JP5691273B2 - Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element Download PDF

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本発明は、ポリイミド系溶液に関するものであり、詳しくは、可溶性ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上を有機溶媒に溶解し、該溶解液を支持基板上に塗布し、加熱処理を施して、支持基板上に平滑なポリイミド塗膜を形成することが出来るポリイミド系溶液に関する。   The present invention relates to a polyimide-based solution. Specifically, at least one selected from the group consisting of a soluble polyimide and a polyimide precursor is dissolved in an organic solvent, the solution is applied onto a support substrate, and heat treatment is performed. To a polyimide-based solution capable of forming a smooth polyimide coating film on a support substrate.

さらに詳しくは、ポリイミド及び/又はポリイミド前駆体を含有する液晶配向剤、該液晶配向剤から形成される液晶配向膜、及びそれを具備した液晶表示素子に関する。   More specifically, the present invention relates to a liquid crystal aligning agent containing polyimide and / or a polyimide precursor, a liquid crystal aligning film formed from the liquid crystal aligning agent, and a liquid crystal display element including the same.

ポリイミドはその特徴である高い機械的強度、耐熱性、耐溶剤性のために、電気・電子分野における保護材料、絶縁材料として広く用いられている。このような用途では、ポリイミドは、例えばポリアミック酸又は可溶性のポリイミドを適当な有機溶媒に溶解させて得た溶液を、スピンコート、オフセット印刷、グラビア印刷等の方法で支持基板上に塗布し、加熱処理を施して成膜することによって一般に用いられている。   Polyimide is widely used as a protective material and insulating material in the electric / electronic field because of its high mechanical strength, heat resistance, and solvent resistance. In such applications, for example, a polyimide is prepared by dissolving a solution obtained by dissolving polyamic acid or soluble polyimide in an appropriate organic solvent on a support substrate by a method such as spin coating, offset printing, or gravure printing, and heating. It is generally used by forming a film after processing.

具体的には、ポリイミド膜を半導体用の絶縁膜として用いる場合には、配線加工されたシリコン支持基板上に、1〜10μmのポリイミド系溶液の塗膜を形成する。また、ポリイミド膜を液晶配向膜として用いる場合には、透明電極付きの透明支持基板上に0.05〜0.2μmのポリイミド系溶液の塗膜を形成させる。このように、前記の用途において、ポリイミドは、各種支持基板上に薄いポリイミド系溶液の塗膜を形成させて用いるのが一般的である。   Specifically, when a polyimide film is used as an insulating film for a semiconductor, a coating film of a polyimide-based solution having a thickness of 1 to 10 μm is formed on a wiring-processed silicon support substrate. Moreover, when using a polyimide film as a liquid crystal aligning film, the coating film of a 0.05-0.2 micrometer polyimide-type solution is formed on the transparent support substrate with a transparent electrode. Thus, in the above applications, polyimide is generally used by forming a thin polyimide-based solution coating film on various supporting substrates.

ポリイミド系溶液の塗膜を基板上に形成する場合、平滑な膜を形成するためには塗布後の溶液の流動性が重要である。溶液が流動することによって塗膜表面の凹凸が平滑になるからである。この目的のために、ポリイミド系溶液にブチルセロソルブを添加する方法が挙げられている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、ブチルセロソルブは、ポリアミック酸や可溶性ポリイミド等の成膜性ポリイミド系成分の溶解力が弱いため、添加によって成膜性ポリイミド系成分が析出することがある。また、このような問題点に加えて人体への安全性の観点からもブチルセロソルブの代替成分の開発が望まれている。   When a coating film of a polyimide-based solution is formed on a substrate, the fluidity of the solution after coating is important for forming a smooth film. It is because the unevenness | corrugation of the coating-film surface becomes smooth because a solution flows. For this purpose, a method of adding butyl cellosolve to a polyimide-based solution is mentioned (for example, see Patent Document 1). However, since butyl cellosolve has a weak dissolving power for film forming polyimide components such as polyamic acid and soluble polyimide, the film forming polyimide component may be precipitated by addition. In addition to such problems, development of an alternative component of butyl cellosolve is also desired from the viewpoint of safety to the human body.

特公平4−81167号公報Japanese Examined Patent Publication No. 4-81167

本発明は、塗膜の形成に用いられるポリイミド系溶液において、この溶液に含有される成膜性ポリイミド系成分の析出がより抑制されるポリイミド系溶液を提供する。   This invention provides the polyimide-type solution in which precipitation of the film-forming polyimide-type component contained in this solution is suppressed more in the polyimide-type solution used for formation of a coating film.

本発明者らは、塗膜形成用のポリイミド系溶液において、塗膜の表面における溶液の流動性を向上させるための塗布性改善剤として従来より用いられているブチルセロソルブに代えて、下記式(A)で表される化合物を用いたところ、ブチルセロソルブと同様の塗布性改善効果が得られると共に、溶解している成膜性ポリイミドの析出が抑制され、保存安定効果や、この保存安定効果による、塗膜におけるポリイミドの析出による白化の予防効果が得られることを見出し、本発明を完成させた。本発明は、以下の態様からなる。   In the polyimide-based solution for forming a coating film, the inventors replaced the butyl cellosolve conventionally used as a coating property improving agent for improving the fluidity of the solution on the surface of the coating film with the following formula (A ), The same coating property improvement effect as that of butyl cellosolve is obtained, and the deposition of dissolved film-forming polyimide is suppressed. The inventors found that a whitening prevention effect by precipitation of polyimide in the film was obtained, and completed the present invention. The present invention comprises the following aspects.

(1) ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分と、これを溶解する溶媒とを含有する液晶配向剤において、前記溶媒が下記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とする液晶配向剤。 (1) In the liquid crystal aligning agent containing the film-forming polyimide type | system | group component which is 1 or more types selected from the group which consists of a polyimide and a polyimide precursor, and the solvent which melt | dissolves this, the said solvent is following formula (A). The liquid crystal aligning agent characterized by including the compound represented.

Figure 0005691273
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式(A)中、Q1は−CH3、−CH2−OH、又は−(CH22−OHを表し、Q2は−H、−CH3、又は−CH2−OHを表し、Q3は独立して−H、−CH3、又は−CH(CH32を表し、nは0又は1を表し、Q1及びQ2のいずれか一方が−OHを有する基であり、n=0のときはQ1が−CH3であり、Q2が−CH2−OHであり、n=1のときはQ1が−CH2−OH又は−(CH22−OHであり、Q2が−Hであり、Q3が−CH3及び−CH(CH32の一方又は両方を含む。 In formula (A), Q 1 represents —CH 3 , —CH 2 —OH, or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 represents —H, —CH 3 , or —CH 2 —OH, Q 3 independently represents —H, —CH 3 , or —CH (CH 3 ) 2 , n represents 0 or 1, and one of Q 1 and Q 2 is a group having —OH; When n = 0, Q 1 is —CH 3 , Q 2 is —CH 2 —OH, and when n = 1, Q 1 is —CH 2 —OH or — (CH 2 ) 2 —OH. Yes, Q 2 is —H, and Q 3 includes one or both of —CH 3 and —CH (CH 3 ) 2 .

(2) 式(A)で表される化合物が下記式(A−1)、(A−2)、及び(A−3)からなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする(1)に記載の液晶配向剤。 (2) The compound represented by the formula (A) is one or more selected from the group consisting of the following formulas (A-1), (A-2), and (A-3) (1 ) Liquid crystal aligning agent.

Figure 0005691273
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(3) 前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする(1)又は(2)に記載の液晶配向剤。 (3) The film-forming polyimide component is polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of diamine or a derivative thereof and tetracarboxylic acid or a derivative thereof (1) or (2 ) Liquid crystal aligning agent.

(4) 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか一項に記載の液晶配向剤。 (4) The liquid crystal according to any one of (1) to (3), wherein the solvent is a mixed solvent of two or more compounds including the compound represented by the formula (A). Alignment agent.

(5) (1)〜(4)のいずれか一項に記載の液晶配向剤の塗膜を焼成して形成される液晶配向膜。 (5) A liquid crystal alignment film formed by firing the coating film of the liquid crystal aligning agent according to any one of (1) to (4).

(6) 対向配置されている一対の基板と、前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極と、前記一対の基板それぞれの対向している面に形成されている液晶配向膜と、前記一対の基板間に形成されている液晶層とを有する液晶表示素子において、前記液晶配向膜は(5)に記載の液晶配向膜である液晶表示素子。 (6) A pair of opposed substrates, electrodes formed on one or both of the opposed surfaces of the pair of substrates, and formed on the opposed surfaces of the pair of substrates. A liquid crystal display element having a liquid crystal alignment film and a liquid crystal layer formed between the pair of substrates, wherein the liquid crystal alignment film is the liquid crystal alignment film according to (5).

(7) ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分と、これを溶解する溶媒とを含有するポリイミド系溶液において、前記溶媒が前記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とするポリイミド系溶液。 (7) In a polyimide-based solution containing at least one film-forming polyimide-based component selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor, and a solvent for dissolving the component, the solvent is represented by the formula (A). A polyimide-based solution comprising the compound represented.

(8) 前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする(7)に記載のポリイミド系溶液。 (8) The film-forming polyimide component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of diamine or a derivative thereof and tetracarboxylic acid or a derivative thereof. Polyimide solution.

(9) 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする(7)又は(8)に記載のポリイミド系溶液。 (9) The polyimide solution according to (7) or (8), wherein the solvent is a mixed solvent of two or more compounds including the compound represented by the formula (A).

(10) 被覆材料である、(7)〜(9)のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。 (10) The polyimide solution according to any one of (7) to (9), which is a coating material.

(11) 絶縁材料である、(7)〜(9)のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。 (11) The polyimide solution according to any one of (7) to (9), which is an insulating material.

(12) 接着剤である、(7)〜(9)のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。 (12) The polyimide solution according to any one of (7) to (9), which is an adhesive.

(13) 封止材である、(7)〜(9)のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。 (13) The polyimide solution according to any one of (7) to (9), which is a sealing material.

(14) プリント配線基板用材料である、(7)〜(9)のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。 (14) The polyimide-based solution according to any one of (7) to (9), which is a printed wiring board material.

(15) 成形材料である、(7)〜(9)のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。 (15) The polyimide solution according to any one of (7) to (9), which is a molding material.

(16) ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分が、これを溶解する溶媒に溶解してなる溶液を得ることを含むポリイミド系溶液を製造する方法において、前記溶媒が前記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とするポリイミド系溶液の製造方法。 (16) A method for producing a polyimide-based solution comprising obtaining a solution in which a film-forming polyimide-based component that is one or more selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor is dissolved in a solvent that dissolves the component. Wherein the solvent contains a compound represented by the formula (A).

(17) 前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする(16)に記載のポリイミド系溶液の製造方法。 (17) The film-forming polyimide-based component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of a diamine or a derivative thereof and a tetracarboxylic acid or a derivative thereof. A method for producing a polyimide-based solution.

(18) 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする(16)又は(17)に記載のポリイミド系溶液の製造方法。 (18) The method for producing a polyimide-based solution according to (16) or (17), wherein the solvent is a mixed solvent of two or more compounds including the compound represented by the formula (A). .

(19) 可溶性ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分とこれを溶解する溶媒とを含有するポリイミド系溶液の塗膜を形成する工程と、形成された塗膜を焼成して塗膜中の成膜性ポリイミド系成分からなるポリイミド膜を形成する工程とを含むポリイミド膜の製造方法において、前記溶媒が前記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とするポリイミド膜の製造方法。 (19) A step of forming a coating film of a polyimide-based solution containing a film-forming polyimide-based component which is one or more selected from the group consisting of a soluble polyimide and a polyimide precursor and a solvent for dissolving the component. And a step of forming a polyimide film comprising a film-formable polyimide component in the coating film, and the solvent contains the compound represented by the formula (A) A method for producing a polyimide film, comprising:

(20) 前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする(19)に記載のポリイミド膜の製造方法。 (20) The film-forming polyimide-based component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of diamine or a derivative thereof and tetracarboxylic acid or a derivative thereof. A method for producing a polyimide film.

(21) 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする(19)又は(20)に記載のポリイミド膜の製造方法。 (21) The method for producing a polyimide film according to (19) or (20), wherein the solvent is a mixed solvent of two or more compounds including the compound represented by the formula (A).

(22) 前記式(A−2)又は(A−3)で表される化合物。 (22) A compound represented by the formula (A-2) or (A-3).

本発明によれば、ポリイミド系溶液の溶媒に前記式(A)の化合物を用いることから、塗膜の形成に用いられるポリイミド系溶液において、この溶液に含有される成膜性ポリイミド系成分の析出を抑制することができる。   According to the present invention, since the compound of the formula (A) is used as the solvent of the polyimide solution, the deposition of the film forming polyimide component contained in the solution in the polyimide solution used for forming the coating film. Can be suppressed.

また本発明は、ポリイミド系溶液の溶媒に前記式(A)の化合物を用いることから、ポリイミド系溶液の優れた塗布性が得られ、塗膜の表面における凹凸を抑制することができる。   Moreover, since this invention uses the compound of said Formula (A) for the solvent of a polyimide-type solution, the outstanding applicability | paintability of a polyimide-type solution is obtained and the unevenness | corrugation in the surface of a coating film can be suppressed.

また本発明では、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒を用いることが、ポリイミド系溶液からの成膜性ポリイミド系成分の析出を抑制する観点からより一層効果的である。   Moreover, in this invention, using the mixed solvent of 2 or more types of compounds containing the compound represented by the said Formula (A) is still more from a viewpoint of suppressing precipitation of the film-forming polyimide type component from a polyimide type solution. It is effective.

また本発明では、前記成膜性ポリイミド系成分に、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物であるポリアミック酸又はその誘導体を用いることが、前述の析出抑制効果及び塗布性に優れる効果の両方が求められる技術分野で用いられるポリイミド系溶液を提供する観点からより一層効果的である。   In the present invention, it is possible to use polyamic acid or a derivative thereof, which is a reaction product of diamine or a derivative thereof and tetracarboxylic acid or a derivative thereof, as the film-forming polyimide-based component. From the viewpoint of providing a polyimide-based solution used in a technical field where both excellent effects are required, it is even more effective.

合成例2で得られた化合物(A−2)の1H−NMRチャートを示す図である。4 is a diagram showing a 1 H-NMR chart of a compound (A-2) obtained in Synthesis Example 2. FIG. 合成例3で得られた化合物(A−3)の1H−NMRチャートを示す図である。It is a figure which shows the < 1 > H-NMR chart of the compound (A-3) obtained by the synthesis example 3. FIG.

本発明のポリイミド系溶液は、成膜性ポリイミド系成分と、これを溶解する溶媒とを含有する。本発明のポリイミド系溶液は、前記溶媒に、下記式(A)で表される化合物を含む以外は、本技術分野において使用されている種々の成分を通常の用途で用いることができる。式(A)で表される化合物は一種でも二種以上でもよい。   The polyimide-based solution of the present invention contains a film-forming polyimide-based component and a solvent for dissolving it. The polyimide-based solution of the present invention can use various components used in this technical field in ordinary applications except that the solvent contains a compound represented by the following formula (A). The compound represented by the formula (A) may be one kind or two or more kinds.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

式(A)中、Q1は−CH3、−CH2−OH、又は−(CH22−OHを表し、Q2は−H、−CH3、又は−CH2−OHを表し、Q3は独立して−H、−CH3、又は−CH(CH32を表し、nは0又は1を表す。ただし、Q1及びQ2のいずれか一方が−OHを有する基であり、n=0のときはQ1が−CH3であり、Q2が−CH2−OHであり、n=1のときはQ1が−CH2−OH又は−(CH22−OHであり、Q2が−Hであり、Q3が−CH3及び−CH(CH32の一方又は両方を含む。 In formula (A), Q 1 represents —CH 3 , —CH 2 —OH, or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 represents —H, —CH 3 , or —CH 2 —OH, Q 3 independently represents —H, —CH 3 , or —CH (CH 3 ) 2 , and n represents 0 or 1. However, one of Q 1 and Q 2 is a group having —OH. When n = 0, Q 1 is —CH 3 , Q 2 is —CH 2 —OH, and n = 1. When Q 1 is —CH 2 —OH or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 is —H, and Q 3 includes one or both of —CH 3 and —CH (CH 3 ) 2. .

このような式(A)で表される化合物としては、例えば下記式(A−1)〜(A−3)の化合物が挙げられる。   Examples of such a compound represented by the formula (A) include compounds represented by the following formulas (A-1) to (A-3).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

本発明のポリイミド系溶液における式(A)で表される化合物の含有量は、得られるポリイミド系溶液における成膜性ポリイミドの析出を防止する観点、及びポリイミド系溶液による塗膜の表面における十分な平滑性を得る観点から、好ましくは溶媒の1〜80重量%であり、より好ましく2〜70重量%であり、特に好ましくは5〜60重量%である。   The content of the compound represented by the formula (A) in the polyimide-based solution of the present invention is sufficient to prevent precipitation of the film-forming polyimide in the obtained polyimide-based solution, and sufficient on the surface of the coating film by the polyimide-based solution. From the viewpoint of obtaining smoothness, it is preferably 1 to 80% by weight of the solvent, more preferably 2 to 70% by weight, and particularly preferably 5 to 60% by weight.

式(A)で表される化合物は、市販品として入手することができるものもある。例えば式(A−1)で表される化合物は、関東化学株式会社の製品「SOLKETAL」として入手することができる。   Some of the compounds represented by the formula (A) can be obtained as commercial products. For example, the compound represented by the formula (A-1) can be obtained as a product “SOLKETAL” manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.

また式(A)で表される化合物は、ポリオールとケトンとの脱水閉環反応によって得ることができる。例えば式(A−2)で表される化合物は、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールとヒドロキシアセトンとを、酸触媒の存在下で、生成する水を除きながら反応させることによって得ることができる。同様に、式(A−3)で表される化合物は、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールと4−ヒドロキシ−2−ブタノンとを、酸触媒の存在下で、生成する水を除きながら反応させることによって得ることができる。   The compound represented by the formula (A) can be obtained by a dehydration ring-closing reaction between a polyol and a ketone. For example, in the compound represented by the formula (A-2), 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol and hydroxyacetone are reacted in the presence of an acid catalyst while removing generated water. Can be obtained by: Similarly, the compound represented by the formula (A-3) produces 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol and 4-hydroxy-2-butanone in the presence of an acid catalyst. It can be obtained by reacting while removing water.

前記の反応において、ジオールに対するケトンのモル比は、ジオールの残存を防止し、蒸留によって反応生成物から目的物を分離する観点から、1以上であることが好ましく、1.0〜2.0であることがより好ましく、1.0〜1.5であることがさらに好ましく、1.0〜1.2であることがより一層好ましい。   In the above reaction, the molar ratio of the ketone to the diol is preferably 1 or more from the viewpoint of preventing the diol from remaining and separating the target product from the reaction product by distillation. More preferably, it is more preferably 1.0 to 1.5, and still more preferably 1.0 to 1.2.

前記の反応は、水と相分離し、かつ水と共沸する溶剤(エントレーナ)の還流条件下で行うことができる。エントレーナは一種でも二種以上でもよい。このようなエントレーナとしては、例えばシクロヘキサン、トルエン、キシレン、及びメチルシクロペンタンが挙げられる。エントレーナの使用量は、原料であるジオール及びケトン100重量部に対して3〜300重量部であることが好ましく、5〜100重量部であることがより好ましい。   The above reaction can be performed under reflux conditions of a solvent (entrainer) that is phase-separated from water and azeotropes with water. One or more entrainers may be used. Such entrainers include, for example, cyclohexane, toluene, xylene, and methylcyclopentane. The amount of the entrainer used is preferably 3 to 300 parts by weight, more preferably 5 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the diol and ketone as raw materials.

前記酸触媒は、脱水縮合で通常用いられる酸触媒から選ぶことができる。このような酸触媒としては、例えばp−トルエンスルホン酸もしくはその一水和物、硫酸、及びリン酸が挙げられる。酸触媒は、p−トルエンスルホン酸もしくはその一水和物であることが好ましい。酸触媒の使用量は、原料であるジオール及びケトンの総量に対して0.01〜10重量%であることが好ましく、0.02〜5重量%であることがより好ましい。   The acid catalyst can be selected from acid catalysts usually used in dehydration condensation. Examples of such an acid catalyst include p-toluenesulfonic acid or its monohydrate, sulfuric acid, and phosphoric acid. The acid catalyst is preferably p-toluenesulfonic acid or a monohydrate thereof. The amount of the acid catalyst used is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.02 to 5% by weight, based on the total amount of diol and ketone as raw materials.

前記の反応は、反応中に起こりうる、原料のポリオール、又はケトンの一態様であるヒドロキシケトン自体からの脱水を抑制する観点から、減圧下で行うことが好ましい。例えば式(A−2)で表される化合物の合成反応は、26.66kPa、53℃から9.33kPa、48℃の範囲でエントレーナが還流する条件で行うことができる。また、式(A−3)で表される化合物の合成反応は、10.67kPa、30℃から8.00kPa、38℃の範囲でエントレーナが還流する条件で行うことができる。   The above reaction is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of suppressing dehydration from the raw material polyol or hydroxyketone itself, which is an embodiment of the ketone, which may occur during the reaction. For example, the synthesis reaction of the compound represented by the formula (A-2) can be performed under conditions where the entrainer is refluxed in the range of 26.66 kPa, 53 ° C. to 9.33 kPa, 48 ° C. In addition, the synthesis reaction of the compound represented by the formula (A-3) can be performed under conditions where the entrainer is refluxed in the range of 10.67 kPa, 30 ° C. to 8.00 kPa, 38 ° C.

前記の反応で得られた式(A−2)又は(A−3)で表される化合物は、反応生成物の減圧蒸留によって取り出すことができる。例えば、式(A−2)で表される化合物の沸点は、1.33kPaで76〜78℃であり、式(A−3)で表される化合物の沸点は、0.67kPaで123〜125℃である。   The compound represented by the formula (A-2) or (A-3) obtained by the above reaction can be taken out by vacuum distillation of the reaction product. For example, the boiling point of the compound represented by Formula (A-2) is 76 to 78 ° C. at 1.33 kPa, and the boiling point of the compound represented by Formula (A-3) is 123 to 125 at 0.67 kPa. ° C.

前記成膜性ポリイミド系成分は、その溶液の塗膜の焼成によってポリイミドの膜を形成することができる成分であり、ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選ばれる。成膜性ポリイミド系成分は一種でも二種以上でもよい。   The film-forming polyimide component is a component that can form a polyimide film by baking a coating film of the solution, and is selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor. The film forming polyimide component may be one kind or two or more kinds.

本発明のポリイミド系溶液における前記成膜性ポリイミド系成分の含有量は、適切な粘性等の作業性の観点から、0.5〜50重量%であることが好ましく、1〜30重量%であることがより好ましく、2〜20重量%であることがさらに好ましい。   The content of the film forming polyimide component in the polyimide solution of the present invention is preferably 0.5 to 50% by weight, and 1 to 30% by weight from the viewpoint of workability such as appropriate viscosity. More preferably, the content is 2 to 20% by weight.

前記成膜性ポリイミド系成分の平均分子量は、特に限定されないが、ポリイミド膜の生成における焼成で前記ポリイミド及びポリイミド前駆体が蒸発せず、またポリイミド系溶液の成分として好ましい物性(得られた膜の均一性等)を得る観点から、重量平均分子量で5×103以上であることが好ましく、1×104以上であることがより好ましい。また前記重量平均分子量は、1×106以下であることが、粘性等のポリイミド系溶液としての取り扱いを容易にする観点から好ましい。 The average molecular weight of the film-forming polyimide-based component is not particularly limited, but the polyimide and the polyimide precursor are not evaporated by firing in the formation of the polyimide film, and preferable physical properties (components of the obtained film) From the viewpoint of obtaining uniformity and the like, the weight average molecular weight is preferably 5 × 10 3 or more, and more preferably 1 × 10 4 or more. The weight average molecular weight is preferably 1 × 10 6 or less from the viewpoint of easy handling as a polyimide-based solution such as viscosity.

前記成膜性ポリイミド系成分の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定される。例えば、得られたポリアミック酸又はその誘導体をジメチルホルムアミド(DMF)でポリアミック酸又はその誘導体の濃度が約1重量%になるように希釈し、クロマトパックC−R7A((株)島津製作所製)を用いて、DMFを展開溶媒としてゲル浸透クロマトグラフ分析(GPC)法により測定し、ポリスチレン換算することにより求められる。さらに、GPC測定の精度を高める観点から、リン酸、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸やリチウムブロミド、リチウムクロリド等の無機塩をDMF溶媒に溶解させた展開溶媒を調製して用いてもよい。なお、本発明において分子量を測定する際には、測定機器にAlliance2695、WATERS社製を、展開溶剤に1%リン酸含有N,N−ジメチルホルムアミドを用い、標準試料としてポリスチレンを用いて液体クロマトグラフィー分析を行う。ここで用いるカラムは、HSPgel(登録商標) RTMB−M、WATERS社製が挙げられる。また本発明でいう分子量とは重量平均分子量をいう。   The weight average molecular weight of the film-forming polyimide component is measured by gel permeation chromatography (GPC). For example, the obtained polyamic acid or derivative thereof is diluted with dimethylformamide (DMF) so that the concentration of polyamic acid or derivative thereof is about 1% by weight, and Chromatopack C-R7A (manufactured by Shimadzu Corporation) is used. It is calculated | required by measuring by a gel permeation chromatograph analysis (GPC) method, using DMF as a developing solvent, and converting into polystyrene. Furthermore, from the viewpoint of improving the accuracy of GPC measurement, a developing solvent in which an inorganic acid such as phosphoric acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid or the like or an inorganic salt such as lithium bromide or lithium chloride is dissolved in a DMF solvent may be prepared and used. . In the present invention, the molecular weight is measured by liquid chromatography using Alliance 2695, manufactured by WATERS, as the measuring instrument, N, N-dimethylformamide containing 1% phosphoric acid as the developing solvent, and polystyrene as the standard sample. Perform analysis. Examples of the column used here include HSPgel (registered trademark) RTMB-M, manufactured by WATERS. Moreover, the molecular weight as used in the field of this invention means a weight average molecular weight.

前記成膜性ポリイミド系成分におけるポリイミドとしては、例えば、ポリアミック酸の全てのアミノとカルボキシルとが脱水閉環反応したポリイミド、及び、ポリアミック酸のアミノとカルボキシルとが部分的に脱水閉環反応した部分ポリイミド、が挙げられる。また、前記成膜性ポリイミド系成分におけるポリイミド前駆体としては、例えばポリアミック酸又はその誘導体が挙げられる。   Examples of the polyimide in the film forming polyimide component include, for example, a polyimide in which all amino acids and carboxyls of polyamic acid are subjected to dehydration ring-closing reaction, and a partial polyimide in which amino and carboxyl groups of polyamic acid are partially subjected to dehydration ring-closing reaction, Is mentioned. Moreover, as a polyimide precursor in the said film-forming polyimide type component, a polyamic acid or its derivative (s) is mentioned, for example.

前記ポリイミドは、公知の方法によって得ることができる。例えば前記ポリイミドは、ポリアミック酸の溶液を、脱水剤である無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物、及び脱水閉環触媒であるトリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の三級アミンと共に、温度20〜150℃でイミド化反応させて得ることができる。   The polyimide can be obtained by a known method. For example, the polyimide is a polyamic acid solution together with acetic anhydride as a dehydrating agent, an acid anhydride such as propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride, and a tertiary amine such as triethylamine, pyridine and collidine as dehydrating ring closure catalysts. It can be obtained by an imidization reaction at a temperature of 20 to 150 ° C.

又は、前記ポリイミドは、ポリアミック酸の溶液から多量の貧溶媒(メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒やグリコール系溶媒)を用いてポリアミック酸を析出させ、析出させたポリアミック酸を、トルエン、キシレン等の溶媒中で、前記と同様の脱水剤及び脱水閉環触媒と共に、温度20〜150℃でイミド化反応させて得ることもできる。   Alternatively, the polyimide is prepared by precipitating polyamic acid from a polyamic acid solution using a large amount of poor solvent (alcohol solvent or glycol solvent such as methanol, ethanol, isopropanol, etc.). It is also possible to obtain an imidization reaction at a temperature of 20 to 150 ° C. together with the same dehydrating agent and dehydrating ring closure catalyst as described above in a solvent such as the above.

前記イミド化反応において、脱水剤と脱水閉環触媒の割合は0.1〜10(モル比)であることが好ましい。両者の合計使用量は、ポリアミック酸に用いられているテトラカルボン酸二無水物に含まれる酸二無水物の総モル量に対して1.5〜10倍モルであることが好ましい。この化学的イミド化の脱水剤、触媒量、反応温度及び反応時間を調整することによって、イミド化の程度を制御し、部分ポリイミドを得ることができる。   In the imidization reaction, the ratio of the dehydrating agent to the dehydrating ring-closing catalyst is preferably 0.1 to 10 (molar ratio). The total amount used of both is preferably 1.5 to 10 times the total molar amount of the acid dianhydride contained in the tetracarboxylic dianhydride used in the polyamic acid. By adjusting the dehydrating agent, catalyst amount, reaction temperature and reaction time of this chemical imidization, the degree of imidization can be controlled to obtain a partial polyimide.

前記ポリアミック酸又はその誘導体としては、例えばジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有する化合物が挙げられる。このようなポリアミック酸又はその誘導体としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリアミック酸アミド、及びポリアミドイミドが挙げられる。ポリアミック酸エステルとしては、例えばポリアミック酸のカルボキシルがエステルに変換されたポリアミック酸エステルが挙げられ、ポリアミック酸アミドとしては、例えばテトラカルボン酸二無水物化合物に含まれる酸二無水物の一部を有機ジカルボン酸に置き換えて反応させて得られたポリアミック酸−ポリアミド共重合体が挙げられ、ポリアミドイミドとしては、例えば該ポリアミック酸−ポリアミド共重合体の一部又は全部を脱水閉環反応させたポリアミドイミドが挙げられる。   As said polyamic acid or its derivative (s), the compound which has the structure of the reaction product of diamine or its derivative (s) and tetracarboxylic acid or its derivative (s) is mentioned, for example. Examples of such polyamic acid or derivatives thereof include polyamic acid, polyamic acid ester, polyamic acid amide, and polyamideimide. Examples of the polyamic acid ester include a polyamic acid ester in which carboxyl of the polyamic acid is converted to an ester, and examples of the polyamic acid amide include, for example, a part of an acid dianhydride contained in a tetracarboxylic dianhydride compound. A polyamic acid-polyamide copolymer obtained by reacting with a dicarboxylic acid is exemplified. As the polyamideimide, for example, a polyamideimide obtained by subjecting a part or all of the polyamic acid-polyamide copolymer to a dehydration ring-closing reaction is used. Can be mentioned.

前記ポリイミド前駆体は、本発明のポリイミド系溶液を、液晶表示素子における液晶配向膜を形成するための液晶配向剤に用いる場合では、液晶配向膜としてのポリイミド膜における所期の特性を実現する観点から、ポリアミック酸又はその誘導体であることが好ましい。   In the case where the polyimide precursor of the present invention is used as a liquid crystal aligning agent for forming a liquid crystal alignment film in a liquid crystal display element, the polyimide precursor is a viewpoint that realizes desired characteristics in a polyimide film as a liquid crystal alignment film. Therefore, a polyamic acid or a derivative thereof is preferable.

前記ポリアミック酸又はその誘導体において、前記テトラカルボン酸又はその誘導体とジアミン又はその誘導体とは、モル比で0.8:1.2〜1.2:0.8であることが好ましく、0.9:1.1〜1.1:0.9であることがより好ましい。   In the polyamic acid or derivative thereof, the tetracarboxylic acid or derivative thereof and the diamine or derivative thereof are preferably 0.8: 1.2 to 1.2: 0.8 in molar ratio, : 1.1 to 1.1: 0.9 is more preferable.

前記ジアミン又はその誘導体は、一種でも二種以上でもよい。前記ジアミン又はその誘導体としては、例えば下記一般式(A)〜(D)で表されるジアミンが挙げられる。   The diamine or derivative thereof may be one type or two or more types. Examples of the diamine or derivatives thereof include diamines represented by the following general formulas (A) to (D).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(A)中、nは、1〜12の整数である。一般式(B1)、(B2)及び(B3)中、−Y1、−Y2、及びY3はそれぞれ−H又は炭素数1〜30のアルキルを表す。一般式(D)中、A1は独立して、−(CH2m−又は−N(CH3)−(CH2m−N(CH3)−を表す。ここでmは1〜12の整数を表す。 In general formula (A), n is an integer of 1-12. Formula (B1), alkyl of (B2) and (B3) in, -Y 1, -Y 2, and Y 3 each is -H or C1-30. In General Formula (D), A 1 independently represents — (CH 2 ) m — or —N (CH 3 ) — (CH 2 ) m —N (CH 3 ) —. Here, m represents an integer of 1 to 12.

前記一般式(A)で表されるジアミンとしては、例えば下記構造式(A1)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (A) include diamines represented by the following structural formula (A1).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(B1)〜(B3)で表されるジアミンとしては、例えば下記構造式(B1−1)〜(B3−1)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formulas (B1) to (B3) include diamines represented by the following structural formulas (B1-1) to (B3-1).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(C)で表されるジアミンとしては、例えば下記構造式(C1)〜(C3)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (C) include diamines represented by the following structural formulas (C1) to (C3).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(D)で表されるジアミンとしては、例えば下記構造式(D1)〜(D4)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (D) include diamines represented by the following structural formulas (D1) to (D4).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

また前記ジアミン又はその誘導体としては、下記一般式(II)〜(VIII)で表される直鎖型ジアミンも挙げられる。   Moreover, as said diamine or its derivative (s), the linear diamine represented by the following general formula (II)-(VIII) is also mentioned.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(II)中、A1は、−(CH2m−を表す。また一般式(IV)中のA1は、単結合、−O−、−S−、−S−S−、−SO2−、−CO−、−CONH−、−NHCO−、−C(CH32−、−C(CF32−、−(CH2m−、−O−(CH2m−O−、−N(CH3)−(CH2m−N(CH3)−、又は−S−(CH2m−S−を表す。一般式(VI)中のA1’は、単結合、−S−、−S−S−、−SO2−、−CO−、−CONH−、−NHCO−、−C(CH32−、−C(CF32−、−O−(CH2m−O−、又は−S−(CH2m−S−を表す。なお、mは1〜12の整数を表す。 In the general formula (II), A 1 is, - (CH 2) m - represents a. A 1 in the general formula (IV) is a single bond, —O—, —S—, —S—S—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, —NHCO—, —C (CH 3) 2 -, - C ( CF 3) 2 -, - (CH 2) m -, - O- (CH 2) m -O -, - N (CH 3) - (CH 2) m -N (CH 3) -, or -S- (CH 2) represents an m -S-. A 1 ′ in the general formula (VI) is a single bond, —S—, —S—S—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, —NHCO—, —C (CH 3 ) 2 —. , -C (CF 3) 2 - , - O- (CH 2) m -O-, or -S- (CH 2) represents an m -S-. Note that m represents an integer of 1 to 12.

また一般式(VII)中、A2は、独立して−S−、−CO−、−C(CH32−、−C(CF32−又は炭素数1〜3のアルキレンを表す。 In general formula (VII), A 2 independently represents —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 — or alkylene having 1 to 3 carbon atoms. .

また一般式(VIII)中、A1は独立して、−S−、−S−S−、−SO2−、−CO−、−CONH−、−NHCO−、−C(CF32−、−O−(CH2m−O−、−S−(CH2m−S−を表す。ここでmは1〜12の整数を表す。また一般式(VIII)中、A2は単結合、−O−、−S−、−CO−、−C(CH32−、−C(CF32−、又は炭素数1〜3のアルキレンを表す。 In the general formula (VIII), A 1 is independently —S—, —SS—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, —NHCO—, —C (CF 3 ) 2 —. , -O- (CH 2) m -O -, - S- (CH 2) represents an m -S-. Here, m represents an integer of 1 to 12. In General Formula (VIII), A 2 is a single bond, —O—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, or C 1 to C 3. Represents alkylene.

さらに一般式(III)〜(VIII)中のシクロヘキサン環又はベンゼン環に結合している水素は、独立して−F、−Cl、−CH3、−OH、−COOH、−SO3H、−PO32、又は4−ヒドロキシベンジルと置き換えられていてもよい。 Hydrogen which is further coupled to the general formula (III) ~ (VIII) cyclohexane ring or a benzene ring in is independently -F, -Cl, -CH 3, -OH , -COOH, -SO 3 H, - It may be replaced with PO 3 H 2 or 4-hydroxybenzyl.

一般式(II)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(II−1)〜(II−3)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (II) include diamines represented by the following structural formulas (II-1) to (II-3).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(III)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(III−1)及び(III−2)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (III) include diamines represented by the following structural formulas (III-1) and (III-2).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(VI)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(IV−1)〜(IV−3)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (VI) include diamines represented by the following structural formulas (IV-1) to (IV-3).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(V)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(V−1)〜(V−14)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (V) include diamines represented by the following structural formulas (V-1) to (V-14).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(VI)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(VI−1)〜(VI−29)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (VI) include diamines represented by the following structural formulas (VI-1) to (VI-29).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(VII)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(VII−1)〜(VII−6)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (VII) include diamines represented by the following structural formulas (VII-1) to (VII-6).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(VIII)で表される直鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(VIII−1)〜(VIII−6)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the linear diamine represented by the general formula (VIII) include diamines represented by the following structural formulas (VIII-1) to (VIII-6).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

さらに前記ジアミン又はその誘導体としては、例えば側鎖構造を有するジアミンが挙げられる。このような側鎖構造を有するジアミンとしては、例えば下記一般式(IX)〜(XIII)で表される側鎖型ジアミンが挙げられる。   Furthermore, as said diamine or its derivative (s), the diamine which has a side chain structure is mentioned, for example. Examples of the diamine having such a side chain structure include side chain diamines represented by the following general formulas (IX) to (XIII).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(IX)中、A3は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−CO−、−CONH−又は−(CH2m−を表す。ここでmは1〜6の整数を表す。R7は、ステロイド骨格を有する基、下記一般式(XIV)で表される基、又は炭素数1〜30のアルキルを表す。該アルキルにおいては、独立して、任意の−CH2−が−CF2−、−CHF−、−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置き換えられていてもよく、−CH3が−CH2F、−CHF2又は−CF3で置き換えられていてもよい。ただし該アルキルにおいて−O−は隣り合わない。 In General Formula (IX), A 3 represents a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —CO—, —CONH—, or — (CH 2 ) m —. Here, m represents an integer of 1 to 6. R 7 represents a group having a steroid skeleton, a group represented by the following general formula (XIV), or alkyl having 1 to 30 carbon atoms. In the alkyl, any —CH 2 — may be independently replaced by —CF 2 —, —CHF—, —O—, —CH═CH— or —C≡C—, 3 may be replaced by —CH 2 F, —CHF 2 or —CF 3 . However, -O- is not adjacent in the alkyl.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(XIV)中、A4及びA5はそれぞれ独立して、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−CH=CH−又は炭素数1〜20のアルキレンを表す。R8及びR9はそれぞれ独立して、−F又は−CH3を表す。環Sは独立して、1,4−フェニレン、1,4−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、ナフタレン−1,5−ジイル、ナフタレン−2,7−ジイル又はアントラセン−9,10−ジイルを表す。R10は−F、炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のフッ素置換アルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、−CN、−OCH2F、−OCHF2又は−OCF3を表す。またa及びbはそれぞれ独立して0〜4の整数を表し、a又はbが2〜4であるとき隣り合うA4又はA5は異なる基であり、c、d及びeはそれぞれ独立して0〜3の整数を表し、f及びgはそれぞれ独立して0〜2の整数を表し、かつc+d+e≧1である。 In general formula (XIV), A 4 and A 5 are each independently a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —CONH—, —CH═CH—, or alkylene having 1 to 20 carbon atoms. Represents. R 8 and R 9 each independently represents —F or —CH 3 . Ring S is independently 1,4-phenylene, 1,4-cyclohexylene, 1,3-dioxane-2,5-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, pyridine-2,5-diyl, naphthalene- It represents 1,5-diyl, naphthalene-2,7-diyl or anthracene-9,10-diyl. R 10 represents -F, alkyl having 1 to 30 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl having 1 to 30 carbon atoms, alkoxy having 1 to 30 carbon atoms, -CN, a -OCH 2 F, -OCHF 2 or -OCF 3. A and b each independently represent an integer of 0 to 4, and when a or b is 2 to 4, adjacent A 4 or A 5 are different groups, and c, d and e are each independently Represents an integer of 0 to 3, f and g each independently represent an integer of 0 to 2, and c + d + e ≧ 1.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(X)中、ステロイド骨格を形成する炭素に結合している水素は、独立して−CH3と置き換えられていてもよい。一般式(X)及び(XI)中、R11はそれぞれ独立して、−H又は−CH3を表し、R12はそれぞれ、−H又は炭素数1〜20のアルキル若しくはアルケニルを表す。A6はそれぞれ独立して、単結合、−C(=O)−又は−CH2−を表す。一般式(XI)中、R13及びR14はそれぞれ独立して、−H、炭素数1〜20のアルキル又はフェニルを表す。 In general formula (X), the hydrogen bonded to the carbon forming the steroid skeleton may be independently replaced with —CH 3 . In the general formulas (X) and (XI), R 11 each independently represents —H or —CH 3 , and R 12 represents —H or C 1-20 alkyl or alkenyl, respectively. A 6 each independently represents a single bond, —C (═O) — or —CH 2 —. In General Formula (XI), R 13 and R 14 each independently represent —H, C 1-20 alkyl or phenyl.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(XII)中、R15は−H又は炭素数1〜30のアルキルを表す。該アルキルのうち炭素数2〜30のアルキルの任意の−CH2−は、独立して−O−、−CH=CH−又は−C≡C−で置き換えられてもよい。ただし該アルキルにおいて−O−は隣り合わない。一般式(XII)及び(XIII)中、A7はそれぞれ独立して−O−又は炭素数1〜6のアルキレンを表す。一般式(XII)中、A8は単結合又は炭素数1〜3のアルキレンを表す。環Tは1,4−フェニレン又は1,4−シクロヘキシレンを表す。hは0又は1を表す。一般式(XIII)中、R16は炭素数6〜22のアルキルを表し、R17は−H又は炭素数1〜22のアルキルを表す。 In the general formula (XII), R 15 represents —H or alkyl having 1 to 30 carbons. Arbitrary —CH 2 — in the alkyl having 2 to 30 carbon atoms out of the alkyl may be independently replaced by —O—, —CH═CH— or —C≡C—. However, -O- is not adjacent in the alkyl. In the general formulas (XII) and (XIII), A 7 each independently represents —O— or alkylene having 1 to 6 carbon atoms. In General Formula (XII), A 8 represents a single bond or alkylene having 1 to 3 carbon atoms. Ring T represents 1,4-phenylene or 1,4-cyclohexylene. h represents 0 or 1; In General Formula (XIII), R 16 represents alkyl having 6 to 22 carbon atoms, and R 17 represents —H or alkyl having 1 to 22 carbon atoms.

前記一般式(IX)で表される側鎖型ジアミンは、二つのアミノ基はフェニル環の炭素に結合している二つのアミノ基の結合位置関係がメタ又はパラであることが好ましい。さらに二つのアミノ基の結合位置関係が、「R7−A3−」の結合位置を1位としたときに3位と5位、又は2位と5位であることが好ましい。 In the side chain diamine represented by the general formula (IX), it is preferable that the bonding position relationship between the two amino groups in which the two amino groups are bonded to the carbon of the phenyl ring is meta or para. Further binding positional relationship between the two amino groups, "R 7 -A 3 -" 3-position when the 1-position of the bond position of the 5-position, or is preferably 2-position and 5-position.

前記一般式(IX)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記一般式(IX−1)〜(IX−9)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (IX) include diamines represented by the following general formulas (IX-1) to (IX-9).

Figure 0005691273
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前記一般式(IX−1)、(IX−2)、(IX−5)及び(IX−6)中、R18は炭素数1〜30のアルキル又は炭素数1〜30のアルコキシが好ましく、炭素数3〜30のアルキル又は炭素数3〜30のアルコキシがより好ましく、炭素数5〜25のアルキル又は炭素数5〜25のアルコキシがさらに好ましい。また前記一般式(IX−3)、(IX−4)及び(IX−7)〜(IX−9)中、R19は炭素数1〜30のアルキル又は炭素数1〜30のアルコキシが好ましく、炭素数3〜25のアルキル又は炭素数3〜25のアルコキシがさらに好ましい。前記一般式(IX)で表されるジアミンの中でも、特に前記一般式(B1)〜(B3)で表されるジアミンがより好ましく、前記構造式(B1−1)〜(B3−1)で表されるジアミンが特に好ましい。 In the general formulas (IX-1), (IX-2), (IX-5) and (IX-6), R 18 is preferably alkyl having 1 to 30 carbons or alkoxy having 1 to 30 carbons, and carbon C3-C30 alkyl or C3-C30 alkoxy is more preferable, C5-C25 alkyl or C5-C25 alkoxy is still more preferable. In the general formulas (IX-3), (IX-4) and (IX-7) to (IX-9), R 19 is preferably alkyl having 1 to 30 carbons or alkoxy having 1 to 30 carbons, More preferred is alkyl having 3 to 25 carbon atoms or alkoxy having 3 to 25 carbon atoms. Among the diamines represented by the general formula (IX), diamines represented by the general formulas (B1) to (B3) are particularly preferable, and are represented by the structural formulas (B1-1) to (B3-1). Particularly preferred are diamines.

また前記一般式(IX)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記一般式(IX−10)〜(IX−15)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (IX) include diamines represented by the following general formulas (IX-10) to (IX-15).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(IX−10)〜(IX−13)中、R20は炭素数4〜30のアルキルが好ましく、炭素数6〜25のアルキルがさらに好ましい。前記一般式(IX−14)及び(IX−15)中、R21は炭素数6〜30のアルキルが好ましく、炭素数8〜25のアルキルがさらに好ましい。 In the general formulas (IX-10) to (IX-13), R 20 is preferably an alkyl having 4 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl having 6 to 25 carbon atoms. In the general formulas (IX-14) and (IX-15), R 21 is preferably an alkyl having 6 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl having 8 to 25 carbon atoms.

また前記一般式(IX)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記一般式(IX−16)〜(IX−36)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (IX) include diamines represented by the following general formulas (IX-16) to (IX-36).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

Figure 0005691273
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前記一般式(IX−16)、(IX−17)、(IX−20)、(IX−22)、(IX−23)、(IX−26)、(IX−28)、(IX−29)、(IX−34)及び(IX−35)中、R22は炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシが好ましく、炭素数3〜25のアルキル又は炭素数3〜25のアルコキシがさらに好ましい。 The general formulas (IX-16), (IX-17), (IX-20), (IX-22), (IX-23), (IX-26), (IX-28), (IX-29) In (IX-34) and (IX-35), R 22 is preferably alkyl having 1 to 30 carbons, alkoxy having 1 to 30 carbons, alkyl having 3 to 25 carbons or alkoxy having 3 to 25 carbons. Is more preferable.

前記一般式(IX−18)、(IX−19)、(IX−21)、(IX−24)、(IX−25)、(IX−27)、(IX−30)〜(IX−33)及び(IX−36)中、R23は−H、−F、炭素数1〜30のアルキル、炭素数1〜30のアルコキシ、−CN、−OCH2F、−OCHF2又は−OCF3が好ましく、炭素数3〜25のアルキル又は炭素数3〜25のアルコキシがさらに好ましい。前記一般式(IX−31)及び(IX−32)中、A9は炭素数1〜20のアルキレンを表す。 Formulas (IX-18), (IX-19), (IX-21), (IX-24), (IX-25), (IX-27), (IX-30) to (IX-33) and (IX-36) in, R 23 is -H, -F, alkyl having 1 to 30 carbon atoms, alkoxy having 1 to 30 carbon atoms, -CN, are -OCH 2 F, -OCHF 2 or -OCF 3 preferably Further, alkyl having 3 to 25 carbon atoms or alkoxy having 3 to 25 carbon atoms is more preferable. In the general formulas (IX-31) and (IX-32), A 9 represents alkylene having 1 to 20 carbon atoms.

また前記一般式(IX)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(IX−37)〜(IX−46)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (IX) include diamines represented by the following structural formulas (IX-37) to (IX-46).

Figure 0005691273
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Figure 0005691273
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前記一般式(IX)で表される側鎖型ジアミンは、一般式(IX−1)〜(IX−9)で表されるジアミンが好ましく、一般式(IX−2)又は(IX−4)で表されるジアミンがより好ましい。   The side chain type diamine represented by the general formula (IX) is preferably a diamine represented by the general formulas (IX-1) to (IX-9), and is represented by the general formula (IX-2) or (IX-4). The diamine represented by these is more preferable.

前記一般式(X)で表される側鎖型ジアミンは、二つの「NH2−Ph−A6−O−」の一方はステロイド核の3位に結合し、もう一方は6位に結合していることが好ましい。また、二つのフェニルにそれぞれ結合している二つのアミノ基は、A6の結合位置に対してメタ位又はパラ位に結合していることが好ましい。 In the side chain diamine represented by the general formula (X), one of two “NH 2 —Ph—A 6 —O—” is bonded to the 3-position of the steroid nucleus and the other is bonded to the 6-position. It is preferable. Further, the two amino groups bonded to the two phenyl groups are preferably bonded to the meta position or the para position with respect to the bonding position of A 6 .

前記一般式(X)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(X−1)〜(X−4)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (X) include diamines represented by the following structural formulas (X-1) to (X-4).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(XI)で表される側鎖型ジアミンは、二つの「NH2−(R14−)Ph−A6−O−」は、それぞれフェニルの炭素に結合しているが、ステロイド核が結合しているフェニル中の炭素に対してメタ位又はパラ位に結合していることが好ましい。また、二つのフェニルにそれぞれ結合している二つのアミノ基は、A6の結合位置に対してメタ位又はパラ位に結合していることが好ましい。 In the side chain type diamine represented by the general formula (XI), two “NH 2 — (R 14 —) Ph—A 6 —O—” are bonded to the carbon of phenyl, respectively, It is preferable that it is couple | bonded with the meta position or the para position with respect to the carbon in the phenyl which has couple | bonded. Further, the two amino groups bonded to the two phenyl groups are preferably bonded to the meta position or the para position with respect to the bonding position of A 6 .

前記一般式(XI)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記構造式(XI−1)〜(XI−8)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (XI) include diamines represented by the following structural formulas (XI-1) to (XI-8).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(XII)で表される側鎖型ジアミンは、二つのフェニルにそれぞれ結合している二つのアミノ基がA7に対してメタ位又はパラ位に結合していることが好ましい。 In the side chain diamine represented by the general formula (XII), it is preferable that two amino groups bonded to two phenyl groups are bonded to A 7 in a meta position or a para position.

前記一般式(XII)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば、下記一般式(XII−A)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (XII) include diamines represented by the following general formula (XII-A).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(XII−A)中、Y4は、炭素数1〜30のアルキル、又は下記一般式で表される基のいずれかを表し、X2は独立して−CH2−又は−O−を表す。また下記一般式中、Y5及びY6は、それぞれ炭素数1〜30のアルキルを表す。 In General Formula (XII-A), Y 4 represents an alkyl having 1 to 30 carbon atoms or a group represented by the following General Formula, and X 2 is independently —CH 2 — or —O—. Represents. Moreover, in the following general formula, Y < 5 > and Y < 6 > represent a C1-C30 alkyl, respectively.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

また、前記一般式(XII)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば、下記一般式(XII−1)〜(XII−9)で表されるジアミンが挙げられる。   Moreover, as a side chain type diamine represented by the said general formula (XII), the diamine represented by the following general formula (XII-1)-(XII-9) is mentioned, for example.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(XII−1)〜(XII−3)中、R24は−H又は炭素数1〜30のアルキル基であることが好ましい。前記一般式(XII−4)及び(XII−5)中、R25は−H又は炭素数1〜30のアルキル基であることが好ましく、前記一般式(XII−6)〜(XII−9)中、R25は−H又は炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましい。 In the general formulas (XII-1) to (XII-3), R 24 is preferably —H or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. In the general formulas (XII-4) and (XII-5), R 25 is preferably —H or an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the general formulas (XII-6) to (XII-9) Among them, R 25 is preferably —H or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

前記一般式(XII)で表されるジアミンとして、例えば下記構造式(XII−2−1)、(XII−4−1)及び(XII−7−1)で表されるジアミンが好ましく用いられる。   As the diamine represented by the general formula (XII), for example, diamines represented by the following structural formulas (XII-2-1), (XII-4-1) and (XII-7-1) are preferably used.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(XIII)で表される側鎖型ジアミンは、二つのフェニルにそれぞれ結合している二つのアミノ基がA7に対してメタ位又はパラ位に結合していることが好ましい。 In the side chain diamine represented by the general formula (XIII), it is preferable that two amino groups bonded to two phenyl groups are bonded to A 7 in a meta position or a para position.

前記一般式(XIII)で表される側鎖型ジアミンとしては、例えば下記一般式(XIII−1)〜(XIII−3)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the side chain diamine represented by the general formula (XIII) include diamines represented by the following general formulas (XIII-1) to (XIII-3).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式中、R26は炭素数6〜20のアルキル基であることが好ましく、R27は−H又は炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。 In the general formula, R 26 is preferably an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, and R 27 is preferably —H or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

さらには、前記ジアミン又はその誘導体としては、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、シロキサン結合を有するシロキサン系ジアミン、及び前記一般式(IX)〜(XIII)で表された側鎖構造以外の側鎖構造を有するジアミンが挙げられる。   Furthermore, the diamine or derivative thereof is represented by a naphthalene diamine having a naphthalene structure, a fluorene diamine having a fluorene structure, a siloxane diamine having a siloxane bond, and the general formulas (IX) to (XIII). Examples thereof include diamines having a side chain structure other than the side chain structure.

例えば前記シロキサン系ジアミンとしては、例えば下記一般式(XV)で表されるジアミンが挙げられる。   For example, examples of the siloxane diamine include diamines represented by the following general formula (XV).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(XV)中、R28及びR29は独立して炭素数1〜3のアルキル又はフェニルを表し、A10は独立してメチレン、フェニレン又はアルキル置換されたフェニレンを表す。iは1〜6の整数を表し、jは1〜10の整数を表す。 In the general formula (XV), R 28 and R 29 independently represent alkyl having 1 to 3 carbon atoms or phenyl, and A 10 independently represents methylene, phenylene, or alkyl-substituted phenylene. i represents an integer of 1 to 6, and j represents an integer of 1 to 10.

前記一般式(XV)で表されるジアミンとしては、例えば下記構造式(XV−1)〜(XV−7)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (XV) include diamines represented by the following structural formulas (XV-1) to (XV-7).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

さらに前記ジアミン又はその誘導体としては、例えば下記一般式(1')〜(8')で表されるジアミンが挙げられる。   Furthermore, as said diamine or its derivative (s), the diamine represented by the following general formula (1 ')-(8') is mentioned, for example.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式中、R30及びR31はそれぞれ独立して炭素数3〜30のアルキル基を表す。 In the general formula, R 30 and R 31 each independently represents an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms.

前記ジアミンの誘導体としては、例えばシリル化剤を用いてジアミンをシリル化して得られるシリル化ジアミン化合物が挙げられる。   Examples of the diamine derivative include a silylated diamine compound obtained by silylating a diamine using a silylating agent.

前記シリル化剤は一種でも二種以上でもよい。前記シリル化剤としては、例えばトリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルヨードシラン、トリエチルクロロシラン、トリエチルブロモシラン、トリプロピルクロロシラン、トリブチルクロロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチルプロピルクロロシラン、ジメチルプロピルクロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、t−ブチルジメチルクロロシラン等のトリアルキルハロゲン化シラン;ジメチルビニルクロロシラン等のビニル基含有ハロゲン化シラン;ジメチルフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン等のフェニル基含有ハロゲン化シラン;クロロメチルジメチルクロロシラン、3−クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジクロロメチルジメチルクロロシラン等のハロゲン化アルキル基含有ハロゲン化シラン;トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、ジメトキシメチルクロロシラン等のアルコキシ基含有ハロゲン化シラン;ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジプロピルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラン、ジヘキシルジクロロシラン等のアルキル基含有ジハロゲン化シラン;ヘキサメチルジシラン、ヘキサエチルジシラン、ヘキサフェニルジシラン等のジシラン;ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(トリエチルシリル)アセトアミド、ビス(トリフェニルシリル)アセトアミド等のシリル化アセトアミド;ヘキサメチルジシラザン等のジシラザンが挙げられる。   The silylating agent may be one type or two or more types. Examples of the silylating agent include trimethylchlorosilane, trimethylbromosilane, trimethyliodosilane, triethylchlorosilane, triethylbromosilane, tripropylchlorosilane, tributylchlorosilane, trihexylchlorosilane, dimethylpropylchlorosilane, dimethylpropylchlorosilane, dimethyloctylchlorosilane, and dimethyl. Trialkyl halogenated silanes such as octadecylchlorosilane and t-butyldimethylchlorosilane; vinyl group-containing halogenated silanes such as dimethylvinylchlorosilane; dimethylphenylchlorosilane, diphenylmethylchlorosilane, dimethylphenylchlorosilane, diphenylmethylchlorosilane, methylphenylvinylchlorosilane, etc. Phenyl group-containing halogenated silane; Halogenated alkyl group-containing halogenated silanes such as methyldimethylchlorosilane, 3-chloropropyldimethylchlorosilane, dichloromethyldimethylchlorosilane; alkoxy group-containing halogenated silanes such as trimethoxychlorosilane, triethoxychlorosilane, dimethoxymethylchlorosilane; dimethyldichlorosilane, Dihalogenated silanes such as diethyldichlorosilane, dipropyldichlorosilane, dibutyldichlorosilane, and dihexyldichlorosilane; disilanes such as hexamethyldisilane, hexaethyldisilane, and hexaphenyldisilane; bis (trimethylsilyl) acetamide, bis (triethylsilyl) ) Silylated acetamides such as acetamide and bis (triphenylsilyl) acetamide; hexamethyldisila Disilazane of emissions, and the like.

前記シリル化ジアミン化合物は、公知の方法によって得ることができる。例えば前記シリル化ジアミン化合物は、ジアミンをシリル化してシリル化ジアミン化合物を得る、特開平1−217420号公報に記載された方法によって得ることができる。   The silylated diamine compound can be obtained by a known method. For example, the silylated diamine compound can be obtained by a method described in JP-A-1-217420, wherein a silyl is silylated to obtain a silylated diamine compound.

なお、前記ジアミン又はその誘導体には、他にも存在する種々の形態のジアミンを、ポ
リイミド膜の用途等の所期の目的が達成される範囲内で用いることができる。
In addition, the diamine or its derivative can use various other forms of diamine as long as the intended purpose such as the use of the polyimide film is achieved.

前記テトラカルボン酸又はその誘導体は、一種でも二種以上でもよい。前記テトラカルボン酸又はその誘導体としては、例えばテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。前記テトラカルボン酸二無水物としては、例えば芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、及びシルセスキオキサン二無水物誘導体が挙げられる。   The tetracarboxylic acid or its derivative may be one kind or two or more kinds. As said tetracarboxylic acid or its derivative (s), tetracarboxylic dianhydride is mentioned, for example. Examples of the tetracarboxylic dianhydride include aromatic tetracarboxylic dianhydrides, aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, and silsesquioxane dianhydrides derivatives. It is done.

前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば下記構造式(1)〜(13)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include compounds represented by the following structural formulas (1) to (13).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば下記構造式(14)〜(62)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include compounds represented by the following structural formulas (14) to (62).

Figure 0005691273
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Figure 0005691273
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Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記シルセスキオキサン二無水物誘導体としては、例えば下記構造式(i)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the silsesquioxane dianhydride derivative include compounds represented by the following structural formula (i).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

さらに前記テトラカルボン酸二無水物としては、例えば側鎖構造を有するテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。側鎖構造を有するテトラカルボン酸二無水物としては、例えば下記構造式(63)及び(64)で表される、ステロイド骨格を有する化合物が挙げられる。   Further, examples of the tetracarboxylic dianhydride include a tetracarboxylic dianhydride having a side chain structure. Examples of the tetracarboxylic dianhydride having a side chain structure include compounds having a steroid skeleton represented by the following structural formulas (63) and (64).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

テトラカルボン酸二無水物をエステル化する1価のアルコール及び1価のアルコール誘導体としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、及びブタノールが挙げられる。テトラカルボン酸二無水物をエステル化してジカルボン酸ジエステル化合物を得る方法は、特開昭61−72022号公報に記載された方法に準じて行われる。   Examples of the monohydric alcohol and monohydric alcohol derivative that esterify tetracarboxylic dianhydride include methanol, ethanol, propanol, and butanol. A method of obtaining a dicarboxylic acid diester compound by esterifying tetracarboxylic dianhydride is carried out according to the method described in JP-A-61-72022.

なお、前記テトラカルボン酸二無水物には、他にも存在する種々の形態のテトラカルボン酸二無水物を、ポリイミド膜の用途等の所期の目的が達成される範囲内で用いることができる。   As the tetracarboxylic dianhydride, various other forms of tetracarboxylic dianhydride can be used as long as the intended purpose such as use of the polyimide film is achieved. .

前記ポリアミック酸又はその誘導体は、公知の方法を用いて製造することができる。例えば、原料投入口、窒素導入口、温度計、攪拌機及びコンデンサーを備えた反応容器に、前記ジアミンを仕込み、さらに必要に応じて所望量のモノアミンを仕込む。   The polyamic acid or a derivative thereof can be produced using a known method. For example, the diamine is charged into a reaction vessel equipped with a raw material inlet, a nitrogen inlet, a thermometer, a stirrer, and a condenser, and a desired amount of monoamine is charged as necessary.

次に、溶媒(例えばアミド系極性溶媒であるN−メチル−2−ピロリドンやジメチルホルムアミド等)及び前記テトラカルボン酸二無水物を投入し、さらに必要に応じて所望量のカルボン酸無水物を投入する。このときテトラカルボン酸二無水物の総仕込み量は、ジアミンの総モル数とほぼ等モル(モル比0.9〜1.1程度)とすることが好ましい。   Next, a solvent (for example, amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone or dimethylformamide) and the tetracarboxylic dianhydride are added, and a desired amount of carboxylic acid anhydride is added as necessary. To do. At this time, it is preferable that the total charge amount of tetracarboxylic dianhydride is approximately equal to the total number of moles of diamine (molar ratio of about 0.9 to 1.1).

攪拌下に温度0〜70℃で1〜48時間反応させることによりポリアミック酸の溶液を、好適に得ることができる。また、加熱して反応温度を上げる(例えば50〜80℃)ことにより、分子量の小さいポリアミック酸を得ることもできる。生成したポリアミック酸は、多量の貧溶媒で沈殿させ、固形分と溶媒とを濾過等により完全に分離することによって得られる。   A solution of polyamic acid can be suitably obtained by reacting at a temperature of 0 to 70 ° C. for 1 to 48 hours under stirring. Moreover, polyamic acid with small molecular weight can also be obtained by heating and raising reaction temperature (for example, 50-80 degreeC). The produced polyamic acid is obtained by precipitating with a large amount of a poor solvent and completely separating the solid and the solvent by filtration or the like.

得られたポリアミック酸は、所望の粘度に調整するために、後述する溶媒で希釈して使用することができる。   In order to adjust the obtained polyamic acid to a desired viscosity, it can be used after diluted with a solvent described later.

また得られたポリアミック酸は、溶媒と分離して、後述する各種添加剤と共に後述する溶媒に再溶解させてポリイミド系溶液として使用することもできるし、又は溶媒と分離することなく各種添加剤を添加してポリイミド系溶液として使用することもできる。   The obtained polyamic acid can be separated from the solvent and re-dissolved in the solvent described later together with various additives described later, and used as a polyimide-based solution, or various additives can be used without being separated from the solvent. It can also be added and used as a polyimide-based solution.

前記ポリアミック酸又はその誘導体において、前記ジアミンの一部はモノアミンに置き換えられてもよい。ジアミンの一部をモノアミンに置き換えることは、ポリアミック酸又はその誘導体を生成する重合反応のターミネーションを起こし、それ以上の反応の進行を抑えることから、得られるポリアミック酸又はその誘導体の分子量を容易に制御する観点から好ましい。ジアミンに対するモノアミンの比率は、本発明の効果が得られる範囲であればよく、目安として全アミンの10モル%以下であることが好ましい。   In the polyamic acid or derivative thereof, a part of the diamine may be replaced with a monoamine. Replacing a part of the diamine with a monoamine causes the termination of the polymerization reaction that produces the polyamic acid or its derivative and suppresses the progress of the further reaction, so the molecular weight of the resulting polyamic acid or its derivative can be easily controlled. From the viewpoint of The ratio of the monoamine to the diamine may be within a range in which the effects of the present invention can be obtained, and as a guideline, it is preferably 10 mol% or less of the total amine.

同様に、前記ポリアミック酸又はその誘導体において、前記テトラカルボン酸二無水物の一部はカルボン酸無水物に置き換えられてもよい。テトラカルボン酸二無水物の一部をカルボン酸無水物に置き換えることは、前記ポリアミック酸又はその誘導体を生成する重合反応のターミネーションを起こし、それ以上の反応の進行を抑えることから、ポリアミック酸又はその誘導体の分子量を容易に制御する観点から好ましい。前記テトラカルボン酸二無水物に対するカルボン酸無水物の比率は、本発明の効果が得られる範囲であればよく、目安として前記テトラカルボン酸二無水物の10モル%以下であることが好ましい。   Similarly, in the polyamic acid or derivative thereof, a part of the tetracarboxylic dianhydride may be replaced with a carboxylic acid anhydride. Replacing a part of the tetracarboxylic dianhydride with a carboxylic acid anhydride causes termination of the polymerization reaction to produce the polyamic acid or a derivative thereof, and suppresses further progress of the reaction. This is preferable from the viewpoint of easily controlling the molecular weight of the derivative. The ratio of the carboxylic acid anhydride to the tetracarboxylic dianhydride may be within a range in which the effect of the present invention can be obtained, and is preferably 10 mol% or less of the tetracarboxylic dianhydride as a guide.

前記ポリアミック酸エステルは、ジカルボン酸ジエステル化合物とジアミンからポリイミド前駆体として得ることができる。このようなポリアミック酸エステルの製造方法としては、例えば、縮合剤としてカルボジイミドを用いる方法(特開昭61−72022号公報)、炭酸ジエステルを用いる方法(特開昭62−72724号公報)、リン系化合物を用いる方法(特開2002−356554号公報)、及び、フェノール系溶剤中で加熱する方法(特開昭53−124596号公報)が挙げられる。   The polyamic acid ester can be obtained as a polyimide precursor from a dicarboxylic acid diester compound and a diamine. As a method for producing such a polyamic acid ester, for example, a method using carbodiimide as a condensing agent (Japanese Patent Laid-Open No. 61-72022), a method using a carbonic acid diester (Japanese Patent Laid-Open No. 62-72724), phosphorus-based Examples thereof include a method using a compound (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-356554) and a method of heating in a phenol solvent (Japanese Patent Laid-Open No. 53-124596).

また前記ポリアミック酸アミドは、例えば、前記テトラカルボン酸二無水物の一部を有機ジカルボン酸誘導体に置き換えること、又は前記テトラカルボン酸二無水物の一部若しくは全部をトリカルボン酸誘導体に置き換えることによって、ポリアミック酸−ポリアミド共重合体として得ることができる。ここで、テトラカルボン酸二無水物に対する有機ジカルボン酸の比率は、本発明の効果が得られる範囲であればよく、目安としては前記テトラカルボン酸二無水物の10モル%以下であることが好ましい。   The polyamic acid amide is, for example, by replacing a part of the tetracarboxylic dianhydride with an organic dicarboxylic acid derivative, or by replacing a part or all of the tetracarboxylic dianhydride with a tricarboxylic acid derivative. It can be obtained as a polyamic acid-polyamide copolymer. Here, the ratio of the organic dicarboxylic acid to the tetracarboxylic dianhydride may be within a range in which the effects of the present invention can be obtained, and as a guideline, it is preferably 10 mol% or less of the tetracarboxylic dianhydride. .

さらに、前記ポリアミドイミドは、例えば、該ポリアミック酸−ポリアミド共重合体を化学的にイミド化することによって得ることができる。   Furthermore, the polyamide-imide can be obtained, for example, by chemically imidizing the polyamic acid-polyamide copolymer.

前記ポリアミック酸又はその誘導体は、IR、NMRで分析することにより同定され得る。さらには、KOHやNaOH等の強アルカリの水溶液で固形のポリアミック酸又はその誘導体を分解後、有機溶媒で抽出し、GC、HPLC又はGC−MSで分析することにより、使用されているモノマーを同定することができる。   The polyamic acid or derivative thereof can be identified by analyzing by IR or NMR. Furthermore, after decomposing solid polyamic acid or its derivatives with an aqueous solution of strong alkali such as KOH or NaOH, the monomer used is identified by extracting with an organic solvent and analyzing by GC, HPLC or GC-MS. can do.

前記成膜性ポリイミド系成分は、溶剤に対する溶解度の観点から選ぶことができる。前記成膜性ポリイミド系成分は、前記ポリイミド系溶液から比較的析出しやすい成分を用いることが、本発明の効果をより顕著に得られる観点からこのましい。例えば、直線性が高い構造を有し、置換基を有さないポリアミック酸は、前記式(A)の化合物を含まない溶媒で溶液としたときに、析出しやすい傾向を有する。ここで、直線性が高い構造とは、直線状の構造であって、構造中に折れ曲がった構造を含まない状態を言う。このような特定の部分構造を有するポリアミック酸としては、例えば、二つのアミノ基の間又は二つのジカルボン酸無水物基の間の構造が、置換基を有さない構造であって、脂肪族環、芳香族環、これらの環の縮合環、又はこれらの環の二以上が単結合、1,2−エチレン、1,4−ブチレン等で結合している構造である前記ジアミン又はその誘導体及び前記テトラカルボン酸又はその誘導体の反応生成物の構造を有する化合物が挙げられる。   The film-forming polyimide component can be selected from the viewpoint of solubility in a solvent. As the film-forming polyimide component, it is preferable to use a component that is relatively easily precipitated from the polyimide solution from the viewpoint of more remarkably obtaining the effects of the present invention. For example, a polyamic acid having a structure with high linearity and having no substituent has a tendency to easily precipitate when made into a solution in a solvent not containing the compound of the formula (A). Here, the structure with high linearity is a linear structure, which means a state in which a bent structure is not included in the structure. Examples of the polyamic acid having such a specific partial structure include a structure in which the structure between two amino groups or two dicarboxylic anhydride groups does not have a substituent, and an aliphatic ring. , An aromatic ring, a condensed ring of these rings, or a structure in which two or more of these rings are bonded by a single bond, 1,2-ethylene, 1,4-butylene, etc. The compound which has the structure of the reaction product of tetracarboxylic acid or its derivative (s) is mentioned.

例えば、前記の部分構造を有するポリアミック酸において、前記の部分構造がジアミンによる場合、ジアミンの部分構造として以下のものが挙げられる。   For example, in the polyamic acid having the partial structure, when the partial structure is a diamine, examples of the partial structure of the diamine include the following.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

また、例えば、前記の部分構造を有するポリアミック酸において、前記の部分構造がテトラカルボン酸二無水物による場合、テトラカルボン酸の部分構造として以下のものが挙げられる。   For example, in the polyamic acid having the partial structure, when the partial structure is a tetracarboxylic dianhydride, examples of the partial structure of the tetracarboxylic acid include the following.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記ジアミン又はその誘導体としては、例えば前記構造式(V−1)、(VI−4)、(VI−8)、(VI−16)及び(VI−28)が挙げられ、前記テトラカルボン酸又はその誘導体としては、例えば前記構造式(1)、(2)、(10)、(13)及び(14)が挙げられる。   Examples of the diamine or derivatives thereof include the structural formulas (V-1), (VI-4), (VI-8), (VI-16), and (VI-28), and the tetracarboxylic acid or Examples of the derivatives include the structural formulas (1), (2), (10), (13), and (14).

また、前記成膜性ポリイミド系成分は、ポリイミド系溶液やポリイミド膜の用途の観点からさらに選ぶことができる。例えば、液晶配向膜を形成するためのポリイミド系溶液、すなわち液晶配向剤であれば、液晶配向膜における所期の特性が得られる構造を有する成膜性ポリイミド系成分を選ぶことができる。   The film-forming polyimide component can be further selected from the viewpoint of the use of a polyimide solution or a polyimide film. For example, in the case of a polyimide-based solution for forming a liquid crystal alignment film, that is, a liquid crystal aligning agent, a film-forming polyimide component having a structure capable of obtaining desired characteristics in the liquid crystal alignment film can be selected.

例えば液晶配向剤の場合では、前記ポリアミック酸又はその誘導体は、前記側鎖型ジアミンのような側鎖構造を有するジアミン又はテトラカルボン酸二無水物を用いることによって、液晶表示素子におけるプレチルト角を適宜調整することができ、任意の種類の液晶表示素子に適用することができる。プレチルト角としては、VA型液晶表示素子の場合には80〜90°程度の大きなプレチルト角が、OCB型液晶表示素子の場合には7〜20°程度のプレチルト角が、TN型液晶表示素子やSTN型液晶表示素子の場合には3〜10°程度のプレチルト角が、及びIPS型液晶表示素子の場合には0〜3°程度の小さなプレチルト角が要求される場合が多い。   For example, in the case of a liquid crystal aligning agent, the polyamic acid or a derivative thereof is appropriately adjusted to have a pretilt angle in a liquid crystal display device by using a diamine having a side chain structure such as the side chain diamine or a tetracarboxylic dianhydride. It can be adjusted and can be applied to any kind of liquid crystal display element. As the pretilt angle, in the case of a VA liquid crystal display element, a large pretilt angle of about 80 to 90 °, and in the case of an OCB liquid crystal display element, a pretilt angle of about 7 to 20 ° is used. In the case of an STN type liquid crystal display element, a pretilt angle of about 3 to 10 ° is often required, and in the case of an IPS type liquid crystal display element, a small pretilt angle of about 0 to 3 ° is often required.

VA型液晶表示素子、OCB型液晶表示素子、TN型液晶表示素子、STN型液晶表示素子等の大きなプレチルト角が要求される用途では、液晶配向膜において所望のプレチルト角を発現させる観点から、前記ジアミン又はその誘導体は、側鎖構造を有するジアミンを含むことが好ましい。   In applications requiring a large pretilt angle, such as a VA liquid crystal display element, an OCB liquid crystal display element, a TN type liquid crystal display element, and an STN type liquid crystal display element, from the viewpoint of expressing a desired pretilt angle in the liquid crystal alignment film, The diamine or derivative thereof preferably contains a diamine having a side chain structure.

また、液晶表示素子としたときの適切な配向性や適切なプレチルト角を得る観点から、TN、VA、及びIPSにおいては、前記ジアミン又はその誘導体は、前記直鎖型ジアミンを含むことが好ましい。前記ジアミン又はその誘導体中における前記直鎖型ジアミンのモル比は、1〜90%であることが好ましく、5〜80%であることがより好ましい。   Moreover, from the viewpoint of obtaining appropriate orientation and an appropriate pretilt angle when a liquid crystal display device is obtained, in TN, VA, and IPS, the diamine or derivative thereof preferably contains the linear diamine. The molar ratio of the linear diamine in the diamine or derivative thereof is preferably 1 to 90%, and more preferably 5 to 80%.

また、前記ポリアミック酸又はその誘導体を溶剤に可溶な形態とする観点から、前記テトラカルボン酸又はその誘導体は、前記テトラカルボン酸二無水物から適宜に選択されることが好ましい。   Further, from the viewpoint of making the polyamic acid or derivative thereof soluble in a solvent, the tetracarboxylic acid or derivative thereof is preferably selected from the tetracarboxylic dianhydride as appropriate.

前記テトラカルボン酸二無水物においても、液晶表示素子におけるプレチルト角を大きくする観点から、前記テトラカルボン酸又はその誘導体は、側鎖構造を有するテトラカルボン酸二無水物を含むことが好ましい。   Also in the tetracarboxylic dianhydride, from the viewpoint of increasing the pretilt angle in the liquid crystal display element, the tetracarboxylic acid or a derivative thereof preferably includes a tetracarboxylic dianhydride having a side chain structure.

さらに、前記テトラカルボン酸二無水物が前記芳香族テトラカルボン酸二無水物と、脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物の一方又は両方とを含むことは、液晶表示素子における残留電圧を低減する観点から好ましい。   Furthermore, the tetracarboxylic dianhydride includes the aromatic tetracarboxylic dianhydride and one or both of an aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an alicyclic tetracarboxylic dianhydride, This is preferable from the viewpoint of reducing the residual voltage in the display element.

前記のプレチルト角のように、ポリアミック酸又はその誘導体のモノマーの構造によって発現される特性は、そのような特性をもたらすモノマーを用いてポリアミック酸又はその誘導体を製造することによって得られる。モノマーによる特性は、このような特性をもたらす複数種のモノマーを用いて得られる一種のポリアミック酸又はその誘導体から得ることができ、またこのような特性をもたらす複数種のモノマーを用いて得られる二種以上のポリアミック酸又はその誘導体から得ることができる。   The characteristics expressed by the structure of the monomer of the polyamic acid or its derivative, such as the pretilt angle, can be obtained by producing the polyamic acid or its derivative using a monomer that provides such a characteristic. The characteristics of the monomer can be obtained from one kind of polyamic acid obtained by using a plurality of types of monomers that provide such characteristics, or derivatives thereof, and two types of characteristics that can be obtained by using a plurality of types of monomers that provide such characteristics. It can be obtained from more than one polyamic acid or derivative thereof.

モノマーの一部又は全部が異なる二種以上のポリアミック酸又はその誘導体がポリイミド系溶液に含有されることは、本発明のポリイミド系溶液として好ましい特性を付与する観点から好ましい。二種以上のポリアミック酸又はその誘導体の混合比は、ポリイミド系溶液の用途に応じた所望の特性が得られる程度であればよい。   It is preferable that two or more kinds of polyamic acids or derivatives thereof in which some or all of the monomers are different are contained in the polyimide-based solution from the viewpoint of imparting preferable characteristics as the polyimide-based solution of the present invention. The mixing ratio of two or more kinds of polyamic acids or derivatives thereof may be such that desired characteristics corresponding to the use of the polyimide-based solution can be obtained.

より具体的には、前記ジアミン又はその誘導体やテトラカルボン酸又はその誘導体の種類及びその組み合わせを適宜選択することにより、液晶配向剤に求められる、さらに良好な残留電圧の低減や好適なプレチルト角等の所望の特性を付与することができ、また向上させることができる。   More specifically, by appropriately selecting the type of diamine or derivative thereof, tetracarboxylic acid or derivative thereof, and a combination thereof, further required reduction in residual voltage, suitable pretilt angle, etc. Desired properties can be imparted and improved.

前述した液晶配向剤の用途や特性の観点から、より好ましい直鎖型ジアミンとしては、前記構造式(V−1)〜(V−5)、(VI−1)〜(VI−10)、(VI−21)、(VI−22)、(VI−26)、(VII−1)、(VII−2)、(VII−6)、及び(VIII−1)で表されるジアミンが挙げられ、さらに好ましい直鎖型ジアミンとしては、前記構造式(V−1)、(V−2)、(VI−1)〜(VI−10)及び(VI−26)で表されるジアミンが挙げられる。   From the viewpoints of the use and properties of the liquid crystal aligning agent described above, more preferable linear diamines include the structural formulas (V-1) to (V-5), (VI-1) to (VI-10), ( VI-21), (VI-22), (VI-26), (VII-1), (VII-2), (VII-6), and diamines represented by (VIII-1). More preferable linear diamines include diamines represented by the structural formulas (V-1), (V-2), (VI-1) to (VI-10) and (VI-26).

また、前述した液晶配向剤の用途や特性の観点から、より好ましい前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、前記構造式(1)、(2)、(5)、(6)及び(7)で表される化合物が挙げられ、さらに好ましい前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、構造式(1)で表されるピロメリット酸二無水物が挙げられる。   Further, from the viewpoint of the use and characteristics of the liquid crystal aligning agent described above, more preferable aromatic tetracarboxylic dianhydrides include the structural formulas (1), (2), (5), (6) and (7 ), And more preferable examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride represented by the structural formula (1).

さらに、前述した液晶配向剤の用途や特性の観点から、より好ましい前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、前記構造式(14)〜(29)、及び(60)で表される化合物が挙げられ、さらに好ましい前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、前記構造式(14)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。   Furthermore, from the viewpoints of the use and properties of the liquid crystal aligning agent described above, more preferable examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include the structural formulas (14) to (29), And the compound represented by (60), and more preferable examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride and alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2 represented by the structural formula (14). 3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride.

また、可溶性ポリイミドを生成するためのポリアミック酸を構成する観点から、より好ましい前記脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、前記構造式(19)、(20)、(27)〜(29)、及び(60)で表される化合物が挙げられる。   Further, from the viewpoint of constituting a polyamic acid for producing a soluble polyimide, more preferable examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include the structural formulas (19) and (20 ), (27) to (29), and compounds represented by (60).

前記溶媒は、前記式(A)で表される化合物を含有する。前記溶媒は、前記式(A)の化合物のみからなっていてもよいが、成膜性ポリイミド系成分の溶解性の向上や、ポリイミド膜の用途に基づく所期の特性の向上や付与の観点から、他の溶剤との混合溶媒であることが好ましい。前記溶媒中の式(A)の化合物の含有量は、ポリイミド系溶液の塗膜の平滑化の効果を得る観点では、1重量%以上であることが好ましく、2重量%以上であることがより好ましく、5重量%以上であることが特に好ましい。また、前記溶媒中の式(A)の化合物の含有量は、成膜性ポリイミド系成分の析出を抑制する効果を得る観点では、80重量%以下であることが好ましく、70重量%以下であることがより好ましく、60重量%以下であることが特に好ましい。   The solvent contains a compound represented by the formula (A). The solvent may be composed only of the compound of the formula (A), but from the viewpoint of improving the solubility of the film-forming polyimide-based component and improving the desired properties based on the use of the polyimide film. A mixed solvent with other solvents is preferable. The content of the compound of the formula (A) in the solvent is preferably 1% by weight or more and more preferably 2% by weight or more from the viewpoint of obtaining the effect of smoothing the coating film of the polyimide-based solution. It is preferably 5% by weight or more. Further, the content of the compound of the formula (A) in the solvent is preferably 80% by weight or less, and preferably 70% by weight or less from the viewpoint of obtaining the effect of suppressing the deposition of the film-forming polyimide component. More preferably, it is particularly preferably 60% by weight or less.

前記溶媒のうち、式(A)で表される化合物以外の溶媒は、ポリアミック酸、ポリイミド、及びポリアミドイミド等の高分子成分の製造工程やその用途において通常使用されている溶媒の中から、使用目的に応じて適宜選択され得る。このような他の溶媒は、例えば、ポリイミド系溶液の粘度等の物性の調整、取り扱いの容易さ、工程の簡略化等の観点から用いることができる。前記他の溶媒は一種でも二種以上でもよい。前記他の溶媒としては、例えばポリアミック酸又はその誘導体に対して易溶性である非プロトン性極性有機溶媒、及び表面張力を変えて塗布性改善等を目的とする塗布性改善溶媒が挙げられ、前記他の溶媒はこれらを含む混合溶媒であることが好ましい。   Among the solvents, solvents other than the compound represented by the formula (A) are used from among the solvents usually used in the production process and applications of polymer components such as polyamic acid, polyimide, and polyamideimide. It can be appropriately selected according to the purpose. Such other solvents can be used, for example, from the viewpoints of adjusting physical properties such as the viscosity of the polyimide-based solution, ease of handling, and simplification of the process. The other solvent may be one kind or two or more kinds. Examples of the other solvent include an aprotic polar organic solvent that is easily soluble in polyamic acid or a derivative thereof, and a coating property improving solvent for improving coating property by changing the surface tension. The other solvent is preferably a mixed solvent containing them.

前記非プロトン性極性有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、N−メチルカプロラクタム、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素、γ−ブチロラクトン、及びγ−バレロラクトンが挙げられる。前記非プロトン性極性有機溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、γ−ブチロラクトン、及びγ−バレロラクトンから選ばれる一以上であることが好ましい。   Examples of the aprotic polar organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N′-dimethylimidazolidinone, N-methylcaprolactam, N, N-dimethylpropionamide, N, N-dimethylacetamide, and dimethyl. Examples include sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-diethylacetamide, N, N, N ′, N′-tetramethylurea, γ-butyrolactone, and γ-valerolactone. The aprotic polar organic solvent is preferably at least one selected from N-methyl-2-pyrrolidone, N, N′-dimethylimidazolidinone, γ-butyrolactone, and γ-valerolactone.

前記塗布性改善溶媒としては、例えば乳酸アルキル、3−メチル−3−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキル又はフェニルアセテート、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジアルキル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のジプロピレングリコールモノアルキルエーテル、及びこれらアセテート類等のエステル化合物が挙げられる。前記塗布性改善溶媒は、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、及びジプロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる一以上であることが好ましい。   Examples of the coating property improving solvent include alkyl lactate, 3-methyl-3-methoxybutanol, tetralin, isophorone, ethylene glycol monoalkyl ether such as ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoalkyl ether such as diethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Monoalkyl or phenyl acetate, propylene glycol monoalkyl ether such as triethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dialkyl malonate such as diethyl malonate, dipropylene glycol monoalkyl ether such as dipropylene glycol monomethyl ether, and the like Examples include ester compounds such as acetates. The coating property improving solvent is preferably at least one selected from ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether.

非プロトン性極性溶媒と塗布性改善溶媒の種類及び割合は、ポリイミド系溶液の印刷性、塗布性、溶解性及び保存安定性等を考慮して、適宜に設定することができる。非プロトン性極性溶媒は、塗布性改善溶媒よりも相対的に溶解性及び保存安定性に優れ、塗布性改善溶媒は印刷性及び塗布性に優れる傾向がある。   The types and ratios of the aprotic polar solvent and the coatability improving solvent can be appropriately set in consideration of the printability, coatability, solubility, storage stability, and the like of the polyimide-based solution. The aprotic polar solvent is relatively superior in solubility and storage stability to the applicability improving solvent, and the applicability improving solvent tends to be excellent in printability and applicability.

本発明のポリイミド系溶液は、前述した成膜性ポリイミド系成分及び溶媒以外の他の成分をさらに含有していてもよい。このような他の成分としては、例えば添加剤が挙げられる。前記添加剤は、ポリイミド系溶液の特定の性質を向上させる目的で用いられる成分であればよく、一種でも二種以上でもよい。前記添加剤としては、それぞれの目的に応じて用いられる、成膜性ポリイミド系成分以外の高分子化合物及び低分子化合物が挙げられる。   The polyimide-based solution of the present invention may further contain components other than the film-forming polyimide-based component and the solvent described above. Examples of such other components include additives. The said additive should just be a component used in order to improve the specific property of a polyimide-type solution, and may be 1 type, or 2 or more types. Examples of the additive include high-molecular compounds and low-molecular compounds other than the film-forming polyimide-based component that are used in accordance with the respective purposes.

前記高分子化合物は、前記溶媒に可溶性の高分子化合物であることが、ポリイミド系溶液から形成される液晶配向膜の電気特性や配向性を制御する観点から好ましい。このような高分子化合物としては、例えばポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエステル、ポリエポキサイド、ポリエステルポリオール、シリコーン変性ポリウレタン、シリコーン変性ポリエステルが挙げられる。   The polymer compound is preferably a polymer compound that is soluble in the solvent from the viewpoint of controlling the electrical properties and orientation of a liquid crystal alignment film formed from a polyimide-based solution. Examples of such a polymer compound include polyamide, polyurethane, polyurea, polyester, polyepoxide, polyester polyol, silicone-modified polyurethane, and silicone-modified polyester.

前記低分子化合物としては、例えば界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、チタン系のカップリング剤、及びイミド化触媒が挙げられる。界面活性剤はポリイミド系溶液の塗布性を向上させる観点から好ましい。帯電防止剤はポリイミド系溶液及びそれから形成される液晶配向膜の帯電防止性を向上させる観点から好ましい。シランカップリング剤及びチタン系のカップリング剤は、ポリイミド系溶液から形成される液晶配向膜の基板との密着性や耐ラビング性を向上させる観点から好ましい。イミド化触媒は、ポリイミド系溶液からの液晶配向膜の形成において低温でイミド化を進行させる観点から好ましい。   Examples of the low molecular weight compound include surfactants, antistatic agents, silane coupling agents, titanium-based coupling agents, and imidization catalysts. The surfactant is preferable from the viewpoint of improving the applicability of the polyimide-based solution. The antistatic agent is preferable from the viewpoint of improving the antistatic property of the polyimide-based solution and the liquid crystal alignment film formed therefrom. A silane coupling agent and a titanium-based coupling agent are preferable from the viewpoint of improving adhesion and rubbing resistance of the liquid crystal alignment film formed from the polyimide-based solution to the substrate. The imidization catalyst is preferable from the viewpoint of proceeding imidization at a low temperature in the formation of the liquid crystal alignment film from the polyimide-based solution.

前記シランカップリング剤としては、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロピルアミン、及びN,N'−ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]エチレンジアミンが挙げられる。   Examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyl. Trimethoxysilane, paraaminophenyltrimethoxysilane, paraaminophenyltriethoxysilane, metaaminophenyltrimethoxysilane, metaaminophenyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycid Xylpropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloro Propyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, N- (1,3-dimethylbutylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propylamine, and N , N′-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine.

前記イミド化触媒としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族アミン類;N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、メチル置換アニリン、ヒドロキシ置換アニリン等の芳香族アミン類;ピリジン、メチル置換ピリジン、ヒドロキシ置換ピリジン、キノリン、メチル置換キノリン、ヒドロキシ置換キノリン、イソキノリン、メチル置換イソキノリン、ヒドロキシ置換イソキノリン、イミダゾール、メチル置換イミダゾール、ヒドロキシ置換イミダゾール等の環式アミン類が挙げられる。前記イミド化触媒は、N,N−ジメチルアニリン、o−、m−、p−ヒドロキシアニリン、o−、m−、p−ヒドロキシピリジン、及びイソキノリンから選ばれる一以上であることが好ましい。   Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, and tributylamine; aromatic amines such as N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, methyl-substituted aniline, and hydroxy-substituted aniline. And cyclic amines such as pyridine, methyl-substituted pyridine, hydroxy-substituted pyridine, quinoline, methyl-substituted quinoline, hydroxy-substituted quinoline, isoquinoline, methyl-substituted isoquinoline, hydroxy-substituted isoquinoline, imidazole, methyl-substituted imidazole, and hydroxy-substituted imidazole. . The imidation catalyst is preferably one or more selected from N, N-dimethylaniline, o-, m-, p-hydroxyaniline, o-, m-, p-hydroxypyridine, and isoquinoline.

シランカップリング剤の添加量は、通常、成膜性ポリイミド系成分100重量部に対して0〜30重量部であり、0.05〜20重量部であることが好ましい。   The addition amount of the silane coupling agent is usually 0 to 30 parts by weight and preferably 0.05 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the film-forming polyimide component.

イミド化触媒の添加量は、通常、成膜性ポリイミド系成分のカルボニル基に対して0〜5当量であり、0.05〜3当量であることが好ましい。   The amount of the imidation catalyst added is usually 0 to 5 equivalents, preferably 0.05 to 3 equivalents, relative to the carbonyl group of the film forming polyimide component.

その他の添加剤の添加量は、その用途に応じて異なるが、通常、成膜性ポリイミド系成分100重量部に対して0〜30重量部であり、0.1〜20重量部であることが好ましい。   The addition amount of other additives varies depending on the application, but is usually 0 to 30 parts by weight, and 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the film-forming polyimide component. preferable.

前記添加物には、本発明のポリイミド系溶液が液晶配向膜の形成に用いられる場合、すなわち液晶配向剤である場合では、液晶配向剤に用いられる、液晶配向膜の特性を向上させる成分を用いることができる。例えば、本発明のポリイミド系溶液は、液晶表示素子の電気特性を長期に安定させる観点から、アルケニル置換ナジイミド化合物をさらに含有していてもよい。前記アルケニル置換ナジイミド化合物は一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物であってもよい。前記アルケニル置換ナジイミド化合物の含有量は、上記の観点から、ポリイミド系溶液中の成膜性ポリイミド系成分に対する重量比で0.01〜1.00であることが好ましく、0.01〜0.70であることがより好ましく、0.01〜0.50であることがさらに好ましい。   When the polyimide-based solution of the present invention is used for forming a liquid crystal alignment film, that is, when it is a liquid crystal alignment agent, a component that improves the characteristics of the liquid crystal alignment film is used for the additive. be able to. For example, the polyimide-based solution of the present invention may further contain an alkenyl-substituted nadiimide compound from the viewpoint of stabilizing the electrical characteristics of the liquid crystal display element over a long period of time. The alkenyl-substituted nadiimide compound may be a single compound or two or more compounds. From the above viewpoint, the content of the alkenyl-substituted nadiimide compound is preferably 0.01 to 1.00 as a weight ratio with respect to the film forming polyimide component in the polyimide solution, and 0.01 to 0.70. It is more preferable that it is 0.01 to 0.50.

前記アルケニル置換ナジイミド化合物は、前記溶媒に溶解させることができる化合物であることが好ましい。このようなアルケニル置換ナジイミド化合物の例は、下記一般式(Ina)で表される化合物が挙げられる。   The alkenyl-substituted nadiimide compound is preferably a compound that can be dissolved in the solvent. Examples of such alkenyl-substituted nadiimide compounds include compounds represented by the following general formula (Ina).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(Ina)中、L1及びL2は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜12のアルキル、炭素数3〜6のアルケニル、炭素数5〜8のシクロアルキル、アリール又はベンジルを表し、nは1又は2を表す。 In the general formula (Ina), L 1 and L 2 each independently represent hydrogen, alkyl having 1 to 12 carbons, alkenyl having 3 to 6 carbons, cycloalkyl having 5 to 8 carbons, aryl or benzyl. , N represents 1 or 2.

n=1のとき、Wは炭素数1〜12のアルキル、炭素数2〜6のアルケニル、炭素数5〜8のシクロアルキル、炭素数6〜12のアリール、ベンジル、−Z1−(O)q−(Z2O)r−Z3−H(Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立して炭素数2〜6のアルキレンを表し、qは0又は1を表し、そしてrは1〜30の整数を表す。)で表される基、−(Z4s−B−Z5−H(Z4及びZ5はそれぞれ炭素数1〜4のアルキレン又は炭素数5〜8のシクロアルキレンを表し、Bはフェニレンを表し、そしてsは0又は1を表す。)で表される基、−B−T−B−H(Bはフェニレンを表し、そしてTは−CH2−、−C(CH32−、−O−、−CO−、−S−又はSO2−を表す。)で表される基、又はこれらの基の1〜3個の水素が水酸基で置換された基を表す。 When n = 1, W is alkyl of 1 to 12 carbon atoms, alkenyl having 2 to 6 carbon atoms, cycloalkyl of 5 to 8 carbon atoms, having 6 to 12 carbon atoms aryl, benzyl, -Z 1 - (O) q - (Z 2 O) r -Z 3 -H (Z 1, Z 2 and Z 3 each independently represents an alkylene having 2 to 6 carbon atoms, q represents 0 or 1, and r is 1 -(Z 4 ) s -BZ 5 -H (wherein Z 4 and Z 5 are each an alkylene having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkylene having 5 to 8 carbon atoms, each represents an integer of 30). , B represents phenylene, and s represents 0 or 1,) -B-T-B-H (B represents phenylene, and T represents —CH 2 —, —C (CH 3) 2 -, - O -, - CO -, - S- or SO 2 -. a group represented by representative), or 1 to 3 hydrogens of these groups It represents a substituted group with an acid group.

このとき、好ましいWは、炭素数1〜8のアルキル、炭素数3〜4のアルケニル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、炭素数4〜10のポリ(エチレンオキシ)エチル、フェニルオキシフェニル、フェニルメチルフェニル、フェニルイソプロピリデンフェニル、及びこれらの基の1個又は2個の水素が水酸基で置き換えられた基である。   At this time, preferable W is alkyl having 1 to 8 carbons, alkenyl having 3 to 4 carbons, cyclohexyl, phenyl, benzyl, poly (ethyleneoxy) ethyl having 4 to 10 carbons, phenyloxyphenyl, phenylmethylphenyl, Phenyl isopropylidene phenyl and groups in which one or two hydrogens of these groups are replaced by hydroxyl groups.

一般式(Ina)においてn=2のとき、Wは炭素数2〜20のアルキレン、炭素数5〜8のシクロアルキレン、炭素数6〜12のアリーレン、−Z1−O−(Z2O)r−Z3−(Z1〜Z3、及びrの意味は前記の通りである。)で表される基、−Z4−B−Z5−(Z4、Z5及びBの意味は前記の通りである。)で表される基、−B−(O−B)s−T−(B−O)s−B−(Bはフェニレンを表し、Tは炭素数1〜3のアルキレン、−O−又は−SO2−を表し、sは0又は1を表す。)で表される基、又はこれらの基の1〜3個の水素が水酸基で置き換えられた基を表す。 Formula when n = 2 in (Ina), W is an alkylene of 2 to 20 carbon atoms, cycloalkylene of 5 to 8 carbon atoms, arylene having 6 to 12 carbon atoms, -Z 1 -O- (Z 2 O ) a group represented by r— Z 3 — (the meanings of Z 1 to Z 3 and r are as described above), —Z 4 —B—Z 5 — (the meanings of Z 4 , Z 5 and B are are as described above. groups represented by), -B- (O-B) s -T- (B-O) s -B- (B represents a phenylene, T is alkylene of 1 to 3 carbon atoms , -O- or -SO 2 - represents, s represents a group represented by, or one to three hydrogen is replaced with a hydroxyl group of these groups represent) 0 or 1..

このとき、好ましいWは炭素数2〜12のアルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、トリレン、キシリレン、−C36−O−(Z2−O)r−O−C36−(Z2は独立して炭素数2〜6のアルキレンを表し、rは1又は2を表す)で表される基、−B−T−B−(Bはフェニレンを表し、そしてTは−CH2−、−O−又は−SO2−を表す)で表される基、−B−O−B−C36−B−O−B−(Bはフェニレンを表す)で表される基、及びこれらの基の1個又は2個の水素が水酸基で置き換えられた基である。 In this case, preferable W is alkylene having 2 to 12 carbon atoms, cyclohexylene, phenylene, tolylene, xylylene, —C 3 H 6 —O— (Z 2 —O) r —O—C 3 H 6 — (Z 2 is A group independently represented by alkylene having 2 to 6 carbon atoms, r represents 1 or 2, and -B-T-B- (B represents phenylene, and T represents -CH 2 -,- O— or —SO 2 —), a group represented by —B—O—B—C 3 H 6 —B—O—B— (B represents phenylene), and these A group in which one or two hydrogens of a group are replaced by a hydroxyl group.

このようなアルケニル置換ナジイミド化合物は、例えば特許第2729565号公報に記載されているように、アルケニル置換ナジック酸無水物誘導体とジアミンとを80〜220℃の温度で0.5〜20時間保持することにより合成して得られる化合物や市販されている化合物を用いることができる。アルケニル置換ナジイミド化合物の具体例として、以下に示す化合物が挙げられる。   Such an alkenyl-substituted nadiimide compound, as described in, for example, Japanese Patent No. 2729565, holds an alkenyl-substituted nadic acid anhydride derivative and a diamine at a temperature of 80 to 220 ° C. for 0.5 to 20 hours. A compound obtained by synthesis by the method or a commercially available compound can be used. Specific examples of the alkenyl-substituted nadiimide compound include the following compounds.

N−メチル−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−メチル−アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−メチル−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−メチル−メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−エチルヘキシル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、   N-methyl-allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-methyl-allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3 -Dicarboximide, N-methyl-methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-methyl-methallylmethylbicyclo [2.2.1] hept- 5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2-ethylhexyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide,

N−(2−エチルヘキシル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−アリル−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−アリル−アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−アリル−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−イソプロペニル−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−イソプロペニル−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−イソプロペニル−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−シクロヘキシル−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−シクロヘキシル−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−シクロヘキシル−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−フェニル−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、   N- (2-ethylhexyl) -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-allyl-allylbicyclo [2.2.1] hept-5 -Ene-2,3-dicarboximide, N-allyl-allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-allyl-methallylbicyclo [2.2 .1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-isopropenyl-allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-isopropenyl- Allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-isopropenyl-methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3 -Dicarboxyl N-cyclohexyl-allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-cyclohexyl-allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide, N-cyclohexyl-methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-phenyl-allylbicyclo [2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide,

N−フェニル−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ベンジル−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ベンジル−アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−ベンジル−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−ヒドロキシエチル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−ヒドロキシエチル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−ヒドロキシエチル)−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、   N-phenyl-allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-benzyl-allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2 , 3-dicarboximide, N-benzyl-allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N-benzyl-methallylbicyclo [2.2.1] hept -5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2-hydroxyethyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2- Hydroxyethyl) -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2-hydroxyethyl) -methallylbicyclo [2.2.1] hept -5-ene- , 3-dicarboximide,

N−(2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2,3−ジヒドロキシプロピル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(3−ヒドロキシ−1−プロペニル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、   N- (2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2,2-dimethyl-3-hydroxy Propyl) -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2,3-dihydroxypropyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept -5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2,3-dihydroxypropyl) -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (3-hydroxy-1-propenyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-hydroxycyclohexyl) -allyl (methyl) bicycle [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide,

N−(4−ヒドロキシフェニル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)−メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(p−ヒドロキシベンジル)−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル}−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、   N- (4-hydroxyphenyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-hydroxyphenyl) -allyl (methyl) bicyclo [2.2 .1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-hydroxyphenyl) -methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-hydroxyphenyl) -methallylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (3-hydroxyphenyl) -allylbicyclo [2.2. 1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (3-hydroxyphenyl) -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide , -(P-hydroxybenzyl) -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- {2- (2-hydroxyethoxy) ethyl} -allylbicyclo [2. 2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide,

N−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル}−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル}−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル}−メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−〔2−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ}エチル〕−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−〔2−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ}エチル〕−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−〔2−{2−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ}エチル〕−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−{4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン)フェニル}−アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−{4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン)フェニル}−アリル(メチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−{4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピリデン)フェニル}−メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、及びこれらのオリゴマー、   N- {2- (2-hydroxyethoxy) ethyl} -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- {2- (2-hydroxyethoxy) ) Ethyl} -methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- {2- (2-hydroxyethoxy) ethyl} -methallylmethylbicyclo [2.2 .1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- [2- {2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy} ethyl] -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide, N- [2- {2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy} ethyl] -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3- Dicarboximide, N- 2- {2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy} ethyl] -methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- {4- (4-hydroxyphenyl) Isopropylidene) phenyl} -allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- {4- (4-hydroxyphenylisopropylidene) phenyl} -allyl (methyl) bicyclo [2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- {4- (4-hydroxyphenylisopropylidene) phenyl} -methallylbicyclo [2.2.1] hept-5 -Ene-2,3-dicarboximide and oligomers thereof,

N,N’−エチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−エチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−エチレン−ビス(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−トリメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ドデカメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ドデカメチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−シクロヘキシレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−シクロヘキシレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、   N, N′-ethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-ethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2. 1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-ethylene-bis (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) N, N′-trimethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-hexamethylene-bis (allylbicyclo [2.2 .1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-hexamethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxy Imide), N, N′-dodecamethylene Bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N'-dodecamethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5- Ene-2,3-dicarboximide), N, N′-cyclohexylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′— Cyclohexylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide),

1,2−ビス{3’−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}エタン、1,2−ビス{3’−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}エタン、1,2−ビス{3’−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}エタン、ビス〔2’−{3’−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}エチル〕エーテル、ビス〔2’−{3’−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}エチル〕エーテル、1,4−ビス{3’−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}ブタン、1,4−ビス{3’−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}ブタン、   1,2-bis {3 ′-(allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) propoxy} ethane, 1,2-bis {3 ′-(allylmethylbicyclo) [2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximido) propoxy} ethane, 1,2-bis {3 ′-(methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximido) propoxy} ethane, bis [2 '-{3'-(allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) propoxy} ethyl] Ether, bis [2 ′-{3 ′-(allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) propoxy} ethyl] ether, 1,4-bis {3 ′ -(Allylbicyclo [2.2.1] he To-5-ene-2,3-dicarboximido) propoxy} butane, 1,4-bis {3 ′-(allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxy Imido) propoxy} butane,

N,N’−p−フェニレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−フェニレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−フェニレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−フェニレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−{(1−メチル)−2,4−フェニレン}−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−キシリレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−キシリレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、   N, N′-p-phenylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-p-phenylene-bis (allylmethylbicyclo [ 2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-phenylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3 -Dicarboximide), N, N′-m-phenylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N ′-{(1 -Methyl) -2,4-phenylene} -bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N'-p-xylylene-bis (allylbicyclo) [2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dica Boxoxyimide), N, N′-p-xylylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-xylylene-bis ( Allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-xylylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide),

2,2−ビス〔4−{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、   2,2-bis [4- {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, 2,2-bis [4- { 4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, 2,2-bis [4- {4- (methallylbicyclo [2] 2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-di Carboximido) phenyl} methane, bis {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane,

ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}エーテル、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}エーテル、ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}エーテル、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}スルホン、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}スルホン、   Bis {4- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane, bis {4- (methallylmethylbicyclo [2.2.1] hept -5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} ether, bis {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} ether, bis {4- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5 -Ene-2,3-dicarboximido) phenyl} ether, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} sulfone, bis {4 -(Ant Methylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) phenyl} sulfone,

ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}スルホン、1,6−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−3−ヒドロキシ−ヘキサン、1,12−ビス(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−3,6−ジヒドロキシ−ドデカン、1,3−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−5−ヒドロキシ−シクロヘキサン、1,5−ビス{3’−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)プロポキシ}−3−ヒドロキシ−ペンタン、1,4−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−2−ヒドロキシ−ベンゼン、   Bis {4- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} sulfone, 1,6-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept- 5-ene-2,3-dicarboximide) -3-hydroxy-hexane, 1,12-bis (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide)- 3,6-dihydroxy-dodecane, 1,3-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) -5-hydroxy-cyclohexane, 1,5-bis { 3 ′-(allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) propoxy} -3-hydroxy-pentane, 1,4-bis (allylbicyclo [2.2.1 ] Hept-5-ene 2,3-dicarboximide) -2-hydroxy - benzene,

1,4−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−2,5−ジヒドロキシ−ベンゼン、N,N’−p−(2−ヒドロキシ)キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−(2−ヒドロキシ)キシリレン−ビス(アリルメチルシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−(2−ヒドロキシ)キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−(2−ヒドロキシ)キシリレン−ビス(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−(2,3−ジヒドロキシ)キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、   1,4-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) -2,5-dihydroxy-benzene, N, N′-p- (2-hydroxy ) Xylylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-p- (2-hydroxy) xylylene-bis (allylmethylcyclo [2] 2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m- (2-hydroxy) xylylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide), N, N'-m- (2-hydroxy) xylylene-bis (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) , N, N′-p- (2,3-dihi Proxy) xylylene - bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide),

2,2−ビス〔4−{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−2−ヒドロキシ−フェノキシ}フェニル〕プロパン、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−2−ヒドロキシ−フェニル}メタン、ビス{3−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−4−ヒドロキシ−フェニル}エーテル、ビス{3−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)−5−ヒドロキシ−フェニル}スルホン、1,1,1−トリ{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)}フェノキシメチルプロパン、N,N’,N”−トリ(エチレンメタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)イソシアヌレート、及びこれらのオリゴマー等。   2,2-bis [4- {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) -2-hydroxy-phenoxy} phenyl] propane, bis {4- (Allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) -2-hydroxy-phenyl} methane, bis {3- (allylbicyclo [2.2.1] hept- 5-ene-2,3-dicarboximide) -4-hydroxy-phenyl} ether, bis {3- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) -5-hydroxy-phenyl} sulfone, 1,1,1-tri {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide)} phenoxymethylpropane, N , N , N "- tri (ethylene methallyl ruby [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) isocyanurate, and the like of these oligomers.

さらに、本発明に用いられるアルケニル置換ナジイミド化合物は、非対称なアルキレン・フェニレン基を含む下記構造式で表される化合物でもよい。   Furthermore, the alkenyl-substituted nadiimide compound used in the present invention may be a compound represented by the following structural formula containing an asymmetric alkylene / phenylene group.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記アルケニル置換ナジイミド化合物のうち、好ましい化合物を次に示す。
N,N’−エチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−エチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−エチレン−ビス(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−トリメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ドデカメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ドデカメチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−シクロヘキシレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−シクロヘキシレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、
Among the alkenyl-substituted nadiimide compounds, preferred compounds are shown below.
N, N′-ethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-ethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2. 1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-ethylene-bis (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) N, N′-trimethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-hexamethylene-bis (allylbicyclo [2.2 .1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-hexamethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxy Imide), N, N′-dodecamethylene-bis (a) Rilbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-dodecamethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2 , 3-dicarboximide), N, N′-cyclohexylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-cyclohexylene- Bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide),

N,N’−p−フェニレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−フェニレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−フェニレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−フェニレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−{(1−メチル)−2,4−フェニレン}−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−キシリレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−キシリレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、2,2−ビス〔4−{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、   N, N′-p-phenylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-p-phenylene-bis (allylmethylbicyclo [ 2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-phenylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3 -Dicarboximide), N, N′-m-phenylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N ′-{(1 -Methyl) -2,4-phenylene} -bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N'-p-xylylene-bis (allylbicyclo) [2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dica Boxoxyimide), N, N′-p-xylylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-xylylene-bis ( Allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-xylylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide), 2,2-bis [4- {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane 2,2-bis [4- {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, 2,2-bis [4 -{4- (methallylbicyclo 2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3- Dicarboximido) phenyl} methane, bis {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane,

ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}エーテル、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}エーテル、ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}エーテル、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}スルホン、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}スルホン、ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}スルホン。   Bis {4- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane, bis {4- (methallylmethylbicyclo [2.2.1] hept -5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} ether, bis {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} ether, bis {4- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5 -Ene-2,3-dicarboximido) phenyl} ether, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} sulfone, bis {4 -(Ant Methylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} sulfone, bis {4- (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2, 3-Dicarboximido) phenyl} sulfone.

更に好ましいアルケニル置換ナジイミド化合物を次に示す。
N,N’−エチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−エチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−エチレン−ビス(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−トリメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ドデカメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−ドデカメチレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−シクロヘキシレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−シクロヘキシレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、
Further preferred alkenyl-substituted nadiimide compounds are shown below.
N, N′-ethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-ethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2. 1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-ethylene-bis (methallylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) N, N′-trimethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-hexamethylene-bis (allylbicyclo [2.2 .1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-hexamethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxy Imide), N, N′-dodecamethylene-bis (a) Rilbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-dodecamethylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2 , 3-dicarboximide), N, N′-cyclohexylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-cyclohexylene- Bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide),

N,N’−p−フェニレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−フェニレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−フェニレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−フェニレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−{(1−メチル)−2,4−フェニレン}−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−p−キシリレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、N,N’−m−キシリレン−ビス(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、   N, N′-p-phenylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-p-phenylene-bis (allylmethylbicyclo [ 2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-phenylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3 -Dicarboximide), N, N′-m-phenylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N ′-{(1 -Methyl) -2,4-phenylene} -bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N'-p-xylylene-bis (allylbicyclo) [2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dica Boxoxyimide), N, N′-p-xylylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-xylylene-bis ( Allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide), N, N′-m-xylylene-bis (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide),

2,2−ビス〔4−{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェノキシ}フェニル〕プロパン、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(アリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(メタリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、ビス{4−(メタリルメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン。   2,2-bis [4- {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, 2,2-bis [4- { 4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, 2,2-bis [4- {4- (methallylbicyclo [2] 2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenoxy} phenyl] propane, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-di Carboximido) phenyl} methane, bis {4- (allylmethylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane, bis {4- (methallylbicyclo [2] 2.1] Hept 5-ene-2,3-dicarboximide) phenyl} methane, bis {4- (methallyl methyl bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) phenyl} methane.

そして、特に好ましいアルケニル置換ナジイミド化合物として、次に示す構造式(Ina−1)で表されるビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、構造式(Ina−2)で表されるN,N’−m−キシリレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)、及び構造式(Ina−3)で表されるN,N’−ヘキサメチレン−ビス(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)が挙げられる。   As a particularly preferred alkenyl-substituted nadiimide compound, bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxy represented by the following structural formula (Ina-1) Imido) phenyl} methane, N, N′-m-xylylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide represented by the structural formula (Ina-2) And N, N′-hexamethylene-bis (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide) represented by the structural formula (Ina-3). .

Figure 0005691273
Figure 0005691273

また例えば、本発明の液晶配向剤としてのポリイミド系溶液は、液晶表示素子の電気特性を長期に安定させる観点から、ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物をさらに含有していてもよい。前記ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物は一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物であってもよい。なお、前記ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物には前記アルケニル置換ナジイミド化合物は含まれない。前記ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、上記の観点から、成膜性ポリイミド系成分に対する重量比で0.01〜1.00であることが好ましく、0.01〜0.70であることがより好ましく、0.01〜0.50であることがさらに好ましい。   For example, the polyimide-based solution as the liquid crystal aligning agent of the present invention may further contain a compound having a radical polymerizable unsaturated double bond from the viewpoint of stabilizing the electrical characteristics of the liquid crystal display element for a long period of time. The compound having a radical polymerizable unsaturated double bond may be a single compound or two or more compounds. The compound having a radically polymerizable unsaturated double bond does not include the alkenyl-substituted nadiimide compound. From the above viewpoint, the content of the compound having a radical polymerizable unsaturated double bond is preferably 0.01 to 1.00 as a weight ratio with respect to the film-forming polyimide component, and 0.01 to 0 .70 is more preferable, and 0.01 to 0.50 is still more preferable.

なお、アルケニル置換ナジイミド化合物に対するラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物の比率は、液晶表示素子のイオン密度を低減し、イオン密度の経時的な増加を抑制し、さらに残像を抑制する観点から、重量比で0.1〜10であることが好ましく、0.5〜5であることがより好ましい。   The ratio of the compound having a radical polymerizable unsaturated double bond to the alkenyl-substituted nadiimide compound is from the viewpoint of reducing the ion density of the liquid crystal display element, suppressing the increase in ion density over time, and further suppressing the afterimage. The weight ratio is preferably 0.1 to 10, and more preferably 0.5 to 5.

前記ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸アミド等の(メタ)アクリル酸誘導体、及びビスマレイミドが挙げられる。前記ラジカル重合性不飽和二重結合を有する化合物は、ラジカル重合性不飽和二重結合を2つ以上有する(メタ)アクリル酸誘導体であることがより好ましい。   Examples of the compound having a radical polymerizable unsaturated double bond include (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid derivatives such as (meth) acrylic acid amide, and bismaleimide. The compound having a radically polymerizable unsaturated double bond is more preferably a (meth) acrylic acid derivative having two or more radically polymerizable unsaturated double bonds.

(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、例えば(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸−2−メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸イソボロニル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、及び(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピルが挙げられる。   Specific examples of the (meth) acrylic acid ester include, for example, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, and dicyclopentanyl (meth) acrylate. Examples include oxyethyl, isobornyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate.

2官能(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、例えばエチレンビスアクリレート、東亜合成化学工業(株)の製品であるアロニックスM−210、アロニックスM−240及びアロニックスM−6200、日本化薬(株)の製品であるKAYARAD HDDA、KAYARAD HX−220、KAYARAD R−604及びKAYARAD
R−684、大阪有機化学工業(株)の製品であるV260、V312及びV335HP、並びに共栄社油脂化学工業(株)の製品であるライトアクリレートBA−4EA、ライトアクリレートBP−4PA及びライトアクリレートBP−2PAが挙げられる。
Specific examples of the bifunctional (meth) acrylic acid ester include, for example, ethylene bisacrylate, Aronix M-210, Aronix M-240 and Aronix M-6200, which are products of Toa Synthetic Chemical Industry, Nippon Kayaku Co., Ltd. ) Products KAYARAD HDDA, KAYARAD HX-220, KAYARAD R-604 and KAYARAD
R-684, Osaka Organic Chemicals Co., Ltd. products V260, V312 and V335HP, and Kyoeisha Oil Chemical Co., Ltd. products Light acrylate BA-4EA, Light acrylate BP-4PA and Light acrylate BP-2PA Is mentioned.

3官能以上の多官能(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、例えば4,4’−メチレンビス(N,N―ジヒドロキシエチレンアクリレートアニリン)、アロニックスM−400、アロニックスM−405、アロニックスM−450、アロニックスM−7100、アロニックスM−8030、アロニックスM−8060、KAYARAD TMPTA、KAYARAD DPCA−20、KAYARAD DPCA−30、KAYARAD DPCA−60、KAYARAD DPCA−120、及び大阪有機化学工業(株)の製品であるVGPTが挙げられる。   Specific examples of the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylic acid ester include, for example, 4,4′-methylenebis (N, N-dihydroxyethylene acrylate aniline), Aronix M-400, Aronix M-405, Aronix M-450. , Aronix M-7100, Aronix M-8030, Aronix M-8060, KAYARAD TMPTA, KAYARAD DPCA-20, KAYARAD DPCA-30, KAYARAD DPCA-60, KAYARAD DPCA-120, and Osaka Organic Chemical Co., Ltd. There is a certain VGPT.

(メタ)アクリル酸アミド誘導体の具体例としては、例えばN−イソプロピルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、N−n−プロピルアクリルアミド、N−n−プロピルメタクリルアミド、N−シクロプロピルアクリルアミド、N−シクロプロピルメタクリルアミド、N−エトキシエチルアクリルアミド、N−エトキシエチルメタクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルアクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリルメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチル−N−メチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−メチル−N−n−プロピルアクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピルアクリルアミド、N−アクリロイルピペリジン、N−アクリロイルピロリディン、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−エチレンビスアクリルアミド、N,N’−ジヒドロキシエチレンビスアクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−(iso−ブトキシメチル)メタクリルアミド、N−[2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル]メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]メタクリルアミド、N−(メトキシメチル)メタクリルアミド、N−(ヒドロキシメチル)―2−メタクリルアミド、N−ベンジル−2−メタクリルアミド、及びN,N’−メチレンビスメタクリルアミドが挙げられる。   Specific examples of the (meth) acrylic acid amide derivative include, for example, N-isopropylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, Nn-propylacrylamide, Nn-propylmethacrylamide, N-cyclopropylacrylamide, N-cyclopropyl. Methacrylamide, N-ethoxyethylacrylamide, N-ethoxyethylmethacrylamide, N-tetrahydrofurfurylacrylamide, N-tetrahydrofurfurylmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-ethyl-N-methylacrylamide, N, N-diethyl Acrylamide, N-methyl-Nn-propylacrylamide, N-methyl-N-isopropylacrylamide, N-acryloylpiperidine, N-acryloylpyrrolidine, N, N′-me Renbisacrylamide, N, N′-ethylenebisacrylamide, N, N′-dihydroxyethylenebisacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N- (iso -Butoxymethyl) methacrylamide, N- [2- (N, N-dimethylamino) ethyl] methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N- [3- (dimethylamino) propyl] methacrylamide, N- ( Methoxymethyl) methacrylamide, N- (hydroxymethyl) -2-methacrylamide, N-benzyl-2-methacrylamide, and N, N′-methylenebismethacrylamide.

上記の(メタ)アクリル酸誘導体のうち、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−ジヒドロキシエチレン−ビスアクリルアミド、エチレンビスアクリレート、及び4,4’−メチレンビス(N,N―ジヒドロキシエチレンアクリレートアニリン)が特に好ましい。   Among the above (meth) acrylic acid derivatives, N, N′-methylenebisacrylamide, N, N′-dihydroxyethylene-bisacrylamide, ethylenebisacrylate, and 4,4′-methylenebis (N, N-dihydroxyethyleneacrylate) Aniline) is particularly preferred.

ビスマレイミドとしては、例えばケイ・アイ化成(株)製のBMI−70及びBMI−80、並びに大和化成工業(株)製のBMI−1000、BMI−3000、BMI−4000、BMI−5000及びBMI−7000が挙げられる。   Examples of the bismaleimide include BMI-70 and BMI-80 manufactured by Kay Kasei Co., Ltd., and BMI-1000, BMI-3000, BMI-4000, BMI-5000 and BMI- manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. 7000.

また例えば、本発明の液晶配向剤としてのポリイミド系溶液は、液晶表示素子における電気特性の長期安定性の観点から、オキサジン化合物をさらに含有していてもよい。前記オキサジン化合物は一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物であってもよい。前記オキサジン化合物の含有量は、上記の観点から、前記成膜性ポリイミド系成分に対して0.1〜50重量%であることが好ましく、1〜40重量%であることがより好ましく、1〜20重量%であることがさらに好ましい。   Further, for example, the polyimide-based solution as the liquid crystal aligning agent of the present invention may further contain an oxazine compound from the viewpoint of long-term stability of electrical characteristics in the liquid crystal display element. The oxazine compound may be a kind of compound or two or more kinds of compounds. From the above viewpoint, the content of the oxazine compound is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight with respect to the film-forming polyimide component, More preferably, it is 20% by weight.

前記オキサジン化合物は、前記溶媒に可溶であり、加えて、開環重合性を有するオキサジン化合物が好ましい。   The oxazine compound is soluble in the solvent, and in addition, an oxazine compound having ring-opening polymerizability is preferable.

また前記オキサジン化合物におけるオキサジン構造の数は、特に限定されない。   Further, the number of oxazine structures in the oxazine compound is not particularly limited.

オキサジンの構造には種々の構造が知られている。本発明では、オキサジンの構造は特に限定されないが、前記オキサジン化合物におけるオキサジン構造には、ベンゾオキサジンやナフトオキサジン等の、縮合多環芳香族基を含む芳香族基を有するオキサジンの構造が挙げられる。   Various structures are known for the structure of oxazine. In the present invention, the structure of oxazine is not particularly limited, and examples of the oxazine structure in the oxazine compound include an oxazine structure having an aromatic group containing a condensed polycyclic aromatic group such as benzoxazine and naphthoxazine.

前記オキサジン化合物としては、例えば下記一般式(a)〜(f)に示す化合物が挙げられる。なお下記一般式において、環の中心に向けて表示されている結合は、環を構成しかつ置換基の結合が可能ないずれかの炭素に結合していることを示す。   Examples of the oxazine compound include compounds represented by the following general formulas (a) to (f). In the following general formula, the bond displayed toward the center of the ring indicates that it is bonded to any carbon that forms the ring and can be bonded to a substituent.

Figure 0005691273
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前記一般式(a)〜(c)中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜30の有機基を表す。また前記一般式(a)〜(f)中、R3〜R6はそれぞれ水素又は炭素数1〜6の炭化水素基を表す。また前記一般式(c)、(d)及び(f)中、Xは、単結合、−O−、−S−、−S−S−、−SO2−、−CO−、−CONH−、−NHCO−、−C(CH32−、−C(CF32−、−(CH2m−、−O−(CH2m−O−、又は−S−(CH2m−S−を表す。ここでmは1〜6の整数である。また前記一般式(e)及び(f)中、Yは独立して、単結合、−O−、−S−、−CO−、−C(CH32−、−C(CF32−又は炭素数1〜3のアルキレンを表す。前記Yにおけるベンゼン環、ナフタレン環に結合している水素は、独立して−F、−CH3、−OH、−COOH、−SO3H、−PO32と置き換えられていてもよい。 In the general formulas (a) to (c), R 1 and R 2 each represent an organic group having 1 to 30 carbon atoms. Moreover, in said general formula (a)-(f), R < 3 > -R < 6 > represents hydrogen or a C1-C6 hydrocarbon group, respectively. In the general formulas (c), (d), and (f), X represents a single bond, —O—, —S—, —S—S—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, —NHCO—, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, — (CH 2 ) m —, —O— (CH 2 ) m —O—, or —S— (CH 2 ). m represents -S-. Here, m is an integer of 1-6. In the general formulas (e) and (f), Y is independently a single bond, —O—, —S—, —CO—, —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2. -Or C1-C3 alkylene is represented. The benzene ring of the Y, hydrogen bonded to the naphthalene ring, -F independently, -CH 3, -OH, -COOH, -SO 3 H, may be replaced with -PO 3 H 2.

また、前記オキサジン化合物には、オキサジン構造を側鎖に有するオリゴマーやポリマー、オキサジン構造を主鎖中に有するオリゴマーやポリマーが含まれる。   The oxazine compound includes an oligomer or polymer having an oxazine structure in the side chain, and an oligomer or polymer having an oxazine structure in the main chain.

一般式(a)で表されるオキサジン化合物としては、例えば以下のオキサジン化合物が挙げられる。   Examples of the oxazine compound represented by the general formula (a) include the following oxazine compounds.

Figure 0005691273
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式中、R1は炭素数1〜30のアルキルが好ましく、炭素数1〜20のアルキルがさらに好ましい。 In the formula, R 1 is preferably alkyl having 1 to 30 carbons, and more preferably alkyl having 1 to 20 carbons.

一般式(b)で表されるオキサジン化合物としては、例えば以下のオキサジン化合物が挙げられる。   Examples of the oxazine compound represented by the general formula (b) include the following oxazine compounds.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

式中、R1は独立して炭素数1〜30のアルキルが好ましく、炭素数1〜20のアルキルがさらに好ましい。 In the formula, R 1 is independently preferably an alkyl having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl having 1 to 20 carbon atoms.

一般式(c)で表されるオキサジン化合物としては、下記一般式(I)で表されるオキサジン化合物が挙げられる。   Examples of the oxazine compound represented by the general formula (c) include an oxazine compound represented by the following general formula (I).

Figure 0005691273
Figure 0005691273

前記一般式(I)中、R1及びR2はそれぞれ炭素数1〜30の有機基を表し、R3〜R6はそれぞれ水素又は炭素数1〜6の炭化水素基を表し、Xは単結合、−CH2−、−C(CH32−、−CO−、−O−、−SO2−又は−C(CF32−を表す。前記一般式(I)で表されるオキサジン化合物としては、例えば以下のオキサジン化合物が挙げられる。 In the general formula (I), R 1 and R 2 each represents an organic group having 1 to 30 carbon atoms, R 3 to R 6 each represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X represents a single group. It represents a bond, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —CO—, —O—, —SO 2 — or —C (CF 3 ) 2 —. Examples of the oxazine compound represented by the general formula (I) include the following oxazine compounds.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

Figure 0005691273
Figure 0005691273

式中、R1は独立して炭素数1〜30のアルキルが好ましく、炭素数1〜20のアルキルがさらに好ましい。 In the formula, R 1 is independently preferably an alkyl having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl having 1 to 20 carbon atoms.

一般式(d)で表されるオキサジン化合物しては、例えば以下のオキサジン化合物が挙げられる。   Examples of the oxazine compound represented by the general formula (d) include the following oxazine compounds.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(e)で表されるオキサジン化合物としては、例えば以下のオキサジン化合物が挙げられる。   Examples of the oxazine compound represented by the general formula (e) include the following oxazine compounds.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

一般式(f)で表されるオキサジン化合物としては、例えば以下のオキサジン化合物が挙げられる。   Examples of the oxazine compound represented by the general formula (f) include the following oxazine compounds.

Figure 0005691273
Figure 0005691273

Figure 0005691273
Figure 0005691273

これらのうち、より好ましくは、式(b−1)、式(c−1)、式(c−3)、式(c−5)、式(c−7)、式(c−9)、式(d−1)〜式(d−6)、式(e−3)、式(e−4)、式(f−2)〜式(f−4)で表されるオキサジン化合物が挙げられる。   Of these, more preferably, the formula (b-1), the formula (c-1), the formula (c-3), the formula (c-5), the formula (c-7), the formula (c-9), Oxazine compounds represented by formula (d-1) to formula (d-6), formula (e-3), formula (e-4), and formula (f-2) to formula (f-4) can be given. .

前記オキサジン化合物は、国際公開2004/009708号パンフレット、特開平11−12258号公報、特開2004−352670号公報に記載の方法と同様の方法で製造することができる。   The oxazine compound can be produced by the same method as described in International Publication No. 2004/009708, JP-A-11-12258, and JP-A-2004-352670.

例えば一般式(a)で表されるオキサジン化合物は、フェノール化合物と1級アミンとアルデヒドとを反応させることによって得られる(国際公開2004/009708号パンフレット参照)。   For example, the oxazine compound represented by the general formula (a) is obtained by reacting a phenol compound, a primary amine, and an aldehyde (see International Publication No. 2004/009708 pamphlet).

また一般式(b)で表されるオキサジン化合物は、1級アミンをホルムアルデヒドへ徐々に加える方法により反応させたのち、ナフトール系水酸基を有する化合物を加えて反応させることによって得られる(国際公開2004/009708号パンフレット参照)。   The oxazine compound represented by the general formula (b) is obtained by reacting by adding a primary amine to formaldehyde gradually, and then adding and reacting a compound having a naphthol-based hydroxyl group (International Publication 2004 / 009708 pamphlet).

また一般式(c)で表されるオキサジン化合物は、有機溶媒中でフェノール化合物1モル、そのフェノール性水酸基1個に対し少なくとも2モル以上のアルデヒド、及び1モルの一級アミンを、2級脂肪族アミン、3級脂肪族アミン又は塩基性含窒素複素環化合物の存在下で反応させることによって得られる(国際公開2004/009708号パンフレット及び特開平11−12258号公報参照)。   The oxazine compound represented by the general formula (c) is a secondary aliphatic compound in which an organic solvent contains 1 mole of a phenol compound, at least 2 moles of aldehyde, and 1 mole of primary amine per 1 phenolic hydroxyl group. It can be obtained by reacting in the presence of an amine, a tertiary aliphatic amine, or a basic nitrogen-containing heterocyclic compound (see International Publication No. 2004/009708 and JP-A-11-12258).

また一般式(d)〜(f)で表されるオキサジン化合物は、4,4’−ジアミノジフェニルメタン等の、複数のベンゼン環とそれらを結合する有機基とを有するジアミン、ホルマリン等のアルデヒド、及びフェノールを、n−ブタノール中、90℃以上の温度で脱水縮合反応させることにより得られる(特開2004−352670号公報参照)。   The oxazine compounds represented by the general formulas (d) to (f) are diamines such as 4,4′-diaminodiphenylmethane, diamines having a plurality of benzene rings and an organic group that binds them, aldehydes such as formalin, and the like. It can be obtained by dehydrating and condensing phenol in n-butanol at a temperature of 90 ° C. or higher (see JP 2004-352670 A).

また例えば、本発明の液晶配向剤としてのポリイミド系溶液は、液晶表示素子における電気特性の長期安定性の観点から、オキサゾリン化合物をさらに含有していてもよい。前記オキサゾリン化合物はオキサゾリン構造を有する化合物である。前記オキサゾリン化合物は一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物であってもよい。前記オキサゾリン化合物の含有量は、上記の観点から、前記成膜性ポリイミド系成分に対して0.1〜50重量%であることが好ましく、1〜40重量%であることがより好ましく、1〜20重量%であることが好ましい。又は、前記オキサゾリン化合物の含有量は、オキサゾリン化合物中のオキサゾリン構造をオキサゾリンに換算したときに、前記成膜性ポリイミド系成分に対して0.1〜40重量%であることが、上記の観点から好ましい。   Further, for example, the polyimide-based solution as the liquid crystal aligning agent of the present invention may further contain an oxazoline compound from the viewpoint of long-term stability of electrical characteristics in the liquid crystal display element. The oxazoline compound is a compound having an oxazoline structure. The oxazoline compound may be a kind of compound or two or more kinds of compounds. From the above viewpoint, the content of the oxazoline compound is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight, and more preferably 1 to 40% by weight. It is preferably 20% by weight. Alternatively, the content of the oxazoline compound is 0.1 to 40% by weight based on the film-forming polyimide component when the oxazoline structure in the oxazoline compound is converted to oxazoline, from the above viewpoint. preferable.

前記オキサゾリン化合物は、一つの化合物中にオキサゾリン構造を一種だけ有していてもよいし、二種以上有していてもよい。また前記オキサゾリン化合物は、一つの化合物中に前記オキサゾリン構造を一個有していればよいが、二個以上有することが好ましい。また前記オキサゾリン化合物は、オキサゾリン環構造を側鎖に有する重合体であってもよいし、共重合体であってもよい。オキサゾリン構造を側鎖に有する重合体は、オキサゾリン構造を側鎖に有するモノマーの単独重合体であってもよいし、オキサゾリン構造を側鎖に有するモノマーとオキサゾリン構造を有しないモノマーとの共重合体であってもよい。オキサゾリン構造を側鎖に有する共重合体は、オキサゾリン構造を側鎖に有する二種以上のモノマーの共重合体であってもよいし、オキサゾリン構造を側鎖に有する二種以上のモノマーとオキサゾリン構造を有しないモノマーとの共重合体であってもよい。   The oxazoline compound may have only one oxazoline structure in one compound, or may have two or more kinds. Moreover, the said oxazoline compound should just have one said oxazoline structure in one compound, but it is preferable to have 2 or more. The oxazoline compound may be a polymer having an oxazoline ring structure in the side chain, or may be a copolymer. The polymer having an oxazoline structure in the side chain may be a homopolymer of a monomer having an oxazoline structure in the side chain, or a copolymer of a monomer having an oxazoline structure in the side chain and a monomer having no oxazoline structure It may be. The copolymer having an oxazoline structure in the side chain may be a copolymer of two or more monomers having an oxazoline structure in the side chain, or two or more monomers having an oxazoline structure in the side chain and an oxazoline structure It may also be a copolymer with a monomer that does not have.

前記オキサゾリン構造は、オキサゾリン構造中の酸素及び窒素の一方又は両方とポリアミック酸のカルボニル基とが反応し得るようにオキサゾリン化合物中に存在する構造であることが好ましい。   The oxazoline structure is preferably a structure present in the oxazoline compound so that one or both of oxygen and nitrogen in the oxazoline structure can react with the carbonyl group of the polyamic acid.

前記オキサゾリン化合物としては、例えば2,2’−ビス(2−オキサゾリン)、1,2,4−トリス−(2−オキサゾリニル−2)−ベンゼン、4−フラン−2−イルメチレン−2−フェニル−4H−オキサゾール−5−オン、1,4−ビス(4,5−ジヒドロ−2−オキサゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(4,5−ジヒドロ−2−オキサゾリル)ベンゼン、2,3−ビス(4−イソプロペニル−2−オキサゾリン−2−イル)ブタン、2,2’−ビス−4−ベンジル−2−オキサゾリン、2,6−ビス(イソプロピル−2−オキサゾリン−2−イル)ピリジン、2,2’−イソプロピリデンビス(4−tert−ブチル−2−オキサゾリン)、2,2’−イソプロピリデンビス(4−フェニル−2−オキサゾリン)、2,2’−メチレンビス(4−tert−ブチル−2−オキサゾリン)、及び2,2’−メチレンビス(4−フェニル−2−オキサゾリン)が挙げられる。これらの他、エポクロス(商品名、日本触媒製)のようなオキサゾリルを有するポリマーやオリゴマーも挙げられる。   Examples of the oxazoline compound include 2,2′-bis (2-oxazoline), 1,2,4-tris- (2-oxazolinyl-2) -benzene, 4-furan-2-ylmethylene-2-phenyl-4H. -Oxazol-5-one, 1,4-bis (4,5-dihydro-2-oxazolyl) benzene, 1,3-bis (4,5-dihydro-2-oxazolyl) benzene, 2,3-bis (4 -Isopropenyl-2-oxazolin-2-yl) butane, 2,2′-bis-4-benzyl-2-oxazoline, 2,6-bis (isopropyl-2-oxazolin-2-yl) pyridine, 2,2 '-Isopropylidenebis (4-tert-butyl-2-oxazoline), 2,2'-isopropylidenebis (4-phenyl-2-oxazoline), 2,2'-methyle Bis (4-tert-butyl-2-oxazoline), and 2,2'-methylenebis (4-phenyl-2-oxazoline) and the like. In addition to these, polymers and oligomers having oxazolyl such as Epocross (trade name, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) are also included.

また例えば、本発明の液晶配向剤としてのポリイミド系溶液は、液晶表示素子における電気特性の長期安定性の観点から、エポキシ化合物をさらに含有していてもよい。前記エポキシ化合物は一種の化合物であってもよいし、二種以上の化合物であってもよい。前記エポキシ化合物の含有量は、上記の観点から、前記成膜性ポリイミド系成分に対して0.1〜50重量%であることが好ましく、1〜40重量%であることがより好ましく、1〜20重量%であることがさらに好ましい。   Further, for example, the polyimide-based solution as the liquid crystal aligning agent of the present invention may further contain an epoxy compound from the viewpoint of long-term stability of electrical characteristics in the liquid crystal display element. The epoxy compound may be a kind of compound or two or more kinds of compounds. From the above viewpoint, the content of the epoxy compound is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight with respect to the film-forming polyimide component, More preferably, it is 20% by weight.

エポキシ化合物としては、分子内にエポキシ環を一又は二以上有する種々の化合物が挙げられる。分子内にエポキシ環を1つ有する化合物としては、例えばフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、3,3,3−トリフルオロメチルプロピレンオキシド、スチレンオキシド、ヘキサフルオロプロピレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、N−グリシジルフタルイミド、(ノナフルオロ−N−ブチル)エポキシド、パーフルオロエチルグリシジルエーテル、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、N,N−ジグリシジルアニリン、及び3−[2−(パーフルオロヘキシル)エトキシ]−1,2−エポキシプロパンが挙げられる。   Examples of the epoxy compound include various compounds having one or more epoxy rings in the molecule. Examples of the compound having one epoxy ring in the molecule include phenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 3,3,3-trifluoromethyl propylene oxide, styrene oxide, hexafluoropropylene oxide, cyclohexene oxide, N-glycidyl phthalimide, (Nonafluoro-N-butyl) epoxide, perfluoroethylglycidyl ether, epichlorohydrin, epibromohydrin, N, N-diglycidylaniline, and 3- [2- (perfluorohexyl) ethoxy] -1,2 -Epoxy propane.

分子内にエポキシ環を2個以上有する化合物としては、例えばグリシジルエーテル、グリシジルエステル、グリシジルアミン、エポキシ基含有アクリル系樹脂、グリシジルアミド、グリシジルイソシアヌレート、鎖状脂肪族型エポキシ化合物、及び環状脂肪族型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of the compound having two or more epoxy rings in the molecule include glycidyl ether, glycidyl ester, glycidyl amine, epoxy group-containing acrylic resin, glycidyl amide, glycidyl isocyanurate, chain aliphatic epoxy compound, and cyclic aliphatic Type epoxy compounds.

前記グリシジルエーテルとしては、例えばビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−A型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−F型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール−S型エポキシ化合物、水素化ビスフェノール型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノール−A型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノール−F型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ナフタレン骨格含有エポキシ化合物、芳香族ポリグリシジルエーテル化合物、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ化合物、脂環式ジグリシジルエーテル化合物、脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物、ポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物、及びビフェノール型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of the glycidyl ether include bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, bisphenol S type epoxy compounds, bisphenol type epoxy compounds, hydrogenated bisphenol-A type epoxy compounds, hydrogenated bisphenol-F type epoxy compounds, and hydrogenated compounds. Bisphenol-S type epoxy compound, hydrogenated bisphenol type epoxy compound, brominated bisphenol-A type epoxy compound, brominated bisphenol-F type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, cresol novolak type epoxy compound, brominated phenol novolak type epoxy Compounds, brominated cresol novolac epoxy compounds, bisphenol A novolac epoxy compounds, naphthalene skeleton-containing epoxy compounds, aromatic Polyglycidyl ether compounds, dicyclopentadiene phenol type epoxy compound, alicyclic diglycidyl ether compounds, aliphatic polyglycidyl ether compound, a polysulfide-type diglycidyl ether compound, and biphenol type epoxy compound.

前記グリシジルエステルとしては、例えばジグリシジルエステル化合物及びグリシジルエステルエポキシ化合物が挙げられる。   Examples of the glycidyl ester include diglycidyl ester compounds and glycidyl ester epoxy compounds.

前記グリシジルアミンとしては、例えばポリグリシジルアミン化合物及びグリシジルアミン型エポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the glycidylamine include polyglycidylamine compounds and glycidylamine type epoxy resins.

前記エポキシ基含有アクリル系化合物としては、例えばオキシラニルを有するモノマーの単独重合体及び共重合体が挙げられる。   Examples of the epoxy group-containing acrylic compound include homopolymers and copolymers of monomers having oxiranyl.

前記グリシジルアミドとしては、例えばグリシジルアミド型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of the glycidyl amide include glycidyl amide type epoxy compounds.

前記鎖状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えばアルケン化合物の炭素−炭素二重結合を酸化して得られる、エポキシ基を含有する化合物が挙げられる。   Examples of the chain aliphatic epoxy compound include a compound containing an epoxy group obtained by oxidizing a carbon-carbon double bond of an alkene compound.

前記環状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えばシクロアルケン化合物の炭素−炭素二重結合を酸化して得られる、エポキシ基を含有する化合物が挙げられる。   Examples of the cycloaliphatic epoxy compound include a compound containing an epoxy group obtained by oxidizing a carbon-carbon double bond of a cycloalkene compound.

前記ビスフェノールA型エポキシ化合物としては、例えば828、1001、1002、1003、1004、1007、1010(いずれも三菱化学(株)製)、エポトートYD−128(新日鐵化学(株)製)、DER−331、DER−332、DER−324(いずれもダウ・ケミカル社製)、エピクロン840、エピクロン850、エピクロン1050(いずれもDIC(株)製)、エポミックR−140、エポミックR−301、及びエポミックR−304(いずれも三井化学(株)製)が挙げられる。   Examples of the bisphenol A type epoxy compound include 828, 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1010 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epototo YD-128 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), DER. -331, DER-332, DER-324 (all manufactured by Dow Chemical Co.), Epicron 840, Epicron 850, Epicron 1050 (all manufactured by DIC Corporation), Epomic R-140, Epomic R-301, and Epomic R-304 (both manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) can be mentioned.

前記ビスフェノールF型エポキシ化合物としては、例えば806、807、4004P(いずれも三菱化学(株)製)、エポトートYDF−170、エポトートYDF−175S、エポトートYDF−2001(いずれも新日鐵化学(株)製)、DER−354(ダウ・ケミカル社製)、エピクロン830、及びエピクロン835(いずれもDIC(株)製)が挙げられる。   Examples of the bisphenol F type epoxy compound include 806, 807, 4004P (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epototo YDF-170, Epototo YDF-175S, Epototo YDF-2001 (all Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) Product), DER-354 (manufactured by Dow Chemical Co.), Epicron 830, and Epicron 835 (all manufactured by DIC Corporation).

前記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、例えば2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化物が挙げられる。   Examples of the bisphenol type epoxy compound include epoxidized products of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane.

前記水素化ビスフェノール−A型エポキシ化合物としては、例えばサントートST−3000(新日鐵化学(株)製)、リカレジンHBE−100(新日本理化(株)製)、及びデナコールEX−252(ナガセケムテックス(株)製)が挙げられる。   Examples of the hydrogenated bisphenol-A type epoxy compound include Santoto ST-3000 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Rica Resin HBE-100 (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), and Denacol EX-252 (Nagase Chem) Tex Co., Ltd.).

前記水素化ビスフェノール型エポキシ化合物としては、例えば水素化2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンのエポキシ化物が挙げられる。   Examples of the hydrogenated bisphenol type epoxy compound include epoxidized products of hydrogenated 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane.

前記臭素化ビスフェノール−A型エポキシ化合物としては、例えば5050、5051(いずれも三菱化学(株)製)、エポトートYDB−360、エポトートYDB−400(いずれも新日鐵化学(株)製)、DER−530、DER−538(いずれもダウ・ケミカル社製)、エピクロン152、及びエピクロン153(いずれもDIC(株)製)が挙げられる。   Examples of the brominated bisphenol-A type epoxy compound include 5050, 5051 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epototo YDB-360, Epototo YDB-400 (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), DER. -530, DER-538 (all manufactured by Dow Chemical Company), Epicron 152, and Epicron 153 (all manufactured by DIC Corporation).

前記フェノールノボラック型エポキシ化合物としては、例えば152、154(いずれも三菱化学(株)製)、YDPN−638(新日鐵化学(株)製)、DEN431、DEN438(いずれもダウ・ケミカル社製)、エピクロンN−770(DIC(株)製)、EPPN−201、及びEPPN−202(いずれも日本化薬(株)製)が挙げられる。   Examples of the phenol novolac type epoxy compound include 152, 154 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), YDPN-638 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), DEN431, DEN438 (all manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.). , Epicron N-770 (manufactured by DIC Corporation), EPPN-201, and EPPN-202 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

前記クレゾールノボラック型エポキシ化合物としては、例えば180S75(三菱化学(株)製)、YDCN−701、YDCN−702(いずれも新日鐵化学(株)製)、エピクロンN−665、エピクロンN−695(いずれもDIC(株)製)、EOCN−102S、EOCN−103S、EOCN−104S、EOCN−1020、EOCN−1025、及びEOCN−1027(いずれも日本化薬(株)製)が挙げられる。   Examples of the cresol novolac type epoxy compound include 180S75 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), YDCN-701, YDCN-702 (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Epicron N-665, and Epicron N-695 ( DIC Corporation), EOCN-102S, EOCN-103S, EOCN-104S, EOCN-1020, EOCN-1025, and EOCN-1027 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

前記ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物としては、例えば157S70(三菱化学(株)製)、及びエピクロンN−880(DIC(株)製)が挙げられる。   Examples of the bisphenol A novolac type epoxy compound include 157S70 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and Epicron N-880 (manufactured by DIC Corporation).

前記ナフタレン骨格含有エポキシ化合物としては、例えばエピクロンHP−4032、エピクロンHP−4700、エピクロンHP−4770(いずれもDIC(株)製)、及びNC−7000(日本化薬(株)製)が挙げられる。   Examples of the naphthalene skeleton-containing epoxy compound include Epicron HP-4032, Epicron HP-4700, Epicron HP-4770 (all manufactured by DIC Corporation), and NC-7000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). .

前記芳香族ポリグリシジルエーテル化合物としては、例えばハイドロキノンジグリシジルエーテル(下記構造式101)、カテコールジグリシジルエーテル(下記構造式102)レゾルシノールジグリシジルエーテル(下記構造式103)、2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−([2,3−エポキシプロポキシ]フェニル)]エチル]フェニル]プロパン(下記構造式104)、トリス(4−グリシジルオキシフェニル)メタン(下記構造式105)、1031S、1032H60(いずれも三菱化学(株)製)、TACTIX−742(ダウ・ケミカル社製)、デナコールEX−201(ナガセケムテックス(株)製)、DPPN−503、DPPN−502H、DPPN−501H、NC6000(いずれも日本化薬(株)製)、テクモアVG3101L(三井化学(株)製)、下記構造式106で表される化合物、及び下記構造式107で表される化合物が挙げられる。   Examples of the aromatic polyglycidyl ether compound include hydroquinone diglycidyl ether (the following structural formula 101), catechol diglycidyl ether (the following structural formula 102), resorcinol diglycidyl ether (the following structural formula 103), 2- [4- (2 , 3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4-([2,3-epoxypropoxy] phenyl)] ethyl] phenyl] propane (Structural Formula 104 below), Tris (4 -Glycidyloxyphenyl) methane (the following structural formula 105), 1031S, 1032H60 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), TACTIX-742 (manufactured by Dow Chemical Co., Ltd.), Denacol EX-201 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation) ), DPPN-503, DPPN-502H, DPPN-501H NC6000 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) Techmore VG3101L, a compound represented by the following structural formula 106, and compounds represented by the following structural formula 107.

Figure 0005691273
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前記ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ化合物としては、例えばTACTIX−556(ダウ・ケミカル社製)、及びエピクロンHP−7200(DIC(株)製)が挙げられる。   Examples of the dicyclopentadiene phenol type epoxy compound include TACTIX-556 (manufactured by Dow Chemical Co.) and Epicron HP-7200 (manufactured by DIC Corporation).

前記脂環式ジグリシジルエーテル化合物としては、例えばシクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル化合物、及びリカレジンDME−100(新日本理化(株)製)が挙げられる。   Examples of the alicyclic diglycidyl ether compound include cyclohexane dimethanol diglycidyl ether compound and licarresin DME-100 (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.).

前記脂肪族ポリグリシジルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル(下記構造式108)、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル(下記構造式109)、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル(下記構造式110)、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル(下記構造式111)、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(下記構造式112)、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル(下記構造式113)、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(下記構造式114)、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(下記構造式115)、デナコールEX−810、デナコールEX−851、デナコールEX−8301、デナコールEX−911、デナコールEX−920、デナコールEX−931、デナコールEX−211、デナコールEX−212、デナコールEX−313(いずれもナガセケムテックス(株)製)、DD−503((株)ADEKA製)、リカレジンW−100(新日本理化(株)製)、1,3,5,6−テトラグリシジル−2,4−ヘキサンジオール(下記構造式116)、グリセリンポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、デナコールEX−313、デナコールEX−611、デナコールEX−321、及びデナコールEX−411(いずれもナガセケムテックス(株)製)が挙げられる。   Examples of the aliphatic polyglycidyl ether compound include ethylene glycol diglycidyl ether (the following structural formula 108), diethylene glycol diglycidyl ether (the following structural formula 109), polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether (the following structural formula 110). ), Tripropylene glycol diglycidyl ether (the following structural formula 111), polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether (the following structural formula 112), 1,4-butanediol diglycidyl ether (the following structural formula 113), 1,6-hexanediol diglycidyl ether (the following structural formula 114), dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether (the following structural formula 115), Denaco EX-810, Denacol EX-851, Denacol EX-8301, Denacol EX-911, Denacol EX-920, Denacol EX-931, Denacol EX-211, Denacol EX-212, Denacol EX-313 (all Nagase ChemteX Co., Ltd.), DD-503 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), Rica Resin W-100 (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol (below) Structural formula 116), glycerin polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, Denacol EX-313, Denacol EX-611, Denacol EX-321, and Denacol EX-41 (Both manufactured by Nagase Chemtex Co., Ltd.) and the like.

Figure 0005691273
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前記ポリサルファイド型ジグリシジルエーテル化合物としては、例えばFLEP−50、及びFLEP−60(いずれも東レ・ファインケミカル(株)製)が挙げられる。   Examples of the polysulfide-type diglycidyl ether compound include FLEP-50 and FLEP-60 (both manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.).

前記ビフェノール型エポキシ化合物としては、例えばYX−4000、YL−6121H(いずれも三菱化学(株)製)、NC−3000P、及びNC−3000S(いずれも日本化薬(株)製)が挙げられる。   Examples of the biphenol type epoxy compound include YX-4000, YL-6121H (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), NC-3000P, and NC-3000S (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

前記ジグリシジルエステル化合物としては、例えばジグリシジルテレフタレート(下記構造式117)、ジグリシジルフタレート(下記構造式118)、ビス(2−メチルオキシラニルメチル)フタレート(下記構造式119)、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート(下記構造式120)、下記構造式121で表される化合物、下記構造式122で表される化合物、及び下記構造式123で表される化合物が挙げられる。   Examples of the diglycidyl ester compound include diglycidyl terephthalate (the following structural formula 117), diglycidyl phthalate (the following structural formula 118), bis (2-methyloxiranylmethyl) phthalate (the following structural formula 119), and diglycidyl hexa. Examples include hydrophthalate (the following structural formula 120), a compound represented by the following structural formula 121, a compound represented by the following structural formula 122, and a compound represented by the following structural formula 123.

Figure 0005691273
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前記グリシジルエステルエポキシ化合物としては、例えば871、872(いずれも三菱化学(株)製)、エピクロン200、エピクロン400(いずれもDIC(株)製)、デナコールEX−711、及びデナコールEX−721(いずれもナガセケムテックス(株)製)が挙げられる。   Examples of the glycidyl ester epoxy compound include 871, 872 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron 200, Epicron 400 (all manufactured by DIC Corporation), Denacol EX-711, and Denacol EX-721 (all Also manufactured by Nagase ChemteX Corporation).

前記ポリグリシジルアミン化合物としては、例えばN,N−ジグリシジルアニリン(下記構造式124)、N,N−ジグリシジル−o−トルイジン(下記構造式125)、N,N−ジグリシジル−m−トルイジン(下記構造式126)、N,N−ジグリシジル−2,4,6−トリブロモアニリン(下記構造式127)、3−(N,N−ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン(下記構造式128)、N,N,O−トリグリシジル−p−アミノフェノール(下記構造式129)、N,N,O−トリグリシジル−m−アミノフェノール(下記構造式130)、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン(下記構造式131)、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン(TETRAD−X(三菱ガス化学(株))、下記構造式132)、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン(TETRAD−C(三菱ガス化学(株))、下記構造式133)、1,4−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン(下記構造式134)、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノ)シクロヘキサン(下記構造式135)、1,4−ビス(N,N−ジグリシジルアミノ)シクロヘキサン(下記構造式136)、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノ)ベンゼン(下記構造式137)、1,4−ビス(N,N−ジグリシジルアミノ)ベンゼン(下記構造式138)、2,6−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン(下記構造式139)、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン(下記構造式140)、2,2’−ジメチル−(N,N,N’,N’−テトラグリシジル)−4,4’−ジアミノビフェニル(下記構造式141)、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(下記構造式142)、1,3,5−トリス(4−(N,N−ジグリシジル)アミノフェノキシ)ベンゼン(下記構造式143)、2,4,4’−トリス(N,N−ジグリシジルアミノ)ジフェニルエーテル(下記構造式144)、トリス(4−(N,N−ジグリシジル)アミノフェニル)メタン(下記構造式145)、3,4,3’,4’−テトラキス(N,N−ジグリシジルアミノ)ビフェニル(下記構造式146)、3,4,3’,4’−テトラキス(N,N−ジグリシジルアミノ)ジフェニルエーテル(下記構造式147)、下記構造式148で表される化合物、及び下記構造式149で表される化合物が挙げられる。   Examples of the polyglycidylamine compound include N, N-diglycidylaniline (the following structural formula 124), N, N-diglycidyl-o-toluidine (the following structural formula 125), N, N-diglycidyl-m-toluidine (the following). Structural formula 126), N, N-diglycidyl-2,4,6-tribromoaniline (the following structural formula 127), 3- (N, N-diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane (the following structural formula 128), N, N, O-triglycidyl-p-aminophenol (the following structural formula 129), N, N, O-triglycidyl-m-aminophenol (the following structural formula 130), N, N, N ′, N′-tetraglycidyl -4,4'-diaminodiphenylmethane (the following structural formula 131), N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine (T TRAD-X (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), the following structural formula 132), 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane (TETRAD-C (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)), the following structural formula 133), 1,4-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane (the following structural formula 134), 1,3-bis (N, N-diglycidylamino) cyclohexane (the following structural formula 135), 1, 4-bis (N, N-diglycidylamino) cyclohexane (the following structural formula 136), 1,3-bis (N, N-diglycidylamino) benzene (the following structural formula 137), 1,4-bis (N, N-diglycidylamino) benzene (the following structural formula 138), 2,6-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane (the following structural formula 139), , N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodicyclohexylmethane (the following structural formula 140), 2,2′-dimethyl- (N, N, N ′, N′-tetraglycidyl) -4 , 4′-diaminobiphenyl (the following structural formula 141), N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenyl ether (the following structural formula 142), 1,3,5-tris (4- (N, N-diglycidyl) aminophenoxy) benzene (the following structural formula 143), 2,4,4′-tris (N, N-diglycidylamino) diphenyl ether (the following structural formula 144), tris (4- (N, N-diglycidyl) aminophenyl) methane (the following structural formula 145), 3,4,3 ′, 4′-tetrakis (N, N-diglycidylamino) biphenyl (the following structural formula 146), 3 , 4,3 ′, 4′-tetrakis (N, N-diglycidylamino) diphenyl ether (the following structural formula 147), a compound represented by the following structural formula 148, and a compound represented by the following structural formula 149. .

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前記オキシラニルを有するモノマーの単独重合体としては、例えばポリグリシジルメタクリレートが挙げられる。前記オキシラニルを有するモノマーの共重合体としては、例えばN−フェニルマレイミド−グリシジルメタクリレート共重合体、N−シクロヘキシルマレイミド−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、(3−エチル−3−オキセタニル)メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、及びスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体が挙げられる。   Examples of the homopolymer of the monomer having oxiranyl include polyglycidyl methacrylate. Examples of the copolymer of monomers having oxiranyl include, for example, N-phenylmaleimide-glycidyl methacrylate copolymer, N-cyclohexylmaleimide-glycidyl methacrylate copolymer, benzyl methacrylate-glycidyl methacrylate copolymer, butyl methacrylate-glycidyl methacrylate copolymer. Examples include polymers, 2-hydroxyethyl methacrylate-glycidyl methacrylate copolymers, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate-glycidyl methacrylate copolymers, and styrene-glycidyl methacrylate copolymers.

前記オキシラニルを有するモノマーとしては、例えばグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、及びメチルグリシジル(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the monomer having oxiranyl include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, and methyl glycidyl (meth) acrylate.

前記オキシラニルを有するモノマーの共重合体における前記オキシラニルを有するモノマー以外の他のモノマーとしては、例えば(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、iso−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、(3−エチル−3−オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、N−シクロヘキシルマレイミド、及びN−フェニルマレイミドが挙げられる。   Examples of the monomer other than the oxiranyl-containing monomer in the oxiranyl-containing monomer copolymer include (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl ( (Meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, Examples include styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl (meth) acrylate, N-cyclohexylmaleimide, and N-phenylmaleimide.

前記グリシジルイソシアヌレートとしては、例えば1,3,5−トリグリシジル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン(下記構造式150)、1,3−ジグリシジル−5−アリル−1,3,5−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)−トリオン(下記構造式151)、及びグリシジルイソシアヌレート型エポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the glycidyl isocyanurate include 1,3,5-triglycidyl-1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione (the following structural formula 150), 1,3. -Diglycidyl-5-allyl-1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) -trione (the following structural formula 151), and glycidyl isocyanurate type epoxy resin.

Figure 0005691273
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前記鎖状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えばエポキシ化ポリブタジエン、及びエポリードPB3600(ダイセル化学工業(株)製)が挙げられる。   Examples of the chain aliphatic epoxy compound include epoxidized polybutadiene and epolide PB3600 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).

前記環状脂肪族型エポキシ化合物としては、例えば3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(セロキサイド2021(ダイセル化学工業(株)製)、下記構造式152)、2−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−2’−メチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート(下記構造式153)、2,3−エポキシシクロペンタン−2’,3’−エポキシシクロペンタンエーテル(下記構造式154)、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキレート、1,2:8,9−ジエポキシリモネン(セロキサイド3000(ダイセル化学工業(株)製)、下記構造式155)、下記構造式156で表される化合物、CY−175、CY−177、CY−179(いずれもCIBA−GEIGY社製)、EHPD−3150(ダイセル化学工業(株)製)、及び環状脂肪族型エポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the cycloaliphatic epoxy compound include 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate (Celoxide 2021 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), the following structural formula 152), 2 -Methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-2'-methyl-3 ', 4'-epoxycyclohexylcarboxylate (the following structural formula 153), 2,3-epoxycyclopentane-2', 3'-epoxycyclopentane Ether (the following structural formula 154), ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 1,2: 8,9-diepoxy limonene (Celoxide 3000 (Daicel Chemical Industries ( Co., Ltd.), structural formula 155), structural formula 56, CY-175, CY-177, CY-179 (all manufactured by CIBA-GEIGY), EHPD-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries), and a cyclic aliphatic epoxy resin. It is done.

Figure 0005691273
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前記エポキシ化合物は、ポリグリシジルアミン化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、及び環状脂肪族型エポキシ化合物の一以上であることが好ましく、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタン、商品名「テクモアVG3101L」、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3',4'−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、N−フェニルマレイミド−グリシジルメタクリレート共重合体、N,N,O−トリグリシジル−p−アミノフェノール、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、及びクレゾールノボラック型エポキシ化合物の一以上であることが好ましい。   The epoxy compound is preferably one or more of a polyglycidylamine compound, a bisphenol A novolac epoxy compound, a cresol novolac epoxy compound, and a cyclic aliphatic epoxy compound, and N, N, N ′, N′-tetra Glycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, trade name “Techmore VG3101L 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, N-phenylmaleimide-glycidyl methacrylate copolymer, N, N, O-triglycidyl-p-aminophenol, bisphenol A novolak Type epoxy compounds and It is preferably one or more of sol novolak type epoxy compounds.

これら例の中でも、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、商品名「テクモアVG3101L」、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート及びN−フェニルマレイミド−グリシジルメタクリレート共重合体が特に好ましい。   Among these examples, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′— Tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, trade name “Techmore VG3101L”, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate and N-phenylmaleimide-glycidyl methacrylate copolymer are particularly preferred preferable.

また例えば、本発明のポリイミド系溶液は、本発明の効果が得られる範囲(好ましくは前記成膜性ポリイミド系成分の20重量%以内の量)で、アクリル酸ポリマー及びアクリレートポリマー等の他のポリマー成分をさらに含有していてもよい。   Further, for example, the polyimide-based solution of the present invention is within the range in which the effects of the present invention can be obtained (preferably within 20% by weight of the film-forming polyimide-based component), and other polymers such as acrylic acid polymer and acrylate polymer It may further contain components.

さらに、本発明のポリイミド系溶液は、その用途に応じた特性を有するように調製することができる。例えばポリイミド系溶液の用途が液晶配向膜を形成するための液晶配向剤である場合では、本発明のポリイミド系溶液における成膜性ポリイミド系成分の含有率は、ポリイミド系溶液の基板への塗布方法によっても選択され得る。例えば、通常の液晶表示素子の製造工程で用いられる印刷機(オフセット印刷機やインクジェット印刷機を含む。以下、「印刷機」と略すことがある。)で使用されるポリイミド系溶液(液晶配向剤)であれば、成膜性ポリイミド系成分の含有率は0.5〜30重量%であることが好ましく、1〜15重量%であることがより好ましい。成膜性ポリイミド系成分の含有率は、後述するポリイミド系溶液の粘度との関係で適宜調整することができる。   Furthermore, the polyimide-based solution of the present invention can be prepared so as to have characteristics according to its use. For example, when the use of the polyimide solution is a liquid crystal aligning agent for forming a liquid crystal alignment film, the content of the film forming polyimide component in the polyimide solution of the present invention is the method of applying the polyimide solution to the substrate. Can also be selected. For example, a polyimide-based solution (liquid crystal aligning agent) used in a printing machine (including an offset printing machine and an inkjet printing machine, hereinafter may be abbreviated as “printing machine”) used in a manufacturing process of a normal liquid crystal display element. ), The content of the film-forming polyimide-based component is preferably 0.5 to 30% by weight, and more preferably 1 to 15% by weight. The content of the film forming polyimide component can be adjusted as appropriate in relation to the viscosity of the polyimide solution described later.

本発明のポリイミド系溶液の粘度は、塗布する方法、成膜性ポリイミド系成分の含有率、使用する成膜性ポリイミド系成分の種類、溶媒の種類と割合によって多種多様である。例えば、印刷機による塗布の場合は、ポリイミド系溶液の粘度は5〜100mPa・sであることが好ましく、10〜80mPa・sであることがより好ましい。ポリイミド系溶液の粘度が5mPa・s以上であることは、液晶配向膜の十分な膜厚を得る観点から好ましく、ポリイミド系溶液の粘度が100mPa・s以下であることは、均一な膜厚の液晶配向剤を得る観点から好ましい。スピンコートによる塗布の場合は、ポリイミド系溶液の粘度は5〜200mPa・sであることが好ましく、10〜100mPa・sであることがより好ましい。   The viscosity of the polyimide-based solution of the present invention varies widely depending on the coating method, the content of the film-forming polyimide-based component, the type of film-forming polyimide-based component used, and the type and ratio of the solvent. For example, in the case of application by a printing press, the viscosity of the polyimide-based solution is preferably 5 to 100 mPa · s, and more preferably 10 to 80 mPa · s. The viscosity of the polyimide solution is preferably 5 mPa · s or more from the viewpoint of obtaining a sufficient film thickness of the liquid crystal alignment film, and the viscosity of the polyimide solution is 100 mPa · s or less is a liquid crystal having a uniform film thickness. It is preferable from the viewpoint of obtaining an alignment agent. In the case of application by spin coating, the viscosity of the polyimide-based solution is preferably 5 to 200 mPa · s, and more preferably 10 to 100 mPa · s.

ポリイミド系溶液の粘度は回転粘度測定法により測定され、例えば回転粘度計(東機産業(株)製TVE−20L型)を用いて測定(測定温度:25℃)される。   The viscosity of the polyimide solution is measured by a rotational viscosity measurement method, and is measured (measurement temperature: 25 ° C.) using, for example, a rotational viscometer (TVE-20L type manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).

本発明のポリイミド系溶液は、前記成膜性ポリイミド系成分が、これを溶解する溶媒に溶解してなる溶液を得ることを含むポリイミド系溶液を製造する方法において、前記溶媒に前記式(A)で表される化合物を用いることによって製造することができる。例えば本発明のポリイミド系溶液は、前記成膜性ポリイミド系成分を前記式(A)の化合物に溶解することによって製造することができるし、又は、前記式(A)の化合物以外の溶媒に前記成膜性ポリイミド系成分を溶解し、得られた溶液に前記式(A)の化合物を添加することによって製造することができるし、又は前記式(A)の化合物と他の溶剤との混合溶媒に前記成膜性ポリイミド系成分を溶解することによって製造することができるし、又は前記式(A)の化合物以外の他の溶剤中で前記成膜性ポリイミド系成分を反応によって生成させ、得られた反応生成溶液に前記式(A)の化合物を添加することによって製造することができる。本発明のポリイミド系溶液は、用途に応じて他の成分を添加し、また物性を調整することによって、液晶配向剤等の、成膜性ポリイミド系成分を含有する溶液の通常の用途に用いることができる。   The polyimide-based solution of the present invention is a method for producing a polyimide-based solution that includes obtaining a solution in which the film-forming polyimide-based component is dissolved in a solvent that dissolves the film-forming polyimide-based component. It can manufacture by using the compound represented by these. For example, the polyimide-based solution of the present invention can be produced by dissolving the film-forming polyimide-based component in the compound of the formula (A), or the solvent in a solvent other than the compound of the formula (A). It can be produced by dissolving a film forming polyimide component and adding the compound of the formula (A) to the obtained solution, or a mixed solvent of the compound of the formula (A) and another solvent. Can be produced by dissolving the film-forming polyimide-based component in the solvent, or by forming the film-forming polyimide-based component by reaction in a solvent other than the compound of the formula (A). The reaction product solution can be prepared by adding the compound of the formula (A). The polyimide-based solution of the present invention can be used for a normal application of a solution containing a film-forming polyimide-based component such as a liquid crystal aligning agent by adding other components depending on the application and adjusting the physical properties. Can do.

例えば本発明のポリイミド系溶液は、必要に応じて、着色剤、鉱油、充填剤、エラストマー、酸化防止剤、安定剤、消泡剤、伸展剤、可塑剤、触媒、顔料、顔料ペースト、補強材、流動制御剤、レベリング剤、粘稠化剤、燃焼遅延剤、硬化剤、硬化可能な化合物、及び、他の樹脂等の、ポリイミド系溶液の用途に応じた公知の添加剤を添加することによって、被覆材料、絶縁材料、接着剤、封止材、プリント配線基板用材料、又は成形材料とすることができる。他の樹脂としては、例えばポリアミドやポリイミドが挙げられる。被覆材料としては、例えば、塗料、印刷用インキ、表面 及び、保護材料等のコーティング剤が挙げられる。また成型材料としては、例えばFRP(繊維強化プラスチック)用材料が挙げられる。   For example, the polyimide-based solution of the present invention includes a colorant, mineral oil, filler, elastomer, antioxidant, stabilizer, antifoaming agent, extender, plasticizer, catalyst, pigment, pigment paste, reinforcing material as necessary. By adding known additives according to the use of the polyimide-based solution, such as flow control agents, leveling agents, thickening agents, flame retardants, curing agents, curable compounds, and other resins , A coating material, an insulating material, an adhesive, a sealing material, a printed wiring board material, or a molding material. Examples of other resins include polyamide and polyimide. Examples of the coating material include coating agents such as paints, printing inks, surfaces, and protective materials. Moreover, as a molding material, the material for FRP (fiber reinforced plastic) is mentioned, for example.

前記の用途の本発明のポリイミド系溶液における成膜性ポリイミド系成分の含有量は、各用途に応じても異なるが、前記ポリイミド系溶液の全量に対して0.5〜70重量%であることが好ましく、0.5〜50重量%であることが、作業性の観点から好ましい。前記の用途の本発明のポリイミド系溶液は、成膜性ポリイミド系成分と前記溶媒との溶液を原料とし、前記の添加剤を添加した後、攪拌や混練等の適当な混合操作を行うことによって得ることができる。   The content of the film-forming polyimide component in the polyimide-based solution of the present invention for the above uses is 0.5 to 70% by weight based on the total amount of the polyimide-based solution, although it varies depending on each use. Is preferably 0.5 to 50% by weight from the viewpoint of workability. The polyimide-based solution of the present invention for the above-mentioned use is prepared by using a solution of a film-forming polyimide-based component and the solvent as a raw material, adding the additive, and then performing an appropriate mixing operation such as stirring and kneading. Can be obtained.

本発明のポリイミド膜は、塗膜形成用の溶液に本発明のポリイミド系溶液を用いる以外は、このような塗膜からポリイミド膜を形成する通常の方法によって形成することができる。すなわち本発明のポリイミド膜は、前記成膜性ポリイミド系成分とこれを溶解する溶媒とを含有するポリイミド系溶液の塗膜を形成する工程と、形成された塗膜を焼成して塗膜中の成膜性ポリイミド系成分からなるポリイミド膜を形成する工程とを含むポリイミド膜の製造方法において、前記溶媒に前記式(A)で表される化合物を用いる。本発明のポリイミド膜は、用途に応じた適当なポリイミド系溶液を用いることによって、液晶配向膜等の、溶液の塗膜の焼成によって形成されるポリイミド膜の通常の用途に用いることができる。   The polyimide film of the present invention can be formed by an ordinary method of forming a polyimide film from such a coating film, except that the polyimide-based solution of the present invention is used as the coating film forming solution. That is, the polyimide film of the present invention includes a step of forming a coating film of a polyimide-based solution containing the film-forming polyimide-based component and a solvent for dissolving the film-forming polyimide component, and firing the formed coating film. In the method for producing a polyimide film including a step of forming a polyimide film comprising a film-forming polyimide-based component, the compound represented by the formula (A) is used as the solvent. The polyimide film of the present invention can be used for a normal use of a polyimide film formed by baking a coating film of a solution such as a liquid crystal alignment film by using an appropriate polyimide-based solution according to the use.

例えば本発明の液晶配向膜は、前述した本発明のポリイミド系溶液(液晶配向剤)の塗膜を焼成して形成される。ポリイミド系溶液の塗膜の形成及びその焼成は、フォトレジストにおける通常の方法によって行うことができる。   For example, the liquid crystal alignment film of the present invention is formed by baking a coating film of the polyimide-based solution (liquid crystal alignment agent) of the present invention described above. Formation of the coating film of the polyimide-based solution and its baking can be performed by a usual method in a photoresist.

前記液晶配向膜は、例えば液晶表示素子用の基板、又はフッ化カルシウムやシリコン等の測定用の基板に本発明のポリイミド系溶液を塗布し、このポリイミド系溶液の塗膜を例えば150〜400℃、好ましくは180〜280℃に加熱することによって形成することができる。ここで液晶配向膜の膜厚は、10〜300nmであることが好ましく、30〜100nmであることがより好ましい。また、液晶配向膜は、IPS型液晶表示素子のような横電界方式の液晶表示素子の用途である場合は、ラビング処理されていることが好ましい。   The said liquid crystal aligning film apply | coats the polyimide-type solution of this invention to the board | substrate for liquid crystal display elements, or the measurement board | substrates, such as a calcium fluoride and silicon | silicone, for example, The coating film of this polyimide-type solution is 150-400 degreeC, for example. Preferably, it can be formed by heating to 180 to 280 ° C. Here, the film thickness of the liquid crystal alignment film is preferably 10 to 300 nm, and more preferably 30 to 100 nm. In addition, the liquid crystal alignment film is preferably rubbed when it is used for a horizontal electric field type liquid crystal display element such as an IPS liquid crystal display element.

前記液晶配向膜の膜厚は、ポリイミド系溶液の粘度やポリイミド系溶液の塗布方法によって調整することができる。また液晶配向膜の膜厚は、段差計やエリプソメータ等の公知の膜厚測定装置によって測定することができる。さらに液晶配向膜中の成分は、必要に応じて加水分解等の処理を行い、IRやMS等の通常の分析手段を利用して分析することができる。例えば、ポリアミック酸をイミド化してなる膜中のオキサジン化合物をIRで分析する方法が「Performance improvement of polybenzoxazine by alloying with polyimide: effect of preparation method on the properties」(Tsutomu Takeichi et al., polymer, 2005, 46, p.4909-4916)には記載されている。   The film thickness of the liquid crystal alignment film can be adjusted by the viscosity of the polyimide solution or the application method of the polyimide solution. The film thickness of the liquid crystal alignment film can be measured by a known film thickness measuring device such as a step meter or an ellipsometer. Furthermore, the components in the liquid crystal alignment film can be analyzed using a normal analysis means such as IR or MS after performing a treatment such as hydrolysis as necessary. For example, “Performance improvement of polybenzoxazine by alloying with polyimide: effect of preparation method on the properties” (Tsutomu Takeichi et al., Polymer, 2005, 46, p.4909-4916).

本発明の液晶表示素子は、対向配置されている一対の基板と、前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極と、前記一対の基盤それぞれの対向している面に形成されている本発明の液晶配向膜と、前記一対の基板間に形成されている液晶層を有する。   The liquid crystal display element of the present invention includes a pair of opposed substrates, electrodes formed on one or both of the opposed surfaces of the pair of substrates, and the pair of substrates facing each other. And a liquid crystal layer formed between the pair of substrates.

前記対向配置された一対の電極付き基板は、透明基板(例えばガラス基板)であることが好ましい。   The pair of substrates with electrodes arranged opposite to each other is preferably a transparent substrate (for example, a glass substrate).

前記一対の基板の少なくとも一方又は両方の基板の表面には、液晶表示素子の形態に応じて電極が設けられる。前記電極は、基板の一面に形成される電極であれば特に限定されない。このような電極には、例えばITOや金属の蒸着膜等が挙げられる。電極は、基板の表面の全体に形成されていてもよいし、例えばパターン化されている所定の形状に形成されていてもよい。また電極は一対の基板の一方のみに設けられていてもよいし、両方に設けられていてもよい。例えば電極が設けられていない基板には基板の表面上に本発明の液晶配向膜が形成され、電極が設けられている基板には電極の上に本発明の液晶配向膜が形成される。本発明の液晶配向膜の形成については前述したとおりである。   An electrode is provided on the surface of at least one or both of the pair of substrates according to the form of the liquid crystal display element. The electrode is not particularly limited as long as it is an electrode formed on one surface of the substrate. Examples of such electrodes include ITO and metal vapor deposition films. The electrode may be formed on the entire surface of the substrate, or may be formed in a predetermined shape that is patterned, for example. Further, the electrode may be provided on only one of the pair of substrates, or may be provided on both. For example, the liquid crystal alignment film of the present invention is formed on the surface of the substrate on which the electrode is not provided, and the liquid crystal alignment film of the present invention is formed on the electrode on the substrate on which the electrode is provided. The formation of the liquid crystal alignment film of the present invention is as described above.

前記一対の基板間に挟持された液晶層は液晶組成物を含む。ここで液晶組成物は特に制限はされず、駆動モードに応じて、誘電率異方性が正の液晶組成物及び誘電率異方性が負の液晶組成物のいずれの組成物も用いることができる。   The liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates includes a liquid crystal composition. Here, the liquid crystal composition is not particularly limited, and either a liquid crystal composition having a positive dielectric anisotropy or a liquid crystal composition having a negative dielectric anisotropy may be used depending on the driving mode. it can.

誘電率異方性が正である好ましい液晶組成物の例は、特許第3086228号公報、特許第2635435号公報、特表平5−501735号公報、特開平8−157826号公報、特開平8−231960号公報、特開平9−241644号公報(EP885272A1)、特開平9−302346号公報(EP806466A1)、特開平8−199168号公報(EP722998A1)、特開平9−235552号公報、特開平9−255956号公報、特開平9−241643号公報(EP885271A1)、特開平10−204016号公報(EP844229A1)、特開平10−204436号公報、特開平10−231482号公報、特開2000−087040公報、特開2001−48822公報等に開示されている。   Examples of preferable liquid crystal compositions having a positive dielectric anisotropy include Japanese Patent No. 3086228, Japanese Patent No. 2635435, Japanese Patent Laid-Open No. 5-501735, Japanese Patent Laid-Open No. 8-157826, Japanese Patent Laid-Open No. 8- No. 231960, JP-A-9-241644 (EP882722A1), JP-A-9-302346 (EP806466A1), JP-A-8-199168 (EP722998A1), JP-A-9-235552, JP-A-9-255556. JP, 9-241643 (EP882711A1), JP 10-204016 (EP844229A1), JP 10-204436, JP 10-231482, JP 2000-087040, JP It is disclosed in 2001-48822 gazette etc. .

VA型液晶表示素子において用いられる液晶組成物は、誘電率異方性が負の各種の液晶組成物とすることができる。好ましい液晶組成物の例は、特開昭57−114532号公報、特開平2−4725号公報、特開平4−224885号公報、特開平8−40953号公報、特開平8−104869号公報、特開平10−168076号公報、特開平10−168453号公報、特開平10−236989号公報、特開平10−236990号公報、特開平10−236992号公報、特開平10−236993号公報、特開平10−236994号公報、特開平10−237000号公報、特開平10−237004号公報、特開平10−237024号公報、特開平10−237035号公報、特開平10−237075号公報、特開平10−237076号公報、特開平10−237448号公報(EP967261A1)、特開平10−287874号公報、特開平10−287875号公報、特開平10−291945号公報、特開平11−029581号公報、特開平11−080049号公報、特開2000−256307公報、特開2001−019965公報、特開2001−072626公報、特開2001−192657公報等に開示されている。   The liquid crystal composition used in the VA liquid crystal display element can be various liquid crystal compositions having negative dielectric anisotropy. Examples of preferred liquid crystal compositions include JP-A-57-141432, JP-A-2-4725, JP-A-4-224858, JP-A-8-40953, JP-A-8-104869, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-168076, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-168453, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-236989, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-236990, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-236992, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-236993, Japanese Laid-open Patent Publication No. -236994, JP-A-10-237000, JP-A-10-237004, JP-A-10-237024, JP-A-10-237035, JP-A-10-237075, JP-A-10-237076 JP, 10-237448, (EP967261A1), JP 10-28787. JP-A-10-287875, JP-A-10-291945, JP-A-11-029581, JP-A-11-080049, JP-A-2000-256307, JP-A-2001-019965, JP 2001-072626 A, JP 2001-192657 A, and the like.

前記誘電率異方性が正又は負の液晶組成物に、一つ以上の光学活性化合物を添加して使用することも何ら差し支えない。   One or more optically active compounds may be added to the liquid crystal composition having a positive or negative dielectric anisotropy.

本発明の液晶表示素子は、もちろんその他の部材を有していてもよい。例えば、薄膜トランジスタを使用したカラー表示のTFT型液晶素子においては、第1の透明基板上に薄膜トランジスタ、絶縁膜、保護膜、信号電極及び画素電極等が形成されており、第2の透明基板上に画素領域以外の光を遮断するブラックマトリクス、カラーフィルター、平坦化膜及び画素電極等を有し得る。   Of course, the liquid crystal display element of the present invention may have other members. For example, in a color display TFT type liquid crystal element using a thin film transistor, a thin film transistor, an insulating film, a protective film, a signal electrode, a pixel electrode, and the like are formed on a first transparent substrate, and the second transparent substrate is formed. A black matrix, a color filter, a planarization film, a pixel electrode, and the like that block light outside the pixel region may be included.

また、VA型液晶表示素子、特にMVA型液晶表示素子においては、第1の透明基板上にドメインと称される微小な突起物が形成されている。また、基板間のセルギャップの調整用にスペーサーが形成されていてもよい。   Further, in a VA liquid crystal display element, in particular, an MVA liquid crystal display element, a minute protrusion called a domain is formed on a first transparent substrate. A spacer may be formed for adjusting the cell gap between the substrates.

本発明の液晶表示素子は任意の方法で製作され得るが、例えば、1)前記二枚の透明基板上にポリイミド系溶液を塗布する工程、2)塗布されたポリイミド系溶液を乾燥する工程、3)乾燥されたポリイミド系溶液を脱水・閉環反応させるために必要な加熱処理をする工程、4)得られた液晶配向膜を配向処理する工程、5)二枚の基板を張り合わせた後に、基板の間に液晶組成物を封入する工程、又は一方の基板に液晶組成物を滴下させた後に、もう一方の基板と張り合わせる工程を含む方法で製作される。   The liquid crystal display element of the present invention can be manufactured by any method. For example, 1) a step of applying a polyimide solution on the two transparent substrates, 2) a step of drying the applied polyimide solution, 3 ) A step of performing heat treatment necessary for dehydration and ring-closing reaction of the dried polyimide solution, 4) a step of aligning the obtained liquid crystal alignment film, 5) after bonding the two substrates, It is manufactured by a method including a step of encapsulating a liquid crystal composition in between, or a step of dropping a liquid crystal composition on one substrate and then bonding it to the other substrate.

前記ポリイミド系溶液を塗布する工程における塗布方法としては、スピンナー法、印刷法、ディッピング法、滴下法、インクジェット法等が一般に知られている。これらの方法が本発明においても適用可能である。   As a coating method in the step of applying the polyimide-based solution, a spinner method, a printing method, a dipping method, a dropping method, an ink jet method and the like are generally known. These methods are also applicable in the present invention.

また、前記乾燥工程及び脱水反応に必要な加熱処理を施す工程の方法として、オーブン又は赤外炉の中で加熱処理する方法、ホットプレート上で加熱処理する方法等が一般に知られている。これらの方法が本発明においても適用可能である。乾燥工程は、溶媒の蒸発が可能な範囲内の比較的低温(50〜140℃)で実施することが好ましい。加熱処理の工程は一般に150〜300℃程度の温度で行うことが好ましい。   Further, as a method of the drying step and the step of performing the heat treatment necessary for the dehydration reaction, a method of heat treatment in an oven or an infrared furnace, a method of heat treatment on a hot plate, and the like are generally known. These methods are also applicable in the present invention. The drying step is preferably performed at a relatively low temperature (50 to 140 ° C.) within a range where the solvent can be evaporated. In general, the heat treatment step is preferably performed at a temperature of about 150 to 300 ° C.

液晶配向膜への配向処理は、IPS型液晶表示素子、OCB型液晶表示素子、TN型液晶表示素子、STN型液晶表示素子では通常ラビング処理を行う。VA型液晶表示素子ではラビング処理を行わないことが多いが行ってもよい。   The alignment treatment for the liquid crystal alignment film is usually a rubbing treatment for IPS liquid crystal display elements, OCB liquid crystal display elements, TN liquid crystal display elements, and STN liquid crystal display elements. In many cases, the VA liquid crystal display element is not subjected to the rubbing treatment.

次いで、一方の基板上に接着剤を塗布し貼り合わせ真空中で液晶を注入する。滴下注入法の場合には、貼り合わせる前に液晶組成物を基板上に滴下し、その後もう一方の基板で貼りあわせる。貼り合わせに使用した接着剤を熱又は紫外線で硬化させて本発明の液晶表示素子が作製される。   Next, an adhesive is applied onto one of the substrates, and the liquid crystal is injected in a bonding vacuum. In the case of the dropping injection method, the liquid crystal composition is dropped on the substrate before bonding, and then bonded on the other substrate. The liquid crystal display element of the present invention is produced by curing the adhesive used for bonding with heat or ultraviolet rays.

本発明の液晶表示素子には、偏光板(偏光フィルム)、波長板、光散乱フィルム、駆動回路等が実装されてもよい。   A polarizing plate (polarizing film), a wave plate, a light scattering film, a driving circuit, and the like may be mounted on the liquid crystal display element of the present invention.

本発明のポリイミド系溶液は、各種支持基板上に塗布、加熱処理を施すことによりポリイミド系溶液の塗膜を形成させ、電気・電子素子用の絶縁膜・保護膜或いは液晶配向膜等として使用するために用いることができ、保存中に成膜性ポリイミドが析出しにくく、塗膜の白化を抑制することができ、かつ塗布後の溶液の流動性が良好であるため、凹凸性の改善された平滑な塗膜を形成することができる。   The polyimide-based solution of the present invention is applied to various support substrates and subjected to heat treatment to form a polyimide-based solution coating film, which is used as an insulating film / protective film or liquid crystal alignment film for electric / electronic elements. Since the film-forming polyimide is less likely to precipitate during storage, whitening of the coating film can be suppressed, and the fluidity of the solution after application is good, the unevenness is improved. A smooth coating film can be formed.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。実施例において用いる化合物は次の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples. The compounds used in the examples are as follows.

<テトラカルボン酸二無水物>
化合物(1):ピロメリット酸二無水物
<Tetracarboxylic dianhydride>
Compound (1): pyromellitic dianhydride

<ジアミン>
化合物(VI−4):1,2−ビス(4−アミノフェニル)エタン
<Diamine>
Compound (VI-4): 1,2-bis (4-aminophenyl) ethane

<溶剤>
化合物(A−1):SOLKETAL(関東化学(株)製)
化合物(A−2):前記式(A−2)の化合物
化合物(A−3):前記式(A−3)の化合物
NMP:N−メチル−2−ピロリドン
BC:ブチルセロソルブ(エチレングリコールモノブチルエーテル)
<Solvent>
Compound (A-1): SOLKETAL (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.)
Compound (A-2): Compound of formula (A-2) Compound (A-3): Compound of formula (A-3) NMP: N-methyl-2-pyrrolidone BC: Butyl cellosolve (ethylene glycol monobutyl ether)

<酸触媒>
PTS:パラトルエンスルホン酸一水和物
<Acid catalyst>
PTS: p-toluenesulfonic acid monohydrate

[合成例1]
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた100mLの四つ口フラスコに化合物(VI−4)を1.726g(8.130mmol)、及び脱水NMPを50.0g入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いで化合物(1)を1.774g(8.133mmol)、及び脱水NMPを16.5g加えて、室温環境下で30時間反応させた。反応中に反応温度が上昇する場合は、反応温度を約70℃以下に抑えて反応させた。得られた反応混合物に、脱水NMPを30.0g加えて、濃度が3重量%のポリイミド系溶液を得た。このポリイミド系溶液をPA1とする。
[Synthesis Example 1]
A 100 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging inlet and a nitrogen gas inlet is charged with 1.726 g (8.130 mmol) of compound (VI-4) and 50.0 g of dehydrated NMP and dried. The solution was stirred and dissolved under a nitrogen stream. Next, 1.774 g (8.133 mmol) of compound (1) and 16.5 g of dehydrated NMP were added, and the mixture was reacted for 30 hours in a room temperature environment. When the reaction temperature rose during the reaction, the reaction temperature was kept at about 70 ° C. or lower for the reaction. To the resulting reaction mixture, 30.0 g of dehydrated NMP was added to obtain a polyimide solution having a concentration of 3% by weight. This polyimide solution is designated as PA1.

[合成例2]化合物(A−2)の合成
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口、Dean−Starkトラップ、還流冷却器を備えた1Lの反応容器に2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールを146g、及びヒドロキシアセトンを81g加えた。さらに前記反応容器に、触媒としてPTSを0.12g、エントレーナー(反応により生じた水を共沸させて除去するための溶剤)としてシクロヘキサンを50g加えた。反応容器を加熱し、還流状態で水を除去しながら3時間反応させた。反応終了後、精留にて精製を行い、純度98%以上の化合物(A−2)を190g取得した。
[Synthesis Example 2] Synthesis of Compound (A-2) 2,2,4-trimethyl-1,3 in a 1 L reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, raw material charging inlet, Dean-Stark trap, reflux condenser -146 g of pentanediol and 81 g of hydroxyacetone were added. Further, 0.12 g of PTS as a catalyst and 50 g of cyclohexane as an entrainer (a solvent for azeotropically removing water generated by the reaction) were added to the reaction vessel. The reaction vessel was heated and reacted for 3 hours while removing water at reflux. After completion of the reaction, purification was performed by rectification to obtain 190 g of a compound (A-2) having a purity of 98% or more.

得られた化合物(A−2)は、1H−NMR分析で得られる核磁気共鳴スペクトルにより同定した。測定装置には、DRX−500(ブルカーバイオスピン(株)社製)を用いた。測定は、前記合成例2で得られたサンプルを、CDCl3等のサンプルが可溶な重水素化溶媒に溶解し、室温で、500MHz、積算回数24回の条件で1H−NMR分析を行った。化学シフトδ値のゼロ点の基準物質としてはテトラメチルシラン(TMS)を用いた。得られた1H−NMRチャートを図1に示す。 The obtained compound (A-2) was identified by a nuclear magnetic resonance spectrum obtained by 1 H-NMR analysis. DRX-500 (manufactured by Bruker BioSpin Co., Ltd.) was used as the measuring device. In the measurement, the sample obtained in Synthesis Example 2 is dissolved in a deuterated solvent in which a sample such as CDCl 3 is soluble, and 1 H-NMR analysis is performed at room temperature at 500 MHz and 24 times. It was. Tetramethylsilane (TMS) was used as a reference material for the zero point of the chemical shift δ value. The obtained 1 H-NMR chart is shown in FIG.

得られた化合物(A−2)の純度は、ガスクロマトグラフィーにより測定して求めた。測定装置には、島津製作所製のGC−14A型ガスクロマトグラフを用いた。カラムは、(株)島津ジーエルシー製のキャピラリーカラムG−100−309−170(長さ40m、内径1.2mm、膜厚5μm);固定液相はジメチルポリシロキサン;無極性)を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウムを用い、流量は1mL/分に調整した。試料気化室の温度を300℃、検出器(FID)部分の温度を300℃に設定した。   The purity of the obtained compound (A-2) was determined by measurement by gas chromatography. A GC-14A gas chromatograph manufactured by Shimadzu Corporation was used as the measuring device. The column used was a capillary column G-100-309-170 (length 40 m, inner diameter 1.2 mm, film thickness 5 μm) manufactured by Shimadzu GL; the fixed liquid phase was dimethylpolysiloxane; Helium was used as the carrier gas, and the flow rate was adjusted to 1 mL / min. The temperature of the sample vaporizing chamber was set to 300 ° C., and the temperature of the detector (FID) portion was set to 300 ° C.

試料はトルエンに溶解して、1重量%の溶液となるように調製し、得られた溶液1μLを試料気化室に注入した。記録計としては島津製作所製のC−R6A型Chromatopac、又はその同等品を用いた。上述したカラムを用いる場合には、試料中の各成分の重量%は、試料中の各ピークの面積%とほぼ対応しており、得られたガスクロマトグラムのピーク面積から試料中の化合物(A−2)の純度を求めた。なお、試料の希釈溶媒としては、例えば、クロロホルム、ヘキサンを用いてもよい。   The sample was dissolved in toluene to prepare a 1% by weight solution, and 1 μL of the resulting solution was injected into the sample vaporization chamber. As a recorder, C-R6A type Chromatopac manufactured by Shimadzu Corporation or an equivalent thereof was used. When the above-described column is used, the weight% of each component in the sample substantially corresponds to the area% of each peak in the sample. From the peak area of the obtained gas chromatogram, the compound (A− The purity of 2) was determined. As a sample dilution solvent, for example, chloroform or hexane may be used.

[合成例3]化合物(A−3)の合成
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口、Dean−Starkトラップ、還流冷却器を備えた1Lの反応容器に2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールを146g、及び4−ヒドロキシ−2−ブタノンを132g加えた。さらに前記反応容器に、触媒としてPTSを0.30g、エントレーナーとしてシクロヘキサン50gを加えた。反応容器を加熱し、還流状態で水を除去しながら3時間反応させた。反応終了後、精留にて精製を行い、純度98%以上の化合物(A−3)を200g取得した。化合物(A−3)の構造の確認と純度の測定は化合物(A−2)と同様にして行った。得られた1H−NMRチャートを図2に示す。
[Synthesis Example 3] Synthesis of Compound (A-3) 2,2,4-Trimethyl-1,3 in a 1 L reaction vessel equipped with a thermometer, stirrer, raw material charging inlet, Dean-Stark trap, reflux condenser -146 g of pentanediol and 132 g of 4-hydroxy-2-butanone were added. Further, 0.30 g of PTS as a catalyst and 50 g of cyclohexane as an entrainer were added to the reaction vessel. The reaction vessel was heated and reacted for 3 hours while removing water at reflux. After completion of the reaction, purification was performed by rectification to obtain 200 g of a compound (A-3) having a purity of 98% or more. Confirmation of the structure of compound (A-3) and measurement of purity were carried out in the same manner as for compound (A-2). The obtained 1 H-NMR chart is shown in FIG.

[実施例1]
合成例1で得られた3重量%のPA1に、化合物(A−1)を、PA1の100重量部に対して30重量部混合してポリイミド系溶液を得た。得られたポリイミド系溶液を室温で24時間保存して、溶液の保存安定性を観察した結果、何ら変化は認められず、保存安定性は良好であった。
[Example 1]
30 parts by weight of compound (A-1) was mixed with 3 parts by weight of PA1 obtained in Synthesis Example 1 with respect to 100 parts by weight of PA1 to obtain a polyimide-based solution. The obtained polyimide-based solution was stored at room temperature for 24 hours, and the storage stability of the solution was observed. As a result, no change was observed and the storage stability was good.

[実施例2]
合成例1で得られた3重量%のPA1に、合成例2で得られた化合物(A−2)を、PA1の100重量部に対して30重量部混合してポリイミド系溶液を得た。得られたポリイミド系溶液を室温で24時間保存して、溶液の保存安定性を観察した結果、何ら変化は認められず、保存安定性は良好であった。
[Example 2]
30% by weight of the compound (A-2) obtained in Synthesis Example 2 was mixed with 3% by weight of PA1 obtained in Synthesis Example 1 with respect to 100 parts by weight of PA1 to obtain a polyimide-based solution. The obtained polyimide-based solution was stored at room temperature for 24 hours, and the storage stability of the solution was observed. As a result, no change was observed and the storage stability was good.

[実施例3]
合成例1で得られた3重量%のPA1に、合成例3で得られた化合物(A−3)を、PA1の100重量部に対して30重量部混合してポリイミド系溶液を得た。得られたポリイミド系溶液を室温で24時間保存して、溶液の保存安定性を観察した結果、何ら変化は認められず、保存安定性は良好であった。
[Example 3]
30% by weight of the compound (A-3) obtained in Synthesis Example 3 was mixed with 3% by weight of PA1 obtained in Synthesis Example 1 with respect to 100 parts by weight of PA1 to obtain a polyimide-based solution. The obtained polyimide-based solution was stored at room temperature for 24 hours, and the storage stability of the solution was observed. As a result, no change was observed and the storage stability was good.

[比較例1]
合成例1で得られた3重量%のPA1に、BCを、PA1の100重量部に対して30重量部混合してポリイミド系溶液を得た。得られたポリイミド系溶液を室温で24時間保存して、溶液の保存安定性を観察した結果、溶液は白濁し、保存安定性は不良であった。
[Comparative Example 1]
30 parts by weight of BC was mixed with 3 parts by weight of PA1 obtained in Synthesis Example 1 with respect to 100 parts by weight of PA1 to obtain a polyimide-based solution. The obtained polyimide solution was stored at room temperature for 24 hours, and the storage stability of the solution was observed. As a result, the solution became cloudy and the storage stability was poor.

実施例1〜3及び比較例1に示されたように、化合物(A−1)、(A−2)、又は(A−3)を添加した実施例1〜3のポリイミド系溶液では、BCを添加した比較例1のポリイミド系溶液と比較して保存安定性を向上させることができる。   As shown in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, in the polyimide-based solutions of Examples 1 to 3 to which the compound (A-1), (A-2), or (A-3) was added, BC Storage stability can be improved as compared with the polyimide-based solution of Comparative Example 1 to which is added.

液晶表示素子等の光学素子では、ポリイミド膜が様々な形態で使用されることがある。このようなポリイミド膜を形成するためのポリイミド系溶液の経時的な性状の変化は、ポリイミド膜の物性やそれを用いる光学素子の品質に影響を及ぼすことがある。本発明は、ブチルセロソルブを含有するポリイミド系溶液に比べてポリイミド系溶液の保存安定性を高めることができ、またブチルセロソルブを含有するポリイミド系溶液と同様に、塗布性において優れている。したがって、本発明によれば、ブチルセロソルブを含有する塗膜形成用のポリイミド系溶液を用いる技術において、ポリイミド系溶液の保存安定性の観点でより優れた技術の提供が期待される。   In an optical element such as a liquid crystal display element, a polyimide film may be used in various forms. Changes in the properties of the polyimide-based solution for forming such a polyimide film over time may affect the physical properties of the polyimide film and the quality of optical elements using the polyimide film. The present invention can improve the storage stability of a polyimide-based solution compared to a polyimide-based solution containing butyl cellosolve, and is excellent in coating properties as with a polyimide-based solution containing butyl cellosolve. Therefore, according to the present invention, in a technique using a polyimide-based solution for forming a coating film containing butyl cellosolve, it is expected to provide a more excellent technique from the viewpoint of storage stability of the polyimide-based solution.

Claims (21)

ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分と、これを溶解する溶媒とを含有する液晶配向剤において、
前記溶媒が下記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とする液晶配向剤。
Figure 0005691273
(式(A)中、
1は−CH3、−CH2−OH、又は−(CH22−OHを表し、
2は−H、−CH3、又は−CH2−OHを表し、
3は独立して−H、−CH3、又は−CH(CH32を表し、
nは0又は1を表し、
1及びQ2のいずれか一方が−OHを有する基であり、
n=0のときはQ1が−CH3であり、Q2が−CH2−OHであり、
n=1のときはQ1が−CH2−OH又は−(CH22−OHであり、Q2が−Hであり、
3が−CH3及び−CH(CH32の一方又は両方を含む。)
In a liquid crystal aligning agent containing a film-forming polyimide-based component that is one or more selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor, and a solvent that dissolves the component,
The said solvent contains the compound represented by a following formula (A), The liquid crystal aligning agent characterized by the above-mentioned.
Figure 0005691273
(In the formula (A),
Q 1 represents —CH 3 , —CH 2 —OH, or — (CH 2 ) 2 —OH,
Q 2 represents —H, —CH 3 , or —CH 2 —OH,
Q 3 independently represents —H, —CH 3 , or —CH (CH 3 ) 2 ;
n represents 0 or 1,
Any one of Q 1 and Q 2 is a group having —OH;
When n = 0, Q 1 is —CH 3 , Q 2 is —CH 2 —OH,
When n = 1, Q 1 is —CH 2 —OH or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 is —H,
Q 3 includes one or both of —CH 3 and —CH (CH 3 ) 2 . )
式(A)で表される化合物が下記式(A−1)、(A−2)、及び(A−3)からなる群から選ばれる一以上であることを特徴とする請求項1に記載の液晶配向剤。
Figure 0005691273
The compound represented by the formula (A) is one or more selected from the group consisting of the following formulas (A-1), (A-2), and (A-3). Liquid crystal aligning agent.
Figure 0005691273
前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶配向剤。   3. The liquid crystal according to claim 1, wherein the film forming polyimide component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of a diamine or a derivative thereof and a tetracarboxylic acid or a derivative thereof. Alignment agent. 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶配向剤。   The said solvent is a mixed solvent of 2 or more types of compounds containing the compound represented by the said formula (A), The liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶配向剤の塗膜を焼成して液晶配向膜を形成する方法The method of baking the coating film of the liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-4, and forming a liquid crystal aligning film . 対向配置されている一対の基板と、前記一対の基板それぞれの対向している面の一方又は両方に形成されている電極と、前記一対の基板それぞれの対向している面に形成されている液晶配向膜と、前記一対の基板間に形成されている液晶層とを有する液晶表示素子の製造方法において、前記液晶配向膜は請求項5に記載の方法で形成する、液晶表示素子の製造方法A pair of substrates disposed opposite to each other, electrodes formed on one or both of the opposed surfaces of the pair of substrates, and liquid crystal formed on the opposed surfaces of the pair of substrates. In the manufacturing method of the liquid crystal display element which has an orientation film and the liquid crystal layer formed between the said pair of board | substrates, the said liquid crystal orientation film is a manufacturing method of the liquid crystal display element formed with the method of Claim 5. ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分と、これを溶解する溶媒とを含有するポリイミド系溶液において、
前記溶媒が下記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とするポリイミド系溶液。
Figure 0005691273
(式(A)中、
1は−CH3、−CH2−OH、又は−(CH22−OHを表し、
2は−H、−CH3、又は−CH2−OHを表し、
3は独立して−H、−CH3、又は−CH(CH32を表し、
nは0又は1を表し、
1及びQ2のいずれか一方が−OHを有する基であり、
n=0のときはQ1が−CH3であり、Q2が−CH2−OHであり、
n=1のときはQ1が−CH2−OH又は−(CH22−OHであり、Q2が−Hであり、
3が−CH3及び−CH(CH32の一方又は両方を含む。)
In a polyimide-based solution containing a film-forming polyimide-based component that is one or more selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor, and a solvent for dissolving the component,
The polyimide-based solution, wherein the solvent contains a compound represented by the following formula (A).
Figure 0005691273
(In the formula (A),
Q 1 represents —CH 3 , —CH 2 —OH, or — (CH 2 ) 2 —OH,
Q 2 represents —H, —CH 3 , or —CH 2 —OH,
Q 3 independently represents —H, —CH 3 , or —CH (CH 3 ) 2 ;
n represents 0 or 1,
Any one of Q 1 and Q 2 is a group having —OH;
When n = 0, Q 1 is —CH 3 , Q 2 is —CH 2 —OH,
When n = 1, Q 1 is —CH 2 —OH or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 is —H,
Q 3 includes one or both of —CH 3 and —CH (CH 3 ) 2 . )
前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする請求項7に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to claim 7, wherein the film-forming polyimide component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of diamine or a derivative thereof and tetracarboxylic acid or a derivative thereof. . 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする請求項7又は8に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide solvent according to claim 7 or 8, wherein the solvent is a mixed solvent of two or more kinds of compounds including the compound represented by the formula (A). 被覆材料である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to any one of claims 7 to 9, which is a coating material. 絶縁材料である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to any one of claims 7 to 9, which is an insulating material. 接着剤である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to any one of claims 7 to 9, which is an adhesive. 封止材である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to any one of claims 7 to 9, which is a sealing material. プリント配線基板用材料である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to any one of claims 7 to 9, which is a printed wiring board material. 成形材料である、請求項7〜9のいずれか一項に記載のポリイミド系溶液。   The polyimide-based solution according to any one of claims 7 to 9, which is a molding material. ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分が、これを溶解する溶媒に溶解してなる溶液を得ることを含む、ポリイミド系溶液を製造する方法において、
前記溶媒が下記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とするポリイミド系溶液の製造方法。
Figure 0005691273
(式(A)中、
1は−CH3、−CH2−OH、又は−(CH22−OHを表し、
2は−H、−CH3、又は−CH2−OHを表し、
3は独立して−H、−CH3、又は−CH(CH32を表し、
nは0又は1を表し、
1及びQ2のいずれか一方が−OHを有する基であり、
n=0のときはQ1が−CH3であり、Q2が−CH2−OHであり、
n=1のときはQ1が−CH2−OH又は−(CH22−OHであり、Q2が−Hであり、
3が−CH3及び−CH(CH32の一方又は両方を含む。)
In a method for producing a polyimide-based solution, including a film-formable polyimide-based component that is one or more selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor, obtaining a solution obtained by dissolving it in a solvent that dissolves the component,
The said solvent contains the compound represented by a following formula (A), The manufacturing method of the polyimide-type solution characterized by the above-mentioned.
Figure 0005691273
(In the formula (A),
Q 1 represents —CH 3 , —CH 2 —OH, or — (CH 2 ) 2 —OH,
Q 2 represents —H, —CH 3 , or —CH 2 —OH,
Q 3 independently represents —H, —CH 3 , or —CH (CH 3 ) 2 ;
n represents 0 or 1,
Any one of Q 1 and Q 2 is a group having —OH;
When n = 0, Q 1 is —CH 3 , Q 2 is —CH 2 —OH,
When n = 1, Q 1 is —CH 2 —OH or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 is —H,
Q 3 includes one or both of —CH 3 and —CH (CH 3 ) 2 . )
前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする請求項16に記載のポリイミド系溶液の製造方法。   The polyimide-based solution according to claim 16, wherein the film-forming polyimide component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of a diamine or a derivative thereof and a tetracarboxylic acid or a derivative thereof. Manufacturing method. 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする請求項16又は17に記載のポリイミド系溶液の製造方法。   The method for producing a polyimide-based solution according to claim 16 or 17, wherein the solvent is a mixed solvent of two or more kinds of compounds including the compound represented by the formula (A). ポリイミド及びポリイミド前駆体からなる群から選択された一種以上である成膜性ポリイミド系成分とこれを溶解する溶媒とを含有するポリイミド系溶液の塗膜を形成する工程と、形成された塗膜を焼成して塗膜中の成膜性ポリイミド系成分からなるポリイミド膜を形成する工程とを含むポリイミド膜の製造方法において、
前記溶媒が下記式(A)で表される化合物を含むことを特徴とするポリイミド膜の製造方法。
Figure 0005691273
(式(A)中、
1は−CH3、−CH2−OH、又は−(CH22−OHを表し、
2は−H、−CH3、又は−CH2−OHを表し、
3は独立して−H、−CH3、又は−CH(CH32を表し、
nは0又は1を表し、
1及びQ2のいずれか一方が−OHを有する基であり、
n=0のときはQ1が−CH3であり、Q2が−CH2−OHであり、
n=1のときはQ1が−CH2−OH又は−(CH22−OHであり、Q2が−Hであり、
3が−CH3及び−CH(CH32の一方又は両方を含む。)
A step of forming a coating film of a polyimide-based solution containing a film-forming polyimide-based component which is one or more selected from the group consisting of polyimide and a polyimide precursor and a solvent for dissolving the component, and the formed coating film In the manufacturing method of a polyimide film including a step of baking and forming a polyimide film composed of a film forming polyimide component in the coating film,
The said solvent contains the compound represented by a following formula (A), The manufacturing method of the polyimide film characterized by the above-mentioned.
Figure 0005691273
(In the formula (A),
Q 1 represents —CH 3 , —CH 2 —OH, or — (CH 2 ) 2 —OH,
Q 2 represents —H, —CH 3 , or —CH 2 —OH,
Q 3 independently represents —H, —CH 3 , or —CH (CH 3 ) 2 ;
n represents 0 or 1,
Any one of Q 1 and Q 2 is a group having —OH;
When n = 0, Q 1 is —CH 3 , Q 2 is —CH 2 —OH,
When n = 1, Q 1 is —CH 2 —OH or — (CH 2 ) 2 —OH, Q 2 is —H,
Q 3 includes one or both of —CH 3 and —CH (CH 3 ) 2 . )
前記成膜性ポリイミド系成分が、ジアミン又はその誘導体とテトラカルボン酸又はその誘導体との反応生成物の構造を有するポリアミック酸又はその誘導体であることを特徴とする請求項19に記載のポリイミド膜の製造方法。   The polyimide film component according to claim 19, wherein the film forming polyimide component is a polyamic acid or a derivative thereof having a structure of a reaction product of a diamine or a derivative thereof and a tetracarboxylic acid or a derivative thereof. Production method. 前記溶媒が、前記式(A)で表される化合物を含む二種以上の化合物の混合溶媒であることを特徴とする請求項19又は20に記載のポリイミド膜の製造方法。   The method for producing a polyimide film according to claim 19 or 20, wherein the solvent is a mixed solvent of two or more kinds of compounds including the compound represented by the formula (A).
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DE4407898A1 (en) * 1994-03-09 1995-09-14 Hoechst Ag Nanoparticles containing an active ingredient and a polyketalic acid amide, process for their preparation and use thereof
DE19813011A1 (en) * 1998-03-25 1999-10-14 Aventis Res & Tech Gmbh & Co Process for the production of microcapsules
KR101646785B1 (en) * 2006-12-20 2016-08-08 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 Fluorinated Compounds for Use in Lithium Battery Electrolytes
JP2011043805A (en) * 2009-07-22 2011-03-03 Chisso Corp New composition and method for producing the same
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