KR101736902B1 - Polyester composite for forming thermoset films - Google Patents

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Abstract

[과제] 경화막 형성 후에는 높은 용제내성, 액정 배향성, 내열성, 고투명성 그리고 고평탄화성을 나타낼 뿐 아니라, 경화막 형성 시에는, 컬러필터의 평탄화막의 제작라인에 적용 가능한 글리콜계 용제나 유산에스테르계 용제에 용해될 수 있는 재료를 제공할 것. [해결수단] (A)성분, (B)성분 및 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물: (A)성분: 테트라카르본산 이무수물과 디올 화합물을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르, (B)성분: 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물, (C)성분: 디아민 화합물, 디카르본산 무수물 및 테트라카르본산 이무수물을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물.[PROBLEMS] To provide a cured film which exhibits high solvent resistance, liquid crystal orientation, heat resistance, high transparency and high planarization property after the cured film is formed, but also can be applied to a production line of a planarizing film of a color filter, Provide materials that can be dissolved in the solvent. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises a component (A), a component (B) and a component (C): Component (A): a polyester obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound, Component (B): an epoxy compound having two or more epoxy groups, component (C): an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting a diamine compound, dicarboxylic anhydride and tetracarboxylic dianhydride.

Description

열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물{POLYESTER COMPOSITE FOR FORMING THERMOSET FILMS}POLYESTER COMPOSITE FOR FORMING THERMOSET FILMS [0002]

본 발명은, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물 및 이로부터 얻어지는 경화막에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 높은 투명성, 평탄화성을 가지며, 액정 배향능, 높은 용제내성 그리고 내열성을 갖는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물 및 그 경화막, 그리고 그 경화막의 적용에 관한 것이다. 이 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 특히 액정 디스플레이에서의 액정 배향 기능을 겸비한 컬러필터 오버코트제에 적합하다.The present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film and a cured film obtained therefrom. More specifically, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film having high transparency and planarizing property, a liquid crystal aligning ability, a high solvent resistance and a heat resistance, a cured film thereof, and a cured film thereof. The polyester composition for forming a thermosetting film is particularly suitable for a color filter overcoating agent having a liquid crystal aligning function in a liquid crystal display.

일반적으로, 액정 표시 소자, 유기 EL(electroluminescent) 소자, 고체 촬상 소자 등의 광디바이스에서는, 소자 표면이 제조공정 중에 용제나 열에 쬐이는 것을 방지하기 위해 보호막이 설치된다. 이 보호막은 보호할 기판과의 밀착성이 높고 용제내성이 높을 뿐 아니라, 투명성, 내열성 등의 성능도 요구된다.Generally, in an optical device such as a liquid crystal display device, an organic EL (electroluminescent) device, or a solid-state image pickup device, a protective film is provided to prevent the surface of the device from being exposed to solvent or heat during the manufacturing process. The protective film has high adhesion with the substrate to be protected, has high solvent resistance, and is required to have properties such as transparency and heat resistance.

이와 같은 보호막은, 컬러 액정 표시 장치나 고체 촬상소자에 이용되는 컬러필터의 보호막으로 사용하는 경우에는, 일반적으로 그 하지 기판의 컬러필터 혹은 블랙 매트릭스 수지를 평탄화하는 성능, 즉, 평탄화막으로서의 성능을 갖는 것이 요구된다. 특히 STN 방식이나 TFT 방식의 컬러 액정 표시 소자를 제조할 때에는, 컬러필터 기판과 대향 기판의 접합 정밀도를 매우 엄밀하게 행할 필요가 있으며, 기판 간의 셀 갭을 균일하게 하는 것이 필수적이다. 이에 더하여, 컬러필터를 투과하는 빛의 투과율을 유지하기 위해, 그 보호막인 이들 평탄화막에는 높은 투명성이 필요해지게 된다.When such a protective film is used as a protective film for a color filter used in a color liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, the protective film generally has a capability of flattening the color filter or the black matrix resin of the base substrate, that is, . Particularly, when manufacturing a color liquid crystal display device of the STN type or TFT type, it is necessary to precisely align the color filter substrate and the counter substrate with each other, and it is essential to make the cell gap between the substrates uniform. In addition, in order to maintain the transmittance of light transmitted through the color filter, high transparency is required for the planarizing film as the protective film.

한편, 최근, 액정 디스플레이의 셀 내에 위상차재를 도입함으로써 저비용화, 경량화가 검토되고 있으며, 이와 같은 위상차재에는 액정 모노머를 도포하고 배향시킨 후, 광경화시킨 재료가 일반적으로 이용된다. 이 위상차재를 배향시키기 위해서는 하층막이 러빙 처리 후, 배향성을 갖는 재료일 필요가 있다. 따라서 컬러필터의 오버코트 상에 액정 배향층을 성막한 후, 위상차재가 형성된다(도 2(a) 참조). 이 액정 배향층과 컬러필터의 오버코트를 겸하는 막(도 2(b) 참조)을 형성할 수 있다면, 저비용화, 프로세스수의 삭감 등 큰 메리트를 얻을 수 있다는 점에서, 이와 같은 재료가 강하게 요구되고 있다.On the other hand, in recent years, lower cost and lighter weight have been studied by introducing retardation materials into the cells of a liquid crystal display, and a material obtained by applying and orienting a liquid crystal monomer and then photo-curing is generally used for such retardation. In order to orient the phase difference material, the lower layer film needs to be a material having orientation after rubbing treatment. Therefore, after the liquid crystal alignment layer is formed on the overcoat of the color filter, a phase difference material is formed (see Fig. 2 (a)). (See Fig. 2 (b)) that can also serve as an overcoat of the liquid crystal alignment layer and the color filter can be formed, it is required that such a material is strongly required in view of achieving a great merit such as reduction in cost and reduction in the number of processes have.

일반적으로 이 컬러필터의 오버코트에는, 투명성이 높은 아크릴 수지가 사용된다. 이들 아크릴 수지에는 프로필렌글리콜모노메틸에테르나 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 같은 글리콜계의 용매나 유산에틸, 유산부틸과 같은 에스테르계 용매가 안전성, 핸들링성의 관점으로부터 널리 이용되고 있다. 이와 같은 아크릴 수지는 열경화나 광경화시킴으로써 내열성이나 내용제성을 부여하고 있다(특허문헌 1,2). 그러나 종래의 열경화성이나 광경화성의 아크릴 수지에서는 적당한 투명성이나 평탄화성을 나타내지만, 이와 같은 평탄화막을 러빙 처리해도 충분한 배향성을 나타낼 수는 없었다.Generally, acrylic resin having high transparency is used for overcoating of the color filter. These acrylic resins include glycol solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate, ester solvents such as ethyl lactate and butyl lactate, and are widely used from the viewpoints of safety and handling. Such an acrylic resin imparts heat resistance and solvent resistance by thermally curing or photo-curing (Patent Literatures 1 and 2). However, conventional thermosetting or photo-curing acrylic resins show appropriate transparency and planarization property, but even if such a planarizing film is subjected to rubbing treatment, sufficient orientation can not be obtained.

한편, 액정 배향층에는 용제가용성 폴리이미드나 폴리아믹산으로 이루어진 재료가 통상적으로 이용되고 있다. 이들 재료는 포스트베이크 시에 완전히 이미드화시킴으로써 내용제성을 부여하고, 러빙 처리에 의해 충분한 배향성을 나타낸다는 것이 보고되고 있다(특허문헌 3). 그러나, 컬러필터의 평탄화막으로서 본 경우, 평탄화성과 투명성이 크게 저하된다는 등의 문제가 있었다. 또한, 폴리이미드나 폴리아믹산은 N-메틸-2-피롤리돈이나 γ-부티로락톤과 같은 용제에 가용이지만, 글리콜계 용제나 에스테르계 용제에 대한 용해성이 낮아, 평탄화막 제작라인에 적용하기는 어려웠다.On the other hand, a material composed of a solvent-soluble polyimide or polyamic acid is usually used for the liquid crystal alignment layer. It has been reported that these materials impart a solvent resistance by imidizing completely during post-baking, and exhibit sufficient orientation properties by rubbing treatment (Patent Document 3). However, in the case of the planarizing film of the color filter in this case, there is a problem that the flatness and transparency are largely lowered. Polyimide and polyamic acid are soluble in solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and? -Butyrolactone. However, they have low solubility in glycol solvents and ester solvents and can be applied to flattening film production lines Was difficult.

일본 특허공개 2000-103937호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-103937 일본 특허공개 2000-119472호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-119472 일본 특허공개 2005-037920호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-037920

본 발명은, 상기한 사정에 기초하여 이루어진 것으로, 그 해결하고자 하는 과제는, 경화막 형성 후에는 높은 용제내성, 액정 배향성, 내열성, 고투명성 그리고 고평탄화성을 나타낼 뿐 아니라, 경화막 형성 시에는, 컬러필터의 평탄화막의 제작라인에 적용 가능한 글리콜계 용제나 유산에스테르계 용제에 용해될 수 있는 재료를 제공하는 데에 있다.The present invention has been made based on the above-described circumstances. It is an object of the present invention to provide a cured film which exhibits high solvent resistance, liquid crystal alignability, heat resistance, high transparency and high planarization property after cured film formation, And a material that can be dissolved in a glycol-based solvent or an estersester-type solvent applicable to a production line of a planarizing film of a color filter.

본 발명자는, 상기한 과제를 해결하기 위해 예의 연구한 결과, 본 발명을 발견하였다.Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found the present invention.

즉, 제1 관점으로서, (A)성분, (B)성분 및 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.That is, the first aspect relates to a polyester composition for forming a thermosetting film containing the component (A), the component (B) and the component (C).

(A)성분: 테트라카르본산 이무수물과 디올 화합물을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르,(A): a polyester obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound,

(B)성분: 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물,Component (B): an epoxy compound having two or more epoxy groups,

(C)성분: 디아민 화합물, 디카르본산 무수물 및 테트라카르본산 이무수물을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물.Component (C): An amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting a diamine compound, dicarboxylic anhydride and tetracarboxylic dianhydride.

제2 관점으로서, 상기 (A)성분이 하기 식(1)로 표시되는 구조 단위를 포함하는 폴리에스테르인, 제1 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As a second aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film according to the first aspect, wherein the component (A) is a polyester comprising a structural unit represented by the following formula (1).

Figure 112011082499031-pct00001
Figure 112011082499031-pct00001

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합된 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합된 2가의 유기기를 나타낸다.)(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups or four aliphatic groups bonded to each other and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group).

제3 관점으로서, 상기 (A)성분이 하기 식(i)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물과 식(ii)로 표시되는 디올 화합물을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르인, 제1 관점 또는 제2 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As a third aspect, there is provided a polyester obtained by reacting the component (A) with a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) and a diol compound represented by the formula (ii) The present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film.

Figure 112011082499031-pct00002
Figure 112011082499031-pct00002

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합된 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합된 2가의 유기기를 나타낸다.)(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups or four aliphatic groups bonded to each other and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group).

제4 관점으로서, 상기 식(1) 중, A는 하기 식(A-1) 내지 식(A-8)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 나타내고, B가 하기 식(B-1) 내지 식(B-5)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 나타내는, 제2 관점 또는 제3 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.In a fourth aspect, in the formula (1), A represents at least one kind of group selected from the groups represented by the following formulas (A-1) to (A-8) To (B-5). The polyester composition for forming a thermosetting film according to the second aspect or the third aspect is a polyester composition for forming a thermosetting film.

Figure 112011082499031-pct00003
Figure 112011082499031-pct00003

Figure 112011082499031-pct00004
Figure 112011082499031-pct00004

제5 관점으로서, (A)성분인 폴리에스테르의 중량평균분자량이 폴리스티렌 환산으로 1,000 내지 30,000인, 제1 관점 내지 제4 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As a fifth aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of the first to fourth aspects, wherein the weight average molecular weight of the polyester as the component (A) is 1,000 to 30,000 in terms of polystyrene.

제6 관점으로서, (C)성분이, 테트라카르본산 이무수물 1몰에 대해, 디아민 화합물 2몰과, 디카르본산 무수물 2몰을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물인, 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As a sixth aspect, there is provided a process for producing a carboxylic acid compound (C), wherein the component (C) is an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting 2 moles of a diamine compound and 2 moles of a dicarboxylic anhydride per 1 mole of a tetracarboxylic dianhydride, The present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film described in any one of the above aspects.

제7 관점으로서, (C)성분이, 하기 식(iii), (iv) 및 (v)로 표시되는 화합물을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물인, 제1 관점 내지 제5 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As a seventh aspect, there is provided an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting the component (C) with a compound represented by the following formula (iii), (iv) or (v) To a polyester composition for forming a thermosetting film.

Figure 112011082499031-pct00005
Figure 112011082499031-pct00005

(상기 식(iii) 및 (iv) 중, P 및 Q는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, 식(v) 중, Z는 4가의 유기기를 나타낸다.)(In the formulas (iii) and (iv), P and Q each independently represent a divalent organic group, and in the formula (v), Z represents a tetravalent organic group.)

제8 관점으로서, (A)성분의 100질량부에 기초하여, 3 내지 50질량부의 (B)성분, 5 내지 80질량부의 (C)성분을 함유하는, 제1 관점 내지 제7 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As an eighth aspect, any one of the first to seventh aspects, which contains from 3 to 50 parts by mass of the component (B) and from 5 to 80 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A) To a polyester composition for forming a thermosetting film.

제9 관점으로서, 추가로, (D)성분으로서 비스말레이미드 화합물을 함유하는, 제1 관점 내지 제8 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.As a ninth aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of the first to eighth aspects, further comprising a bismaleimide compound as the component (D).

제10 관점으로서, (A)성분의 100질량부에 기초하여, 0.5 내지 50질량부의 (D)성분을 함유하는, 제9 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.The tenth aspect relates to a polyester composition for forming a thermosetting film according to the ninth aspect, which contains 0.5 to 50 parts by mass of a component (D) based on 100 parts by mass of the component (A).

제11 관점으로서, 제1 관점 내지 제10 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어지는 경화막에 관한 것이다.As an eleventh aspect, the present invention relates to a cured film obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film described in any one of the first to tenth aspects.

제12 관점으로서, 제1 관점 내지 제10 관점 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어지는 액정 배향층에 관한 것이다. As a twelfth aspect, the present invention relates to a liquid crystal alignment layer obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film described in any one of the first to tenth aspects.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 높은 평탄화성, 높은 투명성, 높은 용제내성, 높은 내열성과 함께, 액정 배향능을 갖는 경화막을 형성할 수 있으므로, 액정 배향막이나 평탄화막의 형성 재료로서 이용할 수 있다. 특히, 종래에 독립적으로 형성되어 있던 액정 배향막과 컬러필터의 오버코트층을, 양자의 특성을 겸비하는 「액정 배향층」으로서 동시에 형성할 수 있게 되므로, 제조공정의 간략화 및 프로세스수의 저감에 따른 저비용화 등을 실현할 수 있다.The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can form a cured film having liquid crystal aligning ability together with high planarization property, high transparency, high solvent resistance and high heat resistance, and therefore can be used as a material for forming a liquid crystal alignment film or a planarizing film . In particular, since the liquid crystal alignment layer and the overcoat layer of the color filter, which have conventionally been formed independently, can be simultaneously formed as a " liquid crystal alignment layer " having both characteristics, the manufacturing process can be simplified and the number of processes can be reduced. Can be realized.

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 글리콜계 용제 및 유산에스테르계 용제에 가용인 점으로부터, 이들 용제를 주로 사용하는 평탄화막의 제작라인에 적합하게 사용할 수 있다.The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can be suitably used for a production line of a planarizing film mainly using these solvents because of being soluble in glycol solvents and esters ester solvents.

도 1은, 단차 기판에 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 도포했을 때에 형성된 경화막을 나타낸 모델도이다.
도 2는, 종래 기술에 의해 액정 배향막을 형성한 액정셀(a)과, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 평탄화막을 형성한 액정셀 (b)을 비교하여 나타낸 모델도이다.
1 is a model diagram showing a cured film formed when the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is applied to a stepped substrate.
2 is a model diagram showing a comparison between a liquid crystal cell (a) having a liquid crystal alignment film formed by a conventional technique and a liquid crystal cell (b) having a planarized film formed using the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention .

상기 서술한 바와 같이, 종래에 제안되어 있는 아크릴 수지계 및 폴리이미드계의 경화막에서는, 액정 배향막이나 평탄화막에 요구되는 평탄화성, 투명성, 배향성 등의 모든 성능을 충분히 만족시키는 것이 없었다.As described above, conventionally proposed acrylic resin-based and polyimide-based cured films do not sufficiently satisfy all the performances such as flatness, transparency, and orientation required for a liquid crystal alignment film or a planarizing film.

또, 지금까지도 액정 표시 소자의 배향재료로서 폴리에스테르 사용의 제안(일본 특허공개 H5-158055호 공보, 일본 특허공개 2002-229039호 공보 참조)이 이루어진 적은 있었지만, 이들은 모두 열경화성을 갖는 것이 아니었고, 형성된 막의 내용제성은 좋지 못했다.Although there have been so far been proposed proposals for the use of polyester as an alignment material for a liquid crystal display element (see Japanese Patent Application Laid-Open No. H5-158055 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-229039), they were not all thermosetting, The solvent resistance of the formed membrane was not good.

본 발명은, 열경화성인 폴리에스테르를 사용하여 상기 서술한 성능 향상을 도모했다는 점에 특징이 있으며, 즉, (A)성분의 폴리에스테르와, (B)성분의 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물, (C)성분의 아미노기 함유 카르본산 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이다. 그리고, (A)성분, (B)성분, (C)성분에 더하여, (D)성분으로서 비스말레이미드 화합물까지 함유할 수 있는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이다.The present invention is characterized in that the above-described performance improvement is achieved by using a thermosetting polyester. That is, the polyester of the component (A), the epoxy compound having two or more epoxy groups in the component (B) Is a polyester composition for forming a thermosetting film containing an amino group-containing carboxylic acid compound as the component (C). In addition to the components (A), (B) and (C), it is a polyester composition for forming a thermosetting film which can contain up to bismaleimide compounds as the component (D).

이하, 각 성분을 상세하게 설명한다.
Hereinafter, each component will be described in detail.

[(A)성분][Component (A)] [

(A)성분의 폴리에스테르는, 바람직하게는 하기 식(1)로 표시되는 구조 단위를 포함하는 폴리에스테르로, 보다 바람직하게는 식(1)로 표시되는 구조 단위로 이루어진 폴리에스테르이다.The polyester of the component (A) is preferably a polyester comprising a structural unit represented by the following formula (1), more preferably a polyester comprising a structural unit represented by the formula (1).

Figure 112011082499031-pct00006
Figure 112011082499031-pct00006

상기 식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합된 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합된 2가의 유기기를 나타낸다.In the above formula, A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group, and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to alicyclic or aliphatic groups.

상기 A는, 바람직하게는 하기 식(1A1), 식(1A2) 또는 식(1A3)로 표시되는 기이다.The above A is preferably a group represented by the following formula (1A1), (1A2) or (1A3).

Figure 112011082499031-pct00007
Figure 112011082499031-pct00007

식 중에서 A1는 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, A1기 중에 포함되는 임의의 수소원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있을 수도 있고, 또, 이들 중 2개의 치환기가 서로 결합하여 4 내지 6원환을 형성할 수도 있다.In the formula, A 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. Here, any hydrogen atom contained in the group A 1 may be independently substituted with an aliphatic group, and two of these substituents may be bonded to each other to form a 4- to 6-membered ring.

여기서, 상기 치환기인 지방족기는, 탄소원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우에는, 예를 들어, 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합다환식 탄화수소기가 된다.Here, the aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents are bonded to form a ring, for example, a bridged cyclic hydrocarbon group such as a norbornene group or an adamantane group, or a condensed polycyclic hydrocarbon group in which a part or whole is hydrogenated is obtained.

상기 식 중, R1은 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타낸다. 바람직하게는 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.R 1 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and substituted with a fluorine atom. Preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

또한, R2은 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 포화 탄화수소기를 나타낸다.R 2 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a saturated hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms.

식(1)에서의 4가의 유기기인 A의 바람직한 구체예를 하기의 식(A-1) 내지 식(A-8)에 나타낸다. 하기 (A-1) 내지 식(A-8)로 표시되는 기 중에서도, A는 특히 식(A-1) 또는 (A-2)로부터 선택되는 기인 것이 바람직하다.Preferable specific examples of A as a quadrivalent organic group in the formula (1) are shown in the following formulas (A-1) to (A-8). Among the groups represented by the following formulas (A-1) to (A-8), it is particularly preferable that A is a group selected from the formula (A-1) or (A-2).

Figure 112011082499031-pct00008
Figure 112011082499031-pct00008

상기 식(1) 중, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합된 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 하기 식(1B1) 또는 식(1B2)로 표시되는 기이다.In the formula (1), B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group, and is preferably a group represented by the following formula (1B1) or (1B2).

Figure 112011082499031-pct00009
Figure 112011082499031-pct00009

식 중에서 B1는 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수가 4 내지 8인 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수가 4 내지 6인 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. B1기 중에 포함되는 임의의 수소원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있을 수도 있다.In the formula, B 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. Any hydrogen atom contained in the group B 1 may be independently substituted with an aliphatic group.

여기서, 상기 치환기인 지방족기는, 탄소원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우에는, 예를 들어, 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합다환식 탄화수소기가 된다.Here, the aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents are bonded to form a ring, for example, a bridged cyclic hydrocarbon group such as a norbornene group or an adamantane group, or a condensed polycyclic hydrocarbon group in which a part or whole is hydrogenated is obtained.

또한, B2는 페닐렌기를 나타낸다.B 2 represents a phenylene group.

식 중, R3은 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는, 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.In the formulas, R 3 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and substituted with a fluorine atom, , An ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

R4, R5는 각각 독립적으로 단결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 단결합, 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.R 4 and R 5 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and a single bond.

R6, R7는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.R 6 and R 7 each independently represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

또한, k는 0 또는 1을 나타낸다.
K represents 0 or 1;

식(1)에서의 2가의 유기기인 B의 바람직한 구체예를 하기의 식(B-1) 내지 식(B-5)에 나타낸다. 하기 (B-1) 내지 식(B-5)로 표시되는 기 중에서도, B는 특히 (B-1) 내지 (B-4)로부터 선택되는 기인 것이 바람직하다.Preferable specific examples of B which is a bivalent organic group in the formula (1) are shown in the following formulas (B-1) to (B-5). Among the groups represented by the following formulas (B-1) to (B-5), B is preferably a group selected from among (B-1) to (B-4).

Figure 112011082499031-pct00010
Figure 112011082499031-pct00010

(A)성분의 폴리에스테르는, 식(1)로 표시되는 구조 단위 중, A가 식(1A1) 내지 식(1A3)로 표시되는 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조를 포함하는 것이 바람직하지만, 식(1A1) 내지 식(1A3)로 표시되는 기 이외의 구조를 포함하고 있을 수도 있다. 이 때, 폴리에스테르의 구조를 형성하는 것이라면 그 구조는 특별히 한정되지 않지만, 하기 식(1A4) 내지 식(1A5)로 표시되는 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조인 것이 바람직하다.The polyester of the component (A) preferably contains at least one structure selected from the group consisting of the groups represented by the formulas (1A1) to (1A3) among the structural units represented by the formula (1) However, it may contain a structure other than the groups represented by the formulas (1A1) to (1A3). At this time, the structure is not particularly limited as far as the structure of the polyester is formed, but it is preferably at least one structure selected from the group consisting of the groups represented by the following formulas (1A4) to (1A5).

Figure 112011082499031-pct00011
Figure 112011082499031-pct00011

상기 식 중, R8, R9, R10는 각각 독립적으로 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.R 8 , R 9 and R 10 each independently represent a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and substituted with a fluorine atom And preferably represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms and substituted with a fluorine atom.

특히, R8은 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R9는 에테르기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, 그리고 R10은 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하다.Particularly, R 8 is preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom, R 9 is preferably an ether group, A saturated hydrocarbon group of 1 to 5 in embroidery number or a saturated hydrocarbon group of 1 to 5 in carbon number substituted with fluorine atom and R 10 is preferably a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, And is preferably a substituted hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.

또한, h는 0 또는 1을 나타낸다.Also, h represents 0 or 1.

상기 식(1A4) 내지 식(1A5)의 바람직한 구체예를 하기의 식(a1) 내지 식(a7)에 나타낸다.Preferable examples of the formulas (1A4) to (1A5) are shown in the following formulas (a1) to (a7).

Figure 112011082499031-pct00012
Figure 112011082499031-pct00012

본 발명에서 이용되는 (A)성분의 폴리에스테르에서, 상기 식(1)로 표시되는 구조 단위에 있어서, A가 상기 식(1A1) 내지 식(1A3)로 표시되는 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조 단위를 적어도 60몰% 이상을 포함하는 것이 바람직하다.In the polyester of the component (A) used in the present invention, in the structural unit represented by the above formula (1), when A is at least 1 selected from the group consisting of the groups represented by the above formulas (1A1) to (1A3) It is preferable that the structural unit of the species contains at least 60 mol% or more.

(A)성분의 폴리에스테르의 중량평균분자량은, 바람직하게는 1,000 내지 30,000이고, 보다 바람직하게는 1,500 내지 10,000이다. (A)성분의 폴리에스테르의 중량평균분자량이 상기 범위보다 작은 경우, 배향성 및 용제내성이 저하되는 경향이 있으며, 상기 범위를 초과하면, 평탄화성이 저하되는 경우가 있다.
The weight average molecular weight of the polyester of component (A) is preferably 1,000 to 30,000, more preferably 1,500 to 10,000. When the weight average molecular weight of the polyester of the component (A) is smaller than the above-mentioned range, the orientation property and the solvent resistance tend to be lowered. If the weight average molecular weight exceeds the above range, the planarizing property may be lowered.

<(A)성분의 제조방법>&Lt; Production method of component (A) >

본 발명에서, (A)성분인 폴리에스테르는, 예를 들어, 테트라카르본산 이무수물과 디올 화합물을 중합시켜 얻을 수 있다. 보다 바람직하게는, 하기 식(i)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물을 포함하는 테트라카르본산 이무수물(이하, 산 성분이라고도 함)과, 하기 식(ii)로 표시되는 디올 화합물을 포함하는 디올 화합물(이하, 디올 성분이라고도 함)을 반응시켜 얻어진다.In the present invention, the polyester (A) may be obtained by, for example, polymerizing a tetracarboxylic dianhydride and a diol compound. More preferably, a tetracarboxylic dianhydride (hereinafter also referred to as an acid component) containing a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) and a diol containing a diol compound represented by the following formula (ii) (Hereinafter also referred to as a diol component).

Figure 112011082499031-pct00013
Figure 112011082499031-pct00013

상기 식 중, A 및 B는 상술한 식(1)에서 설명한 정의와 동일하며, 바람직한 형태 또한 상술한 것과 동일하다.In the above formulas, A and B are the same as defined in the above-mentioned formula (1), and the preferable form is also the same as that described above.

본 발명에서, 식(i)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물, 식(ii)로 표시되는 디올 화합물은 각각 독립적으로, 1종을 단독으로 사용할 수도 있으며, 혹은 2종 이상을 사용할 수 있다.In the present invention, the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (i) and the diol compound represented by the formula (ii) may be used singly or in a combination of two or more.

상기 (A)성분인 폴리에스테르는, 산 성분으로서 상기 식(i)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물 뿐 아니라, 그 이외의 테트라카르본산 이무수물(이하, 다른 산 이무수물이라고도 함)을 병용할 수 있다. 이 때, 다른 산 이무수물은, 본 발명의 효과를 저하시키지 않는 한, 특별히 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는 하기 식(i2)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물이다.The polyester as the component (A) is obtained by using not only the tetracarboxylic dianhydride represented by the above formula (i) but also other tetracarboxylic dianhydrides (hereinafter also referred to as other acid dianhydrides) as an acid component . At this time, the other acid dianhydride is not particularly limited so long as it does not deteriorate the effect of the present invention. And is preferably a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i2).

Figure 112011082499031-pct00014
Figure 112011082499031-pct00014

여기서, 상기 식(i2)의 W는, 상술한 식(1)에서 정의한 식(1A4) 및 식(1A5)로 표시되는 기로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조로, R8, R9, R10, h도 상기 설명한 정의와 동일하다.Here, in the formula (i2) W, at least the structure of one selected from the group consisting of groups represented by the formula (1A4) and the equation (1A5) defined by the above formula (1), R 8, R 9, R 10 , h are also the same as defined above.

이에 더하여, 식(1A4) 및 식(1A5)의 바람직한 구체예도 상술한 식(al) 내지 식(a7)로 표시된다.In addition, preferable examples of the formulas (1A4) and (1A5) are also represented by the formulas (al) to (a7) described above.

본 발명에서는, 식(i)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물이 산 성분 중의 적어도 60몰% 이상을 포함하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (i) contains at least 60 mol% or more of the acid component.

상기 (A)성분의 폴리에스테르에서, 테트라카르본산 이무수물의 합계량(산 성분의 합계량)과 디올 화합물의 합계량(디올 성분의 합계량)의 배합비, 즉, <디올 화합물의 합계 몰수>/<테트라카르본산 이무수물화합물의 합계 몰수>는 0.5 내지 1.5인 것이 바람직하다. 통상의 중축합 반응과 마찬가지로, 이 몰비가 1에 가까울수록 생성되는 폴리에스테르의 중합도는 커져, 분자량이 증가한다.In the polyester of the component (A), the blending ratio of the total amount of the tetracarboxylic dianhydride (the total amount of the acid components) and the total amount of the diol compounds (total amount of the diol components), that is, <total mole number of the diol compound> / < The total number of moles of the dianhydride compound > is preferably 0.5 to 1.5. As in the case of the ordinary polycondensation reaction, the closer the molar ratio is to 1, the larger the degree of polymerization of the resulting polyester increases and the molecular weight increases.

(A)성분의 폴리에스테르는, 저장 안정성의 저하를 피하기 위해, 그 말단을 산무수물 말단으로 하는 것이 바람직하다.The polyester of the component (A) is preferably an acid anhydride terminal at the terminal thereof in order to avoid a decrease in storage stability.

상기 폴리에스테르의 말단은 산 성분과 디올 성분의 배합비에 의존하여 변한다. 예를 들어, 산 성분을 과잉 반응시킨 경우, 말단은 산무수물이 되기 쉽다.The end of the polyester varies depending on the blending ratio of the acid component and the diol component. For example, when an acid component is over-reacted, the terminal tends to become an acid anhydride.

또한, 디올 성분을 과잉 이용하여 중합한 경우에는, 말단은 수산기가 되기 쉽다. 이 경우, 상기 말단 수산기에 카르본산 무수물을 반응시키고, 말단 수산기를 산무수물로 봉지할 수 있다. 이와 같은 카르본산 무수물의 예로는 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 무수말레인산, 나프탈산 무수물, 수소화프탈산 무수물, 무수이타콘산, 테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-페닐-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 메틸-5-노보넨-2,3-디카르본산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 비시클로[2.2.2.]옥텐-2,3-디카르본산 무수물 등을 들 수 있다. Further, when the diol component is polymerized in excess, the terminal tends to be a hydroxyl group. In this case, the terminal hydroxyl group may be reacted with a carboxylic acid anhydride, and the terminal hydroxyl group may be blocked with an acid anhydride. Examples of such carboxylic anhydrides include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride, naphthalic anhydride, hydrogenated phthalic anhydride, itaconic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-phenyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetra Hydrophthalic anhydride, and bicyclo [2.2.2.] Octene-2,3-dicarboxylic anhydride.

상기 (A)성분의 폴리에스테르의 제조에 있어서, 산 성분과 디올 성분과의 반응 온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다. 예를 들어, 반응 온도는 100℃ 내지 140℃, 반응 시간 2 내지 48시간으로 폴리에스테르를 얻을 수 있다.In the production of the polyester of component (A), the reaction temperature of the acid component and the diol component may be selected from any temperature of 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C. For example, the polyester may be obtained at a reaction temperature of 100 ° C to 140 ° C and a reaction time of 2 to 48 hours.

또한, 말단 수산기를 산무수물로 보호하는 경우의 반응 온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다.The reaction temperature in the case of protecting the terminal hydroxyl group with an acid anhydride may be selected from any temperature of 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C.

상기 산 성분과 디올 성분과의 반응은, 통상, 용제 내에서 행해진다. 이 때 사용 가능한 용제로는, 수산기나 아미노기 등, 산무수물과 반응하는 관능기를 함유하지 않는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸설폭사이드, 테트라메틸요소, 디메틸술폰, 헥사메틸설폭사이드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸 등을 들 수 있다.The reaction of the acid component and the diol component is usually carried out in a solvent. The solvent that can be used at this time is not particularly limited as long as it does not contain a functional group reactive with an acid anhydride such as a hydroxyl group or an amino group. Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, , Dimethyl sulfone, hexamethyl sulfoxide, m-cresol, gamma -butyrolactone, cyclohexanone, cyclopentanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol Propyl ether acetate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and ethyl 2-ethoxypropionate .

이들 용제는 단독으로 사용할 수도 있고, 혼합하여 사용할 수도 있지만, 안전성, 컬러필터의 오버코트제 라인으로의 적용성의 관점에서 볼 때 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 더욱 바람직하다.These solvents may be used singly or in admixture, but propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferable in view of safety and applicability of the color filter to the overcoat line.

또한, 폴리에스테르를 용해하지 않는 용제이더라도, 중합 반응에 의해 생성된 폴리에스테르가 석출되지 않는 범위에서, 상기 용제에 혼합하여 사용할 수도 있다.Further, even if the solvent does not dissolve the polyester, it may be mixed with the above-mentioned solvent within the range that the polyester produced by the polymerization reaction does not precipitate.

또한, 상기 산 성분(식(i 및 식(i2)))과 디올 성분(식(ii))과의 반응 시에는, 촉매를 사용할 수도 있다.Further, a catalyst may be used in the reaction of the acid component (the formula (i) and the formula (i2))) with the diol component (the formula (ii)).

폴리에스테르의 중합시에 사용하는 촉매의 구체예로는, 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 벤질트리프로필암모늄클로라이드, 벤질트리프로필암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염, 테트라페닐포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 4급 포스포늄염을 들 수 있다.Specific examples of the catalyst used in the polymerization of the polyester include benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyltripropylammonium chloride, benzyltripropylammonium bromide, tetra Quaternary ammonium salts such as methylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetrapropylammonium chloride and tetrapropylammonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, And a quaternary phosphonium salt such as ethyltriphenylphosphonium chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide and the like.

이렇게 얻어진 (A)성분의 폴리에스테르를 포함하는 용액은, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제에 그대로 이용할 수 있다. 또한, 얻어진 폴리에스테르를 물, 메탄올, 에탄올, 디에틸에테르, 헥산 등의 빈(貧)용매에 침전 단리시켜 회수한 후에 사용할 수도 있다.
The thus obtained solution containing the polyester of the component (A) can be used as it is for the preparation of the polyester composition for forming a thermosetting film. The obtained polyester may be recovered by isolation in a poor solvent such as water, methanol, ethanol, diethyl ether, or hexane, and recovered.

<(B)성분>&Lt; Component (B) >

본 발명의 (B)성분인 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물로는, 예를 들어, 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,2-에폭시-4-(에폭시에틸)시클로헥산, 글리세롤트리글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 2,6-디글리시딜페닐글리시딜에테르, 1,1,3-트리스[p-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]프로판, 1,2-시클로헥산디카르본산디글리시딜에스테르, 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린), 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복시레이트, 트리메티롤에탄트리글리시딜에테르 및 비스페놀-A-디글리시딜에테르 및 펜타에리스리톨폴리글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound having two or more epoxy groups as the component (B) of the present invention include tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, Glycerol triglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, 2,6-diglycidylphenyl glycidyl ether, 1,1,3-tris [(2-hydroxyethyl) phenylenepropane, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid diglycidyl ester, 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidyl aniline), 3, 4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylol ethane triglycidyl ether, bisphenol-A-diglycidyl ether, and pentaerythritol polyglycidyl ether.

또한, 입수가 용이하므로 시판품인 화합물을 사용할 수도 있다. 이하에 그 구체예(상품명)를 들지만, 이들에 한정되는 것은 아니다: YH-434, YH434L(Tohto Kasei Co.,Ltd. 제) 등의 아미노기를 갖는 에폭시 수지; Epolead GT-401, Epolead GT-403, Epolead GT-301, Epolead GT-302, Ceroxide 2021, Ceroxide 3000(Daicel Chemical Industries, Ltd,.제) 등의 시클로헥센옥사이드 구조를 갖는 에폭시 수지; Epikote 1001, Epikote 1002, Epikote 1003, Epikote 1004, Epikote 1007, Epikote1009, Epikote 1010, Epikote 828(이상, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.(현, Japan Epoxy Resin Co. Ltd.) 제) 등의 비스페놀 A형 에폭시 수지; Epikote 807(Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.(현, Japan Epoxy Resin Co. Ltd.) 제) 등의 비스페놀F형 에폭시 수지; Epikote 152, Epikote 154(이상, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.(현, Japan Epoxy Resin Co. Ltd.) 제), EPPN 201, EPPN 202(이상, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제) 등의 페놀노볼락형 에폭시 수지; EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027(이상, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제), Epikote 180S75(Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.(현, Japan Epoxy Resin Co. Ltd.) 제) 등의 크레졸노볼락형 에폭시 수지; Denacol EX-252(Nagase ChemteX Corporation 제), CY175, CY177, CY179, Araldite CY-182, Araldite CY-192, Araldite CY-184(이상, CIBA-GEIGYA.G 제), Epiclon 200, Epiclon 400(이상, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.(현, 주식회사 DIC) 제), Epikote 871, Epikote 872(이상, Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.(현, Japan Epoxy Resin Co. Ltd.) 제), ED-5661, ED-5662(이상, Celanese Coating Co. 제) 등의 지환식에폭시 수지; Denacol EX-611, Denacol EX-612, Denacol EX-614, Denacol EX-622, Denacol EX-411, Denacol EX-512, Denacol EX-522, Denacol EX-421, Denacol EX-313, Denacol EX-314, Denacol EX-321(Nagase ChemteX Corporation 제) 등의 지방족폴리글리시딜에테르 등. In addition, commercially available compounds can be used because they are readily available. Specific examples (trade names) include, but are not limited to, epoxy resins having amino groups such as YH-434 and YH434L (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.); Epoxy resins having a cyclohexene oxide structure such as Epolead GT-401, Epolead GT-403, Epolead GT-301, Epolead GT-302, Ceroxide 2021 and Ceroxide 3000 (Daicel Chemical Industries, (Manufactured by Japan Epoxy Resin Co. Ltd.), such as Epikote 1001, Epikote 1002, Epikote 1003, Epikote 1004, Epikote 1007, Epikote 1009, Epikote 1010, Epikote 828 Type epoxy resin; Bisphenol F type epoxy resins such as Epikote 807 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. (currently, Japan Epoxy Resin Co. Ltd.)); Epikote 152, Epikote 154 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. (formerly Japan Epoxy Resin Co. Ltd.), EPPN 201 and EPPN 202 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Novolak type epoxy resins; EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025 and EOCN-1027 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epikote 180S75 (available from Yuka Shell Epoxy Co., Japan Epoxy Resin Co. Ltd.); (Manufactured by Nagase ChemteX Corporation), CY175, CY177, CY179, Araldite CY-182, Araldite CY-192, Araldite CY-184 (manufactured by CIBA- GEIGYA.G.), Epiclon 200, Epiclon 400 (Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (DIC), Epikote 871, Epikote 872 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., Japan Epoxy Resin Co. Ltd.) ED-5662 (manufactured by Celanese Coating Co.), and other alicyclic epoxy resins; Denacol EX-311, Denacol EX-314, Denacol EX-512, Denacol EX-522, Denacol EX-421, Denacol EX-313, Denacol EX-314, Denacol EX- And aliphatic polyglycidyl ethers such as Denacol EX-321 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation).

또한, 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 화합물로는 에폭시기를 갖는 폴리머를 사용할 수 있다. 이러한 폴리머로서는, 에폭시기를 갖는 것이라면 특별한 제한 없이 사용할 수 있다.As the compound having at least two epoxy groups, a polymer having an epoxy group can be used. As such a polymer, any polymer having an epoxy group can be used without any particular limitation.

상기 에폭시기를 갖는 폴리머는, 예를 들면, 에폭시기를 갖는 부가중합성 모노머를 이용한 부가중합에 의해 제조할 수 있다. 일예로서, 폴리글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트와 에틸메타크릴레이트의 공중합체, 글리시딜메타크릴레이트와 스티렌과 2-하이드록시에틸메타크릴레이트의 공중합체 등의 부가중합폴리머나, 에폭시노볼락 등의 축중합 폴리머를 들 수 있다.The above-mentioned polymer having an epoxy group can be produced, for example, by addition polymerization using an addition polymerization monomer having an epoxy group. For example, polyglycidyl acrylate, a copolymer of glycidyl methacrylate and ethyl methacrylate, an addition polymer of glycidyl methacrylate and a copolymer of styrene and 2-hydroxyethyl methacrylate And polycondensation polymers such as epoxy novolac.

혹은, 상기 에폭시기를 갖는 폴리머는, 수산기를 갖는 고분자 화합물과 에피클로로히드린, 글리시딜토실레이트 등의 에폭시기를 갖는 화합물과의 반응에 의해 제조하는 것도 가능하다.Alternatively, the polymer having an epoxy group can be produced by a reaction between a polymer compound having a hydroxyl group and a compound having an epoxy group such as epichlorohydrin or glycidyl tosylate.

이와 같은 폴리머의 중량평균분자량으로는, 예를 들어, 300 내지 200,000이다.The weight average molecular weight of such a polymer is, for example, 300 to 200,000.

이들 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물은, 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These epoxy compounds having two or more epoxy groups may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 (B)성분의 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물의 함유량은, (A)성분의 폴리에스테르 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 40질량부이고, 특히 바람직하게는 10 내지 30질량부이다. 이 비율이 너무 작은 경우에는, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물로부터 얻어지는 경화막의 용제내성이나 내열성이 저하되는 한편, 너무 큰 경우에는 용제내성이 저하되거나 저장 안정성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the epoxy compound having two or more epoxy groups in the component (B) in the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is preferably 3 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyester of the component (A) More preferably 5 to 40 parts by mass, and particularly preferably 10 to 30 parts by mass. When the ratio is too small, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the polyester composition for thermosetting film formation are lowered. On the other hand, when the ratio is too large, the solvent resistance may be lowered or the storage stability may be lowered.

<(C)성분>&Lt; Component (C) >

(C)성분은, 디아민 화합물, 디카르본산 무수물, 테트라카르본산 이무수물을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물이다. 상세하게는, 테트라카르본산 이무수물 1몰에 대해, 디아민 화합물 2몰과, 디카르본산 무수물 2몰을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물이다.(C) is an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting a diamine compound, dicarboxylic anhydride, or tetracarboxylic dianhydride. Specifically, it is an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting 2 moles of a diamine compound and 2 moles of a dicarboxylic anhydride per mole of tetracarboxylic dianhydride.

상기 디아민 화합물, 디카르본산 무수물, 테트라카르본산 이무수물로는, 예를 들면, 하기 식(iii) 내지 (v)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Examples of the diamine compound, dicarboxylic anhydride and tetracarboxylic dianhydride include compounds represented by the following formulas (iii) to (v).

Figure 112011082499031-pct00015
Figure 112011082499031-pct00015

상기 식(iii) 및 식(iv)에 있어서, P 및 Q는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, 식(v)에 있어서, Z는 4가의 유기기를 나타낸다.In the formulas (iii) and (iv), P and Q each independently represent a divalent organic group, and in formula (v), Z represents a tetravalent organic group.

따라서, 상기 식(iii)로 표시되는 디아민 화합물, 식(iv)로 표시되는 디카르본산 무수물 그리고 식(v)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물을 반응시킴으로써, 하기 식(2)로 표시되는 화합물이 얻어진다.Therefore, by reacting the diamine compound represented by the formula (iii), the dicarboxylic anhydride represented by the formula (iv) and the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (v), the compound represented by the formula (2) .

Figure 112011082499031-pct00016
Figure 112011082499031-pct00016

식(2)에 있어서, P, Q, Z는 상기 식(iii), 식(iv), 식(v)에서 설명하는 정의와 동일하다.In the formula (2), P, Q and Z are the same as defined in the formulas (iii), (iv) and (v).

본 발명에서, 디아민 화합물, 디카르본산 무수물, 테트라카르본산 이무수물은, 각각 1종류만을 사용할 수도 있고, 복수종을 사용할 수도 있다. 따라서, 본 발명의 (C)성분의 아미노기 함유 카르본산 화합물로는, 식(2)로 표시되는 화합물을 1종 뿐만 아니라, 복수종을 이용할 수 있다.In the present invention, only one kind of diamine compound, dicarboxylic anhydride, and tetracarboxylic dianhydride may be used respectively, or plural kinds may be used. Therefore, as the amino group-containing carboxylic acid compound of the component (C) of the present invention, not only one kind of compound represented by the formula (2) but also a plurality of kinds can be used.

상기 P 및 Q는, 그 중에서도, 각각 독립적으로 환 구조를 갖는 2가의 유기기인 것이 바람직하다. 여기서, 환 구조로서는, 벤젠환, 지환, 축합다환식 탄화수소를 들 수 있다.It is preferable that P and Q are each independently a divalent organic group having a ring structure. Here, examples of the ring structure include a benzene ring, an alicyclic ring, and a condensed polycyclic hydrocarbon.

식(iii) 중, P가 갖는 환 구조로서는, 벤젠환, 탄소원자수 4 내지 8의 지환, 탄소원자수 7 내지 16의 축합다환식 탄화수소가 바람직하다.As the ring structure of P in formula (iii), a benzene ring, an alicyclic ring having 4 to 8 carbon atoms, and a condensed polycyclic hydrocarbon having 7 to 16 carbon atoms are preferable.

따라서, 이 같은 환 구조를 갖는 디아민 화합물의 구체예로는 이하의 것을 들 수 있다: p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-디아미노톨루엔, 2,5-디아미노톨루엔, 2,6-디아미노톨루엔, 2,4-디메틸-1,3-디아미노벤젠, 2,5-디메틸-1,4-디아미노벤젠, 2,3,5,6-테트라메틸-1,4-디아미노벤젠, 2,4-디아미노페놀, 2,5-디아미노페놀, 4,6-디아미노레조르시놀, 2,5-디아미노안식향산, 3,5-디아미노안식향산, N,N-디알릴-2,4-디아미노아닐린, N,N-디알릴-2,5-디아미노아닐린, 4-아미노벤질아민, 3-아미노벤질아민, 2-(4-아미노페닐)에틸아민, 2-(3-아미노페닐)에틸아민, 1,5-나프탈렌디아민, 2,7-나프탈렌디아민, 4,4'-디아미노비페닐, 3,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디아미노비페닐, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디하이드록시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디카르복시-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디플루오로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에테르3,3'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐아민, 3,3'-디아미노디페닐아민, 3,4'-디아미노디페닐아민, N-메틸(4,4'-디아미노디페닐)아민, N-메틸(3,3'-디아미노디페닐)아민, N-메틸(3,4'-디아미노디페닐)아민, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 1,2-비스(4-아미노페닐)에탄, 1,2-비스(3-아미노페닐)에탄, 4,4'-디아미노트란, 1,3-비스(4-아미노페닐)프로판, 1,3-비스(3-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-메틸페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사풀루오로프로판, 2,2-비스(3-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스(3-아미노-4-메틸페닐)헥사풀루오로프로판, 1,3-비스(4-아미노페녹시)프로판, 1,4-비스(4-아미노페녹시)부탄, 1,5-비스(4-아미노페녹시)펜탄, 1,6-비스(4-아미노페녹시)헥산, 1,7-비스(4-아미노페녹시)헵탄, 1,8-비스(4-아미노페녹시)옥탄, 1,9-비스(4-아미노페녹시)노난, 1,10-비스(4-아미노페녹시)데칸, 1,11-비스(4-아미노페녹시)운데칸, 1,12-비스(4-아미노페녹시)도데칸, 비스(4-아미노페닐)프로판디오에이트, 비스(4-아미노페닐)부탄디오에이트, 비스(4-아미노페닐)펜탄디오에이트, 비스(4-아미노페닐)헥산디오에이트, 비스(4-아미노페닐)헵탄디오에이트, 비스(4-아미노페닐)옥탄디오에이트, 비스(4-아미노페닐)노난디오에이트, 비스(4-아미노페닐)데칸디오에이트, 1,4-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노벤질)벤젠, 1,3-비스(4-아미노벤질)벤젠, 비스(4-아미노페닐)테레프탈레이트, 비스(3-아미노페닐)테레프탈레이트, 비스(4-아미노페닐)이소프탈레이트, 비스(3-아미노페닐)이소프탈레이트, 1,4-페닐렌비스[(4-아미노페닐)메타논], 1,4-페닐렌비스[(3-아미노페닐)메타논], 1,3-페닐렌비스[(4-아미노페닐)메타논], 1,3-페닐렌비스[(3-아미노페닐)메타논], 1,4-페닐렌비스(4-아미노벤조에이트), 1,4-페닐렌비스(3-아미노벤조에이트), 1,3-페닐렌비스(4-아미노벤조에이트), 1,3-페닐렌비스(3-아미노벤조에이트), N,N'-(1,4-페닐렌)비스(4-아미노벤즈아미드), N,N'-(1,3-페닐렌)비스(4-아미노벤즈아미드), N,N'-(1,4-페닐렌)비스(3-아미노벤즈아미드), N,N'-(1,3-페닐렌)비스(3-아미노벤즈아미드), 비스(4-아미노페닐)테레프탈아미드, 비스(3-아미노페닐)테레프탈아미드, 비스(4-아미노페닐)이소프탈아미드, 비스(3-아미노페닐)이소프탈아미드, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사풀루오로프로판, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)디페닐술폰, 2,6-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노-1,3,5-트리아진, 2,6-디아미노디벤조퓨란, 2,7-디아미노디벤조퓨란, 3,6-디아미노디벤조퓨란, 2,6-디아미노카바졸, 2,7-디아미노카바졸, 3,6-디아미노카바졸, 2,4-디아미노-6-이소프로필-1,3,5-트리아진, 2,5-비스(4-아미노페닐)-1,3,4-옥사디아졸, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로헥산, 비스(4-아미노시클로헥실)메탄, 비스(4-아미노-3-메틸시클로헥실)메탄 등.Thus, specific examples of the diamine compound having such a cyclic structure include the following: p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 2,4-dimethyl-1,3-diaminobenzene, 2,5-dimethyl-1,4-diaminobenzene, 2,3,5,6-tetramethyl-1,4 Diaminobenzene, 2,4-diaminophenol, 2,5-diaminophenol, 4,6-diaminoresorcinol, 2,5-diaminobenzoic acid, 3,5-diaminobenzoic acid, N, N Diaryl-2,5-diaminoaniline, 4-aminobenzylamine, 3-aminobenzylamine, 2- (4-aminophenyl) ethylamine, Diaminobiphenyl, 3,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diaminobiphenyl, 2,6-naphthalene diamine, Diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4 '-Diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxy Diaminobiphenyl, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 2, 2'-trifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-trifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3 , 3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodi Phenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylamine, 3,3'-diaminodiphenylamine, 3,4 (3, 4'-diaminodiphenyl) amine, N-methyl (3,4'-diamine) Aminodiphenyl) amine, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzanilide, 1,2- Bis (4-aminophenyl) ethane, 1,2-bis (3-aminophenyl) ethane, Bis (3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, Bis (3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2- Bis (4-aminophenoxy) propane, 1,4-bis (4-aminophenoxy) butane, 1,5-bis Bis (4-aminophenoxy) heptane, 1,8-bis (4-aminophenoxy) octane, 1,9-bis Bis (4-aminophenoxy) undecane, 1,12-bis (4-aminophenoxy) decane, 1,10- Bis (4-aminophenyl) pentanedioate, bis (4-aminophenyl) hexanedioate, bis (4-aminophenyl) pentanedioate, bis (4-amino (4-aminophenyl) decanedioate, 1,4-bis (4-aminophenyl) heptanedioate, bis (4-aminophenyl) octanedioate, bis Benzene, 1,3-bis (4-aminophenyl) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, Bis (4-aminobenzyl) benzene, bis (4-aminophenyl) terephthalate, bis (3-aminophenyl) methane], 1,3-phenylenebis [(4-aminophenyl) methanone] Phenanthrene], 1,4-phenylenebis (4-aminophenyl) methanone], 1,3-phenylenebis [ Phenylenebis (3-aminobenzoate), 1,3-phenylenebis (4-aminobenzoate), 1,3-phenylenebis - (1,4-phenylene) bis (4-aminobenzamide), N, N ' Aminobenzamide), bis (3-aminophenyl) terephthalamide, bis (3-aminobenzamide), bis Bis (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) isophthalamide, (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) diphenyl sulfone, 2,6- diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine , 2,4-diamino-1,3,5-triazine, 2,6-diaminodibenzofuran, 2,7-diaminodibenzofuran, 3,6-diaminodibenzofurane, 2,6 Diaminocarbazole, 2,4-diamino-6-isopropyl-1,3,5-triazine, 2,5-bis (4-aminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,4-diaminocyclohexane, 1, 3-diaminocyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane and the like.

또한, 상기 식(iv) 중, Q가 갖는 환 구조로서는, 벤젠환, 탄소원자수 4 내지 8의 지환, 탄소원자수 7 내지 16의 축합다환식 탄화수소가 바람직하다. 보다 바람직하게는 지환이다.In the formula (iv), the ring structure of Q is preferably a benzene ring, an alicyclic ring having 4 to 8 carbon atoms, or a condensed polycyclic hydrocarbon having 7 to 16 carbon atoms. More preferably an alicyclic ring.

이와 같은 환 구조를 갖는 디카르본산 무수물의 구체예로는, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 무수말레인산, 나프탈산 무수물, 수소화프탈산 무수물, 메틸-5-노보넨-2,3-디카르본산 무수물, 무수이타콘산, 테트라하이드로프탈산 무수물 등을 들 수 있다.Specific examples of the dicarboxylic anhydride having such a cyclic structure include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride, naphthalic anhydride, hydrogenated phthalic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride , Itaconic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride and the like.

상기 식(v) 중, Z는 환 구조를 갖는 4가의 유기기인 것이 바람직하다. 여기서, 환 구조로서는, 벤젠환, 지환, 축합다환식 탄화수소를 들 수 있다. 보다 바람직하게는, 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합된 4가의 유기기이고, 더욱 바람직하게는 하기 식(Z-1), 식(Z-2) 또는 식(Z-3)으로 표시되는 기이다.In the above formula (v), Z is preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure. Here, examples of the ring structure include a benzene ring, an alicyclic ring, and a condensed polycyclic hydrocarbon. (Z-1), (Z-2) or (Z-3), more preferably a tetravalent organic group having four aliphatic groups or four aliphatic groups bonded to each other, .

Figure 112011082499031-pct00017
Figure 112011082499031-pct00017

식 중, Z1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, Z1기 중에 포함되는 임의의 수소원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있을 수도 있고, 또, 이들 중 2개의 치환기가 서로 결합하여 4 내지 6원환을 형성할 수도 있다.In the formulas, Z 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. Here, any hydrogen atom contained in the Z 1 group may be independently substituted with an aliphatic group, and two of these substituents may be bonded to each other to form a 4- to 6-membered ring.

여기서, 상기 치환기인 지방족기는, 탄소원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우에는, 예를 들어, 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합다환식 탄화수소기가 된다.Here, the aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents are bonded to form a ring, for example, a bridged cyclic hydrocarbon group such as a norbornene group or an adamantane group, or a condensed polycyclic hydrocarbon group in which a part or whole is hydrogenated is obtained.

상기 식 중, Y1은 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타낸다. 바람직하게는 단결합, 카르보닐기, 에테르기, 술포닐기, 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.Y 1 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and substituted with a fluorine atom. Preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonyl group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

또한 Y2은 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 포화 탄화수소기를 나타낸다.Y 2 represents a saturated hydrocarbon group of 1 to 8 carbon atoms, preferably a saturated hydrocarbon group of 1 to 5 carbon atoms, more preferably a saturated hydrocarbon group of 1 to 3 carbon atoms.

Z의 바람직한 구체예로는, 상기한 식(A-1) 내지 식(A-8)을 들 수 있다. 이 중에서도, 특히 식(A-1) 또는 (A-2)로부터 선택되는 기인 것이 바람직하다.Specific preferred examples of Z include the above-mentioned formulas (A-1) to (A-8). Among them, particularly preferred is a group selected from the formula (A-1) or (A-2).

식(v)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물의 예로는, 피로멜리트산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 이무수물, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르본산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르본산 이무수물, 2,3,6,7-안트라센테트라카르본산 이무수물, 1,2,5,6-안트라센테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 이무수물, 2,5-디카르복시메틸테레프탈산 이무수물, 4,6-디카르복시메틸이소프탈산 이무수물, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)프탈산 무수물, 1,4-비스(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)벤젠, 1,4-비스(2,6-디옥소테트라하이드로-4-피라닐)벤젠, 1,4-비스(2,5-디옥소테트라하이드로-3-메틸-3-푸라닐)벤젠, 1,4-비스(2,6-디옥소테트라하이드로-4-메틸-4-피라닐)벤젠, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 1,2-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-테트라메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 이무수물, 2,3,4,5-테트라하이드로퓨란테트라카르본산 이무수물, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 이무수물, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-시클로헥산-1,2-디카르본산 무수물, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르본산 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 이무수물, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라하이드로-1-나프탈렌숙신산 이무수물, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라하이드로-6-메틸-1-나프탈렌숙신산 이무수물, 비시클로[3.3.0]옥탄-2,4,6,8-테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-비시클로헥실테트라카르본산 이무수물, 2,3,5,6-노보넨테트라카르본산 이무수물, 3,5,6-트리카르복시노보넨-2-아세트산 이무수물, 트리시클로[4.2.1.02,5]노난-3,4,7,8-테트라카르본산 이무수물, 테트라시클로[4.4.1.02,5.07,10]운데칸-3,4,8,9-테트라카르본산 이무수물, 헥사시클로[6.6.0.12,7.03,6.19,14.010,13]헥사데칸-4,5,11,12-테트라카르본산 이무수물, 1,4-비스(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)헥산, 4-비스(2,6-디옥소테트라하이드로-4-피라닐)헥산 등을 들 수 있다.Examples of the tetracarboxylic dianhydride represented by the formula (v) include pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride , 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracene tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-anthracene tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ' , 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 2,5-dicarboxy methylene Phthalic acid dianhydride, 4,6-dicarboxymethylisophthalic acid dianhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) phthalic anhydride, 1,4-bis (2,5-dioxotetrahydro (2,6-dioxotetrahydro-4-pyranyl) benzene, 1,4-bis (2,5-dioxotetrahydro- (2,6-dioxotetrahydro-4-methyl-4-pyranyl) benzene, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2 , 3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,2-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclo Butane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetra Carboxylic acid dianhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro- Cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3, 4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic dianhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalenesuccinic acid dianhydride Water, bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,5, 6-norbornenetetracarboxylic dianhydride, 3,5,6-tricarboxynorbomene-2-acetic acid dianhydride, tricyclo [4.2.1.0 2,5 ] nonane-3,4,7,8-tetracarboxylic acid dianhydride, tetracyclo [4.4.1.0 2,5 .0 7,10] undecane -3,4,8,9- tetracarboxylic dianhydride, bicyclo hexahydro [6.6.0.1 2,7 .0 3,6. 1 9,14 .0 10,13] hexadecane -4,5,11,12- Te (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) hexane, and 4-bis (2,6-dioxotetrahydro-4-pyranyl) hexane. .

상기 (C)성분의 화합물의 제조에 있어서, 테트라카르본산 이무수물과 디아민 화합물 및 디카르본산 무수물과의 반응 온도는 5 내지 50℃, 바람직하게는 10 내지 35℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다. 반응 시에 폴리머화를 피하기 위해서는, 우선 디아민 화합물을 임의의 용제에 용해시킨 후, 반응시의 발열에 의해 중합되는 것을 피하기 위해 23℃로 수냉한 상태에서 테트라카르본산 이무수물과 디카르본산 무수물을 첨가하는 것이 더욱 바람직하다.In the production of the compound of the component (C), the reaction temperature of the tetracarboxylic dianhydride, the diamine compound and the dicarboxylic anhydride may be selected at any temperature of 5 to 50 ° C, preferably 10 to 35 ° C . In order to avoid polymerization during the reaction, tetracarboxylic dianhydride and dicarboxylic anhydride are added in a state of being cooled to 23 deg. C to dissolve the diamine compound in an arbitrary solvent and then to avoid polymerization due to exothermic reaction during the reaction More preferably added.

상기 반응은, 통상, 용제 내에서 행해진다. 이 때 사용 가능한 용제로는, 수산기나 아미노기 등, 산무수물과 반응하는 관능기를 함유하지 않는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸이미다졸, 디메틸설폭사이드, 테트라메틸요소, 디메틸술폰, 헥사메틸설폭사이드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브, 부틸셀루솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 유산에틸, 유산부틸, 시클로헥산올, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸, 유산부틸 등을 들 수 있다.The above reaction is usually carried out in a solvent. The solvent that can be used at this time is not particularly limited as long as it does not contain a functional group reactive with an acid anhydride such as a hydroxyl group or an amino group. Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylimidazole, But are not limited to, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, propyleneglycol monomethyl &lt; RTI ID = 0.0 & Ethyl acetate, propyleneglycol propyl ether acetate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate , Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propyleneglycol monomethyl ether, propyleneglycol propyl ether, ethyl lactate, butyl lactate, cyclohexanol, ethyl acetate , Butyl acetate, ethyl lactate, and butyl lactate.

이들 용제는 단독으로 사용할 수도 있고, 혼합하여 사용할 수도 있지만, 용해성의 관점에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸이미다졸이 바람직하다.These solvents may be used alone or in admixture. From the viewpoint of solubility, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, N, N-dimethylacetamide, N-methyl- Dimethylimidazole is preferred.

또한, 아미노기 함유 카르본산 화합물을 용해하지 않는 용제이더라도, 중합 반응에 의해 생성된 아미노기 함유 카르본산 화합물이 석출되지 않는 범위에서, 상기 용제에 혼합하여 사용할 수도 있다.Further, even a solvent which does not dissolve the amino group-containing carboxylic acid compound, it may be mixed with the above-mentioned solvent within the range that the amino group-containing carboxylic acid compound produced by the polymerization reaction does not precipitate.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르수지 조성물에서의 (C)성분의 함유량은, (A)성분의 폴리에스테르 중합체 100질량부에 기초하여 5 내지 80질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 60질량부이다. 이 비율이 너무 작은 경우에는, 열경화막 형성용 폴리에스테르수지 조성물로부터 얻어지는 경화막의 배향성이 저하되는 한편, 너무 큰 경우에는 투과율이 저하되거나 평탄화성이 저하되는 경우가 있다.
The content of the component (C) in the polyester resin composition for forming a thermosetting film of the present invention is preferably 5 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyester polymer of the component (A), more preferably 5 To 60 parts by mass. When the ratio is too small, the orientation property of the cured film obtained from the polyester resin composition for forming a thermosetting film is lowered, while when it is too large, the transmittance may be lowered or the flatness may be lowered.

<(D)성분>&Lt; Component (D) >

본 발명에서는 (D)성분으로서 하기의 식(3)으로 표시되는 비스말레이미드 화합물을 함유할 수도 있다.In the present invention, the bismaleimide compound represented by the following formula (3) may be contained as the component (D).

(D)성분인 비스말레이미드 화합물은, 평탄화성을 더욱 향상시키는 데에 있어 유효하다.The bismaleimide compound which is the component (D) is effective in further improving the planarization property.

Figure 112011082499031-pct00018
Figure 112011082499031-pct00018

식 중, X는, 지방족기, 환식 구조를 포함하는 지방족기 및 방향족기로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기기 또는 이들 군으로부터 선택되는 복수의 유기기의 조합으로 이루어진 유기기이다. 그리고, X에는, 에스테르 결합, 에테르 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합 등의 결합을 포함할 수도 있다.Wherein X is an organic group selected from the group consisting of an aliphatic group, an aliphatic group having a cyclic structure and an aromatic group, or a combination of a plurality of organic groups selected from these groups. Further, X may contain a bond such as an ester bond, an ether bond, an amide bond, a urethane bond or the like.

이와 같은 비스말레이미드 화합물로는, 예를 들어, N,N'-3,3-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, 3,3-디페닐술폰비스말레이미드, 4,4-디페닐술폰비스말레이미드, N,N'-p-벤조페논비스말레이미드, N,N'-디페닐에탄비스말레이미드, N,N'-디페닐에테르비스말레이미드, N,N'-(메틸렌디-디테트라하이드로페닐)비스말레이미드, N,N'-(3-에틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3, 3-디메틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디클로로)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-이소포론비스말레이미드, N,N'-톨리딘비스말레이미드, N,N'-디페닐프로판비스말레이미드, N,N'-나프탈렌비스말레이미드, N,N'-m-페닐렌비스말레이미드, N,N'-5-메톡시-1,3-페닐렌비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-클로로-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-에틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-프로필-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-이소프로필-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-부틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-메톡시-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-메틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-클로로-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 3,3-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)펜탄, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(3,5-디메틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(3,5-디브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, N,N'-에틸렌디말레이미드, N,N'-헥사메틸렌비스말레이미드, N,N'-도데카메틸렌비스말레이미드, N,N'-m-크실렌비스말레이미드, N,N'-p-크실렌비스말레이미드, N,N'-1,3-비스메틸렌시클로헥산비스말레이미드, N,N'-2,4-토릴렌비스말레이미드, N,N'-2,6-토릴렌비스말레이미드, 등을 들 수 있다. 이들 비스말레이미드 화합물은 특별히 상기한 것에 한정되는 것은 아니다. 이들은, 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용하는 것이 가능하다.Examples of such bismaleimide compounds include N, N'-3,3-diphenylmethane bismaleimide, N, N '- (3,3-diethyl-5,5- , 4-diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, 3,3-diphenylsulfone bismaleimide, 4,4-diphenylsulfone bismaleimide, N , N'-p-benzophenone bismaleimide, N, N'-diphenyl ethane bismaleimide, N, N'-diphenyl ether bismaleimide, N, N '- (methylenedio-ditetrahydrophenyl) N, N '- (3,3-dimethyl) -4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N' - (3-ethyl) -4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N '- (3,3-dichloro) -4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N' , N'-isophorone bismaleimide, N, N'-toluidine bismaleimide, N, N'-diphenylpropane bismaleimide, N, N'-naphthalene bismaleimide, Phenylene bismaleimide, N, N'-5-methoxy-1, 3-phenylene bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Propane, 2,2-bis (3-bromo-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Bis (3-propyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Propane, 2,2-bis (3-butyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Bis (3-methyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) ethane, 1,1-bis (3 (3-bromo-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) ethane, 3,3-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) pentane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (4- 1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2,2-bis (3,5-dimethyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro Bis (3,5-dibromo-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, N, N'-ethylene dimaleimide, N, N'-hexamethylene bismaleimide, N, N'-p-xylenebismaleimide, N, N'-1,3-bismethylene cyclohexane bis, and N, N'-dodecamethylene bismaleimide. Maleimide, N, N'-2,4-tolylene bismaleimide and N, N'-2,6-tolylene bismaleimide. These bismaleimide compounds are not particularly limited to those described above. These may be used alone or in combination of two or more components.

이들 비스말레이미드 중 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드 등의 방향족 비스말레이미드가 바람직하다.Among these bismaleimides, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N ' -Diethyl-5,5-dimethyl) -4,4-diphenyl-methane bismaleimide, and the like.

또한, 이들 방향족 비스말레이미드 중, 보다 높은 평탄화성을 얻기 위해서는 분자량 1,000 이하인 것이 바람직하다.Among these aromatic bismaleimides, those having a molecular weight of 1,000 or less are preferable in order to obtain a higher leveling property.

본 발명에서 (D)성분의 비스말레이미드 화합물의 사용 비율은, (A)성분의 폴리에스테르 100질량부에 대해 0.5 내지 50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 30질량부이고, 특히 바람직하게는 2 내지 20질량부이다. 이 비율이 너무 작은 경우에는, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물로부터 얻어지는 경화막의 평탄화성이 저하되고, 너무 큰 경우에는 경화막의 투과율이 저하되거나 도막이 거칠어지거나 하는 경우가 있다.
In the present invention, the ratio of the bismaleimide compound of the component (D) is preferably 0.5 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 30 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polyester of the component (A) And preferably 2 to 20 parts by mass. When the ratio is too small, the planarizing property of the cured film obtained from the polyester composition for forming a thermosetting film is deteriorated, and when it is too large, the transmittance of the cured film may be lowered or the film may be roughened.

<용제><Solvent>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 용제에 용해된 용액 상태로 사용되는 경우가 많다. 이 때 사용되는 용제는, (A)성분 내지 (C)성분, 필요에 따라 (D)성분 및/또는 후술하는 그 밖의 첨가제를 용해하는 것으로, 이러한 용해능을 갖는 용제라면, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되는 것은 아니다.The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is often used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent used here is a solvent which dissolves the components (A) to (C) and, if necessary, the component (D) and / or other additives to be described later. When the solvent has such a solubility ability, Is not particularly limited.

이러한 용제로는, (A)성분의 중합에 사용한 용제나 하기의 용제를 들 수 있다. 예를 들어, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브, 부틸셀루솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 유산에틸, 유산부틸, 시클로헥산올, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸, 유산부틸 등을 들 수 있다.Examples of such a solvent include the solvent used for the polymerization of the component (A) and the following solvents. For example, there may be mentioned methylcellosolve acetate, ethylcellosolve acetate, methylcellosolve, ethylcellosolve, butylcellosolve, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol propyl ether, ethyl lactate, butyl lactate, cyclohexanol, Ethyl, butyl acetate, ethyl lactate, and butyl lactate.

이들 용제는, 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These solvents may be used singly or in combination of two or more.

<그 밖의 첨가제><Other additives>

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 본 발명의 효과를 저하시키지 않는 한, 필요에 따라, 계면활성제, 레올로지 조정제, 실란 커플링제 등의 접착보조제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 다가페놀이나 다가카르본산 등의 용해촉진제, 산화방지제 등을 함유할 수 있다.The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention may further contain additives such as a surfactant, a rheology modifier and a silane coupling agent, a pigment, a dye, a storage stabilizer , Antifoaming agents, dissolution accelerators such as polyhydric phenols and polyvalent carboxylic acids, antioxidants, and the like.

산화방지제로는 특히 페놀류가 바람직하고, 그 구체예로서, 2,6-디-t-부틸-4-크레졸, 2,6-디-t-부틸-페놀, 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤질)메시틸렌, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트], 아세톤비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)메르캅토르, 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산메틸, 4,4'-티오디(2,6-디-t-부틸페놀), 트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누르산, 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드 등을 들 수 있다.
As the antioxidant, phenols are particularly preferable, and specific examples thereof include 2,6-di-t-butyl-4-cresol, 2,6-di-t-butylphenol, 2,4,6- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) mercapto, 4,4'-methylenebis Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 4,4'-thiodi (2,6-di-t-butylphenol), tris (3,5- 4-hydroxybenzyl) isocyanuric acid, bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) sulfide and the like.

<열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물>&Lt; Polyester composition for forming thermosetting film &

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, (A)성분의 폴리에스테르, (B)성분의 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물, (C)성분의 아미노기 함유 카르본산 화합물을 함유하고, 원하는 경우 (D)성분의 비스말레이미드 화합물, 또한 그 밖의 첨가제 중 1종 이상을 함유할 수 있는 조성물이다. 그리고, 통상은, 이들이 용제에 용해된 용액으로서 사용되는 경우가 많다.The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention contains a polyester of component (A), an epoxy compound having two or more epoxy groups in component (B), and an amino group-containing carboxylic acid compound of component (C) Is a composition capable of containing at least one of bismaleimide compounds of component (D) and other additives. Usually, they are often used as a solution in a solvent.

그 중에서도, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 바람직한 예는, 이하와 같다.Among them, preferred examples of the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention are as follows.

[1]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 3 내지 50질량부의 (B)성분, 5 내지 80질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.[1] A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises 3 to 50 parts by mass of the component (B) and 5 to 80 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A).

[2]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 3 내지 50질량부의 (B)성분, 5 내지 80질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.[2] A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises 3 to 50 parts by mass of the component (B), 5 to 80 parts by mass of the component (C), and a solvent based on 100 parts by mass of the component (A).

[3]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 3 내지 50질량부의 (B)성분, 5 내지 80질량부의 (C)성분, 0.5 내지 50질량부의 (D)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.[3] A thermosetting resin composition comprising: 3 to 50 parts by mass of a component (B), 5 to 80 parts by mass of a component (C), and 0.5 to 50 parts by mass of a component (D) / RTI &gt;

[4]: (A)성분 100질량부에 기초하여, 3 내지 50질량부의 (B)성분, 5 내지 80질량부의 (C)성분, 0.5 내지 50질량부의 (D)성분, 용제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[4] A thermosetting resin composition comprising: 3 to 50 parts by mass of a component (B), 5 to 80 parts by mass of a component (C), 0.5 to 50 parts by mass of a component (D) Polyester composition for forming a cured film.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이 용액의 형태인 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상세하게 설명한다.The mixing ratio, preparation method and the like when the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is in the form of a solution will be described in detail below.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 고형분의 비율은, 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1 내지 80질량%이고, 바람직하게는 5 내지 60질량%이고, 보다 바람직하게는 10 내지 50질량%이다. 여기서, 고형분이란, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 전체 성분에서 용제를 제외한 것을 의미한다.The proportion of the solid content in the thermosetting film-forming polyester composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but it is preferably 1 to 80 mass%, more preferably 5 to 60 mass% %, More preferably from 10 to 50 mass%. Here, the solid content means that the solvent is excluded from the entire components of the polyester composition for forming a thermosetting film.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않지만, 그 조제법으로는, 예를 들어, (A)성분을 용제에 용해하고, 이 용액에 (B)성분, (C)성분, 추가로, (D)성분을 소정의 비율로 혼합해, 균일한 용액으로 하는 방법, 혹은, 이 조제법의 적당한 단계에서, 필요에 따라 그 밖의 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.The preparation method of the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is not particularly limited. For example, the component (A) is dissolved in a solvent and the component (B), (C (D) are mixed in a predetermined ratio to prepare a homogeneous solution, or a method in which other additives are added, if necessary, at an appropriate stage of this preparation method and mixed .

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 조제하는데 있어서는, 용제 중에서의 중합 반응에 의해 얻어지는 폴리에스테르의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 이 (A)성분의 용액에 상기와 동일하게 (B)성분, (C)성분, (D)성분 등을 넣어 균일한 용액으로 할 때에, 농도 조정을 목적으로 하여 추가로 용제를 추가 투입할 수도 있다. 이 때, 폴리에스테르의 생성과정에서 사용되는 용제와, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제 시에 농도 조정을 위해 사용되는 용제는, 동일할 수도 있고, 상이할 수도 있다.In the preparation of the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention, a solution of a polyester obtained by a polymerization reaction in a solvent can be used as it is. In this case, when a homogeneous solution is prepared by adding the component (B), the component (C), the component (D) and the like to the solution of the component (A), the solvent is further added It can also be injected. At this time, the solvent used in the polyester production process and the solvent used for the concentration adjustment at the time of preparing the polyester composition for forming a thermosetting film may be the same or different.

그리고, 조제된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 용액은, 공경이 0.2㎛ 정도인 필터 등을 이용하여 여과한 다음 사용하는 것이 바람직하다.
The prepared solution of the polyester composition for thermosetting film formation is preferably filtered after using a filter having a pore size of about 0.2 탆 or the like.

<도막, 경화막 및 액정 배향층><Coating film, cured film and liquid crystal alignment layer>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 기판(예를 들어, 실리콘/이산화실리콘 피복 기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리 기판, 석영 기판, ITO 기판 등)이나 필름(예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스 필름, 폴리에스테르 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름) 등의 위에, 회전 도포, 흘림 도포, 롤 도포, 슬릿 도포, 슬릿에 이은 회전 도포, 잉크젯 도포, 인쇄 등에 의해 도포하고, 그 후, 핫플레이트 또는 오븐 등으로 예비 건조(프리베이크)함으로써, 도막을 형성할 수 있다. 그 후, 이 도막을 가열 처리함으로써, 피막이 형성된다.The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can be applied to a substrate (e.g., a substrate coated with a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a metal such as aluminum, molybdenum, A spin coating, a roll coating, a slit coating, a rotation after the slit, and the like (for example, a quartz substrate, an ITO substrate or the like) or a film (for example, a resin film such as a triacetyl cellulose film, a polyester film, Coating, inkjet coating, printing or the like, and then preliminarily drying (prebaking) with a hot plate or an oven to form a coating film. Thereafter, this coating film is heat-treated to form a coating film.

이 가열 처리의 조건으로는, 예를 들어, 온도 70℃ 내지 160℃, 시간 0.3 내지 60분간의 범위 중에서 적당히 선택된 가열 온도 및 가열 시간이 채용된다. 가열 온도 및 가열 시간은, 바람직하게는 80℃ 내지 140℃, 0.5 내지 10분간이다.As the conditions of the heat treatment, for example, a heating temperature and a heating time appropriately selected from a temperature range of 70 to 160 DEG C and a time of 0.3 to 60 minutes are employed. The heating temperature and the heating time are preferably 80 占 폚 to 140 占 폚 for 0.5 to 10 minutes.

또한, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물로 형성되는 피막의 막두께는, 예를 들면, 0.1 내지 30㎛이고, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 성질을 고려하여 적당히 선택할 수 있다.The film thickness of the film formed of the thermosetting film-forming polyester composition is, for example, 0.1 to 30 占 퐉 and can be appropriately selected in consideration of the step difference of the substrate to be used and the optical and electrical properties.

포스트베이크로는, 일반적으로, 온도 140℃ 내지 250℃의 범위 중에서 선택된 가열 온도로, 핫플레이트 상인 경우에는 5 내지 30분간, 오븐 속인 경우에는 30 내지 90분간 처리하는 방법이 채용된다.As the post bake, a method of treating at a heating temperature selected from the range of 140 ° C to 250 ° C, for 5 to 30 minutes in the case of the hot plate, and for 30 to 90 minutes in the case of the oven is adopted as the post bake.

상기한 바와 같은 조건을 토대로, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 경화시킴으로써, 기판의 단차를 충분히 평탄화할 수 있고, 고투명성을 갖는 경화막을 형성할 수 있다.By curing the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention based on the above-described conditions, it is possible to sufficiently planarize the steps of the substrate, and to form a cured film having high transparency.

이렇게 형성한 경화막은 러빙 처리를 행함으로써 액정재 배향층, 즉, 액정성을 갖는 화합물을 배향시키는 층으로서 기능시킬 수 있다.The cured film thus formed can function as a liquid crystal aligning layer, that is, a layer for aligning a compound having liquid crystallinity by performing a rubbing treatment.

러빙 처리의 조건으로는, 일반적으로 회전 속도 300 내지 1,000rpm, 이송 속도 3 내지 200mm/초, 압입량 0.1 내지 1mm라는 조건이 사용된다.Conditions for the rubbing treatment are generally a condition of a rotational speed of 300 to 1,000 rpm, a conveying speed of 3 to 200 mm / sec, and an indentation amount of 0.1 to 1 mm.

그 후, 순수 등을 사용하여 초음파 세정에 의해 러빙을 통해 생성된 잔사가 제거된다.Thereafter, the residue produced through rubbing is removed by ultrasonic cleaning using pure water or the like.

이렇게 형성된 액정 배향층 위에, 위상차 재료를 도포한 후, 위상차 재료를 액정 상태로 하여 광경화시켜, 광학 이방성을 갖는 층을 형성할 수 있다.After the phase difference material is applied on the liquid crystal alignment layer thus formed, the phase difference material is made into a liquid crystal state and photo-cured, whereby a layer having optically anisotropy can be formed.

위상차 재료로는, 예를 들어, 중합성 기를 갖는 액정 모노머 또는 이를 함유하는 조성물 등이 이용된다.As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group or a composition containing the liquid crystal monomer is used.

그리고, 액정 배향층을 형성하는 재료가 필름인 경우에는, 광학 이방성 필름으로서 유용하다.When the material forming the liquid crystal alignment layer is a film, it is useful as an optically anisotropic film.

또한, 상기와 같이 하여 형성된 액정 배향층을 갖는 2매의 기판을, 스페이서를 사이에 두고 액정 배향층이 마주보도록 접합한 후, 이들 기판 사이에, 액정을 주입하여, 액정이 배향된 액정 표시 소자로 할 수 있다.Further, two substrates having the liquid crystal alignment layer formed as described above were bonded together with the spacers interposed therebetween so as to face the liquid crystal alignment layers. Then, liquid crystal was injected between these substrates to form liquid crystal display elements .

그러므로, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 각종 광학 이방성 필름, 액정 표시 소자에 적합하게 이용할 수 있다.Therefore, the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can be suitably used for various optically anisotropic films and liquid crystal display elements.

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 적어도 필요한 수준의 평탄화성을 갖기 때문에, 박막 트랜지스터(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료로서도 유용하고, 특히, 컬러필터의 오버코트재, TFT형 액정 소자의 층간절연막, 유기 EL 소자의 절연막 등을 형성하는 재료로서도 적합하다.
In addition, since the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention has at least a necessary level of planarizing property, a protective film, a flattening film, an insulating film, and the like in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element, And is particularly suitable as a material for forming an overcoat material of a color filter, an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal device, an insulating film of an organic EL device, and the like.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 자세하게 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실시예에서 사용하는 약기호][Abbreviations used in the examples]

이하의 실시예에서 사용하는 약기호의 의미는, 다음과 같다.
The meanings of the weak symbols used in the following examples are as follows.

<폴리에스테르 중합체 원료>&Lt; Polyester polymer raw material &

HBPDA: 3,3'-4,4'-비시클로헥실테트라카르본산 이무수물HBPDA: 3,3'-4,4'-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride

THPA: 1,2,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물THPA: 1,2,5,6-tetrahydrophthalic anhydride

BPDA: 비페닐테트라카르본산 이무수물BPDA: biphenyltetracarboxylic dianhydride

HBPA: 수소화비스페놀 AHBPA: hydrogenated bisphenol A

BTEAC: 벤질트리에틸암모늄클로라이드
BTEAC: Benzyltriethylammonium chloride

<아미노기 함유 카르본산 화합물 원료>&Lt; Amino group-containing carboxylic acid compound raw material &

HBPDA: 3,3'-4,4'-비시클로헥실테트라카르본산 이무수물HBPDA: 3,3'-4,4'-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride

CBDA: 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 이무수물CBDA: 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride

THPA: 1,2,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물THPA: 1,2,5,6-tetrahydrophthalic anhydride

DA-4P: 1,3-비스(4-아미노페닐)벤젠DA-4P: 1,3-bis (4-aminophenyl) benzene

DDS: 4,4'-디아미노디페닐술폰
DDS: 4,4'-diaminodiphenyl sulfone

<폴리이미드 전구체 원료><Material for polyimide precursor>

CBDA: 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 이무수물CBDA: 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride

pDA: p-페닐렌디아민
pDA: p-phenylenediamine

<아크릴 공중합체 원료>&Lt; Acrylic copolymer raw material &

MAA: 메타크릴산MAA: methacrylic acid

MMA: 메틸메타크릴레이트MMA: methyl methacrylate

HEMA: 2-하이드록시에틸메타크릴레이트HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

CHMI: N-시클로헥실말레이미드CHMI: N-cyclohexylmaleimide

AIBN: 아조비스이소부티로니트릴
AIBN: azobisisobutyronitrile

<에폭시 화합물><Epoxy Compound>

CEL: Daicel Chemical Industries, Ltd,. 제 Ceroxide P-2021(제품명)(화합물명: 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카르복시레이트)
CEL: Daicel Chemical Industries, Ltd .; (Product name) (compound name: 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate)

<비스말레이미드 화합물><Bismaleimide compound>

BMI1: N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드
BMI 1: N, N '- (3,3-diethyl-5,5-dimethyl) -4,4-diphenyl-methane bismaleimide

<용제><Solvent>

PGMEA: 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

PGME: 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: Propylene glycol monomethyl ether

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드DMAc: N, N-dimethylacetamide

NMP: N-메틸-2-피롤리돈
NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

이하의 합성예를 따라 얻어지는 폴리에스테르 중합체, 폴리이미드 전구체 및 아크릴 공중합체의 수평균분자량 및 중량평균분자량은, JASCO Corporation 제GPC장치(Shodex(등록상표) 컬럼 KF803L 및 KF804L)를 이용해, 용출 용매 테트라하이드로퓨란을 유량 1ml/분으로 컬럼 중에 (컬럼 온도 40℃) 흘려 용리시키는 조건으로 측정하였다. 한편, 하기의 수평균분자량(이하, Mn이라고 함) 및 중량평균분자량(이하, Mw라고 함)은, 폴리스티렌 환산값으로 나타내었다.
The number average molecular weight and the weight average molecular weight of the polyester polymer, the polyimide precursor and the acrylic copolymer obtained according to the following Synthesis Examples were measured using a GPC apparatus (Shodex (registered trademark) columns KF803L and KF804L, manufactured by JASCO Corporation) Hydrofuran was measured under the conditions of eluting by flowing in a column (column temperature: 40 DEG C) at a flow rate of 1 ml / min. On the other hand, the following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are expressed as polystyrene conversion values.

<합성예 1>&Lt; Synthesis Example 1 &

HBPDA 12.0g, HBPA 10.2g, THPA 0.95g, BTEAC 0.22g을 PGMEA 54.48g 중에서 120℃로 19시간 반응시킴으로써, 폴리에스테르 중합체 용액(고형분 농도: 30.0질량%)을 얻었다(P1). 얻어진 폴리에스테르 중합체의 Mn은 2,280, Mw는 4,200이었다.(Solid concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 12.0 g of HBPDA, 10.2 g of HBPA, 0.95 g of THPA and 0.22 g of BTEAC in 54.48 g of PGMEA at 120 캜 for 19 hours (P1 concentration). The obtained polyester polymer had Mn of 2,280 and Mw of 4,200.

<합성예 2>&Lt; Synthesis Example 2 &

DA-4P 14.6g을 DMAc 40.68g에 용해시킨 후에 수냉하고 23℃로 유지하였다. 이 용액에 CBDA 4.90g, THPA 7.60g을 23℃에서 24시간 반응시킴으로써 아미노기 함유 카르본산 화합물 용액(고형분 농도40.0질량%)을 얻었다. (A1)14.6 g of DA-4P was dissolved in 40.68 g of DMAc and then water-cooled and maintained at 23 占 폚. To this solution, 4.90 g of CBDA and 7.60 g of THPA were reacted at 23 占 폚 for 24 hours to obtain an amino group-containing carboxylic acid compound solution (solid concentration: 40.0% by mass). (A1)

<합성예 3>&Lt; Synthesis Example 3 &

DDS 4.97g을 DMAc 14.95g에 용해시킨 후에 수냉하고 23℃로 유지하였다. 이 용액에 CBDA 1.96g, THPA 3.04g을 23℃에서 24시간 반응시킴으로써 아미노기 함유 카르본산 화합물 용액(고형분 농도40.0질량%)을 얻었다. (A2)4.97 g of DDS was dissolved in 14.95 g of DMAc and then water-cooled and maintained at 23 占 폚. To this solution, 1.96 g of CBDA and 3.04 g of THPA were reacted at 23 占 폚 for 24 hours to obtain an amino group-containing carboxylic acid compound solution (solid concentration: 40.0% by mass). (A2)

<합성예 4>&Lt; Synthesis Example 4 &

DA-4P 14.61g을 DMAc 41.82g에 용해시킨 후에 수냉하고 23℃로 유지하였다. 이 용액에 HBPDA 7.66g, THPA 7.60g을 23℃에서 24시간 반응시킴으로써 아미노기 함유 카르본산 화합물 용액(고형분 농도40.0질량%)을 얻었다. (A3)14.61 g of DA-4P was dissolved in 41.82 g of DMAc, then water-cooled and maintained at 23 占 폚. 7.66 g of HBPDA and 7.60 g of THPA were reacted with this solution at 23 占 폚 for 24 hours to obtain an amino group-containing carboxylic acid compound solution (solid content concentration: 40.0% by mass). (A3)

<합성예 5>&Lt; Synthesis Example 5 &

BPDA 40.0g, HBPA 35.3g, THPA 3.31g, BTEAC 0.77g을 PGMEA 175.7g 중에서 120℃로 19시간 반응시킴으로써, 폴리에스테르 중합체 용액(고형분 농도: 30.0질량%)을 얻었다(P2). 얻어진 폴리에스테르 중합체의 Mn은 1,100, Mw는 2,580이었다.A polyester polymer solution (solid concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 40.0 g of BPDA, 35.3 g of HBPA, 3.31 g of THPA and 0.77 g of BTEAC in 175.7 g of PGMEA at 120 캜 for 19 hours (P2). The obtained polyester polymer had 1,100 Mn and 2,580 Mw.

<합성예 6>&Lt; Synthesis Example 6 &

CBDA 17.7g, pDA 10.2g을 NMP 66.4g 중에서 23℃에서 24시간 반응시킴으로써, 폴리이미드 전구체 용액(고형분 농도: 30.0질량%)을 얻었다(P3). 얻어진 폴리이미드 전구체의 Mn은 5,800, Mw는 12,500이었다.A polyimide precursor solution (solid concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 17.7 g of CBDA and 10.2 g of pDA in 66.4 g of NMP at 23 占 폚 for 24 hours (P3). The obtained polyimide precursor had Mn of 5,800 and Mw of 12,500.

<합성예 7>&Lt; Synthesis Example 7 &

모노머 성분으로서, MAA 10.9g, CHMI 35.3g, HEMA 25.5g, MMA 28.3g을 사용하고, 라디칼 중합개시제로서 AIBN 5g을 사용하고, 이것들을 용제 PGMEA 150g 중에서 온도 60℃ 내지 100℃로 중합 반응시킴으로써, 아크릴 공중합체 용액(고형분 농도: 40.0질량%)을 얻었다(P4). 얻어진 아크릴 공중합체 용액의 Mn은 3,800, Mw는 6,700이었다.10.9 g of MAA, 35.3 g of CHEMA, 25.5 g of HEMA and 28.3 g of MMA were used as monomer components and 5 g of AIBN was used as a radical polymerization initiator. These were polymerized in 150 g of solvent PGMEA at a temperature of 60 to 100 캜, Acrylic copolymer solution (solid concentration: 40.0 mass%) was obtained (P4). The obtained acrylic copolymer solution had Mn of 3,800 and Mw of 6,700.

<실시예 1 내지 실시예 6 및 비교예 1 내지 비교예 4>&Lt; Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 >

표 1에 나타내는 조성으로 실시예 1 내지 실시예 6 및 비교예 1 내지 비교예 4의 각 조성물을 조제하고, 각각에 대하여 평탄화성, 용제내성, 투과율 그리고 배향성을 평가하였다.Each of the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was prepared with the composition shown in Table 1, and the flatness, the solvent resistance, the transmittance and the orientation were evaluated for each of the compositions.

Figure 112011082499031-pct00019
Figure 112011082499031-pct00019

※ P1~P2: 폴리에스테르 중합체 용액※ P1 ~ P2: Polyester polymer solution

P3: 폴리이미드 전구체 용액P3: polyimide precursor solution

P4: 아크릴 공중합체 용액
P4: Acrylic copolymer solution

[평탄화성의 평가][Evaluation of planarization property]

실시예 1 내지 실시예 6, 그리고 비교예 1 내지 비교예 4의 각 조성물을 높이 0.5㎛, 라인폭 10㎛, 라인간 스페이스 50㎛의 단차 기판(유리제) 위에 스핀코터를 이용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크하여, 막두께 2.8㎛의 도막을 형성하였다. 막두께는 FILMETRICS사 제의 F20를 이용하여 측정하였다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 가열함으로써 포스트베이크를 행해 막두께 2.5㎛의 경화막을 형성하였다.Each of the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was applied to a stepped substrate (glass) having a height of 0.5 m, a line width of 10 m and a laminar space of 50 m using a spin coater, Baked on a hot plate at a temperature of 100 DEG C for 120 seconds to form a coat film having a thickness of 2.8 mu m. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This coating film was heated at 230 캜 for 30 minutes to perform post-baking to form a cured film having a film thickness of 2.5 탆.

단차 기판 라인 상의 도막과 스페이스 상의 도막의 막두께 차를 측정하고(도 1 참고), 평탄화율(DOP)=100×〔1-{도막의 막두께 차(㎛)/단차 기판의 높이(0.5㎛)}〕의 식을 이용하여 평탄화율을 구하였다.The difference in film thickness between the coating film on the stepped substrate line and the coating film on the space was measured (refer to Fig. 1), and the flatness ratio (DOP) = 100 x [1- (film thickness difference )}] Was used to obtain the flatness ratio.

[용제내성의 평가][Evaluation of Solvent Resistance]

실시예 1 내지 실시예 6, 그리고 비교예 1 내지 비교예 4의 각 조성물을 실리콘 웨이퍼에 스핀코터를 이용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크하여, 막두께 2.8㎛의 도막을 형성하였다. 막두께는 FILMETRICS사 제의 F20를 이용하여 측정하였다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 핫플레이트 상에서 포스트베이크를 행해, 막두께 2.5㎛의 경화막을 형성하였다.Each of the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was applied to a silicon wafer using a spin coater and then pre-baked on a hot plate at a temperature of 100 DEG C for 120 seconds to obtain a film having a thickness of 2.8 mu m Thereby forming a coating film. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This coating film was subjected to post-baking on a hot plate at 230 캜 for 30 minutes to form a cured film having a thickness of 2.5 탆.

이 경화막을 PGMEA 또는 NMP 중에 60초간 침지시킨 후, 각각 온도 100℃로 60초간 건조하여, 막두께를 측정하였다. PGMEA 또는 NMP 침지 후 막두께 변화가 없는 것을 ○, 침지 후에 막두께의 감소가 보여진 것을 ×로 하였다.The cured film was immersed in PGMEA or NMP for 60 seconds, and then dried at a temperature of 100 DEG C for 60 seconds to measure the film thickness. &Amp; cir &amp;, &amp; cir &amp; and &amp; cir &amp;

[광투과율(투명성)의 평가][Evaluation of light transmittance (transparency)] [

실시예 1 내지 실시예 6, 그리고 비교예 1 내지 비교예 4의 각 조성물을 석영 기판 상에 스핀코터를 이용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행해 막두께 2.8㎛의 도막을 형성하였다. 막두께는 FILMETRICS사 제의 F20를 이용하여 측정하였다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 핫플레이트 상에서 포스트베이크를 행해 경화막을 형성하였다.Each of the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on a quartz substrate using a spin coater and prebaked on a hot plate at a temperature of 100 DEG C for 120 seconds to form a film having a thickness of 2.8 mu m Was formed. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This coating film was subjected to post-baking on a hot plate at a temperature of 230 캜 for 30 minutes to form a cured film.

이 경화막을 자외선 가시 분광 광도계(Shimadzu Corporation 제, SHIMADSU UV-2550 모델번호)를 이용하여 파장 400nm 시의 투과율을 측정하였다.The cured film was measured for transmittance at a wavelength of 400 nm using an ultraviolet visible spectrophotometer (SHIMADSU UV-2550 model number, manufactured by Shimadzu Corporation).

[배향성의 평가][Evaluation of orientation]

실시예 1 내지 실시예 6, 그리고 비교예 1 내지 비교예 4의 각 조성물을 ITO 기판 상에 스핀코터를 이용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행해 막두께 2.8㎛의 도막을 형성하였다. 막두께는 FILMETRICS사 제의 F20를 이용하여 측정하였다. 이 막을 온도 230℃에서 30분간 핫플레이트 상에서 포스트베이크를 행해 경화막을 형성하였다.Each of the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on an ITO substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 캜 for 120 seconds to form a film having a thickness of 2.8 탆 Was formed. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This film was post-baked on a hot plate at a temperature of 230 캜 for 30 minutes to form a cured film.

이 경화막을 회전 속도 300rpm, 이송 속도 10mm/초, 압입량 0.45mm로 러빙 처리하였다. 러빙 처리한 기판을 순수로 5분간 초음파 세정하였다. 이 기판 상에 액정 모노머로 이루어진 위상차 재료를 스핀코터를 이용하여 도포한 후, 100℃에서 40초간, 55℃에서 30초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행해 막두께 1.1㎛의 도막을 형성하였다. 이 기판을 질소 분위기하 2,000mJ로 노광하였다. 제작된 기판을 편향판에 끼워, 배향성을 육안으로 확인하였다. 기판을 45도로 기울였을 때와 기울이지 않았을 때 빛의 투과성이 현저하게 변하는 것을 ○, 변하지 않은 것을 ×로 하였다.This cured film was subjected to rubbing treatment at a rotating speed of 300 rpm, a conveying speed of 10 mm / sec, and an indentation amount of 0.45 mm. The rubbed substrate was ultrasonically cleaned with pure water for 5 minutes. A retardation material made of a liquid crystal monomer was coated on the substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 100 占 폚 for 40 seconds and at 55 占 폚 for 30 seconds to form a coating film having a thickness of 1.1 占 퐉. The substrate was exposed at 2,000 mJ under a nitrogen atmosphere. The prepared substrate was sandwiched between the polarizing plates, and the orientation was visually confirmed. The substrate was markedly changed in transparency when the substrate was tilted at 45 degrees and when it was not tilted.

[내열성의 평가][Evaluation of heat resistance]

실시예 1 내지 실시예 6, 그리고 비교예 1 내지 비교예 4의 각 조성물을 석영 기판 상에 스핀코터를 이용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크 한 후, 온도 230℃에서 30분간 핫플레이트 상에서 포스트베이크를 행해 경화막을 형성하고, 막두께를 FILMETRICS사 제의 F20를 이용하여 측정하였다. 그 후에 추가로 경화막을 온도 230℃로 60분간 핫플레이트 상에서 소성하여 재차 막두께를 측정하고, 포스트베이크 후로부터의 막두께의 변화량을 산출하였다.Each of the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on a quartz substrate by using a spin coater and then pre-baked on a hot plate at a temperature of 100 ° C for 120 seconds, For 30 minutes on a hot plate to form a cured film, and the film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS Co., Ltd. Thereafter, the cured film was further baked on a hot plate at 230 캜 for 60 minutes to measure the film thickness again, and the amount of change in the film thickness after post-baking was calculated.

[평가의 결과][Results of evaluation]

이상의 평가를 행한 결과를, 다음의 표 2에 나타낸다.The results of the above evaluation are shown in Table 2 below.

Figure 112011082499031-pct00020
Figure 112011082499031-pct00020

실시예 1 내지 실시예 6은, 평탄화율, 내열성이 높고, PGMEA, NMP 중 어느 것에 대해서도 내성이 보여졌다. 또, 어느 것이나 양호한 배향성을 나타내고, 고온 소성 후에도 높은 투과율(투명성)을 달성하였다. In Examples 1 to 6, the planarization ratio and heat resistance were high, and resistance to both PGMEA and NMP was shown. In addition, all of them exhibited good alignment properties and achieved high transmittance (transparency) even after high-temperature firing.

한편, 비교예 1은 용제내성, 배향성, 평탄화율은 양호했지만, 내열성이 매우 낮은 결과를 나타내었다.On the other hand, Comparative Example 1 showed good resistance to solvent resistance, orientation, and flatness, but showed a very low heat resistance.

또한, 비교예 2는 경화막이 형성되지 않았다.In Comparative Example 2, no cured film was formed.

또한, 비교예 3은, 용제내성, 내열성 및 배향성은 양호했지만, 평탄화율이 매우 낮은 결과를 나타내었다.In Comparative Example 3, the solvent resistance, the heat resistance and the orientation were good, but the planarization rate was very low.

그리고 비교예 4는, 평탄화율, 내열성, 용제내성 및 투과율은 양호한 결과가 얻어졌지만, 배향성이 악화되는 결과를 보였다.In Comparative Example 4, the flatness, the heat resistance, the solvent resistance, and the transmittance were satisfactory but the orientation was deteriorated.

이상과 같이, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르수지 조성물은, 경화막 형성시에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜계 용제의 사용이 가능했으며, 그뿐 아니라, 얻어진 경화막은, 우수한 광투과성, 용제내성, 평탄화성 및 배향성의 어떠한 성능도 양호한 결과가 얻어졌다.As described above, in the polyester resin composition for forming a thermosetting film of the present invention, it is possible to use a glycol solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate at the time of forming a cured film. In addition, the obtained cured film has excellent light transmittance , Solvent resistance, flattening property and orientation were obtained.

Claims (12)

(A)성분, (B)성분 및 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
(A)성분: 테트라카르본산 이무수물과 디올 화합물을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르,
(B)성분: 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 화합물,
(C)성분: 디아민 화합물, 디카르본산 무수물 및 테트라카르본산 이무수물을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물.
A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises a component (A), a component (B) and a component (C).
(A): a polyester obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diol compound,
Component (B): an epoxy compound having two or more epoxy groups,
Component (C): An amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting a diamine compound, dicarboxylic anhydride and tetracarboxylic dianhydride.
제1항에 있어서,
상기 (A)성분이 하기 식(1)로 표시되는 구조 단위를 포함하는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 1]
Figure 112011082499031-pct00021

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합된 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합된 2가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the component (A) is a polyester comprising a structural unit represented by the following formula (1).
[Chemical Formula 1]
Figure 112011082499031-pct00021

(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups or four aliphatic groups bonded to each other and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group).
제1항에 있어서,
상기 (A)성분이 하기 식(i)로 표시되는 테트라카르본산 이무수물과 식(ii)로 표시되는 디올 화합물을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 2]
Figure 112016064621684-pct00022

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합된 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합된 2가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the component (A) is a polyester obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) with a diol compound represented by the formula (ii).
(2)
Figure 112016064621684-pct00022

(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups or four aliphatic groups bonded to each other and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group).
제2항에 있어서,
상기 식(1) 중, A는 하기 식(A-1) 내지 식(A-8)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 나타내고, B가 하기 식(B-1) 내지 식(B-5)로 표시되는 기로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 3]
Figure 112016064621684-pct00023

[화학식 4]
Figure 112016064621684-pct00024
3. The method of claim 2,
In the above formula (1), A represents at least one kind of group selected from the groups represented by the following formulas (A-1) to (A-8) -5). &Lt; / RTI &gt;
(3)
Figure 112016064621684-pct00023

[Chemical Formula 4]
Figure 112016064621684-pct00024
제1항에 있어서,
(A)성분인 폴리에스테르의 중량평균분자량이 폴리스티렌 환산으로 1,000 내지 30,000인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polyester as the component (A) has a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 in terms of polystyrene.
제1항에 있어서,
(C)성분이, 테트라카르본산 이무수물 1몰에 대해, 디아민 화합물 2몰과, 디카르본산 무수물 2몰을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the component (C) is an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting 2 moles of a diamine compound and 2 moles of a dicarboxylic anhydride with respect to 1 mole of a tetracarboxylic dianhydride.
제1항에 있어서,
(C)성분이, 하기 식(iii), (iv) 및 (v)로 표시되는 화합물을 반응시켜 얻어지는 아미노기 함유 카르본산 화합물인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[화학식 5]
Figure 112016064621684-pct00025

(상기 식(iii) 및 (iv) 중, P 및 Q는 각각 독립적으로 2가의 유기기를 나타내고, 식(v) 중, Z는 4가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the component (C) is an amino group-containing carboxylic acid compound obtained by reacting a compound represented by the following formula (iii), (iv) or (v).
[Chemical Formula 5]
Figure 112016064621684-pct00025

(In the formulas (iii) and (iv), P and Q each independently represent a divalent organic group, and in the formula (v), Z represents a tetravalent organic group.)
제1항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여, 3 내지 50질량부의 (B)성분, 5 내지 80질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
3 to 50 parts by mass of the component (B) and 5 to 80 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A).
제1항에 있어서,
추가로, (D)성분으로서 비스말레이미드 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
The polyester composition for forming a thermosetting film further contains a bismaleimide compound as the component (D).
제9항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여, 0.5 내지 50질량부의 (D)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
10. The method of claim 9,
0.5 to 50 parts by mass of the component (D) based on 100 parts by mass of the component (A).
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어지는 경화막.A cured film obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of claims 1 to 10. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어지는 액정 배향층.A liquid crystal alignment layer obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of claims 1 to 10.
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