KR20110109027A - Flat panel display device and manufacturing method the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 패드 전극에 전기적으로 접속된 도전볼의 눌림 흔적에 대한 검사를 가능하게 할 수 있는 평판 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 평판 표시 장치는 표시 패널의 신호 라인에 접속된 하부 패드 전극; 상기 하부 패드 전극의 상면에 형성된 전도층; 상기 전도층을 덮도록 형성된 보호층; 상기 보호층의 소정 영역에 형성된 컨택 홀; 및 상기 전도층에 전기적으로 접속되도록 상기 컨택 홀에 형성되어 상기 전도층을 통해 상기 하부 패드 전극에 전기적으로 접속된 상부 패드 전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a flat panel display device and a method of manufacturing the flat panel display device capable of inspecting a pressing trace of a conductive ball electrically connected to a pad electrode. ; A conductive layer formed on an upper surface of the lower pad electrode; A protective layer formed to cover the conductive layer; A contact hole formed in a predetermined region of the protective layer; And an upper pad electrode formed in the contact hole to be electrically connected to the conductive layer and electrically connected to the lower pad electrode through the conductive layer.
Description
본 발명은 평판 표시 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 패드 전극에 전기적으로 접속된 도전볼의 눌림 흔적에 대한 검사를 가능하게 할 수 있는 평판 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
최근, 이동통신 단말기, 노트북 컴퓨터 등과 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판 표시 장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Device), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display Device), 발광 다이오드 표시 장치(Light Emitting Diode Display Device) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 장점에서 액정 표시 장치가 각광을 받고 있다.Recently, with the development of various portable electronic devices such as mobile communication terminals, notebook computers, and the like, there is an increasing demand for a flat panel display device that can be applied thereto. Such flat panel displays include liquid crystal display devices, plasma display panels, field emission display devices, and light emitting diode display devices. Although being studied, liquid crystal display devices are in the spotlight due to mass production technology, ease of driving means, and high quality.
최근에는, 액정 표시장치의 저가격, 경량화, 저전력화 및 고신뢰성을 확보하기 위하여, 복수의 게이트 드라이버 집적회로 및 복수의 데이터 드라이버 집적회로를 표시 패널에 본딩하는 칩 온 글라스(Chip On Glass) 타입의 액정 표시 장치가 개발 및 양산되고 있다.Recently, in order to secure low cost, light weight, low power, and high reliability of a liquid crystal display device, a chip on glass type that bonds a plurality of gate driver integrated circuits and a plurality of data driver integrated circuits to a display panel has been developed. Liquid crystal display devices are being developed and mass produced.
도 1은 일반적인 칩 온 글라스 타입의 액정 표시 장치의 패드부를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating a pad part of a typical chip on glass type liquid crystal display device.
도 1을 참조하면, 일반적인 칩 온 글라스 타입의 액정 표시 장치의 패드부는 기판(10) 상에 형성된 게이트 패드부(20)와 데이터 패드부(30), 및 액정 표시 장치를 구동하기 위한 구동 신호를 생성하여 게이트 패드부(20)와 데이터 패드부(30)에 공급하는 구동 집적회로(40)를 구비한다.Referring to FIG. 1, a pad part of a typical chip on glass type liquid crystal display device may include a
게이트 패드부(20)는 하부 게이트 패드 전극(21), 절연층(23), 보호층(25), 게이트 컨택 홀(27), 및 상부 게이트 패드 전극(29)을 구비한다.The
하부 게이트 패드 전극(21)은 게이트 신호가 공급되는 게이트 신호 라인(미도시)에 전기적으로 접속된다. 이때, 하부 게이트 패드 전극(21)은 게이트 신호 라인에 전기적으로 접속되도록 기판(10)에 형성된 게이트 링크 라인(미도시)을 통해 게이트 신호 라인에 전기적으로 접속된다.The lower
절연층(23)은 하부 게이트 패드 전극(21)을 덮도록 형성된다.The
보호층(25)은 절연층(23)을 덮도록 형성된다.The
게이트 컨택 홀(27)은 보호층(25), 절연층(23), 및 하부 게이트 패드 전극(21)의 일부 영역이 제거되어 형성된다. 이때, 게이트 컨택 홀(27)은 하부 게이트 패드 전극(21)과 중첩되는 기판(10)의 소정 영역이 노출되도록 보호층(25), 절연층(23), 및 하부 게이트 패드 전극(21)의 소정 영역을 관통하도록 형성된다.The
상부 게이트 패드 전극(29)은 투명한 재질로 게이트 컨택 홀(27) 및 보호층(25) 상에 형성되어 하부 게이트 패드 전극(21)에 전기적으로 접속된다. 이때, 상부 게이트 패드 전극(29)은 보호층(25)의 상면 및 게이트 컨택 홀(27)의 내측벽에 형성되어 하부 게이트 패드 전극(21)의 측면에 전기적으로 접속된다.The upper
데이터 패드부(20)는 하부 데이터 패드 전극(31), 데이터 컨택 홀(37), 및 상부 데이터 패드 전극(39)을 구비한다.The
하부 데이터 패드 전극(31)은 하부 게이트 패드 전극(21)과 동일한 물질로 기판(10) 상에 형성되어 데이터 신호가 공급되는 데이터 신호 라인(미도시)에 전기적으로 접속된다. 이때, 하부 데이터 패드 전극(31)은 게이트 신호 라인에 전기적으로 접속되도록 형성된 게이트 링크 라인(미도시)을 통해 데이터 신호 라인에 전기적으로 접속되며, 게이트 링크 라인은 1개의 점핑부(미도시)를 통해 데이터 신호 라인에 전기적으로 접속된다.The lower data pad electrode 31 is formed on the
데이터 컨택 홀(37)은 보호층(25), 절연층(23), 및 하부 데이터 패드 전극(31)의 일부 영역이 제거되어 형성된다. 이때, 데이터 컨택 홀(37)은 하부 데이터 패드 전극(31)과 중첩되는 기판(10)의 소정 영역이 노출되도록 보호층(25), 절연층(23), 및 하부 데이터 패드 전극(31)의 소정 영역을 관통하도록 형성된다.The data contact hole 37 is formed by removing a portion of the
상부 데이터 패드 전극(39)은 투명한 재질로 데이터 컨택 홀(37) 및 보호층(25) 상에 형성되어 데이터 패드 하부전극(31)에 전기적으로 접속된다. 이때, 상부 데이터 패드 전극(39)는 보호층(25)의 상면 및 데이터 컨택 홀(37)의 내측벽에 형성되어 하부 데이터 패드 전극(31)의 측면에 전기적으로 접속된다.The upper data pad electrode 39 is formed of a transparent material on the data contact hole 37 and the
구동 집적회로(40)는 게이트 신호를 생성하여 게이트 신호 라인에 공급함과 아울러 게이트 신호에 동기되는 데이터 신호를 생성하여 데이터 신호 라인에 공급한다. 이를 위해, 구동 집적회로(40)의 게이트 단자(또는 범프)(42) 및 데이터 단자(44)는 TAB((Tape Automated Bonding) 방식에 따른 ACF(Anisotropic Conductive Film)(50)를 매개로 하여 게이트 패드부(20) 및 데이터 패드부(30) 각각에 전기적으로 접속된다.The driving integrated
이때, 게이트 패드부(20)의 상부 게이트 패드 전극(29)은 ACF(50)의 도전볼(52)을 통해 구동 집적회로(40)의 게이트 단자(또는 범프)(42)에 전기적으로 접속된다.In this case, the upper
또한, 데이터 패드부(30)의 상부 데이터 패드 전극(39) 역시 ACF(50)의 도전볼(52)을 통해 구동 집적회로(40)의 데이터 단자(또는 범프)(44)에 전기적으로 접속된다.In addition, the upper data pad electrode 39 of the
이와 같은, 일반적인 칩 온 글라스 타입의 액정 표시 장치는 ACF(50)의 도전볼(52)을 매개로 하여 패드부(20, 30)에 전기적으로 접속된 구동 집적회로(40)로부터 게이트 및 데이터 신호 라인에 공급되는 게이트 신호 및 데이터 신호에 따라 소정의 화상을 표시하게 된다.Such a liquid crystal display of a typical chip on glass type has gate and data signals from the driving integrated
상술한 일반적인 패드부의 구조에서는 패드 전극(29, 39)과 단자(42, 44)간에 전기적으로 접속되는 도전볼(52)의 접속 상태에 따라 패드부(20, 30)와 단자(42, 44) 사이에 단선이 발생될 수 있다는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 검사하기 위하여, 광 조사를 통해 패드부(20, 30)에서 반사되는 광의 정도에 따른 패드 이미지를 통해 도전볼(52)의 눌림 흔적을 확인함으로써 도전볼(52)의 접속 상태를 검사하게 된다.In the structure of the general pad portion described above, the
그러나, 일반적인 칩 온 글라스 타입의 액정 표시 장치는 하부 게이트 패드 전극(21) 및 하부 데이터 패드 전극(31)의 소정 영역이 제거되어 형성되는 컨택 홀(27, 37)에 의해서 상술한 패드부(20, 30)의 패드 이미지를 정확하게 얻을 수 없기 때문에 도전볼(52)의 눌림 흔적을 확인할 수 없다는 문제점이 있다.However, the liquid crystal display of the conventional chip on glass type has the
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 패드 전극에 전기적으로 접속된 도전볼의 눌림 흔적에 대한 검사를 가능하게 할 수 있는 평판 표시 장치 및 그의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is a technical object of the present invention to provide a flat panel display device and a method of manufacturing the same, which can enable inspection of a pressing trace of a conductive ball electrically connected to a pad electrode.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판 표시 장치는 표시 패널의 신호 라인에 접속된 하부 패드 전극; 상기 하부 패드 전극의 상면에 형성된 전도층; 상기 전도층을 덮도록 형성된 보호층; 상기 보호층의 소정 영역에 형성된 컨택 홀; 및 상기 전도층에 전기적으로 접속되도록 상기 컨택 홀에 형성되어 상기 전도층을 통해 상기 하부 패드 전극에 전기적으로 접속된 상부 패드 전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flat panel display device including: a lower pad electrode connected to a signal line of a display panel; A conductive layer formed on an upper surface of the lower pad electrode; A protective layer formed to cover the conductive layer; A contact hole formed in a predetermined region of the protective layer; And an upper pad electrode formed in the contact hole to be electrically connected to the conductive layer and electrically connected to the lower pad electrode through the conductive layer.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법은 표시 패널의 신호 라인과 상기 신호 라인에 접속되는 하부 패드 전극을 형성하는 단계; 상기 하부 패드 전극의 상면에 전도층을 형성하는 단계; 상기 전도층을 덮도록 보호층을 형성하는 단계; 상기 전도층의 소정 영역이 노출되도록 상기 보호층의 소정 영역을 에칭하여 컨택 홀을 형성하는 단계; 및 상기 전도층을 통해 상기 하부 패드 전극에 전기적으로 접속되도록 상기 컨택 홀에 상부 패드 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a flat panel display, including: forming a signal line of a display panel and a lower pad electrode connected to the signal line; Forming a conductive layer on an upper surface of the lower pad electrode; Forming a protective layer to cover the conductive layer; Forming a contact hole by etching a predetermined region of the protective layer to expose a predetermined region of the conductive layer; And forming an upper pad electrode in the contact hole to be electrically connected to the lower pad electrode through the conductive layer.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 평판 표시 장치 및 그의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.As described above, the flat panel display and the manufacturing method thereof according to the present invention have the following effects.
첫째, 소스/드레인 물질로 이루어진 하부 패드 전극, 투명 재질로 이루어진 전도층과 상부 패드 전극을 포함하도록 패드부를 형성함으로써 구동 집적회로의 본딩시 전도층과 하부 패드 전극 상에 도전볼의 눌림에 의한 흔적이 형성되도록 할 수 있다.First, a pad portion is formed to include a lower pad electrode made of a source / drain material, a conductive layer made of a transparent material, and an upper pad electrode, so that the conductive ball and the lower pad electrode are pressed by the conductive ball during bonding of the driving integrated circuit. Can be formed.
둘째, 하부 패드 전극에 형성되는 도전볼의 눌림 흔적을 통해 구동 집적회로의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 하여 도전볼에 의해 접속 불량을 검출할 수 있도록 할 수 있다.Second, through the pressing trace of the conductive ball formed on the lower pad electrode, it is possible to inspect the connection state of the conductive ball performed by the optical method after bonding of the driving integrated circuit to detect the defective connection by the conductive ball. You can do that.
도 1은 일반적인 칩 온 글라스 타입의 액정 표시 장치의 패드부를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 평판 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 실시 예에 따른 집적회로 본딩부를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 3에 도시된 A-A선의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 3에 도시된 B-B선의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 평판 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 평판 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 8a 내지 도 8h는 본 발명의 실시 예에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 나타내는 도면이다.1 is a diagram schematically illustrating a pad part of a typical chip on glass type liquid crystal display device.
2 is a diagram for schematically describing a flat panel display device according to a first exemplary embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram schematically illustrating an integrated circuit bonding unit according to an exemplary embodiment of the present invention illustrated in FIG. 2.
4 is a cross-sectional view illustrating a cross section of the AA line illustrated in FIG. 3.
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a cross section of the BB line illustrated in FIG. 3.
6 is a diagram schematically illustrating a flat panel display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.
7 is a diagram for schematically describing a flat panel display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.
8A through 8H are steps of a manufacturing method of a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 평판 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.2 is a diagram for schematically describing a flat panel display device according to a first exemplary embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 평판 표시장치는 표시 패널(100), 구동 집적회로(110); 및 가요성 인쇄회로(120)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, a flat panel display device according to a first embodiment of the present invention may include a
표시 패널(100)은 화상을 표시하는 표시영역(102), 및 표시영역(102)을 제외한 나머지 영역에 대응되는 비표시영역(104)을 포함하여 구성된다.The
표시영역(102)은 서로 교차하도록 일정한 간격으로 형성된 복수의 게이트 신호 라인(GL1 내지 GLm)과 복수의 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn), 복수의 게이트 신호 라인(GL1 내지 GLm)과 복수의 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn)의 교차에 의해 정의되는 영역마다 형성된 복수의 화소(P)를 포함하여 구성된다.The
화소(P)는 하나의 게이트 신호 라인(GL)과 하나의 데이터 신호 라인(DL)에 접속된 박막 트랜지스터(T)를 포함하여 구성된다. 이러한, 화소(P)는 박막 트랜지스터(T)를 통해 데이터 신호 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 신호에 대응되는 화상을 표시하게 된다. 예를 들어, 화소(P)는 박막 트랜지스터(T)를 통해 데이터 신호 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 신호에 따라 액정의 광투과율을 조절하여 화상을 표시하는 액정셀이 될 수 있다. 다른 예로, 화소(P)는 박막 트랜지스터(T)를 통해 데이터 신호 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 신호에 대응되는 전류에 따라 발광하여 화상을 표시하는 발광셀이 될 수도 있다.The pixel P includes a thin film transistor T connected to one gate signal line GL and one data signal line DL. The pixel P displays an image corresponding to a data signal supplied from the data signal line DL through the thin film transistor T. For example, the pixel P may be a liquid crystal cell displaying an image by adjusting the light transmittance of the liquid crystal according to a data signal supplied from the data signal line DL through the thin film transistor T. As another example, the pixel P may be a light emitting cell that emits light according to a current corresponding to a data signal supplied from the data signal line DL through the thin film transistor T to display an image.
비표시영역(104)은 게이트 신호를 게이트 신호 라인(GL1 내지 GLm)에 공급함과 아울러 게이트 신호에 동기되는 데이터 신호를 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn)에 공급하기 위한 구동 집적회로(110)가 본딩되는 집적회로 본딩부(120)를 포함하여 구성된다.The
집적회로 본딩부(120)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 출력 패드부(OPP), 및 입력 패드부(IPP)를 포함하여 구성된다.As illustrated in FIG. 3, the integrated
출력 패드부(OPP)는 제 1 및 제 2 게이트 출력 패드부(GOP1, GOP2)와, 데이터 출력 패드부(DOP)를 포함하여 구성된다.The output pad part OPP includes first and second gate output pad parts GOP1 and GOP2 and a data output pad part DOP.
제 1 및 제 2 게이트 출력 패드부(GOP1, GOP2)는 데이터 출력 패드부(DOP)를 사이에 두고 형성되며, 게이트 신호 라인(GL1 내지 GLm)에 전기적으로 접속되는 복수의 게이트 패드(GP) 및 복수의 게이트 접속부(GCP)를 포함하여 구성된다.The first and second gate output pad parts GOP1 and GOP2 are formed with the data output pad part DOP interposed therebetween, and are provided with a plurality of gate pads GP electrically connected to the gate signal lines GL1 to GLm. It is comprised including the several gate connection part GCP.
복수의 게이트 패드(GP) 각각은, 도 4에 도시된 바와 같이, 하부 게이트 패드 전극(DGPE), 게이트 전도층(GCL), 보호층(214), 복수의 게이트 컨택 홀(GCH), 및 상부 게이트 패드 전극(UGPE)을 포함하여 구성된다.Each of the plurality of gate pads GP may include a lower gate pad electrode DGPE, a gate conductive layer GCL, a
하부 게이트 패드 전극(DGPE)은 기판(210) 상에 형성된 절연층(212) 상에 형성된다. 이때, 하부 게이트 패드 전극(DGPE)은 표시 패널(100)에 형성되는 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn) 및 박막 트랜지스터(T)의 소스/드레인 전극과 동시에 형성되는 것으로, 박막 트랜지스터(T)의 소스/드레인 물질로 형성된다.The lower gate pad electrode DGPE is formed on the insulating
게이트 전도층(GCL)은 하부 게이트 패드 전극(DGPE) 상에 형성되는 것으로, 투명 재질로 형성된다. 이때, 게이트 전도층(GCL)은 ZnO, ZnO:B, ZnO:Al, SnO2, SnO2:F, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), 및 ATO(Antimony Tin Oxide) 중 어느 하나의 투명한 재질로 형성될 수 있다.The gate conductive layer GCL is formed on the lower gate pad electrode DGPE and is formed of a transparent material. In this case, the gate conductive layer GCL may include ZnO, ZnO: B, ZnO: Al, SnO 2 , SnO 2 : F, Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), Indium Tin Zinc Oxide (ITZO), ZTO (Zinc Tin Oxide) and ATO (Antimony Tin Oxide) may be formed of a transparent material.
보호층(214)은 게이트 전도층(GCL)을 덮도록 기판(210)의 전면에 형성된다.The
복수의 게이트 컨택 홀(GCH) 각각은 보호층(214)의 소정 영역이 제거되도록 일정한 간격으로 형성되어 게이트 전도층(GCL)의 소정 영역을 노출시킨다. 이때, 게이트 전도층(GCL)은 복수의 게이트 컨택 홀(GCH)의 형성시 하부 게이트 패드 전극(DGPE)이 에칭되지 않도록 하는 에칭 스토퍼(Etching Stopper) 역할을 하게 된다.Each of the plurality of gate contact holes GCH is formed at regular intervals so that predetermined regions of the
상부 게이트 패드 전극(UGPE)은 복수의 게이트 컨택 홀(GCH) 각각과 보호층(214) 상에 형성되어 복수의 게이트 컨택 홀(GCH) 각각을 통해 게이트 전도층(GCL)에 전기적으로 접속된다. 여기서, 상부 게이트 패드 전극(UGPE)은 게이트 전도층(GCL)과 동일한 투명한 재질로 형성될 수 있다. 이러한, 상부 게이트 패드 전극(UGPE)은 복수의 게이트 컨택 홀(GCH) 및 게이트 전도층(GCL)을 통해 하부 게이트 패드 전극(DGPE)에 전기적으로 접속된다. The upper gate pad electrode UGPE is formed on each of the plurality of gate contact holes GCH and the
복수의 게이트 접속부(GCP) 각각은, 도 4에 도시된 바와 같이, 게이트 링크 라인(GLL), 하부 게이트 접속 전극(DGCE), 게이트 비아 홀(GVH), 및 상부 게이트 접속 전극(UGCE)을 포함하여 구성된다.Each of the plurality of gate connections GCP includes a gate link line GLL, a lower gate connection electrode DGCE, a gate via hole GVH, and an upper gate connection electrode UGCE, as shown in FIG. 4. It is configured by.
게이트 링크 라인(GLL)은 표시 패널(100)에 형성되는 게이트 신호 라인(GL1 내지 GLm) 및 박막 트랜지스터(T)의 게이트 전극과 동시에 형성되는 것으로, 박막 트랜지스터(T)의 게이트 물질로 형성된다. 이러한, 게이트 링크 라인(GLL)은 절연층(212)에 의해 덮여진다.The gate link line GLL is formed simultaneously with the gate signal lines GL1 to GLm and the gate electrode of the thin film transistor T formed on the
하부 게이트 접속 전극(DGCE)은 게이트 링크 라인(GLL)과 중첩되도록 게이트 패드(GP)의 하부 게이트 패드 전극(DGPE)으로부터 연장되어 절연층(212) 상에 형성된다.The lower gate connection electrode DGCE extends from the lower gate pad electrode DGPE of the gate pad GP so as to overlap the gate link line GLL and is formed on the insulating
게이트 비아 홀(GVH)은 기판(210) 상에 형성된 보호층(214), 하부 게이트 접속 전극(DGCE), 절연층(212), 및 게이트 링크 라인(GLL)의 소정 영역이 제거되도록 형성되어 기판(210)의 소정 영역 및 게이트 링크 라인(GLL)의 측면을 노출시킨다.The gate via hole GVH is formed so that predetermined regions of the
상부 게이트 접속 전극(UGCE)은 게이트 비아 홀(GVH)과 보호층(214) 상에 형성되어 게이트 비아 홀(GVH)을 통해 게이트 링크 라인(GLL)에 전기적으로 접속된다. 여기서, 상부 게이트 접속 전극(UGCE)은 상술한 게이트 전도층(GCL)과 동일한 투명한 재질로 형성될 수 있다. 이러한, 상부 게이트 접속 전극(UGCE)은 게이트 비아 홀(GVH)을 통해 하부 게이트 접속 전극(DGCE)과 게이트 링크 라인(GLL)을 전기적으로 접속시킴으로써 게이트 링크 라인(GLL)이 하부 게이트 접속 전극(DGCE)을 통해 게이트 패드(GP)의 하부 게이트 패드 전극(DGPE)에 전기적으로 접속되도록 한다.The upper gate connection electrode UGCE is formed on the gate via hole GVH and the
도 3에서, 데이터 출력 패드부(DOP)는 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn)에 전기적으로 접속되는 복수의 데이터 패드(DP)를 포함하여 구성된다.In FIG. 3, the data output pad part DOP includes a plurality of data pads DP electrically connected to the data signal lines DL1 to DLn.
복수의 데이터 패드(DP) 각각은, 도 5에 도시된 바와 같이, 하부 데이터 패드 전극(DDPE), 데이터 전도층(DCL), 보호층(214), 복수의 데이터 컨택 홀(DCH), 상부 데이터 패드 전극(UDPE)을 포함하여 구성된다.As illustrated in FIG. 5, each of the plurality of data pads DP includes a lower data pad electrode DDPE, a data conductive layer DCL, a
하부 데이터 패드 전극(DDPE)은 기판(210) 상에 형성된 절연층(212) 상에 형성된다. 이때, 하부 데이터 패드 전극(DDPE)은 표시 패널(100)에 형성되는 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn) 및 박막 트랜지스터(T)의 소스/드레인 전극과 동시에 형성되는 것으로, 박막 트랜지스터(T)의 소스/드레인 물질로 형성된다. 이러한, 하부 데이터 패드 전극(DDPE)는 도 3에 도시된 데이터 링크 라인(DLL)을 통해 표시 패널(100)의 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn)에 전기적으로 접속된다.The lower data pad electrode DDPE is formed on the insulating
데이터 전도층(DCL)은 하부 데이터 패드 전극(DDPE) 상에 형성되는 것으로, 투명 재질로 형성된다. 이때, 데이터 전도층(DCL)은 ZnO, ZnO:B, ZnO:Al, SnO2, SnO2:F, ITO, IZO, ITZO, ZTO, 및 ATO 중 어느 하나의 투명한 재질로 형성될 수 있다.The data conductive layer DCL is formed on the lower data pad electrode DDPE and is formed of a transparent material. In this case, the data conductive layer DCL may be formed of any one of ZnO, ZnO: B, ZnO: Al, SnO 2 , SnO 2 : F, ITO, IZO, ITZO, ZTO, and ATO.
보호층(214)은 데이터 전도층(DCL)을 덮도록 기판(210)의 전면에 형성된다.The
복수의 데이터 컨택 홀(DCH) 각각은 보호층(214)의 소정 영역이 제거되도록 일정한 간격으로 형성되어 데이터 전도층(DCL)의 소정 영역을 노출시킨다. 이때, 데이터 전도층(DCL)은 복수의 데이터 컨택 홀(DCH)의 형성시 하부 데이터 패드 전극(DDPE)이 에칭되지 않도록 하는 에칭 스토퍼 역할을 하게 된다.Each of the plurality of data contact holes DCH is formed at regular intervals so that predetermined regions of the
상부 데이터 패드 전극(UDPE)은 복수의 데이터 컨택 홀(DCH) 각각과 보호층(214) 상에 형성되어 복수의 데이터 컨택 홀(DCH) 각각을 통해 데이터 전도층(DCL)에 전기적으로 접속된다. 여기서, 상부 데이터 패드 전극(UDPE)은 데이터 전도층(DCL)과 동일한 투명한 재질로 형성될 수 있다. 이러한, 상부 데이터 패드 전극(UDPE)은 복수의 데이터 컨택 홀(DCH) 및 데이터 전도층(DCL)을 통해 하부 데이터 패드 전극(DDPE)에 전기적으로 접속된다.The upper data pad electrode UDPE is formed on each of the plurality of data contact holes DCH and the
한편, 상술한 데이터 출력 패드부(DOP)에서 하부 데이터 패드 전극(UDPE)은 데이터 링크 라인(DLL)을 통해 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn)에 전기적으로 접속된 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 게이트 링크 라인(GLL)과 동시에 게이트 물질로 형성된 데이터 링크 라인(미도시) 및 2개의 데이터 접속부(미도시)를 통해 데이터 신호 라인(DL1 내지 DLn)에 전기적으로 접속될 수도 있다. 여기서, 2개의 데이터 접속부는 상술한 게이트 접속부(GCP)와 동일한 구조를 가지도록 형성될 수 있다.Meanwhile, the lower data pad electrode UDPE is electrically connected to the data signal lines DL1 to DLn through the data link line DLL in the data output pad part DOP, but is not limited thereto. It may be electrically connected to the data signal lines DL1 to DLn through a data link line (not shown) and two data connections (not shown) formed of a gate material simultaneously with the gate link line GLL. Here, the two data connection portions may be formed to have the same structure as the above-described gate connection portion GCP.
다른 한편, 상술한 출력 패드부(OPP)에서, 하부 게이트 패드 전극(DGPE)과 하부 데이터 패드 전극(DDPE)은 동일한 공정에 의해 동일한 재질로 동시에 형성되는 것으로, 게이트 출력 패드부(GOP1, GOP2)와 데이터 출력 패드부(DOP)로 구분하여 별도의 도면부호를 부여하여 설명하였을 뿐, 하부 게이트 패드 전극(DGPE)과 하부 데이터 패드 전극(DDPE)은 하부 패드 전극으로 정의할 수 있다.On the other hand, in the above-described output pad unit OPP, the lower gate pad electrode DGPE and the lower data pad electrode DDPE are simultaneously formed of the same material by the same process, and the gate output pad units GOP1 and GOP2 are simultaneously formed. And the data output pad unit DOP are divided and described with separate reference numerals, and the lower gate pad electrode DGPE and the lower data pad electrode DDPE may be defined as lower pad electrodes.
마찬가지로, 게이트 전도층(GCL)과 데이터 전도층(DCL) 역시 전도층으로 정의할 수 있으며, 복수의 게이트 컨택 홀(GCH)과 데이터 컨택 홀(DCH) 역시 컨택 홀로 정의할 수 있고, 또한, 상부 게이트 패드 전극(UGPE)과 상부 데이터 패드 전극(UDPE) 역시도 상부 패드 전극으로 정의할 수 있다.Similarly, the gate conductive layer GCL and the data conductive layer DCL may also be defined as conductive layers, and the plurality of gate contact holes GCH and data contact holes DCH may also be defined as contact holes. The gate pad electrode UGPE and the upper data pad electrode UDPE may also be defined as the upper pad electrode.
도 3에서, 입력 패드부(IPP)는 입력 링크 라인(ILL)을 통해 표시 패널(100)에 본딩되는 가요성 인쇄회로(130)에 전기적으로 접속되어 가요성 인쇄회로(130)로부터 구동 전원, 타이밍 동기신호, 및 화상 데이터가 공급되는 복수의 입력 패드(IP)를 포함하여 구성된다.In FIG. 3, the input pad unit IPP is electrically connected to the flexible printed
복수의 입력 패드(IP) 각각은 상술한 데이터 패드(DP)와 동일한 구조를 가지도록 형성되는 것으로, 이에 대한 상세한 설명은 상술한 데이터 패드(DP)에 대한 설명으로 대신하기로 한다.Each of the plurality of input pads IP is formed to have the same structure as the above-described data pad DP, and a detailed description thereof will be replaced with the above description of the data pad DP.
도 2에서, 구동 집적회로(110)는 TAB((Tape Automated Bonding) 방식에 따른 ACF(Anisotropic Conductive Film)(140; 도 4 및 도 5 참조)에 의해 표시 패널(100)의 집적회로 본딩부(120)에 본딩됨으로써 입력 패드부(IPP) 및 출력 패드부(OPP)에 전기적으로 접속된다.In FIG. 2, the driving
이를 위해, 구동 집적회로(100)는 복수의 게이트 출력 단자(또는 범프)(112; 도 4 참조), 복수의 데이터 출력 단자(114; 도 5 참조), 및 복수의 입력 단자(미도시)를 포함하여 구성된다.To this end, the driving
복수의 게이트 출력 단자(112) 각각은, 도 4에 도시된 바와 같이, ACF(140)의 도전볼(142)을 매개로 하여 복수의 게이트 패드(GP)의 상부 게이트 패드 전극(UGPE)에 전기적으로 접속된다. 이때, ACF(140)의 도전볼(142)은 TAB 방식에 따른 열가압에 의해 게이트 컨택 홀(GCH) 및 상부 게이트 패드 전극(UGPE)에 산포되어 게이트 출력 단자(112)와 상부 게이트 패드 전극(UGPE)을 상호 전기적으로 접속시키게 된다. 이에 따라, 복수의 게이트 패드(GP) 각각에 형성된 상부 게이트 패드 전극(UGPE), 게이트 전도층(GCL), 및 하부 게이트 패드 전극(DGPE) 상에는 열가압에 따른 도전볼(142)의 눌림에 의한 흔적(PM)이 형성되게 된다. 이렇게 하부 게이트 패드 전극(DGPE) 상에 형성되는 도전볼(142)의 눌림 흔적(PM)은 구동 집적회로(110)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼(142)과 하부 게이트 패드 전극(DGPE)간의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 한다.Each of the plurality of
복수의 데이터 출력 단자(114) 각각은, 도 5에 도시된 바와 같이, ACF(140)의 도전볼(142)을 매개로 하여 복수의 데이터 패드(DP)의 상부 데이터 패드 전극(UDPE)에 전기적으로 접속된다. 이때, ACF(140)의 도전볼(142)은 TAB 방식에 따른 열가압에 의해 데이터 컨택 홀(DCH) 및 상부 데이터 패드 전극(UDPE)에 산포되어 데이터 출력 단자(114)와 상부 데이터 패드 전극(UDPE)을 상호 전기적으로 접속시키게 된다. 이에 따라, 복수의 데이터 패드(DP) 각각에 형성된 상부 데이터 패드 전극(UDPE), 데이터 전도층(DCL), 및 하부 데이터 패드 전극(DDPE) 상에는 열가압에 따른 도전볼(142)의 눌림에 의한 흔적(PM)이 형성되게 된다. 이렇게 하부 데이터 패드 전극(DDPE) 상에 형성되는 도전볼(142)의 눌림 흔적(PM)은 구동 집적회로(110)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼(142)과 하부 데이터 패드 전극(DDPE)간의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 한다.Each of the plurality of
복수의 입력 단자 각각은 ACF(140)의 도전볼(142)을 매개로 하여 복수의 입력 패드(IP)에 전기적으로 접속된다. 이때, 복수의 입력 단자와 복수의 입력 패드(IP)를 전기적으로 접속시키는 ACF(140)의 도전볼(142)은 상술한 게이트 및 데이터 패드(GP, DP)와 동일하게 하부 패드 전극(미도시) 상에 눌림 흔적(PM)을 형성함으로써 구동 집적회로(110)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼(142)의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 한다.Each of the plurality of input terminals is electrically connected to the plurality of input pads IP via the
이러한, 구동 집적회로(100)는 가요성 인쇄회로(130)로부터 복수의 입력 패드(IP)를 통해 복수의 입력 단자로 입력되는 구동 전원, 타이밍 동기신호, 및 화상 데이터에 기초하여 표시 패널(100)에 화상을 표시하기 위한 게이트 신호 및 데이터 신호를 생성한다. 또한, 구동 집적회로(100)는 복수의 게이트 출력 단자(112)를 통해 생성된 게이트 신호를 복수의 게이트 패드(GP)에 순차적으로 공급하여 표시 패널(100)의 게이트 신호 라인(GL1 내지 GLm)을 구동함과 아울러, 상기의 게이트 신호에 동기되도록 복수의 데이터 출력 단자(114)를 통해 수평 구간마다 생성된 데이터 신호를 복수의 데이터 패드(DP)에 동시에 공급한다.The driving
한편, 상술한 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 평판 표시 장치에서 가요성 인쇄회로(130)가 본딩되도록 표시 패널(100)에 형성된 인쇄회로 본딩 패드(132) 역시 상술한 데이터 패드(DP)와 동일한 구조를 가지도록 형성된다.Meanwhile, in the flat panel display according to the first exemplary embodiment of the present invention, the printed
상술한 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 평판 표시 장치는 소스/드레인 물질로 이루어진 하부 패드 전극(DGPE, DDPE), 투명 재질로 이루어진 전도층(GCL, DCL)과 상부 패드 전극(UGPE, UDPE)을 포함하도록 입력 패드부(IPP)와 출력 패드부(OPP) 각각을 형성함으로써, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 구동 집적회로(110)의 본딩시 상부 패드 전극(UGPE, UDPE), 전도층(GCL, DCL), 및 하부 패드 전극(DGPE, DDPE) 상에 도전볼(142)의 눌림에 의한 흔적(PM)이 형성되도록 한다.The flat panel display according to the first exemplary embodiment of the present invention includes the lower pad electrodes DGPE and DDPE made of a source / drain material, the conductive layers GCL and DCL made of a transparent material, and the upper pad electrodes UGPE and UDPE. By forming each of the input pad unit IPP and the output pad unit OPP to include a, the upper pad electrodes UGPE and UDPE when bonding the driving
따라서, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 평판 표시 장치는 하부 패드 전극(DGPE, DDPE) 상에 형성되는 도전볼(142)의 눌림 흔적(PM)을 통해 구동 집적회로(110)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼(142)의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 하여 도전볼(142)에 의해 접속 불량을 검출할 수 있도록 할 수 있다.Therefore, the flat panel display device according to the first exemplary embodiment of the present invention after the bonding of the driving
도 6은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 평판 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.6 is a diagram schematically illustrating a flat panel display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.
도 6을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 평판 표시 장치는 표시 패널(300), 적어도 하나의 게이트 구동 집적회로(310), 복수의 데이터 구동 집적회로(320), 및 가요성 인쇄회로(330)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 6, a flat panel display device according to a second embodiment of the present invention may include a
표시 패널(300)은 화상을 표시하는 표시영역(302), 및 표시영역(302)을 제외한 나머지 영역에 대응되는 비표시영역(304)을 포함하여 구성된다.The
표시영역(302)은 서로 교차하도록 일정한 간격으로 형성된 복수의 게이트 신호 라인(GL)과 복수의 데이터 신호 라인(DL), 복수의 게이트 신호 라인(GL)과 복수의 데이터 신호 라인(DL)의 교차에 의해 정의되는 영역마다 형성된 복수의 화소(P)를 포함하여 구성된다.The
화소(P)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 하나의 게이트 신호 라인(GL)과 하나의 데이터 신호 라인(DL)에 접속된 박막 트랜지스터(T)를 포함하여 구성된다.As illustrated in FIG. 2, the pixel P includes a thin film transistor T connected to one gate signal line GL and one data signal line DL.
비표시영역(304)에는 게이트 신호를 게이트 신호 라인(GL)에 공급하기 위한 적어도 하나의 게이트 구동 집적회로(310)가 본딩됨과 아울러 게이트 신호에 동기되는 데이터 신호를 데이터 신호 라인(DL)에 공급하기 위한 복수의 데이터 구동 집적회로(320)가 본딩된다.In the
적어도 하나의 게이트 구동 집적회로(310)는 게이트 신호 라인(GL)의 일측에 대응되는 표시 패널(300)의 일측 비표시영역(304)에 본딩되어 게이트 신호 라인(GL)에 게이트 신호를 순차적으로 공급한다. 이를 위해, 표시 패널(300)의 일측 비표시영역(304)에는 적어도 하나의 게이트 집적회로 본딩부(미도시)가 마련되고, 적어도 하나의 게이트 집적회로 본딩부는 게이트 입력 패드부(미도시), 및 게이트 출력 패드부(미도시)를 포함하여 구성된다.The at least one gate driving
게이트 입력 패드부는 표시 패널(300)의 일측 비표시영역(304)에 형성된 게이트 신호 입력 라인(미도시)을 통해 가요성 인쇄회로(330)에 전기적으로 접속되는 복수의 게이트 입력 패드(미도시)를 포함하여 구성된다.A plurality of gate input pads (not shown) electrically connected to the flexible printed
게이트 출력 패드부는 게이트 신호 라인(GL)에 전기적으로 접속되는 복수의 게이트 출력 패드(미도시)를 포함하여 구성된다.The gate output pad part includes a plurality of gate output pads (not shown) electrically connected to the gate signal line GL.
게이트 입력 패드와 게이트 출력 패드는 도 3 및 도 4에 도시된 입력 패드(IP)와 게이트 패드(GP)와 동일한 구조를 가지도록 형성되므로 이에 대한 상세한 설명은 상술한 설명으로 대신하기로 한다.Since the gate input pad and the gate output pad are formed to have the same structure as the input pad IP and the gate pad GP shown in FIGS. 3 and 4, a detailed description thereof will be replaced with the above description.
이러한, 적어도 하나의 게이트 집적회로 본딩부 각각에는 TAB 방식에 따른 ACF(미도시)의 도전볼에 의해 게이트 구동 집적회로(310)의 단자들이 본딩된다.Each of the at least one gate integrated circuit bonding unit is bonded to terminals of the gate driving
복수의 데이터 구동 집적회로(320)는 데이터 신호 라인(DL)의 일측에 대응되는 표시 패널(300)의 상측 비표시영역(304)에 본딩되어 데이터 신호 라인(DL)에 데이터 신호를 공급한다. 이를 위해, 표시 패널(300)의 일측 비표시영역(304)에는 복수의 데이터 집적회로 본딩부(미도시)가 마련되고, 복수의 데이터 집적회로 본딩부 각각은 데이터 입력 패드부(미도시), 및 데이터 출력 패드부(미도시)를 포함하여 구성된다.The plurality of data driving
데이터 입력 패드부는 표시 패널(300)의 상측 비표시영역(304)에 형성된 데이터 신호 입력 라인(미도시)을 통해 가요성 인쇄회로(330)에 전기적으로 접속되는 복수의 데이터 입력 패드(미도시)를 포함하여 구성된다.A plurality of data input pads (not shown) electrically connected to the flexible printed
데이터 출력 패드부는 데이터 신호 라인(DL)에 전기적으로 접속되는 복수의 데이터 출력 패드(미도시)를 포함하여 구성된다.The data output pad part includes a plurality of data output pads (not shown) electrically connected to the data signal line DL.
데이터 입력 패드와 데이터 출력 패드는 도 3 및 도 5에 도시된 입력 패드(IP)와 데이터 패드(DP)와 동일한 구조를 가지도록 형성되므로 이에 대한 상세한 설명은 상술한 설명으로 대신하기로 한다.Since the data input pad and the data output pad are formed to have the same structure as the input pad IP and the data pad DP shown in FIGS. 3 and 5, a detailed description thereof will be replaced with the above description.
이러한, 복수의 데이터 집적회로 본딩부 각각에는 TAB 방식에 따른 ACF의 도전볼에 의해 데이터 구동 집적회로(320)의 단자들이 본딩된다.The terminals of the data driving
가요성 인쇄회로(330)는 TAB 방식에 따른 ACF의 도전볼에 의해 표시 패널(300)의 상측 비표시영역(304)에 마련된 복수의 인쇄회로 본딩 패드(미도시)에 본딩된다.The flexible printed
복수의 인쇄회로 본딩 패드는 표시 패널(300)의 상측 비표시영역(304)에 형성된 데이터 신호 입력 라인(미도시)을 통해 복수의 데이터 집적회로 본딩부 각각의 데이터 입력 패드부에 전기적으로 접속됨과 아울러 게이트 신호 입력 라인에 전기적으로 접속된다. 이때, 복수의 인쇄회로 본딩 패드 각각은 도 3 및 도 5에 도시된 데이터 패드(DP)와 동일한 구조를 가지도록 형성된다.The plurality of printed circuit bonding pads are electrically connected to the data input pads of the plurality of data integrated circuit bonding units through data signal input lines (not shown) formed in the upper
상술한 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 평판 표시 장치는 본 발명의 제 1 실시 예와 동일하게 도전볼의 눌림 흔적을 통해 구동 집적회로(310, 320)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 하여 도전볼에 의해 접속 불량을 검출할 수 있도록 할 수 있다.The flat panel display device according to the second embodiment of the present invention described above is performed by the optical method after bonding the driving
도 7은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 평판 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.7 is a diagram for schematically describing a flat panel display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.
도 7을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 평판 표시 장치는 표시 패널(300), 게이트 구동 집적회로(310)가 실장된 적어도 하나의 게이트 회로필름(410), 데이터 구동 집적회로(320)가 실장된 복수의 데이터 회로필름(420), 인쇄회로기판(500), 및 타이밍 제어부(510)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 7, a flat panel display device according to a third embodiment of the present invention may include a
표시 패널(300)은 화상을 표시하는 표시영역(302), 및 표시영역(302)을 제외한 나머지 영역에 대응되는 비표시영역(304)을 포함하여 구성된다.The
표시영역(302)은 서로 교차하도록 일정한 간격으로 형성된 복수의 게이트 신호 라인(GL)과 복수의 데이터 신호 라인(DL), 복수의 게이트 신호 라인(GL)과 복수의 데이터 신호 라인(DL)의 교차에 의해 정의되는 영역마다 형성된 복수의 화소(P)를 포함하여 구성된다.The
화소(P)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 하나의 게이트 신호 라인(GL)과 하나의 데이터 신호 라인(DL)에 접속된 박막 트랜지스터(T)를 포함하여 구성된다.As illustrated in FIG. 2, the pixel P includes a thin film transistor T connected to one gate signal line GL and one data signal line DL.
비표시영역(304)에는 게이트 신호를 게이트 신호 라인(GL)에 공급하기 위한 적어도 하나의 게이트 구동 집적회로(310)가 본딩됨과 아울러 게이트 신호에 동기되는 데이터 신호를 데이터 신호 라인(DL)에 공급하기 위한 복수의 데이터 구동 집적회로(320)가 본딩된다.In the
게이트 구동 집적회로(310)는 게이트 회로필름(410) 상에 실장되어 타이밍 제어부(510)의 제어에 따라 게이트 신호 라인(GL)을 구동하기 위한 게이트 신호를 생성하여 출력한다.The gate driving
적어도 하나의 게이트 회로필름(410)은 게이트 신호 라인(GL)의 일측에 대응되는 표시 패널(300)의 일측 비표시영역(304)에 형성된 게이트 패드부(미도시)에 본딩되어 게이트 구동 집적회로(310)로부터 출력되는 게이트 신호를 게이트 신호 라인(GL)에 공급한다. 이때, 적어도 하나의 게이트 회로필름(410)의 단자는 TAB 방식에 따른 ACF의 도전볼에 의해 게이트 패드부에 본딩된다. 여기서, 게이트 회로필름(410)은 TCP(Tape Carrier Package) 또는 COF(Chip On Film)이 될 수 있다.The at least one
게이트 패드부는 도 3 및 도 4에 도시된 게이트 패드(GP)와 동일한 구조를 가지도록 형성되어 게이트 신호 라인(GL)에 전기적으로 접속되는 복수의 게이트 패드(미도시)를 포함하여 구성된다.The gate pad part includes a plurality of gate pads (not shown) formed to have the same structure as the gate pad GP shown in FIGS. 3 and 4 and electrically connected to the gate signal line GL.
데이터 구동 집적회로(320)는 데이터 회로필름(420) 상에 실장되어 타이밍 제어부(510)의 제어에 따라 데이터 신호 라인(DL)을 구동하기 위한 데이터 신호를 생성하여 출력한다.The data driving
복수의 데이터 회로필름(420) 각각은 데이터 신호 라인(DL)의 일측에 대응되는 표시 패널(300)의 일측 비표시영역(304)에 형성된 데이터 패드부(미도시)에 본딩되어 데이터 구동 집적회로(320)로부터 출력되는 데이터 신호를 데이터 신호 라인(GL)에 공급한다. 이때, 복수의 데이터 회로필름(410) 각각의 단자는 TAB 방식에 따른 ACF의 도전볼에 의해 데이터 패드부에 본딩된다. 여기서, 데이터 회로필름(420)은 TCP 또는 COF가 될 수 있다.Each of the plurality of
데이터 패드부는 도 3 및 도 5에 도시된 데이터 패드(DP)와 동일한 구조를 가지도록 형성되어 데이터 신호 라인(DL)에 전기적으로 접속되는 복수의 데이터 패드(미도시)를 포함하여 구성된다.The data pad part includes a plurality of data pads (not shown) formed to have the same structure as the data pad DP shown in FIGS. 3 and 5 and electrically connected to the data signal line DL.
인쇄회로기판(500)은 TAB 방식에 따른 ACF의 도전볼에 의해 복수의 데이터 회로필름(420)에 전기적으로 접속된다.The printed
타이밍 제어부(510)는 인쇄회로기판(500)에 실장되어 외부로부터 공급되는 입력 영상에 대응되는 화상 데이터를 생성하고, 생성된 화상 데이터를 인쇄회로기판(500) 및 데이터 회로필름(420)을 통해 해당 데이터 구동 집적회로(320)에 공급한다.The
또한, 타이밍 제어부(510)는 외부로부터 공급되는 타이밍 동기신호에 기초하여 게이트 구동 집적회로(310) 및 데이터 구동 집적회로(320)의 구동을 제어한다.In addition, the
상술한 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 평판 표시 장치는 본 발명의 제 1 실시 예와 동일하게 도전볼의 눌림 흔적을 통해 회로필름(410, 420)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 하여 도전볼에 의해 접속 불량을 검출할 수 있도록 할 수 있다.The flat panel display device according to the third embodiment of the present invention described above is performed by an optical method after bonding the
도 8a 내지 도 8h는 본 발명의 실시 예에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 나타내는 도면이다.8A through 8H are steps of a manufacturing method of a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 8a 내지 도 8h를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하면 다음과 같다.Referring to FIGS. 8A to 8H, a method of manufacturing a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described below.
먼저, 도 8a에 도시된 바와 같이, 기판(210)의 비표시영역에 게이트 물질로 이루어진 게이트 링크 라인(GLL)을 형성한다. 이와 동시에, 기판(210)의 표시 영역에는 게이트 물질로 이루어진 게이트 신호 라인(미도시)과, 각 화소마다 게이트 신호 라인으로부터 돌출된 게이트 전극(미도시)이 형성된다.First, as shown in FIG. 8A, a gate link line GLL made of a gate material is formed in a non-display area of the
그런 다음, 도 8b에 도시된 바와 같이, 기판(210)의 전면에 절연층(212)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8B, an insulating
그런 다음, 도 8c에 도시된 바와 같이, 절연층(212)의 전면에 소스/드레인 물질을 형성한 후, 기판(210)의 비표시영역에 형성된 소스/드레인 물질을 선택적으로 제거하여 하부 게이트 접속 전극(DGCE), 하부 게이트 패드 전극(DGPE) 및 하부 데이터 패드 전극(DDPE)로 구분되는 하부 패드 전극을 형성한다. 여기서, 하부 게이트 접속 전극(DGCE)은 게이트 링크 라인(GLL)에 중첩되도록 하부 게이트 패드 전극(DGPE)으로부터 연장된다. 이와 동시에, 기판(210)의 표시 영역에 형성된 소스/드레인 물질을 선택적으로 제거하여 데이터 신호 라인(미도시)과 데이터 링크 라인(미도시), 및 각 화소마다 데이터 신호 라인으로부터 돌출된 소스 전극(미도시)과 소스 전극과 소정 간격 이격되는 드레인 전극이 형성된다.Next, as shown in FIG. 8C, after the source / drain material is formed on the entire surface of the insulating
한편, 기판(210) 상에 형성된 절연층(212)과 소스/드레인 물질 사이에는 반도체층(미도시)이 형성된다. 이에 따라, 각 화소에는 게이트 전극, 반도체층, 소스 전극 및 드레인 전극으로 이루어지는 박막 트랜지스터가 형성된다.Meanwhile, a semiconductor layer (not shown) is formed between the insulating
그런 다음, 도 8d에 도시된 바와 같이, 소스/드레인 물질 상에 투명한 재질의 전도물질을 형성한 후, 소스/드레인 물질 상에 형성된 전도물질을 선택적으로 제거하여 하부 게이트 패드 전극(DGPE) 및 하부 데이터 패드 전극(DDPE) 각각에 전기적으로 접속되는 게이트 전도층(GCL) 및 데이터 전도층(DCL)을 형성한다.Then, as shown in FIG. 8D, after forming a transparent material conductive material on the source / drain material, the conductive material formed on the source / drain material is selectively removed to remove the lower gate pad electrode DGPE and the lower part. A gate conductive layer GCL and a data conductive layer DCL are electrically connected to each of the data pad electrodes DDPE.
그런 다음, 도 8e에 도시된 바와 같이, 기판(210)의 전면에 보호층(214)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 8E, a
그런 다음, 도 8f에 도시된 바와 같이, 보호층(214), 하부 게이트 접속 전극(DGCE), 및 게이트 링크 라인(GLL)의 소정 영역을 에칭하여 게이트 비아홀(GVH)을 형성함과 동시에, 보호층(214)의 소정 영역을 에칭하여 게이트 전도층(GCL)의 소정 영역을 노출시키기 위한 복수의 게이트 컨택 홀(GCH) 및 데이터 전도층(DCL)의 소정 영역을 노출시키기 위한 복수의 데이터 컨택 홀(DCH)을 형성한다. 여기서, 게이트 전도층(GCL)은 에칭시 하부 게이트 패드 전극(DGPE)의 에칭을 방지하는 에칭 스토퍼의 역할을 수행하고, 데이터 전도층(DCL)은 에칭시 하부 데이터 패드 전극(DDPE)의 에칭을 방지하는 에칭 스토퍼의 역할을 수행한다. 이와 동시에, 표시 영역에는 각 박막 트랜지스터의 소스/드레인 전극의 소정 영역을 노출시키기 위한 화소 컨택 홀(미도시)이 형성된다.Then, as shown in FIG. 8F, the
그런 다음, 도 8g에 도시된 바와 같이, 게이트 비아 홀(GCH), 게이트 및 데이터 컨택 홀(GCH, DCH)을 포함하는 보호층(214) 상에 투명 재질로 이루어진 전도물질을 형성한 후, 전도물질을 선택적으로 에칭하여 게이트 비아 홀(GCH)을 통해 게이트 링크 라인(GLL)에 전기적으로 접속되는 상부 게이트 접속 전극(UGCE), 게이트 컨택 홀(GCH)을 통해 게이트 전도층(GCL)에 전기적으로 접속되는 상부 게이트 패드 전극(UGPE), 및 데이터 컨택 홀(DCH)을 통해 데이터 전도층(DCL)에 전기적으로 접속되는 상부 데이터 패드 전극(UDPE)을 형성함으로써 게이트 접속부(GCP), 게이트 패드(GP), 및 데이터 패드(DP)를 형성한다. 이와 동시에, 표시 영역에는 화소 컨택 홀(미도시)을 통해 각 박막 트랜지스터의 소스/드레인 전극에 전기적으로 접속되는 화소 전극(미도시)이 형성된다.Then, as shown in FIG. 8G, a conductive material made of a transparent material is formed on the
그런 다음, 도 8h에 도시된 바와 같이, 상부 게이트 접속 전극(UGCE)과 상부 데이터 패드 전극(UDPE) 상에 도전볼(142)이 산포된 ACF(140)을 부착한 후, 열압착하는 TAB 방식에 따라 구동 집적회로(100)의 게이트 및 데이터 단자 각각을 상부 게이트 패드 전극(UGPE) 및 상부 데이터 패드 전극(UDPE) 각각에 전기적으로 접속시킨다. 이에 따라, 구동 집적회로(100)의 게이트 단자는 상부 게이트 패드 전극(UGPE), 게이트 전도층(GCL), 하부 게이트 패드 전극(DGPE), 하부 게이트 접속 전극(DGCE), 상부 게이트 접속 전극(UGCE), 및 게이트 링크 라인(GLL)을 통해 게이트 신호 라인에 전기적으로 접속된다. 또한, 구동 집적회로(100)의 데이터 단자는 상부 데이터 패드 전극(UDPE), 데이터 전도층(DCL), 하부 데이터 패드 전극(DDPE), 및 데이터 링크 라인(미도시)을 통해 데이터 신호 라인에 전기적으로 접속된다.Then, as illustrated in FIG. 8H, the TAB method of attaching the
상술한 본 발명의 실시 예에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법은 소스/드레인 물질로 이루어진 하부 패드 전극(DGPE, DDPE), 투명 재질로 이루어진 전도층(GCL, DCL)과 상부 패드 전극(UGPE, UDPE)을 포함하도록 게이트 및 데이터 패드(GP, DP) 각각을 형성함으로써, 도 8h에 도시된 바와 같이, ACF(140)를 매개로 하여 구동 집적회로(110)의 본딩시 상부 패드 전극(UGPE, UDPE), 전도층(GCL, DCL) 및 하부 패드 전극(DGPE, DDPE) 상에 도전볼(142)의 눌림에 의한 흔적(PM)이 형성되도록 한다.The manufacturing method of the flat panel display device according to the embodiment of the present invention described above includes lower pad electrodes DGPE and DDPE made of a source / drain material, conductive layers GCL and DCL made of a transparent material, and upper pad electrodes UGPE and UDPE. Each of the gate and data pads GP and DP is formed to include the upper pad electrodes UGPE and UDPE during bonding of the driving
따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법은 도전볼(142)의 눌림 흔적을 통해 구동 집적회로(110)의 본딩 이후에 광학적인 방법을 통해 수행되는 도전볼(142)의 접속 상태에 대한 검사를 가능하게 하여 도전볼에 의해 접속 불량을 검출할 수 있도록 할 수 있다.Accordingly, in the method of manufacturing the flat panel display device according to the embodiment of the present invention, the
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Those skilled in the art to which the present invention pertains will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features. Therefore, it is to be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be construed as being included in the scope of the present invention. do.
100, 300: 표시 패널 110: 구동 집적회로
120: 집적회로 본딩부 140: ACF
142: 도전볼 210: 기판
212: 절연층 214: 보호층100 and 300: display panel 110: driving integrated circuit
120: integrated circuit bonding unit 140: ACF
142: conductive ball 210: substrate
212: insulating layer 214: protective layer
Claims (14)
상기 하부 패드 전극의 상면에 형성된 전도층;
상기 전도층을 덮도록 형성된 보호층;
상기 보호층의 소정 영역에 형성된 컨택 홀; 및
상기 전도층에 전기적으로 접속되도록 상기 컨택 홀에 형성되어 상기 전도층을 통해 상기 하부 패드 전극에 전기적으로 접속된 상부 패드 전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.A lower pad electrode connected to the signal line of the display panel;
A conductive layer formed on an upper surface of the lower pad electrode;
A protective layer formed to cover the conductive layer;
A contact hole formed in a predetermined region of the protective layer; And
And an upper pad electrode formed in the contact hole to be electrically connected to the conductive layer and electrically connected to the lower pad electrode through the conductive layer.
상기 상부 패드 전극은 복수의 도전볼을 포함하여 이루어진 접착부재에 의해 상기 신호 라인에 소정의 신호를 공급하기 위한 가요성 인쇄회로, 집적회로, 및 상기 집적회로가 실장된 회로필름 중 어느 하나에 형성된 단자에 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.The method of claim 1,
The upper pad electrode is formed on any one of a flexible printed circuit, an integrated circuit, and a circuit film mounted with the integrated circuit for supplying a predetermined signal to the signal line by an adhesive member including a plurality of conductive balls. A flat panel display, which is electrically connected to a terminal.
상기 상부 패드 전극과 상기 전도층 및 상기 하부 패드 전극 각각에는 상기 복수의 도전볼의 눌림에 의한 흔적이 형성된 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.The method of claim 2,
And a trace formed by pressing the plurality of conductive balls on each of the upper pad electrode, the conductive layer, and the lower pad electrode.
상기 전도층 및 상기 상부 패드 전극은 투명 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.The method of claim 1,
And the conductive layer and the upper pad electrode are made of a transparent material.
상기 신호 라인은 상기 표시 패널에 형성되어 데이터 신호가 공급되는 데이터 신호 라인 및 상기 데이터 신호 라인에 교차하도록 상기 표시 패널에 형성되어 게이트 신호가 공급되는 게이트 신호 라인 중 적어도 하나에 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.The method of claim 1,
The signal line is formed on the display panel and is electrically connected to at least one of a data signal line to which a data signal is supplied and a gate signal line to which the gate signal is supplied so as to intersect the data signal line. Flat panel display device.
상기 하부 패드 전극은 상기 데이터 신호 라인과 동일한 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.The method of claim 5, wherein
And the lower pad electrode is formed of the same material as the data signal line.
상기 게이트 신호 라인에 전기적으로 접속되도록 기판 상에 형성된 게이트 링크 라인;
상기 게이트 링크 라인을 덮도록 형성된 절연층 상에 형성되며, 상기 게이트 링크 라인과 중첩되도록 상기 하부 패드 전극으로부터 연장된 하부 게이트 접속 전극;
상기 보호층, 상기 하부 게이트 접속 전극, 상기 절연층, 및 상기 게이트 링크 라인의 소정 영역에 형성된 비아 홀; 및
상기 비아 홀에 형성되어 상기 하부 게이트 접속 전극을 상기 게이트 링크 라인에 전기적으로 접속시키는 상부 게이트 접속 전극을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치.The method of claim 5, wherein
A gate link line formed on the substrate to be electrically connected to the gate signal line;
A lower gate connection electrode formed on an insulating layer formed to cover the gate link line and extending from the lower pad electrode to overlap the gate link line;
A via hole formed in a predetermined region of the protective layer, the lower gate connection electrode, the insulating layer, and the gate link line; And
And an upper gate connection electrode formed in the via hole to electrically connect the lower gate connection electrode to the gate link line.
상기 하부 패드 전극의 상면에 전도층을 형성하는 단계;
상기 전도층을 덮도록 보호층을 형성하는 단계;
상기 전도층의 소정 영역이 노출되도록 상기 보호층의 소정 영역을 에칭하여 컨택 홀을 형성하는 단계; 및
상기 전도층을 통해 상기 하부 패드 전극에 전기적으로 접속되도록 상기 컨택 홀에 상부 패드 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.Forming a signal line of a display panel and a lower pad electrode connected to the signal line;
Forming a conductive layer on an upper surface of the lower pad electrode;
Forming a protective layer to cover the conductive layer;
Forming a contact hole by etching a predetermined region of the protective layer to expose a predetermined region of the conductive layer; And
And forming an upper pad electrode in the contact hole to be electrically connected to the lower pad electrode through the conductive layer.
복수의 도전볼을 포함하여 이루어진 접착부재를 이용하여 상기 신호 라인에 소정 전압을 공급하기 위한 가요성 인쇄회로, 집적회로, 및 상기 집적회로가 실장된 회로필름 중 어느 하나를 상기 상부 패드 전극에 본딩하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 8,
Bonding any one of a flexible printed circuit, an integrated circuit, and a circuit film on which the integrated circuit is mounted to supply the predetermined voltage to the signal line by using an adhesive member including a plurality of conductive balls. A method of manufacturing a flat panel display, characterized in that it further comprises the step of.
상기 전도층 및 상기 상부 패드 전극은 ZnO, ZnO:B, ZnO:Al, SnO2, SnO2:F, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ITZO(Indium Tin Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), 및 ATO(Antimony Tin Oxide) 중 어느 하나의 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 8,
The conductive layer and the upper pad electrode are ZnO, ZnO: B, ZnO: Al, SnO 2 , SnO 2 : F, Indium Tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), Indium Tin Zinc Oxide (ITZO), ZTO (Zinc Tin Oxide) and ATO (Antimony Tin Oxide), the method of manufacturing a flat panel display device characterized in that formed of a material.
상기 신호 라인은 상기 표시 패널에 형성되어 데이터 신호가 공급되는 데이터 신호 라인 및 상기 데이터 신호 라인에 교차하도록 상기 표시 패널에 형성되어 게이트 신호가 공급되는 게이트 신호 라인 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 8,
And the signal line is at least one of a data signal line formed on the display panel to supply a data signal and a gate signal line formed on the display panel so as to intersect the data signal line and supplied with a gate signal. Method of manufacturing the device.
상기 하부 패드 전극은 상기 데이터 신호 라인과 동일한 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 11,
And the lower pad electrode is formed of the same material as the data signal line.
상기 하부 패드 전극을 형성하기 이전에, 상기 게이트 신호 라인에 전기적으로 접속되는 게이트 링크 라인을 기판 상에 형성한 후, 상기 게이트 링크 라인을 덮도록 절연층을 형성하는 단계;
상기 하부 패드 전극의 형성과 동시에, 상기 게이트 링크 라인과 중첩되는 상기 절연층 상에 상기 하부 패드 전극으로부터 연장되는 하부 게이트 접속 전극을 형성하는 단계;
상기 컨택 홀의 형성과 동시에, 상기 보호층, 상기 하부 게이트 접속 전극, 상기 절연층, 및 상기 게이트 링크 라인의 소정 영역을 에칭하여 비아 홀을 형성하는 단계; 및
상기 상부 패드 전극의 형성과 동시에, 상기 하부 게이트 접속 전극과 상기 게이트 링크 라인이 서로 전기적으로 접속되도록 상기 비아 홀에 상부 게이트 접속 전극을 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 11,
Before forming the lower pad electrode, forming a gate link line electrically connected to the gate signal line on a substrate, and then forming an insulating layer to cover the gate link line;
Forming a lower gate connection electrode extending from the lower pad electrode on the insulating layer overlapping the gate link line at the same time as the lower pad electrode is formed;
Simultaneously forming the via hole by etching a predetermined region of the passivation layer, the lower gate connection electrode, the insulating layer, and the gate link line; And
And forming an upper gate connection electrode in the via hole such that the lower gate connection electrode and the gate link line are electrically connected to each other at the same time as the upper pad electrode is formed. Manufacturing method.
상기 전도층은 상기 컨택 홀의 형성시 상기 하부 패드 전극의 에칭을 방지하는 것을 특징으로 하는 평판 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 8,
And wherein the conductive layer prevents etching of the lower pad electrode when the contact hole is formed.
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Legal Events
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---|---|---|---|
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190917 Year of fee payment: 4 |