KR20120103170A - 기판처리장치의 배기 시스템 및 배기 방법 - Google Patents

기판처리장치의 배기 시스템 및 배기 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기판처리장치의 배기 시스템에 관한 것이다. 전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 의하면, 기판처리장치의 배기 시스템은, 공정챔버; 상기 공정챔버 내의 가스를 배기하기 위한 배기관; 상기 배기관에 설치되어, 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 펌프; 상기 배기관의 일측에 설치되어, 상기 배기관을 개폐하는 게이트 밸브; 상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면으로 불활성가스를 분사하는 제1 가스공급부; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이러한 구성에 따르면, 기판처리장치의 배기시스템에서 배기가스가 배기관을 통해 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치의 배기시스템 및 배기 방법을 제공할 수 있다.

Description

기판처리장치의 배기 시스템 및 배기 방법 {Exhaust system and exhaust method of substrate processing apparatus}
본 발명은 기판처리장치의 배기 시스템 및 배기 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자나 평면표시장치를 제조하기 위해서는 기판에 특정 물질의 박막을 증착하는 박막증착공정, 감광성 물질을 사용하여 이들 박막 중 선택된 영역을 노출 또는 은폐시키는 포토리소그래피 공정, 선택된 영역의 박막을 제거하여 목적하는 대로 패터닝하는 식각공정(etching) 등을 수행해야 한다.
이러한 증착, 식각 등의 공정은 원료물질의 종류나 박막 특성에 따라 다양한 방식으로 진행될 수 있으며, 각 공정에 따라 최적의 환경으로 설계된 기판처리장치의 공정챔버 내부에서 진행된다.
공정챔버 내부의 미반응가스나 반응에 의해 새로이 발생한 폴리머 등의 부산물은 퍼지가스등을 이용해 외부로 배출되지 않으면, 기판의 오염원으로 작용하여 제품불량을 초래하게 되므로 이러한 오염원을 완전히 배출시킬 필요가 있다.
특히 공정챔버 내의 압력은 진공에 가까운 저압상태이므로 자연배기는 불가능하고, 진공펌프를 이용해 강제로 배기시켜야 한다.
도 1은 종래의 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
기판처리장치(1)는 기판(21)에 대한 증착, 식각 등이 이루어지는 공정챔버(10)를 포함한다. 공정챔버(10) 내에는 기판안치대(20)가 있고, 기판안치대(20) 위에는 기판(21)이 놓여진다.
공정챔버(10)의 하부에는 배기시스템이 위치한다. 배기시스템은 공정챔버(10) 내의 배기가스가 통과하는 배기관(30)과, 배기관(30)을 개폐하는 역할을 하는 게이트 밸브(40)와, 게이트 밸브(40)의 후방에서 배기압력을 조절하는 스로틀 밸브(50)와, 배기가스를 펌핑하기 위한 압력을 제공하는 펌프(60)를 포함할 수 있다.
도 2는 종래의 기판처리장치의 배기관과 게이트 밸브를 나타내는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 기판처리장치(1)에서 공정이 진행되는 동안에, 공정챔버(10) 내부는 배기시스템에 의해 배기가 이루어진다. 배기가 이루어지는 동안에 배기관(30)은 개방되고, 배기가스는 펌프(60)에 의해 펌핑되어 배출된다. 이때, 게이트 밸브(40)는 배기관(30)을 개방시키는 개방 위치에 있게 된다.
기판처리장치(1)에서 공정이 진행되지 않을 때는 공정챔버(10) 내로 외기의 침투를 방지하기 위해 배기관(30)은 게이트 밸브(40)에 의해 폐쇄되어 기밀 상태를 유지하게 된다.
배기관(30)을 개폐하기 위해, 게이트 밸브(40)는 실린더(41)와, 상기 실린더(41)에 의해 배기관(30)을 개방 또는 폐쇄하도록 구동되는 실링부(42a, 42b; 42)를 포함할 수 있다.
공정이 진행되지 않을 때는, 게이트 밸브(40)는 이동하여 배기관(30)을 폐쇄한다. 이를 위해, 실링부(42)는 상하 2개의 플레이트(42a, 42b)로 구성되어, 배기관(30)을 폐쇄할 때는 실링부(42)가 배기관(30) 쪽으로 전진한 후, O링(43)을 갖는 각각의 플레이트(42a, 42b)가 상하로 구동하여 배기관(30)를 폐쇄할 수 있다.
기판처리장치(1)에서 공정이 진행되는 동안에는, 도 2에 도시된 것처럼, 배기관(30)이 개방된 상태에서 공정챔버(10) 내의 가스가 배기관(30)을 통해 배기되므로, 화살표로 도시된 바와 같이 배기가스의 일부는 게이트 밸브(40)가 있는 위치로도 유동되어, 배기가스의 일부가 게이트 밸브(40)에 증착될 수 있다.
배기가스 중에 포함된 금속성분이 게이트 밸브(40)에 증착된 후, 시간이 지나면 딱딱하게 굳어서 게이트 밸브(40)의 개폐작동이 원활하지 않게 된다.
따라서, 이러한 경우 게이트 밸브(40)를 분해해서 게이트 밸브(40)에 부착된 파티클을 제거하는 등의 유지보수 작업이 필요하게 된다.
이와 같이, 기판처리장치(1)에서 공정이 진행되는 동안에 게이트 밸브(40)는 배기가스에 노출되어 있고, 이러한 배기가스에 의해 게이트 밸브(40)에 부착되는 이물질은 게이트 밸브(40)의 작동을 방해하고, 유지보수에 많은 시간과 비용을 소비하게 하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기 사정을 감안하여 발명한 것으로, 기판처리장치의 배기시스템에서 배기가스가 배기관을 통해 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치의 배기시스템 및 배기 방법을 제공하고자 함에 목적이 있다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 의하면, 기판처리장치의 배기 시스템은, 공정챔버; 상기 공정챔버 내의 가스를 배기하기 위한 배기관; 상기 배기관에 설치되어, 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 펌프; 상기 배기관의 일측에 설치되어, 상기 배기관을 개폐하는 게이트 밸브; 상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면으로 불활성가스를 분사하는 제1 가스공급부; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게이트 밸브는, 구동부와, 상기 구동부에 의해 상기 배기관을 개방 또는 폐쇄시키도록 작동되는 실링부와, 상기 실링부를 차폐하는 밸브 벽부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 실링부는 상부 플레이트와, 하부 플레이트와, 상기 상부 플레이트 및 상기 하부 플레이트 상에 각각 부착되는 O링을 포함하고, 상기 배기관이 폐쇄될 때는 상기 O링에 의해 기밀이 유지되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 실링부와 상기 밸브 벽부 사이의 공간을 통해 상기 실링부의 후방에서 전방으로 불활성가스를 분사하는 제2 가스공급부; 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제1 가스공급부는 상기 실링부의 상측 및 하측에서 상기 배기관을 향해 경사진 방향으로 불활성가스를 분사하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 불활성가스는 N2 또는 Ar인 것을 특징으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 의하면, 기판처리장치의 배기 시스템은, 공정챔버; 상기 공정챔버 내의 가스를 배기하기 위한 배기관; 상기 배기관에 설치되어, 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 펌프; 상기 배기관의 일측에 설치되어, 상기 배기관을 개폐하는 게이트 밸브; 상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면을 개폐하는 차단 밸브; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게이트 밸브는, 구동부와, 상기 구동부에 의해 상기 배기관을 개방 또는 폐쇄시키도록 구동되는 실링부와, 상기 실링부를 차폐하는 밸브 벽부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 실링부와 상기 밸브 벽부 사이의 공간으로 불활성가스를 분사하는 가스공급부; 상기 밸브 벽부와 상기 배기관을 연결하는 연결관; 을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 의하면, 기판처리장치의 배기 방법은, 공정챔버의 배기관에 설치된 게이트 밸브를 개방하는 단계; 상기 배기관을 통해 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 단계; 상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면으로 불활성가스를 분사하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게이트 밸브의 내부에서 상기 배기관 쪽으로 불활성가스를 분사하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 의하면, 기판처리장치의 배기 방법은, 공정챔버의 배기관에 설치된 게이트 밸브를 개방하는 단계; 상기 배기관을 통해 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 단계; 상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면을 차폐하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게이트 밸브의 내부 공간으로 불활성가스를 분사하는 단계; 상기 게이트 밸브의 내부 공간을 펌핑하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 기판처리장치의 배기시스템에서 배기가스가 배기관을 통해 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치의 배기시스템 및 배기 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 종래의 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
도 2는 종래의 기판처리장치의 배기관과 게이트 밸브를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치의 배기 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치의 배기 방법을 나타내는 흐름도이다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서 각 도면의 구성요소들에 대해 참조부호를 부가함에 있어서 동일한 구성요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호로 표기되었음에 유의하여야 한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
기판처리장치는 기판(121)에 대한 증착, 식각 등이 이루어지는 공정챔버(110)를 포함한다. 공정챔버(110) 내에는 기판안치대(120)가 있고, 기판안치대(120) 위에는 기판(121)이 놓여진다.
공정챔버(110)에는 배기시스템이 위치한다. 배기시스템은 배기관(130), 게이트 밸브(140), 제1 가스공급부(150), 펌프(160)를 포함한다.
배기관(130)은 공정챔버(110)와 연결되어, 공정챔버(110) 내에서 증착 등의 공정이 진행될 때 공정챔버(110) 내의 가스를 배기하는 통로가 된다. 공정챔버(110) 내에서 공정이 진행중일 때는, 공정챔버(110) 내의 이물질이 기판(121)에 부착되는 것을 방지하기 위해 배기관(130)을 통한 펌핑이 이루어진다.
게이트 밸브(140)는 배기관(130)의 일측에 설치되어, 배기관(130)을 개폐하는 역할을 한다.
게이트 밸브(140)는 구동부(141)와, 상기 구동부(141)에 의해 구동되는 실링부(142)와, 상기 실링부(142)를 차폐하는 밸브 벽부(144)를 포함할 수 있다.
구동부(141)는 실링부(142)를 구동하기 위한 동력을 전달하는 부분이다. 구동부는 예를 들어, 실린더와 피스톤 형태로 이루어질 수 있다.
실링부(142)는 구동부(141)로부터 전달된 동력에 의해 구동되어, 배기관(130)을 개폐하는 역할을 한다. 실링부(142)는 상부 플레이트(142a) 및 하부 플레이트(142b)를 포함하고, 상부 플레이트(142a)와 하부 플레이트(142b) 상에는 각각 O링(143)이 부착될 수 있다. 배기관(130)을 폐쇄할 때는 구동부(141)에 의해 실링부(142)가 배기관(130) 쪽으로 횡방향으로 이동한 후, 상부 플레이트(142a)와 하부 플레이트(142b)가 각각 상방향 및 하방향으로 이동하여 O링(143)에 의해 배기관(30)를 폐쇄하여 기밀을 유지할 수 있다.
펌프(160)는 배기관(130)의 도중에 설치되어, 공정챔버(110) 내부의 가스를 펌핑하는 압력을 제공한다. 펌프(160)와 게이트 밸브(140) 사이에는 배기압력을 조절하는 스로틀 밸브(170)가 설치될 수 있다.
배기관(130)이 개방된 상태에서 공정챔버(110) 내의 가스가 배기관(130)을 통해 배기될 때, 배기가스의 일부는 게이트 밸브(140)가 있는 위치로도 유동되어 게이트 밸브(140)에 증착될 수 있다. 배기가스 중에 포함된 금속성분이 게이트 밸브(140)에 증착된 후, 시간이 지나면 딱딱하게 굳어서 게이트 밸브(140)의 개폐작동이 원활하지 않게 된다.
이러한 문제를 방지하기 위해, 본 실시예에서는 게이트 밸브(140)의 전면으로 불활성가스를 분사하는 제1 가스공급부(150)를 포함한다. 여기서, 게이트 밸브(140)의 전면은 배기관(130)측에 가까운 면을 말한다. 제1 가스공급부(150)를 통해 분사되는 불활성가스는 예를 들어, 아르곤(Ar), 질소(N2) 등이 될 수 있다.
불활성가스는 점선의 화살표로 도시된 바와 같이 게이트 밸브(140)의 전면으로 분사되어, 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 게이트 밸브(140)의 전면으로 분사된 불활성가스는 소위, 에어커턴을 형성하게 된다. 이러한 불활성가스는 배기시스템을 통한 배기가 이루어지는 동안에는 제1 가스공급부(150)를 통해 계속 분사되는 것이 바람직하다. 분사된 불활성가스는 펌프(160)의 펌핑 압력에 의해 배기관(130)을 통해 배기될 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
상기 배기시스템은 배기관(130), 게이트 밸브(140), 제1 가스공급부(250), 제2 가스공급부(260), 펌프(160)를 포함한다. 도 3에 도시된 실시예와 동일한 부분에 대해서는 동일 부호로 처리하며, 중복 설명은 생략하기로 한다.
본 실시예에서, 제1 가스공급부(250)는 실링부(142)의 상측 및 하측에 설치된다. 제1 가스공급부(250)는 점선의 화살표로 도시된 바와 같이 실링부(142)의 전면을 향해 경사지게 불활성가스를 분사한다.
이와 같이, 제1 가스공급부(250)가 실링부(142)의 상하 양측에 설치되고, 배기관(130)을 향해 경사진 방향으로 불활성가스를 분사함으로써, 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것을 더욱 효과적으로 방지할 수 있다.
실링부(142)의 후방에 제2 가스공급부(260)가 추가로 설치될 수 있다. 제2 가스공급부(260)는 실링부(142)와 밸브 벽부(144) 사이의 공간을 통해 실링부(142)의 후방에서 전방으로 불활성가스를 분사한다. 여기서, 실링부(142)의 전방은 배기관(130)과 가까운 실링부(142)의 앞쪽을 말하고, 후방은 상기 전방과 대향되는 부분을 말한다.
제2 가스공급부(260)는 실링부(142)의 후방에 설치되어, 경사지게 불활성가스를 분사한다. 제2 가스공급부(260)가 추가로 설치됨으로써, 실링부(142)로 이미 침투된 일부 가스도 배기관(130)을 통해 배기될 수 있고, 이물질들이 실링부(142)에 고착되는 것을 방지한다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치의 배기시스템을 도시하는 도면이다.
상기 배기시스템은 배기관(130), 게이트 밸브(140), 차단밸브(350), 가스공급부(360), 연결관(370), 펌프(160)를 포함한다. 도 3에 도시된 실시예와 동일한 부분에 대해서는 동일 부호로 처리하며, 중복 설명은 생략하기로 한다.
본 실시예에서, 차단밸브(350)는 게이트 밸브(140)의 전면을 개폐하도록 설치된다. 공정챔버(110)에서 공정이 진행 중일 때, 공정챔버(110) 내의 가스는 배기관(130)을 통해 배기되고 있다. 이때, 차단밸브(350)는 도시된 바와 같이 게이트 밸브(140)의 전면을 폐쇄하여, 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140) 내로 침투하는 것을 방지한다.
차단밸브(350)에 의해 게이트 밸브(140)의 전면이 차단된 상태에서, 가스공급부(360)는 실링부(142)와 밸브 벽부(144) 사이의 공간을 통해 불활성가스를 분사할 수 있다. 밸브 벽부(144)는 연결관(370)에 의해 배기관(130)과 연결되어, 가스공급부(360)에 의해 분사된 불활성가스는 펌프(160)의 펌핑 압력에 의해 배기관(130)을 통해 배기될 수 있다. 불활성가스는 실링부(142)와 밸브 벽부(144) 사이의 공간을 통과하면서, 게이트 밸브(140) 내부의 이물질들을 퍼지하는 역할을 한다.
공정챔버(110)에서 공정이 완료되면, 차단밸브(350)는 개방되고, 게이트 밸브(140)는 배기관(130)을 폐쇄하도록 작동된다. 즉, 구동부(141)에 의해 실링부(142)가 배기관(130) 쪽으로 횡방향으로 이동하여 배기관(130)을 폐쇄하도록 작동된다.
본 실시예에서는, 차단밸브(350)에 의해 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 차단밸브(350)가 게이트 밸브(140)의 전면을 폐쇄하고 있는 동안에는, 가스공급부(360)에서 분사되는 불활성가스가 게이트 밸브(140) 내부를 퍼지하여, 게이트 밸브(140) 내부의 이물질들을 제거할 수 있다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치의 배기 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 3, 도 4 및 도 6을 참조하면, 먼저 공정챔버(110)의 배기관(130)에 설치된 게이트 밸브(140)를 개방 위치로 이동시켜, 배기관(130)이 개방되도록 한다(S11).
다음으로, 공정챔버(110)에서 공정이 진행되는 동안 펌프(160)에 의해 공정챔버(110) 내부를 펌핑하여, 배기관(130)을 통해 배기시킨다(S12).
다음으로, 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것을 방지하기 위해 제1 가스공급부(150, 250)를 통해 게이트 밸브(140)의 전면으로 불활성가스를 분사한다(S13). 게이트 밸브(140)의 전면으로 분사된 불활성가스는 배기관(130)을 통해 배기될 수 있다. 불활성가스는 예를 들어, Ar, N2 등이 될 수 있다.
다음으로, 제2 가스공급부(260)에 의해 게이트 밸브(140)의 내부에서 배기관(130) 쪽으로 불활성가스를 분사할 수 있다(S14).
이러한 방법에 의해, 공정챔버(110)에서 공정이 진행되는 동안 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하여, 게이트 밸브(140)에 증착됨으로써 게이트 밸브(140)의 원활한 작동을 방해하는 것을 방지할 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판처리장치의 배기 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 5 및 도 7을 참조하면, 먼저 공정챔버(110)의 배기관(130)에 설치된 게이트 밸브(140)를 개방 위치로 이동시켜, 배기관(130)이 개방되도록 한다(S21).
다음으로, 공정챔버(110)에서 공정이 진행되는 동안 펌프(160)에 의해 공정챔버(110) 내부를 펌핑하여, 배기관(130)을 통해 배기시킨다(S22).
다음으로, 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것을 방지하기 위해 차단밸브(350)에 의해 게이트 밸브(140)의 전면을 차폐한다(S23). 차단밸브(350)가 게이트 밸브(140)의 전면을 차폐함으로써, 공정챔버(110)에서 공정이 진행되는 동안 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것이 방지된다.
다음으로, 가스공급부(360)를 통해 게이트 밸브(140)의 내부 공간으로 불활성가스를 분사한다(S24). 펌프(160)는 배기관(130)과 연결된 연결관(370)을 통해 게이트 밸브(140)의 내부 공간을 펌핑한다(S25). 그에 따라, 게이트 밸브(140)의 내부 공간으로 분사된 불활성가스는 게이트 밸브(140) 내부를 퍼지하면서 배기관(130)과 연결된 연결관(370)을 따라서 배기될 수 있다.
이러한 방법에 의해, 공정챔버(110)에서 공정이 진행되는 동안 배기관(130)을 지나는 가스가 게이트 밸브(140)로 침투하는 것이 방지되고, 따라서 게이트 밸브(140)의 원활한 작동을 보장할 수 있다. 또한, 차단밸브(350)가 게이트 밸브(140)의 전면을 차폐하는 동안, 가스공급부(360)에서 분사된 불활성가스는 게이트 밸브(140) 내부를 퍼지하여 게이트 밸브(140) 내의 이물질들을 배출할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정 또는 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
110 : 공정챔버 120 : 기판안치대
121 : 기판 130 : 배기관
140 : 게이트 밸브 141 : 구동부
142 : 실링부 142a : 상부 플레이트
142b : 하부 플레이트 143 : O링
144 : 밸브 벽부 150 : 제1 가스공급부
160 : 펌프 170 : 스로틀 밸브
250 : 제1 가스공급부 260 : 제2 가스공급부
350 : 차단밸브 360 : 가스공급부
370 : 연결관

Claims (13)

  1. 공정챔버;
    상기 공정챔버 내의 가스를 배기하기 위한 배기관;
    상기 배기관에 설치되어, 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 펌프;
    상기 배기관의 일측에 설치되어, 상기 배기관을 개폐하는 게이트 밸브;
    상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면으로 불활성가스를 분사하는 제1 가스공급부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 게이트 밸브는, 구동부와, 상기 구동부에 의해 상기 배기관을 개방 또는 폐쇄시키도록 작동되는 실링부와, 상기 실링부를 차폐하는 밸브 벽부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 실링부는 상부 플레이트와, 하부 플레이트와, 상기 상부 플레이트 및 상기 하부 플레이트 상에 각각 부착되는 O링을 포함하고,
    상기 배기관이 폐쇄될 때는 상기 O링에 의해 기밀이 유지되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 실링부와 상기 밸브 벽부 사이의 공간을 통해 상기 실링부의 후방에서 전방으로 불활성가스를 분사하는 제2 가스공급부;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제1 가스공급부는 상기 실링부의 상측 및 하측에서 상기 배기관을 향해 경사진 방향으로 불활성가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 불활성가스는 N2 또는 Ar인 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  7. 공정챔버;
    상기 공정챔버 내의 가스를 배기하기 위한 배기관;
    상기 배기관에 설치되어, 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 펌프;
    상기 배기관의 일측에 설치되어, 상기 배기관을 개폐하는 게이트 밸브;
    상기 게이트 밸브의 전면을 개폐하는 차단 밸브;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 게이트 밸브는, 구동부와, 상기 구동부에 의해 상기 배기관을 개방 또는 폐쇄시키도록 구동되는 실링부와, 상기 실링부를 차폐하는 밸브 벽부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 실링부와 상기 밸브 벽부 사이의 공간으로 불활성가스를 분사하는 가스공급부;
    상기 밸브 벽부와 상기 배기관을 연결하는 연결관;
    을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 시스템.
  10. 공정챔버의 배기관에 설치된 게이트 밸브를 개방하는 단계;
    상기 배기관을 통해 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 단계;
    상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면으로 불활성가스를 분사하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 게이트 밸브의 내부에서 상기 배기관 쪽으로 불활성가스를 분사하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 방법.
  12. 공정챔버의 배기관에 설치된 게이트 밸브를 개방하는 단계;
    상기 배기관을 통해 상기 공정챔버 내부를 펌핑하는 단계;
    상기 배기관을 지나는 가스가 상기 게이트 밸브로 침투하는 것을 방지하기 위해 상기 게이트 밸브의 전면을 차폐하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 게이트 밸브의 내부 공간으로 불활성가스를 분사하는 단계;
    상기 게이트 밸브의 내부 공간을 펌핑하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 배기 방법.
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