KR20110133469A - 에나멜 코팅, 코팅된 물품 및 물품의 코팅 방법 - Google Patents

에나멜 코팅, 코팅된 물품 및 물품의 코팅 방법 Download PDF

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페데르젠 토마스 피히
리하르트 비진거
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일렉트로룩스 홈 프로덕츠 코오포레이션 엔.브이.
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Abstract

본 발명은 구체적으로 물품(3)의 금속 표면(5)을 코팅하기 위한 에나멜 코팅(7)에 관한 것이다. 기계적 결합 상호작용이 필요한 추가 코팅 층(8)을 충분하게 결합시키기에 적당한 표면 거칠기를 얻기 위해서는, 에나멜 코팅(7)은 보통 에나멜 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 혼합물을 포함한다.

Description

에나멜 코팅, 코팅된 물품 및 물품의 코팅 방법{ENAMEL COATING, COATED ARTICLE AND METHOD OF COATING AN ARTICLE}
본 발명은 에나멜 코팅, 코팅된 물품 및 물품의 코팅 방법에 관한 것이다.
베이킹 오븐의 조리용 또는 베이킹용 트레이 또는 머플과 같은 조리용 또는 베이킹용 기구 분야에는 금속 표면 상에 코팅 층을 제공하는 것이 공지되어 있다. 특히, 이러한 코팅은, 특히 조리용 및 베이킹용 기구 분야에서 표면에 저항력 및 세정 용이성을 제공하는 것을 목적으로 한다. 전술된 코팅 층은 통상 각 표면과 사용되는 코팅 물질 사이의 기계적 결합 상호작용을 필요로 하는 기법에 의해 도포된다. 예를 들면, 열 분사 기법에 의해 도포되는 세라믹 코팅은 화학적 결합을 달성하는 것이 아니고 오히려 각 표면에 기계적으로 결합되는 것이다.
코팅하고자 하는 표면과 코팅 물질 사이의 만족스러운 기계적 결합을 향상시키거나 가능하게 하기 위해, 코팅하고자 하는 표면은 충분히 거친 것이 요구된다. 충분한 기계적 결합 상호작용을 달성하기 위해 충분히 거친 표면을 얻기 위해서는, 특히 금속 표면을 코팅시 각 표면을 추가로 거칠게 하는 것이 종종 요구된다.
표면을 추가로 거칠게 하기 위한 기계적 처리 기법, 예컨대 샌드블래스팅(sandblasting) 또는 그리트 블래스팅(grit blasting)이 공지되어 있다. 특히 이러한 기계적 처리 기법을 얇고 기계적으로 불안정한 물품, 예컨대 얇은 금속 시트에 적용하는 경우, 물품은 변형되거나 심지어 손상되는 위험이 있다.
추가로, 화학 물질을 적용함으로써, 예를 들어 에칭 또는 인산염처리를 위한 화학조(chemical bath)에 물품을 투입함으로써 표면을 거칠게 하는 것이 공지되어 있다. 하지만, 이러한 화학 물질은 이후 세정을 통해 가능한 화학적 잔존물을 제거하는 것이 필요할 수 있다.
본 발명의 목적은 보호성 또는 세정 용이성의 코팅 또는 코팅 물질과 충분한 기계적 결합 상호작용을 달성하는 데 필요한 표면 거칠기를 갖는 표면을 얻는 대안적인 방법을 제공하는 것이다. 추가로, 특히 이러한 표면을 갖는 물품 및 특히 이러한 표면을 얻는 방법이 제공된다.
본 발명의 목적은 청구범위 제1항, 제5항 및 제9항에 의해 해결된다. 유리한 구체예는 각 종속항에 의해 얻어진다.
본 발명의 제1 측면에서, 물품의 금속 표면을 코팅하기 위한 에나멜 코팅이 제공된다. 에나멜 코팅은 보통 에나멜 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 혼합물을 포함한다.
본 발명의 범위 내에서, 용어 "촉매 에나멜"은 금속 표면에 도포되는 경우에만 촉매 효과를 유도할 수 있는 모든 유형의 에나멜을 포함해야 한다. 용어 "열분해성 에나멜"은 금속 표면에 도포되는 경우에만 열분해성 효과를 유도할 수 있는 모든 유형의 에나멜을 포함해야 한다. 용어 "보통 에나멜"은 전술된 정의에 따라 촉매 및 열분해성 에나멜을 제외한 모든 유형의 에나멜을 포함해야 한다. 덧붙여, 열분해성 및 촉매 에나멜은 조리용 및/또는 베이킹용 기구, 특히 베이킹용 기구의 베이킹 머플로 사용된다. 열분해성 또는 촉매 에나멜 층을 갖는 기구는 증기, 베이킹 또는 조리 잔존물로부터 발생되는 오염물이, 예를 들어 열분해성 또는 촉매 효과를 이용하는 자가 세정 공정을 통해 제거될 수 있도록 한다.
일반적으로, 보통 또는 열분해성 에나멜의 단독 층은 매우 매끄럽고 유리같은 표면을 나타낸다. 이러한 매끄럽고 유리같은 표면은 통상 기계적 결합 상호작용을 통해 표면에 견고하게 결합시키기 위해 더 높은 표면 거칠기가 요구되는 추가 코팅 물질, 예컨대 세라믹 코팅을 도포하는 데 적당하지 않다. 촉매 에나멜은 촉매 공정을 실시하는 데 필요한 매우 넓은 비표면적을 갖는 극도로 거친 표면을 갖는다. 하지만 이것은 다른 촉매 에나멜 층이 자가 세정성 또는 세정 용이성 코팅 층을 위한 기재로서 사용되는 것을 극도로 배제시킨다.
본 발명에 따르면, 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 혼합물을 포함하는 에나멜 코팅이 제공된다. 이러한 에나멜 코팅은 보통 또는 열분해성 에나멜과 촉매 에나멜 사이의 표면 거칠기를 갖는다. 이렇게 얻어진 표면 거칠기는 각종 추가 코팅, 특히 세라믹 코팅에 필요한 충분한 기계적 결합 상호작용을 달성하는 데 적당하다.
물품 상에 나타나는 기계적 영향의 관점으로부터, 에나멜 코팅을 도포하는 것은 기계적으로 거칠게 만드는 기법, 예컨대 샌드블래스팅 또는 그리트 블래스팅과 비교하였을 때 꽤 부드러운 방법이다. 이것은 얇고 기계적으로 불안정한 물품, 예컨대 얇은 금속 플레이트 또는 시트에 있어 특히 유리한데, 그 이유는 물품이 변형되는 위험 없이 거친 표면을 발생시킬 수 있기 때문이다. 추가로, 인산염처리 또는 에칭과 같은 화학조를 사용하여 거칠게 만드는 기법에서 발견되는 결점이 방지될 수 있다.
에나멜 코팅의 최종 표면 거칠기는 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 비율을 변화시킴으로써 각 요건에 쉽게 조정되고 맞춰질 수 있다. 각종 추가 코팅은 2∼8 ㎛의 범위의 표면 거칠기가 필요하며, 이는 제1 측면에 따라 에나멜 코팅을 사용하여 실현될 수 있다. 촉매, 보통 및 열분해성 에나멜의 비율을 적절하게 선택함으로써, 표면 거칠기는 특정 세라믹 코팅에 적당한 2∼5 ㎛로, 그리고 특정한 나노구조화된 세라믹 코팅에 특히 적당한 2∼3 ㎛로 조정될 수 있다. 덧붙여, 표면 거칠기는 평균 거칠기 지수(Ra)에 따라 제시된다.
세라믹 코팅을 결합시키는 데 적당한 범위를 포괄하는 2∼8 ㎛ 범위의 표면 거칠기는, 예를 들어 50∼95 부피%의 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나, 및 5∼50 부피%의 촉매 에나멜 중 하나 이상의 혼합물을 포함하는 에나멜 코팅을 사용함으로써 얻어질 수 있다.
10∼50 ㎛ 범위의 비교적 얇은 에나멜 코팅 층은, 특히 금속 표면 상에서, 원하는 범위의 표면 거칠기를 얻기에 충분할 수 있다.
본 발명의 제2 측면은 물품에 관한 것이다. 물품은 본 발명의 제1 측면에 따른 에나멜 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅된 금속 표면을 갖는다. 추가적 코팅을 기계적으로 결합시키는 데 필요한 표면 거칠기는 제안된 에나멜 코팅을 제공함으로써 비교적 쉬운 방식으로 제공되어 물품의 기계적 파괴를 막을 수 있다. 추가로, 표면 거칠기는 각 요구에 쉽게 맞춰질 수 있다. 이것은 에나멜 코팅된 물품이 추가의 코팅, 예컨대 세라믹 코팅으로 코팅되어 세정이 용이한 표면 등이 제공되는 경우에 특히 유리하다. 추가의 이점의 경우, 본 발명의 제1 측면과 관련하여서는 언급되는 상세한 사항에서 논의된다.
물품의 금속 표면은 시트의 일부일 수 있는데, 즉 물품은 시트 유사 기하구조를 갖거나 또는 기본적으로 물품의 금속 시트 유사 디자인의 것, 또는 시트 유사 섹션의 것일 수 있다. 이미 언급된 바와 같이, 기계적 영향과, 관련 변형 및 파괴는 원하는 표면 거칠기를 발생시키기 위해 에나멜 코팅을 물품에 도포하는 경우에 상당히 방지된다. 따라서, 2 mm 또는 심지어 그 미만의 두께를 갖는 금속 시트 및 금속 시트 유사 섹션이 사용될 수 있다. 이것은 물품의 전체적인 기하구조, 특히 전체적인 표면 기하구조가 파괴되지 않는다는 것을 의미하므로, 엄격한 제조 허용오차가 준수되어야 하는 경우 또는 물품의 외관이 주요 중요성을 갖는 경우에 특히 중요하다.
에나멜 코팅된 물품, 또는 적어도 에나멜로 코팅된 물품 섹션은 기계적 결합 상호작용이 필요하여 추가 또는 부가 코팅으로 코팅될 수 있다. 에나멜 코팅이 기계적 결합에 대해 충분한 표면 거칠기를 보장하기 때문에, 추가의 코팅은 견고하고 신뢰성 있게 에나멜 코팅에 결합될 수 있다. 추가의 코팅은 세정 용이성 또는 자가 세정성 표면을 제공할 수 있다. 이러한 표면은 세라믹 코팅 또는 나노구조화된 세라믹 코팅을 사용하여 얻어질 수 있다. 용어 "나노구조화된"은 세라믹 코팅이 나노 규모 범위의 구조, 바람직하게는 표면 구조를 갖는다는 것을 의미한다. 나노구조화된 표면은 자가 세정 효과의 문맥으로 공지된다. 덧붙여, 세라믹 코팅과는 별개로, 기계적 결합이 필요한 임의의 추가 코팅 또는 나노구조화된 코팅 또한 도포될 수 있다.
미리 정한 표면 거칠기를 발생시키기 위해 제안된 방식은 보편적이다. 이는 원칙적으로 다양한 물품에 도포될 수 있다. 구체적으로는, 물품은 조리용 및/또는 베이킹용 기구, 또는 각각 가정용 또는 산업용 용도에 적당한 베이킹 트레이일 수 있다. 구체적으로는, 물품은, 예를 들어 가정용 또는 산업용을 위한 베이킹 오븐의 머플일 수 있다. 머플의 경우, 코팅은 머플의 내부 벽에 도포될 수 있다. 특히 전술된 물품과 관련하여 그리고 사용 후 물품의 세정 용이성과 연관하여, 세정 용이성 또는 자가 세정성이 있는 표면을 제공하는 것의 중요성이 증가하고 있다. 본 발명은 얇은 벽 물품 및 기계적 강성도가 감소된 물품에 대해서도 대규모 생산이 비교적 쉬운 방식으로 개방되는 그러한 표면을 제조하는 바탕을 제공한다.
본 발명의 제3 측면에 따르면, 물품의 금속 표면을 적어도 부분적으로 코팅하는 방법이 제공된다. 제안된 방법은 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜을 혼합함으로써 에나멜 코팅 물질을 생성하는 단계; 및 에나멜 코팅 물질을 금속 표면의 적어도 미리 정한 부위에 도포함으로써 에나멜 코팅을 생성하는 단계를 포함한다.
상기 방법은 추가의 코팅 물질, 예컨대 세라믹 코팅 물질을 기계적으로 결합시키는 거칠기를 갖는 표면을 발생시키는 가능성을 제공한다. 유리하게는, 최신의 거칠게 만드는 방법, 예컨대 샌드블래스팅 또는 그리트 블래스팅으로 발생하는 물품 상의 기계적 영향이 방지될 수 있다. 추가로, 인산염처리 또는 에칭에 사용되는 화학조가 우회될 수 있다. 제안된 방법은 보편적이며 대규모 산업 생산에 허용된다. 추가적 이점은 본 발명의 제1 및 제2 측면과 관련하여 제시된 상세한 사항으로부터 쉽게 알고 이해된다.
본 발명의 제1 및 제2 측면에 따른 제안에 따르면, 그리고 각 이점 및 유리한 효과를 참조하면, 상기 방법의 구체예는 다음과 같다.
에나멜 코팅 물질을 생성하는 단계는 50∼95 부피%의 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나, 및 5∼50 부피%의 촉매 에나멜 중 하나 이상을 첨가하는 단계를 포함할 수 있다.
추가로, 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 비율은 에나멜 코팅의 최종 표면 거칠기가 2∼8 ㎛, 바람직하게는 2∼5 ㎛, 바람직하게는 2∼3 ㎛의 범위가 되도록 선택될 수 있다.
에나멜 코팅 물질은 에나멜 코팅의 생성 두께가 10∼50 ㎛이도록 도포될 수 있다.
에나멜 코팅을 가공시, 금속 표면에 도포되는 에나멜 코팅은 850℃ 이하의 온도에서 가열될 수 있다. 구체적으로는, 800∼850℃의 가열 온도를 사용하는 최신 공정은 적어도 제안된 에나멜 코팅 물질을 가열하는 데 사용될 수 있다. 따라서, 제안된 방법은 특정한 응용을 가하는 일 없이 공지된 가열 및 에나멜 코팅 방법으로 용이하게 실시될 수 있다. 하지만, 특히 에나멜 코팅 물질의 특성에 따라 일정 정도의 응용은 여전히 필요할 수 있다.
방법의 추가 단계에서, 세라믹 코팅, 바람직하게는 나노구조화된 세라믹 코팅은 에나멜 코팅에, 바람직하게는 이를 가열한 후 도포될 수 있다. 이렇게 도포된 세라믹 코팅 또는 나노구조화된 세라믹 코팅은 200∼300℃ 범위의 온도에서 가열될 수 있다. 세라믹 코팅은 열 분사, 플라즈마 분사, 고속 산소 연료(HVOF) 분사 또는 다른 적당한 기법에 의해 도포될 수 있다. 덧붙여, 추가의 코팅은 세라믹 물질에 한정되는 것은 아니다. 각 요구에 따라 기타 물질이 선택될 수 있다. 예를 들면, 세정이 용이하고, 경질이며, 내스크래치성이 있는 표면을 제공하는 임의의 적당한 물질이 고려될 수 있다. 추가로, 나노구조화된 코팅을 도포하기 위해 슬러리 분사 기법이 사용될 수 있다. 이러한 경우에, 코팅은 코팅 물질의 현탁액, 바람직하게는 습윤 현탁액이 분사 도포되는 것으로 도포될 수 있다. 이러한 경우에 가열 또는 소결은 180℃∼340℃ 범위의 온도에서 실시될 수 있다.
본 발명의 구체예는 하기 도면과 관련하여 기술된다.
도 1은 가정용 베이킹 오븐의 섹션을 나타낸다.
도 2는 도 1의 베이킹 오븐의 머플 벽의 확대 부분의 단면도를 나타낸다.
도 1은 가정용 베이킹 오븐의 섹션(1)을 나타낸다. 본 발명을 완전히 이해하는 데 꼭 필요하지 않은 베이킹 오븐의 세부도, 예컨대 오븐의 도어 및 수동 작동 요소 등은 생략되었다. 하지만, 이는 본 발명의 범위를 한정하려는 것이 아니다.
섹션(1)은 베이킹 오븐의 머플(3)을 둘러싸는 하우징(2)을 포함한다. 머플(3)은 정면 개구부(4)를 통해 베이킹 또는 로스팅을 하고자 하는 식품류를 수용하기 위한 공동을 구성한다. 일반적으로, 측부, 바닥부, 정상부 및 후부 머플 벽의 내부 표면(5)은 증기, 액체 튐, 식품 잔존물 등으로 인해 식품류를 베이킹 또는 로스팅하는 동안 오염되게 된다.
베이킹 과정 동안 나타나는 비교적 높은 온도는 머플(3)의 내부 표면(5)에 부착되는 끈끈한 오염물을 초래한다. 따라서, 내부 표면(5)을 세정하는 것은 번거로운데, 일반적으로 머플(3)의 내부 표면(5)은 접근하기가 어려워 더욱 그렇다. 따라서, 세정이 용이하고 내오염성을 갖는 내부 표면(5) 또는 심지어 자가 세정성을 갖는 표면을 제공하는 것이 바람직하다.
이러한 표면은 적당한 물질 등으로 머플 벽을 코팅함으로써 얻어질 수 있다. 하나의 가능성은 세라믹 또는 나노구조화된 세라믹 코팅을 제공하는 것이다. 이러한 코팅은, 특히 기계적 결합 상호작용을 통해 기재에 결합된다. 안정하고, 견고하며 영구적인 결합을 달성하기 위해, 기재의 표면은 기재 표면과 코팅 물질 사이에 기계적 상호작용을 적절하게 달성하기에 충분히 거칠어야 한다.
베이킹 오븐의 머플(3)은 일반적으로 얇은 금속 시트로 제조된다. 사용되는 금속 시트의 표면 거칠기는 일반적으로 적절한 기계적 상호작용을 달성하기에 충분하지 않다. 따라서, 샌드블래스팅, 그리트 블래스팅, 인산염처리 또는 에칭에 의해 금속 시트의 표면을 거칠게 만드는 것이 공지되어 있다. 하지만, 공지된 기법은 상기에서 이미 더욱 상세하게 논의된 바와 같이 여러 단점을 갖는다.
본 발명의 하나의 목적은 공지된 기법에 대한 대안을 제공하는 것이다. 본 발명에 따르면, 충분한 기계적 결합에 적당한 기재는 특정한 에나멜의 혼합물을 사용함으로써 생산될 수 있고, 이는 하기 더욱 상세하게 기술된다.
도 2는 머플(3)의 금속 시트 머플 벽(6)의 확대된 부분의 단면도를 나타낸다. 덧붙여, 도 2는 특정 규모에 해당하지 않는다. 내부 표면(5)은 에나멜 코팅(7)으로 코팅된다. 결과적으로, 에나멜 코팅(7)은 세라믹 코팅(8), 바람직하게는 나노구조화된 세라믹 코팅으로 코팅된다.
에나멜 코팅(7)은 촉매 에나멜과 보통 에나멜의 혼합물을 포함한다. 보통 에나멜 대신에 또는 보통 에나멜 이외에, 열분해성 에나멜이 사용될 수 있다. 본 경우에 있어서, 촉매 에나멜과 보통 에나멜의 비율은 에나멜 코팅(7)의 표면 거칠기가 2∼5 ㎛ 범위 내에 있도록 선택된다. 이러한 표면 거칠기는 세라믹 코팅(8)에 충분한 기계적 결합을 달성하기에 탁월한 기초가 된다.
에나멜 코팅(7)의 표면 거칠기는 2가지 유형의 에나멜을 혼합시킨 것의 결과이다. 만약 단독으로 도포되는 경우에는, 보통 에나멜, 및 마찬가지로 열분해성 에나멜은 일반적으로 세라믹 코팅(8)에 충분한 기계적 결합을 달성하기에 충분하게 거칠지 않은 매우 매끄럽고, 유리같은 표면을 초래한다. 하지만, 촉매 에나멜은, 단독으로 도포되는 경우, 매우 큰 비표면을 갖는 극도로 거친 표면을 유도하지만, 충분한 기계적 결합을 달성하기에 적당하지 않다. 본 발명자들은 촉매 에나멜 및 보통 에나멜, 그리고 (경우에 따라) 열분해성 에나멜을 모두 포함하는 혼합물이 보통 또는 열분해성 에나멜의 거칠기 초과 그리고 촉매 에나멜의 거칠기 미만의 표면 거칠기를 유도할 것으로 인식하였다. 추가로, 에나멜 코팅(7)의 전체적인 표면 거칠기는 촉매 에나멜 및 보통 에나멜, 및 (경우에 따라) 열분해성 에나멜의 비율을 다양화시킴으로써 맞춰질 수 있다는 것을 발견하였다. 이것은, 에나멜 코팅(7)의 표면 거칠기가 세라믹 코팅(8)의 결합에 용이하게 맞춰질 수 있는 것과 같이 특히 유리하다.
2가지 유형의 에나멜의 비율을 다양화시킴으로써, 표면 거칠기는 2∼8 ㎛ 등의 범위에서 맞춰질 수 있다. 특정한 나노구조화된 세라믹 코팅의 경우, 2∼3 ㎛의 표면 거칠기가 필요한 데, 이는 각 상이한 에나멜 유형의 비율에 따라 선택함으로써 얻어질 수 있다. 예를 들면, 촉매 에나멜의 비율은 5∼50 부피%의 범위 내에 있을 수 있다. 따라서, 보통 에나멜, 및 (경우에 따라) 열분해성 에나멜의 비율은 50∼95 부피%의 범위 내에 있을 수 있다.
에나멜 코팅(7)은 표준 기법을 사용하여 머플 벽(6)에 도포되고, 800∼850℃ 범위의 온도에서, 또한 저온에서 가열될 수 있다. 에나멜 코팅(7)은 생성 두께가 10∼50 ㎛의 범위가 되도록 도포될 수 있다. 이러한 에나멜 코팅(7)은 일반적으로 세라믹 코팅(8)과 결합하기에 충분하다. 에나멜 코팅(7)의 두께에 대해 다른 범위도 가능하다. 에나멜 코팅(7)에 도포하고자 하는 코팅 물질의 유형, 강성도 및 다른 기준으로부터 유도될 수 있는 각각의 요구에 따라 층 두께를 선택할 수 있다.
세라믹 코팅(8), 또는 (경우에 따라) 나노구조화된 세라믹 코팅은 적당한 기법, 예컨대 열 분사, 플라즈마 분사, 고속 산소 연료(HVOF) 분사 등에 의해 에나멜 코팅(7)에 도포될 수 있다. 세라믹 코팅의 가열은 200∼300℃ 범위의 온도에서 실시할 수 있다. 추가로, 슬러리 분사 기법을 사용하여 나노구조화된 코팅이 도포될 수 있다. 이러한 경우, 코팅은 코팅 물질의 현탁액, 바람직하게는 습윤 현탁액이 분사 도포되는 것으로 도포될 수 있다. 이러한 경우 가열 또는 소결은 180℃-340℃의 온도 범위에서 실시될 수 있다.
본 발명이 가정용 베이킹 오븐의 머플(3)과 관련하여 기술되었지만, 본 발명은 조리용 기구 유형으로 제한되는 것이 아니다. 오히려, 본 발명은 기계적 결합 상호작용이 필요한 코팅을 제공하고자 하는 모든 물품에 도포될 수 있다. 예를 들면, 본 발명에 따른 에나멜 코팅을 도포하기에 적당한 표면을 갖는 모든 유형의 조리용 또는 베이킹용 기구 또는 용구, 조리기구 등이 고려될 수 있다.
상기 제시된 논의 및 설명으로부터, 본 발명의 목적은 청구 범위에 제시된 바와 같이 본 발명에 의해 실현된다는 것이 명백해진다.
도면 부호 리스트
1 베이킹 오븐 섹션
2 하우징
3 머플
4 정면 개구부
5 내부 표면
6 머플 벽
7 에나멜 코팅
8 세라믹 코팅

Claims (15)

  1. 보통 에나멜 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 혼합물을 포함하는, 물품(3)의 금속 표면(5)을 코팅하기 위한 에나멜 코팅(7).
  2. 제1항에 있어서, 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 비율은 에나멜 코팅(7)의 표면 거칠기가 2∼8 ㎛, 바람직하게는 2∼5 ㎛, 바람직하게는 2∼3 ㎛의 범위가 되도록 선택되는 것인 에나멜 코팅(7).
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 혼합물은 50∼95 부피%의 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나, 및 5∼50 부피%의 촉매 에나멜 중 하나 이상을 포함하는 것인 에나멜 코팅(7).
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서, 10∼50 ㎛의 층 두께를 갖는 에나멜 코팅(7).
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 따른 에나멜 코팅(7)으로 적어도 부분적으로 코팅된 금속 표면(5)을 포함하는 물품(3).
  6. 제5항에 있어서, 금속 표면(5)은 물품(3)의 시트 또는 시트 유사 섹션(6)의 일부이고, 금속 시트 및 금속 시트 유사 섹션(6)은 바람직하게는 각각 2 mm의 최대 두께를 갖는 것인 물품(3).
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 에나멜 코팅(7)의 외부 표면은 추가 코팅, 바람직하게는 세라믹 코팅(8), 바람직하게는 나노구조화된 세라믹 코팅으로 코팅되는 것인 물품(3).
  8. 제5항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 조리용 및/또는 베이킹용 기구, 바람직하게는 가정용 조리용 및/또는 베이킹용 기구, 베이킹 트레이, 베이킹 오븐의 머플, 바람직하게는 가정용 베이킹 오븐의 머플을 포함하는 군에서 선택되는 것인 물품(3).
  9. - 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜을 혼합시켜 에나멜 코팅 물질을 생성하는 단계; 및
    - 에나멜 코팅 물질을 금속 표면(5)의 적어도 미리 정한 부위(6)에 도포함으로써 에나멜 코팅(7)을 생성하는 단계
    를 포함하는, 물품(3)의 금속 표면(5)을 적어도 부분적으로 코팅하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 에나멜 코팅 물질을 생성하는 단계는 50∼95 부피%의 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나, 및 5∼50 부피%의 촉매 에나멜 중 하나 이상을 첨가하는 단계를 포함하는 것인 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 보통 및 열분해성 에나멜 중 적어도 하나와 촉매 에나멜의 비율은 에나멜 코팅(7)의 표면 거칠기가 2∼8 ㎛, 바람직하게는 2∼5 ㎛, 바람직하게는 2∼3 ㎛의 범위가 되도록 선택되는 것인 방법.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 있어서, 에나멜 코팅 물질은 에나멜 코팅(7)의 생성 두께가 10∼50 ㎛의 범위가 되도록 도포되는 것인 방법.
  13. 제9항 내지 제12항 중 어느 하나의 항에 있어서, 에나멜 코팅(7)은 850℃ 이하의 온도, 바람직하게는 800∼850℃ 범위의 온도에서 가열되는 것인 방법.
  14. 제9항 내지 제13항 중 어느 하나의 항에 있어서, 세라믹 코팅(8), 바람직하게는 나노구조화된 세라믹 코팅을 에나멜 코팅(7)에 도포하는 추가 단계를 포함하고, 상기 세라믹 코팅(8)은 바람직하게는 200∼300℃ 범위의 온도에서 가열되고, 세라믹 코팅(8)의 도포 단계는 바람직하게는 열 분사, 특히 플라즈마 분사, 및 고속 산소 연료 분사를 포함하는 군에서 선택되는 것인 방법.
  15. 제9항 내지 제13항 중 어느 하나의 항에 있어서, 세라믹 코팅(8), 바람직하게는 나노구조화된 세라믹 코팅을 에나멜 코팅(7)에 도포하는 추가 단계를 포함하고, 상기 세라믹 코팅(8)은 바람직하게는 180∼340℃ 범위의 온도에서 가열되고, 세라믹 코팅(8)은 슬러리 분사 기법에 의해 도포되는 것인 방법.
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