KR20120116943A - 세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄 함유 플럭스 중에서의 4원 칼코게나이드의 합성 - Google Patents
세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄 함유 플럭스 중에서의 4원 칼코게나이드의 합성 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120116943A KR20120116943A KR1020127016236A KR20127016236A KR20120116943A KR 20120116943 A KR20120116943 A KR 20120116943A KR 1020127016236 A KR1020127016236 A KR 1020127016236A KR 20127016236 A KR20127016236 A KR 20127016236A KR 20120116943 A KR20120116943 A KR 20120116943A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sulfide
- flux
- copper
- tin
- source
- Prior art date
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 73
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 5
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 5
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 5
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title abstract description 47
- 150000004770 chalcogenides Chemical group 0.000 title abstract description 5
- -1 chalcogenide compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 134
- LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M caesium bromide Chemical compound [Br-].[Cs+] LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 48
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 42
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 33
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 30
- FGDZQCVHDSGLHJ-UHFFFAOYSA-M rubidium chloride Chemical compound [Cl-].[Rb+] FGDZQCVHDSGLHJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 28
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 24
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 22
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 15
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M potassium chloride Inorganic materials [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 12
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- JAAGVIUFBAHDMA-UHFFFAOYSA-M rubidium bromide Chemical compound [Br-].[Rb+] JAAGVIUFBAHDMA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 claims description 8
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Inorganic materials [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Inorganic materials [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFUBYPSJBBQSOU-UHFFFAOYSA-M rubidium iodide Inorganic materials [Rb+].[I-] WFUBYPSJBBQSOU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 2
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 46
- WILFBXOGIULNAF-UHFFFAOYSA-N copper sulfanylidenetin zinc Chemical compound [Sn]=S.[Zn].[Cu] WILFBXOGIULNAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 4
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 44
- AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N tin(ii) sulfide Chemical compound [Sn]=S AFNRRBXCCXDRPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 38
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 38
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 36
- 239000000047 product Substances 0.000 description 35
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 33
- PDYXSJSAMVACOH-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Zn].[Sn] Chemical compound [Cu].[Zn].[Sn] PDYXSJSAMVACOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- ALRFTTOJSPMYSY-UHFFFAOYSA-N tin disulfide Chemical compound S=[Sn]=S ALRFTTOJSPMYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 13
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 12
- BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N copper monosulfide Chemical compound [Cu]=S BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- MFIWAIVSOUGHLI-UHFFFAOYSA-N selenium;tin Chemical compound [Sn]=[Se] MFIWAIVSOUGHLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IRPLSAGFWHCJIQ-UHFFFAOYSA-N selanylidenecopper Chemical compound [Se]=[Cu] IRPLSAGFWHCJIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VDNSGQQAZRMTCI-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenegermanium Chemical compound [Ge]=S VDNSGQQAZRMTCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 6
- SEAVSGQBBULBCJ-UHFFFAOYSA-N [Sn]=S.[Cu] Chemical compound [Sn]=S.[Cu] SEAVSGQBBULBCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910005728 SnZn Inorganic materials 0.000 description 3
- QLMUUIHSNUYEAS-UHFFFAOYSA-N [Ge].[Cu].[Zn] Chemical compound [Ge].[Cu].[Zn] QLMUUIHSNUYEAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JMHCZANNZADFGV-UHFFFAOYSA-N [Sn]=S.[Cd].[Cu] Chemical compound [Sn]=S.[Cd].[Cu] JMHCZANNZADFGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- AQMRBJNRFUQADD-UHFFFAOYSA-N copper(I) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+].[Cu+] AQMRBJNRFUQADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BEJYXUYDYXIFKH-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Cd].[Sn] Chemical compound [Cu].[Cd].[Sn] BEJYXUYDYXIFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- QMULOZLYOQCZOH-UHFFFAOYSA-N copper;selenium(2-) Chemical compound [Cu+2].[Se-2] QMULOZLYOQCZOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKNXLXIMISLER-UHFFFAOYSA-N [Cu]=S.[S-2].[Cd+2] Chemical compound [Cu]=S.[S-2].[Cd+2] CKKNXLXIMISLER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002447 crystallographic data Methods 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- RGXCTRIQQODGIZ-UHFFFAOYSA-O isodesmosine Chemical compound OC(=O)C(N)CCCC[N+]1=CC(CCC(N)C(O)=O)=CC(CCC(N)C(O)=O)=C1CCCC(N)C(O)=O RGXCTRIQQODGIZ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000004549 pulsed laser deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000058 selane Inorganic materials 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- UQMCSSLUTFUDSN-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenegermane Chemical compound [GeH2]=S UQMCSSLUTFUDSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000059 tellane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G17/00—Compounds of germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G19/00—Compounds of tin
- C01G19/006—Compounds containing, besides tin, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/20—Methods for preparing sulfides or polysulfides, in general
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B19/00—Selenium; Tellurium; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B19/00—Selenium; Tellurium; Compounds thereof
- C01B19/002—Compounds containing, besides selenium or tellurium, more than one other element, with -O- and -OH not being considered as anions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G17/00—Compounds of germanium
- C01G17/006—Compounds containing, besides germanium, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G19/00—Compounds of tin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/77—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by unit-cell parameters, atom positions or structure diagrams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
Abstract
본 발명은 세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄 함유 플럭스 중에서의 4원 칼코게나이드 화합물, 예를 들어 구리 아연 주석 설파이드의 합성에 관한 것이다. 4원 칼코게나이드는 박막 태양 전지 응용에서 p형 반도체 층으로서의 흡수체 층으로서 유용하다.
Description
관련 출원과의 상호 참조
본 출원은 2009년 11월 25일자로 출원된 미국 가특허 출원 제61/264,476호 - 이는 참고로 모든 목적을 위해 본 명세서의 일부로서 전체적으로 포함됨 - 로부터 35 U.S.C. §119(e) 하의 우선권을 주장하고 상기 가특허 출원의 이득을 주장한다.
본 발명은 세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄 함유 플럭스(flux) 중에서의 4원 칼코게나이드 화합물, 예를 들어 구리 아연 주석 설파이드의 합성에 관한 것이다. 4원 칼코게나이드는 박막 태양 전지 응용에서 p형 반도체로서의 흡수체 층으로서 유용하다.
광기전 전지 또는 PV 전지라고도 하는 태양 전지 및 태양광 모듈은 태양광을 전기로 변환시킨다. 전통적으로, 이들 전자 소자는 상대적으로 고가의 제조 공정에서 광-흡수성 반도체성 물질로서 규소 (Si)를 사용하여 제작되어 왔다. 태양 전지를 더 경제적으로 실행가능하게 하기 위해, CIGS라고도 하는 구리-인듐-갈륨-설포-다이-셀레나이드, Cu(In, Ga)(S, Se)2와 같은 박막의 광-흡수성 반도체 물질을 저비용으로 사용할 수 있는 태양 전지 소자 구조물이 개발되어 왔다. 이러한 부류의 태양 전지는 전형적으로 후면 전극 층 및 n형 접합부 파트너 층 사이에 끼워진 p형 흡수체 층을 갖는다. 후면 전극 층은 종종 Mo이며, 한편 접합부 파트너는 종종 CdS이다. 알루미늄으로 도핑된 산화아연과 같은 투명 전도성 산화물 (TCO)은 접합부 파트너 층 상에 형성되고 전형적으로 투명 전극으로서 사용된다.
박막 태양 전지에서의 CIGS의 입증된 잠재성에도 불구하고, 인듐 및 셀레늄의 독성 및 낮은 존재량(low abundance)은 시판되는 소자에서의 CIGS의 광범위한 용도 및 허용성에 대한 주요 장애가 된다. 박막 태양 전지의 흡수체 층에 대한 매력적인 대안은 4원 칼코게나이드, 특히 구리 아연 주석 설파이드, Cu2ZnSnS4 (CZTS)이다. CZTS는 직접 밴드갭(direct bandgap)이 약 1.5 eV이고 흡수 계수가 104 cm-1 초과이다. 또한, CZTS는 임의의 독성 또는 비풍부 원소(nonabundant element)를 포함하지 않는다.
CZTS의 박막은 Cu, SnS 및 ZnS 전구체의 스퍼터링, 하이브리드 스퍼터링, 펄스 레이저 증착, 할라이드 및 티오우레아 착체의 분무 열분해, 전착/열 황화(thermal sulfurization), E-빔 Cu/Zn/Sn/열 황화, 및 졸-겔 침착 및 이에 이어지는 열 황화를 통해 제조되어 왔다.
대량의 CZTS는 400℃ 내지 1150℃의 온도에서 소기된 석영 앰풀(evacuated quartz ampoule) 내에서 제조되어 왔다. 이 대량은 또한 황, 예를 들어 H2S의 공급원을 갖는 소성로 내에서 제조되어 왔다.
CZTS 및 그 칼코게나이드 유사체를 비-진공 기반 박막 광기전력 장치(photovoltaics)를 위해 대량으로 생성하기에 안전하고 확실한 방법에 대한 필요성이 있다.
<도 1>
도 1은 케스테라이트(kesterite)의 셀의 구조의 단일 X선 분석이며, 도 2는 케스테라이트의 분말 X선 회절 스펙트럼을 도시한다.
도 1은 케스테라이트(kesterite)의 셀의 구조의 단일 X선 분석이며, 도 2는 케스테라이트의 분말 X선 회절 스펙트럼을 도시한다.
본 명세서에서는,
a) i) Cu, Ag, Au, Cu 염, Ag 염, Au 염 또는 그 혼합물로부터 선택되는 제1 원소의 공급원;
ii) Zn, Cd, Hg, Zn 염, Cd 염, Hg 염, 또는 그 혼합물로부터 선택되는 제2 원소의 공급원;
iii) Ge, Sn, Si, Ge 염, Sn 염, Si 염 또는 그 혼합물로부터 선택되는 제3 원소의 공급원;
iv) 칼코겐의 공급원; 및
v) 플럭스를 포함하는 반응 혼합물 - 여기서, 상기 반응 혼합물 내의 (제1 원소):(제2 원소):(제3 원소):(칼코겐)의 총 몰비는 약 2:1:1:(4 이상)임 - 을 제공하는 단계;
b) 불활성 분위기 내에서 반응 혼합물을 약 150℃ 내지 약 1000℃의 온도로 가열하는 단계; 및
c) 반응 혼합물을 냉각시키는 단계를 포함하는 방법이 기재된다.
제1 원소의 공급원은 금속 Cu, 금속 Ag, 금속 Au, Cu 염, Ag 염, Au 염, 또는 그 혼합물로부터 선택될 수 있다. 제2 원소의 공급원은 금속 Zn, 금속 Cd, 금속 Hg, Zn 염, Cd 염, Hg 염, 또는 그 혼합물로부터 선택될 수 있다. 제3 원소의 공급원은 금속 Ge, 금속 Sn, Ge 염, Sn 염, Si 염, 또는 그 혼합물로부터 선택될 수 있다. 염은 상기 방법 또는 최종 생성물에 악영향을 주지 않는 임의의 추가 음이온 또는 양이온을 함유할 수 있다.
제1 원소, 제2 원소 또는 제3 원소의 공급원은 동일할 수 있으며; 즉, 제1 원소의 공급원은 또한 제2 원소의 공급원 또는 제3 원소의 공급원이거나, 또는 제2 원소의 공급원은 또한 제3 원소의 공급원이다. 예를 들어, 구리 주석 설파이드가 제1 원소 및 제3 원소의 공급원으로서의 역할을 할 수 있다.
금속 설파이드 및 셀레나이드가 제1 원소, 제2 원소 및 제3 원소의 편리한 공급원이다. 예에는 구리(II) 설파이드, 구리(I) 설파이드, 아연(II) 설파이드, 주석(II) 설파이드, 게르마늄(II) 설파이드, 카드뮴(II) 설파이드, 구리(II) 셀레나이드, 아연(II) 셀레나이드, 주석(II) 셀레나이드, 주석(IV) 설파이드, 및 구리 주석 설파이드가 포함된다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 "칼코겐"은 황 (S), 셀레늄 (Se), 및 텔루륨 (Te)을 말한다. 칼코겐의 적합한 공급원에는 원소 황 (S); 원소상 셀레늄 (Se); 원소상 텔루륨 (Te); 설파이드 음이온 (S-2), 황화수소 음이온 (HS-) 또는 폴리설파이드 음이온의 양이온 염; 셀레나이드 또는 셀렌화수소 음이온의 양이온 염; 텔루라이드 또는 텔루르화수소 음이온의 양이온 염; 금속 설파이드; 금속 셀레나이드; 금속 텔루라이드; 및 그 혼합물이 포함된다. 적합한 양이온에는 암모늄, 테트라알킬암모늄, 테트라아릴암모늄, 및 알칼리 금속 및 알칼리 토금속이 포함된다. 적합한 금속 설파이드, 금속 셀레나이드 및 금속 텔루라이드에는 Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Ge 및 Sn 설파이드, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Ge 및 Sn 셀레나이드, 및 Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Ge 및 Sn 텔루라이드, 및 그 혼합물이 포함된다. 칼코겐의 공급원은 제1 원소의 공급원 (예를 들어, CuS), 제2 원소의 공급원 (예를 들어, ZnS), 또는 제3 원소의 공급원 (예를 들어, SnS)과 동일할 수 있다.
일 실시 형태에서, 칼코겐은 황이고, 칼코겐의 공급원은 원소 황이다. 다른 실시 형태에서, 칼코겐의 공급원은 하나 이상의 금속 설파이드이며, 여기서 금속 설파이드는 또한 제1 원소의 공급원, 제2 원소의 공급원, 및/또는 제3 원소의 공급원으로서의 역할을 한다.
반응 혼합물 내의 (제1 원소):(제2 원소):(제3 원소):(칼코겐)의 총 몰비는 약 2:1:1:(4 이상)이다. 제1 원소, 제2 원소, 및 제3 원소 의 비는 이들 정수 값으로부터 20 몰%만큼 벗어날 수 있다. 이는 이들 원소 중 일부가 상이한 원소로 대체되지만 조성물이 중성(neutral)으로 유지될 정도로만 대체될 때 일어날 수 있다. 예를 들어, 일 실시 형태에서, Zn 함량은 Cu 함량을 감소시켜 1.8:1.2:1:4 비의 Cu:Zn:Sn:S를 생성함으로써 풍부해질 수 있다.
제2 원소에 대한 칼코겐의 몰비는 4 이상이지만, 20만큼 높을 수 있다. 전형적으로, 제2 원소에 대한 칼코겐의 몰비는 6 내지 10, 또는 약 8이다.
플럭스는, 반응 온도에서 용융되고 반응물 또는 최종 생성물에 악영향을 주지 않는 염이다. 플럭스는 세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄으로부터 선택되는 하나 이상의 양이온을 포함한다. 플럭스는 선택적으로 리튬, 나트륨, 칼륨, 구리, 은, 금, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 아연, 카드뮴, 수은, 붕소, 알루미늄, 갈륨, 인듐, 탈륨, 스칸듐, 및 이트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 양이온을 포함할 수 있다. 플럭스는 또한 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드, 요오다이드, 옥사이드, 하이드록사이드, 설파이드, 셀레나이드, 텔루라이드, 카르보네이트, 실리케이트, 설페이트, 포스페이트, 파이로포스페이트, 설페이트, 설포닉, 및 포스포닉으로부터 선택되는 하나 이상의 음이온을 포함한다. 일 실시 형태에서, 플럭스는 클로라이드, 브로마이드, 또는 요오다이드를 포함한다. 다른 실시 형태에서, 플럭스는 BaCl2, CdCl2, CsAlCl4, CsBr, CsCl, CsF, CsI, KCl, LaCl3, LiCl, MgCl2, RbBr, RbCl, RbI, ZnCl2, 또는 그 혼합물을 포함한다.
반응 혼합물은 개별 성분들을 반응 용기 내에 두기 전이나 후에 이들을 배합함으로써 제조될 수 있다. 개별 성분들은 개별적으로 또는 배합 후에 사전-밀링(pre-mill)될 수 있다. 배합은 개별 성분들이 균질해지는 한 임의의 수단에 의해, 예를 들어 분쇄(grinding), 진탕(shaking), 및/또는 볼 밀링(ball milling)에 의해 행해질 수 있다. 전형적으로, 반응 혼합물의 개별 성분들의 입자 크기는 350 메시(mesh) 크기 내지 5 메시 크기, 또는 200 내지 325 메시이다. 배합 후, 반응 혼합물은 분말 형태이거나, 또는 가압된 펠렛과 같은 임의의 형상으로 형성될 수 있다.
본 명세서에 기재된 방법은 화학식 (E1)2(E2)1(E3)1(칼코겐)4의 조성물을 제조할 수 있으며, 여기서 E1은 제1 원소이고 Cu, Ag 및 Au 중 하나 이상이고; E2는 제2 원소이고 Zn, Cd 또는 Hg 중 하나 이상이고; E3은 제3 원소이고 Ge, Sn 또는 Si 중 하나 이상이고; 칼코겐은 상기에 정의된 바와 같다. 이들 원소의 화학량론은 엄밀히 2:1:1:4인 것으로부터 변할 수 있으며, 또한 알칼리 금속 및 알칼리 토금속과 같은 소량의 다른 원소들이 도핑될 수 있다.
일 실시 형태에서, 제1 원소는 Cu이고, 제2 원소는 Zn 또는 Cd이고, 제3 원소는 Ge 또는 Sn이고, 칼코겐은 S이다. 다른 실시 형태에서, 본 방법은 화학식 Cu2ZnSnSe4, Cu2ZnGeS4, Cu2ZnSnS3Se1, Cu2CdSnS4, 또는 Cu2ZnSnS4의 조성물을 제조하는 데 사용될 수 있다.
반응 혼합물은 불활성 분위기 내에서 가열된다. "불활성 분위기"는 전구체 혼합물에 대해 불활성인 분위기, 예를 들어 헬륨, 네온, 아르곤, 크립톤, 제논, 질소 및 그 혼합물을 의미한다. 특히, 불활성 분위기는 물, 산소, 또는 H2S를 함유하지 않아야 한다. 불활성 분위기는 가열 단계 동안 개방 용기 위로 흐르거나 또는 유동될 수 있다.
총 가열 시간은 중요하지 않으며 온도 및 원하는 전환율에 따라 좌우되지만, 적어도 플럭스가 실질적으로 용융될 정도로 충분히 길어야 한다. 적합한 가열 시간에는 0.25시간, 1시간, 2시간, 6시간, 12시간, 24시간, 2일, 3일 및 5일과, 이들 사이의 임의의 시간 간격이 포함된다.
반응 혼합물은 플럭스가 용융될 온도, 전형적으로 약 300℃ 내지 약 1000℃, 약 400℃ 내지 약 800℃, 또는 약 500℃ 내지 약 750℃로 가열된다. 가열은 임의의 방법으로, 예를 들어 한 단계로 더 높은 온도로의 연속적 승온(ramping) 또는 단계적 승온(stepping), 또는 더 낮은 온도와 더 높은 온도 사이의 사이클링(cycling)으로 수행될 수 있다. 가열은 임의의 수단을 사용하여, 예를 들어 관상로(tube furnace) 내에서 수행될 수 있다. 전구체 혼합물은 주위 온도에서 출발하여 가열되거나, 또는 더 낮거나 더 높은 온도에 직접 놓일 수 있다.
본 방법은 반응 혼합물을, 전형적으로 불활성 기체, 예컨대 질소, 아르곤, 헬륨 또는 그 혼합물의 유동 하에서 그리고 전형적으로 주위 온도로 냉각시키는 단계를 포함한다.
일 실시 형태에서, 반응 혼합물은 개방 용기 내에서 가열된다. "개방 용기"는 불활성 분위기로 개방되는, 즉 전구체 혼합물과 주위 압력 사이의 자유로운 증기 연통(vapor communication)을 가능하게 하는 적어도 하나의 개구를 포함하여 전구체 혼합물을 본질적으로 주위 압력과 평형 상태로 유지하는 용기를 의미한다. 개방 용기는 전구체 혼합물에 대해 불활성인 임의의 재료, 예를 들어 알루미나, 질화알루미늄, 마그네시아, 알루미나를 갖는 마그네시아, 지르코니아, 산화이트륨을 갖는 지르코니아, 탄소 흑연, 백금, 및 백금과 금과 로듐의 합금으로 제조될 수 있다. 개방 용기는 연소용 보트(combustion boat), 도가니, 소각 트레이, 소각 디쉬, 및 오븐 또는 소성로의 바닥 플로어(bottom floor)와 같은 임의의 형상 또는 크기를 가질 수 있다.
다른 실시 형태에서, 본 방법은 플럭스가 단계 b) 또는 단계 c) 후에 플럭스 용매로 세척함으로써 반응 혼합물로부터 제거되는 단계를 포함한다. 세척은 플럭스를 적합한 플럭스 용매, 즉 플럭스는 용해되겠지만 원하는 생성물은 불활성이며 실질적으로 용해되지 않은 상태로 유지되는 용매 중에 용해시킴으로써 행해질 수 있다. 플럭스 용매는 단일 용매 또는 둘 이상의 용매들의 혼합물일 수 있다. 적합한 플럭스 용매에는 물, 다이메틸설폭사이드, 테트라하이드로푸란, 트라이메틸포스페이트, 트라이에틸포스페이트, 다이메틸카르보네이트, 수성 암모니아, 수산화암모늄, 다이에틸카르보네이트, 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 또는 아이소-프로판올, 아미드, 예를 들어 다이메틸포름아미드, 케톤, 예를 들어 아세톤, 또는 에틸메틸케톤, 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트 또는 부틸 아세테이트, 에테르, 예를 들어 에틸 에테르 또는 다이부틸 에테르, 및 그 혼합물이 포함된다.
원하는 생성물은 당업계에 공지된 임의의 수단, 예를 들어 진공 여과 또는 원심분리에 의해 플럭스 용매로부터 분리될 수 있다. 생성물은 예컨대 진공 중에서 24시간 동안 실온에서 또는 최대 200℃의 승온에서 추가로 건조될 수 있다.
전술한 방법에 의해 제조된 CZTS는 광기전력 장치와 같은 전자 소자의 제작에 유용할 수 있다.
실시예
구리(II) 설파이드, 구리(I) 설파이드, 아연(II) 설파이드, 주석(II) 설파이드, 게르마늄(II) 설파이드, 카드뮴(II) 설파이드, 구리(II) 셀레나이드, 아연(II) 셀레나이드, 주석(II) 셀레나이드는 알파 에이사(Alfa Aesar)로부터 구매하였다. 원소 황은 알드리치(Aldrich)로부터 구매하였다. 주석(IV) 설파이드는 팔츠 앤드 바우어 인크.(Pfaltz & Bauer Inc.)로부터 구매하였다. 구리 주석 설파이드는 문헌[Fiechter, S.; et al., Journal of Physics and Chemistry of Solids (2003), 64(9-10), 1859-1862]에 기재된 문헌 절차에 따라 제조하였다. CsF, CsCl, CsBr, CsI, RbCl, RbI, KCl, LiCl, NaCl, MgCl2, MgI2, ZnCl2, CdCl2, AlCl3, BaCl2, CdCl2, LaCl3은 알파 에이사로부터 구매하였다.
X선 회절 패턴을 미국 펜실베이니아주 뉴타운 스퀘어에 위치된 인터내셔널 센터 포 디프랙션 데이터(ICDD; International Centre for Diffraction Data)로부터 입수가능한 CZTS의 표준 패턴과 비교하였다.
실시예
1
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 2.08 g (0.0114 몰)의 주석(IV) 설파이드 및 4.5 g의 CsCl의 샘플들을 건조 박스 내에서 15분 동안 개별 성분들을 진탕함으로써 함께 혼합하고, 20 ㎖ 알루미나 보트 내로 넣고, 이어서 보트를 질소 유동을 갖는 관상로 내로 넣었다. 보트를 750℃로 가열하고 24시간 동안 이 온도에서 유지하였다. 이어서, 이 관상로를 실온으로 냉각시켰다. 보트를 꺼내고 500 ㎖의 증류수 중에 침지하였다. 흑색 결정질 물질을 여과하고, 추가 500 ㎖의 물로 세척하고, 1 ㎜ 진공에서 12시간 동안 건조시켰다. 그 CZTS 구조를 도 1 및 도 2에 도시된 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 2
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 4.16 g (0.0228 몰)의 주석(IV) 설파이드 및 10.0 g의 CsCl의 샘플들을 글로브 박스 내에서 함께 혼합하고 알루미나 보트 내로 넣고, 이어서 질소 유동을 갖는 관상로 내로 넣었다. 보트를 800℃로 가열하고 24시간 동안 이 온도에서 유지하였다. 관상로를 실온으로 냉각시키고, 보트를 500 ㎖의 증류수 중에 침지하였다. 흑색 결정질 물질을 여과하고, 추가 500 ㎖의 물로 세척하고, 1 ㎜ 진공에서 12시간 동안 건조시켰다. 그 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 3
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 1.72 g (0.0114 몰)의 주석(II) 설파이드 및 10.0 g의 CsCl을 사용하여 실시예 2를 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 4
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 2.08 g (0.0114 몰)의 주석(IV) 설파이드 및 10.0 g의 CsBr을 사용하여 실시예 2를 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 5
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 1.72 g (0.0114 몰)의 주석(II) 설파이드 및 10.0 g의 CsBr을 사용하여 실시예 2를 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 6
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsCl/CsF 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 10.0 g의 CsCl 및 10.0 g의 CsF를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 7
1가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
7.24 g (0.0455 몰)의 구리(I) 설파이드, 4.44 g (0.0456 몰)의 아연 설파이드, 8.32 g (0.0455 몰)의 주석(IV) 설파이드, 1.5 g의 원소 황, 20.0 g의 CsCl, 및 20 g의 CsBr을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 8
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsI 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 2.08 g (0.0114 몰)의 주석(IV) 설파이드 및 10.0 g의 CsI를 사용하여 실시예 2를 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 9
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/LiCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 4.16 g (0.0228 몰)의 주석(IV) 설파이드, 15.98 g의 CsCl 및 4.02 g의 LiCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 10
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/NaCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
8.71 g (0.091 몰)의 구리 설파이드, 4.44 g (0.0456 몰)의 아연 설파이드, 8.34 g (0.0456 몰)의 주석(IV) 설파이드, 35.24 g의 CsCl 및 4.76 g의 NaCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 11
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsCl/RbCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드의 샘플, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 10.00 g의 CsCl 및 10.00 g의 RbCl을 사용하고 700℃에서 가열하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 12
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/RbCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드의 샘플, 4.16 g (0.0228 몰)의 주석(IV) 설파이드, 10.00 g의 CsCl 및 10.00 g의 RbCl을 사용하여 실시예 11을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 13
2가 구리 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/KCl/NaCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 4.16 g (0.0228 몰)의 주석(IV) 설파이드, 13.58 g의 CsCl, 3.25 g의 KCl 및 3.17 g의 NaCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 14
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
MgCl
2
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 15.59 g의 CsCl 및 4.41 g의 MgCl2를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 15
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
ZnCl
2
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 14.25 g의 CsCl 및 5.75 g의 ZnCl2를 사용하여 실시예 11을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 16
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
CdCl
2
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 12.95 g의 CsCl 및 7.05 g의 CdCl2를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 17
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
BaCl
2
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
8.71 g (0.091 몰)의 구리 설파이드, 4.44 g (0.0456 몰)의 아연 설파이드, 6.88 g (0.0456 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.5 g의 원소 황, 24.72 g의 CsCl 및 15.28 g의 BaCl2를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석의 의해 확인하였다.
실시예 18
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
BaCl
2
/
MgCl
2
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 13.73 g의 BaCl2 및 6.28 g의 MgCl2를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 19
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
BaCl
2
/
ZnCl
2
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 12.09 g의 BaCl2 및 7.91 g의 ZnCl2를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 20
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
BaCl
2
/
KCl
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 11.65 g의 BaCl2 및 8.35 g의 KCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 21
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
AlCl
3
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 1.0 g의 원소 황, 11.16 g의 CsCl 및 8.84 g의 AlCl3과, 500℃의 가열 온도를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 22
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
LaCl
3
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 0.73 g의 원소 황, 8.14 g의 CsCl 및 11.86 g의 LaCl3을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 23
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsBr/RbBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
4.35 g (0.0455 몰)의 구리 설파이드, 2.22 g (0.0228 몰)의 아연 설파이드, 3.43 g (0.0228 몰)의 주석(II) 설파이드, 10.00 g의 CsCl 및 10.00 g의 RbCl과, 700℃의 가열 온도를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 24
2가 구리
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
RbBr
플럭스
중에서의 구리 아연 주석
설파이드의
합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 1.72 g (0.0114 몰)의 주석(II) 설파이드, 10.00 g의 RbBr을 사용하여 실시예 23을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 25
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 RbCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 1.72 g (0.0114 몰)의 주석(II) 설파이드, 10.00 g의 RbCl을 사용하여 실시예 23을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 26
2가 구리 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 RbI 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
2.175 g (0.02275 몰)의 구리 설파이드, 1.11 g (0.0114 몰)의 아연 설파이드, 1.72 g (0.0114 몰)의 주석(II) 설파이드, 10.00 g의 RbI를 사용하여 실시예 23을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 27
2가 구리 셀레나이드, 아연 셀레나이드 및 2가 주석 셀레나이드로부터의 CsCl/CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 테트라셀레나이드의 합성
4.55 g (0.032 몰)의 구리 셀레나이드, 2.30 g (0.016 몰)의 아연 셀레나이드, 3.15 g (0.016 몰)의 주석(II) 셀레나이드, 20.00 g의 CsCl 및 20.00 g의 CsBr을 사용하여 실시예 23을 반복하였다. 그 구조를 XRD 분석 및 단결정 X선 분석으로 입증하였다. 분석 결과는 다음과 같았다:
Cu2Se4SnZn, 흑색, 침상(needle), 약 0.080 x 0.010 x 0.010 ㎜, 정방정, I-4, a = b = 5.671(4) Å, c = 11.302(8) Å, Vol = 363.5(4) Å3, Z = 2, T = -100.℃, 식량 = 626.98, 밀도 = 5.728 g/㎤, μ(Mo) = 32.33 ㎜-1
실시예 28
2가 구리 셀레나이드, 아연 셀레나이드 및 2가 주석 셀레나이드로부터의 CsBr/CsI 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 테트라셀레나이드의 합성
4.55 g (0.032 몰)의 구리 셀레나이드, 2.30 g (0.016 몰)의 아연 셀레나이드, 3.15 g (0.016 몰)의 주석(II) 셀레나이드, 20.00 g의 CsBr 및 20.00 g의 CsI를 사용하여 실시예 23을 반복하였다. 이 생성물의 CZTSe 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 29
2가 구리 셀레나이드, 아연 셀레나이드 및 2가 주석 셀레나이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 테트라셀레나이드의 합성
4.55 g (0.032 몰)의 구리 셀레나이드, 2.30 g (0.016 몰)의 아연 셀레나이드, 3.15 g (0.016 몰)의 주석(II) 셀레나이드, 20.00 g의 CsCl을 사용하여 실시예 2를 반복하였다. 이 생성물의 CZTSe 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 30
2가 구리 설파이드, 아연 셀레나이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 트라이설파이드 모노셀레나이드의 합성
4.02 g (0.042 몰)의 구리 설파이드, 3.03 g (0.021 몰)의 아연 셀레나이드, 3.84 g (0.021 몰)의 주석(IV) 설파이드, 10.00 g의 CsCl 및 10.00 g의 CsBr을 사용하여 실시예 23을 반복하였다. 그 구조를 XRD 분석 및 XRD 분석으로 입증하였다. 분석 결과는 다음과 같았다:
Cu2S3Se0.50SnZn, 흑색, 12면체, 약 0.110 x 0.110 x 0.110 ㎜, 정방정, I-4, a = b = 5.4795(15) Å, c = 10.913(3) Å, Vol = 327.67(16) Å3, Z = 2, T = -100.℃, 식량 = 446.80, 밀도 = 4.529 g/㎤, μ(Mo) = 17.38 ㎜-1
실시예 31
2가 구리 설파이드, 아연 셀레나이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/KCl/NaCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 트라이설파이드 모노셀레나이드의 합성
4.02 g (0.042 몰)의 구리 설파이드, 3.03 g (0.021 몰)의 아연 셀레나이드, 3.84 g (0.021 몰)의 주석(IV) 설파이드, 13.58 g의 CsCl, 3.25 g의 KCl 및 3.17의 NaCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS/Se 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 32
2가 구리 설파이드, 아연 셀레나이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/KCl/NaCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석
트라이설파이드
모노셀레나이드의
합성
8.04 g (0.084 몰)의 구리 설파이드, 6.06 g (0.042 몰)의 아연 셀레나이드, 7.68 g (0.042 몰)의 주석(IV) 설파이드의 샘플, 1.34 g의 원소 황, 27.16 g의 CsCl, 6.50 g의 KCl, 및 6.34의 NaCl과, 600℃의 온도를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS/Se 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 33
2가 구리 셀레나이드, 아연 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 트라이설파이드 모노셀레나이드의 합성
5.86 g (0.042 몰)의 구리 셀레나이드, 2.01 g (0.021 몰)의 아연 설파이드, 3.76 g (0.021 몰)의 주석(IV) 설파이드, 10.00 g의 CsCl 및 10.00 g의 CsBr을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS/Se 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 34
2가 구리 설파이드, 아연 설파이드 및 2가 주석 셀레나이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 트라이설파이드 모노셀레나이드의 합성
3.07 g (0.032 몰)의 구리 설파이드, 1.56 g (0.016 몰)의 아연 설파이드, 3.16 g (0.016 몰)의 주석(II) 셀레나이드, 및 20.00 g의 CsCl과, 700℃의 가열 온도를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS/Se 구조를 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 35
2가 구리
설파이드
, 카드뮴
설파이드
및 2가 주석
설파이드로부터의
CsCl
/
BaCl
2
플
럭스 중에서의 구리 카드뮴 주석
설파이드의
합성
3.94 g (0.0412 몰)의 구리 설파이드, 2.96 g (0.0205 몰)의 카드뮴 설파이드의 샘플, 3.10 g (0.0206 몰)의 주석(II) 설파이드, 0.7 g의 원소 황, 24.72 g의 CsCl 및 15.28 g의 BaCl2를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다. 분석 결과는 다음과 같았다:
CdCu2S4SnZn0, 흑색, 삼각 프리즘, 약 0.140 x 0.050 x 0.050 ㎜, 사방정, I-4, a = b = 5.5888(15) Å, c = 10.823(4) Å, Vol = 338.04(18) Å3, Z = 2, T = -100.℃, 식량 = 486.41, 밀도 = 4.779 g/㎤, μ(Mo) = 14.07 ㎜-1
실시예 36
2가 구리 설파이드, 카드뮴 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 카드뮴 주석 설파이드의 합성
1.97 g (0.0206 몰)의 구리 설파이드, 1.48 g (0.0103 몰)의 카드뮴 설파이드의 샘플, 1.55 g (0.0103 몰)의 주석(II) 설파이드, 및 10.0 g의 CsCl을 사용하여 실시예 2를 반복하였다. 그 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 37
2가 구리 설파이드, 카드뮴 설파이드 및 2가 주석 설파이드로부터의 CsBr/RbCl 플럭스 중에서의 구리 카드뮴 주석 설파이드의 합성
1.97 g (0.0206 몰)의 구리 설파이드, 1.48 g (0.0103 몰)의 카드뮴 설파이드의 샘플, 1.55 g (0.0103 몰)의 주석(II) 설파이드, 10.0 g CsBr, 및 10.0 g의 RbCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 38
2가 구리 설파이드, 카드뮴 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/RbCl 플럭스 중에서의 구리 카드뮴 주석 설파이드의 합성
1.97 g (0.0206 몰)의 구리 설파이드, 1.48 g (0.0103 몰)의 카드뮴 설파이드의 샘플, 1.88 g (0.0103 몰)의 주석(IV) 설파이드, 10.0 g의 CsCl, 및 10.0 g의 RbCl을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 39
2가 구리 설파이드, 카드뮴 설파이드 및 4가 주석 설파이드로부터의 CsCl/CsBr 플럭스 중에서의 구리 카드뮴 주석 트라이설파이드 모노셀레나이드의 합성
5.86 g (0.042 몰)의 구리 셀레나이드, 3.03 g (0.021 몰)의 카드뮴 설파이드의 샘플, 3.76 g (0.021 몰)의 주석(IV) 설파이드, 10.0 g의 CsCl, 및 10.0 g의 CsBr을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 40
2가 구리 설파이드, 아연 설파이드 및 2가 게르마늄 설파이드로부터의 CsCl/CsBr 플럭스 중에서의 구리 아연 게르마늄
테트라설파이드의
합성
3.65 g (0.0382 몰)의 구리 설파이드, 1.86 g (0.0191 몰)의 아연 설파이드, 2.00 g (0.0191 몰)의 게르마늄(II) 설파이드, 10.0 g의 CsCl, 및 10.0 g의 CsBr을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 단결정 X선 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다. 분석 결과는 다음과 같았다:
Cu2GeS4Zn, 흑색, 12면체, 약 0.040 x 0.040 x 0.040 ㎜, 정방정, I-4, a = b = 5.340(3) Å, c = 10.521(5) Å, Vol = 300.0(3) Å3, Z = 2, T = -100.℃, 식량 = 393.28, 밀도 = 4.354 g/㎤, μ(Mo) = 17.15 ㎜-1
실시예 41
2가 구리 설파이드, 아연 설파이드 및 2가 게르마늄 설파이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 게르마늄 테트라설파이드의 합성
3.65 g (0.0382 몰)의 구리 설파이드, 1.86 g (0.0191 몰)의 아연 설파이드, 2.00 g (0.0191 몰)의 게르마늄(II) 설파이드, 및 20.0 g의 CsCl과, 700℃의 가열 온도를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 42
2가 구리 설파이드, 아연 설파이드 및 2가 게르마늄 설파이드로부터의 CsCl/KCl/NaCl 플럭스 중에서의 구리 아연 게르마늄 테트라설파이드의 합성
9.14 g (0.0956 몰)의 구리 설파이드, 4.45 g (0.0478 몰)의 아연 설파이드, 5.00 g (0.0478 몰)의 게르마늄(II) 설파이드, 1.53 g의 원소 황, 27.16 g의 CsCl, 6.50 g의 KCl, 및 6.34의 NaCl과, 600℃의 가열 온도를 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 그 구조를 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 43
원소 구리, 아연, 주석 및 황으로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
2.89 g (0.0455 몰)의 구리, 1.49 g (0.0228 몰)의 아연, 2.71 g (0.0228 몰)의 주석 및 20.0 g의 CsCl (750℃에서 사전 건조됨)의 샘플. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
실시예 44
구리 주석 설파이드 및 아연 설파이드로부터의 CsCl 플럭스 중에서의 구리 아연 주석 설파이드의 합성
8.037 g (0.0235 몰)의 구리 주석 설파이드, 2.29 g (0.0235 몰)의 아연 설파이드, 및 20.00 g을 사용하여 실시예 1을 반복하였다. 이 생성물의 CZTS 구조를 단일 X선 분석 및 분말 XRD 분석으로 확인하였다.
Claims (15)
- a) i) Cu, Ag, Au, Cu 염, Ag 염, Au 염 또는 그 혼합물로부터 선택되는 제1 원소의 공급원;
ii) Zn, Cd, Hg, Zn 염, Cd 염, Hg 염, 또는 그 혼합물로부터 선택되는 제2 원소의 공급원;
iii) Ge, Sn, Si, Ge 염, Sn 염, Si 염 또는 그 혼합물로부터 선택되는 제3 원소의 공급원;
iv) 칼코겐의 공급원; 및
v) 플럭스를 포함하는 반응 혼합물 - 여기서, 상기 반응 혼합물 내의 (제1 원소):(제2 원소):(제3 원소):(칼코겐)의 총 몰비는 약 2:1:1:(4 이상)임 - 을 제공하는 단계;
b) 불활성 분위기 내에서 반응 혼합물을 약 150℃ 내지 약 1000℃의 온도로 가열하는 단계; 및
c) 반응 혼합물을 냉각시키는 단계를 포함하는 방법. - 제1항에 있어서, 제1 원소는 Cu이고, 제2 원소는 Zn 또는 Cd이고, 제3 원소는 Ge 또는 Sn이고, 칼코겐은 S인 방법.
- 제1항에 있어서, 칼코겐의 공급원은 또한 제1 원소의 공급원, 제2 원소의 공급원, 또는 제3 원소의 공급원인 방법.
- 제1항에 있어서, 제1 원소의 공급원은 또한 제2 원소의 공급원 또는 제3 원소의 공급원이거나, 제2 원소의 공급원은 제3 원소의 공급원인 방법.
- 제1항에 있어서, 화학식 (E1)2(E2)1(E3)1(칼코겐)4의 조성물 - 여기서, E1은 제1 원소이고, Cu, Ag 및 Au 중 하나 이상이고; E2는 제2 원소이고, Zn, Cd 또는 Hg 중 하나 이상이고; E3은 제3 원소이고, Ge, Sn 또는 Si 중 하나 이상임 - 을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 화학식 Cu2ZnSnSe4, Cu2ZnGeS4, Cu2ZnSnS3Se1, Cu2CdSnS4, 또는 Cu2ZnSnS4의 조성물을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 플럭스는 단계 b) 또는 단계 c) 후에 플럭스 용매로 세척함으로써 반응 혼합물로부터 제거되는 방법.
- 제1항에 있어서, 플럭스 용매는 물, 알코올, 아미드, 테트라하이드로푸란, 케톤, 에스테르, 에테르, 다이메틸설폭사이드, 트라이메틸포스페이트, 트라이에틸포스페이트, 다이메틸카르보네이트, 수성 암모니아, 수산화암모늄, 다이에틸카르보네이트, 메탄올, 에탄올, 아이소-프로판올, 다이메틸포름아미드, 아세톤, 에틸메틸케톤, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에틸 에테르, 다이부틸 에테르, 또는 그 혼합물인 방법.
- 제1항에 있어서, 플럭스는
(a) 세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄으로부터 선택되는 하나 이상의 양이온, 및 선택적으로 리튬, 나트륨, 칼륨, 구리, 은, 금, 베릴륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 아연, 카드뮴, 수은, 붕소, 알루미늄, 갈륨, 인듐, 탈륨, 스칸듐, 및 이트륨으로부터 선택되는 하나 이상의 양이온과;
(b) 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드, 요오다이드, 옥사이드, 하이드록사이드, 설파이드, 셀레나이드, 텔루라이드, 카르보네이트, 실리케이트, 설페이트, 포스페이트, 파이로포스페이트, 설페이트, 설포닉, 및 포스포닉 음이온으로부터 선택되는 하나 이상의 음이온
을 포함하는 염인 방법. - 제1항에 있어서, 플럭스는 클로라이드, 브로마이드, 또는 요오다이드를 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 플럭스는 BaCl2, CdCl2, CsAlCl4, CsBr, CsCl, CsF, CsI, KCl, LaCl3, LiCl, MgCl2, NaCl, RbBr, RbCl, RbI, ZnCl2, 또는 그 혼합물을 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 반응 혼합물은 개방 용기 내에서 가열되는 방법.
- 제1항에 있어서, 반응 혼합물은 약 400℃ 내지 약 800℃의 온도로 가열되는 방법.
- 제1항에 있어서, 화학식 (E1)2(E2)1(E3)1(칼코겐)4의 조성물 - 여기서, E1은 제1 원소이고, Cu, Ag 및 Au 중 하나 이상이고; E2는 제2 원소이고, Zn, Cd 또는 Hg 중 하나 이상이고; E3은 제3 원소이고, Ge, Sn 또는 Si 중 하나 이상임 - 을 단리하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 제1항에 있어서, 화학식 Cu2ZnSnSe4, Cu2ZnGeS4, Cu2ZnSnS3Se1, Cu2CdSnS4, 또는 Cu2ZnSnS4의 조성물을 단리하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US26447609P | 2009-11-25 | 2009-11-25 | |
US61/264,476 | 2009-11-25 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120116943A true KR20120116943A (ko) | 2012-10-23 |
Family
ID=43532604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020127016236A KR20120116943A (ko) | 2009-11-25 | 2010-11-22 | 세슘, 루비듐, 바륨 및 란탄 함유 플럭스 중에서의 4원 칼코게나이드의 합성 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8449859B2 (ko) |
EP (1) | EP2504281A1 (ko) |
JP (1) | JP2013512174A (ko) |
KR (1) | KR20120116943A (ko) |
CN (1) | CN102712495A (ko) |
WO (1) | WO2011066204A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230039207A (ko) * | 2021-09-14 | 2023-03-21 | 한국세라믹기술원 | 황화구리 입자의 제조방법 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102249292A (zh) * | 2011-06-10 | 2011-11-23 | 上海大学 | Cu2CdSnS4或Cu2FeSnS4纳米晶的水热制备方法 |
JP5765632B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2015-08-19 | 株式会社村田製作所 | 化合物半導体超微粒子の製造方法 |
JP2013136481A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Toyota Motor Corp | Czts系化合物半導体及び光電変換素子 |
CN102942164B (zh) * | 2012-11-14 | 2014-09-24 | 中国科学技术大学 | 一种铜锌锡硒硫同素异形纳米粒子及其制备方法和应用 |
CN105102375A (zh) * | 2013-03-15 | 2015-11-25 | 纳米技术有限公司 | Cu2XSnY4纳米粒子 |
CN103225019B (zh) * | 2013-04-25 | 2014-11-26 | 中国石油天然气股份有限公司 | 降低自然硫矿熔点的助熔剂及降低自然硫矿熔点的方法 |
CN105324852B (zh) * | 2013-08-01 | 2018-02-23 | 株式会社Lg化学 | 用于制备太阳能电池的光吸收层的金属硫族化合物纳米颗粒及其制备方法 |
TWI677105B (zh) | 2014-05-23 | 2019-11-11 | 瑞士商弗里松股份有限公司 | 製造薄膜光電子裝置之方法及可藉由該方法獲得的薄膜光電子裝置 |
CN104060235A (zh) * | 2014-07-10 | 2014-09-24 | 吉林化工学院 | 一种通过硒元素掺杂提高铜镉锡硫薄膜晶粒尺寸的制备方法 |
TWI661991B (zh) | 2014-09-18 | 2019-06-11 | 瑞士商弗里松股份有限公司 | 用於製造薄膜裝置之自組裝圖案化 |
CN104846428B (zh) * | 2015-04-13 | 2017-04-05 | 山东大学 | 一种金属助熔剂法生长过渡金属硫属化合物晶体的方法 |
WO2017137271A1 (en) * | 2016-02-11 | 2017-08-17 | Flisom Ag | Self-Assembly Patterning for Fabricating Thin-Film Devices |
HUE053005T2 (hu) | 2016-02-11 | 2021-06-28 | Flisom Ag | Vékonyréteg optoelektronikai eszközök gyártása hozzáadott rubídiummal és/vagy céziummal |
CN105742385B (zh) * | 2016-03-23 | 2017-03-01 | 岭南师范学院 | 一种铜铁锌锡硫微米单晶颗粒及其制备方法和在制备太阳能电池方面的应用 |
RU2695208C1 (ru) * | 2018-07-17 | 2019-07-22 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем химической физики Российской академии наук (ИПХФ РАН) | Способ получения монозеренных кестеритных порошков |
CN109796051A (zh) * | 2019-02-25 | 2019-05-24 | 昆明理工大学 | 一种熔盐法制备铜钴锡硫纳米晶的方法 |
RU2718124C1 (ru) * | 2019-06-10 | 2020-03-30 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем химической физики Российской Академии наук (ФГБУН ИПХФ РАН) | Способ получения монозеренных кестеритных порошков из тройных халькогенидов меди и олова и соединений цинка |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202008009492U1 (de) * | 2008-07-15 | 2009-11-26 | Tallinn University Of Technology | Halbleitermaterial und dessen Verwendung als Absorptionsmaterial für Solarzellen |
CN102639442A (zh) * | 2009-11-25 | 2012-08-15 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 铜锌锡硫化物的制备 |
WO2011066264A1 (en) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of czts in an ionic liquid |
-
2010
- 2010-11-22 EP EP10785276A patent/EP2504281A1/en not_active Withdrawn
- 2010-11-22 US US13/502,430 patent/US8449859B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-22 CN CN2010800531710A patent/CN102712495A/zh active Pending
- 2010-11-22 KR KR1020127016236A patent/KR20120116943A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-11-22 WO PCT/US2010/057563 patent/WO2011066204A1/en active Application Filing
- 2010-11-22 JP JP2012541133A patent/JP2013512174A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230039207A (ko) * | 2021-09-14 | 2023-03-21 | 한국세라믹기술원 | 황화구리 입자의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2504281A1 (en) | 2012-10-03 |
US8449859B2 (en) | 2013-05-28 |
WO2011066204A1 (en) | 2011-06-03 |
US20120201741A1 (en) | 2012-08-09 |
JP2013512174A (ja) | 2013-04-11 |
CN102712495A (zh) | 2012-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8449859B2 (en) | Syntheses of quaternary chalcogenides in cesium, rubidium, barium and lanthanum containing fluxes | |
Sopiha et al. | Chalcogenide perovskites: tantalizing prospects, challenging materials | |
Tiwari et al. | Chalcogenide perovskites for photovoltaics: current status and prospects | |
Fan et al. | Energetic I–III–VI 2 and I 2–II–IV–VI 4 nanocrystals: synthesis, photovoltaic and thermoelectric applications | |
EP2504282B1 (en) | Preparation of copper zinc tin sulfide | |
Rabeh et al. | The effect of thickness on optical band gap and N-type conductivity of CuInS2 thin films annealed in air atmosphere | |
Kahraman et al. | Effects of the sulfurization temperature on sol gel-processed Cu2ZnSnS4 thin films | |
JP2018113471A (ja) | 粗大粒結晶化金属カルコゲニド膜、非晶質粒子のコロイド溶液および調製方法 | |
JP2013216888A (ja) | インク組成物、カルコゲニド半導体膜、太陽電池装置及びその製造方法 | |
US9249017B2 (en) | Nanowires and methods of making and using | |
JP5945790B2 (ja) | Czts系太陽電池用合金の作製方法 | |
Gapanovich et al. | New absorbers for third-generation thin-film solar cells based on Cu–A–B–S–Se (A= Ba, Sr, Fe, Ni, or Mn; B= Si, Ge, or Sn) quaternary copper compounds | |
Khelfane et al. | Composition dependence of the optical band gap and the secondary phases via zinc content in CZTS material | |
Suhail et al. | Chalcogenide perovskites for photovoltaic applications: a review | |
US8709657B2 (en) | Quaternary chalcogenide wafers | |
WO2013172253A1 (ja) | n型光吸収層用合金とその製造方法及び太陽電池 | |
Baby et al. | Temperature-assisted mechanochemically synthesized Cu and In doped SnS nanoparticles for thin film photovoltaics: Structure, phase stability and optoelectronic properties | |
WO2013099180A1 (en) | Photovoltaic conversion device and method of manufacturing photovoltaic conversion material | |
Joshi et al. | Morphological engineering of novel nanocrystalline Cu2Sn (S, Se) 3 thin film through annealing temperature variation: assessment of photoelectrochemical cell performance | |
Tomm et al. | Crystal growth of materials for photovoltaics | |
Awadallah | Synthesis, processing, and fundamental phase formation study of CZTS films for solar cell applications | |
Santana et al. | Antimony sulfide selenide thin film solar cells prepared from thermal evaporation sources produced via chemical reactions | |
Nkuissi et al. | Cu2ZnSnS4 thin-film solar cells | |
Munir et al. | Non-sulfurization single solution approach to synthesize CZTS thin films | |
Sharma et al. | Studies on Sn doped cadmium sulfide thin films as highly selective green light photosensors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |