KR20110071300A - 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이 - Google Patents

기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이 Download PDF

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KR20110071300A
KR20110071300A KR20090127823A KR20090127823A KR20110071300A KR 20110071300 A KR20110071300 A KR 20110071300A KR 20090127823 A KR20090127823 A KR 20090127823A KR 20090127823 A KR20090127823 A KR 20090127823A KR 20110071300 A KR20110071300 A KR 20110071300A
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박해윤
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주식회사 아토
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Abstract

본 발명은 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착공정 등의 기판처리를 수행하는 기판처리시스템 및 그에 사용되는 트레이에 관한 것이다.
본 발명은 밀폐된 처리공간을 형성하는 진공챔버와; 상기 진공챔버 내부에 설치되어 복수 개의 기판들이 적재되는 트레이를 지지하는 트레이지지부와; 상기 진공챔버의 상부에 설치되어 상기 처리공간으로 가스를 분사하는 가스공급부를 포함하는 기판처리장치로서, 상기 트레이는 흑연 재질 또는 석영재질을 가지며 전체 형상이 직사각형을 이루는 하나 이상의 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.
기판처리장치, 트레이, 세정

Description

기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이 {Substrate Processing Apparatus and tray therefor}
본 발명은 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착공정 등의 기판처리를 수행하는 기판처리시스템 및 그에 사용되는 트레이에 관한 것이다.
기판처리장치란 밀폐된 처리공간을 형성하는 진공챔버와, 진공챔버 내에 설치되어 기판이 안착되는 트레이지지부를 포함하여 구성되며, 처리공간에 처리가스를 주입하면서 전원을 인가하여 기판의 표면을 식각하거나 증착하는 등 기판처리를 수행하는 장치를 말한다.
상기 기판처리장치에 의하여 처리되는 기판은 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등이 있다.
한편 종래의 기판처리장치는 복수 개의 기판들을 트레이에 적재하고 기판들이 적재된 트레이를 증착공정 등을 수행하는 기판처리장치 내로 이송함으로써 보다 많은 수의 기판들을 처리하도록 구성되고 있다.
그런데 종래의 기판처리장치에 사용되는 트레이는 기판처리공정에 따라 처리 가스 등에 의하여 손상되거나 열에 의하여 변형되는 등 그 재질이 제한을 받는 문제점이 있다.
특히 태양전지용 기판의 경우 열변형 및 열전도성을 고려하여 카본 계열의 그레파이트가 트레이로 사용되는데 기판처리장치 내에서 공정에 따라서 손상되어 그 교체의 빈도가 높아 기판처리장치의 동작을 자주 멈추어야 하는 문제점이 있다.
또한 기판처리장치는 진공챔버 내부에 퇴적된 부산물을 제거하는 등 세정공정이 수행될 필요가 있는데 세정공정에 따라서 플루오르 계열의 세정가스를 사용하여 세정하는 경우 그레파이트는 플루오르 계열의 세정가스에 약해 세정가스에 강한 재질의 별도의 세정용 트레이를 사용하여야 하므로 세정용 트레이로의 교체 등 세정공정이 번거로운 문제점이 있다.
또한 세정공정용 트레이를 부식방지를 위하여 알루미늄, 알루미늄 합금 재질의 트레이를 사용하는 경우 그 비용이 상대적으로 고가이며 열변형에 취약한 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 열전도율이 높으면서 기판처리공정에 의한 제한이 적은 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 기판이 적재되는 열전도율이 높으면서 불소가스에 의하여 손상되지 않는 트레이를 제공함으로써 보수 또는 교체주기를 현저히 증가시킬 수 있는 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이를 제공하는 데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 밀폐된 처리공간을 형성하는 진공챔버와; 상기 진공챔버 내부에 설치되어 복수 개의 기판들이 적재되는 트레이를 지지하는 트레이지지부와; 상기 진공챔버의 상부에 설치되어 상기 처리공간으로 가스를 분사하는 가스공급부를 포함하는 기판처리장치로서, 상기 트레이는 흑연 재질 또는 석영재질을 가지며 전체 형상이 직사각형을 이루는 하나 이상의 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.
상기 플레이트는 그 표면에 플라즈마 및 플르오르계 세정가스 중 적어도 어느 하나 강한 재질의 코팅재로 코팅될 수 있다.
상기 코팅재는 알루미늄, 알루미늄합금, Al2O3, Y2O3, 니켈 및 니켈합금으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 여기서 상기 코팅재는 용사 또는 아크코팅될 수 있다.
상기 플레이트는 다수개의 미세돌기들이 형성된 후에 상기 코팅재가 코팅될 수 있다.
상기 플레이트의 가장자리에 결합되며 금속재질을 가지는 외곽프레임부를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 외곽프레임의 표면에는 니켈 또는 니켈합금으로 코팅될 수 있다.
상기 트레이지지부에는 기판을 가열하기 위한 히터가 설치될 수 있다.
상기 트레이지지부는 하나 이상의 히터들로 구성될 수 있다.
상기 진공챔버를 세정하는 세정공정을 수행하기 위하여 세정가스를 공급받아 세정가스를 라디칼화하는 플라즈마발생부를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명은 또한 기판처리장치에 사용되는 트레이를 개시한다.
본 발명에 따른 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이는 고온에서도 열변형이 작은 재질의 모재의 표면에 플라즈마 및 세정가스에 강한 재질로 코팅함으로써 기판처리장치의 트레이의 내식성을 향상시켜 보수 또는 교체를 위한 주기를 현저하게 늘릴 수 있는 이점이 있다.
특히 기판처리장치에서 트레이 교체주기를 연장시킴과 아울러, 트레이의 보수주기 또는 교체주기를, 유지·보수를 위하여 기판처리장치의 공정이 멈추는 횟수 를 줄임으로써 기판처리장치의 제조비용 및 유지비용을 절감할 수 있는 이점이 있다.
또한 본 발명에 따른 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이는 플르오르계 세정가스에 강한 재질로 코팅됨으로써 기판처리를 위한 공정용 및 진공챔버 내부의 세정시 사용되는 세정용 트레이를 구분없이 사용이 가능하여 전체 기판처리의 수행이 간단한 이점이 있다.
또한 본 발명에 따른 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이는 열변형이 가능한 재질인 모재의 표면에 플라즈마 및 세정가스에 강한 재질로 코팅함으로써 기판처리 공정 중 고온히터인 SUS히터의 사용을 가능하게 하는 이점이 있다.
이하 본 발명에 따른 기판처리장치 및 그에 사용되는 트레이에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이고, 도 2a는 도 1의 기판처리장치에 사용되는 트레이를 보여주는 사시도이고, 도 2b는 도 2a의 트레이의 분해사시도이고, 도 3은 도 2의 트레이를 보여주는 단면도이다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 기판(10)의 표면에 박막을 형성하는 증착공정과 같은 기판처리를 수행하는 기판처리장치로서 다양한 구성이 가능하며, 도 1에 도시된 바와 같이, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 진공챔버(110)와; 진공챔버(110) 내부에 설치되어 복수 개의 기판(10)들이 적재되는 트레이(200)를 지지하 는 트레이지지부(130)를 포함하여 구성된다.
여기서 본 발명에 따른 기판처리장치는 트레이(200) 상에 기판(10)을 교환하기 위한 기판교환모듈(미도시), 로드락모듈(미도시), 기판처리장치 및 언로드락모듈(미도시)이 순차적으로 설치되는 등 인라인 타입의 기판처리시스템의 일부를 구성하는 등 기판처리장치를 위한 단일의 모듈 또는 복수개의 모듈들과 함께 구성되어 기판처리시스템의 일부를 구성할 수 있다.
기판처리의 대상인 기판(10)은 반도체기판, LCD패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등이 가능하며, 그 형상은 직사각형, 원형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.
상기 진공챔버(110)는 기판처리를 수행하는 처리공간(S)을 형성하기 위한 구성으로서, 다양한 구성이 가능하며, 도 1에 도시된 바와 같이, 상측이 개방된 챔버본체(112)와 챔버본체(112)와 탈착가능하게 결합되는 상부리드(111)를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 챔버본체(112)는 상측이 개방된 그릇 형태를 가지며, 기판(10)이 입출될 수 있는 하나 이상의 게이트(101, 102)가 형성된다. 본 실시예에서는 로드락모듈(미도시) 및 언로드락모듈(미도시)과의 연결을 위하여 직사각형의 챔버본체(112)에서 한 쌍의 게이트(101, 102)들이 서로 대향되도록 형성된다.
상기 상부리드(111)는 챔버본체(112)의 상측에 실링부재(미도시)가 개재되어 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하기 위한 구성으로서, 플레이트 또는 하측이 개방된 그릇 형태를 가질 수 있다.
이때 상기 챔버본체(112) 및 상부리드(111)의 재질은 NF3 등의 세정가스를 이용한 세정공정이 가능하도록 내식성이 강한 알루미늄 또는 알루미늄 합금이 바람직하다. 또한 상기 챔버본체(112) 및 상부리드(111)는 상대적으로 저가인 스테인레스의 재질이 사용되고 그 내벽에 내식성이 강한 알루미늄 또는 알루미늄 합금 재질의 복개부개(미도시)에 의하여 복개될 수 있다.
한편 상기 진공챔버(110)는 도시된 바와 같이, 기판처리를 위하여 가스를 분사하는 샤워헤드와 같은 가스공급부(150)가 진공챔버(110)의 상측에 설치되거나, 트레이지지부(130)를 기준으로 하측으로 플라즈마, 처리가스의 유입 등을 방지하기 위한 배플 등 다양한 구성이 설치될 수 있다.
상기 가스공급부(150)는 처리공간(S)의 상측에 설치되어 기판처리를 수행할 수 있도록 가스공급부(170)로부터 가스를 공급받아 처리공간(S)으로 공급하기 위한 구성으로서, 공정 및 가스공급방식에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
상기 트레이지지부(130)는 기판처리가 원활하게 수행될 수 있도록 트레이(200)를 지지하기 위한 구성으로서, 설계조건 및 공정조건에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
또한 상기 트레이지지부(130)는 기판처리가 원활하게 수행될 수 있도록 소정의 온도를 유지하기 위한 히터(131)가 설치되는 것이 바람직하며, 히터로만 구성될 수 있다. 이때 트레이지지부(130)를 구성하는 히터는 일체로 구성되거나 도 1에 도시된 바와 같이, 트레이(200)를 지지하는 지지면을 기준으로 복수개로 히터(131)들 로 분할되어 설치될 수 있다.
그리고 상기 트레이지지부(130)를 구성하는 히터(131)는 세라믹, 스테인레스(SUS), 이코넬(INCONELL) 등 다양한 재질이 사용될 수 있다.
한편 기판처리를 수행하기 위해서는 전원이 인가되도록 구성될 수 있는 데 이 경우 그 전원인가방식에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 일 예로서, 상기 가스공급부(150)에 RF전원 또는 LF전원을 인가하여 상부전원을 구성하고, 트레이지지부(130)를 접지시킴으로써 하부전원을 구성할 수 있다.
한편 본 발명에 따른 기판처리장치는 반복된 기판처리 수행에 의하여 진공챔버(110)의 내벽에 퇴적된 퇴적물을 제거하는 등 세정을 위하여 세정공정이 수행될 수 있으며, 세정공정은 RPG 제너레이터(Remote Plasma Generator)와 같은 플라즈마발생부(160)에 의하여 발생된 원격플라즈마를 가스공급부(150)을 통하여 처리공간(S)으로 분사하여 수행될 수 있다.
상기 플라즈마발생부(160)는 세정가스를 공급받아 라디칼화하여 도입하여 진공챔버(110)의 내벽에 퇴적된 부산물들을 제거하기 위한 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다. 여기서 세정가스로는 불소 또는 염소를 포함할 수 있으며, NF3 이외에 C2F6, CF4, F2, CHF3, SF6, Cl2 등을 포함할 수 있다.
상기 플라즈마발생부(160)는 일예로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 가스공급부(170)로부터 세정가스를 공급받아 세정가스를 라디칼화하여 가스공급부(150)를 통하여 처리공간(S)으로 분사할 수 있도록 가스공급부(150)와 연결되는 원격플라즈 마발생장치(Remote Plasma Generator; RPG)를 포함할 수 있다.
또한 상기 플라즈마발생부(160)는 원격플라즈마발생장치(Remote Plasma Generator; RPG) 대신에 가스공급부(150)의 상측 또는 가스공급부(150) 내에 RF전원을 추가로 설치함으로써 세정가스가 가스공급부(150)에서 발생되도록 구성될 수 있다.
또한 상기 플라즈마발생부(160)는 가스공급부(150) 및 트레이지지부(130)를 전극으로 하여 처리공간(S) 내에서 세정가스를 라디칼화하도록 구성될 수 있다.
한편 상기 플라즈마발생부(160)에 의해 세정공정이 수행되는 경우 반응성이 강한 불소(F) 또는 염소(Cl)을 포함하는 세정가스로 인하여 진공챔버(110) 내벽, 트레이지지부(130) 등 진공챔버(110) 내에 설치된 부품들이 손상을 받을 수 있는바 진공챔버(110) 내벽, 트레이지지부(130) 등 진공챔버(110) 내에 설치된 부품들은 내식성이 강한 니켈, 니켈합금, 알루미늄, 알루미늄합금 등이 사용되거나, 그 표면이 니켈, 니켈합금, 텅스텐, 텅스텐합금 등으로 코팅됨이 바람직하다.
그러나 위와 같이 진공챔버(110) 내벽, 트레이지지부(130) 등 진공챔버(110) 내에 설치된 부품들의 재질을 내식성이 강한 재질로 제조하거나 코팅하는 경우 그 제조비용이 증가하는바 이를 개선할 필요가 있다.
따라서 상기 진공챔버(110)는 트레이(200)가 트레이지지부(130)에 안착될 때 트레이(200)와 함께 처리공간(S)에서 트레이지지부(130)의 측면을 포함하는 하부공간을 격리시키도록 설치되어 공정수행시 트레이(200)가 트레이지지부(130)에 안착될 때 가스가 트레이지지부(130)로 흐르는 것을 방지하기 위한 격리부재(140)가 추 가로 설치될 수 있다.
상기 격리부재(140)는 세정가스에 강한 재질인 세라믹, 텅스텐, 텅스텐합금, 니켈 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금 등과 같은 내식성이 있는 재질을 가지거나 그 표면이 세라믹, 텅스텐, 텅스텐합금, 니켈 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금 등과 같은 내식성이 있는 재질로 코팅되는 것이 바람직하다.
그리고 상기 격리부재(140)는 나사 등에 의하여 상측으로부터 진공챔버(110)의 저면 내벽 또는 측면 내벽과 결합될 수 있다.
그리고 상기 격리부재(140)는 트레이(200)와 함께 처리공간(S)에서 하부공간을 격리시키도록 트레이(200)와 실질적으로 접촉, 즉 트레이(200) 및 격리부재(140) 상호 간 저면 또는 측면에서 접촉되는 부분이 트레이지지부(130)를 둘러싸는 폐곡선을 이루도록 설치되는 등 다양하게 설치될 수 있다.
한편 상기 하부공간은 처리공간(S)에서 격리부재(140) 및 트레이(200)에 의하여 증착공정은 물론, 세정공정시 증착물질, 가스 등이 유입되는 것을 방지하게 되는데, 격리부재(140) 상의 트레이(200)의 적재상태 또는 접촉 상태, 처리공간(S)의 압력 등에 의하여 증착물질, 가스 등의 일부가 하부공간으로 유입되어 트레이지지부(130)를 손상시킬 수 있다.
따라서 상기 증착물질, 가스 등의 유입을 방지하기 위하여 진공챔버(110)는 격리부재(140) 상에 트레이(200)를 안착시켜 하부공간 내에 공정시 아르곤과 같은 비활성가스를 주입하는 가스유입방지장치(미도시)가 추가로 설치될 수 있다. 이때 상기 가스유입방지장치에 의하여 지속적으로 가스가 주입되므로 격리부재(140) 및 트레이(200) 상호 간에는 기밀하게 접촉설치되지 않더라도 무방하다.
상기와 같이 격리부재(140)가 진공챔버(110)에 설치된 경우 공정수행과정에서 증착물질이 증착되는 것을 방지할 수 있으며, 세정가스가 유입되는 것을 방지하여 트레이지지부(130), 특히 트레이지지부(130)를 구성하는 히터(131)가 손상되는 것을 방지하여 그 수명을 연장함으로써 유지보수비용을 절감할 수 있을 뿐만 아니라 트레이지지부(130), 특히 트레이지지부(130)를 구성하는 히터(131)의 재질을 상대적으로 저가인 스테인레스 등과 같은 내식성이 낮은 재질을 사용할 수 있는 이점이 있다.
한편 상기 기판처리장치는 트레이(200)를 이송하기 위한 트레이이송장치가 추가로 설치될 수 있다. 그리고 상기 트레이이송장치는 도시하지는 않았지만 트레이(200)의 이송방식에 따라서 반송로봇 등으로 구성되거나, 벨트방식, 롤러방식 등 다양하게 구성될 수 있다.
도면에서 설명하지 않은 도면부호 180은 진공챔버(110)의 처리공간(S)을 배기하기 위한 배기관을 가리킨다.
상기 트레이(200)는 하나 이상, 바람직하게는 복수개의 기판(10)들을 적재하여 한꺼번에 이송하기 위한 구성으로 설계 및 디자인에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 기판(10)의 증착공정 등 기판처리에 영향을 주지 않는 재질이면 어떠한 재질도 사용이 가능하다.
그리고 상기 트레이(200)는 열전도율을 고려하여 카본계열의 재질이 사용될 수 있으며, 그레파이트(graphite) 또는 석영 등의 비금속이 재질의 사용이 바람직 하며, 그 형상은 직사각형 등 다양한 형상을 가질 수 있다.
또한 상기 트레이(200)는 반복된 기판처리 등에 의하여 플라즈마에 의하여 노출되거나 플르오르계 세정가스에 노출되어 표면이 손상되는 경우 자주 보수하거나 교체하여야 하므로 전체 기판처리를 속도를 저하시키고 장치의 유지보수비용을 증가시키는 문제점이 있다.
따라서 상기 트레이(200)는 플라즈마 또는 플르오르계 세정가스에 노출에도 불구하고 내식성이 강화될 필요가 있다.
상기 트레이(200)는 일예로서, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 흑연 재질 또는 석영재질을 가지며 전체 형상이 직사각형을 이루는 하나 이상의 플레이트(220)와; 플레이트(220)의 가장자리에 결합되며 금속재질을 가지는 외곽프레임부(212)를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 플레이트(220)는 기판(10)의 지지를 위한 지지면을 형성하며, 히터 등에 의하여 열전도율이 높은 재질인 흑연 또는 석영과 같은 비금속성 재질이 사용될 수 있다.
그리고 상기 플레이트(220)는 하나만 사용될 수 있으나, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 대형기판 또는 보다 많은 수의 기판(10)들을 지지할 수 있도록 복수개로 사용될 수 있다.
여기서 상기 플레이트(220)가 하나로 사용되는 경우 외곽프레임부(210)가 사용되지 않을 수 있으며, 복수개로 구성되는 경우 가장자리에 위치된 외곽프레임부(210)에 의하여 지지될 수 있도록 일렬로 배치되는 것이 바람직하다.
한편 상기 플레이트(220)는 도 3에 도시된 바와 같이, 흑연 또는 석영과 같은 비금속성 재질의 모재(221)의 표면에 플라즈마 및 플르오르계 중 적어도 어느 하나에 강한 재질의 코팅재(222)로 코팅되는 것이 바람직하다.
상기 코팅재(222)는 알루미늄, 알루미늄합금, Al2O3, Y2O3, 니켈 및 니켈합금으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 그리고 상기 코팅재(222)는 모재(221)의 표면에 다양한 방식에 의하여 코팅될 수 있으며, 용사 또는 아크코팅으로 코팅될 수 있다.
상기 코팅재(222)의 두께는 바람직하게는 0.2㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0,2~0.5㎜, 가장 바람직하게는 0.3㎜ 이상이 바람직하다.
한편 상기 플레이트(220)를 구성하는 모재(221)는 코팅재(222)가 원활하게 코팅될 수 있도록 도 3에 도시된 바와 같이, 다수개의 미세돌기들이 형성된 후에 코팅재(222)가 코팅될 수 있다.
상기 외곽프레임(210)은 플레이트(220)가 복수개로 구성된 경우 복수개의 플레이트(220)들을 지지하기 위한 구성으로서 어떠한 구성 및 재질도 사용이 가능하나, 금속재질이 사용됨이 바람직하며, 내식성 강화를 위하여 그 표면에는 니켈 또는 니켈합금으로 코팅될 수 있다.
한편 상기 외곽프레임(210)은 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 부재들로 구성되어 플레이트(220)를 지지하는 지지부(212a)가 형성된 제1프레임(212)과 프레임(212)의 지지부(212a)에 지지된 플레이트(220)를 제1프레임(212) 에 고정시키는 제2프레임(211)으로 구성될 수 있다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 2a는 도 1의 기판처리장치에 사용되는 트레이를 보여주는 사시도이고, 도 2b는 도 2a의 트레이의 분해사시도이다.
도 3은 도 2의 트레이를 보여주는 단면도이다.
***** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 기판
110 : 진공챔버 130 : 트레이지지부
150 : 가스공급부
200 : 트레이
210 : 외곽프레임 220 : 플레이트

Claims (14)

  1. 밀폐된 처리공간을 형성하는 진공챔버와; 상기 진공챔버 내부에 설치되어 복수 개의 기판들이 적재되는 트레이를 지지하는 트레이지지부와; 상기 진공챔버의 상부에 설치되어 상기 처리공간으로 가스를 분사하는 가스공급부를 포함하는 기판처리장치로서,
    상기 트레이는 흑연 재질 또는 석영재질을 가지며 전체 형상이 직사각형을 이루는 하나 이상의 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 플레이트는 그 표면에 플라즈마 및 플르오르계 세정가스 중 적어도 어느 하나 강한 재질의 코팅재로 코팅된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 코팅재는 알루미늄, 알루미늄합금, Al2O3, Y2O3, 니켈 및 니켈합금으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 청구항 에 있어서,
    상기 코팅재는 용사 또는 아크코팅된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 플레이트는 다수개의 미세돌기들이 형성된 후에 상기 코팅재가 코팅된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 플레이트의 가장자리에 결합되며 금속재질을 가지는 외곽프레임부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 외곽프레임의 표면에는 니켈 또는 니켈합금으로 코팅된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 트레이지지부에는 기판을 가열하기 위한 히터가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 트레이지지부는 하나 이상의 히터들로 구성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 진공챔버를 세정하는 세정공정을 수행하기 위하여 세정가스를 공급받아 세정가스를 라디칼화하는 플라즈마발생부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 하나의 항에 따른 기판처리장치에 사용되는 트레이.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 플레이트는 다수개의 미세돌기들이 형성된 후에 상기 코팅재가 코팅된 것을 특징으로 하는 기판처리장치에 사용되는 트레이.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 플레이트의 가장자리에 결합되며 금속재질을 가지는 외곽프레임부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치에 사용되는 트레이.
  14. 청구항 12에 있어서,
    상기 기판처리장치는 진공챔버를 세정하는 세정공정을 수행하기 위하여 세정가스를 공급받아 세정가스를 라디칼화하는 플라즈마발생부를 추가로 포함하며, 상 기 트레이는 세정공정에도 사용되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치에 사용되는 트레이.
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