KR20110081382A - 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물, 그 제조방법 및 이를 포함하는 약제학적 조성물 - Google Patents

결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물, 그 제조방법 및 이를 포함하는 약제학적 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물, 그 제조방법 및 이를 포함하는 약제학적 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 용해도, 안정성 및 비흡습성 등의 물리화학적 성질이 우수하므로 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형간염(HBV) 치료용 약제학적 조성물로 유용하게 사용될 수 있다.

Description

결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물, 그 제조방법 및 이를 포함하는 약제학적 조성물{CRYSTALLINE ADEFOVIR DIPIVOXIL ANHYDROUS, PREPARATION METHOD THE SAME AND PHARMACEUTICAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME}
본 발명은 아데포비어 디피복실(9-[2-[[비스[(피발로일옥시)-메톡시]포스피닐]메톡시]에틸]아데닌)의 신규 결정성 술폰산염 무수물, 그 제조방법 및 이를 유효성분으로 포함하는 약제학적 조성물에 관한 것이다.
아데포비어 디피복실(Adefovir dipivoxil)은 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형 간염(HBV)에 뛰어난 항바이러스 활성을 나타내는 약물로서 B형 간염치료제 등으로 사용된다.
US 5,663,159호에는 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형간염(HBV)에 뛰어난 항바이러스 활성을 나타내는 아데포비어 디피복실 염기 및 이의 제조방법을 개시하고 있다. 하기 [반응식 1]에 나타낸 바와 같이, 하기 화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기는 하기 화학식 (IV)의 9-(2-포스포닐메톡시)에틸아데닌(9-(2-Phosphonylmethoxy)ethyladenine), 일명 아데포비어(Adefovir)와 화학식 (V)의 클로로메틸 피발레이트(Chloromethyl pivalate)로부터 수득될 수 있다.
[반응식 1]
Figure pat00001
상기의 아데포비어 디피복실 염기를 제조함으로써 B형간염 치료제의 용도로 유용하게 이용할 수 있다는 사실이 알려져 있지만, 상기 반응 공정상 단순히 칼럼 정제 및 농축에 의하여 아데포비어 디피복실 염기를 제조함으로서 공업적으로 이용하기는 매우 부적합하다는 문제가 있었다.
한편 상기 공지기술인 US 5,663,159호의 산업적 이용에 관한 문제점을 해결하고자, US 6,451,340호에서는 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염의 4가지 결정 형태(Crystalline form)에 대하여 제시하고 있다. 하기 [반응식 2]에서 나타낸 바와 같이 하기 화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기로부터 4가지 결정형태, 즉 하기 화학식 (II-1)로 표시되는 무수 결정형(Anhydride)인 아데포비어 디피복실 염기(Form-1), 하기 화학식 (II-2)로 표시되는 수화물 결정형(Hydrate)인 아데포비어 디피복실 중수화물(Form-2), 하기 화학식 (II-3)으로 표시되는 메탄올로부터 용매화(Solvate)된 아데포비어 디피복실 메탄올·용매화물(Form-3) 및 하기 화학식 (II-4)로 표시되는 산부가염인 아데포비어 디피복실 푸마르산염(Form-4)을 제조할 수 있다. 이들 중 하기 화학식 (II-1)의 아데포비어 디피복실 염기(Form-1)는 무수 결정형태로서 안정한 결정성 염기로 존재하기 때문에 산업적 이용이 가능한 화합물이며, 현재 B형간염 치료제로서 알려진 헵세라(Hepsera)정의 의약품에 활성성분으로 이용되고 있다.
[반응식 2]
Figure pat00002
상기의 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염 등의 4가지 결정 형태를 제조함으로서 산업적 이용의 문제를 해결하여 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형간염(HBV) 치료제로 유용하게 사용될 수 있으나, 통상 의약품의 활성성분으로 이용되려면 1)비흡습성, 2)물리 화학적 안정성, 3)광 안정성 등의 일반적 필요조건뿐만 아니라 그 활성성분의 물에 대한 용해도가 일반적 기준 이상이어야 한다. 즉, 활성성분의 물에 대한 용해도는 약학 조성물의 생체내로 용해되는 용출속도에 큰 영향을 미치며, 결과적으로 약물의 생체내로 흡수되는 생체 이용률에 또한 영향을 미치게 된다. 일반적으로 pH 1.0 내지 혈액의 pH인 7.4의 범위에서 1㎎/ml 이상의 용해도가 바람직하며, 생체 내의 흡수과정에서 약학조성물의 붕해율을 고려하면 용해도가 3㎎/ml 보다 낮은 경우에는 생체 내 투여시 흡수과정에서 제한적인 영향을 받을 수 있다. 현재 B형 간염 치료제로 시판되고 있는 헵세라 정에 함유된 활성성분인 상기 화학식 (II-1)의 무수 결정형인 아데포비어 디피복실 염기의 경우 용해도가 0.4㎎/ml로서 일반적 용해도 기준인 3㎎/ml보다 매우 낮은 용해도를 가지며 공지의 화학식 (II-4)의 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 경우 용해도가 5.78㎎/ml로서 기준인 3㎎/ml보다 높지만 크게 개선되지 않았음을 알 수 있다.[참조 : Merck Index, 14th. Ed. 및 하기 실험예 2.]
또한, 의약품의 활성성분이 보다 효율적으로 이용되려면 '활성성분의 균일화'라는 특정조건도 만족하여야 한다. 즉, 활성성분의 흡습성이 강하면 흡수된 수분에 의한 결정 성상의 변화, 광분해 및 화학적 분해를 유발시킬 수 있고, 이 경우 활성성분에 대한 치료효능이 떨어질 수 있으며, 다른 형태의 활성성분이 있을 경우 그 제형화에 문제점이 있을 수 있다. 현재 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형간염(HBV) 치료제로 시판되고 있는 헵세라정에 함유된 활성성분인 상기 화학식(II-1)의 무수 결정형인 아데포비어 디피복실 염기의 경우, 수분 및 열에 의한 안정성 시험과 광안정성 시험시[참조: 실험예 4. 및 실험예 5.] 활성성분의 변화(상기 화학식 (II-2)의 아데포비어 디피복실 중수화물로 변화) 및 외관의 색상변화가 발생하였다. 이는 아데포비어 디피복실 염기를 활성성분으로 이용한 의약품의 사용시 많은 보관상 문제점이 발생한다는 증거이다. 또한 아데포비어 디피복실 염기는 물리화학적 성질이 서로 다른 결정다형이 존재[참조: 대한민국 특허공개 제10-2005-0086519호]하기 때문에 제조 방법에 따라서 두 개 이상의 결정형이 서로 다른 비율로 혼합되어 생성될 수 있다. 이는 약학적 조성물로 사용하는 활성성분의 균일성을 유지해야 한다는 점에서 유리하지 못하다.
이에 본 발명자들은 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형간염의 유용한 치료제로 이용될 수 있는 아데포비어 디피복실 산부가염 중 용해도, 안정성 및 비흡습성 등의 물리 화학적 성질이 기존의 아데포비어 디피복실 염기에 비하여 우수하면서 약제학적인 염의 안정성 및 용출력이 뛰어나 생체이용률의 향상 및 개선이 기대되는 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 발명함으로써 선행 공지 기술상의 문제점을 해결하였고 아울러 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 목적은 뉴클레오티드 역전사 효소 저해제로서 AIDS(HIV) 및 B형간염(HBV) 치료제로 유용하게 이용될 수 있는 아데포비어 디피복실 산부가염 중에서 비흡습성 및 물리화학적 안정성을 충분히 갖추고 있으면서, 동시에 물에 대한 용해도가 우수한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 유효성분으로 포함하는 B형 간염 치료용 약제학적 조성물을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면 하기 화학식 (I)의 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물이 제공된다.
Figure pat00003
[여기서 술폰산은 파라-톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid), 벤젠술폰산(Benzenesulfonic acid) 또는 에탄디술폰산(Ethanedisulfonic acid)이다]
상기 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따르면, 아데포비어 디피복실 염기를 극성 또는 비극성 유기용매에 용해시키는 단계; 술폰산 또는 술폰산 수화물을 극성 또는 비극성 유기용매에 용해시킨 후 상기 아데포비어 디피복실 염기 반응액에 첨가하거나, 술폰산 또는 술폰산 수화물을 직접 상기 아데포비어 디피복실 염기 반응액에 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계; 및 상기 혼합물을 교반하여 얻은 고체를 여과, 세척 및 건조하는 단계를 포함하는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법이 제공된다.
상기 또 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면 상기 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물 및 약제학적으로 허용 가능한 담체를 포함하는 B형 간염 치료용 약제학적 조성물이 제공된다.
본 발명의 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 종래의 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염으로서 이용되던 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 비교하여 수분 및 열에 대한 안정성, 광안정성 및 비흡습성 등의 물리화학적 성질이 우수하며, 제형화 하였을 경우 용출속도가 양호하여 우수한 생체이용률을 기대할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물의 X-선 회절분광 스펙트럼(X-ray Diffraction Spectrum)을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물의 X-선 회절분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물의 X-선 회절분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 4는 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기의 X-선 회절분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 5는 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 X-선 회절분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물의 시차주사 열량 기록도(Differential Scanning Calorimeter Thermogram)를 나타낸 것이다.
도 7은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물의 시차주사 열량 기록도를 나타낸 것이다.
도 8은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물의 시차주사 열량 기록도를 나타낸 것이다.
도 9는 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기의 시차주사 열량 기록도를 나타낸 것이다.
도 10은 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 시차주사 열량 기록도를 나타낸 것이다.
도 11은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물의 열무게 분석도(Thermogravimetric Analyzer)를 나타낸 것이다.
도 12는 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물의 열무게 분석도를 나타낸 것이다.
도 13은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물의 열무게 분석도를 나타낸 것이다.
도 14는 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기의 열무게 분석도를 나타낸것이다.
도 15는 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 열무게 분석도를 나타낸 것이다.
도 16은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물의 핵자기 공명분광 스펙트럼(Nuclear Magnetic Resonance Spectrum)을 나타낸 것이다.
도 17은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물의 핵자기 공명분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 18은 본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물의 핵자기 공명분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 19는 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기의 핵자기 공명분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
도 20은 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 핵자기 공명분광 스펙트럼을 나타낸 것이다.
이하 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
본 발명은 종래의 아데포비어 디피복실 염기 및 다른 산부가염에 비해 우수한 안정성, 용해도 및 비흡습성을 가지며 제형화시 우수한 용출율을 가지는 새로운 결정형의 염에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면 하기의 화학식 (I)로 표시되는 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물이 제공된다.
Figure pat00004
[여기서 술폰산은 파라-톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid), 벤젠술폰산(Benzenesulfonic acid) 또는 에탄디술폰산(Ethanedisulfonic acid)이다]
상기 화학식 (I)에 있어서, 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물은 하기 화학식 (I-1)로 표시되며 X-선 회절 분석에서 I/Io≥200인 경우의 2θ의 피크값이 3.86±0.2, 7.78±0.2, 16.76±0.2, 16.96±0.2, 20.32±0.2, 20.78±0.2, 24.62±0.2, 28.52±0.2인 것을 특징으로 한다.
또한, 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물은 하기 화학식 (I-2)로 표시되며 X-선 회절 분석에서 I/Io≥200인 경우의 2θ의 피크값이 3.30±0.2, 9.96±0.2, 13.30±0.2, 17.60±0.2, 19.46±0.2, 20.50±0.2, 25.84±0.2인 것을 특징으로 한다.
또한, 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물은 하기 화학식 (I-3)으로 표시되며, X-선 회절 분석에서 I/Io≥200인 경우의 2θ의 피크값이 3.28±0.2, 4.96±0.2, 16.66±0.2, 19.20±0.2, 19.94±0.2인 것을 특징으로 한다.
Figure pat00005
본 발명에 따른 상기 화학식 (I)의 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 종래의 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염으로서 이용되던 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 비교하여 수분 및 열에 대한 안정성, 광안정성이 우수하고 비흡습성도 우수하였다.
또한 본 발명에 따른 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 공지의 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기의 용해도인 0.40㎎/ml보다 매우 높고, 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 용해도인 5.78㎎/ml보다 월등히 높아, 물에 대한 양호한 용해도를 나타내었다. 이는 본 발명에 따른 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 약학 조성물로 이용시, 용출속도가 우수하여 생체 이용률 또한 증가한다는 것을 나타낸다.
본 발명의 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 하기 [반응식 3]에 나타낸 바와 같이, 하기 화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기와 화학식 (III)의 술폰산 또는 술폰산 수화물로부터 고수율로 순수하게 제조될 수 있다.
[반응식 3]
Figure pat00006
여기서 술폰산은 파라-톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid), 벤젠술폰산 (Benzenesulfonic acid), 에탄디술폰산(Ethanedisulfonic acid)이다.
즉 본 발명에 따르면
1)화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기를 극성 또는 비극성 유기용매에 용해시키는 단계;
2)화학식 (III)의 술폰산 또는 술폰산 수화물을 극성 또는 비극성 유기용매에 용해시킨 후 상기 아데포비어 디피복실 염기 반응액에 첨가하거나, 술폰산 또는 술폰산 수화물을 직접 상기 아데포비어 디피복실 염기 반응액에 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계; 및
3)상기 혼합물을 교반하여 얻은 고체를 여과, 세척 및 건조하는 단계를 포함하는 상기 화학식 (I)로 표시되는 본 발명의 신규 결정성 아데포비어 디피피복실 술폰산염 무수물의 제조방법이 제공된다.
본 발명에 따른 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 아데포비어 디피복실 염기 함유 용액 내에 술폰산 또는 술폰산 수화물을 첨가하여 제조하며, 각 제조 단계를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
제 1단계 제조과정에서는 상기 화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기를 극성 또는 비극성 유기용매를 사용하여 용해시킨다. 이때 극성 또는 비극성 유기용매는 화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기 1g 중량에 대하여 2 내지 20ml, 바람직하게는 5 내지 15ml의 비율로 사용할 수 있다.
제 2단계는 아데포비어 디피복실 염기 함유 반응액에 파라-톨루엔술폰산, 벤젠술폰산 및 에탄디술폰산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 상기 화학식 (III)의 술폰산 또는 술폰산 수화물을 첨가하는 과정으로서, 화학식 (III)의 술폰산 또는 술폰산 수화물의 양은 화학식 (II)의 아데포비어 디피복실 염기 1 몰당량에 대하여 0.5 내지 2 몰당량, 바람직하게는 0.8 내지 1.2 몰당량의 비율로 사용할 수 있다.
상기 제 1단계 및 제 2단계에서 사용되는 극성 유기용매로서 바람직한 것은 아세트산 에틸, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 및 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, t-부탄올 등의 탄소수 1∼4의 저급 알콜성 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 임의의 용매, 또는 이들의 혼합물을 들 수 있으며, 비극성 유기용매로서 바람직한 것은 에틸에테르, 이소프로필에테르, 톨루엔, 벤젠, 클로로포름 및 디클로로메탄으로 이루어지는 군에서 선택되는 임의의 용매 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.
제 3단계는 화합물 (I)의 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 형성하는 단계로서 약 0℃ 내지 150℃, 바람직하게는 약 20℃ 내지 60℃의 온도범위에서, 약 1시간 내지 20시간, 바람직하게는 약 3시간 내지 12시간 동안 수행한다.
또한 본 발명에 따르면 상기 신규 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 활성성분으로 포함하고, 약제학적으로 사용되는 통상적인 부형제, 결합제, 붕해제, 활택제 등의 첨가물을 포함하는, B형 간염 및 이와 관련된 질환을 치료하기 위한 약제학적 조성물이 제공된다.
본 발명에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 활성성분으로 포함하는 약학 조성물에 있어서, 바람직한 투여 형태는 정제 또는 캡슐제를 사용한 경구 투여이다. 이 때 첨가제로서 1)유당, 전분, 백당, 만니톨, 소르비톨, 포도당, 미세결정셀룰로오스, 인산일수소칼슘 등의 부형제, 2)카르복시메틸셀룰로오스 나트륨 및 다른 셀룰로오스 유도체; 전분, 젤라틴, 포비돈, 아라비아 고무 등의 결합제, 3)전분; 전분글리콜산나트륨과 같은 전분 유도체; 카르복시메틸셀룰로오스 칼슘, 가교 카르복시메틸셀룰로오스와 같은 카르복시메틸셀룰로오스 유도체 및 미세결정셀룰로오스, 가교 포비돈 등의 결합제, 4)스테아르산과 이의 약제학적으로 허용되는 알카리금속염이나 아민염, 콜로이드성 이산화규소, 규산염류, 탈크 등의 활택제 등이 사용될 수 있다. 또한, 상기의 첨가제 없이 또는 첨가제와 함께 활성성분을 함유하는 경질 또는 연질캡슐을 통상적인 방법으로 제조할 수 있다.
본 발명의 정제 및 캡슐제 중에 함유되는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 양은 아데포비어 디피복실 염기를 기준으로 1∼50㎎ 정도가 적당하다. 예를 들면, 본 발명에 따른 약학 조성물의 제조 시 총중량 243.4㎎ 중 활성 성분으로서 화학식 (I-1)의 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물 13.4㎎(아데포비어 디피복실 염기로서 10㎎), 유당 120㎎, 미세결정셀룰로오스 80㎎, 포비돈 16㎎, 전분글리콜산나트륨 10㎎, 콜로이드성 이산화규소 1㎎, 스테아르산 마그네슘 3㎎을 포함하도록 제조할 수 있다. 그러나 상기의 예는 단지 하나의 예시일 뿐, 이에 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
이하, 본 발명을 실시예 및 실험예를 통하여 상세히 설명한다. 이들 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 하나의 예시로 본 발명의 권리 범위가 이들 실시예에 국한되는 것은 아니다.
제조예 1 : 아데포비어 디피복실 염기 [화학식 ( II )]의 제조
27.32g(0.10㏖)의 아데포비어를 400mL의 무수 N,N'-디메틸포름아미드에 가하고 교반하면서 88.04g(0.30㏖)의 N,N'-디시클로헥실-4-몰포린 카르복사미딘과 75.30g(0.50㏖)의 클로로메틸 피발레이트를 가한다. 20∼22℃에서 36시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 여과하여 제거하고 여액은 감압농축한다. 잔사에 150mL의 물 및 150mL의 톨루엔을 가하고 추출한다. 유기층을 모으고 감압농축한다. 잔사를 실리카겔-크로마토그래피(5% 메탄올/디클로로메탄)로 정제 및 감압농축하여 16.05g(32%)의 아데포비어 디피복실 염기를 얻을 수 있다.
융점:92.5∼94.7℃
IR:νmax(cm-1;ATR):3282, 3158, 3104, 2974, 1745, 1656, 1597, 1478, 1415, 1251, 1139, 1056, 1021, 964
H1 NMR (CDCl3, 300MHz)(ppm):
1.19 (18H, s, -COC(CH3)3)
3.83 (2H, d, -OCH2PO3-)
3.91∼3.93 (2H, t, -NCH 2 CH2O-)
4.36∼4.39 (2H, t, -NCH2 CH 2 O-)
5.60∼5.67 (4H, m, -OCH2O-)
6.04 (2H, s, -NH2)
7.91 (1H, s, -N=CH-N-)
8.31 (1H, s, -N=CH-N-)
제조예 2 : 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기( Form -1) [화학식 ( II -1)]의 제조
제조예 1에서 제조한 5.15g(0.01㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 20∼25℃에서 15일 이상 방치하면 5.15g(100%)의 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기를 얻을 수 있다.
융점 : 101.3∼103.2℃
IR :νmax(cm-1; ATR):3110, 2975, 1755, 1732, 1681, 1603, 1478, 1306, 1260, 1120, 1025, 1001, 962, 895
여기서 NMR Spectrum Data는 제조예 1과 동일함.
제조예 3 : 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기( Form -1) [화학식 ( II -1)]의 제조
제조예 1에서 제조한 5.15g(0.01㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 50ml의 이소프로필에테르에 가하고 20∼25℃ 3시간 동안 교반한 후, 결정을 여과 및 세척하여 5.05g(98%)의 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기를 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 제조예 2와 동일함.
제조예 4 : 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기(Form-1) [화학식 (II-1)]의 제조
27.32g(0.10㏖)의 아데포비어를 110mL의 N'-메틸피롤리디논에 가하고 교반하면서 50.6g(0.50㏖)의 트리에틸아민과 75.30g(0.50㏖)의 클로로메틸 피발레이트를 가한다. 40∼50℃에서 20시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 여과하여 제거하고 여액은 감압농축한다. 잔사에 150mL의 물 및 150mL의 이소프로필 아세테이트를 가하고 추출한다. 유기층을 모으고 감압농축한다. 잔사에 50mL의 아세톤을 가하여 용해시키고 450ml의 디-n-부틸에테르를 서서히 가하여 결정화 한다. 생성된 결정을 여과 및 세척하여 22.60g(42%)의 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기를 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 제조예 2와 동일함.
제조예 5 : 아데포비어 디피복실 푸마르산염( Form -4)[화학식 ( II -4)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 11.61g(0.10㏖)의 푸마르산을 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 여과 및 세척하여 46.33g(75%)의 아데포비어 디피복실 푸마르산염을 얻을 수 있다.
융점 : 145.1∼146.5℃
H1 NMR (MeOH-D6, 300MHz)(ppm) :
1.19 (18H, s, -COC(CH3)3)
3.94∼3.98 (4H, m, -OCH2PO3-, -NCH2 CH 2 O-)
4.43∼4.45 (2H, t, -NCH 2 CH2O-)
4.99 (2H, s, -NH2)
5.56∼5.61 (4H, d, -OCH2O-)
6.75 (2H, s, HOOC(CH)2COOH)
8.15∼8.22 (2H, d, -N=CH-N-)
실시예 1 : 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물[화학식(I-1)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 250ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 파라-톨루엔술폰산 수화물을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 63.50g(92%)의 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
융점:138.2∼140.8℃
H1 NMR (MeOH-D6, 300MHz)(ppm) :
1.20 (18H, s, -COC(CH3)3)
2.35 (3H, s, -Benzene-CH 3 )
3.87∼3.88 (2H, d, -OCH2PO3-)
3.96∼3.98 (2H, t, -NCH2 CH 2 O-)
4.45∼4.47 (2H, t, -NCH 2 CH2O-)
5.61∼5.69 (4H, m, -OCH2O-)
7.18∼7.20 (2H, d, Ar-H)
7.81∼7.83 (2H, d, Ar-H)
8.07 (2H, s, -NH2)
8.25∼8.26 (2H, d, -N=CH-N-)
9.91 (1H, s, -SO3H)
실시예 2 : 결정성 아데포비어 디피복실 파라- 톨루엔술폰산염 무수물[화학식(I-1)]의 제조
제조예 4에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 250ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 파라-톨루엔술폰산 수화물을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 64.20g(93%)의 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 1과 동일함.
실시예3 : 결정성 아데포비어 디피복실 파라- 톨루엔술폰산염 무수물[화학식(I-1)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 파라-톨루엔술폰산 수화물을 고체상태로 반응기에 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 64.30g(93%)의 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 1과 동일함.
실시예 4 : 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물[화학식(I-1)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 250ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 22.82g(0.12㏖)의 파라-톨루엔술폰산 수화물을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음, 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 63.75g(93%)의 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 1과 동일함.
실시예 5 : 결정성 아데포비어 디피복실 파라- 톨루엔술폰산염 무수물[화학식(I-1)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 톨루엔에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 파라-톨루엔술폰산 수화물을 고체상태로 반응기에 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 61.53g(89%)의 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 1과 동일함.
실시예 6 : 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물[화학식(I-2)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 250ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 15.82g(0.10㏖)의 벤젠술폰산을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 62.60g(95%)의 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
융점 : 142.3∼143.4℃
H1 NMR (MeOH-D6, 300MHz)(ppm) :
1.18 (18H, s, -COC(CH3)3)
3.87∼3.88 (2H, d, -OCH2PO3-)
3.95 (2H, s, -NCH2 CH 2 O-)
4.44 (2H, s, -NCH 2 CH2O-)
5.59∼5.67 (4H, m, -OCH2O-)
7.37∼7.38 (3H, t, Ar-H)
7.92∼7.93 (2H, t, Ar-H)
8.00 (2H, s, -NH2)
8.24 (2H, s, -N=CH-N-)
9.87 (1H, s, -SO3H)
실시예 7 : 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물[화학식(I-2)]의 제조
제조예 4에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 250ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 15.82g(0.10㏖)의 벤젠술폰산을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 61.28g(93%)의 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 6과 동일함.
실시예 8 : 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물[화학식(I-2)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 15.82g(0.10㏖)의 벤젠술폰산을 고체상태로 반응기에 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 60.62g(92%)의 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 6과 동일함.
실시예 9 : 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물[화학식(I-2)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 250ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 18.98g(0.12㏖)의 벤젠술폰산을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 59.96g(93%)의 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 6과 동일함.
실시예 10 : 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물[화학식(I-2)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 벤젠에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 15.82g(0.10㏖)의 벤젠술폰산을 고체상태로 반응기에 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 57.33g(87%)의 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 6과 동일함.
실시예 11 : 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염[화학식(I-3)] 무수물의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 700ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 에탄디술폰산을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 63.61g(92%)의 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
융점 : 154.0∼167.3℃
H1 NMR (MeOH-D6, 300MHz)(ppm) :
1.10(s, 18H, -COC(CH 3 )3)
2.47∼2.74(m, 4H, -S(CH 2 ) 2 S-
3.89(s, 2H, -OCH 2 PO3-)
3.93∼3.95(d, 2H, -NCH2 CH 2 O-)
4.41(s, 2H, -NCH 2 CH2O-)
5.49∼5.53(d, 4H, -OCH 2 O-)
8.42∼8.49(m, 2H, -N=CH-N-)
8.86(s, 2H, -NH 2 )
9.63(s, 2H, -SO 3 H)
실시예 12 : 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염[화학식(I-3)] 무수물의 제조
제조예 4에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 700ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 에탄디술폰산을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 62.91g(91%)의 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 11과 동일함.
실시예 13 : 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물[화학식(I-3)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 아세트산 에틸에 가하고, 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 에탄디술폰산을 고체상태로 반응기에 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 63.56g(92%)의 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 11과 동일함.
실시예 14 : 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염[화학식(I-3)] 무수물의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 700ml의 아세트산 에틸에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 22.82g(0.12㏖)의 에탄디술폰산을 250ml의 아세트산 에틸에 용해시킨 다음, 이 용액을 반응기에 서서히 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반 한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 64.26g(93%)의 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 11과 동일함.
실시예 15 : 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물[화학식(I-3)]의 제조
제조예 1에서 제조한 50.15g(0.10㏖)의 아데포비어 디피복실 염기를 500ml의 톨루엔에 가하고 30∼35℃로 가열, 교반하면서 완전히 용해시킨다. 19.02g(0.10㏖)의 에탄디술폰산을 고체상태로 반응기에 가하고 45∼50℃에서 1시간 동안 교반한 후, 20∼25℃에서 12시간 동안 교반한다. 반응이 완결되면 생성된 결정을 냉각, 여과 및 세척하여 62.18g(92%)의 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 얻을 수 있다.
여기서 Spectrum Data는 실시예 11와 동일함.
실시예 16 : 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 함유한 정제의 제조
결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물 13.4㎎
유당 65㎎
젤라틴화된 전분 25㎎
크로스카멜로오스 나트륨 3㎎
콜로이드성 이산화규소 0.25㎎
스테아르산 마그네슘 0.30㎎
결정성 AD, 유당, 젤라틴화된 전분 및 크로스카멜로오스 나트륨(croscarmellose sodium)은 이후 사용을 위해 각각 65-메쉬 스크린을 통과시켰다. 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물을 상기 조제법에 기재된 함량으로 칭량하고, 함량을 점차 증가시키는 방식으로 다른 아주번트와 혼합하였다. 혼합물은 65-메쉬 스크린을 3회 통과시켰다. 리포즈 각(angle of repose)은 30°미만으로 측정되었다. 함량을 시험하고 중량을 결정한 후, 6.5㎜-직경의 플렛 펀치 핀을 사용하여 혼합물을 직접 압축함에 의해 정제를 제조하였다.
실시예 17 : 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 함유한 정제의 제조
결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물 13.2㎎
유당 65㎎
젤라틴화된 전분 25㎎
크로스카멜로오스 나트륨 3㎎
콜로이드성 이산화규소 0.25㎎
스테아르산 마그네슘 0.30㎎
결정성 AD, 유당, 젤라틴화된 전분 및 크로스카멜로오스 나트륨(croscarmellose sodium)은 이후 사용을 위해 각각 65-메쉬 스크린을 통과시켰다. 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물을 상기 조제법에 기재된 함량으로 칭량하고, 함량을 점차 증가시키는 방식으로 다른 아주번트와 혼합하였다. 혼합물은 65-메쉬 스크린을 3회 통과시켰다. 리포즈 각(angle of repose)은 30°미만으로 측정되었다. 함량을 시험하고 중량을 결정한 후, 6.5㎜-직경의 플렛 펀치 핀을 사용하여 혼합물을 직접 압축함에 의해 정제를 제조하였다.
실시예 18 : 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 함유한 정제의 제조
결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물 13.8㎎
유당 65㎎
젤라틴화된 전분 25㎎
크로스카멜로오스 나트륨 3㎎
콜로이드성 이산화규소 0.25㎎
스테아르산 마그네슘 0.30㎎
결정성 AD, 유당, 젤라틴화된 전분 및 크로스카멜로오스 나트륨(croscarmellose sodium)은 이후 사용을 위해 각각 65-메쉬 스크린을 통과시켰다. 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물을 상기 조제법에 기재된 함량으로 칭량하고, 함량을 점차 증가시키는 방식으로 다른 아주번트와 혼합하였다. 혼합물은 65-메쉬 스크린을 3회 통과시켰다. 리포즈 각(angle of repose)은 30°미만으로 측정되었다. 함량을 시험하고 중량을 결정한 후, 6.5㎜-직경의 플렛 펀치 핀을 사용하여 혼합물을 직접 압축함에 의해 정제를 제조하였다.
실험예 1 : 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 구조적 정성 확인 시험
결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 구조적 정성 확인은 X-선 회절분광 스펙트럼, 시차주사 열량 기록도, 열무게 분석도, 핵자기 공명분광 스펙트럼 및 적외선 분광 스펙트럼으로부터 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 비교 분석하였다. 상기 실시예 1 내지 15에서 제조된 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 제조예 2 내지 4에서 제조된 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 제조예 5에서 제조한 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과는 상이한 결정형태를 갖는 것을 확인할 수 있다. (참고: 도 1 내지 도 25)
하기 표 1은 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 X-선 회절분광 스펙트럼으로 분석시의 특징적인 피크(Peak)를 나타낸다.
Figure pat00007
실험예 2 : 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 물에 대한 용해도 측정 시험
실시예 1 내지 15에서 제조된 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 제조예 2 내지 4에서 제조된 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 제조예 5에서 제조한 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 함께 물에 대한 용해도를 실험하여, 그 결과를 비교하였다.
Figure pat00008
상기 표 2에 나타낸 결과와 같이 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염을 pH 7.2에서 각각 포화상태에 도달하도록 용해시키고, 자외선 분광광도법으로 분석한 결과 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기의 용해도인 0.40㎎/ml보다 매우 높고, 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 용해도인 5.78㎎/ml 보다 월등히 양호한 물에 대한 용해도를 나타내었다. 그러므로 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 약학 조성물로 이용시, 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염보다 용출속도가 매우 우수하며, 그에 따라 생체이용률 또한 증가할 것으로 예측된다.
실험예 3 : 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 비흡습성 시험
실시예 1 내지 15에서 제조된 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 제조예 2 내지 4에서 제조된 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 제조예 5에서 제조한 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 함께 비흡습성 실험하여 그 결과를 하기 표 3에서 비교하였다.
Figure pat00009
상기 표 3에 나타낸 결과와 같이 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염을 상대습도 75%의 다습한 조건에서 분석한 결과, 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염은 서서히 수분의 함량이 증가하는 반면, 공지의 아데포비어 디피복실 염기의 경우 5일 이내에 아데포비어 디피복실 이수화물형태로 변하는 것으로 나타났다. 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 공지의 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 푸마르산염과는 달리 수분을 흡수하지 않는 비흡습성의 산부가염이다.
실험예 4 : 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 수분 및 열에 의한 안정성 시험
실시예 1 내지 15에서 제조된 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 제조예 2 내지 4에서 제조된 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 제조예 5에서 제조한 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 함께 수분 및 열에 의한 안정성을 실험하여 그 결과를 하기의 표 4에서 비교하였다.
Figure pat00010
상기 표 4에 나타낸 결과와 같이 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 노출시간이 경과함에 따른 활성성분의 변화가 적으며, 외관의 관능검사에서도 색상변화가 거의 없는 것으로 나타났다. 공지의 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 경우 노출시간이 경과됨에 따라 색상의 변화 및 활성성분의 감소폭이 비교적 컸다. 그러므로 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염보다 물리화학적으로 안정한 물질이다.
실험예 5 : 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 광안정성 시험
실시예 1 내지 15에서 제조된 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물을 제조예 2 내지 4에서 제조된 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기 및 제조예 5에서 제조한 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염과 함께 광 안정성을 실험하여 그 결과를 하기 표 5에서 비교하였다.
Figure pat00011
상기 표 5에 나타낸 결과와 같이 아데포비어 디피복실 염기 및 아데포비어 디피복실 산부가염을 온도 25℃, 직사일광(7,000Lux) 아래에서 7일 동안 노출시킨 후, 그 외관 변화 및 초기 활성성분 값에 대한 잔사율을 분석한 결과, 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 활성성분의 변화가 전혀 없으며, 외관의 관능검사에서도 무수 결정형 아데포비어 디피복실 염기와 같이 색상변화가 전혀 없으나, 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염의 경우 소량의 활성성분의 변화를 관찰하였다. 그러므로 신규한 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물은 공지의 아데포비어 디피복실 푸마르산염보다 우수한 광안정성을 나타냄을 확인하였다.

Claims (10)

  1. 하기 화학식 (I)의 구조를 갖는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물.
    Figure pat00012

    [여기서 술폰산은 파라-톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid), 벤젠술폰산(Benzenesulfonic acid), 에탄디술폰산(Ethanedisulfonic acid)이다]
  2. 제1항에 있어서, X-선 회절 분광분석에서 I/Io≥200인 경우의 2θ의 피크값이 3.86±0.2, 7.78±0.2, 16.76±0.2, 16.96±0.2, 20.32±0.2, 20.78±0.2, 24.62±0.2, 28.52±0.2인 결정성 아데포비어 디피복실 파라-톨루엔술폰산염 무수물.
  3. 제1항에 있어서, X-선 회절 분광분석에서 I/Io≥200인 경우의 2θ의 피크값이 3.30±0.2, 9.96±0.2, 13.30±0.2, 17.60±0.2, 19.46±0.2, 20.50±0.2, 25.84±0.2인 결정성 아데포비어 디피복실 벤젠술폰산염 무수물.
  4. 제1항에 있어서, X-선 회절 분광분석에서 I/Io≥200인 경우의 2θ의 피크값이 3.28±0.2, 4.96±0.2, 16.66±0.2, 19.20±0.2, 19.94±0.2인 결정성 아데포비어 디피복실 에탄디술폰산염 무수물.
  5. 아데포비어 디피복실 염기를 극성 또는 비극성 유기용매에 용해시키는 단계; 파라-톨루엔술폰산(p-Toluenesulfonic acid), 벤젠술폰산(Benzenesulfonic acid) 및 에탄디술폰산(Ethanedisulfonic acid)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 임의의 술폰산 또는 술폰산 수화물을 극성 또는 비극성 유기용매에 용해시킨 후 상기 아데포비어 디피복실 염기 반응액에 첨가하거나, 상기 술폰산 또는 술폰산 수화물을 직접 상기 아데포비어 디피복실 염기 반응액에 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계; 및 상기 혼합물을 교반하여 얻은 고체를 여과, 세척 및 건조하는 단계를 포함하는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 아데포비어 디피복실 염기 1 몰당량에 대하여 상기 술폰산 또는 술폰산 수화물 0.5∼2 몰당량을 사용하는 것을 특징으로 하는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 극성 유기용매가 아세트산 에틸, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 및 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, t-부탄올 등의 탄소수 1∼4의 저급 알콜성 용매로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 용매인 것을 특징으로 하는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법.
  8. 제5항에 있어서, 상기 비극성 유기용매가 에틸에테르, 이소프로필에테르, 톨루엔, 벤젠, 클로로포름 및 디클로로메탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 용매인 것을 특징으로 하는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법.
  9. 제5항 내지 제8항의 어느 한 항에 있어서, 상기 반응이 0℃ ∼ 150℃에서 수행되는 것임을 특징으로 하는 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물의 제조방법.
  10. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 결정성 아데포비어 디피복실 술폰산염 무수물 및 약제학적으로 허용 가능한 담체를 포함하는 B형 간염 치료용 약제학적 조성물.
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