation method thereof and ultraviolet nanometer method for stamping
CN109739067A (en) * 2019-03-25 2019-05-10 京东方科技集团股份有限公司 A kind of metallic mold for nano-imprint and preparation method thereof and nano-imprinting method
KR102535126B1 (en) * 2020-10-15 2023-05-22 (주)휴넷플러스 Planirization method for semiconduct integrated device using fluids pressure
KR20240024639A (en) 2022-08-17 2024-02-26 고려대학교 산학협력단 Imprinting apparatus having muiti-chamber

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100913497B1 (en) * 2007-12-27 2009-08-25 한국산업기술대학교산학협력단 Apparatus and method for imprinting
KR101025316B1 (en) 2010-05-27 2011-03-31 국민대학교산학협력단 Imprint device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113031391A (en) * 2021-03-05 2021-06-25 中国科学院光电技术研究所 Simple ultraviolet nano-imprint lithography device
CN113031391B (en) * 2021-03-05 2023-06-30 中国科学院光电技术研究所 Simple ultraviolet nanoimprint lithography device
CN114789598A (en) * 2022-04-02 2022-07-26 丹阳市业成塑料制品有限公司 Thermoprinting process applied to automobile plastic lamp
CN114789598B (en) * 2022-04-02 2023-12-19 丹阳市业成塑料制品有限公司 Thermoprinting process applied to automobile plastic lamp

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