KR20120006947A - Substrate inspection device and substrate inspection method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method.
종래, 액정 디스플레이(LCD:Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel)나 유기 EL(ElectroLuminescence) 디스플레이나 표면 전도형 전자 방출 소자 디스플레이(SED:Surface-conduction Electron-emitter Display) 등의 FPD(Flat Panel Display) 기판이나, 반도체 웨이퍼나, 프린트 기판 등, 각종 기판의 제조에서는, 그 수율을 향상시키기 위해, 각 패터닝 프로세스 후, 축차적으로, 배선의 단락이나 접속 불량이나 단선이나 패턴 불량 등의 패터닝 에러가 존재하는지의 여부가 검사된다. 이와 같은 기판 검사에서는, 우선, 라인 스캔 카메라나 CCD 카메라 등으로 기판 표면에 있는 결함을 검출하고(결함 검출 검사), 그 후, 검출한 결함의 확대 화상을 CCD 카메라 등의 리뷰 카메라에 의해 취득한다(결함 리뷰).Conventionally, a flat panel such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an organic electroluminescence (EL) display, or a surface-conduction electron-emitter display (SED) is used. Display) In the manufacture of various substrates such as a substrate, a semiconductor wafer, and a printed circuit board, in order to improve the yield, after each patterning process, patterning errors such as short-circuits, poor connection, and disconnection and pattern defects of wiring It is checked whether it exists. In such a board | substrate inspection, a defect in the surface of a board | substrate is first detected by a line scan camera, a CCD camera, etc. (defect detection inspection), and the enlarged image of the detected defect is acquired by a review camera, such as a CCD camera, after that. (Defective review).
그러나, 상기 종래 기술에서는, 1개의 기판에 대한 결함 검사가 종료된 후에 동일 기판에 대하여 결함의 리뷰를 행하고 있기 때문에, 검사 모두를 완료할 때까지 요하는 시간이 길어지게 된다고 하는 문제가 존재한다. 또한, 결함의 리뷰 시간을 제한함으로써, 검사 완료까지 요하는 시간의 증가를 억제하는 것도 가능한데, 이 경우, 결함 리뷰의 대상으로 되는 결함의 수가 실질적으로 제한되기 때문에, 상세한 결함 리뷰를 할 수 없다고 하는 문제가 발생한다.However, in the above prior art, since the defect is reviewed on the same substrate after the defect inspection on one substrate is completed, there is a problem that the time required for completing all the inspections becomes long. In addition, by limiting the review time of the defect, it is also possible to suppress an increase in the time required to complete the inspection. In this case, since the number of defects to be subjected to the defect review is substantially limited, detailed defect review cannot be performed. A problem arises.
따라서 본 발명은, 상기의 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 검사 완료까지 요하는 시간의 증가를 억제하면서 상세한 결함 리뷰가 가능한 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, this invention is made | formed in view of said problem, and an object of this invention is to provide the board | substrate test | inspection apparatus and board | substrate test | inspection method which can perform detailed defect review, suppressing the increase of time required to complete | finish inspection.
이러한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 기판 검사 장치는, 기판을 제1 방향으로 반송하는 반송부와, 상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출부와, 상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함의 화상을 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve such an object, the board | substrate inspection apparatus which concerns on this invention is a conveyance part which conveys a board | substrate to a 1st direction, the defect detection part which detects the defect in the said board | substrate conveying to a said 1st direction, and the said defect An image acquisition part for acquiring the image of the defect detected by the detection part during the said conveyance is provided, It is characterized by the above-mentioned.
또한, 본 발명에 따른 기판 검사 방법은, 기판을 제1 방향으로 반송하는 제1 반송 스텝과, 상기 제1 반송 스텝에 있어서 상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출 스텝과, 상기 결함 검출 스텝에 있어서 검출된 결함의 화상을 상기 제1 반송 스텝에서의 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득 스텝을 포함하는 것을 특징으로 한다.Moreover, the board | substrate test | inspection method which concerns on this invention detects the defect in the 1st conveyance step which conveys a board | substrate to a 1st direction, and the defect in the said board | substrate conveying to the said 1st direction in the said 1st conveyance step. And an image acquisition step of acquiring an image of the defect detected in the defect detection step during the conveyance in the first conveyance step.
본 발명에 따르면, 기판에 대한 결함 검출과 병행하여, 이 검출된 결함의 화상을 취득하기 위해, 1개의 기판에 대한 택트 타임(takt time)을 증가시키는 일 없이, 보다 많은 결함의 화상을 취득하는 것이 가능하게 된다. 이 결과, 검사 완료까지 요하는 시간의 증가를 억제하면서 상세한 결함 리뷰가 가능한 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법을 실현할 수 있다. According to the present invention, in order to acquire an image of the detected defect in parallel with the defect detection on the substrate, more images of the defect are acquired without increasing the tact time for one substrate. It becomes possible. As a result, the board | substrate inspection apparatus and board | substrate inspection method which can examine a detailed defect can be realized, suppressing the increase of time required to complete | finish inspection.
도 1은 일 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 사시도.
도 2는 실시 형태에 있어서의 라인 스캔 카메라의 촬상 범위와 리뷰 카메라의 가동 범위와의 관계의 일례를 나타내는 모식도.
도 3은 실시 형태에 있어서의 라인 스캔 카메라의 촬상 범위와 리뷰 카메라의 가동 범위와의 관계의 다른 일례를 나타내는 모식도.
도 4는 도 1에 도시한 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 상시도.
도 5는 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 기능 구성을 도시하는 블록도.
도 6은 실시 형태에 따른 기판 검사 동작의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 7은 실시 형태에 따른 결함 검출 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 8은 실시 형태에 따른 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 9는 실시 형태에 따른 되풀이 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트.
도 10은 실시 형태에 따른 프레임의 다른 개략 구성을 도시하는 상시도. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The perspective view which shows schematic structure of the board | substrate inspection apparatus which concerns on one Embodiment.
It is a schematic diagram which shows an example of the relationship between the imaging range of the line scan camera in the embodiment, and the movable range of a review camera.
It is a schematic diagram which shows another example of the relationship between the imaging range of the line scan camera in the embodiment, and the movable range of a review camera.
4 is a perspective view showing a schematic configuration of the substrate inspection device shown in FIG. 1.
5 is a block diagram showing a schematic functional configuration of a substrate inspection device according to an embodiment.
6 is a flowchart for explaining a schematic flow of a substrate inspection operation according to the embodiment;
7 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect detection process according to the embodiment;
8 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect review process according to the embodiment;
9 is a flowchart for explaining a schematic flow of a recurring defect review process according to the embodiment;
10 is a perspective view showing another schematic configuration of a frame according to the embodiment;
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태를 도면과 함께 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 각 도면은 본 발명의 내용을 이해할 수 있는 정도의 형상, 크기, 및 위치 관계를 개략적으로 도시한 것에 지나지 않고, 따라서, 본 발명은 각 도면에서 예시된 형상, 크기, 및 위치 관계로만 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에서는, 구성의 명료화를 위해, 단면에 있어서의 해칭의 일부가 생략되어 있다. 또한, 후술에 있어서 예시하는 수치는, 본 발명의 적절한 예에 지나지 않고, 따라서, 본 발명은 예시된 수치에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated in detail with drawing. In addition, in the following description, each drawing is only the figure which showed roughly the shape, the magnitude | size, and the positional relationship to the extent that the content of this invention can be understood, Therefore, this invention is the shape, the magnitude | size illustrated by each drawing. It is not limited only to, and positional relationships. In addition, in each figure, the part of hatching in a cross section is abbreviate | omitted for clarity of a structure. In addition, the numerical value illustrated in the following is only an appropriate example of this invention, Therefore, this invention is not limited to the numerical value illustrated.
이하, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법을, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 1은, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 사시도이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the board | substrate inspection apparatus and board | substrate inspection method which concern on one Embodiment of this invention are demonstrated in detail using drawing. FIG. 1: is a perspective view which shows schematic structure of the board | substrate inspection apparatus which concerns on this embodiment.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 장치(1)는, 본체 베이스(11)와, 기판 재치면에 형성된 무수한 구멍으로부터 에어를 취출함으로써 기판 W를 부상시키는 부상 스테이지(14)와, 기판 W의 반송 방향(도면 중, X/-X 방향)을 따라서 연장되는 반송 스테이지(12)와, 부상 스테이지(14) 상에 반입된 기판 W를 유지하면서 반송 스테이지(12)를 이동함으로써 기판 W를 반송하는 기판 반송 유닛(22)과, 기판 W가 반송되는 부상 스테이지(14)를 반송 방향과 수직인 방향(도면 중, Y 방향)에 걸치는 검사부의 프레임(13)과, 프레임(13)의 근변에서 부상 스테이지(14)를 경사 상방으로부터 Y 방향으로 긴 라인 형상으로 조명하는 라인 조명(18)과, 프레임(13)으로 이동 가능하게 설치되어 라인 조명(18)에 의해 조명된 라인 형상의 영역을 라인 조명(18)과는 반대측의 경사 상방으로부터 촬상하는 결함 검사용의 1개 이상의 라인 스캔 카메라(15)와, 동일하게 프레임(13)에 이동 가능하게 설치되어 부상 스테이지(14) 상의 기판 W를 확대 촬상하는 리뷰용의 1개 이상의 리뷰 카메라(19)를 구비한다. 이 중, 예를 들면 부상 스테이지(14)와 반송 스테이지(12)와 프레임(13)은, 본체 베이스(11)에 고정된다. 또한, 라인 조명(18)을 본체 베이스(11)에 고정해도 된다. 본체 베이스(11)에는, 대리석 블록 등의 내진성이 우수한 부재나, 진동 감쇠부를 구비함으로써 내진 성능이 향상된 부재 등을 이용할 수 있다. 또한, 기판 검사 장치(1)는, 예를 들어 클린룸 내에 수용되어도 된다.As shown in FIG. 1, the board | substrate test |
부상 스테이지(14)는, 예를 들면 도시하지 않은 프레임에 의해서 본체 베이스(11)에 고정된다. 또한, 부상 스테이지(14)의 기판 재치면에는, 예를 들면 도시하지 않은 송풍 기구에 연결된 무수한 구멍이 형성되어 있고, 이 구멍으로부터 에어를 취출함으로써, 부상 스테이지(14) 상에 재치된 기판 W가 기판 재치면으로부터 부상한 상태로 된다. 단, 이에 한정되지 않고, 기판 W의 반송 방향으로 회전하는 롤러를 복수 마련하고, 이 롤러에 의해서 기판 W가 부상 스테이지(14)에 접촉하지 않도록 지지되는 구성 등, 기판 반송시에 기판 W를 손상시키지 않고 반송하는 것이 가능한 구성이면 다양하게 변경하는 것이 가능하다.The
결함 검사용의 라인 스캔 카메라(15)의 촬상에 이용되는 라인 조명(18)은, 선광원, 점광원이 라인 형상으로 배열하여 이루어지는 광원, 또는 가늘고 긴 면광원 등이다. 이 라인 조명(18)은, 기판 W 표면에서 반사한 조명광의 광축의 배열면이 각 라인 스캔 카메라(15)의 광축을 포함하도록, 그 위치 및 각도가 조절되어 있다.The
라인 조명(18)과 평행하게 설치되는 프레임(13)은, 소위 갠트리(gantry)라고 불리는 것이다. 프레임(13)에는, 1개 이상의 라인 스캔 카메라(15)를 기판 W의 반송 방향과 수직인 방향(Y/-Y 방향)으로 배열시킨 상태로 유지하는 스캔 카메라 스테이지(17)가 설치되어 있다. 각 라인 스캔 카메라(15)에는, 라인 조명(18)에 의해서 기판 W 상에서 반사한 관찰광을 소정의 배율로 변배하면서 어느 것인가의 라인 스캔 카메라(15)의 라인 센서 위치에서 결상시킬 수 있는 카메라 렌즈(16)가 설치되어 있다.The
또한, 각 라인 스캔 카메라(15)는, 예를 들면 도시하지 않은 제어부로부터의 제어 하에, 다른 라인 스캔 카메라(15)와 독립하여, 스캔 카메라 스테이지(17)를 따라서 Y/-Y 방향으로 이동하는 것이 가능하다. 이 구성은, 라인 스캔 카메라(15)가, 프레임(13) 아래를 통과하는 기판 W를 Y 방향을 따라서 구석구석까지 촬상하는 것을 가능하게 한다. 따라서, 라인 스캔 카메라(15)로 Y 방향으로 긴 띠 형상의 촬상 영역을 구석구석까지 촬상하면서 기판 반송 유닛(22)을 이용하여 기판 W를 X 방향(또는 -X 방향)으로 반송하는 스캔 동작을 행함으로써, 기판 W 전체를 촬상하는 것이 가능하다. 단, 라인 스캔 카메라(15)의 대수(臺數)에 따라서는, 스캔 동작을 복수회함으로써 기판 W 전체를 촬상하도록 구성되는 경우도 있다. 이 경우, 1회의 스캔 동작이 종료되면, 라인 스캔 카메라(15)는, 다음의 스캔 동작시에 1시야분, Y/-Y 방향으로 이동한다.In addition, each
한편, 리뷰 카메라(19)는, 예를 들면 CCD 카메라나 CMOS 카메라 등으로 구성된다. 각 리뷰 카메라(19)는, 동축 낙사 조명과 기판 W의 결함의 확대 투영을 가능하게 하는 대물 렌즈를 구비한 경통(20) 내에 설치되어, 타깃으로 하는 결함의 확대 화상을 취득한다. 이 경통(20)은, 프레임(13)을 사이에 두고 스캔 카메라 스테이지(17)와 반대측에 배치된 리뷰 카메라 스테이지(21)에 설치된다. 복수의 경통(20)은, 리뷰 카메라 스테이지(21)에 고속 이동 가능하게 유지된다. 리뷰 카메라 스테이지(21)는, 도시하지 않은 제어부로부터의 제어 하에, 각 경통(20)을 다른 경통(20)과는 독립적으로, Y/-Y 방향으로 고속 이동시킬 수 있다.On the other hand, the
여기서, 예를 들면 도 2에 도시한 바와 같이, 라인 스캔 카메라(15)의 대수와 리뷰 카메라(19)의 대수가 동일한 경우, 라인 스캔 카메라(15)의 1스캔째의 촬상 범위 S1과 2스캔째의 촬상 범위 S2를 합한 범위 R1이 1개의 리뷰 카메라(19)의 가동 범위로서 설계되면 된다. 또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 예를 들면 리뷰 카메라(19)의 대수가 라인 스캔 카메라(15)의 대수의 절반인 경우, 라인 스캔 카메라(15a)의 1스캔째의 촬상 범위 Sa1 및 2스캔째의 촬상 범위 Sa2와, 라인 스캔 카메라(15b)의 1스캔째의 촬상 범위 Sb1 및 2스캔째의 촬상 범위 Sb2를 합한 범위 R2가, 1개의 리뷰 카메라(19)의 가동 범위로 설계되면 된다. 단, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 리뷰 카메라(19)의 촬상 범위분, 여분으로 가동할 수 있도록 구성해도 된다. 이에 의해, 예를 들면 리뷰 카메라(19)의 가동 범위의 끝 부근에서 촬상한 경우에 촬상 영역의 일부가 조명되지 않는 등의 문제점의 발생을 해소할 수 있다.Here, for example, as shown in FIG. 2, when the number of the
계속해서, 기판 검사 장치(1)에 반입된 기판 W의 반송에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 4는, 도 1에 도시한 기판 검사 장치의 개략 구성을 도시하는 상시도이다. 도 4에 도시한 바와 같이, 기판 검사 장치(1)에서는, 부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입되면, 도시하지 않은 위치 결정 기구에 의해서 기판 W가 규정 위치에 기계적으로 얼라인먼트된다. 규정 위치에 얼라인먼트된 기판 W는, 기판 반송 유닛(22)에 의해서 유지된다. 구체적으로는, 기판 반송 유닛(22)은, 반송 스테이지(12) 상에 설치되고, 기판 반송 방향을 따라서 연장되는 가이드 레일(223)과, 반송 스테이지(12)를 따라서 설치되고, 도시하지 않은 구동원에 의해서 순회하는 반송 벨트(221)와, 반송 벨트(221)에 고정되고, 그 반송 벨트(221)의 순회에 의해서 가이드 레일(223)을 따라서 주행하는 주행부(222)와, 주행부(222)에 고정되고, 기판 W를 유지하는 유지부(224)를 구비한다. 유지부(224)는, 예를 들면 도시하지 않은 배기 펌프에 연결된 1개 이상의 흡착 패드(225)를 갖는다. 배기 펌프에 의한 배기에 의해서 기판 W가 흡착 패드(225)에 흡인된다. 이 결과, 기판 W가 유지부(224)에 유지된다. 단, 이 밖에도, 유지부(224)가 기판 W의 단부를 파지하는 구성 등, 다양하게 변경 가능하다.Subsequently, the conveyance of the board | substrate W carried in to the board |
반송 벨트(221)의 순회에 의해서 기판 반송 유닛(22)이 X/-X 방향으로 이동하면, 기판 반송 유닛(22)에 유지된 기판 W가 X/-X 방향으로 반송된다. 이 때, 기판 W는 에어에 의해서 부상 스테이지(14)로부터 부상한 상태이므로, 기판 W가 부상 스테이지(14)와의 접촉 등에 의해서 손상되는 것을 방지할 수 있다.When the board |
다음으로, 기판 검사 장치(1)를 동작시키는 구동 기구에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 5는, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 장치의 개략 기능 구성을 도시하는 블록도이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 기판 검사 장치(1)는, 기판 검사 장치(1) 전체의 동작을 제어하는 제어부(101)와, 부상 스테이지(14)를 구동하여 기판 W를 부상시키는 부상 스테이지 구동부(114)와, 외부로부터 부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입된 것을 검지하는 기판 반입 검지부(131)와, 부상 스테이지(14)에 기판 W가 반입되었을 때에 기판 W를 규정 위치에 기계적으로 얼라인먼트하는 메카 얼라인먼트 구동부(132)와, 기판 W를 유지하면서 부상 스테이지(14) 상을 X/-X 방향으로 이동시키는 반송 구동부(112)와, 부상 스테이지(14) 상의 기판 W의 위치를 대략 리얼타임에 검출하는 기판 위치 검출부(133)와, 라인 조명(18)을 구동하여 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역을 조명하는 라인 조명 구동부(118)와, 라인 스캔 카메라(15)를 구동하여 기판 W의 화상을 1라인마다 취득하는 라인 스캔 카메라 구동부(115)와, 리뷰 카메라(19)를 구동하여 기판 W에 있어서의 결함의 확대 화상을 취득하는 리뷰 카메라 구동부(119)를 구비한다.Next, the drive mechanism which operates the board |
또한, 기판 검사 장치(1)는, 유저가 각종 설정이나 지시를 입력하는 입력부(102)와, 각종 프로그램이나 파라미터와, 취득된 화상 데이터 등을 적절히 기억하는 기억부(103)와, 취득/기억된 화상이나 각종 정보를 표시하는 표시부(104)와, 외부와의 통신을 제어하는 통신부(105)와, 라인 스캔 카메라(15)에 의해 촬상된 화상에 포함되는 결함의 화상을 검출하는 결함 검출부(121)와, 결함 검출부(121)에 의해 검출된 결함의 기판 W상의 위치(결함 좌표)를 특정하는 결함 좌표 특정부(122)를 구비한다. 또한, 기판 반입 검지부(131)는, 부상 스테이지(14)의 기판 반입구에 설치된 도시하지 않은 센서로부터의 신호에 기초하여, 기판 W가 반입되었는지의 여부를 검지한다. 메카 얼라인먼트 구동부(132)는, 부상 스테이지(14)의 기판 반입구 근방에 설치된 핀이나 롤러 등의 위치 결정 기구를 구동하여, 기판 W를 규정 위치에 위치 결정한다.In addition, the
계속해서, 기판 검사 장치(1)의 기판 검사시의 동작에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 동작에서는, 적어도 최초의 스캔 동작시에, 기판 W의 결함을 검출하는 결함 검출 처리와, 검출한 결함의 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리를 병행하여 행하는 경우를 예로 든다. 또한, 2회째 이후의 스캔 동작을 실행하는 것이면, 이 2회째 이후의 스캔 동작시에는, 결함 검출 처리를 생략해도 되고, 생략하지 않아도 된다.Subsequently, the operation | movement at the time of the board | substrate inspection of the board |
도 6은, 본 실시 형태에 따른 기판 검사 동작의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 단, 이하의 설명에서는, 도 5에 도시한 제어부(101)의 동작에 착안한다. 도 6에 도시한 바와 같이, 본 기판 검사 동작에 있어서, 제어부(101)는, 우선, 기판 반입 검지부(131)에 의해서 외부로부터 부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입되었는지의 여부를 판정한다(스텝 S101). 또한, 이 때, 제어부(101)는, 부상 스테이지(114)를 구동한 상태, 즉 부상 스테이지(14)의 구멍으로부터 에어를 취출한 상태에서, 기판 W의 반입을 대기한다(스텝 S101의 "아니오").6 is a flowchart for explaining a schematic flow of the substrate inspection operation according to the present embodiment. In the following description, however, attention is paid to the operation of the
부상 스테이지(14) 상에 기판 W가 반입되면(스텝 S101의 "예"), 제어부(101)는, 메카 얼라인먼트 구동부(132)를 통하여 도시하지 않은 위치 결정 기구를 구동함으로써, 기판 W를 부상 스테이지(14)에 있어서의 규정 위치에 기계적으로 얼라인먼트하고(스텝 S102), 계속해서, 반송 구동부(112)를 통하여 기판 반송 유닛(22)을 구동함으로써, 규정 위치에 있는 기판 W를 소정의 기판 유지 위치로 이동한 기판 반송 유닛(22)으로 유지한다(스텝 S103).When the substrate W is loaded onto the floating stage 14 (YES in step S101), the
다음으로, 제어부(101)는, 반송 구동부(112)를 구동하여 기판 반송 유닛(22)을 X 방향에 등속으로 이동시키는 동작을 개시함으로써, 기판 W를 X 방향에 등속 이동시키는 동작을 개시한다(스텝 S104). 계속해서, 제어부(101)는, 기판 위치 검출부(133)로부터 수시 입력되는 기판 W의 위치에 기초하여, 기판 W의 반송 경로에 있어서 상류에 위치하는 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역(스캔 영역)에 기판 W가 도달할 때까지 대기한다(스텝 S105의 "아니오"). 스캔 영역에 기판 W가 도달하면(스텝 S105의 "예"), 제어부(101)는, 우선, 기판 W의 결함을 검출하는 결함 검출 처리를 개시하고(스텝 S106), 계속해서, 결함 검출 처리에 있어서 검출된 결함의 확대 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리를 개시한다(스텝 S107).Next, the
다음으로, 제어부(101)는, 후술하는 결함 리뷰 처리 또는 되풀이 결함 리뷰 처리에 있어서 역스캔 동작이 요구되었는지의 여부를 판정한다(스텝 S108). 또한, 역스캔 동작이란, 예를 들면 기판 W를 X 방향으로 반송하고 있었던 경우, -X 방향으로 반송하는 것이며, 반대로, -X 방향으로 반송하고 있었던 경우, X 방향으로 반송하는 것이다.Next, the
스텝 S108의 판정의 결과, 역스캔 동작이 요구된 경우(스텝 S108의 "예"), 제어부(101)는, 기판 W의 반송 방향이 반전되도록 반송 구동부(112)를 구동하여 기판 반송 유닛(22)을 등속으로 이동시키는 동작을 개시한다(스텝 S109). 계속해서, 제어부(101)는, 리뷰되어 있지 않은 나머지 결함에 대한 결함 리뷰 처리(되풀이 결함 리뷰 처리)를 개시하고(스텝 S110), 그 후, 스텝 S108로 귀환한다.When the reverse scanning operation is requested as a result of the determination in step S108 (YES in step S108), the
한편, 스텝 S108의 판정의 결과, 역스캔 동작이 요구되어 있지 않은 경우(스텝 S108의 "아니오"), 제어부(101)는, 기판 W에 대한 스캔 동작이 종료되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S111), 종료되어 있지 않은 경우(스텝 S111의 "아니오"), 스텝 S108로 귀환한다. 한편, 스캔 동작이 종료된 경우(스텝 S111의 "예"), 본 동작을 종료한다.On the other hand, when the reverse scanning operation is not requested as a result of the determination in step S108 (NO in step S108), the
계속해서, 본 실시 형태에 따른 결함 검출 처리에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 7은, 본 실시 형태에 따른 결함 검출 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 도 7에 도시한 바와 같이, 결함 검출 처리에서는, 제어부(101)는, 우선, 스캔 영역을 통과 중인 기판 W를 라인 스캔 카메라(15)에 의해 촬상함으로써, 1라인분의 기판 W의 화상을 취득한다(스텝 S121). 또한, 1라인분의 화상이란, 기판 W의 반송 방향에 대하여 수직인 방향으로 배열하는 복수의 라인 스캔 카메라(15)를 대략 동시에 구동함으로써 한 번에 촬상된 복수의 화상을 서로 연결시켜 생성된 띠 형상의 화상이다.Next, the defect detection process which concerns on this embodiment is demonstrated in detail using drawing. 7 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect detection process according to the present embodiment. As shown in FIG. 7, in the defect detection process, the
다음으로, 제어부(101)는, 라인 스캔 카메라 구동부(115)를 통하여 입력된 1라인분의 화상을 결함 검출부(121)에 입력하여 화상 해석함으로써(스텝 S122), 1라인분의 화상에 포함되는 결함을 검출한다. 계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S122에 있어서 결함이 검출되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S123), 결함이 검출된 경우(스텝 S123의 "예"), 검출된 결함의 기판 W 상에서의 위치(결함 좌표)를 결함 좌표 특정부(122)에 있어서 특정하고(스텝 S124), 특정한 1라인분의 결함 좌표를 출력한다(스텝 S125). 또한, 결함 좌표의 출력처는, 예를 들면 제어부(101)이다. 한편, 스텝 S122에 있어서 결함이 검출되지 않았던 경우(스텝 S123의 "아니오"), 제어부(101)는, 스텝 S126으로 이행한다. 또한, 결함의 기판 W에 있어서의 위치(결함 좌표)는, 예를 들면 기판 W의 부상 스테이지(14) 상에서의 위치(좌표)와, 개개의 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역의 부상 스테이지(14) 상에서의 위치(좌표)와, 각 라인 스캔 카메라(15)에 의해 촬상된 화상에 포함되는 결함의 위치(좌표)로부터 산출할 수 있다.Next, the
스텝 S126에서는, 제어부(101)는, 기판 W가 1라인분, X 방향으로 이동할 때까지 대기한다(스텝 S126의 "아니오"). 기판 W가 1라인분, X 방향으로 이동하면(스텝 S126의 "예"), 제어부(101)는, 기판 W에 대한 전체 라인에 대해서 스캔이 종료되었는지의 여부, 즉 기판 W 전체에 대한 결함의 검출 및 결함 좌표의 특정이 완료되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S127), 종료되어 있지 않은 경우(스텝 S127의 "아니오"), 제어부(101)는, 스텝 S121로 귀환하여, 이후의 동작을 실행한다. 한편, 전체 라인에 대한 스캔이 종료되어 있는 경우(스텝 S127의 "예"), 제어부(101)는, 본 결함 검출 처리를 종료한다.In step S126, the
계속해서, 본 실시 형태에 따른 결함 리뷰 처리에 대해서, 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 도 8은, 본 실시 형태에 따른 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 도 8에 도시한 바와 같이, 결함 리뷰 처리에서는, 제어부(101)는, 우선, 도 7에 도시한 결함 검출 처리에 있어서 1라인분의 결함 좌표가 결함 좌표 특정부(122)로부터 입력되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S141), 입력된 경우(스텝 S141의 "예"), 이 1라인분의 결함 좌표를 예를 들면 기억부(103) 등에 기억하고(스텝 S142), 그 후, 스텝 S143으로 이행한다. 한편, 1라인분의 결함 좌표가 입력되지 않았던 경우, 즉, 도 7에 도시한 결함 검출 처리에 있어서 그 1라인분의 화상에 결함이 포함되지 않았던 경우(스텝 S141의 "아니오"), 제어부(101)는, 스텝 S143으로 이행한다.Subsequently, the defect review processing according to the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. 8 is a flowchart for explaining a schematic flow of a defect review process according to the present embodiment. As shown in FIG. 8, in the defect review process, the
스텝 S143에서는, 제어부(101)는, 기억부(103) 등에 결함 좌표가 기억되어 있는 모든 결함에 대하여, 리뷰하는 순서나 리뷰할 때의 리뷰 카메라(19)의 이동량 및 이동 타이밍 등의 정보 등을 포함하는 리뷰 스케줄을 작성한다(스텝 S143). 또한, 리뷰 스케줄의 작성에 대해서는, 후술한다. 또한, 작성된 리뷰 스케줄은, 예를 들면 기억부(103) 등에 일시 기억된다.In step S143, the
계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S143에 의한 스케줄링의 결과, 리뷰할 수 없는, 즉 리뷰 카메라(19) 중 어느 것에 의해서도 촬상할 수 없는 결함이 존재하는지의 여부를 판정한다(스텝 S144). 이 판정의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하는 경우(스텝 S144의 "예"), 제어부(101)는, 결함 좌표가 기억되어 있는 결함 중 소정의 우선 순위에 기초하여 리뷰 대상으로 하는 결함을 선정한다(스텝 S145). 또한, 소정의 우선 순위는, 예를 들면 결함의 크기나 결함과 배선 등과의 위치 관계 등에 기초하는 것이면 된다. 또한, 선정되지 않았던 결함 좌표는, 예를 들면 기억부(103) 등에 별도 기억된다.Subsequently, the
계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S145에 있어서 선정된 결함에 대하여 리뷰 스케줄을 재작성하고(스텝 S146), 그 후, 스텝 S147로 이행한다. 한편, 스텝 S144의 판정의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하지 않는 경우(스텝 S144의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 스텝 S147로 이행한다. 또한, 기억부(103) 등에 앞서 격납되어 있었던 리뷰 스케줄은, 스텝 S146에서 재작성된 리뷰 스케줄에 의해서 예를 들면 갱신된다.Subsequently, the
스텝 S147에서는, 제어부(101)는, 기억부(103) 등에 기억된 리뷰 스케줄에 기초하여 리뷰 카메라 구동부(119)를 구동함으로써, 리뷰 대상으로 한 결함의 확대 화상을 리뷰 카메라(19)에 의해 취득한다. 또한, 취득된 결함의 확대 화상은, 예를 들면 결함 좌표와 함께 기억부(103) 등에 기억된다.In step S147, the
그 후, 제어부(101)는, 기판 W에 대한 결함 리뷰 처리가 종료되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S148), 종료되어 있지 않은 경우(스텝 S148의 "아니오"), 스텝 S141로 귀환하여, 이후의 동작을 실행한다. 한편, 결함 리뷰 동작이 종료되어 있었던 경우(스텝 S148의 "예"), 제어부(101)는, 리뷰할 수 없었던 결함이 있는지의 여부, 즉 스텝 S144에 있어서 리뷰할 수 없는 결함이 있다고 판정되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S149), 리뷰할 수 없었던 결함이 있는 경우(스텝 S149의 "예"), 역스캔 동작(되풀이 결함 리뷰 처리)의 요구를 생성하고(스텝 S150), 그 후, 본 결함 리뷰 처리를 종료한다. 또한, 역스캔 동작 요구는, 예를 들면 기억부(103) 등의 소정의 어드레스에 격납된다. 또한, 스텝 S149의 판정의 결과, 리뷰할 수 없었던 결함이 없는 경우(스텝 S149의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 본 결함 리뷰 처리를 종료한다.Thereafter, the
또한, 도 9는, 본 실시 형태에 따른 되풀이 결함 리뷰 처리의 개략 흐름을 설명하는 플로우차트이다. 도 9에 도시한 바와 같이, 되풀이 결함 리뷰 처리에서는, 제어부(101)는, 우선, 검출된 결함 중 리뷰되지 않고 남아 있는 결함에 대하여 리뷰 스케줄을 작성한다(스텝 S161). 작성된 리뷰 스케줄은, 상술한 바와 마찬가지로, 예를 들면 기억부(103) 등에 기억된다.9 is a flowchart explaining the outline flow of the recurring defect review process which concerns on this embodiment. As shown in FIG. 9, in the recurring defect review process, the
계속해서, 제어부(101)는, 스텝 S161의 스케줄링의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하는지의 여부를 판정하고(스텝 S162), 리뷰할 수 없는 결함이 존재하는 경우(스텝 S162의 "예"), 선정되지 않았던 결함 중 소정의 우선 순위에 기초하여 리뷰 대상으로 한 결함을 선정하고(스텝 S163), 이에 의해서 선정된 결함에 대하여 리뷰 스케줄을 재작성하고(스텝 S164), 그 후, 스텝 S165로 이행한다. 한편, 스텝 S162의 판정의 결과, 리뷰할 수 없는 결함이 존재하지 않는 경우(스텝 S162의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 스텝 S165로 이행한다. 또한, 기억부(103) 등에 기억된 리뷰 스케줄은, 상술한 바와 마찬가지로 재작성된 리뷰 스케줄에 의해서 갱신된다. 또한, 스텝 S163에 있어서도 선정되지 않았던 결함 좌표는, 상술한 바와 마찬가지로, 예를 들면 기억부(103) 등에 별도로 기억된다.Subsequently, the
스텝 S165에서는, 제어부(101)는, 기억부(103) 등에 기억된 리뷰 스케줄에 기초하여 리뷰 카메라 구동부(119)를 구동함으로써, 리뷰 대상으로 한 결함의 확대 화상을 리뷰 카메라(19)에 의해 취득한다.In step S165, the
그 후, 제어부(101)는, 리뷰할 수 없었던 결함이 있는지의 여부, 즉 스텝 S162에 있어서 리뷰할 수 없는 결함이 있다고 판정되었는지의 여부를 판정하고(스텝 S166), 리뷰할 수 없었던 결함이 있는 경우(스텝 S166의 "예"), 재차 역스캔 동작(되풀이 결함 리뷰 처리)의 요구를 생성하고(스텝 S167), 그 후, 본 되풀이 결함 리뷰 처리를 종료한다. 또한, 스텝 S166의 판정의 결과, 리뷰할 수 없었던 결함이 없는 경우(스텝 S166의 "아니오"), 제어부(101)는, 그대로 본 되풀이 결함 리뷰 처리를 종료한다.Thereafter, the
이상과 같이 동작 함으로써, 기판 W에 존재하는 결함을 검출하는 결함 검출 처리와, 검출된 결함의 확대 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리(되풀이 결함 리뷰 처리를 포함함)를 포함하는 기판 검사 동작이 실행된다. 또한, 이상의 동작 중, 본원 발명에 따른 결함 검출 방법은, 적어도 스텝 S104의 반송 스텝과, 스텝 S106의 결함 검출 스텝과, 스텝 S107의 화상 취득 스텝을 포함하는 것에 의해 달성된다.By operating as mentioned above, the board | substrate test | inspection operation including the defect-detection process which detects the defect which exists in the board | substrate W, and the defect review process (including the recurring defect review process) which acquires the enlarged image of the detected defect is performed. . In addition, the defect detection method which concerns on this invention among the above operations is achieved by including at least the conveyance step of step S104, the defect detection step of step S106, and the image acquisition step of step S107.
다음으로, 본 실시 형태에 있어서의 리뷰 스케줄의 작성(재작성을 포함함)에 대해서 상세하게 설명한다. 여기서, 기판 반송 유닛(22)의 X 방향에의 이동 속도(기판 W의 X 방향에의 이동 속도)를 Gs, 리뷰 카메라(19)의 Y 방향에의 이동 속도를 Gr, 리뷰 카메라(19)의 가동 거리를 Yr로 하고, 리뷰 카메라(19)가 가동 거리 Yr을 이동하였을 때의 이동 시간을 Tr로 하면, 이동 시간 Tr은, 이하의 수학식 1로 표현된다.Next, the creation (including rewriting) of the review schedule in the present embodiment will be described in detail. Here, the moving speed (the moving speed to the X direction of the board | substrate W) of the board |
또한, 리뷰 카메라(19)가 원하는 위치에 정지한 후 대상 결함의 촬상이 완료될 때까지의 시간을 Tα로 하면, 1개의 결함에 대한 확대 화상을 취득하는 데에 요하는 시간 Td는, 이하의 수학식 2로 표현된다.In addition, when the time until the
이 때문에, 1개의 결함에 대한 결함 리뷰 처리를 행하는 동안에 기판 반송 유닛(22)이 X 방향으로 이동하는 거리 dXr은, 이하의 수학식 3으로 된다.For this reason, the distance dXr which the board |
여기서, 기판 W의 X 방향의 길이를 Wx로 하면, 라인 스캔 카메라(15)로 1라인분을 스캔하는 동안에 1대의 리뷰 카메라(19)가 촬상 가능한 결함의 수(취득 가능한 결함 화상수) Img는, 이하의 수학식 4로 된다.Here, if the length of the substrate W in the X direction is Wx, the number of defects (acquired number of defect images) Img which one
따라서, 라인 스캔 카메라(15)로 1라인분을 스캔하는 동안에 리뷰 카메라(19) 전체로 취득 가능한 결함 화상의 총수는, 상기 수학식 4에서 얻어지는 취득 가능한 결함 화상수 Img에 리뷰 카메라(19)의 대수를 승산한 수로 된다.Therefore, the total number of defect images that can be acquired by the
단, 1개의 결함을 처리하는 동안에 기판 반송 유닛(22)이 거리 dXr을 이동하기 때문에, 1개의 리뷰 카메라(19)에 의해 촬상해야 할 결함이 2개 있는 경우에 있어서, 이들의 X 방향의 간격이 dXr 이하이면, 어느 하나의 결함을 촬상하는 것이 실질적으로 불가능하다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 보다 심각한 결함에 대한 결함 리뷰 처리를 우선하여 행하기 위해, 결함에 대하여 정도에 따른 우선 순위를 설정하고, 이 우선 순위에 따라서 보다 심각한 결함이 우선적으로 리뷰되도록 리뷰 스케줄을 작성한다.However, since the board |
예를 들면, 기판 W가 라인 스캔 카메라(15)의 촬상 영역(스캔 영역)으로부터 리뷰 카메라(19)의 촬상 영역까지 이동하는 동안에, 1개의 리뷰 카메라(19)에 의해 촬상해야 할 결함으로서, 결함 검출 처리에서 검출된 순서로, Df1, Df2, Df3, Df4 및 Df5가 검출되었다고 하자. 여기서, 사이즈가 큰 결함을 우선 순위가 높은 결함으로 하고, 결함 사이즈의 관계를 Df3>Df2>Df4>Df1>Df5로 하고, 검출순으로 전후하는 2개의 결함의 X 방향의 간격과 거리 dXr과의 관계를 각각, |Df1-Df2|<dXr, |Df2-Df3|>dXr, |Df3-Df4|<dXr, 및, |Df4-Df5|>dXr로 하면, 이 우선 순위에 기초하여, 결함 Df3은 반드시 리뷰 대상의 결함으로 된다. 여기서, 결함 Df3에 대하여 X 방향으로 거리 dXr 이상 떨어져 있는 결함은, 결함 Df2 및 Df5의 2개로 된다. 이 때문에, 이 케이스에서는, 리뷰 대상으로 되는 결함은, 결함 Df2, Df3 및 Df5의 3개로 된다.For example, while the board | substrate W is moving from the imaging area (scan area) of the
따라서, 이 케이스에 대해서는, 본 실시 형태에서는, 결함을 Df2→Df3→Df5의 순서로 리뷰하는 정보와, 결함 Df2의 다음으로 결함 Df3을 리뷰할 때까지 리뷰 카메라(19)를 Y 방향으로 이동하는 이동량 및 결함 Df3의 다음으로 결함 Df5를 리뷰할 때까지 리뷰 카메라(19)를 Y 방향으로 이동하는 이동량의 정보를 포함하는 리뷰 스케줄이 생성된다.Therefore, about this case, in this embodiment, the
또한, 상술한 케이스와 같이, 한 번의 스캔 동작으로 모든 결함을 리뷰할 수 없는 경우, 즉, 결함 검출 처리에 의해서 검출되었지만 리뷰 대상으로 되지 않고 아직 남아 있는 결함이 존재하는 경우, 본 실시 형태에서는, 상술한 바와 같이, 이 남아 있는 결함을 리뷰 대상으로 한 되풀이 결함 리뷰 처리가 실행된다(예를 들면 도 9 참조). 예를 들면, 2회째 이후의 스캔 동작 중 리뷰 카메라(19) 측으로부터 라인 스캔 카메라(15) 측으로 기판 W가 이동하는 스캔 동작시에 실행되는 되풀이 결함 리뷰 처리에서는, 병행하여 결함 검출 처리를 실행하였다고 해도 결함 검출 처리에 의해서 검출된 결함에 대하여 동일 스캔 동작 중에 결함 리뷰 처리를 행할 수 없다. 이와 같은 경우에, 간단히 기판 W를 리뷰 카메라(19) 측으로부터 라인 스캔 카메라(15) 측으로 이동시키는 것이 아니라, 되풀이 결함 리뷰 처리를 행함으로써, 1개의 기판에 대한 처리 시간의 증가를 억제하면서 보다 많은 결함을 리뷰 대상으로 하는 것이 가능하게 된다. 또한, 되풀이 결함 리뷰 처리에서는, 리뷰 카메라(19)의 촬상 가능 범위에 결함이 포함되지 않는 기간, 기판 W의 반송 스피드를 상승시키는 동작을 행해도 된다. Further, as in the case described above, when all defects cannot be reviewed in one scan operation, i.e., when there are defects detected by the defect detection process but not yet subject to review and still remain, in this embodiment, As described above, a recurring defect review process is performed which targets the remaining defect as a review target (for example, see FIG. 9). For example, in the recurring defect review process executed during the scan operation in which the substrate W moves from the
이상에서 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에 따르면, 기판 W에 대한 결함 검출 처리와 병행하여, 이 검출된 결함의 화상을 취득하는 결함 리뷰 처리가 실행되기 때문에, 1개의 기판 W에 대한 택트 타임을 증가시키는 일 없이, 보다 많은 결함의 화상을 취득하는 것이 가능하게 된다. As described above, according to the present embodiment, since the defect review processing for acquiring an image of the detected defect is performed in parallel with the defect detection processing for the substrate W, the tact time for one substrate W is increased. It is possible to acquire more images of a defect, without letting it happen.
또한, 상술한 기판 검사 장치(1)의 장치 구성은, 그 일례에 지나지 않고, 그것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 본 실시 형태에서는, 기판 W를 에어로 부상하면서 반송하는 부상 반송 방식을 예로 들었지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들면 상술한 바와 같이, 반송 영역에 배열한 복수의 롤러(프리 롤러 등)로 기판 W를 지지하면서 반송하는 롤러 반송 방식 등, 다양하게 변형하여도 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 기판 W의 반송 방향에 대하여 병행한 끝의 한쪽을 유지하여 반송하는 경우를 예로 들었지만, 이에 한정되지 않고, 양쪽을 유지하여 반송하는 경우나, 기판 W의 중앙부 등을 유지하여 반송하는 경우 등, 다양하게 변형하는 것이 가능하다.In addition, the apparatus structure of the board |
또한, 상기한 실시 형태에서는, 라인 스캔 카메라(15)와 리뷰 카메라(19)를 1개의 프레임(13)에 설치하였지만, 이에 한정되지 않고, 각각 부상 스테이지(14)를 반송 방향과 수직으로 걸치는 별개의 프레임에 각각 설치해도 된다. 또한, 본 실시 형태에서는, 1개의 라인 조명(18)으로 복수의 라인 스캔 카메라(15) 전체의 촬상 영역을 조명하였지만, 이에 한정되지 않고, 라인 스캔 카메라(15) 각각에 개별의 조명을 설치해도 된다. 이 경우, 라인 스캔 카메라(15)의 이동과 함께 조명이 이동하도록 구성할 수 있기 때문에, 각 조명의 소비 전력을 억제하는 것이 가능하게 된다. 또한, 라인 스캔 카메라(15)를 동축 낙사 조명을 가진 경통 내에 설치한 구성이어도 된다. In addition, in the above-mentioned embodiment, although the
또한, 본 실시 형태에서는, 라인 스캔 카메라(15) 및 리뷰 카메라(19)가 기판 W의 반송 방향(X/-X 방향)으로 이동하지 않는 경우를 예로 들었지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 도 10에 도시한 바와 같이, 각 리뷰 카메라(19)가 X/-X 방향으로 돌출 가능한 신축 스테이지(201)에 각각 설치된 구성이어도 된다. 이 경우, 신축 스테이지(201)는, 예를 들면 도 5에 도시한 제어부(101)로부터의 제어 하에, 결함의 리뷰 시에 필요에 따라서 리뷰 카메라(19)를 X/-X 방향으로 이동시킨다. 이에 의해, X 방향에 있어서 보다 근접하고 있는 2개의 결함을 한 번의 스캔 동작 중에 리뷰하는 것이 가능하게 되기 때문에, 결함 전체에 대한 택트 타임을 보다 짧게 하는 것이 가능하게 된다. 또한, 취득할 수 있는 결함의 확대 화상을 대폭으로 증가하는 것이 가능하게 된다. In addition, although the case where the
또한, 상기 실시 형태 및 그 변형예는 본 발명을 실시하기 위한 예에 지나지 않고, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니라, 사양 등에 따라서 다양하게 변형하는 것은 본 발명의 범위 내이며, 또한 본 발명의 범위 내에 있어서, 다른 다양한 실시 형태가 가능한 것은 상기 기재로부터 자명하다. 예를 들면 각 실시 형태에 대하여 적절히 예시한 변형예는, 다른 실시 형태에 대하여 적용하는 것도 가능한 것은 물론이다.In addition, the said embodiment and its modified example are only the examples for implementing this invention, This invention is not limited to these, It is within the scope of this invention to make various modifications according to specifications, etc., and of this invention It is apparent from the above description that other various embodiments are possible within the scope. For example, it is a matter of course that the modifications appropriately exemplified for each embodiment can also be applied to the other embodiments.
1 : 기판 검사 장치
11 : 본체 베이스
12 : 반송 스테이지
13 : 프레임
14 : 부상 스테이지
15 : 라인 스캔 카메라
16 : 카메라 렌즈
17 : 스캔 카메라 스테이지
18 : 라인 조명
19 : 리뷰 카메라
20 : 경통
21 : 리뷰 카메라 스테이지
22 : 기판 반송 유닛
101 : 제어부
102 : 입력부
103 : 기억부
104 : 표시부
105 : 통신부
112 : 반송 구동부
114 : 부상 스테이지 구동부
115 : 라인 스캔 카메라 구동부
118 : 라인 조명 구동부
119 : 리뷰 카메라 구동부
121 : 결함 검출부
122 : 결함 좌표 특정부
131 : 기판 반입 검지부
132 : 메카 얼라이먼트 구동부
133 : 기판 위치 검출부
201 : 신축 스테이지
221 : 반송 벨트
222 : 주행부
223 : 가이드 레일
224 : 유지부
225 : 흡착 패드
S1, S2, Sa1, Sa2, Sb1, Sb2 : 촬상 범위
R1, R2 : 범위
W : 기판1: substrate inspection device
11: body base
12: conveying stage
13: frame
14: injury stage
15: line scan camera
16: camera lens
17: Scan Camera Stage
18: line lights
19: Review Camera
20: barrel
21: Review Camera Stage
22: substrate transfer unit
101: control unit
102: input unit
103: memory
104: display unit
105: communication unit
112: conveying drive unit
114: floating stage drive unit
115: line scan camera driver
118: line light drive unit
119: review camera driver
121: defect detection unit
122: defect coordinate specifying unit
131: substrate import detection unit
132: mechanical alignment drive unit
133: substrate position detection unit
201: expansion stage
221 convey belt
222: driving unit
223: guide rail
224: holding part
225: Suction Pad
S1, S2, Sa1, Sa2, Sb1, Sb2: imaging range
R1, R2: range
W: substrate
Claims (9)
상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출부와,
상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함의 화상을 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득부
를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.A conveying unit for conveying the substrate in the first direction,
A defect detector which detects a defect in the substrate being conveyed in the first direction;
An image acquisition unit for acquiring an image of a defect detected by the defect detection unit during the transfer;
Substrate inspection apparatus comprising a.
상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함 중 대상으로 하는 결함을 선정하는 결함 선정부를 더 구비하고,
상기 화상 취득부는, 상기 반송 중에 상기 결함 선정부에 의해서 선정된 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The method of claim 1,
And a defect selecting unit that selects a target defect among the defects detected by the defect detecting unit,
The said image acquisition part acquires the image of the defect selected by the said defect selection part during the said conveyance, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
상기 화상 취득부는, 상기 제1 방향에 대하여 수직인 방향으로 이동 가능한 촬상부를 구비하고,
상기 결함 선정부는, 순위가 매겨진 결함 중 가장 순위가 높은 결함이 대상으로 되도록, 상기 촬상부의 이동 속도와 상기 반송부에 의한 상기 기판의 반송 속도에 기초하여 상기 대상으로 하는 결함을 선정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The method of claim 2,
The image acquisition unit includes an imaging unit movable in a direction perpendicular to the first direction,
The defect selecting unit selects the target defect based on the moving speed of the image pickup unit and the transfer speed of the substrate by the transfer unit so that the highest ranked defect is among the ranked defects. Board inspection device.
상기 촬상부는, 상기 제1 방향에 대하여 평행하게 이동 가능한 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The method of claim 3,
The said imaging part is movable in parallel with respect to the said 1st direction, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
상기 결함 검출부에 의해 검출된 결함의 순위를 매기는 순위화부를 더 구비하고,
상기 결함 선정부는, 상기 순위화부에 의한 순위화에 기초하여 상기 대상으로 하는 결함을 선정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The method of claim 2,
And a ranking unit for ranking the defects detected by the defect detection unit,
And the defect selecting unit selects the target defect based on the ranking by the ranking unit.
상기 반송부는, 상기 결함 선정부에 의해서 대상으로 되지 않았던 결함이 존재하는 경우, 상기 기판을 상기 제1 방향과 반대의 제2 방향으로 역반송하고,
상기 화상 취득부는, 상기 제2 방향으로 반송 중에 상기 대상으로 되지 않았던 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The method of claim 2,
The transfer unit, if there is a defect that was not subjected to the target by the defect selection unit, back convey the substrate in a second direction opposite to the first direction,
The said image acquisition part acquires the image of the defect which did not become the said object during conveyance to the said 2nd direction, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned.
상기 제1 반송 스텝에 있어서 상기 제1 방향으로 반송 중인 상기 기판에 있어서의 결함을 검출하는 결함 검출 스텝과,
상기 결함 검출 스텝에 있어서 검출된 결함의 화상을 상기 제1 반송 스텝에서의 상기 반송 중에 취득하는 화상 취득 스텝
을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.A first conveyance step of conveying the substrate in the first direction,
A defect detection step of detecting a defect in the substrate being conveyed in the first direction in the first conveyance step;
An image acquisition step of acquiring an image of a defect detected in the defect detection step during the conveyance in the first conveyance step.
Substrate inspection method comprising a.
상기 결함 검출 스텝에서 검출된 결함의 순위를 매기는 순위화 스텝과,
상기 결함 검출 스텝에 있어서 검출된 결함 중 상기 순위화 스텝에 의한 순위화에 기초하여 대상으로 하는 결함을 선정하는 결함 선정 스텝
을 더 포함하고,
상기 화상 취득 스텝은, 상기 제1 반송 스텝에서의 상기 반송 중에 상기 결함 선정 스텝에 의해서 선정된 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.The method of claim 7, wherein
A ranking step of ranking the defects detected in the defect detection step;
A defect selection step of selecting a defect to be targeted based on the ranking by the ranking step among the defects detected in the defect detection step.
More,
The said image acquisition step acquires the image of the defect selected by the said defect selection step during the conveyance in the said 1st conveyance step, The board | substrate inspection method characterized by the above-mentioned.
상기 결함 선정 스텝에 있어서 대상으로 되지 않았던 결함이 존재하는 경우, 상기 기판을 상기 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 역반송하는 제2 반송 스텝을 더 포함하고,
상기 화상 취득 스텝은, 상기 제2 반송 스텝에 있어서 상기 제2 방향으로 상기 기판을 반송 중에 상기 대상으로 되지 않았던 결함의 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.
The method of claim 8,
A second conveyance step for carrying back the substrate in a second direction opposite to the first direction when there is a defect that is not an object in the defect selecting step;
The said image acquisition step acquires the image of the defect which did not become the said object during conveyance of the said board | substrate to the said 2nd direction in the said 2nd conveyance step, The board | substrate inspection method characterized by the above-mentioned.
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Cited By (2)
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KR101434637B1 (en) * | 2012-07-19 | 2014-08-26 | (주) 인텍플러스 | auto optical inspection system |
KR20150077259A (en) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 야마하하쓰도키 가부시키가이샤 | Inspection device |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102879405B (en) * | 2012-09-29 | 2014-09-24 | 肇庆中导光电设备有限公司 | Compact detection table and detection method using same |
CN103901043B (en) * | 2012-12-24 | 2017-03-01 | 台达电子工业股份有限公司 | Inspection equipment |
WO2015136669A1 (en) * | 2014-03-13 | 2015-09-17 | 富士機械製造株式会社 | Image processing device and substrate production system |
KR20150134486A (en) * | 2014-05-21 | 2015-12-02 | 솔브레인이엔지 주식회사 | Vision inspection apparatus and method thereof |
CN117218432A (en) * | 2016-12-30 | 2023-12-12 | 徕卡生物系统成像股份有限公司 | Imaging system and method for imaging by using imaging system |
CN107064185A (en) * | 2017-04-12 | 2017-08-18 | 北京君和信达科技有限公司 | Radiation image display methods and system |
CN110006903A (en) * | 2018-01-05 | 2019-07-12 | 皓琪科技股份有限公司 | Printed circuit board rechecks system, marker method and reinspection method |
CN108426890A (en) * | 2018-03-30 | 2018-08-21 | 昆山精讯电子技术有限公司 | A kind of detection device of panel |
CN109817541B (en) * | 2019-01-31 | 2020-05-12 | 上海精测半导体技术有限公司 | Scanning method, control device, detection unit and production system |
CN109975321A (en) * | 2019-03-29 | 2019-07-05 | 深圳市派科斯科技有限公司 | A kind of defect inspection method and device for FPC |
CN110208286B (en) * | 2019-06-21 | 2020-08-28 | 上海精测半导体技术有限公司 | Detection equipment |
KR102252592B1 (en) * | 2019-08-16 | 2021-05-17 | 라온피플 주식회사 | Apparatus and method for inspecting substrate defect |
CN112449495B (en) * | 2019-08-27 | 2021-11-30 | 南通深南电路有限公司 | Drilling detection method and drilling detection equipment |
CN112577971A (en) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | Detection method, system and equipment |
CN112577970A (en) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | Detection method, alignment method of detection equipment and detection equipment |
CN111272080B (en) * | 2020-02-13 | 2021-06-01 | 深圳市智慧恒迪科技有限公司 | Full-automatic laser scanning tester |
CN113176275B (en) * | 2021-03-19 | 2022-02-01 | 哈工大机器人(中山)无人装备与人工智能研究院 | Method, device and system for retesting display panel |
CN113176278B (en) * | 2021-03-19 | 2022-07-22 | 哈工大机器人(中山)无人装备与人工智能研究院 | Panel defect detection equipment and panel defect detection method |
CN113176273B (en) * | 2021-03-19 | 2023-08-15 | 哈工大机器人(中山)无人装备与人工智能研究院 | Automatic focusing device, method and panel defect detection system |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101434637B1 (en) * | 2012-07-19 | 2014-08-26 | (주) 인텍플러스 | auto optical inspection system |
KR20150077259A (en) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 야마하하쓰도키 가부시키가이샤 | Inspection device |
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