KR101071308B1 - A pressurizing device for imprinting, imprinting appartus including the same and imprinting method utilizing the same - Google Patents

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Abstract

임프린팅용 가압 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)는 탄성체판(110) 및 밀폐된 내부 공간(120)을 포함하고, 내부 공간(120)으로 유체가 공급되어 탄성체판(110)이 가압됨으로써 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)에 임프린팅 되며, 내부 공간(120)은 서로 차단된 복수개의 단위 공간(122)으로 분할되고, 유체를 공급하기 위한 유체 공급부(140)가 단위 공간(120) 각각에 설치되는 것을 특징으로 한다.Disclosed is a pressing device for imprinting. Imprinting pressurization device 100 according to an embodiment of the present invention includes an elastic plate 110 and the sealed inner space 120, the fluid is supplied to the inner space 120 is the elastic plate 110 The pattern of the stamp 50 is imprinted on the substrate 40 by being pressed, and the internal space 120 is divided into a plurality of unit spaces 122 blocked from each other, and the fluid supply unit 140 for supplying the fluid is unit It is characterized in that it is installed in each of the spaces 120.

Description

임프린팅용 가압 장치, 이를 포함하는 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법{A PRESSURIZING DEVICE FOR IMPRINTING, IMPRINTING APPARTUS INCLUDING THE SAME AND IMPRINTING METHOD UTILIZING THE SAME}PRESSURIZING DEVICE FOR IMPRINTING, IMPRINTING APPARTUS INCLUDING THE SAME AND IMPRINTING METHOD UTILIZING THE SAME}

본 발명은 임프린팅용 가압 장치, 이를 포함하는 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 스탬프 또는 기판에 균일하게 압력을 가할 수 있는 임프린팅용 가압 장치, 이를 포함하는 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a pressing device for imprinting, an imprinting device including the same, and an imprinting method using the same. More specifically, the present invention relates to an imprinting pressurizing apparatus capable of uniformly applying pressure to a stamp or a substrate, an imprinting apparatus including the same, and an imprinting method using the same.

나노 크기의 패턴을 형성하기 위한 기술은 흔히 나노 기술이라고 일컬어진다. 나노 기술은 나노 크기의 소재, 구조, 기구, 기계, 소자 등을 생산하고 활용하는 기술이다. 나노 기술은 정보 기술과 생명공학 기술을 실현시키는 기초 기반 기술로서 대부분의 생산, 가공, 응용기술은 나노 기술과 밀접한 관계를 가지고 있다.The technique for forming nanoscale patterns is often referred to as nanotechnology. Nanotechnology is a technology that produces and utilizes nanoscale materials, structures, instruments, machines, and devices. Nanotechnology is a foundational technology that realizes information technology and biotechnology. Most of the production, processing and application technologies are closely related to nanotechnology.

위와 같은 의미를 가지는 나노 기술에 있어서 핵심적인 기술은 나노 크기의 소재, 소자 등을 생산하고 활용할 수 있도록 하는 나노 공정 기술이다. 나노 공정 기술은 반도체 소자 고정에서의 평면 기술과 같은 탑 다운 방식과, 원자와 분자들의 자기 조립 기술을 이용하여 나노 소재 및 소자를 제조하는 바텀 업(bottom up) 방식으로 나뉘어진다. 바텀 업 방식은 현재 단계에서 기술적인 한계로 인하여 사용되지 못하고 있으나, 탑 타운 방식은 현재 단계에서 상업적으로 실용화되고 있다.The core technology in nano technology with the above meaning is nano process technology that enables the production and utilization of nano sized materials, devices, and the like. Nano process technology is divided into top down method such as planar technology in semiconductor device fixing and bottom up method for manufacturing nanomaterials and devices using self-assembly technology of atoms and molecules. The bottom up method is not used at present stage due to technical limitations, but the top town method is commercially available at this stage.

나노 공정 기술은 나노 크기의 초극 미세 패턴을 형성하는 리소그라피(lithography) 기술이 그 핵심 기술에 해당된다. 현재에는 미세 패턴을 형성하기 위한 리소그라피 기술로서 광학적 리소그라피 기술이 주로 사용된다. 그러나, 광학적 리소그라피 기술은, 100㎚ 크기 이상의 마이크론 크기의 미세 패턴 형성에는 탁월하게 적용될 수 있으나, 그 이하의 크기를 갖는 초극 미세 패턴 형성에는 한계가 있다.Nano process technology is the core technology of lithography technology to form nano-sized ultra-fine micro-patterns. Currently, optical lithography is mainly used as a lithography technique for forming fine patterns. However, the optical lithography technique can be excellently applied to the formation of micron-sized patterns having a size of 100 nm or more, but there is a limit to the formation of ultra-fine micro patterns having a size of less than that.

따라서, 광학적 리소그라피 기술을 대신하여 나노 패턴을 형성할 수 있는 새로운 방식의 리소그라피 기술이 요구되고 있다. 이와 같은 새로운 방식의 리소그라피 기술로서 엑스선(x-ray) 리소그라피 기술, 전자빔(e-beam) 리소그라피 기술, 프락시멀(proximal) 리소그라피 기술, 나노 임프린팅(nano imprinting) 리소그라피 기술 등이 광학적 리소그라피 기술의 대안으로 제시되었다.Therefore, there is a need for a new method of lithography that can form nanopatterns in place of optical lithography. X-ray lithography technology, e-beam lithography technology, proximal lithography technology, nano imprinting lithography technology, etc. are alternatives to optical lithography technology. Was presented.

엑스선 리소그라피 기술은 20㎚ 이하의 나노 패턴을 형성할 수 있으나, 사용되는 광학 시스템의 제작이 어렵고 높은 비용이 요구되므로 현실적으로 상용화가 가능하지 않은 문제점이 있다.X-ray lithography technology can form a nano-pattern of 20nm or less, but it is difficult to manufacture the optical system used and the high cost is required, there is a problem that can not be commercially practical.

전자빔 리소그라피 기술은 저비용으로 나노 패턴을 형성할 수 있으나 공정 수율이 낮은 문제점이 있다.Electron beam lithography technology can form nanopatterns at low cost but has a low process yield.

프락시멀 리소그라피 기술은 원자 또는 분자의 크기에 해당되는 수 나노미터 크기의 나노 패턴을 형성할 수 있으나, 대표적인 보텀 업 방식의 기술로서, 상술한 바와 같이, 현실적으로 사용 가능성이 낮은 문제점이 있다.The proximal lithography technology can form nano-patterns of several nanometers corresponding to the size of atoms or molecules, but as a representative bottom-up technique, as described above, there is a problem of low practical availability.

그에 반해, 나노 임프린팅 리소그라피(nano imprinting lithography) 기술은 나노 패턴(nano pattern)을 용이하게 형성할 수 있고, 대량 생산이 가능하여 공정 수율이 높은 장점이 있다. 이와 같은 나노 임프린팅 리소그라피 기술은 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위해서도 사용될 수 있다. 즉, 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위해 광학적 리소그라피 기술을 대신하여 임프린팅 리소그라피 기술이 사용될 수도 있다.On the other hand, nano imprinting lithography (nano imprinting lithography) technology can easily form a nano-pattern (nano pattern), it is possible to mass production has the advantage of high process yield. Such nanoimprinting lithography techniques can also be used to form micrometer-sized patterns. That is, imprinting lithography techniques may be used in place of optical lithography techniques to form micrometer-sized patterns.

이하에서는 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 패턴을 형성하기 위한 임프린팅 리소그라피 기술에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, an imprinting lithography technique for forming a pattern of nanometer or micrometer size will be described.

도 1은 임프린팅 리소그라피 공정이 일반적으로 진행되는 모습을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a state in which the imprinting lithography process generally proceeds.

먼저, 도 1의 (a)를 참조하면, 소정의 패턴(2)이 형성된 스탬프(1)와 기판(4)이 대응하여 위치하고 있는 모습을 확인할 수 있다. 또한, 기판(4) 상에 패턴(2)이 임프린팅 되기 위한 고분자층(3)이 형성되어 있는 모습을 확인할 수 있다. 이때에 스탬프(1)와 기판(4)을 정확하게 대응시키기 위하여 소정의(alignment) 정렬 과정이 더 수행될 수 있다.First, referring to FIG. 1A, it can be seen that the stamp 1 and the substrate 4 on which the predetermined pattern 2 is formed are located correspondingly. In addition, it can be seen that the polymer layer 3 for imprinting the pattern 2 is formed on the substrate 4. In this case, an alignment alignment process may be further performed to accurately match the stamp 1 and the substrate 4.

다음으로, 도 1의 (b)를 참조하면, 스탬프(1)가 기판(4)에 압착되고 있는 모습을 확인할 수 있다. 이렇게 스탬프(1)가 기판(4)에 압착됨에 따라 스탬프(1)의 패턴(2)이 기판(4) 상에 형성된 고분자층(3)에 임프린팅 될 수 있게 된다. 이때에 기판(4)에는 소정의 열이 인가될 수 있다.Next, referring to FIG. 1B, it can be seen that the stamp 1 is pressed onto the substrate 4. As the stamp 1 is pressed onto the substrate 4, the pattern 2 of the stamp 1 may be imprinted onto the polymer layer 3 formed on the substrate 4. At this time, a predetermined heat may be applied to the substrate 4.

다음으로, 도 1의 (c)를 참조하면, 스탬프(1)와 기판(4)이 분리된 모습을 확인할 수 있다. 또한, 기판(4) 상에 형성된 고분자층(3)에 스탬프(1)의 패턴(2)이 임프린팅 된 모습을 확인할 수 있다.Next, referring to FIG. 1C, it can be seen that the stamp 1 and the substrate 4 are separated. In addition, it can be seen that the pattern 2 of the stamp 1 is imprinted on the polymer layer 3 formed on the substrate 4.

도 2는 종래의 임프린팅 장치(60)에서 중요한 역할을 수행하는 임프린팅 기판 지지 장치(60)의 구성을 나타내는 도면이다.2 is a view showing the configuration of an imprinting substrate supporting apparatus 60 that plays an important role in the conventional imprinting apparatus 60.

도 2를 참조하면, 종래의 임프린팅 기판 지지 장치(60)는 탄성체판(5, 6)과 고정체(7, 8)를 구성될 수 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 2, it can be seen that the conventional imprinting substrate supporting apparatus 60 may include the elastic plates 5 and 6 and the fixing bodies 7 and 8.

도 2에 도시된 바와 같이, 제1 탄성체판(5) 및 제2 탄성체판(6) 사이에는 스탬프(1)와 기판(4)이 배치될 수 있다. 이때에, 제1 탄성체판(5) 및 제2 탄성체판(6)이 서로 압착됨에 따라 스탬프(1)의 패턴(2)이 기판(4)에 임프린팅 될 수 있게 된다.As shown in FIG. 2, a stamp 1 and a substrate 4 may be disposed between the first elastic body plate 5 and the second elastic body plate 6. At this time, as the first elastic plate 5 and the second elastic plate 6 are pressed together, the pattern 2 of the stamp 1 can be imprinted on the substrate 4.

한편, 고정체(7, 8)는 제1 탄성체판(5) 및 제2 탄성체판(6)을 고정시키는 역할을 수행할 수 있다.Meanwhile, the fixing bodies 7 and 8 may serve to fix the first elastic body plate 5 and the second elastic body plate 6.

도 3은 도 2의 임프린팅 기판 지지 장치(60)를 포함하는 종래의 임프린팅 장치(60)의 구성을 나타내는 도면이다.3 is a view showing the configuration of a conventional imprinting apparatus 60 including the imprinting substrate supporting apparatus 60 of FIG.

도 3을 참조하면, 도 2의 임프린팅 기판 지지 장치(60)가 챔버(9) 내에 위치되고 있음을 확인할 수 있다. 또한, 챔버(9) 내부로는 소정의 유체가 공급되고 있는 모습을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 3, it can be seen that the imprinting substrate support device 60 of FIG. 2 is located in the chamber 9. In addition, it can be confirmed that a predetermined fluid is supplied into the chamber 9.

이렇게 챔버(9) 내부로 유체가 공급됨에 따라, 유체의 압력에 의해서 제1 탄성체판(5) 및 제2 탄성체판(6)이 서로 압착되게 되며, 스탬프(1)의 패턴(2)이 기판(4)에 임프린팅 될 수 있게 된다.As the fluid is supplied into the chamber 9, the first elastic body plate 5 and the second elastic body plate 6 are compressed to each other by the pressure of the fluid, and the pattern 2 of the stamp 1 is bonded to the substrate. (4) can be imprinted.

그러나, 이러한 종래의 임프린팅 장치(60)에 따르면, 여러 가지 환경적인 요인[이를 테면, 지면과의 기울기, 온도, 습도, 유체의 밀도 등]에 의하여 챔버(9) 내부로 공급된 유체가 특정 영역에 편중되는 까닭에, 제1 탄성체판(5) 및 제2 탄성체판(6)에 가해지는 압력이 균일하지 않은 문제점이 있었다. 이러한 문제점은 스탬프(1)의 패턴(2)이 기판(4)에 정확하게 임프린팅 되지 못하게 되는 원인이 되었다.However, according to this conventional imprinting apparatus 60, the fluid supplied into the chamber 9 is determined by various environmental factors (such as the slope with respect to the ground, the temperature, the humidity, the density of the fluid, etc.). Since it is biased in the area | region, there existed a problem that the pressure applied to the 1st elastic body plate 5 and the 2nd elastic body plate 6 was not uniform. This problem caused the pattern 2 of the stamp 1 not to be imprinted correctly on the substrate 4.

또한, 종래의 임프린팅 장치(60)에 따르면, 제1 탄성체판(5)과 스탬프(1)가 접촉하는 부분 및 제2 탄성체판(6)과 기판(4)이 접촉하는 부분에 기포가 발생되는 문제점이 있었다. 이와 같은 기포의 존재 역시 스탬프의 패턴이 기판에 정확하게 임프린팅 되지 못하게 되는 원인이 되었다.In addition, according to the conventional imprinting apparatus 60, bubbles are generated in a portion where the first elastic body plate 5 and the stamp 1 contact and a portion where the second elastic body plate 6 and the substrate 4 contact. There was a problem. The presence of such bubbles also caused the stamp pattern to be imprinted on the substrate accurately.

이에 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 스탬프 또는 기판에 균일하게 압력을 가할 수 있는 임프린팅용 가압 장치, 이를 포함하는 임프린팅 장치 및 이를 이용한 임프린팅 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, an imprinting press device for applying pressure to a stamp or a substrate uniformly, an imprinting device comprising the same and an imprinting method using the same The purpose is to provide.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치는 탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하고, 상기 내부 공간으로 유체가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 스탬프의 패턴이 기판에 임프린팅 되며, 상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고, 상기 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the pressing device for imprinting according to an embodiment of the present invention includes an elastic plate and a sealed inner space, and the fluid is supplied to the inner space to press the elastic plate to press the pattern of the stamp. Imprinted on a substrate, the internal space is divided into a plurality of unit spaces are separated from each other, the fluid supply for supplying the fluid is characterized in that the installed in each of the unit spaces.

상기 유체는 가열된 상태로 상기 내부 공간에 공급될 수 있다.The fluid may be supplied to the internal space in a heated state.

상기 유체는 액체 또는 기체 중 적어도 하나일 수 있다.The fluid may be at least one of a liquid or a gas.

상기 복수개의 단위 공간은 격벽 부재에 의하여 서로 차단되며, 상기 중앙에 위치한 단위 공간을 차단하는 상기 격벽 부재의 길이가 가장 짧을 수 있다.The plurality of unit spaces may be blocked from each other by the partition member, and the length of the partition member blocking the unit space located at the center may be the shortest.

상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간에서 가장자리에 위치한 단위 공간 순으로 상기 유체가 공급되도록 동작할 수 있다.The fluid may be operated to be supplied in the order of the unit space located at the edge from the unit space located at the center of the plurality of unit space.

상기 내부 공간은 서로 차단된 제1 단위 공간 및 상기 제1 단위 공간 내부의 중앙에 배치되는 제2 단위 공간으로 분할되며, 상기 제1 단위 공간은 제1 탄성체판을 포함하고, 상기 제2 단위 공간은 제2 탄성체판을 포함하며, 상기 제2 단위 공간으로 상기 유체가 공급되면 상기 제2 탄성체판에 의하여 상기 제1 탄성체판의 중앙 부분이 압착될 수 있다.The internal space is divided into a first unit space that is blocked from each other and a second unit space disposed in the center of the first unit space, wherein the first unit space includes a first elastic body plate, and the second unit space Includes a second elastic body plate, and when the fluid is supplied to the second unit space, a central portion of the first elastic body plate may be compressed by the second elastic body plate.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅 장치는 탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하는 가압 장치; 및 적층된 소정의 패턴을 갖는 스탬프 및 기판을 지지하는 지지판을 포함하며, 상기 가압 장치 내부로 유체가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 스탬프의 상기 패턴이 상기 기판에 임프린팅 되며, 상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고, 상기 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an imprinting apparatus according to an embodiment of the present invention is a pressing device including an elastic body plate and an enclosed inner space; And a supporting plate for supporting the substrate and the stamp having a predetermined pattern stacked thereon, wherein the fluid is supplied into the pressing device to press the elastic plate to imprint the pattern of the stamp onto the substrate, and the internal space is The apparatus may be divided into a plurality of unit spaces which are blocked from each other, and a fluid supply unit for supplying the fluid is installed in each of the unit spaces.

상기 가압 장치는 상기 탄성체판의 양단에서 연장되어 상기 가압 장치의 양단으로 돌출된 연장부를 포함하고, 상기 지지판은 상기 연장부와 상기 지지판을 연결시키는 연결부를 포함하며, 상기 연결부에 의하여 상기 연장부와 상기 지지판이 연결된 상태에서 상기 연장부, 상기 탄성체판, 상기 지지판 및 상기 연결부에 의하여 생성되는 임프린팅 공간은 상기 스탬프 및 상기 기판을 수용할 수 있고 외부로부터 밀폐 가능할 수 있다.The pressurizing device includes an extension part extending from both ends of the elastic body plate and protruding from both ends of the pressurizing device, and the support plate includes a connection part connecting the extension part and the support plate, and the extension part and the extension part. The imprinting space generated by the extension part, the elastic plate, the support plate, and the connection part in the state in which the support plate is connected may accommodate the stamp and the substrate and may be sealed from the outside.

상기 임프린팅 공간을 진공 상태로 유지할 수 있는 진공 펌프를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a vacuum pump capable of maintaining the imprinting space in a vacuum state.

상기 진공 펌프는 상기 지지판을 관통하여 설치될 수 있다.The vacuum pump may be installed through the support plate.

상기 연결부에 의하여 상기 지지판과 상기 탄성체판이 연결된 상태가 유지될 수 있도록 상기 지지판 및 상기 연장부를 고정시키는 고정부를 더 포함할 수 있다.The fixing plate may further include a fixing part for fixing the supporting plate and the extension part to maintain the state in which the supporting plate and the elastic plate are connected by the connecting part.

상기 지지판은 상기 기판을 가열하는 히터를 포함할 수 있다.The support plate may include a heater for heating the substrate.

상기 기판을 향하여 자외선 또는 적외선을 조사하는 광 전달 수단을 더 포함할 수 있다.It may further include a light transmission means for irradiating ultraviolet or infrared rays toward the substrate.

상기 지지판은 자외선 또는 적외선 투과용 윈도우를 포함할 수 있다.The support plate may include a window for transmitting ultraviolet or infrared rays.

상기 스탬프의 재질은 자외선 또는 적외선에 대하여 투명할 수 있다.The material of the stamp may be transparent to ultraviolet or infrared light.

상기 지지판은 상기 기판을 냉각시키는 냉각부를 포함할 수 있다.The support plate may include a cooling unit for cooling the substrate.

상기 스탬프와 상기 기판의 위치 정렬 상태를 제어하는 위치 정렬부를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a position alignment unit which controls a position alignment state of the stamp and the substrate.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린팅 방법은 탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하며, 상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고, 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되는 임프린팅용 가압 장치를 이용하여, 상기 단위 공간 각각으로 유체를 공급하여 상기 탄성체판을 가압함으로써 스탬프의 패턴을 기판에 임프린팅 하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an imprinting method according to an embodiment of the present invention includes an elastic body plate and an enclosed inner space, the inner space is divided into a plurality of unit spaces are blocked from each other, to supply fluid By using the imprinting pressurizing device installed in each of the unit space, the fluid supply unit for supplying a fluid to each of the unit space by pressing the elastic plate characterized in that the imprint of the stamp pattern on the substrate.

본 발명에 의하면, 유체가 공급되는 내부 공간을 복수개의 단위 공간으로 분할시킴으로써 스탬프 또는 기판에 균일하게 압력을 가할 수 있는 임프린팅용 가압 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an imprinting pressurizing device capable of uniformly applying pressure to a stamp or a substrate by dividing an internal space supplied with a fluid into a plurality of unit spaces.

또한, 본 발명에 의하면, 임프린팅 장치에 상술된 임프린팅용 가압 장치를 채용함으로써, 스탬프의 패턴을 기판에 효과적으로 임프린팅 시킬 수 있는 임프린팅 장치를 제공할 수 있다.Moreover, according to this invention, the imprinting apparatus which can effectively imprint the pattern of a stamp on a board | substrate can be provided by employ | adopting the imprinting pressurization apparatus mentioned above in an imprinting apparatus.

또한, 본 발명에 의하면, 상술된 임프린팅용 가압 장치를 이용하여 임프린팅 공정을 수행함으로써, 스탬프의 패턴을 기판에 효과적으로 임프린팅 시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, by performing the imprinting process using the above-described imprinting pressurizing apparatus, it is possible to effectively imprint the pattern of the stamp on the substrate.

또한, 본 발명에 의하면, 중앙에 위치한 단위 공간에서 가장자리에 위치한 단위 공간 순으로 유체가 공급되도록 함으로써, 탄성체판과 기판이 기포 없이 완전하게 압착될 수 있다.In addition, according to the present invention, the fluid is supplied in the order of the unit space located at the edge from the unit space located at the center, the elastic body plate and the substrate can be completely compressed without bubbles.

도 1은 임프린팅 리소그라피 공정이 일반적으로 진행되는 모습을 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 임프린팅 장치에서 중요한 역할을 수행하는 임프린팅 기판 지지 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 도 2의 임프린팅 기판 지지 장치를 포함하는 종래의 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 5은 도 4의 임프린팅용 가압 장치를 상부에서 바라본 모습을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 하나의 내부 공간이 복수개의 단위 공간으로 분할되는 다양한 형태를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치의 동작하는 모습을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 1실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치가 일정한 순서에 의거하여 동작하는 과정을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치의 모습을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치를 이용하여 탄성체판을 가압하는 모습을 순차적으로 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치의 모습을 나타내는 도면이다.
도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치가 일정한 순서에 의거하여 동작하는 과정을 나타내는 도면이다.
도 13은 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 14는 지지판 상에 형성된 연결부의 모습을 나타내는 도면이다.
도 15는 본 발명의 제1 실시예에 따른 고정부의 구성을 나타내는 도면이다.
도 16은 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅 장치의 동작 과정을 나타내는 도면이다.
도 17은 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 18은 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
1 is a view showing a state in which the imprinting lithography process generally proceeds.
2 is a view showing the configuration of an imprinting substrate supporting apparatus that plays an important role in a conventional imprinting apparatus.
3 is a view showing the configuration of a conventional imprinting apparatus including the imprinting substrate supporting apparatus of FIG. 2.
4 is a view showing the configuration of an imprinting pressurization device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view schematically showing a state of the imprinting pressurization device of FIG. 4 viewed from above. FIG.
6 is a diagram illustrating various forms in which one internal space is divided into a plurality of unit spaces.
7 is a view showing the operation of the imprinting pressing device according to the first embodiment of the present invention.
8 is a view schematically showing a process in which the pressing device for imprinting according to the first embodiment of the present invention operates in a predetermined order.
9 is a view schematically showing the appearance of the imprinting pressurization device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a view sequentially showing a state in which the elastic plate is pressed using an imprinting press device according to a second embodiment of the present invention.
11 is a view showing a state of the imprinting pressing device according to a third embodiment of the present invention.
12 is a view showing a process for operating the imprinting pressurization device according to a third embodiment of the present invention in a certain order.
13 is a view showing the configuration of an imprinting apparatus according to a first embodiment of the present invention.
14 is a view showing a state of the connecting portion formed on the support plate.
15 is a view showing the configuration of the fixing part according to the first embodiment of the present invention.
16 is a view showing an operation process of the imprinting apparatus according to the first embodiment of the present invention.
17 is a view showing the configuration of an imprinting apparatus according to a second embodiment of the present invention.
18 is a view showing the configuration of an imprinting apparatus according to a third embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is defined only by the appended claims, along with the full range of equivalents to which such claims are entitled. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several aspects, and length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

임프린팅용For imprinting 가압 장치 Pressurization

이하에서 설명되는 임프린팅용 가압 장치(100, 200)는 스탬프(50)에 형성된 패턴을 기판(40)에 임프린팅 하기 위한 압력을 스탬프(50) 또는 기판(40)에 제공하는 장치이다.The imprinting pressurization apparatus 100 or 200 described below is a device for providing the stamp 50 or the substrate 40 with a pressure for imprinting the pattern formed on the stamp 50 on the substrate 40.

본 발명의 스탬프(50)는 소정의 패턴을 가지도록 구성되어 상기 패턴을 기판(40)에 임프린팅 하는데 사용되는 스탬프(50)를 의미할 수 있다. 이러한 스탬프(50)는 실리콘, 유리, 금속 등을 이용하여 제조될 수 있으나, 바람직하게는 PDMS, h-PDMS, PVC등의 고분자를 이용하여 제조될 수 있다.The stamp 50 of the present invention may mean a stamp 50 that is configured to have a predetermined pattern and is used to imprint the pattern onto the substrate 40. The stamp 50 may be manufactured using silicon, glass, metal, etc., but preferably, may be manufactured using a polymer such as PDMS, h-PDMS, PVC, or the like.

또한, 본 발명의 기판(40)은 임프린팅 공정이 요구되는 기판을 의미할 수 있다. 이러한 기판(40)으로는 실리콘 기판을 일반적으로 의미할 수 있겠으나, 경우에 따라서는 갈륨 비소 기판, 석영 기판, 알루미나 기판 등을 의미할 수도 있다. 또한, 본 발명의 기판(40)은 실리콘 기판과 같이 반도체 공정 전반에서 일반적으로 사용되는 기판 상에 고분자층(미도시됨)과 같은 일정한 층이 형성된 것을 포함하여 의미할 수 있다.In addition, the substrate 40 of the present invention may mean a substrate that requires an imprinting process. The substrate 40 may generally mean a silicon substrate, but in some cases, may also mean a gallium arsenide substrate, a quartz substrate, an alumina substrate, or the like. In addition, the substrate 40 of the present invention may mean that a certain layer such as a polymer layer (not shown) is formed on a substrate generally used in a semiconductor process such as a silicon substrate.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)의 구성을 나타내는 도면이다.4 is a view showing the configuration of the imprinting pressing device 100 according to the first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)는 탄성체판(110) 및 내부 공간(120)을 포함하여 구성됨을 알 수 있다.Referring to FIG. 4, it can be seen that the imprinting pressing device 100 according to the first embodiment of the present invention includes an elastic plate 110 and an inner space 120.

먼저, 탄성체판(110)은 임프린팅용 가압 장치(100)의 내벽 일부로서 구성되어 스탬프(50)와 기판(40)이 압착되도록 하는 역할을 수행할 수 있다. 보다 구체적으로, 탄성체판(110)은 외부로부터 공급된 유체에 의하여 가압되어 탄성적으로 변형될 수 있으며, 이러한 탄성적인 변형에 의하여 스탬프(50)와 기판(40)은 압착될 수 있다. 이러한 탄성체판(110)은 폴리디메틸 실록세인(polydimethylsiloxane) 또는 실리콘 고무와 같은 탄성력 있는 고분자 물질로 구성될 수 있다.First, the elastic plate 110 may be configured as a portion of the inner wall of the imprinting pressing device 100 may serve to compress the stamp 50 and the substrate 40. More specifically, the elastic plate 110 may be elastically deformed by being pressurized by a fluid supplied from the outside, and the stamp 50 and the substrate 40 may be compressed by such elastic deformation. The elastic plate 110 may be made of an elastic polymer material such as polydimethylsiloxane (polydimethylsiloxane) or silicone rubber.

도 4에 도시된 바와 같이, 탄성체판(110)의 양단에는 연장부(130)가 연결되어 있을 수 있다. 이러한 연장부(130)는 탄성체판(110)의 양단에서 연장되면서 임프린팅용 가압 장치(100)의 양단으로 돌출되게 형성될 수 있다. 연장부(130)의 구성에 관해서는 이후에 더 후술하도록 하겠다.As shown in FIG. 4, the extension 130 may be connected to both ends of the elastic body 110. The extension 130 may extend from both ends of the elastic body plate 110 to protrude to both ends of the imprinting pressing device 100. The configuration of the extension 130 will be described later.

다음으로, 내부 공간(120)은 외부로부터 유체가 공급될 수 있는 공간으로서의 역할을 수행할 수 있다. 공급된 유체가 외부로 빠져나가지 못하도록 내부 공간(120)은 밀폐되어 있을 수 있다. 밀폐된 내부 공간(120)으로 유체가 계속적으로 공급됨에 따라 유체에 의하여 탄성체판(110)은 가압될 수 있게 된다. 탄성체판(110)이 가압되면서 탄성체판(110)이 변형되게 되고 스탬프(50)의 패턴은 기판(40)에 임프린팅 될 수 있게 된다. 내부 공간(120)으로 유체가 공급되어 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)에 임프린팅 되는 과정에 대해서는 이후에 도 7을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Next, the internal space 120 may serve as a space in which fluid may be supplied from the outside. The internal space 120 may be sealed so that the supplied fluid does not escape to the outside. As the fluid is continuously supplied to the sealed inner space 120, the elastic plate 110 may be pressurized by the fluid. As the elastic plate 110 is pressed, the elastic plate 110 is deformed, and the pattern of the stamp 50 can be imprinted onto the substrate 40. A process in which the fluid is supplied to the internal space 120 and the pattern of the stamp 50 is imprinted on the substrate 40 will be described in detail later with reference to FIG. 7.

도 4를 참조하면, 내부 공간(120)이 서로 차단된 복수개의 단위 공간(122)으로 분할되어 있는 모습을 확인할 수 있다. 여기서 단위 공간(122)은 탄성체판(110)의 국부적인 위치를 가압하기 위한 밀폐된 하나의 독립적인 공간으로 정의될 수 있다. 다시 말하여, 밀폐된 단위 공간(122)으로 공급된 유체에 의하여 탄성체판(110)의 국부적인 위치는 가압될 수 있다.Referring to FIG. 4, it can be seen that the internal space 120 is divided into a plurality of unit spaces 122 that are blocked from each other. Here, the unit space 122 may be defined as one closed independent space for pressing the local position of the elastic plate 110. In other words, the local position of the elastic plate 110 may be pressed by the fluid supplied to the enclosed unit space 122.

도 5은 도 4의 임프린팅용 가압 장치(100)를 상부에서 바라본 모습을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 5를 참조하면, 원판 형태를 가지는 내부 공간(120)이 크기가 서로 다른 동심원 형태의 세 개의 단위 공간(122)으로 분할되는 모습을 확인할 수 있다.5 is a view schematically showing a state of the imprinting pressurization device 100 of FIG. 4 as viewed from the top. Referring to FIG. 5, it can be seen that the internal space 120 having a disc shape is divided into three unit spaces 122 having concentric circles having different sizes.

하나의 내부 공간(120)이 복수개의 단위 공간(122)으로 분할되는 형태는 다양할 수 있다. 도 6은 하나의 내부 공간(120a, 120b, 120c)이 복수개의 단위 공간(122a, 122b, 122c)으로 분할되는 다양한 형태를 개략적으로 나타내는 도면이다.The shape in which one internal space 120 is divided into a plurality of unit spaces 122 may vary. FIG. 6 is a diagram schematically illustrating various forms in which one internal space 120a, 120b, 120c is divided into a plurality of unit spaces 122a, 122b, 122c.

먼저, 도 6의 (a)에서는 원판 형태를 가지는 내부 공간(120a)이 중앙에 위치한 단위 공간(122a) 및 상기 단위 공간(122a)을 둘러싸는 네 개의 단위 공간(122a)으로 분할되는 모습을 나타내고 있다.First, in FIG. 6A, an inner space 120a having a disc shape is divided into a unit space 122a positioned at the center and four unit spaces 122a surrounding the unit space 122a. have.

다음으로, 도 6의 (b)에서는 사각형의 내부 공간(120b)이 복수개의 동심 사각형 형태의 단위 공간(122b)으로 분할되는 모습을 나타내고 있다.Next, in FIG. 6B, the quadrangular internal space 120b is divided into a plurality of concentric rectangular unit spaces 122b.

다음으로, 도 6의 (c)에서는 사각형의 내부 공간(120c)이 네 개의 동일한 형태의 사각형 형태의 단위 공간(122c)으로 분할되면서 상기 네 개의 단위 공간(122c)이 일렬로 배열된 형태로 분할되는 모습을 나타내고 있다.Next, in FIG. 6C, the quadrangular internal space 120c is divided into four identical rectangular shape unit spaces 122c and the four unit spaces 122c are arranged in a line. It shows the appearance.

물론, 내부 공간(120)이 복수개의 단위 공간(122)으로 분할되는 형태는 도 5 및 도 6에 도시된 바에 한정되지 아니하며 본 발명이 이용되는 목적에 따라 다양하게 변경될 수 있다.Of course, the form in which the internal space 120 is divided into a plurality of unit spaces 122 is not limited to those illustrated in FIGS. 5 and 6 and may be variously changed according to the purpose of the present invention.

한편, 도 4 및 도 5를 참조하면, 격벽 부재(150)가 복수개의 단위 공간(122)을 구분하는 기준이 되고 있음을 알 수 있는데, 이와 같은 격벽 부재(150)에 대해서는 이후에 더 후술하도록 하겠다.Meanwhile, referring to FIGS. 4 and 5, it can be seen that the partition member 150 serves as a criterion for dividing the plurality of unit spaces 122. Such a partition member 150 will be described later in detail. would.

다음으로, 도 4를 다시 참조하면, 복수개의 단위 공간(122) 각각에 유체 공급부(140)가 설치되어 있음을 알 수 있다. 이러한 유체 공급부(140)는 외부에 존재하는 유체를 단위 공간(122)에 공급하는 기능을 수행할 수 있다. 이렇게 단위 공간(122)으로 공급된 유체에 의하여 탄성체판(110)의 국부적인 위치가 가압될 수 있음은 앞서 설명한 바와 같다.Next, referring back to FIG. 4, it can be seen that the fluid supply unit 140 is installed in each of the plurality of unit spaces 122. The fluid supply unit 140 may perform a function of supplying a fluid existing outside to the unit space 122. As described above, the local position of the elastic plate 110 may be pressed by the fluid supplied to the unit space 122.

도 4에 도시된 바와 같이 유체 공급부(140) 상에는 밸브(142)가 설치될 수 있다. 이러한 밸브(142)를 이용하여 작업자는 자동적으로 또는 수동적으로 단위 공간(122)으로 공급되는 유체의 유량 또는 압력 등을 제어할 수 있을 것이다.As shown in FIG. 4, a valve 142 may be installed on the fluid supply unit 140. By using the valve 142, the operator may automatically or manually control the flow rate or pressure of the fluid supplied to the unit space 122.

본 발명에서는 상술한 바와 같이 유체가 공급되는 내부 공간(120)이 서로 차단된 복수개의 단위 공간(122)으로 분할되어 있고 각 단위 공간(122)에 유체 공급부(140)가 설치되어 있는 것을 중요한 구성상의 특징으로 한다.In the present invention, as described above, the internal space 120 to which the fluid is supplied is divided into a plurality of unit spaces 122 that are separated from each other, and the fluid supply unit 140 is installed in each unit space 122. Features of the jacket.

종래의 임프린팅용 가압 장치에 따르면, 지면과의 기울기, 온도, 습도, 유체의 밀도 등 여러 가지 환경 요인에 의하여 스탬프 또는 기판을 균일하게 가압할 수 없는 문제점이 있었다. 이를 테면, 여러 가지 환경 요인에 의해 임프린팅용 가압 장치 내부로 공급된 유체가 중앙 부분에 편중되는 까닭에 스탬프 또는 기판의 가장자리 보다 중앙 부분에 높은 압력이 가해지는 문제점이 있었다.According to the conventional imprinting pressurization apparatus, there is a problem in that the stamp or the substrate cannot be uniformly pressurized by various environmental factors such as inclination with the ground, temperature, humidity, and fluid density. For example, there is a problem in that a higher pressure is applied to the central portion than the edge of the stamp or the substrate because the fluid supplied into the pressurizing apparatus for imprinting is biased to the central portion due to various environmental factors.

그러나, 본 발명에 따르면, 유체가 공급되는 내부 공간(120)을 서로 차단된 복수개의 단위 공간(122)으로 분할하고 이렇게 분할된 각 단위 공간(122)으로 유체를 공급함에 따라 상술한 문제점이 발생하지 않게 된다. 다시 말하여, 복수개의 단위 공간(122)이 서로 차단되어 있으므로 공급된 유체가 내부 공간(120)의 특정 영역으로 편중되는 일이 발생하지 않게 된다. 이에 따라. 탄성체판(110)의 전면적이 균일하게 가압될 수 있게 되며, 나아가 스탬프(50)의 패턴을 기판(40)에 효과적으로 임프린팅 할 수 있게 된다.However, according to the present invention, the above-described problems occur by dividing the internal space 120 into which the fluid is supplied into a plurality of unit spaces 122 that are blocked from each other, and supplying the fluid to each of the divided unit spaces 122. You will not. In other words, since the plurality of unit spaces 122 are blocked from each other, the supplied fluid is not biased to a specific region of the internal space 120. Accordingly. The entire surface of the elastic plate 110 may be uniformly pressed, and further, the pattern of the stamp 50 may be effectively imprinted on the substrate 40.

한편, 임프린팅 공정 시에 기판(40)에는 소정의 열을 인가할 필요가 있다. 물론 기판(40)에 열을 인가하기 위하여 후술하는 히터(320)를 이용할 수도 있겠으나, 유체를 미리 가열시키고 이렇게 가열된 상태의 유체를 내부 공간(120)에 공급하는 방법을 이용할 수도 있다. 이에 따라, 가열된 유체의 열이 탄성체판(110)을 거쳐서 기판(40)으로 공급될 수 있게 되므로, 임프린팅 장치(10, 20, 30)의 구성이 보다 단순화 되는 효과를 달성할 수 있게 된다.On the other hand, it is necessary to apply a predetermined heat to the substrate 40 during the imprinting process. Of course, the heater 320 to be described later may be used to apply heat to the substrate 40, but a method of heating the fluid in advance and supplying the fluid in the heated state to the internal space 120 may be used. Accordingly, since the heat of the heated fluid can be supplied to the substrate 40 via the elastic plate 110, the configuration of the imprinting apparatus (10, 20, 30) can be achieved more simplified. .

또한, 상술한 바와 같이 내부 공간(120)으로는 유체가 유입될 수 있는데 이와 같은 유체는 액체 또는 기체 중 적어도 하나일 수 있다. 단순히 기체만 이용하는 경우와는 달리 액체를 함께 이용하는 경우 적은 양으로도 높은 압력을 확보할 수 있다는 장점이 있다.In addition, as described above, a fluid may flow into the internal space 120, and the fluid may be at least one of a liquid and a gas. Unlike using only gas, there is an advantage in that a high pressure can be secured even in a small amount when using a liquid together.

도 7은 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)의 동작하는 모습을 나타내는 도면이다.7 is a view showing the operation of the imprinting pressing device 100 according to the first embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 임프린팅용 가압 장치(100)의 각 단위 공간(122)으로 일정량의 유체가 공급됨에 따라, 탄성체판(110)이 탄성적으로 변형되게 되면서 기판(40)과 스탬프(50)가 압착되는 모습을 확인할 수 있다. 이러한 압착 과정에 의하여 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 임프린팅 될 수 있게 된다. 이때에, 내부 공간(120)의 특정 영역으로 유체가 편중되는 일이 발생하지 않게 되므로, 탄성체판(110)의 전면적이 균일하게 가압될 수 있게 되며. 나아가 스탬프(50)의 패턴을 기판(40)에 효과적으로 임프린팅 할 수 있게 된다Referring to FIG. 7, as a certain amount of fluid is supplied to each unit space 122 of the imprinting pressurizing device 100, the elastic plate 110 is elastically deformed and the substrate 40 and the stamp 50 ), You can see how it is compressed. By the pressing process, the pattern of the stamp 50 may be imprinted onto the substrate 40. At this time, since the fluid is not biased to a specific region of the internal space 120, the front surface of the elastic plate 110 can be uniformly pressed. Furthermore, the pattern of the stamp 50 can be effectively imprinted on the substrate 40.

한편, 경우에 따라서는 임프린팅용 가압 장치(100)는 유체가 일정한 순서에 의거하여 각 단위 공간(122)에 공급되도록 동작할 수 있다. 보다 구체적으로, 임프린팅용 가압 장치(100)는 복수개의 단위 공간(122) 중 중앙에 위치한 단위 공간(122)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(122) 순으로 유체가 공급되도록 동작할 수 있다.On the other hand, in some cases, the imprinting pressurizing device 100 may operate to supply the fluid to each unit space 122 based on a predetermined order. More specifically, the imprinting pressurizing device 100 may operate to supply fluid from the unit space 122 located at the center of the plurality of unit spaces 122 to the unit space 122 located at the edge thereof.

도 8은 본 발명의 제 1실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)가 일정한 순서에 의거하여 동작하는 과정을 개략적으로 나타내는 도면이다.8 is a view schematically showing a process in which the pressing device 100 for imprinting according to the first embodiment of the present invention operates in a predetermined order.

도 8의 (a) 내지 (c)를 참조하면, 먼저 중앙에 위치한 단위 공간(122)으로 유체가 공급됨에 따라 탄성체판(110)의 중앙 부분이 가압되게 되고, 이어서 가장자리에 위치한 단위 공간(122)으로 유체가 공급됨에 따라 탄성체판(110)의 가장자리 부분이 가압되는 모습을 확인할 수 있다.Referring to (a) to (c) of Figure 8, as the fluid is first supplied to the unit space 122 located in the center, the central portion of the elastic plate 110 is pressed, and then the unit space 122 located at the edge As the fluid is supplied, the edge portion of the elastic plate 110 may be pressed.

이처럼 본 발명에서는 임프린팅용 가압 장치(100)가 중앙에 위치한 단위 공간(122)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(122) 순으로 유체가 공급되도록 동작함으로써 탄성체판(110)과 기판(40)이 기포 없이 완전하게 압착될 수 있는 효과를 달성할 수 있게 된다.As described above, in the present invention, the elastic plate 110 and the substrate 40 are bubbled by operating the imprinting pressurizing device 100 so that the fluid is supplied from the unit space 122 located at the center to the unit space 122 located at the edge. It is possible to achieve an effect that can be completely pressed without.

이에 대해서 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.This will be described in more detail as follows.

종래의 임프린팅용 가압 장치에 따르면, 일측에 설치된 유체 공급부를 이용하여 임프린팅용 가압 장치의 내부 공간 전체로 유체를 공급하는 까닭에, 탄성체판과 기판 사이에서 기포가 발생되게 되는 문제점이 있었다. 이를 테면, 임프린팅용 가압 장치 내부 공간 전체로 공급된 유체가 탄성체판의 가장자리 부분을 먼저 가압하고 이어서 탄성체판의 중앙 부분을 가압하는 경우, 탄성체판(110)과 스탬프(50) 사이의 중앙에서 기포가 발생되게 되는 문제점이 있었다.According to the conventional imprinting pressurization device, since the fluid is supplied to the entire inner space of the imprinting pressurization device using the fluid supply unit installed on one side, there is a problem that bubbles are generated between the elastic plate and the substrate. For example, when the fluid supplied to the entire inner space of the imprinting press device presses the edge portion of the elastic plate first and then presses the center portion of the elastic plate, at the center between the elastic plate 110 and the stamp 50, There was a problem that bubbles are generated.

그러나, 본 발명의 임프린팅용 가압 장치(100)는, 유체가 공급되는 내부 공간(120)이 서로 차단된 복수개의 단위 공간(122)으로 분할되고 각 단위 공간(122)에 유체 공급부(140)가 설치되는 구성을 채용하고 있기 때문에, 이와 같은 구성을 적극적으로 이용함으로써, 위와 같은 문제점을 방지할 수 있게 된다. 다시 말하여, 도 8의 (a) 내지 (c)에 도시된 바와 같이, 먼저 중앙에 위치한 단위 공간(122)으로 유체를 공급하여 중앙에 존재하는 기포를 가장자리로 밀어내고, 이어서 가장자리 위치한 단위 공간(122)으로 유체를 공급하여 가장자리에 존재하는 기포를 외부로 밀어냄으로써, 탄성체판(110)과 스탬프(50)가 기포 없이 완전하게 압착될 수 있는 효과를 달성할 수 있게 된다.However, in the imprinting pressurization device 100 of the present invention, the internal space 120 to which the fluid is supplied is divided into a plurality of unit spaces 122 that are blocked from each other, and the fluid supply unit 140 in each unit space 122. Since a configuration is adopted, the above problems can be prevented by actively using such a configuration. In other words, as shown in (a) to (c) of FIG. 8, first, the fluid is supplied to the central unit space 122 to push the bubbles existing at the center to the edge, and then the unit space located at the edge. By supplying the fluid to 122 to push the bubbles present at the edge to the outside, the effect that the elastic plate 110 and the stamp 50 can be completely compressed without bubbles can be achieved.

한편, 도 4 및 도 5를 다시 참조하면, 복수개의 단위 공간(122)은 격벽 부재(150)에 의하여 서로 구분되고 있음을 알 수 있다. 이러한 격벽 부재(150)는 복수개의 단위 공간(122) 사이를 차단하는 기능을 수행할 수 있다. 이에 따라, 각 단위 공간(122)은 하나의 밀폐된 공간으로서 기능할 수 있게 되며, 나아가 밀폐된 단위 공간(122)으로 공급된 유체에 의하여 탄성체판(110)의 국부적인 위치가 가압될 수 있게 된다.Meanwhile, referring back to FIGS. 4 and 5, it can be seen that the plurality of unit spaces 122 are separated from each other by the partition member 150. The partition member 150 may perform a function of blocking a plurality of unit spaces 122. Accordingly, each unit space 122 may function as one enclosed space, and further, the local position of the elastic plate 110 may be pressed by the fluid supplied to the enclosed unit space 122. do.

도시되지 않았으나, 격벽 부재(150)와 탄성체판(110)이 연결되는 부위에는 실링용 오링(미도시됨)이 더 배치될 수 있다. 만약, 실링용 오링이 배치되지 아니한다면, 중앙의 단위 공간(122)으로 공급된 유체가 이웃하는 단위 공간(122)으로 새어 나갈 염려가 있기 때문이다.Although not shown, a sealing O-ring (not shown) may be further disposed at a portion where the partition member 150 and the elastic plate 110 are connected. If the sealing O-ring is not disposed, there is a fear that the fluid supplied to the central unit space 122 may leak to the neighboring unit space 122.

한편, 상술된 동작[중앙에 위치한 단위 공간(122)에서 가장자리에 위치한 단위 공간(122) 순으로 유체가 공급되는 동작]에 따른 효과를 보다 극대화하기 위하여, 중앙에 위치한 단위 공간(122)을 차단하는 격벽 부재(150)의 길이를 가장 짧게 하는 구성이 본 발명의 임프린팅용 가압 장치(100)에 채용될 수 있다. 이하에서는 도 9 및 도 10을 참조하여, 이와 같은 구성을 가지는 임프린팅용 가압 장치(100)에 관하여 살펴보기로 한다.On the other hand, in order to maximize the effect according to the above-described operation (operation of supplying fluid in the order of the unit space 122 located at the edge from the unit space 122 located at the center), the central unit space 122 is blocked The shortest length of the partition member 150 can be employed in the imprinting pressurizing device 100 of the present invention. Hereinafter, referring to FIGS. 9 and 10, the imprinting pressurizing device 100 having such a configuration will be described.

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(200)의 모습을 개략적으로 나타내는 도면이다.9 is a view schematically showing a state of the imprinting pressurizing device 200 according to the second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2 실시예는 본 발명의 제1 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제1 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The second embodiment of the present invention is a modification of the first embodiment of the present invention will be omitted for the same or corresponding configuration as the first embodiment of the present invention and will be described only for the configuration added or modified Shall be.

도 9를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(200)의 격벽 부재(250) 중에서, 중앙에 위치한 단위 공간(222)을 차단하는 격벽 부재(250)의 길이가 가장 짧은 것을 확인할 수 있다. 이에 따라, 단위 공간(222)으로 유체가 공급되기 이전부터 탄성체판(210)이 볼록한 형태로 변형되어 있는 것을 확인할 수 있다.9, among the partition members 250 of the imprinting pressurization device 200 according to the second embodiment of the present invention, the length of the partition member 250 for blocking the unit space 222 located at the center is You can see the shortest one. Accordingly, it can be confirmed that the elastic body 210 is deformed into a convex shape before the fluid is supplied to the unit space 222.

도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(200)를 이용하여 탄성체판(210)을 가압하는 모습을 순차적으로 나타내는 도면이다.FIG. 10 is a view sequentially showing a state in which the elastic plate 210 is pressed using the imprinting pressing device 200 according to the second embodiment of the present invention.

먼저, 도 10의 (a) 내지 (c)를 참조하면, 임프린팅용 가압 장치(200)의 내부 공간(220)으로 유체가 공급됨에 있어서, 중앙의 위치한 단위 공간(222)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(222) 순으로 유체가 공급되고 있는 모습을 확인할 수 있다. 이처럼 일정한 순서에 의거하여 임프린팅용 가압 장치(200)가 동작하는 과정에 대해서는 앞서 설명한 바 있으므로 자세한 설명은 생략하도록 하겠다.First, referring to FIGS. 10A to 10C, in the fluid supply to the internal space 220 of the imprinting pressurization device 200, a unit located at an edge from a centrally located unit space 222. It can be seen that the fluid is supplied in the space 222 order. As described above with respect to the process of operating the imprinting pressurizing device 200 based on a predetermined order as described above will be omitted.

이때에, 만약 모든 격벽 부재(250)의 길이가 동일하다면, 중앙에 위치한 단위 공간(222)에 유체를 먼저 공급함에 따라 탄성체판(210)의 중앙 부분이 먼저 아래로 쳐지기 때문에, 모든 단위 공간(222)에 동일한 양의 유체를 공급한다 하여도 탄성체판(210)의 중앙 부분으로 압력이 집중되는 문제점이 발생될 수 있다.At this time, if all of the partition member 250 is the same length, since the central portion of the elastic plate 210 is first put down as the fluid is first supplied to the central unit space 222, all the unit space Even when the same amount of fluid is supplied to the 222, a problem may occur in which pressure is concentrated at the center portion of the elastic plate 210.

그러나, 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(200)는 중앙의 위치한 단위 공간(222)을 차단하는 격벽 부재(250)의 길이가 가장 짧기 때문에 상술한 문제점을 효과적으로 방지할 수 있게 된다. 다시 말하여, 탄성체판(210)이 볼록한 형태에서 유체를 공급 받기 때문에, 유체의 압력이 탄성체판(210)의 중앙 부분으로 집중되는 것을 최소화할 수 있게 된다. 따라서, 탄성체판(210)의 전면적이 균일하게 가압될 수 있는 효과를 달성할 수 있게 된다.However, the imprinting pressurization device 200 according to the second embodiment of the present invention has the shortest length of the partition member 250 for blocking the unit space 222 located at the center, thereby effectively preventing the above-mentioned problems. Will be. In other words, since the elastic plate 210 is supplied with the fluid in a convex form, it is possible to minimize the concentration of the fluid to the central portion of the elastic plate 210. Therefore, it is possible to achieve the effect that the entire area of the elastic plate 210 can be uniformly pressed.

결과적으로, 중앙에 위치한 단위 공간(222)을 차단하는 격벽 부재(250)의 길이를 가장 짧게 구성하고, 중앙에 위치한 단위 공간(222)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(222) 순으로 유체를 공급시킴으로써, 탄성체판(210)과 스탬프(50)가 기포 없이 완전하게 접촉될 수 있는 효과뿐만 아니라, 탄성체판(210)의 전면적이 균일하게 가압될 수 있는 효과를 달성할 수 있게 됨을 알 수 있다.As a result, the shortest length of the partition member 250 blocking the unit space 222 located at the center, and by supplying fluid from the unit space 222 located at the center to the unit space 222 located at the edge In addition, it can be seen that the elastic plate 210 and the stamp 50 can be completely contacted without bubbles, as well as the effect that the entire surface of the elastic plate 210 can be uniformly pressed.

한편, 구조를 단순화하여서 제조를 보다 용이하게 하기 위하여, 하나의 내부 공간(120)이 탄성체판(114, 116)을 각각 포함하고 있는 두 개의 단위 공간(124, 126)으로 분할될 수 있다. 이하에서는 도 11 및 도 12를 참조하여, 이와 같은 구성을 가지는 임프린팅용 가압 장치(260)에 관하여 살펴보기로 한다.Meanwhile, in order to simplify the structure and to facilitate manufacturing, one internal space 120 may be divided into two unit spaces 124 and 126 including the elastic plates 114 and 116, respectively. Hereinafter, referring to FIGS. 11 and 12, an imprinting pressurizing device 260 having such a configuration will be described.

도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(260)의 모습을 나타내는 도면이다.11 is a view showing a state of the imprinting pressing device 260 according to the third embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시예는 본 발명의 제1 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제1 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The third embodiment of the present invention is a modification of the first embodiment of the present invention will be omitted for the same or corresponding configuration as the first embodiment of the present invention will be described only for the configuration added or modified Shall be.

도 11을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(260)의 내부 공간(120)이 서로 차단된 제1 단위 공간(124)과 제2 단위 공간(126)으로 분할되는 모습을 확인할 수 있다. 또한, 제2 단위 공간(126)이 제1 단위 공간(124)의 내부 중앙에 배치되는 모습을 더 확인할 수 있다. 물론, 이와 같은 제1 단위 공간(124) 및 제2 단위 공간(126)에는 유체를 공급하는 유체 공급부(140)가 설치될 수 있다.Referring to FIG. 11, the internal space 120 of the imprinting pressurizing device 260 according to the third embodiment of the present invention is divided into a first unit space 124 and a second unit space 126 that are blocked from each other. You can see how it looks. In addition, it may be further confirmed that the second unit space 126 is disposed at the inner center of the first unit space 124. Of course, the fluid supply unit 140 for supplying a fluid may be installed in the first unit space 124 and the second unit space 126.

또한, 도 11을 더 참조하면, 제1 단위 공간(124) 및 제2 단위 공간(126) 모두 탄성체판(114, 116)을 포함하고 있음을 알 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 단위 공간(124)은 제1 단위 공간(124)의 하부에 배치되는 제1 탄성체판(114)을, 제2 단위 공간(126)은 제2 단위 공간(126)의 하부에 배치되는 제2 탄성체판(116)을 포함하고 있음을 알 수 있다.11, it can be seen that both the first unit space 124 and the second unit space 126 include elastic plates 114 and 116. More specifically, the first unit space 124 has a first elastic body 114 is disposed below the first unit space 124, the second unit space 126 is a lower portion of the second unit space 126 It can be seen that the second elastic plate 116 is disposed in the.

이때에, 제2 단위 공간(126)에 설치된 유체 공급부(140)로 유체가 공급되면 제2 탄성체판(116)에 의하여 제1 탄성체판(114)이 가압될 수 있다. 여기서, 제2 탄성체판(116)이 포함되는 제2 단위 공간(126)은 제1 단위 공간(124)의 내부 중앙에 배치되므로, 제2 탄성체판(116)에 의하여 제1 탄성체판(114)이 가압됨에 따라 제1 탄성체판(114)의 중앙 부분에 압력이 가해질 수 있게 된다.At this time, when the fluid is supplied to the fluid supply unit 140 installed in the second unit space 126, the first elastic body plate 114 may be pressed by the second elastic body plate 116. Here, since the second unit space 126 including the second elastic plate 116 is disposed at the inner center of the first unit space 124, the first elastic plate 114 is formed by the second elastic plate 116. As the pressure is applied, pressure may be applied to the central portion of the first elastic body 114.

도 12는 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(260)가 일정한 순서에 의거하여 동작하는 과정을 나타내는 도면이다.12 is a view showing a process in which the imprinting pressurizing device 260 according to the third embodiment of the present invention operates in a certain order.

먼저, 도 12의 (a)는 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(260)에 유체가 공급되지 아니한 모습을 나타내고 있다. 이때에, 도 12의 (a)에 도시된 바와 같이, 제1 탄성체판(114)과 제2 탄성체판(116)이 접촉하고 있을 수 있다.First, FIG. 12A shows a state in which no fluid is supplied to the imprinting pressurizing device 260 according to the third embodiment of the present invention. At this time, as shown in FIG. 12A, the first elastic body plate 114 and the second elastic body plate 116 may be in contact with each other.

다음으로, 도 12의 (b)를 참조하면, 제2 단위 공간(126)으로 유체가 공급될 수 있다. 이렇게 제2 단위 공간(126)으로 유체가 공급되면, 제2 탄성체판(116)이 유체에 의해 가압되면서 제1 탄성체판(114)의 중앙 부분이 가압될 수 있게 된다.Next, referring to FIG. 12B, a fluid may be supplied to the second unit space 126. When the fluid is supplied to the second unit space 126, the center portion of the first elastic plate 114 may be pressed while the second elastic plate 116 is pressed by the fluid.

다음으로, 도 12의 (c)를 참조하면, 제1 단위 공간(124) 및 제2 단위 공간(126)에 유체가 함께 공급될 수 있다. 이에 따라, 제1 탄성체판(114)의 중앙 부분뿐만 아니라 가장자리 부분도 함께 가압되게 될 수 있게 된다.Next, referring to FIG. 12C, the fluid may be supplied together to the first unit space 124 and the second unit space 126. Accordingly, not only the center portion but also the edge portion of the first elastic plate 114 may be pressed together.

위와 같은 구성을 가지는 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(260)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)에 비하여 훨씬 단순한 구조를 가지고 있다. 이에 따라, 위와 같은 구성으로 임프린팅용 가압 장치(260)를 제조하는 경우, 임프린팅용 가압 장치(260)의 제조 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.The imprinting pressurizing device 260 according to the third embodiment of the present invention having the above configuration has a much simpler structure than the imprinting pressurizing device 100 according to the first embodiment of the present invention. Accordingly, when manufacturing the imprinting pressurizing device 260 in the above configuration, there is an effect that can reduce the manufacturing cost of the pressurizing device for printing 260.

또한, 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(260)는, 단순한 구조를 가지면서도, 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅용 가압 장치(100)의 특징적인 구성을 기본적으로 포함하고 있기 때문에, 기판(40)에 균일하게 압력을 가할 수 있으며, 제1 탄성체판(114)과 기판(40)이 기포 없이 완전하게 접촉될 수 있는 효과를 달성할 수 있다.In addition, the imprinting pressurization device 260 according to the third embodiment of the present invention, while having a simple structure, the basic configuration of the imprinting pressurization device 100 according to the first embodiment of the present invention Since it is included, the pressure can be uniformly applied to the substrate 40, it is possible to achieve the effect that the first elastic plate 114 and the substrate 40 can be completely contacted without bubbles.

임프린팅Imprinting 장치 Device

본 발명의 임프린팅 장치(10, 20, 30)는 가압 장치(100)로 높은 압력을 기판(40) 또는 스탬프(50)에 인가하여 스탬프(50)에 형성된 패턴을 기판(40)에 임프린팅 하기 위한 장치이다.The imprinting apparatuses 10, 20, and 30 of the present invention apply a high pressure to the substrate 40 or the stamp 50 with the pressing apparatus 100 to imprint the pattern formed on the stamp 50 onto the substrate 40. It is an apparatus for doing so.

도 13은 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅 장치(10)의 구성을 나타내는 도면이다.13 is a view showing the configuration of the imprinting apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅 장치(10)는 가압 장치(100) 및 지지판(300)을 포함하여 구성될 수 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 13, it can be seen that the imprinting apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention may include a pressing device 100 and a support plate 300.

먼저, 임프린팅 장치(10)에 채용되는 가압 장치(100)에는 위에서 설명되었던 임프린팅용 가압 장치(100)의 구성 및 기능이 동일하게 적용될 수 있으므로, 가압 장치(100)에 대한 상세한 설명은 생략하도록 하겠다.First, since the configuration and function of the imprinting pressurization device 100 described above may be equally applied to the pressurization device 100 employed in the imprinting device 10, a detailed description of the pressurization device 100 is omitted. I'll do it.

다음으로, 지지판(300)은 스탬프(50) 및 기판(40)을 적층된 상태로 지지하는 기능을 수행할 수 있다. 이러한 기능을 원활하게 수행하기 위하여 지지판(300)의 상면은 평평하게 구성되는 것이 바람직하다. 또한, 지지판(300)의 형상은 원판 형상일 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 지지판(300)은 고압에서도 용이하게 견딜 수 있는 재질, 이를 테면, 석영 등으로 구성되는 것이 바람직하다.Next, the support plate 300 may perform a function of supporting the stamp 50 and the substrate 40 in a stacked state. In order to perform this function smoothly, the upper surface of the support plate 300 is preferably configured to be flat. In addition, the shape of the support plate 300 may be a disk shape, but is not necessarily limited thereto. In addition, the support plate 300 is preferably made of a material that can easily withstand high pressure, such as quartz.

한편, 도 13을 더 참조하면, 지지판(300)은 지지판(300) 상에 형성되는 연결부(310)를 포함하여 구성될 수 있음을 알 수 있다.On the other hand, referring to Figure 13, it can be seen that the support plate 300 may include a connection portion 310 formed on the support plate 300.

도 14는 지지판(300) 상에 형성된 연결부(310)의 모습을 나타내는 도면이다.14 is a view showing a state of the connecting portion 310 formed on the support plate 300.

이러한 연결부(310)는 가압 장치(100)와 지지판(300)을 연결시키는 기능을 수행할 수 있다. 연결부(310)에 의하여 지지판(300)과 연결되는 가압 장치(100)의 구성 요소는 연결부(310)일 수 있다. 이러한 의미에서 이하에서는 연결부(310)에 의하여 지지판(300)과 연결부(310)가 연결되는 것으로 상정하고 설명하도록 하겠다.The connection portion 310 may perform a function of connecting the pressing device 100 and the support plate 300. The components of the pressing device 100 connected to the support plate 300 by the connection part 310 may be the connection part 310. In this sense, it will be assumed and described below that the supporting plate 300 and the connecting portion 310 are connected by the connecting portion 310.

연장부(130)와 지지판(300)을 용이하게 연결시키기 위하여 연결부(310)의 일단에는 연장부(130)와 물리적으로 결합하기 위한 결합 수단(미도시됨)이 더 배치될 수 있다. 이러한 결합 수단이 삽입될 수 있도록 소정의 홈(미도시됨)이 연장부(130)에 형성될 수 있음은 물론이다. 이와 같은 결합 수단 및 홈에 의해서 연장부(130)와 지지판(300)이 연결된 상태로 견고하게 고정될 수 있게 된다.Coupling means (not shown) for physically coupling with the extension 130 may be further disposed at one end of the connecting portion 310 to easily connect the extension 130 and the support plate 300. Of course, a predetermined groove (not shown) may be formed in the extension 130 so that the coupling means may be inserted. By the coupling means and the grooves such that the extension 130 and the support plate 300 can be firmly fixed in a connected state.

도 14를 참조하면, 연결부(310)가 고리 모양으로 구성되는 것을 확인할 수 있다. 이처럼, 연결부(310)를 고리 모양으로 구성하는 것은 연결부(310)에 의하여 연장부(130)와 지지판(300)이 연결된 상태에서 연결부(310), 지지판(300), 연장부(130) 및 탄성체판(110)에 의하여 생성되는 공간[이하, 임프린팅 공간(400)]에 스탬프(50) 및 기판(40)을 수용하기 위함이다. 따라서, 임프린팅 공간(400)에 스탬프(50) 및 기판(40)을 원활하게 수행할 수 있다면, 연결부(310)의 모양은 고리 모양으로 한정되지 아니한다.Referring to Figure 14, it can be seen that the connecting portion 310 is configured in a ring shape. As such, configuring the connection part 310 in a ring shape is connected to the connection part 310, the support plate 300, the extension part 130 and the elastic body in a state in which the extension part 130 and the support plate 300 are connected by the connection part 310. This is to accommodate the stamp 50 and the substrate 40 in the space (hereinafter, the imprinting space 400) generated by the plate 110. Therefore, if the stamp 50 and the substrate 40 can be smoothly performed in the imprinting space 400, the shape of the connecting portion 310 is not limited to a ring shape.

한편, 연결부(310)는 완충 동작을 수행할 수 있는 재질로 구성될 수 있다. 이에 따라, 가압 장치(100)의 연장부(130)가 연결부(310)와 연결된 상태에서 연결부(310)를 누르면서 임프린팅 공간(400)을 용이하게 밀폐시킬 수 있게 된다. 또한, 탄성체판(110)이 변형되어 기판(40)과 스탬프(50)가 압착되는데 연결부(310)가 방해되지 않게 된다.On the other hand, the connecting portion 310 may be made of a material capable of performing the buffer operation. Accordingly, the pressing unit 100 can be easily sealed while pressing the connecting unit 310 in a state in which the extension 130 of the pressing device 100 is connected to the connecting unit 310. In addition, the elastic plate 110 is deformed so that the connection portion 310 is not disturbed while the substrate 40 and the stamp 50 are compressed.

상술된 임프린팅 공간(400)은 스탬프(50)의 패턴을 기판(40)에 임프린팅 시키는 공정이 수행되는 공간으로서의 역할을 수행할 수 있다. 따라서, 임프린팅 공간(400)은 적층된 상태의 스탬프(50) 및 기판(40)을 수용할 수 있도록 구성될 수 있다. 또한, 임프린팅 공간(400)은 외부로부터 밀폐될 수 있도록 구성되며, 이에 따라 임프린팅 공정이 진행되는 동안 임프린팅 공간(400)에 배치된 기판(40)에 이물질이 침입하는 것을 방지할 수 있게 된다.The imprinting space 400 described above may serve as a space in which a process of imprinting the pattern of the stamp 50 on the substrate 40 is performed. Therefore, the imprinting space 400 may be configured to accommodate the stamp 50 and the substrate 40 in the stacked state. In addition, the imprinting space 400 is configured to be sealed from the outside, thereby preventing foreign matter from entering the substrate 40 disposed in the imprinting space 400 during the imprinting process. do.

도 13을 더 참조하면, 임프린팅 공간(400)이 진공 펌프(500)와 연결되어 있는 것을 확인할 수 있다. 이와 같은 진공 펌프(500)를 이용하여 임프린팅 공간(400)을 진공 상태로 조성하는 경우 가압 장치(100)를 이용한 임프린팅 공정은 더욱 원활하게 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로, 진공 펌프(500)를 이용하여 임프린팅 공간(400)을 진공 상태로 조성하는 경우, 가압 장치(100)의 내부 공간(120)과 임프린팅 공간(400)의 압력 차이가 커지기 때문에 가압 장치(100) 내부 공간(120)으로 적은 유체를 공급하는 경우라도 높은 압력을 얻을 수 있게 된다.Referring to FIG. 13, it can be seen that the imprinting space 400 is connected to the vacuum pump 500. When the imprinting space 400 is formed in a vacuum state using the vacuum pump 500, the imprinting process using the pressurizing device 100 may be more smoothly performed. More specifically, when the imprinting space 400 is formed in a vacuum state by using the vacuum pump 500, since the pressure difference between the internal space 120 and the imprinting space 400 of the pressurizing device 100 increases. Even when a small amount of fluid is supplied to the internal space 120 of the pressurizing device 100, a high pressure can be obtained.

진공 펌프(500)가 설치되는 위치는 특별하게 한정되지 아니하나 바람직하게는 지지판(300)을 관통하여 설치될 수 있다. 임프린팅 공간(400)의 진공 상태가 계속적으로 유지될 수 있도록 지지판(300)과 진공 펌프(500)가 관통되는 부근에는 실링용 오링(미도시됨)이 더 배치될 수 있다.The position where the vacuum pump 500 is installed is not particularly limited but may be preferably installed through the support plate 300. A sealing O-ring (not shown) may be further disposed near the support plate 300 and the vacuum pump 500 so that the vacuum state of the imprinting space 400 may be continuously maintained.

또한, 도 10을 더 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅 장치(10)는 고정부(600)를 더 포함하여 구성될 수 있다. 이러한 고정부(600)는 연결부(310)에 의하여 연장부(130)와 지지판(300)이 연결된 상태가 유지될 수 있도록 지지판(300) 및 연장부(130)를 고정시키는 기능을 수행할 수 있다.In addition, referring to FIG. 10, the imprinting apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention may further include a fixing part 600. The fixing part 600 may perform a function of fixing the support plate 300 and the extension part 130 so that the extension part 130 and the support plate 300 are maintained by the connection part 310. .

도 15는 본 발명의 제1 실시예에 따른 고정부(600)의 구성을 나타내는 도면이다.15 is a view showing the configuration of the fixing part 600 according to the first embodiment of the present invention.

도 15를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 고정부(600)는 제1 고정체(610), 제2 고정체(620)를 포함하여 구성될 수 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 15, it can be seen that the fixing part 600 according to the first embodiment of the present invention may include a first fixing body 610 and a second fixing body 620.

제1 고정체(610) 및 제2 고정체(620)는 지지판(300) 및 연장부(130)를 사이에 두고 서로 마주보도록 구성될 수 있다. 제1 고정체(610) 및 제2 고정체(620)가 지지판(300) 및 연장부(130) 방향으로 압착됨에 따라, 지지판(300) 및 연장부(130)는 고정될 수 있게 되고 기판(40)은 용이하게 스탬프(50)에 압착될 수 있게 된다.The first fixture 610 and the second fixture 620 may be configured to face each other with the support plate 300 and the extension 130 interposed therebetween. As the first fixture 610 and the second fixture 620 are compressed in the direction of the support plate 300 and the extension part 130, the support plate 300 and the extension part 130 can be fixed and the substrate ( 40 can be easily pressed to the stamp (50).

또한, 도시되지 않았지만, 결합 수단이 제1 고정체(610) 및 제2 고정체(620)가 서로 마주보고 있는 상태에서 제1 고정체(610) 및 제2 고정체(620)를 관통하도록 구성될 수 있다. 이러한 결합 수단은 제1 고정체(610) 및 제2 고정체(620)에 의한 고정 정도를 제어할 수 있도록 스크류로 구성될 수 있다.In addition, although not shown, the coupling means is configured to penetrate the first fixture 610 and the second fixture 620 in a state where the first fixture 610 and the second fixture 620 face each other. Can be. The coupling means may be composed of a screw to control the degree of fixation by the first fixture 610 and the second fixture 620.

한편, 상술한 바와 같이 임프린팅 공정 시에 기판(40)에는 소정의 열이 가해질 필요가 있다. 이를 위해서, 가열된 상태의 유체를 가압 장치(100)에 공급하는 방법을 이용할 수도 있으나. 경우에 따라서는 기판(40)에 열을 직접적으로 인가하는 히터(320)를 이용할 수도 있다.Meanwhile, as described above, a predetermined heat needs to be applied to the substrate 40 during the imprinting process. To this end, a method of supplying the fluid in a heated state to the pressurizing device 100 may be used. In some cases, the heater 320 may be used to directly apply heat to the substrate 40.

히터(320)는 기판(40)에 열을 인가하기에 용이한 위치 어디에도 설치될 수 있으나, 도 13에 도시된 바와 같이, 바람직하게는 지지판(300) 내부에 설치될 수 있다. 히터(320)의 종류는 특별하게 제한되지 아니하며, 기판(40)에 열을 인가할 수 있는 것[예를 들면, 열선의 재질이 텅스텐인 할로겐 램프 또는 일반적인 칸탈(kanthal) 히터]이면 본 발명의 히터(320)로서 바람직하게 채용될 수 있다.The heater 320 may be installed at any position where it is easy to apply heat to the substrate 40, but as shown in FIG. 13, preferably, the heater 320 may be installed inside the support plate 300. The type of the heater 320 is not particularly limited and may be heat applied to the substrate 40 (for example, a halogen lamp of tungsten or a general kanthal heater). It can be preferably employed as the heater 320.

스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 임프린팅 된 이후에 기판(40)은 소정의 온도 이하로 냉각될 필요가 있다. 이를 위하여, 도 13에 도시되지는 않았으나. 본 발명의 임프린팅 장치(10)는 기판(40)을 냉각하는 냉각부(미도시됨)를 포함하여 구성될 수 있다. 냉각부는 기판(40)을 냉각하기에 용이한 위치 어디에도 설치될 수 있으나 바람직하게는 지지판(300) 내부에 설치될 수 있다. 냉각부의 냉각 방식으로는 수냉 또는 공냉 방식이 제한 없이 이용될 수 있다.After the pattern of the stamp 50 is imprinted onto the substrate 40, the substrate 40 needs to be cooled below a predetermined temperature. For this purpose, although not shown in FIG. The imprinting apparatus 10 of the present invention may include a cooling unit (not shown) for cooling the substrate 40. The cooling unit may be installed at any position where it is easy to cool the substrate 40, but may be preferably installed inside the support plate 300. As the cooling method of the cooling unit, water cooling or air cooling may be used without limitation.

이하에서는 도 16을 참조하여 위와 같은 구성을 가지는 본 발명의 제1 실시예에 따른 임프린팅 장치(10)의 동작 과정을 살펴보기로 한다.Hereinafter, an operation process of the imprinting apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention having the above configuration will be described with reference to FIG. 16.

먼저, 도 16의 (a)를 참조하면, 지지판(300)에 스탬프(50) 및 기판(40)을 적층시킨 상태로 준비할 수 있다. 도 16의 (a)에는 기판(40) 상에 스탬프(50)가 적층되어 있는 것으로 도시되어 있다. 그러나, 반드시 이러한 것은 아니며 스탬프(50) 상에 기판(40)이 적층되어 임프린팅 공정이 수행될 수도 있다. 다만, 이하의 설명에서는 기판(40) 상에 스탬프(50)가 적층된 상태에서 임프린팅 공정이 수행되는 것으로 상정하고 설명하도록 하겠다.First, referring to FIG. 16A, the support plate 300 may be prepared in a state in which the stamp 50 and the substrate 40 are stacked. In FIG. 16A, the stamp 50 is stacked on the substrate 40. However, this is not necessarily the case, and the substrate 40 may be stacked on the stamp 50 to perform an imprinting process. However, in the following description, it will be assumed and described that the imprinting process is performed in a state in which the stamp 50 is stacked on the substrate 40.

다음으로, 도 16의 (b)를 참조하면, 가압 장치(100)를 하강시켜 가압 장치(100)의 연장부(130)가 연결부(310)에 의하여 지지판(300)과 연결되도록 할 수 있다. 이에 따라, 연결부(310), 지지판(300), 연장부(130) 및 탄성체판(110)에 의하여 생성되는 임프린팅 공간(400)은 밀폐될 수 있다. 이때에, 연결부(310)의 결합 수단이 연장부(130)에 형성된 홈에 결합됨으로써 지지판(300) 및 탄성체판(110)이 고정되도록 할 수 있다. 또한, 연장부(130)의 상부 및 지지판(300)의 하부에 고정부(600)가 결합됨으로써 지지판(300) 및 연장부(130)가 더 고정되도록 할 수 있다.Next, referring to FIG. 16B, the pressing device 100 may be lowered to allow the extension 130 of the pressing device 100 to be connected to the support plate 300 by the connection part 310. Accordingly, the imprinting space 400 generated by the connection part 310, the support plate 300, the extension part 130, and the elastic plate 110 may be sealed. At this time, the coupling means of the connection part 310 may be coupled to the groove formed in the extension part 130 so that the support plate 300 and the elastic plate 110 may be fixed. In addition, the fixing part 600 is coupled to the upper part of the extension part 130 and the lower part of the support plate 300 so that the support plate 300 and the extension part 130 may be further fixed.

다음으로, 도 16의 (c)를 참조하면, 진공 펌프(500)를 이용하여 임프린팅 공간(400) 내부를 진공 상태로 조성하면서, 가압 장치(100)의 단위 공간(122)으로 유체를 공급할 수 있다. 유체의 공급은 중앙의 위치한 단위 공간(122)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(122) 순으로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 탄성체판(110)이 중앙에서부터 탄성적으로 변형되면서 기판(40)을 압착하게 되며, 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 임프린팅 된다. 이때에, 스탬프(50)의 패턴을 기판(40)에 용이하게 임프린팅 시키기 위하여 히터(320)의 열이 기판(40)에 인가될 수 있다. 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 완전하게 임프린팅 된 이후에는 냉각부로 기판(40)을 소정의 온도 이하로 냉각시킬 수 있다.Next, referring to FIG. 16C, the fluid may be supplied to the unit space 122 of the pressurizing device 100 while forming the inside of the imprinting space 400 in a vacuum state by using the vacuum pump 500. Can be. The supply of fluid may be performed in the order of the unit space 122 located at the center of the unit space 122 located at the edge. Accordingly, the elastic plate 110 is elastically deformed from the center to press the substrate 40, the pattern of the stamp 50 is imprinted on the substrate 40. At this time, the heat of the heater 320 may be applied to the substrate 40 in order to easily imprint the pattern of the stamp 50 on the substrate 40. After the pattern of the stamp 50 is completely imprinted onto the substrate 40, the cooling unit may cool the substrate 40 below a predetermined temperature.

한편, 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)에 전사될 때에 단순히 압력과 열만을 이용할 수도 있으나 경우에 따라서는 자외선 또는 적외선을 이용할 수도 있다. 이처럼 자외선 또는 적외선을 이용하는 방법은 기판(40) 상에 고분자층이 형성된 경우에 주로 이용될 수 있다. 이하에서는 도 17을 참조하여 자외선 또는 적외선을 이용하는 임프린팅 장치(20)의 구성에 관하여 살펴보기로 한다.Meanwhile, when the pattern of the stamp 50 is transferred to the substrate 40, only pressure and heat may be used, but in some cases, ultraviolet or infrared rays may be used. As such, the method using ultraviolet rays or infrared rays may be mainly used when the polymer layer is formed on the substrate 40. Hereinafter, a configuration of the imprinting apparatus 20 using ultraviolet or infrared rays will be described with reference to FIG. 17.

도 17은 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅 장치(20)의 구성을 나타내는 도면이다.17 is a view showing the configuration of an imprinting apparatus 20 according to a second embodiment of the present invention.

본 발명의 제2 실시예는 본 발명의 제1 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제1 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The second embodiment of the present invention is a modification of the first embodiment of the present invention will be omitted for the same or corresponding configuration as the first embodiment of the present invention and will be described only for the configuration added or modified Shall be.

도 17을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅 장치(20)는 광 전달 수단(700)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIG. 17, the imprinting apparatus 20 according to the second embodiment of the present invention may include a light transmission means 700.

이러한 광 전달 수단(700)은 기판(40)에 자외선 또는 적외선을 조사하는 기능을 수행할 수 있다. 광 전달 수단(700)으로는 자외선 또는 적외선을 조사하기 위한 공지의 광 램프가 제한 없이 이용될 수 있다. 도 17에 도시된 바와 같이, 광 전달 수단(700)은 지지판(300)의 하부에 설치될 수 있다.The light transmitting means 700 may perform a function of irradiating ultraviolet or infrared rays to the substrate 40. As the light transmitting means 700, a known light lamp for irradiating ultraviolet rays or infrared rays may be used without limitation. As shown in FIG. 17, the light transmission means 700 may be installed under the support plate 300.

적외선을 조사하는 광 전달 수단(700)을 이용하는 경우 기판(40)에 광뿐만 아니라 열을 전달할 수 있는 효과도 달성할 수 있게 된다. 따라서, 단순히 기판(40)에 자외선을 조사하는 광 전달 수단(700) 보다 기판(40)에 적외선을 조사하는 광 전달 수단(700) 또는 기판(40)에 적외선과 자외선을 함께 조사하는 광 전달 수단(700)을 이용하는 것이 더 유리할 수 있다.When using the light transmitting means 700 for irradiating infrared rays it is possible to achieve the effect of transferring heat as well as light to the substrate 40. Therefore, the light transmitting means 700 for irradiating infrared rays to the substrate 40 or the light transmitting means for irradiating infrared rays and ultraviolet rays together on the substrate 40 rather than the light transmitting means 700 for simply irradiating the ultraviolet rays to the substrate 40. It may be more advantageous to use 700.

광 전달 수단(700)에서 조사된 자외선 또는 적외선이 기판(40)에 용이하게 도달될 수 있도록 지지판(300)은 자외선 또는 적외선을 투과시킬 수 있도록 구성될 수 있다. 이를 테면, 지지판(300)을 석영과 같이 자외선 또는 적외선에 대하여 투명한 재질로서 선택하여 구성할 수 있다. 또한, 도 17에 도시된 바와 같이, 스탬프(50)와 접촉하는 지지판(300)의 일부를 자외선 또는 적외선 투과용 윈도우(330)로 구성할 수 있다.The support plate 300 may be configured to transmit ultraviolet rays or infrared rays so that ultraviolet rays or infrared rays irradiated from the light transmitting means 700 may easily reach the substrate 40. For example, the support plate 300 may be selected and configured as a transparent material against ultraviolet rays or infrared rays, such as quartz. In addition, as shown in FIG. 17, a portion of the support plate 300 contacting the stamp 50 may be configured as a window 330 for transmitting ultraviolet rays or infrared rays.

한편, 도 17에 도시되지는 않았으나, 지지판(300)의 하측에는 보호체가 더 설치될 수 있다. 보호체는 외부의 충격으로부터 지지판(300)을 보호하는 기능을 수행할 수 있다. 보호체는 고정부(600)에 맞춰 끼워져서 고정될 수 있으며 자외선 또는 적외선을 투과시킬 수 있도록 석영으로 구성될 수 있다.Although not shown in FIG. 17, a protector may be further installed below the support plate 300. The protector may function to protect the support plate 300 from an external impact. The protector may be fitted and fixed to the fixing part 600, and may be made of quartz so as to transmit ultraviolet rays or infrared rays.

또한, 광 전달 수단(700)에서 조사된 자외선 또는 적외선이 기판(40)에 용이하게 도달될 수 있도록 스탬프(50)는 자외선 또는 적외선에 대하여 투명한 재질로 구성될 수 있다. 이를 테면, 스탬프(50)는 자외선 또는 적외선에 대하여 투명한 재질인 PDMS, h-PDMS, PVC등의 고분자로 구성될 수 있다.In addition, the stamp 50 may be made of a material transparent to the ultraviolet or infrared ray so that the ultraviolet or infrared rays irradiated from the light transmitting means 700 can easily reach the substrate 40. For example, the stamp 50 may be made of a polymer such as PDMS, h-PDMS, PVC that is transparent to ultraviolet or infrared light.

이하에서는 위와 같은 구성을 가지는 본 발명의 제2 실시예에 따른 임프린팅 장치(20)의 동작 과정을 살펴보기로 한다.Hereinafter, an operation process of the imprinting apparatus 20 according to the second embodiment of the present invention having the above configuration will be described.

먼저, 지지판(300) 상에 스탬프(50) 및 기판(40)을 준비할 수 있다. 이때에 스탬프(50) 상에 기판(40)이 적층된 상태로 준비할 수 있다. 또한, 기판(40)은 고분자로 구성된 고분자층을 포함하고 있을 수 있다.First, the stamp 50 and the substrate 40 may be prepared on the support plate 300. At this time, the substrate 40 may be prepared in a stacked state on the stamp 50. In addition, the substrate 40 may include a polymer layer composed of a polymer.

다음으로, 가압 장치(100)를 하강시켜 가압 장치(100)의 연장부(130)가 연결부(310)에 의하여 지지판(300)과 연결되도록 할 수 있다. 이에 따라, 연결부(310), 지지판(300), 연장부(130) 및 탄성체판(110)에 의하여 생성되는 임프린팅 공간(400)은 밀폐될 수 있다. 이때에, 연결부(310)의 결합 수단이 연장부(130)에 형성된 홈에 결합됨으로써 지지판(300) 및 탄성체판(110)이 고정되도록 할 수 있다. 또한, 연장부(130)의 상부 및 지지판(300)의 하부에 고정부(600)가 결합됨으로써 지지판(300) 및 연장부(130)가 더 고정되도록 할 수 있다.Next, the pressing device 100 can be lowered to allow the extension 130 of the pressing device 100 to be connected to the support plate 300 by the connection part 310. Accordingly, the imprinting space 400 generated by the connection part 310, the support plate 300, the extension part 130, and the elastic plate 110 may be sealed. At this time, the coupling means of the connection part 310 may be coupled to the groove formed in the extension part 130 so that the support plate 300 and the elastic plate 110 may be fixed. In addition, the fixing part 600 is coupled to the upper part of the extension part 130 and the lower part of the support plate 300 so that the support plate 300 and the extension part 130 may be further fixed.

다음으로, 진공 펌프(500)를 이용하여 임프린팅 공간(400) 내부를 진공 상태로 조성하면서, 가압 장치(100)의 단위 공간(122)으로 유체를 공급할 수 있다. 유체의 공급은 중앙의 위치한 단위 공간(122)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(122) 순으로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 탄성체판(110)이 중앙에서부터 탄성적으로 변형되면서 기판(40)을 압착하게 되며, 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 임프린팅 된다. 이때에, 고분자층을 경화시키기 위하여 광 전달 수단(700)은 기판(40)을 향하여 자외선 또는 적외선을 기판(40)에 조사할 수 있다. 조사된 자외선 또는 적외선은 보호체 및 자외선 또는 적외선 투과용 윈도우(330)를 투과하고, 이어서 투명한 스탬프(50)를 투과하여 기판(40)에 도달될 수 있게 된다. 이러한 자외선 또는 적외선에 의하여 기판(40) 상에 형성된 고분자층은 경화될 수 있다. 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 완전하게 임프린팅 된 이후에는 냉각부를 이용하여서 기판(40)을 소정의 온도 이하로 냉각시킬 수 있다.Next, the fluid may be supplied to the unit space 122 of the pressurizing device 100 while forming the inside of the imprinting space 400 in a vacuum state by using the vacuum pump 500. The supply of fluid may be performed in the order of the unit space 122 located at the center of the unit space 122 located at the edge. Accordingly, the elastic plate 110 is elastically deformed from the center to press the substrate 40, the pattern of the stamp 50 is imprinted on the substrate 40. At this time, in order to cure the polymer layer, the light transmission means 700 may irradiate the substrate 40 with ultraviolet or infrared rays toward the substrate 40. The irradiated ultraviolet rays or infrared rays may pass through the protector and the ultraviolet or infrared rays transmitting window 330, and then may pass through the transparent stamp 50 to reach the substrate 40. The polymer layer formed on the substrate 40 by such ultraviolet or infrared rays may be cured. After the pattern of the stamp 50 is completely imprinted onto the substrate 40, the substrate 40 may be cooled to a temperature below a predetermined temperature by using a cooling unit.

한편, 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 임프린팅 될 때에 임프린팅 공간(400) 내에 수용되어 있는 기판(40) 및 스탬프(50)의 위치 정렬 상태는 정확하게 유지될 필요가 있다. 이를 테면, 기판(40) 및 스탬프(50)는 지지판(300)의 중앙 부분에 정확하게 배치되어 정렬될 필요가 있다. 이러한 의미에서, 본 발명의 임프린팅 장치는 별도의 위치 정렬부(800)를 포함하여 구성될 수 있는데, 이하에서는 도 18을 참조하여 위치 정렬부(800)를 포함하는 임프린팅 장치의 구성에 관하여 살펴보기로 한다.On the other hand, when the pattern of the stamp 50 is imprinted onto the substrate 40, the alignment state of the substrate 40 and the stamp 50 accommodated in the imprinting space 400 needs to be maintained accurately. For example, the substrate 40 and the stamp 50 need to be accurately positioned and aligned in the central portion of the support plate 300. In this sense, the imprinting apparatus of the present invention may be configured to include a separate position alignment unit 800, hereinafter with reference to FIG. 18 with respect to the configuration of the imprinting apparatus including a position alignment unit 800 Let's look at it.

도 18은 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅 장치(30)의 구성을 나타내는 도면이다.18 is a view showing the configuration of an imprinting apparatus 30 according to the third embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시예는 본 발명의 제1 실시예에 대한 변형예로서 본 발명의 제3 실시예와 동일하거나 대응되는 구성에 대해서는 설명을 생략하기로 하고 부가되거나 변형되는 구성에 대해서만 설명하기로 한다.The third embodiment of the present invention is a modification of the first embodiment of the present invention, the description of the same or corresponding components as the third embodiment of the present invention will be omitted, and only the configuration added or modified will be described. Shall be.

도 18을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅 장치(30)는 위치 정렬부(800)를 포함하여 구성될 수 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 18, it can be seen that the imprinting apparatus 30 according to the third embodiment of the present invention may include a position alignment unit 800.

이러한 위치 정렬부(800)는 기판(40)과 스탬프(50)의 정렬 상태가 유지될 수 있도록 기판(40) 및 스탬프(50)의 위치를 제어하는 기능을 수행할 수 있다. 기판(40) 및 스탬프(50)의 위치를 제어하기 위하여 위치 정렬부(800)는 자기력을 이용할 수 있다.The position alignment unit 800 may perform a function of controlling the position of the substrate 40 and the stamp 50 so that the alignment state of the substrate 40 and the stamp 50 can be maintained. In order to control the positions of the substrate 40 and the stamp 50, the position alignment unit 800 may use a magnetic force.

도 18을 더 참조하면, 위치 정렬부(800)는 제1 자성체(810) 및 제2 자성체(820)를 포함하여 구성될 수 있음을 알 수 있다. 제1 자성체(810) 및 제2 자성체(820)는 자기장의 상호 유도 작용을 이용하여 스탬프(50) 및 기판(40)의 위치 정렬 상태를 정밀하게 제어할 수 있다.Referring to FIG. 18, the position aligning unit 800 may be configured to include a first magnetic body 810 and a second magnetic body 820. The first magnetic body 810 and the second magnetic body 820 may precisely control the alignment state of the stamp 50 and the substrate 40 by using mutual induction of the magnetic field.

도 18에 도시된 바와 같이, 제1 자성체(810)는 지지판(300)의 하부에 설치될 수 있으며, 제2 자성체(820)는 스탬프(50)의 양단에 설치될 수 있다. 제2 자성체(820)는 스탬프(50)의 외주면에 접착제를 사용하여 결합될 수 있다. 한편, 경우에 따라서는 스탬프(50)의 상면 또는 하면에 제2 자성체(820)가 얇은 필름 형태로 형성될 수도 있다.As shown in FIG. 18, the first magnetic body 810 may be installed under the support plate 300, and the second magnetic body 820 may be installed at both ends of the stamp 50. The second magnetic body 820 may be coupled to the outer circumferential surface of the stamp 50 by using an adhesive. In some cases, the second magnetic body 820 may be formed in a thin film form on the upper or lower surface of the stamp 50.

이와 같은 구성을 가지는 제1 자성체(810) 및 제2 자성체(820)는 서로 상호 유도 작용을 함으로써 스탬프(50)를 수평 방향으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 스탬프(50)는 임프린팅을 정확하게 수행할 수 있는 위치로 이동되어 고정되게 되며, 스탬프(50)와 접촉하고 있는 기판(40) 역시 임프린팅을 정확하게 수행할 수 있는 위치로 이동되어 고정될 수 있게 된다. The first magnetic body 810 and the second magnetic body 820 having such a configuration may move the stamp 50 in a horizontal direction by mutually inducing a mutual action. Accordingly, the stamp 50 is moved and fixed to a position capable of accurately performing imprinting, and the substrate 40 in contact with the stamp 50 is also moved and fixed to a position capable of accurately performing imprinting. It becomes possible.

이하에서는 위와 같은 구성을 가지는 본 발명의 제3 실시예에 따른 임프린팅 장치(30)의 동작 과정을 살펴보기로 한다.Hereinafter, an operation process of the imprinting apparatus 30 according to the third embodiment of the present invention having the above configuration will be described.

먼저, 지지판(300)에 기판(40) 및 스탬프(50)를 순서대로 적층시킨 상태로 준비할 수 있다. 이때에 제1 자성체(810) 및 제2 자성체(820)는 서로 상호 유도 작용을 함으로써 스탬프(50)를 수평 방향으로 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 스탬프(50)의 위치는 임프린팅을 정확하게 수행할 수 있는 위치로 이동되어 고정되게 되며, 스탬프(50)와 접촉하고 있는 기판(40) 역시 임프린팅을 정확하게 수행할 수 있는 위치로 이동되어 고정될 수 있게 된다.First, the substrate 40 and the stamp 50 may be prepared in a state in which the supporting plate 300 is laminated in order. At this time, the first magnetic body 810 and the second magnetic body 820 may move the stamp 50 in a horizontal direction by mutually inducing a mutual action. Accordingly, the position of the stamp 50 is moved and fixed to a position that can accurately perform imprinting, and the substrate 40 in contact with the stamp 50 also moves to a position that can accurately perform imprinting. Can be fixed.

다음으로, 가압 장치(100)를 하강시켜 가압 장치(100)의 연장부(130)가 연결부(310)에 의하여 지지판(300)과 연결되도록 할 수 있다. 이에 따라, 연결부(310), 지지판(300), 연장부(130) 및 탄성체판(110)에 의하여 생성되는 임프린팅 공간(400)은 밀폐될 수 있다. 이때에, 연결부(310)의 결합 수단이 연장부(130)에 형성된 홈에 결합됨으로써 지지판(300) 및 탄성체판(110)이 고정되도록 할 수 있다. 또한, 연장부(130)의 상부 및 지지판(300)의 하부에 고정부(600)가 결합됨으로써 지지판(300) 및 연장부(130)가 더 고정되도록 할 수 있다.Next, the pressing device 100 can be lowered to allow the extension 130 of the pressing device 100 to be connected to the support plate 300 by the connection part 310. Accordingly, the imprinting space 400 generated by the connection part 310, the support plate 300, the extension part 130, and the elastic plate 110 may be sealed. At this time, the coupling means of the connection part 310 may be coupled to the groove formed in the extension part 130 so that the support plate 300 and the elastic plate 110 may be fixed. In addition, the fixing part 600 is coupled to the upper part of the extension part 130 and the lower part of the support plate 300 so that the support plate 300 and the extension part 130 may be further fixed.

다음으로, 진공 펌프(500)를 이용하여 임프린팅 공간(400) 내부를 진공 상태로 조성하면서, 가압 장치(100)의 단위 공간(122)으로 유체를 공급할 수 있다. 유체의 공급은 중앙의 위치한 단위 공간(122)에서부터 가장자리에 위치한 단위 공간(122) 순으로 이루어질 수 있다. 이에 따라, 탄성체판(110)이 중앙에서부터 탄성적으로 변형되면서 기판(40)을 압착하게 되며, 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 임프린팅 된다. 이때에, 스탬프(50)의 패턴을 기판(40)에 용이하게 임프린팅 시키기 위하여 히터(320)의 열이 기판(40)에 인가될 수 있다. 스탬프(50)의 패턴이 기판(40)으로 완전하게 임프린팅 된 이후에는 냉각부로 기판(40)을 소정의 온도 이하로 냉각시킬 수 있다.Next, the fluid may be supplied to the unit space 122 of the pressurizing device 100 while forming the inside of the imprinting space 400 in a vacuum state by using the vacuum pump 500. The supply of fluid may be performed in the order of the unit space 122 located at the center of the unit space 122 located at the edge. Accordingly, the elastic plate 110 is elastically deformed from the center to press the substrate 40, the pattern of the stamp 50 is imprinted on the substrate 40. At this time, the heat of the heater 320 may be applied to the substrate 40 in order to easily imprint the pattern of the stamp 50 on the substrate 40. After the pattern of the stamp 50 is completely imprinted onto the substrate 40, the cooling unit may cool the substrate 40 below a predetermined temperature.

상술된 본 발명의 제1, 제2 및 제3 실시예에 따른 임프린팅 장치(10, 20, 30)를 이용하여 임프린팅 공정을 수행하는 경우, 가압 장치(100)와 관련하여 설명되었던 유리한 효과를 동일하게 달성할 수 있게 된다. 다시 말하여, 탄성체판(110) 전면적을 균일하게 가압할 수 있는 효과를 달성할 수 있게 되며, 탄성체판(110)과 스탬프(50)가 기포 없이 완전하게 접촉하는 효과를 달성할 수 있게 된다.In the case of performing the imprinting process using the imprinting apparatuses 10, 20, and 30 according to the first, second and third embodiments of the present invention described above, the advantageous effects that have been described in relation to the pressurizing apparatus 100 The same can be achieved. In other words, it is possible to achieve the effect of uniformly pressing the entire surface of the elastic plate 110, it is possible to achieve the effect of the elastic plate 110 and the stamp 50 is completely contacted without bubbles.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken in conjunction with the present invention. Variations and changes are possible. Such modifications and variations are intended to fall within the scope of the invention and the appended claims.

10, 20, 30: 임프린팅 장치
40: 기판
50: 스탬프
100, 200, 260: 가압 장치
110: 탄성체판
114: 제1 탄성체판
116: 제2 탄성체판
120: 내부 공간
122: 단위 공간
124: 제1 단위 공간
126: 제2 단위 공간
130: 연장부
140: 유체 공급부
142: 밸브
150: 격벽 부재
300: 지지판
310: 연결부
320: 히터
330: 윈도우
400: 임프린팅 공간
500: 진공 펌프
600: 고정부
610: 제1 고정체
620: 제2 고정체
700: 광 전달 수단
810: 제1 자성체
820: 제2 자성체
10, 20, 30: imprinting device
40: substrate
50: stamp
100, 200, 260: pressurization device
110: elastic body plate
114: first elastic body plate
116: second elastic body plate
120: interior space
122: unit space
124: first unit space
126: second unit space
130: extension
140: fluid supply
142: valve
150: partition member
300: support plate
310: connection
320: heater
330: Windows
400: imprinting space
500: vacuum pump
600: fixed part
610: first fixture
620: second fixture
700: light transmission means
810: first magnetic material
820: second magnetic material

Claims (28)

탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하고,
상기 내부 공간으로 유체가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 스탬프의 패턴이 기판에 임프린팅 되며,
상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고,
상기 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되며,
상기 복수개의 단위 공간은 격벽 부재에 의하여 서로 차단되고, 상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간을 차단하는 상기 격벽 부재의 길이가 가장 짧은, 임프린팅용 가압 장치.
An elastic plate and an enclosed interior space,
When the fluid is supplied to the internal space and the elastic plate is pressed, the pattern of the stamp is imprinted on the substrate.
The internal space is divided into a plurality of unit spaces blocked from each other,
A fluid supply unit for supplying the fluid is installed in each of the unit spaces,
The plurality of unit spaces are blocked from each other by the partition member, the shortest length of the partition member for blocking the unit space located in the center of the plurality of unit spaces, the pressing device for imprinting.
탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하고,
상기 내부 공간으로 유체가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 스탬프의 패턴이 기판에 임프린팅 되며,
상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고,
상기 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되며,
상기 내부 공간은 서로 차단된 제1 단위 공간 및 상기 제1 단위 공간 내부의 중앙에 배치되는 제2 단위 공간으로 분할되고,
상기 제1 단위 공간은 제1 탄성체판을 포함하고, 상기 제2 단위 공간은 제2 탄성체판을 포함하며,
상기 제2 단위 공간으로 상기 유체가 공급되면 상기 제2 탄성체판에 의하여 상기 제1 탄성체판의 중앙 부분이 가압되는, 임프린팅용 가압 장치.
An elastic plate and an enclosed interior space,
When the fluid is supplied to the internal space and the elastic plate is pressed, the pattern of the stamp is imprinted on the substrate.
The internal space is divided into a plurality of unit spaces blocked from each other,
A fluid supply unit for supplying the fluid is installed in each of the unit spaces,
The internal space is divided into a first unit space that is blocked from each other and a second unit space disposed in the center of the first unit space,
The first unit space includes a first elastic body plate, and the second unit space includes a second elastic body plate,
When the fluid is supplied to the second unit space, the central portion of the first elastic body plate is pressed by the second elastic body plate, the pressing device for imprinting.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 유체는 가열된 상태로 상기 내부 공간에 공급되는, 임프린팅용 가압 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And the fluid is supplied to the internal space in a heated state.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 유체는 액체 또는 기체 중 적어도 하나인, 임프린팅용 가압 장치.
The method according to claim 1 or 2,
And the fluid is at least one of a liquid or a gas.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간에서 가장자리에 위치한 단위 공간 순으로 상기 유체가 공급되도록 동작하는, 임프린팅용 가압 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Impressing device for imprinting is operated so that the fluid is supplied in the order of the unit space located at the edge in the unit space located in the center of the plurality of unit spaces.
삭제delete 탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하는 가압 장치; 및 적층된 소정의 패턴을 갖는 스탬프 및 기판을 지지하는 지지판을 포함하고,
상기 가압 장치 내부로 유체가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 스탬프의 상기 패턴이 상기 기판에 임프린팅 되며,
상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고,
상기 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되며,
상기 복수개의 단위 공간은 격벽 부재에 의하여 서로 차단되고, 상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간을 차단하는 상기 격벽 부재의 길이가 가장 짧은, 임프린팅 장치.
A pressing device comprising an elastic body plate and a closed inner space; And a support plate supporting the stamp and the substrate having the predetermined pattern stacked thereon,
The pattern of the stamp is imprinted on the substrate by supplying a fluid into the pressing device to pressurize the elastic plate.
The internal space is divided into a plurality of unit spaces blocked from each other,
A fluid supply unit for supplying the fluid is installed in each of the unit spaces,
The plurality of unit spaces are blocked from each other by the partition member, the shortest length of the partition member for blocking the unit space located in the center of the plurality of unit printing, the imprinting apparatus.
탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하는 가압 장치; 및 적층된 소정의 패턴을 갖는 스탬프 및 기판을 지지하는 지지판을 포함하고,
상기 가압 장치 내부로 유체가 공급되어 상기 탄성체판이 가압됨으로써 상기 스탬프의 상기 패턴이 상기 기판에 임프린팅 되며,
상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고,
상기 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되며,
상기 내부 공간은 서로 차단된 제1 단위 공간 및 상기 제1 단위 공간 내부의 중앙에 배치되는 제2 단위 공간으로 분할되고,
상기 제1 단위 공간은 제1 탄성체판을 포함하고, 상기 제2 단위 공간은 제2 탄성체판을 포함하며,
상기 제2 단위 공간으로 상기 유체가 공급되면 상기 제2 탄성체판에 의하여 상기 제1 탄성체판의 중앙 부분이 가압되는, 임프린팅 장치.
A pressing device comprising an elastic body plate and a closed inner space; And a support plate supporting the stamp and the substrate having the predetermined pattern stacked thereon,
The pattern of the stamp is imprinted on the substrate by supplying a fluid into the pressing device to pressurize the elastic plate.
The internal space is divided into a plurality of unit spaces blocked from each other,
A fluid supply unit for supplying the fluid is installed in each of the unit spaces,
The internal space is divided into a first unit space that is blocked from each other and a second unit space disposed in the center of the first unit space,
The first unit space includes a first elastic body plate, and the second unit space includes a second elastic body plate,
And a central portion of the first elastic body plate is pressed by the second elastic body plate when the fluid is supplied to the second unit space.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 유체는 가열된 상태로 상기 내부 공간에 공급되는, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
And the fluid is supplied to the internal space in a heated state.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 유체는 액체 또는 기체 중 적어도 하나인, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
And the fluid is at least one of a liquid or a gas.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간에서 가장자리에 위치한 단위 공간 순으로 상기 유체가 공급되도록 동작하는, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
Imprinting apparatus operative to supply the fluid in the order of the unit space located at the edge of the unit space located in the center of the plurality of unit spaces.
삭제delete 제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 가압 장치는 연장부를 포함하고 - 상기 연장부는 상기 탄성체판의 양단에서 연장되어 상기 가압 장치의 양단으로 돌출됨 -,
상기 지지판은 상기 연장부와 상기 지지판을 연결시키는 연결부를 포함하며,
상기 연결부에 의하여 상기 연장부와 상기 지지판이 연결된 상태에서 상기 연장부, 상기 탄성체판, 상기 지지판 및 상기 연결부에 의하여 생성되는 임프린팅 공간은 상기 스탬프 및 상기 기판을 수용할 수 있고 외부로부터 밀폐 가능한, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
The urging device includes an extension, the extension extending from both ends of the elastic plate and protruding from both ends of the urging device;
The support plate includes a connecting portion connecting the extension portion and the support plate,
The imprinting space generated by the extension part, the elastic plate, the support plate and the connection part in a state in which the extension part and the support plate are connected by the connection part may accommodate the stamp and the substrate and may be sealed from the outside. Imprinting device.
제13항에 있어서,
상기 임프린팅 공간을 진공 상태로 유지할 수 있는 진공 펌프를 더 포함하는, 임프린팅 장치.
The method of claim 13,
An imprinting apparatus, further comprising a vacuum pump capable of maintaining the imprinting space in a vacuum state.
제14항에 있어서,
상기 진공 펌프는 상기 지지판을 관통하여 설치되는, 임프린팅 장치.
The method of claim 14,
The vacuum pump is installed through the support plate, the imprinting apparatus.
제13항에 있어서,
상기 연결부에 의하여 상기 지지판과 상기 탄성체판이 연결된 상태가 유지될 수 있도록 상기 지지판 및 상기 연장부를 고정시키는 고정부를 더 포함하는, 임프린팅 장치.
The method of claim 13,
Imprinting apparatus further comprises a fixing part for fixing the support plate and the extension so that the state in which the support plate and the elastic plate is connected by the connecting portion.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 지지판은 상기 기판을 가열하는 히터를 포함하는, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
And the support plate comprises a heater for heating the substrate.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 기판을 향하여 자외선 또는 적외선을 조사하는 광 전달 수단을 더 포함하는, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
Imprinting apparatus further comprising a light transmitting means for irradiating ultraviolet or infrared rays toward the substrate.
제18항에 있어서,
상기 지지판은 자외선 또는 적외선 투과용 윈도우를 포함하는, 임프린팅 장치.
The method of claim 18,
The support plate, the imprinting apparatus comprising a window for transmitting ultraviolet or infrared rays.
제18항에 있어서,
상기 스탬프의 재질은 자외선 또는 적외선에 대하여 투명한, 임프린팅 장치.
The method of claim 18,
The material of the stamp is transparent to the ultraviolet or infrared, the imprinting apparatus.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 지지판은 상기 기판을 냉각시키는 냉각부를 포함하는, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
The support plate, the imprinting apparatus comprising a cooling unit for cooling the substrate.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 스탬프 및 상기 기판의 위치 정렬 상태를 제어하는 위치 정렬부를 더 포함하는, 임프린팅 장치.
The method according to claim 7 or 8,
Imprinting apparatus further comprising a position alignment portion for controlling the position alignment state of the stamp and the substrate.
탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하며, 상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고, 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되는 임프린팅용 가압 장치를 이용하여, 상기 단위 공간 각각으로 유체를 공급하여 상기 탄성체판을 가압함으로써 스탬프의 패턴을 기판에 임프린팅 하는 임프린팅 방법으로서,
상기 복수개의 단위 공간은 격벽 부재에 의하여 서로 차단되며, 상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간을 차단하는 상기 격벽 부재의 길이가 가장 짧은, 임프린팅 방법.
An elastic printing plate and an enclosed inner space, wherein the inner space is divided into a plurality of unit spaces which are blocked from each other, and a fluid supply unit for supplying a fluid is installed in each of the unit spaces by using an imprinting pressurizing device. An imprinting method of imprinting a pattern of a stamp on a substrate by supplying a fluid to each of the unit space to press the elastic plate,
The plurality of unit spaces are blocked from each other by the partition member, the shortest length of the partition member for blocking the unit space located in the center of the plurality of unit spaces, the imprinting method.
탄성체판 및 밀폐된 내부 공간을 포함하며, 상기 내부 공간은 서로 차단된 복수개의 단위 공간으로 분할되고, 유체를 공급하기 위한 유체 공급부가 상기 단위 공간 각각에 설치되는 임프린팅용 가압 장치를 이용하여, 상기 단위 공간 각각으로 유체를 공급하여 상기 탄성체판을 가압함으로써 스탬프의 패턴을 기판에 임프린팅 하는 임프린팅 방법으로서,
상기 내부 공간은 서로 차단된 제1 단위 공간 및 상기 제1 단위 공간 내부의 중앙에 배치되는 제2 단위 공간으로 분할되며, 상기 제1 단위 공간은 제1 탄성체판을 포함하고, 상기 제2 단위 공간은 제2 탄성체판을 포함하며, 상기 제2 단위 공간으로 상기 유체가 공급되면 상기 제2 탄성체판에 의하여 상기 제1 탄성체판의 중앙 부분이 가압되는, 임프린팅 방법.
An elastic printing plate and an enclosed inner space, wherein the inner space is divided into a plurality of unit spaces which are blocked from each other, and a fluid supply unit for supplying a fluid is installed in each of the unit spaces by using an imprinting pressurizing device. An imprinting method of imprinting a pattern of a stamp on a substrate by supplying a fluid to each of the unit space to press the elastic plate,
The internal space is divided into a first unit space that is blocked from each other and a second unit space disposed in the center of the first unit space, wherein the first unit space includes a first elastic body plate, and the second unit space Includes a second elastic body plate, and when the fluid is supplied to the second unit space, the central portion of the first elastic body plate is pressed by the second elastic body plate.
제23항 또는 제24항에 있어서,
상기 유체는 가열된 상태로 상기 내부 공간에 공급되는, 임프린팅 방법.
The method of claim 23 or 24,
And the fluid is supplied to the internal space in a heated state.
제23항 또는 제24항에 있어서,
상기 유체는 액체 또는 기체 중 적어도 하나인, 임프린팅 방법.
The method of claim 23 or 24,
And the fluid is at least one of a liquid or a gas.
제23항 또는 제24항에 있어서,
상기 복수개의 단위 공간 중 중앙에 위치한 단위 공간에서 가장자리에 위치한 단위공간 순으로 상기 유체가 공급되도록 하는, 임프린팅 방법.
The method of claim 23 or 24,
Imprinting method for supplying the fluid in the order of the unit space located at the edge in the unit space located in the center of the plurality of unit spaces.
삭제delete
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KR100903097B1 (en) * 2005-06-13 2009-06-15 한국기계연구원 Imprinting apparatus for forming pattern at uniform contact by additional constant pressure
KR100913497B1 (en) * 2007-12-27 2009-08-25 한국산업기술대학교산학협력단 Apparatus and method for imprinting

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