KR20110081548A - Cleaning container and apparatus for cleaning a substrate having of the same - Google Patents

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KR20110081548A
KR20110081548A KR1020100001758A KR20100001758A KR20110081548A KR 20110081548 A KR20110081548 A KR 20110081548A KR 1020100001758 A KR1020100001758 A KR 1020100001758A KR 20100001758 A KR20100001758 A KR 20100001758A KR 20110081548 A KR20110081548 A KR 20110081548A
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송길훈
김붕
이주동
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세메스 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A cleaning container and apparatus for cleaning a substrate having of the same are provided to extend the lifespan of a cleaning vessel by forming the inside of an internal vessel with PTFE material. CONSTITUTION: In a cleaning container and apparatus for cleaning a substrate having of the same, an external vessel(110) of a cylindrical form has a tube at the center and provides a space for processing a substrate. An internal vessel(120) is accommodated into the external vessel and covers the inner side of the external vessel and the outside of the tube and collects a cleaning solution supplied to a substrate in process. A drain part(130) is penetrated through the bottom of the internal and external vessel and discharges the collected cleaning solution from the internal vessel. An exhausting unit(140) is interposed between the internal vessel and the tube and discharges generated gas in the process from the internal vessel.

Description

세정 용기 및 이를 갖는 기판 세정 장치{Cleaning container and apparatus for cleaning a substrate having of the same}Cleaning container and apparatus for cleaning a substrate having of the same}

본 발명은 세정 용기 및 이를 갖는 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 장치의 제조에서 반도체 웨이퍼에 대한 매엽식 세정 공정을 수행하기 위한 세정 용기 및 이를 갖는 기판 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning vessel and a substrate cleaning apparatus having the same, and more particularly, to a cleaning vessel for performing a single wafer cleaning process on a semiconductor wafer in the manufacture of a semiconductor device, and a substrate cleaning apparatus having the same.

일반적으로, 반도체 장치의 제조에서는 기판으로서 사용되는 실리콘 웨이퍼에 대하여 증착, 포토리소그래피, 식각, 이온 주입, 연마, 세정 등의 단위 공정들을 반복적으로 수행하여 목적하는 전기적 특성들을 갖는 회로 패턴들을 형성할 수 있다.In general, in the fabrication of semiconductor devices, unit processes such as deposition, photolithography, etching, ion implantation, polishing, and cleaning may be repeatedly performed on a silicon wafer used as a substrate to form circuit patterns having desired electrical characteristics. have.

특히, 세정 공정의 경우, 매 단위 공정들을 수행한 후 상기 기판 상에 잔류하는 이물질을 제거하기 위하여 수행될 수 있으며, 이물질의 종류에 따라 건식 또는 습식 공정이 진행될 수 있다. 상기 습식 세정 공정의 경우 다수의 기판들을 동시에 처리하는 배치식 방법과 낱장 단위로 처리하는 매엽식 방법이 필요에 따라 선택적으로 수행될 수 있다.In particular, the cleaning process may be performed to remove foreign matter remaining on the substrate after performing every unit process, and a dry or wet process may be performed according to the kind of foreign matter. In the case of the wet cleaning process, a batch method of simultaneously processing a plurality of substrates and a sheet type method of processing a sheet unit may be selectively performed as necessary.

상기 기판을 낱장 단위로 세정하는 매엽식 세정 공정의 경우, 상기 기판을 회전시키면서 상기 기판 상으로 세정액을 공급하는 방법이 사용될 수 있다. 특히, 상기 매엽식 세정 공정을 수행하기 위한 장치의 경우, 상기 웨이퍼를 회전시키기 위한 회전척, 상기 기판 상으로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부, 상기 기판으로 공급된 세정액을 회수하기 위한 하부가 막힌 원통 형상의 세정 용기, 상기 회전척을 회전시키기 위한 구동부 등을 포함할 수 있다.In the case of a sheet type cleaning process in which the substrate is cleaned in sheets, a method of supplying a cleaning liquid onto the substrate while rotating the substrate may be used. In particular, in the apparatus for performing the single wafer cleaning process, a rotary chuck for rotating the wafer, a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid onto the substrate, and a lower cylinder cylinder for recovering the cleaning liquid supplied to the substrate It may include a cleaning container of the shape, a drive unit for rotating the rotary chuck.

상기 세정액은 기판 상에서 제거하고자 하는 이물질에 따라 다양한 종류의 세정액들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 황산, 불산, 수산화 암모늄, 염산, 과산화수소, 등을 포함하는 다양한 케미컬들이 사용될 수 있다.The cleaning liquid may be used in various kinds of cleaning liquids depending on foreign substances to be removed on the substrate. For example, various chemicals can be used including sulfuric acid, hydrofluoric acid, ammonium hydroxide, hydrochloric acid, hydrogen peroxide, and the like.

이와 같은, 케미컬을 포함하는 세정액은 세정 용기에 부식이나 변형을 초래할 수 있어 이의 개선이 요구되고 있다. 또한, 케미컬 종류의 세정액은 공정 중에 흄(fume)이 발생되므로 이를 배기 시키기 위한 구성이 추가되어야 한다. 그러나, 종래의 세정 용기는 회수된 세정액의 배수를 위한 배수구와, 흄의 배기를 위한 배기구가 인접하며 수직 방향으로 구성되어 있어 배기 성능 저하를 초래하여 이의 개선이 요구되고 있다.Such a cleaning liquid containing chemicals may cause corrosion or deformation of the cleaning container, and improvement thereof is required. In addition, the chemical type of the cleaning liquid is generated during the process (fume), so the configuration for evacuating it should be added. However, in the conventional cleaning container, the drainage port for draining the recovered cleaning liquid and the exhaust port for exhausting the fume are adjacent to each other and are arranged in the vertical direction, which leads to a decrease in exhaust performance and is required to be improved.

본 발명을 통해 해결하려는 과제는 케미컬을 포함하는 세정액에 의한 부식 또는 변형에 대하여 내구성을 가지며 공정 중 발생되는 흄에 대한 배기 성능을 개선할 수 있는 세정 용기를 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide a cleaning container that is durable against corrosion or deformation by the cleaning liquid containing the chemical and can improve the exhaust performance for the fumes generated during the process.

본 발명을 통해 해결하려는 다른 과제는 상기 세정 용기를 포함하는 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus including the cleaning container.

상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 세정 용기는 외부 용기, 내부 용기, 배수부 및 배기부를 포함한다. 상기 외부 용기는 하부가 막혀있는 원통형으로 중앙에 튜브가 구비되며 기판에 대한 공정 공간을 제공한다. 상기 내부 용기는 상기 외부 용기에 수납되고 상기 외부 용기의 내측면 및 상기 튜브의 외측면 전체를 덮으며, 공정 진행 중에 기판으로 공급된 세정액을 회수한다. 상기 배수부는 상기 내부 및 외부 용기의 바닥을 관통하여 형성되고 상기 회수된 세정액을 상기 내부 용기로부터 배수한다. 상기 배기부는 상기 내부 용기와 상기 튜브 사이에 간격을 두고 형성되며, 상기 기판에 대한 공정 중 발생된 가스를 내부 용기로부터 배기 시킨다.In order to achieve the above object of the present invention, the cleaning container according to the present invention includes an outer container, an inner container, a drainage part, and an exhaust part. The outer container is cylindrical with a closed bottom, and has a tube in the center and provides a process space for the substrate. The inner container is housed in the outer container and covers the entire inner surface of the outer container and the outer surface of the tube, and recovers the cleaning liquid supplied to the substrate during the process. The drain is formed through the bottoms of the inner and outer containers and drains the recovered cleaning liquid from the inner container. The exhaust part is formed at intervals between the inner container and the tube, and exhausts gas generated during the process of the substrate from the inner container.

이때, 일 실시예에 따른 세정 용기에서 상기 외부 용기는 열변형에 강한 HT-PVC 재질을 포함하고, 상기 내부 용기는 내화학성에 강한 PTFE 재질을 포함할 수 있다.In this case, in the cleaning container according to an embodiment, the outer container may include a HT-PVC material resistant to heat deformation, and the inner container may include a PTFE material resistant to chemical resistance.

다른 실시예에 따른 세정 용기에서 상기 내부 용기는 상기 배기부 영역에서 내벽 및 외벽으로 구성되고, 상기 내벽 및 외벽에는 가스를 배기 시키기 위한 복수의 배기구들이 각각 형성될 수 있다.In the cleaning container according to another embodiment, the inner container includes an inner wall and an outer wall in the exhaust region, and a plurality of exhaust ports for exhausting gas may be formed in the inner wall and the outer wall, respectively.

또한, 상기 내벽에 형성된 배기구들의 위치와 상기 외벽에 형성된 배기구들의 위치는 서로 겹쳐지지 않도록 지그재그로 배열될 수 있다.In addition, the positions of the exhaust ports formed on the inner wall and the positions of the exhaust ports formed on the outer wall may be arranged in a zigzag manner so as not to overlap each other.

또 다른 실시예에 따른 세정 용기에서 상기 배기부는 상기 내부 용기의 바닥으로부터 일정 높이까지 형성되고, 상기 배기부의 상단에는 상기 튜브를 감싸는 원형 갓 형태로 형성되어 상기 세정액이 상기 배기부로 유입되는 것을 억제하기 위한 차단막을 포함할 수 있다.In the cleaning container according to another embodiment the exhaust portion is formed to a certain height from the bottom of the inner container, the upper end of the exhaust portion is formed in the shape of a circular shade to surround the tube to prevent the cleaning liquid from flowing into the exhaust portion It may include a barrier for.

상기 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 회전척, 세정액 공급부, 외부 용기, 내부 용기, 배수부, 배기부, 구동부를 포함할 수 있다. 상기 회전척을 기판을 회전시킨다. 상기 세정액 공급부는 상기 회전척 상의 기판으로 세정액을 공급한다. 상기 외부 용기는 상기 회전척을 감싸는 하부가 막혀있는 원통형으로 중앙에 튜브가 구비되며 상기 기판에 대한 공정 공간을 제공한다. 상기 내부 용기는 상기 외부 용기에 수납되고 상기 외부 용기의 내측면 및 상기 튜브의 외측면 전체를 덮으며, 공정 진행 중에 기판으로 공급된 세정액을 회수한다. 상기 배수부는 상기 내부 및 외부 용기의 바닥을 관통하여 형성되고 상기 회수된 세정액을 내부 용기로부터 배수한다. 상기 배기부는 상기 내부 용기와 상기 튜브 사이에 간격을 두고 형성되며, 상기 기판에 대한 공정 중 발생된 가스를 내부 용기로부터 배기 시킨다. 상기 구동부는 상기 튜브를 통해 상기 회전척과 연결되어 상기 회전척을 회전시킨다.In order to achieve the above object of the present invention, the substrate cleaning apparatus according to the present invention may include a rotary chuck, a cleaning liquid supply part, an outer container, an inner container, a drain part, an exhaust part, and a driving part. The rotary chuck rotates the substrate. The cleaning liquid supply unit supplies the cleaning liquid to the substrate on the rotary chuck. The outer container is a cylindrical shape in which the lower part surrounding the rotary chuck is closed, the tube is provided in the center and provides a process space for the substrate. The inner container is housed in the outer container and covers the entire inner surface of the outer container and the outer surface of the tube, and recovers the cleaning liquid supplied to the substrate during the process. The drain is formed through the bottoms of the inner and outer containers and drains the recovered cleaning liquid from the inner container. The exhaust part is formed at intervals between the inner container and the tube, and exhausts gas generated during the process of the substrate from the inner container. The drive unit is connected to the rotary chuck through the tube to rotate the rotary chuck.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 세정 용기는 내화학성을 갖는 PTFE 재질의 내부 용기가 외부 용기의 내측면 전체에 대하여 형성되어 있어 케미컬을 포함하는 세정액에 의한 부식, 변형 등을 억제할 수 있다. 따라서, 세정 용기의 수명을 연장할 수 있으며, 공정 효율을 개선할 수 있다.In the cleaning container according to the present invention configured as described above, an inner container made of PTFE material having chemical resistance is formed on the entire inner surface of the outer container, thereby preventing corrosion, deformation, and the like caused by the cleaning liquid containing the chemical. Therefore, the life of the cleaning container can be extended, and the process efficiency can be improved.

또한, 공정중 발생되는 흄의 배기가 내부 용기의 측벽을 통해서 이루어지므로 흄의 원활한 배기를 통해 배기 성능이 개선된다. 따라서, 배기 성능 개선을 통한 품질 향상 및 공정 사고 방지 등의 효과를 갖는다.In addition, since the exhaust of the fume generated during the process is made through the side wall of the inner container, the exhaust performance is improved through the smooth exhaust of the fume. Therefore, it has the effect of improving the quality and prevention of process accidents by improving the exhaust performance.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 용기를 나타내는 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 개략적인 구성도이다.1 is a schematic view showing a cleaning container according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic structural diagram of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 세정 용기 및 이를 갖는 기판 세정 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a cleaning container and a substrate cleaning device having the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the invention, and are actually shown in a smaller scale than the actual dimensions in order to explain the schematic configuration. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
On the other hand, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 용기를 나타내는 개략적인 도면이다.1 is a schematic view showing a cleaning container according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정 용기(100)는 외부 용기(110), 내부 용기(120), 배수부(130) 및 배기부(140)를 포함한다.Referring to FIG. 1, the cleaning container 100 according to an embodiment of the present invention includes an outer container 110, an inner container 120, a drain 130, and an exhaust 140.

상기 세정 용기(100)는 반도체 장치의 제조에서 기판으로서 사용되는 실리콘 웨이퍼 상의 이물질 제거를 위한 공정에서 바람직하게 사용될 수 있다. 특히, 상기 세정 용기(100)는 기판을 회전시키면서 세정 공정 및 건조 공정을 수행할 때 바람직하게 사용될 수 있으며, 케미컬을 포함하는 세정액을 이용한 기판 세정 공정에서 바람직하게 사용될 수 있다.The cleaning container 100 may be preferably used in a process for removing foreign matter on a silicon wafer used as a substrate in the manufacture of a semiconductor device. In particular, the cleaning container 100 may be preferably used when performing the cleaning process and drying process while rotating the substrate, it may be preferably used in the substrate cleaning process using a cleaning liquid containing a chemical.

본 실시예에서 상기 세정 용기(100)는 외부 용기(110)와 내부 용기(120)가 겹 구조로 구성되며, 외부 용기(110)와 내부 용기(120)는 서로 다른 재질로 이루어진 구조를 갖는다. 이를 통해서 상기 세정 용기(100)는 내화학성 및 내열성을 모두 갖도록 형성된다.In this embodiment, the cleaning container 100 has a structure in which the outer container 110 and the inner container 120 are stacked, and the outer container 110 and the inner container 120 have a structure made of different materials. Through this, the cleaning container 100 is formed to have both chemical resistance and heat resistance.

상기 외부 용기(110)는 하부가 막혀있는 원통형을 갖는다. 즉, 외부 용기(110)는 내부에 공간을 가지며, 상기 공간은 기판에 대한 세정 공정을 수행하기 위한 공간을 제공한다. 상기 외부 용기(110)는 내부 공간의 중앙에 튜브(111)가 형성된다. 상기 튜브(111)는 일 예로 원통 형상일 수 있다. 상기 튜브(111)의 내부에는 상기 세정 용기(100)가 세정 장치에 이용될 때 기판을 회전시키기 위한 구동 부재들이 구비되어 세정액으로부터 보호받기 위한 공간이다.The outer container 110 has a cylindrical shape in which the lower portion is blocked. That is, the outer container 110 has a space therein, the space provides a space for performing a cleaning process for the substrate. The outer container 110 is formed with a tube 111 in the center of the inner space. For example, the tube 111 may have a cylindrical shape. The tube 111 is provided with a driving member for rotating the substrate when the cleaning container 100 is used in the cleaning device and is protected from the cleaning liquid.

상기 외부 용기(110)는 열변형에 강한 재질을 포함하여 구성된다. 예를 들면, 상기 외부 용기(110)는 HT-PVC를 포함할 수 있다.The outer container 110 is configured to include a material resistant to heat deformation. For example, the outer container 110 may include HT-PVC.

상기 내부 용기(120)는 외부 용기(110)의 내부 공간에 수납된다. 따라서, 상기 내부 용기(120)는 외부 용기(110)의 내부 공간에 대응하는 형상을 갖는다. 즉, 상기 내부 용기(120)는 외부 용기(110)의 내부 공간에 대응하는 외관을 가지며, 그 중앙에 튜브(111)에 대응하는 형상을 갖는다. 상기 내부 용기(120)는 공정 중 기판으로 공급된 세정액을 회수하기 위한 공간이다. 즉, 기판으로 공급된 세정액은 내부 용기의 내부에 포집되어 상기 배수부(130)를 통해 배수된다. 한편, 내부 용기(120)의 내측벽에는 기판으로부터 세정액이 비산되는 것을 막기 위한 측벽(112)이 구비될 수 있다. 측벽(112)은 그 상단부가 안쪽으로 기울어진 구조를 갖는다. 따라서, 기판으로부터 비산된 세정액은 측벽(112)의 상단부 내측면에 부딪히고, 이렇게 부딪힌 세정액은 결국 내부 용기(120)의 바닥으로 모이게 된다. 여기서, 도면에서는 측벽(112)이 하나인 경우를 도시하였으나, 서로 다른 높이에서 종류에 따른 세정액을 회수하기 위하여 서로 다른 높이에 위치하는 다수의 측벽(미도시)들을 더 포함할 수도 있다.The inner container 120 is accommodated in the inner space of the outer container 110. Therefore, the inner container 120 has a shape corresponding to the inner space of the outer container 110. That is, the inner container 120 has an appearance corresponding to the inner space of the outer container 110 and has a shape corresponding to the tube 111 at the center thereof. The inner container 120 is a space for recovering the cleaning liquid supplied to the substrate during the process. That is, the cleaning liquid supplied to the substrate is collected inside the inner container and drained through the drain 130. On the other hand, the inner wall of the inner container 120 may be provided with a side wall 112 to prevent the cleaning liquid from scattering from the substrate. The side wall 112 has a structure in which the upper end thereof is inclined inward. Thus, the cleaning liquid scattered from the substrate hits the inner surface of the upper end of the side wall 112, and the cleaning liquid thus hits the bottom of the inner container 120. Here, although the case has been shown that there is only one side wall 112, it may further include a plurality of side walls (not shown) located at different heights to recover the cleaning liquid according to the type at different heights.

상기 내부 용기(120)는 케미컬을 포함하는 세정액에 상시 노출되어 있으므로, 케미컬에 대하여 내성을 갖는 재질을 포함하여 구성된다. 예를 들어, 내부 용기(120)는 PTFE를 포함할 수 있다.Since the inner container 120 is always exposed to the cleaning liquid including the chemical, the inner container 120 includes a material having resistance to the chemical. For example, inner container 120 may comprise PTFE.

상기 내부 용기(120)의 바닥에는 회수된 세정액의 배수를 위한 배수부(130)가 연결되며, 튜브(111)에 인접한 측벽에는 공정 중 발생된 흄(fume)을 배기 시키기 위한 배기부(140)가 연결된다.A drain 130 for draining the recovered cleaning liquid is connected to the bottom of the inner container 120, and an exhaust 140 for exhausting fumes generated during the process is disposed at a side wall adjacent to the tube 111. Is connected.

상기 배수부(130)는 내부 용기(120) 및 외부 용기(110)의 바닥을 관통하여 형성된다. 상기 배수부(130)는 내부 및 외부(120, 110)의 바닥을 관통하여 외부로 연장하다. 배수부(130)는 앞서 언급한 바와 같이 내부 용기(120)의 내부 공간에 회수된 세정액을 내부 용기(120)로부터 배수하는 역할을 한다. 예를 들면, 배수부(130)는 내부 용기(120)의 내부까지 연결된 유로일 수 있다. 배수부(130)는 내부 용기(120) 및 외부 용기(110)의 바닥에 형성되어 수직 배수가 이루어진다. 한편, 도면에서는 하나의 배수부(130)가 일측에 형성된 것으로 도시하였으나, 배수부(130)는 서로 간격을 두고 둘 이상 형성될 수 있다.The drain 130 is formed through the bottom of the inner container 120 and the outer container 110. The drain 130 extends to the outside through the bottom of the inner and outer (120, 110). As described above, the drain 130 may drain the cleaning liquid recovered in the inner space of the inner container 120 from the inner container 120. For example, the drain 130 may be a flow path connected to the inside of the inner container 120. Drainage 130 is formed at the bottom of the inner container 120 and the outer container 110 is a vertical drainage. Meanwhile, in the drawing, although one drain 130 is formed on one side, the drain 130 may be formed more than two at intervals from each other.

상기 배기부(140)는 내부 용기(120)와 튜브(111) 사이에 간격을 두고 형성된다. 내부 용기(120)에서 튜브(111)와 마주하는 벽면에 구비된다. 예를 들어, 배기부(140)는 내부 용기(120) 바닥으로부터 일정 높이까지 형성된다. 즉, 내부 용기(120)는 바닥으로부터 일정 높이까지 튜브(111)와 간격을 갖도록 튜브(111)보다 큰 직경을 갖는다. 배기부(140)는 배관을 통해서 외부로 연장되며, 외부로 연장되는 유로 상에는 배기를 위한 펌프(141)가 구비된다.The exhaust 140 is formed at intervals between the inner container 120 and the tube 111. The inner container 120 is provided on the wall facing the tube 111. For example, the exhaust 140 is formed to a certain height from the bottom of the inner container 120. That is, the inner container 120 has a larger diameter than the tube 111 to be spaced apart from the tube 111 from the bottom to a certain height. The exhaust unit 140 extends to the outside through the pipe, the pump 141 for exhaust is provided on the flow path extending to the outside.

본 실시예에서 배기부(140)는 내부 용기(120)의 측벽 구간에 형성된다. 즉, 내부 용기(120)는 배기구(140)에 대응하는 구간(바닥으로부터 일정 높이)이 내벽(121) 및 외벽(122)으로 구성된다. 내벽(121)은 튜브(111)와 간격을 두고 튜브(111)를 감싸는 구조를 가지며, 외벽은(122)은 내벽(121)과 간격을 두고 내벽(121)을 감싸는 구조를 갖는다. 내벽(121) 및 외벽(122)은 차단막(123)에 의해 연결된다. 내벽 및 외벽(121, 122)에는 배기를 위한 배기구(121a, 122a)들이 구비된다. 이때, 내벽 및 외벽(121, 122)에 형성된 배기구(121a, 122a)들은 서로 겹쳐지지 않도록 형성된다. 이를 위해, 배기구(121a, 122a)들은 그 위치가 서로 지그재그로 배열될 수 있다. 따라서, 세정액이 배기구(121a, 122a)로 유입되더라도 배기부(140)를 통해서 배수되는 것을 억제할 수 있다. 상기 차단막(123)은 내벽 및 외벽(121, 122)의 상단에서 내벽 및 외벽(121, 122)을 커버한다. 예를 들어, 차단막(123)은 튜브(111)를 감싸는 원형 갓 형태로 형성되고, 내벽 및 외벽(121, 122)은 차단막(123)의 하면으로부터 각각 연장될 수 있다. 상기 차단막(123)은 내벽 및 외벽(121, 122)을 완전히 커버할 수 있도록 외벽(122)의 위치보다 길게 연장된다. 또한, 차단막(123)은 튜브(111)로부터 멀어질수록 하방으로 기울어진 구조를 갖는다. 따라서, 차단막(123) 상부에 떨어진 세정액은 차단막(123)을 타고 내부 용기(120)의 바닥으로 떨어지게 된다.In the present embodiment, the exhaust unit 140 is formed in the side wall section of the inner container 120. That is, in the inner container 120, the section (the predetermined height from the bottom) corresponding to the exhaust port 140 is composed of the inner wall 121 and the outer wall 122. The inner wall 121 has a structure surrounding the tube 111 at intervals from the tube 111, and the outer wall 122 has a structure surrounding the inner wall 121 at intervals from the inner wall 121. The inner wall 121 and the outer wall 122 are connected by the blocking film 123. The inner and outer walls 121 and 122 are provided with exhaust ports 121a and 122a for exhausting air. At this time, the exhaust ports 121a and 122a formed on the inner wall and the outer wall 121 and 122 are formed not to overlap each other. To this end, the exhaust openings 121a and 122a may be arranged in a zigzag position at each other. Therefore, even if the cleaning liquid flows into the exhaust ports 121a and 122a, it is possible to suppress the drainage through the exhaust unit 140. The blocking layer 123 covers the inner and outer walls 121 and 122 at the upper ends of the inner and outer walls 121 and 122. For example, the blocking film 123 may be formed in a circular shade shape surrounding the tube 111, and the inner and outer walls 121 and 122 may extend from the bottom surface of the blocking film 123, respectively. The blocking film 123 extends longer than the position of the outer wall 122 so as to completely cover the inner and outer walls 121 and 122. In addition, the blocking film 123 has a structure inclined downward as it moves away from the tube 111. Therefore, the cleaning liquid dropped on the blocking film 123 is dropped to the bottom of the inner container 120 by riding the blocking film 123.

이와 같이, 상기 세정 용기(100)는 외부 용기(110)가 내열성에 강한 재질로 형성되어 그 형태를 유지하며, 케미컬을 포함하는 세정액이 접촉하는 내부 용기(120)는 내화학성에 강한 재질로 형성됨으로써 케미컬에 의한 부식, 변형 등을 예방할 수 있다. 또한, 세정액의 배수는 수직 방향으로 이루어지고, 흄의 배기는 수평 방향으로 이루어짐으로써 흄의 배기 성능이 개선된다.As described above, the cleaning container 100 is formed of a material resistant to heat and the outer container 110 maintains its shape, and the inner container 120 to which the cleaning liquid containing the chemical contacts is formed of a material resistant to chemicals. By doing so, corrosion, deformation and the like due to chemicals can be prevented. In addition, since the drainage of the cleaning liquid is made in the vertical direction, and the exhaust of the fume is made in the horizontal direction, the exhaust performance of the fume is improved.

이하, 상기 세정 용기(100)가 사용된 기판 세정 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, the substrate cleaning apparatus using the said cleaning container 100 is demonstrated.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 개략적인 구성도이다.2 is a schematic structural diagram of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

여기서, 도 2에 도시된 기판 세정 장치(200)에서 일부 구성 요소들은 앞서 세정 용기(100)의 구성과 동일하므로 동일 부재에 대해서는 동일한 부호를 사용하고, 중복되는 부분은 그 상세한 설명을 생략하고 차이점 위주로 간략하게 설명하기로 한다.Here, in the substrate cleaning apparatus 200 illustrated in FIG. 2, some components are the same as the configuration of the cleaning container 100, and thus the same reference numerals are used for the same members, and overlapping portions will not be described in detail. The following description will focus briefly.

상기 기판 세정 장치(200)는 외부 용기(110), 내부 용기(120), 배수부(130), 배기부(140), 회전척(150), 구동부(160) 및 세정액 공급부(170)를 포함한다.The substrate cleaning apparatus 200 includes an outer container 110, an inner container 120, a drainage part 130, an exhaust part 140, a rotary chuck 150, a driving part 160, and a cleaning liquid supply part 170. do.

상기 외부 용기(110)의 내부에 내부 용기(120)가 수납되어 겹 구조를 가지며, 외부 용기(110) 및 내부 용기(120)는 각각 내열성 및 내화학성이 강한 재질을 포함한다.The inner container 120 is accommodated inside the outer container 110 to have a layered structure, and the outer container 110 and the inner container 120 each include a material having high heat resistance and chemical resistance.

상기 배수부(130)는 내부 용기(120)의 내부로 회수된 세정액을 배수하는 역할을 하며, 배기부(140)는 공정 중 발생된 흄을 배기 시키는 역할을 한다.The drainage unit 130 serves to drain the cleaning liquid recovered into the interior of the inner container 120, and the exhaust unit 140 serves to exhaust the fume generated during the process.

상기 회전척(150)은 상면에 기판(10)이 놓여지며, 상기 기판(10)을 회전시키면서 세정 공정 및 건조 공정을 수행할 수 있다. 도시하진 않았지만 회전척(150)은 기판(10)을 회전시키는 동안 안정적으로 파지하기 위하여 기판(10)의 가장자리 부위를 파지하기 위한 다수의 홀더들을 포함할 수 있으며, 예를 들어 상기 홀더들은 집게 형태로 기판(10)을 파지 할 수 있다.The rotary chuck 150 may have a substrate 10 disposed on an upper surface thereof, and may perform a cleaning process and a drying process while rotating the substrate 10. Although not shown, the rotary chuck 150 may include a plurality of holders for holding an edge portion of the substrate 10 to stably grip the substrate 10 while rotating the substrate 10. The substrate 10 can be gripped with a furnace.

상기 구동부(160)는 외부 용기(110)의 튜브(111) 내부에 구비되며, 회전척(150)에 연결되어 회전척(150)을 회전시킨다. 예를 들어, 구동부(160)는 회전력을 발생시키는 모터(미도시)를 포함하고, 상기 모터에서 발생된 회전력을 상기 회전척(150)에 전달하기 위한 구동축으로 구성될 수 있다.The drive unit 160 is provided inside the tube 111 of the outer container 110 and is connected to the rotary chuck 150 to rotate the rotary chuck 150. For example, the driving unit 160 may include a motor (not shown) that generates a rotational force, and may be configured as a drive shaft for transmitting the rotational force generated by the motor to the rotation chuck 150.

상기 세정액 공급부(170)는 회전척(150)에 놓여진 기판(10)의 상방에 위치한다. 세정액 공급부(170)는 회전척(150)에 의해 회전하는 기판(10)으로 세정액을 공급하는 역할을 한다. 상기 세정액의 예로는 황산 수용액, 불산 수용액, 수산화 암모늄을 포함하는 SC-1(Standard cleaning 1) 수용액, 염산을 포함하는 SC-2(Standard cleaning 2) 수용액, 등이 사용될 수 있다. 상기 세정액 공급부(170)는 세정액을 분사하는 방식으로 공급하게 되며, 분사를 위한 노즐이 기판(10) 상에서 수평 이동하면서 기판(10)의 표면에 균일하게 세정액을 분사하도록 구성될 수 있다.The cleaning solution supply unit 170 is positioned above the substrate 10 placed on the rotary chuck 150. The cleaning solution supply unit 170 supplies the cleaning solution to the substrate 10 that is rotated by the rotary chuck 150. Examples of the cleaning solution may be a sulfuric acid solution, hydrofluoric acid solution, SC-1 (Standard cleaning 1) solution containing ammonium hydroxide, SC-2 (Standard cleaning 2) solution containing hydrochloric acid, and the like. The cleaning solution supply unit 170 supplies the cleaning solution by spraying the cleaning solution, and may be configured to uniformly spray the cleaning solution onto the surface of the substrate 10 while the nozzle for spraying moves horizontally on the substrate 10.

상기 세정액 공급부(170)에 의해 기판(10)으로 공급된 세정액은 기판(10)의 회전에 의해 비산하게 되고, 비산된 세정액은 측벽(112)들에 의해 내부 용기(120)의 내부에 수집된다. 이렇게 수집된 세정액은 배수부(130)를 통해서 내부 용기(120)로부터 배수된다. 또한, 기판(10)으로 공급된 세정액은 흄을 발생시킨다. 이렇게 발생된 흄은 일차적으로 내부 용기(120)의 내부로 포집된 후, 배기부(140)를 통해서 내부 용기(120)의 외부로 배기 된다.The cleaning liquid supplied to the substrate 10 by the cleaning liquid supply unit 170 is scattered by the rotation of the substrate 10, and the scattering cleaning liquid is collected inside the inner container 120 by the side walls 112. . The collected cleaning liquid is drained from the inner container 120 through the drain 130. In addition, the cleaning liquid supplied to the substrate 10 generates fumes. The fumes generated in this way are first collected in the interior of the inner container 120, and then exhausted to the outside of the inner container 120 through the exhaust unit 140.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 세정 용기 및 이를 갖는 기판 세정 장치는 케미컬을 포함하는 세정액을 이용하여 기판의 세정 공정을 진행할 때, 세정 용기가 외부 용기 및 내부 용기의 겹 구조를 갖고 내부 용기가 내화학성에 강한 재질로 형성됨으로써, 세정액이 의해 용기가 부식, 변형되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 외부 용기와 내부 용기의 이음 부분에는 세정액이 직접적으로 접촉하지 않으므로, 용기의 변형을 효과적으로 억제할 수 있다.As described above, in the cleaning container and the substrate cleaning device having the same according to the preferred embodiment of the present invention, when the cleaning process of the substrate is performed by using the cleaning liquid containing the chemical, the cleaning container has a structure in which the outer container and the inner container are stacked. In addition, since the inner container is formed of a material resistant to chemical resistance, it is possible to suppress corrosion and deformation of the container by the cleaning liquid. Further, since the cleaning liquid does not directly contact the joint portion of the outer container and the inner container, deformation of the container can be effectively suppressed.

또한, 회수된 세정액의 배수는 바닥에 수집되어 수직 방향으로 이루어지고, 공정 중 발생한 흄의 배기는 수평 방향으로 이루어지므로, 세정액의 배수로 인한 배기 성능 저하를 개선하여 배기 성능이 향상될 수 있다. 이를 통해, 품질 향상 및 공정 사고 방지할 수 있다.In addition, since the collected drainage of the washing liquid is collected at the bottom and made in the vertical direction, and the exhaust of the fume generated during the process is made in the horizontal direction, the exhaust performance may be improved by improving the deterioration of the exhaust performance due to the draining of the washing liquid. This improves quality and prevents process accidents.

따라서, 본 발명의 세정 용기 및 이를 갖는 기판 세정 장치는 케미컬 포함하는 세정액을 이용한 기판 세정 공정을 위해서 바람직하게 사용될 수 있다.Therefore, the cleaning container of the present invention and the substrate cleaning apparatus having the same can be preferably used for the substrate cleaning process using the cleaning liquid containing the chemical.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.

100: 세정 용기 110: 외부 용기
111: 튜브 112: 측벽
120: 내부 용기 121: 내벽
122: 외벽 121a, 122a: 배기구
123: 차단막 130: 배수부
140: 배기부 141: 펌프
150: 회전척 160: 구동부
170: 세정액 공급부 10: 기판100: cleaning container 110: outer container
111: tube 112: side wall
120: inner container 121: inner wall
122: outer wall 121a, 122a: exhaust port
123: blocking film 130: drain
140: exhaust portion 141: pump
150: rotary chuck 160: drive unit
170: cleaning liquid supply unit 10: substrate

Claims (6)

하부가 막혀있는 원통형으로 중앙에 튜브가 구비되며 기판에 대한 공정 공간을 제공하는 외부 용기;
상기 외부 용기에 수납되고 상기 외부 용기의 내측면 및 상기 튜브의 외측면 전체를 덮으며, 공정 진행 중에 기판으로 공급된 세정액을 회수하기 위한 내부 용기;
상기 내부 및 외부 용기의 바닥을 관통하여 형성되고 상기 회수된 세정액을 내부 용기로부터 배수하기 위한 배수부; 및
상기 내부 용기와 상기 튜브 사이에 간격을 두고 형성되며, 상기 기판에 대한 공정 중 발생된 가스를 상기 내부 용기로부터 배기 시키기 위한 배기부를 포함하는 세정 용기.An outer container provided with a tube in the center of which the lower part is closed and providing a process space for the substrate;
An inner container which is housed in the outer container and covers the inner side of the outer container and the entire outer side of the tube, and recovers the cleaning liquid supplied to the substrate during the process;
A drain formed through the bottom of the inner and outer containers and for draining the recovered cleaning liquid from the inner container; And
A spaced portion between the inner container and the tube, the cleaning container including an exhaust portion for exhausting the gas generated during the process of the substrate from the inner container. 제1항에 있어서, 상기 외부 용기는 열변형에 강한 HT-PVC 재질을 포함하고, 상기 내부 용기는 내화학성에 강한 PTFE 재질을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 용기.The cleaning container of claim 1, wherein the outer container includes a HT-PVC material resistant to heat deformation, and the inner container comprises a PTFE material resistant to chemical resistance. 제1항에 있어서, 상기 내부 용기는 상기 배기부 영역에서 내벽 및 외벽으로 구성되며 상기 내벽 및 외벽에는 가스를 배기 시키기 위한 복수의 배기구들이 각각 형성된 것을 특징으로 하는 세정 용기.The cleaning container according to claim 1, wherein the inner container includes an inner wall and an outer wall in the exhaust region, and a plurality of exhaust ports are formed in the inner wall and the outer wall to exhaust gas, respectively. 제3항에 있어서, 상기 내벽에 형성된 배기구들의 위치와 상기 외벽에 형성된 배기구들의 위치는 서로 겹쳐지지 않도록 지그재그로 배열된 것을 특징으로 하는 세정 용기.The cleaning container according to claim 3, wherein the positions of the exhaust ports formed on the inner wall and the positions of the exhaust ports formed on the outer wall are arranged in a zigzag manner so as not to overlap each other. 제1항에 있어서, 상기 배기부는 상기 내부 용기의 바닥으로부터 일정 높이까지 형성되며, 상기 배기부의 상단에는 상기 튜브를 감싸는 원형 갓 형태로 형성되어 상기 세정액이 상기 배기부로 유입되는 것을 억제하기 위한 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 용기.According to claim 1, wherein the exhaust portion is formed to a certain height from the bottom of the inner container, the upper end of the exhaust portion is formed in the shape of a circular shade to surround the tube to block the blocking film to prevent the cleaning liquid from flowing into the exhaust portion Cleaning container comprising a. 기판을 회전시키기 위한 회전척;
상기 회전척 상의 기판으로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부;
상기 회전척을 감싸는 하부가 막혀있는 원통형으로 중앙에 튜브가 구비되며 상기 기판에 대한 공정 공간을 제공하는 외부 용기;
상기 외부 용기에 수납되고 상기 외부 용기의 내측면 및 상기 튜브의 외측면 전체를 덮으며, 공정 진행 중에 기판으로 공급된 세정액을 회수하기 위한 내부 용기;
상기 내부 및 외부 용기의 바닥을 관통하여 형성되고 상기 회수된 세정액을 상기 내부 용기로부터 배수하기 위한 배수부;
상기 내부 용기와 상기 튜브 사이에 간격을 두고 형성되며, 상기 기판에 대한 공정 중 발생된 가스를 내부 용기로부터 배기 시키기 위한 배기부; 및
상기 튜브를 통해 상기 회전척과 연결되어 상기 회전척을 회전시키는 구동부를 포함하는 기판 세정 장치.A rotary chuck for rotating the substrate;
A cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to the substrate on the rotary chuck;
An outer container having a tube in the center of which the lower part of the rotary chuck surrounding the rotating chuck is closed and providing a process space for the substrate;
An inner container which is housed in the outer container and covers the inner side of the outer container and the entire outer side of the tube, and recovers the cleaning liquid supplied to the substrate during the process;
A drain portion formed through the bottoms of the inner and outer containers and for draining the recovered cleaning liquid from the inner container;
An exhaust portion formed at intervals between the inner container and the tube and configured to exhaust gas generated during the process of the substrate from the inner container; And
And a driving part connected to the rotary chuck through the tube to rotate the rotary chuck.
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