KR20120095322A - 열처리 장치 및 열처리 장치의 온도 측정 방법 - Google Patents

열처리 장치 및 열처리 장치의 온도 측정 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 과제는, 열전대의 설치 비용 저감을 도모하고, 또한 열전대로부터의 신호를 교정할 필요가 없는 열처리 장치를 제공하는 것이다.
기준 영역 A1의 노 내 온도 센서(50)는 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대(81)와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대(82)를 갖고, 다른 영역 A2, … A10의 노 내 온도 센서(50)는 제2 열전대(82)를 갖는다. 기준 영역 A1의 제2 열전대(82)와 다른 영역 A2, … A10의 제2 열전대(82)는, 기전력차 회로(83)에 접속되고, 이 기전력차 회로(83)에 의해 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10 사이의 온도차가 구해진다. 기준 영역 A1의 제1 열전대(81)에 의해 기준 영역 A1의 온도가 구해지고, 이 기준 영역 A1의 온도와 기전력차 회로(83)에서 구한 온도차에 의해, 각 다른 영역 A2, … A10의 온도가 구해진다.

Description

열처리 장치 및 열처리 장치의 온도 측정 방법 {HEAT TREATMENT APPARATUS AND TEMPERATURE MEASURING METHOD THEREOF}
본 발명은, 열처리 장치 및 열처리 장치의 온도 측정 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조에 있어서는, 피처리체 예를 들어 반도체 웨이퍼에, 산화, 확산, CVD, 어닐 등의 열처리를 실시하기 위해 각종 열처리 장치가 사용되고 있다. 그 하나로서, 한 번에 다수매의 열처리가 가능한 종형 열처리 장치가 알려져 있다. 이 종형 열처리 장치는, 하부에 개구부를 갖는 석영제의 처리 용기와, 상기 처리 용기의 개구부를 개폐하는 덮개와, 상기 덮개 상에 설치되고, 복수매의 피처리체를 상하 방향으로 소정의 간격으로 보유 지지하는 보유 지지구와, 상기 처리 용기의 주위에 설치되고, 처리 용기 내로 반입된 상기 피처리체를 가열하는 히터가 설치된 노(爐) 본체를 구비하고 있다.
그런데, 종래부터 노 본체 내의 온도를 고정밀도로 제어하기 위해, 노 본체 내의 공간을 복수의 영역으로 구획하고, 영역에 노 내 온도를 센서 설치하는 동시에, 히터를 각 영역마다 분할하여, 각 영역의 온도를 세밀하게 제어하는 기술도 개발되어 있다.
노 본체 내를 복수의 영역으로 구획하여 각 영역마다 세밀하게 제어하는 경우, 각 영역마다 노 내 온도 센서를 설치할 필요가 있다. 이러한 노 내 온도 센서로서 K 열전대 또는 R 열전대가 사용되고 있지만, K 열전대는 측정 온도가 크게 변화된 경우, 제베크 계수(온도 변화에 대한 기전력 발생의 정도)가 변화되어 버리는 경우가 있고, 측정 온도가 변화되는 경우는 K 열전대로부터의 기전력을 교정할 필요가 있다.
한편, R 열전대 또는 S 열전대는 제베크 계수의 변화는 없지만, 이들 R 열전대 또는 S 열전대는 고액이므로, 비용 증가로 이어진다.
일본 특허 출원 공개 제2002-305189호 공보 일본 특허 출원 공개 제2005-188869호 공보
본 발명은 이러한 점을 고려하여 이루어진 것이며, 열전대를 포함하는 복수의 노 내 온도 센서를 갖는 동시에, 매번 각 열전대로부터의 측정 온도를 교정할 필요가 없고, 또한 설치 비용 저감을 도모할 수 있는 열처리 장치 및 열처리 장치의 온도 측정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 실시 형태는, 내주면에 가열부가 설치된 노 본체와, 노 본체 내에 배치되고, 노 본체와의 사이에 복수의 영역을 포함하는 공간을 형성하는 동시에, 내부에 복수의 피처리체를 수납하는 처리 용기와, 공간의 각 영역에 대응하여 설치된 노 내 온도 센서와, 각 노 내 온도 센서로부터의 신호에 기초하여 노 내 온도를 구하는 노 내 온도 연산부와, 노 내 온도 연산부에서 구한 노 내 온도에 기초하여 가열부를 제어하는 제어부를 구비하고, 공간 중 기준 영역에 설치된 노 내 온도 센서는 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 다른 영역에 설치된 노 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하고, 노 내 온도 연산부는 기준 영역의 제2 열전대와 다른 영역의 제2 열전대에 접속되고, 기준 영역과 다른 영역의 온도차를 구하는 기전력차 회로와, 기준 영역의 제1 열전대에 접속되고 이 제1 열전대로부터의 제1 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 구하는 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로에 접속되고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 당해 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 가산하여 다른 영역의 온도를 구하는 가산기를 갖는 것을 특징으로 하는 열처리 장치이다.
상술한 열처리 장치에 있어서, 노 내 온도 연산부는 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호를 제2 열전대용의 제4 신호로 변환하는 제1 변환기를 더 갖고, 제1 변환기로부터의 제4 신호와 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로로부터의 제3 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해진다.
상술한 열처리 장치에 있어서, 노 내 온도 연산부는 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 제1 열전대용의 제5 신호로 변환하는 제2 변환기를 더 갖고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 다른 영역에 대응하는 제2 변환기로부터의 제5 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해진다.
본 실시 형태는, 내주면에 가열부가 설치된 노 본체와, 노 본체 내에 배치되고, 노 본체와의 사이에 공간을 형성하는 동시에, 내부에 복수의 영역을 형성하고 또한 복수의 피처리체를 수납하는 처리 용기와, 처리 용기의 각 영역에 대응하여 설치된 처리 용기 내 온도 센서와, 각 처리 용기 내 온도 센서로부터의 신호에 기초하여 처리 용기 내 온도를 구하는 처리 용기 내 온도 연산부와, 처리 용기 내 온도 연산부에서 구한 처리 용기 내 온도에 기초하여 가열부를 제어하는 제어부를 구비하고, 처리 용기 내 중 기준 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 다른 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하고, 처리 용기 내 온도 연산부는 기준 영역의 제2 열전대와 다른 영역의 제2 열전대에 접속되고, 기준 영역과 다른 영역의 온도차를 구하는 기전력차 회로와, 기준 영역의 제1 열전대에 접속되고 이 제1 열전대로부터의 제1 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 구하는 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로에 접속되고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 당해 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 가산하여 다른 영역의 온도를 구하는 가산기를 갖는 것을 특징으로 하는 열처리 장치이다.
상술한 열처리 장치에 있어서, 처리 용기 내 온도 연산부는 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호를 제2 열전대용의 제4 신호로 변환하는 제1 변환기를 더 갖고, 제1 변환기로부터의 제4 신호와 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로로부터의 제3 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해진다.
상술한 열처리 장치에 있어서, 처리 용기 내 온도 연산부는 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 제1 열전대용의 제5 신호로 변환하는 제2 변환기를 더 갖고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 다른 영역에 대응하는 제2 변환기로부터의 제5 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해진다.
본 실시 형태는, 열처리 장치의 온도 측정 방법이며, 상기 열처리 장치의 노 내 온도 연산부에 의해 복수의 노 내 온도 센서로부터의 복수의 신호를 수신하는 공정이며, 상기 복수의 노 내 온도 센서는, 상기 열처리 장치에 있어서의 노 본체와 처리 용기 사이에 형성된 공간의 복수의 영역에 대응하여 설치되고, 상기 복수의 영역은 기준 영역 및 다른 영역을 갖고, 상기 기준 영역에 설치된 노 내 온도 센서는, R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 상기 다른 영역에 설치된 노 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하는 상기 공정과, 상기 노 내 온도 연산부의 기전력차 회로에 의해, 기준 영역의 제2 열전대로부터의 제1 신호와 다른 영역의 제2 열전대로부터의 제2 신호에 기초하여 기준 영역과 다른 영역 사이의 온도차를 계산하고, 상기 계산된 온도차에 기초하여 제4 신호를 구하는 공정과, 상기 노 내 온도 연산부의 제1 열전대 기전력 측정 회로에 의해 기준 영역의 제1 열전대로부터의 제3 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 계산하고, 상기 계산된 온도에 기초하여 제5 신호를 구하는 공정과, 상기 노 내 온도 연산부의 가산기에 의해 제4 신호와 제5 신호를 수신하고, 이들을 가산하여, 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 포함하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법이다.
상술한 열처리 장치의 온도 측정 방법에 있어서, 상기 노 내 온도 연산부의 제1 변환기에 의해 상기 제5 신호를 제2 열전대용의 제6 신호로 변환하는 공정과, 가산기에 의해 상기 제1 변환기로부터의 상기 제6 신호를 상기 제4 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 더 구비한다.
상술한 열처리 장치의 온도 측정 방법에 있어서, 상기 노 내 온도 연산부의 제2 변환기에 의해 상기 제4 신호를 제1 열전대용의 제7 신호로 변환하는 공정과, 가산기에 의해 상기 제2 변환기로부터의 상기 제7 신호를 상기 제5 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 구비한다.
본 실시 형태는, 열처리 장치의 온도 측정 방법이며, 상기 열처리 장치의 처리 용기 내 온도 연산부에 의해 복수의 처리 용기 내 온도 센서로부터의 복수의 신호를 수신하는 공정이며, 상기 복수의 처리 용기 내 온도 센서는, 상기 처리 용기의 복수의 영역의 각각에 대응하여 설치되고, 상기 열처리 장치에 있어서의 노 본체와 처리 용기 사이에 공간이 형성되고, 상기 복수의 영역은 기준 영역 및 다른 영역을 갖고, 상기 기준 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는, R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 상기 다른 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하는 상기 공정과, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 기전력차 회로에 의해, 기준 영역의 제2 열전대로부터의 제1 신호와 다른 영역의 제2 열전대로부터의 제2 신호에 기초하여 기준 영역과 다른 영역 사이의 온도차를 계산하고, 상기 계산된 온도차에 기초하여 제4 신호를 구하는 공정과, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 제1 열전대 기전력 측정 회로에 의해 기준 영역의 제1 열전대로부터의 제3 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 계산하고, 상기 계산된 온도에 기초하여 제5 신호를 구하는 공정과, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 가산기에 의해 제4 신호와 제5 신호를 수신하고, 이들을 가산하여, 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 포함하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법이다.
상술한 열처리 장치의 온도 측정 방법에 있어서, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 제1 변환기에 의해 상기 제5 신호를 제2 열전대용의 제6 신호로 변환하는 공정과, 가산기에 의해 상기 제1 변환기로부터의 상기 제6 신호를 상기 제4 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 더 구비한다.
상술한 열처리 장치의 온도 측정 방법에 있어서, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 제2 변환기에 의해 상기 제4 신호를 제1 열전대용의 제7 신호로 변환하는 공정과, 가산기에 의해 상기 제2 변환기로부터의 상기 제7 신호를 상기 제5 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 구비한다.
이상과 같이 본 발명에 따르면, 기준 영역의 노 내 온도 센서 또는 처리 용기 내 온도 센서로서 고가의 제1 열전대 및 저렴한 제2 열전대를 사용하고, 다른 영역의 노 내 온도 센서 또는 처리 용기 내 온도 센서로서 저렴한 제2 열전대를 사용하고, 또한 기준 영역의 제2 열전대로부터의 신호와 다른 영역의 제2 열전대로부터의 신호에 기초하여 기전력차 회로에 의해 기전력차를 구한다. 다음에 기준 영역의 제1 열전대로부터의 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 측정하고, 다른 영역의 기전력차 회로로부터의 신호와 제1 열전대로부터의 신호에 기초하여, 가산기에 의해 다른 영역의 온도를 구한다. 이로 인해 각 영역마다 고가의 제1 열전대를 설치할 필요는 없고, 또한 각 영역의 제2 열전대로부터의 신호를 교정할 필요도 없어, 설치 비용 저감을 도모할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 열처리 장치의 실시 형태를 개략적으로 도시하는 종단면도.
도 2는 노 본체 내의 온도 변화를 시간의 경과와 함께 도시하는 도면.
도 3은 노 본체의 단위 영역마다의 온도를 도시하는 개략도.
도 4는 온도 연산부를 도시하는 도면.
도 5는 온도 연산부의 변형예를 도시하는 도면.
도 6은 본 발명의 변형예에 따른 열처리 장치를 개략적으로 도시하는 종단면도.
발명의 실시 형태
이하에, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다.
도 1에 있어서, 종형의 열처리 장치(1)는, 피처리체, 예를 들어 반도체 웨이퍼(w)를 한 번에 다수매 수용하여 산화, 확산, 감압 CVD 등의 열처리를 실시할 수 있는 종형의 열처리로(2)를 구비하고 있다. 이 열처리로(2)는, 내주면에 발열 저항체(히터)(18A)가 설치된 노 본체(5)와, 노 본체(5) 내에 배치되고, 노 본체(5)와의 사이에 공간(33)을 형성하는 동시에, 웨이퍼(w)를 수용하여 열처리하기 위한 처리 용기(3)를 구비하고 있다.
또한 노 본체(5)의 처리 용기(3)와의 사이의 공간(33)은, 종방향을 따라 복수의 단위 영역(단순히 영역이라고도 함), 예를 들어 10의 단위 영역 A1, A2, A3, A4, A5, A6, A7, A8, A9, A10으로 구획되어 있다. 그리고 히터(18A)는, 이 10의 단위 영역 A1, … A10에 대응하여 각각 설치되어 있고, 또한 각 단위 영역 A1, … A10마다, 당해 단위 영역 A1, … A10의 온도를 측정하는, 후술하는 바와 같이 노 내 온도 센서(50)가 설치되어 있다. 그리고 각 노 내 온도 센서(50)는, 신호 라인(50a)을 통해 후술하는 온도 연산부(50A)에 접속되어 있다.
마찬가지로 처리 용기(3) 내도 종방향을 따라 복수의 단위 영역(단순히 영역이라고도 함), 예를 들어 10의 단위 영역 A1, A2, A3, A4, A5, A6, A7, A8, A9, A10으로 구획되고, 또한 각 단위 영역 A1, … A10마다 당해 단위 영역 A1, … A10의 온도를 측정하는 처리 용기 내 온도 센서(55)가 설치되어 있다. 각 처리 용기 내 온도 센서(55)는 처리 용기 내 온도 센서 지지구(56)에 의해 지지되는 동시에 신호 라인(55a)을 통해 온도 연산부(50A)에 접속되어 있다.
또한 노 본체(5)는 베이스 플레이트(6)에 의해 지지되고, 이 베이스 플레이트(6)에는 처리 용기(3)를 하방으로부터 상방으로 삽입하기 위한 개구부(7)가 형성되어 있다. 또한 베이스 플레이트(6)의 개구부(7)에는 베이스 플레이트(6)와 처리 용기(3) 사이의 간극을 덮도록 도시하지 않은 단열재가 설치되어 있다.
처리 용기(3)는 석영제로 이루어지고, 상단부가 폐색되고, 하단부가 노구(3a)로서 개방된 세로로 긴 원통 형상을 갖는다. 처리 용기(3)의 하단부에는 외향의 플랜지(3b)가 형성되고, 플랜지(3b)는 도시하지 않은 플랜지 압박부를 통해 상기 베이스 플레이트(6)에 지지되어 있다. 또한 처리 용기(3)에는, 하측부에 처리 가스나 불활성 가스 등을 처리 용기(3) 내에 도입하는 도입 포트(도입구)(8) 및 처리 용기(3) 내의 가스를 배기하기 위한 도시하지 않은 배기 포트(배기구)가 설치되어 있다. 도입 포트(8)에는 가스 공급원(도시하지 않음)이 접속되고, 배기 포트에는 예를 들어 133×600㎩ 내지 133×10-2㎩ 정도로 감압 제어가 가능한 진공 펌프를 구비한 배기계(도시하지 않음)가 접속되어 있다. 또한 도입 포트(8)에는 처리 용기(3) 내로 연장되는 가스 공급관(8a)이 접속되고, 이 가스 공급관(8a)에는 가스 공급 구멍(8b)이 형성되어 있다.
처리 용기(3)의 하방에는, 처리 용기(3)의 노구(3a)를 폐색하는 덮개(10)가 도시하지 않은 승강 기구에 의해 승강 이동 가능하게 설치되어 있다. 이 덮개(10)의 상부에는, 노구의 보온 수단인 보온통(11)이 적재되고, 상기 보온통(11)의 상부에는, 직경이 300㎜인 웨이퍼(w)를 다수매, 예를 들어 100 내지 150매 정도 상하 방향으로 소정의 간격으로 탑재하는 보유 지지구인 석영제의 보트(12)가 적재되어 있다. 덮개(10)에는, 보트(12)를 그 축심 주위로 회전시키는 회전 기구(13)가 설치되어 있다. 보트(12)는, 덮개(10)의 하강 이동에 의해 처리 용기(3) 내로부터 하방의 로딩 에어리어(도시하지 않음) 내로 반출(언로드)되고, 웨이퍼(w)의 이동 전환 후, 덮개(10)의 상승 이동에 의해 처리 용기(3) 내로 반입(로드)된다.
상기 노 본체(5)는, 원통 형상의 단열재(16)와, 상기 단열재(16)의 내주면에 축 방향(도시예에서는 상하 방향)으로 다단으로 형성된 홈 형상의 선반부(17)를 갖고, 각 선반부(17)를 따라 각 단위 영역 A1, … A10마다 설치된 히터(18A)를 구성하는 히터 엘리먼트(히터선, 발열 저항체)(18)가 배치되어 있다. 단열재(16)는, 예를 들어 실리카, 알루미나 혹은 규산 알루미나를 포함하는 무기질 섬유로 이루어져 있다.
상기 원통 형상의 단열재(16)의 내주면에는 이것과 동심의 환 형상의 홈부(21)가 축 방향으로 소정 피치로 다단으로 형성되고, 인접하는 상부의 홈부(21)와 하부의 홈부(21) 사이에 주위 방향으로 연속된 환 형상의 상기 선반부(17)가 형성되어 있다. 상기 홈부(21)에 있어서의 히터 엘리먼트(18)의 상부와 하부 및 홈부(21)의 안쪽벽과 히터 엘리먼트(18)의 사이에는 히터 엘리먼트(18)의 열팽창 수축 및 직경 방향의 이동을 허용할 수 있는 충분한 간극이 형성되어 있고, 또한 이들 간극에 의해 강제 냉각시에 노 본체(5)의 냉각 매체 도입부(40)로부터 공간(33) 내로 흐르는 냉각 매체가 히터 엘리먼트(18)의 배면으로 돌아 들어가, 히터 엘리먼트(18)를 효과적으로 냉각할 수 있도록 되어 있다. 또한, 이러한 냉각 매체로서는, 공기, 질소 가스가 생각된다.
각 단위 영역 A1, … A10마다 설치된 히터(18A)에 있어서, 이 히터(18A)를 구성하는 히터 엘리먼트(18)에는 단자판(22a, 22b)이 접합되고, 단열재(16)를 직경 방향으로 관통하도록 설치된 단자판(22a, 22b)을 통해 외부의 히터 출력부(18B)에 접속되어 있다.
노 본체(5)의 단열재(16)의 형상을 유지하는 동시에 단열재(16)를 보강하기 위해, 도 1에 도시하는 바와 같이, 단열재(16)의 외주면은 금속제, 예를 들어 스테인리스제의 외피(아우터 쉘)(30)로 덮여 있다. 단열재(16)의 정상부에는 이것을 덮는 상부 단열재(31)가 설치되고, 이 상부 단열재(31)의 상부에는 외피(30)의 정상부(상단부)를 덮는 스테인리스제의 천장판(32)이 설치되어 있다.
그런데, 히터 엘리먼트(18)로서 띠 형상의 발열 저항체를 사용하여, 선반부(17) 내에 수납한 예를 나타냈지만, 히터 엘리먼트(18)로서는 이러한 구조의 것에 한정되지 않고, 다른 다양한 구조의 히트 엘리먼트를 사용할 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이 노 본체(5)와 처리 용기(3) 사이에 형성된 공간(33)은, 10의 단위 영역 A1, … A10으로 구획되고, 각 단위 영역 A1, … A10마다, 당해 단위 영역 A1, … A10 내의 온도를 검지하는 온도 센서(노 내 온도 센서)(50)가 설치되고, 이 온도 센서(50)로부터의 검지 신호는 신호 라인(50a)을 통해 후술하는 온도 연산부(50A)로 보내져, 이 온도 연산부(50A)에 있어서 노 내 온도가 구해진다. 그리고 온도 연산부(50A)에서 구한 노 내 온도는 제어 장치(제어부)(51)로 보내진다. 이 경우, 온도 연산부(50A)는 노 본체(5)와 처리 용기(3) 사이의 공간(33)의 온도를 검출하는 노 내 온도 연산부(50A)로서 기능한다.
그런데, 각 단위 영역 A1, … A10마다 설치된 온도 센서(50)는, 온도 연산부(50A)에 접속되어 있다. 이 온도 연산부(50A)에 대해 상세하게 서술한다.
온도 센서(50)는 상술한 바와 같이 공간(33)의 각 단위 영역 A1, … A10마다 설치되어 단위 영역 A1, … A10 내의 온도를 검출하는 것이다.
각 단위 영역 A1, … A10의 온도 센서(50)에서 검출된 검지 신호는, 신호 라인(50a)을 통해 온도 연산부(50A)로 보내져 각 단위 영역 A1, … A10의 노 내 온도가 구해지고, 온도 연산부(50A)에 의해 구해진 노 내 온도는 제어 장치(51)로 보내진다. 이 제어 장치(51) 승온 과정, 강온 과정 혹은 온도 안정시에 있어서, 소정의 목표 온도에 대한 수렴 시간을 단축시키고, 또한 고정밀도로 목표 온도에 근접시킨다.
다음에, 도 4에 의해, 공간(33) 내의 각 단위 영역 A1, … A10마다 설치된 노 내 온도 센서(50)와, 이 노 내 온도 센서(50)로부터의 신호에 기초하여 노 내 온도를 구하는 온도 연산부(50A)에 대해 이하에 상세하게 서술한다.
도 4에 도시하는 바와 같이, 각 단위 영역 A1, … A10의 중 가장 하방의 단위 영역 A1이 기준 영역으로 되고, 다른 단위 영역 A2, … A10은 다른 영역으로 된다. 또한, 도 4에 있어서 단위 영역 A1, … A10 중 단위 영역 A1, A2, A3, A4가 상세하게 서술되어 있지만, 단위 영역 A5, A6, A7, A8, A9, A10에 대해서도, 기준 영역 A1 이외의 다른 영역 A2, A3, A4와 대략 동일한 구성을 갖는다.
기준 영역 A1의 노 내 온도 센서(50)는 열이력에 의해서도 제베크 계수의 변화가 적은 고가의 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대(81)와, R 열전대 또는 S 열전대 이외의 저렴한 N 열전대, K 열전대, E 열전대, J 열전대 등으로 이루어지는 제2 열전대(82)를 포함한다. 또한, 도 4에 있어서 편의상, 제1 열전대(81)로서 R 열전대가 나타내어져 있고, 제2 열전대로서 K 열전대가 나타내어져 있다.
또한 다른 영역 A2, A3, A4, A5, A6, A7, A8, A9, A10의 노 내 온도 센서(50)는 저렴한 N 열전대, K 열전대 또는 E 열전대 등으로 이루어지는 제2 열전대(82)를 포함한다.
여기서, 제1 열전대(81)를 구성하는 R 열전대 및 S 열전대, 제2 열전대(82)를 구성하는 N 열전대, K 열전대, E 열전대 및 J 열전대에 대해, 그 특성을 표 1에 나타낸다.
여기서 표 1은 규격화된 열전대의 종류와 특징을 나타낸다.
Figure pat00001
또한 온도 연산부(50A)는 기준 영역 A1의 제2 열전대(82)와, 다른 영역 A2, … A10의 제2 열전대(82)에, 냉 접점(90)을 통해 접속되고, 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10의 온도차를 구하는 기전력차 회로(83)와, 기준 영역 A1의 제1 열전대에 접속되고, 이 제1 열전대로부터의 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 구하는 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)를 구비하고 있다.
그리고 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호는 제1 변환기(85)에 의해 제2 열전대용의 신호로 변환되고, 제1 변환기(85)에 의해 변환된 신호와, 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 기전력차 회로(83)로부터의 신호가 가산기(86)에 의해 가산되어 다른 영역 A2, … A10의 온도가 구해진다.
도 4에 있어서, 제1 열전대(81)는 플러스측의 배선 R-TC+와, 마이너스측의 배선 R-TC-를 갖고, 제2 열전대(82)는 플러스측의 배선 K-TC+와 마이너스측의 배선 K-TC-를 갖는다.
다음에 이러한 구성으로 이루어지는 열처리 장치의 작용에 대해 설명한다.
우선, 보트(12) 내에 웨이퍼(w)가 탑재되고, 웨이퍼(w)가 탑재된 보트(12)가 덮개(10)의 보온통(11) 상에 적재된다. 그 후 덮개(10)의 상승 이동에 의해 보트(12)가 처리 용기(3) 내로 반입된다.
다음에 제어 장치(51)는 히터 출력부(18B)를 제어하여 각 단위 영역 A1, … A10 내의 히터(18A)를 출력 제어하고, 노 본체(5)와 처리 용기(3) 사이의 공간(33)을 가열하여, 처리 용기(3) 내의 보트(12)에 탑재된 웨이퍼(w)에 대해 필요한 열처리를 실시한다.
이 동안, 각 단위 영역 A1, … A10의 온도 센서(50)에서 검출된 검지 신호는, 신호 라인(50a)을 통해 온도 연산부(50A)로 보내져 각 단위 영역 A1, … A10의 노 내 온도가 구해지고, 온도 연산부(50A)에 의해 구해진 노 내 온도는 제어 장치(51)로 보내진다.
제어 장치(51)는, 각 단위 영역 A1, … A10의 노 내 온도에 기초하여 히터 출력부(18B)를 출력 제어하여, 각 단위 영역 A1, … A10의 히터(18A)의 히터 엘리먼트(18)로 통전한다.
다음에 온도 연산부(50A)에 있어서의 온도 측정 방법에 대해 이하 상세하게 서술한다.
도 4에 도시하는 바와 같이 우선, 기준 영역 A1의 제2 열전대(82)와, 각 다른 영역 A2, … A10의 제2 열전대(82)로부터의 신호에 기초하여, 대응하는 기전력차 회로(8)에 의해 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10의 온도차를 구한다. 구체적으로는 각각의 기전력차 회로(83)에 의해, K-TC 기전력의 기전력차의 냉 접점 보상값(냉 접점 보정된 기전력의 차)이 구해진다.
다음에 기준 영역 A1의 제1 열전대(81)로부터의 신호에 기초하여 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)에 의해 기준 영역의 온도가 구해진다. 구체적으로는 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)에 의해 R-TC 기전력의 냉 접점 보상값이 구해진다.
다음에 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호(R-TC 기전력)는 제1 변환기(85)에 의해 제2 열전대용의 신호(K-TC 기전력)로 변환되고, 제1 변환기(85)에 의해 변환된 신호와, 각 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 기전력차 회로(83)로부터의 신호가 가산기(86)에 의해 가산된다.
다음에 가산기(86)에 의해 가산된 신호(K-TC 기전력)가 온도 변환기(87)에 입력된다. 그리고 이 온도 변환기(87)에 의해, 각 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 온도가 구해진다.
한편, 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호(R-TC 기전력)가 온도 변환기(87)에 입력되고, 이 온도 변환기(87)에 의해, 기준 영역 A1에 대응하는 온도가 구해진다.
이와 같이 본 실시 형태에 따르면, 기준 영역 A1에만 제베크 계수의 변화량이 작은 고가의 제1 열전대(81)를 설치하는 동시에, 저렴한 제2 열전대(82)를 기준 영역 A1 및 다른 영역 A2, … A10에 설치하고, 각 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 기전력차 회로(83)에 의해 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10 사이의 온도차를 구한다. 그리고 제1 열전대(81)를 사용하여 기준 영역 A1에 있어서의 온도를 구하고, 기준 영역 A1에 있어서의 온도와, 기전력차 회로(83)에 의해 구한 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10의 온도차에 기초하여 다른 영역 A2, … A10에 있어서의 온도를 구한다. 이로 인해, 열전대(81, 82)의 설치 비용을 저감할 수 있다.
이상 서술한 바와 같이, 제어 장치(51)에 의해 히터 출력부(18A)를 출력 제어하여 각 단위 영역 A1, … A10마다의 히터(18A)를 개별로 제어함으로써, 승강온시 T1에 있어서 제어 파라미터의 튜닝을 용이하게 행할 수 있다(도 2). 또한 온도 안정시 T2에 노 본체(5)와 처리 용기(3) 사이의 공간(33) 내를 세심하게 균일하게 제어할 수 있다(도 3).
다음에 도 5에 의해, 공간(33) 내의 각 단위 영역 A1, … A10마다 설치된 노 내 온도 센서(50)로부터의 신호에 기초하여 노 내 온도를 구하는 온도 연산부(50A)의 변형예에 대해 이하에 상세하게 서술한다.
도 5에 도시하는 바와 같이, 각 단위 영역 A1, … A10 중 가장 하방의 단위 영역 A1이 기준 영역으로 되고, 다른 단위 영역 A2, … A10은 다른 영역으로 된다. 또한, 도 5에 있어서 단위 영역 A1, … A10 중 단위 영역 A1, A2, A3, A4가 상세하게 서술되어 있지만, 단위 영역 A5, A6, A7, A8, A9, A10에 대해서도, 기준 영역 A1 이외의 다른 영역 A2, A3, A4와 대략 동일한 구성을 갖는다.
기준 영역 A1의 노 내 온도 센서(50)는 열이력에 의해서도 제베크 계수의 변화가 적은 고가의 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대(81)와, R 열전대 또는 S 열전대 이외의 저렴한 N 열전대, K 열전대, E 열전대, J 열전대 등으로 이루어지는 제2 열전대(82)를 포함한다. 또한, 도 5에 있어서 편의상, 제1 열전대(81)로서 R 열전대가 나타내어져 있고, 제2 열전대로서 K 열전대가 나타내어져 있다.
또한 다른 영역 A2, A3, A4, A5, A6, A7, A8, A9, A10의 노 내 온도 센서(50)는 저렴한 N 열전대, K 열전대 또는 E 열전대 등으로 이루어지는 제2 열전대(82)를 포함한다.
또한 온도 연산부(50A)는 기준 영역 A1의 제2 열전대(82)와, 다른 영역 A2, … A10의 제2 열전대(82)에, 냉 접점(90)을 통해 접속되고, 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10의 온도차를 구하는 기전력차 회로(83)와, 기준 영역 A1의 제1 열전대에 접속되고, 이 제1 열전대로부터의 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 구하는 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)를 구비하고 있다.
그리고 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호는 가산기(86)로 보내진다. 그리고 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 기전력차 회로(83)로부터의 신호가 제2 변환기(89)에 의해 제1 열전대용의 신호로 변환되고, 제1 열전대 전력 측정 회로(84)로부터의 신호와 제2 변환기(89)로부터의 신호가 가산기(86)에 의해 가산되어 다른 영역 A2, … A10의 온도가 구해진다.
도 5에 있어서, 제1 열전대(81)는 플러스측의 배선 R-TC+와, 마이너스측의 배선 R-TC-를 갖고, 제2 열전대(82)는 플러스측의 배선 K-TC+와 마이너스측의 배선 K-TC-를 갖는다.
다음에 도 5에 의해 노 내 온도 연산부(50A)에 있어서의 온도 측정 방법에 대해 이하에 상세하게 서술한다.
도 5에 도시하는 바와 같이 우선, 기준 영역 A1의 제2 열전대(82)와, 각 다른 영역 A2, … A10의 제2 열전대(82)로부터의 신호에 기초하여, 대응하는 기전력차 회로(83)에 의해 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10의 온도차를 구한다. 구체적으로는 각각의 기전력차 회로(83)에 의해, K-TC 기전력의 냉 접점 보상값이 구해진다.
다음에 기준 영역 A1의 제1 열전대(81)로부터의 신호에 기초하여 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)에 의해 기준 영역의 온도가 구해진다. 구체적으로는 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)에 의해 R-TC 기전력의 냉 접점 보상값이 구해진다.
다음에 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호(R-TC 기전력)가 가산기(86)로 보내진다. 또한 각 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 기전력차 회로(83)로부터의 신호(K-TC 기전력)가 제2 변환기(89)에 의해 제1 열전대용의 신호(R-TC 기전력)로 변환되고, 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호와 제2 변환기(89)로부터의 신호가 가산기(86)에 의해 가산된다.
다음에 가산기(86)에 의해 가산된 신호(K-TC 기전력)가 온도 변환기(87)에 입력된다. 그리고 이 온도 변환기(87)에 의해, 각 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 온도가 구해진다.
한편, 제1 열전대 기전력 측정 회로(84)로부터의 신호(R-TC 기전력)가 온도 변환기(87)에 입력되고, 이 온도 변환기(87)에 의해, 기준 영역 A1에 대응하는 온도가 구해진다.
이와 같이 본 실시 형태에 따르면, 기준 영역 A1에만 제베크 계수의 변화량이 작은 고가의 제1 열전대(81)를 설치하는 동시에, 저렴한 제2 열전대(82)를 기준 영역 A1 및 다른 영역 A2, … A10에 설치하고, 각 다른 영역 A2, … A10에 대응하는 기전력차 회로(83)에 의해 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10 사이의 온도차를 구한다. 그리고 제1 열전대(81)를 사용하여 기준 영역 A1에 있어서의 온도를 구하고, 기준 영역 A1에 있어서의 온도와, 기전력차 회로(83)에 의해 구한 기준 영역 A1과 다른 영역 A2, … A10의 온도차에 기초하여 다른 영역 A2, … A10에 있어서의 온도를 구한다. 이로 인해, 열전대(81, 82)의 설치 비용을 저감할 수 있다.
본 발명에 따른 열처리 장치의 변형예
다음에 본 발명에 따른 열처리 장치의 변형예에 대해 서술한다.
상술한 실시 형태에 있어서, 노 본체(5)와 처리 용기(3) 사이에 형성된 공간(33)의 각 단위 영역 A1, … A10에 설치된 노 내 온도 센서(50)로부터의 신호에 기초하여, 온도 연산부(50A)에 의해 노 내 온도를 구한 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고 처리 용기(3) 내의 각 단위 영역 A1, … A10에 설치된 처리 용기 내 온도 센서(55)로부터의 신호에 기초하여 온도 연산부(50A)에 의해 처리 용기(3) 내의 온도를 구해도 된다. 이 경우, 온도 연산부(50A)는 처리 용기 내 온도 연산부로서 기능한다.
즉, 상술한 바와 같이 처리 용기(3) 내는, 10의 단위 영역 A1, … A10으로 구획되고, 각 단위 영역 A1, … A10마다, 당해 단위 영역 A1, … A10 내의 온도를 검지하는 처리 용기 내 온도 센서(55)가 설치되고, 이 처리 용기 내 온도 센서(55)로부터의 검지 신호는 신호 라인(55a)을 통해 후술하는 온도 연산부(50A)로 보내지고, 이 온도 연산부(50A)에 있어서 노 내 온도가 구해진다. 그리고 온도 연산부(50A)에서 구한 노 내 온도는 제어 장치(제어부)(51)로 보내진다. 또한 각 단위 영역 A1, … A10마다 설치된 처리 용기 내 온도 센서(55)는, 처리 용기 내 온도 센서 지지구(56)에 의해 지지되어 있다.
다음에 도 6에 의한 본 발명의 변형예에 따른 열처리 장치에 대해 설명한다. 도 6은 본 발명의 변형예에 따른 열처리 장치를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 6에 도시하는 열처리 장치는, 처리 용기(3)의 구조가 다를 뿐이며, 다른 구성은 도 1 내지 도 5에 도시하는 열처리 장치와 대략 동일하다.
즉, 도 1에 있어서 처리 용기(3)가 1중관으로 이루어지는 구성을 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고 처리 용기(3)는 외통(3A)과, 외통(3A) 내에 배치된 내통(3B)으로 이루어지는 2중관 구조를 갖고 있어도 된다.
도 6에 도시하는 열처리 장치에 있어서, 도 1 내지 도 5에 도시하는 열처리 장치와 동일한 부분에는 동일한 부호를 부여하여 상세한 설명은 생략한다.
또한 상기 실시 형태에 있어서, 노 본체(5)와 처리 용기(3) 사이의 공간(33) 및 처리 용기(3) 내를 10의 단위 영역 A1, … A10으로 구획한 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고 3개 이상의 임의의 수의 단위 영역으로 구획해도 된다. 이 경우, 단위 영역의 수가 많으면, 본 발명의 효과는 보다 향상된다.
또한 상기 공간(33) 및 처리 용기(3) 내를 균등하게 구획한 예를 나타냈지만, 이것에 한정되지 않고 장치의 사용 상태에 따라서, 단위 영역의 폭이나 위치 형상을 다양하게 변화시켜도, 본 발명의 효과에 차이는 없다.
w : 반도체 웨이퍼(피처리체)
1 : 열처리 장치
1A : RCU 시스템
2 : 열처리로
3 : 처리 용기
3a : 노구
5 : 노 본체
16 : 단열재
18 : 히터 엘리먼트(발열 저항체)
18A : 히터
18B : 히터 출력부
33 : 공간
50 : 노 내 온도 센서
50A : 온도 연산부
51 : 제어 장치
55 : 처리 용기 내 온도 센서
81 : 제1 열전대
82 : 제2 열전대
83 : 기전력차 회로
85 : 제1 변환기
86 : 가산기
87 : 온도 변환기
89 : 제2 변환기
90 : 냉 접점

Claims (12)

  1. 내주면에 가열부가 설치된 노 본체와,
    노 본체 내에 배치되고, 노 본체와의 사이에 복수의 영역을 포함하는 공간을 형성하는 동시에, 내부에 복수의 피처리체를 수납하는 처리 용기와,
    공간의 각 영역에 대응하여 설치된 노 내 온도 센서와,
    각 노 내 온도 센서로부터의 신호에 기초하여 노 내 온도를 구하는 노 내 온도 연산부와,
    노 내 온도 연산부에서 구한 노 내 온도에 기초하여 가열부를 제어하는 제어부를 구비하고,
    공간 중 기준 영역에 설치된 노 내 온도 센서는 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 다른 영역에 설치된 노 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하고,
    노 내 온도 연산부는 기준 영역의 제2 열전대와 다른 영역의 제2 열전대에 접속되고, 기준 영역과 다른 영역의 온도차를 구하는 기전력차 회로와, 기준 영역의 제1 열전대에 접속되고 이 제1 열전대로부터의 제1 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 구하는 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로에 접속되고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 당해 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 가산하여 다른 영역의 온도를 구하는 가산기를 갖는 것을 특징으로 하는, 열처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 노 내 온도 연산부는 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호를 제2 열전대용의 제4 신호로 변환하는 제1 변환기를 더 갖고, 제1 변환기로부터의 제4 신호와 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로로부터의 제3 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해지는 것을 특징으로 하는, 열처리 장치.
  3. 제1항에 있어서, 노 내 온도 연산부는 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 제1 열전대용의 제5 신호로 변환하는 제2 변환기를 더 갖고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 다른 영역에 대응하는 제2 변환기로부터의 제5 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해지는 것을 특징으로 하는, 열처리 장치.
  4. 내주면에 가열부가 설치된 노 본체와,
    노 본체 내에 배치되고, 노 본체와의 사이에 공간을 형성하는 동시에, 내부에 복수의 영역을 형성하고 또한 복수의 피처리체를 수납하는 처리 용기와,
    처리 용기의 각 영역에 대응하여 설치된 처리 용기 내 온도 센서와,
    각 처리 용기 내 온도 센서로부터의 신호에 기초하여 처리 용기 내 온도를 구하는 처리 용기 내 온도 연산부와,
    처리 용기 내 온도 연산부에서 구한 처리 용기 내 온도에 기초하여 가열부를 제어하는 제어부를 구비하고,
    처리 용기 내 중 기준 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는 R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 다른 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하고,
    처리 용기 내 온도 연산부는 기준 영역의 제2 열전대와 다른 영역의 제2 열전대에 접속되고, 기준 영역과 다른 영역의 온도차를 구하는 기전력차 회로와, 기준 영역의 제1 열전대에 접속되고 이 제1 열전대로부터의 제1 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 구하는 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 제1 열전대 기전력 측정 회로와, 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로에 접속되고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 당해 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 가산하여 다른 영역의 온도를 구하는 가산기를 갖는 것을 특징으로 하는, 열처리 장치.
  5. 제4항에 있어서, 처리 용기 내 온도 연산부는 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호를 제2 열전대용의 제4 신호로 변환하는 제1 변환기를 더 갖고, 제1 변환기로부터의 제4 신호와 다른 영역에 대응하는 기전력차 회로로부터의 제3 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해지는 것을 특징으로 하는, 열처리 장치.
  6. 제4항에 있어서, 처리 용기 내 온도 연산부는 기전력차 회로로부터의 제3 신호를 제1 열전대용의 제5 신호로 변환하는 제2 변환기를 더 갖고, 제1 열전대 기전력 측정 회로로부터의 제2 신호와 다른 영역에 대응하는 제2 변환기로부터의 제5 신호가 가산기에 의해 가산되어 다른 영역의 온도가 구해지는 것을 특징으로 하는, 열처리 장치.
  7. 열처리 장치의 온도 측정 방법이며,
    상기 열처리 장치의 노 내 온도 연산부에 의해 복수의 노 내 온도 센서로부터의 복수의 신호를 수신하는 공정이며, 상기 복수의 노 내 온도 센서는, 상기 열처리 장치에 있어서의 노 본체와 처리 용기 사이에 형성된 공간의 복수의 영역에 대응하여 설치되고, 상기 복수의 영역은 기준 영역 및 다른 영역을 갖고, 상기 기준 영역에 설치된 노 내 온도 센서는, R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 상기 다른 영역에 설치된 노 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하는 상기 공정과,
    상기 노 내 온도 연산부의 기전력차 회로에 의해, 기준 영역의 제2 열전대로부터의 제1 신호와 다른 영역의 제2 열전대로부터의 제2 신호에 기초하여 기준 영역과 다른 영역 사이의 온도차를 계산하고, 상기 계산된 온도차에 기초하여 제4 신호를 구하는 공정과,
    상기 노 내 온도 연산부의 제1 열전대 기전력 측정 회로에 의해 기준 영역의 제1 열전대로부터의 제3 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 계산하고, 상기 계산된 온도에 기초하여 제5 신호를 구하는 공정과,
    상기 노 내 온도 연산부의 가산기에 의해 제4 신호와 제5 신호를 수신하고, 이들을 가산하여, 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 포함하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 노 내 온도 연산부의 제1 변환기에 의해 상기 제5 신호를 제2 열전대용의 제6 신호로 변환하는 공정과,
    가산기에 의해 상기 제1 변환기로부터의 상기 제6 신호를 상기 제4 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 더 구비하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 노 내 온도 연산부의 제2 변환기에 의해 상기 제4 신호를 제1 열전대용의 제7 신호로 변환하는 공정과,
    가산기에 의해 상기 제2 변환기로부터의 상기 제7 신호를 상기 제5 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 구비하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법.
  10. 열처리 장치의 온도 측정 방법이며,
    상기 열처리 장치의 처리 용기 내 온도 연산부에 의해 복수의 처리 용기 내 온도 센서로부터의 복수의 신호를 수신하는 공정이며, 상기 복수의 처리 용기 내 온도 센서는, 상기 처리 용기의 복수의 영역의 각각에 대응하여 설치되고, 상기 열처리 장치에 있어서의 노 본체와 처리 용기 사이에 공간이 형성되고, 상기 복수의 영역은 기준 영역 및 다른 영역을 갖고, 상기 기준 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는, R 열전대 또는 S 열전대로 이루어지는 제1 열전대와, 그 이외의 열전대로 이루어지는 제2 열전대를 포함하고, 상기 다른 영역에 설치된 처리 용기 내 온도 센서는 제2 열전대를 포함하는 상기 공정과,
    상기 처리 용기 내 온도 연산부의 기전력차 회로에 의해, 기준 영역의 제2 열전대로부터의 제1 신호와 다른 영역의 제2 열전대로부터의 제2 신호에 기초하여 기준 영역과 다른 영역 사이의 온도차를 계산하고, 상기 계산된 온도차에 기초하여 제4 신호를 구하는 공정과,
    상기 처리 용기 내 온도 연산부의 제1 열전대 기전력 측정 회로에 의해 기준 영역의 제1 열전대로부터의 제3 신호에 기초하여 기준 영역의 온도를 계산하고, 상기 계산된 온도에 기초하여 제5 신호를 구하는 공정과,
    상기 처리 용기 내 온도 연산부의 가산기에 의해 제4 신호와 제5 신호를 수신하고, 이들을 가산하여, 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 포함하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 제1 변환기에 의해 상기 제5 신호를 제2 열전대용의 제6 신호로 변환하는 공정과,
    가산기에 의해 상기 제1 변환기로부터의 상기 제6 신호를 상기 제4 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 더 구비하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법.
  12. 제10항에 있어서, 상기 처리 용기 내 온도 연산부의 제2 변환기에 의해 상기 제4 신호를 제1 열전대용의 제7 신호로 변환하는 공정과,
    가산기에 의해 상기 제2 변환기로부터의 상기 제7 신호를 상기 제5 신호에 가산하여, 상기 다른 영역의 온도를 계산하는 공정을 구비하는, 열처리 장치의 온도 측정 방법.
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