KR100632741B1 - Apparatus for making pattern and method of making pattern using the same - Google Patents

Apparatus for making pattern and method of making pattern using the same Download PDF

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이석원
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조성훈
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Abstract

A pattern forming apparatus and a pattern forming method using the same are provided to acquire a high quality pattern at low costs. A pattern forming apparatus includes a loading unit, a support body, a soft mold and a vertical driving unit. The loading unit(10) is used for loading stably a pattern forming object. The support body(30) is installed on the loading unit. The soft mold(20) is installed between the support body and the loading unit. At least one side of the soft mold is connected with the support body. The vertical driving unit is used for moving the support body up and down.

Description

패턴형성장치와 이를 이용한 패턴형성방법{APPARATUS FOR MAKING PATTERN AND METHOD OF MAKING PATTERN USING THE SAME}Pattern Forming Apparatus and Pattern Forming Method Using The Same {APPARATUS FOR MAKING PATTERN AND METHOD OF MAKING PATTERN USING THE SAME}

도 1은 종래 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면이고,1 is a view for explaining a conventional pattern formation method,

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴형성장치의 단면도이고,2 is a cross-sectional view of a pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 3a 내지 도 7b는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴형성장치를 이용한 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면이다.3A to 7B are views for explaining a pattern forming method using a pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분의 부호에 대한 설명 *Explanation of Signs of Major Parts of Drawings

10 : 안착부 20 : 소프트 몰드10: seating portion 20: soft mold

30 : 지지본체 31 : 압력 게이지30 support body 31 pressure gauge

41 : 고정 척 42 : 구동 척41: fixed chuck 42: driving chuck

45 : 좌우구동부 46 : 좌우구동부 제어부45: left and right driving unit 46: left and right driving unit

51 : 수직구동부 52 : 수직구동부 제어부51: vertical drive unit 52: vertical drive unit control unit

80 : 패턴형성 대상물 81 : 기판80: pattern forming target 81: substrate

82 : 폴리머층82: polymer layer

본 발명은 패턴형성장치와 이를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 소프트 몰드의 일단을 슬라이딩 이동시켜 순차접촉, 균일가압, 순차이형이 가능한 패턴형성장치와 이를 이용한 패턴형성방법에 관한 것이다. The present invention relates to a pattern forming apparatus and a pattern forming method using the same, and more particularly, to a pattern forming apparatus capable of sequential contact, uniform pressure, and sequential mold by sliding one end of a soft mold and a pattern forming method using the same. .

나노임프린트 공정은 반도체, 액정표시장치, 광소자, 바이오 분야 등의 제조공정에서 필수 공정인 패턴 전사(pattern transfer) 기술이다. 나노임프린트 공정을 통해 구현 가능한 최소 형상의 크기가 수 nm에 이를 수 있음이 보고되고 있다. 또한 기존 사진식각기술에 비해 초미세 패턴을 비교적 간단한 공정을 통해 생성해 낼 수 있어, 고해상도, 고생산성, 저비용의 이점을 두루 갖춘 기술로 인정받고 있다.The nanoimprint process is a pattern transfer technology that is an essential process in manufacturing processes of semiconductors, liquid crystal display devices, optical devices, and bio fields. It is reported that the smallest size that can be achieved through the nanoimprint process can reach several nm. In addition, compared to the conventional photolithography technology, ultra-fine patterns can be generated through a relatively simple process, and thus, it is recognized as a technology having advantages of high resolution, high productivity, and low cost.

도 1은 종래 하드 몰드를 이용한 임프린트 공정을 설명하는 그림이다.1 is a diagram illustrating an imprint process using a conventional hard mold.

기판(100) 상에 패턴이 형성될 대상인 폴리머층(200)이 도포되어 있으며, 폴리머층(200)과 마주하는 하드 몰드(300)에는 미세 패턴(310)이 형성되어 있다.The polymer layer 200, which is to be patterned, is coated on the substrate 100, and the fine pattern 310 is formed on the hard mold 300 facing the polymer layer 200.

이 상태에서 하드 몰드(300)와 기판(100)을 상호 밀착시키면 하드 몰드(300)의 미세패턴(310)이 폴리머층(200)에 전사된다. 밀착상태에서 폴리머층(200)에 열 또는 자외선을 가하여 폴리머층(200)을 경화시킨다.In this state, when the hard mold 300 and the substrate 100 are in close contact with each other, the fine pattern 310 of the hard mold 300 is transferred to the polymer layer 200. The polymer layer 200 is cured by applying heat or ultraviolet rays to the polymer layer 200 in a close contact state.

이 후 하드 몰드(300)와 폴리머층(200)을 이격시키면 폴리머층(200)에는 미세 패턴(210)이 형성된다.Thereafter, when the hard mold 300 and the polymer layer 200 are spaced apart from each other, a fine pattern 210 is formed in the polymer layer 200.

폴리머층(200)은 이후에 반응성 이온 식각(reactive ion etching)과 같은 공정을 더 거쳐 잔류 폴리머가 제거되어 기판(100) 상에는 미세 패턴(210)만이 남게 된다.The polymer layer 200 is then further subjected to a process such as reactive ion etching to remove residual polymer, leaving only the fine pattern 210 on the substrate 100.

그런데 하드 몰드를 이용한 임프린트 방식은 다음과 같은 문제로 인해 대형 기판에 적용되기 어렵다.However, the imprint method using the hard mold is difficult to be applied to a large substrate due to the following problems.

첫째, 기판이 대형화되고 이에 따라 하드 몰드가 대형화되면 폴리머층 전체를 균일한 압력으로 가압하기 어려워진다.First, when the substrate is enlarged and thus the hard mold is enlarged, it is difficult to press the entire polymer layer at a uniform pressure.

둘째, 균일한 가압을 위해 별도의 장치를 사용할 경우, 복잡한 메카니즘으로 인해 제조비용이 상승된다. 또한 별도의 장치 사용으로 인해 패턴형성시간이 매우 길어진다.Secondly, the use of a separate device for uniform pressurization increases the manufacturing cost due to complex mechanisms. In addition, the pattern forming time becomes very long due to the use of a separate device.

셋째, 하드 몰드와 폴리머층의 접촉시 공기 갇힘 현상(air trap)이 발생하여 폴리머층의 미세패턴에 불량이 발생한다.Third, an air trap occurs when the hard mold is in contact with the polymer layer, thereby causing a defect in the micropattern of the polymer layer.

넷째, 하드 몰드와 기판을 이형할 때, 폴리머층의 미세패턴이 훼손되거나 하드 몰드가 깨지는 현상이 발생한다.Fourth, when releasing the hard mold and the substrate, the micro pattern of the polymer layer is damaged or the hard mold is broken.

따라서 본 발명의 목적은 저비용으로 고품질의 패턴을 형성할 수 있는 패턴형성장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a pattern forming apparatus capable of forming a high quality pattern at low cost.

본 발명의 다른 목적은 저비용으로 고품질의 패턴을 형성할 수 있는 패턴형성방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a pattern forming method capable of forming a high quality pattern at low cost.

상기의 본 발명의 목적은 패턴형성대상물이 안착되는 안착부와; 상기 안착부 상부에 위치하는 지지본체와; 상기 지지본체와 상기 안착부 사이에 위치하며, 적어도 일측이 상기 지지본체에 대하여 슬라이딩 가능하도록 상기 지지본체에 연결되어 있는 소프트 몰드와; 상기 지지본체를 수직으로 이동시키는 수직 구동부를 포함하는 패턴형성장치에 의하여 달성될 수 있다.The above object of the present invention and the seating portion on which the pattern forming object is seated; A support body positioned above the seating portion; A soft mold positioned between the support body and the seating portion, the soft mold being connected to the support body so that at least one side thereof is slidable with respect to the support body; It can be achieved by a pattern forming apparatus including a vertical drive unit for vertically moving the support body.

상기 소프트 몰드를 상기 지지본체에 대하여 슬라이딩 가능하게 연결하는 구동 척과, 상기 구동 척을 슬라이딩 왕복 운동시키는 좌우 구동부를 더 포함하는 것이 바람직하다. It is preferable to further include a drive chuck to slidably connect the soft mold with respect to the support body, and a left and right drive unit for sliding reciprocating the drive chuck.

상기 구동척은 상기 소프트 몰드의 일단에 연결되어 있으며, 상기 일단과 마주하는 상기 소프트 몰드의 타단은 상기 지지본체에 고정되어 있는 것이 바람직하다. The driving chuck is connected to one end of the soft mold, and the other end of the soft mold facing the one end is preferably fixed to the support body.

상기 본 발명의 다른 목적은 패턴형성 대상물을 안착부에 안착시키는 단계와; 상기 패턴형성 대상물에 서로 마주하는 일단과 타단이 서로 접근하여 중앙부가 상기 패턴형성 대상물을 향해 돌출되어 있는 소프트 몰드를 접근시키는 단계와; 상기 중앙부부터 상기 소프트몰드를 상기 패턴형성 대상물에 밀착시키는 단계와; 상기 소프트몰드와 상기 패턴형성 대상물이 밀착된 상태에서 상기 소프트 몰드의 미세 패턴을 상기 패턴형성 대상물에 전사하는 단계와; 상기 소프트몰드와 상기 패턴형성 대상물을 이격시키는 단계를 포함하는 패턴형성방법에 의하여 달성될 수 있다.Another object of the present invention is the step of seating the pattern-forming object in the seating portion; One end and the other end facing each other approaching the pattern forming object approaching the soft mold having a central portion protruding toward the pattern forming object; Contacting the soft mold to the pattern forming object from the center; Transferring the fine pattern of the soft mold to the pattern forming object while the soft mold and the pattern forming object are in close contact with each other; It may be achieved by a pattern forming method comprising the step of separating the soft mold and the pattern forming object.

상기 전사 단계에서 상기 소프트 몰드는 상기 패턴형성 대상물과 평행하게 배치되어 있으며, 상기 이격 단계에서 상기 소프트몰드는 주변부부터 이격되는 것이 바람직하다.In the transfer step, the soft mold is disposed in parallel with the pattern forming object, and in the separation step, the soft mold is preferably spaced apart from the periphery.

이하 첨부된 도면을 참조로 하여 본발명을 더욱 상세히 설명하겠다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴형성장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a pattern forming apparatus according to an embodiment of the present invention.

패턴형성장치(1)는 패턴형성 대상물이 안착되는 안착부(10), 안착부(10) 상에 위치하는 소프트 몰드(20), 소프트 몰드(20)를 지지하는 지지본체(30), 지지본체(30)를 수직으로 이동시키는 수직 구동부(51)를 포함한다. 패턴형성장치(1)는 이 밖에 소프트 몰드(20)와 지지본체(30)를 연결하는 고정 척(41) 및 구동 척(42), 구동 척(42)을 슬라이딩 왕복 운동시키는 좌우 구동부(45)를 더 포함한다.The pattern forming apparatus 1 includes a seating portion 10 on which a pattern forming object is mounted, a soft mold 20 positioned on the seating portion 10, a support body 30 for supporting the soft mold 20, and a support body. And a vertical driver 51 for vertically moving the 30. The pattern forming apparatus 1 may further include a fixed chuck 41 and a driving chuck 42 and a driving chuck 42 for sliding the reciprocating motion of the soft chuck 20 and the support body 30. It further includes.

안착부(10)는 평행하게 배치되어 있으며 대략 소프트 몰드(20)에 대응하는 크기를 가지고 있다. 안착부(10)의 형상은 패턴형성 대상물과 소프트 몰드(20)의 형상에 따라 변형될 수 있으며, 예를 들어 직사각형 형상일 수 있다.The seating portions 10 are arranged in parallel and have a size substantially corresponding to the soft mold 20. The shape of the seating part 10 may be modified according to the shape of the pattern forming object and the soft mold 20, and may be, for example, a rectangular shape.

소프트 몰드(20)는 구동척(42)의 슬라이딩에 따라 변형가능하며 PDMS(polydimethylsiloxane)과 같은 실리콘 수지로 만들어질 수 있다. 안착부(10)를 향하는 면에는 미세 패턴(도시하지 않음)이 형성되어 있다. 소프트 몰드(20)는 일단에 연결된 고정 척(41)과 일단과 마주하는 타단에 연결된 구동 척(42)을 통해 지지본체(30)에 결합되어 있다. The soft mold 20 is deformable according to the sliding of the driving chuck 42 and may be made of a silicone resin such as polydimethylsiloxane (PDMS). A fine pattern (not shown) is formed on the surface facing the seating portion 10. The soft mold 20 is coupled to the support body 30 through a fixed chuck 41 connected to one end and a driving chuck 42 connected to the other end facing the one end.

지지본체(30)는 소프트 몰드(20)를 지지하며, 수직 구동부(51)에 연결되어 안착부(10)를 향해 접근하거나 이격할 수 있다. The support body 30 supports the soft mold 20 and may be connected to the vertical drive unit 51 to approach or space toward the seating unit 10.

이와 같은 구성에서 좌우 구동부(45)가 구동 척(42)을 고정 척(41) 방향으로 접근시키면 소프트 몰드(20)의 중앙부는 안착부(10)를 향해 돌출되고, 반대로 좌우구동부(45)가 구동 척(42)을 고정 척(41) 반대 방향으로 이격시키면 소프트 몰드(20)에 긴장력이 부여되어 안착부(10)와 평행하게 변형된다.In this configuration, when the left and right driving unit 45 approaches the driving chuck 42 toward the fixed chuck 41, the center portion of the soft mold 20 protrudes toward the seating unit 10, and conversely, the left and right driving unit 45 is When the driving chuck 42 is spaced apart in the direction opposite to the fixing chuck 41, a tension force is applied to the soft mold 20 and is deformed in parallel with the seating part 10.

한편 소프트 몰드(20)는 수직 구동부(51)의 작동에 따라 안착부(10)에 접근하거나 이격된다.Meanwhile, the soft mold 20 approaches or is spaced apart from the seating part 10 according to the operation of the vertical driving part 51.

수직 구동부 제어부(52)와 좌우 구동부 제어부(46)는 각각 수직 구동부(51)와 좌우 구동부(45)의 동작을 제어한다. 압력 게이지(31)는 소프트 몰드(20)가 패턴형성대상물에 인가하는 압력을 측정한다.The vertical driver 52 and the left and right driver 46 control the operations of the vertical driver 51 and the left and right drivers 45, respectively. The pressure gauge 31 measures the pressure applied by the soft mold 20 to the pattern forming object.

이상의 실시예는 다양하게 변형가능하다. 예를 들어 소프트 몰드(20)의 마주보는 양 단이 모두 구동 척(42)에 연결되는 것이 가능하다.The above embodiments can be variously modified. For example, it is possible that both ends of the soft mold 20 are connected to the drive chuck 42.

도 3a 내지 도 7b는 본 발명의 제1실시예에 따른 패턴형성장치를 이용한 패턴형성방법을 설명하기 위한 도면이다.3A to 7B are views for explaining a pattern forming method using the pattern forming apparatus according to the first embodiment of the present invention.

먼저 도 3a 및 도 3b와 같이 패턴형성 대상물(80)을 안착부(10)에 안착시키고, 구동 척(42)을 고정 척(41) 방향으로 접근시킨다.First, as shown in FIGS. 3A and 3B, the pattern forming object 80 is seated on the seating portion 10, and the driving chuck 42 is approached in the direction of the fixed chuck 41.

패턴형성 대상물(80)은 기판(81)과 기판(81) 상에 도포되어 있는 폴리머층(82)을 포함한다. 기판(81)은 액정표시장치, 유기전계발광장치, 플라즈마 디스플레이 장치와 같은 표시장치에 사용되는 절연기판이거나 반도체 웨이퍼일 수 있다. 절연기판은 유리 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 폴리머층(82)은 유기막 또는 감광막 등을 형성하기 위한 것으로, 열경화성 수지 또는 자외선경화성수지로 이루어져 있다.The pattern forming object 80 includes a substrate 81 and a polymer layer 82 coated on the substrate 81. The substrate 81 may be an insulating substrate or a semiconductor wafer used in a display device such as a liquid crystal display, an organic light emitting display, or a plasma display. The insulating substrate may be made of glass or plastic. The polymer layer 82 is for forming an organic film or a photosensitive film, and is made of a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.

폴리머층(82)을 향하는 소프트 몰드(20) 면에는 미세 패턴(21)이 형성되어 있다. 소프트 몰드(20)는 일단은 고정 척(41)에 의해 지지본체(10)에 고정된 상태에서 구동 척(42)의 작동으로 타단이 일단에 접근한다. 이러한 일단과 타단의 접 근과 자기 무게에 의해 소프트 몰드(20)의 중앙부는 폴리머층(82)을 향해 돌출된다.The fine pattern 21 is formed on the surface of the soft mold 20 facing the polymer layer 82. One end of the soft mold 20 approaches the other end by the operation of the driving chuck 42 in a state where one end is fixed to the support body 10 by the fixing chuck 41. By the approach of one end and the other end and the magnetic weight, the center portion of the soft mold 20 protrudes toward the polymer layer 82.

도 4a 및 도 4b는 수직 구동부(51)를 작동시켜 안착부(10)와 지지본체(30)를 상호 접근시켜 소프트 몰드(20)의 일부가 폴리머층(82)에 접촉된 상태를 나타낸다. 소프트 몰드(20)는 구동 척(42)의 이동으로 중앙부가 돌출된 상태이므로 중앙부가 먼저 폴리머층(82)과 접하게 된다. 계속하여 안착부(10)와 지지본체(30)를 상호 접근시키면 소프트 몰드(20)의 중앙부를 둘러싸는 주변부가 폴리머층(82)과 접하게 된다. 이러한 방식으로 소프트 몰드(20)와 폴리머층(82)의 순차적 접촉이 이루어진다. 또한 접촉이 순차적으로 이루어지기 때문에 소프트 몰드(20)와 폴리머층(82) 사이에 기포가 갇히는 문제도 감소한다.4A and 4B show a state in which a part of the soft mold 20 is in contact with the polymer layer 82 by operating the vertical driving unit 51 to access the seating unit 10 and the support body 30. Since the soft mold 20 is in a state where the center portion protrudes due to the movement of the driving chuck 42, the center portion comes into contact with the polymer layer 82 first. Subsequently, when the seating portion 10 and the support body 30 approach each other, the peripheral portion surrounding the center portion of the soft mold 20 comes into contact with the polymer layer 82. In this way, the sequential contact of the soft mold 20 with the polymer layer 82 is achieved. In addition, since the contact is sequentially made, the problem that air bubbles are trapped between the soft mold 20 and the polymer layer 82 is reduced.

도 5a 및 도 5b는 폴리머층(82) 전부가 소프트 몰드(20)에 밀착되어 전사가 이루어지는 상태를 나타낸다. 지지본체(30)의 하강에 의해 폴리머층(82) 전영역에 걸쳐 소프트 몰드(20)와의 접촉이 완료되면 좌우 구동부(45)를 조작하여 일단과 타단을 이격시켜 소프트 몰드(20)를 평행하게 만든다. 이를 위해 좌우 구동부(45)는 구동 척(42)을 고정 척(41)과 이격되도록 이동시킨다. 폴리머층(82) 전체에 걸친 균일한 가압을 위해 소프트 몰드(20)는 폴리머층(82) 보다 다소 크게 마련되는 것이 바람직하다. 5A and 5B show a state in which all of the polymer layers 82 are in close contact with the soft mold 20 and transfer is performed. When the contact with the soft mold 20 is completed over the entire area of the polymer layer 82 by the lowering of the support body 30, the left and right driving parts 45 are operated to separate one end and the other end so that the soft mold 20 is parallel to each other. Make. To this end, the left and right driving units 45 move the driving chuck 42 to be spaced apart from the fixed chuck 41. The soft mold 20 is preferably provided somewhat larger than the polymer layer 82 for uniform pressurization throughout the polymer layer 82.

이 과정을 더 상세히 설명하면 다음과 같다.The process is explained in more detail as follows.

수직 구동부(51)에 의해 지지본체(30)와 안착부(10)의 접근이 완료되고, 폴리머층(82)의 전영역에 걸쳐 접촉이 완료되면 소프트 몰드(20)를 평행하고 만들고 수직 구동부(51)를 조절하여 폴리머층(82)에 소정의 압력을 가한다. 이 때 소프트 몰드(20)는 평행하게 배치되어 있기 때문에 폴리머층(82)은 균일한 압력을 받게 된다. 균일하게 가압된 상태에서 폴리머층(82)에 자외선 또는 열을 가하여 폴리머층(82)을 경화시킨다. 이 상태에서 소프트 몰드(20)는 지지 본체(30)의 하부면에 밀착되어 있다.When the access of the support body 30 and the seating unit 10 is completed by the vertical drive unit 51 and the contact is completed over the entire area of the polymer layer 82, the soft mold 20 is made parallel and the vertical drive unit ( 51 is adjusted to apply a predetermined pressure to the polymer layer 82. At this time, since the soft molds 20 are arranged in parallel, the polymer layer 82 is subjected to uniform pressure. The polymer layer 82 is cured by applying ultraviolet rays or heat to the polymer layer 82 in a uniformly pressed state. In this state, the soft mold 20 is in close contact with the lower surface of the support body 30.

이 때 폴리머층(82)에 가해지는 압력을 조절하여 패턴형성 후 잔류 폴리머 두께를 효과적으로 제어할 수 있다. 또한 평평한 형태의 지지본체(30)를 통하여 가압하기 때문에 소프트 몰드(20)를 균일하게 가압하기가 용이하고 시간이 적게 소요되며, 전사된 패턴의 균일도를 향상시킬 수 있다. 폴리머층(82)에 가해지는 압력은 압력 게이지(31)를 통해 측정가능하다.At this time, by adjusting the pressure applied to the polymer layer 82, it is possible to effectively control the residual polymer thickness after pattern formation. In addition, since the pressing through the support body 30 of the flat form, it is easy to press the soft mold 20 uniformly, takes less time, and can improve the uniformity of the transferred pattern. The pressure applied to the polymer layer 82 is measurable through the pressure gauge 31.

도 6a 및 도 6b는 안착부(10)와 지지본체(30)를 상호 이격시켜 소프트 몰드(20)의 일부가 폴리머층(82)과 이격된 상태를 나타낸다. 이 때 구동 척(42)을 고정 척(41)에 접근하는 방향으로 작동시켜 소프트 몰드(20)는 중앙부가 다시 돌출된 상태가 되도록 한다. 이 상태에서 소프트 몰드(20)는 전체가 폴리머층(82)에서 한꺼번에 이격되지 않고 주변부가 먼저 폴리머층(82)과 이격된다. 계속하여 안착부(10)와 지지본체(30)를 상호 이격시키면 소프트 몰드(20)의 중앙부가 폴리머층(82)과 이격된다. 6A and 6B show a state in which a part of the soft mold 20 is spaced apart from the polymer layer 82 by spaced apart from the seat 10 and the support main body 30. At this time, the driving chuck 42 is operated in a direction approaching the fixed chuck 41 so that the soft mold 20 is in a state where the center portion is protruded again. In this state, the soft mold 20 is not spaced all at once from the polymer layer 82, but the peripheral portion is first spaced apart from the polymer layer 82. Subsequently, when the seating portion 10 and the support body 30 are spaced apart from each other, the center portion of the soft mold 20 is spaced apart from the polymer layer 82.

이러한 방식으로 소프트 몰드(20)와 폴리머층(82)의 순차적 이격이 이루어진다. 이격이 순차적으로 이루어지기 때문에 이격과정에서 폴리머층(82)에 형성된 미세패턴(83)이 손상되거나 소프트 몰드(20)가 손상되는 문제도 감소한다. 또한 순차 적 이격으로 이격에 필요한 힘이 감소하는 효과도 있다.In this way, the sequential separation of the soft mold 20 and the polymer layer 82 is achieved. Since the separation is sequentially performed, the problem that the fine pattern 83 formed on the polymer layer 82 is damaged or the soft mold 20 is damaged during the separation process is reduced. In addition, the sequential spacing also reduces the force required for spacing.

도 7a 및 도 7b는 폴리머층(82)과 소프트 몰드(20)가 완전히 이격된 상태를 나타낸다. 폴리머층(82)에는 소프트 몰드(20)의 미세패턴(21)이 전사되어 있다.7A and 7B show a state in which the polymer layer 82 and the soft mold 20 are completely spaced apart. The fine pattern 21 of the soft mold 20 is transferred to the polymer layer 82.

이후 미세패턴(83)이 형성된 폴리머층(82)을 반응성 이온식각 등을 통해 잔류 폴리머층을 제거하면 기판(10)상에는 미세패턴(83)만이 남게 된다.Thereafter, when the polymer layer 82 having the micropattern 83 formed thereon is removed from the polymer layer through reactive ion etching, only the micropattern 83 remains on the substrate 10.

이상의 본 발명은 반도체공정, 액정표시장치공정, 광소자, 바이오 분야, 도광판 제조, 컬러필터 기판 제조, 반사판 제조 등에 사용될 수 있다.The present invention can be used in semiconductor process, liquid crystal display device process, optical device, bio field, light guide plate manufacture, color filter substrate manufacture, reflector manufacture, and the like.

비록 본발명의 실시예가 도시되고 설명되었지만, 본발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 본발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.Although embodiments of the present invention have been shown and described, it will be apparent to those skilled in the art that the present embodiments may be modified without departing from the spirit or principles of the present invention. It is intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 저비용으로 고품질의 패턴을 형성할 수 있는 패턴형성장치가 제공된다.As described above, according to the present invention, a pattern forming apparatus capable of forming a high quality pattern at low cost is provided.

또한 본 발명에 따르면 저비용으로 고품질의 패턴을 형성할 수 있는 패턴형성방법이 제공된다.In addition, according to the present invention is provided a pattern forming method that can form a high quality pattern at a low cost.

Claims (5)

패턴형성장치에 있어서,In the pattern forming apparatus, 패턴형성대상물이 안착되는 안착부와;A seating part on which the pattern forming object is seated; 상기 안착부 상부에 위치하는 지지본체와;A support body positioned above the seating portion; 상기 지지본체와 상기 안착부 사이에 위치하며, 적어도 일측이 상기 지지본체에 대하여 슬라이딩 가능하도록 상기 지지본체에 연결되어 있는 소프트 몰드와;A soft mold positioned between the support body and the seating portion, the soft mold being connected to the support body so that at least one side thereof is slidable with respect to the support body; 상기 지지본체를 수직으로 이동시키는 수직 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성장치.Patterning apparatus comprising a vertical drive for moving the support body vertically. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 소프트 몰드를 상기 지지본체에 대하여 슬라이딩 가능하게 연결하는 구동 척과,A drive chuck to slidably connect the soft mold with respect to the support body; 상기 구동 척을 슬라이딩 왕복 운동시키는 좌우 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성장치.The pattern forming apparatus further comprises a left and right driving unit for sliding the drive chuck reciprocating. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 구동척은 상기 소프트 몰드의 일단에 연결되어 있으며,The driving chuck is connected to one end of the soft mold, 상기 일단에 마주하는 상기 소프트 몰드의 타단은 상기 지지본체에 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 패턴형성장치.The other end of the soft mold facing the one end is fixed to the support body, characterized in that the pattern forming apparatus. 패턴형성방법에 있어서,In the pattern formation method, 패턴형성 대상물을 안착부에 안착시키는 단계와;Mounting the pattern forming object on the seating part; 상기 패턴형성 대상물에 서로 마주하는 일단과 타단이 서로 접근하여 중앙부가 상기 패턴형성 대상물을 향해 돌출되어 있는 소프트 몰드를 접근시키는 단계와;One end and the other end facing each other approaching the pattern forming object approaching the soft mold having a central portion protruding toward the pattern forming object; 상기 중앙부부터 상기 소프트몰드를 상기 패턴형성 대상물에 밀착시키는 단계와;Contacting the soft mold to the pattern forming object from the center; 상기 소프트몰드와 상기 패턴형성 대상물이 밀착된 상태에서 상기 소프트 몰드의 미세 패턴을 상기 패턴형성 대상물에 전사하는 단계와;Transferring the fine pattern of the soft mold to the pattern forming object while the soft mold and the pattern forming object are in close contact with each other; 상기 소프트몰드와 상기 패턴형성 대상물을 이격시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.And separating the soft mold from the pattern forming object. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 전사 단계에서 상기 소프트 몰드는 상기 패턴형성 대상물과 평행하게 배치되어 있으며,In the transfer step, the soft mold is disposed in parallel with the pattern forming object, 상기 이격 단계에서 상기 소프트몰드는 주변부부터 이격되는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.In the separation step, the soft mold is a pattern forming method, characterized in that spaced from the peripheral portion.
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