JP2017147283A - Transfer method for fine structure and transfer device for fine structure - Google Patents

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Teppei Iwase
鉄平 岩瀬
石川 明弘
Akihiro Ishikawa
明弘 石川
和田 紀彦
Norihiko Wada
紀彦 和田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable transfer of a fine structure to a transfer destination body with high precision.SOLUTION: An irregular pattern is formed on a fine structure mold 24, the irregular pattern is pre-filled with resin 22, and the fine structure mold 24 is pressed against a transfer destination body 21 to transfer the resin 22 of the fine structure mold 24 to the transfer destination body 21, whereby the fine structure can be transferred to the transfer destination body 21 with high precision.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、被転写体に微細構造を転写する微細構造の転写方法および微細構造の転写装置に関する。   The present invention relates to a fine structure transfer method and a fine structure transfer apparatus for transferring a fine structure to a transfer target.

近年、ディスプレイ、照明などの商品に用いられる光学部品において、特殊光学特性を発揮するナノメートル(nm)オーダーからミクロン(μm)オーダーの微細なパターンを光学部品の表面等に形成することで、光の反射、回折を制御した従来にない新機能を発現したデバイスを実現することが望まれている。また、システムLSIなどの半導体において、高集積化に伴った配線の微細化も望まれている。このような微細な構造を形成する方法として、被転写体にUV硬化樹脂を塗布し、UV硬化樹脂にモールドを押し当てた状態でUV光を照射することにより、モールド形状を被転写体に転写するUVインプリント法が注目されている。例えば、特許文献1に記載の方法が知られている。   In recent years, in optical parts used in products such as displays and lighting, light is formed by forming fine patterns on the surface of optical parts, etc. on the order of nanometers (nm) to microns (μm), which exhibit special optical properties. Therefore, it is desired to realize a device that has an unprecedented new function in which reflection and diffraction are controlled. In addition, in semiconductors such as system LSIs, miniaturization of wiring accompanying high integration is also desired. As a method for forming such a fine structure, a UV curable resin is applied to a transfer object, and the mold shape is transferred to the transfer object by irradiating the UV light with the mold pressed against the UV curable resin. The UV imprint method is attracting attention. For example, the method described in Patent Document 1 is known.

図11は、特許文献1における工程フローの概略模式図である。
まず、図11の工程aにおいて、対象とする被転写体である基板11上に、スピンコート法などを用いて転写材料12が全面塗布される。
FIG. 11 is a schematic diagram of a process flow in Patent Document 1.
First, in step a in FIG. 11, the transfer material 12 is applied over the entire surface of the substrate 11, which is an object to be transferred, using a spin coating method or the like.

次に図11の工程bにおいて、平坦なステージ13に基板11が配置され、基板11の上方に薄板の微細構造モールド14が把持具17を用いて配置された後、さらに上方より円筒状の加圧ローラ151が微細構造モールド14を加圧しながら水平方向に順次移動される。また同時に加圧ローラ151の進行方向における後方側からUV照射器16によってUV照射を行って転写材料12を硬化させる。   Next, in step b of FIG. 11, the substrate 11 is placed on the flat stage 13, and the thin microstructured mold 14 is placed above the substrate 11 using the gripping tool 17, and then further cylindrically added from above. The pressure roller 151 is sequentially moved in the horizontal direction while pressing the microstructure mold 14. At the same time, UV transfer is performed by the UV irradiator 16 from the rear side in the traveling direction of the pressure roller 151 to cure the transfer material 12.

最後に図11の工程cにおいて、加圧ローラ151を逆方向に移動させると同時に、把持具17を上方へ移動させることで微細構造モールド14が硬化された転写材料12から離型され、基板11上に転写材料12が微細構造モールド14の形状で転写される。   Finally, in step c of FIG. 11, the pressure roller 151 is moved in the opposite direction and at the same time the gripping tool 17 is moved upward, whereby the microstructure mold 14 is released from the cured transfer material 12, and the substrate 11. The transfer material 12 is transferred in the form of a microstructure mold 14 onto it.

特開2014−54735号公報JP 2014-54735 A

しかしながら、基板11に予め塗布された転写材料12に対して微細構造モールド14を押し当てた場合、微細構造モールド14の微細な凹凸の中へ転写材料12が十分に充填されず、気泡が混入するなどして、図12のような欠陥140を含む微細構造が形成されてしまう可能性がある。   However, when the microstructure mold 14 is pressed against the transfer material 12 previously applied to the substrate 11, the transfer material 12 is not sufficiently filled into the fine irregularities of the microstructure mold 14, and bubbles are mixed. For example, a fine structure including the defect 140 as shown in FIG. 12 may be formed.

本発明は上記従来の問題点に鑑み、被転写体に高精度に微細構造を転写することを目的とする。   In view of the above-described conventional problems, an object of the present invention is to transfer a fine structure to a transfer target with high accuracy.

上記目的を達成するために、本発明の一実施形態に係る微細構造の転写方法は、被転写体に微細構造を形成する微細構造の転写方法であって、前記微細構造に対応する凹凸パターンが表面に形成されたモールドの前記凹凸パターンの凹部に樹脂を塗布する塗布工程と、前記樹脂が塗布された前記表面と前記被転写体の前記微細構造が形成される形成面とが向かい合うように前記被転写体を配置する配置工程と、前記被転写体に前記樹脂が接するように前記モールドと前記被転写体とを相対的に移動させて互いに加圧する加圧工程と、前記被転写体上で前記樹脂を硬化させる硬化工程と、前記モールドと前記被転写体とを相対的に引き離して前記樹脂のみを前記被転写体に転写する離型工程とを有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, a fine structure transfer method according to an embodiment of the present invention is a fine structure transfer method for forming a fine structure on a transfer object, and a concavo-convex pattern corresponding to the fine structure is provided. The application step of applying a resin to the concave portion of the concave / convex pattern of the mold formed on the surface, and the surface on which the resin is applied and the formation surface on which the fine structure of the transferred body is formed face each other. A placement step of placing the transfer body, a pressurization step of relatively moving the mold and the transfer body so that the resin comes into contact with the transfer body and pressurizing each other, and on the transfer body The method includes a curing step for curing the resin, and a mold release step for relatively separating the mold and the transferred body to transfer only the resin to the transferred body.

また、本発明の一実施形態に係る微細構造の転写装置は、被転写体に微細構造を形成する微細構造の転写装置であって、前記微細構造に対応する凹凸パターンが表面に形成されて前記凹凸パターンの凹部に樹脂が充填されたモールドと、前記モールド及び前記被転写体を相対的に移動させる把持具と、前記モールドを前記被転写体に押圧する加圧ツールと、前記樹脂を硬化させる樹脂硬化装置とを有することを特徴とする。   The fine structure transfer device according to an embodiment of the present invention is a fine structure transfer device that forms a fine structure on a transfer object, and has a concavo-convex pattern corresponding to the fine structure formed on a surface thereof. A mold in which a concave portion of a concavo-convex pattern is filled with a resin, a gripping tool that relatively moves the mold and the transferred object, a pressure tool that presses the mold against the transferred object, and the resin is cured. And a resin curing device.

以上のように、微細構造モールドに凹凸パターンを形成し、凹凸パターンに樹脂をあらかじめ充填し、微細構造モールドを被転写体に加圧して微細構造モールドの樹脂を被転写体に転写することにより、被転写体に高精度に微細構造を転写することができる。   As described above, by forming a concavo-convex pattern on the microstructure mold, filling the concavo-convex pattern with resin in advance, pressurizing the microstructure mold onto the transfer object, and transferring the resin of the microstructure mold onto the transfer object, A fine structure can be transferred to a transfer target with high accuracy.

本発明の実施の形態における微細パターンの転写方法および転写装置を例示する模式図Schematic diagram illustrating a fine pattern transfer method and transfer device according to an embodiment of the invention 本発明の実施の形態における樹脂の塗布方法および塗布装置の例を説明する模式図Schematic diagram illustrating an example of a resin coating method and a coating apparatus in an embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における樹脂の塗布方法により塗布した樹脂の状態を例示する模式図The schematic diagram which illustrates the state of the resin apply | coated by the resin application | coating method in embodiment of this invention 本発明の実施の形態における樹脂の塗布方法および塗布装置の例を説明する模式図Schematic diagram illustrating an example of a resin coating method and a coating apparatus in an embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における樹脂の塗布方法および塗布装置の例を説明する模式図Schematic diagram illustrating an example of a resin coating method and a coating apparatus in an embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における樹脂の塗布方法および塗布装置の例を説明する模式図Schematic diagram illustrating an example of a resin coating method and a coating apparatus in an embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における加圧方法および加圧装置の例を説明する模式図Schematic diagram illustrating an example of a pressurizing method and pressurizing apparatus in an embodiment of the present invention 本発明の実施の形態における加圧方法および加圧装置の例を説明する模式図Schematic diagram illustrating an example of a pressurizing method and pressurizing apparatus in an embodiment of the present invention 本発明の変形例における樹脂の塗布方法および塗布装置の例を説明する模式図The schematic diagram explaining the example of the coating method and coating device of the resin in the modification of this invention 本発明の変形例における加圧時の樹脂流動状態の例を説明する模式図The schematic diagram explaining the example of the resin flow state at the time of pressurization in the modification of this invention 従来のローラ式のUVインプリント技術の概要を示す模式図Schematic diagram showing an overview of conventional roller-type UV imprint technology 従来のインプリント方式の課題を説明するための模式図Schematic diagram for explaining the problems of the conventional imprint method

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施の形態におけるインプリント方法の工程フローを例示する模式図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view illustrating the process flow of the imprint method according to the embodiment of the invention.

本実施の形態における微細構造の転写方法であるインプリント方法は、従来工程と比較して、従来のように基板に樹脂を塗布するのではなく、基板に形成する微細構造に対応する凹凸パターンを有するモールドに樹脂を塗布する方法であることが第1の特徴である。第1の特徴により、モールドに形成された微細な凹凸パターンの凹部の内部に十分に樹脂を充填させることが可能となる。このため、塗布された樹脂内への気泡の混入を防止でき、高精度な転写を実現できる。   Compared with the conventional process, the imprint method, which is a fine structure transfer method according to the present embodiment, does not apply resin to the substrate as in the prior art, but has an uneven pattern corresponding to the microstructure to be formed on the substrate. The first feature is that it is a method of applying a resin to a mold having the same. The first feature makes it possible to sufficiently fill the inside of the concave portion of the fine concavo-convex pattern formed in the mold. For this reason, mixing of bubbles into the applied resin can be prevented, and high-accuracy transfer can be realized.

また、本実施の形態において、モールドを被転写体に加圧する際に第2の特徴として、被転写体の中央を初めに加圧し、その後、被転写体の外周側へ逐次的に加圧範囲を広げても良いる。第2の特徴により、万一、加圧時に気泡が樹脂内に混入したとしても、中央から外端側に向けて加圧を行うことで、混入した気泡を外側に追い出すことが可能となる。ゆえに、本特徴により、樹脂に気泡が混入することを抑え、より高精度な転写を実現できる。   Further, in the present embodiment, when the mold is pressed against the transfer object, the second feature is that the center of the transfer object is first pressed, and then the pressure range is sequentially applied to the outer peripheral side of the transfer object. You can spread it. According to the second feature, even if bubbles are mixed in the resin at the time of pressurization, the mixed bubbles can be driven out by pressing from the center toward the outer end side. Therefore, according to this feature, it is possible to suppress the mixing of bubbles into the resin and realize more accurate transfer.

更に、第2の特徴に加え、第3の特徴として、被転写体の転写面を下向きに保持しその転写面を下側から加圧しても良い。本特徴により、モールドから樹脂が流出することが抑制され、更なる高精度化を実現できる。   Further, in addition to the second feature, as a third feature, the transfer surface of the transfer target may be held downward and the transfer surface may be pressurized from below. With this feature, it is possible to suppress the resin from flowing out of the mold, and to achieve further high accuracy.

以下、本実施の形態に係る転送方法を詳述する。
図1の工程aは、微細構造に対応する微細な凹凸パターンを有するモールドに樹脂を塗布する樹脂塗布工程である。まず、例えば、微細な凹凸パターンが表面に形成された透光性を有するフィルム状の微細構造モールド24をモールドとして準備する。次に、フィルム状の微細構造モールド24の外端を把持具27で把持し固定する。また、樹脂として、UV硬化樹脂22を準備する。その後、フィルム状の微細構造モールド24の凹凸パターンが形成されている面にUV硬化樹脂22が塗布され、凹凸パターンの凹部の中にUV硬化樹脂22が十分に充填される。塗布手段は様々に考えられ、一般的なスピンコート法でも良く、その他にスクリーン印刷法、ディスペンス法、スプレー塗布法などのいくつかの手段が挙げられる。塗布手段によるが、パターン上面に余剰なレジストが堆積する場合は、スキージングなどで表層部分のみをかきとる方式も採用できる。本工程のように、微細構造モールド24の凹凸パターンに樹脂を直接供給することで、凹凸パターンの内部にまで十分に樹脂を充填させることが可能となり、気泡が混入するリスクを軽減できる。
Hereinafter, the transfer method according to the present embodiment will be described in detail.
Step a in FIG. 1 is a resin application step of applying a resin to a mold having a fine uneven pattern corresponding to a fine structure. First, for example, a light-transmitting film-like microstructure mold 24 having a fine concavo-convex pattern formed on the surface is prepared as a mold. Next, the outer end of the film-like microstructure mold 24 is held and fixed by the holding tool 27. Further, a UV curable resin 22 is prepared as a resin. Thereafter, the UV curable resin 22 is applied to the surface of the film-like microstructure mold 24 on which the concavo-convex pattern is formed, and the UV curable resin 22 is sufficiently filled in the concave portions of the concavo-convex pattern. Various application means may be considered, and a general spin coating method may be used, and other methods such as a screen printing method, a dispensing method, and a spray application method may be used. Although it depends on the coating means, when excess resist is deposited on the upper surface of the pattern, a method of scraping only the surface layer portion by squeezing or the like can also be adopted. By supplying the resin directly to the concavo-convex pattern of the microstructure mold 24 as in this step, the resin can be sufficiently filled into the concavo-convex pattern, and the risk of air bubbles being mixed can be reduced.

次に図1の工程b,工程cに示すように、被転写体の一例である基板21とUV硬化樹脂22が充填された微細構造モールド24とが加圧されながら接触される。例えば、図1の工程bのように、基板21の転写面と反対側の面をステージ23によって吸着し固定する。図1の例に示すように、転写面を下側にして基板21をステージ23の下側に配置し、基板21の上方からステージ23によって基板21を全面吸着し固定しても良い。モールドを加圧する際には、把持具27によって把持された微細構造モールド24が、UV硬化樹脂22が塗布された面と前記基板21の転写面とが対向するように配置された後、基板21の中央部分に対応する位置より加圧ローラ251が上昇され基板21の下面より加圧する。その後、前記加圧ローラ251を基板21に対し、基板21の外周へ向かう方向に平面上一方向へと移動させ凹凸パターンに充填されたUV硬化樹脂22からなる微細構造が逐次基板に転写される。この際、把持具27は、図1の工程bに示すように、加圧ローラ251が移動した方向に該当する一方のみが加圧ローラ251の移動量に同期して上昇し、図1の工程cに示すように加圧ローラ251が基板21の外端で停止する際に微細構造モールド24の表面と基板21の外端とが接触する位置で停止する。なお、ここでの把持具27は微細構造モールド24を把持するとともに、微細構造モールド24と基板21とを相対的に移動させたが、基板21を保持する把持具をさらに設け、この把持具にて基板21を移動させることにより、微細構造モールド24と基板21とを相対的に移動させても良い。次に、把持具27のもう一方の部分を加圧ローラの移動量と同期して上昇させて最初にステージ23に接触させた微細構造モールド24の端部に対する反対側の微細構造モールド24の端部をステージ23側に上昇させた状態で、加圧ローラ251を反対方向へ移動させる。最終的に微細構造モールド24が基板21に対して全面接触させるに至った状態で加圧ローラ251を停止させる。   Next, as shown in steps b and c of FIG. 1, the substrate 21 which is an example of the transfer target and the microstructure mold 24 filled with the UV curable resin 22 are brought into contact with each other while being pressurized. For example, as shown in step b of FIG. 1, the surface opposite to the transfer surface of the substrate 21 is sucked and fixed by the stage 23. As shown in the example of FIG. 1, the substrate 21 may be disposed below the stage 23 with the transfer surface facing down, and the entire surface of the substrate 21 may be adsorbed and fixed by the stage 23 from above the substrate 21. When pressurizing the mold, the microstructure mold 24 held by the holding tool 27 is disposed so that the surface coated with the UV curable resin 22 and the transfer surface of the substrate 21 face each other, and then the substrate 21. The pressure roller 251 is lifted from a position corresponding to the central portion of the substrate 21 and is pressed from the lower surface of the substrate 21. Thereafter, the pressure roller 251 is moved in one direction on the plane in the direction toward the outer periphery of the substrate 21 with respect to the substrate 21, and the fine structure made of the UV curable resin 22 filled in the concavo-convex pattern is sequentially transferred to the substrate. . At this time, as shown in step b of FIG. 1, only one of the grippers 27 corresponding to the direction in which the pressure roller 251 has moved rises in synchronization with the amount of movement of the pressure roller 251. When the pressure roller 251 stops at the outer end of the substrate 21 as shown in c, it stops at the position where the surface of the microstructure mold 24 and the outer end of the substrate 21 come into contact. Here, the gripping tool 27 grips the microstructure mold 24 and relatively moves the microstructure mold 24 and the substrate 21. However, a gripping tool for holding the substrate 21 is further provided in the gripping tool. Then, the microstructure mold 24 and the substrate 21 may be moved relative to each other by moving the substrate 21. Next, the end of the microstructure mold 24 opposite to the end of the microstructure mold 24 first brought into contact with the stage 23 by raising the other portion of the gripper 27 in synchronization with the moving amount of the pressure roller. The pressure roller 251 is moved in the opposite direction in a state where the part is raised to the stage 23 side. The pressure roller 251 is stopped in a state where the fine structure mold 24 finally comes into contact with the entire surface of the substrate 21.

なお、加圧ローラ251の幅が微細構造モールド24の幅以上の長さの場合、加圧ローラ251を加圧ローラ251の幅に対する垂直方向の一方向に移動させた後、反対方向に移動させることにより、微細構造モールド24の全面を基板21に吸着固定させることができる。加圧ローラ251の幅が微細構造モールド24の幅より短い場合は、加圧ローラ251を微細構造モールド24の長さ方向である加圧ローラ251の幅に垂直な方向に前後させた後、加圧ローラ251を加圧ローラ251の幅方向に移動させて移動加圧動作を繰り返し、微細構造モールド24の全面を基板21に加圧させても良い。また、上記のように、加圧ローラ251を基板21に対して移動させても良いが、基板21を加圧ローラ251に対して移動させても良く、加圧ローラ251と基板21とが相対的に移動して、加圧ローラ251が基板21に加圧されれば良い。また、加圧ローラ251は、微細構造モールド24の凹凸パターン形成面に対する裏面側から押圧しても良いし、基板21の微細構造形成面に対する裏面側から押圧しても良い。また、微細構造モールド24は必ずフィルム状である必要はなく、加圧の際に必要な変形が可能な程度に弾性を有すればフィルム状であることに限定されず、ある程度の厚みがあっても良い。   When the width of the pressure roller 251 is longer than the width of the microstructure mold 24, the pressure roller 251 is moved in one direction perpendicular to the width of the pressure roller 251 and then moved in the opposite direction. As a result, the entire surface of the microstructure mold 24 can be adsorbed and fixed to the substrate 21. When the width of the pressure roller 251 is shorter than the width of the microstructure mold 24, the pressure roller 251 is moved back and forth in a direction perpendicular to the width of the pressure roller 251, which is the length direction of the microstructure mold 24. The pressure roller 251 may be moved in the width direction of the pressure roller 251 and the moving and pressing operation may be repeated to press the entire surface of the microstructure mold 24 onto the substrate 21. Further, as described above, the pressure roller 251 may be moved with respect to the substrate 21, but the substrate 21 may be moved with respect to the pressure roller 251, and the pressure roller 251 and the substrate 21 are relative to each other. And the pressure roller 251 may be pressed against the substrate 21. Further, the pressure roller 251 may be pressed from the back side with respect to the concave / convex pattern forming surface of the microstructure mold 24 or may be pressed from the back side with respect to the fine structure forming surface of the substrate 21. Further, the microstructure mold 24 is not necessarily in the form of a film, and is not limited to a film form as long as it has elasticity to the extent that it can be deformed when pressed, and has a certain thickness. Also good.

次に図1の工程dに示すように、前記加圧接触されたUV硬化樹脂22は樹脂硬化装置であるUV光源26より微細構造モールド24を介して紫外線(以下、UV光と称す)が照射され、UV硬化樹脂22は硬化される。なお、微細構造モールド24は透光性を有することにより、微細構造モールド24を介してUV光を照射することができるため好ましいが、UV光の照射方法によっては透光性を有する必要はない。また、樹脂を硬化するためにUV光を照射する必要がない樹脂を用いる場合も、微細構造モールド24は透光性を有する必要はない。   Next, as shown in step d of FIG. 1, the UV curable resin 22 subjected to the pressure contact is irradiated with ultraviolet rays (hereinafter referred to as UV light) through a microstructure mold 24 from a UV light source 26 which is a resin curing device. Then, the UV curable resin 22 is cured. Note that the microstructure mold 24 is preferable because it has translucency, so that UV light can be irradiated through the microstructure mold 24, but it does not need to have translucency depending on the UV light irradiation method. Also, when using a resin that does not need to be irradiated with UV light in order to cure the resin, the microstructure mold 24 does not need to have translucency.

最後に図1の工程eの離型工程に示すように、前記上昇した把持具27を下方向へ移動させることで、基板21に転写されたUV硬化樹脂22を残しながら微細構造モールド24のみを離型する。   Finally, as shown in the mold release step of step e in FIG. 1, by moving the raised gripper 27 downward, only the microstructure mold 24 is left while leaving the UV curable resin 22 transferred to the substrate 21. Release.

ここで、前記した微細構造モールド上へのUV硬化樹脂の塗布手段について図2,図3を用いて詳細に説明する。図2は塗布方法の一例としてスプレー法によりUV硬化樹脂を塗布する工程を説明する断面模式図、図3はUV硬化樹脂を塗布した後の微細構造モールドを例示する平面模式図である。   Here, the means for applying the UV curable resin onto the microstructure mold will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a process of applying a UV curable resin by a spray method as an example of a coating method, and FIG. 3 is a schematic plan view illustrating a microstructure mold after the UV curable resin is applied.

スプレー法によるUV硬化樹脂の塗布では、遮蔽マスク32を用いて微細構造モールド24をパターニングした状態でスプレーノズル31により微細構造モールド24の上方からUV硬化樹脂22を塗布する。UV硬化樹脂22の塗布領域であるパターニングエリア241は図3に示すように、転写対象となる基板21の外形形状及びサイズと同一もしく基板21の微細構造が形成される領域と同一の形状及びサイズとなるようにする。そのため、微細構造モールド24の微細形状が形成される領域であるパターン形成領域242はパターニングエリア241よりも大きく形成しておく。このように、微細構造モールド24の凹凸パターンが形成された面上に遮蔽マスク32を配置し、遮蔽マスク32上から微細構造モールド24にUV硬化樹脂22をスプレーノズル31から塗布する。これにより、パターニングエリア241に対応する遮蔽マスク32の開口部から微細構造モールド24の凹凸パターンが形成された面上にUV硬化樹脂22が塗布され、パターニングエリア241の凹凸パターンのみにUV硬化樹脂22が充填される。   In the application of the UV curable resin by the spray method, the UV curable resin 22 is applied from above the microstructure mold 24 by the spray nozzle 31 in a state where the microstructure mold 24 is patterned using the shielding mask 32. As shown in FIG. 3, the patterning area 241 that is the application region of the UV curable resin 22 has the same shape and the same shape as the region where the fine structure of the substrate 21 is formed, as well as the outer shape and size of the substrate 21 to be transferred. Try to be the size. Therefore, the pattern formation region 242 that is a region where the fine shape of the microstructure mold 24 is formed is formed larger than the patterning area 241. Thus, the shielding mask 32 is disposed on the surface of the microstructure mold 24 on which the concave / convex pattern is formed, and the UV curable resin 22 is applied from the spray nozzle 31 onto the microstructure mold 24 from above the shielding mask 32. As a result, the UV curable resin 22 is applied to the surface of the microstructure mold 24 on which the concavo-convex pattern is formed from the opening of the shielding mask 32 corresponding to the patterning area 241, and the UV curable resin 22 is applied only to the concavo-convex pattern in the patterning area 241. Is filled.

その他塗布手段としては、図4の断面図に示すように、スクリーン印刷法を用いて、スクリーン版33の開口領域を図3に示すパターニングエリア241と同形とし、スキージ34でUV硬化樹脂22をスクリーン版33を介して加圧し滴下させることで同様の塗布が実現できる。   As other coating means, as shown in the sectional view of FIG. 4, the screen printing method is used to make the opening area of the screen plate 33 the same shape as the patterning area 241 shown in FIG. Similar application can be realized by applying pressure and dropping through the plate 33.

また図5の断面図に示すように、ディスペンス法を用いて、ディスペンスノズル35よりUV硬化樹脂22を滴下しながら、図3に示すパターニングエリア241に塗布が実現できるようにディスペンスノズル35を移動させることで同様の塗布が実現できる。また、塗布後のUV硬化樹脂22の膜厚が厚いようであれば、図6に示すようなスキージング法を追加することで、スキージ36により余分なUV硬化樹脂22を除去し、凹凸パターンへの充填を確保しながら極限までUV硬化樹脂22を薄膜化することが可能である。   Further, as shown in the cross-sectional view of FIG. 5, the dispensing nozzle 35 is moved using the dispensing method so that the UV curable resin 22 is dropped from the dispensing nozzle 35 so that coating can be realized in the patterning area 241 shown in FIG. 3. Thus, the same application can be realized. If the film thickness of the UV curable resin 22 after application is thick, the extra UV curable resin 22 is removed by the squeegee 36 by adding a squeezing method as shown in FIG. It is possible to reduce the thickness of the UV curable resin 22 to the limit while ensuring the filling.

以上のように、微細構造モールド24に凹凸パターンを形成し、被転写体に形成する微細構造に対応する微細構造モールド24の凹凸パターンに樹脂をあらかじめ充填した後、微細構造モールド24を被転写体に加圧して微細構造モールド24の樹脂を被転写体に転写することにより、凹凸パターンに樹脂を充填して被転写体に転写する微細構造を別途形成できるため、微細構造モールド24の凹凸パターン内に樹脂を確実かつ十分に充填することができ、被転写体表面に塗布した樹脂にモールドを押し当てて被転写体上の微細構造を形成する場合に比べて、凹凸パターンの凹凸の内部に十分に樹脂を充填させることが容易となると共に塗布された樹脂内への気泡の混入を抑制することができ、被転写体に高精度に微細構造を転写することができる。   As described above, the concave / convex pattern is formed on the microstructure mold 24, and the concave / convex pattern of the microstructure mold 24 corresponding to the microstructure to be formed on the transferred body is pre-filled with resin, and then the microstructure mold 24 is transferred to the transferred body. Since the resin of the microstructure mold 24 is transferred to the transfer body by applying pressure to the transfer object, a fine structure can be separately formed by filling the uneven pattern with the resin and transferring it to the transfer object. Compared with the case where the mold is pressed against the resin applied to the surface of the transfer object to form a fine structure on the transfer object, the resin is sufficiently filled inside the unevenness of the uneven pattern. It is easy to fill the resin with the resin, and it is possible to suppress the mixing of bubbles into the applied resin, and to transfer the fine structure to the transfer object with high accuracy. Kill.

次に図1で示した加圧手段について図7,図8を用いて詳細に説明する。図7は図1に加圧時において、加圧ローラ251が中央から一方の外端に移動する際の転写の様子を示した断面図およびその平面図である。平面図においては簡便のために基板21は破線の外形線のみ表示し、ステージ23は省略している。微細構造モールド24上に凹凸パターンが形成されたパターン形成領域242の内、前記塗布工程にてUV硬化樹脂22が塗布された領域2411および2422があり、中央部2511に初期接触された加圧ローラ251は、加圧しながら基板21の外端2512の位置まで移動する。その際、微細構造モールド24を把持する両端の把持具の内、加圧ローラ251が移動する方向に近い側の把持具271は、加圧ローラ251の移動と同期して上昇する。そのため、基板21とUV硬化樹脂22は、領域2411において接触状態を維持できる。次に、加圧ローラ251を逆方向に移動させて、加圧動作を外端2512から紙面右端の外端2513まで行うことで、領域2412も含めた全面転写を完了する。   Next, the pressurizing means shown in FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 7 is a cross-sectional view and a plan view showing a state of transfer when the pressure roller 251 moves from the center to one outer end during pressure application in FIG. In the plan view, for the sake of simplicity, the substrate 21 is shown with only a broken outline, and the stage 23 is omitted. Among the pattern formation regions 242 in which the uneven pattern is formed on the microstructure mold 24, there are regions 2411 and 2422 to which the UV curable resin 22 is applied in the application step, and the pressure roller that is initially in contact with the central portion 2511 251 moves to the position of the outer end 2512 of the substrate 21 while applying pressure. At that time, the gripping tool 271 on the side close to the direction in which the pressure roller 251 moves among the gripping tools at both ends gripping the microstructure mold 24 rises in synchronization with the movement of the pressure roller 251. Therefore, the substrate 21 and the UV curable resin 22 can maintain a contact state in the region 2411. Next, the pressure roller 251 is moved in the reverse direction, and the pressure operation is performed from the outer end 2512 to the outer end 2513 at the right end of the sheet, thereby completing the entire surface transfer including the region 2412.

加圧手段は上記に限定することはなく、例えば図8に示すような方法で行うことも可能である。ここでは加圧手段として、中央が厚く、外端にかけて薄くなるようなゴムツール37等の弾性体からなる加圧ツールを用いる。図8の工程aに示すように、まず、ベース38に配置されたゴムツール37を微細構造モールド24の下面に設置する。次に図8の工程bに示すように、ゴムツール37を上昇させて微細構造モールド24を押し上げ、ゴムツール37の最もゴム厚の厚い中央で最初に微細構造モールド24の中央部のみを基板21に接触させ、同様に微細構造モールド24の把持具27も同期させ上昇させる。最後に図8の工程cに示すように、微細構造モールド24の外端部が基板21に接触するまでゴムツール37を上昇加圧させ、その後離型する。   The pressurizing means is not limited to the above, and for example, it can be performed by a method as shown in FIG. Here, as the pressing means, a pressing tool made of an elastic body such as a rubber tool 37 having a thick center and a thinning toward the outer end is used. As shown in step a of FIG. 8, first, the rubber tool 37 disposed on the base 38 is installed on the lower surface of the microstructure mold 24. Next, as shown in step b of FIG. 8, the rubber tool 37 is raised to push up the fine structure mold 24, and only the central portion of the fine structure mold 24 is first placed on the substrate 21 at the thickest center of the rubber tool 37. In the same manner, the holding tool 27 of the microstructure mold 24 is also synchronized and raised. Finally, as shown in step c of FIG. 8, the rubber tool 37 is raised and pressurized until the outer end portion of the microstructure mold 24 comes into contact with the substrate 21, and then released.

なお、ゴムツール37等の中央部が突出する弾性体からなる加圧ツールを用いる他、微細構造モールド24を変形可能な構成とし、把持具27や任意の加圧ツールによって、最初にパターン形成領域の中央部に対応する部分の微細構造モールド24を基板21の方向に突出させるように変形させて微細構造モールド24を基板21に押圧し、その後、突出した微細構造モールド24を元に戻しながら微細構造モールド24を基板21の方向に相対移動させて、パターン形成領域の外周部に対応する部分においても微細構造モールド24を基板21に押圧する構成としても良い。また、図示しない駆動装置を備え、ゴムツール37等の加圧ツールは駆動装置により、水平方向や垂直方向等のあらゆる方向に移動される。   In addition to using a pressing tool made of an elastic body protruding from the center, such as the rubber tool 37, the microstructure mold 24 is configured to be deformable, and the pattern forming region is first formed by the gripper 27 or an arbitrary pressing tool. The microstructure mold 24 corresponding to the central portion of the mold is deformed so as to protrude in the direction of the substrate 21, and the microstructure mold 24 is pressed against the substrate 21. The structure mold 24 may be relatively moved in the direction of the substrate 21 so that the microstructure mold 24 is pressed against the substrate 21 even at a portion corresponding to the outer peripheral portion of the pattern formation region. In addition, a driving device (not shown) is provided, and the pressing tool such as the rubber tool 37 is moved in all directions such as a horizontal direction and a vertical direction by the driving device.

上記手段によって、被転写体外への転写材料のはみ出しおよび外形高精度化と薄膜化の両立および気泡レスでの転写を実現できる理由を図1,図6を用いて説明する。まず気泡レス転写の実現は、図1の工程aで示したように、微細構造モールド24上面よりUV硬化樹脂22を塗布することで可能になる。あらかじめUV硬化樹脂22を微細構造モールド24の凹凸に塗布する本方式は、充填時に上面が開放されるために気泡が上方へ逃げ易く、気泡の発生を抑制して樹脂を十分に充填することができる。次に、はみ出しに関しても、図1の工程aや図6に示すように、あらかじめ樹脂を薄膜化しておくことで、図1の工程b以降の加圧時までに、余剰なUV硬化樹脂22を極限まで少なくしておくことが可能となり、凹凸パターンの外端からの樹脂の流動を抑制することが可能である。さらには、加圧時に図1の工程b,cに示すように、加圧位置を中央から徐々に外側に向けて移動することで、樹脂のはみ出し方向を一方向として、はみ出した樹脂を集中するのではなく基板21に対し全面に均一分散しすることが可能となる。最後に、微細構造モールド24を把持する把持具27を加圧ローラ251の移動と同期して上昇させることで、加圧ローラ251によって微細構造モールド24に余剰な張力や微小な振動をかけることなく、安定した加圧で気泡のない全面転写を実現することが可能になる。   The reason why the above-mentioned means can realize the transfer of the transfer material to the outside of the transfer medium, the improvement of the outer shape accuracy and the thinning, and the transfer without bubbles will be described with reference to FIGS. First, the bubble-less transfer can be realized by applying the UV curable resin 22 from the upper surface of the microstructure mold 24 as shown in step a of FIG. In the present method in which the UV curable resin 22 is applied to the unevenness of the microstructure mold 24 in advance, the upper surface is opened at the time of filling, so that bubbles easily escape upward, and the resin can be sufficiently filled by suppressing the generation of bubbles. it can. Next, regarding the protrusion, as shown in step a of FIG. 1 and FIG. 6, the excess UV curable resin 22 is removed by pressurization after step b of FIG. 1 by thinning the resin in advance. It is possible to reduce the amount to the limit, and it is possible to suppress the resin flow from the outer end of the concavo-convex pattern. Furthermore, as shown in steps b and c of FIG. 1, during the pressurization, by moving the pressurizing position gradually outward from the center, the protruding resin is set as one direction, and the protruding resin is concentrated. Instead, it is possible to uniformly disperse the entire surface of the substrate 21. Finally, the gripping tool 27 that grips the microstructure mold 24 is raised in synchronization with the movement of the pressure roller 251, so that excessive tension and minute vibrations are not applied to the microstructure mold 24 by the pressure roller 251. Thus, it is possible to realize full-surface transfer without bubbles with stable pressurization.

また、本実施の形態では、図1の工程aに示す樹脂塗布工程において、事前に塗布された領域の一部を別途UV照射器によって事前にUV照射することによって、さらなる外形高精度化を実現することができる。その具体内容を以下図9を用いて説明する。   Further, in the present embodiment, in the resin coating process shown in step a of FIG. 1, a part of the pre-applied region is irradiated with UV in advance by a separate UV irradiator, thereby further improving the outer shape accuracy. can do. The specific contents will be described below with reference to FIG.

図9は図2〜図6を用いて説明した方法によって塗布されたUV硬化樹脂22の少なくとも一部を、事前にUV照射器41からUV光を照射するによって硬化する機構の断面図および平面図である。UV照射器41は微細構造モールド24の上側に配置され、下方のUV硬化樹脂22に向かってUV光を照射する。その際、別途遮蔽マスク42によって中央部は遮蔽され、遮蔽され中央部の周囲に相当するパターニングエリア241である、UV硬化樹脂22が塗布された領域の外周部に塗布されたUV硬化樹脂22のみが硬化される。UV照射器41によって照射されるUV光は互いの光線が成す角度が5度以内になるように平行化されており、遮蔽マスク42内に光が漏れないように照射される。パターニングエリア241の様子を図9の平面図で示す。パターニングエリア241として開口された領域に塗布されたUV硬化樹脂22の外周部分が額縁状に硬化されて先行硬化樹脂441をなしている。   FIG. 9 is a sectional view and a plan view of a mechanism for curing at least a part of the UV curable resin 22 applied by the method described with reference to FIGS. 2 to 6 by irradiating UV light from the UV irradiator 41 in advance. It is. The UV irradiator 41 is disposed on the upper side of the microstructure mold 24 and irradiates UV light toward the lower UV curable resin 22. At that time, the central portion is separately shielded by the shielding mask 42, and only the UV curable resin 22 applied to the outer peripheral portion of the region where the UV curable resin 22 is applied, which is a patterning area 241 corresponding to the periphery of the central portion. Is cured. The UV light irradiated by the UV irradiator 41 is collimated so that the angle between the light beams is within 5 degrees, and is irradiated so that the light does not leak into the shielding mask 42. The state of the patterning area 241 is shown in the plan view of FIG. The outer peripheral portion of the UV curable resin 22 applied to the area opened as the patterning area 241 is cured in a frame shape to form a precured resin 441.

このように遮蔽マスク42およびUV照射器41を用いて先行硬化樹脂441を形成することによって、微細構造の外形が高精度化できる。その理由を図10に示す加圧時の断面図によって説明する。ここでは一例として、図7で示す加圧ローラ251を用いて加圧した場合の基板21端部での転写の様子を示す。図10は全体の断面模式図と、基板21端部のみを拡大した図からなる。図10の拡大図に示すように、加圧ローラ251が基板21の外端に近づくにつれて、UV硬化樹脂22の余剰分は外端方向すなわち図面上右方向へ押し流される。しかしながら外端に向かうにあたって、事前に硬化された先行硬化樹脂441がダムの役割を果たし、流動するUV硬化樹脂22をせき止めることにより外側へのはみ出しを押さえることが可能になる。このようにして、図9に示す塗布工程においてUV硬化樹脂22が塗布された領域の外端を事前に硬化することで、はみ出しを抑えて微細構造の外形を高精度に形成することができる。   Thus, by forming the pre-cured resin 441 using the shielding mask 42 and the UV irradiator 41, the outer shape of the fine structure can be made highly accurate. The reason will be described with reference to a cross-sectional view during pressurization shown in FIG. Here, as an example, a state of transfer at the end portion of the substrate 21 when pressure is applied using the pressure roller 251 shown in FIG. 7 is shown. FIG. 10 includes a schematic cross-sectional view of the whole and a view in which only the end portion of the substrate 21 is enlarged. As shown in the enlarged view of FIG. 10, as the pressure roller 251 approaches the outer end of the substrate 21, the excess portion of the UV curable resin 22 is pushed away toward the outer end, that is, rightward in the drawing. However, when heading toward the outer end, the precured resin 441 that has been cured in advance serves as a dam, and by blocking the flowing UV cured resin 22, it is possible to suppress the protrusion to the outside. In this manner, the outer end of the region where the UV curable resin 22 is applied in the application step shown in FIG. 9 is cured in advance, so that the outer shape of the microstructure can be formed with high accuracy while suppressing the protrusion.

なお、採用する樹脂は、UV硬化樹脂22に限らず熱可塑性樹脂でもよい。熱可塑性樹脂を採用する場合、熱可塑性樹脂の塗布されたモールドをガラス転移温度以上に加熱することで、熱インプリント法が実現される。熱可塑性樹脂の硬化は樹脂硬化装置である冷却装置等によって冷却されることにより行われる。熱インプリント法は、材料の選択性が広いという特徴があるが、形状を転写させる際にモールドを昇温および降温する必要があるため、スループットを高めにくい。その一方で、UV硬化樹脂22を採用するUVインプリント法は、数秒〜数十秒で硬化を完了させることが可能である為、熱可塑性樹脂を採用する場合に比べてスループットを高めることができる。   The resin used is not limited to the UV curable resin 22 and may be a thermoplastic resin. When a thermoplastic resin is employed, a thermal imprint method is realized by heating a mold coated with the thermoplastic resin to a glass transition temperature or higher. The thermoplastic resin is cured by being cooled by a cooling device or the like that is a resin curing device. The thermal imprint method has a feature that the selectivity of the material is wide, but it is difficult to increase the throughput because it is necessary to raise and lower the temperature of the mold when transferring the shape. On the other hand, since the UV imprint method using the UV curable resin 22 can complete the curing within several seconds to several tens of seconds, the throughput can be increased as compared with the case where the thermoplastic resin is used. .

上記の構成の動作または制御は、所定のプログラムにより実行される。所定のプログラムはコンピュータが読み取り可能な記憶装置等に記憶され、コンピュータ等の制御部がプログラムを読込んで実行する。制御部には、回路基板が搭載され、当該回路基板にはプロセッサ又は別個のデバイスが設けられる。これらのプロセッサ又はデバイスのメモリ等に所定のプログラムが記憶されても良く、当該プログラムにより所定の処理が実行される。   The operation or control of the above configuration is executed by a predetermined program. The predetermined program is stored in a computer-readable storage device or the like, and a control unit such as a computer reads and executes the program. A circuit board is mounted on the control unit, and a processor or a separate device is provided on the circuit board. A predetermined program may be stored in a memory or the like of these processors or devices, and a predetermined process is executed by the program.

上記した様々な形態は適宜組み合わせることが可能である。様々な組み合わせの結果得られる各種パターン形成方法を実施するパターン形成装置も、本開示の範囲に含まれる。加えて、上記した様々な形態、及びそれらの組み合わせを用いて、基板にパターンを形成することでパターン付き基板を製造することも可能である。このパターン付き基板も本開示の範囲に含まれる。   The various forms described above can be combined as appropriate. Pattern forming apparatuses that perform various pattern forming methods obtained as a result of various combinations are also included in the scope of the present disclosure. In addition, it is also possible to manufacture a substrate with a pattern by forming a pattern on the substrate using the various forms described above and combinations thereof. This patterned substrate is also included in the scope of the present disclosure.

本発明は、被転写体に高精度に微細構造を転写することができ、被転写体に微細構造を転写する微細構造の転写方法および微細構造の転写装置等に適用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can transfer a fine structure to a transfer object with high accuracy, and can be applied to a transfer method of a fine structure and a transfer device of a fine structure that transfer the fine structure to the transfer target.

11 被転写体
12 転写材料
13 ステージ
14 微細構造モールド
140 欠陥
151 加圧ローラ
16 UV照射器
17 把持具
21 基板
22 UV硬化樹脂
23 ステージ
24 微細構造モールド
241 パターニングエリア
2411 領域
2412 領域
242 パターン形成領域
251 加圧ローラ
2511 中央部
2512 外端
2513 外端
26 UV照射器
27 把持具
271 把持具
31 スプレーノズル
32 遮蔽マスク
33 スクリーン版
34 スキージ
35 ディスペンスノズル
36 スキージ
37 ゴムツール
38 ベース
41 UV照射器
42 遮蔽マスク
441 先行硬化樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Transfer object 12 Transfer material 13 Stage 14 Microstructure mold 140 Defect 151 Pressure roller 16 UV irradiator 17 Grasping tool 21 Substrate 22 UV curing resin 23 Stage 24 Microstructure mold 241 Patterning area 2411 Area 2412 Area 242 Pattern formation area 251 Pressure roller 2511 Central part 2512 Outer end 2513 Outer end 26 UV irradiator 27 Gripping tool 271 Gripping tool 31 Spray nozzle 32 Shielding mask 33 Screen plate 34 Squeegee 35 Dispensing nozzle 36 Squeegee 37 Rubber tool 38 Base 41 UV irradiator 42 Shielding mask 441 Precured resin

Claims (15)

被転写体に微細構造を形成する微細構造の転写方法であって、
前記微細構造に対応する凹凸パターンが表面に形成されたモールドの前記凹凸パターンの凹部に樹脂を塗布する塗布工程と、
前記樹脂が塗布された前記表面と前記被転写体の前記微細構造が形成される形成面とが向かい合うように前記被転写体を配置する配置工程と、
前記被転写体に前記樹脂が接するように前記モールドと前記被転写体とを相対的に移動させて互いに加圧する加圧工程と、
前記被転写体上で前記樹脂を硬化させる硬化工程と、
前記モールドと前記被転写体とを相対的に引き離して前記樹脂のみを前記被転写体に転写する離型工程と
を有することを特徴とする微細構造の転写方法。
A fine structure transfer method for forming a fine structure on a transfer object,
An application step of applying a resin to the concave portion of the concave / convex pattern of the mold having a concave / convex pattern corresponding to the fine structure formed thereon,
An arrangement step of arranging the transferred body such that the surface to which the resin is applied and a formation surface on which the microstructure of the transferred body is formed face each other;
A pressurizing step of relatively moving the mold and the transferred body so that the resin contacts the transferred body and pressurizing each other;
A curing step of curing the resin on the transfer object;
A fine structure transfer method comprising: a mold release step of transferring only the resin to the transfer body by relatively separating the mold and the transfer body.
前記加圧工程の際に、最初に前記被転写体の中央部を加圧した後に、前記被転写体の外周部を加圧することを特徴とする請求項1記載の微細構造の転写方法。   2. The method for transferring a microstructure according to claim 1, wherein, in the pressurizing step, the outer peripheral portion of the transferred body is pressed after the central portion of the transferred body is first pressed. 前記加圧工程の際に、前記モールドの表面に対する裏面側または前記被転写体の形成面に対する裏面側から加圧ローラを押圧し、前記被転写体の前記中央部を加圧した後、前記被転写体の前記外周部に向けて前記加圧ローラを移動させることを特徴とする請求項2記載の微細構造の転写方法。   In the pressurizing step, a pressure roller is pressed from the back surface side with respect to the front surface of the mold or the back surface side with respect to the formation surface of the transfer object to press the central portion of the transfer object, 3. The fine structure transfer method according to claim 2, wherein the pressure roller is moved toward the outer peripheral portion of the transfer body. 前記加圧工程の際に、中央部が最も厚くかつ外周部に向かって徐々に厚みが薄くなる弾性体を有する加圧ツールを、前記モールドの表面に対する裏面側または前記被転写体の形成面に対する裏面側から押し当てることを特徴とする請求項2記載の微細構造の転写方法。   In the pressurizing step, a pressing tool having an elastic body that is thickest at the center and gradually becomes thinner toward the outer periphery is formed on the back surface side of the mold surface or the formation surface of the transfer object. 3. The method for transferring a fine structure according to claim 2, wherein the pressing is performed from the back side. 前記加圧工程の際に、前記被転写体の前記中央部に対応する部分の前記モールドが突出するように前記モールドを変形させて、前記モールドの突出した部分で前記被転写体の前記中央部を加圧し、その後に、前記モールドの突出した部分を元に戻すように前記モールドを変形させて前記モールドの突出していた部分の周囲で前記被転写体の前記外周部を加圧することを特徴とする請求項2記載の微細構造の転写方法。   In the pressurizing step, the mold is deformed so that a part of the mold corresponding to the central part of the transferred body protrudes, and the central part of the transferred body is protruded by the protruding part of the mold. And then deforming the mold so that the protruding portion of the mold is restored, and pressing the outer peripheral portion of the transferred body around the protruding portion of the mold. The method for transferring a fine structure according to claim 2. 前記配置工程の際に、前記モールドの上部に前記被転写体を配することを特徴とする請求項2〜請求項5のいずれか1項に記載の微細構造の転写方法。   The method for transferring a microstructure according to any one of claims 2 to 5, wherein, in the arranging step, the transferred object is arranged on an upper part of the mold. 前記塗布工程後、前記配置工程の前に、塗布された前記樹脂の外周部のみを硬化させることを特徴とする請求項2〜請求項6いずれか1項に記載の微細構造の転写方法。   The method for transferring a microstructure according to any one of claims 2 to 6, wherein only the outer peripheral portion of the applied resin is cured after the applying step and before the arranging step. 前記樹脂はUV硬化樹脂であり、前記硬化工程において紫外線を照射することで前記UV硬化樹脂を硬化させることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の微細構造の転写方法。   The microstructure transfer according to claim 1, wherein the resin is a UV curable resin, and the UV curable resin is cured by irradiating ultraviolet rays in the curing step. Method. 前記モールドに対して前記樹脂が塗布される領域の形状及びサイズは、前記被転写体の形状及びサイズと等しいことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の微細構造の転写方法。   The microstructure according to any one of claims 1 to 8, wherein a shape and a size of a region where the resin is applied to the mold are equal to a shape and a size of the transferred body. Transfer method. 前記モールドはフィルム状であることを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の微細構造の転写方法。   The method for transferring a microstructure according to any one of claims 1 to 9, wherein the mold is in the form of a film. 前記被転写体は基板であることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の微細構造の転写方法。   The method for transferring a microstructure according to any one of claims 1 to 10, wherein the transfer object is a substrate. 被転写体に微細構造を形成する微細構造の転写装置であって、
前記微細構造に対応する凹凸パターンが表面に形成されて前記凹凸パターンの凹部に樹脂が充填されたモールドと、
前記モールド及び前記被転写体を相対的に移動させる把持具と、
前記モールドを前記被転写体に押圧する加圧ツールと、
前記樹脂を硬化させる樹脂硬化装置と
を有することを特徴とする微細構造の転写装置。
A fine structure transfer device for forming a fine structure on a transfer target,
A mold in which a concavo-convex pattern corresponding to the fine structure is formed on the surface and a concave portion of the concavo-convex pattern is filled with a resin,
A gripping tool for relatively moving the mold and the transfer object;
A pressing tool for pressing the mold against the transfer target;
A fine structure transfer device comprising a resin curing device for curing the resin.
前記加圧ツールは加圧ローラであり、
前記加圧ローラを移動させる駆動装置をさらに有し、
前記駆動装置は、前記モールドを押圧する方向に前記加圧ローラを移動させながら、前記被転写体の中央部に対応する位置から外周部に対応する位置に前記加圧ローラを移動させることを特徴とする請求項12記載の微細構造の転写装置。
The pressure tool is a pressure roller;
A driving device for moving the pressure roller;
The drive device moves the pressure roller from a position corresponding to a central portion of the transfer target to a position corresponding to an outer peripheral portion while moving the pressure roller in a direction of pressing the mold. 13. The fine structure transfer apparatus according to claim 12.
前記加圧ツールは、中央部が最も厚くかつ外周部に向かって徐々に厚みが薄くなる弾性体であることを特徴とする請求項12記載の微細構造の転写装置。   13. The fine structure transfer device according to claim 12, wherein the pressing tool is an elastic body having a thickest central portion and a gradually decreasing thickness toward the outer peripheral portion. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の転写方法を実行するように装置の動作を制御する制御部を有する、請求項12〜14のいずれか1項に記載の転写装置。   The transfer device according to any one of claims 12 to 14, further comprising a control unit that controls the operation of the device so as to execute the transfer method according to any one of claims 1 to 11.
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