KR101706177B1 - Polyester Composition for Forming Heat-cured Film - Google Patents

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Abstract

경화막 형성 후에는 높은 용제 내성, 액정 배향성, 내열성 고투명성 및 고평탄화성을 나타내며, 또한 경화막 형성시에는 칼라필터의 평탄화막 등의 제조 라인에서 적용가능한 여러 가지 용제에 용해되는 재료를 제공하는 것에 있다.
(A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 하기 식(1)로 나타나는 적어도 한 종의 디에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타낸다. 식(2) 중) 중 알킬렌기를 나타낸다.)
There is provided a material which exhibits high solvent resistance, liquid crystal alignment property, heat resistance, high transparency and high planarization property after the formation of a cured film, and which is soluble in various solvents applicable to a production line of a color filter film for forming a cured film It is on.
A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises a polyester as a component (A), a crosslinking agent as a component (B), and at least one diester compound represented by the following formula (1) as a component (C) P represents a group consisting of an alicyclic group, an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2), and Q represents an alicyclic group or a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group.

Description

열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물{Polyester Composition for Forming Heat-cured Film}[0002] Polyester Composition for Forming Heat-cured Film [0003]

본 발명은 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물 및 이로부터 얻어지는 경화막에 관한 것이다. 보다 상세하게는 높은 투명성, 평탄화성을 가지며, 액정 배향능, 높은 용제내성 및 내열성을 가지는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물, 이 경화막, 이 경화막의 적용에 관한 것이다. 이 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 특히 액정 디스플레이에서의 액정 배향 기능을 겸비한 칼라필터 오버코트제에 호적하다.The present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film and a cured film obtained therefrom. More specifically, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film having high transparency and planarizing property, a liquid crystal aligning ability, a high solvent resistance and a heat resistance, a cured film, and an application of the cured film. The polyester composition for forming a thermosetting film is particularly suitable for a color filter overcoat agent having a liquid crystal aligning function in a liquid crystal display.

일반적으로 액정 표시 소자, 유기 EL(electroluminescent) 소자, 고체 촬상 소자 등의 광 디바이스에서는 소자 표면이 제조 공정 중에 용제나 열에 노출되는 것을 방지하기 위해 보호막을 설치한다. 이 보호막은 보호하는 기판과의 밀착성이 높고 용제 내성이 높을 뿐만 아니라 투명성, 내열성 등의 성능도 요구된다.
Generally, in an optical device such as a liquid crystal display device, an organic EL (electroluminescent) device, or a solid-state image pickup device, a protective film is provided to prevent the device surface from being exposed to solvent or heat during the manufacturing process. This protective film is required to have high adhesion with a protective substrate and high solvent resistance as well as to have transparency, heat resistance and other performance.

이와 같은 보호막은 칼라 액정 표시 장치나 고체 촬상 소자에 사용되는 칼라필터의 보호막으로 사용하는 경우에는 일반적으로 그 하지기판의 칼라필터 또는 블랙 매트릭스 수지를 평탄화하는 성능, 즉 평탄화막으로써의 성능을 가질 것이 요구된다. 특히, STN방식이나 TFT방식의 칼라 액정 표시 소자를 제조할 때에는 칼라필터 기판과 대향 기판과의 접합 정밀도를 매우 엄밀하게 해야 하며 기판간의 셀갭을 균일하게 해야 한다. 또한, 칼라필터를 투과하는 빛의 투과율을 유지하기 위해 이 보호막인 이들 평탄화막에는 높은 투명성이 필요하다.
When such a protective film is used as a protective film of a color filter used in a color liquid crystal display device or a solid-state image pickup device, the protective film generally has a capability of flattening a color filter or a black matrix resin of the base substrate, Is required. Particularly, in manufacturing a color liquid crystal display device of the STN type or TFT type, the alignment accuracy between the color filter substrate and the counter substrate must be very strict and the cell gap between the substrates must be uniform. In order to maintain the transmittance of light transmitted through the color filter, these planarizing films as the protective film are required to have high transparency.

한편, 최근에 액정 디스플레이의 셀내에 위상차 재료를 도입함으로써 저비용화, 경량화가 검토되었으며 이와 같은 위상차 재료에는 액정 모노머를 도포하고 배향시킨 후, 광경화시킨 재료가 일반적으로 사용된다. 이 위상차 재료를 배향시키기 위해서는 하층막이 러빙 처리후 배향성을 가지는 재료일 필요가 있다. 이 때문에 칼라필터의 오버코트 상에 액정 배향층을 성막한 후 위상차 재료가 형성된다(도2(a) 참조). 이 액정 배향층과 칼라필터의 오버코트를 겸비한 층(도2(b) 참조)을 형성할 수 있다면 저비용화, 프로세서수의 삭감 등 큰 장점을 얻을 수 있기 때문에 이와 같은 재료가 강하게 요구되고 있다.
On the other hand, in recent years, low cost and light weight have been studied by introducing a retardation material into a cell of a liquid crystal display. A material obtained by applying and orienting a liquid crystal monomer and then photo-cured is generally used for such retardation material. In order to orient this phase difference material, the lower layer film needs to be a material having orientation after rubbing treatment. Therefore, a phase difference material is formed after the liquid crystal alignment layer is formed on the overcoat of the color filter (see Fig. 2 (a)). If the layer (see Fig. 2 (b)) having both the liquid crystal alignment layer and the color filter in an overcoat can be formed, such a material is strongly required because it can achieve great advantages such as low cost and reduction in the number of processors.

일반적으로 이 칼라필터의 오버코트에는 투명성이 높은 아크릴수지가 사용된다. 이들 아크릴수지에는 프로필렌글리콜 모노메틸에테르나 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜계의 용매나 유산 에틸, 유산 부틸 등의 에스테르계 용매가 안전성, 핸들링성의 관점에서 널리 사용되고 있다. 이와 같은 아크릴수지는 열경화나 광경화시킴으로써 내열성이나 내용제성을 부여하고 있다(특허문헌 1, 2). 하지만 종래의 열경화성이나 광경화성 아크릴수지에서는 적당한 투명성이나 평탄화성을 나타내지만 이와 같은 평탄화막을 러빙 처리하면 충분한 배향성은 나타내지 않았다.
Generally, acrylic resin having high transparency is used for overcoat of the color filter. These acrylic resins include glycol solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate, and ester solvents such as ethyl lactate and butyl lactate, which are widely used in view of safety and handling. Such an acrylic resin imparts heat resistance and solvent resistance by thermally curing or photo-curing (Patent Documents 1 and 2). However, conventional thermosetting or photo-curable acrylic resins show appropriate transparency and planarization property, but when such a planarizing film is rubbed, sufficient orientation is not exhibited.

한편, 액정 배향층에는 용제 가용성 폴리이미드나 폴리아믹산으로 이루어진 재료가 통상적으로 사용되고 있다. 이들 재료는 포스트베이크시에 완전히 이미드화시킴으로써 내용제성을 부여하고, 러빙 처리에 의해 충분한 배향성을 나타내는 것이 보고되었다(특허문헌 3). 하지만 칼라필터의 평탄화막으로 본 경우, 평탄화성과 투명성이 크게 저하되는 등의 문제가 있었다. 또한, 폴리이미드나 폴리아믹산은 N-메틸피롤리돈이나 γ-부티로락톤 등의 용제에 녹지만 글리콜계의 용제나 에스테르계의 용제에 대한 용해성이 낮고, 평탄화막 제작라인에 적용하기가 어려웠다.On the other hand, a material composed of solvent-soluble polyimide or polyamic acid is usually used for the liquid crystal alignment layer. It has been reported that these materials are imparted with solvent resistance by imidizing completely during post-baking, and exhibit sufficient orientation by rubbing treatment (Patent Document 3). However, in the case of a planarizing film of a color filter, flatness and transparency are greatly reduced. Polyimide and polyamic acid are soluble in solvents such as N-methylpyrrolidone and? -Butyrolactone but have low solubility in glycol solvents and ester solvents and are difficult to apply to planarizing film production lines .

일본공개특허2000-103937호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-103937 일본공개특허2000-119472호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-119472 일본공개특허2005-037920호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-037920

본 발명은 상기 사정에 기초하여 이루어진 것으로 해결하려는 과제는 경화막형성 후에는 높은 용제내성, 액정배향성, 내열성, 고투명성 및 고평탄화성을 나타내며, 또한 경화막 형성시에는 칼라필터의 평탄화막의 제작라인에서 적용가능한 글리콜계 용제에 용해되는 재료를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made based on the above-described circumstances, and an object to be solved by the present invention is to provide a process for producing a planarizing film of a color filter, which exhibits high solvent resistance, liquid crystal alignability, heat resistance, high transparency and high planarization property after the formation of a cured film, Which is soluble in an applicable glycol-based solvent.

본 발명자는 상기한 과제를 해결하기 위해 예의연구한 결과 본 발명을 발견하였다.
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems and found the present invention.

즉, 제 1 관점으로 (A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 하기 식(1)로 나타나는 적어도 한 종의 디에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
That is, in the first aspect, there is provided a thermosetting film-forming polyester comprising a polyester as the component (A), a crosslinking agent as the component (B), and at least one diester compound represented by the following formula (1) ≪ / RTI >

Figure 112011074777974-pct00001
Figure 112011074777974-pct00001

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 포함하는 기를 나타낸다. 식(2) 중, R은 알킬렌기를 나타낸다.)
(Wherein P represents an alicyclic group, a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group, or a structure represented by the formula (2), Q represents an alicyclic group, or a group including a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group. And R represents an alkylene group.

제 2 관점으로, 제 1 관점에 있어서, (C)성분이 하기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물 1몰과 하기 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물의 1.7 내지 2몰을 반응시킨 디에스테르 화합물인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to a second aspect, in the first aspect, there is provided a diester compound obtained by reacting 1 mol of a diol compound represented by the following formula (iii) with 1.7 to 2 mol of a dicarboxylic anhydride represented by the following formula (iv) To a polyester composition for forming a thermosetting film.

Figure 112011074777974-pct00002
Figure 112011074777974-pct00002

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, P 및 Q는 각각 각 기중에 포함되는 임의의 수소원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다. 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)
(Wherein P represents an alicyclic group, a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2), Q represents an alicyclic group or a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group, and P and Q are included in the respective groups May be substituted with an aliphatic group. In the formula (2), R represents an alkylene group.)

제 3 관점으로, 제 2 관점에 있어서, P가 하기 식(1P1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a third aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, wherein P represents a group represented by the following formula (1P1).

Figure 112011074777974-pct00003
Figure 112011074777974-pct00003

(식 중, P1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, P1기 중의 임의의 수소원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다. R11은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, R12, R13는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, h는 0 또는 1을 나타낸다.)
(In the formula, P 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, P is even one random hydrogen atom in the group may be substituted each independently with an aliphatic. R 11 is a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a carbon atom number of 1 to R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, and h represents 0 or 1, and R represents a hydrogen atom or an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, .

제 4 관점으로, 제 2 관점 또는 제 3 관점에 있어서, Q가 하기 식(1Q1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to a fourth aspect, in the second or third aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, wherein Q represents a group represented by the following formula (1Q1).

Figure 112011074777974-pct00004
Figure 112011074777974-pct00004

(식 중, Q1은 탄소원자수 4 내지 8의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타내고, Q1기 중의 임의의 수소원자는 지방족기 또는 페닐기로 치환되어 있어도 된다. X는 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.)
(In the formula, Q 1 represents a carbon atom number of 4 to 8, a cycloalkylene group or a cycloalkyl alkenylene, any hydrogen atom in the group Q 1 may be substituted with an aliphatic group or a phenyl group. X represents a single bond or a carbon atom number 1 To 3 < / RTI >

제 5 관점으로, 제 1 관점에 있어서, (C)성분이 하기 식(1-a)로 나타나는 적어도 한 종의 다가에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a fifth aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, wherein the component (C) contains at least one polyvalent ester compound represented by the following formula (1-a).

Figure 112011074777974-pct00005
Figure 112011074777974-pct00005

(식 중, Pa는 산소원자 혹은 질소원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타낸다. 식(2-a) 중 Ra는 알킬렌기를 나타낸다.)
(Wherein Pa represents an alicyclic group or an aliphatic alkyl group which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom or a structure represented by the formula (2-a), Qa represents an alicyclic group, and t represents an integer of 1 to 5. Ra in the formula (2-a) represents an alkylene group.

제 6 관점으로, 제 1 관점 내지 제 5 관점 중 어느 한 관점에 있어서, (A)성분이 하기 식(3)으로 나타나는 구조단위를 포함하는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a sixth aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, wherein the component (A) is a polyester comprising a structural unit represented by the following formula (3) in any one of the first to fifth aspects .

Figure 112011074777974-pct00006
Figure 112011074777974-pct00006

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group)

제 7 관점으로, 제 1 관점 내지 제 6 관점 중 어느 한 관점에 있어서, (A)성분이 하기 식(i)로 나타나는 테트라카르본산 이무수물과 식(ii)로 나타나는 디올 화합물을 반응시켜서 얻은 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to a seventh aspect, in any one of the first aspect to the sixth aspect, there is provided a method for producing a poly (arylene ether) copolymer, which comprises reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) with a diol compound represented by the formula (ii) To a polyester composition for forming a thermosetting film.

Figure 112011074777974-pct00007
Figure 112011074777974-pct00007

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group)

제 8 관점으로, 제 6 관점 또는 제 7 관점에 있어서, 상기 식(3) 중 A는 하기 식(A-1) 내지 식(A-8)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내고, B는 하기 식(B-1) 내지 식(B-5)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In an eighth aspect, in the sixth or seventh aspect, A in the formula (3) represents at least one kind of group selected from the groups represented by the following formulas (A-1) to (A-8) B is a polyester composition for forming a thermosetting film which exhibits at least one kind of group selected from groups represented by the following formulas (B-1) to (B-5).

Figure 112011074777974-pct00008
Figure 112011074777974-pct00008

Figure 112011074777974-pct00009
Figure 112011074777974-pct00009

제 9 관점으로, 제 1 관점 내지 제 8 관점 중 어느 한 관점에 있어서 (A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량이 폴리스틸렌 환산으로 1,000 내지 30,000인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a ninth aspect, the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of the first to eighth aspects has a weight average molecular weight of the polyester (A) of 1,000 to 30,000 in terms of polystyrene.

제 10 관점으로, 제 1 관점 내지 제 9 관점 중 어느 한 관점에 있어서, 추가로 (D)성분으로 산화 방지제인 페놀 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a tenth aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, which further comprises a phenol compound as an antioxidant as the component (D) in any one of the first to ninth aspects.

제 11 관점으로, 제 1 관점 내지 제 10 관점 중 어느 한 관점에 있어서, 추가로 (E)성분으로 실란 커플링제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to an eleventh aspect, in any one of the first to tenth aspects, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film further containing a silane coupling agent as the component (E).

제 12 관점으로, 제 1 관점 내지 제 11 관점 중 어느 한 관점에 있어서, 추가로 (F)성분으로 비스말레이미드 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a twelfth aspect, the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of the first to eleventh aspects further comprises a bismaleimide compound as the component (F).

제 13 관점으로, 제 1 관점 내지 제 12 관점 중 어느 한 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to a thirteenth aspect, in any one of the first to twelfth aspects, 3 to 50 parts by mass of the component (B) and 1 to 100 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A) To a polyester composition for forming a thermosetting film.

제 14 관점으로, 제 10 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 0.01 내지 5질량부의 (D)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
In a fourteenth aspect, the tenth aspect relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, which contains 0.01 to 5 parts by mass of component (D) based on 100 parts by mass of the component (A).

제 15 관점으로, 제 11 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 30질량부의 (E)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to a fifteenth aspect, in the eleventh aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, which contains 0.5 to 30 parts by mass of component (E) based on 100 parts by mass of the component (A).

제 16 관점으로, 제 12 관점에 있어서, (A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 50질량부의 (F)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에 관한 것이다.
According to a 16th aspect, in a twelfth aspect, the present invention relates to a polyester composition for forming a thermosetting film, which contains 0.5 to 50 parts by mass of component (F) based on 100 parts by mass of the component (A).

제 17 관점으로, 제 1 관점 내지 제 16 관점 중 어느 한 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 경화막에 관한 것이다.
In a seventeenth aspect, the present invention relates to a cured film obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of the first to sixteenth aspects.

제 18 관점으로 제 1 관점 내지 제 16 관점 중 어느 한 관점에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 액정 배향층에 관한 것이다. And a liquid crystal alignment layer obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of the first to sixteenth aspects from the 18th viewpoint.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 높은 평탄화성, 높은 투명성, 높은 용제내성, 높은 내열성에 추가로 액정 배향능을 가지는 경화막을 형성할 수 있기 때문에 액정 배향막이나 평탄화막의 형성재료로 사용할 수 있다. 특히, 종래 독립적으로 형성되어 있던 액정 배향막과 칼라필터의 오버코트층을 양자의 특성을 겸비하는 「액정 배향층」으로 한 번에 형성할 수 있게 되어 제조공정의 간략화 및 프로세스수 저감에 의한 저비용화 등을 실현할 수 있다.
The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can be used as a material for forming a liquid crystal alignment film or a planarizing film because it can form a cured film having liquid crystal aligning ability in addition to high planarization property, high transparency, high solvent resistance and high heat resistance have. In particular, since the liquid crystal alignment layer and the overcoat layer of the color filter which have been conventionally formed independently can be formed at once as a " liquid crystal alignment layer " having both characteristics, the manufacturing process can be simplified and the process cost can be reduced, Can be realized.

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 글리콜계 용제에 녹기 때문에 이들 용제를 주로 사용하는 평탄화막의 제작 라인에 호적하게 사용할 수 있다.Further, since the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is soluble in a glycol-based solvent, it can be suitably used in a production line of a planarizing film mainly using these solvents.

도 1은 단차기판에 열경화성 폴리에스테르 조성물을 도포했을 때 형성된 경화막을 나타낸 모식도이다.
도 2는 종래기술에 의해 액정 배향막을 형성한 액정 셀(a)과 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 평탄화막을 형성한 액정 셀(b)을 대비하여 나타낸 모식도이다.
1 is a schematic view showing a cured film formed when a thermosetting polyester composition is applied to a stepped substrate.
2 is a schematic view showing a liquid crystal cell (a) in which a liquid crystal alignment film is formed by a conventional technique and a liquid crystal cell (b) in which a planarization film is formed by using a polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention.

상술한 바와 같이 종래에 제안된 아크릴수지계 및 폴리이미드계의 경화막에서는 액정 배향막이나 평탄화막에 요구되는 평탄화성, 투명성, 배향성 등의 모든 성능을 충분히 만족하는 것이 없었다.
As described above, in the acrylic resin-based and polyimide-based cured films proposed in the related art, all the performances such as flatness, transparency, and orientation required for a liquid crystal alignment film and a planarizing film are not sufficiently satisfied.

또한 지금까지도 액정 표시 소자의 배향 재료로 폴리에스테르의 사용(일본특허공개 평5-158055호 공보, 일본특허공개 2002-229039호 공보참조)이 제안된 적은 있지만 이들은 모두 열경화성을 가지는 것이 아니며, 또한 형성된 경화막의 내용제성도 열화한 것이었다.
Although the use of polyester as an alignment material for a liquid crystal display element has been proposed (see JP-A-5-158055 and JP-A-2002-229039) And the solvent resistance of the cured film also deteriorated.

본 발명은 열경화성인 폴리에스테르를 사용하여 상술한 평탄화성, 투명성, 배향성 등의 성능 향상을 도모한 것에 특징이 있다. 즉, 본 발명은 (A)성분으로 폴리에스테르, (B)성분으로 가교제 및 (C)성분으로 하기 식(1)로 나타나는 디에스테르화합물
The present invention is characterized by using the thermosetting polyester to improve the performance such as flatness, transparency and orientation described above. That is, the present invention relates to a polyester resin composition comprising a polyester as a component (A), a crosslinking agent as a component (B), and a diester compound represented by the following formula (1)

Figure 112011074777974-pct00010
Figure 112011074777974-pct00010

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 포함하는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타낸다. 또한, 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이다.
(2), Q represents an alicyclic group or a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group, and P represents an alicyclic group, a group comprising a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2) And R represents an alkylene group).

나아가 상기 (A) 내지 (C)성분에 추가로 필요에 따라 (D)성분으로 산화방지제인 페놀 화합물, (E)성분으로 실란 커플링제, (F)성분으로 비스말레이미드 화합물도 함유할 수 있는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물이다.
Further, in addition to the above components (A) to (C), if necessary, a phenol compound which is an antioxidant as the component (D), a silane coupling agent as the component (E) and a bismaleimide compound Is a polyester composition for forming a thermosetting film.

이하, 각 성분을 상세하게 설명한다.
Hereinafter, each component will be described in detail.

[(A)성분][Component (A)] [

(A)성분인 폴리에스테르는 바람직하게는 하기 식(3)으로 나타나는 구조단위를 포함하는 폴리에스테르이며, 보다 바람직하게는 식(3)으로 나타나는 구조단위로 이루어진 폴리에스테르이다.
The polyester as the component (A) is preferably a polyester comprising a structural unit represented by the following formula (3), more preferably a polyester comprising a structural unit represented by the formula (3).

Figure 112011074777974-pct00011
Figure 112011074777974-pct00011

상기 식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.
In the above formula, A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group, and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to alicyclic or aliphatic groups.

상기 A는 바람직하게는 하기 식(3A1), 식(3A2) 또는 식(3A3)으로 나타나는 기이다.
The above A is preferably a group represented by the following formula (3A1), (3A2) or (3A3).

Figure 112011074777974-pct00012
Figure 112011074777974-pct00012

식 중의 A1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내며, 보다 바람직하게는 탄소원자수 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. 여기서 A1기 중에 포함되는 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 되며, 또한 이들 중 2개의 치환기가 서로 결합하여 4 내지 6원환을 형성해도 된다.
A 1 in the formula represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. Herein, any hydrogen atom contained in the group A 1 may be independently substituted with an aliphatic group, and two of these substituents may be bonded to each other to form a 4- to 6-membered ring.

여기서, 이 치환기인 지방족기는 탄소원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우는 예를 들면 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교 환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합 다환식 탄화수소기가 된다.
Here, the aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents are bonded to form a ring, for example, a bridged cyclic hydrocarbon group such as a norbornene group or an adamantane group, or a condensed polycyclic hydrocarbon group in which a part or whole is hydrogenated is obtained.

상기 식 중, R1은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타낸다. 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
R 1 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom. Preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

또는 R2는 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소원자수 1 내지 3의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
Or R 2 represents a saturated hydrocarbon group of 1 to 8 carbon atoms, preferably a saturated hydrocarbon group of 1 to 5 carbon atoms, more preferably a saturated hydrocarbon group of 1 to 3 carbon atoms.

식(3)에서 4가의 유기기인 A의 바람직한 구체예를 하기의 식(A-1) 내지 식(A-8)에 나타낸다. 하기 (A-1) 내지 식(A-8)로 나타나는 기 중에서도 A는 특히 식(A-1) 또는 (A-2)에서 선택되는 기인 것이 바람직하다.
Preferable specific examples of A which is a tetravalent organic group in the formula (3) are shown in the following formulas (A-1) to (A-8). Among the groups represented by the following formulas (A-1) to (A-8), A is particularly preferably a group selected from the formula (A-1) or (A-2).

Figure 112011074777974-pct00013
Figure 112011074777974-pct00013

상기 식(3) 중 B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 하기 식(3B1) 또는 식(3B2)로 나타나는 기이다.
In the formula (3), B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group, and is preferably a group represented by the following formula (3B1) or (3B2).

Figure 112011074777974-pct00014
Figure 112011074777974-pct00014

식 중의 B1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수가 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타내며, B1기중에 포함되는 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
B 1 in the formula represents a cyclic saturated hydrocarbon, preferably carbon atoms represents a group of 4 to 8 cyclic saturated hydrocarbon, more preferably a carbon number represents a cyclic saturated hydrocarbon group of 4 to 6, which is included in B 1 Air Any hydrogen atom may be independently substituted with an aliphatic group.

여기서, 이 치환기인 지방족기는 탄소 원자수 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 지방족기이다. 이들 치환기가 결합하여 환을 형성하는 경우는 예를 들면 노보넨기나 아다만탄기 등의 가교환식 탄화수소기, 일부 또는 전부가 수소화된 축합 다환식 탄화수소기가 된다.
Here, the aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms. When these substituents are bonded to form a ring, for example, a bridged cyclic hydrocarbon group such as a norbornene group or an adamantane group, or a condensed polycyclic hydrocarbon group in which a part or whole is hydrogenated is obtained.

또한, B2는 페닐렌기를 나타낸다.
B 2 represents a phenylene group.

식 중, R3은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
R 3 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom, preferably a single bond, , An ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

R4, R5는 각각 독립적으로 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
R 4 and R 5 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

R6, R7은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
R 6 and R 7 each independently represent an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

또한, k는 0 또는 1을 나타낸다.
K represents 0 or 1;

식(3)에서 2가의 유기기인 B의 바람직한 구체예를 하기의 식(B-1) 내지 식(B-5)에 나타낸다. 하기 (B-1) 내지 식(B-5)로 나타나는 기 중에서도 B는 특히 (B-1) 내지 (B-4)에서 선택되는 기인 것이 바람직하다.
Preferable specific examples of B which is a divalent organic group in the formula (3) are shown in the following formulas (B-1) to (B-5). Among the groups represented by the following formulas (B-1) to (B-5), B is preferably a group selected from among (B-1) to (B-4).

Figure 112011074777974-pct00015
Figure 112011074777974-pct00015

(A)성분인 폴리에스테르는 식(3)으로 나타나는 구조단위 중, A가 식(3A1) 내지 식(3A3)으로 나타나는 기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 종류의 구조를 포함하는 것이 바람직하지만, 식(3A1) 내지 식(3A3)으로 나타나는 기 이외의 구조를 포함하고 있어도 된다. 이 때, 폴리에스테르의 구조를 형성한다면 그 구조는 특별히 한정되지 않지만 하기 식(3A4) 내지 식(3A5)로 나타나는 기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 종류의 구조인 것이 바람직하다.
The polyester as the component (A) preferably contains at least one kind of structure selected from the group consisting of the groups represented by the formulas (3A1) to (3A3) among the structural units represented by the formula (3) (3A1) to (3A3). At this time, if the polyester structure is formed, its structure is not particularly limited, but is preferably at least one structure selected from the group consisting of the groups represented by the following formulas (3A4) to (3A5).

Figure 112011074777974-pct00016
Figure 112011074777974-pct00016

상기 식 중, R8, R9, R10는 각각 독립적으로 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
R 8 , R 9 and R 10 each independently represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom A hydrocarbon group, and preferably a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

특히, R8은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R9는 에테르기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하고, R10은 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기인 것이 바람직하다.
In particular, R 8 is a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a carbon atom number of 1 to 5 saturated hydrocarbon group or a fluorine atom-substituted carbon atom number 1-5 saturated hydrocarbon group of preferably and, R 9 is an ether group , A saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom, and R 10 is preferably a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon having 1 to 5 carbon atoms Or a saturated hydrocarbon group of 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

또한, h는 0 또는 1을 나타낸다.
Also, h represents 0 or 1.

상기 식(3A4) 내지 식(3A5)의 바람직한 구체예를 하기의 식(a1) 내지 식(a7)에 나타낸다.
Preferable examples of the formulas (3A4) to (3A5) are shown in the following formulas (a1) to (a7).

Figure 112011074777974-pct00017
Figure 112011074777974-pct00017

본 발명에 사용되는 (A)성분인 폴리에스테르에서, 상기 식(3)으로 나타나는 구조단위에서, A가 상기 식(3A1) 내지 식(3A3)으로 나타나는 기로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 한 종류의 구조단위를 적어도 60몰%이상 포함하는 것이 바람직하다.
In the polyester used as the component (A) used in the present invention, in the structural unit represented by the formula (3), at least one kind of structure selected from the group consisting of the groups represented by the formulas (3A1) to (3A3) Unit is preferably at least 60 mol% or more.

(A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 1,000 내지 30,000이며, 보다 바람직하게는 1,500 내지 10,000이다. (A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량이 상기 범위보다 작은 경우는 배향성 및 용제내성이 저하하는 경향이 있으며, 상기 범위를 초과하면 평탄화성이 저하하는 경우가 있다.
The weight average molecular weight of the polyester as the component (A) is preferably 1,000 to 30,000, and more preferably 1,500 to 10,000. When the weight average molecular weight of the polyester as the component (A) is less than the above range, the orientation property and the solvent resistance tend to decrease. When the weight average molecular weight exceeds the above range, the flatness may be lowered.

<(A)성분의 제조 방법>
&Lt; Production method of component (A) >

본 발명에서 (A)성분인 폴리에스테르는 예를 들면 테트라카르본산 이무수물과 디올 화합물을 중합하여 얻을 수 있다. 보다 바람직하게는 하기 식(i)로 나타나는 테트라카르본산 이무수물을 포함하는 테트라카르본산 이무수물(이하, 산성분이라고도 함)과 하기 식(ii)로 나타나는 디올 화합물을 포함하는 디올 화합물(이하, 디올 성분이라고도 함)을 반응시켜서 얻는다.
In the present invention, the polyester (A) is obtained, for example, by polymerizing tetracarboxylic dianhydride and a diol compound. More preferred is a diol compound comprising a tetracarboxylic dianhydride (hereinafter also referred to as acid component) containing a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) and a diol compound represented by the following formula (ii) Also referred to as a diol component).

Figure 112011074777974-pct00018
Figure 112011074777974-pct00018

상기 식 중, A 및 B는 상술한 식(3)에서의 정의와 동일하며 바람직한 형태도 상술한 것도 동일하다.
In the above formula, A and B are the same as defined in the above-mentioned formula (3), and their preferred forms are also the same as described above.

상기 (A)성분인 폴리에스테르에서, 테트라카르본산 이무수물의 합계량(산 성분의 합계량)과 디올 화합물의 합계량(디올 성분의 합계량)의 배합비, 즉 <디올 화합물의 합계몰수>/<테트라카르본산 이무수물 화합물의 합계몰수>는 0.5 내지 1.5인 것이 바람직하다. 통상적인 중축합 반응과 같이 이 몰비가 1에 가까울 수 록 생성되는 폴리에스테르의 중합도는 커지며 분자량이 증가한다.
In the polyester as the component (A), the blending ratio of the total amount of the tetracarboxylic dianhydride (the total amount of the acid components) and the total amount of the diol compounds (total amount of the diol components), that is, <total mole number of the diol compound> / <tetracarboxylic acid dianhydride The total molar number of water compounds > is preferably 0.5 to 1.5. As with this polycondensation reaction, the closer the molar ratio is to 1, the higher the degree of polymerization of the resulting polyester and the higher the molecular weight.

(A)성분인 폴리에스테르는 보존 안정성의 저하를 피하기 위해 그 말단을 산무수물 말단으로 하는 것이 바람직하다.
The polyester as the component (A) is preferably an acid anhydride terminal at its terminal in order to avoid deterioration of storage stability.

상기 폴리에스테르의 말단은 산 성분과 디올 성분의 배합비에 의존하여 변화한다. 예를 들면 산 성분을 과잉 반응시킨 경우, 말단은 산 무수물이 되기 쉽다.
The end of the polyester varies depending on the blending ratio of the acid component and the diol component. For example, when an acid component is excessively reacted, the terminal tends to become an acid anhydride.

또한, 디올 성분을 과잉 사용하여 중합한 경우에는 말단은 수산기가 되기 쉽다. 이 경우 이 말단수산기에 카르본산 무수물을 반응시키켜서 말단수산기를 산 무수물로 봉지할 수 있다. 이와 같은 카르본산 무수물의 예로는 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 무수 말레인산, 나프탈산 무수물, 수소화프탈산 무수물, 무수이타콘산, 테트라히드로프탈산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-페닐-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 메틸-5-노보넨-2,3-디카르본산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸테트라히드로프탈산 무수물, 비시클로[2.2.2.]옥텐-2,3-디카르본산 무수물 등을 들 수 있다.
Further, when the diol component is polymerized in excess, the terminal is likely to be a hydroxyl group. In this case, the terminal hydroxyl group may be blocked with an acid anhydride by reacting the terminal hydroxyl group with a carboxylic acid anhydride. Examples of such carboxylic anhydrides include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, maleic anhydride, naphthalic anhydride, hydrogenated phthalic anhydride, itaconic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-phenyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetra Hydrofluoric anhydride, bicyclo [2.2.2.] Octene-2,3-dicarboxylic anhydride, and the like.

상기 (A)성분인 폴리에스테르의 제조에서, 산 성분과 디올 성분의 반응온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다. 예를 들면 반응온도는 100℃ 내지 140℃, 반응시간 2 내지 48시간으로 폴리에스테르를 얻을 수 있다.
In the production of the polyester as the component (A), the reaction temperature of the acid component and the diol component may be selected from any temperature of 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C. For example, the polyester can be obtained at a reaction temperature of 100 ° C to 140 ° C and a reaction time of 2 to 48 hours.

또한, 말단수산기를 산 무수물로 보호하는 경우의 반응 온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다.
The reaction temperature in the case of protecting the terminal hydroxyl group with an acid anhydride may be selected from any temperature of 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C.

상기 산 성분과 디올 성분과의 반응은 통상적으로 용제 중에서 실시된다. 이 때 사용할 수 있는 용제로는 수산기나 아미노기 등, 산 무수물과 반응하는 관능기를 함유하지 않는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸설폭시드, 테트라메틸요소, 디메틸술폰, 헥사메틸설폭시드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸 등을 들 수 있다.
The reaction of the acid component with the diol component is usually carried out in a solvent. The solvent that can be used at this time is not particularly limited as long as it does not contain a functional group reactive with an acid anhydride such as a hydroxyl group or an amino group. For example, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, dimethylsulfone, Propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol propyl ether acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, ethyleneglycol monomethyl ether acetate, Methyl 2-methoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and ethyl 2-ethoxypropionate.

이들 용매는 단독으로 사용해도 되고 혼합해서 사용해도 되지만, 안전성, 칼라필터의 오버코트제의 라인으로의 적용성의 관점에서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다.
These solvents may be used alone or in combination, but propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferable from the viewpoints of safety and applicability to a line of an overcoat of a color filter.

또한, 폴리에스테르를 용해하지 않는 용제라도 중합반응에 의해 생성된 폴리에스테르가 석출되지 않는 범위에서 상기 용제에 혼합하여 사용해도 된다.
Further, a solvent that does not dissolve the polyester may be used in combination with the above-described solvent within a range in which the polyester produced by the polymerization reaction does not precipitate.

또한, 상기 산 성분(식(i))과 디올 성분(식(ii))의 반응시에는 촉매를 사용할 수도 있다.
A catalyst may also be used in the reaction of the acid component (formula (i)) with the diol component (formula (ii)).

폴리에스테르의 중합시에 사용하는 촉매의 구체예로는 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 벤질트리프로필암모늄클로라이드, 벤질트리프로필암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염, 테트라페닐포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 4급 포스포늄염을 들 수 있다.
Specific examples of the catalyst used in the polymerization of the polyester include benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyltripropylammonium chloride, benzyltripropylammonium bromide, tetramethyl Quaternary ammonium salts such as ammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetrapropylammonium chloride and tetrapropylammonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, ethyl And quaternary phosphonium salts such as triphenylphosphonium chloride and ethyltriphenylphosphonium bromide.

이와 같이 하여 얻어진 (A)성분인 폴리에스테르를 포함하는 용액은 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제에 그대로 사용할 수 있다. 또한, 얻어진 폴리에스테르를 물, 메탄올, 에탄올, 디에틸에테르, 헥산 등의 빈용제에 침전단리시켜서 회수한 후에 사용할 수도 있다.
The solution containing the polyester (A) thus obtained can be used as it is for the preparation of the polyester composition for forming a thermosetting film. The obtained polyester may be recovered by isolation by precipitation in a poor solvent such as water, methanol, ethanol, diethyl ether, or hexane, and then recovered.

<(B)성분>
&Lt; Component (B) >

본 발명의 (B)성분은 가교제이다. 가교제로는 에폭시 화합물이나 메틸올 화합물 등의 화합물을 들 수 있지만, 바람직하게는 에폭시기를 2개 이상 가지는 에폭시 화합물이다.
The component (B) of the present invention is a crosslinking agent. As the crosslinking agent, compounds such as epoxy compounds and methylol compounds can be mentioned, but epoxy compounds having two or more epoxy groups are preferred.

이와 같은 화합물의 예로는 트리스(2,3-에폭시프로필)이소시아누레이트, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,2-에폭시-4-(에폭시에틸)시클로헥산, 글리세롤트리글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 2,6-디글리시딜페닐글리시딜에테르, 1,1,3-트리스[p-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]프로판, 1,2-시클로헥산디카르본산디글리시딜에스테르, 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린), 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 트리메틸올에탄트리글리시딜에테르 및 비스페놀-A-디글리시딜에테르 및 펜타에리스리톨폴리글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
Examples of such compounds are tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,2-epoxy-4- (epoxyethyl) cyclohexane, glycerol triglycidyl 1,1,3-tris [p- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] propane, 1,1,3,3-tetramethylpiperidine, 2-cyclohexanedicarboxylic acid diglycidyl ester, 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate , Trimethylol ethane triglycidyl ether, bisphenol-A-diglycidyl ether, and pentaerythritol polyglycidyl ether.

또한, 입수가 용이하다는 점에서 시판품의 화합물을 사용해도 된다. 이하에 그 구체예(상품명)를 들지만, 이에 한정되는 것은 아니다 : YH-434, YH434L(Tohto Kasei Co., Ltd.제) 등의 아미노기를 가지는 에폭시 수지; EPOLEAD GT-401, 동GT-403, 동GT-301, 동GT-302, CELLOXIDE 2021, CELLOXIDE 3000, CELLOXIDE P-2021(Daicel Chemical Industries Limited.제) 등의 시클로헥센옥시드 구조를 가지는 에폭시수지; Epikote 1001, 동1002, 동1003, 동1004, 동1007, 동1009, 동1010, 동828(이상, YUKA SHELL EPOXY KK (현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제) 등의 비스페놀A형 에폭시수지; Epikote 807(YUKA SHELL EPOXY KK(현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제) 등의 비스페놀F형 에폭시수지; Epikote 152, 동154(이상, YUKA SHELL EPOXY KK(현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제), EPPN201, 동202(이상, Nippon Kayaku Co.,Ltd.제) 등의 페놀노보락형 에폭시수지; EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027(이상, Nippon Kayaku Co.,Ltd.제), Epikote 180S75(YUKA SHELL EPOXY KK (현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제) 등의 크레졸노보락형에폭시수지; Denacol EX-252(Negase ChemteX Corporation제), CY175, CY177, CY179, Araldite CY-182, 동CY-192, 동CY-184(이상, CIBA-GEIGY A.G제), Epiclon 200, 동400(이상, DIC Corporation제), Epikote 871, 동872(이상, YUKA SHELL EPOXY KK(현재 Japan Epoxy Resins Co.,Ltd.)제), ED-5661, ED-5662(이상, Celanese Coating Company제) 등의 지환식 에폭시수지; Denacol EX-611, 동EX-612, 동EX-614, 동EX-622, 동EX-411, 동EX-512, 동EX-522, 동EX-421, 동EX-313, 동EX-314, 동EX-321(Negase ChemteX Corporation제) 등의 지방족 폴리글리시딜에테르 등이다.
In addition, commercially available compounds may be used because they are readily available. Specific examples (trade names) include, but are not limited to, epoxy resins having amino groups such as YH-434 and YH434L (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.); An epoxy resin having a cyclohexene oxide structure such as EPOLEAD GT-401, GT-403, GT-301, GT-302, CELLOXIDE 2021, CELLOXIDE 3000 and CELLOXIDE P-2021 (Daicel Chemical Industries Limited); Bisphenol A type epoxy resins such as Epikote 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010 and 828 (manufactured by YUKA SHELL EPOXY KK (now Japan Epoxy Resins Co., Ltd.) ; Epoxy resins such as Epikote 807 (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd., YUKA SHELL EPOXY KK); Phenolic novolak type epoxy resins such as Epikote 152 and 154 (manufactured by YUKA SHELL EPOXY KK (currently available from Japan Epoxy Resins Co., Ltd.) and EPPN201 and 202 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.); EOCN-102, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, EOCN-1027 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epikote 180S75 (YUKA SHELL EPOXY KK; Cresol novolak type epoxy resins such as Nippon Kayaku Co., Ltd .; CY-184 (manufactured by CIBA-GEIGY AG), Epiclon 200, Copper 400 (above, DIC), CY-184 Epicote 871, Epoxy 872 (available from YUKA SHELL EPOXY KK (currently available from Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), ED-5661 and ED-5662 (manufactured by Celanese Coating Company) Suzy; Denacol EX-611, EX-612, EX-614, EX-622, EX-411, EX-512, EX-522, EX-421, EX- And aliphatic polyglycidyl ethers such as EX-321 (manufactured by Negase ChemteX Corporation).

또한, 적어도 2개의 에폭시기를 가지는 화합물로는 에폭시기를 가지는 폴리머를 사용할 수 있다. 이와 같은 폴리머로는 에폭시기를 가지는 것이라면 특별히 제한없이 사용할 수 있다.
As the compound having at least two epoxy groups, a polymer having an epoxy group can be used. Such a polymer is not particularly limited as long as it has an epoxy group.

상기 에폭시기를 가지는 폴리머는 예를 들면 에폭시기를 가지는 부가중합성모노머를 사용한 부가중합에 의해 제조할 수 있다. 일 예로 폴리글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트와 에틸메타크릴레이트의 공중합체, 글리시딜메타크릴레이트와 스틸렌과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 공중합체 등의 부가중합폴리머나 에폭시노보락 등의 축중합 폴리머를 들 수 있다.
The polymer having an epoxy group can be produced, for example, by addition polymerization using an addition polymerizable monomer having an epoxy group. For example, polyglycidyl acrylate, copolymers of glycidyl methacrylate and ethyl methacrylate, addition polymerized polymers such as glycidyl methacrylate and copolymers of styrene and 2-hydroxyethyl methacrylate Epoxy novolak, and the like.

또는 상기 에폭시기를 가지는 폴리머는 수산기를 가지는 고분자 화합물과 에피클로로히드린, 글리시딜토실레이트 등의 에폭시기를 가지는 화합물과의 반응에 의해 제조할 수도 있다.
Alternatively, the polymer having an epoxy group can be produced by a reaction between a polymer compound having a hydroxyl group and a compound having an epoxy group such as epichlorohydrin or glycidyl tosylate.

이와 같은 폴리머의 중량 평균 분자량으로는 예를 들면 300 내지 200,000이다.
The weight average molecular weight of such a polymer is, for example, 300 to 200,000.

이들 에폭시기를 2개 이상 가지는 에폭시 화합물은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These epoxy compounds having two or more epoxy groups may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 (B)성분인 가교제의 함유량은 (A)성분인 폴리에스테르 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 40질량부이며, 특히 바람직하게는 10 내지 30질량부이다. 이 비율이 너무 적은 경우에는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서 얻어지는 경화막의 용제내성이나 내열성이 저하하며, 너무 큰 경우에는 용제내성이 저하하거나 보존 안정성이 저하하는 경우가 있다.
The content of the crosslinking agent as the component (B) in the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is preferably 3 to 50 parts by mass, more preferably 5 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyester (A) 40 parts by mass, particularly preferably 10 to 30 parts by mass. When the ratio is too small, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the polyester composition for forming a thermosetting film are deteriorated. When the ratio is too large, the solvent resistance may be lowered and the storage stability may be lowered.

<(C)성분>
&Lt; Component (C) >

(C)성분은 하기 식(1)로 나타나는 디에스테르 화합물이다. 본 발명에서 (C)성분인 디에스테르 화합물로는 식(1)로 나타나는 화합물을 한 종류뿐만 아니라 복수종을 사용할 수 있다.
(C) is a diester compound represented by the following formula (1). In the present invention, as the diester compound as the component (C), not only one kind of compound represented by the formula (1) but also plural kinds can be used.

Figure 112011074777974-pct00019
Figure 112011074777974-pct00019

식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, P 및 Q는 각각 기 중의 임의의 수소 원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
Wherein P represents a group comprising an alicyclic group, an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2), Q represents an alicyclic group or a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group, and P and Q each represent any hydrogen The atom may be substituted with an aliphatic group.

또한, 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 R은 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
In the formula (2), R represents an alkylene group, preferably R represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, Represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

상기 식 중, P의 바람직한 구조는 상기 식(2) 또는 하기 식(1P1)로 나타낸다.
In the above formula, the preferable structure of P is represented by the formula (2) or the formula (1P1) shown below.

Figure 112011074777974-pct00020
Figure 112011074777974-pct00020

식 중, P1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 탄소 원자수 4 내지 8의 환상 포화 탄화수소기를 나타내며 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 4 내지 6의 환상 포화 탄화수소기를 나타낸다. P1 기 중의 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
In the formulas, P 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 8 carbon atoms, more preferably a cyclic saturated hydrocarbon group having 4 to 6 carbon atoms. Any hydrogen atom in the group P &lt; 1 &gt; may be independently substituted with an aliphatic group.

이 치환기인 지방족기는 탄소 원자수가 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 1 내지 3의 지방족기이다.
The aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms.

상기 식 중, R11은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 5의 포화 탄화수소기를 나타낸다.
R 11 represents a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms substituted with a fluorine atom, , A carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, or a saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms substituted with a fluorine atom.

R12, R13은 각각 독립해서 단일 결합 또는 탄소원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, 바람직하게는 단일 결합, 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

또한 h는 0 또는 1을 나타낸다.
And h represents 0 or 1.

상기 식(1)에서의 P의 바람직한 구체예를 하기의 식(P-1) 내지 식(P-5)에 나타낸다.
Preferable specific examples of P in the above formula (1) are shown in the following formulas (P-1) to (P-5).

Figure 112011074777974-pct00021
Figure 112011074777974-pct00021

상기 식(2) 중 Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, 바람직하게는 하기 식(1Q1)로 나타나는 기이다.
Q in the formula (2) represents an alicyclic group or a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group, and is preferably a group represented by the following formula (1Q1).

Figure 112011074777974-pct00022
Figure 112011074777974-pct00022

식 중, Q1은 탄소 원자수가 4 내지 8의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타내고, 바람직하게는 탄소원자수가 4 내지 6의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타낸다. Q1 기 중의 임의의 수소 원자는 지방족기로 치환되어 있어도 된다.
In the formulas, Q 1 represents a cycloalkylene group or a cycloalkenylene group having 4 to 8 carbon atoms, preferably a cycloalkylene group or a cycloalkenylene group having 4 to 6 carbon atoms. Q 1 Any hydrogen atom in the group may be substituted with an aliphatic group.

이 치환기인 지방족기는 탄소 원자수가 1 내지 5의 지방족기가 바람직하고 보다 바람직하게는 탄소 원자수가 1 내지 3의 지방족기이다.
The aliphatic group as the substituent is preferably an aliphatic group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms.

또한 X는 단일 결합 또는 탄소 원자수가 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
And X represents a single bond or an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

바람직한 Q1의 구체예로는 시클로부탄기, 메틸시클로부탄기, 디메틸시클로부탄기, 시클로펜틸기, 시클로헥실렌기, 메틸시클로헥실렌기, 테트라히드로프탈로일기 또는 메틸테트라히드로프탈로일기 등을 들 수 있다.
Specific examples of preferable Q 1 include a cyclobutane group, a methylcyclobutane group, a dimethylcyclobutane group, a cyclopentyl group, a cyclohexylene group, a methylcyclohexylene group, a tetrahydrophthalyl group, a methyltetrahydrophthalyl group and the like .

본 발명의 (C)성분인 디에스테르 화합물은 하기 식(iii)으로 나타나는 디올 1몰과 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물 1.7 내지 2몰, 바람직하게는 1.8 내지 2몰을 반응시켜서 얻을 수 있다.
The diester compound as the component (C) of the present invention is obtained by reacting 1 mole of the diol represented by the following formula (iii) with 1.7 to 2 moles, preferably 1.8 to 2 moles of the dicarboxylic anhydride represented by the formula (iv) have.

Figure 112011074777974-pct00023
Figure 112011074777974-pct00023

상기 식(iii) 및 식(iv)에서, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다. 또한, P, Q 및 R은 상술한 식(1) 및 식(2)의 정의와 동일하며 바람직한 형태도 상술한 것과 동일하다.
In the formulas (iii) and (iv), P represents a group comprising an alicyclic group, an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2), Q represents an alicyclic group or a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group, (2), R represents an alkylene group. P, Q and R are the same as the definitions of the above-mentioned formulas (1) and (2), and preferable forms are the same as those described above.

본 발명에서 상기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물과 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물은 각각 한 종류만을 사용해도 되고 복수종을 사용해도 된다.
In the present invention, the diol compound represented by the formula (iii) and the dicarboxylic anhydride represented by the formula (iv) may be used alone or in combination.

상기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물의 구체예로는 예를 들면 수소화 비스페놀A, 4,4'-비시클로헥사놀, 1,4-시클로헥산디올, 1,3-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, p-크실렌글리콜, m-크실렌글리콜 등을 들 수 있다.
Specific examples of the diol compound represented by the formula (iii) include, for example, hydrogenated bisphenol A, 4,4'-bicyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4 -Cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, p-xylylene glycol, m-xylylene glycol and the like.

(C)성분은 하기 식(1-a)로 나타나는 다가에스테르 화합물일 수 있다. 본 발명에서 이 다가에스테르 화합물로는 식(1-a)로 나타나는 화합물을 한 종류뿐만 아니라 복수종을 사용할 수 있다.
(C) may be a polyvalent ester compound represented by the following formula (1-a). As the polyvalent ester compound in the present invention, not only one kind of compound represented by the formula (1-a), but also plural kinds can be used.

Figure 112011074777974-pct00024
Figure 112011074777974-pct00024

식 중, Pa는 산소 원자 혹은 질소 원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족 알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Pa 및 Qa는 각각 기 중의 임의의 수소 원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다. 또한, 식(2-a) 중, Ra는 알킬렌기를 나타내며, 바람직하게는 Ra는 탄소 원자수 1 내지 6의 알킬렌기를 나타내고, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내며, 보다 바람직하게는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.
Pa represents an alicyclic group or aliphatic alkyl group which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom or a structure represented by the formula (2-a), Qa represents an alicyclic group, t represents an integer of 1 to 5, Pa And Qa each may be an arbitrary hydrogen atom in the group substituted by an aliphatic group. In the formula (2-a), Ra represents an alkylene group, preferably Ra represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, More preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.

상기 다가에스테르 화합물은 하기 식(iii-a)로 나타나는 디올과 식(iv-a)로 나타나는 디카르본산 무수물을 반응시켜서 얻을 수 있다.
The polyvalent ester compound can be obtained by reacting a diol represented by the following formula (iii-a) with a dicarboxylic anhydride represented by the formula (iv-a).

Figure 112011074777974-pct00025
Figure 112011074777974-pct00025

상기 식(iii-a) 및 식(iv-a)에서, Pa는 산소 원자 혹은 질소 원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족 알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, 식(2-a) 중 Ra는 알킬렌기를 나타낸다. 또한, Pa, Qa 및 Ra는 상술한 식(1-a) 및 식(2-a)의 정의와 동일하며 바람직한 형태도 상술한 것과 동일하다.
In the formulas (iii-a) and (iv-a), Pa represents an alicyclic group or aliphatic alkyl group which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom or a structure represented by formula (2-a) , Qa represents an alicyclic group, and Ra in the formula (2-a) represents an alkylene group. Pa, Qa and Ra are the same as the definitions of the above-mentioned formulas (1-a) and (2-a), and preferable forms are the same as those described above.

본 발명에서 상기 식(iii-a)로 나타나는 다가알코올 화합물과 식(iv-a)로 나타나는 디카르본산 무수물은 각각 한 종류만을 사용해도 되고 복수종을 사용해도 된다. In the present invention, the polyhydric alcohol compound represented by the formula (iii-a) and the dicarboxylic acid anhydride represented by the formula (iv-a) may be used alone or plural types may be used.

상기 식(iii-a)로 나타나는 다가알코올 화합물의 예로는 1,3,5-시클로헥산트리올이나 펜타에리스리톨 등의 화합물을 들 수 있다.
Examples of the polyhydric alcohol compound represented by the formula (iii-a) include 1,3,5-cyclohexanetriol and pentaerythritol.

상기 식(iii-a)로 나타나는 다가알코올 화합물의 구체예를 하기에 나타낸다.
Specific examples of the polyhydric alcohol compound represented by the above formula (iii-a) are shown below.

Figure 112011074777974-pct00026
Figure 112011074777974-pct00026

상기 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물의 구체예로는 예를 들면 1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 4-메틸-1,2-시클로헥산디카르본산 무수물, 테트라히드로프탈산 무수물, 메틸테트라히드로프탈산 무수물, 헥사히드로프탈산 무수물 등을 들 수 있다.
Specific examples of the dicarboxylic anhydride represented by the formula (iv) include 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 4-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, Methyl tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like.

상기 (C)성분인 디에스테르 화합물(또는 다가에스테르 화합물)의 제조에 있어서, 디올 화합물(또는 다가알코올 화합물)과 디카르본산 무수물의 반응온도는 50 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 170℃의 임의의 온도를 선택할 수 있다. 예를 들면 반응 온도는 100℃ 내지 140℃, 반응시간 2 내지 48시간으로 디에스테르 화합물(또는 다가에스테르 화합물)을 얻을 수 있다.
In the production of the diester compound (or the polyvalent ester compound) as the component (C), the reaction temperature of the diol compound (or polyhydric alcohol compound) and the dicarboxylic anhydride is 50 to 200 ° C, preferably 80 to 170 ° C Any temperature can be selected. For example, a diester compound (or a polyvalent ester compound) can be obtained at a reaction temperature of 100 ° C to 140 ° C and a reaction time of 2 to 48 hours.

상기 디올 화합물(또는 다가알코올 화합물)과 디카르본산 무수물의 반응은 통상적으로 용제 중에서 실시된다. 이 때 사용할 수 있는 용제로는 수산기나 아미노기 등, 산무수물과 반응하는 관능기를 함유하지 않는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸설폭시드, 테트라메틸요소, 디메틸술폰, 헥사메틸설폭시드, m-크레졸, γ-부티로락톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵타논, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 3-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸 등을 들 수 있다.
The reaction of the diol compound (or polyhydric alcohol compound) with the dicarboxylic anhydride is usually carried out in a solvent. The solvent that can be used at this time is not particularly limited as long as it does not contain a functional group reactive with an acid anhydride such as a hydroxyl group or an amino group. For example, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, dimethylsulfone, Propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol propyl ether acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, propyleneglycol monomethyl ether acetate, ethyleneglycol monomethyl ether acetate, Methyl 2-methoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and ethyl 2-ethoxypropionate.

이들 용매는 단독으로 사용해도 되고 혼합하여 사용해도 되지만 안전성, 칼라필터의 오버코트제의 라인으로의 적용성의 관점에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트가 보다 바람직하다.
These solvents may be used alone or in combination, but propylene glycol monomethyl ether acetate is more preferable from the viewpoints of safety and applicability to a line of an overcoat of a color filter.

또한, 디에스테르 화합물을 용해하지 않는 용제라도 중합반응에 의해 생성된 디에스테르 화합물이 석출되지 않는 범위에서 이 용제를 상기 용제에 혼합하여 사용해도 된다.
Further, even if the solvent does not dissolve the diester compound, the solvent may be mixed with the solvent within the range in which the diester compound produced by the polymerization reaction does not precipitate.

또는 상기 디올 화합물(식(iii))(또는 다가알코올 화합물(식(iii-a)))과 디카르본산무수물(식(iv) 또는 식(iv-a))의 반응시에는 촉매를 사용할 수도 있다.
A catalyst may be used in the reaction of the diol compound (formula (iii)) (or polyhydric alcohol compound (formula (iii-a)) and dicarboxylic anhydride (formula (iv) or formula (iv- have.

이 때 사용하는 촉매의 구체예로는 벤질트리메틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리에틸암모늄브로마이드, 벤질트리프로필암모늄클로라이드, 벤질트리프로필암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염, 테트라페닐포스포늄클로라이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 벤질트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄클로라이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드 등의 4급 포스포늄염을 들 수 있다.
Specific examples of the catalyst used in this case include benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltriethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, benzyltripropylammonium chloride, benzyltripropylammonium bromide, tetramethylammonium chloride, tetra Quaternary ammonium salts such as ethylammonium bromide, tetrapropylammonium chloride and tetrapropylammonium bromide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphonium chloride, benzyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium And quaternary phosphonium salts such as chloride, ethyltriphenylphosphonium bromide and the like.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 (C)성분의 함유량은, (A)성분인 폴리에스테르 100질량부에 기초하여 1 내지 100질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 내지 60질량부이다. 이 비율이 너무 적으면 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서 얻어지는 경화막의 배향성이 저하하거나 평탄화성이 저하하며, 또한 너무 크면 투과율이 저하하는 경우가 있다.
The content of the component (C) in the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 5 to 60 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyester (A) Mass part. If the ratio is too small, the orientation property of the cured film obtained from the polyester composition for thermosetting film formation is lowered and the planarization property is lowered, and when it is too large, the transmittance may be lowered.

<(D)성분>
&Lt; Component (D) >

본 발명에서는 (D)성분으로 산화방지제를 함유해도 된다. 이 (D)성분은 본 발명의 열경화막형성 후의 프로세스에서 상정되는 고온소성에 의한 막의 변색을 방지하는데 유효하다.
In the present invention, the antioxidant may be contained as the component (D). The component (D) is effective for preventing the discoloration of the film due to the high temperature baking which is assumed in the process after the formation of the thermosetting film of the present invention.

(D)성분의 산화방지제로는 특히 페놀화합물이 바람직하고 그 구체예로 2,6-디-t-부틸-4-크레졸, 2,6-디-t-부틸-페놀, 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)메시틸렌, 펜타에리스리톨테트라키스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시페닐)프로피오네이트], 아세톤비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)메르캅톨(mercaptole), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산메틸, 4,4'-티오디(2,6-디-t-부틸페놀), 트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아눌산, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)술피드 등을 들 수 있다.
The antioxidant of the component (D) is preferably a phenol compound, and specific examples thereof include 2,6-di-t-butyl-4-cresol, 2,6- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene, pentaerythritol tetrakis [3- Phenyl) propionate], acetone bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) mercaptole, 4,4'-methylenebis (2,6- Methyl) propionate, 4,4'-thiodi (2,6-di-t-butylphenol), tris (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanuric acid, and bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) sulfide.

이들 산화방지제인 페놀화합물은 특별히 상기의 것에 한정되는 것이 아니다. 또한, 이들은 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용할 수 있다.
These phenolic compounds which are antioxidants are not particularly limited to those mentioned above. These may be used alone or in combination of two or more components.

이들 산화방지제 중 2,6-디-t-부틸-4-크레졸, 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)메시틸렌, 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀) 등이 배향성을 저하시키지 않고 내열성도 높다는 점에서 특히 바람직하다.
Among these antioxidants, 2,4,6-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene, 2,4,6- 4'-methylenebis (2,6-di-t-butylphenol) and the like are particularly preferred because they do not deteriorate the orientation property and have high heat resistance.

본 발명에서 (D)성분의 산화방지제인 페놀화합물의 사용비율은 (A)성분인 폴리에스테르100질량부에 대해 0.01 내지 5질량부인 것이 바람직하고 보다 바람직하게는 0.1 내지 3질량부이다. 이 비율이 너무 적은 경우에는 산화방지제로써의 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있으며, 너무 큰 경우에는 배향성이 저하하거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
In the present invention, the use ratio of the phenolic compound as the antioxidant of the component (D) is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the polyester (A). When the ratio is too small, the effect as an antioxidant may not be sufficiently obtained. When the ratio is too large, the orientation may be deteriorated or the coating film may be roughened.

<(E)성분>
&Lt; Component (E) >

본 발명에서는 (E)성분으로 실란커플링제를 함유해도 된다.
In the present invention, the silane coupling agent may be contained as the component (E).

(E)성분인 실란커플링제는 중합성 액정으로 이루어진 위상차 재료와의 밀착성을 향상시키는데 유효하다.
The silane coupling agent, which is the component (E), is effective for improving adhesion with a retardation material comprising a polymerizable liquid crystal.

이와 같은 실란커플링제의 구체예로는 트리메틸클로로실란, 디메틸비닐클로로실란, 메틸디페닐클로로실란, 클로로메틸디메틸클로로실란 등의 클로로실란류;트리메틸메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 메틸디메톡시실란, 디메틸비닐에톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 알콕시실란류;헥사메틸디실라잔, N,N'-비스(트리메틸실릴)우레아, 디메틸트리메틸실릴아민, 트리메틸실릴이미다졸 등의 실라잔류, 비닐트리클로로실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(N-피페리디닐)프로필트리에톡시실란 등의 실란류;벤조트리아졸, 벤즈이미다졸, 인다졸, 이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 우라졸, 타오우라실, 메르캅토이미다졸, 메르캅토피리미딘 등의 복소환상화합물이나 1,1-디메틸우레아, 1,3-디메틸우레아 등의 요소 또는 티오요소화합물을 들 수 있으며 이들 실란커플링제 중 1종 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
Specific examples of such a silane coupling agent include chlorosilanes such as trimethylchlorosilane, dimethylvinylchlorosilane, methyldiphenylchlorosilane and chloromethyldimethylchlorosilane, trimethylmethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methyldimethoxysilane , Dimethylvinylethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane; alkoxysilanes such as hexamethyldisilazane, N, N'-bis (trimethylsilyl) urea, dimethyltrimethylsilylamine, trimethylsilyl Silane residues such as vinylidene fluoride, vinylidene fluoride, vinylidene fluoride, vinylidene fluoride, vinylidene fluoride, vinylidene fluoride, vinylidene fluoride, vinylcyclohexanecarbazole, vinylcyclohexylcyclohexylcyclohexylcyclohexyl, vinylcyclohexylcyclohexylcyclohexylcyclohexyl, Silanes such as ethoxysilane,? - (N-piperidinyl) propyltriethoxysilane, and the like; aromatic hydrocarbons such as benzotriazole, benzimidazole, indazole, imidazole, 2-mercaptobenzimidazole, Thiazole, 2-me A heterocyclic compound such as mercaptobenzoxazole, ureasol, thaouracil, mercaptoimidazole and mercaptopyrimidine, or an urea or thiourea compound such as 1,1-dimethylurea or 1,3-dimethylurea These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

이들 실란커플링제 중 γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란이 중합성 액정으로 이루어진 위상차재료와의 밀착력, 보존안정성의 관점에서 특히 바람직하다.
Among these silane coupling agents,? -Methacryloxypropyltriethoxysilane is particularly preferable from the viewpoint of adhesion strength with a retardation material comprising a polymerizable liquid crystal and storage stability.

상기 실란커플링제는 예를 들면 신에쯔카가쿠코교(주)제, MOMENTIVE제나 Dow Corning Toray Co.,Ltd.제 등의 시판품의 화합물을 사용할 수 있으며, 이들 시판품은 용이하게 입수할 수 있다.
As the silane coupling agent, for example, commercially available compounds such as those available from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., MOMENTIVE agent and Dow Corning Toray Co., Ltd. can be used, and these commercially available products are readily available.

이들 실란커플링제의 첨가량은 (A)성분의 100질량부에 대해 통상적으로 0.5~30질량부, 보다 바람직하게는 0.8~20질량부이다. 20질량부이상 사용하면 도막의 용제내성이 저하하는 경우가 있으며, 또한, 0.5질량부미만에서는 실란커플링제의 충분한 효과를 얻을 수 없는 경우가 있다.
These silane coupling agents are added in an amount of usually 0.5 to 30 parts by mass, more preferably 0.8 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A). When the amount is more than 20 parts by mass, the solvent resistance of the coating film may be lowered. When the amount is less than 0.5 parts by mass, sufficient effect of the silane coupling agent may not be obtained.

<(F)성분>
&Lt; Component (F) >

본 발명에서는 (F)성분으로 비스말레이미드 화합물을 함유해도 된다. (F)성분인 비스말레이미드 화합물은 평탄화성을 추가로 향상시키는데 유효하며, 예를 들면 하기 식(4)로 나타나는 화합물을 들 수 있다. 이들 비스말레이미드 화합물은 특히 상기의 것에 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용할 수 있다.
In the present invention, the bismaleimide compound may be contained as the component (F). The bismaleimide compound as the component (F) is effective for further improving the planarization property, and includes, for example, a compound represented by the following formula (4). These bismaleimide compounds are not particularly limited to those mentioned above. These may be used alone or in combination of two or more components.

Figure 112011074777974-pct00027
Figure 112011074777974-pct00027

상기 식 중, Y는 지방족기, 환식구조를 포함하는 지방족기 및 방향족기로 이루어진 군에서 선택되는 유기기 또는 이들 군에서 선택되는 복수의 유기기의 조합으로 이루어진 유기기이다. 그리고 Y에는 에스테르 결합, 에테르 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합 등의 결합을 포함할 수 있다.
Wherein Y is an organic group selected from the group consisting of an aliphatic group, an aliphatic group having a cyclic structure and an aromatic group, or a combination of a plurality of organic groups selected from these groups. And Y may include a bond such as an ester bond, an ether bond, an amide bond, a urethane bond or the like.

상기 식(4)로 나타나는 비스말레이미드 화합물로는 예를 들면 N,N'-3,3-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, 3,3-디페닐술폰비스말레이미드, 4,4-디페닐술폰비스말레이미드, N,N'-p-벤조페논비스말레이미드, N,N'-디페닐에탄비스말레이미드, N,N'-디페닐에테르비스말레이미드, N,N'-(메틸렌디-디테트라히드로페닐)비스말레이미드, N,N'-(3-에틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3, 3-디메틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디클로로)-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-이소포론비스말레이미드, N,N'-톨리딘비스말레이미드, N,N'-디페닐프로판비스말레이미드, N,N'-나프탈렌비스말레이미드, N,N'-m-페닐렌비스말레이미드, N,N'-5-메톡시-1,3-페닐렌비스말레이미드, 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-클로로-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-에틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-프로필-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-이소프로필-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-부틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 2,2-비스(3-메톡시-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-메틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-클로로-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 1,1-비스(3-브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)에탄, 3,3-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)펜탄, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(3,5-디메틸-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2,2-비스(3,5-디브로모-4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, N,N'-에틸렌디말레이미드, N,N'-헥사메틸렌비스말레이미드, N,N'-도데카메틸렌비스말레이미드, N,N'-m-크실렌비스말레이미드, N,N'-p-크실렌비스말레이미드, N,N'-1,3-비스메틸렌시클로헥산비스말레이미드, N,N'-2,4-톨릴렌비스말레이미드, N,N'-2,6-톨릴렌비스말레이미드 등을 들 수 있으며, 상기한 것에 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상의 성분을 병용할 수 있다.
Examples of the bismaleimide compound represented by the formula (4) include N, N'-3,3-diphenylmethane bismaleimide, N, N '- (3,3-diethyl- ) -4,4-diphenyl-methane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, 3,3-diphenylsulfone bismaleimide, N, N'-p-benzophenone bismaleimide, N, N'-diphenyl ethane bismaleimide, N, N'-diphenyl ether bismaleimide, N, N '- (3,3-dimethyl) -4,4-diphenylmethanebis (triphenylphosphine) bismaleimide, N, N '- (3,3-dichloro) -4,4-diphenylmethane bismaleimide, maleimide, N, N' N, N'-diphenylpropane bismaleimide, N, N'-naphthalene bismaleimide, N, N'-toluidine bismaleimide, -m-phenylenebismaleimide, N, N'-5- Bis (3-chloro-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Bis (3-ethyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Bis (3-propyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2- Phenyl) propane, 2,2-bis (3-butyl-4- (4-maleimidophenoxy) ) Propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) ethane, 1,1-bis (3-chloro-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) ethane, 1,1-bis Bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) pentane, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2- Pro , 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (3,5-dimethyl-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2,2-bis (3,5-dibromo-4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, N, N'-ethylene dimaleimide, N, N N, N'-p-xylenebismaleimide, N, N'-1-methylenebisimaleimide, N, N'- , 3-bismethylene cyclohexane bismaleimide, N, N'-2,4-tolylene bismaleimide and N, N'-2,6-tolylene bismaleimide. It is not. These may be used alone or in combination of two or more components.

이들 비스말레이미드 중 2,2-비스(4-(4-말레이미드페녹시)페닐)프로판, N,N'-4,4-디페닐메탄비스말레이미드, N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드 등의 방향족 비스말레이미드가 바람직하다.
Among these bismaleimides, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N ' -Diethyl-5,5-dimethyl) -4,4-diphenyl-methane bismaleimide, and the like.

또한, 이들 방향족 비스말레이미드 중 보다 높은 평탄화성을 얻기 위해서는 분자량 1,000이하의 것이 바람직하다.
In order to obtain higher planarization properties among these aromatic bismaleimides, those having a molecular weight of 1,000 or less are preferred.

본 발명에서 (F)성분인 비스말레이미드 화합물의 사용 비율은 (A)성분인 폴리에스테르 100질량부에 대해 0.5 내지 50질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 30질량부이며, 특히 바람직하게는 2 내지 20질량부이다. 이 비율이 너무 적은 경우에는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서 얻어지는 경화막의 평탄화성을 향상시키는 효과를 얻기 어려운 경우가 있으며 너무 큰 경우에는 경화막의 투과율가 저하하거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.
In the present invention, the ratio of the bismaleimide compound as the component (F) is preferably 0.5 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 30 parts by mass, particularly preferably 100 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyester (A) Is 2 to 20 parts by mass. When the ratio is too small, it may be difficult to obtain the effect of improving the planarizing property of the cured film obtained from the polyester composition for forming a thermosetting film. When the proportion is too large, the transmittance of the cured film may decrease or the film may become rough.

<용제><Solvent>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 용제에 용해하여 용액상태로 사용되는 경우가 많다. 이 때 사용되는 용제는 (A)성분 내지 (C)성분, 필요에 따라 (D)성분 내지 (F)성분 및/또는 후술하는 그 외 첨가제를 용해하는 것이며 이와 같은 용해능을 가지는 용제라면 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되지 않는다.
The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is often dissolved in a solvent and used in a solution state. The solvent used herein is one which dissolves the components (A) to (C), and optionally the components (D) to (F) and / or other additives described below. If the solvent has such a solubility, And the like are not particularly limited.

이와 같은 용제로는 (A)성분의 중합에 사용한 용제나 하기의 용제를 들 수 있다. 예를 들면 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브, 부틸셀루솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 유산에틸, 유산부틸, 시클로헥사놀, 초산에틸, 초산부틸, 유산에틸, 유산부틸 등을 들 수 있다.
Such a solvent includes the solvent used for the polymerization of the component (A) and the following solvents. For example, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol propyl ether, ethyl lactate, butyl lactate, cyclohexanol, ethyl acetate , Butyl acetate, ethyl lactate, and butyl lactate.

이들 용제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
These solvents may be used singly or in combination of two or more.

<그 외 첨가제><Other additives>

추가로 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 필요에 따라 계면 활성제, 레올로지 조정제 등의 밀착 보조제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 다가페놀이나 다가카르본산 등의 용해 촉진제 등을 함유할 수 있다.
In addition, the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention may contain, if necessary, additives such as a surfactant, a rheology modifier and the like, a pigment, a dye, a storage stabilizer, a defoamer, A dissolution accelerator such as a polyglycolic acid, and the like.

<열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물>&Lt; Polyester composition for forming thermosetting film &

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 (A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제, (C)성분인 디에스테르(또는 다가에스테르)를 함유하고 필요에 따라 (D)성분인 산화방지제(페놀화합물), (E)성분인 실란커플링제, (F)성분인 비스말레이미드 화합물, 추가로 그 외 첨가제 중 1종 이상을 함유할 수 있는 조성물이다. 그리고 통상적으로는 이들이 용제에 용해된 용액으로 사용되는 경우가 많다.
The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention contains a polyester as the component (A), a crosslinking agent as the component (B), a diester (or polyvalent ester) as the component (C) An antioxidant (phenol compound), a silane coupling agent as the component (E), a bismaleimide compound as the component (F), and further additives. And they are usually used as a solution in a solvent.

이 중에서도 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 바람직한 예는 이하와 같다.
Among these, preferred examples of the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention are as follows.

[1] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[1] A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises 3 to 50 parts by mass of the component (B) and 1 to 100 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A).

[2] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[2] A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises 3 to 50 parts by mass of the component (B), 1 to 100 parts by mass of the component (C), and a solvent based on 100 parts by mass of the component (A).

[3] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분, 0.01 내지 5질량부의 (D)성분, 0.5 내지 30질량부의 (E)성분, 0.5 내지 50질량부의 (F)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[3] The positive resist composition as described in [1] or [2], which comprises 3 to 50 parts by mass of the component (B), 1 to 100 parts by mass of the component (C), 0.01 to 5 parts by mass of the component (D) E) component and 0.5 to 50 parts by mass of the component (F).

[4] : (A)성분 100질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 3 내지 50질량부의 (C)성분, 0.01 내지 5질량부의 (D)성분, 0.5 내지 30질량부의 (E)성분, 0.5 내지 50질량부의 (F)성분, 용제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
[4] A pressure-sensitive adhesive composition comprising: (B) 3 to 50 parts by mass of a component (C), 0.01 to 5 parts by mass of a component (D), and 0.5 to 30 parts by mass of E) component, 0.5 to 50 parts by mass of the component (F), and a solvent.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 용액으로 사용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상술한다.
The mixing ratio, preparation method, etc. when the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is used as a solution will be described in detail below.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물에서의 고형분의 비율은 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1 내지 80질량%이며, 바람직하게는 5 내지 60질량%이고, 보다 바람직하게는 10 내지 50질량%이다. 여기서, 고형분이란 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 전성분에서 용제를 제외한 것을 말한다.
The proportion of the solid content in the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in a solvent, but it is preferably 1 to 80 mass%, more preferably 5 to 60 mass% , And more preferably from 10 to 50 mass%. Here, the solid content means that the solvent is excluded from all components of the polyester composition for forming a thermosetting film.

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제방법은 특별히 한정되지 않지만 그 조제법으로는 예를 들면 (A)성분을 용제에 용해하고 이 용액에 (B)성분, (C)성분, 추가로 (D)성분, (E)성분, (F)성분을 소정의 비율로 혼합하여 균일한 용액으로 만드는 방법, 또는 이 조제법의 적당한 단계에서 필요에 따라 그 외 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.
The preparation method of the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention is not particularly limited. For example, the preparation method thereof includes a method of dissolving the component (A) in a solvent, adding the component (B) (D), (E) and (F) in a predetermined ratio to prepare a homogeneous solution, or a method in which additional additives are further added and mixed in an appropriate step of the preparation method as required .

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제에 있어서는 용제 중에서의 중합반응에 의해 얻는 폴리에스테르의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 이 (A)성분의 용액에 상기와 같이 (B)성분, (C)성분, (D)성분, (E)성분, (F)성분 등을 넣어 균일한 용액으로 만들 때, 농도 조정을 목적으로 하여 용제를 추가 투입해도 된다. 이 때 폴리에스테르의 생성과정에서 사용되는 용제와 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 조제시에 농도 조정을 위해 사용되는 용제는 동일해도 되고 달라도 된다.
In the preparation of the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention, a solution of a polyester obtained by a polymerization reaction in a solvent may be used as it is. In this case, when the solution of the component (A) is made into a homogeneous solution by adding the component (B), the component (C), the component (D), the component (E) A solvent may be further added for the purpose. At this time, the solvent used in the production of the polyester and the solvent used for adjusting the concentration at the time of preparing the polyester composition for forming a thermosetting film may be the same or different.

그리고 조제된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물의 용액은 구경이 0.2μm정도의 필터 등을 사용하여 여과한 후 사용하는 것이 바람직하다.
The prepared solution of the polyester composition for thermosetting film formation is preferably filtered after using a filter having a diameter of about 0.2 탆 or the like.

<도막, 경화막 및 액정 배향층><Coating film, cured film and liquid crystal alignment layer>

본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 기판(예를 들면 실리콘/이산화실리콘 피복 기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들면 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리 기판, 석영 기판, ITO 기판 등)이나 필름(예를 들면 트리아세틸셀룰로스 필름, 폴리에스테르 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름) 등의 위에 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 이어 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등으로 도포한 후 핫플레이트 또는 오븐 등으로 예비건조(프리베이크)함으로써 도막을 형성할 수 있다. 그 후 이 도막을 가열처리함으로써 피막이 형성된다.
The polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can be applied to a substrate (e.g., a substrate coated with a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a metal such as aluminum, molybdenum or chromium, , An ITO substrate, etc.) or a film (for example, a resin film such as a triacetylcellulose film, a polyester film, or an acrylic film), or the like is applied on the substrate by spin coating, roll coating, slit coating, , Printing or the like, and then pre-dried (pre-baked) with a hot plate or an oven to form a coating film. Thereafter, the coating film is formed by heating the coating film.

이 가열처리의 조건으로는 예를 들면 온도 70℃ 내지 160℃, 시간 0.3 내지 60분간의 범위 중에서 적절히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은 바람직하게는 80℃ 내지 140℃, 0.5 내지 10분간이다.
As the conditions of the heat treatment, for example, a heating temperature and a heating time appropriately selected from a temperature of 70 to 160 DEG C and a time of 0.3 to 60 minutes are employed. The heating temperature and the heating time are preferably 80 ° C to 140 ° C for 0.5 to 10 minutes.

또한, 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물로 형성되는 피막의 막 두께는 예를 들면 0.1 내지 30μm이며, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 특성을 고려하여 적절히 선택할 수 있다.
The film thickness of the film formed of the polyester composition for forming a thermosetting film is, for example, 0.1 to 30 탆, and can be appropriately selected in consideration of the step difference of the substrate to be used and the optical and electrical characteristics.

포스트베이크로는 일반적으로 온도 140℃ 내지 250℃의 범위에서 선택된 가열온도로 핫플레이트에서는 5 내지 30분간, 오븐에서는 30 내지 90분간 처리하는 방법이 채택된다.
The post bake is generally carried out at a heating temperature selected from the range of 140 ° C to 250 ° C for 5 to 30 minutes in the hot plate and for 30 to 90 minutes in the oven.

상기와 같은 조건하에서 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 경화시킴으로써 기판의 단차를 충분히 평탄화할 수 있고 고투명성을 가지는 경화막을 형성할 수 있다.
By curing the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention under the above-described conditions, the step of the substrate can be sufficiently planarized, and a cured film having high transparency can be formed.

이와 같이 하여 형성된 경화막은 러빙 처리를 실시함으로써 액정 배향층, 즉, 액정성을 가지는 화합물을 배향시키는 층으로 기능하게 할 수 있다.
The cured film thus formed can function as a liquid crystal alignment layer, that is, a layer for orienting a compound having liquid crystallinity by performing a rubbing treatment.

러빙 처리의 조건으로는 일반적으로 회전속도 300 내지 1000rpm, 이송속도 3 내지 200mm/초, 압입량 0.1 내지 1mm의 조건이 사용된다.
Conditions for the rubbing treatment are generally a condition of a rotational speed of 300 to 1000 rpm, a conveying speed of 3 to 200 mm / sec, and an indentation amount of 0.1 to 1 mm.

그 후, 순수 등을 사용하여 초음파세정에 의해 러빙으로 발생한 잔사를 제거한다.
Thereafter, the residue generated by rubbing is removed by ultrasonic cleaning using pure water or the like.

이와 같이 하여 형성된 액정 배향층 상에 위상차 재료를 도포한 후, 위상차 재료를 액정 상태로 하여 광경화시켜 광학이방성을 가지는 층을 형성할 수 있다.
After applying the retardation material on the liquid crystal alignment layer thus formed, the retardation material may be in a liquid crystal state and photo-cured to form a layer having optically anisotropy.

위상차 재료로는 예를 들면 중합성기를 가지는 액정 모노머나 이를 함유하는 조성물 등이 사용된다.
As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group or a composition containing it is used.

또한, 상기와 같이 하여 형성된 액정 배향층을 가지는 2장의 기판을, 스페이서를 통해 액정 배향층이 대향하도록 접합한 후 이들 기판 사이에 액정을 주입하여 액정이 배향된 액정표시소자를 만들 수 있다.
Further, the two substrates having the liquid crystal alignment layer formed as described above may be bonded to each other so that the liquid crystal alignment layers are opposed to each other through the spacer, and liquid crystal is injected between these substrates to form a liquid crystal display element in which liquid crystals are aligned.

또한, 액정 배향층을 형성하는 기재를 필름으로 한 경우는 광학이방성 필름으로 유용한 재료가 된다.
When the base material forming the liquid crystal alignment layer is a film, it becomes a useful material for an optically anisotropic film.

이상과 같이 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 각종 광학 이방성 필름, 액정 표시 소자에 호적하게 사용할 수 있다.
As described above, the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention can be suitably used for various optically anisotropic films and liquid crystal display devices.

또한, 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 적어도 필요한 수준의 평탄화성을 가지기 때문에 박막 트랜지스터(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료로도 유용하며, 특히 칼라필터의 오버코트재, TFT형 액정소자의 층간 절연막, 유기 EL 소자의 절연막 등을 형성하는 재료로도 유용하게 사용될 수 있다.
Since the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention has at least a necessary level of planarizing property, the polyester composition for forming a protective film, a flattening film, an insulating film and the like in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element It is also useful as a material for forming a cured film and can be used as a material for forming an overcoat material of a color filter, an interlayer insulating film of a TFT liquid crystal device, an insulating film of an organic EL device, and the like.

실시예
Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

[실시예에서 사용하는 약기호][Abbreviations used in the examples]

이하의 실시예에서 사용하는 약기호의 의미는 다음과 같다.
The meanings of the weak symbols used in the following examples are as follows.

<폴리에스테르 및 디에스테르화합물 원료>&Lt; Polyester and diester compound raw materials >

HBPDA : 3,3'-4,4'-비시클로헥실테트라카르본산이무수물HBPDA: 3,3'-4,4'-bicyclohexyltetracarboxylic acid dianhydride

BPDA : 비페닐테트라카르본산이무수물BPDA: biphenyltetracarboxylic acid anhydride

BPADA : 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스프탈산무수물BPADA: 4,4 '- (4,4'-isopropylidene diphenoxy) bisphthalic anhydride

HPA : 헥사히드로프탈산무수물HPA: hexahydrophthalic anhydride

CHDO : 1,4-시클로헥산디올CHDO: 1,4-cyclohexanediol

CHTO : 1,3,5-시클로헥산트리올CHTO: 1,3,5-cyclohexanetriol

PE : 펜타에리스리톨PE: Pentaerythritol

HBPA : 수소화비스페놀AHBPA: hydrogenated bisphenol A

THPA : 1,2,5,6-테트라히드로프탈산무수물
THPA: 1,2,5,6-tetrahydrophthalic anhydride

<폴리에스테르 및 디에스테르화합물 중합촉매>&Lt; Polyester and diester compound polymerization catalyst >

BTEAC : 벤질트리에틸암모늄클로라이드BTEAC: Benzyltriethylammonium chloride

<폴리이미드전구체원료><Material for polyimide precursor>

CBDA : 시클로헥산테트라카르본산이무수물CBDA: Cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride

pDA : p-페닐렌디아민
pDA: p-phenylenediamine

<아크릴공중합체원료>&Lt; Acrylic copolymer raw material &

MAA : 메타크릴산MAA: methacrylic acid

MMA : 메틸메타크릴레이트MMA: methyl methacrylate

HEMA : 2-히드록시에틸메타크릴레이트HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate

CHMI : N-시클로헥실말레이미드CHMI: N-cyclohexylmaleimide

AIBN : 아조비스이소부티로니트릴
AIBN: azobisisobutyronitrile

<에폭시화합물><Epoxy Compound>

CEL : Daicel Chemical Industries Limited.제 CELLOXIDE P-2021(제품명)(화합물명 : 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카르복실레이트)
CEL: Daicel Chemical Industries Limited CELLOXIDE P-2021 (trade name) (compound name: 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate)

<산화방지제><Antioxidant>

TBHBM : 2,4,6-트리스(3',5'-디-t-부틸-4'-히드록시벤질)메시틸렌TBHBM: 2,4,6-tris (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene

MBP : 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀)
MBP: 4,4'-methylenebis (2,6-di-t-butylphenol)

<실란커플링제><Silane coupling agent>

MPS : γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란
MPS:? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane

<비스말레이미드화합물><Bismaleimide compound>

BMI1 : N,N'-(3,3-디에틸-5,5-디메틸)-4,4-디페닐-메탄비스말레이미드
BMI 1: N, N '- (3,3-diethyl-5,5-dimethyl) -4,4-diphenyl-methane bismaleimide

<용제><Solvent>

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: Propylene glycol monomethyl ether

NMP : N-메틸피롤리돈
NMP: N-methylpyrrolidone

이하의 합성예에 따라 얻은 폴리에스테르, 폴리이미드 전구체 및 아크릴 공중합체의 수평균 분자량 및 중량 평균 분자량은 JASCO Corporation제 GPC장치(Shodex(등록상표)칼럼 KF803L 및 KF804L)를 사용하여 용출 용매 테트라히드로푸란을 유량 1ml/분으로 칼럼 중에(칼럼온도 40℃) 넣어 용리시키는 조건으로 측정했다. 또한, 하기의 수평균분자량(이하, Mn이라 함.) 및 중량 평균 분자량(이하, Mw라 함.)은 폴리스틸렌환산치로 나타냈다.
The number average molecular weight and the weight average molecular weight of the polyester, polyimide precursor and acrylic copolymer obtained according to the following Synthesis Examples were measured using a GPC apparatus (Shodex (registered trademark) column KF803L and KF804L) manufactured by JASCO Corporation and eluting solvent tetrahydrofuran At a flow rate of 1 ml / min in a column (column temperature: 40 占 폚). The following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are shown in terms of polystyrene conversion.

<합성예 1>&Lt; Synthesis Example 1 &

HBPDA 18.0g, BPDA 4.54g, HBPA 15.9g, THPA 2.01g, BTEAC 0.19g을 PGMEA 95.1g중에서 125℃에서 19시간 반응시킴으로써 폴리에스테르 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P1). 얻은 폴리에스테르의 Mn은 1,310, Mw는 3,270이었다.
A polyester solution (solid concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 18.0 g of HBPDA, 4.54 g of BPDA, 15.9 g of HBPA, 2.01 g of THPA and 0.19 g of BTEAC in 95.1 g of PGMEA at 125 DEG C for 19 hours. The obtained polyester had Mn of 1,310 and Mw of 3,270.

<합성예 2>&Lt; Synthesis Example 2 &

HBPDA 12.0g, HBPA 10.2g, THPA 0.95g, BTEAC 0.22g을 PGMEA 54.48g중에서 125℃에서 19시간 반응시킴으로써 폴리에스테르 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P2). 얻은 폴리에스테르의 Mn은 1,980, Mw는 3,500이었다.
A polyester solution (solid concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 12.0 g of HBPDA, 10.2 g of HBPA, 0.95 g of THPA and 0.22 g of BTEAC in 54.48 g of PGMEA at 125 DEG C for 19 hours (P2). The obtained polyester had 1,980 Mn and Mw 3,500.

<합성예 3>&Lt; Synthesis Example 3 &

HBPDA 18.0g, BPADA 7.37g, HBPA 17.0g, THPA 2.15g, BTEAC 0.10g을 PGMEA 104.2g중에서 125℃에서 19시간 반응시킴으로써 폴리에스테르 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P3). 얻은 폴리에스테르의 Mn은 1,440, Mw는 3,080이었다.
A polyester solution (solid content concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 18.0 g of HBPDA, 7.37 g of BPADA, 17.0 g of HBPA, 2.15 g of THPA and 0.10 g of BTEAC in 125.2 g of PGMEA at 125 ° C for 19 hours (solid content concentration: 30.0 mass%). The obtained polyester had Mn of 1,440 and Mw of 3,080.

<합성예 4>&Lt; Synthesis Example 4 &

HBPA 16.82g(0.070mol), THPA 20.85g(0.137mol), BTEAC 0.096g을 PGMEA 88.13g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A1).
A diester solution (solid concentration 30.0 mass%) was obtained by reacting 16.82 g (0.070 mol) of HBPA, 20.85 g (0.137 mol) of THPA and 0.096 g of BTEAC in 88.13 g of PGMEA at 130 캜 for 16 hours (A1).

<합성예 5>&Lt; Synthesis Example 5 &

CHDO 8.13g(0.070mol), THPA 20.85g(0.137mol), BTEAC 0.096g을 PGMEA 67.86g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A2).
A diester solution (solid concentration 30.0 mass%) was obtained by reacting 8.13 g (0.070 mol) of CHDO, 20.85 g (0.137 mol) of THPA and 0.096 g of BTEAC in 67.86 g of PGMEA at 130 캜 for 16 hours (A2).

<합성예 6>&Lt; Synthesis Example 6 &

HBPA 16.82g(0.070mol), HPA 21.13g(0.137mol), BTEAC 0.096g을 PGMEA 88.77g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A3).
The diester solution (solid concentration 30.0 mass%) was obtained by reacting 16.82 g (0.070 mol) of HBPA, 21.13 g (0.137 mol) of HPA and 0.096 g of BTEAC in 88.77 g of PGMEA at 130 ° C for 16 hours (A3).

<합성예 7>&Lt; Synthesis Example 7 &

CHTO 5.50g(0.042mol), THPA 17.08g(0.112mol), BTEAC 0.057g을 PGMEA 52.83g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A4).
A diester solution (solid concentration 30.0 mass%) was obtained by reacting 5.50 g (0.042 mol) of CHTO, 17.08 g (0.112 mol) of THPA and 0.057 g of BTEAC in 52.83 g of PGMEA at 130 ° C for 16 hours.

<합성예 8>&Lt; Synthesis Example 8 &

PE 5.00g(0.037mol), THPA 20.10g(0.132mol), BTEAC 0.050g을 PGMEA 58.69g중에서 130℃에서 16시간 반응시켜서 디에스테르 용액(고형분농도 30.0질량%)을 얻었다(A5).
5.00 g (0.037 mol) of PE, 20.10 g (0.132 mol) of THPA and 0.050 g of BTEAC were reacted in 58.69 g of PGMEA at 130 DEG C for 16 hours to obtain a diester solution (solid content concentration 30.0 mass%) (A5).

<합성예 9>&Lt; Synthesis Example 9 &

CBDA 17.7g, pDA 10.2g을 NMP 66.4g중에서 23℃에서 24시간 반응시킴으로써 폴리이미드 전구체 용액(고형분농도:30.0질량%)을 얻었다(P4). 얻은 폴리이미드전구체의 Mn은 5,800, Mw는 12,500이었다.
A polyimide precursor solution (solid concentration: 30.0 mass%) was obtained by reacting 17.7 g of CBDA and 10.2 g of pDA in 66.4 g of NMP at 23 DEG C for 24 hours (P4). The obtained polyimide precursor had Mn of 5,800 and Mw of 12,500.

<합성예10>&Lt; Synthesis Example 10 &

모노머성분으로 MAA 10.9g, CHMI 35.3g, HEMA 25.5g, MMA 28.3g을 사용하고 라디칼 중합 개시제로 AIBN 5g을 사용하여 이들을 용제 PGMEA 150g중에서 온도 60℃ 내지 100℃에서 중합반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분 농도:40.0 질량%)을 얻었다(P5). 얻은 아크릴 공중합체 용액의 Mn은 3,800, Mw는 6,700이었다.
10.9 g of MAA, 35.3 g of CHEMI, 25.5 g of HEMA and 28.3 g of MMA were used as monomer components and 5 g of AIBN was used as a radical polymerization initiator. These were polymerized in 150 g of solvent PGMEA at a temperature of 60 to 100 캜 to obtain an acrylic copolymer solution Solid concentration: 40.0% by mass) (P5). The obtained acrylic copolymer solution had Mn of 3,800 and Mw of 6,700.

<실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3>&Lt; Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 >

표 1에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 조제하고 각각에 대해 이 조성물로 얻은 경화막에 대해 각각 평탄화성, 용제내성, 배향성, 밀착성, 투명성 및 내열성(투과율)에 관한 평가를 실시했다.
Each of the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was prepared with the composition shown in Table 1, and the cured film obtained by this composition was applied to each of the compositions shown in Table 1 in the order of flatness, solvent resistance, And heat resistance (transmittance) were evaluated.

(A)성분*의 용액(g)(G) solution of component (A) (B)성분(g)(B) Component (g) (C)성분(g)(C) Component (g) (D)성분(g)(D) Component (g) (E)성분(g)(E) Component (g) (F)성분(g)(F) Component (g) 용제(g)Solvent (g) 실시예 1Example 1 P1
14
P1
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 2Example 2 P2
14
P2
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 3Example 3 P3
14
P3
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 4Example 4 P2
10
P2
10
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
10
A1
10
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 5Example 5 P2
14
P2
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A1
6.0
A1
6.0
MBP
0.036
MBP
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 6Example 6 P2
16
P2
16
CEL
1.5
CEL
1.5
A2
4.0
A2
4.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 7Example 7 P3
14
P3
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A3
6.0
A3
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
BM11
0.6
BM11
0.6
PGME
5.8
PGME
5.8
실시예 8Example 8 P1
14
P1
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A4
6.0
A4
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
실시예 9Example 9 P1
14
P1
14
CEL
1.5
CEL
1.5
A5
6.0
A5
6.0
TBHBM
0.036
TBHBM
0.036
MPS
0.48
MPS
0.48
-- PGME
4.0
PGME
4.0
비교예 1Comparative Example 1 P2
20
P2
20
-- -- -- PGMEA
2.22
PGMEA
2.22
비교예 2Comparative Example 2 P4
20
P4
20
CEL
1.2
CEL
1.2
-- -- NMP
2.97
NMP
2.97
비교예 3Comparative Example 3 P5
20
P5
20
CEL
1.2
CEL
1.2
-- -- PGMEA
2.80
PGMEA
2.80

*P1~P3: 폴리에스테르 용액 P4: 폴리이미드 전구체 용액 P5: 아크릴 공중합체 용액
* P1 to P3: Polyester solution P4: Polyimide precursor solution P5: Acrylic copolymer solution

[평탄화성의 평가][Evaluation of planarization property]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 높이 1.0μm, 라인폭 100μm, 라인간 스페이스 40μm의 단차기판(유리제) 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막두께 2.5μm의 도막을 형성했다. 막 두께는 FILMETRICS사제 F20를 사용하여 측정했다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 가열함으로써 포스트베이크를 실시하여 막두께 2.0μm의 경화막을 형성했다.
Each of the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a stepped substrate (glass) having a height of 1.0 mu m, a line width of 100 mu m and a laminar space of 40 mu m using a spin coater, Lt; 0 &gt; C for 120 seconds on a hot plate to form a coating film having a thickness of 2.5 mu m. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This coating film was post-baked by heating in a hot air circulating oven at 230 캜 for 30 minutes to form a cured film having a thickness of 2.0 탆.

단차기판라인상의 도막과 스페이스상의 도막의 막두께 차이를 측정하고(도1 참조), 평탄화율(DOP)=100×〔1-{도막의 막두께 차이(μm)/단차기판의 높이(1.0μm)}〕의 식을 사용하여 평탄화율을 구했다.
The difference in film thickness between the coating film on the stepped substrate line and the coating film on the space was measured (see Fig. 1), and the flatness ratio (DOP) = 100 x [1- (film thickness difference (μm) )}] Was used to determine the flattening rate.

또한, 평탄화막으로 인정되기 위해서는 적어도 60%이상의 평탄화율을 가질 것이 요구된다.
Further, in order to be recognized as a planarization film, it is required to have a planarization rate of at least 60% or more.

[용제내성의 평가][Evaluation of Solvent Resistance]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 실리콘웨이퍼에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막두께 2.8μm의 도막을 형성했다. 막두께는 FILMETRICS사제 F20을 사용하여 측정했다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 막두께 2.5μm의 경화막을 형성했다.
Each of the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to a silicon wafer using a spin coater and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 DEG C for 120 seconds to form a layer having a thickness of 2.8 mu m To form a coating film. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This coating film was subjected to post-baking in a hot air circulating oven at 230 캜 for 30 minutes to form a cured film having a thickness of 2.5 탆.

이 경화막을 PGMEA 또는 NMP 중에 60초간 침지시킨 후 각각 온도 100℃에서 60초간 건조하고 막 두께를 측정했다. PGMEA 또는 NMP 침지 후에 막 두께 변화가 없는 것을 ○, 침지 후에 막 두께의 감소가 발견되는 것을 ×로 표시했다.
This cured film was immersed in PGMEA or NMP for 60 seconds, and then dried at a temperature of 100 DEG C for 60 seconds to measure the film thickness. &Amp; cir &amp;,&amp; cir &amp;&amp;bull;&amp; cir &amp;

[배향성의 평가][Evaluation of orientation]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 ITO기판 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막 두께 2.8μm의 도막을 형성했다. 막 두께는 FILMETRICS사제 F20을 사용하여 측정했다. 이 막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 경화막을 형성했다.
Each of the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was coated on an ITO substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 캜 for 120 seconds to form a film having a thickness of 2.8 탆 Was formed. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This film was subjected to post-baking in a hot-air circulating oven at 230 캜 for 30 minutes to form a cured film.

이 경화막을 회전속도 400rpm, 이송속도 30mm/초, 압입량 0.4mm로 러빙 처리했다. 러빙 처리한 기판을 순수로 5분간 초음파 세정했다.
This cured film was rubbed at a rotation speed of 400 rpm, a conveying speed of 30 mm / sec, and an indentation amount of 0.4 mm. The rubbed substrate was ultrasonically cleaned with pure water for 5 minutes.

이 기판 상에 액정 모노머로 이루어진 위상차 재료를 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 80℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막 두께 1.4μm의 도막을 형성했다. 이 기판을 질소 분위기하에 1,000mJ로 노광했다. 제작한 기판을 편광판에 개재시키고 배향성을 육안으로 확인했다. 기판을 45도 기울였을 때와 기울이지 않았을 때, 빛 투과성이 현저하게 변화하는 것을 ○, 변화하지 않는 것을 ×로 표시했다.
A retardation material made of a liquid crystal monomer was coated on the substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 80 DEG C for 60 seconds to form a coating film having a film thickness of 1.4 mu m. This substrate was exposed at 1,000 mJ under a nitrogen atmosphere. The prepared substrate was placed in a polarizing plate and the orientation was visually confirmed. When the substrate was tilted at 45 degrees and when it was not tilted, it was indicated that the light transmittance was remarkably changed, and when it was not changed, it was indicated by x.

[밀착성의 평가][Evaluation of adhesion]

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 석영 기판 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시한 후 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 경화막을 형성했다.
Each of the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was coated on a quartz substrate using a spin coater, prebaked on a hot plate at a temperature of 100 DEG C for 120 seconds, Post baking was performed in a hot air circulating oven for 30 minutes to form a cured film.

이 경화막을 회전속도 400rpm, 이송속도 30mm/초, 압입량 0.4mm로 러빙 처리했다. 러빙 처리한 기판을 순수로 5분간 초음파 세정했다.
This cured film was rubbed at a rotation speed of 400 rpm, a conveying speed of 30 mm / sec, and an indentation amount of 0.4 mm. The rubbed substrate was ultrasonically cleaned with pure water for 5 minutes.

이 기판 상에 액정 모노머로 이루어진 위상차 재료를 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 80℃에서 60초간, 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막두께 1.4μm의 도막을 형성했다. 이 기판을 질소 분위기하에 1,000mJ로 노광했다. 제작한 도막에 1mm X 1mm의 모눈을 25개 만든 후 점착 테이프 박리시험(사용 테이프 : 셀로 테이프(등록상표))을 실시했다. 모눈 25개 중 전혀 벗겨지지 않는 것을 ○, 1개라도 벗겨진 것을 ×로 표시했다.
A retardation material made of a liquid crystal monomer was coated on the substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 80 DEG C for 60 seconds to form a coating film having a thickness of 1.4 mu m. This substrate was exposed at 1,000 mJ under a nitrogen atmosphere. 25 squares of 1 mm x 1 mm were formed on the coated film, and then subjected to an adhesive tape peeling test (use tape: Cellotape (registered trademark)). Out of the 25 squares, no peeling was marked as O, and even one peeling was marked as X.

[투명성(투과율)의 평가][Evaluation of transparency (transmittance)] [

실시예 1 내지 실시예 9 및 비교예 1 내지 비교예 3의 각 조성물을 석영 기판 상에 스핀코터를 사용하여 도포한 후, 온도 100℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 실시하여 막 두께 2.8μm의 도막을 형성했다. 막 두께는 FILMETRICS사제 F20을 사용하여 측정했다. 이 도막을 온도 230℃에서 30분간 열풍 순환식 오븐에서 포스트베이크를 실시하여 경화막을 형성했다.
Each of the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was coated on a quartz substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at a temperature of 100 캜 for 120 seconds to form a film having a thickness of 2.8 탆 Was formed. The film thickness was measured using F20 manufactured by FILMETRICS. This coated film was subjected to post-baking in a hot air circulating oven at 230 캜 for 30 minutes to form a cured film.

이 경화막을 자외선 가시 분광 광도계(Shimadzu Corporation제 SHIMADSUUV-2550형번)를 사용하여 파장 400nm일 때의 투과율을 측정했다.
The cured film was measured for transmittance at a wavelength of 400 nm using an ultraviolet visible spectrophotometer (SHIMADSUUV-2550 model manufactured by Shimadzu Corporation).

[내열성(투과율)의 평가][Evaluation of heat resistance (transmittance)] [

상술한 투명성을 평가한 경화막을 추가로 온도 230℃에서 3시간 열풍 순환식 오븐에서 가열한 후 자외선 가시 분광 광도계(Shimadzu Corporation SHIMADSUUV-2550형번)를 사용하여 파장 400nm일 때의 투과율을 측정했다.
The cured film evaluated for transparency described above was further heated in a hot air circulating oven at 230 캜 for 3 hours, and then the transmittance at a wavelength of 400 nm was measured using an ultraviolet visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation SHIMADSUUV-2550 model number).

[평가의 결과][Results of evaluation]

이상, 평가를 실시한 결과를 다음의 표 2에 나타낸다.
The evaluation results are shown in Table 2 below.


평탄화율(%)Flattening rate (%) 용제내성Solvent resistance 배향성
Orientation
밀착성
Adhesiveness
투명성(%)
Transparency (%)
내열성(%)
Heat resistance (%)
PGMEAPGMEA NMPNMP 실시예 1Example 1 6161

Figure 112016063013183-pct00028
Figure 112016063013183-pct00028
Figure 112016063013183-pct00029
Figure 112016063013183-pct00029
Figure 112016063013183-pct00030
Figure 112016063013183-pct00030
Figure 112016063013183-pct00031
Figure 112016063013183-pct00031
9898 9393 실시예 2Example 2 6161
Figure 112016063013183-pct00032
Figure 112016063013183-pct00032
Figure 112016063013183-pct00033
Figure 112016063013183-pct00033
Figure 112016063013183-pct00034
Figure 112016063013183-pct00034
Figure 112016063013183-pct00035
Figure 112016063013183-pct00035
9999 9797
실시예 3Example 3 6363
Figure 112016063013183-pct00036
Figure 112016063013183-pct00036
Figure 112016063013183-pct00037
Figure 112016063013183-pct00037
Figure 112016063013183-pct00038
Figure 112016063013183-pct00038
Figure 112016063013183-pct00039
Figure 112016063013183-pct00039
9797 9292
실시예 4Example 4 6464
Figure 112016063013183-pct00040
Figure 112016063013183-pct00040
Figure 112016063013183-pct00041
Figure 112016063013183-pct00041
Figure 112016063013183-pct00042
Figure 112016063013183-pct00042
Figure 112016063013183-pct00043
Figure 112016063013183-pct00043
9999 9797
실시예 5Example 5 6161
Figure 112016063013183-pct00044
Figure 112016063013183-pct00044
Figure 112016063013183-pct00045
Figure 112016063013183-pct00045
Figure 112016063013183-pct00046
Figure 112016063013183-pct00046
Figure 112016063013183-pct00047
Figure 112016063013183-pct00047
9999 9494
실시예 6Example 6 6060
Figure 112016063013183-pct00048
Figure 112016063013183-pct00048
Figure 112016063013183-pct00049
Figure 112016063013183-pct00049
Figure 112016063013183-pct00050
Figure 112016063013183-pct00050
Figure 112016063013183-pct00051
Figure 112016063013183-pct00051
9999 9696
실시예 7Example 7 6464
Figure 112016063013183-pct00052
Figure 112016063013183-pct00052
Figure 112016063013183-pct00053
Figure 112016063013183-pct00053
Figure 112016063013183-pct00054
Figure 112016063013183-pct00054
Figure 112016063013183-pct00055
Figure 112016063013183-pct00055
9898 9595
실시예 8Example 8 6363
Figure 112016063013183-pct00056
Figure 112016063013183-pct00056
Figure 112016063013183-pct00057
Figure 112016063013183-pct00057
Figure 112016063013183-pct00058
Figure 112016063013183-pct00058
Figure 112016063013183-pct00059
Figure 112016063013183-pct00059
9999 9797
실시예 9Example 9 6060
Figure 112016063013183-pct00060
Figure 112016063013183-pct00060
Figure 112016063013183-pct00061
Figure 112016063013183-pct00061
Figure 112016063013183-pct00062
Figure 112016063013183-pct00062
Figure 112016063013183-pct00063
Figure 112016063013183-pct00063
9797 9595
비교예 1Comparative Example 1 -- ×× ×× -- -- -- -- 비교예 2Comparative Example 2 2020
Figure 112016063013183-pct00064
Figure 112016063013183-pct00064
Figure 112016063013183-pct00065
Figure 112016063013183-pct00065
Figure 112016063013183-pct00066
Figure 112016063013183-pct00066
×× 8585 8484
비교예 3Comparative Example 3 6565
Figure 112016063013183-pct00067
Figure 112016063013183-pct00067
Figure 112016063013183-pct00068
Figure 112016063013183-pct00068
×× ×× 9696 9595

실시예 1 내지 실시예 9는 평탄화율, PGMEA, NMP 모두에 내성이 있었다. 또한, 모두 양호한 배향성을 나타내고, 고온소성 후에 추가로 고온 소성한 후에도 높은 투과율(투명성)을 달성하였으며 내열성도 구비했다. 그리고 모든 실시예는 위상차 재료와의 밀착성이 양호했다.
Examples 1 to 9 were resistant to both planarization ratio, PGMEA and NMP. In addition, they all exhibited good orientation and achieved high transmittance (transparency) even after further high-temperature firing after high-temperature firing, and also had heat resistance. And all the examples had good adhesion to the retardation material.

한편, 비교예 1은 경화막이 형성되지 않았다.
On the other hand, in Comparative Example 1, no cured film was formed.

또한, 비교예 2는 용제내성, 내열성, 배향성은 양호했지만 투명성에 과제를 남겼으며, 평탄화율이 매우 낮고 밀착성이 열화했다.
In Comparative Example 2, although the solvent resistance, heat resistance and orientation were good, the problem was left in the transparency, the flatness rate was very low, and the adhesiveness was deteriorated.

그리고 비교예 3은 평탄화율, 용제내성, 투명성은 양호했지만, 배향성, 밀착성이 열화했다.
In Comparative Example 3, the flatness, the solvent resistance, and the transparency were good, but the orientation and adhesion were deteriorated.

이상과 같이 본 발명의 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은, 경화막형성시에 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 등의 글리콜계 용제를 사용할 수 있으며 또한 얻은 경화막은 우수한 광투과성, 용제내성, 내열성, 평탄화성, 밀착성 및 배향성 모든 성능이 양호했다.
As described above, in the polyester composition for forming a thermosetting film of the present invention, a glycol solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate can be used at the time of forming a cured film, and the obtained cured film is excellent in light transmittance, solvent resistance, Mars, adhesion and orientation All performances were good.

[산업상의 이용가능성][Industrial Availability]

본 발명에 의한 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물은 광학 이방성 필름이나 액정 표시 소자의 액정 배향층으로 매우 유용하며, 또한 박막 트랜지스터(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료, 특히 TFT형 액정 소자의 층간 절연막, 칼라필터의 보호막, 유기 EL 소자의 절연막 등을 형성하는 재료로도 호적하다.The polyester composition for forming a thermosetting film according to the present invention is extremely useful as a liquid crystal alignment layer of an optically anisotropic film or a liquid crystal display device and is also useful as a protective film for various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display device, , A flattening film, a material for forming a cured film such as an insulating film, particularly a material for forming an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal element, a protective film of a color filter, an insulating film of an organic EL element and the like.

Claims (18)

(A)성분인 폴리에스테르, (B)성분인 가교제 및 (C)성분인 하기 식(1)로 나타나는 적어도 한 종의 디에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00069

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타낸다. 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)
A polyester composition for forming a thermosetting film, which comprises a polyester as a component (A), a crosslinking agent as a component (B), and at least one diester compound represented by the following formula (1) as a component (C).

Figure 112016063013183-pct00069

(Wherein P represents an alicyclic group, a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2), Q represents an alicyclic group, or a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group. Lt; / RTI &gt;
제 1항에 있어서,
(C)성분이 하기 식(iii)으로 나타나는 디올 화합물 1몰과 하기 식(iv)로 나타나는 디카르본산 무수물의 1.7 내지 2몰을 반응시킨 디에스테르 화합물인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00070

(식 중, P는 지환식기, 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기 또는 식(2)로 나타나는 구조를 나타내고, Q는 지환식기 또는 지환식기와 지방족기로 이루어지는 기를 나타내고, P 및 Q는 각각 각 기 중에 포함되는 임의의 수소 원자가 지방족기로 치환되어 있어도 된다. 식(2) 중 R은 알킬렌기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the component (C) is a diester compound obtained by reacting one mole of a diol compound represented by the following formula (iii) with 1.7 to 2 moles of a dicarboxylic anhydride represented by the following formula (iv).

Figure 112016063013183-pct00070

(Wherein P represents an alicyclic group, a group comprising an alicyclic group and an aliphatic group or a structure represented by the formula (2), Q represents an alicyclic group or a group consisting of an alicyclic group and an aliphatic group, and P and Q are each contained in each group May be substituted with an aliphatic group. In the formula (2), R represents an alkylene group.)
제 2항에 있어서,
P가 하기 식(1P1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00071

(식 중, P1은 환상 포화 탄화수소기를 나타내고, P1기 중의 임의의 수소 원자는 각각 독립적으로 지방족기로 치환되어 있어도 된다. R11은 단일 결합, 카르보닐기, 에테르기, 술폰산기, 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기 또는 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 1 내지 8의 포화 탄화수소기를 나타내고, R12, R13은 각각 독립해서 단일 결합 또는 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬렌기를 나타내고, h는 0 또는 1을 나타낸다.)
3. The method of claim 2,
P represents a group represented by the following formula (1P1).

Figure 112016063013183-pct00071

(Wherein, P 1 represents a cyclic saturated hydrocarbon group, P 1 groups are optionally any of the hydrogen atoms are substituted with an aliphatic, each independently of the. R 11 is a single bond, a carbonyl group, an ether group, a sulfonic acid group, the number of carbon atoms 1 And R 12 and R 13 each independently represent a single bond or an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, and h represents an integer of 0 to 8, Or 1).
제 2항에 있어서,
Q가 하기 식(1Q1)로 나타나는 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00072

(식 중, Q1은 탄소 원자수 4 내지 8의 시클로알킬렌기 또는 시클로알케닐렌기를 나타내고, Q1기 중의 임의의 수소 원자는 지방족기로 치환되어 있어도 된다. X는 단일 결합 또는 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌기를 나타낸다.)
3. The method of claim 2,
And Q represents a group represented by the following formula (1Q1).

Figure 112016063013183-pct00072

(In the formula, Q 1 represents 4 to 8, a cycloalkylene group or an cycloalkyl alkenylene carbon atoms, and optionally any hydrogen atom in the group Q 1 is substituted with an aliphatic. X 1 to be a single bond or a carbon atom Lt; 3 &gt;
제 1항에 있어서,
(C)성분이 하기 식(1-a)로 나타나는 적어도 한 종의 다가 에스테르 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00073

(식 중, Pa는 산소 원자 또는 질소 원자로 중단되어 있어도 되는 지환식기 혹은 지방족 알킬기 또는 식(2-a)로 나타나는 구조를 나타내고, Qa는 지환식기를 나타내고, t는 1 내지 5의 정수를 나타낸다. 식(2-a) 중 Ra는 알킬렌기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
And the component (C) contains at least one polyvalent ester compound represented by the following formula (1-a).

Figure 112016063013183-pct00073

(Wherein Pa represents an alicyclic group or an aliphatic alkyl group which may be interrupted by an oxygen atom or a nitrogen atom or a structure represented by the formula (2-a), Qa represents an alicyclic group, and t represents an integer of 1 to 5. Ra in the formula (2-a) represents an alkylene group.
제 1항에 있어서,
(A)성분이 하기 식(3)으로 나타나는 구조단위를 포함하는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00074

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the component (A) is a polyester comprising a structural unit represented by the following formula (3).

Figure 112016063013183-pct00074

(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group)
제 1항에 있어서,
(A)성분이 하기 식(i)로 나타나는 테트라카르본산 이무수물과 식(ii)로 나타나는 디올 화합물을 반응시켜서 얻는 폴리에스테르인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00075

(식 중, A는 지환식기 또는 지방족기에 4개의 결합수가 결합한 4가의 유기기를 나타내고, B는 지환식기 또는 지방족기에 2개의 결합수가 결합한 2가의 유기기를 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the component (A) is a polyester obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (i) with a diol compound represented by the formula (ii).

Figure 112016063013183-pct00075

(Wherein A represents a tetravalent organic group having four aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group and B represents a divalent organic group having two aliphatic groups bonded to an alicyclic group or aliphatic group)
제 6항에 있어서,
상기 식(3) 중 A는 하기 식(A-1) 내지 식(A-8)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내고, B가 하기 식(B-1) 내지 식(B-5)로 나타나는 기에서 선택되는 적어도 한 종의 기를 나타내는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.

Figure 112016063013183-pct00076


Figure 112016063013183-pct00077

The method according to claim 6,
(3), A represents at least one kind of group selected from the groups represented by the following formulas (A-1) to (A-8) and B represents at least one group selected from the following formulas (B- ). &Lt; / RTI &gt; wherein R &lt; 1 &gt; and R &lt; 2 &gt;

Figure 112016063013183-pct00076


Figure 112016063013183-pct00077

제 1항에 있어서,
(A)성분인 폴리에스테르의 중량 평균 분자량이 폴리스틸렌 환산으로 1,000 내지 30,000인 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polyester (A) has a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 in terms of polystyrene.
제 1항에 있어서,
추가로 (D)성분으로 산화 방지제인 페놀 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
The polyester composition for forming a thermosetting film further contains a phenol compound as an antioxidant as the component (D).
제 1항에 있어서,
추가로 (E)성분으로 실란 커플링제를 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
A polyester composition for forming a thermosetting film further comprising a silane coupling agent as the component (E).
제 1항에 있어서,
추가로 (F)성분으로 비스말레이미드 화합물을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
A polyester composition for forming a thermosetting film further comprising a bismaleimide compound as the component (F).
제 1항에 있어서,
(A)성분의 100 질량부에 기초하여 3 내지 50질량부의 (B)성분, 1 내지 100질량부의 (C)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
The method according to claim 1,
3 to 50 parts by mass of the component (B) and 1 to 100 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A).
제 10항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여 0.01 내지 5질량부의 (D)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
11. The method of claim 10,
(D) in an amount of 0.01 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
제 11항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 30질량부의 (E)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
12. The method of claim 11,
And 0.5 to 30 parts by mass of component (E) based on 100 parts by mass of the component (A).
제 12항에 있어서,
(A)성분의 100질량부에 기초하여 0.5 내지 50질량부의 (F)성분을 함유하는 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물.
13. The method of claim 12,
(F) in an amount of 0.5 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).
청구항 1 내지 청구항 16 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 경화막.
A cured film obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of claims 1 to 16.
청구항 1 내지 청구항 16 중 어느 한 항에 기재된 열경화막 형성용 폴리에스테르 조성물을 사용하여 얻어진 액정 배향층.A liquid crystal alignment layer obtained by using the polyester composition for forming a thermosetting film according to any one of claims 1 to 16.
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