KR20120103255A - An electroforming master and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20120103255A
KR20120103255A KR1020110021411A KR20110021411A KR20120103255A KR 20120103255 A KR20120103255 A KR 20120103255A KR 1020110021411 A KR1020110021411 A KR 1020110021411A KR 20110021411 A KR20110021411 A KR 20110021411A KR 20120103255 A KR20120103255 A KR 20120103255A
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Abstract

PURPOSE: An electroforming master and a manufacturing method thereof are provided to improve the adhesive force of a base plate and a chromium plating layer by partially etching the surface of the base plate. CONSTITUTION: An electroforming master(100) comprises a base plate(110), a mesh layer(120), a chromium plating layer(130), and an insulating layer(140). The mesh layer is formed on the base plate into a shape corresponding to the shape of a metal mesh. The chromium plating layer is formed on the base plate and located in the gap of the mesh layer. The insulating layer is formed on the chromium plating layer and located in the gap the mesh layer.

Description

전주 마스터 및 이의 제조방법{An Electroforming Master and Manufacturing Method thereof}Jeonju Master and Manufacturing Method thereof

본 발명은 전주 마스터 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 양호한 품질의 금속메쉬를 제조할 수 있는 전주 마스터 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a pole master and a manufacturing method thereof, and more particularly to a pole master and a method for producing a metal mesh of good quality.

일반적으로, 금속박판을 제조하는 방법으로는 쌍롤을 이용한 연속주조법, 멜트스피닝(Melt spining)법, 압연법을 이용하고 있다.In general, as a method of manufacturing a metal thin plate, a continuous casting method using a double roll, a melt spinning method, and a rolling method are used.

연속주조를 이용한 박판의 제조는 현재 열연판재 두께인 수 ㎜ 수준까지 생산하고 있으나 극박판 제조는 아직 성공하지 못하고 있는 실정이며, 이 방법은 제조공정 중 아르곤(Ar) 가스 등으로 공정분위기를 조절하게 되므로 이때 가스로 인한 기포 발생에 의해 금속박판의 표면결함, 과열로 인한 표면층 파괴 등의 제조상 문제점이 발생하게 된다.The manufacture of thin plates using continuous casting is currently producing up to a few millimeters of thickness of hot rolled sheet, but the manufacture of ultra-thin plates has not been successful. This method allows the process atmosphere to be controlled by argon (Ar) gas, etc. Therefore, at this time, due to gas bubbles, manufacturing problems such as surface defects of the metal thin plate and surface layer destruction due to overheating occur.

멜트스피닝(Melt spining)법은 급속응고를 통한 박판의 제조방법 중 하나이며, 회전하는 냉각롤에 용융금속을 분사시켜 금속박판을 제조하는 것으로 비교적 성분이 균일한 박판을 얻을 수 있는 장점이 있다.Melt spinning method is one of the manufacturing method of the thin plate through rapid solidification, it is advantageous to obtain a relatively uniform thin plate by manufacturing a metal thin plate by spraying molten metal on a rotating cooling roll.

그러나 균일한 성분의 박판을 제조하기 위해서는 진공상태에서 작업을 수행해야 한다는 제약이 따르게 되며, 이를 극복하기 위해 개발된 방법이 피에프씨(PFC : Planar Flow Casting)법으로 대기중에서 작업이 가능해 졌으나 균일성의 편차가 심하게 생기는 문제점을 가지고 있다.However, in order to manufacture a thin plate of uniform composition, it is restricted to perform the work in a vacuum state, and the method developed to overcome this has been made possible by working in the air by the Planar Flow Casting (PFC) method. There is a problem that the deviation is severe.

가장 보편화된 방법인 압연법은 박판의 생산에 있어서 많은 장점이 있으나, 수많은 단계의 압연으로 인해 제조단가가 높아질 뿐만 아니라 극박판(두께 30㎛ 이하)의 생산은 제품원가의 상승을 초래하여 실제 생산에의 적용에 제약이 있다.Rolling method, which is the most popular method, has many advantages in the production of thin plates, but not only the manufacturing cost increases due to the numerous steps of rolling, but also the production of ultra-thin plates (thickness of 30 μm or less) leads to an increase in product cost. There is a limit to the application.

예를 들어, 미국특허 4948434호에 개시되어 있는 바와 같이 두께 약 100㎛ 이하의 금속박판을 제조하기 위해서는 다단계 압연 및 어닐링(Annealing)을 실시해야 하는데, 여기에서 두께 100㎛의 금속박판을 제조하기 위한 다단 냉간압연 공정은 복잡하고 어려우며 장시간이 소요되는 단점과, 불균일한 형상, 두께 편차, 에지크랙(Edge crack) 등의 문제로 인해 수율이 30% 미만이며, 또한 이로 인해 제조단가가 높다는 문제점이 있다.For example, as disclosed in US Pat. No. 4948434, in order to manufacture a metal sheet having a thickness of about 100 μm or less, multistage rolling and annealing should be performed. The multi-stage cold rolling process has a problem that the yield is less than 30% due to complex, difficult and long time-consuming disadvantages, and problems such as uneven shape, thickness variation, edge crack, etc., and also high manufacturing cost. .

최근 전주도금을 이용하여 박판을 제조하는 방법에 대해 많은 연구가 진행되고 있다. 예를 들어, 한국공개특허 제2006-0103358호에 개시되어 있는 금속박판 제조방법은 본 발명과 같은 전주기법을 이용하고 있다.Recently, many researches have been conducted on a method of manufacturing a thin plate using electroplating. For example, the metal thin plate manufacturing method disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2006-0103358 uses the same electric cycle method as the present invention.

한국공개특허 제2006-0103358호에 개시된 전주기법에 의한 금속박판 제조방법은 먼저 인가되는 전원에 의해 전해조의 전해액에 전기가 통전(通電)되게 하여 전기분해가 일어나도록 하고, 전해액분사수단에 의해 전해액을 전해조에 분사함으로써 전해액을 교반시키는 전해액교반단계가 진행된다.In the method of manufacturing a metal sheet by the electric cycle method disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2006-0103358, first, electricity is supplied to an electrolytic solution of an electrolytic cell by an applied power source so that electrolysis occurs, and an electrolytic solution is injected by an electrolytic solution spraying means. The electrolytic solution stirring step of stirring the electrolytic solution by spraying the electrolytic bath is performed.

그리고, 상기 전해액교반단계가 진행된 다음에는 상기 전해조에서 교반되는 전해액이 메쉬형음극드럼의 표면, 즉 메쉬에 연속적으로 도금되도록 메쉬형음극드럼을 회전시키는 음극드럼회전단계가 진행된다.After the electrolyte stirring step is performed, a cathode drum rotation step of rotating the mesh type cathode drum is performed so that the electrolyte solution stirred in the electrolytic bath is continuously plated on the surface of the mesh type cathode drum, that is, the mesh.

상기 음극드럼회전단계가 진행된 다음에는 음극드럼회전단계를 거치면서 상기 메쉬형음극드럼 표면의 메쉬에 도금되는 금속메쉬를 가이드롤러에서 박리시키는 박리단계를 진행하여, 전주기법에 의해 금속박판을 제조하는 것을 개시하고 있다.After the cathode drum rotating step is performed, the metal mesh plated on the mesh surface of the mesh type cathode drum is peeled off from the guide roller while the cathode drum rotating step is performed, thereby manufacturing a metal thin plate by an electrocycle method. It is starting.

하지만, 상술한 한국공개특허 제2006-0103358호의 메쉬형음극드럼 표면의 메쉬에 금속메쉬를 도금후 이를 박리함에 있어서, 도금공정 후 박리공정이 계속적으로 진행됨에 따라, 금속메쉬의 박리시 상기 메쉬의 내부에 위치하는 절연층, 예를 들면 플라스틱 수지가 함께 박리되어, 금속메쉬의 품질이 저하되는 문제점이 있다.However, in the peeling after plating the metal mesh on the mesh surface of the mesh-type cathode drum of the above-described Korean Patent Publication No. 2006-0103358, as the peeling process after the plating process proceeds continuously, There is a problem that the insulation layer, for example, plastic resin, which is located inside, is peeled together, and the quality of the metal mesh is degraded.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상술된 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 것으로서, 메쉬의 내부에 위치하는 절연층이 금속 메쉬와 함께 박리되는 것을 방지할 수 있는 전주 마스터를 제공하는데 있다.The problem to be solved by the present invention is to solve the above-described problems of the prior art, to provide an electric pole master that can prevent the insulating layer located inside the mesh is peeled off with the metal mesh.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 지적된 문제점을 해결하기 위해서 본 발명은 베이스 판; 상기 베이스 판 상에 형성되고, 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층; 상기 베이스 판 상에 형성되고, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 크롬 도금층; 및 상기 크롬 도금층 상에 형성되고, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 절연층을 포함하는 전주 마스터를 제공한다.The present invention to solve the above-mentioned problem is the base plate; A mesh layer formed on the base plate and having a shape corresponding to that of the metal mesh to be manufactured; A chromium plating layer formed on the base plate and positioned in a space between the mesh layers; And an insulation layer formed on the chromium plating layer and positioned in a space between the mesh layers.

또한, 본 발명은 상기 크롬 도금층의 상측은 Nano 사이즈의 Tree 구조를 통해 상기 베이스 판의 상면으로 불규칙한 형상으로 돌출되고, 상기 크롬 도금층의 하측은 국부적으로 상기 베이스 판의 표면을 에칭하면서, 상기 베이스 판에도 표면 요철을 발생시키는 것을 특징으로 하는 전주 마스터를 제공한다.In addition, the present invention is the upper side of the chromium plating layer protrudes in an irregular shape to the upper surface of the base plate through a nano-sized tree structure, the lower side of the chromium plating layer locally etching the surface of the base plate, the base plate Edo provides a master pole characterized in that to generate surface irregularities.

또한, 본 발명은 상기 크롬 도금층은 3가 크롬 도금층인 것을 특징으로 하는 전주 마스터를 제공한다.In addition, the present invention provides a pole master, characterized in that the chromium plating layer is a trivalent chromium plating layer.

또한, 본 발명은 베이스 판을 제공하는 단계; 상기 베이스 판 상에 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층을 형성하는 단계; 상기 베이스 판 상에, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 크롬 도금층을 형성하는 단계; 및 상기 크롬 도금층 상에, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 절연층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 크롬 도금층은 상기 베이스 판의 표면으로부터 돌출되는 것을 특징으로 하는 전주 마스터의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method comprising the steps of providing a base plate; Forming a mesh layer having a shape corresponding to that of the metal mesh to be manufactured on the base plate; Forming a chromium plating layer on the base plate, the chromium plating layer being located in the space between the mesh layers; And forming an insulating layer on the chromium plating layer, the insulating layer being located in the space between the mesh layers, wherein the chromium plating layer protrudes from the surface of the base plate. .

또한, 본 발명은 상기 크롬 도금층을 형성하는 단계는, 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층을 포함하는 베이스 판 상에 전기 도금법에 의해 상기 크롬 도금층을 형성하는 것인 전주 마스터의 제조방법을 제공한다.In the present invention, the forming of the chromium plating layer of the electroplating master to form the chromium plating layer by the electroplating method on a base plate comprising a mesh layer of a shape corresponding to the shape of the metal mesh to be manufactured It provides a manufacturing method.

또한, 본 발명은 상기 절연층을 형성하는 단계는, 상기 크롬 도금층을 포함하는 베이스 판 상에 스프레이법 또는 증착법에 의해 절연층 물질을 도포하고, 상기 도포된 절연층 물질을 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정으로 그 단면을 평탄화하여 형성하는 것인 전주 마스터의 제조방법을 제공한다.In the present invention, the forming of the insulating layer may include coating an insulating layer material by a spray method or a deposition method on a base plate including the chromium plating layer, and chemically mechanical polishing (CMP :) of the applied insulating layer material. Chemical Mechanical Polishing) to provide a method of manufacturing a pole master that is formed by flattening its cross section.

또한, 본 발명은 상기 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정시, 상기 메쉬층의 상부에 형성된 상기 크롬 도금층을 제거하는 것을 특징으로 하는 전주 마스터의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for manufacturing a pole master, characterized in that for removing the chromium plating layer formed on the upper portion of the mesh layer during the chemical mechanical polishing (CMP: Chemical Mechanical Polishing) process.

상기한 바와 같은 본 발명에 따른 전주 마스터 및 이를 이의 제조방법은 메쉬의 내부에 위치하는 절연층이 금속 메쉬와 함께 박리되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.Electric pole master according to the present invention as described above and its manufacturing method has an effect that can prevent the insulation layer located inside the mesh to be peeled off with the metal mesh.

또한, 본 발명은 베이스 판과 절연층의 사이에 크롬 도금층을 포함시킴으로써, 상기 절연층의 부착력을 향상시켜, 양호한 품질의 금속메쉬를 제조할 수 있다.In addition, the present invention can improve the adhesion of the insulating layer by including a chromium plating layer between the base plate and the insulating layer, it is possible to manufacture a metal mesh of good quality.

도 1a는 일반적인 금속메쉬 제조장치의 메쉬형음극드럼을 도시한 개략적인 사시도이고, 도 1b 및 도 1c는 상기 메쉬형음극드럼의 일부를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 금속메쉬 제조장치용 전주 마스터를 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 크롬 도금층을 도시하는 단면 이미지이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 전주 마스터를 도시하는 표면 이미지이고, 도 4c는 일반적인 구조의 전주 마스터를 도시하는 표면 이미지이다.1A is a schematic perspective view illustrating a mesh type cathode drum of a general metal mesh manufacturing apparatus, and FIGS. 1B and 1C are cross-sectional views illustrating a part of the mesh type cathode drum.
2 is a cross-sectional view showing a pole master for a metal mesh manufacturing apparatus according to the present invention.
3 is a cross-sectional image showing a chrome plating layer according to the present invention.
4A and 4B are surface images showing the pole master according to the present invention, and FIG. 4C is a surface image showing the pole master of a general structure.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims.

아래 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 상세히 설명한다. 도면에 관계없이 동일한 부재번호는 동일한 구성요소를 지칭하며, "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. &Quot; and / or "include each and every combination of one or more of the mentioned items. ≪ RTI ID = 0.0 >

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. The terms " comprises "and / or" comprising "used in the specification do not exclude the presence or addition of one or more other elements in addition to the stated element.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used in a sense that can be commonly understood by those skilled in the art. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다. The terms spatially relative, "below", "beneath", "lower", "above", "upper" And can be used to easily describe a correlation between an element and other elements. Spatially relative terms should be understood in terms of the directions shown in the drawings, including the different directions of components at the time of use or operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element . Thus, the exemplary term "below" can include both downward and upward directions. The components can also be oriented in different directions, so that spatially relative terms can be interpreted according to orientation.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1a는 일반적인 금속메쉬 제조장치의 메쉬형음극드럼을 도시한 개략적인 사시도이고, 도 1b 및 도 1c는 상기 메쉬형음극드럼의 일부를 도시한 단면도이다. 이때, 상기 도 1a의 메쉬형음극드럼은 상술한 한국공개특허 제2006-0103358호의 금속메쉬 제조장치에 사용되는 메쉬형음극드럼일 수 있으며, 다만, 상기 메쉬형음극드럼은 이외의 다른 금속메쉬 제조장치에도 사용될 수 있음은 물론이다.1A is a schematic perspective view illustrating a mesh type cathode drum of a general metal mesh manufacturing apparatus, and FIGS. 1B and 1C are cross-sectional views illustrating a part of the mesh type cathode drum. In this case, the mesh type cathode drum of FIG. 1A may be a mesh type cathode drum used in the metal mesh manufacturing apparatus of Korean Patent Laid-Open Publication No. 2006-0103358, except that the mesh type cathode drum is manufactured of other metal mesh. Of course, it can also be used in the device.

먼저, 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 일반적인 금속메쉬 제조장치의 메쉬형음극드럼(10)은 회전 가능하도록 중심이 되는 회전축(20)과 상기 회전축(20)을 감싸면서 일정한 폭을 가지는 원통형 드럼(30)을 포함한다.First, referring to FIGS. 1A and 1B, a mesh type cathode drum 10 of a general metal mesh manufacturing apparatus has a cylindrical drum having a constant width while surrounding the rotating shaft 20 and the rotating shaft 20 to be rotatable. (30).

이때, 상기 회전축(20)의 일측 단부에는 상기 드럼(30)이 회전되도록 회전력을 제공하는 모터와 연결되는 체인이 결합될 수 있다.At this time, one side end of the rotating shaft 20 may be coupled to a chain connected to a motor for providing a rotational force so that the drum 30 is rotated.

한편, 상기 드럼(30)의 표면에는 제조하고자 하는 형상의 메쉬(50)가 형성된다. 이때, 상기 메쉬(50)는 대략 육각형이 여러 개 연결되는 망(網) 형상으로 형성되어 마치 벌집 형태로 구성될 수 있으며, 다만, 상기 메쉬의 형상은 사각형, 삼각형, 오각형 등일 수 있고, 따라서, 본 발명에서 상기 메쉬의 형상을 한정하는 것은 아니다.Meanwhile, a mesh 50 having a shape to be manufactured is formed on the surface of the drum 30. At this time, the mesh 50 may be formed in a mesh shape in which a plurality of hexagons are connected to each other, and may be configured as a honeycomb, but the shape of the mesh may be a square, a triangle, a pentagon, and the like. In the present invention, the shape of the mesh is not limited.

상기 메쉬(50)는 도금하고자 하는 전해액의 성분에 따라 단일금속 또는 합금(合金)으로 구성할 수 있으며, 직접 상기 메쉬형음극드럼(10) 표면을 가공함으로써 메쉬형음극드럼(10)과 일체로 형성되도록 하여 사용하거나, 금속와이어로 실을 짜듯이 엮어서 형성되는 직조형(Weaving type) 또는 배치형(Batch type)으로 가공되는 메쉬(50)를 상기 메쉬형음극드럼(10)의 표면에 부착함으로써 사용할 수 있다.The mesh 50 may be composed of a single metal or an alloy according to the component of the electrolyte to be plated, and integrally with the mesh type cathode drum 10 by directly processing the surface of the mesh type cathode drum 10. By attaching to the surface of the mesh-type cathode drum 10 by using a mesh 50 processed in a weaving type (Batch type) or a batch type (Weaving type) is formed by weaving as weaving with a metal wire Can be used.

계속해서, 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 메쉬(50)와 메쉬(50)의 사이 공간에는 절연층(60)이 위치하며, 상기 절연층은 에폭시 수지, 테프론계 수지 또는 불소수지 등의 플라스틱 수지일 수 있다.1A and 1B, an insulating layer 60 is positioned in the space between the mesh 50 and the mesh 50, and the insulating layer is made of plastic such as epoxy resin, Teflon resin or fluororesin. It may be a resin.

이때, 메쉬와 메쉬의 사이 공간에 절연층을 형성하는 것은, 상술한 바와 같은 드럼(30)의 표면에 제조하고자 하는 형상의 메쉬(50)를 형성한 뒤, 공지된 스프레이법 또는 증착법에 의해 절연재 물질을 도포하고, 공지된 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정으로 그 단면을 평탄화하여 형성할 수 있다.At this time, forming an insulating layer in the space between the mesh and the mesh, after forming the mesh 50 of the shape to be manufactured on the surface of the drum 30 as described above, the insulating material by a known spray method or vapor deposition method The material may be applied and formed by planarizing its cross section by a known chemical mechanical polishing (CMP) process.

다음으로, 도 1c를 참조하면, 상기 메쉬형음극드럼(10)을 통해, 상술한 바와 같은 한국공개특허 제2006-0103358호에 개시된 전주기법에 의해 메쉬형음극드럼의 표면의 메쉬에 금속메쉬(70)를 형성하고, 상기 금속메쉬(70)를 박리시켜, 전주공정에 의해 금속메쉬를 형성할 수 있다.Next, referring to Figure 1c, through the mesh-type cathode drum 10, a metal mesh (mesh) to the mesh of the surface of the mesh-type cathode drum by the electric cycle method disclosed in the above-described Korean Patent Publication No. 2006-0103358 as described above 70), the metal mesh 70 may be peeled off, and the metal mesh may be formed by the electroforming process.

하지만, 일반적인 금속메쉬 제조장치의 메쉬형음극드럼 표면의 메쉬에 금속메쉬를 도금후 이를 박리함에 있어서, 도금공정 후 박리공정이 계속적으로 진행됨에 따라, 금속메쉬의 박리시 상기 메쉬의 내부에 위치하는 절연층, 예를 들면 플라스틱 수지가 함께 박리된다.However, in the peeling of the metal mesh to the mesh of the surface of the mesh-type negative electrode drum of the general metal mesh manufacturing apparatus, as the peeling process after the plating process is continuously carried out, which is located inside the mesh during the peeling of the metal mesh The insulating layer, for example plastic resin, is peeled off together.

즉, 일반적으로 절연층(60)은 플라스틱 수지재로 이루어지고, 드럼(30) 및 메쉬(50)는 금속재질로 이루어지기 때문에, 절연층(60)과 드럼(30)간의 부착력이 메쉬(50)와 드럼(30)간의 부착력보다 상대적으로 낮게 된다.That is, in general, since the insulating layer 60 is made of a plastic resin material, and the drum 30 and the mesh 50 are made of a metal material, the adhesion force between the insulating layer 60 and the drum 30 is mesh 50. ) And the adhesion between the drum 30 is relatively low.

따라서, 박리공정이 계속 진행됨에 따라, 드럼(30)과의 부착력이 상대적으로 낮은 절연층(60)이 일부 막뜯김 또는 전체 박리와 같은 형태로 박리되어, 금속메쉬(70)의 품질이 저하되므로, 상기 절연층(60)과 드럼(30) 간의 부착력을 증대시킬 필요성이 있다.Therefore, as the peeling process continues, the insulating layer 60 having a relatively low adhesion to the drum 30 is peeled off in a form such as partial peeling or total peeling, thereby degrading the quality of the metal mesh 70. There is a need to increase the adhesion between the insulating layer 60 and the drum 30.

도 2는 본 발명에 따른 금속메쉬 제조장치용 전주 마스터를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a pole master for a metal mesh manufacturing apparatus according to the present invention.

이때, 본 발명에서 전주 마스터(Electroforming Master)란 상기 도 1a 및 도 1b에서와 같이, 전주기법에 의해 금속메쉬를 형성할 수 있도록, 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬를 포함하는 모든 부재를 통칭하는 것으로, 도 1a 및 도 1b에서와 같이 드럼형일 수 있고, 이와는 달리, 평판형일 수 있으며, 따라서, 본 발명에서 상기 전주 마스터는 드럼형 또는 평판형일 수 있다.At this time, the electroforming master (Electroforming Master) in the present invention, as shown in Figure 1a and 1b, to include a mesh of the shape corresponding to the shape of the metal mesh to be manufactured to form a metal mesh by the electric cycle method All members, collectively, may be drum-like as in FIGS. 1A and 1B, and alternatively, may be flat, and thus, the electro-master may be drum- or flat-plate in the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 전주 마스터(100)는 베이스 판(110) 및 상기 베이스 판 상에 형성되고, 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층(120)을 포함한다. 이하에서는, 메쉬층을 포함하는 베이스 판을 전주 마스터 원판이라 정의하기로 한다. Referring to FIG. 2, the electric pole master 100 according to the present invention includes a base plate 110 and a mesh layer 120 formed on the base plate and corresponding to the shape of the metal mesh to be manufactured. . Hereinafter, the base plate including the mesh layer will be defined as a master pole master plate.

이때, 상술한 바와 같이, 상기 베이스 판(110)의 형상이 드럼형인 경우, 본 발명에 따른 전주 마스터는 드럼형일 수 있고, 상기 베이스 판(110)의 형상이 평판형인 경우, 본 발명에 따른 전주 마스터는 평판형일 수 있다.In this case, as described above, when the shape of the base plate 110 is a drum type, the electric pole master according to the present invention may be a drum type, when the shape of the base plate 110 is a flat type, electric pole according to the present invention The master may be flat.

한편, 상기 메쉬층(120)은 대략 육각형이 여러 개 연결되는 망(網) 형상으로 형성되어 마치 벌집 형태로 구성될 수 있으며, 다만, 상기 메쉬층의 형상은 사각형, 삼각형, 오각형 등일 수 있고, 따라서, 본 발명에서 상기 메쉬층의 형상을 한정하는 것은 아니다.On the other hand, the mesh layer 120 is formed in a net shape (approximately hexagonal) connected to several may be configured as a honeycomb, the shape of the mesh layer may be a square, triangle, pentagon, etc., Therefore, the shape of the mesh layer is not limited in the present invention.

또한, 상기 메쉬층(120)은 도금하고자 하는 전해액의 성분에 따라 단일금속 또는 합금(合金)으로 구성할 수 있으며, 직접 상기 베이스 판(110) 표면을 가공함으로써 베이스 판(110)과 일체로 형성되도록 하여 사용하거나, 금속와이어로 실을 짜듯이 엮어서 형성되는 직조형(Weaving type) 또는 배치형(Batch type)으로 가공되는 메쉬(120)를 상기 베이스 판(110)의 표면에 부착함으로써 사용할 수 있다.In addition, the mesh layer 120 may be composed of a single metal or an alloy according to the components of the electrolyte to be plated, and is integrally formed with the base plate 110 by directly processing the surface of the base plate 110. It is possible to use, or by attaching a mesh 120 processed in a weaving type or batch type formed by weaving like a wire with a metal wire to the surface of the base plate 110. .

계속해서, 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 전주 마스터(100)는 상기 베이스 판(130) 상에 형성되고, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 크롬 도금층(130)을 포함한다. 이때, 상기 크롬 도금층은 통상적인 전기 도금 공정에 의해 형성되는 것으로, 균일한 형상으로 형성되는 것이 아닌 각각의 메쉬층 간의 사이 공간(130a, 130b, 130c)에서 각각 불균일한 형상으로 형성된다. 2, the electroplating master 100 according to the present invention includes a chromium plating layer 130 formed on the base plate 130 and positioned in a space between the mesh layers. In this case, the chromium plating layer is formed by a conventional electroplating process, and is not formed in a uniform shape, but is formed in an uneven shape in the spaces 130a, 130b, and 130c between the respective mesh layers.

상기 크롬 도금층(130)에 대해 상술하면 다음과 같다.The chromium plating layer 130 will be described in detail below.

상술한 바와 같이, 크롬 도금층은 각종 도금공정 중에서 가장 통상적인 전기 도금 공정에 의해 형성될 수 있으며, 공정상 최종 처리에 해당되는 도금공정으로서, 미려한 광택의 금속 표면을 얻고자 하는 장식도금과 내마모성의 증대를 목적으로 하는 경질도금으로 분류되는 것이 일반적이다.As described above, the chromium plating layer may be formed by the most common electroplating process among various plating processes, and is a plating process corresponding to the final treatment in the process, and is decorative plating and abrasion resistance to obtain a beautiful shiny metal surface. It is usually classified as hard plating for the purpose of increasing.

장식도금의 경우 도금 두께는 통상 0.2 ~ 0.5㎛로서, 식기, 기타 일회용품에서 황동의 표면 도금에 주로 이용되며, 경질도금은 마모 수명의 요구에 따라 달라지지만 5 ~ 수십 ㎛ 정도로 카메라 렌즈의 나사고정부분, 정밀기계의 끼워맞춤 부분, 주형의 내면, 인쇄용 판면 등에 마모 방지 등을 위해 이용된다. In the case of decorative plating, the plating thickness is usually 0.2 ~ 0.5㎛, and is mainly used for plating the surface of brass in tableware and other disposable products, and the hard plating varies depending on the wear life requirements, but the screw fixing part of the camera lens is about 5 ~ several tens of ㎛. It is used to prevent wear on fitting parts of precision machines, inner surfaces of molds, printing plates, and the like.

통상 6가 크롬 도금은 크롬산(CrO3)에 황산(H2SO4)을 혼합한 용액을 사용하여 전기도금을 하는데, 양극에는 크롬 금속을 사용하지 않고 납과 같이 황산에 침식되지 않는 것을 사용하고, 용액 중의 크롬 감소분은 크롬산으로 보충하여 전착(電着)을 계속한다.In general, hexavalent chromium plating is electroplated using a solution of sulfuric acid (H 2 SO 4 ) mixed with chromic acid (CrO 3 ). The chromium reduction in the solution is replenished with chromic acid to continue electrodeposition.

또한, 크롬 도금에 사용하는 도금액 속의 크롬산 농도에는 고농도와 저농도가 있으며, 액의 온도, 전류의 밀도, 즉 도금 조건에 따라 다양한 형태의 도금을 얻을 수 있다. 이와 같이 6가 크롬 도금은 반사도, 색상, 부식, 내식성이 뛰어날 뿐만 아니라 전류 효율이 높다는 장점이 있다.In addition, there are high concentrations and low concentrations of chromic acid in the plating liquid used for chromium plating, and various types of plating can be obtained according to the temperature of the liquid and the density of the current. As such, hexavalent chromium plating has an advantage of excellent reflectivity, color, corrosion, corrosion resistance, and high current efficiency.

그러나, 이러한 장점에도 불구하고 6가 크롬 도금은 공정 중에 인체에 치명적인 크롬산 증기를 발생하고 6가 크롬 이온이 지하수나 강으로 유입될 경우 치명적인 환경오염을 유발하기 때문에 반드시 3가로 환원시켜 처리해야 하는 난제를 안고 있다.However, despite these advantages, hexavalent chromium plating generates a critical chromic acid vapor in the human body during the process, and when hexavalent chromium ions enter the groundwater or river, it causes fatal environmental pollution. Is holding.

즉 6가 크롬은 국제암연구소(International Agency of Research on the Cancer, IARC)으로부터 암 발생 물질로 분류되어 있으며, 향후 6가 크롬의 사용금지와 함께 이의 대체 기술이 요구되어 최근에는 전 세계적으로 대체 물질 개발을 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. In other words, hexavalent chromium is classified as a cancer-causing substance by the International Agency of Research on the Cancer (IARC), and its replacement technology is required along with the prohibition of the use of hexavalent chromium in the future. Research for development is actively underway.

6가 크롬 도금을 대체할 수 있는 다양한 시도 중에는 이온질화(ion-nitriding), 용사도금(plasma spraying), 이온도금(ion plating) 등이 있으나, 6가 크롬 도금에 비하여 5 ~ 10배의 비용이 추가되는 문제와 대형 제품에는 적용이 어려운 문제점이 있다. Various attempts to replace hexavalent chromium plating include ion-nitriding, plasma spraying, and ion plating. However, the cost is 5 to 10 times higher than hexavalent chromium plating. There are problems to be added and difficult to apply to large products.

이에 따라 3가 크롬을 이용한 크롬 도금이 가장 효율적인 것으로 인정받고 있으며, 따라서, 본 발명에서 상기 크롬 도금층은 3가 크롬 도금층인 것이 바람직하다.Accordingly, it is recognized that chromium plating using trivalent chromium is the most efficient. Therefore, in the present invention, the chromium plating layer is preferably a trivalent chromium plating layer.

도 3은 본 발명에 따른 크롬 도금층을 도시하는 단면 이미지이다.3 is a cross-sectional image showing a chrome plating layer according to the present invention.

도 3을 참조하면, 베이스를 이루는 SUS 기판 상부에 크롬 도금층이 형성되어 있으며, 측정 부위, 예를 들면, 부위 1, 부위 2 및 부위 3에 따라, SUS 기판과 크롬 도금층의 계면 형상은 비교적 평탄하며, 국부적으로 요철이 발생한 부위(부위 2 참조)가 있음을 알 수 있다. 이는 크롬 도금층의 전기 도금시, 크롬 도금층이 부분적으로 SUS 기판을 에칭하면서, SUS 기판에도 표면 요철을 발생시키기 때문으로, 따라서, SUS 기판 상에 도금되는 크롬 도금층의 부착력을 증대시킬 수 있다. 이때, 상기 SUS 기판은 본 발명에 따른 베이스 판일 수 있다.Referring to FIG. 3, the chromium plating layer is formed on the SUS substrate forming the base, and the interface shape of the SUS substrate and the chromium plating layer is relatively flat according to the measurement site, for example, the site 1, the site 2, and the site 3. However, it can be seen that there are localized irregularities (see section 2). This is because, during electroplating of the chromium plating layer, the chromium plating layer partially etches the SUS substrate and generates surface irregularities in the SUS substrate, thus increasing the adhesion of the chromium plating layer plated on the SUS substrate. In this case, the SUS substrate may be a base plate according to the present invention.

한편, SUS 기판 상의 크롬 도금층의 상측은 Nano 사이즈의 Tree 구조가 잘 발달됨을 알 수 있다.On the other hand, the upper side of the chromium plating layer on the SUS substrate it can be seen that the Nano structure of the tree is well developed.

즉, 상기 크롬 도금층은 하측은 국부적으로 SUS 기판을 에칭하면서 SUS 기판에 표면 요철을 발생시킴과 동시에, 상측은 Nano 사이즈의 Tree 구조를 통해 SUS 기판의 상면으로 불규칙한 형상으로 돌출됨을 알 수 있다. 이에 대해서는 후술하기로 한다.That is, the chromium plating layer can be seen that the lower side locally causes surface irregularities on the SUS substrate while etching the SUS substrate, and the upper side protrudes irregularly to the upper surface of the SUS substrate through a nano-sized tree structure. This will be described later.

계속해서, 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 전주 마스터(100)은 크롬 도금층(130) 상에 형성되고, 상기 메쉬층(120) 간의 사이 공간에 위치하는 절연층(140)을 포함하며, 상기 절연층(140)은 에폭시 수지, 테프론계 수지 또는 불소수지 등의 플라스틱 수지일 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 2, the electric pole master 100 according to the present invention includes an insulating layer 140 formed on the chromium plating layer 130 and positioned in a space between the mesh layers 120. The insulating layer 140 may be a plastic resin such as an epoxy resin, a teflon resin, or a fluororesin.

이때, 메쉬와 메쉬의 사이 공간에 절연층을 형성하는 것은, 상술한 바와 같은 크롬 도금층(130)을 포함하는 베이스 판(110) 상에 공지된 스프레이법 또는 증착법에 의해 절연층 물질을 도포하고, 상기 도포된 절연층 물질을 공지된 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정으로 그 단면을 평탄화하여 형성할 수 있다.In this case, forming the insulating layer in the space between the mesh, the coating of the insulating layer material on the base plate 110 including the chromium plating layer 130 as described above by a known spray method or vapor deposition method, The applied insulating layer material may be formed by planarizing its cross section by a known chemical mechanical polishing (CMP) process.

한편, 상기 크롬 도금층(130)을 형성함에 있어서, 메쉬층(120) 간의 사이 공간뿐만 아니라, 메쉬층(120)의 상부에도 크롬 도금층이 형성될 수 있는데, 상기 절연층을 형성하기 위한 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정시, 상기 메쉬층의 상부에 형성된 크롬 도금층을 제거함으로써, 메쉬층의 상부를 노출시킬 수 있다.Meanwhile, in forming the chromium plating layer 130, the chromium plating layer may be formed on the upper portion of the mesh layer 120 as well as the space between the mesh layers 120, and chemical mechanical polishing for forming the insulating layer. In the (CMP: Chemical Mechanical Polishing) step, the upper portion of the mesh layer may be exposed by removing the chromium plating layer formed on the upper portion of the mesh layer.

이때, 도면에는 도시하지 않았으나, 일반적인 전주기법에 의해 전주 마스터 상의 메쉬층에 금속메쉬를 형성하고, 상기 금속메쉬를 박리시켜, 전주공정에 의해 금속메쉬를 형성할 수 있다. 한편, 상기 일반적인 전주기법은 한국공개특허 제2006-0103358호에 개시된 전주기법일 수 있으며, 다만, 본 발명에서는 이의 방법에 한정되는 것은 아니다.In this case, although not shown in the drawing, the metal mesh may be formed on the mesh layer on the pole master by a general electric cycle method, and the metal mesh may be peeled off to form the metal mesh by the pole casting process. Meanwhile, the general electric cycle method may be the electric cycle method disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2006-0103358, however, the present invention is not limited thereto.

이상과 같은 본 발명에 따르면, 본 발명에 따른 전주 마스터(100)는 베이스 판; 상기 베이스 판 상에 형성되고, 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층(120); 상기 베이스 판(130) 상에 형성되고, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 크롬 도금층(130); 및 상기 크롬 도금층(130) 상에 형성되고, 상기 메쉬층(120) 간의 사이 공간에 위치하는 절연층(140)을 포함하고, 상기 크롬 도금층 상기 베이스 판의 표면으로부터 불규칙한 형상으로 돌출되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention as described above, the electric pole master 100 according to the present invention is a base plate; A mesh layer 120 formed on the base plate and corresponding to the shape of the metal mesh to be manufactured; A chromium plating layer 130 formed on the base plate 130 and positioned in a space between the mesh layers; And an insulating layer 140 formed on the chromium plating layer 130 and positioned in a space between the mesh layers 120 and protruding in an irregular shape from the surface of the base plate. do.

즉, 상기 베이스 판(130)과 상기 절연층(140)의 사이에 크롬 도금층(130)이 포함되어 있고, 이때, 상기 크롬 도금층(130)은 베이스 판의 표면으로부터 불규칙한 형상으로 돌출된 상태로, 그 표면의 상부에 절연층(140)이 형성되게 된다.That is, the chromium plating layer 130 is included between the base plate 130 and the insulating layer 140, wherein the chromium plating layer 130 is protruded in an irregular shape from the surface of the base plate, The insulating layer 140 is formed on the top of the surface.

따라서, 본 발명에서는 상기 크롬 도금층의 상측이 베이스 판의 표면으로부터 불규칙한 형상으로 돌출되어 일정한 거칠기를 부여하기 때문에, 상기 거칠기로 인하여, 절연층(140)과의 부착력이 증대될 수 있다.Therefore, in the present invention, since the upper side of the chromium plating layer protrudes in an irregular shape from the surface of the base plate to impart a constant roughness, the roughness can increase the adhesion to the insulating layer 140.

즉, 일반적인 금속메쉬 제조장치의 메쉬형음극드럼 표면의 메쉬에 금속메쉬를 도금후 이를 박리함에 있어서, 도금공정 후 박리공정이 계속적으로 진행됨에 따라, 금속메쉬의 박리시 상기 메쉬의 내부에 위치하는 절연층, 예를 들면 플라스틱 수지가 함께 박리되게 되는데, 본 발명에서는 베이스 판의 표면으로부터 돌출되는 크롬 도금층을 통해 절연층과 베이스 판 간의 부착력을 증대시켜, 절연층이 박리되는 문제점을 해결할 수 있다.That is, in plating the metal mesh on the mesh surface of the mesh type cathode drum of the general metal mesh manufacturing apparatus and then peeling it, as the peeling process continues after the plating process, the metal mesh is positioned inside the mesh when the metal mesh is peeled off. The insulating layer, for example, the plastic resin is peeled together, in the present invention by increasing the adhesion between the insulating layer and the base plate through the chromium plating projecting from the surface of the base plate, it is possible to solve the problem that the insulating layer is peeled off.

또한, 상기 크롬 도금층의 하측은 국부적으로 베이스 판의 표면을 에칭하면서, 베이스 판에도 표면 요철을 발생시키기 때문에, 베이스 판과 크롬 도금층의 부착력을 증대시킬 수 있다.Further, since the lower side of the chromium plating layer locally generates the surface unevenness while etching the surface of the base plate, the adhesion between the base plate and the chromium plating layer can be increased.

도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 전주 마스터를 도시하는 표면 이미지이고, 도 4c는 일반적인 구조의 전주 마스터를 도시하는 표면 이미지이다.4A and 4B are surface images showing the pole master according to the present invention, and FIG. 4C is a surface image showing the pole master of a general structure.

이때, 본 발명에 따른 전주 마스터란 상술한 바와 같은, 베이스 판과 절연층(140)의 사이에 크롬 도금층이 포함된 전주 마스터를 의미하며, 일반적인 구조의 전주 마스터란 베이스 판과 절연층의 사이에 크롬 도금층이 개재됨이 없이, 베이스 판 상에 절연층(60)이 직접 형성된 구조를 의미한다. In this case, the electroplating master according to the present invention means a electroplating master including a chromium plating layer between the base plate and the insulating layer 140 as described above, the electroplating master of the general structure between the base plate and the insulating layer It means a structure in which the insulating layer 60 is directly formed on the base plate without the chromium plating layer interposed therebetween.

이때, 본 발명에 따른 전주 마스터의 상기 크롬 도금층을 전기 도금함에 있어서, 하기의 전기 도금액 조성을 바탕으로, pH 2.5, 온도 -10 내지 10℃를 유지하면서 전류밀도 10 내지 25 ASD를 인가하여 전기 도금하였다.At this time, in electroplating the chromium plating layer of the electric pole master according to the present invention, based on the electroplating solution composition of the following, the current density 10 to 25 ASD was applied while maintaining the pH 2.5, temperature -10 to 10 ℃ electroplating. .

[전기 도금액의 조성] : 0.05M Cr2(SO4)3, 0.1M HCOOH, 0.07M H3BO3, 0.1M NH4Cl, 0.1M KCl, 1.3mM polyethylenglycol[Composition of Electroplating Solution]: 0.05M Cr 2 (SO 4 ) 3 , 0.1M HCOOH, 0.07MH 3 BO 3 , 0.1M NH 4 Cl, 0.1M KCl, 1.3mM polyethylenglycol

한편, 도 5a는 본 발명에 따른 전주 마스터를 제조한 최초 상태의 표면 이미지이고, 도 5b 및 도 5c는 각각 본 발명에 따른 전주 마스터 및 일반적인 구조의 전주 마스터를 사용하여, 전주기법에 의해 메쉬층에 금속메쉬를 형성하고, 상기 금속메쉬를 박리시키는 공정을 10회 실시한 후의 표면 이미지이다.On the other hand, Figure 5a is a surface image of the initial state of manufacturing the electric pole master according to the present invention, Figures 5b and 5c is a mesh layer by the electric cycle method, respectively, using the electric pole master and the electric pole master of the general structure according to the present invention It is a surface image after forming a metal mesh in 10 times, and performing the process of peeling the said metal mesh 10 times.

도 5a 및 도 5b를 참조하면, 본 발명에 따른 전주 마스터는 금속메쉬를 형성하고, 이를 박리시키는 공정을 10회 실시한 후에도 절연층이 양호하게 유지되고 있는 반면에, 도 5c를 참조하면, 일반적인 구조의 전주 마스터는 금속메쉬를 형성하고, 이를 박리시키는 공정을 10회 실시한 후의 절연층은 일부가 박리되어 상태가 매우 불량함을 명확히 알 수 있다.Referring to FIGS. 5A and 5B, the electric pole master according to the present invention maintains a good insulation layer even after 10 times of forming a metal mesh and peeling it, whereas referring to FIG. 5C, a general structure is shown. It is clear that the pole master of the metal mesh is formed and the insulating layer after the process of peeling it 10 times is partially peeled off and the state is very poor.

따라서, 본 발명에서는 베이스 판과 절연층의 사이에 크롬 도금층을 포함시킴으로써, 상기 절연층의 부착력을 향상시켜, 양호한 품질의 금속메쉬를 제조할 수 있다.Therefore, in the present invention, by including the chromium plating layer between the base plate and the insulating layer, it is possible to improve the adhesion of the insulating layer, to produce a metal mesh of good quality.

이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

100 : 전주 마스터 110 : 베이스 판
120 : 메쉬층 130 : 크롬 도금층
140 : 절연층100: master pole 110: base plate
120: mesh layer 130: chrome plating layer
140: insulation layer

Claims (10)

베이스 판;
상기 베이스 판 상에 형성되고, 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층;
상기 베이스 판 상에 형성되고, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 크롬 도금층; 및
상기 크롬 도금층 상에 형성되고, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 절연층을 포함하는 전주 마스터.Base plate;
A mesh layer formed on the base plate and having a shape corresponding to that of the metal mesh to be manufactured;
A chromium plating layer formed on the base plate and positioned in a space between the mesh layers; And
An electroplating master formed on the chromium plating layer and including an insulating layer located in a space between the mesh layers. 제 1 항에 있어서,
상기 크롬 도금층의 상측은 Nano 사이즈의 Tree 구조를 통해 상기 베이스 판의 상면으로 불규칙한 형상으로 돌출되고, 상기 크롬 도금층의 하측은 국부적으로 상기 베이스 판의 표면을 에칭하면서, 상기 베이스 판에도 표면 요철을 발생시키는 것을 특징으로 하는 전주 마스터.The method of claim 1,
The upper side of the chromium plating layer protrudes in an irregular shape to the upper surface of the base plate through a nano-sized tree structure, and the lower side of the chromium plating layer locally generates surface irregularities in the base plate while etching the surface of the base plate. Jeonju master, characterized in that to let. 제 1 항에 있어서,
상기 크롬 도금층은 3가 크롬 도금층인 것을 특징으로 하는 전주 마스터.The method of claim 1,
The chromium plating layer is a master pole characterized in that the trivalent chromium plating layer. 제 1 항에 있어서,
상기 절연층은 에폭시 수지, 테프론계 수지 또는 불소 수지인 것을 특징으로 하는 전주 마스터.The method of claim 1,
The insulating layer is a master pole, characterized in that the epoxy resin, Teflon-based resin or fluorine resin. 제 1 항에 있어서,
상기 베이스 판은 드럼형 또는 평판형인 것을 특징으로 하는 전주 마스터.The method of claim 1,
The base plate is a master pole, characterized in that the drum type or flat plate type. 베이스 판을 제공하는 단계;
상기 베이스 판 상에 제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층을 형성하는 단계;
상기 베이스 판 상에, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 크롬 도금층을 형성하는 단계; 및
상기 크롬 도금층 상에, 상기 메쉬층 간의 사이 공간에 위치하는 절연층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 크롬 도금층은 상기 베이스 판의 표면으로부터 돌출되는 것을 특징으로 하는 전주 마스터의 제조방법.Providing a base plate;
Forming a mesh layer having a shape corresponding to that of the metal mesh to be manufactured on the base plate;
Forming a chromium plating layer on the base plate, the chromium plating layer being located in the space between the mesh layers; And
Forming an insulating layer on the chromium plating layer, the insulating layer being located in a space between the mesh layers;
And the chromium plating layer protrudes from the surface of the base plate. 제 6 항에 있어서,
상기 크롬 도금층을 형성하는 단계는,
제조하고자 하는 금속메쉬의 형상과 대응되는 형상의 메쉬층을 포함하는 베이스 판 상에 전기 도금법에 의해 상기 크롬 도금층을 형성하는 것인 전주 마스터의 제조방법.The method according to claim 6,
Forming the chromium plating layer,
The method of claim 1, wherein the chromium plating layer is formed by electroplating on a base plate including a mesh layer having a shape corresponding to that of the metal mesh to be manufactured. 제 6 항에 있어서,
상기 절연층을 형성하는 단계는,
상기 크롬 도금층을 포함하는 베이스 판 상에 스프레이법 또는 증착법에 의해 절연층 물질을 도포하고, 상기 도포된 절연층 물질을 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정으로 그 단면을 평탄화하여 형성하는 것인 전주 마스터의 제조방법.The method according to claim 6,
Wherein forming the insulating layer comprises:
Applying an insulating layer material on the base plate including the chromium plating layer by spraying or vapor deposition and forming the coated insulating material by flattening its cross section by a chemical mechanical polishing (CMP) process. Manufacturing method of phosphorus master. 제 6 항에 있어서,
상기 절연층은 에폭시 수지, 테프론계 수지 또는 불소 수지인 것을 특징으로 하는 전주 마스터의 제조방법.The method according to claim 6,
The insulating layer is an epoxy resin, teflon-based resin or fluorine resin manufacturing method of the electric pole master, characterized in that. 제 8 항에 있어서,
상기 화학적 기계적 연마(CMP:Chemical Mechanical Polishing) 공정시, 상기 메쉬층의 상부에 형성된 상기 크롬 도금층을 제거하는 것을 특징으로 하는 전주 마스터의 제조방법.The method of claim 8,
During the chemical mechanical polishing (CMP) process, the method of manufacturing a pole master, wherein the chromium plating layer formed on the mesh layer is removed.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101463057B1 (en) * 2013-04-08 2014-11-19 한국기계연구원 A Process for producing of the Wiring pattern
KR20160076805A (en) * 2014-12-23 2016-07-01 한국기계연구원 An Electroforming Master and Manufacturing Method thereof
WO2018208074A1 (en) * 2017-05-10 2018-11-15 성낙훈 Vertically grown electroform and manufacturing method therefor
WO2023027473A1 (en) * 2021-08-23 2023-03-02 와이엠티 주식회사 Carrier material for forming perforated metal foil, and perforated metal foil having carrier material attached thereon

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100423269B1 (en) 2002-02-27 2004-03-18 조인제 Roller coating treatment chromium and poly tetrafluoro
KR100759094B1 (en) * 2006-03-08 2007-09-19 한국기계연구원 A fabrication method of Mesh type cathode drum
KR100750314B1 (en) 2006-05-20 2007-08-17 한국기계연구원 Mesh type cathode drum for precision electroforming and method for manufacturing
KR100958329B1 (en) 2009-08-14 2010-05-17 (주)참빛 Light emitting diode package substrate having side reflective surface coated with metals using mask and manufacturing method thereof

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101463057B1 (en) * 2013-04-08 2014-11-19 한국기계연구원 A Process for producing of the Wiring pattern
KR20160076805A (en) * 2014-12-23 2016-07-01 한국기계연구원 An Electroforming Master and Manufacturing Method thereof
WO2018208074A1 (en) * 2017-05-10 2018-11-15 성낙훈 Vertically grown electroform and manufacturing method therefor
WO2023027473A1 (en) * 2021-08-23 2023-03-02 와이엠티 주식회사 Carrier material for forming perforated metal foil, and perforated metal foil having carrier material attached thereon

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