KR20120006947A - Substrate inspection device and substrate inspection method - Google Patents

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KR20120006947A
KR20120006947A KR1020110069509A KR20110069509A KR20120006947A KR 20120006947 A KR20120006947 A KR 20120006947A KR 1020110069509 A KR1020110069509 A KR 1020110069509A KR 20110069509 A KR20110069509 A KR 20110069509A KR 20120006947 A KR20120006947 A KR 20120006947A
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conveyance
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KR1020110069509A
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오사무 다까기
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올림푸스 가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A substrate inspecting apparatus and a substrate inspecting method are provided to prevent the increment of a tact time for a substrate in order to acquire the image of inspected defects. CONSTITUTION: A substrate inspecting apparatus comprises a transfer unit, a defect detecting unit(121), and an image acquisition unit. The transfer unit transfers substrates in the first direction. The defect detecting unit detects defects on the substrate which is being transferred in the first direction. The image acquisition unit acquires the image of the defects detected by the defect detecting unit during transfer.

Description

기판 검사 장치 및 기판 검사 방법{SUBSTRATE INSPECTION DEVICE AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD}Substrate inspection device and substrate inspection method {SUBSTRATE INSPECTION DEVICE AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD}

본 발명은, 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method.

종래, 액정 디스플레이(LCD:Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel)나 유기 EL(ElectroLuminescence) 디스플레이나 표면 전도형 전자 방출 소자 디스플레이(SED:Surface-conduction Electron-emitter Display) 등의 FPD(Flat Panel Display) 기판이나, 반도체 웨이퍼나, 프린트 기판 등, 각종 기판의 제조에서는, 그 수율을 향상시키기 위해, 각 패터닝 프로세스 후, 축차적으로, 배선의 단락이나 접속 불량이나 단선이나 패턴 불량 등의 패터닝 에러가 존재하는지의 여부가 검사된다. 이와 같은 기판 검사에서는, 우선, 라인 스캔 카메라나 CCD 카메라 등으로 기판 표면에 있는 결함을 검출하고(결함 검출 검사), 그 후, 검출한 결함의 확대 화상을 CCD 카메라 등의 리뷰 카메라에 의해 취득한다(결함 리뷰).Conventionally, a flat panel such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic electroluminescence (EL) display, or a surface-conduction electron-emitter display (SED) is used. Display) In the manufacture of various substrates such as a substrate, a semiconductor wafer, and a printed circuit board, in order to improve the yield, after each patterning process, patterning errors such as short-circuits, poor connection, and disconnection and pattern defects of wiring It is checked whether it exists. In such a board | substrate inspection, a defect in the surface of a board | substrate is first detected by a line scan camera, a CCD camera, etc. (defect detection inspection), and the enlarged image of the detected defect is acquired by a review camera, such as a CCD camera, after that. (Defective review).

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2000-9661호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-9661

그러나, 상기 종래 기술에서는, 1개의 기판에 대한 결함 검사가 종료된 후에 동일 기판에 대하여 결함의 리뷰를 행하고 있기 때문에, 검사 모두를 완료할 때까지 요하는 시간이 길어지게 된다고 하는 문제가 존재한다. 또한, 결함의 리뷰 시간을 제한함으로써, 검사 완료까지 요하는 시간의 증가를 억제하는 것도 가능한데, 이 경우, 결함 리뷰의 대상으로 되는 결함의 수가 실질적으로 제한되기 때문에, 상세한 결함 리뷰를 할 수 없다고 하는 문제가 발생한다.However, in the above prior art, since the defect is reviewed on the same substrate after the defect inspection on one substrate is completed, there is a problem that the time required for completing all the inspections becomes long. In addition, by limiting the review time of the defect, it is also possible to suppress an increase in the time required to complete the inspection. In this case, since the number of defects to be subjected to the defect review is substantially limited, detailed defect review cannot be performed. A problem arises.

따라서 본 발명은, 상기의 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 검사 완료까지 요하는 시간의 증가를 억제하면서 상세한 결함 리뷰가 가능한 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, this invention is made | formed in view of said problem, and an object of this invention is to provide the board | substrate test | inspection apparatus and board | substrate test | inspection method which can perform detailed defect review, suppressing the increase of time required to complete | finish inspection.

이러한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 기판 검사 장치는, 기판을 제1 방향으로 반송하는 반송부와, 상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출부와, 상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함의 화상을 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve such an object, the board | substrate inspection apparatus which concerns on this invention is a conveyance part which conveys a board | substrate to a 1st direction, the defect detection part which detects the defect in the said board | substrate conveying to a said 1st direction, and the said defect An image acquisition part for acquiring the image of the defect detected by the detection part during the said conveyance is provided, It is characterized by the above-mentioned.

또한, 본 발명에 따른 기판 검사 방법은, 기판을 제1 방향으로 반송하는 제1 반송 스텝과, 상기 제1 반송 스텝에 있어서 상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출 스텝과, 상기 결함 검출 스텝에 있어서 검출된 결함의 화상을 상기 제1 반송 스텝에서의 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득 스텝을 포함하는 것을 특징으로 한다.Moreover, the board | substrate test | inspection method which concerns on this invention detects the defect in the 1st conveyance step which conveys a board | substrate to a 1st direction, and the defect in the said board | substrate conveying to the said 1st direction in the said 1st conveyance step. And an image acquisition step of acquiring an image of the defect detected in the defect detection step during the conveyance in the first conveyance step.

본 발명에 따르면, 기판에 대한 결함 검출과 병행하여, 이 검출된 결함의 화상을 취득하기 위해, 1개의 기판에 대한 택트 타임(takt time)을 증가시키는 일 없이, 보다 많은 결함의 화상을 취득하는 것이 가능하게 된다. 이 결과, 검사 완료까지 요하는 시간의 증가를 억제하면서 상세한 결함 리뷰가 가능한 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법을 실현할 수 있다. According to the present invention, in order to acquire an image of the detected defect in parallel with the defect detection on the substrate, more images of the defect are acquired without increasing the tact time for one substrate. It becomes possible. As a result, the board | substrate inspection apparatus and board | substrate inspection method which can examine a detailed defect can be realized, suppressing the increase of time required to complete | finish inspection.

도 1은 일 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 사시도.
도 2는 실시 형태에 있어서의 라인 스캔 카메라의 촬상 범위와 리뷰 카메라의 가동 범위와의 관계의 일례를 나타내는 모식도.
도 3은 실시 형태에 있어서의 라인 스캔 카메라의 촬상 범위와 리뷰 카메라의 가동 범위와의 관계의 다른 일례를 나타내는 모식도.
도 4는 도 1에 도시한 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 상시도.
도 5는 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 기능 구성을 도시하는 블록도.
도 6은 실시 형태에 따른 기판 검사 동작의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 7은 실시 형태에 따른 결함 검출 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 8은 실시 형태에 따른 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 9는 실시 형태에 따른 되풀이 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 10은 실시 형태에 따른 프레임의 다른 개략 구성을 도시하는 상시도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The perspective view which shows schematic structure of the board | substrate inspection apparatus which concerns on one Embodiment.
It is a schematic diagram which shows an example of the relationship between the imaging range of the line scan camera in the embodiment, and the movable range of a review camera.
It is a schematic diagram which shows another example of the relationship between the imaging range of the line scan camera in the embodiment, and the movable range of a review camera.
4 is a perspective view showing a schematic configuration of the substrate inspection device shown in FIG. 1.
5 is a block diagram showing a schematic functional configuration of a substrate inspection device according to an embodiment.
6 is a flowchart for explaining a schematic flow of a substrate inspection operation according to the embodiment;
7 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect detection process according to the embodiment;
8 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect review process according to the embodiment;
9 is a flowchart for explaining a schematic flow of a recurring defect review process according to the embodiment;
10 is a perspective view showing another schematic configuration of a frame according to the embodiment;

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태를 도면과 함께 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 각 도면은 본 발명의 내용을 이해할 수 있는 정도의 형상, 크기, 및 위치 관계를 개략적으로 도시한 것에 지나지 않고, 따라서, 본 발명은 각 도면에서 예시된 형상, 크기, 및 위치 관계로만 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에서는, 구성의 명료화를 위해, 단면에 있어서의 해칭의 일부가 생략되어 있다. 또한, 후술에 있어서 예시하는 수치는, 본 발명의 적절한 예에 지나지 않고, 따라서, 본 발명은 예시된 수치에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated in detail with drawing. In addition, in the following description, each drawing is only the figure which showed roughly the shape, the magnitude | size, and the positional relationship to the extent that the content of this invention can be understood, Therefore, this invention is the shape, the magnitude | size illustrated by each drawing. It is not limited only to, and positional relationships. In addition, in each figure, the part of hatching in a cross section is abbreviate | omitted for clarity of a structure. In addition, the numerical value illustrated in the following is only an appropriate example of this invention, Therefore, this invention is not limited to the numerical value illustrated.

이하, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법을, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 1은, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 사시도이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the board | substrate inspection apparatus and board | substrate inspection method which concern on one Embodiment of this invention are demonstrated in detail using drawing. FIG. 1: is a perspective view which shows schematic structure of the board | substrate inspection apparatus which concerns on this embodiment.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 장치(1)는, 본체 베이스(11)와, 기판 재치면에 형성된 무수한 구멍으로부터 에어를 취출함으로써 기판 W를 부상시키는 부상 스테이지(14)와, 기판 W의 반송 방향(도면 중, X/-X 방향)을 따라서 연장되는 반송 스테이지(12)와, 부상 스테이지(14) 상에 반입된 기판 W를 유지하면서 반송 스테이지(12)를 이동함으로써 기판 W를 반송하는 기판 반송 유닛(22)과, 기판 W가 반송되는 부상 스테이지(14)를 반송 방향과 수직인 방향(도면 중, Y 방향)에 걸치는 검사부의 프레임(13)과, 프레임(13)의 근변에서 부상 스테이지(14)를 경사 상방으로부터 Y 방향으로 긴 라인 형상으로 조명하는 라인 조명(18)과, 프레임(13)으로 이동 가능하게 설치되어 라인 조명(18)에 의해 조명된 라인 형상의 영역을 라인 조명(18)과는 반대측의 경사 상방으로부터 촬상하는 결함 검사용의 1개 이상의 라인 스캔 카메라(15)와, 동일하게 프레임(13)에 이동 가능하게 설치되어 부상 스테이지(14) 상의 기판 W를 확대 촬상하는 리뷰용의 1개 이상의 리뷰 카메라(19)를 구비한다. 이 중, 예를 들면 부상 스테이지(14)와 반송 스테이지(12)와 프레임(13)은, 본체 베이스(11)에 고정된다. 또한, 라인 조명(18)을 본체 베이스(11)에 고정해도 된다. 본체 베이스(11)에는, 대리석 블록 등의 내진성이 우수한 부재나, 진동 감쇠부를 구비함으로써 내진 성능이 향상된 부재 등을 이용할 수 있다. 또한, 기판 검사 장치(1)는, 예를 들어 클린룸 내에 수용되어도 된다.As shown in FIG. 1, the board | substrate test | inspection apparatus 1 which concerns on this embodiment floats the board | substrate W which raises the board | substrate W by extracting air from the main body base 11 and the numerous holes formed in the board | substrate mounting surface. And the transfer stage 12 while maintaining the transfer stage 12 extending along the transfer direction of the substrate W (in the drawing, the X / -X direction) and the substrate W loaded on the floating stage 14. The frame 13 of the inspection part which extends the board | substrate conveyance unit 22 which conveys the board | substrate W, and the floating stage 14 by which the board | substrate W is conveyed in the direction (Y direction in drawing) perpendicular | vertical to a conveyance direction, and the frame 13 Line illumination 18 that illuminates the floating stage 14 in a long line shape in the Y direction from the inclined upper side and a frame shape that is movable to the frame 13 and is illuminated by the line illumination 18 in the vicinity of The area on the side opposite to the line illumination 18 One or more line scan cameras 15 for defect inspection imaging from the upper and lower sides, and one or more for review that are mounted on the frame 13 so as to be movable, and enlarge the image of the substrate W on the floating stage 14. A review camera 19 is provided. Among these, the floating stage 14, the conveyance stage 12, and the frame 13 are fixed to the main body base 11, for example. In addition, the line illumination 18 may be fixed to the main body base 11. As the main body base 11, a member having excellent seismic resistance, such as a marble block, a member having improved vibration resistance by providing a vibration damping unit, or the like can be used. In addition, the board | substrate inspection apparatus 1 may be accommodated in a clean room, for example.

부상 스테이지(14)는, 예를 들면 도시하지 않은 프레임에 의해서 본체 베이스(11)에 고정된다. 또한, 부상 스테이지(14)의 기판 재치면에는, 예를 들면 도시하지 않은 송풍 기구에 연결된 무수한 구멍이 형성되어 있고, 이 구멍으로부터 에어를 취출함으로써, 부상 스테이지(14) 상에 재치된 기판 W가 기판 재치면으로부터 부상한 상태로 된다. 단, 이에 한정되지 않고, 기판 W의 반송 방향으로 회전하는 롤러를 복수 마련하고, 이 롤러에 의해서 기판 W가 부상 스테이지(14)에 접촉하지 않도록 지지되는 구성 등, 기판 반송시에 기판 W를 손상시키지 않고 반송하는 것이 가능한 구성이면 다양하게 변경하는 것이 가능하다.The floating stage 14 is fixed to the main base 11 by, for example, a frame (not shown). In addition, in the board | substrate mounting surface of the floating stage 14, the countless hole connected to the blowing mechanism which is not shown in figure is formed, for example, and the board | substrate W mounted on the floating stage 14 is blown out by taking out air from this hole. It floats from the board | substrate mounting surface. However, the present invention is not limited thereto, and a plurality of rollers rotating in the conveying direction of the substrate W are provided, and the substrate W is damaged during substrate transportation, such as a configuration in which the substrate W is supported so as not to contact the floating stage 14. If it is the structure which can convey without making it possible, it can change variously.

결함 검사용의 라인 스캔 카메라(15)의 촬상에 이용되는 라인 조명(18)은, 선광원, 점광원이 라인 형상으로 배열하여 이루어지는 광원, 또는 가늘고 긴 면광원 등이다. 이 라인 조명(18)은, 기판 W 표면에서 반사한 조명광의 광축의 배열면이 각 라인 스캔 카메라(15)의 광축을 포함하도록, 그 위치 및 각도가 조절되어 있다.The line illumination 18 used for the imaging of the line scan camera 15 for defect inspection is a light source formed by linearly arranging a line light source, a point light source in a line shape, or an elongated surface light source. The position and angle of this line illumination 18 are adjusted so that the arrangement surface of the optical axis of the illumination light reflected from the board | substrate W surface may include the optical axis of each line scan camera 15. As shown in FIG.

라인 조명(18)과 평행하게 설치되는 프레임(13)은, 소위 갠트리(gantry)라고 불리는 것이다. 프레임(13)에는, 1개 이상의 라인 스캔 카메라(15)를 기판 W의 반송 방향과 수직인 방향(Y/-Y 방향)으로 배열시킨 상태로 유지하는 스캔 카메라 스테이지(17)가 설치되어 있다. 각 라인 스캔 카메라(15)에는, 라인 조명(18)에 의해서 기판 W 상에서 반사한 관찰광을 소정의 배율로 변배하면서 어느 것인가의 라인 스캔 카메라(15)의 라인 센서 위치에서 결상시킬 수 있는 카메라 렌즈(16)가 설치되어 있다.The frame 13 provided in parallel with the line illumination 18 is what is called a gantry. The frame 13 is provided with a scan camera stage 17 for holding one or more line scan cameras 15 arranged in a direction perpendicular to the transport direction of the substrate W (Y / -Y direction). Each line scan camera 15 has a camera lens capable of forming an image at the line sensor position of any of the line scan cameras 15 while varying the observation light reflected by the line illumination 18 on the substrate W at a predetermined magnification. (16) is provided.

또한, 각 라인 스캔 카메라(15)는, 예를 들면 도시하지 않은 제어부로부터의 제어 하에, 다른 라인 스캔 카메라(15)와 독립하여, 스캔 카메라 스테이지(17)를 따라서 Y/-Y 방향으로 이동하는 것이 가능하다. 이 구성은, 라인 스캔 카메라(15)가, 프레임(13) 아래를 통과하는 기판 W를 Y 방향을 따라서 구석구석까지 촬상하는 것을 가능하게 한다. 따라서, 라인 스캔 카메라(15)로 Y 방향으로 긴 띠 형상의 촬상 영역을 구석구석까지 촬상하면서 기판 반송 유닛(22)을 이용하여 기판 W를 X 방향(또는 -X 방향)으로 반송하는 스캔 동작을 행함으로써, 기판 W 전체를 촬상하는 것이 가능하다. 단, 라인 스캔 카메라(15)의 대수(臺數)에 따라서는, 스캔 동작을 복수회함으로써 기판 W 전체를 촬상하도록 구성되는 경우도 있다. 이 경우, 1회의 스캔 동작이 종료되면, 라인 스캔 카메라(15)는, 다음의 스캔 동작시에 1시야분, Y/-Y 방향으로 이동한다.In addition, each line scan camera 15 moves in the Y / -Y direction along the scan camera stage 17 independently of the other line scan cameras 15, for example, under control from a control unit (not shown). It is possible. This configuration enables the line scan camera 15 to image the substrate W passing under the frame 13 to every corner along the Y direction. Therefore, the scanning operation which conveys the board | substrate W to the X direction (or -X direction) using the board | substrate conveying unit 22, image | photographing the long strip | belt-shaped image pick-up area | region to every corner with the line scan camera 15 to every corner. By doing this, it is possible to image the whole substrate W. FIG. However, depending on the number of the line scan cameras 15, it may be comprised so that the whole board | substrate W may be imaged by performing a several times scanning operation. In this case, when one scan operation | movement is complete | finished, the line scan camera 15 moves to Y / -Y direction for one o'clock at the next scan operation.

한편, 리뷰 카메라(19)는, 예를 들면 CCD 카메라나 CMOS 카메라 등으로 구성된다. 각 리뷰 카메라(19)는, 동축 낙사 조명과 기판 W의 결함의 확대 투영을 가능하게 하는 대물 렌즈를 구비한 경통(20) 내에 설치되어, 타깃으로 하는 결함의 확대 화상을 취득한다. 이 경통(20)은, 프레임(13)을 사이에 두고 스캔 카메라 스테이지(17)와 반대측에 배치된 리뷰 카메라 스테이지(21)에 설치된다. 복수의 경통(20)은, 리뷰 카메라 스테이지(21)에 고속 이동 가능하게 유지된다. 리뷰 카메라 스테이지(21)는, 도시하지 않은 제어부로부터의 제어 하에, 각 경통(20)을 다른 경통(20)과는 독립적으로, Y/-Y 방향으로 고속 이동시킬 수 있다.On the other hand, the review camera 19 is comprised with a CCD camera, a CMOS camera, etc., for example. Each review camera 19 is provided in the barrel 20 provided with the objective lens which enables the coaxial fall-off illumination and the enlarged projection of the defect of the board | substrate W, and acquires the enlarged image of the defect made into a target. This barrel 20 is provided in the review camera stage 21 arranged on the opposite side to the scan camera stage 17 with the frame 13 interposed therebetween. The plurality of barrels 20 are held in the review camera stage 21 so as to be movable at high speed. The review camera stage 21 can move each barrel 20 at high speed in the Y / -Y direction independently of the other barrels 20 under the control of a controller (not shown).

여기서, 예를 들면 도 2에 도시한 바와 같이, 라인 스캔 카메라(15)의 대수와 리뷰 카메라(19)의 대수가 동일한 경우, 라인 스캔 카메라(15)의 1스캔째의 촬상 범위 S1과 2스캔째의 촬상 범위 S2를 합한 범위 R1이 1개의 리뷰 카메라(19)의 가동 범위로서 설계되면 된다. 또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 예를 들면 리뷰 카메라(19)의 대수가 라인 스캔 카메라(15)의 대수의 절반인 경우, 라인 스캔 카메라(15a)의 1스캔째의 촬상 범위 Sa1 및 2스캔째의 촬상 범위 Sa2와, 라인 스캔 카메라(15b)의 1스캔째의 촬상 범위 Sb1 및 2스캔째의 촬상 범위 Sb2를 합한 범위 R2가, 1개의 리뷰 카메라(19)의 가동 범위로 설계되면 된다. 단, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 리뷰 카메라(19)의 촬상 범위분, 여분으로 가동할 수 있도록 구성해도 된다. 이에 의해, 예를 들면 리뷰 카메라(19)의 가동 범위의 끝 부근에서 촬상한 경우에 촬상 영역의 일부가 조명되지 않는 등의 문제점의 발생을 해소할 수 있다.Here, for example, as shown in FIG. 2, when the number of the line scan cameras 15 and the number of the review cameras 19 are the same, the first scanning range S1 and the two scans of the line scan cameras 15 are the same. What is necessary is just to design the range R1 which added the 1st imaging range S2 as the movable range of one review camera 19. FIG. 3, for example, when the number of the review cameras 19 is half of the number of the line scan cameras 15, the first scanning range Sa1 and 2 of the line scan cameras 15a. What is necessary is just to design the range R2 which combined the imaging range Sa2 of the scan-th, the imaging range Sb1 of the 1st scan of the line scan camera 15b, and the imaging range Sb2 of the 2nd scan, in the movable range of one review camera 19. . However, it is not limited to this, For example, you may comprise so that the imaging range of the review camera 19 can be moved to spare. As a result, for example, when imaging is performed near the end of the movable range of the review camera 19, a problem such as a part of the imaging area is not illuminated can be eliminated.

계속해서, 기판 검사 장치(1)에 반입된 기판 W의 반송에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 4는, 도 1에 도시한 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 상시도이다. 도 4에 도시한 바와 같이, 기판 검사 장치(1)에서는, 부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입되면, 도시하지 않은 위치 결정 기구에 의해서 기판 W가 규정 위치에 기계적으로 얼라인먼트된다. 규정 위치에 얼라인먼트된 기판 W는, 기판 반송 유닛(22)에 의해서 유지된다. 구체적으로는, 기판 반송 유닛(22)은, 반송 스테이지(12) 상에 설치되고, 기판 반송 방향을 따라서 연장되는 가이드 레일(223)과, 반송 스테이지(12)를 따라서 설치되고, 도시하지 않은 구동원에 의해서 순회하는 반송 벨트(221)와, 반송 벨트(221)에 고정되고, 그 반송 벨트(221)의 순회에 의해서 가이드 레일(223)을 따라서 주행하는 주행부(222)와, 주행부(222)에 고정되고, 기판 W를 유지하는 유지부(224)를 구비한다. 유지부(224)는, 예를 들면 도시하지 않은 배기 펌프에 연결된 1개 이상의 흡착 패드(225)를 갖는다. 배기 펌프에 의한 배기에 의해서 기판 W가 흡착 패드(225)에 흡인된다. 이 결과, 기판 W가 유지부(224)에 유지된다. 단, 이 밖에도, 유지부(224)가 기판 W의 단부를 파지하는 구성 등, 다양하게 변경 가능하다.Subsequently, the conveyance of the board | substrate W carried in to the board | substrate inspection apparatus 1 is demonstrated in detail using drawing. 4 is a perspective view illustrating a schematic configuration of the substrate inspection apparatus illustrated in FIG. 1. As shown in FIG. 4, in the board | substrate test | inspection apparatus 1, when the board | substrate W is carried in to the floating stage 14, the board | substrate W is mechanically aligned to a prescribed position by the positioning mechanism not shown. The substrate W aligned at the prescribed position is held by the substrate transfer unit 22. Specifically, the board | substrate conveyance unit 22 is provided on the conveyance stage 12, the guide rail 223 extended along the board | substrate conveyance direction, and the drive source which are provided along the conveyance stage 12, and are not shown in figure. The traveling belt 221 and the traveling section 222 which are fixed to the conveying belt 221 and which travel along the guide rail 223 by the circulation of the conveying belt 221, and the traveling section 222 ), And a holding unit 224 holding the substrate W. The holding part 224 has, for example, one or more suction pads 225 connected to an exhaust pump not shown. The substrate W is attracted to the suction pad 225 by the exhaust by the exhaust pump. As a result, the substrate W is held by the holding portion 224. However, in addition to this, the holding part 224 can be changed in various ways, such as a structure which grips the edge part of the board | substrate W. FIG.

반송 벨트(221)의 순회에 의해서 기판 반송 유닛(22)이 X/-X 방향으로 이동하면, 기판 반송 유닛(22)에 유지된 기판 W가 X/-X 방향으로 반송된다. 이 때, 기판 W는 에어에 의해서 부상 스테이지(14)로부터 부상한 상태이므로, 기판 W가 부상 스테이지(14)와의 접촉 등에 의해서 손상되는 것을 방지할 수 있다.When the board | substrate conveyance unit 22 moves to an X / -X direction by circulation of the conveyance belt 221, the board | substrate W hold | maintained by the board | substrate conveyance unit 22 is conveyed in a X / -X direction. At this time, since the board | substrate W has floated from the floating stage 14 by air, it can prevent that the board | substrate W is damaged by the contact with the floating stage 14, etc.

다음으로, 기판 검사 장치(1)를 동작시키는 구동 기구에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 5는, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 기능 구성을 도시하는 블록도이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 기판 검사 장치(1)는, 기판 검사 장치(1) 전체의 동작을 제어하는 제어부(101)와, 부상 스테이지(14)를 구동하여 기판 W를 부상시키는 부상 스테이지 구동부(114)와, 외부로부터 부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입된 것을 검지하는 기판 반입 검지부(131)와, 부상 스테이지(14)에 기판 W가 반입되었을 때에 기판 W를 규정 위치에 기계적으로 얼라인먼트하는 메카 얼라인먼트 구동부(132)와, 기판 W를 유지하면서 부상 스테이지(14) 상을 X/-X 방향으로 이동시키는 반송 구동부(112)와, 부상 스테이지(14) 상의 기판 W의 위치를 대략 리얼타임에 검출하는 기판 위치 검출부(133)와, 라인 조명(18)을 구동하여 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역을 조명하는 라인 조명 구동부(118)와, 라인 스캔 카메라(15)를 구동하여 기판 W의 화상을 1라인마다 취득하는 라인 스캔 카메라 구동부(115)와, 리뷰 카메라(19)를 구동하여 기판 W에 있어서의 결함의 확대 화상을 취득하는 리뷰 카메라 구동부(119)를 구비한다.Next, the drive mechanism which operates the board | substrate inspection apparatus 1 is demonstrated in detail using drawing. 5 is a block diagram showing a schematic functional configuration of the substrate inspection apparatus according to the present embodiment. As shown in FIG. 5, the board | substrate test | inspection apparatus 1 is a control part 101 which controls the operation | movement of the board | substrate test | inspection apparatus 1, and the floating stage drive part which drives the floating stage 14 to float the board | substrate W. FIG. 114, the board | substrate carrying-in detection part 131 which detects that the board | substrate W was carried in on the floating stage 14 from the outside, and when the board | substrate W was carried to the floating stage 14, the board | substrate W was mechanically located in a prescribed position. The position of the mechanical alignment drive part 132 to align, the conveyance drive part 112 which moves on the floating stage 14 to the X / -X direction, holding the board | substrate W, and the position of the board | substrate W on the floating stage 14 are substantially real. The substrate position detection unit 133 to detect at time, the line illumination driver 118 for driving the line illumination 18 to illuminate the imaging area of the line scan camera 15, and the line scan camera 15 for driving the substrate Acquire image of W every line A line scan camera driver 115 and a review camera driver 119 which drives the review camera 19 to acquire an enlarged image of a defect in the substrate W are provided.

또한, 기판 검사 장치(1)는, 유저가 각종 설정이나 지시를 입력하는 입력부(102)와, 각종 프로그램이나 파라미터와, 취득된 화상 데이터 등을 적절히 기억하는 기억부(103)와, 취득/기억된 화상이나 각종 정보를 표시하는 표시부(104)와, 외부와의 통신을 제어하는 통신부(105)와, 라인 스캔 카메라(15)에 의해 촬상된 화상에 포함되는 결함의 화상을 검출하는 결함 검출부(121)와, 결함 검출부(121)에 의해 검출된 결함의 기판 W상의 위치(결함 좌표)를 특정하는 결함 좌표 특정부(122)를 구비한다. 또한, 기판 반입 검지부(131)는, 부상 스테이지(14)의 기판 반입구에 설치된 도시하지 않은 센서로부터의 신호에 기초하여, 기판 W가 반입되었는지의 여부를 검지한다. 메카 얼라인먼트 구동부(132)는, 부상 스테이지(14)의 기판 반입구 근방에 설치된 핀이나 롤러 등의 위치 결정 기구를 구동하여, 기판 W를 규정 위치에 위치 결정한다.In addition, the substrate inspection apparatus 1 includes an input unit 102 through which a user inputs various settings and instructions, a storage unit 103 for appropriately storing various programs and parameters, acquired image data, and the like, and acquisition / memory. A display unit 104 for displaying the image and various information, a communication unit 105 for controlling communication with the outside, and a defect detection unit for detecting an image of a defect included in the image captured by the line scan camera 15 ( 121 and a defect coordinate specifying unit 122 specifying a position (defect coordinate) on the substrate W of the defect detected by the defect detecting unit 121. In addition, the board | substrate carrying-in detection part 131 detects whether the board | substrate W was carried in based on the signal from the not-shown sensor provided in the board | substrate carrying in of the floating stage 14. The mechanism alignment drive part 132 drives positioning mechanisms, such as a pin and a roller provided in the board | substrate delivery opening vicinity of the floating stage 14, and positions the board | substrate W to a prescribed position.

계속해서, 기판 검사 장치(1)의 기판 검사시의 동작에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 동작에서는, 적어도 최초의 스캔 동작시에, 기판 W의 결함을 검출하는 결함 검출 처리와, 검출한 결함의 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리를 병행하여 행하는 경우를 예로 든다. 또한, 2회째 이후의 스캔 동작을 실행하는 것이면, 이 2회째 이후의 스캔 동작시에는, 결함 검출 처리를 생략해도 되고, 생략하지 않아도 된다.Subsequently, the operation | movement at the time of the board | substrate inspection of the board | substrate inspection apparatus 1 is demonstrated in detail using drawing. In addition, in the board | substrate test | inspection operation which concerns on this embodiment, the case where the defect detection process which detects the defect of the board | substrate W and the defect review process which acquires the image of the detected defect at the time of at least the initial scanning operation is performed as an example is taken as an example. Holding If the scan operation after the second time is executed, the defect detection process may or may not be omitted during the scan operation after the second time.

도 6은, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 동작의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 단, 이하의 설명에서는, 도 5에 도시한 제어부(101)의 동작에 착안한다. 도 6에 도시한 바와 같이, 본 기판 검사 동작에 있어서, 제어부(101)는, 우선, 기판 반입 검지부(131)에 의해서 외부로부터 부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입되었는지의 여부를 판정한다(스텝 S101). 또한, 이 때, 제어부(101)는, 부상 스테이지(114)를 구동한 상태, 즉 부상 스테이지(14)의 구멍으로부터 에어를 취출한 상태에서, 기판 W의 반입을 대기한다(스텝 S101의 "아니오").6 is a flowchart for explaining a schematic flow of the substrate inspection operation according to the present embodiment. In the following description, however, attention is paid to the operation of the control unit 101 shown in FIG. 5. As shown in FIG. 6, in the substrate inspection operation, the control unit 101 first determines whether or not the substrate W has been carried on the floating stage 14 from the outside by the substrate loading detection unit 131. (Step S101). In addition, at this time, the control part 101 waits for the board | substrate W to carry in in the state which driven the floating stage 114, ie, the air was blown out from the hole of the floating stage 14 (No of step S101). ").

부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입되면(스텝 S101의 "예"), 제어부(101)는, 메카 얼라인먼트 구동부(132)를 통하여 도시하지 않은 위치 결정 기구를 구동함으로써, 기판 W를 부상 스테이지(14)에 있어서의 규정 위치에 기계적으로 얼라인먼트하고(스텝 S102), 계속해서, 반송 구동부(112)를 통하여 기판 반송 유닛(22)을 구동함으로써, 규정 위치에 있는 기판 W를 소정의 기판 유지 위치로 이동한 기판 반송 유닛(22)으로 유지한다(스텝 S103).When the substrate W is loaded onto the floating stage 14 (YES in step S101), the control unit 101 drives the substrate W by driving the positioning mechanism (not shown) through the mechanical alignment driving unit 132. By mechanically aligning to the prescribed position in (14) (step S102), and then driving the substrate conveyance unit 22 via the conveyance drive part 112, the board | substrate W which is in a prescribed position is predetermined board | substrate holding position. It holds in the board | substrate conveyance unit 22 which moved to (step S103).

다음으로, 제어부(101)는, 반송 구동부(112)를 구동하여 기판 반송 유닛(22)을 X 방향에 등속으로 이동시키는 동작을 개시함으로써, 기판 W를 X 방향에 등속 이동시키는 동작을 개시한다(스텝 S104). 계속해서, 제어부(101)는, 기판 위치 검출부(133)로부터 수시 입력되는 기판 W의 위치에 기초하여, 기판 W의 반송 경로에 있어서 상류에 위치하는 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역(스캔 영역)에 기판 W가 도달할 때까지 대기한다(스텝 S105의 "아니오"). 스캔 영역에 기판 W가 도달하면(스텝 S105의 "예"), 제어부(101)는, 우선, 기판 W의 결함을 검출하는 결함 검출 처리를 개시하고(스텝 S106), 계속해서, 결함 검출 처리에 있어서 검출된 결함의 확대 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리를 개시한다(스텝 S107).Next, the control part 101 starts the operation | movement which moves the board | substrate W to constant X direction by starting operation | movement which drives the conveyance drive part 112 to move the board | substrate conveyance unit 22 at constant speed in an X direction ( Step S104). Subsequently, the control part 101 is based on the position of the board | substrate W input from the board | substrate position detection part 133 at any time, and the imaging area (scan area | region) of the line scan camera 15 located upstream in the conveyance path | route of the board | substrate W. Wait until the substrate W reaches (NO in step S105). When the substrate W reaches the scan area (YES in step S105), the control unit 101 first starts a defect detection process for detecting a defect in the substrate W (step S106), and then proceeds to the defect detection process. The defect review process of acquiring an enlarged image of the detected defect is started (step S107).

다음으로, 제어부(101)는, 후술하는 결함 리뷰 처리 또는 되풀이 결함 리뷰 처리에 있어서 역스캔 동작이 요구되었는지의 여부를 판정한다(스텝 S108). 또한, 역스캔 동작이란, 예를 들면 기판 W를 X 방향으로 반송하고 있었던 경우, -X 방향으로 반송하는 것이며, 반대로, -X 방향으로 반송하고 있었던 경우, X 방향으로 반송하는 것이다.Next, the control part 101 determines whether the reverse scanning operation was requested | required in the defect review process or recurring defect review process mentioned later (step S108). In addition, reverse scanning operation | movement is conveying to the -X direction, for example, when conveying the board | substrate W to the X direction, and conveying to the X direction, when conveying to the -X direction, on the contrary.

스텝 S108의 판정의 결과, 역스캔 동작이 요구된 경우(스텝 S108의 "예"), 제어부(101)는, 기판 W의 반송 방향이 반전되도록 반송 구동부(112)를 구동하여 기판 반송 유닛(22)을 등속으로 이동시키는 동작을 개시한다(스텝 S109). 계속해서, 제어부(101)는, 리뷰되어 있지 않은 나머지 결함에 대한 결함 리뷰 처리(되풀이 결함 리뷰 처리)를 개시하고(스텝 S110), 그 후, 스텝 S108로 귀환한다.When the reverse scanning operation is requested as a result of the determination in step S108 (YES in step S108), the control unit 101 drives the conveyance drive unit 112 so that the conveyance direction of the substrate W is inverted, and thereby the substrate conveyance unit 22. ) Is started at a constant speed (step S109). Subsequently, the control unit 101 starts a defect review process (repeated defect review process) for the remaining defects that are not reviewed (step S110), and then returns to step S108.

한편, 스텝 S108의 판정의 결과, 역스캔 동작이 요구되어 있지 않은 경우(스텝 S108의 "아니오"), 제어부(101)는, 기판 W에 대한 스캔 동작이 종료되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S111), 종료되어 있지 않은 경우(스텝 S111의 "아니오"), 스텝 S108로 귀환한다. 한편, 스캔 동작이 종료된 경우(스텝 S111의 "예"), 본 동작을 종료한다.On the other hand, when the reverse scanning operation is not requested as a result of the determination in step S108 (NO in step S108), the control unit 101 determines whether or not the scanning operation on the substrate W is finished (step S111). If it is not finished (NO in step S111), the flow returns to step S108. On the other hand, when the scan operation is finished (YES in step S111), the present operation ends.

계속해서, 본 실시 형태에 따른 결함 검출 처리에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 7은, 본 실시 형태에 따른 결함 검출 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 도 7에 도시한 바와 같이, 결함 검출 처리에서는, 제어부(101)는, 우선, 스캔 영역을 통과 중인 기판 W를 라인 스캔 카메라(15)에 의해 촬상함으로써, 1라인분의 기판 W의 화상을 취득한다(스텝 S121). 또한, 1라인분의 화상이란, 기판 W의 반송 방향에 대하여 수직인 방향으로 배열하는 복수의 라인 스캔 카메라(15)를 대략 동시에 구동함으로써 한 번에 촬상된 복수의 화상을 서로 연결시켜 생성된 띠 형상의 화상이다.Next, the defect detection process which concerns on this embodiment is demonstrated in detail using drawing. 7 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect detection process according to the present embodiment. As shown in FIG. 7, in the defect detection process, the control unit 101 first acquires an image of the substrate W for one line by imaging the substrate W passing through the scan area with the line scan camera 15. (Step S121). An image for one line is a band generated by connecting a plurality of images captured at one time to each other by simultaneously driving a plurality of line scan cameras 15 arranged in a direction perpendicular to the conveyance direction of the substrate W. It is an image of a shape.

다음으로, 제어부(101)는, 라인 스캔 카메라 구동부(115)를 통하여 입력된 1라인분의 화상을 결함 검출부(121)에 입력하여 화상 해석함으로써(스텝 S122), 1라인분의 화상에 포함되는 결함을 검출한다. 계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S122에 있어서 결함이 검출되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S123), 결함이 검출된 경우(스텝 S123의 "예"), 검출된 결함의 기판 W 상에서의 위치(결함 좌표)를 결함 좌표 특정부(122)에 있어서 특정하고(스텝 S124), 특정한 1라인분의 결함 좌표를 출력한다(스텝 S125). 또한, 결함 좌표의 출력처는, 예를 들면 제어부(101)이다. 한편, 스텝 S122에 있어서 결함이 검출되지 않았던 경우(스텝 S123의 "아니오"), 제어부(101)는, 스텝 S126으로 이행한다. 또한, 결함의 기판 W에 있어서의 위치(결함 좌표)는, 예를 들면 기판 W의 부상 스테이지(14) 상에서의 위치(좌표)와, 개개의 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역의 부상 스테이지(14) 상에서의 위치(좌표)와, 각 라인 스캔 카메라(15)에 의해 촬상된 화상에 포함되는 결함의 위치(좌표)로부터 산출할 수 있다.Next, the control part 101 inputs the image of one line input through the line scan camera drive part 115 to the defect detection part 121, and analyzes an image (step S122), and is contained in the image of one line. Detect defects Subsequently, the control unit 101 determines whether or not a defect is detected in step S122 (step S123), and when a defect is detected (YES in step S123), the position on the substrate W of the detected defect is determined. (Defect coordinates) is specified in the defect coordinate specifying unit 122 (step S124), and the defect coordinates for the specified one line are output (step S125). In addition, the output destination of defect coordinates is the control part 101, for example. On the other hand, when no defect is detected in step S122 (NO in step S123), the control unit 101 proceeds to step S126. In addition, the position (defect coordinate) of the defect in the board | substrate W is a position (coordinate) of the board | substrate W on the floating stage 14, and the floating stage (in the imaging area of the individual line scan camera 15, for example). It can calculate from the position (coordinate) on 14), and the position (coordinate) of the defect contained in the image picked up by each line scan camera 15. FIG.

스텝 S126에서는, 제어부(101)는, 기판 W가 1라인분, X 방향으로 이동할 때까지 대기한다(스텝 S126의 "아니오"). 기판 W가 1라인분, X 방향으로 이동하면(스텝 S126의 "예"), 제어부(101)는, 기판 W에 대한 전체 라인에 대해서 스캔이 종료되었는지의 여부, 즉 기판 W 전체에 대한 결함의 검출 및 결함 좌표의 특정이 완료되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S127), 종료되어 있지 않은 경우(스텝 S127의 "아니오"), 제어부(101)는, 스텝 S121로 귀환하여, 이후의 동작을 실행한다. 한편, 전체 라인에 대한 스캔이 종료되어 있는 경우(스텝 S127의 "예"), 제어부(101)는, 본 결함 검출 처리를 종료한다.In step S126, the control unit 101 waits until the substrate W moves in the X direction for one line (NO in step S126). When the substrate W is moved in the X direction for one line (YES in step S126), the control unit 101 determines whether or not scanning has been completed for all the lines with respect to the substrate W, that is, the defect of the entire substrate W is determined. It is determined whether the detection and the specification of the defect coordinates have been completed (step S127), and if it is not finished (NO in step S127), the control unit 101 returns to step S121 to execute the subsequent operation. do. On the other hand, when the scan for all the lines is finished (YES in step S127), the control unit 101 ends the present defect detection process.

계속해서, 본 실시 형태에 따른 결함 리뷰 처리에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 8은, 본 실시 형태에 따른 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 도 8에 도시한 바와 같이, 결함 리뷰 처리에서는, 제어부(101)는, 우선, 도 7에 도시한 결함 검출 처리에 있어서 1라인분의 결함 좌표가 결함 좌표 특정부(122)로부터 입력되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S141), 입력된 경우(스텝 S141의 "예"), 이 1라인분의 결함 좌표를 예를 들면 기억부(103) 등에 기억하고(스텝 S142), 그 후, 스텝 S143으로 이행한다. 한편, 1라인분의 결함 좌표가 입력되지 않았던 경우, 즉, 도 7에 도시한 결함 검출 처리에 있어서 그 1라인분의 화상에 결함이 포함되지 않았던 경우(스텝 S141의 "아니오"), 제어부(101)는, 스텝 S143으로 이행한다.Subsequently, the defect review processing according to the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. 8 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect review process according to the present embodiment. As shown in FIG. 8, in the defect review process, the control unit 101 firstly determines whether or not defect coordinates for one line are input from the defect coordinate specifying unit 122 in the defect detection process shown in FIG. 7. (Step S141), and if it is input (YES in step S141), the defect coordinates for this one line are stored, for example, in the storage unit 103 or the like (step S142), and then the process goes to step S143. To fulfill. On the other hand, when the defect coordinates for one line are not input, that is, when the defects are not included in the image for one line in the defect detection process shown in Fig. 7 (NO in step S141), the control unit ( 101), the flow advances to step S143.

스텝 S143에서는, 제어부(101)는, 기억부(103) 등에 결함 좌표가 기억되어 있는 모든 결함에 대하여, 리뷰하는 순서나 리뷰할 때의 리뷰 카메라(19)의 이동량 및 이동 타이밍 등의 정보 등을 포함하는 리뷰 스케줄을 작성한다(스텝 S143). 또한, 리뷰 스케줄의 작성에 대해서는, 후술한다. 또한, 작성된 리뷰 스케줄은, 예를 들면 기억부(103) 등에 일시 기억된다.In step S143, the control unit 101 stores information on the order of review, the amount of movement of the review camera 19 at the time of review, the movement timing, and the like, for all the defects whose defect coordinates are stored in the storage unit 103 or the like. A review schedule to be included is created (step S143). In addition, creation of a review schedule is mentioned later. The created review schedule is temporarily stored, for example, in the storage unit 103 or the like.

계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S143에 의한 스케줄링의 결과, 리뷰할 수 없는, 즉 리뷰 카메라(19) 중 어느 것에 의해서도 촬상할 수 없는 결함이 존재하는지의 여부를 판정한다(스텝 S144). 이 판정의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하는 경우(스텝 S144의 "예"), 제어부(101)는, 결함 좌표가 기억되어 있는 결함 중 소정의 우선 순위에 기초하여 리뷰 대상으로 하는 결함을 선정한다(스텝 S145). 또한, 소정의 우선 순위는, 예를 들면 결함의 크기나 결함과 배선 등과의 위치 관계 등에 기초하는 것이면 된다. 또한, 선정되지 않았던 결함 좌표는, 예를 들면 기억부(103) 등에 별도 기억된다.Subsequently, the control unit 101 determines whether there is a defect that cannot be reviewed, that is, cannot be captured by any of the review cameras 19, as a result of the scheduling in step S143 (step S144). As a result of this determination, if there is a defect that cannot be reviewed (YES in step S144), the control unit 101 identifies a defect to be reviewed based on a predetermined priority among the defects in which the defect coordinates are stored. It selects (step S145). The predetermined priority may be based on, for example, the size of the defect and the positional relationship between the defect and the wiring. In addition, the defect coordinate which was not selected is stored separately, for example in the memory | storage part 103 grade | etc.,.

계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S145에 있어서 선정된 결함에 대하여 리뷰 스케줄을 재작성하고(스텝 S146), 그 후, 스텝 S147로 이행한다. 한편, 스텝 S144의 판정의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하지 않는 경우(스텝 S144의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 스텝 S147로 이행한다. 또한, 기억부(103) 등에 앞서 격납되어 있었던 리뷰 스케줄은, 스텝 S146에서 재작성된 리뷰 스케줄에 의해서 예를 들면 갱신된다.Subsequently, the control unit 101 recreates the review schedule for the defect selected in step S145 (step S146), and then proceeds to step S147. On the other hand, when there is no defect which cannot be reviewed as a result of the determination of step S144 (NO in step S144), the control unit 101 proceeds to step S147 as it is. The review schedule previously stored in the storage unit 103 or the like is updated, for example, by the review schedule rewritten in step S146.

스텝 S147에서는, 제어부(101)는, 기억부(103) 등에 기억된 리뷰 스케줄에 기초하여 리뷰 카메라 구동부(119)를 구동함으로써, 리뷰 대상으로 한 결함의 확대 화상을 리뷰 카메라(19)에 의해 취득한다. 또한, 취득된 결함의 확대 화상은, 예를 들면 결함 좌표와 함께 기억부(103) 등에 기억된다.In step S147, the control unit 101 drives the review camera driver 119 based on the review schedule stored in the storage unit 103 or the like, so that the review camera 19 acquires an enlarged image of the defect targeted for review. do. In addition, the enlarged image of the acquired defect is stored in the memory | storage part 103 etc. with defect coordinates, for example.

그 후, 제어부(101)는, 기판 W에 대한 결함 리뷰 처리가 종료되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S148), 종료되어 있지 않은 경우(스텝 S148의 "아니오"), 스텝 S141로 귀환하여, 이후의 동작을 실행한다. 한편, 결함 리뷰 동작이 종료되어 있었던 경우(스텝 S148의 "예"), 제어부(101)는, 리뷰할 수 없었던 결함이 있는지의 여부, 즉 스텝 S144에 있어서 리뷰할 수 없는 결함이 있다고 판정되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S149), 리뷰할 수 없었던 결함이 있는 경우(스텝 S149의 "예"), 역스캔 동작(되풀이 결함 리뷰 처리)의 요구를 생성하고(스텝 S150), 그 후, 본 결함 리뷰 처리를 종료한다. 또한, 역스캔 동작 요구는, 예를 들면 기억부(103) 등의 소정의 어드레스에 격납된다. 또한, 스텝 S149의 판정의 결과, 리뷰할 수 없었던 결함이 없는 경우(스텝 S149의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 본 결함 리뷰 처리를 종료한다.Thereafter, the control unit 101 determines whether or not the defect review processing for the substrate W has ended (step S148), and if not finished (NO in step S148), returns to step S141 and then returns. Run the action. On the other hand, when the defect review operation is completed (YES in step S148), the controller 101 determines whether there is a defect that could not be reviewed, that is, whether or not there is a defect that cannot be reviewed in step S144. If it is determined (step S149) and there is a defect that cannot be reviewed (YES in step S149), a request for a reverse scan operation (repeated defect review processing) is generated (step S150), and the present defect is thereafter. The review process ends. The reverse scan operation request is stored at, for example, a predetermined address such as the storage unit 103. In addition, when there is no defect which could not be reviewed as a result of the determination of step S149 (NO in step S149), the control part 101 complete | finishes this defect review process as it is.

또한, 도 9는, 본 실시 형태에 따른 되풀이 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 도 9에 도시한 바와 같이, 되풀이 결함 리뷰 처리에서는, 제어부(101)는, 우선, 검출된 결함 중 리뷰되지 않고 남아 있는 결함에 대하여 리뷰 스케줄을 작성한다(스텝 S161). 작성된 리뷰 스케줄은, 상술한 바와 마찬가지로, 예를 들면 기억부(103) 등에 기억된다.9 is a flowchart explaining the outline flow of the recurring defect review process which concerns on this embodiment. As shown in FIG. 9, in the recurring defect review process, the control unit 101 first creates a review schedule for defects that remain unreviewed among the detected defects (step S161). The created review schedule is stored, for example, in the storage unit 103 or the like as described above.

계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S161의 스케줄링의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하는지의 여부를 판정하고(스텝 S162), 리뷰할 수 없는 결함이 존재하는 경우(스텝 S162의 "예"), 선정되지 않았던 결함 중 소정의 우선 순위에 기초하여 리뷰 대상으로 한 결함을 선정하고(스텝 S163), 이에 의해서 선정된 결함에 대하여 리뷰 스케줄을 재작성하고(스텝 S164), 그 후, 스텝 S165로 이행한다. 한편, 스텝 S162의 판정의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하지 않는 경우(스텝 S162의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 스텝 S165로 이행한다. 또한, 기억부(103) 등에 기억된 리뷰 스케줄은, 상술한 바와 마찬가지로 재작성된 리뷰 스케줄에 의해서 갱신된다. 또한, 스텝 S163에 있어서도 선정되지 않았던 결함 좌표는, 상술한 바와 마찬가지로, 예를 들면 기억부(103) 등에 별도로 기억된다.Subsequently, the control unit 101 determines whether or not a defect that cannot be reviewed exists as a result of the scheduling of Step S161 (step S162), and if a defect that cannot be reviewed exists (YES in step S162). ), A defect to be reviewed is selected based on a predetermined priority among the unselected defects (step S163), and the review schedule is recreated for the selected defects (step S164), and then step S165. Go to On the other hand, when there is no defect which cannot be reviewed as a result of the determination of step S162 (NO in step S162), the control unit 101 proceeds to step S165 as it is. The review schedule stored in the storage unit 103 or the like is updated by the rewritten review schedule as described above. In addition, the defect coordinate which was not selected also in step S163 is stored separately, for example in the memory | storage part 103 etc. like the above-mentioned.

스텝 S165에서는, 제어부(101)는, 기억부(103) 등에 기억된 리뷰 스케줄에 기초하여 리뷰 카메라 구동부(119)를 구동함으로써, 리뷰 대상으로 한 결함의 확대 화상을 리뷰 카메라(19)에 의해 취득한다.In step S165, the control unit 101 drives the review camera drive unit 119 based on the review schedule stored in the storage unit 103 or the like, so that the review camera 19 acquires an enlarged image of the defect targeted for review. do.

그 후, 제어부(101)는, 리뷰할 수 없었던 결함이 있는지의 여부, 즉 스텝 S162에 있어서 리뷰할 수 없는 결함이 있다고 판정되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S166), 리뷰할 수 없었던 결함이 있는 경우(스텝 S166의 "예"), 재차 역스캔 동작(되풀이 결함 리뷰 처리)의 요구를 생성하고(스텝 S167), 그 후, 본 되풀이 결함 리뷰 처리를 종료한다. 또한, 스텝 S166의 판정의 결과, 리뷰할 수 없었던 결함이 없는 경우(스텝 S166의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 본 되풀이 결함 리뷰 처리를 종료한다.Thereafter, the control unit 101 determines whether there is a defect that cannot be reviewed, that is, whether or not it is determined that there is a defect that cannot be reviewed in step S162 (step S166), and there is a defect that cannot be reviewed. If (YES in step S166), a request for a reverse scan operation (repeated defect review process) is generated again (step S167), and the present repeat defect review process is terminated after that. In addition, when there is no defect which could not be reviewed as a result of the determination of step S166 (NO in step S166), the control part 101 complete | finishes the repetitive defect review process which it saw as it is.

이상과 같이 동작 함으로써, 기판 W에 존재하는 결함을 검출하는 결함 검출 처리와, 검출된 결함의 확대 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리(되풀이 결함 리뷰 처리를 포함함)를 포함하는 기판 검사 동작이 실행된다. 또한, 이상의 동작 중, 본원 발명에 따른 결함 검출 방법은, 적어도 스텝 S104의 반송 스텝과, 스텝 S106의 결함 검출 스텝과, 스텝 S107의 화상 취득 스텝을 포함하는 것에 의해 달성된다.By operating as mentioned above, the board | substrate test | inspection operation including the defect-detection process which detects the defect which exists in the board | substrate W, and the defect review process (including the recurring defect review process) which acquires the enlarged image of the detected defect is performed. . In addition, the defect detection method which concerns on this invention among the above operations is achieved by including at least the conveyance step of step S104, the defect detection step of step S106, and the image acquisition step of step S107.

다음으로, 본 실시 형태에 있어서의 리뷰 스케줄의 작성(재작성을 포함함)에 대해서 상세하게 설명한다. 여기서, 기판 반송 유닛(22)의 X 방향에의 이동 속도(기판 W의 X 방향에의 이동 속도)를 Gs, 리뷰 카메라(19)의 Y 방향에의 이동 속도를 Gr, 리뷰 카메라(19)의 가동 거리를 Yr로 하고, 리뷰 카메라(19)가 가동 거리 Yr을 이동하였을 때의 이동 시간을 Tr로 하면, 이동 시간 Tr은, 이하의 수학식 1로 표현된다.Next, the creation (including rewriting) of the review schedule in the present embodiment will be described in detail. Here, the moving speed (the moving speed to the X direction of the board | substrate W) of the board | substrate conveying unit 22 to the X direction is Gs, and the moving speed to the Y direction of the review camera 19 is Gr, and the review camera 19 When the moving distance is Yr and the moving time when the review camera 19 moves the moving distance Yr is Tr, the moving time Tr is expressed by the following expression (1).

Figure pat00001
Figure pat00001

또한, 리뷰 카메라(19)가 원하는 위치에 정지한 후 대상 결함의 촬상이 완료될 때까지의 시간을 Tα로 하면, 1개의 결함에 대한 확대 화상을 취득하는 데에 요하는 시간 Td는, 이하의 수학식 2로 표현된다.In addition, when the time until the review camera 19 stops at a desired position and the imaging of a target defect is completed is set to Tα, the time Td required for acquiring an enlarged image for one defect is as follows. It is represented by Equation 2.

Figure pat00002
Figure pat00002

이 때문에, 1개의 결함에 대한 결함 리뷰 처리를 행하는 동안에 기판 반송 유닛(22)이 X 방향으로 이동하는 거리 dXr은, 이하의 수학식 3으로 된다.For this reason, the distance dXr which the board | substrate conveyance unit 22 moves to an X direction during the defect review process regarding one defect is represented by following formula (3).

Figure pat00003
Figure pat00003

여기서, 기판 W의 X 방향의 길이를 Wx로 하면, 라인 스캔 카메라(15)로 1라인분을 스캔하는 동안에 1대의 리뷰 카메라(19)가 촬상 가능한 결함의 수(취득 가능한 결함 화상수) Img는, 이하의 수학식 4로 된다.Here, if the length of the substrate W in the X direction is Wx, the number of defects (acquired number of defect images) Img which one review camera 19 can capture while scanning one line with the line scan camera 15 is And the following equation (4).

Figure pat00004
Figure pat00004

따라서, 라인 스캔 카메라(15)로 1라인분을 스캔하는 동안에 리뷰 카메라(19) 전체로 취득 가능한 결함 화상의 총수는, 상기 수학식 4에서 얻어지는 취득 가능한 결함 화상수 Img에 리뷰 카메라(19)의 대수를 승산한 수로 된다.Therefore, the total number of defect images that can be acquired by the review camera 19 as a whole while scanning one line with the line scan camera 15 is determined by the number of defect images Img obtainable in the above expression (4). It is the number multiplied by the number.

단, 1개의 결함을 처리하는 동안에 기판 반송 유닛(22)이 거리 dXr을 이동하기 때문에, 1개의 리뷰 카메라(19)에 의해 촬상해야 할 결함이 2개 있는 경우에 있어서, 이들의 X 방향의 간격이 dXr 이하이면, 어느 하나의 결함을 촬상하는 것이 실질적으로 불가능하다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 보다 심각한 결함에 대한 결함 리뷰 처리를 우선하여 행하기 위해, 결함에 대하여 정도에 따른 우선 순위를 설정하고, 이 우선 순위에 따라서 보다 심각한 결함이 우선적으로 리뷰되도록 리뷰 스케줄을 작성한다.However, since the board | substrate conveyance unit 22 moves distance dXr during processing of one defect, when there are two defects which should be imaged by one review camera 19, the space | interval of these X directions If it is less than or equal to dXr, imaging of any defect is substantially impossible. Therefore, in this embodiment, in order to give priority to the defect review process for a more serious defect, priority is set according to the degree with respect to a defect, and a review schedule is made so that more serious defect may be reviewed preferentially according to this priority. Write.

예를 들면, 기판 W가 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역(스캔 영역)으로부터 리뷰 카메라(19)의 촬상 영역까지 이동하는 동안에, 1개의 리뷰 카메라(19)에 의해 촬상해야 할 결함으로서, 결함 검출 처리에서 검출된 순서로, Df1, Df2, Df3, Df4 및 Df5가 검출되었다고 하자. 여기서, 사이즈가 큰 결함을 우선 순위가 높은 결함으로 하고, 결함 사이즈의 관계를 Df3>Df2>Df4>Df1>Df5로 하고, 검출순으로 전후하는 2개의 결함의 X 방향의 간격과 거리 dXr과의 관계를 각각, |Df1-Df2|<dXr, |Df2-Df3|>dXr, |Df3-Df4|<dXr, 및, |Df4-Df5|>dXr로 하면, 이 우선 순위에 기초하여, 결함 Df3은 반드시 리뷰 대상의 결함으로 된다. 여기서, 결함 Df3에 대하여 X 방향으로 거리 dXr 이상 떨어져 있는 결함은, 결함 Df2 및 Df5의 2개로 된다. 이 때문에, 이 케이스에서는, 리뷰 대상으로 되는 결함은, 결함 Df2, Df3 및 Df5의 3개로 된다.For example, while the board | substrate W is moving from the imaging area (scan area) of the line scan camera 15 to the imaging area of the review camera 19, it is a defect which should be imaged by the one review camera 19 as a defect. Assume that Df1, Df2, Df3, Df4 and Df5 are detected in the order detected by the detection process. Here, a defect having a large size is regarded as a defect having a high priority, and the relationship between the defect sizes is Df3> Df2> Df4> Df1> Df5, and the distance between the defects in the X direction and the distance dXr of two defects before and after the detection order. If the relationship is | Df1-Df2 | <dXr, | Df2-Df3 |> dXr, | Df3-Df4 | <dXr, and | Df4-Df5 |> dXr, respectively, the defect Df3 is based on this priority. It is always a defect of a review object. Here, the defects which are separated from the defect Df3 by the distance dXr or more in the X direction are two of the defects Df2 and Df5. For this reason, in this case, there are three defects to be reviewed, that is, defects Df2, Df3, and Df5.

따라서, 이 케이스에 대해서는, 본 실시 형태에서는, 결함을 Df2→Df3→Df5의 순서로 리뷰하는 정보와, 결함 Df2의 다음으로 결함 Df3을 리뷰할 때까지 리뷰 카메라(19)를 Y 방향으로 이동하는 이동량 및 결함 Df3의 다음으로 결함 Df5를 리뷰할 때까지 리뷰 카메라(19)를 Y 방향으로 이동하는 이동량의 정보를 포함하는 리뷰 스케줄이 생성된다.Therefore, about this case, in this embodiment, the review camera 19 is moved to a Y direction until the information which reviews a defect in order of Df2-> Df3-> Df5, and the defect Df3 is reviewed after defect Df2. A review schedule is generated that includes information of the amount of movement to move the review camera 19 in the Y direction until the amount of movement and the defect Df3 is reviewed next.

또한, 상술한 케이스와 같이, 한 번의 스캔 동작으로 모든 결함을 리뷰할 수 없는 경우, 즉, 결함 검출 처리에 의해서 검출되었지만 리뷰 대상으로 되지 않고 아직 남아 있는 결함이 존재하는 경우, 본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 이 남아 있는 결함을 리뷰 대상으로 한 되풀이 결함 리뷰 처리가 실행된다(예를 들면 도 9 참조). 예를 들면, 2회째 이후의 스캔 동작 중 리뷰 카메라(19) 측으로부터 라인 스캔 카메라(15) 측으로 기판 W가 이동하는 스캔 동작시에 실행되는 되풀이 결함 리뷰 처리에서는, 병행하여 결함 검출 처리를 실행하였다고 해도 결함 검출 처리에 의해서 검출된 결함에 대하여 동일 스캔 동작 중에 결함 리뷰 처리를 행할 수 없다. 이와 같은 경우에, 간단히 기판 W를 리뷰 카메라(19) 측으로부터 라인 스캔 카메라(15) 측으로 이동시키는 것이 아니라, 되풀이 결함 리뷰 처리를 행함으로써, 1개의 기판에 대한 처리 시간의 증가를 억제하면서 보다 많은 결함을 리뷰 대상으로 하는 것이 가능하게 된다. 또한, 되풀이 결함 리뷰 처리에서는, 리뷰 카메라(19)의 촬상 가능 범위에 결함이 포함되지 않는 기간, 기판 W의 반송 스피드를 상승시키는 동작을 행해도 된다. Further, as in the case described above, when all defects cannot be reviewed in one scan operation, i.e., when there are defects detected by the defect detection process but not yet subject to review and still remain, in this embodiment, As described above, a recurring defect review process is performed which targets the remaining defect as a review target (for example, see FIG. 9). For example, in the recurring defect review process executed during the scan operation in which the substrate W moves from the review camera 19 side to the line scan camera 15 side during the second and subsequent scan operations, the defect detection process was executed in parallel. Even if the defect detected by the defect detection process cannot be performed during the same scan operation, the defect review process cannot be performed. In such a case, instead of simply moving the substrate W from the review camera 19 side to the line scan camera 15 side, by repeatedly performing a defect review process, more substrates can be suppressed while increasing the processing time for one substrate. It becomes possible to make a defect into a review object. In addition, in the recurring defect review process, you may perform the operation which raises the conveyance speed of the board | substrate W in the period in which a defect is not contained in the imageable range of the review camera 19. FIG.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 기판 W에 대한 결함 검출 처리와 병행하여, 이 검출된 결함의 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리가 실행되기 때문에, 1개의 기판 W에 대한 택트 타임을 증가시키는 일 없이, 보다 많은 결함의 화상을 취득하는 것이 가능하게 된다. As described above, according to the present embodiment, since the defect review processing for acquiring an image of the detected defect is performed in parallel with the defect detection processing for the substrate W, the tact time for one substrate W is increased. It is possible to acquire more images of a defect, without letting it happen.

또한, 상술한 기판 검사 장치(1)의 장치 구성은, 그 일례에 지나지 않고, 그것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 본 실시 형태에서는, 기판 W를 에어로 부상하면서 반송하는 부상 반송 방식을 예로 들었지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 상술한 바와 같이, 반송 영역에 배열한 복수의 롤러(프리 롤러 등)로 기판 W를 지지하면서 반송하는 롤러 반송 방식 등, 다양하게 변형하여도 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 기판 W의 반송 방향에 대하여 병행한 끝의 한쪽을 유지하여 반송하는 경우를 예로 들었지만, 이에 한정되지 않고, 양쪽을 유지하여 반송하는 경우나, 기판 W의 중앙부 등을 유지하여 반송하는 경우 등, 다양하게 변형하는 것이 가능하다.In addition, the apparatus structure of the board | substrate inspection apparatus 1 mentioned above is only an example, and is not limited to it. For example, in this embodiment, although the floating conveyance system which conveys the board | substrate W while air-lifting is mentioned as an example, it is not limited to this, For example, as mentioned above, several rollers (free roller etc.) arranged in the conveyance area | region are mentioned. You may deform | transform variously, such as the roller conveyance system which conveys, supporting the board | substrate W. As shown in FIG. In addition, in this embodiment, although the case of holding and conveying one side of the end parallel to the conveyance direction of the board | substrate was mentioned as the example, it is not limited to this, The case of holding and conveying both, the center part of the board | substrate W, etc. are hold | maintained. Various deformation | transformation, such as the case of conveyance by carrying out, are possible.

또한, 상기한 실시 형태에서는, 라인 스캔 카메라(15)와 리뷰 카메라(19)를 1개의 프레임(13)에 설치하였지만, 이에 한정되지 않고, 각각 부상 스테이지(14)를 반송 방향과 수직으로 걸치는 별개의 프레임에 각각 설치해도 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 1개의 라인 조명(18)으로 복수의 라인 스캔 카메라(15) 전체의 촬상 영역을 조명하였지만, 이에 한정되지 않고, 라인 스캔 카메라(15) 각각에 개별의 조명을 설치해도 된다. 이 경우, 라인 스캔 카메라(15)의 이동과 함께 조명이 이동하도록 구성할 수 있기 때문에, 각 조명의 소비 전력을 억제하는 것이 가능하게 된다. 또한, 라인 스캔 카메라(15)를 동축 낙사 조명을 가진 경통 내에 설치한 구성이어도 된다. In addition, in the above-mentioned embodiment, although the line scan camera 15 and the review camera 19 were provided in one frame 13, it is not limited to this, and each separates the floating stage 14 perpendicularly to a conveyance direction, respectively. You may install in the frame of each. In addition, in this embodiment, although the image pickup area | region of the whole line scan camera 15 was illuminated with one line illumination 18, it is not limited to this, Even if individual illumination is provided in each of the line scan cameras 15, do. In this case, since the lighting can be configured to move together with the movement of the line scan camera 15, it becomes possible to suppress the power consumption of each lighting. Moreover, the structure which installed the line scan camera 15 in the barrel with coaxial fall illumination may be sufficient.

또한, 본 실시 형태에서는, 라인 스캔 카메라(15) 및 리뷰 카메라(19)가 기판 W의 반송 방향(X/-X 방향)으로 이동하지 않는 경우를 예로 들었지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 도 10에 도시한 바와 같이, 각 리뷰 카메라(19)가 X/-X 방향으로 돌출 가능한 신축 스테이지(201)에 각각 설치된 구성이어도 된다. 이 경우, 신축 스테이지(201)는, 예를 들면 도 5에 도시한 제어부(101)로부터의 제어 하에, 결함의 리뷰 시에 필요에 따라서 리뷰 카메라(19)를 X/-X 방향으로 이동시킨다. 이에 의해, X 방향에 있어서 보다 근접하고 있는 2개의 결함을 한 번의 스캔 동작 중에 리뷰하는 것이 가능하게 되기 때문에, 결함 전체에 대한 택트 타임을 보다 짧게 하는 것이 가능하게 된다. 또한, 취득할 수 있는 결함의 확대 화상을 대폭으로 증가하는 것이 가능하게 된다. In addition, although the case where the line scan camera 15 and the review camera 19 do not move to the conveyance direction (X / -X direction) of the board | substrate W was mentioned as the example in this embodiment, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 10, each review camera 19 may be provided in the expansion-contraction stage 201 which can protrude in the X / -X direction. In this case, the expansion and contraction stage 201 moves the review camera 19 in the X / -X direction as necessary during the review of a defect, for example, under the control of the control unit 101 shown in FIG. 5. This makes it possible to review two defects closer to each other in the X direction during one scan operation, thereby making the tact time for the entire defect shorter. In addition, it is possible to greatly increase the magnified image of the acquired defect.

또한, 상기 실시 형태 및 그 변형예는 본 발명을 실시하기 위한 예에 지나지 않고, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니라, 사양 등에 따라서 다양하게 변형하는 것은 본 발명의 범위 내이며, 또한 본 발명의 범위 내에 있어서, 다른 다양한 실시 형태가 가능한 것은 상기 기재로부터 자명하다. 예를 들면 각 실시 형태에 대하여 적절히 예시한 변형예는, 다른 실시 형태에 대하여 적용하는 것도 가능한 것은 물론이다.In addition, the said embodiment and its modified example are only the examples for implementing this invention, This invention is not limited to these, It is within the scope of this invention to make various modifications according to specifications, etc., and of this invention It is apparent from the above description that other various embodiments are possible within the scope. For example, it is a matter of course that the modifications appropriately exemplified for each embodiment can also be applied to the other embodiments.

1 : 기판 검사 장치
11 : 본체 베이스
12 : 반송 스테이지
13 : 프레임
14 : 부상 스테이지
15 : 라인 스캔 카메라
16 : 카메라 렌즈
17 : 스캔 카메라 스테이지
18 : 라인 조명
19 : 리뷰 카메라
20 : 경통
21 : 리뷰 카메라 스테이지
22 : 기판 반송 유닛
101 : 제어부
102 : 입력부
103 : 기억부
104 : 표시부
105 : 통신부
112 : 반송 구동부
114 : 부상 스테이지 구동부
115 : 라인 스캔 카메라 구동부
118 : 라인 조명 구동부
119 : 리뷰 카메라 구동부
121 : 결함 검출부
122 : 결함 좌표 특정부
131 : 기판 반입 검지부
132 : 메카 얼라이먼트 구동부
133 : 기판 위치 검출부
201 : 신축 스테이지
221 : 반송 벨트
222 : 주행부
223 : 가이드 레일
224 : 유지부
225 : 흡착 패드
S1, S2, Sa1, Sa2, Sb1, Sb2 : 촬상 범위
R1, R2 : 범위
W : 기판
1: substrate inspection device
11: body base
12: conveying stage
13: frame
14: injury stage
15: line scan camera
16: camera lens
17: Scan Camera Stage
18: line lights
19: Review Camera
20: barrel
21: Review Camera Stage
22: substrate transfer unit
101: control unit
102: input unit
103: memory
104: display unit
105: communication unit
112: conveying drive unit
114: floating stage drive unit
115: line scan camera driver
118: line light drive unit
119: review camera driver
121: defect detection unit
122: defect coordinate specifying unit
131: substrate import detection unit
132: mechanical alignment drive unit
133: substrate position detection unit
201: expansion stage
221 convey belt
222: driving unit
223: guide rail
224: holding part
225: Suction Pad
S1, S2, Sa1, Sa2, Sb1, Sb2: imaging range
R1, R2: range
W: substrate

Claims (9)

기판을 제1 방향으로 반송하는 반송부와,
상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출부와,
상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함의 화상을 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득부
를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
A conveying unit for conveying the substrate in the first direction,
A defect detector which detects a defect in the substrate being conveyed in the first direction;
An image acquisition unit for acquiring an image of a defect detected by the defect detection unit during the transfer;
Substrate inspection apparatus comprising a.
제1항에 있어서,
상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함 중 대상으로 하는 결함을 선정하는 결함 선정부를 더 구비하고,
상기 화상 취득부는, 상기 반송 중에 상기 결함 선정부에 의해서 선정된 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
The method of claim 1,
And a defect selecting unit that selects a target defect among the defects detected by the defect detecting unit,
The said image acquisition part acquires the image of the defect selected by the said defect selection part during the said conveyance, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
제2항에 있어서,
상기 화상 취득부는, 상기 제1 방향에 대하여 수직인 방향으로 이동 가능한 촬상부를 구비하고,
상기 결함 선정부는, 순위가 매겨진 결함 중 가장 순위가 높은 결함이 대상으로 되도록, 상기 촬상부의 이동 속도와 상기 반송부에 의한 상기 기판의 반송 속도에 기초하여 상기 대상으로 하는 결함을 선정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
The method of claim 2,
The image acquisition unit includes an imaging unit movable in a direction perpendicular to the first direction,
The defect selecting unit selects the target defect based on the moving speed of the image pickup unit and the transfer speed of the substrate by the transfer unit so that the highest ranked defect is among the ranked defects. Board inspection device.
제3항에 있어서,
상기 촬상부는, 상기 제1 방향에 대하여 평행하게 이동 가능한 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
The method of claim 3,
The said imaging part is movable in parallel with respect to the said 1st direction, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
제2항에 있어서,
상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함의 순위를 매기는 순위화부를 더 구비하고,
상기 결함 선정부는, 상기 순위화부에 의한 순위화에 기초하여 상기 대상으로 하는 결함을 선정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
The method of claim 2,
And a ranking unit for ranking the defects detected by the defect detection unit,
And the defect selecting unit selects the target defect based on the ranking by the ranking unit.
제2항에 있어서,
상기 반송부는, 상기 결함 선정부에 의해서 대상으로 되지 않았던 결함이 존재하는 경우, 상기 기판을 상기 제1 방향과 반대의 제2 방향으로 역반송하고,
상기 화상 취득부는, 상기 제2 방향으로 반송 중에 상기 대상으로 되지 않았던 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.
The method of claim 2,
The transfer unit, if there is a defect that was not subjected to the target by the defect selection unit, back convey the substrate in a second direction opposite to the first direction,
The said image acquisition part acquires the image of the defect which did not become the said object during conveyance to the said 2nd direction, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
기판을 제1 방향으로 반송하는 제1 반송 스텝과,
상기 제1 반송 스텝에 있어서 상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출 스텝과,
상기 결함 검출 스텝에 있어서 검출된 결함의 화상을 상기 제1 반송 스텝에서의 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득 스텝
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
A first conveyance step of conveying the substrate in the first direction,
A defect detection step of detecting a defect in the substrate being conveyed in the first direction in the first conveyance step;
An image acquisition step of acquiring an image of a defect detected in the defect detection step during the conveyance in the first conveyance step.
Substrate inspection method comprising a.
제7항에 있어서,
상기 결함 검출 스텝에서 검출된 결함의 순위를 매기는 순위화 스텝과,
상기 결함 검출 스텝에 있어서 검출된 결함 중 상기 순위화 스텝에 의한 순위화에 기초하여 대상으로 하는 결함을 선정하는 결함 선정 스텝
을 더 포함하고,
상기 화상 취득 스텝은, 상기 제1 반송 스텝에서의 상기 반송 중에 상기 결함 선정 스텝에 의해서 선정된 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
The method of claim 7, wherein
A ranking step of ranking the defects detected in the defect detection step;
A defect selection step of selecting a defect to be targeted based on the ranking by the ranking step among the defects detected in the defect detection step.
More,
The said image acquisition step acquires the image of the defect selected by the said defect selection step during the conveyance in the said 1st conveyance step, The board | substrate inspection method characterized by the above-mentioned.
제8항에 있어서,
상기 결함 선정 스텝에 있어서 대상으로 되지 않았던 결함이 존재하는 경우, 상기 기판을 상기 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 역반송하는 제2 반송 스텝을 더 포함하고,
상기 화상 취득 스텝은, 상기 제2 반송 스텝에 있어서 상기 제2 방향으로 상기 기판을 반송 중에 상기 대상으로 되지 않았던 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
The method of claim 8,
A second conveyance step for carrying back the substrate in a second direction opposite to the first direction when there is a defect that is not an object in the defect selecting step;
The said image acquisition step acquires the image of the defect which did not become the said object during conveyance of the said board | substrate to the said 2nd direction in the said 2nd conveyance step, The board | substrate inspection method characterized by the above-mentioned.
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