JP5853728B2 - Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element Download PDF

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Description

本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子に関する。   The present invention relates to a liquid crystal aligning agent, a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal display element.

現在、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、IPS(In−Plane Switching)型、OCB(Optical Compensated Bend)型等の表示モードを有する液晶表示素子が知られている。これらのいずれの表示モードにおいても、液晶分子の配向状態が液晶配向膜で制御されていることから、液晶配向膜及びこの液晶配向膜の材料となる液晶配向剤の有する特性が液晶表示素子の特性の発現に影響する。   Currently, TN (Twisted Nematic) type, STN (Super Twisted Nematic) type, VA (Vertical Alignment) type, IPS (In-Plane Switching) type, OCB (Optical Compensated Bend) type liquid crystal display type. Are known. In any of these display modes, since the alignment state of the liquid crystal molecules is controlled by the liquid crystal alignment film, the characteristics of the liquid crystal alignment film and the liquid crystal alignment agent used as the material of the liquid crystal alignment film are the characteristics of the liquid crystal display element. Affects the expression of.

かかる液晶配向剤の材料としては、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル等の樹脂材料が知られており、特にポリアミック酸又はポリイミドを含有する液晶配向剤から形成される液晶配向膜は耐熱性、機械的強度、液晶との親和性等に優れ、多くの液晶表示素子に使用されている(特許文献1〜6参照)。   As a material for such a liquid crystal aligning agent, resin materials such as polyamic acid, polyimide, polyamide, and polyester are known. In particular, a liquid crystal aligning film formed from a liquid crystal aligning agent containing polyamic acid or polyimide is heat resistant, mechanical Excellent in mechanical strength, affinity with liquid crystal, etc., and used in many liquid crystal display elements (see Patent Documents 1 to 6).

近年、液晶表示素子の高精細化を始めとする表示品位向上、低消費電力化等の検討が進み、液晶表示素子の利用範囲が拡大している。特に、従来の液晶表示素子に比べて輝度、駆動時間等の使用環境がより苛酷な条件下の使用を想定する液晶テレビ用途は、従来のブラウン管テレビを駆逐する勢いで拡大しつつある。   In recent years, studies on improving display quality such as higher definition of liquid crystal display elements and lowering power consumption have been advanced, and the range of use of liquid crystal display elements has been expanded. In particular, liquid crystal television applications that are assumed to be used under conditions in which the usage environment such as luminance and driving time is more severe than conventional liquid crystal display elements are expanding with the momentum to expel conventional CRT televisions.

しかしながら、従来のポリアミック酸又はポリイミドを含有する液晶配向剤から形成される液晶配向膜を備える液晶表示素子は、光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行うと、液晶配向膜が劣化し、液晶セルの電気的特性の悪化等により表示品位が著しく低下するおそれがある。   However, a liquid crystal display element including a liquid crystal alignment film formed from a liquid crystal aligning agent containing a conventional polyamic acid or polyimide, when continuously driven for a long time in a harsh environment such as light stress, heat, moisture, The liquid crystal alignment film is deteriorated, and the display quality may be remarkably lowered due to the deterioration of the electrical characteristics of the liquid crystal cell.

一方、液晶配向膜の製造工程において発生する塗膜のピンホール、塗布ムラ等の欠陥が生じた基板は、塗膜を剥離すること(リワーク)で再利用されることがある。しかしながら、従来のエポキシ基を有するような液晶配向剤を用いると、ベーク時におけるエポキシ基の架橋反応によって、液晶配向膜のリワーク性(剥離性)が低下するおそれがある。   On the other hand, a substrate on which defects such as pinholes and uneven coating are generated in the manufacturing process of the liquid crystal alignment film may be reused by peeling the coating film (rework). However, when a liquid crystal aligning agent having a conventional epoxy group is used, the reworkability (peelability) of the liquid crystal alignment film may be lowered due to the crosslinking reaction of the epoxy group during baking.

このような状況から、長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性が維持され、かつ欠陥が生じた場合のリワーク性に優れる液晶配向膜を形成可能な液晶配向剤の開発が望まれている。   Under these circumstances, development of a liquid crystal aligning agent that can form a liquid crystal alignment film that maintains good electrical characteristics even when continuous driving is performed for a long time and that has excellent reworkability when defects occur. Is desired.

特開平4−153622号公報JP-A-4-153622 特開昭60−107020号公報JP 60-107020 A 特開昭56−91277号公報JP 56-91277 A 米国特許第5928733号明細書U.S. Pat. No. 5,928,733 特開昭62−165628号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-165628 特開平11−258605号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-258605

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性が維持され、かつ欠陥が生じた場合のリワーク性に優れる液晶配向膜を形成可能な液晶配向剤を提供することである。   The present invention has been made on the basis of the above circumstances, and its purpose is good electrical performance even in the case of continuous driving for a long time under a harsh environment such as light stress, heat, and humidity. An object of the present invention is to provide a liquid crystal aligning agent capable of forming a liquid crystal aligning film that maintains its characteristics and has excellent reworkability when defects occur.

上記課題を解決するためになされた発明は、
[A]ポリアミック酸及びこのポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体(以下、「[A]重合体」とも称する)、
[B]酸化防止剤、並びに
[C]エポキシ基を有する化合物(以下、「[C]化合物」とも称する)
を含有する液晶配向剤である。
The invention made to solve the above problems is
[A] at least one polymer selected from the group consisting of a polyamic acid and a polyimide formed by dehydrating and ring-closing the polyamic acid (hereinafter also referred to as “[A] polymer”),
[B] Antioxidant and [C] Compound having epoxy group (hereinafter also referred to as “[C] compound”)
It is a liquid crystal aligning agent containing.

当該液晶配向剤が、[A]重合体、[B]酸化防止剤及び[C]化合物を含有することで、光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性を維持でき、かつ優れたリワーク性を発現することができる。   When the liquid crystal aligning agent contains [A] polymer, [B] antioxidant, and [C] compound, and is continuously driven for a long time in a harsh environment such as light stress, heat, and humidity. Even so, good electrical characteristics can be maintained and excellent reworkability can be expressed.

[B]酸化防止剤は下記式(1)又は式(2)で表される基を有することが好ましい。

Figure 0005853728
(式(1)中、
は、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜13のアラルキル基、1,3−ジオキソブチル基又は1,4−ジオキソブチル基である。また、式(1)で表される基は、Rで示されるアルキル基、アリール基、アラルキル基、1,3−ジオキソブチル基及び1,4−ジオキソブチル基から1個の水素原子が除かれ2価の基となって、分子鎖の一部を形成していてもよい。
〜Rは、それぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜13のアラルキル基である。
は、単結合、カルボニル基、*−(CH−O−、*−O−、又は*−CONH−である。但し、*で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。また、nは、1〜4の整数である。
〜Xは、それぞれ独立して単結合、カルボニル基、**−CH−CO−又は**−CH−CH(OH)−である。但し、**で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。)
Figure 0005853728
(式(2)中、Rは、炭素数4〜16の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は炭素骨格鎖中に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。aは、0〜3の整数である。Rは、水素原子又は炭素数1〜16の炭化水素基である。但し、Rが複数の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。) [B] The antioxidant preferably has a group represented by the following formula (1) or formula (2).
Figure 0005853728
(In the formula (1),
R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, a 1,3-dioxobutyl group, or a 1,4-dioxobutyl group. Further, the group represented by the formula (1) is an alkyl group represented by R 1, an aryl group, an aralkyl group, of one hydrogen atom from a 1,3-dioxobutyl group and 1,4-dioxobutyl group removed 2 A part of the molecular chain may be formed as a valent group.
R 2 to R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms.
X 1 is a single bond, a carbonyl group, * — (CH 2 ) n —O—, * —O—, or * —CONH—. However, the bond represented by * indicates a site that binds to the piperidine ring. Moreover, n is an integer of 1-4.
X 2 to X 5 are each independently a single bond, a carbonyl group, ** — CH 2 —CO— or ** — CH 2 —CH (OH) —. However, the bond represented by ** indicates a site that binds to the piperidine ring. )
Figure 0005853728
(In the formula (2), R 6 is a hydrocarbon group having 4 to 16 carbon atoms, provided that the hydrocarbon group may have an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon skeleton chain. , is .R 7 is an integer of 0 to 3, is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms. However, when R 7 is plural, a plurality of R 7 is optionally substituted by one or more identical May be good.)

[B]酸化防止剤が上記特定構造の基を有することで、耐光性及び耐高温高湿性をより向上することができる。   [B] When the antioxidant has a group having the above specific structure, light resistance and high temperature and high humidity resistance can be further improved.

[C]化合物は、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン又は単官能エポキシ化合物であることが好ましい。   [C] The compound is preferably an epoxy group-containing polyorganosiloxane or a monofunctional epoxy compound.

[C]化合物を、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン又は単官能エポキシ化合物とすることでエポキシ基を有する組成物であってもよりリワーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる。   Even if it is a composition which has an epoxy group by making an epoxy group containing polyorganosiloxane or a monofunctional epoxy compound into a [C] compound, the liquid crystal aligning film which is more excellent in rework property can be formed.

[A]重合体は、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン及び2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物からなる群より選択される少なくとも1種を含むテトラカルボン酸二無水物と、ジアミンとを反応させて得られる重合体であることが好ましい。酸二無水物として上記特定化合物を使用することで、耐光性及び耐高温高湿性をより向上することができる。   [A] The polymer is 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo- 3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -Consisting of naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione and 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-dianhydride A polymer obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride containing at least one selected from the group and a diamine is preferred. By using the specific compound as the acid dianhydride, light resistance and high temperature and high humidity resistance can be further improved.

上記ジアミンは、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン及び1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミンからなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。ジアミンとして上記特定化合物を使用することで、耐光性及び耐高温高湿性をより向上することができる。   The diamines are 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine and 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro- It is preferable to include at least one selected from the group consisting of 1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine. By using the specific compound as a diamine, light resistance and high temperature and high humidity resistance can be further improved.

当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜及びこの液晶配向膜を備える液晶表示素子も本発明に好適に含まれる。当該液晶表示素子は、種々の装置に好適に適用でき、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビ等の表示装置に用いられる。   A liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal alignment agent and a liquid crystal display device including the liquid crystal alignment film are also suitably included in the present invention. The liquid crystal display element can be suitably applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, personal digital assistants, digital cameras, mobile phones, various monitors, liquid crystal televisions, etc. Used in display devices.

本発明の液晶配向剤によれば、光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性が維持され、かつ欠陥が生じた場合のリワーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる。従って、当該液晶配向膜を備える本発明の液晶表示素子は表示品位の低下が少なく、種々の装置に有効に適用でき、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビ等の表示装置に好適に適用される。   According to the liquid crystal aligning agent of the present invention, even when a long period of continuous driving is performed under a harsh environment such as light stress, heat, moisture, etc., good electrical characteristics are maintained and defects are generated. A liquid crystal alignment film having excellent reworkability can be formed. Therefore, the liquid crystal display element of the present invention having the liquid crystal alignment film has little deterioration in display quality and can be effectively applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, The present invention is suitably applied to display devices such as portable information terminals, digital cameras, mobile phones, various monitors, and liquid crystal televisions.

<液晶配向剤>
本発明の液晶配向剤は、[A]重合体、[B]酸化防止剤及び[C]化合物を含有する。当該液晶配向剤が、[A]重合体、[B]酸化防止剤及び[C]化合物を含有することで、光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性を維持でき、かつ優れたリワーク性を発現することができる。また、当該液晶配向剤は、本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分を含有してもよい。以下、各成分を詳述する。
<Liquid crystal aligning agent>
The liquid crystal aligning agent of this invention contains a [A] polymer, [B] antioxidant, and a [C] compound. When the liquid crystal aligning agent contains [A] polymer, [B] antioxidant, and [C] compound, and is continuously driven for a long time in a harsh environment such as light stress, heat, and humidity. Even so, good electrical characteristics can be maintained and excellent reworkability can be expressed. Moreover, the said liquid crystal aligning agent may contain another arbitrary component, unless the effect of this invention is impaired. Hereinafter, each component will be described in detail.

<[A]重合体>
[A]重合体は、ポリアミック酸及びこのポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体である。[A]重合体としてのポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得られる。以下、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンについて詳述する。
<[A] polymer>
[A] The polymer is at least one polymer selected from the group consisting of a polyamic acid and a polyimide obtained by dehydrating and ring-closing this polyamic acid. [A] The polyamic acid as a polymer is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride and a diamine. Hereinafter, tetracarboxylic dianhydride and diamine will be described in detail.

[テトラカルボン酸二無水物]
テトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらのテトラカルボン酸二無水物は単独又は2種以上を組合せて使用できる。
[Tetracarboxylic dianhydride]
Examples of tetracarboxylic dianhydrides include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and the like. These tetracarboxylic dianhydrides can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include butanetetracarboxylic dianhydride.

脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシメチルノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン等が挙げられる。 Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4. , 5,9b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b -Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2.1] Octane-2,4-dione-6-spiro-3 ′-(tetrahydrofuran-2 ′, 5′-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene -1,2-dicarboxylic acid Water, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane-2: 3,5: 6-dianhydride, 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane- 2,4,6,8-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone and the like.

芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物等が挙げられる。   Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride.

その他のテトラカルボン酸二無水物としては、特願2010−97188号に記載のテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。   Examples of other tetracarboxylic dianhydrides include tetracarboxylic dianhydrides described in Japanese Patent Application No. 2010-97188.

テトラカルボン酸二無水物としては、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むものが好ましい。また、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物を含むものがより好ましい。さらに、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物を含むものが特に好ましい。酸二無水物として上記特定化合物を使用することで、耐光性及び耐高温高湿性をより向上することができる。   As tetracarboxylic dianhydride, what contains an alicyclic tetracarboxylic dianhydride is preferable. 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl)- Naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1, More preferred are those containing 2-c] furan-1,3-dione, 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-dianhydride. Further, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1, 3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 2, Particularly preferred are those containing 4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-dianhydride. By using the specific compound as the acid dianhydride, light resistance and high temperature and high humidity resistance can be further improved.

上記特に好ましい1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物の使用割合としては、全テトラカルボン酸二無水物に対して、10モル%以上が好ましく、20モル%〜90モル%がより好ましい。   Particularly preferred 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, , 3,3a, 4,5,9b-Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 2, , 4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-dianhydride is used in an amount of 10 mol% based on the total tetracarboxylic dianhydride. The above is preferable, and 20 mol% to 90 mol% is more preferable.

[ジアミン]
ジアミンとしては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサン等が挙げられる。これらのジアミンは単独で又は2種以上組合せて使用できる。
[Diamine]
Examples of the diamine include aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine, and diaminoorganosiloxane. These diamines can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族ジアミンとしては、例えば1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic diamine include 1,1-metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, and the like.

脂環式ジアミンとしては、例えば1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン等が挙げられる。   Examples of the alicyclic diamine include 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, and the like.

芳香族ジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、3,6−ジアミノアクリジン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−エチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−フェニル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチルベンジジン、1,4−ビス−(4−アミノフェニル)−ピペラジン、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミン、3,5−ジアミノ安息香酸、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5−ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6−ビス(4−アミノフェノキシ)コレスタン、4−(4’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、4−(4’−トリフルオロメチルベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ブチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェノキシ)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキサン、2,4−ジアミノ−N,N−ジアリルアニリン、4−アミノベンジルアミン、3−アミノベンジルアミン及び下記式(3)で表される化合物等が挙げられる。   Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl. 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) Phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoro Propane, 4,4 ′-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4 ′-(m-pheny Diisopropylidene) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4 -Diaminopyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl-3,6-diaminocarbazole, N-phenyl-3,6-diaminocarbazole N, N′-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N′-bis (4-aminophenyl) -N, N′-dimethylbenzidine, 1,4-bis- (4-aminophenyl)- Piperazine, 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine, -(4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine, 3,5-diaminobenzoic acid, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, choleste Nyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestenyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, Lanostanyl 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestane, 3,6-bis (4-aminophenoxy) cholestane, 4- (4′-trifluoromethoxybenzoyloxy) cyclohexyl -3,5-diaminobenzoate, 4- (4'-trifluoromethylbenzoyloxy) cycl Rohexyl-3,5-diaminobenzoate, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-butylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl)- 4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenoxy) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4- (4 -Heptylcyclohexyl) cyclohexane, 2,4-diamino-N, N-diallylaniline, 4-aminobenzylamine, 3-aminobenzylamine and compounds represented by the following formula (3).

Figure 0005853728
Figure 0005853728

上記式(3)中、Rは、炭素数1〜3のアルキル基、*−O−、*−COO−又は*−OCO−である。但し、*はジアミノフェニル基と結合する部位である。bは、0又は1である。cは、0〜2の整数である。dは、1〜20の整数である。ジアミノフェニル基における2つのアミノ基は、2,4位又は3,5位に結合することが好ましい。また、a及びbがいずれも0でないことが好ましい。 In the formula (3), R 8 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, * - O -, * - COO- or * -OCO- is. However, * is a site | part couple | bonded with a diaminophenyl group. b is 0 or 1. c is an integer of 0-2. d is an integer of 1-20. The two amino groups in the diaminophenyl group are preferably bonded to the 2,4 position or the 3,5 position. Moreover, it is preferable that a and b are not 0.

上記式(3)で表される化合物としては、例えば下記式で表される化合物等が挙げられる。   Examples of the compound represented by the above formula (3) include compounds represented by the following formula.

Figure 0005853728
Figure 0005853728

ジアミノオルガノシロキサンとしては、例えば1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサン等が挙げられる。その他のジアミンとしては、特願2010−97188号に記載のジアミン等が挙げられる。   Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane. Examples of other diamines include diamines described in Japanese Patent Application No. 2010-97188.

ジアミンとしては、芳香族ジアミンを含むものが好ましく、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン及び1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミンからなる群より選択される少なくとも1種を含むものがより好ましい。ジアミンとして上記特定化合物を含むことで、耐光性及び耐高温高湿性をより向上することができる。上記特定化合物の市販品としては、例えばTMDA(日本純良薬品製)が挙げられる。TMDAは1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン及び1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミンの混合物である。   As the diamine, those containing aromatic diamines are preferable, and 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine and 1- (4-amino More preferred are those containing at least one selected from the group consisting of (phenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine. By including the specific compound as a diamine, light resistance and high temperature and high humidity resistance can be further improved. As a commercial item of the said specific compound, TMDA (made by Nippon Pure Chemicals) is mentioned, for example. TMDA is 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine and 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1, It is a mixture of 3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine.

上記好ましい芳香族ジアミンの使用割合としては、全ジアミンに対して、20モル%以上が好ましく、50モル%以上がより好ましく、80モル%以上が特に好ましい。一方、この芳香族ジアミンの使用割合の上限としては特に限定されないが、全ジアミンに対して90モル%が好ましい。   The use ratio of the preferable aromatic diamine is preferably 20 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and particularly preferably 80 mol% or more based on the total diamine. On the other hand, the upper limit of the use ratio of the aromatic diamine is not particularly limited, but 90 mol% is preferable with respect to the total diamine.

また、VA型配向膜におけるポリアミック酸を合成する際に使用するジアミンは、プレチルト成分として、ドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6−ビス(4−アミノフェノキシ)コレスタン、4−(4’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、4−(4’−トリフルオロメチルベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、1,1−ビス(4−(アミノフェニルメチル)フェニル)−4−ブチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−(アミノフェニルメチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−(アミノフェノキシメチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−(アミノフェニルメチル)フェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキサン、上記式(3)で表される化合物等を全ジアミンに対して5モル%以上含むことが好ましく、10モル%含むことがより好ましい。   In addition, the diamine used when synthesizing the polyamic acid in the VA-type alignment film includes dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, as a pretilt component, Hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,5-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,5 -Diaminobenzene, octadecanoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, Lestenyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, lanostannyl 3,5-diaminobenzoate, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestane, 3,6-bis (4 -Aminophenoxy) cholestane, 4- (4'-trifluoromethoxybenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 4- (4'-trifluoromethylbenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 1,1-bis (4- (aminophenylmethyl) phenyl) -4-butylcyclohexane, 1,1-bis (4- (aminophenylmethyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4- (Aminophenoxymethyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bi It is preferable that 5 mol% or more of (4- (aminophenylmethyl) phenyl) -4- (4-heptylcyclohexyl) cyclohexane, the compound represented by the above formula (3), etc. is contained in an amount of 5 mol% or more with respect to the total diamine. More preferably.

[ポリアミック酸の合成方法]
当該液晶配向剤におけるポリアミック酸は、上記テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させることにより得られる。ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物の使用割合としては、ジアミンに含まれるアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2当量〜2当量が好ましく、0.3当量〜1.2当量がより好ましい。
[Method of synthesizing polyamic acid]
The polyamic acid in the liquid crystal aligning agent can be obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride with a diamine. The proportion of tetracarboxylic dianhydride used in the polyamic acid synthesis reaction is 0.2 equivalent to the acid anhydride group of tetracarboxylic dianhydride with respect to 1 equivalent of amino group contained in the diamine. 2 equivalents are preferable, and 0.3 equivalents to 1.2 equivalents are more preferable.

ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において実施され、反応温度としては、−20℃〜150℃が好ましく、0℃〜100℃がより好ましい。反応時間としては、0.1時間〜24時間が好ましく、0.5時間〜12時間がより好ましい。有機溶媒としては、例えば非プロトン性極性溶媒、フェノール及びその誘導体、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素、炭化水素等が挙げられる。   The synthetic reaction of polyamic acid is preferably carried out in an organic solvent, and the reaction temperature is preferably −20 ° C. to 150 ° C., more preferably 0 ° C. to 100 ° C. The reaction time is preferably 0.1 hour to 24 hours, more preferably 0.5 hour to 12 hours. Examples of the organic solvent include aprotic polar solvents, phenol and derivatives thereof, alcohols, ketones, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, and the like.

上記非プロトン性極性溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等が挙げられる。   Examples of the aprotic polar solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide and the like. Can be mentioned.

上記フェノール誘導体としては、例えばm−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール等が挙げられる。   Examples of the phenol derivative include m-cresol, xylenol, halogenated phenol and the like.

上記アルコールとしては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the alcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, and the like.

上記ケトンとしては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。   Examples of the ketone include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

上記エステルとしては、例えば乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル等が挙げられる。   Examples of the ester include ethyl lactate, butyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, diethyl oxalate, and diethyl malonate.

上記エーテルとしては、例えばジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−i−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、テトラヒドロフラン等が挙げられる。   Examples of the ether include diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-i-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, Examples include ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and tetrahydrofuran.

上記ハロゲン化炭化水素としては、例えばジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、o−ジクロルベンゼン等が挙げられる。   Examples of the halogenated hydrocarbon include dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, chlorobenzene, o-dichlorobenzene, and the like.

上記炭化水素としては、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon include hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene, isoamylpropionate, isoamylisobutyrate, and diisopentyl ether.

これらの有機溶媒のうち、非プロトン性極性溶媒、フェノール及びその誘導体からなる群(第一群の有機溶媒)より選択される一種以上又は上記第一群の有機溶媒から選択される一種以上とアルコール、ケトン、エステル、エーテル、ハロゲン化炭化水素及び炭化水素からなる群(第二群の有機溶媒)より選択される一種以上との混合物を使用することが好ましい。第二群の有機溶媒の使用割合としては、第一群及び第二群の有機溶媒の合計に対して、50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が特に好ましい。   Among these organic solvents, one or more selected from the group consisting of an aprotic polar solvent, phenol and derivatives thereof (first group organic solvent) or one or more selected from the first group of organic solvents and alcohol It is preferable to use a mixture with one or more selected from the group consisting of benzene, ketone, ester, ether, halogenated hydrocarbon and hydrocarbon (second group organic solvent). The use ratio of the organic solvent of the second group is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less with respect to the total of the first group and the second group of organic solvents. .

有機溶媒の使用量としては、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量に対して0.1質量%〜50質量%が好ましい。   As the usage-amount of an organic solvent, 0.1 mass%-50 mass% are preferable with respect to the total amount of tetracarboxylic dianhydride and diamine.

以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリアミック酸を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、又は単離したポリアミック酸を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。ポリアミック酸の単離及び精製は、公知の方法に従って行うことができる。   As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained. This reaction solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal aligning agent, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution, or the isolated polyamic acid was purified. You may use for preparation of a liquid crystal aligning agent. When polyamic acid is dehydrated and cyclized into a polyimide, the above reaction solution may be directly subjected to dehydration and cyclization reaction, or may be subjected to dehydration and cyclization reaction after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution. Alternatively, the isolated polyamic acid may be purified and then subjected to a dehydration ring closure reaction. Isolation and purification of the polyamic acid can be performed according to a known method.

[ポリイミドの合成方法]
当該液晶配向剤に含有できるポリイミドは、上記ポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得られる。
[Polyimide synthesis method]
The polyimide that can be contained in the liquid crystal aligning agent can be obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid to imidize it.

ポリイミドの合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物及びジアミンとしては、ポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物及びジアミンと同様の化合物が挙げられる。好ましいテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの種類及び使用割合についてもポリアミック酸の合成の場合と同様である。   Examples of the tetracarboxylic dianhydride and diamine used for the synthesis of polyimide include the same compounds as the tetracarboxylic dianhydride and diamine used for the synthesis of polyamic acid. The types and usage ratios of preferred tetracarboxylic dianhydrides and diamines are also the same as in the case of polyamic acid synthesis.

上記ポリイミドは、原料であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造とが併存する部分イミド化物であってもよい。当該液晶配向剤におけるポリイミドのイミド化率としては、30%以上が好ましく、35%〜99%がより好ましく、40%〜99%が特に好ましい。上記イミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。このとき、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。イミド化率は、ポリイミドのH−NMRにより知ることができる。 The polyimide may be a completely imidized product obtained by dehydrating and ring-closing all of the amic acid structure that the polyamic acid as a raw material had, and only a part of the amic acid structure is dehydrated and ring-closed. It may be a partially imidized product having a structure. The imidation ratio of polyimide in the liquid crystal aligning agent is preferably 30% or more, more preferably 35% to 99%, and particularly preferably 40% to 99%. The said imidation rate represents the ratio which the number of the imide ring structure accounts with respect to the sum total of the number of the amic acid structures of polyimide, and the number of imide ring structures in percentage. At this time, a part of the imide ring may be an isoimide ring. The imidization rate can be known by 1 H-NMR of polyimide.

なお、本明細書におけるイミド化率は、ポリイミドを室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温で測定したH−NMRから、下記数式(3)により求めた。
イミド化率(%)={1−(A/A)×α}×100 (3)
The imidation rate in the present specification is calculated from the following formula based on 1 H-NMR measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance after polyimide was sufficiently dried at room temperature under reduced pressure and then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide. Obtained by (3).
Imidation ratio (%) = {1- (A 1 / A 2 ) × α} × 100 (3)

上記式(3)中、Aは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、Aはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αはポリイミドの前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。 In the above formula (3), A 1 is a peak area derived from protons of NH groups appearing in the vicinity of 10 ppm of chemical shift, A 2 is a peak area derived from other protons, and α is a polyimide precursor (polyamic acid). Is the number ratio of other protons to one proton in the NH group.

上記ポリイミドを合成するためのポリアミック酸の脱水閉環は、ポリアミック酸を加熱する方法により、又はポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。好ましくは後者の方法である。   Dehydration and ring closure of the polyamic acid for synthesizing the polyimide is performed by heating the polyamic acid or by dissolving the polyamic acid in an organic solvent and adding a dehydrating agent and a dehydration ring closure catalyst to the solution. It is done by the method to do. The latter method is preferred.

脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物等が挙げられる。脱水剤の使用量としては、ポリアミック酸の構造単位1モルに対して0.01モル〜20モルが好ましい。   Examples of the dehydrating agent include acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride. As a usage-amount of a dehydrating agent, 0.01-20 mol is preferable with respect to 1 mol of structural units of a polyamic acid.

脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン等の3級アミンが挙げられる。脱水閉環触媒の使用量としては、使用する脱水剤1モルに対して0.01モル〜10モルが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒が挙げられる。脱水閉環反応の反応温度としては、0℃〜180℃が好ましく、10℃〜150℃がより好ましい。反応時間としては、1.0時間〜120時間が好ましく、2.0時間〜30時間がより好ましい。   Examples of the dehydration ring closure catalyst include tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine, and triethylamine. The amount of the dehydration ring closure catalyst used is preferably 0.01 mol to 10 mol with respect to 1 mol of the dehydrating agent used. Examples of the organic solvent used for the dehydration ring closure reaction include the organic solvents exemplified as those used for the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature for the dehydration ring closure reaction is preferably 0 ° C to 180 ° C, more preferably 10 ° C to 150 ° C. The reaction time is preferably 1.0 hour to 120 hours, more preferably 2.0 hours to 30 hours.

反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミドを精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除くには、例えば溶媒置換等の方法を適用できる。ポリイミドの単離及び精製は、公知の方法に従って行うことができる。   The reaction solution may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after removing the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution, and the liquid crystal alignment after isolating the polyimide. You may use for preparation of an agent, or you may use for preparation of a liquid crystal aligning agent, after purifying the isolated polyimide. In order to remove the dehydrating agent and the dehydration ring closure catalyst from the reaction solution, for example, a method such as solvent substitution can be applied. Isolation and purification of the polyimide can be performed according to known methods.

当該液晶配向剤が含有できるポリアミック酸又はポリイミドは、分子量が調節された末端修飾型の重合体であってもよい。末端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が損なわれることなく液晶配向剤の塗布特性等をさらに改善できる。このような末端修飾型の重合体は、ポリアミック酸を合成する際に、分子量調節剤を重合反応系に添加することにより行われる。分子量調節剤としては、例えば酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物等が挙げられる。   The polyamic acid or polyimide that can be contained in the liquid crystal aligning agent may be a terminal-modified polymer having a controlled molecular weight. By using the terminal-modified polymer, the coating properties of the liquid crystal aligning agent can be further improved without impairing the effects of the present invention. Such a terminal-modified polymer is obtained by adding a molecular weight regulator to a polymerization reaction system when synthesizing a polyamic acid. Examples of molecular weight regulators include acid monoanhydrides, monoamine compounds, monoisocyanate compounds, and the like.

酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、n−デシルサクシニック酸無水物、n−ドデシルサクシニック酸無水物、n−テトラデシルサクシニック酸無水物、n−ヘキサデシルサクシニック酸無水物等が挙げられる。   Examples of the acid monoanhydride include maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decyl succinic anhydride, n-dodecyl succinic anhydride, n-tetradecyl succinic anhydride, n- Examples include hexadecyl succinic anhydride.

上記モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルアミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミン、n−ペンタデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、n−ヘプタデシルアミン、n−オクタデシルアミン、n−エイコシルアミン等が挙げられる。   Examples of the monoamine compound include aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, Examples include n-dodecylamine, n-tridecylamine, n-tetradecylamine, n-pentadecylamine, n-hexadecylamine, n-heptadecylamine, n-octadecylamine, and n-eicosylamine.

上記モノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the monoisocyanate compound include phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate.

分子量調節剤の使用割合としては、ポリアミック酸を合成する際に使用するテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計100質量部に対して20質量部以下が好ましく、10質量部以下がより好ましい。   The proportion of the molecular weight regulator used is preferably 20 parts by mass or less and more preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass in total of the tetracarboxylic dianhydride and diamine used when the polyamic acid is synthesized.

以上のようにして得られるポリアミック酸又はポリイミドは、濃度10質量%の溶液としたときに、20mPa・s〜800mPa・sの溶液粘度であることが好ましく、30mPa・s〜500mPa・sの溶液粘度であることがより好ましい。   The polyamic acid or polyimide obtained as described above preferably has a solution viscosity of 20 mPa · s to 800 mPa · s, and a solution viscosity of 30 mPa · s to 500 mPa · s, when a 10% by mass solution is obtained. It is more preferable that

なお、本明細書における重合体の溶液粘度(mPa・s)は、所定の溶媒を用いて調製した濃度10質量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。   In addition, the solution viscosity (mPa · s) of the polymer in this specification is a value measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer for a polymer solution having a concentration of 10% by mass prepared using a predetermined solvent. It is.

<[B]酸化防止剤>
[B]酸化防止剤とは、紫外線や熱等のエネルギーがきっかけで発生したペルオキシラジカル及びヒドロペルオキシドを補足、分解し、物質の酸化劣化を抑制することのできる化合物である。紫外線や熱等により[A]重合体中にラジカルが発生すると、このラジカルを基点に新たなラジカルや過酸化物が生じ(過酸化物はさらに新たなラジカルを生じる)、高分子素材の機能低下を引き起こす場合がある。[B]酸化防止剤は、このように発生するラジカルを無効化するラジカル補足剤として機能し、結果として高分子素材の酸化を防止し、その劣化を抑制できる。
<[B] Antioxidant>
[B] Antioxidants are compounds that can capture and decompose peroxy radicals and hydroperoxides generated by energy such as ultraviolet rays and heat to suppress oxidative degradation of substances. When radicals are generated in the [A] polymer by ultraviolet rays, heat, etc., new radicals and peroxides are generated based on these radicals (peroxides generate new radicals), and the function of the polymer material deteriorates. May cause. [B] The antioxidant functions as a radical scavenger that invalidates the radicals generated in this way, and as a result, it can prevent oxidation of the polymer material and suppress its deterioration.

[B]酸化防止剤としては、上記式(1)又は式(2)で表される基を有することが好ましい。[B]酸化防止剤が上記特定構造の基を有することで、耐光性及び耐高温高湿性をより向上することができる。   [B] The antioxidant preferably has a group represented by the above formula (1) or (2). [B] When the antioxidant has a group having the above specific structure, light resistance and high temperature and high humidity resistance can be further improved.

上記式(1)中、Rは、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜13のアラルキル基、1,3−ジオキソブチル基又は1,4−ジオキソブチル基である。また、式(1)で表される基は、Rで示されるアルキル基、アリール基、アラルキル基、1,3−ジオキソブチル基及び1,4−ジオキソブチル基から1個の水素原子が除かれ2価の基となって、分子鎖の一部を形成していてもよい。R〜Rは、それぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜13のアラルキル基である。Xは、単結合、カルボニル基、*−(CH−O−、*−O−、又は*−CONH−である。但し、*で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。また、nは、1〜4の整数である。X〜Xは、それぞれ独立して単結合、カルボニル基、**−CH−CO−又は**−CH−CH(OH)−である。但し、**で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。上記式(2)中、Rは、炭素数4〜16の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は炭素骨格鎖中に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。aは、0〜3の整数である。Rは、水素原子又は炭素数1〜16の炭化水素基である。但し、Rが複数の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。 In the above formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, a 1,3-dioxobutyl group, or 1, 4-dioxobutyl group. Further, the group represented by the formula (1) is an alkyl group represented by R 1, an aryl group, an aralkyl group, of one hydrogen atom from a 1,3-dioxobutyl group and 1,4-dioxobutyl group removed 2 A part of the molecular chain may be formed as a valent group. R 2 to R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms. X 1 is a single bond, a carbonyl group, * — (CH 2 ) n —O—, * —O—, or * —CONH—. However, the bond represented by * indicates a site that binds to the piperidine ring. Moreover, n is an integer of 1-4. X 2 to X 5 are each independently a single bond, a carbonyl group, ** — CH 2 —CO— or ** — CH 2 —CH (OH) —. However, the bond represented by ** indicates a site that binds to the piperidine ring. In the above formula (2), R 6 is a hydrocarbon group having 4 to 16 carbon atoms. However, the hydrocarbon group may have an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon skeleton chain. a is an integer of 0-3. R 7 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms. However, when R 7 is plural, a plurality of R 7 may be be the same or different.

上記Rが示す炭素数1〜20のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基等が挙げられる。上記Rが示す炭素数6〜20のアリール基としては、例えばフェニル基、3−フルオロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、4−i−プロピルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、3−クロロ−4−メチルフェニル基、4−ピリジニル基、2−フェニル−4−キノリニル基、2−(4’−t−ブチルフェニル)−4−キノリニル基、2−(2’−チオフェニル)−4−キノリニル基等が挙げられる。上記R〜Rが示す炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が上げられる。上記R〜Rが示す炭素数7〜13のアラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記R〜Rが示す炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基等が挙げられる。上記Rが示す炭素骨格鎖中に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい炭素数4〜16の炭化水素基としては、例えばtert−ブチル基、1−メチルペンタデシル基、オクチルチオメチル基、ドデシルチオメチル基等が挙げられる。Rが示す炭素数1〜16の炭化水素基としては、例えばメチル基、tert−ブチル基、1−メチルペンタデシル基、オクチルチオメチル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, Examples include dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, and nonadecyl group. Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 1 include a phenyl group, a 3-fluorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 4-i-propylphenyl group, and 4-n-butylphenyl. Group, 3-chloro-4-methylphenyl group, 4-pyridinyl group, 2-phenyl-4-quinolinyl group, 2- (4'-t-butylphenyl) -4-quinolinyl group, 2- (2'-thiophenyl) ) -4-quinolinyl group and the like. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 2 to R 5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms represented by R 1 to R 5 include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms represented by R 2 to R 5 include a phenyl group. Examples of the hydrocarbon group having 4 to 16 carbon atoms that may have an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon skeleton chain represented by R 6 include a tert-butyl group, a 1-methylpentadecyl group, and an octylthiomethyl group. Group, dodecylthiomethyl group and the like. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms represented by R 7 include a methyl group, a tert-butyl group, a 1-methylpentadecyl group, and an octylthiomethyl group.

上記式(1)で表される[B]酸化防止剤としては、例えばアミン系酸化防止剤等が挙げられ、上記式(2)で表される[B]酸化防止剤としては、例えばフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。これらの[B]酸化防止剤は単独又は2種以上を組合せて使用できる。   Examples of the [B] antioxidant represented by the above formula (1) include amine-based antioxidants. Examples of the [B] antioxidant represented by the above formula (2) include phenol-based antioxidants. An antioxidant etc. are mentioned. These [B] antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

アミン系酸化防止剤としては、例えばコハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6,−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、メチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル、炭酸=ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1−ウンデシルオキシピペリジン−4−イル)、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、テトラメチルピペリジルメタクリレート、N,N’,N’’,N’’’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミン1,3,5−トリアジンN,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート等が挙げられる。   Examples of the amine antioxidant include a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl). -4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6, -tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate, 1,2, 2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl, carbonic acid = bis (2,2,6,6-tetramethyl-1-undecyloxypiperidine-4 -Yl), pentamethylpiperidyl methacrylate, tetramethylpiperidyl methacrylate, N, N ′, N ″, N ′ ″-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N Methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazin-2-yl) -4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine 1,3,5-triazine N , N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine Condensate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl- 4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3 , 5-bis (1,1-dimethyl ether ) -4- hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate, and the like.

フェノール系酸化防止剤としては、例えばトリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)−ブタン、4,4’−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−m−クレゾール)、3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリル、ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、2,4,6−トリス(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)メシチレン、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド]、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート]、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,3,5−トリス[(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−キシリル)メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール等が挙げられる。   Examples of phenolic antioxidants include tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)- Butane, 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-m-cresol), stearyl 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, pentaerythritol tetrakis [3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4,6-tris ( 3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxybenzyl) mesitylene, thiodiethylenebis [3 (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N′-hexane-1,6-diylbis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropion) Amido], isooctyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis (octylthiomethyl) O-cresol, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl- 4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3,5-tris [(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-xylyl) Methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 2,6-di-tert-butyl-4- (4,6-bis (octylthio) -1, 3,5-triazin-2-ylamino) phenol and the like.

なお、これらの[B]酸化防止剤としては、市販品を使用することができる。   In addition, a commercial item can be used as these [B] antioxidant.

アミン系酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブLA−52、LA−57、LA−63、LA−68、LA−72、LA−77、LA−81、LA−82、LA−87、LA−402、LA−502(以上、ADEKA製)、CHIMASSORB119、CHIMASSORB2020、CHIMASSORB944、TINUVIN622、TINUVIN123、TINUVIN144、TINUVIN765、TINUVIN770、TINUVIN111、TINUVIN783、TINUVIN791(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。   Commercially available amine antioxidants include, for example, ADK STAB LA-52, LA-57, LA-63, LA-68, LA-72, LA-77, LA-81, LA-82, LA-87, LA -402, LA-502 (above, manufactured by ADEKA), CHIMASSORB119, CHIMASSORB2020, CHIMASSORB944, TINUVIN622, TINUVIN123, TINUVIN144, TINUVIN765, TINUVIN770, TINUVIN111, TINUVIN783, TINBASIN791, etc.

フェノール系酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブAO−20、同AO−30、同AO−40、同AO−50、同AO−60、同AO−80、同AO−330(以上、ADEKA製)、IRGANOX1010、IRGANOX1035、IRGAOX1076、IRGANOX1098、IRGANOX1135、IRGANOX1330、IRGANOX1726、IRGANOX1425、IRGANOX1520、IRGANOX245、IRGANOX259、IRGANOX3114、IRGANOX3790、IRGANOX5057、IRGANOX565、IRGAMOD295(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。   Examples of commercially available phenolic antioxidants include ADK STAB AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-60, AO-80, AO-330 (above, ADEKA). IRGANOX 1010, IRGANOX 1035, IRGANOX 1076, IRGANOX 1098, IRGANOX 1135, IRGANOX 1330, IRGANOX 1726, IRGANOX 1425, IRGANOX 1520, IRGANOX 245, IRGANOX 259, IRGANOX 3114, IRNOX 3570, IRGANOX 3590, IRGANOX 3570

イオウ系酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブAO−412、同AO−503(以上、ADEKA製)、IRGANOX PS 800、IRGANOX PS 802(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。   Examples of commercially available sulfur-based antioxidants include ADK STAB AO-412, AO-503 (manufactured by ADEKA), IRGANOX PS 800, IRGANOX PS 802 (manufactured by BASF Japan), and the like.

また、上記式(1)及び式(2)で表される[B]酸化防止剤以外のその他の[B]酸化防止剤としては、例えばリン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤及びこれらのブレンド系化合物等が挙げられる。   Moreover, as [B] antioxidant other than [B] antioxidant represented by the said Formula (1) and Formula (2), for example, phosphorus antioxidant, sulfur type antioxidant, and these A blend type compound etc. are mentioned.

リン系酸化防止剤としては、例えば3,9−ビス(4−ノニルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(オクタデシルオキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ[5.5]ウンデカン、2,4,8,10−テトラキス(1,1−ジメチルエチル)−6−[(2−エチルヘキシル)オキシ]−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジイルビスホスホナイト、トリス[2−[[2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェフィン−6−イル]オキシ]エチル]アミン、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス[2,4−ビス(1,1ジメチルエチル)−6−メチルフェニル]エチルエステル亜リン酸等が挙げられる。   Examples of phosphorus antioxidants include 3,9-bis (4-nonylphenoxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, 3,9-bis (octadecyl). Oxy) -2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, 3,9-bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenoxy) -2,4 , 8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro [5.5] undecane, 2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) -6-[(2-ethylhexyl) oxy] -12H- Dibenzo [d, g] [1,3,2] dioxaphosphocin, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methylphen L) [1,1-biphenyl] -4,4′-diylbisphosphonite, tris [2-[[2,4,8,10-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3, 2] Dioxaphosphine-6-yl] oxy] ethyl] amine, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis [2,4-bis (1,1 dimethylethyl) ) -6-methylphenyl] ethyl ester phosphorous acid and the like.

イオウ系酸化防止剤としては、例えばジドデシル3,3’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル3,3’−チオジプロピオネート等が挙げられる。   Examples of the sulfur-based antioxidant include didodecyl 3,3'-thiodipropionate, dioctadecyl 3,3'-thiodipropionate, and the like.

リン系酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブPEP−4C、同PEP−8、同PEP−36、HP−10、2112(以上、ADEKA製)、GSY−P101(以上、堺化学工業製)、IRGAFOS168、IRGAFOS12、IRGAFOS126、IRGAFOS38、IRGAFOS P−EPQ(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。   Examples of commercially available phosphorous antioxidants include ADK STAB PEP-4C, PEP-8, PEP-36, HP-10, 2112 (above, manufactured by ADEKA), GSY-P101 (above, manufactured by Sakai Chemical Industry). IRGAFOS168, IRGAFOS12, IRGAFOS126, IRGAFOS38, IRGAFOS P-EPQ (above, manufactured by BASF Japan) and the like.

イオウ系酸化防止剤の市販品としては、例えばIRGANOX PS 800FL、IRGANOX PS 802FL(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。   Examples of commercially available sulfur-based antioxidants include IRGANOX PS 800FL, IRGANOX PS 802FL (manufactured by BASF Japan).

ブレンド系酸化防止剤の市販品としては、例えばアデカスタブA−611、同A−612、同A−613、同AO−37、同AO−15、同AO−18、328(以上、ADEKA製)、TINUVIN111、TINUVIN783、TINUVIN791(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。   Examples of commercially available blended antioxidants include ADK STAB A-611, A-612, A-613, AO-37, AO-15, AO-18, 328 (above, manufactured by ADEKA), TINUVIN111, TINUVIN783, TINUVIN791 (above, BASF Japan make) etc. are mentioned.

これらの[B]酸化防止剤のうち、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤が好ましい。[B]酸化防止剤の含有割合としては、[A]重合体100質量部に対して、好ましくは10質量部以下、より好ましくは5質量部以下、特に好ましくは0.1質量部〜3質量部以下である。   Of these [B] antioxidants, phenol-based antioxidants and amine-based antioxidants are preferred. [B] The content ratio of the antioxidant is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or less, and particularly preferably 0.1 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (A). Or less.

<[C]化合物>
[C]化合物は、エポキシ基を有する化合物である。本明細書におけるエポキシ基とはオキシラニル基及びオキセタニル基を含む基をいう。[C]化合物としては、分子内に一つ以上のエポキシ基を有していれば特に限定されず、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリメトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、1,2−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、ジ[2−(3−オキセタニル)ブチル]エーテル、1,4−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕ベンゼン、1,3−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕ベンゼン、1,2−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕ベンゼン、4,4’−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕ビフェニル、2,2’−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕ビフェニル、3,3’,5,5’−テトラメチル〔4,4’−ビス(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕ビフェニル、2,7−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕ナフタレン、1,6−ビス〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕−2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロヘキサン、3(4),8(9)−ビス[(1−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル〕−トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン、4,4’−ビス[(1−エチル−3−オキセタニル)メチル]チオジベンゼンチオエーテル、2,3−ビス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシメチル]ノルボルナン、2−エチル−2−[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシメチル]−1,3−O−ビス[(1−エチル−3−オキセタニル)メチル]−プロパン−1,3−ジオール、2,2−ジメチル−1,3−O−ビス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル]−プロパン−1,3−ジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−O−ビス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル]−プロパン−1,3−ジオール、1,4−O−ビス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル]−ブタン−1,4−ジオール、2,4,6−O−トリス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル]シアヌル酸、ビスフェノールAと3−エチル−3−クロロメチルオキセタンとのエーテル化物、ビスフェノールFと3−エチル−3−クロロメチルオキセタンとのエーテル化物、フェノールノボラックと3−エチル−3−クロロメチルオキセタンとのエーテル化物、クレゾールノボラックと3−エチル−3−クロロメチルオキセタンとのエーテル化物、オキセタニルシルセスキオキサン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンのシリコンアルコキサイド等が挙げられる。
<[C] Compound>
[C] A compound is a compound which has an epoxy group. In the present specification, an epoxy group refers to a group containing an oxiranyl group and an oxetanyl group. [C] The compound is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups in the molecule. For example, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol di- Glycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, '-Tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane, N, N-diglycidyl-cyclohexylamine, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycine Sidoxymethyltriethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3,3 '-(1,3- (2-methylenyl) propanediylbis (oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane), 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, , 3-Bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy Methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenylbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethyleneglycolbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether Tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropane tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipenta Erythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylol Propanetetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, di [2- (3-oxetanyl) butyl] ether, 1 , 4-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] benzene, 1,3-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] benzene, 1,2-bis [(3-ethyloxetane -3-yl) methoxy] benzene, 4,4′-bis [(3-ethyl Oxetane-3-yl) methoxy] biphenyl, 2,2′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] biphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl [4,4′-bis ( 3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] biphenyl, 2,7-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] naphthalene, 1,6-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy ] -2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane, 3 (4), 8 (9) -bis [(1-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] -tricyclo [5 .2.1.0 2,6 ] decane, 4,4′-bis [(1-ethyl-3-oxetanyl) methyl] thiodibenzene thioether, 2,3-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) ) Methoxymethyl] Lubornane, 2-ethyl-2-[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxymethyl] -1,3-O-bis [(1-ethyl-3-oxetanyl) methyl] -propane-1,3-diol 2,2-dimethyl-1,3-O-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methyl] -propane-1,3-diol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-O- Bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methyl] -propane-1,3-diol, 1,4-O-bis [(3-ethyloxetane-3-yl) methyl] -butane-1,4- Diol, 2,4,6-O-tris [(3-ethyloxetane-3-yl) methyl] cyanuric acid, etherified product of bisphenol A and 3-ethyl-3-chloromethyloxetane, bisphenol F and 3-ethyl -3- Etherified product of loromethyl oxetane, etherified product of phenol novolak and 3-ethyl-3-chloromethyl oxetane, etherified product of cresol novolak and 3-ethyl-3-chloromethyl oxetane, oxetanylsilsesquioxane, 3- Examples thereof include silicon alkoxide of ethyl-3-hydroxymethyl oxetane.

また、[C]化合物の市販品としては、例えばデナコールEX611、同EX612、同EX614、同EX622、同EX512、同EX621、同EX411、同EX421、同EX313、同EX321、同EX201、同EX211、同EX212、同EX252、同EX911、同EX941、同EX920、同EX931、同EX111、同EX121、同EX141、同EX142、同EX146、同EX192、同EX721、同EX203、同EX711、同EX147、同EX221、同EX150、デナレックスR45EPT、同EX810、同EX811、同EX850、同EX851、同EX821、同EX830、同EX832、同EX841、同EX861、同EX145、同EX147(以上、ナガセケムテックス製)、アロンオキセタンOXT−121(XDO)、同221(DOX)、HQOX、RSOX、CTOX、4,4’−BPOX、2,2’−BPOX、TM−BPOX、2,7−NpDOX、OFH−DOX、NDMOX、TMPTOX、NPGOX、BisAOX、BisFOX、PNOX、CNOX、OX−SQ、OX−SC(以上、東亞合成製)、ETARNACOLL OXBP(以上、宇部興産製)等が挙げられる。   Moreover, as a commercial item of [C] compound, for example, Denacol EX611, EX612, EX614, EX622, EX512, EX621, EX621, EX411, EX421, EX313, EX321, EX201, EX211, EX212, EX252, EX911, EX941, EX941, EX920, EX931, EX111, EX121, EX141, EX142, EX146, EX192, EX721, EX203, EX711, EX147, EX221, EX221 EX150, Denalex R45EPT, EX810, EX811, EX811, EX850, EX851, EX821, EX830, EX830, EX831, EX841, EX861, EX145, EX147 (and above, Nagase Chem) Manufactured by Ax), Aron Oxetane OXT-121 (XDO), 221 (DOX), HQOX, RSOX, CTOX, 4,4′-BPOX, 2,2′-BPOX, TM-BPOX, 2,7-NpDOX, OFH -DOX, NDMOX, TMPTOX, NPGOX, BisAOX, BisFOX, PNOX, CNOX, OX-SQ, OX-SC (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), ETARNACOLL OXBP (above, manufactured by Ube Industries), and the like.

その他の[C]化合物としては、WO2009/096598に記載のエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを用いることもできる。   As the other [C] compound, an epoxy group-containing polyorganosiloxane described in WO2009 / 096598 can also be used.

これらのうち[C]化合物は、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン又は単官能エポキシ化合物であることが好ましい。[C]化合物を、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン又は単官能エポキシ化合物とすることでエポキシ基を有する組成物であってもよりリワーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる。   Of these, the compound [C] is preferably an epoxy group-containing polyorganosiloxane or a monofunctional epoxy compound. Even if it is a composition which has an epoxy group by making an epoxy group containing polyorganosiloxane or a monofunctional epoxy compound into a [C] compound, the liquid crystal aligning film which is more excellent in rework property can be formed.

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンの合成方法としては、好ましくはエポキシ基を有するシラン化合物又はエポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物との混合物を使用して先ずエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成し、次いでこれとカルボン酸(例えば4−オクチルオキシ安息香酸、4’−ペンチル−1,1’−ビシクロヘキシル−4−カルボン酸等)とを、好ましくは適当な有機溶媒、水及び触媒の存在下において加水分解又は加水分解・縮合することにより合成できる。   As a method for synthesizing an epoxy group-containing polyorganosiloxane, a polyorganosiloxane having an epoxy group is first synthesized by using a silane compound having an epoxy group or a mixture of a silane compound having an epoxy group and another silane compound. And then this and a carboxylic acid (for example, 4-octyloxybenzoic acid, 4′-pentyl-1,1′-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, etc.), preferably in the presence of a suitable organic solvent, water and catalyst. Can be synthesized by hydrolysis or hydrolysis / condensation.

エポキシ基を有するシラン化合物としては、例えば3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上組合せて使用できる。   Examples of the silane compound having an epoxy group include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. 3-glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane Etc. These can be used alone or in combination of two or more.

他のシラン化合物としては、例えばテトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、トリクロロシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリ−i−プロポキシシラン、トリ−n−ブトキシシラン、トリ−sec−ブトキシシラン、フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ−n−プロポキシシラン、フルオロトリ−i−プロポキシシラン、フルオロトリ−n−ブトキシシラン、フルオロトリ−sec−ブトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリ−i−プロポキシシラン、メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ−sec−ブトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリクロロシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリメトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリエトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(トリフルオロメチル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリクロロシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリエトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−ヘキシル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリクロロシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリメトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリエトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−n−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−i−プロポキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−n−ブトキシシラン、2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチルトリ−sec−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−n−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−i−プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−n−ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−sec−ブトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−n−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−i−プロポキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−n−ブトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリ−sec−ブトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリクロロシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−n−プロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−i−プロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−n−ブトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリ−sec−ブトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−n−プロポキシシラン、ビニルトリ−i−プロポキシシラン、ビニルトリ−n−ブトキシシラン、ビニルトリ−sec−ブトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−n−プロポキシシラン、アリルトリ−i−プロポキシシラン、アリルトリ−n−ブトキシシラン、アリルトリ−sec−ブトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−n−プロポキシシラン、フェニルトリ−i−プロポキシシラン、フェニルトリ−n−ブトキシシラン、フェニルトリ−sec−ブトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ−n−プロポキシシラン、メチルジ−i−プロポキシシラン、メチルジ−n−ブトキシシラン、メチルジ−sec−ブトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−n−プロポキシシラン、ジメチルジ−i−プロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシシラン、ジメチルジ−sec−ブトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジクロロシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジメトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジエトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)〔2−(パーフルオロ−n−オクチル)エチル〕ジ−sec−ブトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジクロロシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジメトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジエトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(3−メルカプトプロピル)ジ−sec−ブトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジクロロシラン、(メチル)(ビニル)ジメトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジエトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−n−プロポキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−i−プロポキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−n−ブトキシシラン、(メチル)(ビニル)ジ−sec−ブトキシシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ−n−プロポキシシラン、ジビニルジ−i−プロポキシシラン、ジビニルジ−n−ブトキシシラン、ジビニルジ−sec−ブトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ−n−プロポキシシラン、ジフェニルジ−i−プロポキシシラン、ジフェニルジ−n−ブトキシシラン、ジフェニルジ−sec−ブトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、n−プロポキシトリメチルシラン、i−プロポキシトリメチルシラン、n−ブトキシトリメチルシラン、sec−ブトキシトリメチルシラン、t−ブトキシトリメチルシラン、(クロロ)(ビニル)ジメチルシラン、(メトキシ)(ビニル)ジメチルシラン、(エトキシ)(ビニル)ジメチルシラン、(クロロ)(メチル)ジフェニルシラン、(メトキシ)(メチル)ジフェニルシラン、(エトキシ)(メチル)ジフェニルシラン等のケイ素原子を1個有するシラン化合物等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上組合せて使用できる。   Examples of other silane compounds include tetrachlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, trichlorosilane, trichlorosilane, Methoxysilane, triethoxysilane, tri-n-propoxysilane, tri-i-propoxysilane, tri-n-butoxysilane, tri-sec-butoxysilane, fluorotrichlorosilane, fluorotrimethoxysilane, fluorotriethoxysilane, fluoro Tri-n-propoxysilane, fluorotri-i-propoxysilane, fluorotri-n-butoxysilane, fluorotri-sec-butoxysilane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyl Reethoxysilane, methyltri-n-propoxysilane, methyltri-i-propoxysilane, methyltri-n-butoxysilane, methyltri-sec-butoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltrichlorosisilane, 2- (trifluoromethyl ) Ethyltrimethoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltriethoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltri-i-propoxysilane, 2- (tri Fluoromethyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (trifluoromethyl) ethyltri-sec-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltrichlorosilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri Methoxysila 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltriethoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-i-propoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-hexyl) ethyltri-sec-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltrichlorosilane, 2- (Perfluoro-n-octyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltriethoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-n-propoxysilane, 2- (perfluoro -N-octyl) ethyltri-i-propoxysilane, 2- (perfluoro -N-octyl) ethyltri-n-butoxysilane, 2- (perfluoro-n-octyl) ethyltri-sec-butoxysilane, hydroxymethyltrichlorosilane, hydroxymethyltrimethoxysilane, hydroxyethyltrimethoxysilane, hydroxymethyltri- n-propoxysilane, hydroxymethyltri-i-propoxysilane, hydroxymethyltri-n-butoxysilane, hydroxymethyltri-sec-butoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrichlorosilane, 3- (meth) acryloxy Propyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-n-propoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-i-propoxy Lan, 3- (meth) acryloxypropyltri-n-butoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltri-sec-butoxysilane, 3-mercaptopropyltrichlorosilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercapto Propyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltri-n-propoxysilane, 3-mercaptopropyltri-i-propoxysilane, 3-mercaptopropyltri-n-butoxysilane, 3-mercaptopropyltri-sec-butoxysilane, mercapto Methyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltri-n-propoxysilane, vinyltri-i-propoxysilane Vinyltri-n-butoxysilane, vinyltri-sec-butoxysilane, allyltrichlorosilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltri-n-propoxysilane, allyltri-i-propoxysilane, allyltri-n-butoxysilane, allyltri -Sec-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltri-n-propoxysilane, phenyltri-i-propoxysilane, phenyltri-n-butoxysilane, phenyltri-sec-butoxy Silane, methyldichlorosilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, methyldi-n-propoxysilane, methyldi-i-propoxysilane, methyldi-n-butoxysila Methyldi-sec-butoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldi-n-propoxysilane, dimethyldi-i-propoxysilane, dimethyldi-n-butoxysilane, dimethyldi-sec-butoxysilane, (Methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] dichlorosilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] dimethoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n- Octyl) ethyl] diethoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] di-n-propoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] di-i -Propoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl ) Ethyl] di-n-butoxysilane, (methyl) [2- (perfluoro-n-octyl) ethyl] di-sec-butoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) dichlorosilane, (methyl) (3 -Mercaptopropyl) dimethoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) diethoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-n-propoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-i-propoxy Silane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-n-butoxysilane, (methyl) (3-mercaptopropyl) di-sec-butoxysilane, (methyl) (vinyl) dichlorosilane, (methyl) (vinyl) dimethoxy Silane, (methyl) (vinyl) diethoxysilane, (methyl) (vinyl) di-n- Roxy silane, (methyl) (vinyl) di-i-propoxy silane, (methyl) (vinyl) di-n-butoxy silane, (methyl) (vinyl) di-sec-butoxy silane, divinyl dichlorosilane, divinyl dimethoxy silane, divinyl Diethoxysilane, divinyldi-n-propoxysilane, divinyldi-i-propoxysilane, divinyldi-n-butoxysilane, divinyldi-sec-butoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, diphenyldi-n- Propoxysilane, diphenyldi-i-propoxysilane, diphenyldi-n-butoxysilane, diphenyldi-sec-butoxysilane, chlorodimethylsilane, methoxydimethylsilane, ethoxydimethylsilane, black Rotrimethylsilane, bromotrimethylsilane, iodotrimethylsilane, methoxytrimethylsilane, ethoxytrimethylsilane, n-propoxytrimethylsilane, i-propoxytrimethylsilane, n-butoxytrimethylsilane, sec-butoxytrimethylsilane, t-butoxytrimethylsilane, (Chloro) (vinyl) dimethylsilane, (methoxy) (vinyl) dimethylsilane, (ethoxy) (vinyl) dimethylsilane, (chloro) (methyl) diphenylsilane, (methoxy) (methyl) diphenylsilane, (ethoxy) (methyl ) Silane compounds having one silicon atom such as diphenylsilane. These can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのエポキシ当量としては、50g/モル〜10,000g/モルが好ましく、100g/モル〜10,000g/モルがより好ましく、100g/モル〜1,000g/モルが特に好ましい。従って、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成に際し、エポキシ基を有するシラン化合物と他のシラン化合物との使用割合としては、得られるポリオルガノシロキサンのエポキシ当量が上記範囲となるように設定することが好ましい。本明細書のエポキシ当量はJIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した値をいう。   The epoxy equivalent of the polyorganosiloxane having an epoxy group is preferably 50 g / mol to 10,000 g / mol, more preferably 100 g / mol to 10,000 g / mol, and particularly preferably 100 g / mol to 1,000 g / mol. . Therefore, when synthesizing a polyorganosiloxane having an epoxy group, the usage ratio of the silane compound having an epoxy group and another silane compound may be set so that the epoxy equivalent of the resulting polyorganosiloxane is within the above range. preferable. The epoxy equivalent in this specification refers to a value measured by the hydrochloric acid-methyl ethyl ketone method described in JIS C 2105.

エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの合成に際し、使用できる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、ケトン化合物、エステル化合物、エーテル化合物、アルコール化合物等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上組合せて使用できる。   Examples of the organic solvent that can be used in the synthesis of the polyorganosiloxane having an epoxy group include hydrocarbon compounds, ketone compounds, ester compounds, ether compounds, and alcohol compounds. These can be used alone or in combination of two or more.

炭化水素化合物としては、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。ケトン化合物としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。エステル化合物としては、例えば酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、乳酸エチル等が挙げられる。エーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。アルコール化合物としては、例えば1−ヘキサノール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル等が挙げられる。   Examples of the hydrocarbon compound include toluene and xylene. Examples of the ketone compound include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-amyl ketone, diethyl ketone, and cyclohexanone. Examples of the ester compound include ethyl acetate, n-butyl acetate, i-amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, and ethyl lactate. Examples of the ether compound include ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like. Examples of the alcohol compound include 1-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl. Examples include ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether and the like.

有機溶媒の使用量としては、全シラン化合物100質量部に対して、10質量部〜10,000質量部が好ましく、50質量部〜1,000質量部がより好ましい。   As the usage-amount of an organic solvent, 10 mass parts-10,000 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of all the silane compounds, and 50 mass parts-1,000 mass parts are more preferable.

エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の水の使用量としては、全シラン化合物に対して、0.5倍モル〜100倍モルが好ましく、1倍モル〜30倍モルがより好ましい。   As the usage-amount of water at the time of synthesize | combining the polyorganosiloxane which has an epoxy group, 0.5 times mole-100 times mole are preferable with respect to all the silane compounds, and 1 time mole-30 times mole are more preferable.

エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを合成する際の加水分解又は加水分解・縮合反応は、エポキシ基を有するシラン化合物と必要に応じて他のシラン化合物とを有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基及び水と混合して、例えば油浴等により加熱することにより実施することが好ましい。   When synthesizing a polyorganosiloxane having an epoxy group, the hydrolysis or hydrolysis / condensation reaction involves dissolving an epoxy group-containing silane compound and, if necessary, another silane compound in an organic solvent, and dissolving the solution in an organic base. And it is preferable to carry out by mixing with water and heating with, for example, an oil bath.

加水分解・縮合反応時における加熱温度としては、130℃以下が好ましく、40℃〜100℃がより好ましい。加熱時間としては、0.5時間〜12時間が好ましく、1時間〜8時間がより好ましい。加熱中は混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。   The heating temperature during the hydrolysis / condensation reaction is preferably 130 ° C. or lower, and more preferably 40 ° C. to 100 ° C. The heating time is preferably 0.5 hours to 12 hours, and more preferably 1 hour to 8 hours. During the heating, the mixed solution may be stirred or placed under reflux.

反応終了後、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。洗浄に際しては、少量の塩を含む水、例えば0.2質量%程度の硝酸アンモニウム水溶液等で洗浄することが、洗浄操作が容易となる点で好ましい。洗浄は洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブス等の乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンが得られる。   After completion of the reaction, the organic solvent layer separated from the reaction solution is preferably washed with water. In washing, it is preferable to wash with water containing a small amount of salt, for example, an aqueous ammonium nitrate solution of about 0.2% by mass because the washing operation is easy. Washing is performed until the aqueous layer after washing becomes neutral, and then the organic solvent layer is dried with a desiccant such as anhydrous calcium sulfate or molecular sieves as necessary, and then the target is removed by removing the solvent. A polyorganosiloxane having an epoxy group is obtained.

エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンは市販品を使用してもよい。このような市販品としては、例えばDMS−E01、DMS−E12、DMS−E21、EMS−32(以上、チッソ製)等が挙げられる。   A commercially available product may be used as the polyorganosiloxane having an epoxy group. Examples of such commercially available products include DMS-E01, DMS-E12, DMS-E21, EMS-32 (manufactured by Chisso).

エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンのゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)としては、500〜100,000が好ましく、1,000〜10,000がより好ましい。なお、本明細書においてMwは、下記仕様のゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー製、TSK−GEL
溶媒:テトラヒドロフラン
カラム温度:40℃
圧力:80kgf/cm
The polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography of the polyorganosiloxane having an epoxy group is preferably 500 to 100,000, and more preferably 1,000 to 10,000. In the present specification, Mw is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography having the following specifications.
Column: Tosoh, TSK-GEL
Solvent: Tetrahydrofuran Column temperature: 40 ° C
Pressure: 80 kgf / cm 2

[C]化合物の含有割合としては、[A]重合体100質量部に対して、好ましくは40質量部以下、より好ましくは1質量部〜30質量部以下である。   [C] The content ratio of the compound is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass to 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the [A] polymer.

<任意成分>
当該液晶配向剤は、[A]重合体、[B]酸化防止剤及び[C]化合物以外に、本発明の効果を損なわない範囲において、[A]重合体以外の他の重合体、官能性シラン化合物等の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。以下、各成分を詳述する。
<Optional component>
The liquid crystal aligning agent includes, in addition to the [A] polymer, [B] antioxidant and [C] compound, other polymers and functionalities other than the [A] polymer as long as the effects of the present invention are not impaired. Arbitrary components, such as a silane compound, can be contained. Each of these optional components may be used alone or in combination of two or more. Hereinafter, each component will be described in detail.

[他の重合体]
他の重合体は、溶液特性及び電気特性の改善のために使用できる。他の重合体としては、例えばポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、他の重合体の含有量は、その目的に応じて適宜決定することができる。
[Other polymers]
Other polymers can be used to improve solution and electrical properties. Examples of other polymers include polyamic acid esters, polyesters, polyamides, polysiloxanes, cellulose derivatives, polyacetals, polystyrene derivatives, poly (styrene-phenylmaleimide) derivatives, poly (meth) acrylates, and the like. Further, the content of the other polymer can be appropriately determined according to the purpose.

[官能性シラン化合物]
官能性シラン化合物は、当該液晶配向剤の印刷性をより向上する観点から含有できる。官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ビス(オキシエチレン)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。官能性シラン化合物の使用割合としては、[A]重合体100質量部に対して、2質量部以下が好ましく、0.1質量部〜1質量部がより好ましい。
[Functional silane compounds]
The functional silane compound can be contained from the viewpoint of further improving the printability of the liquid crystal aligning agent. Examples of the functional silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3. -Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltri Methoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7 Triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, N-benzyl- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-bis (oxyethylene ) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-bis (oxyethylene) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like. As a usage-amount of a functional silane compound, 2 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of [A] polymers, and 0.1 mass part-1 mass part are more preferable.

<液晶配向剤の調製方法>
当該液晶配向剤は、上記[A]重合体、[B]酸化防止剤及び[C]化合物、並びに必要に応じて任意成分を、好ましくは有機溶媒に溶解された溶液状の組成物として調製される。
<Method for preparing liquid crystal aligning agent>
The liquid crystal aligning agent is prepared as a solution-like composition in which the above [A] polymer, [B] antioxidant and [C] compound, and optional components as necessary, are preferably dissolved in an organic solvent. The

有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−i−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて使用できる。   Examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, butyl lactate Butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-i-propyl ether, ethylene glycol mono -N-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, Examples include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, diisopentyl ether, ethylene carbonate, and propylene carbonate. These can be used alone or in combination of two or more.

当該液晶配向剤の固形分濃度(液晶配向剤のうち有機溶媒を除いた成分の合計質量が液晶配向剤の全質量に占める割合)は、粘性、揮発性等を考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1質量%〜10質量%である。当該液晶配向剤を基板表面に塗布し、有機溶媒を除去することにより液晶配向膜となる塗膜を形成する際に、固形分濃度が1質量%未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得難い場合があり、一方、固形分濃度が10質量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって同様に良好な液晶配向膜を得難くなる場合があり、また液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性に劣る場合がある。   The solid content concentration of the liquid crystal aligning agent (the ratio of the total mass of components excluding the organic solvent in the liquid crystal aligning agent to the total mass of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, and the like. However, it is preferably 1% by mass to 10% by mass. When the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate surface and a coating film to be a liquid crystal aligning film is formed by removing the organic solvent, if the solid content concentration is less than 1% by mass, the film of this coating film On the other hand, it may be difficult to obtain a good liquid crystal alignment film because the thickness is too small. On the other hand, if the solid content concentration exceeds 10% by mass, the film thickness of the coating film becomes excessive and a good liquid crystal alignment film can be obtained. It may be difficult to obtain, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent may increase, resulting in poor coating characteristics.

より好ましい固形分濃度範囲としては、基板に液晶配向剤を塗布する際に用いる方法によって異なる。例えば、スピンナー法による場合には1.5質量%〜4.5質量%の範囲が好ましい。印刷法による場合には、3質量%〜9質量%の範囲とし、溶液粘度としては12mPa・s〜50mPa・sの範囲とすることが好ましい。インクジェット法による場合には、1質量%〜5質量%の範囲とし、溶液粘度としては3mPa・s〜15mPa・sの範囲とすることが好ましい。   A more preferable solid content concentration range varies depending on a method used when a liquid crystal aligning agent is applied to the substrate. For example, when the spinner method is used, the range of 1.5% by mass to 4.5% by mass is preferable. In the case of using the printing method, the range is preferably 3% by mass to 9% by mass, and the solution viscosity is preferably in the range of 12 mPa · s to 50 mPa · s. In the case of the ink jet method, the range is preferably 1% by mass to 5% by mass, and the solution viscosity is preferably in the range of 3 mPa · s to 15 mPa · s.

当該液晶配向剤を調製する際の温度としては、10℃〜50℃が好ましく、20℃〜30℃がより好ましい。   As temperature at the time of preparing the said liquid crystal aligning agent, 10 to 50 degreeC is preferable and 20 to 30 degreeC is more preferable.

<液晶配向膜の形成方法及び液晶表示素子の製造方法>
当該液晶配向剤から形成される液晶配向膜及びこの液晶配向膜を備える液晶表示素子も本発明に好適に含まれる。当該液晶表示素子は、種々の装置に好適に適用でき、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビ等の表示装置に用いられる。
<Method for Forming Liquid Crystal Alignment Film and Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Element>
A liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal alignment agent and a liquid crystal display device including the liquid crystal alignment film are also suitably included in the present invention. The liquid crystal display element can be suitably applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, personal digital assistants, digital cameras, mobile phones, various monitors, liquid crystal televisions, etc. Used in display devices.

本発明の液晶配向膜は、基板上に当該液晶配向剤を塗布し、次いで塗布面を加熱することにより基板上に形成される。また、本発明の液晶表示素子は当該液晶配向膜を備える。以下、当該液晶配向膜の形成方法及び当該液晶表示素子の製造方法について詳述する。   The liquid crystal alignment film of this invention is formed on a board | substrate by apply | coating the said liquid crystal aligning agent on a board | substrate, and heating a coating surface then. The liquid crystal display element of the present invention includes the liquid crystal alignment film. Hereinafter, a method for forming the liquid crystal alignment film and a method for manufacturing the liquid crystal display element will be described in detail.

(1−1)
TN型、STN型又はVA型液晶表示素子を製造する場合、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、本発明の液晶配向剤を、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法又はインクジェット印刷法によりそれぞれ塗布し、次いで、各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、脂環式オレフィン等のプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ(SnO)からなるNESA膜(米国PPG製、登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In−SnO)からなるITO膜等を用いることができる。
(1-1)
When manufacturing a TN type, STN type, or VA type liquid crystal display element, a pair of two substrates provided with a patterned transparent conductive film is used as a pair, and the liquid crystal alignment of the present invention is formed on each transparent conductive film forming surface. The agent is preferably applied by an offset printing method, a spin coating method, or an ink jet printing method, respectively, and then each coated surface is heated to form a coating film. As the substrate, for example, glass such as float glass or soda glass; a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, alicyclic olefin, or the like can be used. As a transparent conductive film provided on one surface of the substrate, a NESA film (registered trademark, manufactured by PPG, USA) made of tin oxide (SnO 2 ), an ITO film made of indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 -SnO 2 ), etc. Can be used.

パターニングされた透明導電膜を得る方法としては、例えばパターンなしの透明導電膜を形成した後フォト・エッチングによりパターンを形成する方法、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法等が挙げられる。液晶配向剤の塗布に際し、基板表面及び透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板表面の塗膜を形成する面に、官能性シラン化合物、官能性チタン化合物等を予め塗布する前処理を施しておいてもよい。   As a method for obtaining a patterned transparent conductive film, for example, a method for forming a pattern by photo-etching after forming a transparent conductive film without a pattern, and a method for using a mask having a desired pattern when forming a transparent conductive film Etc. When applying the liquid crystal alignment agent, in order to further improve the adhesion between the substrate surface and the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound, a functional titanium compound, etc. A pretreatment for applying in advance may be performed.

当該液晶配向剤を塗布した後、液垂れ防止等の目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベークの温度としては、30℃〜200℃が好ましく、40℃〜150℃がより好ましく、40℃〜100℃が特に好ましい。プレベークの時間としては0.25分〜10分が好ましく、0.5分〜5分がより好ましい。   After applying the liquid crystal aligning agent, preheating (pre-baking) is preferably performed for the purpose of preventing dripping. As temperature of prebaking, 30 to 200 degreeC is preferable, 40 to 150 degreeC is more preferable, and 40 to 100 degreeC is especially preferable. The prebaking time is preferably 0.25 to 10 minutes, more preferably 0.5 to 5 minutes.

次に溶媒を完全に除去し、必要に応じてポリアミック酸を熱イミド化することを目的として焼成(ポストベーク)が実施される。ポストベークの温度としては、80℃〜300℃が好ましく、120℃〜250℃がより好ましい。ポストベークの時間としては、5分〜200分が好ましく、10分〜100分がより好ましい。形成される塗膜の膜厚としては、0.001μm〜1μmが好ましく、0.005μm〜0.5μmがより好ましい。   Next, baking (post-baking) is carried out for the purpose of completely removing the solvent and, if necessary, heat imidizing the polyamic acid. As temperature of post-baking, 80 to 300 degreeC is preferable and 120 to 250 degreeC is more preferable. The post-bake time is preferably 5 minutes to 200 minutes, more preferably 10 minutes to 100 minutes. As a film thickness of the coating film formed, 0.001 micrometer-1 micrometer are preferable, and 0.005 micrometer-0.5 micrometer are more preferable.

(1−2)
IPS型液晶表示素子を製造する場合、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜が設けられている基板の導電膜形成面と、導電膜が設けられていない対向基板の一面とに、本発明の液晶配向剤を好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法又はインクジェット印刷法によってそれぞれ塗布し、次いで各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。このとき使用される基板及び透明導電膜の材質、透明導電膜のパターニング方法、基板の前処理並びに液晶配向剤を塗布した後の加熱方法については上記(1−1)と同様である。形成される塗膜の好ましい膜厚は、上記(1−1)と同様である。
(1-2)
When manufacturing an IPS type liquid crystal display element, the conductive film formation surface of the substrate provided with the transparent conductive film patterned in a comb-tooth shape and the one surface of the counter substrate provided with no conductive film are provided on the surface of the present invention. The liquid crystal aligning agent is preferably applied by an offset printing method, a spin coating method, or an ink jet printing method, and then each coated surface is heated to form a coating film. The material used for the substrate and transparent conductive film, the patterning method for the transparent conductive film, the pretreatment of the substrate, and the heating method after applying the liquid crystal aligning agent are the same as in (1-1) above. The preferable film thickness of the coating film to be formed is the same as (1-1) above.

(2)本発明の方法により製造される液晶表示素子がVA型の液晶表示素子である場合には、上記のようにして形成された塗膜をそのまま液晶配向膜として使用することができるが、所望に応じて次に述べるラビング処理を行った後に使用に供してもよい。一方、VA型以外の液晶表示素子を製造する場合には、上記のようにして形成された塗膜にラビング処理を施すことにより液晶配向膜とする。 (2) When the liquid crystal display element manufactured by the method of the present invention is a VA liquid crystal display element, the coating film formed as described above can be used as a liquid crystal alignment film as it is. If desired, it may be used after the following rubbing treatment. On the other hand, when manufacturing a liquid crystal display element other than the VA type, a rubbing treatment is performed on the coating film formed as described above to obtain a liquid crystal alignment film.

ラビング処理は、上記のようにして形成された塗膜面に対し、例えばナイロン、レーヨン、コットン等の繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより行うことができる。これにより、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜となる。さらに、上記のようにして形成された液晶配向膜に対し、例えば特開平6−222366号公報や特開平6−281937号公報に示されているような液晶配向膜の一部に紫外線を照射することによって液晶配向膜の一部の領域のプレチルト角を変化させる処理や、特開平5−107544号公報に示されているような液晶配向膜表面の一部にレジスト膜を形成したうえで先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去する処理を行い、液晶配向膜が領域ごとに異なる液晶配向能を持つようにすることによって得られる液晶表示素子の視界特性を改善することが可能である。   The rubbing treatment can be performed by rubbing the coating film surface formed as described above with a roll around which a cloth made of fibers such as nylon, rayon, and cotton is wound in a certain direction. Thereby, the orientation ability of liquid crystal molecules is imparted to the coating film to form a liquid crystal orientation film. Further, the liquid crystal alignment film formed as described above is irradiated with ultraviolet rays on a part of the liquid crystal alignment film as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 6-222366 and 6-281937. By changing the pretilt angle of a partial region of the liquid crystal alignment film or by forming a resist film on a part of the surface of the liquid crystal alignment film as disclosed in JP-A-5-107544, The rubbing treatment is performed in a different direction from the rubbing treatment, and then the resist film is removed to improve the visual field characteristics of the liquid crystal display device obtained by having the liquid crystal alignment film have different liquid crystal alignment ability for each region. It is possible.

(3)当該液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、対向配置した2枚の基板間に液晶を配置することにより、液晶セルを製造する。ここで、塗膜に対してラビング処理を行った場合には、2枚の基板は、各塗膜におけるラビング方向が互いに所定の角度、例えば直交又は逆平行となるように対向配置される。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法が挙げられる。 (3) A liquid crystal cell is manufactured by preparing two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed and disposing liquid crystals between the two substrates disposed to face each other. Here, when the rubbing treatment is performed on the coating film, the two substrates are disposed to face each other so that the rubbing directions in the respective coating films are at a predetermined angle, for example, orthogonal or antiparallel. In order to manufacture a liquid crystal cell, the following two methods are mentioned, for example.

第一の方法としては、従来から知られている方法であって、まず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部についてシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造できる。   The first method is a conventionally known method. First, two substrates are arranged to face each other through a gap (cell gap) so that the liquid crystal alignment films face each other. A liquid crystal cell can be manufactured by pasting the periphery of the substrate using a sealing agent, injecting and filling the liquid crystal into the cell gap defined by the substrate surface and the sealing agent, and then sealing the injection hole.

第二の方法としては、ODF(One Drop Fill)方式と呼ばれる手法であって、液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数箇所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板の全面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。   The second method is a technique called an ODF (One Drop Fill) method in which, for example, an ultraviolet light curable material is placed at a predetermined location on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed. After applying the sealing material and dropping the liquid crystal at predetermined locations on the liquid crystal alignment film surface, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film faces and the liquid crystal is spread over the entire surface of the substrate. A liquid crystal cell can be manufactured by irradiating the entire surface of the substrate with ultraviolet light to cure the sealant.

いずれの方法による場合でも、上記のようにして製造した液晶セルにつき、さらに用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶注入時の流動配向を除去することが望ましい。そして、液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、当該液晶表示素子が得られる。   Regardless of which method is used, the liquid crystal cell manufactured as described above is further heated to a temperature at which the liquid crystal used takes an isotropic phase, and then slowly cooled to room temperature, thereby removing the flow alignment during liquid crystal injection. It is desirable to do. And the said liquid crystal display element is obtained by bonding a polarizing plate on the outer surface of a liquid crystal cell.

シール剤としては、例えば,スペーサーとしての酸化アルミニウム球及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂等が挙げられる。液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶等が挙げられる。これらのうちネマティック型液晶が好ましい。VA型液晶セルの場合、負の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましい。このような液晶としては、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶等が挙げられる。TN型液晶セル又はSTN型液晶セルの場合、正の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましい。このような液晶としては例えばビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶等が挙げられる。また上記液晶に、例えばコレステリルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネート等のコレステリック液晶(メルク製、C−15、CB−15)として市販されているようなカイラル剤;p−デシロキシベンジリデン−p−アミノ−2−メチルブチルシンナメート等の強誘電性液晶等をさらに添加して使用できる。   Examples of the sealing agent include an aluminum resin sphere as a spacer and an epoxy resin containing a curing agent. Examples of the liquid crystal include nematic liquid crystal and smectic liquid crystal. Of these, nematic liquid crystal is preferable. In the case of the VA liquid crystal cell, nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy is preferable. Examples of such liquid crystal include dicyanobenzene liquid crystal, pyridazine liquid crystal, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl liquid crystal, and phenylcyclohexane liquid crystal. In the case of a TN liquid crystal cell or STN liquid crystal cell, a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy is preferable. Examples of such liquid crystal include biphenyl liquid crystal, phenyl cyclohexane liquid crystal, ester liquid crystal, terphenyl liquid crystal, biphenyl cyclohexane liquid crystal, pyrimidine liquid crystal, dioxane liquid crystal, bicyclooctane liquid crystal, and cubane liquid crystal. . Further, chiral agents such as those commercially available as cholesteric liquid crystals (manufactured by Merck, C-15, CB-15) such as cholesteryl chloride, cholesteryl nonate, cholesteryl carbonate, etc .; p-decyloxybenzylidene-p-amino A ferroelectric liquid crystal such as -2-methylbutyl cinnamate can be further added and used.

液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板が挙げられる。   As a polarizing plate bonded to the outer surface of the liquid crystal cell, a polarizing film or an H film in which a polarizing film called an “H film” that absorbs iodine while stretching and aligning polyvinyl alcohol is sandwiched between cellulose acetate protective films The polarizing plate which consists of itself is mentioned.

以下、実施例に基づき本発明を詳述するが、この実施例の記載に基づいて本発明が限定的に解釈されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is explained in full detail based on an Example, this invention is not interpreted limitedly based on description of this Example.

<[A]重合体の合成>
[合成例1]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物(TCA)22.4g(0.1モル)、並びにジアミンとしてp−フェニレンジアミン(PDA)2.6g(0.02モル)、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル(HCDA)10.4g(0.02モル)及び3,5−ジアミノ安息香酸(DAB)9.1g(0.06モル)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)176gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は102mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP410gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換(脱水閉環反応に使用したピリジン及び無水酢酸を系外に除去)することにより、イミド化率約47%のポリイミド(A−1)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は56mPa・sであった。
<[A] Synthesis of polymer>
[Synthesis Example 1]
2,2.4 g (0.1 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride (TCA) as tetracarboxylic dianhydride and 2.6 g (0.02) of p-phenylenediamine (PDA) as diamine Mol), 10.4 g (0.02 mol) of cholestanyl 3,5-diaminobenzoate (HCDA) and 9.1 g (0.06 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid (DAB) were added to N-methyl-2- It melt | dissolved in 176 g of pyrrolidone (NMP), and it reacted at 60 degreeC for 6 hours, and obtained the solution containing 10 mass% of polyamic acids. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 102 mPa · s. Next, 410 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After dehydration ring closure reaction, the solvent in the system is replaced with new NMP (removing pyridine and acetic anhydride used in the dehydration ring closure reaction out of the system), so that a polyimide (A-1) having an imidation ratio of about 47% Was obtained. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 56 mPa · s.

[合成例2]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA22.3g(0.1モル)、並びにジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルメタン(DDM)3.9g(0.02モル)、HCDA5.2g(0.01モル)、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン(HCODA)4.9g(0.01モル)及びDAB9.1g(0.06モル)をNMP182gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は117mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP423gを追加しピリジン10.2g及び無水酢酸13.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約67%のポリイミド(A−2)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は70mPa・sであった。
[Synthesis Example 2]
22.3 g (0.1 mol) of TCA as tetracarboxylic dianhydride, and 3.9 g (0.02 mol) of 4,4′-diaminodiphenylmethane (DDM) as a diamine, 5.2 g (0.01 mol) of HCDA, Cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene (HCODA) (4.9 g, 0.01 mol) and DAB (9.1 g, 0.06 mol) were dissolved in NMP (182 g) and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain polyamic acid. A solution containing 10% by mass was obtained. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 117 mPa · s. Next, 423 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 10.2 g of pyridine and 13.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-2) having an imidization ratio of about 67%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 70 mPa · s.

[合成例3]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA17.9g(0.08モル)及び1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン(TDA)6.0g(0.02モル)、並びにジアミンとしてPDA2.2g(0.02モル)、HCDA10.4g(0.02モル)及びDAB9.1g(0.06モル)をNMP182gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は99mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP423gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約51%のポリイミド(A−3)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は55mPa・sであった。
[Synthesis Example 3]
TCA 17.9 g (0.08 mol) and 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1 as tetracarboxylic dianhydride , 2-c] furan-1,3-dione (TDA) 6.0 g (0.02 mol), and PDA 2.2 g (0.02 mol), HCDA 10.4 g (0.02 mol) and DAB 9. 1 g (0.06 mol) was dissolved in 182 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing 10% by mass of polyamic acid. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 99 mPa · s. Next, 423 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring closure reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-3) having an imidation ratio of about 51%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 55 mPa · s.

[合成例4]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA18.0g(0.08モル)及び1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン(MTDA)6.3g(0.02モル)、並びにジアミンとしてPDA2.2g(0.02モル)、HCDA10.5g(0.02モル)及びDAB9.2g(0.06モル)をNMP185gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は92mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP429gを追加し、ピリジン8.0g及び無水酢酸10.3gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約48%のポリイミド(A−4)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は50mPa・sであった。
[Synthesis Example 4]
TCA 18.0 g (0.08 mol) and 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) as tetracarboxylic dianhydride -Naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione (MTDA) 6.3 g (0.02 mol), and diamine PDA 2.2 g (0.02 mol), HCDA 10.5 g (0.02 mol) ) And 9.2 g (0.06 mol) of DAB were dissolved in 185 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing 10% by mass of polyamic acid. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 92 mPa · s. Next, 429 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 8.0 g of pyridine and 10.3 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration cyclization reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-4) having an imidization ratio of about 48%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 50 mPa · s.

[合成例5]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA18.0g(0.08モル)及び2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物(BODA)5.0g(0.02モル)、並びにジアミンとしてPDA2.2g(0.02モル)、HCDA10.5g(0.02モル)及びDAB9.2g(0.06モル)をNMP179gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は81mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP416gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約50%のポリイミド(A−5)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は42mPa・sであった。
[Synthesis Example 5]
TCA 18.0 g (0.08 mol) and 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-dianhydride (BODA) as tetracarboxylic dianhydride ) 5.0 g (0.02 mol), and PDA 2.2 g (0.02 mol), HCDA 10.5 g (0.02 mol) and DAB 9.2 g (0.06 mol) as diamines were dissolved in 179 g of NMP, Reaction was performed at 0 degreeC for 6 hours, and the solution containing 10 mass% of polyamic acids was obtained. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 81 mPa · s. Next, 416 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-5) having an imidization ratio of about 50%. A small amount of the obtained polyimide solution was taken, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 42 mPa · s.

[合成例6]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA22.5g(0.1モル)、並びにジアミンとして1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン及び1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミンの混合物(TMDA)10.7g(0.04モル)、HCDA10.5g(0.02モル)及びDAB6.1g(0.04モル)をNMP199gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は80mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP462gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約44%のポリイミド(A−6)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は66mPa・sであった。
[Synthesis Example 6]
22.5 g (0.1 mol) of TCA as tetracarboxylic dianhydride and 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine as diamine And 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine (TMDA) 10.7 g (0.04 mol), HCDA 10.5 g ( 0.02 mol) and 6.1 g (0.04 mol) DAB were dissolved in 199 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing 10% by mass of polyamic acid. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 80 mPa · s. Next, 462 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-6) having an imidization ratio of about 44%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 66 mPa · s.

[合成例7]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA18.0g(0.08モル)及びTDA6.0g(0.02モル)、並びにジアミンとしてTMDA5.3g(0.02モル)、HCDA10.5g(0.02モル)及びDAB9.2g(0.06モル)をNMP196gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は84mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP455gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約49%のポリイミド(A−7)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は52mPa・sであった。
[Synthesis Example 7]
TCA 18.0 g (0.08 mol) and TDA 6.0 g (0.02 mol) as tetracarboxylic dianhydrides, and TMDA 5.3 g (0.02 mol), HCDA 10.5 g (0.02 mol) and diamine 9.2 g (0.06 mol) of DAB was dissolved in 196 g of NMP and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing 10% by mass of polyamic acid. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 84 mPa · s. Next, 455 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-7) having an imidization ratio of about 49%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 52 mPa · s.

[合成例8]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA17.9g(0.08モル)及びMTDA6.3g(0.02モル)、並びにジアミンとしてTMDA5.3g(0.02モル)、HCDA10.4g(0.02モル)及びDAB9.1g(0.06モル)をNMP196gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は75mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP455gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約47%のポリイミド(A−8)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は49mPa・sであった。
[Synthesis Example 8]
TCA 17.9 g (0.08 mol) and MTDA 6.3 g (0.02 mol) as tetracarboxylic dianhydrides and TMDA 5.3 g (0.02 mol), HCDA 10.4 g (0.02 mol) and diamine as diamines DAB 9.1 g (0.06 mol) was dissolved in NMP 196 g and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing 10% by mass of polyamic acid. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 75 mPa · s. Next, 455 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-8) having an imidization ratio of about 47%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 49 mPa · s.

[合成例9]
テトラカルボン酸二無水物としてTCA17.8g(0.08モル)及びBODA5.0g(0.02モル)、並びにジアミンとしてTMDA5.3g(0.02モル)、HCDA10.4g(0.02モル)及びDAB9.1g(0.06モル)をNMP190gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を10質量%含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液の溶液粘度は85mPa・sであった。次いで、得られたポリアミック酸溶液に、NMP442gを追加し、ピリジン7.9g及び無水酢酸10.2gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶媒を新たなNMPで溶媒置換することにより、イミド化率約56%のポリイミド(A−9)を15質量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、NMPを加えてポリイミド濃度10質量%の溶液として測定した溶液粘度は50mPa・sであった。
[Synthesis Example 9]
TCA 17.8 g (0.08 mol) and BODA 5.0 g (0.02 mol) as tetracarboxylic dianhydride, and TMDA 5.3 g (0.02 mol), HCDA 10.4 g (0.02 mol) and diamine as diamine DAB 9.1g (0.06mol) was melt | dissolved in NMP190g, reaction was performed at 60 degreeC for 6 hours, and the solution containing 10 mass% of polyamic acids was obtained. The solution viscosity of the obtained polyamic acid solution was 85 mPa · s. Next, 442 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 7.9 g of pyridine and 10.2 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring-closing reaction, the solvent in the system was replaced with new NMP to obtain a solution containing 15% by mass of polyimide (A-9) having an imidization ratio of about 56%. A small amount of the obtained polyimide solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by mass was 50 mPa · s.

<[C]化合物の合成>
[合成例10]
攪拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン34.5g、メチルイソブチルケトン34.5g及びトリエチルアミン3.45gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水27.6gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で攪拌しつつ、80℃で6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2g質量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、粘調なオルガノポリシロキサン溶液を得た。このオルガノポリシロキサンについて、H−NMR分析を行ったところ、化学シフト(σ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このポリオルガノシロキサンのMwは3,000であり、エポキシ当量は185g/モルであった。
<Synthesis of [C] Compound>
[Synthesis Example 10]
A reactor equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser was charged with 34.5 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 34.5 g of methyl isobutyl ketone and 3.45 g of triethylamine, Mixed at room temperature. Next, 27.6 g of deionized water was dropped from the dropping funnel over 30 minutes, and then the reaction was performed at 80 ° C. for 6 hours while stirring under reflux. After completion of the reaction, the organic layer is taken out, washed with 0.2 g mass% ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent and water are distilled off under reduced pressure to give a viscous organopolysiloxane. A solution was obtained. As a result of 1 H-NMR analysis of this organopolysiloxane, a peak based on the epoxy group was obtained in the vicinity of chemical shift (σ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity, and side reaction of the epoxy group occurred during the reaction. Not confirmed. The Mw of this polyorganosiloxane was 3,000, and the epoxy equivalent was 185 g / mol.

200mLの三口フラスコに得られたポリオルガノシロキサン7.3g、4−オクチルオキシ安息香酸3.0g、溶媒としてメチルイソブチルケトン41.6g、及び触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド0.7gを仕込み、100℃で8時間攪拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た溶液を3回水洗し、有機層を、硫酸マグネシウムを用いて乾燥した後、溶媒を留去することにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンC−4を10.1g得た。C−4のMwは8,000であった。   In a 200 mL three-necked flask, 7.3 g of the polyorganosiloxane obtained, 3.0 g of 4-octyloxybenzoic acid, 41.6 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, and 0.7 g of tetrabutylammonium bromide as a catalyst were charged at 100 ° C. The reaction was carried out with stirring for 8 hours. After completion of the reaction, a solution obtained by adding ethyl acetate to the reaction mixture was washed with water three times, and the organic layer was dried using magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off, whereby an epoxy group-containing polyorganosiloxane C- 10.1 g of 4 was obtained. The Mw of C-4 was 8,000.

[合成例11]
合成例10において、上記ポリオルガノシロキサンを7.7g、4−オクチルオキシ安息香酸の代わりに4’−ペンチル−1,1’−ビシクロヘキシル−4−カルボン酸3.5g、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミドを0.8gとしたこと以外は合成例10と同様に操作してエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンC−7を10.9g得た。C−7のMwは8,500であった。
[Synthesis Example 11]
In Synthesis Example 10, 7.7 g of the above polyorganosiloxane, 3.5 g of 4′-pentyl-1,1′-bicyclohexyl-4-carboxylic acid instead of 4-octyloxybenzoic acid, and tetrabutylammonium bromide as a catalyst 10.9 g of an epoxy group-containing polyorganosiloxane C-7 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 10 except that the amount was 0.8 g. The Mw of C-7 was 8,500.

<液晶配向剤の調製>
各液晶配向剤の調製に用いた[B]酸化防止剤及び他の[C]化合物は以下のとおりである。
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
[B] Antioxidant and other [C] compounds used for the preparation of each liquid crystal aligning agent are as follows.

<[B]酸化防止剤>
B−1:IRGANOX1010FF(フェノール系酸化防止剤)
B−2:アデカスタブLA−72(アミン系酸化防止剤)
B−3:TINUVIN622LD(アミン系酸化防止剤)
B−4:IRGAFOS12(リン系酸化防止剤)
B−5:IRGANOX PS 800FL(イオウ系酸化防止剤)
B−6:アデカスタブAO−40(フェノール系酸化防止剤)
<[B] Antioxidant>
B-1: IRGANOX 1010FF (phenolic antioxidant)
B-2: ADK STAB LA-72 (amine-based antioxidant)
B-3: TINUVIN 622LD (amine antioxidant)
B-4: IRGAFOS12 (phosphorus antioxidant)
B-5: IRGANOX PS 800FL (sulfur antioxidant)
B-6: ADK STAB AO-40 (phenolic antioxidant)

<[C]化合物>
C−1:N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン
C−2:ナガセケムテックス製、EX−142
C−3:N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタンC−5:アロンオキセタンOXT−121
C−6:ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル
<[C] Compound>
C-1: N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine C-2: manufactured by Nagase ChemteX, EX-142
C-3: N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane C-5: Aron oxetane OXT-121
C-6: Dipentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether

[実施例1]
[A]重合体としてのポリイミド(A−1)100質量部を含有する溶液に、NMP及びエチレングリコール−モノ−n−ブチルエーテルを加え、[B]酸化防止剤としての上記(B−1)を3質量部及び[C]化合物として上記(C−1)2質量部を加えて十分に撹拌し、溶媒組成がNMP:エチレングリコール−モノ−n−ブチルエーテル=60:40(質量比)、固形分濃度3.0質量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過することにより、液晶配向剤を調製した。
[Example 1]
[A] NMP and ethylene glycol-mono-n-butyl ether are added to a solution containing 100 parts by mass of polyimide (A-1) as a polymer, and [B] (B-1) as an antioxidant is added. 3 parts by mass and 2 parts by mass of the above (C-1) as a [C] compound were added and stirred sufficiently. The solvent composition was NMP: ethylene glycol-mono-n-butyl ether = 60: 40 (mass ratio), solid content A solution having a concentration of 3.0% by mass was obtained. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore diameter of 1 μm.

[実施例2〜39及び比較例1〜12]
配合する成分の種類と含有量とを、それぞれ表1に記載の種類及び含有量とした以外は、実施例1と同様に操作して、各液晶配向剤を調製した。なお、表1中の「−」は、該当する成分を使用しなかったことを示す。
[Examples 2-39 and Comparative Examples 1-12]
Each liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and contents of the components to be blended were changed to the types and contents shown in Table 1, respectively. In Table 1, “-” indicates that the corresponding component was not used.

<液晶配向膜の形成>
厚さ1mmのITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に、各液晶配向剤をスピンナーにより塗布し、ホットプレートにて80℃で1分間プレベークを行い、次いで210℃にて30分間ポストベークすることにより、膜厚約80nmの液晶配向膜を形成した。
<Formation of liquid crystal alignment film>
Each liquid crystal aligning agent is applied to the transparent electrode surface of a glass substrate with a transparent electrode made of an ITO film having a thickness of 1 mm by a spinner, pre-baked at 80 ° C. for 1 minute on a hot plate, and then post-baked at 210 ° C. for 30 minutes. By baking, a liquid crystal alignment film having a film thickness of about 80 nm was formed.

<液晶表示素子の製造>
上記液晶配向膜の形成を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。次に、上記一対の基板の液晶配向膜を有するどちらか一枚の外縁に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマチック型液晶(メルク製、MLC−6608)を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。また、これを繰り替えしもう一対の液晶セルを製造した。
<Manufacture of liquid crystal display elements>
The formation of the liquid crystal alignment film was repeated to obtain a pair (two) of substrates having the liquid crystal alignment film. Next, an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied to either one of the outer edges of the pair of substrates having the liquid crystal alignment film, and then superposed so that the liquid crystal alignment film surfaces face each other. And then the adhesive was cured. Next, a nematic liquid crystal (MLC, MLC-6608) was filled between the pair of substrates from the liquid crystal injection port, and then the liquid crystal injection port was sealed with an acrylic photo-curing adhesive to produce a liquid crystal cell. . This was repeated to produce another pair of liquid crystal cells.

<評価>
上記形成した液晶配向膜及び製造した液晶表示素子について以下の評価をした。結果を表1に併せて示す。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the formed liquid crystal aligning film and the manufactured liquid crystal display element. The results are also shown in Table 1.

[耐光性]
上記製造した液晶セル一対について、70℃において5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を、東陽テクニカ製VHR−1により測定した。この値を初期電圧保持率(VH)(%)とした。次いで、初期電圧保持率測定後の液晶セルに対し、カーボンアークを光源とするウェザーメーターを用いて1,000時間の光照射を行った。光照射後の液晶セルにつき、上記と同様の方法により再度電圧保持率を測定した。この値を光照射後電圧保持率(VH(%)とした。電圧保持率の減少量ΔVHR(%)を下記式から求め、耐光性とした。
ΔVHR(%)=VH−VH
ΔVHRが2.5%未満であった場合は耐光性を優良、2.5%以上5.0%未満であった場合を良好、5.0%以上であった場合を不良と判断した。
[Light resistance]
For the manufactured liquid crystal cell pair, after applying a voltage of 5 V at 70 ° C. with an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, the voltage holding ratio after 167 milliseconds from the release of application was determined as VHR- manufactured by Toyo Technica. 1 was measured. This value was defined as the initial voltage holding ratio (VH 1 ) (%). Next, the liquid crystal cell after the initial voltage holding ratio measurement was irradiated with light for 1,000 hours using a weather meter using a carbon arc as a light source. With respect to the liquid crystal cell after light irradiation, the voltage holding ratio was measured again by the same method as described above. This value was defined as a voltage holding ratio (VH 2 (%) after light irradiation. A decrease amount ΔVHR (%) of the voltage holding ratio was obtained from the following formula and was regarded as light resistance.
ΔVHR (%) = VH 1 −VH 2
When ΔVHR was less than 2.5%, the light resistance was excellent, the case where it was 2.5% or more and less than 5.0% was judged good, and the case where it was 5.0% or more was judged as poor.

[耐高温高湿性]
上記製造したもう一対の液晶セルにつき、70℃において5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を、東陽テクニカ製VHR−1により測定した。この値を初期電圧保持率(VH)(%)とした。次いで、初期電圧保持率測定後の液晶セルを60℃、湿度90%に設定されたオーブンで500時間保管した後の液晶セルにつき、上記と同様の方法により再度電圧保持率を測定した。この値を高温高湿ストレス後電圧保持率(VH)(%)とした。電圧保持率の減少量ΔVHR’(%)を下記式から求め、耐高温高湿性とした。
ΔVHR’(%)=VH−VH
ΔVHRが3.0%未満であった場合は耐高温高湿性を優良、3.0%以上5.0%未満であった場合を良好、5.0%以上であった場合を不良と判断した。
[High temperature and high humidity resistance]
For the other pair of liquid crystal cells manufactured as described above, a voltage of 5 V was applied at 70 ° C. with an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, and then the voltage holding ratio after 167 milliseconds from release of application was manufactured by Toyo Technica. Measured with VHR-1. This value was defined as the initial voltage holding ratio (VH 3 ) (%). Next, the voltage holding ratio was measured again by the same method as described above for the liquid crystal cell after storing the liquid crystal cell after the initial voltage holding ratio measurement in an oven set at 60 ° C. and 90% humidity for 500 hours. This value was defined as the voltage holding ratio (VH 4 ) (%) after high temperature and high humidity stress. The decrease amount ΔVHR ′ (%) of the voltage holding ratio was obtained from the following formula and was regarded as high temperature and high humidity resistance.
ΔVHR ′ (%) = VH 3 −VH 4
When ΔVHR was less than 3.0%, the high temperature and humidity resistance was excellent, when it was 3.0% or more and less than 5.0%, it was judged good, and when it was 5.0% or more, it was judged as bad. .

[リワーク性]
厚さ1mmのガラス基板の一面に設けられたITOからなる透明導電膜上に、上記で調製した液晶配向剤をスピナーにより塗布し、ホットプレート上100℃にて90秒間のプレベークを行い、膜厚約80nmの塗膜を形成した。この操作を繰り返し、塗膜付きの基板を2枚作成した。次に、得られた2枚の基板を窒素雰囲気下25℃の暗室に保管した。保管開始から12時間後、72時間後にそれぞれ暗室から取り出し、40℃のNMPの入ったビーカーに2分間浸漬した。2分後、基板をビーカーから取り出し、超純水で数回洗浄した後、エアブローにて表面の水滴を取り去り、基板を観察し、塗膜が残っていないかを光学顕微鏡によって観察した。NMP浸漬後に塗膜の残滓が観察されなかった場合をリワーク性が優良と判断(A)、72時間後の基板には塗膜の残滓が観察されたが12時間後に暗室から取り出した基板であって、塗膜の残滓が観察されなかった場合を良好と判断(B)、12時間後に暗室から取り出した基板であって、塗膜の残滓が観察された場合を不良と判断した(C)。
[Reworkability]
On the transparent conductive film made of ITO provided on one surface of a glass substrate having a thickness of 1 mm, the liquid crystal aligning agent prepared above is applied by a spinner, and prebaked on a hot plate at 100 ° C. for 90 seconds. A coating film of about 80 nm was formed. This operation was repeated to prepare two substrates with a coating film. Next, the two obtained substrates were stored in a dark room at 25 ° C. under a nitrogen atmosphere. After 12 hours and 72 hours from the start of storage, they were removed from the dark room and immersed in a beaker containing NMP at 40 ° C. for 2 minutes. After 2 minutes, the substrate was taken out of the beaker and washed several times with ultrapure water, and then water droplets on the surface were removed by air blow, the substrate was observed, and whether a coating film remained was observed with an optical microscope. When the coating film residue was not observed after NMP immersion, the reworkability was judged to be excellent (A). The substrate after 72 hours was observed after 12 hours, but was removed from the dark room after 12 hours. When the coating film residue was not observed, it was judged as good (B). After 12 hours, the substrate was taken out of the dark room, and when the coating film residue was observed, it was judged as defective (C).

Figure 0005853728
Figure 0005853728

表1の結果から明らかなように、本発明の液晶配向剤は光ストレス、熱及び湿気の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性が維持され、かつ欠陥が生じた場合のリワーク性に優れる液晶配向膜を形成可能なことがわかった。   As is clear from the results in Table 1, the liquid crystal aligning agent of the present invention maintains good electrical characteristics even when it is continuously driven for a long time under a severe environment of light stress, heat and humidity. In addition, it was found that a liquid crystal alignment film having excellent reworkability when defects occur can be formed.

本発明の液晶配向剤によれば、光ストレス、熱、湿気等の過酷な環境下で長時間の連続駆動を行う場合であっても良好な電気的特性が維持され、かつ欠陥が生じた場合のリワーク性に優れる液晶配向膜を形成することができる。従って、当該液晶配向膜を備える本発明の液晶表示素子は表示品位の低下が少なく、種々の装置に有効に適用でき、例えば時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、携帯情報端末、デジタルカメラ、携帯電話、各種モニター、液晶テレビ等の表示装置に好適に適用される。   According to the liquid crystal aligning agent of the present invention, even when a long period of continuous driving is performed under a harsh environment such as light stress, heat, moisture, etc., good electrical characteristics are maintained and defects are generated. A liquid crystal alignment film having excellent reworkability can be formed. Therefore, the liquid crystal display element of the present invention having the liquid crystal alignment film has little deterioration in display quality and can be effectively applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, The present invention is suitably applied to display devices such as portable information terminals, digital cameras, mobile phones, various monitors, and liquid crystal televisions.

Claims (6)

[A]ポリアミック酸及びこのポリアミック酸を脱水閉環してなるポリイミドからなる群より選択される少なくとも1種の重合体、
[B]酸化防止剤、並びに
[C]エポキシ基を有する化合物
を含有し、
[A]重合体が、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン及び2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4,6,8−二無水物からなる群より選択される少なくとも1種を含むテトラカルボン酸二無水物と、ジアミンとを反応させて得られる重合体である液晶配向剤。
[A] at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide formed by dehydrating and ring-closing this polyamic acid,
[B] an antioxidant, and [C] a compound having an epoxy group,
[A] The polymer is 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo- 3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -Consisting of naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione and 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-dianhydride A liquid crystal aligning agent which is a polymer obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride containing at least one selected from the group and a diamine .
上記ジアミンが、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン及び1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミンからなる群より選択される少なくとも1種を含む請求項1に記載の液晶配向剤。The diamine is 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine and 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro- The liquid crystal aligning agent of Claim 1 containing at least 1 sort (s) selected from the group which consists of 1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine. [B]酸化防止剤が、下記式(1)又は式(2)で表される基を有する請求項1又は請求項2に記載の液晶配向剤。
Figure 0005853728
(式(1)中、Rは、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜13のアラルキル基、1,3−ジオキソブチル基又は1,4−ジオキソブチル基である。また、式(1)で表される基は、Rで示されるアルキル基、アリール基、アラルキル基、1,3−ジオキソブチル基及び1,4−ジオキソブチル基から1個の水素原子が除かれ2価の基となって、分子鎖の一部を形成していてもよい。
〜Rは、それぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜13のアラルキル基である。
は、単結合、カルボニル基、*−(CH−O−、*−O−、又は*−CONH−である。但し、*で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。また、nは、1〜4の整数である。
〜Xは、それぞれ独立して単結合、カルボニル基、**−CH−CO−又は**−CH−CH(OH)−である。但し、**で表される結合手は、ピペリジン環と結合する部位を示す。)
Figure 0005853728
(式(2)中、Rは、炭素数4〜16の炭化水素基である。但し、上記炭化水素基は炭素骨格鎖中に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。aは、0〜3の整数である。Rは、水素原子又は炭素数1〜16の炭化水素基である。但し、Rが複数の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。)
[B] The liquid crystal aligning agent according to claim 1 or 2 , wherein the antioxidant has a group represented by the following formula (1) or formula (2).
Figure 0005853728
(In formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, a 1,3-dioxobutyl group, or 1, The group represented by the formula (1) is one from the alkyl group, aryl group, aralkyl group, 1,3-dioxobutyl group and 1,4-dioxobutyl group represented by R 1. The hydrogen atom may be removed to form a divalent group to form a part of the molecular chain.
R 2 to R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms.
X 1 is a single bond, a carbonyl group, * — (CH 2 ) n —O—, * —O—, or * —CONH—. However, the bond represented by * indicates a site that binds to the piperidine ring. Moreover, n is an integer of 1-4.
X 2 to X 5 are each independently a single bond, a carbonyl group, ** — CH 2 —CO— or ** — CH 2 —CH (OH) —. However, the bond represented by ** indicates a site that binds to the piperidine ring. )
Figure 0005853728
(In the formula (2), R 6 is a hydrocarbon group having 4 to 16 carbon atoms, provided that the hydrocarbon group may have an oxygen atom or a sulfur atom in the carbon skeleton chain. , is .R 7 is an integer of 0 to 3, is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms. However, when R 7 is plural, a plurality of R 7 is optionally substituted by one or more identical May be good.)
[C]化合物が、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン又は単官能エポキシ化合物である請求項1、請求項2又は請求項3に記載の液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent according to claim 1 , wherein the compound [C] is an epoxy group-containing polyorganosiloxane or a monofunctional epoxy compound. 請求項1から請求項のいずれか1項に記載の液晶配向剤から形成される液晶配向膜。 The liquid crystal aligning film formed from the liquid crystal aligning agent of any one of Claims 1-4 . 請求項に記載の液晶配向膜を備える液晶表示素子。 A liquid crystal display element provided with the liquid crystal aligning film of Claim 5 .
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