KR20120064534A - Electrophoretic display device and method of fabricating thereof - Google Patents

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신상일
임유석
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An electrophoresis display device and a manufacturing method thereof are provided to individually operate partitioned electrophoresis layers by forming second partition wall in an image pixel area. CONSTITUTION: A first substrate(120) and a second substrate(140) including a plurality of pixel regions are supplied. A TFT is formed on the first substrate. A protective layer(124) is formed on the first substrate. A pixel electrode(118) is formed in a pixel area of the protective layer. The electrophoresis material is filled within the pixel of the first partition.

Description

전기영동 표시소자 및 그 제조방법{ELECTROPHORETIC DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THEREOF}Electrophoretic display device and its manufacturing method {ELECTROPHORETIC DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THEREOF}

본 발명은 전기영동 표시소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 전기영동물질을 박막트랜지스터가 형성되는 기판에 직접 충진함으로써 제조비용을 절감하고 제조시간을 단축할 수 있는 전기영동 표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same, which directly reduce an electrophoretic material on a substrate on which a thin film transistor is formed, thereby reducing manufacturing cost. It is about.

일반적으로 전기영동 표시소자는 전압이 인가되는 한쌍의 전극을 콜로이드용액에 담그면 콜로이드 입자가 어느 한쪽의 극성으로 이동하는 현상을 이용한 화상표시장치로서, 백라이트를 사용하지 않으면서 넓은 시야각, 높은 반사율, 저소비전력 등의 특성을 갖기 때문에, 전기종이(electric paper) 등의 전자기기로서 각광받고 있다.In general, an electrophoretic display device is an image display device using a phenomenon in which colloidal particles move to either polarity when a pair of electrodes to which voltage is applied is immersed in a colloidal solution. A wide viewing angle, high reflectance, and low consumption without using a backlight Since it has characteristics, such as an electric power, it is attracting attention as an electronic device, such as an electric paper.

이러한 전기영동 표시소자는 2개의 기판 사이에 전기영동층이 개재된 구조를 가지며, 2개의 기판중 하나는 투명한 기판으로 이루어지고 다른 하나는 구동소자가 형성된 어레이기판으로 구성됨으로써 입력되는 광을 반사하는 반사형 모드로 화상을 표시할 수 있다. The electrophoretic display device has a structure in which an electrophoretic layer is interposed between two substrates, one of the two substrates is made of a transparent substrate, and the other is composed of an array substrate on which a driving element is formed, thereby reflecting input light. The image can be displayed in the reflective mode.

도 1은 종래 전기영동 표시소자(1)의 구조를 나타내는 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 전기영동 표시소자(1)는 제1기판(20) 및 제2기판(40)과, 상기 제1기판(20)에 형성된 박막트랜지스터 및 화소전극(18)과, 상기 제2기판(40)에 형성된 공통전극(42)과, 상기 제1기판(20) 및 제2기판(40) 사이에 형성된 전기영동층(60)과, 상기 전기영동층(60)과 화소전극(18) 사이에 형성된 접착층(56)으로 이루어진다.1 is a view showing the structure of a conventional electrophoretic display device (1). As shown in FIG. 1, the electrophoretic display device 1 includes a first substrate 20 and a second substrate 40, a thin film transistor and a pixel electrode 18 formed on the first substrate 20, The common electrode 42 formed on the second substrate 40, the electrophoretic layer 60 formed between the first substrate 20 and the second substrate 40, the electrophoretic layer 60 and the pixel. It consists of an adhesive layer 56 formed between the electrodes 18.

박막트랜지스터는 상기 제1기판(2)에 형성된 게이트전극(11)과, 상기 게이트전극(11)이 형성된 제1기판(20) 전체에 걸쳐 형성된 게이트절연층(22)과, 상기 게이트절연층(22) 위에 형성된 반도체층(13)과, 상기 반도체층(13) 위에 형성된 소스전극(15) 및 드레인전극(16)으로 이루어진다. 상기 박막트랜지스터의 소스전극(15) 및 드레인전극(16) 위에는 보호층(24)이 형성된다.The thin film transistor includes a gate electrode 11 formed on the first substrate 2, a gate insulating layer 22 formed over the entire first substrate 20 on which the gate electrode 11 is formed, and the gate insulating layer ( And a source electrode 15 and a drain electrode 16 formed on the semiconductor layer 13. The passivation layer 24 is formed on the source electrode 15 and the drain electrode 16 of the thin film transistor.

상기 보호층(24) 위에는 상기 전기영동층(60)에 신호를 인가하는 화소전극(18)이 형성된다. 이때, 상기 보호층(24)에는 컨택홀(28)이 형성되어 보호층(24) 상부의 화소전극(18)이 상기 컨택홀을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(16)에 접속된다.The pixel electrode 18 for applying a signal to the electrophoretic layer 60 is formed on the passivation layer 24. In this case, a contact hole 28 is formed in the passivation layer 24 so that the pixel electrode 18 on the passivation layer 24 is connected to the drain electrode 16 of the thin film transistor through the contact hole.

또한, 제2기판(40)에는 공통전극(42)이 형성되며, 상기 공통전극(42) 위에 전기영동층(60)이 형성되어 있다. 이때, 상기 전기영동층(60) 위에 접착층(56)이 형성되어 전기영동층(60)을 포함하는 제2기판(40)을 제1기판(20)과 합착한다. 상기 전기영동층(60)은 내부에 전기영동 특성을 갖는 화이트입자(74)와 블랙입자(76)가 채워진 캡슐(70)을 포함한다. 상기 화소전극(18)에 신호가 인가되면, 상기 공통전극(42)과 화소전극(18) 사이에 전계가 발생하며, 상기 전계에 의해 캡슐(70) 내부의 화이트입자(74)와 블랙입자(76)가 이동함으로써 화상을 구현하는 것이다.In addition, a common electrode 42 is formed on the second substrate 40, and an electrophoretic layer 60 is formed on the common electrode 42. At this time, the adhesive layer 56 is formed on the electrophoretic layer 60 to bond the second substrate 40 including the electrophoretic layer 60 to the first substrate 20. The electrophoretic layer 60 includes a capsule 70 filled with white particles 74 and black particles 76 having electrophoretic properties therein. When a signal is applied to the pixel electrode 18, an electric field is generated between the common electrode 42 and the pixel electrode 18, and the white particles 74 and the black particles inside the capsule 70 are generated by the electric field. 76 moves to implement the image.

예를 들어, 화소전극(18)에 (-)전압이 인가되면, 제2기판(40)의 공통전극(42)은 상대적으로 (+)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(74)는 제1기판(20)쪽으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자(76)는 제2기판(40)쪽으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(40)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 블랙입자(76)에 의해 반사되므로, 전기영동 표시소자에는 블랙이 구현된다.For example, when a negative voltage is applied to the pixel electrode 18, the common electrode 42 of the second substrate 40 has a relatively positive potential and thus has a white particle having a positive charge. 74 moves toward the first substrate 20, and the black particles 76 having negative (-) charges move toward the second substrate 40. In this state, when light is input from the outside, that is, the upper portion of the second substrate 40, the input light is reflected by the black particles 76, so that the electrophoretic display device is implemented with black.

반대로, 상기 화소전극(18)에 (+)전압이 인가되면, 제2기판(40)의 공통전극(42)은 (-)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(74)는 제2기판(40)으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자(76)는 제1기판(20)으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(40)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자(74)에 의해 반사되므로, 전기영동 표시소자에는 화이트가 구현되는 것이다.On the contrary, when a positive voltage is applied to the pixel electrode 18, the common electrode 42 of the second substrate 40 has a negative potential, so that the white particles 74 having a positive charge The black particles 76 moving to the second substrate 40 and having a negative charge are moved to the first substrate 20. In this state, when light is input from the outside, that is, the upper portion of the second substrate 40, the input light is reflected by the white particles 74, so that the electrophoretic display device is implemented with white.

그러나, 상기와 같은 구조의 종래 전기영동 표시소자(1)에서는 다음과 같은 문제가 발생한다.However, the following problem occurs in the conventional electrophoretic display device 1 having the above structure.

종래 전기영동 표시소자(1)에서는 제1기판(20) 및 제2기판(40)을 별도로 제작한 후, 접착층(56)에 의해 상기 제1기판(20) 및 제2기판(40)을 합착함으로써 완성된다. 즉, 제1기판(20) 상에 단위 화소를 구동시키는 박막트랜지스터와 전기영동층(60)에 전계를 인가하는 화소전극(18)을 형성하고 별도의 공정에서 제2기판(40) 상에 공통전극(42), 전기영동층(60) 및 접착층(56)을 형성한 후, 상기 제1기판(20) 및 제2기판(40)을 합착함으로써 형성된다.In the conventional electrophoretic display device 1, the first substrate 20 and the second substrate 40 are separately manufactured, and then the first substrate 20 and the second substrate 40 are bonded by the adhesive layer 56. It is completed by. That is, a thin film transistor for driving unit pixels and a pixel electrode 18 for applying an electric field to the electrophoretic layer 60 are formed on the first substrate 20 and are common on the second substrate 40 in a separate process. After the electrode 42, the electrophoretic layer 60, and the adhesive layer 56 are formed, the first substrate 20 and the second substrate 40 are bonded to each other.

그러나, 통상 전기영동표시소자의 단위 화소는 가로 및 세로의 크기가 150마이크로미터 이내의 작은 크기로 형성되기 때문에, 이 크기에 정확히 맞도록 전기영동층을 정렬시키는 것은 매우 어렵게 된다. 전기영동층과 박막트랜지스터가 형성되어 있는 제1기판이 정확히 정렬되지 못하면 전계가 전기영동입자에 정확히 전달되지 못해 구동에러의 원인이 된다.However, since the unit pixels of the electrophoretic display device are generally formed in a small size of less than 150 micrometers in width and length, it is very difficult to align the electrophoretic layer to exactly match this size. If the first substrate on which the electrophoretic layer and the thin film transistor are formed is not aligned correctly, the electric field may not be correctly transferred to the electrophoretic particles, which may cause a driving error.

또한, 상기 제1기판(20) 및 제2기판(40)은 각각 다른 공정상에서 제작된 후, 이송수단에 의해 이송되어 합착공정에서 서로 합착해야 되므로, 인라인으로 제조공정을 형성할 수가 없었다.In addition, since the first substrate 20 and the second substrate 40 are each manufactured on different processes, the first substrate 20 and the second substrate 40 must be transported by a conveying means and then bonded to each other in the bonding process.

한편, 제2기판(40)상에는 공통전극(42)을 형성하고 전기영동층(60)을 도포한 후 접착층(56)을 도포한다. 상기 제2기판(40)을 합착공정으로 이송하여 제1기판(20)과 합착하기 위해서는 상기 접착층(56)의 접착력이 저하되거나 접착층(56)에 이물질이 부착되는 것을 방지하기 위해, 상기 접착층(56)에 보호필름을 부착한 상태에서 이송해야만 한다. 이송된 제2기판(40)을 제1기판(20)에 부착하기 위해서는 제2기판(40)으로부터 보호필름을 박리해야만 하는데, 보호필름의 박리과정에서 정전기가 발생하여 되며, 이 발생된 정전기는 전기영동입자의 초기 배열에 오정렬을 유발시키게 되어 전기영동표시소자의 동작시 빗살무늬모양의 모아레가 발생하는 원인이 되었다.Meanwhile, the common electrode 42 is formed on the second substrate 40, the electrophoretic layer 60 is applied, and then the adhesive layer 56 is applied. In order to transfer the second substrate 40 to the bonding process to bond the first substrate 20 with each other, in order to prevent the adhesion of the adhesive layer 56 from being lowered or from adhering to the adhesive layer 56, the adhesive layer ( 56) must be transported with the protective film attached. In order to attach the transferred second substrate 40 to the first substrate 20, the protective film must be peeled off from the second substrate 40, and static electricity is generated during the peeling process of the protective film. Misalignment was induced in the initial arrangement of the electrophoretic particles, causing a comb-shaped moire during operation of the electrophoretic display device.

이와 같이, 종래 전기영동 표시소자에서는 상기 제1기판(20) 및 제2기판(40)은 각각 다른 공정에서 제작되기 때문에, 전기영동층의 접착시 제1기판(20)과 제2기판(40) 사이에 오정렬이 발생하거나 공정이 복잡해지고, 접착층의 박리시 정전기가 발생하여 화질이 불량으로 된다는 문제 등이 있었다.As described above, in the conventional electrophoretic display device, since the first substrate 20 and the second substrate 40 are manufactured in different processes, the first substrate 20 and the second substrate 40 when the electrophoretic layer is bonded. There is a problem that misalignment occurs or the process becomes complicated, and static electricity is generated when the adhesive layer is peeled off, resulting in poor image quality.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 전기영동층을 박막트랜지스터가 형성되는 기판에 직접 형성함으로써 전기영동층과 제1기판 사이의 오정렬을 방지하며, 제조비용을 절감하고 제조공정을 단순화할 수 있는 전기영동 표시소자 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems, by forming the electrophoretic layer directly on the substrate on which the thin film transistor is formed to prevent misalignment between the electrophoretic layer and the first substrate, to reduce the manufacturing cost and simplify the manufacturing process An object of the present invention is to provide an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same.

본 발명의 다른 목적은 화소영역 내에 격벽을 형성하고 스위칭속도가 향상되고 전기영동층의 입자의 뭉침을 방지할 수 있는 전기영동 표시소자 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same, forming a partition in the pixel area, improving switching speed, and preventing agglomeration of particles in the electrophoretic layer.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 전기영동 표시소자 제조방법은 복수의 화소영역을 포함하는 제1기판 및 제2기판을 제공하는 단계; 제1기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 제1기판 상에 보호층을 형성하는 단계; 상기 보호층 상부의 화소영역의 제1격벽을 형성하고 각각의 화소영역 내에 적어도 하나의 제2격벽을 형성하는 단계; 상기 보호층 상부의 화소영역에 화소전극을 형성하는 단계; 상기 보호층 상부의 제1격벽 내부의 화소내에 전기영동물질을 충진하는 단계; 상기 제2격벽에 도전층을 형성하는 단계; 및 제1기판 및 제2기판을 합착하는 단계로 구성된다.In order to achieve the above object, an electrophoretic display device manufacturing method according to the present invention comprises the steps of providing a first substrate and a second substrate comprising a plurality of pixel areas; Forming a thin film transistor on the first substrate; Forming a protective layer on the first substrate; Forming a first partition of a pixel area over the passivation layer and forming at least one second partition in each pixel area; Forming a pixel electrode in the pixel area above the passivation layer; Filling an electrophoretic material into a pixel in a first partition of an upper portion of the protective layer; Forming a conductive layer on the second partition wall; And bonding the first substrate and the second substrate to each other.

상기 전기영동물질은 전하특성을 갖는 화이트입자 및 블랙입자를 포함하거나 전하특성을 갖는 컬러입자를 포함하며, 상기 전기영동물질은 분산매질을 더 포함한다. 이때, 상기 제1격벽 및 제2격벽은 동일한 물질로 형성될 수도 있고 다른 물질로 형성될 수 있다.The electrophoretic material includes white particles and black particles having charge characteristics or includes color particles having charge characteristics, and the electrophoretic material further includes a dispersion medium. In this case, the first and second barrier ribs may be formed of the same material or different materials.

또한, 본 발명에 따른 전기영도 표시소자는 복수의 화소영역을 포함하는 제1기판 및 제2기; 제1기판상에 형성된 박막트랜지스터; 상기 제1기판 상에 형성된 보호층; 상기 보호층의 화상표시부에 형성된 화소전극; 상기 보호층 상부의 화소영역의 화상비표시부에 형성된 제1격벽 및 화소영역의 내부에 형성된 적어도 하나의 제2격벽; 상기 보호층 상부의 제1격벽 내부의 형성된 전기영동층; 및 상기 제2기판에 형성된 공통전극으로 구성된다.In addition, the electrophoretic display device according to the present invention includes a first substrate and a second group including a plurality of pixel regions; A thin film transistor formed on the first substrate; A protective layer formed on the first substrate; A pixel electrode formed on the image display portion of the protective layer; A first partition formed in the image non-display portion of the pixel area above the passivation layer and at least one second partition formed in the pixel area; An electrophoretic layer formed inside the first partition wall above the protective layer; And a common electrode formed on the second substrate.

상기 화소영역의 전기영동층은 제2격벽에 의해 복수의 영역으로 구획되어 인접하는 영역과 상호작용없이 구동한다.The electrophoretic layer of the pixel region is partitioned into a plurality of regions by the second partition wall to drive the adjacent regions without interaction.

본 발명에서는 전기영동층이 박막트랜지스터가 형성되어 있는 어레이기판에 직접 도포되어 형성되므로, 별도의 기판에 전기영동층이 형성되던 종래에 비해 전기영동층을 합착하기 위한 접착층이나 접착층을 보호하기 위한 보호필름이 필요없게 되어 제조비용을 절감할 수 있을 뿐만 아니라 기존의 박막트랜지스터 제조라인상에서 전기영동층 인라인으로 형성할 수 있기 때문에 제조공정을 단순화할 수 있게 된다. 또한, 전기영동층이 어레이기판상에 직접 형성되기 때문에 전기영동층과 어레이 기판을 정확히 정렬시키는 정렬과정이 필요없어 되므로, 제1기판과 전기영동층의 오정열 문제를 근본적으로 해결할 수 있게 된다.In the present invention, since the electrophoretic layer is directly applied to the array substrate on which the thin film transistor is formed, the electrophoretic layer is protected to protect the adhesive layer or the adhesive layer for bonding the electrophoretic layer compared with the conventional electrophoretic layer formed on a separate substrate. In addition to reducing the manufacturing cost by eliminating the film, the electrophoretic layer can be formed in-line on the existing thin film transistor manufacturing line, thereby simplifying the manufacturing process. In addition, since the electrophoretic layer is directly formed on the array substrate, an alignment process for precisely aligning the electrophoretic layer and the array substrate is unnecessary, thereby fundamentally solving the misalignment problem between the first substrate and the electrophoretic layer.

또한, 본 발명에서는 화소영역내에 화소영역의 전기영동층을 복수의 영역으로 분리하는 제2격벽이 형성되므로, 구획된 복수의 전기영동층이 독립적으로 구동하게 되어 전기영동층의 스위칭속도가 향상되고, 전기영동층 내의 입자가 뭉치는 것을 방지할 수 있게 된다.In addition, in the present invention, since the second partition wall for separating the electrophoretic layer of the pixel region into a plurality of regions is formed in the pixel region, the plurality of partitioned electrophoretic layers are driven independently, thereby increasing the switching speed of the electrophoretic layer. In addition, the particles in the electrophoretic layer can be prevented from agglomeration.

도 1은 종래 전기영동 표시소자를 나타내는 도면.
도 2는 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 구조를 나타내는 도면.
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 제1격벽 및 제2격벽의 형상을 개략적으로 나타내는 평면도.
4a-4f는 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면.
도 5a 및 도 5b는 각각 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 전기영동층을 형성하는 방법을 나타내는 도면.1 is a view showing a conventional electrophoretic display device.
2 is a view showing the structure of an electrophoretic display device according to the present invention.
3A and 3B are plan views schematically illustrating the shapes of the first and second partition walls of the electrophoretic display device according to the present invention.
4a-4f illustrate a method of manufacturing an electrophoretic display device according to the present invention.
5A and 5B show a method of forming an electrophoretic layer of the electrophoretic display device according to the present invention, respectively.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 전기영동 표시소자에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an electrophoretic display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서는 전기영동층을 박막트랜지스터가 형성되는 제1기판에 형성한다. 즉, 본 발명에서는 박막트랜지스터 제조공정에서 전기영동층을 형성한다. 따라서, 박막트랜지스터의 제조장비를 이용하여 전기영동층을 형성할 수 있기 때문에, 다른 공정상에서 제2기판상에 전기영동층을 형성한 후 제2기판을 제1기판과 합착함으로써 전기영동 표시소자를 완성하는 종래의 방법에 비해 제조공정을 대폭 간소화할 수 있게 된다.In the present invention, the electrophoretic layer is formed on the first substrate on which the thin film transistor is formed. That is, in the present invention, the electrophoretic layer is formed in the thin film transistor manufacturing process. Therefore, since the electrophoretic layer can be formed using the manufacturing equipment of the thin film transistor, the electrophoretic display device is formed by bonding the second substrate to the first substrate after forming the electrophoretic layer on the second substrate in another process. The manufacturing process can be greatly simplified as compared with the conventional method to be completed.

통상적으로 제2기판에 전기영동층을 형성하는 종래의 전기영동 표시소자 제조공정에서는 전기영동층을 다른 공장, 심지어는 다른 부품회사로부터 공급받아 이를 박막트랜지스터가 형성되는 제조공장으로 이송한 후, 제1기판과 합착해야만 하기 때문에 제조공정이 지연되고 번거로울 뿐만 아니라 차량과 같은 이송수단에 의해 제2기판을 이송하는 과정에서 제2기판이 파손되는 문제도 있었다.In a conventional electrophoretic display device manufacturing process of forming an electrophoretic layer on a second substrate, the electrophoretic layer is supplied from another factory or even another component company and transferred to a manufacturing factory where a thin film transistor is formed. Since the manufacturing process is delayed and cumbersome because it must be bonded to the first substrate, there is a problem that the second substrate is damaged in the process of transferring the second substrate by a transfer means such as a vehicle.

반면에, 본 발명에서는 이미 존재하는 박막트랜지스터 제조장비를 이용하여 전기영동층을 제1기판상에 형성하므로, 신속한 전기영동 표시소자의 제작이 가능하게 된다.On the other hand, in the present invention, since the electrophoretic layer is formed on the first substrate by using the existing thin film transistor manufacturing equipment, it is possible to quickly manufacture the electrophoretic display device.

또한, 본 발명에서는 표시소자 내부의 화소영역에 화소영역을 구획하는 제1격벽과는 별도의 제2격벽을 적어도 하나 형성하여 화소영역을 복수의 영역으로 구획함으로써 스위칭속도를 향상시키고 전기영동층 내부의 입자의 뭉침에 의한 불량을 방지할 수 있게 된다.In addition, in the present invention, at least one second partition which is separate from the first partition partitioning the pixel area is formed in the pixel area inside the display device to partition the pixel area into a plurality of areas, thereby improving switching speed and increasing the inside of the electrophoretic layer. It is possible to prevent the defect caused by the aggregation of the particles.

도 2는 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 구조를 나타내는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing the structure of an electrophoretic display device according to the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전기영동 표시소자에서는 제1기판(120) 위에 박막트랜지스터가 형성된다. 상기 박막트랜지스터는 제1기판(120)에 형성된 게이트전극(111)과, 상기 제1기판(120) 전체에 걸쳐 형성된 게이트절연층(122)과, 상기 게이트절연층(122) 위에 형성된 반도체층(113)과, 상기 반도체층(113) 위에 형성된 소스전극(115) 및 드레인전극(116)으로 이루어진다.As shown in FIG. 2, in the electrophoretic display device according to the present invention, a thin film transistor is formed on the first substrate 120. The thin film transistor may include a gate electrode 111 formed on the first substrate 120, a gate insulating layer 122 formed over the entire first substrate 120, and a semiconductor layer formed on the gate insulating layer 122. And a source electrode 115 and a drain electrode 116 formed on the semiconductor layer 113.

도면에는 도시하지 않았지만, 제1기판(120)에는 복수의 게이트라인 및 데이터라인이 배치되며, 박막트랜지스터는 게이트라인 및 데이터라인의 교차점에 배치되어, 박막트랜지스터의 게이트전극(111)이 게이트라인에 접속되고 소스전극(115)이 데이터라인에 접속된다.Although not shown, a plurality of gate lines and data lines are disposed on the first substrate 120, and the thin film transistor is disposed at the intersection of the gate line and the data line, so that the gate electrode 111 of the thin film transistor is disposed on the gate line. And a source electrode 115 is connected to the data line.

상기 박막트랜지터(107)가 형성된 제1기판(120)에는 보호층(124)이 형성되며, 보호층(124) 위의 화상표시부에는 화소전극(118)이 형성된다. 상기 보호층(118)은 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oixde)와 같은 투명도전물질이나 불투명한 금속으로 이루어진다.The protective layer 124 is formed on the first substrate 120 on which the thin film transistor 107 is formed, and the pixel electrode 118 is formed on the image display unit on the protective layer 124. The protective layer 118 is made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) or an opaque metal.

또한, 보호층(124) 위, 화소영역의 화상비표시부에는 각각 제1격벽(180)이 형성되고 화상표시부에는 제2격벽(182)이 형성된다. 이때, 상기 제2격벽(182)이 형성되는 화소영역에는 화소전극(118)이 제거되어 제2격벽(182)이 보호층(124) 위에 형성되지만, 화소전극(118)이 제거되지 않고 화소전극(118) 위에 직접 형성될 수도 있을 것이다.In addition, on the passivation layer 124, the first partition wall 180 is formed in the image non-display unit of the pixel area, and the second partition wall 182 is formed in the image display unit. In this case, the pixel electrode 118 is removed in the pixel region where the second partition wall 182 is formed, so that the second partition wall 182 is formed on the passivation layer 124, but the pixel electrode 118 is not removed. It may be directly formed on the (118).

도 3a 및 도 3b에 복수의 화소영역(P)이 형성된 제1기판(120)을 대략적으로 나타내는 도면이다. 도면은 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 형상을 설명하기 위한 것으로, 도면에서는 다른 구성은 모두 생략하고 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)만이 도시되어 있다.3A and 3B schematically illustrate a first substrate 120 having a plurality of pixel regions P formed therein. The drawings are for explaining the shapes of the first and second partitions 180 and 182, and only the first and second partitions 180 and 182 are shown in the drawings, and all other configurations are omitted.

도 3a에 도시된 바와 같이, 상기 제1격벽(180)은 제1기판(120)에 격자형상으로 형성되어 복수의 화소영역(P)을 구획한다. 상기 제1격벽(180)은 제1기판(120)에 형성되는 게이트라인과 데이터라인을 따라 형성된다. 이때, 도면에는 상기 제1격벽(180)이 제1기판(120)의 외곽영역에도 형성되어 있지만, 상기 제1격벽(180)이 제1기판(120)의 외곽영역에는 형성되지 않을 수도 있을 것이다.As shown in FIG. 3A, the first partition wall 180 is formed in a lattice shape on the first substrate 120 to partition the plurality of pixel areas P. Referring to FIG. The first partition wall 180 is formed along the gate line and the data line formed on the first substrate 120. In this case, although the first partition 180 is formed in the outer region of the first substrate 120 in the drawing, the first partition 180 may not be formed in the outer region of the first substrate 120. .

제2격벽(182)은 화소영역(P)에 형성된다. 상기 제2격벽(182)은 화소영역(P) 내에 세로방향 또는 가로방향으로 형성되어 화소영역(P)을 2개의 영역으로 분할한다. 도면에서는 상기 제2격벽(182)이 한개 형성되어 있지만, 2개 이상의 복수개가 세로방향 또는 가로방향으로 배열되어 화소영역(P)을 3개 이상의 영역으로 분할할 수도 있을 것이다.The second partition 182 is formed in the pixel area P. The second partition wall 182 is formed in the pixel area P in the vertical direction or the horizontal direction to divide the pixel area P into two areas. In the drawing, one second barrier rib 182 is formed, but two or more plurality may be arranged in a vertical direction or a horizontal direction to divide the pixel region P into three or more regions.

도 3b에 도시된 바와 같이, 화소영역(P) 내에 배치되는 복수의 제2격벽(182)은 화소영역내에서 동일한 방향으로 배치되는 것이 아니라 서로 교차하도록 배치되어 화소영역을 격자형상으로 분할할 수도 있을 것이다.As illustrated in FIG. 3B, the plurality of second partitions 182 disposed in the pixel area P may not be disposed in the same direction in the pixel area but intersect with each other to divide the pixel area into a grid. There will be.

다시 말해서, 본 발명에서는 상기 제2격벽(182)을 화소영역(P) 내에 다양한 갯수로 다양한 형태로 배치할 수 있을 것이다.In other words, according to the present invention, the second partition wall 182 may be arranged in various shapes in various numbers in the pixel region P. FIG.

도 2에 도시된 바와 같이, 화소전극(118)은 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)이 형성되지 않은 보호층(124) 위에만 형성되지만, 상기 화소전극(118)이 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽까지 연장되어 보호층(124) 위의 화소전극과 제1격벽(180) 및 제2격벽(182) 측벽의 화소전극(118)이 일체로 형성될 수 있는데, 이와 같이 화소전극(118)을 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽까지 연장하는 이유는 다음과 같다.As illustrated in FIG. 2, the pixel electrode 118 is formed only on the passivation layer 124 on which the first and second partitions 180 and 182 are not formed, but the pixel electrode 118 is formed on the first layer. It extends to sidewalls of the barrier rib 180 and the second barrier rib 182 so that the pixel electrode on the protective layer 124 and the pixel electrode 118 of the sidewall of the first barrier rib 180 and the second barrier rib 182 are integrally formed. The reason for extending the pixel electrode 118 to the sidewalls of the first and second barrier walls 180 and 182 may be as follows.

첫째, 화소전극(118)을 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽까지 연장함에 따라 화질이 향상된다. 화소전극(118)을 보호층(124) 위에만 형성하고 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)에는 형성하지 않는 경우, 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 맨 아래의 화소전극(118), 즉 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)과 보호층(124)의 모서리영역에 화소전극(118)이 정상적으로 형성되지 않아 전계가 비정상적으로 인가되는 사영역(dead area)이 된다. 이와 같은 사영역은 액정표시소자의 개구율을 저하시킬 뿐만 아니라 콘트라스트의 저하 등과 같은 많은 문제를 일으키게 된다.First, the image quality is improved by extending the pixel electrode 118 to the sidewalls of the first and second partitions 180 and 182. When the pixel electrode 118 is formed only on the passivation layer 124 and not on the first partition wall 180 and the second partition wall 182, the bottoms of the first partition wall 180 and the second partition wall 182 are not included. The dead region in which the electric field is abnormally applied because the pixel electrode 118 is not normally formed in the corner regions of the pixel electrode 118, that is, the first partition 180, the second partition 182, and the passivation layer 124. dead area). Such dead zones not only lower the aperture ratio of the liquid crystal display device but also cause many problems such as lowering of contrast.

그러나, 본 발명과 같이 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽에 화소전극(118)을 형성하는 경우 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)과 보호층(124) 사이의 모서리영역까지 화소전극(118)이 형성되기 때문에, 사영역이 발생하지 않게 되며, 그 결과 개구율이 향상되고 콘트라스트가 향상되며, 응답속도가 향상된다.However, when the pixel electrode 118 is formed on the sidewalls of the first and second barrier walls 180 and 182, the first and second barrier walls 180 and 182 and the protective layer 124 are formed. Since the pixel electrode 118 is formed to the edge region between them, the dead area does not occur, and as a result, the aperture ratio is improved, the contrast is improved, and the response speed is improved.

둘째, 화소전극(118)을 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽까지 연장함에 따라 공정이 용이하게 된다. 이후 제조방법에서 언급될 것이지만, 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)과 보호층(124)에 의해 정의되는 제1기판(120) 상부 영역에는 전기영동물질이 충진된다. 화소전극(118)을 보호층(124) 위에만 형성하고 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)에는 형성하지 않는 경우, 전기영동물질의 충진시 보호층(124) 상부의 화소전극(118)의 표면 특성과 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 표면 특성이 다르기 때문에, 전기영동물질의 충진시 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 표면에 전기영동물질이 잘 도포되지 않게 되어 전기영동물질의 주입이 용이하게 이루어지지 않게 된다. 이를 방지하기 위해, 격벽의 표면을 플라즈마 처리하거나 화학처리하여 표면특성을 향상시킬 수는 있지만, 이 경우 공정이 복잡해지고 비용이 증가하게 된다.Second, as the pixel electrode 118 extends to sidewalls of the first and second partition walls 180 and 182, the process may be facilitated. As will be described later in the manufacturing method, the electrophoretic material is filled in the upper region of the first substrate 120 defined by the first barrier 180, the second barrier 182, and the protective layer 124. When the pixel electrode 118 is formed only on the passivation layer 124 and not on the first partition 180 and the second partition 182, the pixel electrode on the passivation layer 124 when the electrophoretic material is filled ( Since the surface characteristics of 118 and the surface characteristics of the first and second partitions 180 and 182 are different from each other, electrophoresis is performed on the surfaces of the first and second partitions 180 and 182 when the electrophoretic material is filled. The material is not applied well and the electrophoretic material is not easily injected. In order to prevent this, it is possible to improve the surface characteristics by plasma treatment or chemical treatment of the surface of the partition wall, but in this case, the process is complicated and the cost is increased.

그러나, 화소전극(118)을 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽까지 연장하는 경우 별도의 표면처리 없이도 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측면, 즉 화소전극(118)이 형성된 측벽에 전기영동물질이 용이하게 도포되므로, 전기영동물질을 제1격벽(180) 및 제2격벽(182) 내부로 원활하게 충진할 수 있게 된다.However, when the pixel electrode 118 extends to the sidewalls of the first and second partitions 180 and 182, the side surfaces of the first and second partitions 180 and 182, that is, the pixels, may be removed without any surface treatment. Since the electrophoretic material is easily applied to the sidewall on which the electrode 118 is formed, the electrophoretic material may be smoothly filled into the first partition 180 and the second partition 182.

화상표시부의 제1격벽(180) 내부에는 전기영동층(160)이 형성된다. 상기 전기영동층(160)은 전기영동물질로 이루어지는데, 이러한 전기영동물질은 양전하 및 음전하 특성을 갖는 입자로 이루어진다. 이때, 상기 입자는 화이트입자(164)와 블랙입자(165)일 수도 있고, 시안(cyan), 마젠타(Magenta), 옐로우(yellow)와 같은 컬러입자 또는 R(Red), G(Green), B(Blue)와 같은 컬러입자일 수도 있다.An electrophoretic layer 160 is formed in the first partition wall 180 of the image display unit. The electrophoretic layer 160 is made of an electrophoretic material, the electrophoretic material is made of particles having positive and negative charge characteristics. In this case, the particles may be white particles 164 and black particles 165, color particles such as cyan, magenta, yellow, or R (Red), G (Green), B It may be a color particle such as (Blue).

화이트입자(164)의 경우 TiO2와 같은 반사율이 좋은 입자를 사용하며, 블랙입자(165)의 경우 카본블랙(canbon black) 등과 같은 블랙특성을 갖는 입자를 사용한다. 이때, 화이트입자(164)가 음전하특성을 갖고 블랙입자(165)가 양전하특성을 갖을 수도 있고 화이트입자(164)가 양전하특성을 갖고 블랙입자(165)가 음양전하특성을 갖을 수도 있을 것이다.In the case of the white particles 164, particles having good reflectivity such as TiO 2 are used, and in the case of the black particles 165, particles having black characteristics, such as carbon black, are used. In this case, the white particles 164 may have negative charge characteristics, the black particles 165 may have positive charge characteristics, the white particles 164 may have positive charge characteristics, and the black particles 165 may have negative charge characteristics.

또한, 컬러입자의 경우 전하특성을 갖는 색소로서, 이때 컬러입자는 음전하를 가질 수도 있고 음전하를 가질 수도 있을 것이다.In addition, in the case of color particles as a dye having a charge characteristic, the color particles may have a negative charge or may have a negative charge.

상기 전기영동물질에는 액상폴리머와 같은 분산매질이 포함될 수 있다. 이 분산매질은 블랙입자나 화이트입자, 컬러입자가 분포되는 것으로, 액상 폴리머와 같은 액체일 수도 있고 공기 자체일 수도 있다. 상기와 같이 분산매질이 공기 자체라는 것은 분산매질이 없어도 전압이 인가됨에 따라 입자가 공기중에서 움직인다는 것을 의미한다.The electrophoretic material may include a dispersion medium such as a liquid polymer. The dispersion medium is a black particle, a white particle, and a color particle are distributed, and may be a liquid such as a liquid polymer or air itself. As described above, that the dispersion medium is air itself means that the particles move in the air as voltage is applied even without the dispersion medium.

그리고, 상기 전기영동물질은 폴리머중합체(polymer binder)에 전자잉크를 충진한 캡슐을 분포시킨 물질일 수도 있다. 이때, 상기 캡슐내에 분포하는 전자잉크는 화이트입자(또는 화이트잉크)와 블랙입자(또는 블랙잉크)로 이루어져 있다. 이때, 상기 화이트입자와 블랙입자는 각각 양전하와 음전하 특성을 가진다. 한편, 화이트입자나 블랙입자, 그리고 컬러입자는 특정한 물질만 사용되는 것이 아니라 현재 알려진 모든 입자가 사용될 수 있을 것이다.The electrophoretic material may be a material in which capsules filled with a polymer binder are filled with an electronic ink. At this time, the electron ink distributed in the capsule is composed of white particles (or white ink) and black particles (or black ink). In this case, the white particles and the black particles have positive and negative charge characteristics, respectively. On the other hand, white particles, black particles, and color particles may be used not only a specific material but all currently known particles.

상기 전기영동층(160)은 제1격벽(180)에 의해 인접하는 화소영역의 전기영동층(160)과는 분리된다. 즉, 제1격벽(180)에 의해 해당 화소영역의 전기영동층(160)이 인접하는 화소영역의 전기영동층(160)로 독립적으로 구동하여 해당 화소에 화상신호가 인가되는 경우, 이에 대응하는 컬러를 구현하게 된다. 또한, 화소영역내의 전기영동층(160)은 하나 이상의 제2격벽(182)에 의해 복수의 영역으로 분리된다. 즉, 제2격벽(182)에 의해 한 화소영역의 전기영동층(160)이 복수의 영역으로 분리되어 인접하는 영역과는 독립적으로 구동하는 것이다. 이때, 화소영역에서 분할되는 복수의 영역에는 동일한 화상신호가 입력되므로, 분할된 복수의 영역은 동일한 신호에 의해 구동하지만, 인접하는 영역과는 서로 상호작용을 하지 않는 것이다.The electrophoretic layer 160 is separated from the electrophoretic layer 160 in the adjacent pixel region by the first partition wall 180. That is, when the electrophoretic layer 160 of the pixel region is independently driven by the first partition wall 180 to the electrophoretic layer 160 of the adjacent pixel region and an image signal is applied to the pixel, Color will be implemented. In addition, the electrophoretic layer 160 in the pixel region is separated into a plurality of regions by one or more second partitions 182. That is, the electrophoretic layer 160 of one pixel area is divided into a plurality of areas by the second partition 182 and is driven independently of an adjacent area. In this case, since the same image signal is input to the plurality of regions divided in the pixel region, the plurality of divided regions are driven by the same signal, but do not interact with adjacent regions.

이와 같이, 본 발명에서는 하나의 화소영역이 복수의 영역으로 분할되어 상기 복수의 영역이 비록 동일한 화상을 구현하기 위해 구동하지만, 각각의 영역은 인접하는 영역과는 독립적으로 구동하므로, 인접하는 영역의 전기영동층(160) 사이에 상호작용이 없게 되므로, 분할된 각각의 영역에서의 전기영동층(160)이 다른 영역의 전기영동층에 관계없이 신속하게 구동하게 된다. 다시 말해서, 복수의 영역으로 분할된 화소영역의 전기영동층(160)의 구동속도가 분할되지 않은 화소영역의 전기영동층(160)의 구동속도보다 빠르게 되어, 제2격벽(182)을 형성함에 따라 전기영동층(160)의 스위칭속도가 향상되는 것이다.As described above, in the present invention, one pixel area is divided into a plurality of areas so that the plurality of areas are driven to realize the same image, but each area is driven independently of the adjacent areas, so that Since there is no interaction between the electrophoretic layers 160, the electrophoretic layers 160 in each divided region are driven quickly regardless of the electrophoretic layers of the other regions. In other words, the driving speed of the electrophoretic layer 160 of the pixel region divided into the plurality of regions is faster than the driving speed of the electrophoretic layer 160 of the non-divided pixel region, thereby forming the second partition 182. Accordingly, the switching speed of the electrophoretic layer 160 is improved.

또한, 화소영역의 전기영동층(160)을 복수의 영역으로 분할함에 따라, 전기영동층(160)에 포함되는 입자가 뭉치는 가능성을 감소시키게 되어, 전기영동 표시소자의 불량 가능성을 감소시킬 수 있게 되는데, 그 이유는 다음과 같다.In addition, by dividing the electrophoretic layer 160 of the pixel region into a plurality of regions, the possibility of agglomeration of particles included in the electrophoretic layer 160 may be reduced, thereby reducing the possibility of failure of the electrophoretic display device. The reason for this is as follows.

전기영동층(160)에는 수많은 입자가 포함되어 있고 이들 입자는 분산매질속에 분산되어 유동하게 된다. 그런데, 상기 입자는 전하를 갖고 있기 때문에, 시간이 지나감에 따라 입자들 사이의 상호작용에 의해 서로 뭉치게 된다. 이와 같이, 입자가 뭉치는 경우, 뭉쳐진 입자의 중량이 개개의 입자에 비해 훨씬 크기 때문에, 신호가 인가될 때 신호에 의해 입자가 이동하는 속도가 저하되어 전기영동층(160)의 스위칭속도가 저하될 뿐만 아니라 전기영동층(160) 전체에 걸쳐 입자의 밀도가 불균일하게 되기 때문에, 입자에 의해 반사되는 광의 세기가 화소영역 전체에 걸쳐 균일하게 되지 않게 되어 화질이 저하된다.The electrophoretic layer 160 contains a large number of particles, and these particles are dispersed in a dispersion medium and flow. However, since the particles have an electric charge, they are aggregated together by interaction between the particles with time. As such, when the particles are agglomerated, since the weight of the agglomerated particles is much larger than the individual particles, when the signal is applied, the speed at which the particles move by the signal decreases, so that the switching speed of the electrophoretic layer 160 decreases. In addition, since the density of the particles is not uniform throughout the electrophoretic layer 160, the intensity of light reflected by the particles is not uniform over the entire pixel area, thereby degrading the image quality.

그러나, 본 발명에서는 화소영역을 복수의 독립적인 영역으로 분할하므로, 하나의 영역에서 서로 상호작용하는 입자들의 숫자를 감소시킬 수 있게 되므로, 입자들이 뭉치는 확률을 감소시킬 수 있게 되며, 입자들이 뭉치는 경우에도 화소영역이 분할되지 않을 때 보다 그 정도가 훨씬 감소하게 되므로, 전기영동 표시소자의 불량 가능성을 감소시킬 수 있게 된다.However, in the present invention, since the pixel region is divided into a plurality of independent regions, the number of particles interacting with each other in one region can be reduced, thereby reducing the probability of aggregation of the particles, In this case, since the degree is much reduced than when the pixel region is not divided, it is possible to reduce the possibility of failure of the electrophoretic display device.

상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)에 의해 구획된 전기영동층(160)은 실링층(168)에 의해 실링된다.The electrophoretic layer 160 partitioned by the first partition wall 180 and the second partition wall 182 is sealed by the sealing layer 168.

제2기판(140)에는 공통전극(142)이 형성된다. 상기 공통전극(142)은 ITO나 IZO와 같이 투명한 도전물질을 적층함으로써 형성된다. 또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제2기판(140)에는 컬러필터층이 형성될 수도 있다. 이 컬러필터층은 컬러필터층(146)은 R(Red), G(Green), B(Blue) 컬러필터로 이루어져 있으며, 전기영동물질이 블랙입자와 화이트입자로 이루어진 경우 컬러를 구현한다.The common electrode 142 is formed on the second substrate 140. The common electrode 142 is formed by stacking a transparent conductive material such as ITO or IZO. Although not shown in the drawings, a color filter layer may be formed on the second substrate 140. The color filter layer 146 is composed of R (Red), G (Green), B (Blue) color filter, the color is implemented when the electrophoretic material is composed of black particles and white particles.

이러한 구조의 전기영동 표시소자 구동을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the driving of the electrophoretic display device of such a structure is as follows.

외부의 게이트구동부로부터 게이트라인(105)을 통해 박막트랜지스터(107)에 주사신호가 입력되면, 박막트랜지스터(107)의 반도체층(113)이 활성화되어, 외부의 데이터구동부로부터 데이터라인(106)을 통해 입력되는 화상신호가 박막트랜지스터(107)의 소스전극(115), 반도체층(113)의 채널영역 및 드레이전극(116)을 거쳐 화소전극(118)으로 입력된다. 이와 동시에, 외부의 공통전압 공급부로부터 공통전압 공급라인(183)을 통해 공통전압이 공급되면, 이 공통전압은 제2격벽(180b)에 의해 형성되는 도전층(184)을 통해 제2기판(140)의 공통전극(142)으로 인가되어, 상기 화소전극(118)과 공통전극(142) 사이에 전계가 형성된다.When the scan signal is input to the thin film transistor 107 through the gate line 105 from the external gate driver, the semiconductor layer 113 of the thin film transistor 107 is activated to open the data line 106 from the external data driver. The image signal inputted through the source electrode 115 of the thin film transistor 107, the channel region of the semiconductor layer 113, and the drain electrode 116 are input to the pixel electrode 118. At the same time, when the common voltage is supplied from the external common voltage supply unit through the common voltage supply line 183, the common voltage is transferred to the second substrate 140 through the conductive layer 184 formed by the second partition wall 180b. Is applied to the common electrode 142, and an electric field is formed between the pixel electrode 118 and the common electrode 142.

전기영동물질(160)이 화이트입자(164)와 블랙입자(165)로 이루어진 경우, 화이트입자(164)가 양전하 또는 음전하 특성을 가지기 때문에, 화소전극(118)과 공통전극(142) 사이에 발생하는 전계에 의해 화이트입자(164)와 전기영동층(160) 내에서 이동하게 된다.When the electrophoretic material 160 is formed of the white particles 164 and the black particles 165, the white particles 164 may be formed between the pixel electrode 118 and the common electrode 142 because the white particles 164 have positive or negative charge characteristics. The white particles 164 and the electrophoretic layer 160 are moved by the electric field.

예를 들어, 화이트입자(164)가 (+)전하를 갖는 경우, 화소전극(118)에 (+)전압이 인가되면 제2기판(140)의 공통전극(142)은 상대적으로 (-)전위를 가지게 되므로 (+)전하를 띄는 화이트입자(164)는 제2기판(140)쪽으로 이동하게 된다. 따라서, 외부, 즉 제2기판(140)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자(164)에 의해 대부분 반사되므로 전기영동 표시소자에는 화이트가 구현된다.For example, when the white particles 164 have a positive charge, when a positive voltage is applied to the pixel electrode 118, the common electrode 142 of the second substrate 140 has a relatively negative potential. Since the white particles 164 having a (+) charge is moved toward the second substrate 140. Therefore, when light is input from the outside, that is, the upper portion of the second substrate 140, the input light is mostly reflected by the white particles 164, so that white is implemented in the electrophoretic display device.

이때, 인가되는 화소전극(118)에 인가되는 전압의 세기에 따라 제2기판(140)쪽으로 이동하는 화이트입자(164)의 밀도 또는 제2기판(140)과의 간격이 달라지기 때문에, 외부로부터 입력되어 화이트입자(164)에 의해 반사되는 광의 세기도 달라지게 되므로, 원하는 휘도의 구현할 수 있게 된다.At this time, since the density of the white particles 164 moving toward the second substrate 140 or the distance from the second substrate 140 varies according to the intensity of the voltage applied to the pixel electrode 118 to be applied, Since the intensity of light input and reflected by the white particles 164 is also changed, it is possible to achieve a desired brightness.

반대로, 상기 화소전극(118)에 (-)전압이 인가되면, 제2기판(140)의 공통전극(142)은 (+)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(164)는 제1기판(120)으로 이동하게 되어 외부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 거의 반사되지 않게 되므로, 블랙을 구현하게 된다.On the contrary, when a negative voltage is applied to the pixel electrode 118, the common electrode 142 of the second substrate 140 has a (+) potential, so that the white particles 164 having a (+) charge are charged. When the light is input from the outside by moving to the first substrate 120, the input light is hardly reflected, thereby implementing black.

한편, 화이트입자(164)가 (-)전하를 갖는 경우, 화소전극(118)에 (+)전압이 인가되면 제2기판(140)의 공통전극(142)은 상대적으로 (-)전위를 가지게 되므로 (-)전하를 띄는 화이트입자(164)는 제1기판(120)쪽으로 이동하게 된다. 따라서, 외부, 즉 제2기판(140)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 대부분 반사되지 않으므로 전기영동 표시소자에는 블랙이 구현된다.Meanwhile, when the white particles 164 have a negative charge, when a positive voltage is applied to the pixel electrode 118, the common electrode 142 of the second substrate 140 may have a relatively negative potential. Therefore, the white particles 164 having a negative charge are moved toward the first substrate 120. Therefore, when light is input from the outside, that is, the upper portion of the second substrate 140, since most of the input light is not reflected, black is implemented in the electrophoretic display device.

반대로, 상기 화소전극(118)에 (-)전압이 인가되면, 제2기판(140)의 공통전극(142)은 (+)전위를 가지게 되어, (-)전하를 띄는 화이트입자(164)는 제2기판(140)으로 이동하게 되어 외부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자(164)에 의해 반사되므로, 화이트를 구현하게 된다.On the contrary, when a negative voltage is applied to the pixel electrode 118, the common electrode 142 of the second substrate 140 has a positive potential, so that the white particles 164 having a negative charge are charged. When the light is input from the outside by moving to the second substrate 140, the input light is reflected by the white particles 164, thereby implementing white.

전기영동물질이 컬러입자로 이루어진 경우, 화소전극(118)에 인가되는 신호에 따라 R,G,B 컬러입자나 시안(cyan), 마젠타(Magenta), 옐로우(yellow)와 같은 컬러입자가 제2기판(140)을 이동하여 해당 컬러 혹은 다른 화소와 혼합된 컬러를 구현할 수 있게 된다.When the electrophoretic material is formed of color particles, color particles such as R, G, B color particles, cyan, magenta, yellow, etc. may be formed according to a signal applied to the pixel electrode 118. The substrate 140 may be moved to implement a color mixed with the corresponding color or other pixels.

도 4a-도 4f는 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면이다.4A to 4F are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to the present invention.

우선, 도 4a에 도시된 바와 같이, 화소영역이 화상표시부와 비표시부로 이루어지고 유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제1기판(120) 위에 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금과 같이 도전성이 좋은 불투명 금속을 스퍼터링법(sputtering process)에 의해 적층한 후 사진식각방법(photolithography process)에 의해 식각하여 게이트전극(111)을 형성한 후, 상기 게이트전극(111)이 형성된 제1기판(120) 전체에 걸쳐 CVD(Chemicla Vapor Deposition)법에 의해 SiO2나 SiNx 등과 같은 무기절연물질을 적층하여 게이트절연층(122)을 형성한다.First, as shown in FIG. 4A, a Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, or Al alloy is formed on a first substrate 120 including a pixel display part and a non-display part and made of a transparent material such as glass or plastic. After laminating a highly conductive opaque metal by a sputtering process, such as by etching by a photolithography process to form a gate electrode 111, the first gate electrode 111 is formed The gate insulating layer 122 is formed by stacking an inorganic insulating material such as SiO 2 or SiNx by the CVD (Chemicla Vapor Deposition) method over the entire substrate 120.

이어서, 도 4b에 도시된 바와 같이, 제1기판(120) 전체에 걸쳐 비정질실리콘(a-Si)과 같은 반도체물질을 CVD법에 의해 적층한 후 식각하여 반도체층(113)을 형성한다. 또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 반도체층(113)의 일부에 불순물을 도핑하거나 불순물이 첨가된 비정질실리콘을 적층하여 이후 형성되는 소스전극 및 드레인전극을 반도체층(113)과 오믹접합시키는 오믹컨택층(ohmic contact layer)을 형성한다.Subsequently, as illustrated in FIG. 4B, a semiconductor material such as amorphous silicon (a-Si) is deposited on the entire first substrate 120 by CVD and then etched to form a semiconductor layer 113. In addition, although not shown in the drawing, an ohmic contact that ohmic-contacts the source electrode and the drain electrode to be subsequently formed with a semiconductor layer 113 by doping impurities or stacking amorphous silicon added with impurities to a part of the semiconductor layer 113. To form an ohmic contact layer.

그 후, 제1기판(120) 상에 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금과 같이 도전성이 좋은 불투명 금속을 스퍼터링법에 의해 적층한 후 식각하여 반도체층(113) 위, 엄밀하게 말해서 오믹컨택층 위에 소스전극(115) 및 드레인전극(116)을 형성하여 박막트랜지스터를 형성한다.Subsequently, an electrically conductive opaque metal such as Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, or Al alloy is laminated on the first substrate 120 by sputtering, and then etched, and then etched on the semiconductor layer 113. In other words, the source electrode 115 and the drain electrode 116 are formed on the ohmic contact layer to form a thin film transistor.

이어서, 도 4c에 도시된 바와 같이, 박막트랜지스터가 형성된 제1기판(120) 전체에 걸쳐 BCB(Benzo Cyclo Butene)이나 포토아크릴(photo acryl)과 같은 유기절연물질을 적층하여 보호층(124)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 4C, the protective layer 124 is formed by stacking an organic insulating material, such as Benzo Cyclo Butene (BCB) or photo acryl, on the first substrate 120 on which the thin film transistor is formed. Form.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 보호층(124)은 복수의 층으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 보호층(124)은 BCB이나 포토아크릴과 같은 유기절연물질로 이루어진 유기절연층 및 SiO2나 SiNx 등과 같은 무기절연물질로 이루어진 무기절연층의 이중의 층으로 형성될 수도 있고, 무기절연층과 유기절연층 및 무기절연층으로 형성할 수도 있을 것이다. 유기절연층을 형성함에 따라 보호층(124)의 표면이 평탄하게 형성되며, 무기절연층을 적용함에 따라 보호층(124)과의 계면특성이 향상된다.In addition, although not shown, the protective layer 124 may be formed of a plurality of layers. For example, the protective layer 124 may be formed of a double layer of an organic insulating layer made of an organic insulating material such as BCB or photoacryl and an inorganic insulating layer made of an inorganic insulating material such as SiO 2 or SiNx. It may be formed of an insulating layer, an organic insulating layer and an inorganic insulating layer. As the organic insulating layer is formed, the surface of the protective layer 124 is formed to be flat, and the interface characteristic with the protective layer 124 is improved by applying the inorganic insulating layer.

그 후, 상기 보호층(124)에 컨택홀(117)을 형성하여 박막트랜지스터의 드레인전극(116)을 외부로 노출시킨 후, 화소영역의 보호층(124) 위에 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 도전물질 또는 불투명한 금속을 적층하고 식각하여 화소전극(118)을 형성한다. 이때, 상기 화소전극(118)은 보호층(124)에 형성된 컨택홀(117)을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(116)과 전기적으로 접속된다.Thereafter, a contact hole 117 is formed in the protective layer 124 to expose the drain electrode 116 of the thin film transistor to the outside, and then ITO (Indium Tin Oxide) or IZO is formed on the protective layer 124 of the pixel region. A transparent conductive material such as (Indium Zinc Oxide) or an opaque metal is stacked and etched to form a pixel electrode 118. In this case, the pixel electrode 118 is electrically connected to the drain electrode 116 of the thin film transistor through the contact hole 117 formed in the protective layer 124.

이어서, 도 4d에 도시된 바와 같이, 화소영역의 비표시부의 보호층(124) 상부에 제1격벽(180)을 형성하고, 화송영역의 내부의 보호층(124) 상부에 제2격벽(182)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 4D, the first barrier 180 is formed on the passivation layer 124 of the non-display portion of the pixel region, and the second barrier 182 is formed on the passivation layer 124 of the interior of the convoy area. ).

상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)은 수지 등으로 이루어진 절연층을 적층한 후 포토레지스트를 이용한 사진식각방법에 의해 식각함으로써 형성할 수도 있고 감광성 수지를 적층한 후 사진식각방법에 의해 식각함으로써 형성할 수도 있다. 또한, 상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)은 인쇄롤 등과 같은 인쇄법에 의해 패턴화된 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)을 인쇄함으로써 형성할 수도 있으며, 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)에 대응하는 홈이 형성된 몰드를 제작한 후, 상기 몰드의 절연물질을 제1기판(120)으로 전사함으로써 형성할 수도 있다. 그리고, 상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)은 임프린트(imprint)방식으로 형성될 수도 있을 것이다.The first partition 180 and the second partition 182 may be formed by stacking an insulating layer made of a resin and the like by etching using a photolithography method using a photoresist or by stacking a photosensitive resin in a photolithography method. It can also form by etching. In addition, the first partition wall 180 and the second partition wall 182 may be formed by printing the first partition wall 180 and the second partition wall 182 patterned by a printing method such as a printing roll. After forming a mold having grooves corresponding to the first barrier 180 and the second barrier 182, the mold may be formed by transferring the insulating material of the mold onto the first substrate 120. In addition, the first partition wall 180 and the second partition wall 182 may be formed by an imprint method.

실질적으로 이러한 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 형성은 특정한 방법에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기에서 특정한 방법을 설명한 것은 설명의 편의를 위한 것이지, 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니다. 상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)은 이미 알려진 다양한 방법에 의해 형성될 수 있을 것이다.Substantially, the formation of the first partition wall 180 and the second partition wall 182 is not limited by a specific method. The specific method described above is for convenience of description and is not intended to limit the present invention. The first partition wall 180 and the second partition wall 182 may be formed by various known methods.

상기 제1격벽(180)는 100㎛ 이하의 높이, 특히 20-40㎛의 높이로 형성하고 폭은 약 5㎛ 이상, 특히 약 100-1000㎛로 형성하며, 상기 제2격벽(182)은 제1격벽(180)과 높이와 폭을 동일하게 형성할 수 있다. 물론, 상기 제2격벽(182)은 제1격벽(180)과 높이와 폭을 다르게 형성할 수도 있을 것이다.The first partition wall 180 is formed to a height of 100 μm or less, particularly 20-40 μm, and a width of about 5 μm or more, particularly about 100-1000 μm, and the second partition 182 is formed of One partition 180 and the same height and width can be formed. Of course, the second partition 182 may have a different height and width than the first partition 180.

상기와 같은 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 높이와 폭은 특정한 수치에 한정되는 것은 아니다.The height and width of the first partition wall 180 and the second partition wall 182 as described above are not limited to a specific value.

제1격벽(180) 및 제2격벽(182)은 상술한 바와 같이 동일한 물질로 동일한 공정에 의해 형성할 수도 있지만, 서로 다른 물질로 다른 공정에 의해 형성할 수도 있을 것이다.The first partition wall 180 and the second partition wall 182 may be formed by the same process with the same material as described above, but may be formed by different processes with different materials.

한편, 화소전극(118)은 상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)의 측벽으로 연장되게 형성될 수도 있다. 이 경우, 상기 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)이 화소전극(118)이 형성된 후에 형성되는 것이 아니라, 제1격벽(180) 및 제2격벽(182)이 형성된 후 화소전극(118)을 형성한다.The pixel electrode 118 may be formed to extend to sidewalls of the first and second barrier walls 180 and 182. In this case, the first partition wall 180 and the second partition wall 182 are not formed after the pixel electrode 118 is formed, but after the first partition wall 180 and the second partition wall 182 are formed, the pixel electrode ( 118).

즉, 화소영역의 화상비표시영역에 제1격벽(180)을 형성하고 화소영역 내에 제2격벽(182)을 형성한 후, 보호층(124)과 제1격벽(180) 및 제2격벽(182) 상부에 투명도전물질이나 금속층을 형성한 후, 상기 투명도전물질이나 금속층을 식각함으로써 보호층(124) 상부 및 제1격벽(180)과 제2격벽(182)의 측벽에 화소전극(118)을 형성하는 것이다.That is, after the first partition 180 is formed in the image non-display area of the pixel area and the second partition 182 is formed in the pixel area, the protective layer 124, the first partition 180 and the second partition wall ( After forming the transparent conductive material or the metal layer on the upper portion, the pixel material 118 on the upper side of the protective layer 124 and the sidewalls of the first and second partitions 180 and 182 by etching the transparent conductive material or the metal layer. ) To form.

그 후, 도 4e에 도시된 바와 같이, 제1격벽(180) 내부에 전기영동물질을 충진하여 전기영동층(160)을 형성한다.Thereafter, as shown in FIG. 4E, the electrophoretic material is filled in the first partition wall 180 to form the electrophoretic layer 160.

제1격벽(180) 내로의 상기 전기영동물질의 충전은 다양한 방법에 의해 이루어질 수 있는데, 이러한 전기영동물질의 충전방법을 설명하면 다음과 같다.The filling of the electrophoretic material into the first partition wall 180 may be performed by various methods, which will be described below.

도 5a 및 도 5b는 제1기판(120)에 형성된 제1격벽(180) 내부로 전기영동물질을 충진하여 전기영동층(160)을 형성하는 방법을 나타내는 도면이다.5A and 5B illustrate a method of filling the electrophoretic material into the first partition wall 180 formed on the first substrate 120 to form the electrophoretic layer 160.

도 5a에 도시된 방법은 잉크젯방식 또는 노즐방식에 관한 것으로, 도 5a에 도시된 바와 같이 실린지(또는 노즐)(185) 내부에 전기영동물질(160a)을 충진한 후, 상기 제1기판(120) 상부에 상기 실린지(185)를 위치시킨다. 이후, 외부의 공기공급장치(도면표시하지 않음)에 의해 실린지(185)에 압력을 인가한 상태에서 상기 실린지(185)를 제1기판(120) 상에서 이동시킴에 따라 상기 제1격벽(180) 내부에 전기영동물질(160a)이 적하되어 제1기판(120) 상에 전기영동층(160)이 형성된다.The method illustrated in FIG. 5A relates to an inkjet method or a nozzle method. As shown in FIG. 5A, an electrophoretic material 160a is filled in a syringe (or nozzle) 185 and then the first substrate ( 120) The syringe 185 is positioned on the top. Thereafter, as the syringe 185 is moved on the first substrate 120 while a pressure is applied to the syringe 185 by an external air supply device (not shown), the first partition wall ( The electrophoretic material 160a is dropped inside the 180, and the electrophoretic layer 160 is formed on the first substrate 120.

도 5b에 도시된 방법은 스퀴즈방법에 관한 것으로, 도 5b에 도시된 바와 같이 복수의 제1격벽(180)이 형성된 제1기판(120) 상부에 전기영동물질(160a)을 도포한 후, 스퀴즈바(187)에 의해 제1기판(120) 상에서 이동시킴으로써 스퀴즈바(187)의 압력에 의해 전기영동물질(160a)이 단위 화소내의 제1격벽(180) 내부로 충진되어 전기영동층(160)이 형성되는 것이다.The method shown in FIG. 5B relates to a squeeze method, and as shown in FIG. 5B, after applying the electrophoretic material 160a on the first substrate 120 on which the plurality of first partitions 180 are formed, the squeeze is applied. The electrophoretic material 160a is filled into the first partition wall 180 in the unit pixel by the pressure of the squeeze bar 187 by moving on the first substrate 120 by the bar 187. This is to be formed.

물론, 본 발명이 상술한 바와 같은 방법에만 한정되는 것은 아니다. 상술한 방법은 본 발명에서 사용될 수 있는 전기영동층(160)의 형성공정의 일례를 나타내는 것으로서, 본 발명이 이러한 특정 공정에만 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 캐스팅인쇄법, 바코팅인쇄법, 스크린인쇄법, 몰드인쇄법과 같은 다양한 전기영동층(160) 형성공정이 본 발명에 적용될 수 있을 것이다.Of course, the present invention is not limited to the method as described above. The method described above shows an example of the process of forming the electrophoretic layer 160 that can be used in the present invention, and the present invention is not limited to this specific process. For example, various electrophoretic layer 160 forming processes such as casting printing, bar coating printing, screen printing, and mold printing may be applied to the present invention.

이어서, 도 4f에 도시된 바와 같이, 상기와 같이 전기영동층(160) 위에 실링재를 도포하여 실링층(168)을 형성하여 상기 전기영동층(160)을 실링한 후, 제1기판(120)을 제2기판(140)과 합착하여 전기영동 표시소자를 완성한다.Subsequently, as shown in FIG. 4F, a sealing material is coated on the electrophoretic layer 160 as described above to form a sealing layer 168 to seal the electrophoretic layer 160, and then the first substrate 120. Is bonded to the second substrate 140 to complete the electrophoretic display device.

상기 실링층(168)은 점도가 낮은 염료로 이루어진 전기영동층(160)이 유동하여 염료가 외부 혹은 인접하는 화소로 넘치는 것을 방지하기 위한 것이다. 또한, 상기 실링층(168)은 상기 전기영동층(160) 내부로 수분이 침투하여 전기영동층(160)이 불량으로 되는 것을 방지한다.The sealing layer 168 is intended to prevent the electrophoretic layer 160 made of a dye having a low viscosity flows so that the dye overflows to an external or adjacent pixel. In addition, the sealing layer 168 prevents moisture from penetrating into the electrophoretic layer 160 and the electrophoretic layer 160 becomes defective.

도면에서는 비록 상기 제1기판(120) 전체에 걸쳐 전기영동층(160)의 상면 에 형성되어 있지만, 상기 실링층(168)이 제1기판(120) 전체가 아니라 단위 화소의 외곽영역, 즉 제1격벽(180)의 상부영역에만 형성될 수도 있다. 이 경우에도 제1기판(120) 및 제2기판(140)가 합착될 때 제1격벽(180) 상부의 실링층(168)에 의해 제1기판(120)과 제2기판(140) 사이가 밀봉되므로, 전기영동층(160)의 전기영동물질이 합착된 전기영동 표시소자의 외부로 흘러 나가거나 외부의 수분이 전기영동층(160)의 내부로 침투하는 것을 방지할 수 있게 된다.In the drawing, although the upper surface of the electrophoretic layer 160 is formed over the entire first substrate 120, the sealing layer 168 is not an entire region of the first substrate 120. It may be formed only in the upper region of the first barrier 180. In this case, when the first substrate 120 and the second substrate 140 are bonded to each other, a gap between the first substrate 120 and the second substrate 140 is caused by the sealing layer 168 on the first partition wall 180. Since the sealing is performed, the electrophoretic material of the electrophoretic layer 160 may be prevented from flowing out of the bonded electrophoretic display device or the infiltration of external moisture into the electrophoretic layer 160.

또한, 도면에서는 상기 실링층(168)에 의해 제1기판(120) 및 제2기판(140)이 합착되지만, 제1기판(120) 및 제2기판(140)의 합착력을 향상시키기 위해 접착층을 형성할 수도 있다. 상기 접착층은 전기영동 표시소자의 외곽영역, 즉 제1격벽(180) 상부의 실링층(168)에만 형성할 수도 있고 전기영동층(160) 상부의 실링층(168) 전체에 형성할 수도 있을 것이다.In addition, although the first substrate 120 and the second substrate 140 are bonded by the sealing layer 168 in the drawing, the adhesive layer to improve the bonding strength of the first substrate 120 and the second substrate 140. May be formed. The adhesive layer may be formed only in the outer region of the electrophoretic display device, that is, the sealing layer 168 on the first partition wall 180 or the entire sealing layer 168 on the electrophoretic layer 160. .

유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제2기판(140)에는 공통전극(142)이 형성된다. 상기 공통전극(142)은 ITO나 IZO와 같이 투명한 도전물질을 적층함으로써 형성된다.The common electrode 142 is formed on the second substrate 140 made of a transparent material such as glass or plastic. The common electrode 142 is formed by stacking a transparent conductive material such as ITO or IZO.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 전기영동층(160)이 직접 제1기판(120)에 형성되므로, 전기영동층이 제2기판(140)에 형성되는 종래에 비해 전기영동층을 제2기판(140)에 부착하기 위한 접착층이나 접착층을 보호하기 위한 보호필름 등이 필요없게 된다. 또한, 본 발명에서는 전기영동층(160)을 기존의 박막트랜지스터 형성공정라인, 예를 들면 절연층 형성 등과 같은 공정라인에서 형성할 수 있기 때문에, 별도의 공정라인이 필요없게 되므로 제조비용을 더욱 절감할 수 있게 된다.As described above, in the present invention, since the electrophoretic layer 160 is directly formed on the first substrate 120, the electrophoretic layer may be formed on the second substrate 140 as compared with the conventional method in which the electrophoretic layer is formed on the second substrate 140. 140, there is no need for an adhesive layer or a protective film for protecting the adhesive layer. In addition, in the present invention, since the electrophoretic layer 160 may be formed in a conventional thin film transistor forming process line, for example, an insulation layer forming process line, a separate process line is not required, thus further reducing manufacturing costs. You can do it.

또한, 별도의 공장이나 제조업체에서 전기영동층을 제작하여 이를 운송하여 제2기판에 부착하고 이 제2기판을 다시 제1기판과 합착하는 종래에 비해, 본 발명에서는 전기영동층의 이송이나 전기영동층이 부착 등의 공정이 필요없게 되므로 제조공정을 단순화할 수 있게 된다.In addition, in the present invention, the electrophoretic layer is manufactured and transported by a separate factory or a manufacturer and attached to the second substrate, and the second substrate is bonded to the first substrate. Since the layer does not require a process such as adhesion, the manufacturing process can be simplified.

그리고, 본 발명에서는 화소영역내에 화소영역의 전기영동층을 복수의 영역으로 분리하는 제2격벽이 형성되므로, 구획된 복수의 전기영동층이 독립적으로 구동하게 되어 전기영동층의 스위칭속도가 향상되고, 전기영동층 내의 입자가 뭉치는 것을 방지할 수 있게 된다.In the present invention, since the second partition wall for separating the electrophoretic layer of the pixel region into a plurality of regions is formed in the pixel region, the plurality of partitioned electrophoretic layers are driven independently to improve the switching speed of the electrophoretic layer. In addition, the particles in the electrophoretic layer can be prevented from agglomeration.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

따라서, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것이 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. Accordingly, the scope of the present invention is not limited thereto, but various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in the following claims are also within the scope of the present invention.

120,140 : 기판 111 : 게이트전극
113 : 반도체층 115 : 소스전극
116 : 드레인전극 118 : 화소전극
124 : 보호층 142 : 공통전극
160 : 전기영동층 164 : 화이트입자
165 : 블랙입자 168 : 실링층
180,182 : 격벽120,140 substrate 111 gate electrode
113: semiconductor layer 115: source electrode
116: drain electrode 118: pixel electrode
124: protective layer 142: common electrode
160: electrophoretic layer 164: white particles
165 black particles 168 sealing layer
180,182: bulkhead

Claims (19)

복수의 화소영역을 포함하는 제1기판 및 제2기판을 제공하는 단계;
제1기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 제1기판 상에 보호층을 형성하는 단계;
상기 보호층 상부의 화소영역의 제1격벽을 형성하고 각각의 화소영역 내에 적어도 하나의 제2격벽을 형성하는 단계;
상기 보호층 상부의 화소영역에 화소전극을 형성하는 단계;
상기 보호층 상부의 제1격벽 내부의 화소내에 전기영동물질을 충진하는 단계;
상기 제2격벽에 도전층을 형성하는 단계; 및
제1기판 및 제2기판을 합착하는 단계로 구성된 전기영동 표시소자 제조방법.Providing a first substrate and a second substrate including a plurality of pixel regions;
Forming a thin film transistor on the first substrate;
Forming a protective layer on the first substrate;
Forming a first partition of a pixel area over the passivation layer and forming at least one second partition in each pixel area;
Forming a pixel electrode in the pixel area above the passivation layer;
Filling an electrophoretic material into a pixel in a first partition of an upper portion of the protective layer;
Forming a conductive layer on the second partition wall; And
An electrophoretic display device manufacturing method comprising the step of bonding the first substrate and the second substrate. 제1항에 있어서, 실링층을 형성하여 상기 격벽 내부의 전기영동물질을 실링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, further comprising forming a sealing layer to seal the electrophoretic material in the partition wall. 제2항에 있어서, 상기 실링층은 제1기판 전체에 걸쳐 형성되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 2, wherein the sealing layer is formed over the entire first substrate. 제2항에 있어서, 상기 실링층은 격벽 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 2, wherein the sealing layer is formed on the partition wall. 제1항에 있어서, 제1기판을 제2기판을 합착하는 단계는 제1기판 및 제2기판중 적어도 하나의 기판에 접착층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein the bonding of the first substrate to the second substrate comprises forming an adhesive layer on at least one of the first substrate and the second substrate. 제1항에 있어서, 상기 전기영동물질은 전하특성을 갖는 화이트입자 및 블랙입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein the electrophoretic material comprises white particles and black particles having charge characteristics. 제1항에 있어서, 상기 전기영동물질은 전하특성을 갖는 컬러입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein the electrophoretic material comprises color particles having charge characteristics. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 전기영동물질은 분산매질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법. The method of claim 6, wherein the electrophoretic material further comprises a dispersion medium. 제1항에 있어서, 상기 제1격벽 및 제2격벽은 동일한 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법. The method of claim 1, wherein the first and second barrier walls are formed of the same material. 제1항에 있어서, 상기 제1격벽 및 제2격벽은 다른 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법. The method of claim 1, wherein the first and second barrier walls are formed of different materials. 제1항에 있어서, 상기 박막트랜지스터를 형성하는 단계는,
제1기판 위에 게이트전극을 형성하는 단계;
상기 게이트전극 위에 반도체층을 형성하는 단계;
상기 반도체층 위에 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein the forming of the thin film transistor comprises:
Forming a gate electrode on the first substrate;
Forming a semiconductor layer on the gate electrode;
Forming a source electrode and a drain electrode on the semiconductor layer. 복수의 화소영역을 포함하는 제1기판 및 제2기;
제1기판상에 형성된 박막트랜지스터;
상기 제1기판 상에 형성된 보호층;
상기 보호층의 화상표시부에 형성된 화소전극;
상기 보호층 상부의 화소영역의 화상비표시부에 형성된 제1격벽 및 화소영역의 내부에 형성된 적어도 하나의 제2격벽;
상기 보호층 상부의 제1격벽 내부의 형성된 전기영동층; 및
상기 제2기판에 형성된 공통전극으로 구성된 전기영동 표시소자.A first substrate and a second substrate including a plurality of pixel regions;
A thin film transistor formed on the first substrate;
A protective layer formed on the first substrate;
A pixel electrode formed on the image display portion of the protective layer;
A first partition formed in the image non-display portion of the pixel area above the passivation layer and at least one second partition formed in the pixel area;
An electrophoretic layer formed inside the first partition wall above the protective layer; And
An electrophoretic display device comprising a common electrode formed on the second substrate. 제12항에 있어서, 상기 박막트랜지스터는,
제1기판 위에 형성된 게이트전극;
상기 게이트전극 위에 형성된 반도체층; 및
상기 반도체층 위에 형성된 소스전극 및 드레인전극으로 이루어진 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자.The method of claim 12, wherein the thin film transistor,
A gate electrode formed on the first substrate;
A semiconductor layer formed on the gate electrode; And
An electrophoretic display device comprising a source electrode and a drain electrode formed on the semiconductor layer. 제12항에 있어서, 상기 전기영동물질은 전하특성을 갖는 화이트입자 및 블랙입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자.The electrophoretic display device of claim 12, wherein the electrophoretic material comprises white particles and black particles having charge characteristics. 제12항에 있어서, 상기 전기영동물질은 전하특성을 갖는 컬러입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자.The electrophoretic display device of claim 12, wherein the electrophoretic material comprises color particles having charge characteristics. 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 전기영동물질은 분산매질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자. The electrophoretic display device according to claim 14 or 15, wherein the electrophoretic material further comprises a dispersion medium. 제12항에 있어서, 상기 전기영동물질 상부에 형성되어 전기영동물질을 밀봉하는 실링층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자.The electrophoretic display device of claim 12, further comprising a sealing layer formed on the electrophoretic material to seal the electrophoretic material. 제12항에 있어서, 상기 화소영역의 전기영동층은 제2격벽에 의해 복수의 영역으로 구획되어 인접하는 영역과 상호작용없이 구동하는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자.13. The electrophoretic display device of claim 12, wherein the electrophoretic layer of the pixel region is divided into a plurality of regions by a second partition wall and is driven without interaction with an adjacent region. 제12항에 있어서, 상기 화소전극은 제1격벽 및 제2격벽의 측벽까지 연장되는 것을 특징으로 하는 전기영동 표시소자.The electrophoretic display device of claim 12, wherein the pixel electrode extends to sidewalls of the first and second partition walls.
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