KR20110115069A - 삼차원 조형 제품의 제조장치 - Google Patents

삼차원 조형 제품의 제조장치 Download PDF

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유키노리 우루시자키
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가부시키가이샤 마쓰우라 기카이 세이사쿠쇼
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Abstract

삼차원 조형 제품의 제조장치에 있어서, 기판을 얹어놓고 있는 히팅장치 또는 쿨링장치의 열전도에 의해, 흩어져 없어짐을 감소할 수 있는 구성을 제공하는 것을 과제로 하고 있고, 해결수단으로서 조형 탱크(1)내에서, 테이블(2) 및 기판(3)상에 있어서 분말(12)을 순차로 소결하는 삼차원 조형 제품의 제조장치에 있어서, 상기 테이블(2)에 대해 상하방향의 공극을 형성하거나, 또는 상기 공극을 형성한 후에 상기 형성영역에 단열재를 충전한 상태에서, 상기 소결층을 지탱하는 기판(3)을 얹어놓고 있는 히팅장치 또는 쿨링장치(8)를 고착함으로써, 상기 과제를 달성하고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치.

Description

삼차원 조형 제품의 제조장치{APPARATUS FOR PRODUCING THREE-DIMENSIONAL SHAPED PRODUCT}
본 발명은, 상하방향으로 이동 가능한 테이블 위에 적재한 금속 또는 비금속에 의한 분말에 대해, 각 층마다, 전자파를 조사하는 것에 의해서 소결시키면서 적층하여, 소정의 삼차원 조형(造形) 제품을 제작하는 삼차원 조형 제품 제조장치에 관한 것이다.
금속 또는 비금속 분말을 레이저광선 등의 전자파 또는 전자선의 방사에 기초하는 소결에 의해서 삼차원 조형 제품을 성형하는 기술 분야에서는, 다양한 구성이 제안되고 있지만, 어느 경우에 있어서도,
(a) 분말의 낙하에 수반하는 살포 및 살포된 분말의 상측 표면 또는 그 근방을 미끄럼동작하는 평탄화 공정,
(b) 조형 영역에 대한 레이저광선 등의 전자파 또는 전자선을 조사하는 것에 의해서, 상기 조사 영역을 소결하는 공정,
(c) 상기 (b)의 소결이 행하여진 단부 및 상면을 회전 공구에 의해서 절삭하면서 단부 및 상면의 성형을 행하는 공정을 불가결로 하고 있고, 상기 (a), (b), (c)를 반복하는 것에 의해서 최종적으로 필요한 삼차원 형상을 성형하게 된다.
특정의 분말층에 대해서 상기 (c)의 공정을 종료한 경우에는, 조형 대상물 및 그 주위에 위치하고 있는 분말의 높이 위치의 1층분만큼 저하시켜, 다음의 분말층에 대해, 상기 (a)의 공정으로 되돌아오게 된다.
이 때문에 분말을 적재하고 있는 테이블은 상하방향으로 이동 가능한 상태에 설치되어 있다.
가장 낮은 레벨 위치에 있는 분말층을 직접 테이블 상면에 접촉시킨 경우에는, 상기 분말층이 상기 (b)의 소결 공정에서, 테이블 상면에 접착하여, 조형이 종료한 대상물을 테이블로부터 원활하게 꺼낼 수 없다.
이러한 상황에 대처하기 위해, 특허문헌 1에서는, 통상 테이블(특허문헌 1에서는 '지지수단 2'라고 표현되어 있다.)의 면상에 분말이 소결에 의해서 고화(固化)되었을 때, 상기 분말과 접착 가능한 소재를 선택한 기판을 설치하는 구성이 채용되고 있다.
작업 현장에서는, 상기 (b)의 소결을 적절한 온도로 하기 위해서, 대부분의 경우, 상기 기판의 하측에 밀착한 상태에서, 히팅장치 또는 쿨링장치를 설치하고 있고, 특허문헌 1의 실시형태에서는, 쿨링 파이프(냉각도관)에 의한 쿨링장치가 채용되어 있다.
통상, 기존의 조형 부분이 상기 (a)의 평탄화 장치의 이동의 영향을 받기 때문에, 상기 조형 부분도 상기 이동방향으로 이동하려고 하는 것을 저지하기 때문에, 상기 기판 및 히팅장치 또는 쿨링장치가 테이블 면상에 안정된 상태를 유지하는 것을 필요로 한다.
이러한 필요성을 반영하여, 종래 기술에서는, 히팅장치 또는 쿨링장치는, 특허문헌 1의 경우와 같이 테이블과 일체화하거나 또는 테이블의 하측면에 고착되어 있다.
그러나, 이러한 종래 기술의 경우에 있어서는, 히팅의 경우에는, 기판측의 열에너지가 전달되어 히팅 효율을 저하시키는 한편, 쿨링의 경우에는, 테이블을 냉각한다고 하는 여분의 냉각이 행하여지는 것으로 돌아가, 쿨링 효율을 저하시키지 않을 수 없다.
특허문헌 1 일본특허공보 제4054075호
본 발명은, 각 분말층 중 소결의 대상 영역이 되어 있는 부위와, 테이블의 사이에 기판을 개재시키고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치에 있어서, 기판을 얹어놓고 있는 히팅장치에서의 히팅 효율의 저하, 및 쿨링장치에서의 쿨링 효율의 저하를 방지할 수 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치의 구성을 제공하는 것을 과제로 하고 있다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 기본 구성은,
(1) 조형 탱크내에서 상하방향으로 이동 가능한 테이블의 상측에 위치하고, 또한 상측에 인접하고 있는 분말이 소결에 의해서 고화되었을 때, 상기 분말과 접착할 수 있는 소재를 적어도 표면 부분에서 갖고 있는 기판 및 상기 테이블의 상측에서 금속 또는 비금속의 분말을 살포하고, 또한 상기 살포된 분말의 상측 표면을 평탄화한 후에, 최상위에 위치하고 있는 조형 대상이 되는 영역에, 전자파 또는 전자선을 소정의 두께의 층을 따라서 조사하는 것에 의해서 소결층을 형성한 후, 상기 소결이 행하여진 단부 및 상면에 대한 절삭에 의해서 성형을 행하는 공정을 순차로 반복하고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치에 있어서, 상기 테이블에 대해 상하방향의 공극을 형성하거나, 또는 상기 공극을 형성한 후에 상기 형성영역에 단열재를 충전한 상태에서, 상기 소결층을 지탱하는 기판을 얹어놓고 있는 히팅장치 또는 쿨링장치를 고착하고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치,
(2) 히팅장치를 구성하는 히팅 파이프 또는 쿨링장치를 구성하는 쿨링 파이프를 하방으로부터 지지하고 있는 기초대(基臺)에 대해, 하방에서 다리부를 사이에 두고 테이블의 상부에 고착하거나, 또는 측방에서 테이블의 상측에 세워 설치한 틀체 또는 지지간(支持杆)에 고착하는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 기재된 삼차원 조형 제품의 제조장치,
(3) 히팅장치를 구성하는 히팅 파이프 또는 쿨링장치를 구성하는 쿨링 파이프를 파지하고 있는 복수개의 지지기둥을 하방에 연장하여 설치하여 테이블의 상부에 고착하거나, 또는 상기 지지기둥을 측방에 연장하여 설치하여 테이블로부터 상측 방향으로 세워 설치한 틀체 또는 지지간에 고착하고 있는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 기재된 삼차원 조형 제품의 제조장치로 이루어진다.
상기 (1), (2), (3)의 기본 구성에 기초하여, 본 발명에 있어서는, 히팅장치 또는 쿨링장치와 테이블과의 사이에 상하방향의 공간이 형성되는 것에 의해서, 여분의 히팅 및 여분의 쿨링을 피할 수 있고, 나아가서는 효율적인 히팅 및 효율적인 쿨링이 가능해진다.
또한, 특허문헌 1의 구성의 경우에는, 필연적으로 테이블을 평탄면으로 하는 것을 필요로 한 것에 비해, 상기 기본 구성의 경우에는, 실시예 3 및 실시예 4에 있어서 후술하는 바와 같이, 테이블 면에서 경사 상태를 형성하는 것에 의해서, 소결의 대상에 이르지 않았던 분말을 용이하게 배출할 수 있는 구성을 채용하는 것도 가능해진다.
한편, 도면에서의 숫자는, 이하의 구성 부분을 도시한다.
도 1은 실시예 1의 구성을 설명하고 있고, (a)는 평면도이고, (b)는 측단면도이다.
도 2는 실시예 2의 구성을 설명하고 있고, (a)는 평면도이고, (b)는 측단면도이다.
도 3은 실시예 3에서의 테이블의 구성을 도시하는 연직방향 단면도이다(한편, 히팅장치 또는 쿨링장치 및 이들 장치와 테이블과의 접속을 행하기 위한 다리부, 지지기둥, 틀체 또는 지지간 등의 도시는 생략되어 있다.).
도 4는 실시예 4에서의 테이블의 구성을 도시하는 연직방향 단면도이다(한편, 히팅장치 또는 쿨링장치 및 이들 장치와 테이블과의 접속을 행하기 위한 다리부, 지지기둥, 틀체 또는 지지간 등의 도시는 생략되어 있다.).
도 5는 상기 (2)의 기본 구성에 대해, 기초대에 대해 하방에서 다리부를 사이에 두고 테이블의 상부에 고착하는 실시형태를 설명하고 있고, (a)는 평면도이고, (b)는 측단면도이다.
도 6은 상기 (2)의 기본 구성중, 기초대에 대해 측방에서 틀체 또는 지지간에 고착하는 실시형태를 설명하고 있고, (a)는 평면도이고, (b)는 측단면도이다.
도 7은 상기 (3)의 기본 구성 중, 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프를 파지하고 있는 지지기둥을 하방에 연장하여 설치하여 테이블의 상부에 고착하고 있는 실시형태를 도시하고 있고, (a)는 평면도이고, (b)는 측단면도이다.
도 8은 상기 (3)의 기본 구성 중, 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프를 파지하고 있는 지지기둥을 측방에 연장하여 설치하여 틀체 또는 지지간에 고착하고 있는 실시형태를 도시하고 있고, (a)는 평면도이고, (b)는 측단면도이다.
도 9는 히팅장치 또는 쿨링장치를 테이블의 일부 영역의 상측에 설치하는 실시형태를 도시하는 평면도이다.
본 발명은, 상기 기본 구성(1)과 같이, 삼차원 조형 제품 제조장치에 있어서, 기판(3)을 얹어놓고 있는 히팅장치 또는 쿨링장치(8){이하 Heating, 또는 Cooling의 머리글자에 따라서 'HC장치(8)'라고 약칭한다.}를 테이블(2)로부터 상하방향으로 공극이 형성되도록 설치하거나, 또는 상기 공극 형성영역에 단열재를 충전하는 것에 의해서, 상기 효과를 발휘하는 것에 기본적 기술 사상이 존재한다.
그리고 상기 기본 구성(1)은, 히팅 파이프 또는 쿨링파이프(80){이하 Heating, 또는 Cooling의 머리 글자에 따라서 'HC파이프(80)라고 약칭한다.}를 일체가 되어 지지하고 있는 기초대(91)를, 테이블(2)에 대해, 하방 또는 측방에서 고정하고 있는 상기 (2)의 기본 구성에 의한 실시형태, 및 HC파이프(80)를 기초대 (91)에 의해서 지지하지 않고 HC파이프(80)를 파지하고 있는 지지기둥(4)을 연장하여 설치하여 하방 또는 측방에서 고착하고 있는 상기 (3)의 기본 구성에 의한 실시형태가 주로 채용되어 있다.
상기 (2)의 기본 형태에서는, 기초대(91)에 대해, 도 5(a), (b)에 도시하는 바와 같이, 하방에서 다리부(5)를 사이에 두고 테이블(2)의 상부에 고착하거나, 또는 도 6(a), (b)에 도시하는 바와 같이, 측방에서 테이블(2)의 상측으로부터 세워 설치된 틀체 또는 지지간(7)에 고착하고 있고, 이러한 고착 상태에 의해서, HC장치 (8)의 기초대(91)의 하방면과 테이블(2)의 상방면과의 사이에는, 상하방향으로 소정의 거리에 의한 공극이 형성되고 있거나, 또는 상기 공극을 형성한 후에 상기 형성영역에 단열재가 충전되어 있다.
한편, 상기 기본 구성(2)에 있어서, 테이블(2)에 대해 안정된 상태에서 HC장치(8)를 고착하기 위해서는, 도 5(a), (b)와 같은 고착에 관여하는 다리부(5) 및 도 6(a), (b)의 고착에 관여하는 틀체 또는 지지간(7)에 대해서는, 테이블(2) 및 기초대(91)의 주위를 둘러싸는 상태인 경우에는 당연히 1개 설치하게 되고, 직사각형 형상의 테이블(2) 및 기초대(91)의 양측의 변에 걸치는 경우에는 2개 설치하게 되지만, 이들과 같은 특별한 경우 이외에는 적어도 3개 이상 설치하는 것을 필요로 한다.
도 6(a), (b)의 실시형태에서의 틀체와 지지간(7)과의 준별은, 기술 상식에 따라서 수평방향 단면적이 테이블(2)의 단면적에 비해 현격한 차이가 있는지 없는지, 즉 1/10 이상인지 아닌지에 따라서 극히 엄격히 구별되어 있고, 수평방향 단면적이 테이블(2)의 단면적에 비하여, 1/10 이상의 경우에는 틀체(7)에 해당하고, 1/10 미만의 경우에는 지지간(7)에 해당하고 있고, 또한 이 점은 이하의 설명에 있어서도 완전히 같다.
테이블(2)과의 사이의 열전도를 저지하고, 또한 효율적인 히팅 및 쿨링을 실현하기 위해서는, 테이블(2)과 기초대(91)와의 상하방향의 거리가 15mm 이상인 것이 바람직하다.
상기 (2)의 기본 형태의 경우에는, 통상, 도 5(a), (b) 및 도 6(a), (b) 에 도시하는 바와 같이, 기초대(91)가 HC파이프(80)의 상측을 피복한 상태로 한 후에, 기판(3)을 상기 기초대(91)의 상측에 고착하고 있는 것을 특징으로 하는 실시형태, 즉 기초대(91)가 HC파이프(80)를 메워 넣은 구성을 채용하는 경우가 많다.
상기 (2)의 기본 구성의 경우에는, 기초대(91)와의 사이에서, 테이블(2)과의 고착 및 기판(3)의 안정된 얹어놓음을 용이하게 실현할 수 있다고 하는 기술적 특징의 장점을 갖고 있다.
상기 (3)의 기본 구성에 있어서는, HC파이프(80)를 파지하고 있는 지지기둥 (4)을 도 7(a), (b)에 도시하는 바와 같이, 하방에 연장하여 설치하여 테이블(2)의 상측에 고착하거나, 또는 도 8(a), (b)에 도시하는 바와 같이, 상기 지지기둥(4)을 측방에 연장하여 설치하여 테이블(2)로부터 상측 방향으로 세워 설치되어 있는 틀체 또는 지지간(7)에 고착하고 있다.
한편, 상기 기본 구성(3)에 있어서, HC파이프(80)를 테이블(2)에 대해 안정된 상태에서 고착하기 위해서는, 도 7(a), (b)와 같은 하방에 연장하여 설치하는 지지기둥(4) 및 도 8(a), (b)의 측방에 연장하여 설치하는 지지기둥(4)을 각각 3개 이상 설치하는 것을 필요로 하고 있다.
상기 (3)의 기본 구성에 있어서도, 효율적인 히팅 및 쿨링을 실현하기 위해서는, HC파이프(80)의 하단부와 테이블(2)와의 거리가 15mm 이상인 것이 바람직하다.
상기 (3)의 기본 구성의 경우에는, 통상, 도 7(a), (b) 및 도 8(a), (b)에 도시하는 바와 같이, HC파이프(80)의 상측 부분 및 지지기둥(4)의 상기 각 파이프 (80)에 대한 파지부분의 상측 부분을 피복하는 상측판(92)을 설치한 후에, 기판(3)을 상기 상측판(92)의 상측에 고착하는 구성, 즉 HC파이프(80)의 상측을 커버하고, 그러한 커버가 되어 있는 상측판(92)에 기판(3)을 고착하는 구성을 채용할 수 있다.
상기 (3)의 기본 구성의 경우에는, HC장치(8)의 설치가 간편한 점에 있어서 기술상의 장점을 갖고 있다.
도 5, 6, 7, 8 중 어느 경우에 있어서도, HC장치(8)로서 테이블(2)과 측부 방향에서 대략 동일 면적의 경우를 도시하지만, 본 발명의 HC장치(8)의 설계는 그러한 경우에 한정되는 것은 아니다.
즉, 도 9에 도시하는 바와 같이, HC장치(8)에 대해, 테이블(2)의 일부 영역의 상측에 설치하는 구성을 채용하는 것도 또한 당연 가능하다{한편, 도 9에서는, 상기 (2)의 실시형태의 기초대(91) 및 상기 (3)의 실시형태의 상측판(92)의 쌍방을 공통하여 도시하는 동시에, 기판(3)의 도시를 생략하고 있다.}.
[ 실시예 ]
이하, 실시예에 입각해서 설명한다.
실시예 1에 있어서는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 상기 기본 구성(2)에 있어서, 기초대(91)가 HC파이프(80)에서의 높이 방향을 기준으로 한 경우의1/2 이상의 상측 부분을 피복하고 있지 않은 상태로 한 후에, 기판(3)의 하측에 설치한 오목 형상(30)과 상기 HC파이프(80)의 상측 부분이 끼워 맞춤하고 있는 것을 특징으로 하고 있다{한편, 도 1에서는, 다리부(5), 틀체 또는 지지간(7)과 같은 HC장치 (8)의 고착에 관여하고 있는 구성요소의 도시는 생략 하고 있다.}.
기판(3)이, 상기 (a)의 공정에 있어서 이미 상측에 상당량의 분말(12)을 적재하고, 또한 상기 (b)의 공정에 있어서, 상기 분말(12)이 소결되어 있는 이상, 기판(3)으로부터 HC파이프(80)에 대해 상당한 중량이 작용하고 있다.
따라서, 상기 오목 형상(30)과 HC파이프(80)와의 끼워 맞춤에 의해서, HC장치(8)의 기판(3)이 안정된 상태에서 설치되어 있고, 도 5, 6의 실시형태의 경우와 같이, 고정용 볼트(6) 등에 의해서 기판(3)을 HC장치(8)에 고정할 필요가 없는 점에 있어서 극히 편리하다.
실시예 2는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 상기 기본 구성(3)에 있어서, HC파이프(80)의 상측 부분을 피복하지 않는 상태로 한 후에, 기판(3)의 하측에 설치한 오목 형상(30)과, 상기 HC파이프(80)의 상측 부분이 끼워 맞춤하고 있는 것을 특징으로 하고 있다{한편, 도 1에서는, 지지기둥(4), 틀체 또는 지지간(7)과 같은 HC장치(8)의 고착에 관여하고 있는 구성요소의 도시는 생략하고 있다.}.
실시예 1의 경우와 같은 근거에 기초하여, 실시예 2에서도, 기판(3)을 HC장치(8)에 대해 안정된 상태에서 지지할 수 있고, 게다가, 고정용 볼트(6) 등에 의한 고착을 불필요로 하고 있는 점에 있어서 극히 편리하다.
실시예 3은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 테이블(2)에서, 순차로 하강하는 경사 상태를 형성하고, 또한 상기 경사상태의 하단부의 위치에서, 소결되지 않았던 분말(12)을 배출하기 위한 배출용 구멍(21)을 설치하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.
분말(12)을 테이블(2) 및 기판(3)면상에 적재한 경우에, 전체 분말(12)이 소결의 대상이 되는 것은 아니다.
이러한 경우, 소결되지 않는 분말(12)이 조형물(13)을 기판(3)과 함께 테이블(2)로부터 상측으로 꺼낸 후에는, 필연적으로 테이블(2)의 저부에 잔류하게 된다.
실시예 3의 경우에는, 상기 잔류한 분말(12)은 상기 경사 상태로 하고 있는 저부를 따라서 하강하고, 최저 위치에 있는 구멍을 통하여 조형 탱크(1)의 저부에 배출할 수 있어, 상기 분말(12)을 재이용할 수 있다.
실시예 3의 효과를 가능한 한 발휘시키기 위해서는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 도 2의 단부를 조형 탱크(1)의 내벽에 근접시키면 좋다.
다만, 그 경우에는 도 4에 도시하는 바와 같이, HC장치(8)와의 고착에 관여하고 있는 다리부(5), 지지기둥(4), 틀체 또는 지지간(7)을, 경사면에 설치하고 또한 고착하게 된다{도 3의 경우에는 다리부(5)를 설치한 경우를 도시한다.}.
실시예 4는, 도 4에 도시하는 바와 같이, 테이블(2)에서, 서로 마주하는 일방측으로부터, 타방측에 걸쳐 순차로 하강하는 경사 상태를 형성하고, 또한 타방측에서는, 2개의 연직방향 지지기둥(11)을 사이에 두고 틀체 또는 지지간(7)을 지지하고 있고, 또한 상기 2개의 연직방향 지지기둥(11)의 사이에는, 상기 2개의 연직방향 지지기둥(11)의 상단 또는 상기 2개의 연직방향 지지기둥(11)의 어느 일방측에서 자유롭게 회동가능한 개폐판(10)을 구비하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.
실시예 4에서도, 실시예 3의 경우와 같이, 소결 및 조형의 대상이 되지 않았던 분말(12)을 테이블(2)면상에 낙하시킨 후에, 연직방향 지지기둥(11)의 사이에 위치하고 있는 개폐판(10)을 여는 것에 의해서, 테이블(2)면으로부터 분말(12)을 외부에 배출하는 것이 가능해져, 실시예 3과 같은 효율적인 분말(12)의 외부에의 배출 및 상기 분말(12)의 재이용을 실현할 수 있다{한편, 도 3은 2개의 연직방향 지지기둥(11)의 상단에 있어서, 자유롭게 회동 가능한 개폐판(10)이 열린 상태를 도시하고 있지만, 조형이 행하여져 있는 단계에서는, 당연히 개폐판(10)은 연직방향 지지기둥(11)의 사이에 위치하고 있고, 닫은 상태를 도시하게 된다.}.
실시예 4에서도, 상기 작용 효과를 효율적으로 발휘하기 위해서는, 테이블(2)의 단부를 조형 탱크(1)의 내벽에 근접시키면 좋다.
다만, 실시예 3의 경우와 같이 HC장치(8)와의 고착에 관여하고 있는 다리부(5), 지지기둥(4), 틀체 또는 지지간(7)을 경사면에 설치하고 또한 고착하게 된다{도 4에서는, 틀체 또는 지지간(7)을 설치한 경우를 도시한다.}.
본 발명은, 기판을 사용하고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치의 전체 구성에 이용할 수 있다.
1 : 조형 탱크
2 : 테이블
20 : 삽입관통용 구멍
21 : 배출용 구멍
3 : 기판
30 : 오목 형상
4 : 지지기둥
5 : 다리부
6 : 고정용 볼트
7 : 틀체 또는 지지간
8 : 히팅장치 또는 쿨링장치
80 : 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프
81 : 히팅원 또는 쿨링원
91 : 기초대
92 : 상측판
10 : 개폐판
11 : 연직방향 지지기둥
12 : 분말
13 : 조형물
14 : 분말 지지판

Claims (11)

  1. 조형 탱크내에서 상하방향으로 이동 가능한 테이블의 상측에 위치하고, 또한 상측에 인접하고 있는 분말이 소결에 의해서 고화되었을 때, 상기 분말과 접착할 수 있는 소재를 적어도 표면 부분에서 갖고 있는 기판 및 상기 테이블의 상측에서 금속 또는 비금속의 분말을 살포하고, 또한 상기 살포된 분말의 상측 표면을 평탄화한 후에, 최상위에 위치하고 있는 조형 대상이 되는 영역에, 전자파 또는 전자선을 소정의 두께의 층을 따라서 조사하는 것에 의해서 소결층을 형성한 후, 상기 소결이 행하여진 단부 및 상면에 대한 절삭에 의해서 성형을 행하는 공정을 순차로 반복하고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치에 있어서, 상기 테이블에 대해 상하방향의 공극을 형성하거나, 또는 상기 공극을 형성한 후에 상기 형성영역에 단열재를 충전한 상태에서, 상기 소결층을 지탱하는 기판을 얹어놓고 있는 히팅장치 또는 쿨링장치를 고착하고 있는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 히팅장치를 구성하는 히팅 파이프 또는 쿨링장치를 구성하는 쿨링 파이프를 하방으로부터 지지하고 있는 기초대에 대해, 하방에서 다리부를 사이에 두고 테이블의 상부에 고착하거나, 또는 측방에서 테이블의 상측에 세워 설치한 틀체 또는 지지간(支持杆)에 고착하는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  3. 제 2 항에 있어서, 기초대와 테이블과의 상하방향의 공극 또는 단열재의 충전에 의한 간격이, 15mm 이상인 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  4. 제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 기초대가 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프의 상측을 피복한 상태로 한 후에, 기판을 상기 기초대의 상측에 고착하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  5. 제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서, 기초대가 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프에서의 높이 방향을 기준으로 한 경우의 1/2 이상의 상측 부분을 피복하고 있지 않은 상태로 한 후에, 기판의 하측에 설치한 오목 형상과 상기 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프의 상측 부분이 끼워 맞춤하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 히팅장치를 구성하는 히팅 파이프 또는 쿨링장치를 구성하는 쿨링 파이프를 파지(把持)하고 있는 복수개의 지지기둥을 하방에 연장하여 설치하여 테이블의 상부에 고착하거나, 또는 상기 지지기둥을 측방에 연장하여 설치하여 테이블로부터 상측 방향으로 세워 설치한 틀체 또는 지지간에 고착하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  7. 제 6 항에 있어서, 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프의 하단부와 테이블과의 상하방향의 공극 또는 단열재의 충전에 의한 간격이 15mm 이상인 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  8. 제 6 항, 제 7 항 중의 어느 한 항에 있어서, 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프의 상측 부분 및 지지기둥의 상기 각 파이프에 대한 파지부분의 상측 부분을 피복하는 상측판을 설치한 후에, 기판을 상기 상측판의 상측에 고착하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  9. 제 6 항, 제 7 항 중의 어느 한 항에 있어서, 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프의 상측 부분을 피복하지 않는 상태로 한 후에, 기판의 하측에 설치한 오목 형상과, 상기 히팅 파이프 또는 쿨링 파이프의 상측 부분이 끼워 맞춤하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  10. 제 1 항, 제 2 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 5 항, 제 6 항, 제 7 항, 제 8 항, 제 9 항 중의 어느 한 항에 있어서, 테이블에서, 순차로 하강하는 경사 상태를 형성하고, 또한 상기 경사 상태 하단부의 위치에서, 소결되지 않았던 분말을 배출하기 위한 배출 구멍을 설치하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
  11. 제 1 항, 제 2 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 5 항, 제 6 항, 제 7 항, 제 8 항, 제 9 항, 제 10 항 중의 어느 한 항에 있어서, 테이블에서, 서로 마주보는 일방측으로부터, 타방측에 걸쳐 순차로 하강하는 듯한 경사 상태를 형성하고, 또한 타방측에서는, 2개의 연직방향 지지기둥을 사이에 두고 틀체 또는 지지간을 지지하고 있고, 또한 상기 2개의 연직방향 지지기둥의 사이에는, 상기 2개의 연직방향 지지기둥의 상단 또는 상기 2개의 연직방향 지지기둥의 어느 일방측에서 자유롭게 회동 가능한 개폐판을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 삼차원 조형 제품의 제조장치.
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