KR101738452B1 - Electrophoretic display deivce and method of fabrication thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전기영동층을 박막트랜지스터가 형성되는 기판 또는 공통전극이 형성되는 기판에 직접 형성함으로써 제조비용을 절감하고 제조공정을 단순화할 수 있기 위한 것으로, 표시영역과 비표시영역을 포함하는 제1기판 및 제2기판을 제공하는 단계와, 제1기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계와, 상기 박막트랜지스터가 형성된 제1기판상에 보호층을 형성하여 평탄화하는 단계와, 상기 보호층상에 화소전극을 형성하는 단계와, 상기 보호층 및 화소전극 위에 전기영동층을 직접 형성하는 단계와, 제2기판 위에 공통전극을 형성하는 단계와, 제1기판 및 제2기판을 합착하는 단계로 구성된다.In order to reduce the manufacturing cost and simplify the manufacturing process by forming the electrophoretic layer directly on a substrate on which a thin film transistor is formed or on a substrate on which a common electrode is formed, A method of manufacturing a thin film transistor, comprising: providing a substrate and a second substrate; forming a thin film transistor on the first substrate; forming a protective layer on the first substrate on which the thin film transistor is formed to planarize; A step of forming an electrophoretic layer directly on the protective layer and the pixel electrode, a step of forming a common electrode on the second substrate, and a step of bonding the first substrate and the second substrate.

Description

전기영동 표시소자 및 그 제조방법{ELECTROPHORETIC DISPLAY DEIVCE AND METHOD OF FABRICATION THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrophoretic display device and an electrophoretic display device,

본 발명은 전기영동 표시소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 전기영동층을 박막트랜지스터가 형성되는 기판 또는 공통전극이 형성되는 기판상에 직접 형성함으로써 제조비용을 절감하고 제조시간을 단축할 수 있는 전기영동 표시소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an electrophoretic display device and a method of manufacturing the electrophoretic display device, and more particularly, to an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same, To an electrophoretic display device and a method of manufacturing the same.

일반적으로 전기영동 표시소자는 전압이 인가되는 한쌍의 전극을 콜로이드용액에 담그면 콜로이드 입자가 어느 한쪽의 극성으로 이동하는 현상을 이용한 화상표시장치로서, 백라이트를 사용하지 않으면서 넓은 시야각, 높은 반사율, 저소비전력 등의 특성을 갖기 때문에, 전기종이(electric paper) 등의 전자기기로서 각광받고 있다.In general, an electrophoretic display device is an image display device using a phenomenon in which a pair of electrodes to which a voltage is applied is immersed in a colloid solution to move the colloid particles to either one of polarities. The electrophoretic display device has a wide viewing angle, a high reflectance, Power and the like, all kinds of electronic devices are attracting attention as electronic devices such as electric paper.

이러한 전기영동 표시소자는 2개의 기판 사이에 전기영동층이 개재된 구조를 가진다. 두 기판 중 하나는 전기영동입자에 전계를 선택적으로 제공할 수 있는 TFT어레이 기판일 수 있다. 두 기판 중 하나 또는 모두는 투명한 기판으로 이루어질 수 있다. Such an electrophoretic display element has a structure in which an electrophoretic layer is interposed between two substrates. One of the two substrates may be a TFT array substrate capable of selectively providing an electric field to electrophoretic particles. One or both of the two substrates may be made of a transparent substrate.

도 1은 종래 전기영동 표시소자(1)의 구조를 나타내는 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 전기영동 표시소자(1)는 어레이 기판(100)과 상부기판(110)을 포함한다. 상기 어레이 기판(100)은 제1기판(20)과 상기 제1기판(20)에 형성된 박막트랜지스터 및 화소전극(18)을 포함한다. 그리고 상부기판(110)은 투명한 제2기판(40)과 그 위에 형성된 공통전극(42)과 상기 공통전극(42) 위에 형성된 전기영동층(60)을 포함한다. 그리고 상기 어레이 기판(100)과 상부기판(110)은 그 사이에 전기영동층(60)이 개재되도록 서로 합착된다. 전기영동층(60)은 접착층(56)에 의해 상기 어레이 기판(100)에 합착된다.1 is a view showing a structure of a conventional electrophoretic display element 1. Fig. As shown in FIG. 1, the electrophoretic display element 1 includes an array substrate 100 and an upper substrate 110. The array substrate 100 includes a first substrate 20 and thin film transistors and pixel electrodes 18 formed on the first substrate 20. The upper substrate 110 includes a transparent second substrate 40, a common electrode 42 formed on the second substrate 40, and an electrophoretic layer 60 formed on the common electrode 42. The array substrate 100 and the upper substrate 110 are bonded together such that the electrophoretic layer 60 is interposed therebetween. The electrophoretic layer 60 is adhered to the array substrate 100 by an adhesive layer 56.

박막트랜지스터는 상기 제1기판(20)에 형성된 게이트전극(11)과, 상기 게이트전극(11)이 형성된 제1기판(20) 전체에 걸쳐 형성된 게이트절연층(22)과, 상기 게이트절연층(22) 위에 형성된 반도체층(13)과, 상기 반도체층(13) 위에 형성된 소스전극(15) 및 드레인전극(16)으로 이루어진다. 상기 박막트랜지스터의 소스전극(15) 및 드레인전극(16) 위에는 보호층(24)이 형성된다.The thin film transistor includes a gate electrode 11 formed on the first substrate 20, a gate insulating layer 22 formed over the entire first substrate 20 on which the gate electrode 11 is formed, And a source electrode 15 and a drain electrode 16 formed on the semiconductor layer 13. The source electrode 15 and the drain electrode 16 are formed on the semiconductor layer 13, A protective layer 24 is formed on the source electrode 15 and the drain electrode 16 of the thin film transistor.

상기 보호층(24) 위에는 상기 전기영동층(60)에 신호를 인가하는 화소전극(18)이 형성된다. 이때, 상기 보호층(24)에는 컨택홀(28)이 형성되어 보호층(24) 상부의 화소전극(18)이 상기 컨택홀을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(16)에 접속된다.On the protective layer 24, a pixel electrode 18 for applying a signal to the electrophoretic layer 60 is formed. A contact hole 28 is formed in the passivation layer 24 so that the pixel electrode 18 on the passivation layer 24 is connected to the drain electrode 16 of the thin film transistor through the contact hole.

또한, 제2기판(40)에는 공통전극(42)이 형성되고 상기 공통전극(42) 위에 전기영동층(60)이 형성된다. 상기 전기영동층(60)에는 내부에 화이트입자(74)와 블랙입자(76)가 채워진 마이크로캡슐(70)이 분포되어 있다. 상기 화소전극(18)에 신호가 인가되면, 상기 공통전극(42)과 화소전극(18) 사이에 전계가 발생하며, 상기 전계에 의해 마이크로캡슐(70) 내부의 화이트입자(74)와 블랙입자(76)가 이동함으로써 화상을 구현하는 것이다.A common electrode 42 is formed on the second substrate 40 and an electrophoretic layer 60 is formed on the common electrode 42. In the electrophoretic layer 60, microcapsules 70 filled with white particles 74 and black particles 76 are distributed. When a signal is applied to the pixel electrode 18, an electric field is generated between the common electrode 42 and the pixel electrode 18, and white particles 74 and black particles (76) moves to implement an image.

예를 들어, 화소전극(18)에 (-)전압이 인가되면, 제2기판(40)의 공통전극(42)은 상대적으로 (+)전위를 가지게 되어, 예를 들어, (+)전하를 띄는 화이트입자(74)는 화소전극(18)이 형성된 제1기판(20)쪽으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자(76)는 공통전극(42)이 형성된 제2기판(40)쪽으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(40)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 블랙입자(76)에 의해 반사되므로, 전기영동 표시소자에는 블랙이 구현된다.For example, when a negative voltage is applied to the pixel electrode 18, the common electrode 42 of the second substrate 40 has a relatively positive potential, for example, The white particles 74 are moved toward the first substrate 20 on which the pixel electrodes 18 are formed and the black particles 76 having negative charges are transferred toward the second substrate 40 on which the common electrode 42 is formed . In this state, when light is input from the outside, that is, from the upper portion of the second substrate 40, since the input light is reflected by the black particles 76, black is realized in the electrophoretic display element.

반대로, 상기 화소전극(18)에 (+)전압이 인가되면, 제2기판(40)의 공통전극(42)은 (-)전위를 가지게 되어, 예를 들어, (+)전하를 띄는 화이트입자(74)는 제2기판(40)으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자(76)는 제1기판(20)으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(40)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자(74)에 의해 반사되므로, 전기영동 표시소자에는 화이트가 구현되는 것이다.On the other hand, when a positive voltage is applied to the pixel electrode 18, the common electrode 42 of the second substrate 40 has a negative potential, for example, white particles having a positive charge The black particles 74 move to the second substrate 40 and the black particles 76 having a negative charge move to the first substrate 20. In this state, when light is input from the outside, that is, from the upper portion of the second substrate 40, since the input light is reflected by the white particles 74, white is realized in the electrophoretic display element.

그러나, 상기와 같은 구조의 종래 전기영동 표시소자(1)에서는 다음과 같은 문제가 발생한다.However, in the conventional electrophoretic display element 1 having the above-described structure, the following problems arise.

종래 전기영동 표시소자(1)에서는 어레이 기판(100)과 상부기판(110)을 별도로 제작한 후, 접착층(56)에 의해 상기어레이 기판(100) 및 상부기판(110)을 합착함으로써 완성된다. 즉, 제1기판(20) 상에 박막트랜지스터와 화소전극(18)을 형성하여 어레이기판(100)을 완성하고, 이와 별도로 투명한 제2기판(40)상에 공통전극(42)을 형성하고 상기 공통전극(42) 상에 전기영동층(60)을 부착하여 상부기판(110)을 완성한 후, 상기 어레이기판(100) 및 상부기판(110)을 합착함으로써 형성된다.In the conventional electrophoretic display device 1, the array substrate 100 and the upper substrate 110 are separately manufactured, and then the array substrate 100 and the upper substrate 110 are bonded together by an adhesive layer 56. That is, the array substrate 100 is completed by forming the thin film transistor and the pixel electrode 18 on the first substrate 20, the common electrode 42 is formed on the transparent second substrate 40, The electrophoretic layer 60 is attached on the common electrode 42 to complete the upper substrate 110 and then the array substrate 100 and the upper substrate 110 are bonded together.

상기 제1기판(20) 및 제2기판(40)은 각각 다른 공정상에서 제작된 후, 이송수단에 의해 이송되어 합착공정에서 서로 합착된다. 상부기판(110)에 형성되는 전기영동층(60)은 일면에 접착층(56)이 더 형성되어 있으며 상기 접착층(56)은 보호필름(미도시)에 의해 보호되어 있다. 따라서 상부기판(110)과 어레이 기판(100)을 합착할 때는 상기 보호필름을 제거하여 접착층(56)을 노출시킨 다음, 상기 상부기판(110)과 어레이 기판(100)을 합착하게 된다. The first substrate 20 and the second substrate 40 are fabricated in different processes, and then transferred by the transferring means and joined together in a laminating process. The electrophoretic layer 60 formed on the upper substrate 110 is further provided with an adhesive layer 56 on one surface thereof and the adhesive layer 56 is protected by a protective film (not shown). Therefore, when the upper substrate 110 and the array substrate 100 are attached to each other, the protective film is removed to expose the adhesive layer 56, and then the upper substrate 110 and the array substrate 100 are adhered to each other.

이와 같이, 종래 전기영동 표시소자 제조방법에서는 상부기판(110)에 형성되어 있는 전기영동층(60)에 보호필름이 부착되어 있기 때문에, 이 보호필름을 박리한 후, 어레이 기판(100)과 상부기판(110)을 합착해야 한다. 통상 플라스틱 필름으로 구성되는 보호필름이 전기영동층으로부터 박리되는 과정에서 정전기가 발생하고 이 정전기에 의해 전기영동층의 하전입자들이 임의로 배열되어 전기영동표시소자의 초기 화질불량을 초래한다.As described above, in the conventional electrophoretic display device manufacturing method, since the protective film is attached to the electrophoretic layer 60 formed on the upper substrate 110, the protective film is peeled off, The substrate 110 must be attached. Generally, a protective film composed of a plastic film is peeled off from the electrophoresis layer, and static electricity is generated, and charge carriers of the electrophoresis layer are arbitrarily arranged by the static electricity, resulting in an initial image quality defect of the electrophoresis display device.

또한, 전기영동층(60)이 형성된 상부기판(110)을 어레이 기판(100)에 합착할 때는 전기영동입자들이 단위 화소들과 정확히 정합할 수 있도록 어레이 기판과 상부기판을 정확히 정열시켜야만 한다. 통상, 100마이크로미터 정도 크기의 마이크로캡슐을 포함하는 전기영동층이 형성된 상부기판(110)과 100마이크로미터 정도의 크기로 형성된 단위 화소를 구비하는 어레이기판(100)을 하나의 단위 화소와 하나의 마이크로 캡슐이 정합할 수 있도록 합착하는 것은 매우 어려운 공정이고 따라서 오정열을 초래하였다.When the upper substrate 110 on which the electrophoretic layer 60 is formed is attached to the array substrate 100, the array substrate and the upper substrate need to be precisely aligned so that the electrophoretic particles accurately align with the unit pixels. In general, an array substrate 100 having an upper substrate 110 on which an electrophoretic layer including microcapsules of about 100 micrometers is formed and a unit pixel formed on a size of about 100 micrometers is divided into a unit pixel and a Coalescing the microcapsules so that they are matched is a very difficult process and has resulted in poor heat.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 전기영동층을 박막트랜지스터가 형성되는 기판 또는 공통전극이 형성되는 기판에 직접 형성함으로써 제조비용을 절감하고 제조공정을 단순화할 수 있는 전기영동 표시소자 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems and it is an object of the present invention to provide an electrophoretic display device and a method of manufacturing the electrophoretic display device which can reduce manufacturing cost and simplify a manufacturing process by directly forming an electrophoretic layer on a substrate on which a thin film transistor is formed, And a manufacturing method thereof.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 전기영동 표시소자 제조방법은, 표시영역과 비표시영역을 포함하는 제1기판 및 제2기판을 제공하는 단계; 제1기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막트랜지스터가 형성된 제1기판상에 보호층을 형성하여 평탄화하는 단계; 상기 보호층상에 화소전극을 형성하는 단계; 상기 보호층 및 화소전극 위에 전기영동층을 직접 형성하는 단계; 제2기판 위에 공통전극을 형성하는 단계; 및 제1기판 및 제2기판을 합착하는 단계로 구성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electrophoretic display device, including: providing a first substrate and a second substrate including a display region and a non-display region; Forming a thin film transistor on the first substrate; Forming a protective layer on the first substrate on which the thin film transistor is formed and planarizing the protective layer; Forming a pixel electrode on the protective layer; Directly forming an electrophoretic layer on the protective layer and the pixel electrode; Forming a common electrode on the second substrate; And bonding the first substrate and the second substrate together.

상기 전기영동층을 형성하는 단계는 상기 보호층 및 화소전극 위에 폴리머중합체일 수 있는 용제와, 하전된 화이트입자 및 블랙입자의 전자잉크를 포함하는 마이크로캡슐을 직접 도포하는 단계로 이루어진다.The step of forming the electrophoretic layer comprises directly applying a microcapsule containing a solvent capable of being a polymer polymer on the protective layer and the pixel electrode and an electronic ink of charged white particles and black particles.

또한, 상기 전기영동층을 형성하는 단계는 보호층 및 화소전극 위에 격벽을 형성하는 단계와, 상기 격벽에 의해 정의되는 룸( 내부에 분산제와 함께 하전된 입자들을 충진하는 단계와, 상기 룸을 실링하는 단계로 이루어질 수 있다. In addition, the step of forming the electrophoretic layer may include the steps of forming a barrier rib on the protective layer and the pixel electrode, filling the charged particles with the dispersant in the chamber defined by the barrier rib, . ≪ / RTI >

또한, 상기 전기영동층을 형성하는 단계는 보호층 및 화소전극 위에 격벽을 형성하는 단계와, 상기 격벽에 의해 정의되는 룸의 상부에 주입구를 포함하는 실링층을 형성하는 단계와, 상기 실링층에 형성된 주입구를 통해 상기 룸 내부에 분산제와 함께 하전된 입자들을 주입하는 단계와, 상기 주입구를 밀봉하는 단계로 이루어질 수도 있다.The forming of the electrophoretic layer may include forming a barrier on the passivation layer and the pixel electrode, forming a sealing layer on the top of the chamber defined by the barrier, the sealing layer including an injection port, Injecting charged particles together with a dispersant into the chamber through a formed injection port, and sealing the injection port.

또한, 본 발명에 따른 전기영동 표시소자는 표시영역과 비표시영역을 포함하는 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 상에 형성되어 있는 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터가 형성된 제1기판상에 보호층 및 상기 보호층 위에 형성된 화소전극; 상기 제2기판상에 형성되어 있는 공통전극; 상기 공통전극 상에 직접 형성되어 있고 상기 보호층과 직접 접촉하는 격벽; 및 상기 격벽에 의해 정의되는 룸에 충진되어 있는 전기영동층으로 구성된다.According to another aspect of the present invention, there is provided an electrophoretic display device including a first substrate and a second substrate including a display region and a non-display region; A thin film transistor formed on the first substrate; A pixel electrode formed on the protective layer and the protective layer on the first substrate on which the thin film transistor is formed; A common electrode formed on the second substrate; Barrier ribs directly formed on the common electrode and in direct contact with the protective layer; And an electrophoretic layer filled in a room defined by the partition.

본 발명에서는 전기영동층이 박막트랜지스터가 형성되는 어레이 기판에 직접 형성되므로, 전기영동층을 어레이 기판에 합착하기 위해 사용되는 접착층이나 접착층을 보호하기 위한 보호필름이 필요없게 되어 제조비용을 절감할 수 있다. 뿐만 아니라 박막트랜지스터를 형성하는 어레이 기판의 제조라인상에서 전기영동층을 인라인으로 형성할 수 있기 때문에 제조공정을 단순화할 수 있게 된다.In the present invention, since the electrophoretic layer is formed directly on the array substrate on which the thin film transistor is formed, a protective film for protecting the adhesive layer or the adhesive layer used for attaching the electrophoretic layer to the array substrate is not needed, have. In addition, since the electrophoretic layer can be formed inline on the production line of the array substrate forming the thin film transistor, the manufacturing process can be simplified.

또한, 본 발명은 전기영동층을 보호하기 위한 보호필름을 원천적으로 사용하지 않기 때문에 보호필름의 제거시 발생하는 정전기로 인한 화질저하 문제를 개선할 수 있으며, 박막트랜지스터가 형성되는 어레이 기판에 전기영동층을 직접 형성하기 때문에 전기영동층을 별도로 제작한 다음 정렬공정을 통해 합착하는 종래 기술에 비해 오정렬에 의한 화질저하 문제를 근본적으로 해결할 수 있게 된다.In addition, since the protective film for protecting the electrophoretic layer is not used in the present invention, the problem of deterioration in image quality due to static electricity generated upon removal of the protective film can be solved. In addition, It is possible to fundamentally solve the problem of lowering the image quality due to misalignment as compared with the prior art in which the electrophoretic layer is separately formed and then adhered through an alignment process.

도 1은 종래 전기영동 표시소자를 나타내는 도면.
도 2a-2h는 본 발명의 제1실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면.
도 3a 및 도 3b는 각각 본 발명에 따른 전기영동 표시소자의 전기영동층을 형성하는 방법을 나타내는 도면.
도 4a-4e는 본 발명의 제2실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면.
도 5a-5d는 본 발명의 제3실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면.
도 6a-6d는 본 발명의 제4실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면.
도 7a-7d는 본 발명의 제5실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 1 is a view showing a conventional electrophoretic display device.
2A to 2H are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a first embodiment of the present invention.
3A and 3B are views showing a method of forming an electrophoretic layer of an electrophoretic display device according to the present invention, respectively.
4A to 4E are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a second embodiment of the present invention.
5A to 5D are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a third embodiment of the present invention.
6A to 6D are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a fourth embodiment of the present invention.
7A to 7D illustrate a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a fifth embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 전기영동 표시소자에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, an electrophoretic display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서는 전기영동층을 박막트랜지스터가 형성되는 제1기판 또는 제2기판에 직접 형성한다. 즉, 본 발명에서는 박막트랜지스터 제조공정 또는 공통전극 형성공정에서 전기영동층을 형성한다. 따라서, 박막트랜지스터의 제조장비 등과 같은 전기영동 표시소자 제조장비를 이용하여 전기영동층을 형성할 수 있기 때문에, 다른 공정상에서 제2기판상에 전기영동층을 형성한 후 제2기판을 제1기판과 합착함으로써 전기영동 표시소자를 완성하는 종래의 방법에 비해 제조공정을 대폭 간소화할 수 있게 된다.In the present invention, the electrophoretic layer is formed directly on the first substrate or the second substrate on which the thin film transistor is formed. That is, in the present invention, an electrophoretic layer is formed in a thin film transistor manufacturing process or a common electrode forming process. Therefore, since the electrophoretic layer can be formed using an electrophoretic display device manufacturing equipment such as a manufacturing apparatus of a thin film transistor, the electrophoretic layer is formed on the second substrate in another process, The manufacturing process can be greatly simplified as compared with the conventional method of completing the electrophoretic display device.

통상적으로 종래의 전기영동 표시소자 제조공정에서는 전기영동층을 다른 공장, 심지어는 다른 부품회사로부터 공급받아 이를 박막트랜지스터가 형성되는 제조공장으로 이송한 후, 제1기판과 합착해야만 하기 때문에 제조공정이 지연되고 번거로울 뿐만 아니라 차량과 같은 이송수단에 의해 제2기판을 이송하는 과정에서 제2기판이 파손되는 문제도 있었다.Generally, in the conventional electrophoretic display device manufacturing process, since the electrophoretic layer is supplied from another factory or even another part company and transferred to a manufacturing factory where the thin film transistor is formed, the electrophoretic layer must be cemented with the first substrate, There is a problem that the second substrate is damaged in the process of transferring the second substrate by the transfer means such as the vehicle as well as the delay and the troublesome.

반면에, 본 발명에서는 이미 존재하는 박막트랜지스터 제조장비 등의 전기영동 표시소자 제조장비를 이용하여 전기영동층을 제1기판 또는 제2기판 상에 형성하므로, 신속한 전기영동 표시소자의 제작이 가능하게 된다. 또한, 본 발명에서는 전기영동층이 별도의 공정이 아닌 제1기판의 박막트랜지스터공정 또는 제2기판의 공통전극 형성공정에서 형성되므로, 박막트랜지스터와 공통전극을 인라인으로 형성할 수 있게 된다.On the other hand, in the present invention, since the electrophoretic layer is formed on the first substrate or the second substrate by using an electrophoretic display device manufacturing equipment such as a thin film transistor manufacturing equipment already existing, a rapid electrophoretic display device can be manufactured do. In addition, since the electrophoretic layer is formed in the thin film transistor process of the first substrate or the common electrode forming process of the second substrate, the electrophoretic layer can be formed inline.

도 2a-도 2f는 본 발명의 제1실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면이다.FIGS. 2A to 2F are views showing a method of manufacturing the electrophoretic display device according to the first embodiment of the present invention.

우선, 도 2a에 도시된 바와 같이, 유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제1기판(120) 위에 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금과 같이 도전성이 좋은 불투명 금속을 스퍼터링법(sputtering process)에 의해 적층한 후 사진식각방법(photolithography process)에 의해 식각하여 게이트전극(111)을 형성한 후, 상기 게이트전극(111)이 형성된 제1기판(120) 전체에 걸쳐 CVD(Chemicla Vapor Deposition)법에 의해 SiO2나 SiNx 등과 같은 무기절연물질을 적층하여 게이트절연층(122)을 형성한다.2A, an opaque metal having good conductivity such as Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, or Al alloy is formed on a first substrate 120 made of a transparent material such as glass or plastic by a sputtering method a gate electrode 111 is formed by a photolithography process to form a gate electrode 111 on the first substrate 120 and then a CVD (Chemical Vapor An inorganic insulating material such as SiO 2 or SiN x is deposited by a deposition method to form a gate insulating layer 122.

이어서, 도 2b에 도시된 바와 같이, 제1기판(120) 전체에 걸쳐 비정질실리콘(a-Si)과 같은 반도체물질을 CVD법에 의해 적층한 후 식각하여 반도체층(113)을 형성한다. 또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 반도체층(113)의 일부에 불순물을 도핑하거나 불순물이 첨가된 비정질실리콘을 적층하여 이후 형성되는 소스전극 및 드레인전극을 반도체층(113)과 오믹접합시키는 오믹컨택층(ohmic contact layer)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 2B, a semiconductor material such as amorphous silicon (a-Si) is deposited over the entire surface of the first substrate 120 by the CVD method, and then the semiconductor layer 113 is formed by etching. Although not shown in the drawing, an amorphous silicon doped with impurities or doped with impurities is doped in a part of the semiconductor layer 113, and the ohmic contact (not shown) in which a source electrode and a drain electrode, which will be formed later, Thereby forming an ohmic contact layer.

그후, 도 2c에 도시된 바와 같이, 제1기판(120) 상에 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 Al합금과 같이 도전성이 좋은 불투명 금속을 스퍼터링법에 의해 적층한 후 식각하여 반도체층(113) 위, 엄밀하게 말해서 오믹컨택층 위에 소스전극(115) 및 드레인전극(116)을 형성하고, 이어서 상기 소스전극(115) 및 드레인전극(116)이 형성된 제1기판(120) 전체에 걸쳐 BCB(Benzo Cyclo Butene)이나 포토아크릴(photo acryl)과 같은 유기절연물질을 적층하여 보호층(124)을 형성한다. 상기 보호층(124)은 박막트랜지스터가 형성된 제 1 기판(120)의 표면을 평탄화시키는 것을 주요 목적으로하면서, 부수적으로 제 1 기판(120)상에 형성되어 있는 박막트랜지스터를 외부환경으로부터 보호한다.2C, an opaque metal having good conductivity such as Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, or Al alloy is stacked on the first substrate 120 by a sputtering method, The source electrode 115 and the drain electrode 116 are formed on the layer 113 and strictly speaking the ohmic contact layer and then the entire surface of the first substrate 120 on which the source electrode 115 and the drain electrode 116 are formed An organic insulating material such as a BCB (Benzo Cyclo Butene) or a photo acryl is laminated to form a protective layer 124. The protective layer 124 mainly protects the thin film transistor formed on the first substrate 120 from the external environment while the main purpose is to planarize the surface of the first substrate 120 on which the thin film transistor is formed.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 보호층(124)은 복수의 층으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 보호층(124)은 BCB이나 포토아크릴과 같은 유기절연물질로 이루어진 유기절연층 및 SiO2나 SiNx 등과 같은 무기절연물질로 이루어진 무기절연층의 이중의 층으로 형성될 수도 있고, 무기절연층과 유기절연층 및 무기절연층의 삼중층으로 형성할 수도 있을 것이다. 유기절연층을 형성함에 따라 보호층(124)의 표면이 평탄하게 형성되며, 무기절연층을 적용함에 따라 보호층(124)과의 계면특성이 향상된다.Also, although not shown in the figure, the protective layer 124 may be formed of a plurality of layers. For example, the protective layer 124 may be formed as a double layer of the inorganic insulating layer made of an inorganic insulating material such as a layer of organic insulation made of an organic insulating material such as BCB or the picture acrylic and SiO 2, or SiNx, inorganic It may be formed of a triple layer of an insulating layer, an organic insulating layer and an inorganic insulating layer. As the organic insulating layer is formed, the surface of the protective layer 124 is formed flat and the interface characteristic with the protective layer 124 is improved by applying the inorganic insulating layer.

이어서, 도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 박막트랜지스터의 드레인전극(116) 상부의 보호층(124)을 식각하여 컨택홀(117)을 형성한 후, 상기 보호층(124) 상부에 투명한 도전물질이나 금속층을 적층하고 식각하여 화소전극(118)을 형성한다. 이때, 상기 화소전극(118)은 컨택홀(117)을 통해 드레인전극(116)과 전기적으로 접속된다.2D, the protective layer 124 on the drain electrode 116 of the thin film transistor is etched to form a contact hole 117, and then a transparent conductive material is deposited on the protective layer 124. Then, And a metal layer are laminated and etched to form a pixel electrode 118. [ At this time, the pixel electrode 118 is electrically connected to the drain electrode 116 through the contact hole 117.

그 후, 도 2e에 도시된 바와 같이, 상기 보호층(224) 위에 수지 등과 같은 절연물질을 도포하여 절연층(176a)을 형성한 후, 도 2f에 도시된 바와 같이, 상기 절연층(176a)을 패터닝하여 제1기판(120) 상에 격벽(176)을 형성한다. 상기 격벽(176)은 상기 보호층(224)과 화소전극(118) 상에서 격자 형태로 형성되면서 전기영동물질이 충진될 수 있는 공간 즉, 룸(200)(room)(200)을 형성한다. 상기 격벽(176)은 상기 룸(200)이 단위화소와 대응되도록 형성될 수 있다. 이 후, 화이트입자와 컬러입자가 분산매질에 섞여 있는 전기영동물질(160a)이 잉크젯장치(185)를 이용하여 상기 룸(200)에 충진된다.2E, an insulating layer 176a is formed by applying an insulating material such as resin on the passivation layer 224, and then the insulating layer 176a is formed as shown in FIG. 2F. Then, The barrier ribs 176 are formed on the first substrate 120. The barrier ribs 176 are formed on the first substrate 120 by patterning. The barrier rib 176 is formed in a lattice shape on the protective layer 224 and the pixel electrode 118 to form a room 200 in which the electrophoretic material can be filled. The barrier rib 176 may be formed so that the room 200 corresponds to a unit pixel. Thereafter, the electrophoretic material 160a in which the white particles and the color particles are mixed in the dispersion medium is filled in the room 200 by using the ink jet apparatus 185. [

상기 격벽(176)의 형성은 감광성 수지 등의 절연층(176a)을 보호층(224)과 화소전극(118) 위에 적층한 후 포토레지스트를 이용한 사진식각방법에 의해 식각함으로써 형성할 수도 있다. 또는, 인쇄법에 의해 패턴화된 격벽(176)을 보호층(224) 및 화소전극(118) 상에 인쇄함으로써 형성할 수도 있다. 또한, 격벽(176)에 대응하는 홈이 형성된 몰드를 제작한 후, 상기 몰드의 절연물질을 제1기판(120)으로 전사함으로써 형성할 수도 있다.The barrier rib 176 may be formed by laminating an insulating layer 176a such as a photosensitive resin on the passivation layer 224 and the pixel electrode 118 and then etching the barrier rib 176 by a photolithography method using a photoresist. Alternatively, a barrier rib 176 patterned by a printing method may be formed by printing on the protective layer 224 and the pixel electrode 118. [ Alternatively, after the mold having the grooves corresponding to the barrier ribs 176 is formed, the insulating material of the mold may be transferred to the first substrate 120.

실질적으로 이러한 격벽(176)의 형성방법은 특정한 방법에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기에서 특정한 방법을 설명한 것은 설명의 편의를 위한 것이지, 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니다. 상기 격벽(176)은 이미 알려진 다양한 방법에 의해 형성될 수 있을 것이다.The method of forming such partition walls 176 is not limited to a specific method. The above description of specific methods is for convenience of explanation and is not intended to limit the present invention. The partition wall 176 may be formed by various known methods.

전기영동물질은 화이트입자와 컬러입자 또는 화이트 입자와 블랙입자로 이루어질 수 있다. 또한, 전기영동물질은 분산매질을 포함하여 그 내부에 포함된 화이트입자와 컬러입자 또는 화이트 입자와 블랙입자가 전계가 인가됨에 따라 상기 분산매질 내에서 이동하게 된다. 전기영동 표시소자가 흑백의 화상만을 표현하는 모노(mono) 타입인 경우 전기영동물질은 화이트입자와 블랙입자만을 포함하며, 전기영동 표시소자가 컬러의 화상을 표현하는 경우 전기영동물질은 화이트입자와 컬러입자를 포함한다.The electrophoretic material may consist of white particles and colored particles or white particles and black particles. In addition, the electrophoretic material includes a dispersion medium, and white particles and color particles contained therein or white particles and black particles are moved in the dispersion medium as an electric field is applied thereto. When the electrophoretic display element is a mono type that expresses only black and white images, the electrophoretic material includes only white particles and black particles, and when the electrophoretic display element displays an image of a color, Color particles.

도 2g에 도시된 바와 같이, 컬러입자를 포함하는 전기영동물질이 룸(200)(200) 내부에 적하됨에 따라 제1기판(120)상에는 컬러를 갖는 전기영동층(160)이 형성된다. 여기서, 격벽에 의해 정의되는 공간을 룸(200)으로 표시하고, 상기 룸(200)에 전기영동물질이 충진되어 이루어지는 층을 전기영동층(160)으로 구분하여 사용하도록 한다. 이때, 상기 전기영동층(160)에는 전하를 띤 화이트입자(162)와 특정색이 착색된 컬러입자가 분산매질에 분포되어 전계가 인가됨에 따라 상기 분산매질 내에서 이동한다. 이때, 상기 룸(200)으로의 전기영동물질(160a)의 충진은 다양한 방법에 의해 이루어질 수 있는데, 이러한 전기영동물질의 충진방법을 설명하면 다음과 같다.2G, an electrophoretic layer 160 having a color is formed on the first substrate 120 as the electrophoretic material containing color particles is dropped into the chambers 200 and 200. Here, a space defined by the barrier ribs is represented by a room 200, and a layer formed by filling an electrophoretic substance in the room 200 is divided into an electrophoretic layer 160 and used. At this time, white particles 162 charged with electric charge and color particles colored with a specific color are distributed in the electrophoretic layer 160 and move in the dispersion medium as an electric field is applied. At this time, the filling of the electrophoretic material 160a into the room 200 can be performed by various methods. The filling method of the electrophoretic material will be described as follows.

도 3a 및 도 3b는 제1기판(120)에 형성된 격벽(176)에 의해 정의되는 룸(200) 내부로 전기영동물질을 충진하여 전기영동층(160)을 형성하는 방법을 나타내는 도면이다.3A and 3B are views illustrating a method of forming an electrophoretic layer 160 by filling an electrophoretic material into a room 200 defined by a partition wall 176 formed on a first substrate 120. FIG.

도 3a에 도시된 방법은 잉크젯방식 또는 노즐방식에 관한 것으로, 도 3a에 도시된 바와 같이 실린지(또는 노즐)(185) 내부에 전기영동물질(160a)을 충진한 후, 상기 제1기판(120) 상부에 상기 실린지(185)를 위치시킨다. 이후, 외부의 공기공급장치(도면표시하지 않음)에 의해 실린지(185)에 압력을 인가한 상태에서 상기 실린지(185)를 제1기판(120) 상에서 이동시킴에 따라 상기 격벽(176) 내부에 전기영동물질(160a)이 적하되어 제1기판(120) 상에 전기영동층(160)이 형성된다.The method shown in FIG. 3A relates to an inkjet method or a nozzle method. After the electrophoretic material 160a is filled in the syringe (or nozzle) 185 as shown in FIG. 3A, The syringe 185 is placed on top of the syringe. Thereafter, as the syringe 185 is moved on the first substrate 120 with pressure applied to the syringe 185 by an external air supply device (not shown) And the electrophoretic layer 160 is formed on the first substrate 120 by dropping the electrophoretic material 160a therein.

도면에는 자세히 도시하지 않았지만, 상기 전기영동물질(160a)을 격벽(176) 에 의해 정의되는 룸(200)에 충진할 때는 특정 색상의 컬러입자를 포함하는 실린지(185)를 각 해당하는 화소에 정렬한 후, 상기 컬러입자를 상기 룸(200)으로 주입함으로써 이루어진다.Although not shown in detail in the drawing, when filling the room 200 defined by the partition wall 176 with the electrophoretic material 160a, a syringe 185 containing color particles of a specific color is applied to each corresponding pixel And then injecting the colored particles into the room 200.

도 3b에 도시된 방법은 스퀴즈방법에 관한 것으로, 도 3b에 도시된 바와 같이 복수의 격벽(176)이 형성된 제1기판(120) 상부에 전기영동물질(160a)을 도포한 후, 스퀴즈바(187)를 이용하여 전기영동물질(160a)을 제1기판(120) 상에서 이동시킴으로써 스퀴즈바(187)의 압력에 의해 전기영동물질(160a)이 격벽(176)에 의해 정의되는 룸(200) 내부로 충진된다. 이렇게 룸(200)에 충진된 전기영동물질(160a)은 전기영동층(160)을 형성한다.The method shown in FIG. 3B relates to a squeeze method. As shown in FIG. 3B, an electrophoretic material 160a is coated on a first substrate 120 having a plurality of barrier ribs 176 formed thereon, The electrophoretic substance 160a is moved by the pressure of the squeeze bar 187 by moving the electrophoretic material 160a on the first substrate 120 by using the partition wall 176 ≪ / RTI > The electrophoretic material 160 a filled in the room 200 forms the electrophoretic layer 160.

도면에는 도시하지 않았지만, 컬러전기영동표시소자를 제조하는 경우, 특성 컬러입자, 예를 들어 적색의 컬러입자를 포함하는 전기영동물질(160a)을 충진할 때는 녹색 또는 청색의 컬러입자가 충진되는 룸(200)은 레지스트 등을 이용하여 밀폐시킨 다음, 스퀴즈방법에 의해 적색의 전기영동물질(160a)을 대응하는 룸(200)에 충진시킬 수 있다. 녹색의 컬러입자 및 청색의 컬러입자도 동일한 방법에 의해 차례차례 해당하는 룸(200)에 충진하여 컬러표현이 가능한 전기영동표시소자를 제조할 수 있다.Although not shown in the drawing, when a color electrophoretic display device is manufactured, when the electrophoretic material 160a containing the color particles of the characteristic color, for example, red color, is filled, the room where the color particles of green or blue are filled (200) may be sealed using a resist or the like, and then the red electrophoretic material (160a) may be filled into the corresponding room (200) by a squeezing method. The green color particles and the blue color particles can be sequentially filled in the corresponding room 200 by the same method to produce an electrophoretic display device capable of color representation.

물론, 본 발명이 상술한 바와 같은 방법에만 한정되는 것은 아니다. 상술한 방법은 본 발명에서 사용될 수 있는 전기영동층(160)의 형성공정의 일례를 나타내는 것으로서, 본 발명이 이러한 특정 공정에만 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 캐스팅인쇄법, 바코팅인쇄법, 스크린인쇄법, 몰드인쇄법과 같은 다양한 전기영동층(160) 형성공정이 본 발명에 적용될 수 있을 것이다.Of course, the present invention is not limited to the above-described method. The above-described method shows an example of a process of forming the electrophoretic layer 160 that can be used in the present invention, and the present invention is not limited to this specific process. For example, various electrophoresis layer forming processes such as cast printing, bar coating printing, screen printing, and mold printing may be applied to the present invention.

이어서, 상기 전기영동층(160)과 격벽의 상부에 실링층(178)을 형성한다. 상기 실링층(178)은 광경화성 또는 열경화성 수지를 상기 전기영동층(160)과 격벽 상부에 도포한 다음 경화하여 형성한다. 상기 실링층(178)은 점도가 낮은 분산매질이 충진된 룸(200)을 넘어 외부 혹은 인접하는 룸(200)으로 넘치는 것을 방지하기 위한 것이다. 따라서, 분산매질의 재료에 따라 상기 실링층(178)을 형성하지 않을 수도 있다. 예를 들어, 전기영동층(160)의 분산매질이 점도가 높아 룸(200)에 충진된 분산매질이 이웃하는 룸(200)으로 넘치지 않을 경우에는 상기 실링층(178)은 사용되지 않을 수 있다.Next, a sealing layer 178 is formed on the electrophoretic layer 160 and the barrier ribs. The sealing layer 178 is formed by coating a photocurable or thermosetting resin on the electrophoretic layer 160 and the upper part of the barrier ribs and then curing. The sealing layer 178 is provided to prevent the low-viscosity dispersion medium from overflowing into the room 200 outside or adjacent to the room 200 filled with the medium. Accordingly, the sealing layer 178 may not be formed depending on the material of the dispersion medium. For example, if the dispersion medium of the electrophoretic layer 160 has a high viscosity so that the dispersion medium filled in the room 200 does not overflow into the neighboring room 200, the sealing layer 178 may not be used .

그 후, 도 2h에 도시된 바와 같이, 전기영동층(160)이 형성된 어레이 기판과 상기 어레이 기판과는 별도로 형성되고 공통전극이 형성된 상부기판을 합착하여 전기영동표시소자를 완성한다. 이 경우, 상부기판(290)은 단지 투명한 제 2기판(140)상에 투명전극인 공통전극(142)이 형성된 기판으로써 단위화소가 정의되어 있지 않기 때문에 단지 상부기판(290)을 어레이 기판(250)상에 덮기만 하면 되어 얼라이닝 문제를 쉽게 해결할 수 있다. Then, as shown in FIG. 2H, the array substrate on which the electrophoretic layer 160 is formed and the upper substrate, which is formed separately from the array substrate and on which the common electrode is formed, are bonded together to complete the electrophoretic display device. In this case, the upper substrate 290 is a substrate on which a common electrode 142, which is a transparent electrode, is formed on a transparent second substrate 140. Since the unit pixel is not defined, only the upper substrate 290 is connected to the array substrate 250 ), It is possible to easily solve the alignment problem.

유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제2기판(140)에는 공통전극(142)이 형성된다. 상기 공통전극(142)은 ITO나 IZO와 같이 투명한 도전물질을 제2기판(140) 위에 적층함으로써 형성된다. A common electrode 142 is formed on a second substrate 140 made of a transparent material such as glass or plastic. The common electrode 142 is formed by laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO on the second substrate 140.

도면에는 도시하지 않았지만, 컬러전기영동표시소자의 제조를 위한 다른 방법으로써 상기 제2기판(140)에는 컬러필터층이 형성될 수 있다. 즉, 상기 컬러필터층은 R(Red), G(Green), B(Blue) 서브컬러필터로 이루어진 것으로, 전기영동층(160)이 화이트입자와 블랙입자만을 포함하여 흑백화면을 구현하는 경우, 공통전극(142)이 형성된 제2기판(140)의 다른 면에 형성되어 컬러를 구현할 수 있게 된다.Although not shown in the drawings, a color filter layer may be formed on the second substrate 140 as another method for manufacturing a color electrophoretic display device. That is, when the electrophoretic layer 160 includes only white particles and black particles and implements a monochrome image, the color filter layer may be formed of a common color filter such as a red (R), green (G) The electrode 142 may be formed on the other surface of the second substrate 140 to realize color.

상기와 같이 제작된 제1기판(120) 또는 제2기판(140)의 가장자리영역에 실런트(sealant)나 합착제를 도포한 후, 제1기판(120)과 제2기판(140)을 정렬한 상태에서 상기 제1기판(120)과 제2기판(140)을 합착함으로써 전기영동 표시소자를 형성한다.A sealant or a lacquer is applied to the edge regions of the first substrate 120 or the second substrate 140 manufactured as described above and then the first substrate 120 and the second substrate 140 are aligned The first substrate 120 and the second substrate 140 are bonded together to form an electrophoretic display element.

상기 방법에 의해 제작된 전기영동 표시소자의 구조를 도 2h를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.The structure of the electrophoretic display device manufactured by the above method will be described in detail with reference to FIG. 2H.

도 2h에 도시된 바와 같이, 상기와 같은 방법에 의해 제작된 본 발명의 전기영동표시소자에서는 격벽(176)이 어레이 기판(250)에 직접 형성된다. 구체적으로 격벽(176)이 어레이 기판의 보호층(124) 및 화소전극(118)과 직접 접촉하면서 형성되고 격벽(176)에 의해 정의되는 룸(200)에 분산매질과 전기영동입자가 충진되어 분산매질과 전기영동입자를 포함하는 전기영동층(160)이 상기 화소전극(118) 및 보호층(124)과 직접 접촉하므로써, 종래 전기영동 표시장치와는 달리 전기영동층(160)과 화소전극(118) 및 보호층(124) 사이에 전기영동층(160)을 부착하기 위한 별도의 접착층이 필요없게 된다.2H, in the electrophoretic display device of the present invention manufactured by the above-described method, the barrier ribs 176 are formed directly on the array substrate 250. More specifically, a room 200 formed by direct contact with the protective layer 124 and the pixel electrode 118 of the array substrate and defined by the partition wall 176 is filled with the dispersion medium and the electrophoretic particles, The electrophoretic layer 160 including the medium and the electrophoretic particles directly contacts the pixel electrode 118 and the protective layer 124 so that the electrophoretic layer 160 and the pixel electrode A separate adhesive layer for attaching the electrophoretic layer 160 between the first electrode layer 118 and the protective layer 124 is unnecessary.

위 구조와 다르게 본 발명의 전기영동표시소자에서 격벽(176)은 보호층(124)과 화소전극(118)이 형성된 표면에 직접 형성하되, 화소전극(118)을 피해 단위 화소전극(118)들 사이의 보호층(124) 위에만 형성되는 것도 가능하다.In the electrophoretic display device of the present invention, unlike the above structure, the barrier rib 176 is formed directly on the surface on which the protective layer 124 and the pixel electrode 118 are formed, It is also possible to form the protective layer 124 only on the protective layer 124 therebetween.

이러한 구조의 전기영동 표시소자 구동을 살펴보면 다음과 같다. 전기영동물질(160)이 화이트입자와 블랙입자로 이루어진 경우, 화이트입자가 양전하 또는 음전하 특성을 가지기 때문에, 외부로부터 신호가 입력되어 제1기판(120)에 형성된 박막트랜지스터를 거쳐 화소전극(118)에 신호가 인가되면, 화소전극(118)과 공통전극(142) 사이에 발생하는 전계에 의해 하전입자, 예를 들어 블랙입자 또는 화이트 입자, 컬러전기영동표시소자의 경우, 하전된 컬러입자들이 분산매질 내에서 이동하게 된다.The driving of the electrophoretic display device having such a structure will be described below. In the case where the electrophoretic material 160 is composed of white particles and black particles, signals are input from the outside because the white particles have positive or negative charge characteristics, and the pixel electrodes 118 are formed through the thin film transistors formed on the first substrate 120, Charged particles, for example black particles or white particles, in the case of a color electrophoretic display element, due to the electric field generated between the pixel electrode 118 and the common electrode 142, Thereby moving in the medium.

예를 들어, 화이트입자가 (+)전하를 갖는 경우, 화소전극(118)에 (+)전위이 인가되고 제2기판(140)에 형성된 공통전극(142)은 상대적으로 (-)전위를 가지는 경우, (+)전하를 띄는 화이트입자는 제2기판(140)쪽으로 이동하게 된다. 따라서, 외부, 즉 제2기판(140)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자에 의해 반사되므로 전기영동 표시소자에는 화이트가 구현된다.For example, when the white particles have (+) electric charges, when the (+) potential is applied to the pixel electrode 118 and the common electrode 142 formed on the second substrate 140 has a relatively negative potential And white particles having a (+) charge move to the second substrate 140 side. Therefore, when light is input from the outside, that is, from the upper portion of the second substrate 140, the input light is reflected by the white particles, so that white is realized in the electrophoretic display element.

반대로, 상기 화소전극(118)에 (-)전위가 인가되면, 제2기판(140)의 공통전극(142)은 (+)전위를 가지게 되는 경우, (+)전하를 띄는 화이트입자는 제1기판(120)으로 이동하게 되과 (-)전하를 띤 블랙입자는 제 2기판(140)쪽으로 이동하게 되어 외부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 거의 반사되지 않게 되므로, 블랙을 구현하게 된다.On the contrary, when the (-) potential is applied to the pixel electrode 118, when the common electrode 142 of the second substrate 140 has a (+) potential, white particles having a (+ When the black particles having moved to the substrate 120 and charged are moved toward the second substrate 140 and light is input from the outside, the input light is hardly reflected, thereby realizing black.

컬러 전기영동표시소자의 경우, 위의 모노타입과 달리, 전기영동물질이 블랙입자 대신 컬러입자를 포함하는 경우, 화소전극(118)에 인가되는 신호에 따라 하전된 적색(R),녹색(G),청색(B)의 컬러입자나 시안(cyan), 마젠타(Magenta), 옐로우(yellow)와 같은 컬러입자가 공통전극과 화소전극 사이를 이동하여 컬러를 구현할 수 있게 된다.In the case of a color electrophoretic display device, unlike the above mono type, when the electrophoretic material includes color particles instead of black particles, charged red (R), green (G ), And blue (B) color particles or color particles such as cyan, magenta, and yellow move between the common electrode and the pixel electrode to realize color.

전기영동물질이 화이트입자 및 블랙입자 및 분산매질을 감싸는 구 형상의 캡슐인 경우, 상기 캡슐내에 분포하는 화이트입자와 블랙입자가 각각 양전하와 음전하 특성(또는 음전하 및 양전하 특성)을 가지기 때문에, 외부로부터 신호가 입력되어 화소전극(118)에 신호가 인가되면, 화소전극(118)과 공통전극(142) 사이에 발생하는 전계에 의해 화이트입자와 블랙입자가 캡슐내에서 분리된다. 예를 들어, 화소전극(118)에 (-)전압이 인가되면, 제2기판(140)의 공통전극(142)은 상대적으로 (+)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자는 제1기판(120)쪽으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자는 제2기판(140)쪽으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(140)의 상부로부터 광이 입력되면, 전기영동 표시소자에는 블랙이 구현된다.When the electrophoretic material is a spherical capsule that surrounds white particles and black particles and a dispersion medium, white particles and black particles distributed in the capsule have positive and negative charge characteristics (or negative charge and positive charge characteristics), respectively, When a signal is inputted and a signal is applied to the pixel electrode 118, white particles and black particles are separated in the capsule by an electric field generated between the pixel electrode 118 and the common electrode 142. For example, when a negative (-) voltage is applied to the pixel electrode 118, the common electrode 142 of the second substrate 140 has a (+) potential, so that white particles The black particles moving toward the first substrate 120 and the (-) charged charges move toward the second substrate 140. In this state, when light is input from the outside, that is, from the upper portion of the second substrate 140, black is implemented in the electrophoretic display element.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 전기영동층(160)이 직접 제1기판(120)에 형성되므로, 전기영동층(160)을 기존의 박막트랜지스터 형성 공정라인, 예를 들면 절연층 형성 등과 같은 공정라인에서 형성할 수 있기 때문에, 별도의 공정라인이 필요없게 되므로 제조비용을 더욱 절감할 수 있게 된다.As described above, in the present invention, since the electrophoretic layer 160 is directly formed on the first substrate 120, the electrophoretic layer 160 can be formed in a conventional thin film transistor formation process line, for example, Line, it is possible to further reduce the manufacturing cost by eliminating the need for a separate process line.

또한, 본 발명의 전기영동표시소자는 단위화소가 형성된 어레이 기판상에 각각의 단위화소에 대응되도록 격벽을 형성할 수 있어, 전기영동층이 상부기판에 형성되어 있어 하부기판인 어레이 기판과 별도로 정열을 하면서 접착하여야 하는 종래 기술에 비해 오정열을 문제를 원천적으로 해결할 수 있다.In addition, the electrophoretic display element of the present invention can form barrier ribs corresponding to the unit pixels on the array substrate on which the unit pixels are formed, and the electrophoretic layer is formed on the upper substrate, It is possible to solve the problem of omnipotence at a source, compared with the prior art which requires bonding.

도 4a-도 4e는 본 발명의 제2실시예에 따른 전기영동 표시소자 제조방법을 나타내는 도면이다. 제 2 실시 예에서는 전기영동층을 공통전극이 형성되는 상부기판에 형성한다.4A to 4E are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the electrophoretic layer is formed on the upper substrate on which the common electrode is formed.

우선, 도 4a에 도시된 바와 같이, 유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제2기판(240) 위에 ITO나 IZO와 같은 투명도전물질을 적층하여 공통전극(242)을 형성한다. 이후, 도 4b에 도시된 바와 같이 상기 공통전극(242)이 형성된 제2기판(240) 위에 격벽(276)을 형성한다. 상기 격벽(276)의 형성은 상기 제1실시예에 개시된 여러 방법들 중 어느 하나 일 수 있다. 예를 들어, 수지 등의 절연층을 공통전극 위에 적층한 후 사진식각방법이나 몰드법 등의 방법에 의해 형성할 수 있다.First, as shown in FIG. 4A, a common electrode 242 is formed by laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO on a second substrate 240 made of a transparent material such as glass or plastic. 4B, the barrier ribs 276 are formed on the second substrate 240 on which the common electrode 242 is formed. The formation of the barrier ribs 276 may be any of the various methods disclosed in the first embodiment. For example, an insulating layer such as a resin may be formed on the common electrode by a method such as a photolithography method or a molding method.

그 후, 도 4c에 도시된 바와 같이, 상기 격벽(276) 내에 전기영동물질을 충진하여 전기영동층(260)을 형성한다. 이때, 상기 전기영동물질은 솔벤트나 액상 폴리머로 이루어진 분산매질과 상기 분산매질에 분산된 전기영동입자(262)로 이루어진다. 전기영동입자(262)는 모노 타입의 경우, 화이트입자나 블랙입자를 포함하며, 컬러 타입인 경우, 컬러입자를 포함할 수 있다. 이때, 화이트입자와 블랙입자는 각각 음전하특성과 양전하특성을 가질 수도 있고 각각 양전하특성과 음전하특성을 가질 수도 있다. 또한, 컬러입자가 포함되는 경우, 상기 컬러입자 역시 양전하특성 또는 음전하특성을 가진다. 상기 전기영동층(260)은 스크린인쇄법이나 적하법 등과 같은 다양한 방법에 의해 형성될 수 있다.Then, as shown in FIG. 4C, the electrophoretic layer 260 is formed by filling the electrophoretic material in the barrier ribs 276. At this time, the electrophoretic material is composed of a dispersion medium composed of a solvent or liquid polymer and electrophoretic particles 262 dispersed in the dispersion medium. The electrophoretic particles 262 may include white particles or black particles in the case of a mono type, and color particles in the case of a color type. At this time, the white particles and the black particles may have a negative charge characteristic and a positive charge characteristic, respectively, and may have a positive charge characteristic and a negative charge characteristic, respectively. In addition, when color particles are included, the color particles also have a positive charge property or a negative charge property. The electrophoretic layer 260 may be formed by various methods such as a screen printing method and a dropping method.

이어서, 도 4d에 도시된 바와 같이, 어레이 기판을 형성한다. 즉, 제1기판(220) 상에 게이트전극(211), 게이트절연층(222), 소스전극(215) 및 드레인전극(216)으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하고 그 위에 보호층(224)을 형성한 후, 상기 보호층(224) 위에 컨택홀(217)을 통해 드레인전극(216)과 전기적으로 접속되는 화소전극(218)을 형성한다. 이때, 상기 박막트랜지스터는 도 2a-도 2c에 도시된 방법에 의해 형성된다.Then, as shown in Fig. 4D, an array substrate is formed. That is, a thin film transistor including a gate electrode 211, a gate insulating layer 222, a source electrode 215 and a drain electrode 216 is formed on a first substrate 220 and a protective layer 224 is formed thereon A pixel electrode 218 which is electrically connected to the drain electrode 216 through the contact hole 217 is formed on the passivation layer 224. At this time, the thin film transistor is formed by the method shown in Figs. 2A to 2C.

이어서, 도 4e에 도시된 바와 같이, 박막트랜지스터가 형성된 제1기판(220) 및 전기영동층(260)이 형성된 제2기판(240)을 제1기판(220)과 합착하여 전기영동 표시소자를 완성한다.4E, a first substrate 220 on which a thin film transistor is formed and a second substrate 240 on which an electrophoretic layer 260 is formed are adhered to the first substrate 220 to form an electrophoretic display element It completes.

본 실시예에서는 전기영동층이 형성된 제2기판(240)에 격벽에 의해 형성된 룸(200)을 실링하기 위한 실링층을 형성하지 않고 전기영동층을 룸(200)에 주입한 후, 별도로 제조된 어레이 기판을 곧바로 전기영동층이 형성된 제2기판(240)과 합착한다. 따라서, 본 제2실시예에서는 합착공정시, 전기영동층이 형성되는 제2기판(240)을 하부에 위치시키고, 화소전극이 형성된 어레이 기판을 상부에 위치시킨 후 서로 합착하는 것이 바람직하다.In this embodiment, the electrophoretic layer is injected into the room 200 without forming a sealing layer for sealing the room 200 formed by the barrier ribs on the second substrate 240 on which the electrophoretic layer is formed, The array substrate is directly bonded to the second substrate 240 on which the electrophoretic layer is formed. Accordingly, in the second embodiment, it is preferable that the second substrate 240 on which the electrophoretic layer is formed is positioned below, and the array substrate on which the pixel electrodes are formed is positioned on top of the second substrate 240, and then they are attached to each other.

도면에는 도시하지 않았지만, 전기영동층(260)에 화이트입자 및 블랙입자만이 포함되어 있을 경우, 상기 제2기판(240)에는 컬러필터층이 더 형성되어 상기 컬러필터층에 의해 컬러를 구현할 수도 있다.Although not shown in the drawing, when only the white particles and the black particles are included in the electrophoretic layer 260, a color filter layer may be further formed on the second substrate 240 so that the color filter layer may implement the color.

상기 제1기판(220) 및 제2기판(240)의 합착은 제1기판(220) 또는 제2기판(240)의 가장자리영역, 즉 비표시영역에 실런트(sealant)나 합착제를 도포한 후, 제1기판(220)과 제2기판(240)을 정렬한 상태에서 상기 제1기판(220)과 제2기판(240)에 압력을 인가함으로써 이루어질 수 있다.The first substrate 220 and the second substrate 240 may be bonded together by applying a sealant or a caking agent to the edge region of the first substrate 220 or the second substrate 240, And applying pressure to the first substrate 220 and the second substrate 240 while the first substrate 220 and the second substrate 240 are aligned with each other.

또는 상기 제1기판(220) 및 제2기판(240)의 합착은 제2기판(240)에 격벽을 형성할 때, 제2기판(240)의 표시영역의 가장자리에 형성되는 격벽을 표시영역 내부에 형성되는 격벽보다 그 상단의 폭이 더 넓도록 형성하여 상기 제2기판(240)의 표시영역의 가장자리에 형성되는 격벽 상단에 실런트나 합착제를 도포하여 상기 제1기판(220)과 제2기판(240)을 합착할 수 있다. When the barrier ribs are formed on the second substrate 240, the barrier ribs formed on the edge of the display region of the second substrate 240 may be bonded to the inside of the display region 240 A sealant or a lacquer is applied to the upper portion of the barrier rib formed at the edge of the display region of the second substrate 240 to form the first substrate 220 and the second substrate 240, The substrate 240 can be bonded.

제1실시예에서는 전기영동층이 박막트랜지스터가 형성되는 제1기판에 직접 형성된 후, 상기 제1기판이 제2기판과 합착되어 전기영동 표시소자가 완성되는데 반해, 제2실시예에서는 전기영동층이 공통전극이 형성되는 제2기판에 형성된 후, 이 제2기판이 제1기판과 합착됨으로서 전기영동표시소자가 완성된다.In the first embodiment, the electrophoretic layer is formed directly on the first substrate on which the thin film transistor is formed, and then the first substrate is bonded to the second substrate to complete the electrophoretic display device. In contrast, in the second embodiment, Is formed on the second substrate on which the common electrode is formed, and then the second substrate is bonded to the first substrate to complete the electrophoretic display element.

도 5a-도 5d는 본 발명의 제3실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면이다. 본 제 3실시 예는 격벽에 의해 정의되는 룸(200)을 실링하는 실링층에 주입구를 더 형성하고, 상기 주입구를 통해 전기영동물질을 주입하는 것이 특징이다.5A to 5D are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a third embodiment of the present invention. The third embodiment is characterized in that an injection port is further formed in the sealing layer sealing the room 200 defined by the partition, and the electrophoretic material is injected through the injection port.

도 5a에 도시된 바와 같이, 제1기판(320) 상에 게이트전극(311), 게이트절연층(322), 반도체층(313), 소스전극(315) 및 드레인전극(316)으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하고, 상기 박막트랜지스터를 덮도록 제1기판(320) 전체에 걸쳐 보호층(324)을 형성한다. 상기 박막트랜지스터는 도 2a-도 2c에 도시된 공정에 의해 제작되며, 보호층(324)은 유기절연물질을 적층함으로써 형성한다.5A, a thin film transistor (TFT) 320 including a gate electrode 311, a gate insulating layer 322, a semiconductor layer 313, a source electrode 315, and a drain electrode 316 is formed on a first substrate 320, And a protective layer 324 is formed over the entire first substrate 320 to cover the thin film transistor. The thin film transistor is fabricated by the process shown in Figs. 2A to 2C, and the protective layer 324 is formed by laminating an organic insulating material.

그리고, 상기 보호층(324) 위에 컨택홀을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(316)과 전기적으로 접속되는 화소전극(318)을 형성하고, 상기 화소전극(318)이 형성된 제1기판(320) 상에 수지 등의 절연물질을 도포하여 절연층(376a)을 형성한다.A pixel electrode 318 electrically connected to the drain electrode 316 of the thin film transistor is formed on the passivation layer 324 through a contact hole and the pixel electrode 318 is formed on the first substrate 320 on which the pixel electrode 318 is formed. An insulating material such as a resin is applied to form an insulating layer 376a.

이어서, 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 절연층(376a)을 패터닝하여 제1기판(320) 상에 격벽(376)을 형성한다. 이때, 상기 격벽(376)의 형성은 수지 등의 절연층(376a)을 적층한 후 포토레지스트를 이용한 사진식각방법에 의해 식각함으로써 형성할 수도 있고 인쇄롤에 의해 패턴화된 격벽(376)을 인쇄함으로써 형성할 수도 있다. 또한, 격벽에 대응하는 홈이 형성된 몰드를 제작한 후, 상기 몰드의 절연물질을 제1기판(320)으로 전사함으로써 형성할 수도 있다.5B, the barrier layer 376 is formed on the first substrate 320 by patterning the insulating layer 376a. At this time, the partition 376 may be formed by laminating an insulating layer 376a such as a resin and then etching it by a photolithography method using a photoresist. Alternatively, the partition 376 patterned by a printing roll may be printed . Alternatively, a mold having grooves corresponding to the barrier ribs may be formed, and then the insulating material of the mold may be transferred to the first substrate 320.

실질적으로 이러한 격벽(376)의 형성은 특정한 방법에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기에서 특정한 방법을 설명한 것은 설명의 편의를 위한 것이지, 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니다. 상기 격벽(376)은 이미 알려진 다양한 방법에 의해 형성될 수 있을 것이다.The formation of such a partition wall 376 is not limited by a specific method. The above description of specific methods is for convenience of explanation and is not intended to limit the present invention. The partition wall 376 may be formed by various known methods.

그 후, 상기 격벽(376) 위에 실런트 등에 도포하고 경화하여 주입구(379)가 형성된 실링층(378)을 형성한 후, 상기 주입구(379)를 통해 상기 격벽(362) 및 실링층(378) 의해 형성된 공간 내부에 화이트입자(362)와 컬러입자(364)를 포함하는 전기영동물질을 주입한다. 이때, 공간 내부에는 공기로 채워져 있으며, 상기 화이트입자(372)와 컬러입자(374)의 주입은 격벽(376) 및 실링층(378)에 의해 형성되는 공간의 압력을 대기압보다 낮은 상태로 유지한 상태에서 입자주입기를 상기 주입구(379)에 접촉함으로써 화이트입자(362)와 컬러입자(364)를 주입할 수도 있고, 격벽(376) 및 실링층(378)에 의해 형성되는 공간의 압력을 대기압을 하고 입자주입기에서 대기압보다 높은 압력으로 화이트입자(362)와 컬러입자(364)를 주입할 수도 있을 것이다.Thereafter, a sealant or the like is coated on the partition wall 376 and cured to form a sealing layer 378 having an injection port 379, and then the partition wall 362 and the sealing layer 378 are formed through the injection port 379 An electrophoretic material containing white particles 362 and color particles 364 is injected into the formed space. The injection of the white particles 372 and the color particles 374 is performed by maintaining the pressure of the space formed by the partition wall 376 and the sealing layer 378 at a level lower than the atmospheric pressure The white particles 362 and the color particles 364 may be injected by contacting the particle injector with the injection port 379 and the pressure of the space formed by the partition wall 376 and the sealing layer 378 may be atmospheric pressure And inject white particles 362 and color particles 364 at a pressure higher than atmospheric pressure in the particle injector.

이어서, 도 5c에 도시된 바와 같이, 격벽(276) 내부에 전하를 띤 화이트입자(372)와 컬러입자(374)를 충진한 상태에서 상기 주입구(379)를 밀봉함으로써 전기영동층(260)을 형성한다.5C, the injection port 379 is filled with the charged white particles 372 and the colored particles 374 inside the partition wall 276, thereby forming the electrophoretic layer 260 .

그 후, 도 5d에 도시된 바와 같이, 전기영동층(376)이 형성된 제1기판(320)에 공통전극(242)이 형성된 제2기판(340)이 합착되어 전기영동 표시소자가 완성된다.5D, the second substrate 340 having the common electrode 242 is attached to the first substrate 320 having the electrophoretic layer 376 formed thereon, thereby completing the electrophoretic display device.

이러한 구조의 전기영동 표시소자에서는 상기 전기영동층(376)내에 분포하는 화이트입자(372)와 컬러입자(374)가 각각 양전하와 음전하 특성을 가지기 때문에, 외부로부터 신호가 입력되어 제1기판(320)에 형성된 박막트랜지스터를 거쳐 화소전극(318)에 신호가 인가되면, 화소전극(318)과 공통전극(342) 사이에 발생하는 전계 의해 화이트입자(174)와 컬러입자(374)가 분산매질내에서 분리된다. 예를 들어, 화소전극(318)에 (-)전압이 인가되면, 제3기판(140)의 공통전극(342)은 상대적으로 (+)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(362)는 제1기판(320)쪽으로 이동하고, (-)전하를 띄는 컬러입자(364)는 제2기판(240)쪽으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(340)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 컬러입자(364)에 의해 반사되므로, 전기영동 표시소자에는 컬러가 구현된다.In the electrophoretic display device having such a structure, the white particles 372 and the color particles 374 distributed in the electrophoretic layer 376 have positive and negative charge characteristics, respectively, The white particles 174 and the color particles 374 generated by the electric field generated between the pixel electrode 318 and the common electrode 342 are separated from each other in the dispersion medium by the electric field generated between the pixel electrode 318 and the common electrode 342, Separated. For example, when a negative (-) voltage is applied to the pixel electrode 318, the common electrode 342 of the third substrate 140 has a relatively positive potential, and white particles (+ 362 move toward the first substrate 320 and the color particles 364 having a negative charge move toward the second substrate 240. In this state, when light is input from the outside, that is, from the upper portion of the second substrate 340, since the input light is reflected by the color particles 364, color is realized in the electrophoretic display element.

반대로, 상기 화소전극(318)에 (+)전압이 인가되면, 제2기판(140)의 공통전극(342)은 (-)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(362)는 제2기판(340)으로 이동하고, (-)전하를 띄는 컬러입자(364)는 제1기판(340)으로 이동하게 된다.In contrast, when a positive voltage is applied to the pixel electrode 318, the common electrode 342 of the second substrate 140 has a negative potential, and the white particles 362 having a positive charge The color particles 364 moving to the second substrate 340 move to the first substrate 340.

이 상태에서 외부, 즉 제2기판(340)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자(362)에 의해 반사되므로 화이트가 구현된다.In this state, when light is input from the outside, that is, from the top of the second substrate 340, white is realized because the input light is reflected by the white particles 362.

도면에는 하나의 화소만을 도시하여 본 발명을 설명하고 있지만, 실질적으로 본 발명의 전기영동 표시소자에서는 R(Red), G(Green) 및 B(Blue) 의 컬러입자가 충진된 화소가 배치되므로, 각각의 화소에서 해당하는 컬러가 구현됨으로써 원하는 색상을 표시할 수 있게 된다.In the electrophoretic display device of the present invention, pixels filled with color particles of R (Red), G (Green) and B (Blue) are disposed substantially. It is possible to display a desired color by implementing a corresponding color in each pixel.

또한, 본 발명은 전기영동표시소자의 휘도향상을 위해 단위화소마다 컬러필터층이 형성되어 있지 않은 화이트 서브 픽셀을 더 구비할 수 있다. 본 발명의 전기영동표시소자는 반사형의 디스플레이로서 전기영동층상에 컬러필터층이 더 형성될 경우 휘도가 매우 낮아지는 문제점이 발생할 수 있다. 상기 화이트 서브 픽셀은 이러한 휘도 저하 문제점을 개선한다.In addition, the present invention can further include a white subpixel in which a color filter layer is not formed for each unit pixel in order to improve brightness of the electrophoretic display element. The electrophoretic display device of the present invention may have a problem that the luminance is very low when a color filter layer is further formed on the electrophoretic layer as a reflection type display. The white subpixel improves this luminance degradation problem.

한편, 상기 구조의 전기영동 표시소자가 컬러를 구현하는 표시소자로서만 사용되는 것은 아니다. 제2기판(340)에 컬러필터층(346)을 형성하지 않게 되면, 화이트입자(372)에 의해 반사되는 광은 화이트가 구현되고 블랙입자(374)에 의해 반사되는 광은 블랙을 나타내므로, 흑백 표시소자로서 사용할 수 있을 것이다.On the other hand, the electrophoretic display element having the above structure is not used as a display element for realizing color. If the color filter layer 346 is not formed on the second substrate 340, the light reflected by the white particles 372 is white and the light reflected by the black particles 374 is black, It can be used as a display element.

도 6a-도 6d는 본 발명의 제4실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면이다.제 4 실시 예는 어레이 기판상에 마이크로캡슐을 포함하는 전기영동층을 직접 형성한다.6A to 6D are views showing a method for manufacturing an electrophoretic display device according to a fourth embodiment of the present invention. [0041] A fourth embodiment directly forms an electrophoretic layer including microcapsules on an array substrate.

도 6a에 도시된 바와 같이, 우선 제1기판(420) 상에 게이트전극(411), 게이트절연층(422), 반도체층(413), 소스전극(415) 및 드레인전극(416)으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하고, 상기 박막트랜지스터를 덮도록 제1기판(420) 전체에 걸쳐 보호층(424)을 형성한다. 이때, 상기 박막트랜지스터는 도 2a-도 2c에 도시된 공정에 의해 제작되며, 보호층(424)은 유기절연물질을 적층함으로써 형성한다.A thin film made of a gate electrode 411, a gate insulating layer 422, a semiconductor layer 413, a source electrode 415 and a drain electrode 416 is formed on a first substrate 420, And a protective layer 424 is formed over the entire first substrate 420 to cover the thin film transistor. At this time, the thin film transistor is fabricated by the process shown in FIGS. 2A to 2C, and the protective layer 424 is formed by laminating an organic insulating material.

그 후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 상기 보호층(424)의 일부를 식각하여 컨택홀(417)을 형성한 후, 상기 보호층(424)에 상기 컨택홀(417을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(416)과 전기적으로 접속되는 화소전극(418)을 형성한다.6B, a portion of the passivation layer 424 is etched to form a contact hole 417, and then the passivation layer 424 is formed with the contact hole 417 through the contact hole 417, And a pixel electrode 418 electrically connected to the drain electrode 416 is formed.

이어서, 도 6c에 도시된 바와 같이, 상기 화소전극(418)이 형성된 제1기판(420) 상에 전자잉크물질을 도포하여 전기영동층(460)을 형성한다. 상기 전기영동층(460)은 폴리머중합체(polymer binder)에 전자잉크들이 충진된 마이크로캡슐(470)을 화소전극(418)이 형성된 보호층(424)위에 인쇄함으로써 형성된다. 상기 마이크로캡슐(470)내에는전자잉크 즉, 화이트입자(또는 화이트잉크;474)와 및 블랙입자(또는 블랙잉크;476)와 용제로서 분산매질이 포함되어 있다. 이때, 상기 화이트입자(474)와 블랙입자(476)는 각각 양전하와 음전하 특성을 가진다. 즉, 상기 화이트입자(474)는 양전하로 대전될 수 있으며, 블랙입자(476)는 음전하로 대전될 수 있다.6C, an electrophoretic layer 460 is formed by applying an electronic ink material onto the first substrate 420 having the pixel electrode 418 formed thereon. The electrophoretic layer 460 is formed by printing a microcapsule 470 filled with a polymer binder on the protective layer 424 on which the pixel electrode 418 is formed. (Or white ink) 474 and black particles (or black ink 476) and a dispersing medium as a solvent are contained in the microcapsule 470. [ At this time, the white particles 474 and the black particles 476 have positive and negative charge characteristics, respectively. That is, the white particles 474 can be positively charged and the black particles 476 can be negatively charged.

이어서, 도 6d에 도시된 바와 같이, 상기와 같이 전기영동층(460)이 형성된 제1기판(420)을 제2기판(440)과 합착하여 전기영동 표시소자를 완성한다.6D, the first substrate 420 on which the electrophoresis layer 460 is formed is attached to the second substrate 440 to complete the electrophoretic display device.

유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제2기판(440)에는 블랙매트릭스(444)와 컬러필터층(446) 및 공통전극(142)이 형성된다. 상기 블랙매트릭스(444)는 Ar이나 ArOx 등과 같은 불투명한 금속을 적층하고 식각하여 형성하거나 블랙수지를 도포함으로써 형성되는 것으로, 박막트랜지스터 형성영역 등과 같이 실제 화상이 구현되지 않는 영역에 형성되어 해당 영역에서 광이 반사되는 것을 방지한다. A black matrix 444, a color filter layer 446, and a common electrode 142 are formed on a second substrate 440 made of a transparent material such as glass or plastic. The black matrix 444 is formed by laminating and etching an opaque metal such as Ar or ArOx, or by applying a black resin. The black matrix 444 is formed in an area where an actual image is not formed, such as a thin film transistor forming area, Thereby preventing light from being reflected.

상기 컬러필터층(446)은 R(Red), G(Green), B(Blue)의 서브 컬러필터층으로 이루어져 실제 컬러를 구현한다. 본 발명에서는 전기영동표시장치의 광 휘도를 증가시키기 위해 R(Red), G(Green), B(Blue)의 서브픽셀을 포함하는 단위화소마다 컬러필터이 없는 화이트 서브픽셀을 더 구비할 수 있다. 화이트 서브픽셀이 형성되는 경우, 상기 화이트 서브픽셀은 상기 R(Red), G(Green), B(Blue)의 서브픽셀과 함께 단위화소마다 형성된다. 상기 전기영동표시장치는 외부로부터 입사되는 빛을 전기영동입자가 반사하여 그 빛을 인식하는 반사모드로 동작하기 때문에 전기영동층 위에 컬러필터층을 더 구비할 경우 매우 휘도가 낮은 문제점이 있다. 본 발명은 이 문제점을 해결하기 위해 단위화소마다 상기 화이트 서브 픽셀을 더 형성하여 휘도를 향상시킨다.The color filter layer 446 is formed of sub color filter layers of R (Red), G (Green), and B (Blue) to realize an actual color. The present invention can further include white subpixels without color filters for each unit pixel including subpixels of R (Red), G (Green), and B (Blue) in order to increase the optical brightness of the electrophoretic display device. When white subpixels are formed, the white subpixels are formed for each unit pixel together with the subpixels of R (Red), G (Green), and B (Blue). The electrophoretic display device operates in a reflection mode in which electrophoretic particles reflect light incident from the outside and recognize the light. Therefore, when the electrophoretic display device further includes a color filter layer, there is a problem that the brightness is low. In order to solve this problem, the present invention further improves the brightness by forming the white subpixel for each unit pixel.

상기 공통전극(442)은 ITO나 IZO와 같이 투명한 도전물질을 컬러필터층 위에 적층함으로써 형성될 수 있다. 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 컬러필터층(446) 위에는 평탄화막이 형성될 수도 있다. 컬러필터층을 형성하는 다른 방법으로는 투명한 제2기판(440)의 일면에 공통전극을 형성하고, 다른 일면에는 컬러필터층을 형성함으로써 이루어 질 수도 있다.The common electrode 442 may be formed by laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO on the color filter layer. Although not shown in the drawing, a planarizing film may be formed on the color filter layer 446. Another method of forming the color filter layer is to form a common electrode on one side of the transparent second substrate 440 and form a color filter layer on the other side.

상기와 같이 제작된 제1기판(420) 또는 제2기판(140)의 비표시영역에 실런트(sealant)나 합착제를 도포한 후, 제1기판(420)과 제2기판(440)을 정렬한 상태에서 상기 제1기판(420)과 제2기판(440)을 합착함으로써 전기영동 표시소자를 형성한다.A sealant or a lacquer is applied to the non-display area of the first substrate 420 or the second substrate 140 manufactured as described above and then the first substrate 420 and the second substrate 440 are aligned The first substrate 420 and the second substrate 440 are bonded together to form an electrophoretic display element.

이러한 구조의 전기영동 표시소자에서는 상기 마이크로캡슐(470)내에 분포하는 전자잉크에 포함된 화이트입자(474)와 블랙입자(476)가 각각 양전하와 음전하 특성을 가지기 때문에, 외부로부터 신호가 입력되어 제1기판(420)에 형성된 박막트랜지스터를 거쳐 화소전극(418)에 신호가 인가되면, 화소전극(418)과 공통전극(442) 사이에 발생하는 전계에 의해 화이트입자(474)와 블랙입자(476)가 마이크로캡슐(470)내에서 분리된다. 예를 들어, 화소전극(118)에 (-)전압이 인가되면, 제2기판(440)의 공통전극(442)은 상대적으로 (+)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(474)는 제1기판(420)쪽으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자(476)는 제2기판(440)쪽으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(440)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 블랙입자(476)에 의해 반사되므로, 전기영동 표시소자에는 블랙이 구현된다.In the electrophoretic display device having such a structure, since white particles 474 and black particles 476 contained in the electronic ink distributed in the microcapsules 470 have positive and negative charge characteristics, respectively, White particles 474 and black particles 476 are formed by an electric field generated between the pixel electrode 418 and the common electrode 442 when a signal is applied to the pixel electrode 418 through the thin film transistor formed on the substrate 420. [ ) Are separated in the microcapsule (470). For example, when a negative (-) voltage is applied to the pixel electrode 118, the common electrode 442 of the second substrate 440 has a relatively positive potential, and white particles (+ 474 move toward the first substrate 420 and the black particles 476 having a negative charge move toward the second substrate 440. In this state, when light is input from the outside, that is, from the upper portion of the second substrate 440, since the input light is reflected by the black particles 476, black is realized in the electrophoretic display element.

반대로, 상기 화소전극(418)에 (+)전압이 인가되면, 제2기판(440)의 공통전극(442)은 (-)전위를 가지게 되어, (+)전하를 띄는 화이트입자(474)는 제2기판(440)으로 이동하고, (-)전하를 띄는 블랙입자(476)는 제1기판(440)으로 이동하게 된다. 이 상태에서 외부, 즉 제2기판(440)의 상부로부터 광이 입력되면, 입력된 광이 상기 화이트입자(474)에 의해 반사되므로, 이 반사된 광이 컬러필터층(446)을 투과함으로써 해당 컬러필터층(446)에 대응하는 컬러가 구현된다.In contrast, when a positive voltage is applied to the pixel electrode 418, the common electrode 442 of the second substrate 440 has a negative potential, and the white particles 474 having a positive charge are The black particles 476 moving to the second substrate 440 and having a negative charge move to the first substrate 440. In this state, when light is input from the outside, that is, from the top of the second substrate 440, since the input light is reflected by the white particles 474, the reflected light passes through the color filter layer 446, A color corresponding to the filter layer 446 is implemented.

도면에는 하나의 화소만을 도시하여 본 발명을 설명하고 있지만, 실질적으로 본 발명의 전기영동 표시소자에서는 R(Red) 컬러필터층, G(Green) 컬러필터층 및 B(Blue) 컬러필터층이 형성된 화소가 배치되므로, 각각의 화소에서 해당하는 컬러가 구현됨으로써 원하는 화상을 표시할 수 있게 된다.In the electrophoretic display device according to the present invention, a pixel in which an R (red) color filter layer, a G (green) color filter layer and a B (blue) color filter layer are formed is disposed So that the desired color can be realized in each pixel, so that a desired image can be displayed.

한편, 상기 실시예의 전기영동 표시소자가 컬러를 구현하는 표시소자로서만 사용되는 것은 아니다. 제2기판(440)에 컬러필터층(446)을 형성하지 않게 되면, 화이트입자(474)에 의해 반사되는 광은 화이트가 구현되고 블랙입자(476)에 의해 반사되는 광은 블랙을 나타내므로, 흑백 표시소자로서 사용할 수 있을 것이다.On the other hand, the electrophoretic display element of the embodiment is not only used as a display element for realizing color. If the color filter layer 446 is not formed on the second substrate 440, the light reflected by the white particles 474 is white and the light reflected by the black particles 476 is black, It can be used as a display element.

상기 구조의 전기영동 표시소자에서는 화이트입자(474)와 블랙입자(476)가 각각 양전하와 음전하 특성을 갖고 있지만, 상기 화이트입자(474)와 블랙입자(476)는 극성이 변경하여 사용할 수도 있다. 즉, 화이트입자(474)와 블랙입자(476)가 각각 음전하와 양전하 특성을 갖도록 할 수도 있는 것이다.In the electrophoretic display device having the above structure, the white particles 474 and the black particles 476 have positive charge and negative charge characteristics, respectively, but the polarity of the white particles 474 and the black particles 476 may be changed. That is, the white particles 474 and the black particles 476 may have negative charge and positive charge characteristics, respectively.

도 7a-도 7d는 본 발명의 제5실시예에 따른 전기영동 표시소자의 제조방법을 나타내는 도면이다. 제 5 실시 예는 공통전극이 형성되는 상부기판에 마이크로캡슐을 포함하는 전기영동층을 직접 형성한다.7A to 7D are views showing a method of manufacturing an electrophoretic display device according to a fifth embodiment of the present invention. The fifth embodiment directly forms an electrophoretic layer including microcapsules on an upper substrate on which a common electrode is formed.

우선, 도 7a에 도시된 바와 같이, 유리나 플라스틱과 같이 투명한 물질로 이루어진 제2기판(540) 위에 ITO나 IZO와 같은 투명도전물질을 적층하여 공통전극(542)을 형성한 후, 도 6b에 도시된 바와 같이 상기 공통전극(540)이 형성된 제2기판(540)에 전자잉크물질을 도포하여 전기영동층(560)을 형성한다. 상기 전기영동층(560)은 전자잉크들이 충진된 마이크로캡슐(570)을 상기 마이크로캡슐의 도포를 용이하게 하는 폴리머중합체(polymer binder)와 함께 공통전극(542) 위에 인쇄함으로써 형성된다. 상기 마이크로캡슐(570)내에 분포하는 전자잉크는 화이트입자(또는 화이트잉크;574) 및 블랙입자(또는 블랙잉크;576)와 분산매질로 이루어져 있다. 이때, 상기 화이트입자(574)와 블랙입자(576)는 각각 양전하와 음전하 특성을 가진다. 그 후, 도 7c에 도시된 바와 같이, 어레이 기판을 제조한다. 즉, 제1기판(520) 상에 게이트전극(511), 게이트절연층(522), 소스전극(515) 및 드레인전극(516)으로 이루어진 박막트랜지스터를 형성하고 그 위에 보호층(524)을 형성한 후, 상기 보호층(524) 위에 컨택홀(517)을 통해 드레인전극(516)과 전기적으로 접속되는 화소전극(518)을 형성한다. 이때, 상기 박막트랜지스터는 도 2a-도 2c에 도시된 방법에 의해 형성된다.7A, after a common electrode 542 is formed by laminating a transparent conductive material such as ITO or IZO on a second substrate 540 made of a transparent material such as glass or plastic, The electrophoretic layer 560 is formed by applying an electronic ink material to the second substrate 540 on which the common electrode 540 is formed. The electrophoretic layer 560 is formed by printing a microcapsule 570 filled with electronic ink on the common electrode 542 together with a polymer binder that facilitates application of the microcapsules. The electronic ink distributed in the microcapsules 570 is composed of white particles (or white ink) 574 and black particles (or black ink) 576 and a dispersion medium. At this time, the white particles 574 and the black particles 576 have positive and negative charge characteristics, respectively. Thereafter, as shown in Fig. 7C, an array substrate is manufactured. That is, a thin film transistor composed of a gate electrode 511, a gate insulating layer 522, a source electrode 515 and a drain electrode 516 is formed on a first substrate 520 and a protective layer 524 is formed thereon A pixel electrode 518 which is electrically connected to the drain electrode 516 through the contact hole 517 is formed on the passivation layer 524. At this time, the thin film transistor is formed by the method shown in Figs. 2A to 2C.

이어서, 도 7d에 도시된 바와 같이, 박막트랜지스터가 형성된 제1기판(520) 및 전기영동층(560)이 형성된 제2기판(540)을 제2기판(540)과 합착하여 전기영동 표시소자를 완성한다.7D, a first substrate 520 on which a thin film transistor is formed and a second substrate 540 on which an electrophoretic layer 560 is formed are bonded to the second substrate 540 to form an electrophoretic display element It completes.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제2기판(540)에는 컬러필터층이 형성될 수 있다. 상기 컬러필터층은 하나의 단위화소가 R(Red), G(Green), B(Blue)의 서브 컬러필터로 이루어진 것으로, 전기영동층(560)에서 반사되어 출사되는 광이 상기 컬러필터층을 투과함으로써 실제 컬러를 구현할 수 있게 된다.Although not shown in the drawing, a color filter layer may be formed on the second substrate 540. The color filter layer is composed of sub-color filters of R, G, and B as one unit pixel. Light that is reflected and emitted from the electrophoretic layer 560 passes through the color filter layer The actual color can be realized.

상기 제1기판(520) 및 제2기판(540)의 합착은 제1기판(520) 또는 제2기판(540)의 비표시영역에 실런트(sealant)나 합착제를 도포한 후, 제1기판(520)과 제2기판(540)을 정렬한 상태에서 상기 제1기판(520)과 제2기판(540)에 압력을 인가함으로써 이루어진다.The first substrate 520 and the second substrate 540 may be bonded together by applying a sealant or a lacquer to the non-display area of the first substrate 520 or the second substrate 540, By applying pressure to the first substrate 520 and the second substrate 540 in a state in which the first substrate 520 and the second substrate 540 are aligned with each other.

제4실시예서는 전기영동층이 박막트랜지스터가 형성되는 어레이 기판에 직접 형성된 후, 상기 어레이 기판이 상부기판과 합착되어 전기영동 표시소자가 완성되는데 반해, 제5 실시예에서는 전기영동층이 공통전극이 형성되는 상부기판에 형성된 후, 이 상부기판이 어레이 기판과 합착됨으로서 전기영동 표시소자가 완성된다.In the fourth embodiment, the electrophoretic layer is formed directly on the array substrate on which the thin film transistor is formed, and then the array substrate is bonded to the upper substrate to complete the electrophoretic display device. In the fifth embodiment, And then the upper substrate is bonded to the array substrate, thereby completing the electrophoretic display device.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 전기영동층이 박막트랜지스터가 형성되는 기판이나 공통전극이 형성되는 기판에 직접 도포되어 형성되므로, 별도의 기판에 전기영동층이 형성되던 종래에 비해 전기영동층을 합착하기 위한 접착층이나 접착층을 보호하기 위한 보호필름이 필요없게 되어 제조비용을 절감할 수 있을 뿐만 아니라 기존의 박막트랜지스터 제조라인이나 공통전극 형성라인상에서 전기영동층을 형성할 수 있기 때문에 제조공정을 단순화할 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, since the electrophoretic layer is formed by directly applying the substrate on which the thin film transistor is formed or the common electrode, the electrophoretic layer is formed by attaching the electrophoretic layer to the substrate, A protective film for protecting the adhesive layer or the adhesive layer is not required to reduce the manufacturing cost and the electrophoretic layer can be formed on the existing thin film transistor manufacturing line or the common electrode forming line, .

또한, 본 발명은 전기영동층을 보호하기 위한 보호필름을 원천적으로 사용하지 않기 때문에 보호필름의 제거시 발생하는 정전기로 인한 화질저하 문제를 개선할 수 있게 된다.In addition, since the protective film for protecting the electrophoretic layer is not used originally, the present invention can solve the problem of image quality deterioration due to static electricity generated when the protective film is removed.

한편, 상술한 설명에서는 전기영동 표시소자의 구조에 대하여 특정 구조를 한정하여 설명하고 있지만, 본 발명의 전기영동 표시소자가 이러한 특정 구조에만 한정되는 것은 아니다. 특히, 전기영동층으로서 현재 사용하는 다양한 전기영동층이 적용될 수 있을 것이다. 즉, 제1기판에 형성될 수 있는 모든 구조의 전기영동층에 적용될 수 있을 것이다.In the above description, the structure of the electrophoretic display element is limited to a specific structure. However, the electrophoretic display element of the present invention is not limited to this specific structure. In particular, various electrophoresis layers currently used as the electrophoresis layer may be applied. That is, it may be applied to the electrophoresis layer of any structure that can be formed on the first substrate.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

따라서, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것이 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다. Therefore, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also within the scope of the present invention.

120,140 : 기판 118 : 화소전극
124 : 보호층 142 : 공통전극
160 : 전기영동층 176 : 격벽
178 : 실링층 200 : 룸120, 140: substrate 118: pixel electrode
124: protective layer 142: common electrode
160: electrophoresis layer 176: barrier rib
178: sealing layer 200: room

Claims (29)

표시영역과 비표시영역을 포함하는 제1기판 및 제2기판을 제공하는 단계;
제1기판상에 박막트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 박막트랜지스터가 형성된 제1기판상에 보호층을 형성하여 평탄화하는 단계;
상기 보호층상에 화소전극을 형성하는 단계;
상기 보호층 위에 격벽을 형성하는 단계;
상기 격벽에 의해 정의되는 룸 상부에 주입구가 포함된 실링층을 형성하여 상기 룸을 실링하는 단계;
상기 주입구를 통해 상기 룸에 전기영동물질을 주입하는 단계;
상기 주입구를 밀봉하는 단계;
상기 제2기판 위에 공통전극을 형성하는 단계; 및
상기 제1기판 및 제2기판을 합착하는 단계로 구성된 전기영동 표시소자 제조방법.Providing a first substrate and a second substrate including a display area and a non-display area;
Forming a thin film transistor on the first substrate;
Forming a protective layer on the first substrate on which the thin film transistor is formed and planarizing the protective layer;
Forming a pixel electrode on the protective layer;
Forming a barrier rib on the protective layer;
Sealing the room by forming a sealing layer including an injection port on a room defined by the partition wall;
Injecting an electrophoretic material into the chamber through the injection port;
Sealing the injection port;
Forming a common electrode on the second substrate; And
And bonding the first substrate and the second substrate to each other. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 단계는 상기 화소전극 사이의 보호층 위에 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 전기영동표시소자 제조방법.The method according to claim 1, wherein the forming of the barrier includes forming a barrier on the protective layer between the pixel electrodes. 제1항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 단계는 상기 보호층 및 화소전극과 중첩하는 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 전기영동표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein forming the barrier ribs comprises forming barrier ribs overlapping the protective layer and the pixel electrodes. 제1항에 있어서, 상기 전기영동물질은,
하전된 화이트입자 및 블랙입자; 및
상기 화이트입자 및 블랙입자를 분산시키는 분산제를 포함하는 전기영동표시소자 제조방법.The electrophoretic medium according to claim 1,
Charged white particles and black particles; And
And a dispersing agent for dispersing the white particles and the black particles. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 제2기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계를 더 포함하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, further comprising forming a color filter layer on the second substrate. 제1항에 있어서, 상기 보호층을 형성하는 단계는 유기절연층을 포함하는 적어도 한층을 형성하는 단계를 포함하는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein forming the passivation layer comprises forming at least one layer including an organic insulating layer. 제1항에 있어서, 상기 격벽은 사진식각방법에 의해 형성되는 전기영동 표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein the barrier ribs are formed by a photolithography method. 제 1항에 있어서, 상기 제 1기판 및 제 2기판을 합착하는 단계는 상기 제1기판의 비표시영역에 실런트 또는 합착제를 도포하는 단계를 더 포함하는 전기영동표시소자 제조방법.The method according to claim 1, wherein the step of bonding the first substrate and the second substrate further comprises applying a sealant or a lacquer to the non-display region of the first substrate. 제 1항에 있어서, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판을 합착하는 단계는 상기 표시영역의 가장자리에 형성되는 격벽 및 비표시영역에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 전기영동표시소자 제조방법.The method of claim 1, wherein the step of bonding the first substrate and the second substrate further comprises forming an adhesive layer on the barrier ribs and non-display regions formed at the edges of the display region. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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