KR20120033903A - 무단 벨트 - Google Patents

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KR20120033903A
KR20120033903A KR1020100095654A KR20100095654A KR20120033903A KR 20120033903 A KR20120033903 A KR 20120033903A KR 1020100095654 A KR1020100095654 A KR 1020100095654A KR 20100095654 A KR20100095654 A KR 20100095654A KR 20120033903 A KR20120033903 A KR 20120033903A
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Abstract

본 발명은 무기 층상 화합물을 포함하는 이형성 코팅층을 포함하는 화상 형성 장치용 벨트에 대하여 개시한다.

Description

무단 벨트 {Seamless belt}
본 발명은 화상형성장치의 중간 전사 벨트 또는 정착 벨트 등으로 사용할 수 있는 무단 벨트에 관한 것이다.
복사기, 팩시밀리, 프린터 등의 화상 형성 장치에 사용되는 화상 형성 장치용 벨트에 있어서, 예를 들면 전사부에서 사용되는 중간 전사 벨트, 정착부에서 사용되는 정착 벨트 등의 화상 형성 장치용 벨트에는, 일반적으로 고밀도 구동의 필요성으로부터 폴리이미드 수지로 이루어지는 수지제의 원통체나 금속제의 원통체가 정착벨트로 사용되고 있다.
정착벨트는 정착온도에 대한 내열성이나 토너에 대한 이형성이 요구된다. 이 대문에 정착벨트는 외면(토너와 접촉하는 면)이 불소 수지 등의 내열성 이형 피막에 덮여 있다. 정착벨트는 또한 30-40장/분의 속도로 10만장 정도의 복사에 견딜 수 있는 내구성도 요구된다. 이 때문에 정착벨트는 기재층과 이형층의 강고한 접착성이 요구된다.
이와 같은 정착벨트는 일반적으로 극성 중합 용매 중에서 테트라카르본산 이무수물류와 디아민류를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 전구체 용액으로부터 원통체를 성형하여 건조시키고, 나아가 그 원통체에 프라이머를 도포하여 건조시킨 후에, 나아가 그 프라이머층 상에 불소 수지 분산액을 도포하여 건조하고, 마지막으로 고온 하에서 폴리이미드 전구체를 이미드화하는 것과 함께 불소수지를 소성하는 방법이나, 금속 재료를 원통체로 가공하고 그 원통체에 프라이머를 도포하여 건조한 후에 그 프라이머층 상에 불소 수지 분산액을 도포하여 건조, 소성하는 방법 등에 의하여 얻을 수 있다. 폴리이미드 전구체 용액으로부터 원통체를 제조하는 방법으로서는, 예를 들어 성형 금형의 외면이나 내면에 소정의 두께로 폴리이미드 전구체 용액을 성형한 후, 가열 혹은 화학적으로 이미드화시켜 금형으로부터 분리하여 폴리이미드 원통체를 얻는 방법이 제안되어 있다.
그런데 이형성 수지층의 주요 재료인 불소 수지의 경우는 변형온도가 280℃ 정도이므로, 이러한 이형성 수지층을 포함하는 전사벨트나 정착벨트의 경우 지속사용온도가 280℃를 넘지 못하는 한계가 있을 수 있다.
본 발명의 한 구현예에서는 내열특성이 향상된 이형층을 포함하는 무단벨트를 제공하고자 한다.
본 발명의 한 구현예에서는 다음 화학식 1로 표시되는 무기 층상 화합물을 포함하는 이형성 코팅층을 포함하는 무단(無斷) 벨트를 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 식에서, n은 정수이고, R1, R2, R3는 각각 수소 원자 또는 C1~C18인 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기, 아릴기, 알킬 실릴기, 알콕시기이며, 단, R1, R2, R3 중에서 적어도 하나는 수소 원자이다.
상기 구현예에 의한 무기 층상 화합물은 폴리실라잔, 실리카, 폴리실록산 및 이들의 유도체로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.
상기 구현예에 의한 무기 층상 화합물은 분자량이 200 내지 50,000인 것일 수 있다
상기 구현예에 의한 이형성 코팅층은 용제로서 아세톤(Acetone), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran), 다이옥산(Dioxane), 메틸렌클로라이드(Methylene chloride), 클로로포름(Chloroform), 시클로헥산(Cyclohexane), 시클로헥사논(Cyclohexanone), 메틸에틸케톤(Methylethylketone), 노르말헥산(n-Hexane), 디에틸에테르(Diethylether), 디부틸에테르(Dibutylether), 에틸아세테이트(Ethylacetate), 디클로로메탄(Dichloromethane), 디클로로에탄(Dichloroethane), 펜탄(Pentane), 에테르(Ether), 헥산(Hexane), 헵탄(Heptane), 옥탄(Octane), 이소데칸(Isodecane)을 포함하는 용액으로 형성된 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 이형성 코팅층은 두께가 0.05 내지 25㎛인 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 무단 벨트는 이형성 코팅층이 최표면에 형성된 것일 수있다.
본 발명의 무단 벨트는 화상형성장치의 중간 전사 벨트로서의 용도를 가질 수 있다.
본 발명의 무단 벨트는 또한 화상형성장치의 정착 벨트로서의 용도를 가질 수 있다.
이와 같은 본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 일 구현예에 의한 화상형성 장치용 벨트는 다음 화학식 1로 표시되는 무기 층상 화합물을 포함하는 이형성 코팅층을 포함한다.
[화학식 1]
Figure pat00002
상기 식에서, n은 정수이고, R1, R2, R3는 각각 수소 원자 또는 C1~C18인 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기, 아릴기, 알킬 실릴기, 알콕시기이며, 단, R1, R2, R3 중에서 적어도 하나는 수소 원자이다.
화학식 1로 표시되는 무기 층상 화합물을 포함하는 무기 층상 화합물 용액의 경화는 상기 무기 층상 화합물 용액이 도포된 무단벨트를 대기 중에 방치함으로서 진행되는 것으로, 무기 층상 화합물이 대기 중의 수분을 흡수하여 무기물 피막으로 경화되는 것이다. 상기 경화 속도를 증가시키기 위해 가열할 수도 있다. 이러한 무기 층상 화합물은 막 형성시에는 기재에 대한 접착력을 발현함과 동시에 표면이 이형성을 가져 무단 벨트의 최외표면에 위치되는 경우 토너에 대한 이형성을 발현할 수 있다. 여기서 기재는 금속재 또는 폴리카보네이트 또는 폴리이미드계 수지일 수 있으며 각각의 기재에 대하여 접착력은 대등한 정도로 나타난다.
또한, 상기 무기 층상 화합물의 경화시 형성되는 막으로 인하여 무단벨트의 지속 사용온도가 350℃ 이상이 되어 내열성 및 이형성이 향상된다.
이러한 무단벨트의 내열성 및 이형성 향상을 고려하여, 상기 화학식 1로 표시되는 무기층상 화합물의 분자량은 200 내지 50,000일 수 있다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 무기 층상 화합물의 분자량이 200 미만이면 상기 무단벨트 표면의 코팅 균일성이 저하되며, 무단벨트의 표면에 코팅되는 무기 층상 화합물의 분자량이 50,000을 초과하면 상기 폴리실라잔이 용제에 제대로 용해되지 않는다. 본 발명에서는 분자량이 적어도 200 이상으로써 무단벨트 표면의 코팅이 균일한 상태를 유지할 수 있는 것이 좋다.
본 발명에서 제시하는 무기 층상 화합물 중, 예를 들어, 폴리실라잔 및 그 유도체는 종래에 공지된 방법에 의해서 제조된 어떠한 것이라도 양호하다. 이러한 폴리실라잔 및 그 유도체를 제조하는 방법으로서는, 종래에 공지된 방법을 포함하여 임의의 방법을 채용할 수 있다. 이러한 방법의 하나로서, 예를 들면, 화학식 SiH2X2(여기서 X는 할로겐 원자)의 디할로실란과 염기를 반응시켜 디할로실란의 부가물을 형성시킨 후, 당해 디할로실란의 부가물과 암모니아를 반응시킴으로써 합성하는 방법을 들 수 있다. 일반적으로 할로실란은 산성이며 염기와 반응하여 부가물을 형성할 수 있다. 상기 부가물의 형성 속도 및 부가물로서의 안정성은 할로실란의 산성의 강도와 염기성 물질의 염기성의 강도나 입체 인자 등에 의존하기 때문에, 할로실란의 종류와 염기의 종류를 적합하게 선택함으로써 안정적이면서 암모니아와의 반응에 의해 용이하게 폴리실라잔 및 그 유도체를 제조할 수 있는 부가물을 형성할 수 있다. 이 경우의 부가물의 안정성은 반드시 부가물로써 단리시킬 수 있을 정도의 안정성을 의미하는 것은 아미녀, 용매 중에서 안정적으로 존재하는 경우 뿐만 아니라 실질적으로 반응 중간체로서 가능한 모든 경우를 포함한다.
할로실란으로서는 이의 취급성이나 반응성의 관점에서 화학식 SiH2X2(여기서 X는 할로겐 원자)의 디할로실란을 선택하는 것이 바람직하고, 반응성 및 원료 가격 등의 관점에서 특히 디클로로실란을 사용하는 것이 바람직하다.
부가물을 형성하기 위해서 사용되는 염기는 할로실란과 부가물을 형성하는 반응 이외의 반응을 일으키지 않는 염기이면 양호하며, 예를 들면 3급 아민류(트리알킬아민), 피리딘 및 이들의 유도체, 입체 장해성 그룹을 갖는 2급 아민류, 포스핀, 아르신 및 이들의 유도체 등을 바람직한 것으로 들 수 있으며, 특히 피리딘이 취급성 및 경제성의 관점에서 바람직하다. 사용하는 염기의 양은 특별히 엄밀할 필요는 없으며 부가물 중의 아민을 포함하여 실란에 대하여 화학량론적 양, 즉 아민:실란=2:1보다 과량으로 존재하면 충분하다. 또한 부가물 생성 반응은 용매 중에서 이루어진다.
따라서, 이형성 코팅층은 무기 층상 화합물 중에서 선택되는 1종의 성분만으로 구성되는 것일 수 있고, 2종 이상의 혼합된 것일 수 있다. 2종 이상의 무기 층상 화합물은 화학구조 및 성분에 있어서 약간의 차이가 있으나 이형성, 방오성 및 내열성에 있어서 유사한 수준이다.
통상 이형성 코팅층을 이루는 다른 성분 등을 더 포함할 수 있다.
이 경우 이형성 코팅층 중 상기 화학식 1로 표시되는 성분의 함량은 이형성 코팅층 중량에 대하여 적어도 50중량% 내지 100중량%, 좋기로는 70 내지 95중량%는 되어야 이형성과 방오성, 내열성 그리고 표면특성을 만족하는 측면에서 바람직할 수 있다.
이형성 코팅층을 이루는 다른 성분들의 일예로는 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 공지의 첨가제로 예를 들어 충전재, 염료, 안료, 안료분산제, 고체 윤활제, 침강방지제, 레벨링제, 표면조절제, 수분 흡수제, 겔화 방지제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 가소제, 색 분리 방지제, 피막 방지제, 계면활성제, 소포제, 항균제, 곰팡이방지제, 방부제, 증점제, 열전도성 부여제 등을 들 수 있다.
이형성 코팅층은 용해성 측면에서 용제로서 아세톤(Acetone), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran), 다이옥산(Dioxane), 메틸렌클로라이드(Methylene chloride), 클로로포름(Chloroform), 시클로헥산(Cyclohexane), 시클로헥사논(Cyclohexanone), 메틸에틸케톤(Methylethylketone), 노르말헥산(n-Hexane), 디에틸에테르(Diethylether), 디부틸에테르(Dibutylether), 에틸아세테이트(Ethylacetate), 디클로로메탄(Dichloromethane), 디클로로에탄(Dichloroethane), 펜탄(Pentane), 에테르(Ether), 헥산(Hexane), 헵탄(Heptane), 옥탄(Octane), 이소데칸(Isodecane) 등으로부터 구성된 것이 바람직하며, 이들의 혼합물도 가능하다.
이와 같은 용제를 이용한 이형성 코팅액으로 정착벨트나 전사벨트와 같은 화상 형성 장치용 무단 벨트로 제조하는 경우, 수지 또는 금속을 기재로서 이용할 수 있다.
수지로는 예를 들어, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리페닐렌설파이드 수지, 폴리에테르술폰 수지 등의 내열성 수지일 수 있으며, 중간 전사 벨트 및 정착 벨트의 기재로써 사용될 수 있다. 또한 폴리 카보네이트, 실리콘 수지, 고무수지 등일 수 있으며, 중간 전사 벨트의 기재로써 사용될 수 있다. 금속으로서는 예를 들어 은, 알루미늄, 니켈, 철, 스테인레스 강 등을 들 수 있다. 또한 수지 및 금속의 적어도 일면을 2종 이상 적층한 것을 기재로 사용하여도 무방하다.
수지에는 예를 들어 전기 전도성 충전재, 기계적 물성 강화 충전재, 안료, 안료분산제, 고체 윤활제, 침강 방지제, 레벨링제, 표면조절제, 수분흡수제, 겔화 방지제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 가소제, 색 분리 방지제, 피막 방지제, 계면활성제, 대전방지제, 소포제, 항균제, 곰팡이 방지제, 방부제, 증점제, 열전도성 부여제 등을 포함할 수 있다.
기재의 형상은 특별히 제한되지 않으나, 기재는 원통상, 시트상 또는 그 외의 형상이어도 무방하다. 다만, 팩시밀리, 복사기, 레이저 빔 프린터 등의 전사 사진 화상 형성 장치의 토너 정착 벨트를 제조하는 경우 기재는 원통체인 것이 바람직하다.
이와 같은 기재에 이형성 코팅액을 도포하는 방법으로서는, 솔칠법, 스핀코팅법, 스프레이법, 디스펜서법, 침지법, 압출법 등 공지의 방법을 이용할 수 있으며, 중간 전사 벨트 및 정착 벨트 용도에는 스프레이법이 가장 바람직하다.
코팅 후 소성 공정을 거치는데 60℃ 내지 200℃일 수 있다. 소성 공정은 이형력이 반영구적일 수 있도록 하는 공정으로 반드시 요구되는 것은 아니다.
코팅 또는 코팅 및 소성 후 이형성 코팅층은 두께가 0.05㎛ 내지 25㎛정도인 것이 충분한 이형성 발현을 위한 측면에서 바람직할 수 있다. 이형성 코팅층의 두께는 정착벨트의 경우에는 특별히 한정할 이유가 없지만 박막으로 형성하여도 충분한 이형성과 방오성을 나타내기 때문에 25.0㎛ 이하인 것이 바람직하고, 중간 전사 벨트의 경우 이형성 코팅층의 두께가 두꺼울 경우 중간 전사 벨트에서 요구하는 표면 저항 특성을 왜곡할 수 있으므로 두께가 0.05㎛ 내지 3.0㎛ 정도인 것이 바람직 하다.
이형성 코팅층은 토너와의 이형성을 고려하는 것이니만큼 벨트의 최표면에 위치되는 것이 바람직할 수 있다.
본 발명에 의하면 지속사용온도가 적어도 350℃인 내열성을 가지면서, 방오성을 갖고 또한 기재에 대한 접착력이 우수한 이형성 코팅층을 갖는 무단 벨트를 제공할 수 있으며, 얻어지는 무단 벨트는 내열성을 갖는 중간 전사 벨트 또는 정착벨트로 유용할 수 있다.
이하 본 발명을 실시예에 의거 상세히 설명하면 다음과 같은바, 본 발명이 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
가스 도입 튜브, 기계적 교반기 및 듀어 콘덴서를 300ml 4구 플라스크에 장착한 후, 플라스크 내부를 건조된 질소 분위기로 만들었다. 상기 플라스크에 탈기체화한 피리딘 150ml를 넣고, 얼음 수조에서 냉각시킨 후, 디클로로실란 16g을 50분간에 걸쳐 서서히 가하여 백색의 고형 부가물 (SiH2Cl2?Py)을 형성하였다. 반응 혼합물을 얼음 수조에서 격렬히 교반한 다음, 소다라임 튜브 및 활성탄 튜브를 통과시키고, 미리 정제한 질소 가스와 암모니아 10.9g과의 혼합물로 1시간 동안 버블링하였다. 반응 종료 후, 고체 생성물을 원심 분리한 후, 반응액을 여과하고 여액을 진공 건조하고 용매를 제거하여, 유리형 고체 폴리실라잔 5.52g을 수득하였다. 증기압 하강법에 의해 측정된 상기 폴리실라잔의 분자량은 1,500이었다.
상기 폴리실라잔을 디부틸에테르에 5중량% 용해하여 이형층 형성용 조액을 제조하였다.
제조된 조액을 BPDA(3,3',4,4'-biphenyl-tetracarboxylic dianhydride)-ODA(4,4'-diaminodiphenyl ether)-PPDA(paraphenylene diamine)기반의 폴리이미드 원통체(내경 185mm, 두께 65), 스테인레스 원통체(내경 24mm, 두께 0.1mm) 각각의 외표면에 스프레이 코팅법을 통해 코팅한 후 120℃에서 20분간 소성 후 평균 두께가 0.2㎛가 되도록 도포하여 최종 원통 적층체를 얻었다.
(1) 이형성 코팅층의 평가
제조된 무단벨트 위에 컬러레이저 프린터에 사용되는 토너(삼성전자 CLP-300용 Black)를 얇게 뿌린 후, 뿌려진 토너를 접착테이프(3M사, 스카치 매직테이프)를 이용하여 제거하였다. 이 때, 무단벨트 상에 남는 토너 유무를 확인하였다.
(2) 인쇄기기용 무단벨트로서의 평가(화상의 질 평가)
컬러레이저 프린터(삼성전자 CLP-300)의 중간전사벨트 또는 정착벨트로써 무단벨트를 제조한 후 기존의 장착된 벨트와 교체하여 교체 전후의 인쇄 화상의 질을 육안으로 비교하였다.
(3) 지속 사용 온도의 평가
정착벨트는 250℃ 이상의 지속 사용 온도를 요구하는 바, 상기 (2) 인쇄기기용 무단벨트로서의 평가에 있어서 정착벨트에 제조된 무단벨트를 적용한 후 1000매의 인쇄 후 초기 인쇄물과 최종 인쇄물의 인쇄 화상을 육안으로 비교하였다. 육안 관찰 결과가 양호한 무단벨트에 한해 소성로를 이용하여 350℃ 및 450℃에서 1시간 동안 열처리 한 후 인쇄물을 평가하여 최종적으로 지속 사용 온도를 평가하였다.
상기와 같은 평가 결과를 다음 표 1에 나타내었다.
실시예 2
상기 실시예1과 동일한 방법으로 합성한 폴리실라잔을 시클로헥산에 1중량% 용해하여 이형층 형성용 조액을 제조하였다.
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 각각의 원통체에 상기의 이형층 형성용 조액을 이용하여 도포하고 소성하여 이형성 코팅층을 갖는 원통형 적층체를 제조하였다.
이에 대해 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 평가하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.
실시예 3
폴리실라잔 도공액(고형분 함량 0.5중량%, 분자량 2000, AZEM사, 일본)을 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 각각의 원통체에 도포하고 소성하여 이형성 코팅층을 갖는 원통형 적층체를 제조하였다.
이에 대해 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 평가하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.
실시예 4 ~ 5
상기 실시예 2에 있어서, 이형층 형성용 조액의 고형분이 10중량%으로 하고 이형성 코팅층의 두께를 다르게 한 것을 제외하고 동일한 방법으로 원통형 적층체를 제조하였다.
이에 대해 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 평가하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.
실시예 6 ~ 9
상기 실시예 2에 있어서, 이형층 형성용 조액의 고형분이 10중량%으로 하고, 얻어진 조액을 폴리이미드 원통체(내경 24mm, 두께 65㎛), 스테인레스 원통체(내경 24mm, 두께 0.1mm) 각각의 외표면에 스프레이 코팅법을 통해 코팅한 후 120℃에서 20분간 소성 후의 두께가 5 내지 20㎛가 되도록 도포하여 최종 원통 적층체를 얻었다.
이에 대해 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 평가하여 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.
기재 용도 이형성 코팅층의 두께
(㎛)		 토너
이형성		 화상특성 지속사용온도
(℃)
실시예 1 폴리이미드 중간전사벨트 0.2 양호 양호 평가안함
스테인레스 정착벨트 0.2 양호 양호 350 이상
실시예 2 폴리이미드 중간전사벨트 0.2 양호 양호 평가안함
스테인레스 정착벨트 0.2 양호 양호 350 이상
실시예 3 폴리이미드 중간전사벨트 0.2 양호 양호 평가안함
스테인레스 정착벨트 0.2 양호 양호 350 이상
실시예 4 폴리이미드 중간전사벨트 1.0 양호 양호 평가안함
스테인레스 정착벨트 1.0 양호 양호 450 이상
실시예 5 폴리이미드 중간전사벨트 3.0 양호 양호 평가안함
스테인레스 정착벨트 3.0 양호 양호 450 이상
실시예 6 폴리이미드 중간전사벨트 5.0 양호 양호 평가안함
스테인레스 정착벨트 5.0 양호 양호 450 이상
실시예 7 폴리이미드 정착벨트 10.0 양호 양호 450 이상
스테인레스 정착벨트 10.0 양호 양호 450 이상
실시예 8 폴리이미드 정착벨트 15.0 양호 양호 450 이상
스테인레스 정착벨트 15.0 양호 양호 450 이상
실시예 9 폴리이미드 정착벨트 20.0 양호 양호 450 이상
스테인레스 정착벨트 20.0 양호 양호 450 이상
상기 표 1의 "지속사용온도" 항목에 있어서, "평가안함" 은 실시예 1 내지 실시예 6으로부터 얻어지는 폴리이미드 기재의 무단벨트는 중간전사벨트의 용도로서 고려되는 것으로, 통상 중간전사벨트의 경우 상온에서 사용되는 것이므로 평가가 무의미하여 평가하지 않은 것으로 이해될 것이다.
상기 표 1의 결과로부터, 본 발명의 일 구현예에 의한 무기 층상 화합물을 포함하는 이형성 코팅층을 포함하는 중간 전사 벨트 또는 정착 벨트는 다양한 기재에 대한 접착력이 우수하면서 토너에 대한 이형성이 우수하여 화상 특성 또한 우수하고, 지속사용온도가 높아져 실질적으로 내구성을 향상시킬 수 있음을 알 수 있다.

Claims (8)

  1. 다음 화학시 1로 표시되는 무기 층상 화합물을 포함하는 이형성 코팅층을 포함하는 무단 벨트.
    [화학식 1]
    Figure pat00003

    상기 식에서, n은 정수이고, R1, R2, R3는 각각 수소 원자 또는 C1~C18인 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기, 아릴기, 알킬 실릴기, 알콕시기이며, 단, R1, R2, R3 중에서 적어도 하나는 수소 원자이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 무기 층상 화합물은 폴리실라잔, 실리카, 폴리실록산 및 이들의 유도체로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상인 무단 벨트.
  3. 제1항에 있어서, 상기 무기 층상 화합물은 분자량이 200 내지 50,000인 무단 벨트.
  4. 제1항에 있어서, 상기 무기 층상 화합물은 이형성 코팅층 중량에 대하여 50 내지 100중량%로 포함되는 무단 벨트.
  5. 제1항에 있어서, 이형성 코팅층은 용제로서 아세톤(Acetone), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran), 다이옥산(Dioxane), 메틸렌클로라이드(Methylene chloride), 클로로포름(Chloroform), 시클로헥산(Cyclohexane), 시클로헥사논(Cyclohexanone), 메틸에틸케톤(Methylethylketone), 노르말헥산(n-Hexane), 디에틸에테르(Diethylether), 디부틸에테르(Dibutylether), 에틸아세테이트(Ethylacetate), 디클로로메탄(Dichloromethane), 디클로로에탄(Dichloroethane), 펜탄(Pentane), 에테르(Ether), 헥산(Hexane), 헵탄(Heptane), 옥탄(Octane), 이소데칸(Isodecane)을 포함하는 용액으로부터 형성된 것인 무단 벨트.
  6. 제1항에 있어서, 이형성 코팅층은 두께가 0.05 내지 25 μm인 무단 벨트.
  7. 제1항에 있어서, 이형성 코팅층이 최표면에 형성되는 것인 무단 벨트.
  8. 제1항에 있어서, 화상형성장치의 중간 전사 벨트 또는 정착 벨트인 것인 무단 벨트.
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