KR20120007498A - Polyester composition for forming heat-cured film - Google Patents

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Abstract

경화막 형성 후에는 높은 용제 내성, 액정 배향성, 내열성 고투명성 및 고평탄화성을 나타내며, 또한 경화막 형성시에는 칼라필터의 평탄화막 등의 제조 라인에서 적용가능한 여러 가지 용제에 용해되는 재료를 제공하는 것에 있다.
(A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 하기 식(1)로 나타나는 적어도 한 종의 디에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타낸다. 식(2) 중) 중 알킬렌기를 나타낸다.)
After the cured film is formed, it exhibits high solvent resistance, liquid crystal alignment, heat resistance, high transparency, and high flattening property, and at the time of forming the cured film, it provides a material that is dissolved in various solvents applicable to manufacturing lines such as flattening films of color filters. Is in.
The polyester composition for thermosetting film formation containing the polyester which is (A) component, the crosslinking agent which is (B) component, and at least 1 sort (s) of diester compound represented by following formula (1) which is (C) component. P represents an alicyclic group, an alicyclic group or an aliphatic group or a structure represented by formula (2), and Q represents an alicyclic group or an alicyclic group or an aliphatic group.

Description

열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물{Polyester Composition for Forming Heat-cured Film}Polyester composition for forming heat-cured film

본 발명은 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물 및 이로부터 얻어지는 경화막에 관한 것이다. 보다 상세하게는 높은 투명성, 평탄화성을 가지며, 액정 배향능, 높은 용제내성 및 내열성을 가지는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물, 이 경화막, 이 경화막의 적용에 관한 것이다. 이 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 특히 액정 디스플레이에서의 액정 배향 기능을 겸비한 칼라필터 오버코트제에 호적하다.The present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film and a cured film obtained therefrom. More specifically, it is related with the application of the polyester composition for thermosetting film formation which has high transparency and planarization property, and has liquid crystal aligning ability, high solvent resistance, and heat resistance, this cured film, and this cured film. This polyester composition for thermosetting film formation is especially suitable for the color filter overcoat agent which has the liquid crystal aligning function in a liquid crystal display.

일반적으로 액정 표시 소자, 유기 EL(electroluminescent) 소자, 고체 촬상 소자 등의 광 디바이스에서는 소자 표면이 제조 공정 중에 용제나 열에 노출되는 것을 방지하기 위해 보호막을 설치한다. 이 보호막은 보호하는 기판과의 밀착성이 높고 용제 내성이 높을 뿐만 아니라 투명성, 내열성 등의 성능도 요구된다.
Generally, in optical devices, such as a liquid crystal display element, an organic electroluminescent (EL) element, and a solid-state image sensor, a protective film is provided in order to prevent the element surface from being exposed to a solvent or heat during a manufacturing process. This protective film has high adhesion to the substrate to be protected, high solvent resistance, and also requires performance such as transparency and heat resistance.

이와 같은 보호막은 칼라 액정 표시 장치나 고체 촬상 소자에 사용되는 칼라필터의 보호막으로 사용하는 경우에는 일반적으로 그 하지기판의 칼라필터 또는 블랙 매트릭스 수지를 평탄화하는 성능, 즉 평탄화막으로써의 성능을 가질 것이 요구된다. 특히, STN방식이나 TFT방식의 칼라 액정 표시 소자를 제조할 때에는 칼라필터 기판과 대향 기판과의 접합 정밀도를 매우 엄밀하게 해야 하며 기판간의 셀갭을 균일하게 해야 한다. 또한, 칼라필터를 투과하는 빛의 투과율을 유지하기 위해 이 보호막인 이들 평탄화막에는 높은 투명성이 필요하다.
When such a protective film is used as a protective film for a color filter used in a color liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, the protective film generally has the capability of flattening the color filter or the black matrix resin of the base substrate, that is, the performance as a flattening film. Required. In particular, when manufacturing a color liquid crystal display device of the STN method or the TFT method, the bonding accuracy between the color filter substrate and the counter substrate must be very precise and the cell gap between the substrates must be uniform. Moreover, in order to maintain the transmittance | permeability of the light which permeate | transmits a color filter, these planarization films which are this protective films require high transparency.

한편, 최근에 액정 디스플레이의 셀내에 위상차 재료를 도입함으로써 저비용화, 경량화가 검토되었으며 이와 같은 위상차 재료에는 액정 모노머를 도포하고 배향시킨 후, 광경화시킨 재료가 일반적으로 사용된다. 이 위상차 재료를 배향시키기 위해서는 하층막이 러빙 처리후 배향성을 가지는 재료일 필요가 있다. 이 때문에 칼라필터의 오버코트 상에 액정 배향층을 성막한 후 위상차 재료가 형성된다(도2(a) 참조). 이 액정 배향층과 칼라필터의 오버코트를 겸비한 층(도2(b) 참조)을 형성할 수 있다면 저비용화, 프로세서수의 삭감 등 큰 장점을 얻을 수 있기 때문에 이와 같은 재료가 강하게 요구되고 있다.
On the other hand, in recent years, cost reduction and weight reduction have been examined by introducing a phase difference material into a cell of a liquid crystal display, and a material obtained by applying and orienting a liquid crystal monomer and orienting such a phase difference material is generally used. In order to orient this retardation material, the underlayer film needs to be a material having orientation after rubbing treatment. For this reason, a phase difference material is formed after forming a liquid crystal aligning layer on the overcoat of a color filter (refer FIG. 2 (a)). If it is possible to form a layer (see Fig. 2 (b)) that combines the liquid crystal alignment layer and the overcoat of the color filter, such a material is strongly demanded because it can bring about great advantages such as low cost and reduced number of processors.

일반적으로 이 칼라필터의 오버코트에는 투명성이 높은 아크릴수지가 사용된다. 이들 아크릴수지에는 프로필렌글리콜 모노메틸에테르나 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜계의 용매나 유산 에틸, 유산 부틸 등의 에스테르계 용매가 안전성, 핸들링성의 관점에서 널리 사용되고 있다. 이와 같은 아크릴수지는 열경화나 광경화시킴으로써 내열성이나 내용제성을 부여하고 있다(특허문헌 1, 2). 하지만 종래의 열경화성이나 광경화성 아크릴수지에서는 적당한 투명성이나 평탄화성을 나타내지만 이와 같은 평탄화막을 러빙 처리하면 충분한 배향성은 나타내지 않았다.
Generally, high transparency acrylic resin is used for the overcoat of this color filter. For these acrylic resins, glycol solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate, and ester solvents such as ethyl lactate and butyl lactate are widely used in view of safety and handling properties. Such acrylic resins have given heat resistance and solvent resistance by thermosetting or photocuring (Patent Documents 1 and 2). However, in conventional thermosetting or photocurable acrylic resins, proper transparency and flatness are exhibited, but rubbing treatment of such a planarization film does not show sufficient orientation.

한편, 액정 배향층에는 용제 가용성 폴리이미드나 폴리아믹산으로 이루어진 재료가 통상적으로 사용되고 있다. 이들 재료는 포스트베이크시에 완전히 이미드화시킴으로써 내용제성을 부여하고, 러빙 처리에 의해 충분한 배향성을 나타내는 것이 보고되었다(특허문헌 3). 하지만 칼라필터의 평탄화막으로 본 경우, 평탄화성과 투명성이 크게 저하되는 등의 문제가 있었다. 또한, 폴리이미드나 폴리아믹산은 N-메틸피롤리돈이나 γ-부티로락톤 등의 용제에 녹지만 글리콜계의 용제나 에스테르계의 용제에 대한 용해성이 낮고, 평탄화막 제작라인에 적용하기가 어려웠다.On the other hand, the material which consists of solvent-soluble polyimide and a polyamic acid is used normally for a liquid crystal aligning layer. It has been reported that these materials impart solvent resistance by completely imidating during post-baking and exhibit sufficient orientation by rubbing treatment (Patent Document 3). However, in the case of the flattening film of the color filter, there is a problem that the flatness and transparency are greatly reduced. In addition, polyimide and polyamic acid are soluble in solvents such as N-methylpyrrolidone and γ-butyrolactone, but have low solubility in glycol-based solvents and ester-based solvents and are difficult to apply to flattening film production lines. .

일본공개특허2000-103937호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-103937 일본공개특허2000-119472호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-119472 일본공개특허2005-037920호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-037920

본 발명은 상기 사정에 기초하여 이루어진 것으로 해결하려는 과제는 경화막형성 후에는 높은 용제내성, 액정배향성, 내열성, 고투명성 및 고평탄화성을 나타내며, 또한 경화막 형성시에는 칼라필터의 평탄화막의 제작라인에서 적용가능한 글리콜계 용제에 용해되는 재료를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made on the basis of the above circumstances, and the problem to be solved is high solvent resistance, liquid crystal alignment, heat resistance, high transparency, and high flattening property after the cured film is formed, and at the time of forming the cured film, the production line of the flattening film of the color filter It is to provide a material that is dissolved in a glycol-based solvent applicable to the.

본 발명자는 상기한 과제를 해결하기 위해 예의연구한 결과 본 발명을 발견하였다.
MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor discovered this invention as a result of earnestly researching in order to solve the said subject.

즉, 제 1 관점으로 (A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 하기 식(1)로 나타나는 적어도 한 종의 디에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
That is, the polyester for thermosetting film formation containing the polyester which is (A) component, the crosslinking agent which is (B) component, and at least 1 sort (s) of diester compound represented by following formula (1) which is (C) component from a 1st viewpoint. It relates to a composition.

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 포함하는 기를 나타낸다. 식(2) 중, R은 알킬렌기를 나타낸다.)
(In formula, P represents a structure which consists of an alicyclic group, an alicyclic group, and an aliphatic group, or a structure represented by Formula (2), and Q shows the group containing the group which consists of an alicyclic group or an alicyclic group and an aliphatic group. In formula (2), R represents an alkylene group.)

제 2 관점으로, 제 1 관점에 있어서, (C)성분이 하기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물 1몰과 하기 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물의 1.7 내지 2몰을 반응시킨 디에스테르 화합물인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 2nd viewpoint, in the 1st viewpoint, the diester compound which (1) mol of the diol compound represented by following formula (iii) and 1.7-2 mol of dicarboxylic anhydride represented by following formula (iv) reacted. It relates to a polyester composition for phosphorus thermosetting film formation.

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, P 및 Q는 각각 각 기중에 포함되는 임의의 수소원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다. 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)
(Wherein P represents an alicyclic group, a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by formula (2), Q represents a group consisting of an alicyclic group or an alicyclic group and an aliphatic group, and P and Q are each included in each group) Any hydrogen atom to be substituted may be substituted with an aliphatic group, in which R represents an alkylene group.)

제 3 관점으로, 제 2 관점에 있어서, P가 하기 식(1P1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 3rd viewpoint, in 2nd viewpoint, it is related with the polyester composition for thermosetting film formation in which P represents group represented by a following formula (1P1).

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중, P1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, P1기 중의 임의의 수소원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다. R11은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, R12, R13는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, h는 0 또는 1을 나타낸다.)
In the formula, P 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, and any hydrogen atom in the P 1 group may be independently substituted with an aliphatic group. R 11 is a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, or 1 to 1 carbon atoms. A saturated hydrocarbon group of 8 or a saturated hydrocarbon group of 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom, R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, and h represents 0 or 1 Indicates.)

제 4 관점으로, 제 2 관점 또는 제 3 관점에 있어서, Q가 하기 식(1Q1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
As a 4th viewpoint, in a 2nd viewpoint or a 3rd viewpoint, it is related with the polyester composition for thermosetting film formation in which Q represents group represented by following formula (1Q1).

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 중, Q1은 탄소원자수 4 내지 8의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타내고, Q1기 중의 임의의 수소원자는 지방족기 또는 페닐기로 치환되어 있어도 된다. X는 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.)
(In the formula, Q 1 represents a carbon atom number of 4 to 8, a cycloalkylene group or a cycloalkyl alkenylene, any hydrogen atom in the group Q 1 may be substituted with an aliphatic group or a phenyl group. X represents a single bond or a carbon atom number 1 To alkylene groups of 3).

제 5 관점으로, 제 1 관점에 있어서, (C)성분이 하기 식(1-a)로 나타나는 적어도 한 종의 다가에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 5th viewpoint, in a 1st viewpoint, (C) component relates to the polyester composition for thermosetting film formation containing at least 1 sort (s) of polyhydric ester compound represented by a following formula (1-a).

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 중, Pa는 산소원자 혹은 질소원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타낸다. 식(2-a) 중 Ra는 알킬렌기를 나타낸다.)
(In formula, Pa represents the alicyclic group or aliphatic alkyl group which may be interrupted by the oxygen atom or the nitrogen atom, or the structure represented by Formula (2-a), Qa represents an alicyclic group, t represents the integer of 1-5. Ra in formula (2-a) represents an alkylene group.)

제 6 관점으로, 제 1 관점 내지 제 5 관점 중 어느 한 관점에 있어서, (A)성분이 하기 식(3)으로 나타나는 구조단위를 포함하는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
As a 6th viewpoint, in any one of a 1st viewpoint thru | or a 5th viewpoint, (A) component relates to the polyester composition for thermosetting film formation which is polyester containing the structural unit represented by following formula (3). .

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
(In formula, A represents the tetravalent organic group which the 4 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group, B shows the bivalent organic group which the 2 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group.)

제 7 관점으로, 제 1 관점 내지 제 6 관점 중 어느 한 관점에 있어서, (A)성분이 하기 식(i)로 나타나는 테트라카르본산 이무수물과 식(ii)로 나타나는 디올 화합물을 반응시켜서 얻은 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a seventh aspect, in any one of the first to sixth aspects, the polya (A) component is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) with a diol compound represented by the formula (ii): It is related with the polyester composition for thermosetting film formation which is ester.

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
(In formula, A represents the tetravalent organic group which the 4 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group, B shows the bivalent organic group which the 2 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group.)

제 8 관점으로, 제 6 관점 또는 제 7 관점에 있어서, 상기 식(3) 중 A는 하기 식(A-1) 내지 식(A-8)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내고, B는 하기 식(B-1) 내지 식(B-5)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In the eighth aspect, in the sixth or seventh aspect, A in the formula (3) represents at least one group selected from the group represented by the following formulas (A-1) to (A-8), B is related with the polyester composition for thermosetting film formation which shows at least 1 sort (s) of group chosen from group represented by following formula (B-1)-formula (B-5).

Figure pct00008
Figure pct00008

Figure pct00009
Figure pct00009

제 9 관점으로, 제 1 관점 내지 제 8 관점 중 어느 한 관점에 있어서 (A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량이 폴리스틸렌 환산으로 1,000 내지 30,000인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
As a ninth viewpoint, the weight average molecular weight of the polyester which is (A) component in any one of a 1st viewpoint thru | or 8 viewpoint is related with the polyester composition for thermosetting film formation whose polystyrene conversion is 1,000-30,000.

제 10 관점으로, 제 1 관점 내지 제 9 관점 중 어느 한 관점에 있어서, 추가로 (D)성분으로 산화 방지제인 페놀 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 10th viewpoint, in any one of a 1st viewpoint thru | or a ninth viewpoint, it further relates to the polyester composition for thermosetting film formation containing the phenol compound which is antioxidant as (D) component.

제 11 관점으로, 제 1 관점 내지 제 10 관점 중 어느 한 관점에 있어서, 추가로 (E)성분으로 실란 커플링제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From an 11th viewpoint, in any one of a 1st viewpoint thru | or a 10th viewpoint, it is related with the polyester composition for thermosetting film formation containing a silane coupling agent as (E) component further.

제 12 관점으로, 제 1 관점 내지 제 11 관점 중 어느 한 관점에 있어서, 추가로 (F)성분으로 비스말레이미드 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 12th viewpoint, it is related with the polyester composition for thermosetting film formation containing the bismaleimide compound as (F) component further in any one of a 1st viewpoint thru | or 11th viewpoint.

제 13 관점으로, 제 1 관점 내지 제 12 관점 중 어느 한 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 13th viewpoint, in any one of a 1st viewpoint thru | or a 12th viewpoint, 3-50 mass parts (B) component and 1-100 mass parts (C) component are based on 100 mass parts of (A) component. It relates to a polyester composition for forming a thermosetting film to contain.

제 14 관점으로, 제 10 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 0.01 내지 5질량부의 (D)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 14th viewpoint, in a 10th viewpoint, it is related with the polyester composition for thermosetting film formation containing 0.01-5 mass parts (D) component based on 100 mass parts of (A) component.

제 15 관점으로, 제 11 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 30질량부의 (E)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a fifteenth aspect, the eleventh aspect relates to a polyester composition for forming a thermosetting film containing 0.5 to 30 parts by mass (E) component based on 100 parts by mass of the component (A).

제 16 관점으로, 제 12 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 50질량부의 (F)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
From a 16th viewpoint, it is related with the polyester composition for thermosetting film formation containing 0.5-50 mass parts (F) component based on 100 mass parts of (A) component.

제 17 관점으로, 제 1 관점 내지 제 16 관점 중 어느 한 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 경화막에 관한 것이다.
From a 17th viewpoint, it is related with the cured film obtained using the polyester composition for thermosetting film formation in any one of a 1st viewpoint thru | or a 16th viewpoint.

제 18 관점으로 제 1 관점 내지 제 16 관점 중 어느 한 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 액정 배향층에 관한 것이다. It relates to the liquid crystal aligning layer obtained using the polyester composition for thermosetting film formation as described in any one of a 1st viewpoint thru | or a 16th viewpoint from a 18th viewpoint.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 높은 평탄화성, 높은 투명성, 높은 용제내성, 높은 내열성에 추가로 액정 배향능을 가지는 경화막을 형성할 수 있기 때문에 액정 배향막이나 평탄화막의 형성재료로 사용할 수 있다. 특히, 종래 독립적으로 형성되어 있던 액정 배향막과 칼라필터의 오버코트층을 양자의 특성을 겸비하는 「액정 배향층」으로 한 번에 형성할 수 있게 되어 제조공정의 간략화 및 프로세스수 저감에 의한 저비용화 등을 실현할 수 있다.
Since the polyester composition for thermosetting film formation of this invention can form the cured film which has liquid crystal aligning ability in addition to high planarization property, high transparency, high solvent resistance, and high heat resistance, it can be used as a formation material of a liquid crystal aligning film or a planarization film. have. In particular, the liquid crystal aligning film and the overcoat layer of the color filter which were formed independently independently can be formed at once in a "liquid crystal aligning layer" having both characteristics, thereby simplifying the manufacturing process and reducing costs by reducing the number of processes. Can be realized.

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 글리콜계 용제에 녹기 때문에 이들 용제를 주로 사용하는 평탄화막의 제작 라인에 호적하게 사용할 수 있다.Moreover, since the polyester composition for thermosetting film formation of this invention melt | dissolves in a glycol type solvent, it can be used suitably for the production line of the planarization film which mainly uses these solvents.

도 1은 단차기판에 열경화성 폴리에스테르 조성물을 도포했을 때 형성된 경화막을 나타낸 모식도이다.
도 2는 종래기술에 의해 액정 배향막을 형성한 액정 셀(a)과 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 평탄화막을 형성한 액정 셀(b)을 대비하여 나타낸 모식도이다.
1 is a schematic diagram showing a cured film formed when a thermosetting polyester composition is applied to a stepped substrate.
Fig. 2 is a schematic diagram showing a comparison between a liquid crystal cell (a) in which a liquid crystal alignment film is formed according to the prior art and a liquid crystal cell (b) in which a flattening film is formed by using the polyester composition for thermosetting film formation of the present invention.

상술한 바와 같이 종래에 제안된 아크릴수지계 및 폴리이미드계의 경화막에서는 액정 배향막이나 평탄화막에 요구되는 평탄화성, 투명성, 배향성 등의 모든 성능을 충분히 만족하는 것이 없었다.
As described above, in the conventionally proposed cured films of acrylic resins and polyimides, none of the performances such as flatness, transparency, and orientation required for the liquid crystal alignment film and the planarization film are sufficiently satisfied.

또한 지금까지도 액정 표시 소자의 배향 재료로 폴리에스테르의 사용(일본특허공개 평5-158055호 공보, 일본특허공개 2002-229039호 공보참조)이 제안된 적은 있지만 이들은 모두 열경화성을 가지는 것이 아니며, 또한 형성된 경화막의 내용제성도 열화한 것이었다.
In addition, although the use of polyester (see Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-158055 and 2002-229039) has been proposed up to now, they do not all have thermosetting properties. Solvent resistance of the cured film was also deteriorated.

본 발명은 열경화성인 폴리에스테르를 사용하여 상술한 평탄화성, 투명성, 배향성 등의 성능 향상을 도모한 것에 특징이 있다. 즉, 본 발명은 (A)성분으로 폴리에스테르, (B)성분으로 가교제 및 (C)성분으로 하기 식(1)로 나타나는 디에스테르화합물
The present invention is characterized by using a thermosetting polyester to improve performance such as flattening, transparency, and orientation described above. That is, this invention is a diester compound represented by following formula (1) as polyester (A) component, a crosslinking agent as (B) component, and (C) component

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 포함하는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타낸다. 또한, 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이다.
(In formula, P represents the group represented by the group which consists of an alicyclic group, an alicyclic group, and an aliphatic group, or a structure represented by Formula (2), and Q represents the group which consists of an alicyclic group or an alicyclic group and an aliphatic group. Moreover, Formula (2) R represents an alkylene group.) Is a polyester composition for forming a thermosetting film.

나아가 상기 (A) 내지 (C)성분에 추가로 필요에 따라 (D)성분으로 산화방지제인 페놀 화합물, (E)성분으로 실란 커플링제, (F)성분으로 비스말레이미드 화합물도 함유할 수 있는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이다.
Furthermore, in addition to the said (A)-(C) component, it can contain a phenol compound which is antioxidant as (D) component, a silane coupling agent as (E) component, and a bismaleimide compound as (F) component as needed. It is a polyester composition for thermosetting film formation.

이하, 각 성분을 상세하게 설명한다.
Hereinafter, each component is explained in full detail.

[(A)성분][(A) component]

(A)성분인 폴리에스테르는 바람직하게는 하기 식(3)으로 나타나는 구조단위를 포함하는 폴리에스테르이며, 보다 바람직하게는 식(3)으로 나타나는 구조단위로 이루어진 폴리에스테르이다.
Polyester which is (A) component becomes like this. Preferably it is polyester containing the structural unit represented by following formula (3), More preferably, it is polyester which consists of a structural unit represented by Formula (3).

Figure pct00011
Figure pct00011

상기 식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.
In the formula, A represents a tetravalent organic group in which four bonds are bonded to an alicyclic or aliphatic group, and B represents a divalent organic group in which two bonds are bonded to an alicyclic or aliphatic group.

상기 A는 바람직하게는 하기 식(3A1), 식(3A2) 또는 식(3A3)으로 나타나는 기이다.
A is preferably a group represented by the following formula (3A1), formula (3A2) or formula (3A3).

Figure pct00012
Figure pct00012

식 중의 A1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내며, 보다 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. 여기서 A1기 중에 포함되는 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 되며, 또한 이들 중 2개의 치환기가 서로 결합하여 4 내지 6원환을 형성해도 된다.
A 1 in the formula represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, and more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. The arbitrary hydrogen atoms contained in A <1> here may each independently be substituted by the aliphatic group, and two substituents among these may combine with each other, and may form the 4-6 membered ring.

여기서, 이 치환기인 지방족기는 탄소원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우는 예를 들면 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교 환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합 다환식 탄화수소기가 된다.
Herein, the aliphatic group serving as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents combine and form a ring, it becomes a condensed polycyclic hydrocarbon group in which some or all hydrogenated is bridge | crosslinked cyclic hydrocarbon groups, such as a norbornene group and an adamantane group, for example.

상기 식 중, R1은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타낸다. 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
In the formula, R 1 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom. Preferably, a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom is represented.

또는 R2는 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
Or R 2 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a saturated hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.

식(3)에서 4가의 유기기인 A의 바람직한 구체예를 하기의 식(A-1) 내지 식(A-8)에 나타낸다. 하기 (A-1) 내지 식(A-8)로 나타나는 기 중에서도 A는 특히 식(A-1) 또는 (A-2)에서 선택되는 기인 것이 바람직하다.
The preferable specific example of A which is a tetravalent organic group in Formula (3) is shown to following formula (A-1)-formula (A-8). Among groups represented by the following (A-1) to formula (A-8), A is particularly preferably a group selected from formula (A-1) or (A-2).

Figure pct00013
Figure pct00013

상기 식(3) 중 B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 하기 식(3B1) 또는 식(3B2)로 나타나는 기이다.
In said Formula (3), B represents the bivalent organic group which two bond water couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group, Preferably it is group represented by following formula (3B1) or formula (3B2).

Figure pct00014
Figure pct00014

식 중의 B1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수가 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타내며, B1기중에 포함되는 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
B 1 in the formula represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms, contained in the B 1 group Arbitrary hydrogen atoms may be respectively independently substituted by aliphatic groups.

여기서, 이 치환기인 지방족기는 탄소 원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우는 예를 들면 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합 다환식 탄화수소기가 된다.
Here, the aliphatic group which is this substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents combine to form a ring, it becomes a condensed polycyclic hydrocarbon group in which some or all hydrogenated, such as a norbornene group and an adamantane group, are partially or fully hydrogenated, for example.

또한, B2는 페닐렌기를 나타낸다.
In addition, B 2 represents a phenylene group.

식 중, R3은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
In the formula, R 3 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom, preferably a single bond or a carbonyl group , An ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

R4, R5는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
R 4 and R 5 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

R6, R7은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
R 6 and R 7 each independently represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

또한, k는 0 또는 1을 나타낸다.
In addition, k represents 0 or 1.

식(3)에서 2가의 유기기인 B의 바람직한 구체예를 하기의 식(B-1) 내지 식(B-5)에 나타낸다. 하기 (B-1) 내지 식(B-5)로 나타나는 기 중에서도 B는 특히 (B-1) 내지 (B-4)에서 선택되는 기인 것이 바람직하다.
Preferable specific examples of B which is a divalent organic group in Formula (3) are shown to following formula (B-1)-formula (B-5). Among the groups represented by the following (B-1) to formula (B-5), B is preferably a group selected from (B-1) to (B-4).

Figure pct00015
Figure pct00015

(A)성분인 폴리에스테르는 식(3)으로 나타나는 구조단위 중, A가 식(3A1) 내지 식(3A3)으로 나타나는 기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 종류의 구조를 포함하는 것이 바람직하지만, 식(3A1) 내지 식(3A3)으로 나타나는 기 이외의 구조를 포함하고 있어도 된다. 이 때, 폴리에스테르의 구조를 형성한다면 그 구조는 특별히 한정되지 않지만 하기 식(3A4) 내지 식(3A5)로 나타나는 기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 종류의 구조인 것이 바람직하다.
The polyester as the component (A) preferably contains at least one kind of structure selected from the group consisting of groups represented by formulas (3A1) to (3A3) among the structural units represented by formula (3), The structures other than the group represented by (3A1) to formula (3A3) may be included. At this time, if the structure of polyester is formed, the structure is not specifically limited, It is preferable that it is at least 1 sort (s) of structure chosen from the group which consists of group represented by following formula (3A4)-formula (3A5).

Figure pct00016
Figure pct00016

상기 식 중, R8, R9, R10는 각각 독립적으로 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
Wherein R 8 , R 9 , and R 10 each independently represent a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or a saturated carbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom Hydrocarbon group is shown, Preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, the C1-C5 saturated hydrocarbon group, or the C1-C5 saturated hydrocarbon group substituted by the fluorine atom is shown.

특히, R8은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R9는 에테르기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R10은 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하다.
In particular, R 8 is preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom, and R 9 is an ether group , A saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom, R 10 is a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms It is preferable that it is a C1-C5 saturated hydrocarbon group substituted by the group or the fluorine atom.

또한, h는 0 또는 1을 나타낸다.
H represents 0 or 1;

상기 식(3A4) 내지 식(3A5)의 바람직한 구체예를 하기의 식(a1) 내지 식(a7)에 나타낸다.
Preferable specific examples of the formulas (3A4) to (3A5) are shown in the following formulas (a1) to (a7).

Figure pct00017
Figure pct00017

본 발명에 사용되는 (A)성분인 폴리에스테르에서, 상기 식(3)으로 나타나는 구조단위에서, A가 상기 식(3A1) 내지 식(3A3)으로 나타나는 기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 종류의 구조단위를 적어도 60몰%이상 포함하는 것이 바람직하다.
In the polyester which is (A) component used for this invention, in the structural unit represented by the said Formula (3), at least 1 type of structure chosen from the group which A consists of group represented by said Formula (3A1)-Formula (3A3). It is preferable to contain at least 60 mol% or more of a unit.

(A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 1,000 내지 30,000이며, 보다 바람직하게는 1,500 내지 10,000이다. (A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량이 상기 범위보다 작은 경우는 배향성 및 용제내성이 저하하는 경향이 있으며, 상기 범위를 초과하면 평탄화성이 저하하는 경우가 있다.
The weight average molecular weight of polyester which is (A) component becomes like this. Preferably it is 1,000-30,000, More preferably, it is 1,500-10,000. When the weight average molecular weight of the polyester which is (A) component is smaller than the said range, there exists a tendency for orientation or solvent tolerance to fall, and when it exceeds the said range, planarization property may fall.

<(A)성분의 제조 방법>
<The manufacturing method of (A) component>

본 발명에서 (A)성분인 폴리에스테르는 예를 들면 테트라카르본산 이무수물과 디올 화합물을 중합하여 얻을 수 있다. 보다 바람직하게는 하기 식(i)로 나타나는 테트라카르본산 이무수물을 포함하는 테트라카르본산 이무수물(이하, 산성분이라고도 함)과 하기 식(ii)로 나타나는 디올 화합물을 포함하는 디올 화합물(이하, 디올 성분이라고도 함)을 반응시켜서 얻는다.
Polyester which is (A) component in this invention can be obtained by superposing | polymerizing a tetracarboxylic dianhydride and a diol compound, for example. More preferably, the diol compound containing the tetracarboxylic dianhydride (henceforth an acid component) containing the tetracarboxylic dianhydride represented by following formula (i), and the diol compound represented by following formula (ii) (henceforth, Obtained by reacting the diol component).

Figure pct00018
Figure pct00018

상기 식 중, A 및 B는 상술한 식(3)에서의 정의와 동일하며 바람직한 형태도 상술한 것도 동일하다.
In said formula, A and B are the same as the definition in Formula (3) mentioned above, and a preferable aspect is also the same as that mentioned above.

상기 (A)성분인 폴리에스테르에서, 테트라카르본산 이무수물의 합계량(산 성분의 합계량)과 디올 화합물의 합계량(디올 성분의 합계량)의 배합비, 즉 <디올 화합물의 합계몰수>/<테트라카르본산 이무수물 화합물의 합계몰수>는 0.5 내지 1.5인 것이 바람직하다. 통상적인 중축합 반응과 같이 이 몰비가 1에 가까울 수 록 생성되는 폴리에스테르의 중합도는 커지며 분자량이 증가한다.
In the polyester which is the said (A) component, the compounding ratio of the total amount (the total amount of an acid component) and the total amount (the total amount of a diol component) of a tetracarboxylic dianhydride, ie, <the total mole number of a diol compound> / <tetracarboxylic dianhydride The total mole number of the water compounds> is preferably 0.5 to 1.5. As in the conventional polycondensation reaction, the closer the molar ratio is to 1, the higher the degree of polymerization of the resulting polyester and the higher the molecular weight.

(A)성분인 폴리에스테르는 보존 안정성의 저하를 피하기 위해 그 말단을 산무수물 말단으로 하는 것이 바람직하다.
In order to avoid the fall of storage stability, it is preferable that the polyester which is (A) component is made into the acid anhydride terminal.

상기 폴리에스테르의 말단은 산 성분과 디올 성분의 배합비에 의존하여 변화한다. 예를 들면 산 성분을 과잉 반응시킨 경우, 말단은 산 무수물이 되기 쉽다.
The terminal of the said polyester changes depending on the compounding ratio of an acid component and a diol component. For example, when the acid component is overreacted, the terminal tends to be an acid anhydride.

또한, 디올 성분을 과잉 사용하여 중합한 경우에는 말단은 수산기가 되기 쉽다. 이 경우 이 말단수산기에 카르본산 무수물을 반응시키켜서 말단수산기를 산 무수물로 봉지할 수 있다. 이와 같은 카르본산 무수물의 예로는 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 무수 말레인산, 나프탈산 무수물, 수소화프탈산 무수물, 무수이타콘산, 테트라히드로프탈산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-페닐-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 메틸-5-노보넨-2,3-디카르본산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸테트라히드로프탈산 무수물, 비시클로[2.2.2.]옥텐-2,3-디카르본산 무수물 등을 들 수 있다.
Moreover, when superposing | polymerizing using an diol component excessively, a terminal becomes a hydroxyl group easily. In this case, carboxylic anhydride can be made to react with this terminal hydroxyl group, and a terminal hydroxyl group can be sealed by acid anhydride. Examples of such carboxylic anhydrides include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride, naphthalic anhydride, hydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, and 4-methyl anhydride. -1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-phenyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetra Hydrophthalic anhydride, bicyclo [2.2.2.] Octene-2,3-dicarboxylic acid anhydride, and the like.

상기 (A)성분인 폴리에스테르의 제조에서, 산 성분과 디올 성분의 반응온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다. 예를 들면 반응온도는 100℃ 내지 140℃, 반응시간 2 내지 48시간으로 폴리에스테르를 얻을 수 있다.
In the production of polyester as the component (A), the reaction temperature of the acid component and the diol component may be selected from any temperature of 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C. For example, the reaction temperature is 100 ℃ to 140 ℃, the reaction time can be obtained a polyester in 2 to 48 hours.

또한, 말단수산기를 산 무수물로 보호하는 경우의 반응 온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다.
In addition, the reaction temperature in the case of protecting a terminal hydroxyl group with an acid anhydride can select arbitrary temperature of 50-200 degreeC, Preferably it is 80-170 degreeC.

상기 산 성분과 디올 성분과의 반응은 통상적으로 용제 중에서 실시된다. 이 때 사용할 수 있는 용제로는 수산기나 아미노기 등, 산 무수물과 반응하는 관능기를 함유하지 않는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸설폭시드, 테트라메틸요소, 디메틸술폰, 헥사메틸설폭시드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸 등을 들 수 있다.
The reaction between the acid component and the diol component is usually carried out in a solvent. The solvent which can be used at this time will not be specifically limited if it does not contain the functional group which reacts with acid anhydrides, such as a hydroxyl group and an amino group. For example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetoamide, N-methylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethyl sulfoxide, tetramethylurea, dimethyl sulfone, Hexamethyl sulfoxide, m-cresol, γ-butyrolactone, cyclohexanone, cyclopentanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, Methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, and the like.

이들 용매는 단독으로 사용해도 되고 혼합해서 사용해도 되지만, 안전성, 칼라필터의 오버코트제의 라인으로의 적용성의 관점에서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다.
Although these solvents may be used independently or may be mixed and used, propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferable from a viewpoint of safety and applicability to the line of the overcoat agent of a color filter.

또한, 폴리에스테르를 용해하지 않는 용제라도 중합반응에 의해 생성된 폴리에스테르가 석출되지 않는 범위에서 상기 용제에 혼합하여 사용해도 된다.
Moreover, even if the solvent which does not melt | dissolve polyester, you may mix and use with the said solvent in the range which does not precipitate the polyester produced | generated by the polymerization reaction.

또한, 상기 산 성분(식(i))과 디올 성분(식(ii))의 반응시에는 촉매를 사용할 수도 있다.
In addition, a catalyst can also be used at the time of reaction of the said acid component (formula (i)) and a diol component (formula (ii)).

폴리에스테르의 중합시에 사용하는 촉매의 구체예로는 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 벤질트리프로필암모늄클로라이드, 벤질트리프로필암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염, 테트라페닐포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 4급 포스포늄염을 들 수 있다.
Specific examples of the catalyst used in the polymerization of the polyester include benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyltripropylammonium chloride, benzyltripropylammonium bromide, tetramethyl Quaternary ammonium salts such as ammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetrapropylammonium chloride, tetrapropylammonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, ethyl And quaternary phosphonium salts such as triphenylphosphonium chloride and ethyltriphenylphosphonium bromide.

이와 같이 하여 얻어진 (A)성분인 폴리에스테르를 포함하는 용액은 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제에 그대로 사용할 수 있다. 또한, 얻어진 폴리에스테르를 물, 메탄올, 에탄올, 디에틸에테르, 헥산 등의 빈용제에 침전단리시켜서 회수한 후에 사용할 수도 있다.
The solution containing polyester which is thus obtained (A) component can be used as it is for preparation of the polyester composition for thermosetting film formation. The obtained polyester may also be used after being precipitated and recovered in poor solvents such as water, methanol, ethanol, diethyl ether and hexane.

<(B)성분>
<(B) component>

본 발명의 (B)성분은 가교제이다. 가교제로는 에폭시 화합물이나 메틸올 화합물 등의 화합물을 들 수 있지만, 바람직하게는 에폭시기를 2개 이상 가지는 에폭시 화합물이다.
(B) component of this invention is a crosslinking agent. Although a compound, such as an epoxy compound and a methylol compound, is mentioned as a crosslinking agent, Preferably, it is an epoxy compound which has two or more epoxy groups.

이와 같은 화합물의 예로는 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,2-에폭시-4-(에폭시에틸)시클로헥산, 글리세롤트리글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 2,6-디글리시딜페닐글리시딜에테르, 1,1,3-트리스[p-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]프로판, 1,2-시클로헥산디카르본산디글리시딜에스테르, 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린), 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 트리메틸올에탄트리글리시딜에테르 및 비스페놀-A-디글리시딜에테르 및 펜타에리스리톨폴리글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
Examples of such compounds include tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,2-epoxy-4- (epoxyethyl) cyclohexane, glycerol triglycidyl Ether, diethylene glycol diglycidyl ether, 2,6-diglycidylphenylglycidyl ether, 1,1,3-tris [p- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] propane, 1, 2-cyclohexanedicarboxylic acid diglycidyl ester, 4,4'-methylenebis (N, N- diglycidylaniline), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate And trimethylol ethane triglycidyl ether, bisphenol-A-diglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, and the like.

또한, 입수가 용이하다는 점에서 시판품의 화합물을 사용해도 된다. 이하에 그 구체예(상품명)를 들지만, 이에 한정되는 것은 아니다 : YH-434, YH434L(Tohto Kasei Co., Ltd.제) 등의 아미노기를 가지는 에폭시 수지; EPOLEAD GT-401, 동GT-403, 동GT-301, 동GT-302, CELLOXIDE 2021, CELLOXIDE 3000, CELLOXIDE P-2021(Daicel Chemical Industries Limited.제) 등의 시클로헥센옥시드 구조를 가지는 에폭시수지; Epikote 1001, 동1002, 동1003, 동1004, 동1007, 동1009, 동1010, 동828(이상, YUKA SHELL EPOXY KK (현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제) 등의 비스페놀A형 에폭시수지; Epikote 807(YUKA SHELL EPOXY KK(현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제) 등의 비스페놀F형 에폭시수지; Epikote 152, 동154(이상, YUKA SHELL EPOXY KK(현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제), EPPN201, 동202(이상, Nippon Kayaku Co.,Ltd.제) 등의 페놀노보락형 에폭시수지; EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027(이상, Nippon Kayaku Co.,Ltd.제), Epikote 180S75(YUKA SHELL EPOXY KK (현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제) 등의 크레졸노보락형에폭시수지; Denacol EX-252(Negase ChemteX Corporation제), CY175, CY177, CY179, Araldite CY-182, 동CY-192, 동CY-184(이상, CIBA-GEIGY A.G제), Epiclon 200, 동400(이상, DIC Corporation제), Epikote 871, 동872(이상, YUKA SHELL EPOXY KK(현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제), ED-5661, ED-5662(이상, Celanese Coating Company제) 등의 지환식 에폭시수지; Denacol EX-611, 동EX-612, 동EX-614, 동EX-622, 동EX-411, 동EX-512, 동EX-522, 동EX-421, 동EX-313, 동EX-314, 동EX-321(Negase ChemteX Corporation제) 등의 지방족 폴리글리시딜에테르 등이다.
Moreover, you may use a commercially available compound from the point which is easy to acquire. Although the specific example (brand name) is given to the following, it is not limited to this: Epoxy resin which has amino groups, such as YH-434 and YH434L (made by Tohto Kasei Co., Ltd.); Epoxy resins having a cyclohexene oxide structure such as EPOLEAD GT-401, GT-403, GT-301, GT-302, CELLOXIDE 2021, CELLOXIDE 3000, CELLOXIDE P-2021 (manufactured by Daicel Chemical Industries Limited); Bisphenol A type epoxy resin such as Epikote 1001, copper 1002, copper 1003, copper 1004, copper 1007, copper 1009, copper 1010, copper 828 (above, made by YUKA SHELL EPOXY KK (currently Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)) ; Bisphenol F type epoxy resins such as Epikote 807 (YUKA SHELL EPOXY KK (now manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)); Phenol novolak type epoxy resins such as Epikote 152, 154 (above, manufactured by YUKA SHELL EPOXY KK (currently Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)), EPPN201, 202 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epikote 180S75 (YUKA SHELL EPOXY KK (now Japan Epoxy Resins Co. Cresol novolac epoxy resins; Denacol EX-252 (manufactured by Negase ChemteX Corporation), CY175, CY177, CY179, Araldite CY-182, copper CY-192, copper CY-184 (above, made by CIBA-GEIGY AG), Epiclon 200, copper 400 (or above, DIC Corporation), Epikote 871, copper 872 (above, YUKA SHELL EPOXY KK (now made by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), ED-5661, ED-5662 (above, manufactured by Celanese Coating Company) Suzy; Denacol EX-611, Copper EX-612, Copper EX-614, Copper EX-622, Copper EX-411, Copper EX-512, Copper EX-522, Copper EX-421, Copper EX-313, Copper EX-314, Aliphatic polyglycidyl ethers such as EX-321 (manufactured by Negase ChemteX Corporation).

또한, 적어도 2개의 에폭시기를 가지는 화합물로는 에폭시기를 가지는 폴리머를 사용할 수 있다. 이와 같은 폴리머로는 에폭시기를 가지는 것이라면 특별히 제한없이 사용할 수 있다.
As the compound having at least two epoxy groups, a polymer having an epoxy group can be used. Such a polymer can be used without particular limitation as long as it has an epoxy group.

상기 에폭시기를 가지는 폴리머는 예를 들면 에폭시기를 가지는 부가중합성모노머를 사용한 부가중합에 의해 제조할 수 있다. 일 예로 폴리글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트와 에틸메타크릴레이트의 공중합체, 글리시딜메타크릴레이트와 스틸렌과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 공중합체 등의 부가중합폴리머나 에폭시노보락 등의 축중합 폴리머를 들 수 있다.
The polymer which has the said epoxy group can be manufactured by addition polymerization using the addition polymerization monomer which has an epoxy group, for example. Examples include polypolymers such as polyglycidyl acrylate, copolymers of glycidyl methacrylate and ethyl methacrylate, copolymers of glycidyl methacrylate and styrene and 2-hydroxyethyl methacrylate, Polycondensation polymers, such as an epoxy novolak, are mentioned.

또는 상기 에폭시기를 가지는 폴리머는 수산기를 가지는 고분자 화합물과 에피클로로히드린, 글리시딜토실레이트 등의 에폭시기를 가지는 화합물과의 반응에 의해 제조할 수도 있다.
Or the polymer which has the said epoxy group can also be manufactured by reaction with the high molecular compound which has a hydroxyl group, and the compound which has epoxy groups, such as epichlorohydrin and glycidyl tosylate.

이와 같은 폴리머의 중량 평균 분자량으로는 예를 들면 300 내지 200,000이다.
As a weight average molecular weight of such a polymer, it is 300-200,000, for example.

이들 에폭시기를 2개 이상 가지는 에폭시 화합물은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
The epoxy compound which has two or more of these epoxy groups can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 (B)성분인 가교제의 함유량은 (A)성분인 폴리에스테르 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 40질량부이며, 특히 바람직하게는 10 내지 30질량부이다. 이 비율이 너무 적은 경우에는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서 얻어지는 경화막의 용제내성이나 내열성이 저하하며, 너무 큰 경우에는 용제내성이 저하하거나 보존 안정성이 저하하는 경우가 있다.
It is preferable that content of the crosslinking agent which is (B) component in the polyester composition for thermosetting film formation of this invention is 3-50 mass parts based on 100 mass parts of polyester which is (A) component, More preferably, it is 5- It is 40 mass parts, Especially preferably, it is 10-30 mass parts. When this ratio is too small, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the polyester composition for thermosetting film formation fall, and when too large, solvent resistance may fall or storage stability may fall.

<(C)성분>
<(C) component>

(C)성분은 하기 식(1)로 나타나는 디에스테르 화합물이다. 본 발명에서 (C)성분인 디에스테르 화합물로는 식(1)로 나타나는 화합물을 한 종류뿐만 아니라 복수종을 사용할 수 있다.
(C) component is a diester compound represented by following formula (1). As the diester compound which is (C) component in this invention, not only one type but the multiple types of compound represented by Formula (1) can be used.

Figure pct00019
Figure pct00019

식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, P 및 Q는 각각 기 중의 임의의 수소 원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
In the formula, P represents an alicyclic group, a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by formula (2), Q represents a group consisting of an alicyclic group or an alicyclic group and an aliphatic group, and P and Q each represent any hydrogen in the group. The atom may be substituted with an aliphatic group.

또한, 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 R은 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
In the formula (2), R represents an alkylene group, preferably R represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably Represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

상기 식 중, P의 바람직한 구조는 상기 식(2) 또는 하기 식(1P1)로 나타낸다.
In said formula, preferable structure of P is represented by said Formula (2) or following formula (1P1).

Figure pct00020
Figure pct00020

식 중, P1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내며 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. P1 기 중의 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
In the formula, P 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, and more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. The arbitrary hydrogen atoms in the P 1 group may be each independently substituted with an aliphatic group.

이 치환기인 지방족기는 탄소 원자수가 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 1 내지 3의 지방족기이다.
The aliphatic group which is this substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms.

상기 식 중, R11은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
In the formula, R 11 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom, preferably a single bond , A carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

R12, R13은 각각 독립해서 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

또한 h는 0 또는 1을 나타낸다.
H represents 0 or 1;

상기 식(1)에서의 P의 바람직한 구체예를 하기의 식(P-1) 내지 식(P-5)에 나타낸다.
Preferable specific examples of P in the formula (1) are shown in the following formulas (P-1) to (P-5).

Figure pct00021
Figure pct00021

상기 식(2) 중 Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, 바람직하게는 하기 식(1Q1)로 나타나는 기이다.
In said formula (2), Q represents group which consists of an alicyclic group or an alicyclic group, and an aliphatic group, Preferably it is group represented by following formula (1Q1).

Figure pct00022
Figure pct00022

식 중, Q1은 탄소 원자수가 4 내지 8의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수가 4 내지 6의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타낸다. Q1 기 중의 임의의 수소 원자는 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
In the formula, Q 1 represents a cycloalkylene group or cycloalkenylene group having 4 to 8 carbon atoms, and preferably a cycloalkylene group or cycloalkenylene group having 4 to 6 carbon atoms. Q 1 Any hydrogen atom in group may be substituted by the aliphatic group.

이 치환기인 지방족기는 탄소 원자수가 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 1 내지 3의 지방족기이다.
The aliphatic group which is this substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms.

또한 X는 단일 결합 또는 탄소 원자수가 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
In addition, X represents a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

바람직한 Q1의 구체예로는 시클로부탄기, 메틸시클로부탄기, 디메틸시클로부탄기, 시클로펜틸기, 시클로헥실렌기, 메틸시클로헥실렌기, 테트라히드로프탈로일기 또는 메틸테트라히드로프탈로일기 등을 들 수 있다.
Specific examples of preferred Q 1 include cyclobutane group, methylcyclobutane group, dimethylcyclobutane group, cyclopentyl group, cyclohexylene group, methylcyclohexylene group, tetrahydrophthaloyl group, methyltetrahydrophthaloyl group and the like. Can be mentioned.

본 발명의 (C)성분인 디에스테르 화합물은 하기 식(iii)으로 나타나는 디올 1몰과 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물 1.7 내지 2몰, 바람직하게는 1.8 내지 2몰을 반응시켜서 얻을 수 있다.
The diester compound which is (C) component of this invention can be obtained by making 1 mol of diols represented by following formula (iii), and 1.7-2 mol, preferably 1.8-2 mol of dicarboxylic anhydrides represented by formula (iv) react. have.

Figure pct00023
Figure pct00023

상기 식(iii) 및 식(iv)에서, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다. 또한, P, Q 및 R은 상술한 식(1) 및 식(2)의 정의와 동일하며 바람직한 형태도 상술한 것과 동일하다.
In the formulas (iii) and (iv), P represents an alicyclic group, a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by formula (2), Q represents a group consisting of an alicyclic group or an alicyclic group and an aliphatic group, and R in (2) represents an alkylene group. In addition, P, Q, and R are the same as the definition of Formula (1) and Formula (2) mentioned above, and their preferable form is also the same as that mentioned above.

본 발명에서 상기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물과 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물은 각각 한 종류만을 사용해도 되고 복수종을 사용해도 된다.
In this invention, only one type may be used for the diol compound represented by said Formula (iii), and the dicarboxylic acid anhydride represented by Formula (iv) may be used, respectively.

상기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물의 구체예로는 예를 들면 수소화 비스페놀A, 4,4'-비시클로헥사놀, 1,4-시클로헥산디올, 1,3-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, p-크실렌글리콜, m-크실렌글리콜 등을 들 수 있다.
As a specific example of the diol compound represented by said Formula (iii), for example, hydrogenated bisphenol A, 4,4'-bicyclohexanol, 1, 4- cyclohexanediol, 1, 3- cyclohexanediol, 1,4 -Cyclohexane dimethanol, 1, 3- cyclohexane dimethanol, p-xylene glycol, m-xylene glycol, etc. are mentioned.

(C)성분은 하기 식(1-a)로 나타나는 다가에스테르 화합물일 수 있다. 본 발명에서 이 다가에스테르 화합물로는 식(1-a)로 나타나는 화합물을 한 종류뿐만 아니라 복수종을 사용할 수 있다.
(C) component can be a polyhydric ester compound represented by a following formula (1-a). In this invention, not only one type but the multiple types of compound represented by Formula (1-a) can be used as this polyhydric ester compound.

Figure pct00024
Figure pct00024

식 중, Pa는 산소 원자 혹은 질소 원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족 알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Pa 및 Qa는 각각 기 중의 임의의 수소 원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다. 또한, 식(2-a) 중, Ra는 알킬렌기를 나타내며, 바람직하게는 Ra는 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내며, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
In the formula, Pa represents an alicyclic group or an aliphatic alkyl group which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom, or a structure represented by formula (2-a), Qa represents an alicyclic group, t represents an integer of 1 to 5, and Pa And Qa may be each substituted with an aliphatic group at any hydrogen atom. In the formula (2-a), Ra represents an alkylene group, preferably Ra represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, More preferably, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms is shown.

상기 다가에스테르 화합물은 하기 식(iii-a)로 나타나는 디올과 식(iv-a)로 나타나는 디카르본산 무수물을 반응시켜서 얻을 수 있다.
The said polyhydric ester compound can be obtained by making the diol represented by a following formula (iii-a), and the dicarboxylic anhydride represented by a formula (iv-a) react.

Figure pct00025
Figure pct00025

상기 식(iii-a) 및 식(iv-a)에서, Pa는 산소 원자 혹은 질소 원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족 알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, 식(2-a) 중 Ra는 알킬렌기를 나타낸다. 또한, Pa, Qa 및 Ra는 상술한 식(1-a) 및 식(2-a)의 정의와 동일하며 바람직한 형태도 상술한 것과 동일하다.
In the formulas (iii-a) and (iv-a), Pa represents a structure represented by an alicyclic group or an aliphatic alkyl group or a formula (2-a) which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom, and t is 1 to 5 In the following formulae, Qa represents an alicyclic group, and Ra in formula (2-a) represents an alkylene group. In addition, Pa, Qa, and Ra are the same as that of the definition of Formula (1-a) and Formula (2-a) mentioned above, and their preferable form is also the same as that mentioned above.

본 발명에서 상기 식(iii-a)로 나타나는 다가알코올 화합물과 식(iv-a)로 나타나는 디카르본산 무수물은 각각 한 종류만을 사용해도 되고 복수종을 사용해도 된다. In the present invention, the polyhydric alcohol compound represented by the formula (iii-a) and the dicarboxylic acid anhydride represented by the formula (iv-a) may each use only one kind or a plurality of kinds thereof.

상기 식(iii-a)로 나타나는 다가알코올 화합물의 예로는 1,3,5-시클로헥산트리올이나 펜타에리스리톨 등의 화합물을 들 수 있다.
Examples of the polyhydric alcohol compound represented by the formula (iii-a) include compounds such as 1,3,5-cyclohexanetriol and pentaerythritol.

상기 식(iii-a)로 나타나는 다가알코올 화합물의 구체예를 하기에 나타낸다.
The specific example of the polyhydric alcohol compound represented by said formula (iii-a) is shown below.

Figure pct00026
Figure pct00026

상기 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물의 구체예로는 예를 들면 1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물 등을 들 수 있다.
As a specific example of the dicarboxylic acid anhydride represented by said Formula (iv), a 1, 2- cyclohexane dicarboxylic acid anhydride, 4-methyl- 1, 2- cyclohexane dicarboxylic acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, Methyl tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc. are mentioned.

상기 (C)성분인 디에스테르 화합물(또는 다가에스테르 화합물)의 제조에 있어서, 디올 화합물(또는 다가알코올 화합물)과 디카르본산 무수물의 반응온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다. 예를 들면 반응 온도는 100℃ 내지 140℃, 반응시간 2 내지 48시간으로 디에스테르 화합물(또는 다가에스테르 화합물)을 얻을 수 있다.
In the preparation of the diester compound (or polyhydric ester compound) as the component (C), the reaction temperature of the diol compound (or polyhydric alcohol compound) and the dicarboxylic anhydride is 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C. Any temperature can be selected. For example, the reaction temperature can obtain a diester compound (or a polyhydric ester compound) by 100 to 140 degreeC, and reaction time 2 to 48 hours.

상기 디올 화합물(또는 다가알코올 화합물)과 디카르본산 무수물의 반응은 통상적으로 용제 중에서 실시된다. 이 때 사용할 수 있는 용제로는 수산기나 아미노기 등, 산무수물과 반응하는 관능기를 함유하지 않는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸설폭시드, 테트라메틸요소, 디메틸술폰, 헥사메틸설폭시드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸 등을 들 수 있다.
The reaction of the diol compound (or polyalcohol compound) and dicarboxylic anhydride is usually carried out in a solvent. The solvent which can be used at this time is not specifically limited if it does not contain the functional group reacting with an acid anhydride, such as a hydroxyl group and an amino group. For example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetoamide, N-methylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethyl sulfoxide, tetramethylurea, dimethyl sulfone, Hexamethyl sulfoxide, m-cresol, γ-butyrolactone, cyclohexanone, cyclopentanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, Methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, and the like.

이들 용매는 단독으로 사용해도 되고 혼합하여 사용해도 되지만 안전성, 칼라필터의 오버코트제의 라인으로의 적용성의 관점에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다.
Although these solvents may be used independently or may be used in mixture, propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferable from a viewpoint of safety and applicability to the line of the overcoat agent of a color filter.

또한, 디에스테르 화합물을 용해하지 않는 용제라도 중합반응에 의해 생성된 디에스테르 화합물이 석출되지 않는 범위에서 이 용제를 상기 용제에 혼합하여 사용해도 된다.
Moreover, even if it is a solvent which does not melt a diester compound, you may mix and use this solvent with the said solvent in the range which does not precipitate the diester compound produced | generated by the polymerization reaction.

또는 상기 디올 화합물(식(iii))(또는 다가알코올 화합물(식(iii-a)))과 디카르본산무수물(식(iv) 또는 식(iv-a))의 반응시에는 촉매를 사용할 수도 있다.
Alternatively, a catalyst may be used in the reaction of the diol compound (formula (iii)) (or polyhydric alcohol compound (formula (iii-a))) with dicarboxylic acid anhydride (formula (iv) or formula (iv-a)). have.

이 때 사용하는 촉매의 구체예로는 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 벤질트리프로필암모늄클로라이드, 벤질트리프로필암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염, 테트라페닐포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 4급 포스포늄염을 들 수 있다.
Specific examples of the catalyst used at this time include benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyltripropylammonium chloride, benzyltripropylammonium bromide, tetramethylammonium chloride, tetra Quaternary ammonium salts such as ethylammonium bromide, tetrapropylammonium chloride, tetrapropylammonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium And quaternary phosphonium salts such as chloride and ethyltriphenylphosphonium bromide.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 (C)성분의 함유량은, (A)성분인 폴리에스테르 100질량부에 기초하여 1 내지 100질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 60질량부이다. 이 비율이 너무 적으면 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서 얻어지는 경화막의 배향성이 저하하거나 평탄화성이 저하하며, 또한 너무 크면 투과율이 저하하는 경우가 있다.
It is preferable that content of (C) component in the polyester composition for thermosetting film formation of this invention is 1-100 mass parts based on 100 mass parts of polyester which is (A) component, More preferably, it is 5-60 It is a mass part. When this ratio is too small, the orientation of the cured film obtained from the polyester composition for thermosetting film formation falls, or planarization property falls, and when too large, the transmittance | permeability may fall.

<(D)성분>
<(D) component>

본 발명에서는 (D)성분으로 산화방지제를 함유해도 된다. 이 (D)성분은 본 발명의 열경화막형성 후의 프로세스에서 상정되는 고온소성에 의한 막의 변색을 방지하는데 유효하다.
In this invention, you may contain antioxidant as (D) component. This component (D) is effective for preventing discoloration of the film due to high temperature firing assumed in the process after the thermosetting film formation of the present invention.

(D)성분의 산화방지제로는 특히 페놀화합물이 바람직하고 그 구체예로 2,6-디-t-부틸-4-크레졸, 2,6-디-t-부틸-페놀, 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)메시틸렌, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트], 아세톤비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)메르캅톨(mercaptole), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산메틸, 4,4'-티오디(2,6-디-t-부틸페놀), 트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아눌산, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)술피드 등을 들 수 있다.
Especially as a antioxidant of (D) component, a phenolic compound is preferable, As a specific example, 2, 6- di- t- butyl- 4-cresol, 2, 6- di- t- butyl- phenol, 2, 4, 6 -Tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene, pentaerythritol tetrakis [3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxy Phenyl) propionate], acetone bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) mercaptole, 4,4'-methylenebis (2,6-di-t-butylphenol ), 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) methyl propionate, 4,4'-thiodi (2,6-di-t-butylphenol), tris (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanuric acid, bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) sulfide and the like.

이들 산화방지제인 페놀화합물은 특별히 상기의 것에 한정되는 것이 아니다. 또한, 이들은 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용할 수 있다.
Phenolic compounds which are these antioxidants are not specifically limited to the above. In addition, these can use together single or 2 types or more of components.

이들 산화방지제 중 2,6-디-t-부틸-4-크레졸, 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)메시틸렌, 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀) 등이 배향성을 저하시키지 않고 내열성도 높다는 점에서 특히 바람직하다.
Of these antioxidants 2,6-di-t-butyl-4-cresol, 2,4,6-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene, 4, 4'-methylenebis (2,6-di-t-butylphenol) and the like are particularly preferable in that the heat resistance is high without lowering the orientation.

본 발명에서 (D)성분의 산화방지제인 페놀화합물의 사용비율은 (A)성분인 폴리에스테르100질량부에 대해 0.01 내지 5질량부인 것이 바람직하고 보다 바람직하게는 0.1 내지 3질량부이다. 이 비율이 너무 적은 경우에는 산화방지제로써의 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있으며, 너무 큰 경우에는 배향성이 저하하거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
In this invention, it is preferable that it is 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of polyester which is (A) component, and, as for the usage ratio of the phenolic compound which is antioxidant of (D) component, it is 0.1-3 mass parts. When this ratio is too small, the effect as an antioxidant may not be fully acquired, and when too large, orientation may fall or a coating film may become rough.

<(E)성분>
<(E) component>

본 발명에서는 (E)성분으로 실란커플링제를 함유해도 된다.
In this invention, you may contain a silane coupling agent as (E) component.

(E)성분인 실란커플링제는 중합성 액정으로 이루어진 위상차 재료와의 밀착성을 향상시키는데 유효하다.
The silane coupling agent which is (E) component is effective in improving adhesiveness with the retardation material which consists of a polymeric liquid crystal.

이와 같은 실란커플링제의 구체예로는 트리메틸클로로실란, 디메틸비닐클로로실란, 메틸디페닐클로로실란, 클로로메틸디메틸클로로실란 등의 클로로실란류;트리메틸메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 메틸디메톡시실란, 디메틸비닐에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 알콕시실란류;헥사메틸디실라잔, N,N'-비스(트리메틸실릴)우레아, 디메틸트리메틸실릴아민, 트리메틸실릴이미다졸 등의 실라잔류, 비닐트리클로로실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(N-피페리디닐)프로필트리에톡시실란 등의 실란류;벤조트리아졸, 벤즈이미다졸, 인다졸, 이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 우라졸, 타오우라실, 메르캅토이미다졸, 메르캅토피리미딘 등의 복소환상화합물이나 1,1-디메틸우레아, 1,3-디메틸우레아 등의 요소 또는 티오요소화합물을 들 수 있으며 이들 실란커플링제 중 1종 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
Specific examples of such a silane coupling agent include chlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethylvinylchlorosilane, methyldiphenylchlorosilane, and chloromethyldimethylchlorosilane; trimethylmethoxysilane, dimethyldiethoxysilane and methyldimethoxysilane. Alkoxysilanes such as dimethylvinylethoxysilane, diphenyldimethoxysilane and phenyltriethoxysilane; hexamethyldisilazane, N, N'-bis (trimethylsilyl) urea, dimethyltrimethylsilylamine, trimethylsilyl Silazanes such as midazole, vinyl trichlorosilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltri Silanes such as ethoxysilane and γ- (N-piperidinyl) propyltriethoxysilane; benzotriazole, benzimidazole, indazole, imidazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzo Thiazole, 2-meth Heterocyclic compounds, such as captobenzoxazole, urasol, tauracil, mercaptoimidazole, and mercaptopyrimidine, urea or thiourea compounds, such as 1,1-dimethylurea and 1,3-dimethylurea, are mentioned. One kind or two or more kinds of these silane coupling agents can be used in combination.

이들 실란커플링제 중 γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란이 중합성 액정으로 이루어진 위상차재료와의 밀착력, 보존안정성의 관점에서 특히 바람직하다.
Of these silane coupling agents, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane is particularly preferable in view of adhesion to a retardation material made of a polymerizable liquid crystal and storage stability.

상기 실란커플링제는 예를 들면 신에쯔카가쿠코교(주)제, MOMENTIVE제나 Dow Corning Toray Co.,Ltd.제 등의 시판품의 화합물을 사용할 수 있으며, 이들 시판품은 용이하게 입수할 수 있다.
The said silane coupling agent can use the compound of commercial items, such as the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make, the MOMENTIVE agent, and the Dow Corning Toray Co., Ltd., For example, These commercial items can be obtained easily.

이들 실란커플링제의 첨가량은 (A)성분의 100질량부에 대해 통상적으로 0.5~30질량부, 보다 바람직하게는 0.8~20질량부이다. 20질량부이상 사용하면 도막의 용제내성이 저하하는 경우가 있으며, 또한, 0.5질량부미만에서는 실란커플링제의 충분한 효과를 얻을 수 없는 경우가 있다.
The addition amount of these silane coupling agents is 0.5-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 0.8-20 mass parts. When 20 mass parts or more are used, the solvent resistance of a coating film may fall, and when less than 0.5 mass part, sufficient effect of a silane coupling agent may not be acquired.

<(F)성분>
<(F) component>

본 발명에서는 (F)성분으로 비스말레이미드 화합물을 함유해도 된다. (F)성분인 비스말레이미드 화합물은 평탄화성을 추가로 향상시키는데 유효하며, 예를 들면 하기 식(4)로 나타나는 화합물을 들 수 있다. 이들 비스말레이미드 화합물은 특히 상기의 것에 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용할 수 있다.
In this invention, you may contain a bismaleimide compound as (F) component. The bismaleimide compound which is (F) component is effective in further improving planarization property, For example, the compound represented by following formula (4) is mentioned. These bismaleimide compounds are not specifically limited to said thing. These can use together single or 2 types or more of components.

Figure pct00027
Figure pct00027

상기 식 중, Y는 지방족기, 환식구조를 포함하는 지방족기 및 방향족기로 이루어진 군에서 선택되는 유기기 또는 이들 군에서 선택되는 복수의 유기기의 조합으로 이루어진 유기기이다. 그리고 Y에는 에스테르 결합, 에테르 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합 등의 결합을 포함할 수 있다.
In the above formula, Y is an organic group consisting of an organic group selected from the group consisting of an aliphatic group, an aliphatic group including a cyclic structure and an aromatic group, or a combination of a plurality of organic groups selected from these groups. And Y may include bonds such as ester bonds, ether bonds, amide bonds, urethane bonds and the like.

상기 식(4)로 나타나는 비스말레이미드 화합물로는 예를 들면 N,N'-3,3-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, 3,3-디페닐술폰비스말레이미드, 4,4-디페닐술폰비스말레이미드, N,N'-p-벤조페논비스말레이미드, N,N'-디페닐에탄비스말레이미드, N,N'-디페닐에테르비스말레이미드, N,N'-(메틸렌디-디테트라히드로페닐)비스말레이미드, N,N'-(3-에틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3, 3-디메틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디클로로)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-이소포론비스말레이미드, N,N'-톨리딘비스말레이미드, N,N'-디페닐프로판비스말레이미드, N,N'-나프탈렌비스말레이미드, N,N'-m-페닐렌비스말레이미드, N,N'-5-메톡시-1,3-페닐렌비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-클로로-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-에틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-프로필-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-이소프로필-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-부틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-메톡시-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-메틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-클로로-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 3,3-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)펜탄, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(3,5-디메틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(3,5-디브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, N,N'-에틸렌디말레이미드, N,N'-헥사메틸렌비스말레이미드, N,N'-도데카메틸렌비스말레이미드, N,N'-m-크실렌비스말레이미드, N,N'-p-크실렌비스말레이미드, N,N'-1,3-비스메틸렌시클로헥산비스말레이미드, N,N'-2,4-톨릴렌비스말레이미드, N,N'-2,6-톨릴렌비스말레이미드 등을 들 수 있으며, 상기한 것에 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용할 수 있다.
As a bismaleimide compound represented by said Formula (4), for example, N, N'-3,3- diphenylmethane bismaleimide, N, N '-(3,3-diethyl-5,5-dimethyl ) -4,4-diphenyl-methanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebismaleimide, 3,3-diphenylsulfonbismaleimide, 4,4-diphenylsulfonbismaleimide Mead, N, N'-p-benzophenonebismaleimide, N, N'-diphenylethanebismaleimide, N, N'-diphenyletherbismaleimide, N, N '-(methylenedi-ditetra Hydrophenyl) bismaleimide, N, N '-(3-ethyl) -4,4-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-(3, 3-dimethyl) -4,4-diphenylmethanebis Maleimide, N, N '-(3,3-diethyl) -4,4-diphenylmethanebismaleimide, N, N'-(3,3-dichloro) -4,4-diphenylmethanebismaleimide Mid, N, N'-isophorone bismaleimide, N, N'- tolidine bismaleimide, N, N'- diphenyl propane bismaleimide, N, N'- naphthalene bismaleimide, N, N ' -m-phenylenebismaleimide, N, N'-5- Oxy-1,3-phenylenebismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-4- (4-maleimidephenoxy Phenyl) propane, 2,2-bis (3-bromo-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-ethyl-4- (4-maleimidephenoxy ) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-propyl-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4- (4-maleimidephenoxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-butyl-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-methoxy-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl ) Propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) ethane, 1,1-bis (3-methyl-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) ethane, 1,1 -Bis (3-chloro-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) ethane, 1,1-bis (3-bromo-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) ethane, 3,3- Bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) pentane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) Pro , 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (3,5-dimethyl-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2,2-bis (3,5-dibromo-4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, N, N'-ethylenedimaleimide, N, N '-Hexamethylenebismaleimide, N, N'-dodecamethylenebismaleimide, N, N'-m-xylenebismaleimide, N, N'-p-xylenebismaleimide, N, N'-1 , 3-bismethylenecyclohexanebismaleimide, N, N'-2,4-tolylene bismaleimide, N, N'-2,6-tolylene bismaleimide, etc. are mentioned, It is limited to what was mentioned above. It doesn't happen. These can use together single or 2 types or more of components.

이들 비스말레이미드 중 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드 등의 방향족 비스말레이미드가 바람직하다.
Of these bismaleimides, 2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, N, N'-4,4-diphenylmethanebismaleimide, N, N '-(3,3 Aromatic bismaleimides such as -diethyl-5,5-dimethyl) -4,4-diphenyl-methanebismaleimide are preferred.

또한, 이들 방향족 비스말레이미드 중 보다 높은 평탄화성을 얻기 위해서는 분자량 1,000이하의 것이 바람직하다.
Moreover, in order to acquire higher planarity among these aromatic bismaleimide, the thing of molecular weight 1,000 or less is preferable.

본 발명에서 (F)성분인 비스말레이미드 화합물의 사용 비율은 (A)성분인 폴리에스테르 100질량부에 대해 0.5 내지 50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 30질량부이며, 특히 바람직하게는 2 내지 20질량부이다. 이 비율이 너무 적은 경우에는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서 얻어지는 경화막의 평탄화성을 향상시키는 효과를 얻기 어려운 경우가 있으며 너무 큰 경우에는 경화막의 투과율가 저하하거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
In this invention, it is preferable that the use ratio of the bismaleimide compound which is (F) component is 0.5-50 mass parts with respect to 100 mass parts of polyester which is (A) component, More preferably, it is 1-30 mass parts, Especially preferably Preferably it is 2-20 mass parts. When this ratio is too small, the effect of improving the planarization property of the cured film obtained from the polyester composition for thermosetting film formation may be difficult to be acquired, and when too large, the transmittance | permeability of a cured film may fall or a coating film may become rough.

<용제><Solvent>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 용제에 용해하여 용액상태로 사용되는 경우가 많다. 이 때 사용되는 용제는 (A)성분 내지 (C)성분, 필요에 따라 (D)성분 내지 (F)성분 및/또는 후술하는 그 외 첨가제를 용해하는 것이며 이와 같은 용해능을 가지는 용제라면 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되지 않는다.
The polyester composition for thermosetting film formation of this invention is melt | dissolved in a solvent, and is used in a solution state in many cases. The solvent used at this time melt | dissolves (A) component-(C) component, (D) component-(F) component, and / or the other additives mentioned later as needed, and if it is a solvent which has such a solubility, the kind And structures are not particularly limited.

이와 같은 용제로는 (A)성분의 중합에 사용한 용제나 하기의 용제를 들 수 있다. 예를 들면 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브, 부틸셀루솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 유산에틸, 유산부틸, 시클로헥사놀, 초산에틸, 초산부틸, 유산에틸, 유산부틸 등을 들 수 있다.
As such a solvent, the solvent used for superposition | polymerization of (A) component, and the following solvent are mentioned. For example, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol propyl ether, ethyl lactate, butyl lactate, cyclohexanol, ethyl acetate Butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, and the like.

이들 용제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

<그 외 첨가제><Other additives>

추가로 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 필요에 따라 계면 활성제, 레올로지 조정제 등의 밀착 보조제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 다가페놀이나 다가카르본산 등의 용해 촉진제 등을 함유할 수 있다.
Further, the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention may be used as the co-adjuvant, pigment, dye, preservative stabilizer, antifoaming agent, polyhydric phenol, etc., if necessary, so long as the effect of the present invention is not impaired. Dissolution accelerators, such as polyhydric carboxylic acid, etc. can be contained.

<열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물><Polyester composition for thermosetting film formation>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 (A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제, (C)성분인 디에스테르(또는 다가에스테르)를 함유하고 필요에 따라 (D)성분인 산화방지제(페놀화합물), (E)성분인 실란커플링제, (F)성분인 비스말레이미드 화합물, 추가로 그 외 첨가제 중 1종 이상을 함유할 수 있는 조성물이다. 그리고 통상적으로는 이들이 용제에 용해된 용액으로 사용되는 경우가 많다.
The polyester composition for thermosetting film formation of this invention contains the polyester which is (A) component, the crosslinking agent which is (B) component, and the diester (or polyhydric ester) which is (C) component, and if necessary, It is a composition which can contain 1 or more types of antioxidant (phenol compound), the silane coupling agent which is (E) component, the bismaleimide compound which is (F) component, and other additives. And usually, they are often used as a solution dissolved in a solvent.

이 중에서도 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 바람직한 예는 이하와 같다.
Among these, the preferable example of the polyester composition for thermosetting film formation of this invention is as follows.

[1] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[1]: Polyester composition for thermosetting film formation containing 3-50 mass parts (B) component and 1-100 mass parts (C) component based on 100 mass parts of (A) component.

[2] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[2]: Polyester composition for thermosetting film formation containing 3-50 mass parts (B) component, 1-100 mass parts (C) component, and a solvent based on 100 mass parts of (A) component.

[3] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분, 0.01 내지 5질량부의 (D)성분, 0.5 내지 30질량부의 (E)성분, 0.5 내지 50질량부의 (F)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[3]: 3 to 50 parts by mass of (B) component, 1 to 100 parts by mass of (C) component, 0.01 to 5 parts by mass of (D) component and 0.5 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of (A) component ( E) A component, the polyester composition for thermosetting film formation containing 0.5-50 mass parts (F) component.

[4] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 3 내지 50질량부의 (C)성분, 0.01 내지 5질량부의 (D)성분, 0.5 내지 30질량부의 (E)성분, 0.5 내지 50질량부의 (F)성분, 용제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[4]: 3 to 50 parts by mass of (B) component, 3 to 50 parts by mass of (C) component, 0.01 to 5 parts by mass of (D) component and 0.5 to 30 parts by mass based on 100 parts by mass of (A) component ( The polyester composition for thermosetting film formation containing E) component, 0.5-50 mass parts (F) component, and a solvent.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 용액으로 사용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상술한다.
The compounding ratio, preparation method, etc. at the time of using the polyester composition for thermosetting film formation of this invention as a solution are explained in full detail below.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 고형분의 비율은 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1 내지 80질량%이며, 바람직하게는 5 내지 60질량%이고, 보다 바람직하게는 10 내지 50질량%이다. 여기서, 고형분이란 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 전성분에서 용제를 제외한 것을 말한다.
Although the ratio of solid content in the polyester composition for thermosetting film formation of this invention is not specifically limited as long as each component is melt | dissolving uniformly in a solvent, it is 1-80 mass%, Preferably it is 5-60 mass%. More preferably, it is 10-50 mass%. Here, solid content means what remove | excluding the solvent from the all components of the polyester composition for thermosetting film formation.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제방법은 특별히 한정되지 않지만 그 조제법으로는 예를 들면 (A)성분을 용제에 용해하고 이 용액에 (B)성분, (C)성분, 추가로 (D)성분, (E)성분, (F)성분을 소정의 비율로 혼합하여 균일한 용액으로 만드는 방법, 또는 이 조제법의 적당한 단계에서 필요에 따라 그 외 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.
Although the preparation method of the polyester composition for thermosetting film formation of this invention is not specifically limited, As the preparation method, (A) component is melt | dissolved in a solvent, for example, (B) component, (C) component, A method of mixing the component (D), the component (E), and the component (F) in a predetermined ratio to form a uniform solution, or a method of additionally adding and mixing other additives as necessary in a suitable step of the preparation method. Can be mentioned.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제에 있어서는 용제 중에서의 중합반응에 의해 얻는 폴리에스테르의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 이 (A)성분의 용액에 상기와 같이 (B)성분, (C)성분, (D)성분, (E)성분, (F)성분 등을 넣어 균일한 용액으로 만들 때, 농도 조정을 목적으로 하여 용제를 추가 투입해도 된다. 이 때 폴리에스테르의 생성과정에서 사용되는 용제와 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제시에 농도 조정을 위해 사용되는 용제는 동일해도 되고 달라도 된다.
In preparation of the polyester composition for thermosetting film formation of this invention, the solution of the polyester obtained by the polymerization reaction in a solvent can be used as it is. In this case, when (B) component, (C) component, (D) component, (E) component, (F) component, etc. are put into the solution of this (A) component, and it makes a uniform solution, concentration adjustment is carried out. You may add an additional solvent for the purpose. At this time, the solvent used for preparation of the polyester and the solvent used for concentration adjustment at the time of preparation of the polyester composition for thermosetting film formation may be same or different.

그리고 조제된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 용액은 구경이 0.2μm정도의 필터 등을 사용하여 여과한 후 사용하는 것이 바람직하다.
And the solution of the prepared polyester composition for thermosetting film formation is preferable to use, after filtering using a filter etc. of about 0.2 micrometer in diameter.

<도막, 경화막 및 액정 배향층><Film, Cured Film, and Liquid Crystal Alignment Layer>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 기판(예를 들면 실리콘/이산화실리콘 피복 기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들면 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리 기판, 석영 기판, ITO 기판 등)이나 필름(예를 들면 트리아세틸셀룰로스 필름, 폴리에스테르 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름) 등의 위에 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 이어 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등으로 도포한 후 핫플레이트 또는 오븐 등으로 예비건조(프리베이크)함으로써 도막을 형성할 수 있다. 그 후 이 도막을 가열처리함으로써 피막이 형성된다.
The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention may be a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a metal, for example, a substrate coated with aluminum, molybdenum, chromium, etc., a glass substrate, or a quartz substrate). , ITO substrate, etc.) or a film (for example, a resin film such as a triacetyl cellulose film, a polyester film, an acrylic film), and the like, a rotary coating, a spill coating, a roll coating, a slit coating, and a slit, followed by a rotary coating and an inkjet coating. After coating by printing or the like, the coating film can be formed by pre-drying (pre-baking) with a hot plate or an oven. Thereafter, a coating is formed by heat treatment of the coating film.

이 가열처리의 조건으로는 예를 들면 온도 70℃ 내지 160℃, 시간 0.3 내지 60분간의 범위 중에서 적절히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은 바람직하게는 80℃ 내지 140℃, 0.5 내지 10분간이다.
As conditions of this heat processing, the heating temperature and heating time suitably selected from the range of the temperature of 70 degreeC-160 degreeC, and 0.3 to 60 minutes of hours are employ | adopted, for example. The heating temperature and the heating time are preferably 80 ° C to 140 ° C and 0.5 to 10 minutes.

또한, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물로 형성되는 피막의 막 두께는 예를 들면 0.1 내지 30μm이며, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 특성을 고려하여 적절히 선택할 수 있다.
In addition, the film thickness of the film formed from the polyester composition for thermosetting film formation is 0.1-30 micrometers, for example, and can select suitably in consideration of the level | step difference of the board | substrate to be used, and optical and electrical characteristics.

포스트베이크로는 일반적으로 온도 140℃ 내지 250℃의 범위에서 선택된 가열온도로 핫플레이트에서는 5 내지 30분간, 오븐에서는 30 내지 90분간 처리하는 방법이 채택된다.
The postbaking is generally carried out at a heating temperature selected in the range of 140 ° C. to 250 ° C. for 5 to 30 minutes in a hot plate and 30 to 90 minutes in an oven.

상기와 같은 조건하에서 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 경화시킴으로써 기판의 단차를 충분히 평탄화할 수 있고 고투명성을 가지는 경화막을 형성할 수 있다.
By hardening the polyester composition for thermosetting film formation of this invention on condition mentioned above, the level | step difference of a board | substrate can fully be planarized and the cured film which has high transparency can be formed.

이와 같이 하여 형성된 경화막은 러빙 처리를 실시함으로써 액정 배향층, 즉, 액정성을 가지는 화합물을 배향시키는 층으로 기능하게 할 수 있다.
The cured film formed in this way can function as a layer which orientates a liquid crystal aligning layer, ie, a compound which has liquid crystallinity, by performing a rubbing process.

러빙 처리의 조건으로는 일반적으로 회전속도 300 내지 1000rpm, 이송속도 3 내지 200mm/초, 압입량 0.1 내지 1mm의 조건이 사용된다.
As conditions of a rubbing process, the conditions of a rotational speed of 300-1000 rpm, a feed rate of 3-200 mm / sec, and an indentation amount of 0.1-1 mm are generally used.

그 후, 순수 등을 사용하여 초음파세정에 의해 러빙으로 발생한 잔사를 제거한다.
Thereafter, pure water or the like is used to remove residues generated by rubbing by ultrasonic cleaning.

이와 같이 하여 형성된 액정 배향층 상에 위상차 재료를 도포한 후, 위상차 재료를 액정 상태로 하여 광경화시켜 광학이방성을 가지는 층을 형성할 수 있다.
After apply | coating a phase difference material on the liquid crystal aligning layer formed in this way, it can photocure by making a phase difference material into a liquid crystal state, and can form the layer which has optical anisotropy.

위상차 재료로는 예를 들면 중합성기를 가지는 액정 모노머나 이를 함유하는 조성물 등이 사용된다.
As a retardation material, the liquid crystal monomer which has a polymeric group, the composition containing this, etc. are used, for example.

또한, 상기와 같이 하여 형성된 액정 배향층을 가지는 2장의 기판을, 스페이서를 통해 액정 배향층이 대향하도록 접합한 후 이들 기판 사이에 액정을 주입하여 액정이 배향된 액정표시소자를 만들 수 있다.
In addition, two substrates having the liquid crystal alignment layer formed as described above may be bonded to each other so that the liquid crystal alignment layers face each other through spacers, and then liquid crystal is injected between these substrates to form a liquid crystal display device in which the liquid crystal is aligned.

또한, 액정 배향층을 형성하는 기재를 필름으로 한 경우는 광학이방성 필름으로 유용한 재료가 된다.
Moreover, when using the base material which forms a liquid crystal aligning layer as a film, it becomes a material useful as an optically anisotropic film.

이상과 같이 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 각종 광학 이방성 필름, 액정 표시 소자에 호적하게 사용할 수 있다.
As mentioned above, the polyester composition for thermosetting film formation of this invention can be used suitably for various optically anisotropic films and liquid crystal display elements.

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 적어도 필요한 수준의 평탄화성을 가지기 때문에 박막 트랜지스터(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료로도 유용하며, 특히 칼라필터의 오버코트재, TFT형 액정소자의 층간 절연막, 유기 EL 소자의 절연막 등을 형성하는 재료로도 유용하게 사용될 수 있다.
Further, the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention has at least the required level of flattening properties, so that protective films, planarizing films, insulating films, etc. in various displays such as thin film transistor (TFT) type liquid crystal display elements, organic EL elements, etc. It is also useful as a material for forming a cured film, and particularly useful as a material for forming an overcoat material of a color filter, an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal device, an insulating film of an organic EL device, and the like.

실시예
Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다.
Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these Examples.

[실시예에서 사용하는 약기호][Weak symbol used in the Example]

이하의 실시예에서 사용하는 약기호의 의미는 다음과 같다.
The meaning of the abbreviation used in the following Examples is as follows.

<폴리에스테르 및 디에스테르화합물 원료>Polyester and diester compound raw materials

HBPDA : 3,3'-4,4'-비시클로헥실테트라카르본산이무수물HBPDA: 3,3'-4,4'-bicyclohexyl tetracarboxylic dianhydride

BPDA : 비페닐테트라카르본산이무수물BPDA: biphenyltetracarboxylic dianhydride

BPADA : 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스프탈산무수물BPADA: 4,4 '-(4,4'-isopropylidenediphenoxy) bisphthalic anhydride

HPA : 헥사히드로프탈산무수물HPA: Hexahydrophthalic anhydride

CHDO : 1,4-시클로헥산디올CHDO: 1,4-cyclohexanediol

CHTO : 1,3,5-시클로헥산트리올CHTO: 1,3,5-cyclohexanetriol

PE : 펜타에리스리톨PE: Pentaerythritol

HBPA : 수소화비스페놀AHBPA: Hydrogenated Bisphenol A

THPA : 1,2,5,6-테트라히드로프탈산무수물
THPA: 1,2,5,6-tetrahydrophthalic anhydride

<폴리에스테르 및 디에스테르화합물 중합촉매><Polyester and Polyester Compound Polymerization Catalyst>

BTEAC : 벤질트리에틸암모늄클로라이드BTEAC: benzyltriethylammonium chloride

<폴리이미드전구체원료><Polyimide precursor raw material>

CBDA : 시클로헥산테트라카르본산이무수물CBDA: cyclohexanetetracarboxylic dianhydride

pDA : p-페닐렌디아민
pDA: p-phenylenediamine

<아크릴공중합체원료><Acrylic copolymer raw material>

MAA : 메타크릴산MAA: Methacrylic acid

MMA : 메틸메타크릴레이트MMA: Methyl methacrylate

HEMA : 2-히드록시에틸메타크릴레이트HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

CHMI : N-시클로헥실말레이미드CHMI: N-cyclohexylmaleimide

AIBN : 아조비스이소부티로니트릴
AIBN: azobisisobutyronitrile

<에폭시화합물><Epoxy compound>

CEL : Daicel Chemical Industries Limited.제 CELLOXIDE P-2021(제품명)(화합물명 : 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카르복실레이트)
CEL: CELLOXIDE P-2021 (product name) (compound name: 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexenecarboxylate) manufactured by Daicel Chemical Industries Limited.

<산화방지제>Antioxidant

TBHBM : 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)메시틸렌TBHBM: 2,4,6-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene

MBP : 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀)
MBP: 4,4'-methylenebis (2,6-di-t-butylphenol)

<실란커플링제><Silane coupling agent>

MPS : γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란
MPS: γ-methacryloxypropyl trimethoxysilane

<비스말레이미드화합물>Bismaleimide Compounds

BMI1 : N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드
BMI1: N, N '-(3,3-diethyl-5,5-dimethyl) -4,4-diphenyl-methanebismaleimide

<용제><Solvent>

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: Propylene Glycol Monomethyl Ether

NMP : N-메틸피롤리돈
NMP: N-methylpyrrolidone

이하의 합성예에 따라 얻은 폴리에스테르, 폴리이미드 전구체 및 아크릴 공중합체의 수평균 분자량 및 중량 평균 분자량은 JASCO Corporation제 GPC장치(Shodex(등록상표)칼럼 KF803L 및 KF804L)를 사용하여 용출 용매 테트라히드로푸란을 유량 1ml/분으로 칼럼 중에(칼럼온도 40℃) 넣어 용리시키는 조건으로 측정했다. 또한, 하기의 수평균분자량(이하, Mn이라 함.) 및 중량 평균 분자량(이하, Mw라 함.)은 폴리스틸렌환산치로 나타냈다.
The number average molecular weight and weight average molecular weight of the polyester, polyimide precursor, and acrylic copolymer obtained according to the synthesis examples described below were obtained by using the GPC apparatus (Shodex® columns KF803L and KF804L) manufactured by JASCO Corporation. Was measured on the conditions which put in a column (column temperature 40 degreeC), and elute at a flow volume of 1 ml / min. In addition, the following number average molecular weight (henceforth Mn.) And weight average molecular weight (henceforth Mw.) Were shown by polystyrene conversion value.

<합성예 1>Synthesis Example 1

HBPDA 18.0g, BPDA 4.54g, HBPA 15.9g, THPA 2.01g, BTEAC 0.19g을 PGMEA 95.1g중에서 125℃에서 19시간 반응시킴으로써 폴리에스테르 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P1). 얻은 폴리에스테르의 Mn은 1,310, Mw는 3,270이었다.
Polyester solution (solid content: 30.0 mass%) was obtained by making HBPDA 18.0g, BPDA 4.54g, HBPA 15.9g, THPA 2.01g, and BTEAC0.19g react at 125 degreeC for 19 hours in 95.1g of PGMEA (P1). Mn of obtained polyester was 1,310 and Mw was 3,270.

<합성예 2>Synthesis Example 2

HBPDA 12.0g, HBPA 10.2g, THPA 0.95g, BTEAC 0.22g을 PGMEA 54.48g중에서 125℃에서 19시간 반응시킴으로써 폴리에스테르 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P2). 얻은 폴리에스테르의 Mn은 1,980, Mw는 3,500이었다.
The polyester solution (solid content concentration: 30.0 mass%) was obtained by making HBPDA 12.0g, HBPA 10.2g, THPA 0.95g, and BTEAC0.22g react at 125 degreeC in 54.48g of PGMEA for 19 hours (P2). Mn of obtained polyester was 1,980 and Mw was 3,500.

<합성예 3>&Lt; Synthesis Example 3 &

HBPDA 18.0g, BPADA 7.37g, HBPA 17.0g, THPA 2.15g, BTEAC 0.10g을 PGMEA 104.2g중에서 125℃에서 19시간 반응시킴으로써 폴리에스테르 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P3). 얻은 폴리에스테르의 Mn은 1,440, Mw는 3,080이었다.
Polyester solution (solid content: 30.0 mass%) was obtained by making HBPDA 18.0g, BPADA 7.37g, HBPA 17.0g, THPA 2.15g, and BTEAC0.10g react at 125 degreeC in 104.2g of PGMEA for 19 hours (P3). Mn of obtained polyester was 1,440 and Mw was 3,080.

<합성예 4>&Lt; Synthesis Example 4 &

HBPA 16.82g(0.070mol), THPA 20.85g(0.137mol), BTEAC 0.096g을 PGMEA 88.13g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A1).
16.82 g (0.070 mol) of HBPA, 20.85 g (0.137 mol) of THPA, and 0.096 g of BTEAC were reacted for 16 hours at 130 ° C. in 88.13 g of PGMEA to obtain a diester solution (solid content concentration of 30.0% by mass) (A1).

<합성예 5>&Lt; Synthesis Example 5 &

CHDO 8.13g(0.070mol), THPA 20.85g(0.137mol), BTEAC 0.096g을 PGMEA 67.86g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A2).
8.13 g (0.070 mol) of CHDO, 20.85 g (0.137 mol) of THPA, and 0.096 g of BTEAC were reacted for 16 hours at 130 ° C. in 67.86 g of PGMEA to obtain a diester solution (solid content concentration of 30.0% by mass) (A2).

<합성예 6>&Lt; Synthesis Example 6 &

HBPA 16.82g(0.070mol), HPA 21.13g(0.137mol), BTEAC 0.096g을 PGMEA 88.77g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A3).
16.82 g (0.070 mol) of HBPA, 21.13 g (0.137 mol) of HPA, and 0.096 g of BTEAC were reacted for 16 hours at 130 ° C. in 88.77 g of PGMEA to obtain a diester solution (solid content concentration of 30.0% by mass) (A3).

<합성예 7>Synthesis Example 7

CHTO 5.50g(0.042mol), THPA 17.08g(0.112mol), BTEAC 0.057g을 PGMEA 52.83g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A4).
5.50 g (0.042 mol) of CHTO, 17.08 g (0.112 mol) of THPA, and 0.057 g of BTEAC were reacted for 16 hours at 130 ° C. in 52.83 g of PGMEA to obtain a diester solution (solid content concentration of 30.0% by mass) (A4).

<합성예 8>Synthesis Example 8

PE 5.00g(0.037mol), THPA 20.10g(0.132mol), BTEAC 0.050g을 PGMEA 58.69g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A5).
PE 5.00 g (0.037 mol), THPA 20.10 g (0.132 mol), and BTEAC 0.050 g were reacted for 16 hours at 130 ° C. in 58.69 g of PGMEA to obtain a diester solution (solid content concentration of 30.0% by mass) (A5).

<합성예 9>Synthesis Example 9

CBDA 17.7g, pDA 10.2g을 NMP 66.4g중에서 23℃에서 24시간 반응시킴으로써 폴리이미드 전구체 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P4). 얻은 폴리이미드전구체의 Mn은 5,800, Mw는 12,500이었다.
The polyimide precursor solution (solid content concentration: 30.0 mass%) was obtained by making CBDA17.7g and pDA10.2g react in NMP66.4g for 24 hours at 23 degreeC (P4). Mn of the obtained polyimide precursor was 5,800 and Mw was 12,500.

<합성예10>Synthesis Example 10

모노머성분으로 MAA 10.9g, CHMI 35.3g, HEMA 25.5g, MMA 28.3g을 사용하고 라디칼 중합 개시제로 AIBN 5g을 사용하여 이들을 용제 PGMEA 150g중에서 온도 60℃ 내지 100℃에서 중합반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분 농도:40.0 질량%)을 얻었다(P5). 얻은 아크릴 공중합체 용액의 Mn은 3,800, Mw는 6,700이었다.
Acrylic copolymer solution was prepared by using 10.9 g of MAA, 35.3 g of CHMI, 25.5 g of HEMA, 28.3 g of MMA as the monomer component, and 5 g of AIBN as the radical polymerization initiator, and polymerizing them at a temperature of 60 to 100 ° C. in 150 g of solvent PGMEA. Solid content concentration: 40.0 mass%) was obtained (P5). Mn of the obtained acrylic copolymer solution was 3,800 and Mw was 6,700.

<실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3><Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3>

표 1에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 조제하고 각각에 대해 이 조성물로 얻은 경화막에 대해 각각 평탄화성, 용제내성, 배향성, 밀착성, 투명성 및 내열성(투과율)에 관한 평가를 실시했다.
Each composition of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was prepared with the composition shown in Table 1, and the flattening property, solvent resistance, orientation, adhesiveness and transparency of the cured film obtained by the composition for each, respectively. And evaluation about heat resistance (transmittance) was performed.

(A)성분*의 용액(g)(A) solution of component (A) (B)성분(g)(B) Component (g) (C)성분(g)(C) component (g) (D)성분(g)(D) component (g) (E)성분(g)(E) component (g) (F)성분(g)(F) Component (g) 용제(g)Solvent (g) 실시예 1Example 1 P1
14
P1
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 2Example 2 P2
14
P2
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 3Example 3 P3
14
P3
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 4Example 4 P2
10
P2
10
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
10
A1
10
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 5Example 5 P2
14
P2
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
MBP
0.036
MBP
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 6Example 6 P2
16
P2
16
CEL
1.5
CEL
1.5
A2
4.0
A2
4.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 7Example 7 P3
14
P3
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A3
6.0
A3
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
BM11
0.6
BM11
0.6
PGME
5.8
PGME
5.8
실시예 8Example 8 P1
14
P1
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A4
6.0
A4
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 9Example 9 P1
14
P1
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A5
6.0
A5
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
비교예 1Comparative Example 1 P2
20
P2
20
-- -- -- PGMEA
2.22
PGMEA
2.22
비교예 2Comparative Example 2 P4
20
P4
20
CEL
1.2
CEL
1.2
-- -- NMP
2.97
NMP
2.97
비교예 3Comparative Example 3 P5
20
P5
20
CEL
1.2
CEL
1.2
-- -- PGMEA
2.80
PGMEA
2.80

*P1~P3: 폴리에스테르 용액 P4: 폴리이미드 전구체 용액 P5: 아크릴 공중합체 용액
* P1-P3: Polyester solution P4: Polyimide precursor solution P5: Acrylic copolymer solution

[평탄화성의 평가][Evaluation of Flatness]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 높이 1.0μm, 라인폭 100μm, 라인간 스페이스 40μm의 단차기판(유리제) 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막두께 2.5μm의 도막을 형성했다. 막 두께는 FILMETRICS사제 F20를 사용하여 측정했다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 가열함으로써 포스트베이크를 실시하여 막두께 2.0μm의 경화막을 형성했다.
Each composition of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied on a stepped substrate (made of glass) with a height of 1.0 μm, a line width of 100 μm, and an interline space of 40 μm using a spin coater, followed by a temperature of 100 Prebaking was performed on the hotplate at 120 degreeC for 120 second, and the coating film of 2.5 micrometers in thickness was formed. The film thickness was measured using F20 made from FILMETRICS. The coating film was heated in a hot air circulation oven at a temperature of 230 ° C. for 30 minutes to post-bake to form a cured film having a thickness of 2.0 μm.

단차기판라인상의 도막과 스페이스상의 도막의 막두께 차이를 측정하고(도1 참조), 평탄화율(DOP)=100×〔1-{도막의 막두께 차이(μm)/단차기판의 높이(1.0μm)}〕의 식을 사용하여 평탄화율을 구했다.
The film thickness difference between the coating film on the stepped substrate line and the coating film on the space (see Fig. 1) was measured. )}] Was used to determine the planarization rate.

또한, 평탄화막으로 인정되기 위해서는 적어도 60%이상의 평탄화율을 가질 것이 요구된다.
In addition, in order to be recognized as a planarization film, it is required to have a planarization rate of at least 60% or more.

[용제내성의 평가][Evaluation of Solvent Tolerance]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 실리콘웨이퍼에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막두께 2.8μm의 도막을 형성했다. 막두께는 FILMETRICS사제 F20을 사용하여 측정했다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 막두께 2.5μm의 경화막을 형성했다.
Each composition of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a silicon wafer using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 ° C. for 120 seconds to achieve a film thickness of 2.8 μm. A coating film was formed. The film thickness was measured using F20 by FILMETRICS. This coating film was post-baked in the hot-air circulation type oven for 30 minutes at the temperature of 230 degreeC, and the cured film with a film thickness of 2.5 micrometers was formed.

이 경화막을 PGMEA 또는 NMP 중에 60초간 침지시킨 후 각각 온도 100℃에서 60초간 건조하고 막 두께를 측정했다. PGMEA 또는 NMP 침지 후에 막 두께 변화가 없는 것을 ○, 침지 후에 막 두께의 감소가 발견되는 것을 ×로 표시했다.
After immersing this cured film in PGMEA or NMP for 60 second, it dried at the temperature of 100 degreeC for 60 second, respectively, and measured the film thickness. (Circle) that there was no film thickness change after PGMEA or NMP immersion, and (x) that the decrease of film thickness is found after immersion are shown.

[배향성의 평가][Evaluation of Orientation]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 ITO기판 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막 두께 2.8μm의 도막을 형성했다. 막 두께는 FILMETRICS사제 F20을 사용하여 측정했다. 이 막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 경화막을 형성했다.
Each composition of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied on a ITO substrate using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 ° C. for 120 seconds to obtain a film thickness of 2.8 μm. Formed a coating film. The film thickness was measured using F20 by FILMETRICS. The film was post-baked in a hot air circulation oven at a temperature of 230 ° C. for 30 minutes to form a cured film.

이 경화막을 회전속도 400rpm, 이송속도 30mm/초, 압입량 0.4mm로 러빙 처리했다. 러빙 처리한 기판을 순수로 5분간 초음파 세정했다.
The cured film was subjected to a rubbing treatment at a rotational speed of 400 rpm, a feed rate of 30 mm / sec, and an indentation amount of 0.4 mm. The rubbed substrate was ultrasonically cleaned for 5 minutes with pure water.

이 기판 상에 액정 모노머로 이루어진 위상차 재료를 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 80℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막 두께 1.4μm의 도막을 형성했다. 이 기판을 질소 분위기하에 1,000mJ로 노광했다. 제작한 기판을 편광판에 개재시키고 배향성을 육안으로 확인했다. 기판을 45도 기울였을 때와 기울이지 않았을 때, 빛 투과성이 현저하게 변화하는 것을 ○, 변화하지 않는 것을 ×로 표시했다.
After apply | coating the phase difference material which consists of liquid crystal monomers on this board | substrate using a spin coater, it prebaked on the hotplate for 60 second at 80 degreeC, and formed the coating film of 1.4 micrometer in thickness. This substrate was exposed at 1,000 mJ under a nitrogen atmosphere. The produced board | substrate was interposed in the polarizing plate, and the orientation was visually confirmed. When the board | substrate was inclined at 45 degree | times, and when it was not inclined, it marked with (circle) that the light transmittance changed remarkably and (x).

[밀착성의 평가][Evaluation of Adhesiveness]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 석영 기판 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시한 후 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 경화막을 형성했다.
Each composition of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied onto a quartz substrate using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 ° C. for 120 seconds at a temperature of 230 ° C. Post-baking was performed in the hot air circulation oven for 30 minutes, and the cured film was formed.

이 경화막을 회전속도 400rpm, 이송속도 30mm/초, 압입량 0.4mm로 러빙 처리했다. 러빙 처리한 기판을 순수로 5분간 초음파 세정했다.
The cured film was subjected to a rubbing treatment at a rotational speed of 400 rpm, a feed rate of 30 mm / sec, and an indentation amount of 0.4 mm. The rubbed substrate was ultrasonically cleaned for 5 minutes with pure water.

이 기판 상에 액정 모노머로 이루어진 위상차 재료를 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 80℃에서 60초간, 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막두께 1.4μm의 도막을 형성했다. 이 기판을 질소 분위기하에 1,000mJ로 노광했다. 제작한 도막에 1mm X 1mm의 모눈을 25개 만든 후 점착 테이프 박리시험(사용 테이프 : 셀로 테이프(등록상표))을 실시했다. 모눈 25개 중 전혀 벗겨지지 않는 것을 ○, 1개라도 벗겨진 것을 ×로 표시했다.
After apply | coating the phase difference material which consists of liquid crystal monomers on this board | substrate using a spin coater, it prebaked on the hotplate for 60 second at 80 degreeC, and formed the coating film of 1.4 micrometer in film thickness. This substrate was exposed at 1,000 mJ under a nitrogen atmosphere. After making 25 grids of 1 mm X 1 mm in the produced coating film, an adhesive tape peeling test (used tape: Cello Tape (registered trademark)) was performed. (Circle) and the thing which peeled off at least one of 25 grid | grids were shown by x.

[투명성(투과율)의 평가][Evaluation of Transparency (Transmittance)]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 석영 기판 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막 두께 2.8μm의 도막을 형성했다. 막 두께는 FILMETRICS사제 F20을 사용하여 측정했다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 경화막을 형성했다.
Each composition of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied on a quartz substrate using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 ° C. for 120 seconds to obtain a film thickness of 2.8 μm. Formed a coating film. The film thickness was measured using F20 by FILMETRICS. This coating film was post-baked in the hot-air circulation type oven for 30 minutes at the temperature of 230 degreeC, and the cured film was formed.

이 경화막을 자외선 가시 분광 광도계(Shimadzu Corporation제 SHIMADSUUV-2550형번)를 사용하여 파장 400nm일 때의 투과율을 측정했다.
The transmittance | permeability at the wavelength of 400 nm was measured for this cured film using the ultraviolet-visible spectrophotometer (SHIMADSUUV-2550 model number by Shimadzu Corporation).

[내열성(투과율)의 평가][Evaluation of Heat Resistance (Transmittance)]

상술한 투명성을 평가한 경화막을 추가로 온도 230℃에서 3시간 열풍 순환식 오븐에서 가열한 후 자외선 가시 분광 광도계(Shimadzu Corporation SHIMADSUUV-2550형번)를 사용하여 파장 400nm일 때의 투과율을 측정했다.
The cured film which evaluated the transparency mentioned above was further heated in the hot-air circulation type oven for 3 hours at the temperature of 230 degreeC, and the transmittance | permeability at the wavelength of 400 nm was measured using the ultraviolet-visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation SHIMADSUUV-2550 model number).

[평가의 결과][Evaluation result]

이상, 평가를 실시한 결과를 다음의 표 2에 나타낸다.
As mentioned above, the result of having evaluated is shown in following Table 2.


평탄화율(%)Planarization rate (%) 용제내성Solvent resistance 배향성
Orientation
밀착성
Adhesion
투명성(%)
Transparency (%)
내열성(%)
Heat resistance (%)
PGMEAPGMEA NMPNMP 실시예 1Example 1 6161

Figure pct00028
Figure pct00028
Figure pct00029
Figure pct00029
Figure pct00030
Figure pct00030
Figure pct00031
Figure pct00031
9898 9393 실시예 2Example 2 6161
Figure pct00032
Figure pct00032
Figure pct00033
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00034
Figure pct00035
Figure pct00035
9999 9797
실시예 3Example 3 6363
Figure pct00036
Figure pct00036
Figure pct00037
Figure pct00037
Figure pct00038
Figure pct00038
Figure pct00039
Figure pct00039
9797 9292
실시예 4Example 4 6464
Figure pct00040
Figure pct00040
Figure pct00041
Figure pct00041
Figure pct00042
Figure pct00042
Figure pct00043
Figure pct00043
9999 9797
실시예 5Example 5 6161
Figure pct00044
Figure pct00044
Figure pct00045
Figure pct00045
Figure pct00046
Figure pct00046
Figure pct00047
Figure pct00047
9999 9494
실시예 6Example 6 6060
Figure pct00048
Figure pct00048
Figure pct00049
Figure pct00049
Figure pct00050
Figure pct00050
Figure pct00051
Figure pct00051
9999 9696
실시예 7Example 7 6464
Figure pct00052
Figure pct00052
Figure pct00053
Figure pct00053
Figure pct00054
Figure pct00054
Figure pct00055
Figure pct00055
9898 9595
실시예 8Example 8 6363
Figure pct00056
Figure pct00056
Figure pct00057
Figure pct00057
Figure pct00058
Figure pct00058
Figure pct00059
Figure pct00059
9999 9797
실시예 9Example 9 6060
Figure pct00060
Figure pct00060
Figure pct00061
Figure pct00061
Figure pct00062
Figure pct00062
Figure pct00063
Figure pct00063
9797 9595
비교예 1Comparative Example 1 -- ×× ×× -- -- -- -- 비교예 2Comparative Example 2 2020
Figure pct00064
Figure pct00064
Figure pct00065
Figure pct00065
Figure pct00066
Figure pct00066
×× 8585 8484
비교예 3Comparative Example 3 6565
Figure pct00067
Figure pct00067
Figure pct00068
Figure pct00068
×× ×× 9696 9595

실시예 1 내지 실시예 9는 평탄화율, PGMEA, NMP 모두에 내성이 있었다. 또한, 모두 양호한 배향성을 나타내고, 고온소성 후에 추가로 고온 소성한 후에도 높은 투과율(투명성)을 달성하였으며 내열성도 구비했다. 그리고 모든 실시예는 위상차 재료와의 밀착성이 양호했다.
Examples 1 to 9 were resistant to all planarization rates, PGMEA, and NMP. In addition, all exhibited good orientation, and even after high-temperature baking after high-temperature baking, high transmittance (transparency) was achieved and heat resistance was also provided. And all the Examples had good adhesiveness with retardation material.

한편, 비교예 1은 경화막이 형성되지 않았다.
On the other hand, in the comparative example 1, the cured film was not formed.

또한, 비교예 2는 용제내성, 내열성, 배향성은 양호했지만 투명성에 과제를 남겼으며, 평탄화율이 매우 낮고 밀착성이 열화했다.
Moreover, although the solvent resistance, heat resistance, and orientation were favorable in Comparative Example 2, the problem remained in transparency, the planarization rate was very low, and the adhesiveness deteriorated.

그리고 비교예 3은 평탄화율, 용제내성, 투명성은 양호했지만, 배향성, 밀착성이 열화했다.
And although the flattening rate, solvent resistance, and transparency of Comparative Example 3 were favorable, the orientation and adhesiveness deteriorated.

이상과 같이 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 경화막형성시에 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 등의 글리콜계 용제를 사용할 수 있으며 또한 얻은 경화막은 우수한 광투과성, 용제내성, 내열성, 평탄화성, 밀착성 및 배향성 모든 성능이 양호했다.
As mentioned above, the polyester composition for thermosetting film formation of this invention can use glycol solvent, such as propylene glycol monomethyl ether acetate, at the time of cured film formation, and the obtained cured film is excellent in light transmittance, solvent resistance, heat resistance, and flatness. Chemical performance, adhesiveness and orientation All the performances were good.

[산업상의 이용가능성][Industrial Availability]

본 발명에 의한 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 광학 이방성 필름이나 액정 표시 소자의 액정 배향층으로 매우 유용하며, 또한 박막 트랜지스터(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료, 특히 TFT형 액정 소자의 층간 절연막, 칼라필터의 보호막, 유기 EL 소자의 절연막 등을 형성하는 재료로도 호적하다.The polyester composition for thermosetting film formation by this invention is very useful as a liquid crystal aligning layer of an optically anisotropic film or a liquid crystal display element, and also has a protective film in various displays, such as a thin-film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic electroluminescent element. And a material for forming a cured film such as a flattening film or an insulating film, in particular, an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal element, a protective film of a color filter, an insulating film of an organic EL element, or the like.

Claims (18)

(A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 하기 식(1)로 나타나는 적어도 한 종의 디에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00069

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타낸다. 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)
The polyester composition for thermosetting film formation containing the polyester which is (A) component, the crosslinking agent which is (B) component, and at least 1 sort (s) of diester compound represented by following formula (1) which is (C) component.
[Formula 1]
Figure pct00069

(Wherein P represents an alicyclic group, an alicyclic group or an aliphatic group or a structure represented by formula (2), and Q represents an alicyclic group or an alicyclic group or an aliphatic group. R in the formula (2) represents alkylene) Group.)
제 1항에 있어서,
(C)성분이 하기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물 1몰과 하기 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물의 1.7 내지 2몰을 반응시킨 디에스테르 화합물인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 2]
Figure pct00070

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, P 및 Q는 각각 각 기 중에 포함되는 임의의 수소 원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다. 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)
The method of claim 1,
The polyester composition for thermosetting film formation whose (C) component is a diester compound by which 1 mol of the diol compounds represented by following formula (iii), and 1.7-2 mol of dicarboxylic anhydrides represented by following formula (iv) react.
(2)
Figure pct00070

(In formula, P represents an alicyclic group, a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group, or the structure represented by Formula (2). Any hydrogen atom to be substituted may be substituted with an aliphatic group, in which R represents an alkylene group.)
제 2항에 있어서,
P가 하기 식(1P1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 3]
Figure pct00071

(식 중, P1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, P1기 중의 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다. R11은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, R12, R13은 각각 독립해서 단일 결합 또는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, H는 0 또는 1을 나타낸다.)
The method of claim 2,
The polyester composition for thermosetting film formation in which P represents group represented by a following formula (1P1).
(3)
Figure pct00071

In the formula, P 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, and any hydrogen atom in the P 1 group may be independently substituted with an aliphatic group. R 11 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, or 1 carbon atom. A saturated hydrocarbon group having from 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom, R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and H is 0 Or 1).
제 2항 또는 제 3항에 있어서,
Q가 하기 식(1Q1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 4]
Figure pct00072

(식 중, Q1은 탄소 원자수 4 내지 8의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타내고, Q1기 중의 임의의 수소 원자는 지방족기로 치환되어 있어도 된다. X는 단일 결합 또는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.)
4. The method according to claim 2 or 3,
Polyester composition for thermosetting film formation in which Q represents group represented by a following formula (1Q1).
[Chemical Formula 4]
Figure pct00072

(In the formula, Q 1 represents 4 to 8, a cycloalkylene group or an cycloalkyl alkenylene carbon atoms, and optionally any hydrogen atom in the group Q 1 is substituted with an aliphatic. X 1 to be a single bond or a carbon atom 3 represents an alkylene group.)
제 1항에 있어서,
(C)성분이 하기 식(1-a)로 나타나는 적어도 한 종의 다가 에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 5]
Figure pct00073

(식 중, Pa는 산소 원자 또는 질소 원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족 알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타낸다. 식(2-a) 중 Ra는 알킬렌기를 나타낸다.)
The method of claim 1,
(C) The polyester composition for thermosetting film formation containing at least 1 sort (s) of polyhydric ester compound represented by a following formula (1-a).
[Chemical Formula 5]
Figure pct00073

(In formula, Pa shows the structure represented by the alicyclic group or aliphatic alkyl group which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom, or a formula (2-a), Qa shows an alicyclic group, t shows the integer of 1-5. Ra in formula (2-a) represents an alkylene group.)
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
(A)성분이 하기 식(3)으로 나타나는 구조단위를 포함하는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 6]
Figure pct00074

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to any one of claims 1 to 5,
The polyester composition for thermosetting film formation whose (A) component is polyester containing the structural unit represented by following formula (3).
[Formula 6]
Figure pct00074

(In formula, A represents the tetravalent organic group which the 4 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group, B shows the bivalent organic group which the 2 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group.)
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
(A)성분이 하기 식(i)로 나타나는 테트라카르본산 이무수물과 식(ii)로 나타나는 디올 화합물을 반응시켜서 얻는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 7]
Figure pct00075

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to any one of claims 1 to 6,
The polyester composition for thermosetting film formation which is polyester obtained by making (A) component react with tetracarboxylic dianhydride represented by following formula (i), and the diol compound represented by formula (ii).
[Formula 7]
Figure pct00075

(In formula, A represents the tetravalent organic group which the 4 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group, B shows the bivalent organic group which the 2 bond number couple | bonded with an alicyclic group or an aliphatic group.)
제 6항 또는 제 7항에 있어서,
상기 식(3) 중 A는 하기 식(A-1) 내지 식(A-8)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내고, B가 하기 식(B-1) 내지 식(B-5)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 8]
Figure pct00076

[화학식 9]
Figure pct00077

The method according to claim 6 or 7,
In said Formula (3), A represents at least 1 sort (s) of group chosen from group represented by following formula (A-1)-formula (A-8), B is following formula (B-1)-formula (B-5) Polyester composition for thermosetting film formation which shows at least 1 sort (s) of group chosen from group represented by the following.
[Chemical Formula 8]
Figure pct00076

[Formula 9]
Figure pct00077

제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
(A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량이 폴리스틸렌 환산으로 1,000 내지 30,000인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The polyester composition for thermosetting film formation whose weight average molecular weight of polyester which is (A) component is 1,000-30,000 in polystyrene conversion.
제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (D)성분으로 산화 방지제인 페놀 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 9,
Furthermore, the polyester composition for thermosetting film formation containing the phenol compound which is antioxidant as (D) component.
제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (E)성분으로 실란 커플링제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 10,
Furthermore, the polyester composition for thermosetting film formation containing a silane coupling agent as (E) component.
제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로 (F)성분으로 비스말레이미드 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
12. The method according to any one of claims 1 to 11,
Furthermore, the polyester composition for thermosetting film formation containing a bismaleimide compound as (F) component.
제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서,
(A)성분의 100 질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 12,
The polyester composition for thermosetting film formation containing 3-50 mass parts (B) component and 1-100 mass parts (C) component based on 100 mass parts of (A) component.
제 10항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여 0.01 내지 5질량부의 (D)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method of claim 10,
The polyester composition for thermosetting film formation containing 0.01-5 mass parts (D) component based on 100 mass parts of (A) component.
제 11항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 30질량부의 (E)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
12. The method of claim 11,
The polyester composition for thermosetting film formation containing 0.5-30 mass parts (E) component based on 100 mass parts of (A) component.
제 12항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 50질량부의 (F)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method of claim 12,
The polyester composition for thermosetting film formation containing 0.5-50 mass parts (F) component based on 100 mass parts of (A) component.
청구항 1 내지 청구항 16 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 경화막.
The cured film obtained using the polyester composition for thermosetting film formation of any one of Claims 1-16.
청구항 1 내지 청구항 17 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 액정 배향층.The liquid crystal aligning layer obtained using the polyester composition for thermosetting film formation of any one of Claims 1-17.
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